JPH11265058A - Object having surface with coexistence of hydrophilic part and super-water repellent part, its manufacture and printing device using the same - Google Patents
Object having surface with coexistence of hydrophilic part and super-water repellent part, its manufacture and printing device using the sameInfo
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- JPH11265058A JPH11265058A JP6744698A JP6744698A JPH11265058A JP H11265058 A JPH11265058 A JP H11265058A JP 6744698 A JP6744698 A JP 6744698A JP 6744698 A JP6744698 A JP 6744698A JP H11265058 A JPH11265058 A JP H11265058A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、親水部分と超撥水
部分の共存する表面を有する物品、その製造方法、この
物品を用いた印刷装置、および該物品を用いた微細パタ
ーン形成等の凹凸形成法に関する。なお、超撥水につい
ての明確な定義はないが、一般に水との接触角が150°
以上の表面を超撥水表面と云っている。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an article having a surface in which a hydrophilic portion and a super-water-repellent portion coexist, a method of manufacturing the same, a printing apparatus using the article, and unevenness such as formation of a fine pattern using the article. It relates to the forming method. Although there is no clear definition of super water repellency, the contact angle with water is generally 150 °.
The above surface is called a super water repellent surface.
【0002】[0002]
【従来の技術】印刷に用いる活版は凹版印刷、凸版印
刷、平版印刷(オフセット印刷)、写真印刷等がある。
このうちオフセット印刷は印刷全体の出荷額の約67%
(平成6年度)を占める重要な印刷方法である。例えば
現在新聞、新聞広告、ポスター、雑誌等の印刷の際用い
る活版の主流はオフセット印刷である。2. Description of the Related Art Letterpress used for printing includes intaglio printing, letterpress printing, lithographic printing (offset printing), photo printing and the like.
Of these, offset printing accounts for about 67% of the total printing value
This is an important printing method that occupies (FY 1994). For example, the mainstream of letterpress currently used for printing newspapers, newspaper advertisements, posters, magazines, and the like is offset printing.
【0003】オフセット印刷の印刷方法の一例を以下
((a)〜(d)の操作)に示す。 (a):露光 活版のインクを付着させる部分に光照射する。光の照射
された部分は硬化(光硬化)する。未照射部分は硬化し
ない。 (b):定着 光の未照射部分の表面(光未硬化部分)を除去する。こ
うして版ができあがる。 (c):水湿し (b)の操作で未硬化部分の除去されたところに水を付着
させる。これは一般に水湿しと呼ばれる。この後インク
を付着させるがこのとき用いるインクは疎水性である。
そのため水の付着している部分にはインクは付着しな
い。 (d):印刷 版インクを付着させ紙等に転写する。上記(a)〜(d)の操
作のうち(c)の水湿し操作はかなりの熟練を必要とする
ことから、この操作を必要としない水無しオフセット印
刷が実際に行われ、またその改良法も提案されている
(たとえば、特開平4−251256号公報)。さらに、オフ
セット印刷方式の欠陥を解消するために、水性インキを
用いる印刷技術がいくつか提案されている。たとえば、
液体に対して反撥力の強い部材の表面に選択的にまたは
選択的且つ可逆的に所望パターンとなる液体付着性領域
を形成し、この領域に液体インクを供給し、普通紙等に
転写することにより鮮明な画像を得るのに有効な記録体
(特開平5−31875号公報);重合体層の表面に画像状に
粉体が固着した部分が形成されている平版印刷版であ
り、粉体が固着している部分の水に対する接触角が20°
以下であり、粉体が固着していない重合体層の表面の水
に対する接触角が70°以上である印刷版(特開平4−136
940号公報);等がある。An example of the offset printing method (operations (a) to (d)) is shown below. (a): Exposure Light is applied to the part of the letterpress to which the ink is to be attached. The part irradiated with light is cured (light-cured). Unirradiated parts do not cure. (b): The surface of the unirradiated part of the fixing light (light uncured part) is removed. In this way, a version is completed. (c): dampening with water Water is adhered to the places where the uncured portions have been removed by the operation of (b). This is commonly called dampening. Thereafter, the ink is applied, but the ink used at this time is hydrophobic.
Therefore, ink does not adhere to the portion where water adheres. (d): The printing plate ink is adhered and transferred to paper or the like. Of the above operations (a) to (d), the dampening operation of (c) requires considerable skill, so waterless offset printing that does not require this operation is actually performed, and its improvement A method has also been proposed (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-251256). Furthermore, in order to eliminate the defects of the offset printing method, several printing techniques using water-based ink have been proposed. For example,
Forming a liquid-adhesive area selectively or selectively and reversibly on a surface of a member having a strong repulsion force to a liquid, supplying the liquid ink to this area, and transferring the liquid ink to plain paper or the like. A recording medium effective for obtaining a clearer image (Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-31875); a lithographic printing plate in which a portion where a powder is fixed in an image-like manner is formed on the surface of a polymer layer; 20 ° contact angle with water on the area where
A printing plate wherein the contact angle of water on the surface of the polymer layer to which the powder is not fixed is 70 ° or more (JP-A-4-136
No. 940);
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、水無しオフセ
ット印刷においては、印刷時の活版の温度コントロール
がかなり難しいうえに、しかもインクが疎水性のため印
刷部分には静電的にごみ等が付着するトラブルがあっ
た。ごみ等が付着しにくいようにするにはインキを水性
にすることが考えられる。However, in waterless offset printing, it is quite difficult to control the temperature of the letterpress at the time of printing, and moreover, since the ink is hydrophobic, dust and the like adhere to the printed portion electrostatically. There was trouble to do. In order to make it difficult for dust and the like to adhere, it is conceivable to make the ink water-based.
【0005】本発明の目的は、従来の水無しオフセット
印刷とは異なる水性インキを用いた新しい印刷装置、お
よびその装置に用いる超撥水面とそうでない部分を合わ
せもつ表面をもった物品を提供することである。本発明
の別の目的は、前記物品の製造方法を提供することであ
る。本発明の他の目的は、光照射によって超撥水面とそ
うでない部分を合わせもつ表面をもった物品を形成でき
ることから、新しい凹凸形成方法を提供することであ
る。その際、超撥水性を示さない部分の水との接触角を
70°以下に下げることでより微細な加工が可能になると
考えられる。[0005] It is an object of the present invention to provide a new printing apparatus using an aqueous ink different from conventional waterless offset printing, and an article having a surface having both a super-water-repellent surface and a part which is not used in the apparatus. That is. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing said article. Another object of the present invention is to provide a new method for forming unevenness, since an article having a surface having a super-water-repellent surface and a portion having no super-water-repellent surface can be formed by light irradiation. At that time, the contact angle with water of the part that does not show super water repellency
It is considered that a finer processing can be achieved by lowering the angle to 70 ° or less.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記(c)の水湿しは未
露光部分の撥インク性が十分あれば必要ないことにな
り、したがって未露光部分のインクに対する接触角が十
分大きければ不要であろうと考えられ、またインクは水
性インクを用いればごみの静電的な付着がかなり防げる
と考え検討を始めた。その結果、本発明者らは下記の手
段が上記問題の克服に有効であることを見い出し本発明
に至った。 1. 水との接触角が150°以上の表面を有する物品にお
いて、該表面上に部分的に水との接触角が80〜130°の
部分を形成し、次に該部分に水との接触角が70°以下の
表面を有する物質を結合または付着させたことを特徴と
する物品。 2. 上記1において、水との接触角が70°以下の物質が
樹脂成分を50wt%以上含んでいることを特徴とする物
品。 3. 上記2において、水との接触角が70°以下の物質が
平均粒径0.01〜3μmの粒子を樹脂成分の10〜100wt%含有
していることを特徴とする物品。 4. 上記3において、平均粒径0.01〜3μmの粒子の構成
材料が酸化珪素、酸化アルミニウムおよび酸化チタンか
ら選ばれることを特徴とする物品。 5. 上記2において、樹脂が塩構造を有することを特徴
とする物品。 6. 上記5において、樹脂の塩構造がカルボキシル基と
アミノ基からなることを特徴とする物品。 7. 上記6において、カルボキシル基とアミノ基からな
る塩構造を有する樹脂がポリアクリル酸とポリアリルア
ミンからなることを特徴とする物品。 8. 上記1において、水との接触角が70°以下の物質がR
-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から18の
直鎖又は分岐のアルキル基もしくはビニル基、アルキル
基の炭素数が1〜3のアミノアルキル基、トリル基、また
はフェニル基であり、OR'はメトキシ基またはエトキシ
基である)、或いは、R-Si(OR')3またはSi(OR')4(但
し、RおよびOR'は上記定義のとおりである)と水、また
は水との接触角150°以上の表面との反応物からなるも
のであることを特徴とする物品。 9.上記1〜8において、水との接触角が150°以上の表面
を形成する部材中に式: Rf−(R)z [式中、Rfは下記の構造: F(CF(CF3)-CF2-O-)m-CF(CF3)CONH-; F(CF2-CF2-CF2-O−)m'−CF2-CF2-CONH-;または −HNOC-[(-CF2-CF2-O-)n-(CF2-O-)n']-CF2-CONH- から選択され、ここで、mおよびm'は平均9乃至54で
あり、nは平均8乃至28であり、n'は平均10乃至40で
ある、Rは下記の構造:The dampening of the above (c) is not required if the unexposed portion has sufficient ink repellency, and therefore unnecessary if the contact angle of the unexposed portion with ink is sufficiently large. It is thought that there is a possibility that the use of an aqueous ink can considerably prevent electrostatic adhesion of dust. As a result, the present inventors have found that the following means are effective in overcoming the above problems, and have reached the present invention. 1. In an article having a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, a portion having a contact angle with water of 80 to 130 ° is partially formed on the surface, and then the portion is contacted with water. An article characterized in that a substance having a surface having an angle of 70 ° or less is bonded or adhered. 2. The article according to 1 above, wherein the substance having a contact angle with water of 70 ° or less contains 50% by weight or more of a resin component. 3. The article according to 2 above, wherein the substance having a contact angle with water of 70 ° or less contains particles having an average particle size of 0.01 to 3 μm in an amount of 10 to 100% by weight of the resin component. 4. An article according to the above item 3, wherein the constituent material of the particles having an average particle size of 0.01 to 3 μm is selected from silicon oxide, aluminum oxide and titanium oxide. 5. The article according to the above item 2, wherein the resin has a salt structure. 6. The article according to 5 above, wherein the salt structure of the resin comprises a carboxyl group and an amino group. 7. The article according to 6 above, wherein the resin having a salt structure comprising a carboxyl group and an amino group comprises polyacrylic acid and polyallylamine. 8. In the above item 1, the substance whose contact angle with water is 70 ° or less is R
-Si (OR ') 3 or Si (OR') 4 (where R is a linear or branched alkyl group or vinyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aminoalkyl group having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group, A tolyl group or a phenyl group, OR ′ is a methoxy group or an ethoxy group), or R-Si (OR ′) 3 or Si (OR ′) 4 (where R and OR ′ are as defined above) ) And water or a reaction product of water and a surface having a contact angle of 150 ° or more with water. In 9. above 1-8, in member having a contact angle with water of forming a surface of more than 150 ° formula: Rf- (R) z [wherein, Rf is the following structure: F (CF (CF 3) -CF 2 -O-) m-CF ( CF 3) CONH-; F (CF 2 -CF 2 -CF 2 -O-) m'-CF 2 -CF 2 -CONH-; or -HNOC - [(- CF 2 -CF 2 -O-) n- ( CF 2 -O-) n '] - it is selected from CF 2 -CONH-, wherein, m and m' is an average 9 to 54, n is an average 8 And n 'is an average of 10 to 40, R is the following structure:
【0007】[0007]
【化3】 から選択され、zは1または2である]で示される含フ
ッ素化合物が含有されていることを特徴とする物品。 10. 水との接触角が150°以上の表面上に水との接触角
が70°以下の部分を有する物品の製造方法において、該
表面上に光照射して部分的に水との接触角が80〜130°
の部分を形成し、次に該部分に水との接触角が70°以下
の表面を有する物質を結合または付着させることを特徴
とする方法。 11. 上記10において、光照射がレーザー、キセノンラン
プまたは水銀ランプによって行われることを特徴とする
方法。 12. 上記10または11において、水との接触角が70°以下
の表面を有する物質を付着させる操作が親水性を有する
物質の水溶液または水性懸濁液を付着させることによっ
て行われることを特徴とする方法。 13. 上記10または11において、水との接触角が70°以下
の表面を有する物質を結合させる操作が親水性を有する
物質を形成する材料の蒸気に触れさせることによって行
われることを特徴とする方法。 14. 光を用いて形成される活版を用いる印刷装置におい
て、該装置に用いられる活版の水との接触角が未露光部
分で150°以上であり、露光部分上に水との接触角が70
°以下の物質が付着または結合していることを特徴とす
る印刷装置。 15. 上記14において、水との接触角が70°以下の物質が
樹脂成分を50wt%以上含んでいることを特徴とする印刷
装置。 16. 上記15において、水との接触角が70°以下の物質が
平均粒径0.01〜3μmの粒子を樹脂成分の10〜100wt%含有
していることを特徴とする印刷装置。 17. 上記16において、平均粒径0.01〜3μmの粒子の構成
材料が酸化珪素、酸化アルミニウムおよび酸化チタンか
ら選ばれることを特徴とする印刷装置。 18. 上記15において、樹脂が塩構造を有することを特徴
とする印刷装置。 19. 上記18において、樹脂の塩構造がカルボキシル基と
アミノ基からなることを特徴とする物品。 20. 上記19において、カルボキシル基とアミノ基からな
る塩構造を有する樹脂がポリアクリル酸とポリアリルア
ミンからなることを特徴とする印刷装置。 21. 上記14において、水との接触角が70°以下の物質が
R-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から18の
直鎖又は分岐のアルキル基もしくはビニル基、アルキル
基の炭素数が1〜3のアミノアルキル基、トリル基、また
はフェニル基であり、OR'はメトキシ基またはエトキシ
基である)、或いは、R-Si(OR')3またはSi(OR')4(Rお
よびOR'は上記定義のとおりである)と水、または水と
の接触角150°以上の表面との反応物からなるものであ
ることを特徴とする印刷装置。 22.上記14〜21において、水との接触角が150°以上の
表面を形成する部材中に 式:Rf−(R)z [式中、Rfは下記の構造: F(CF(CF3)-CF2-O-)m-CF(CF3)CONH-; F(CF2-CF2-CF2-O−)m'−CF2-CF2-CONH-;または −HNOC-[(-CF2-CF2-O-)n-(CF2-O-)n']-CF2-CONH- から選択され、ここで、mおよびm'は平均9乃至54で
あり、nは平均8乃至28であり、n'は平均10乃至40で
ある、Rは下記の構造:Embedded image Wherein z is 1 or 2.]. 10. In a method for producing an article having a portion having a contact angle with water of 70 ° or less on a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, the contact angle with water is partially irradiated by irradiating the surface with light. Is 80-130 °
The method according to claim 1, further comprising the step of forming a portion of the above, and then bonding or attaching a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less to the portion. 11. The method according to 10 above, wherein the light irradiation is performed by a laser, a xenon lamp, or a mercury lamp. 12. The method according to 10 or 11, wherein the operation of attaching a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less is performed by attaching an aqueous solution or aqueous suspension of a substance having hydrophilicity. how to. 13. In 10 or 11 above, the operation of bonding a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less is performed by contacting the substance with a vapor forming a substance having hydrophilicity. Method. 14. In a printing apparatus using a letterpress formed using light, the contact angle of water of the letterpress used in the apparatus is 150 ° or more in an unexposed portion, and the contact angle with water on the exposed portion is 70 °.
° A printing device characterized by the fact that a substance of less than or equal to ° is attached or bound. 15. The printing apparatus according to the above 14, wherein the substance having a contact angle with water of 70 ° or less contains a resin component of 50% by weight or more. 16. The printing apparatus according to the above 15, wherein the substance having a contact angle with water of 70 ° or less contains particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm in an amount of 10 to 100% by weight of the resin component. 17. The printing apparatus according to 16 above, wherein the constituent material of the particles having an average particle diameter of 0.01 to 3 μm is selected from silicon oxide, aluminum oxide, and titanium oxide. 18. The printing apparatus according to the above 15, wherein the resin has a salt structure. 19. The article according to 18 above, wherein the salt structure of the resin comprises a carboxyl group and an amino group. 20. The printing apparatus according to 19 above, wherein the resin having a salt structure comprising a carboxyl group and an amino group comprises polyacrylic acid and polyallylamine. 21. In 14 above, substances whose contact angle with water is 70 ° or less
R-Si (OR ′) 3 or Si (OR ′) 4 (where R is a linear or branched alkyl group or vinyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an aminoalkyl group having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group) , A tolyl group, or a phenyl group, OR 'is a methoxy group or an ethoxy group), or R-Si (OR') 3 or Si (OR ') 4 (R and OR' are as defined above. A) a reaction product of water and a surface having a contact angle of 150 ° or more with water. twenty two. In the above 14 to 21, in a member forming a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, Rf- (R) z wherein Rf has the following structure: F (CF (CF 3 ) -CF 2 -O-) m-CF (CF 3 ) CONH-; F (CF 2 -CF 2 -CF 2 -O-) m'-CF 2 -CF 2 -CONH-; or -HNOC-[(-CF 2 -CF 2 -O-) n- (CF 2 -O-) n '] - it is selected from CF 2 -CONH-, wherein, m and m' is an average 9 to 54, n is an average of 8 to 28 And n 'is on average 10 to 40, R is the following structure:
【0008】[0008]
【化4】 から選択され、zは1または2である]で示される含フ
ッ素化合物が含有されていることを特徴とする印刷装
置。 23. 凹凸形成技術において、水との接触角が150°以上
の表面上に光照射して部分的に水との接触角が80〜130
°の部分を形成し、次に該部分に水との接触角が70°以
下の表面を有する物質を結合または付着させることを特
徴とする凹凸形成方法。 24. 上記23において、光照射がレーザー、キセノンラン
プまたは水銀ランプによって行われることを特徴とする
方法。 25. 上記23または24において、水との接触角が70°以下
の表面を有する物質を付着させる操作が親水性を有する
物質の水溶液または水性懸濁液を付着させることによっ
て行われることを特徴とする方法。 26. 上記23または24において、水との接触角が70°以下
の表面を有する物質を結合させる操作が親水性を有する
物質を形成する材料の蒸気に触れさせることによって行
われることを特徴とする方法。Embedded image And z is 1 or 2.], wherein z is 1 or 2.]. 23. In the concavo-convex formation technology, the surface with a contact angle with water of 150 ° or more is irradiated with light to partially adjust the contact angle with water to 80 to 130.
The method of forming irregularities, wherein a part having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less is formed on the part, and a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less is attached to the part. 24. The method according to the above item 23, wherein the light irradiation is performed by a laser, a xenon lamp or a mercury lamp. 25. In 23 or 24 above, the operation of attaching a substance having a surface having a contact angle of 70 ° or less with water is performed by attaching an aqueous solution or aqueous suspension of a substance having hydrophilicity. how to. 26. In the above item 23 or 24, an operation of bonding a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less is performed by contacting with a vapor of a material forming a substance having hydrophilicity. Method.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】水との超撥水性を示す表面に選択
的に超撥水性を示さない部分を作ってやれば水性インキ
用の活版として機能する訳である。しかし細かい文字
(10ポイント以下)の場合、超撥水性を示さない部分の
水との接触角が大きい(110°以上)と解像度が低下し
画数の多い漢字では細かい部分の再現が困難になる。現
在インクジェットプリンタや電子写真方式のプリンター
では最低でも300dpi程度の解像度であるので、その程度
の解像度を目指すには本発明者らの検討では超撥水性を
示さない部分の接触角は70°以下は必要であることが判
明した。本発明はこの点を考慮し超撥水性を示さない部
分の接触角は70°以下である表面を作製することについ
て記述する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION If a portion which does not exhibit super water repellency is selectively formed on a surface exhibiting super water repellency with water, it functions as a letterpress for aqueous ink. However, in the case of fine characters (10 points or less), if the contact angle with water of a portion that does not exhibit super water repellency is large (110 ° or more), the resolution is reduced, and it is difficult to reproduce the fine portions in a kanji having many strokes. At present, the resolution of ink jet printers and electrophotographic printers is at least about 300 dpi, so in order to aim for such a resolution, the contact angle of the part that does not show super water repellency in the study of the present inventors is 70 ° or less. Turned out necessary. In view of this point, the present invention describes producing a surface having a contact angle of 70 ° or less in a portion not exhibiting super water repellency.
【0010】初めに、超撥水性を示す表面に選択的に水
との接触角が70°以下の物質の塗膜を付着させる方法を
記述する。まず本発明の活版等を作製するための物品の
所定の表面に超撥水性を示す表面を形成する。次にこの
表面に光照射を受けて親水性の増加する化合物(光反応
性物質)を塗布する。その後撥水性を低下させたい部分
に光を照射する。この場合、光反応性物質が親水性を増
加させる構造に変化するのに必要な波長で、且つ親水性
を増加させる構造に変化するのに十分な光強度の光を照
射する。これによって光を照射した部分の超撥水性が失
われる。このとき光照射部分の水との接触角は後述の光
反応性物質によって異なるが低い接触角を与えるもので
もその値は80°程度である。またものによっては130°
を越える接触角を与えるものもあるが後述の(1)或い
は(2)の操作の際、親水性の物質の付着が不十分にな
るので、用いる光反応性物質は130°以下の接触角を与
えるものが望ましい。First, a method for selectively attaching a coating film of a substance having a contact angle with water of 70 ° or less on a surface exhibiting super water repellency will be described. First, a surface exhibiting super water repellency is formed on a predetermined surface of an article for producing a letterpress or the like of the present invention. Next, a compound (photoreactive substance) which increases hydrophilicity by being irradiated with light is applied to the surface. Thereafter, light is applied to the portion where the water repellency is to be reduced. In this case, light is emitted at a wavelength necessary for the photoreactive substance to change to a structure that increases hydrophilicity, and at a light intensity sufficient to change to a structure that increases hydrophilicity. As a result, the super-water repellency of the irradiated portion is lost. At this time, the contact angle of the light-irradiated portion with water varies depending on the photoreactive substance described later, but the value is about 80 ° even if it gives a low contact angle. 130 ° for some
Some of the photoreactive substances have a contact angle of 130 ° or less, because the adhesion of hydrophilic substances becomes insufficient during the operation (1) or (2) described below. What you give is desirable.
【0011】次に光照射部分に親水性を有する物質を付
着させる。この方法としては種々の方法があるが、ここ
ではその中の2つ(以下の(1)、(2))を示す。 (1):親水性を有する物質の水溶液または水性懸濁液
を付着させる方法。 (2):親水性を有する物質を形成する材料の蒸気に触
れさせる方法。 (1)は以下のようにして行うことができる。まず光を
照射後の表面に親水性を有する物質の水溶液または水性
懸濁液を塗布する。光を照射された部分にのみこの水溶
液または水性懸濁液が付着する。この水溶液または水性
懸濁液が乾燥すると水との接触角が70°以下になるもの
であれば物質の種類は特に限定を受けるものではない。
しかし後述の微粒子を混ぜた場合、付着物中での微粒子
の保持が必要であるため樹脂が望ましい。この表面を乾
燥することで超撥水性を示す表面に選択的に水との接触
角が70°以下の物質の塗膜を付着させることが可能とな
る。Next, a hydrophilic substance is attached to the light-irradiated portion. There are various methods as this method, and here, two of them ((1) and (2) below) are shown. (1): A method of attaching an aqueous solution or suspension of a substance having hydrophilicity. (2): A method in which a material that forms a substance having hydrophilicity is exposed to vapor. (1) can be performed as follows. First, an aqueous solution or suspension of a substance having hydrophilicity is applied to the surface after light irradiation. This aqueous solution or aqueous suspension adheres only to the portion irradiated with light. The type of the substance is not particularly limited as long as the contact angle with water becomes 70 ° or less when the aqueous solution or the aqueous suspension is dried.
However, when the fine particles described below are mixed, it is necessary to retain the fine particles in the attached matter, so that a resin is preferable. By drying this surface, a coating film of a substance having a contact angle with water of 70 ° or less can be selectively adhered to the surface exhibiting super water repellency.
【0012】ところで、(1)の操作により親水性を有
する物質が付着した部分は超撥水表面より盛り上がる。
即ちこれは凹凸形成技術の一つとみなすことができる。
照射する光のスポット径を小さくすれば微細な凹凸形成
が可能になるわけであり、新しい微細加工技術の方法と
しても重要である。微粒子の添加量は、少なすぎると微
粒子が樹脂等の親水性を有する物質中に完全に埋もれて
しまうため凹凸を形成しなくなり、多すぎると親水性を
有する物質が微粒子を保持できなくなる。また、保持で
きたとしてもその部分はもろくなる。そのため、これを
印刷装置の活版等に用いるには強度が低すぎる。これら
を考慮すると、微粒子の添加量としては親水性を有する
物質に対して10〜100重量%程度が適当である。By the way, the portion where the substance having hydrophilicity is attached by the operation (1) rises from the super-water-repellent surface.
That is, this can be regarded as one of the concavo-convex forming techniques.
If the spot diameter of the irradiated light is reduced, fine irregularities can be formed, and it is also important as a method of a new fine processing technology. If the addition amount of the fine particles is too small, the fine particles are completely buried in a hydrophilic substance such as a resin, so that no irregularities are formed. If the addition amount is too large, the hydrophilic substance cannot retain the fine particles. Also, even if it can be held, that part becomes brittle. Therefore, the strength is too low to be used for letterpress of a printing apparatus. In consideration of these, it is appropriate that the addition amount of the fine particles is about 10 to 100% by weight based on the hydrophilic substance.
【0013】(2)は以下のようにして行うことができ
る。まず光を照射後の表面に水で湿らせた目の細かなス
ポンジまたはティッシュペーパーを触れさせる。光照射
部分は親水性が高いため、そこに水が付着する。この場
合水の付着量はごくわずかでかまわない。次に親水性の
物質を形成する材料の蒸気に触れさせる。この材料とし
てはR-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から
18の直鎖又は分岐のアルキル基、またはフェニル基であ
り、OR'はメトキシ基またはエトキシ基である)が挙げ
られる。これらの材料は水と反応しSiO2を形成したり、
超撥水表面に存在する水酸基と反応し表面に固定され
る。(2) can be performed as follows. First, a fine-grained sponge or tissue paper moistened with water is brought into contact with the light-irradiated surface. Since the light-irradiated portion has high hydrophilicity, water adheres thereto. In this case, the amount of adhered water may be very small. Next, it is exposed to the vapor of the material forming the hydrophilic substance. As this material, R-Si (OR ') 3 or Si (OR') 4 (where R
18 linear or branched alkyl groups or phenyl groups, and OR 'is a methoxy group or an ethoxy group). These materials react with water to form SiO 2 ,
Reacts with hydroxyl groups present on the super water repellent surface and is fixed to the surface.
【0014】(1)の場合用いる物質としては、親水性
を有する樹脂が挙げられる。樹脂としてはポリビニルア
ルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレンイミン、ポリ
アリルアミン等が挙げられる。また分子内にアンモニウ
ム塩構造を有するポリアミド酸塩等も挙げられる。ポリ
アミド酸塩は加熱により一部がポリイミドに変化するの
で付着物としてはポリイミドも挙げられる。付着後の付
着物の平坦性を向上させるためには、これらの物質の平
均分子量は大きい方が望ましい。例えば樹脂としてポリ
ビニルアルコールの場合、平均分子量が22,000のものを
用いると、付着後乾燥したものは物理的にもろく、指で
擦ると粉状になって剥離する。しかし平均分子量が66,0
00のものを用いた場合は平均分子量が22,000のものより
柔軟性がある。そのため平均分子量が22,000のものより
丈夫である。また平均分子量が88,000のものを用いた場
合はより柔軟性の程度が向上するため好ましい。樹脂の
含有量は多い方が後述の微粒子を保持しやすいし、物理
的強度も高い。そのため樹脂は付着物全体の50wt%以上
含有されていることが望ましい。The substance used in the case of (1) includes a resin having hydrophilicity. Examples of the resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene imine, and polyallylamine. In addition, a polyamic acid salt having an ammonium salt structure in the molecule is also exemplified. A part of the polyamic acid salt is changed into polyimide by heating, and thus, the attached matter includes polyimide. In order to improve the flatness of the deposit after the deposition, it is desirable that the average molecular weight of these substances is large. For example, in the case of using polyvinyl alcohol as the resin, if the resin having an average molecular weight of 22,000 is used, the one dried after attachment is physically brittle, and peels off when rubbed with a finger. However, the average molecular weight is 66,0
When the one having a molecular weight of 00 is used, the resin has more flexibility than the one having an average molecular weight of 22,000. Therefore, the average molecular weight is stronger than that of 22,000. It is preferable to use those having an average molecular weight of 88,000 because the degree of flexibility is further improved. The higher the resin content, the easier it is to retain the fine particles described later, and the higher the physical strength. Therefore, it is desirable that the resin is contained in an amount of 50 wt% or more of the total amount of the deposit.
【0015】また表面に規則的凹凸を形成することで親
水性を高めることも可能である。この場合親水性の物質
の水溶液または水性懸濁液中にある程度粒径の揃った微
粒子を分散させる方法が挙げられる。この場合、その粒
径は大きすぎると親水性の物質によって保持できなくな
る。また小さすぎると凹凸を形成することができなくな
ってしまう。そのため平均粒径としては0.01〜3μmあた
りが適当である。ところでポリアクリル酸等の酸はポリ
エチレンイミン、ポリアリルアミン等の塩基と塩を形成
する。高分子の塩の場合分子内の複数の酸性発現残基と
塩基性発現残基(ポリアクリル酸の場合はカルボキシル
基、ポリエチレンイミンやポリアリルアミンの場合はア
ミノ基)による塩を形成する。この塩は水には不溶であ
り、しかも塩構造なので親水性が高いという特徴をもっ
ている。そのため本発明の物品を水性インクの活版とし
て用いる際に親水性の付着物が高分子の塩構造の場合は
インクにより侵されにくいという利点を持っている。ポ
リイミドも耐水性は高いので上記使用の際は好ましい物
質と言える。ただポリアミド酸塩に比べて親水性が低い
のでこの場合は上記0.01〜3μmの微粒子を用いることが
望ましい。微粒子の材質としては、水に溶解或いは水に
より膨潤しないものであれば特に限定はない。具体的に
は、Au、Pt、Ag、Cu、SiO2、Al2O3、TiO2等の無機の材
料、複写機やプリンター等で用いられているトナー、吸
着剤等で用いられているカーボンブラック等も挙げられ
る。これらの中ではSiO2、Al2O3、TiO2等の無機の酸化
物が付着物の親水性を高める傾向があるので特に好まし
い。なおFe等は水に入れておくと徐々に腐食するので、
その場合は上記親水性を有する物質の水溶液または水性
懸濁液に添加後は速やかに用いる方がよい。It is also possible to enhance the hydrophilicity by forming regular irregularities on the surface. In this case, a method of dispersing fine particles having a certain particle size in an aqueous solution or aqueous suspension of a hydrophilic substance can be used. In this case, if the particle size is too large, the particle cannot be held by the hydrophilic substance. On the other hand, if it is too small, it will not be possible to form irregularities. Therefore, the average particle size is preferably around 0.01 to 3 μm. Incidentally, an acid such as polyacrylic acid forms a salt with a base such as polyethyleneimine and polyallylamine. In the case of a high molecular salt, a salt is formed by a plurality of acidic expressed residues and basic expressed residues (a carboxyl group in the case of polyacrylic acid, an amino group in the case of polyethyleneimine or polyallylamine) in the molecule. This salt is insoluble in water and has a feature of high hydrophilicity due to its salt structure. Therefore, when the article of the present invention is used as a water-based ink letterpress, there is an advantage that the hydrophilic deposit is not easily attacked by the ink when the hydrophilic deposit has a high-molecular salt structure. Polyimide is also a preferable substance in the above use because of its high water resistance. However, since the hydrophilicity is lower than that of the polyamic acid salt, in this case, it is desirable to use the fine particles of 0.01 to 3 μm. The material of the fine particles is not particularly limited as long as it does not dissolve in water or swell with water. Specifically, inorganic materials such as Au, Pt, Ag, Cu, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , toner used in copying machines and printers, and carbon used in adsorbents and the like Black and the like are also included. Of these, inorganic oxides such as SiO 2 , Al 2 O 3 , and TiO 2 are particularly preferred because they tend to increase the hydrophilicity of the deposit. In addition, since Fe etc. gradually corrodes when put in water,
In such a case, it is better to use the solution immediately after adding it to the aqueous solution or suspension of the hydrophilic substance.
【0016】(2)の場合用いる物質の一般式はとして
は、R-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から
18の直鎖又は分岐のアルキル基もしくはビニル基、アル
キル基の炭素数が1〜3のアミノアルキル基、トリル基、
またはフェニル基であり、OR'はメトキシ基またはエト
キシ基である)である。具体的にはR-Si(OR')3の場合、
たとえばトリメトキシメチルシラン、トリメトキシエチ
ルシラン、トリメトキシ-n-プロピルシラン、トリメト
キシ-n-ブチルシラン、トリメトキシ-n-ヘキシルシラ
ン、トリメトキシ-n-オクチルシラン、トリメトキシ-n-
デシルシラン、トリメトキシ-n-ドデシルシラン、トリ
メトキシ-n-ヘキサデシルシラン、トリメトキシ-n-オク
タデシルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリメト
キシトリルシラン、3-(トリメトキシシリル)プロピル
アミン、トリメトキシイソプロピルシラン、トリメトキ
シ-t-ブチルシラン、トリメトキシシクロプロピルシラ
ン、トリメトキシシクロヘキシルシラン、トリメトキシ
シクロオクチルシラン、トリエトキシメチルシラン、ト
リエトキシエチルシラン、等が挙げられる。Si(OR')4の
場合、たとえばテトラメチルオルソシリケート、テトラ
エチルオルソシリケート、テトラ-n-プロピルオルソシ
リケート、テトラ-n-ブチルオルソシリケートが挙げら
れる。水との反応性はR'の炭素数が小さいほど高い傾向
がある。具体的にはOR'がメトキシ基の場合エトキシ基
より反応性が高い。ただ保存安定性という点で見ると反
応性の低い方が湿気等による変化が少ない。The general formula of the substance to be used in the case of (2) is R-Si (OR ') 3 or Si (OR') 4 (where R is 1 to 4 carbon atoms).
18 linear or branched alkyl group or vinyl group, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an aminoalkyl group, a tolyl group,
Or OR 'is a methoxy or ethoxy group). Specifically, in the case of R-Si (OR ') 3 ,
For example, trimethoxymethylsilane, trimethoxyethylsilane, trimethoxy-n-propylsilane, trimethoxy-n-butylsilane, trimethoxy-n-hexylsilane, trimethoxy-n-octylsilane, trimethoxy-n-
Decylsilane, trimethoxy-n-dodecylsilane, trimethoxy-n-hexadecylsilane, trimethoxy-n-octadecylsilane, trimethoxyvinylsilane, trimethoxytolylsilane, 3- (trimethoxysilyl) propylamine, trimethoxyisopropylsilane, trimethoxy- Examples include t-butylsilane, trimethoxycyclopropylsilane, trimethoxycyclohexylsilane, trimethoxycyclooctylsilane, triethoxymethylsilane, and triethoxyethylsilane. In the case of Si (OR ′) 4 , for example, tetramethylorthosilicate, tetraethylorthosilicate, tetra-n-propylorthosilicate, tetra-n-butylorthosilicate may be mentioned. The reactivity with water tends to be higher as the carbon number of R 'is smaller. Specifically, when OR ′ is a methoxy group, the reactivity is higher than that of an ethoxy group. However, from the viewpoint of storage stability, the lower the reactivity, the less the change due to moisture and the like.
【0017】光反応性物質としては、マラカイトグリー
ンカルビノールベース等を含む紫外光照射により分子内
で塩構造を形成するトリフェニルメタン誘導体、同じく
紫外光照射によって分子内で塩構造を形成するスピロピ
ラン誘導体、4,5-エポキシ-2-シクロペンテン誘導体等
のフォトクロミック化合物が挙げられる。また光を照射
されると酸を発生する光酸発生剤、塩基を発生する光塩
基発生剤等も挙げられる。ところで前述のように光照射
部分の水との接触角は130°を越えない方がよい。この
点でみると、トリフェニルメタン誘導体を用いた場合水
との接触角は最低約80°まで低下する。しかしスピロピ
ラン誘導体は最低でも約90°程度、4,5-エポキシ-2-シ
クロペンテン誘導体は最低でも約110°程度までしか低
下しない。また塗布濃度、塗布層からの引き上げ速度に
よって上記光反応性物質を用いた場合でも接触角は130
°を超えることもある。しかしその後親水性の物質の水
溶液または水性懸濁液を付着させる際、その付着が不十
分になるので、用いる光反応性物質、及びその塗布条件
は光照射後の部分が130°以下の接触角を与えるものが
望ましい。Examples of the photoreactive substance include a triphenylmethane derivative which forms a salt structure in a molecule by irradiation with ultraviolet light, including a malachite green carbinol base, and a spiropyran derivative which forms a salt structure in a molecule by irradiation with ultraviolet light. And photochromic compounds such as 4,5-epoxy-2-cyclopentene derivatives. In addition, a photoacid generator that generates an acid when irradiated with light, a photobase generator that generates a base, and the like can also be used. By the way, as described above, the contact angle of the light irradiation part with water should not exceed 130 °. In this regard, the contact angle with water is reduced to at least about 80 ° when the triphenylmethane derivative is used. However, the spiropyran derivative is reduced to at least about 90 °, and the 4,5-epoxy-2-cyclopentene derivative is reduced to at least about 110 °. In addition, the contact angle is 130 even when the photoreactive substance is used depending on the coating concentration and the lifting speed from the coating layer.
° may be exceeded. However, when an aqueous solution or aqueous suspension of a hydrophilic substance is subsequently applied, the adhesion becomes insufficient, so that the photoreactive substance used and the application conditions are such that the contact angle of the part after light irradiation is 130 ° or less. Is desirable.
【0018】トリフェニルメタン誘導体としては、マラ
カイトグリーン系の化合物が挙げられる。具体的には、
ビス[4−(ジメチルアミノ)フェニル]フェニルメタ
ノール、ビス[4−(ジエチルアミノ)フェニル]フェ
ニルメタノール、ビス[4−(ジブチルアミノ)フェニ
ル]フェニルメタノール、ビス[4−(ジメチルアミ
ノ)フェニル]フェニルメタン、ビス[4−(ジエチル
アミノ)フェニル]フェニルメタン等が挙げられる。Examples of the triphenylmethane derivative include a malachite green compound. In particular,
Bis [4- (dimethylamino) phenyl] phenylmethanol, bis [4- (diethylamino) phenyl] phenylmethanol, bis [4- (dibutylamino) phenyl] phenylmethanol, bis [4- (dimethylamino) phenyl] phenylmethane , Bis [4- (diethylamino) phenyl] phenylmethane and the like.
【0019】スピロピラン誘導体としては、具体的には
1,3,3-トリメチルインドリノベンゾピリロスピラン、1,
3,3-トリメチルインドリノ-6'-ニトロベンゾピリロスピ
ラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-6'-ブロモベンゾピ
リロスピラン、1-n-デシル-3,3-ジメチルインドリノ-6'
-ニトロベンゾピリロスピラン、1-n-オクタデシル-3,3-
ジメチルインドリノ-6'-ニトロベンゾピリロスピラン、
3',3'-ジメチル-6-ニトロ-1'-[2-(フェニルカルバモイ
ル)エチル]スピロ[2H-1-ベンゾピラン-2,2'-インドリ
ン]、1,3,3-トリメチルインドリノ-8'-メトキシベンゾ
ピリロスピラン、1,3,3-トリメチルインドリノ-b-ナフ
トピリロスピラン等が挙げられる。As the spiropyran derivative, specifically,
1,3,3-trimethylindolinobenzopyrirospirane, 1,
3,3-trimethylindolino-6'-nitrobenzopyrrolospirane, 1,3,3-trimethylindolino-6'-bromobenzopyrrolospirane, 1-n-decyl-3,3-dimethylindolino- 6 '
-Nitrobenzopyrrolospirane, 1-n-octadecyl-3,3-
Dimethylindolino-6'-nitrobenzopyrrolospirane,
3 ', 3'-dimethyl-6-nitro-1'-[2- (phenylcarbamoyl) ethyl] spiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indoline], 1,3,3-trimethylindolino- 8'-methoxybenzopyrrolospirane, 1,3,3-trimethylindolino-b-naphthopyrrolospirane and the like.
【0020】4,5-エポキシ-2-シクロペンテン誘導体と
しては2,3-ジフェニル−1ーインデノンオキシド、2,3-
ジメチル−1−インデノンオキシド等が挙げられる。光
酸発生剤としては通常の感光性樹脂組成物に用いるもの
が挙げられる。これらの基本構造はオニウム塩系、ハロ
ゲン化合物系、スルホン酸エステル系、スルホニル化合
物系、ジアゾナフトキノン系といったものが挙げられ
る。オニウム塩系としては、たとえばジフェニルヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニル
スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート等が挙げ
られる。ハロゲン化合物系としては、たとえば2,6-ビス
(トリクロロメチル)-4-(メトキシフェニル)-1,3,5-
トリアジン、1,3,5-トリス(2,3-ジブロモプロピル)-
1,3,5-トリアジン-2,4,6-(1H,3H,5H)トリオン等が挙
げられる。スルホン酸エステル系としては、たとえばト
リス(メタンスルホニルオキシ)ベンゼン、トリス(エ
タンスルホニルオキシ)ベンゼン、a-ヒドロキシメチル
ベンゾインスルホン酸メチル、p-ニトロベンジルスルホ
ン酸ベンゾエート、p-ニトロベンジルスルホン酸ナフタ
レート、p-ニトロベンジルスルホン酸アンスレート、p-
ニトロベンジルスルホン酸-9',10'-アンスレート、トリ
フルオロメタンスルホニルオキシナフタルイミド、トリ
フルオロメタンスルホニルオキシベンズイミド等が挙げ
られる。スルホニル化合物系としては、たとえばジスル
ホニルジアゾメタン、ジスルホン等が挙げられる。ジア
ゾナフトキノン系としては、たとえば3,4,4'-トリス
(ジアゾナフトキノンスルホニルオキシ)-2-ヒドロキ
シベンゾフェノン、2,3,4,4'-テトラ(ジアゾナフトキ
ノンスルホニルオキシ)ベンゾフェノン等が挙げられ
る。これらの化合物は光照射されることによって分解し
酸を発生する。The 4,5-epoxy-2-cyclopentene derivatives include 2,3-diphenyl-1-indenone oxide and 2,3-diphenyl-1-indenone oxide.
Dimethyl-1-indenone oxide and the like. Examples of the photoacid generator include those used in ordinary photosensitive resin compositions. These basic structures include onium salts, halogen compounds, sulfonic acid esters, sulfonyl compounds, and diazonaphthoquinones. Examples of the onium salt system include diphenyliodonium trifluoromethanesulfonate and triphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate. As the halogen compound, for example, 2,6-bis (trichloromethyl) -4- (methoxyphenyl) -1,3,5-
Triazine, 1,3,5-tris (2,3-dibromopropyl)-
1,3,5-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione and the like. Examples of the sulfonic acid ester type include tris (methanesulfonyloxy) benzene, tris (ethanesulfonyloxy) benzene, methyl a-hydroxymethylbenzoin sulfonate, p-nitrobenzylsulfonic acid benzoate, p-nitrobenzylsulfonic acid naphthalate, -Nitrobenzylsulfonic acid anthrate, p-
Nitrobenzylsulfonic acid-9 ', 10'-anthlate, trifluoromethanesulfonyloxynaphthalimide, trifluoromethanesulfonyloxybenzimide and the like can be mentioned. Examples of the sulfonyl compound system include disulfonyldiazomethane, disulfone and the like. Examples of the diazonaphthoquinone type include 3,4,4′-tris (diazonaphthoquinonesulfonyloxy) -2-hydroxybenzophenone, 2,3,4,4′-tetra (diazonaphthoquinonesulfonyloxy) benzophenone, and the like. These compounds are decomposed by light irradiation to generate an acid.
【0021】光塩基発生剤も通常の感光性樹脂組成物に
用いるものが挙げられる。これらの基本構造はトシルア
ミドやカルバメートといったものが多い。具体的には、
N-シクロヘキシルパラトルエンスルホニルアミド、N-[1
-(3,5-ジメトキシフェニル)-1-メチルエトキシカルボ
ニル]シクロヘキシルアミド、N-[(2,6-ジニトロフェニ
ル)メトキシカルボニル]シクロヘキシルアミド、N-[1-
(2,6-ジニトロフェニル)エトキシカルボニル]シクロ
ヘキシルアミド、N-[ビス(2,6-ジニトロフェニル)メ
トキシカルボニル]シクロヘキシルアミド、N-[ビス(2-
ニトロフェニル)メトキシカルボニル]オクタデシルア
ミド、N-[(2-ニトロフェニル)メトキシカルボニル]オ
クタデシルアミド、N-[1-(2-ニトロフェニル)エトキ
シカルボニル]オクタデシルアミド、N-[1-(4,5-ジメチ
ル-2-ニトロフェニル)エトキシカルボニル]オクタデシ
ルアミド、N-[1-(4-メチル-2-ニトロフェニル)エトキ
シカルボニル]オクタデシルアミド等が挙げられる。こ
れらの化合物についてはジャーナル・オブ・ザ・アメリ
カン・ケミカル・ソサイアティ, 1991年, 第113巻,4303
-4313頁等の記載を参考にすれば合成できる。これら化
合物は光照射されることにより分解して塩基を発生す
る。Examples of the photobase generator include those used in ordinary photosensitive resin compositions. Many of these basic structures include tosylamide and carbamate. In particular,
N-cyclohexyl paratoluenesulfonylamide, N- [1
-(3,5-dimethoxyphenyl) -1-methylethoxycarbonyl] cyclohexylamide, N-[(2,6-dinitrophenyl) methoxycarbonyl] cyclohexylamide, N- [1-
(2,6-dinitrophenyl) ethoxycarbonyl] cyclohexylamide, N- [bis (2,6-dinitrophenyl) methoxycarbonyl] cyclohexylamide, N- [bis (2-
Nitrophenyl) methoxycarbonyl] octadecylamide, N-[(2-nitrophenyl) methoxycarbonyl] octadecylamide, N- [1- (2-nitrophenyl) ethoxycarbonyl] octadecylamide, N- [1- (4,5 -Dimethyl-2-nitrophenyl) ethoxycarbonyl] octadecylamide, N- [1- (4-methyl-2-nitrophenyl) ethoxycarbonyl] octadecylamide and the like. These compounds are discussed in the Journal of the American Chemical Society, 1991, 113, 4303.
It can be synthesized by referring to the description on page -4313. These compounds are decomposed by light irradiation to generate a base.
【0022】光の照射方法としては、レーザー、キセノ
ンランプ、水銀ランプ等が挙げられる。照射光が光反応
性物質の構造変化を伴う波長の光を照射するのであれ
ば、装置には特に限定はない。キセノンランプ、水銀ラ
ンプ等はモノクロメーターやフィルター等で必要な波長
の光を表面に照射することで反応性物質の構造変化を起
こすことが可能となる。照射エネルギーが小さい場合は
照射時間を長くすることで対応する。As a method for irradiating light, a laser, a xenon lamp, a mercury lamp and the like can be mentioned. The apparatus is not particularly limited as long as the irradiation light irradiates light having a wavelength accompanied by a structural change of the photoreactive substance. Xenon lamps, mercury lamps, and the like can cause a structural change of a reactive substance by irradiating the surface with light of a required wavelength using a monochromator, a filter, or the like. When the irradiation energy is small, the irradiation time is increased by increasing the irradiation time.
【0023】次に超撥水面の構築方法を記述する。超撥
水面の構築方法は幾つかの報告がある。本発明で用いる
超撥水面は、光で親水性の増加する化合物を付着させる
際に用いる物質で超撥水性が失われなければこれらに限
定されるものではない。超撥水性が失われる場合として
は、例えば光で親水性の増加する化合物を塗布する際、
用いる溶媒で超撥水面が溶解等の変化を受ける場合等が
考えられる。上記の条件を満たす超撥水性を示す表面
(超撥水面)を構築する方法の一つを以下に記述する。
これは超撥水性を示す塗膜を形成する塗料(以後、超撥
水塗料と略記する)を用いる方法である。塗料は基本的
には撥水性を発現するための含フッ素化合物、表面凹凸
を発現するための微粒子、含フッ素化合物、微粒子等を
保持するための樹脂、そしてこれらを溶解・分散させる
ための溶媒からなる。これは特開平9-279056号公報に記
載のものの幾つかが挙げられる。Next, a method of constructing a super water repellent surface will be described. There are several reports on how to construct a super water repellent surface. The super-water-repellent surface used in the present invention is not limited to the above, as long as the super-water-repellent surface is not lost with a substance used for attaching a compound that increases hydrophilicity by light. When the super water repellency is lost, for example, when applying a compound that increases hydrophilicity with light,
It is conceivable that the super-water-repellent surface undergoes a change such as dissolution with the solvent used. One method of constructing a surface exhibiting super water repellency (super water repellent surface) satisfying the above conditions will be described below.
This is a method using a paint that forms a coating film exhibiting super water repellency (hereinafter abbreviated as super water repellent paint). The paint is basically made of a fluorinated compound for expressing water repellency, fine particles for expressing surface irregularities, a fluorinated compound, a resin for holding fine particles, etc., and a solvent for dissolving and dispersing these. Become. This includes some of those described in JP-A-9-279056.
【0024】樹脂としては光で親水性の増加する化合物
を塗布する際、用いる溶媒で超撥水面が溶解等の変化を
受ける可能性のあるアクリル系の樹脂は用いない方が好
ましい。エポキシ系の樹脂、ポリイミド、グラスレジン
等のように熱等で硬化、或いは架橋する樹脂を用いる方
が好ましい。微粒子としては超撥水塗料に用いる溶媒に
部分的または完全に溶解するようなものは超撥水表面に
必要な凹凸を形成できなくなる恐れがあるので好ましく
ない。溶媒に溶解しにくい微粒子が好ましい。このよう
なものとしては、SiO2、Al2O3、TiO2等の無機の化合物
(どちらかというと酸化物が安定)が挙げられる。また
複写機やプリンターの現像機中のフェライト等のキャリ
ア、吸着剤等で用いられているカーボンブラック等も挙
げられる。微粒子の大きさは平均粒径で0.01〜3μm程度
のものを用いる。0.01μmより小さいと表面凹凸形成に
ほとんど寄与しなくなる。また3μmより大きいと超撥水
塗膜の物理的強度が低下する傾向がある。特に超撥水性
を向上させるには、平均粒径の異なるものを用いること
が好ましい。この点を具体的に検討したところ、大きい
微粒子と小さい微粒子の平均粒径の比が50:1〜1000:1
の範囲である場合、その表面の超撥水性が良好であっ
た。As a resin, it is preferable not to use an acrylic resin whose super-water-repellent surface is likely to undergo a change such as dissolution by a solvent to be used when a compound which increases hydrophilicity by light is applied. It is preferable to use a resin that is cured or crosslinked by heat or the like, such as an epoxy resin, polyimide, or glass resin. Fine particles which are partially or completely dissolved in the solvent used for the super-water-repellent paint are not preferred because they may not be able to form the necessary irregularities on the super-water-repellent surface. Fine particles that are difficult to dissolve in a solvent are preferred. Such compounds include inorganic compounds such as SiO 2 , Al 2 O 3 , and TiO 2 (oxides are more stable). Further, a carrier such as ferrite in a developing machine of a copying machine or a printer, and carbon black used as an adsorbent and the like are also included. Fine particles having an average particle size of about 0.01 to 3 μm are used. If it is less than 0.01 μm, it hardly contributes to the formation of surface irregularities. If it is larger than 3 μm, the physical strength of the super water-repellent coating film tends to decrease. In particular, in order to improve the super water repellency, it is preferable to use those having different average particle sizes. When this point was specifically examined, the ratio of the average particle size of the large fine particles to the small fine particles was 50: 1 to 1000: 1.
When it was in the range, the super water repellency of the surface was good.
【0025】含フッ素化合物としては、たとえばパーフ
ルオロアルキル鎖を有する化合物、パーフルオロポリエ
ーテル鎖を有する化合物、芳香環にフルオロ基やトリフ
ルオロメチル基を有する化合物等が挙げられる。このう
ち撥水性を向上させるためにはパーフルオロアルキル鎖
を有する化合物、パーフルオロポリエーテル鎖を有する
化合物の方が効果的である。なお樹脂等と混ぜ合わせて
超撥水塗料を調製する際、用いる溶媒に溶解或いは溶解
までいかなくとも混和している方が塗膜形成の際は均一
に分布するので好ましい。ところがパーフルオロアルキ
ル鎖を有する化合物、パーフルオロポリエーテル鎖を有
する化合物で分子量の大きなものは樹脂を良く溶解する
有機溶媒(アセトン、エチルメチルケトン、ジクロルメ
タン、N,N-ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリド
ン、イソホロン等)への溶解性が低い。そのため末端に
適当な残基を結合させることでこれら有機溶媒への溶解
性を確保することが望ましい。Examples of the fluorine-containing compound include a compound having a perfluoroalkyl chain, a compound having a perfluoropolyether chain, and a compound having a fluoro group or a trifluoromethyl group on an aromatic ring. Among them, a compound having a perfluoroalkyl chain and a compound having a perfluoropolyether chain are more effective for improving water repellency. When preparing a super water-repellent paint by mixing it with a resin or the like, it is preferable to dissolve it in a solvent to be used or to mix it even if it is not dissolved, since it is uniformly distributed when forming a coating film. However, a compound having a perfluoroalkyl chain or a compound having a perfluoropolyether chain and having a high molecular weight is preferably an organic solvent which dissolves the resin well (acetone, ethyl methyl ketone, dichloromethane, N, N-dimethylformamide, N-methylpyrrolidone). , Isophorone). Therefore, it is desirable to ensure the solubility in these organic solvents by binding an appropriate residue to the terminal.
【0026】その方法としては、パーフルオロアルキル
鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖の末端がCH2IかCH
2Br(但し、CH2Brの材料の方がCH2Iの材料より反応性が
低い)といったハロゲン化アルキルの材料は、直鎖また
は分岐のヘキサノール、オクタノール、シスもしくはト
ランスシクロヘキサノール、カテコール誘導体、等の水
酸基をONaやOKといった、即ちアルコラートに変換した
材料と反応させエーテル結合を介して結合させることに
よって有機溶媒への溶解性を向上させることが可能とな
る。また末端にアミノ基を有する材料(例えばアニリ
ン、直鎖もしくは分岐のヘキシルアミン、オクチルアミ
ン、デシルアミン、等)と反応させアミン結合を介して
結合させることによって有機溶媒への溶解性を向上させ
ることが可能となる。パーフルオロアルキル鎖の末端が
ハロゲン化アルキルの材料としては、たとえば2-(パー
フルオロブチル)エチルイオダイド、2-(パーフルオロ
ヘキシル)エチルイオダイド、2-(パーフルオロオクチ
ル)エチルイオダイド、2-(パーフルオロデシル)エチ
ルイオダイド、2-(パーフルオロ-5-メチルヘキシル)
エチルイオダイド、2-(パーフルオロ-5-メチルオクチ
ル)エチルイオダイド、2-(パーフルオロ-5-メチルデ
シル)エチルイオダイド、2,2,3,3-テトラフルオロプロ
ピルイオダイド、1H,1H,7H-デカフルオロヘプチルイオ
ダイド等が挙げられる。パーフルオロアルキル鎖または
パーフルオロポリエーテル鎖の末端がCH2OHの材料は、
末端がハロゲン化アルキルの材料(例えばベンジルブロ
マイド、直鎖もしくは分岐のヘキシルブロマイド、オク
チルブロマイド、デシルブロマイド、等)と反応させエ
ーテル結合を介して結合させることによって有機溶媒へ
の溶解性を向上させることが可能となる。また末端にカ
ルボキシル基を有する材料(例えば安息香酸、直鎖もし
くは分岐のヘキシル酸、オクチル酸、デシル酸、等)等
と反応させ、エステル結合を介して結合させることによ
って有機溶媒への溶解性を向上させることも可能とな
る。パーフルオロアルキル鎖またはパーフルオロポリエ
ーテル鎖の末端がCH2OHの材料としては、たとえば2-
(パーフルオロヘキシル)エタノール、2-(パーフルオ
ロオクチル)エタノール、2-(パーフルオロデシル)エ
タノール、3-(パーフルオロヘキシル)エタノール、3-
(パーフルオロオクチル)エタノール、3-(パーフルオ
ロデシル)エタノール、ダイキン工業製デムナムSA、ア
ウジモント社製フォンブリンZ-DOL等が挙げられる。デ
ュポン社製クライトックス157FS系の材料は末端がカル
ボキシル基のパーフルオロポリエーテルである。この末
端は水素化アルミニウムリチウムによって還元しCH2OH
の形に変換できる。そのためこの還元された材料も上記
の末端がCH2OHの材料として使用できる。As the method, the terminal of the perfluoroalkyl chain or perfluoropolyether chain is CH 2 I or CH 2
Alkyl halide materials such as 2 Br (where the CH 2 Br material is less reactive than the CH 2 I material) include linear or branched hexanol, octanol, cis or trans cyclohexanol, catechol derivatives, By reacting a hydroxyl group such as ONa or OK with a material converted into an alcoholate, and bonding it via an ether bond, it becomes possible to improve the solubility in an organic solvent. In addition, it is possible to improve the solubility in an organic solvent by reacting with a material having an amino group at a terminal (for example, aniline, linear or branched hexylamine, octylamine, decylamine, etc.) and binding via an amine bond. It becomes possible. Examples of the material having an alkyl halide at the end of the perfluoroalkyl chain include 2- (perfluorobutyl) ethyl iodide, 2- (perfluorohexyl) ethyl iodide, 2- (perfluorooctyl) ethyl iodide, -(Perfluorodecyl) ethyl iodide, 2- (perfluoro-5-methylhexyl)
Ethyl iodide, 2- (perfluoro-5-methyloctyl) ethyl iodide, 2- (perfluoro-5-methyldecyl) ethyl iodide, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl iodide, 1H, 1H , 7H-decafluoroheptyl iodide and the like. A material having a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain at the end of CH 2 OH is
Improving solubility in organic solvents by reacting with a material having an alkyl halide at the end (for example, benzyl bromide, linear or branched hexyl bromide, octyl bromide, decyl bromide, etc.) and bonding via an ether bond. Becomes possible. Further, by reacting with a material having a carboxyl group at a terminal (for example, benzoic acid, linear or branched hexylic acid, octylic acid, decylic acid, etc.) and the like, and binding through an ester bond, solubility in an organic solvent is improved. It can also be improved. As a material having a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain having CH 2 OH at the end, for example, 2-
(Perfluorohexyl) ethanol, 2- (perfluorooctyl) ethanol, 2- (perfluorodecyl) ethanol, 3- (perfluorohexyl) ethanol, 3-
(Perfluorooctyl) ethanol, 3- (perfluorodecyl) ethanol, Demnum SA manufactured by Daikin Industries, Fomblin Z-DOL manufactured by Audimont, and the like. The material of Krytox 157FS series manufactured by DuPont is a perfluoropolyether having a terminal carboxyl group. This terminal is reduced by lithium aluminum hydride to CH 2 OH
Can be converted to Therefore, this reduced material can also be used as a material having the above-mentioned terminal CH 2 OH.
【0027】パーフルオロアルキル鎖またはパーフルオ
ロポリエーテル鎖の末端がCO2Hの材料は、末端にアミノ
基を有する材料(例えばアニリン、直鎖もしくは分岐の
ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、等)
と反応させアミド結合を介して結合させることによって
有機溶媒への溶解性を向上させることが可能となる。ま
た末端に水酸基を有する材料(例えば直鎖もしくは分岐
のヘキサノール、オクタノール、シスもしくはトランス
シクロヘキサノール、カテコール誘導体、等)と反応さ
せエステル結合を介して結合させることによって有機溶
媒への溶解性を向上させることが可能となる。パーフル
オロアルキル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖の末
端がCO2Hの材料としては、たとえばパーフルオロヘキサ
ン酸、パーフルオロオクタン酸、パーフルオロデカン
酸、7H-ドデカフルオロヘプタン酸、9H-ヘキサデカフル
オロノナン酸、パーフルオロアゼライン酸、ダイキン工
業製デムナムSH、アウジモント社製フォンブリンZ-DIA
C、デュポン社製クライトックス157FS-L、同じく157FS-
M、同じく157FS-H等が挙げられる。The material having a CO 2 H terminal at the end of the perfluoroalkyl chain or the perfluoropolyether chain is a material having an amino group at the terminal (for example, aniline, linear or branched hexylamine, octylamine, decylamine, etc.).
And via an amide bond to improve the solubility in an organic solvent. Further, by reacting with a material having a hydroxyl group at a terminal (for example, linear or branched hexanol, octanol, cis or trans cyclohexanol, a catechol derivative, etc.) and bonding via an ester bond, solubility in an organic solvent is improved. It becomes possible. Examples of a material having a CO 2 H terminal at the end of a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain include perfluorohexanoic acid, perfluorooctanoic acid, perfluorodecanoic acid, 7H-dodecafluoroheptanoic acid, 9H-hexadecafluorononane Acid, perfluoroazelaic acid, Daikin Industries Demnum SH, Audimont Fomblin Z-DIA
C, Dupont Krytox 157FS-L, also 157FS-
M, 157FS-H and the like.
【0028】パーフルオロアルキル鎖またはパーフルオ
ロポリエーテル鎖の末端がエポキシ基の材料は、末端に
アミノ基を有する材料、水酸基を有する材料、等と反応
させ種々の結合を介して結合させることによって有機溶
媒への溶解性を向上させることが可能となる。パーフル
オロアルキル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖の末
端がエポキシ基の材料としては、たとえば3-パーフルオ
ロヘキシル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロオ
クチル-1,2-エポキシプロパン、3-パーフルオロデシル-
1,2-エポキシプロパン、3-(パーフルオロ-5-メチルヘ
キシル-1,2-エポキシプロパン、3-(パーフルオロ-5-メ
チルオクチル-1,2-エポキシプロパン、3-(パーフルオ
ロ-5-メチルデシル-1,2-エポキシプロパン、3-(1H,1H,
7H-デカフルオロヘプチルオキシ)-1,2-エポキシプロパ
ン、3-(1H,1H,9H-ヘキサデカフルオロノニルオキシ)-
1,2-エポキシプロパン等が挙げられる。A material having an epoxy group at the end of a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain can be reacted with a material having an amino group at the end, a material having a hydroxyl group, or the like to form an organic compound by bonding through various bonds. It becomes possible to improve the solubility in a solvent. Examples of a material having an epoxy group at the end of a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain include 3-perfluorohexyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorooctyl-1,2-epoxypropane, Fluorodecyl-
1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-5-methylhexyl-1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-5-methyloctyl-1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-5 -Methyldecyl-1,2-epoxypropane, 3- (1H, 1H,
7H-decafluoroheptyloxy) -1,2-epoxypropane, 3- (1H, 1H, 9H-hexadecafluorononyloxy)-
1,2-epoxypropane and the like.
【0029】パーフルオロアルキル鎖またはパーフルオ
ロポリエーテル鎖の末端にCH=CH2基を有する材料は、ス
チレン、アルキルメタクリレート等のCH=CH2残基を有す
る材料と重合させることによって有機溶媒への溶解性を
向上させることが可能となる。但し、1分子あたりの反
応点が2点以上になるので重合しすぎると分子量が大き
くなり溶解性が低下する可能性もある。パーフルオロア
ルキル鎖末端にCH=CH2基を有する材料としては、たとえ
ば(パーフルオロヘキシル)エチレン、(パーフルオロ
オクチル)エチレン、(パーフルオロデシル)エチレ
ン、1,6-ジビニルドデカフルオロヘキサン、1,8-ジビニ
ルヘキサデカフルオロオクタン等が挙げられる。A material having a CH = CH 2 group at the end of a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain can be converted into an organic solvent by polymerizing with a material having a CH = CH 2 residue such as styrene or alkyl methacrylate. It becomes possible to improve solubility. However, since the number of reaction points per molecule is two or more, if the polymerization is excessive, the molecular weight may be increased and the solubility may be reduced. Examples of a material having a CH = CH 2 group at the end of a perfluoroalkyl chain include (perfluorohexyl) ethylene, (perfluorooctyl) ethylene, (perfluorodecyl) ethylene, 1,6-divinyldodecafluorohexane, 8-divinylhexadecafluorooctane and the like.
【0030】上記含フッ素化合物のうち有機溶媒に溶解
しやすく、超撥水表面を形成する際に用いられる樹脂の
一つであるエポキシ樹脂のモノマーとの相溶性も良好
で、且つ超撥水表面を形成しやすいものとしては下記に
示す化合物が挙げられる。Of the above-mentioned fluorine-containing compounds, they are easily soluble in organic solvents, have good compatibility with monomers of epoxy resin which is one of the resins used for forming the super-water-repellent surface, and have a super-water-repellent surface. The following compounds are mentioned as those which easily form
【0031】[0031]
【化5】 これらの化合物のうち以下に示す化合物1〜11のものが
エポキシ樹脂の他グラスレジン等への相溶性も良好であ
るので特に好ましい。Embedded image Of these compounds, compounds 1 to 11 shown below are particularly preferred because they have good compatibility with glass resins and the like in addition to epoxy resins.
【0032】[0032]
【化6】 Embedded image
【0033】[0033]
【化7】 Embedded image
【0034】[0034]
【化8】 Embedded image
【0035】[0035]
【化9】 Embedded image
【0036】[0036]
【化10】 Embedded image
【0037】[0037]
【化11】 Embedded image
【0038】[0038]
【化12】 Embedded image
【0039】[0039]
【化13】 Embedded image
【0040】[0040]
【化14】 Embedded image
【0041】[0041]
【化15】 Embedded image
【0042】[0042]
【化16】 パーフルオロオキシアルキレン鎖の平均分子量は、化合
物1〜8のものが1,500〜5,000(mおよびm'は平均9乃至
30である)、化合物9、10のものが2,000〜9,000(mお
よびm'は平均11乃至54である)、化合物11は2,000〜5,
000(nは平均8乃至28、n'は平均10乃至40である)の
ものがモノマーとの相溶性が良好であるので好適であ
る。Embedded image The average molecular weight of the perfluorooxyalkylene chain is 1,500 to 5,000 for compounds 1 to 8 (m and m 'are 9 to 9 on average).
30), 2,000 to 9,000 of compounds 9 and 10 (m and m 'are 11 to 54 on average), and 11 of 2,000 to 5,
000 (n is an average of 8 to 28 and n 'is an average of 10 to 40) is preferable because of good compatibility with the monomer.
【0043】なおパーフルオロポリエーテル鎖のうち繰
り返し単位が-CF(CF3)-CF2O-のものは、原料としてデュ
ポン社製クライトックス157FS-L、クライトックス157FS
-M、またはクライトックス157FS-Hを用いたものであ
る。繰り返し単位が-CF2CF2CF2O-のものは、原料として
ダイキン工業製デムナムSHを用いたものである。繰り返
し単位が-(CF2CF2O)x-(CF2O)y-のものは原料としてアウ
ジモント社製フォンブリンZ-DIACを用いたものである。In the perfluoropolyether chains, those having a repeating unit of —CF (CF 3 ) —CF 2 O— are available from Krytox 157FS-L and Krytox 157FS manufactured by DuPont as raw materials.
-M or Krytox 157FS-H. When the repeating unit is —CF 2 CF 2 CF 2 O—, Daikin Industries Demnum SH is used as a raw material. When the repeating unit is-(CF 2 CF 2 O) x- (CF 2 O) y-, Fomblin Z-DIAC manufactured by Ausimont is used as a raw material.
【0044】なお含フッ素化合物の合成方法の例は以下
に示す通りである。 (化合物1の合成)デュポン社製クライトックス157FS-L
(平均分子量2,500;mは平均15である)(25重量部)
を3M社製フロリナートFC-72(100重量部)に溶解し、こ
れに塩化チオニル(2重量部)とジクロルメタン(20重
量部)を加え、撹拌しながら48時間還流する。塩化チオ
ニルとFC-72をエバポレーターで揮発させクライトック
ス157FS-Lの酸クロライド(25重量部)を得る。An example of a method for synthesizing a fluorine-containing compound is as follows. (Synthesis of Compound 1) Krytox 157FS-L manufactured by DuPont
(Average molecular weight 2,500; m is 15 on average) (25 parts by weight)
Was dissolved in 3M Florinert FC-72 (100 parts by weight), and thionyl chloride (2 parts by weight) and dichloromethane (20 parts by weight) were added thereto. The mixture was refluxed for 48 hours with stirring. Thionyl chloride and FC-72 are volatilized by an evaporator to obtain Krytox 157FS-L acid chloride (25 parts by weight).
【0045】三井東圧社製1,4-ビス(4-アミノフェノキ
シ)ベンゼン(29重量部)、トリエチルアミン(25重量
部)をジクロルメタン(300重量部)に溶解し撹拌中、
これにベンゾイルクロライド(14重量部)をジクロルメ
タン(100重量部)に溶解したものを2時間かけて滴下
し、その後も20時間撹拌する。反応液をろ紙でろ過し、
ろ液をエバポレーターで濃縮後カラムクロマトグラフィ
ー(和光純薬社製ワコーゲルC-200)で分離・精製し、
アミノ基の片方にベンゼン環を有する化合物12(20重量
部)を得る。1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (29 parts by weight) and triethylamine (25 parts by weight) manufactured by Mitsui Toatsu Co., Ltd. were dissolved in dichloromethane (300 parts by weight) and stirred.
A solution obtained by dissolving benzoyl chloride (14 parts by weight) in dichloromethane (100 parts by weight) was added dropwise thereto over 2 hours, followed by stirring for 20 hours. The reaction solution is filtered with filter paper,
The filtrate was concentrated with an evaporator, and then separated and purified by column chromatography (Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Wakogel C-200).
Compound 12 (20 parts by weight) having a benzene ring on one of the amino groups is obtained.
【0046】[0046]
【化17】 クライトックス157FS-Lの酸クロライド(25重量部)、
化合物12(4重量部)、トリエチルアミン(2重量部)、
及びジクロルメタン(20重量部)をFC-72(100重量部)
に加え、撹拌しながら48時間還流する。反応液をろ紙で
ろ過し、ろ液を12時間静置する。上層のジクロルメタン
層を除き、新たにジクロルメタン(20重量部)を加え1
時間撹拌した後12時間静置する。上層のジクロルメタン
層を除き、下層のFC-72層中のFC-72をエバポレーター、
真空ポンプで揮発させ、目的の化合物1(25重量部;m
は平均15である)を得た。 (化合物2の合成)デュポン社製クライトックス157FS-L
(平均分子量2,500)(25重量部)の代わりにダイキン
工業社製デムナムSH(平均分子量3,500;m'は平均21で
ある)(35重量部)を用いる以外は化合物1の合成と同
様にして、化合物2(35重量部;m'は平均21である)が
得られた。 (化合物3の合成)ベンゾイルクロライド(14重量部)
の代わりにフェノキシ安息香酸クロライド(23重量部)
を用いる以外は化合物12の合成と同様にして、化合物13
(25重量部)を得る。Embedded image Krytox 157FS-L acid chloride (25 parts by weight),
Compound 12 (4 parts by weight), triethylamine (2 parts by weight),
And dichloromethane (20 parts by weight) with FC-72 (100 parts by weight)
And refluxed for 48 hours with stirring. The reaction solution is filtered with a filter paper, and the filtrate is allowed to stand for 12 hours. Remove the upper layer of dichloromethane layer and add 20 parts by weight of dichloromethane.
After stirring for 12 hours, it is allowed to stand for 12 hours. Excluding the upper dichloromethane layer, FC-72 in the lower FC-72 layer is an evaporator,
Volatilize with a vacuum pump to obtain the desired compound 1 (25 parts by weight; m
Is an average of 15). (Synthesis of Compound 2) Krytox 157FS-L manufactured by DuPont
(Average molecular weight: 2,500) (25 parts by weight) Instead of using Daikin Industries 'Demnum SH (average molecular weight: 3,500; m' is 21 on average) (35 parts by weight) Compound 2 (35 parts by weight; m 'average 21) was obtained. (Synthesis of Compound 3) Benzoyl chloride (14 parts by weight)
Instead of phenoxybenzoic acid chloride (23 parts by weight)
Compound 13 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 12, except that
(25 parts by weight).
【0047】[0047]
【化18】 次に化合物12(4重量部)の代わりに化合物13(5重量部
を)用いる以外は化合物1の合成と同様にして、化合物3
(25重量部;mは平均15である)が得られた。 (化合物4の合成)デュポン社製クライトックス157FS-L
(平均分子量2,500)(25重量部)の代わりにダイキン
工業社製デムナムSH(平均分子量3,500)(35重量部)
を用いる以外は化合物3の合成と同様にして化合物4(35
重量部;m'は平均21である)が得られた。 (化合物5の合成)1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベ
ンゼン(29重量部)の代わりに三井東圧社製1,3-ビス
(4-アミノフェノキシ)ベンゼン(29重量部)を用いる
以外は化合物12の合成と同様にして、化合物14(20重量
部)を得る。Embedded image Next, compound 3 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 1 except that compound 13 (5 parts by weight) was used instead of compound 12 (4 parts by weight).
(25 parts by weight; m is an average of 15). (Synthesis of Compound 4) Krytox 157FS-L manufactured by DuPont
(Average molecular weight 2,500) (25 parts by weight) instead of Daikin Industries Demnum SH (Average molecular weight 3,500) (35 parts by weight)
Compound 4 (35
Parts by weight; m 'averages 21). (Synthesis of Compound 5) Instead of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (29 parts by weight), 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene (29 parts by weight) manufactured by Mitsui Toatsu is used. Compound 14 (20 parts by weight) was obtained in the same manner as in the synthesis of compound 12, except for the above.
【0048】[0048]
【化19】 次に化合物12(4重量部)の代わりに化合物14(4重量部
を)用いる以外は化合物1の合成と同様にして、化合物5
(25重量部;mは平均15である)が得られた。 (化合物6の合成)デュポン社製クライトックス157FS-L
(平均分子量2,500)(25重量部)の代わりにダイキン
工業社製デムナムSH(平均分子量3,500)(35重量部)
を用いる以外は化合物5の合成と同様にして、化合物6
(35重量部;m'は平均21である)が得られた。 (化合物7の合成)ベンゾイルクロライド(14重量部)
の代わりにベンゼンスルホン酸クロライド(18重量部)
を用いる以外は化合物12の合成と同様にして、化合物15
(21重量部)を得る。Embedded image Next, compound 5 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 1 except that compound 14 (4 parts by weight) was used instead of compound 12 (4 parts by weight).
(25 parts by weight; m is an average of 15). (Synthesis of Compound 6) Krytox 157FS-L manufactured by DuPont
(Average molecular weight 2,500) (25 parts by weight) instead of Daikin Industries Demnum SH (Average molecular weight 3,500) (35 parts by weight)
Compound 6 was synthesized in the same manner as in the synthesis of compound 5, except that
(35 parts by weight; m 'is an average of 21). (Synthesis of Compound 7) Benzoyl chloride (14 parts by weight)
Instead of benzenesulfonic acid chloride (18 parts by weight)
Compound 15 was synthesized in the same manner as in the synthesis of compound 12, except that
(21 parts by weight).
【0049】[0049]
【化20】 次に化合物12(4重量部)の代わりに化合物15(5重量部
を)用いる以外は化合物1の合成と同様にして、化合物7
(25重量部;mは平均15である)が得られた。 (化合物8の合成)デュポン社製クライトックス157FS-L
(平均分子量2,500)(25重量部)の代わりにダイキン
工業社製デムナムSH(平均分子量3,500)(35重量部)
を用いる以外は化合物7の合成と同様にして、化合物8
(35重量部;m'は平均21である)が得られた。 (化合物9の合成)1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベ
ンゼン(29重量部)の代わりに三井東圧社製2,2-ビス
[(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(41重量
部)を用いる以外は化合物12の合成と同様にして、化合
物16(30重量部)を得る。Embedded image Next, compound 7 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 1 except that compound 15 (5 parts by weight) was used instead of compound 12 (4 parts by weight).
(25 parts by weight; m is an average of 15). (Synthesis of Compound 8) Krytox 157FS-L manufactured by DuPont
(Average molecular weight 2,500) (25 parts by weight) instead of Daikin Industries Demnum SH (Average molecular weight 3,500) (35 parts by weight)
Compound 8 was synthesized in the same manner as in the synthesis of compound 7, except that
(35 parts by weight; m 'is an average of 21). (Synthesis of Compound 9) Instead of 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene (29 parts by weight), 2,2-bis
Compound 16 (30 parts by weight) is obtained in the same manner as in the synthesis of compound 12, except that [(4-aminophenoxy) phenyl] propane (41 parts by weight) is used.
【0050】[0050]
【化21】 次に化合物12(4重量部)の代わりに化合物16(7重量部
を)用いる以外は化合物1の合成と同様にして、化合物9
(25重量部;mは平均15である)が得られた。 (化合物10の合成)デュポン社製クライトックス157FS-
L(平均分子量2,500)(25重量部)の代わりにダイキン
工業社製デムナムSH(平均分子量3,500)(35重量部)
を用いる以外は化合物9の合成と同様にして、化合物10
(35重量部;m'は平均21である)が得られた。 (化合物11の合成)アウジモント社製Z-DIAC(平均分子
量4,000;nは平均21、n'は平均22である)(40重量
部)をFC-72(200重量部)に溶解し、これにジシクロヘ
キシルカルボジイミド(5重量部)、化合物16(13重量
部)、ジクロルメタン(100重量部)を加え、120時間撹
拌する。反応液をろ紙でろ過後、ろ液を12時間静置す
る。上層のジクロルメタン層を除き、下層のFC-72層中
のFC-72をエバポレーター、及び真空ポンプで揮発さ
せ、目的の化合物11(40重量部;nは平均21、n'は平
均22である)を得た。化合物1〜11、或いはこれらに類
する材料を用いた場合、これら自身250 nm近傍の光を受
けて構造の変化する材料なので光照射の波長によっては
別に光反応性物質を用いなくとも本発明の物品となりう
る。これら材料は250 nm近傍の光を受けてアミド結合等
が切断し、カルボキシル基等のアミド結合に比べて親水
性のある残基ができるため、切断前に比べてその周りの
表面の親水性が高くなる。そのため撥水性が低下するも
のと考えられる。Embedded image Next, compound 9 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 1 except that compound 16 (7 parts by weight) was used instead of compound 12 (4 parts by weight).
(25 parts by weight; m is an average of 15). (Synthesis of Compound 10) Krytox 157FS- manufactured by DuPont
Instead of L (average molecular weight 2,500) (25 parts by weight), Daikin Industries Demnum SH (average molecular weight 3,500) (35 parts by weight)
Compound 10 was prepared in the same manner as in the synthesis of compound 9 except that
(35 parts by weight; m 'is an average of 21). (Synthesis of Compound 11) Z-DIAC (Average molecular weight: 4,000; n is 21 on average, n 'is 22 on average) (40 parts by weight) dissolved in FC-72 (200 parts by weight) manufactured by Ausimont Co. Dicyclohexylcarbodiimide (5 parts by weight), compound 16 (13 parts by weight), and dichloromethane (100 parts by weight) are added, and the mixture is stirred for 120 hours. After the reaction solution is filtered through filter paper, the filtrate is allowed to stand for 12 hours. FC-72 in the lower FC-72 layer is volatilized by an evaporator and a vacuum pump, excluding the upper dichloromethane layer, and the target compound 11 (40 parts by weight; n is 21 on average and n 'is 22 on average) I got When the compounds 1 to 11 or similar materials are used, the materials of the present invention can be used without using a photoreactive substance separately depending on the wavelength of light irradiation, because the materials themselves change their structure by receiving light near 250 nm. It can be. In these materials, amide bonds and the like are cleaved by receiving light near 250 nm, leaving residues that are more hydrophilic than amide bonds such as carboxyl groups. Get higher. Therefore, it is considered that the water repellency is reduced.
【0051】また凹凸のある表面を形成した後、含フッ
素化合物を塗布することによっても超撥水表面が形成可
能である。凹凸のある表面を形成する方法は塗料中に適
切な大きさの微粒子を分散させ、目的の物品表面に塗布
することによって作製できる。塗料としては建物の外壁
に塗装する塗料、室内用の塗料、自動車・オートバイ・
自転車等用の塗料、船舶の外側や内側用塗料等特に限定
はない。ここで用いる微粒子は耐溶剤性を考慮すると前
述の材料が好ましい。次に含フッ素化合物を塗布する。
含フッ素化合物としては前述のものが挙げられる。この
他に末端にSiR3(ここで、RはOCH3、OC2H5、CH3またはC
2H5である)が存在するものは塗布後加熱することで表
面と科学的に結合するので超撥水性を長く保つという点
で好ましい。このような材料としては、たとえばチッソ
株式会社製のサイラエース(片末端がSiR3、もう一方の
末端がアミノ基またはエポキシ基である)とパーフルオ
ロアルキル鎖またはパーフルオロポリエーテル鎖の末端
が水酸基やアミノ基の材料とを縮合させることによって
得られる。A super-water-repellent surface can also be formed by applying a fluorine-containing compound after forming an uneven surface. A method for forming a surface having irregularities can be produced by dispersing fine particles of an appropriate size in a paint and applying the resultant to the surface of a target article. Paints can be applied to the exterior walls of buildings, indoor paints, automobiles, motorcycles,
There are no particular restrictions on paints for bicycles and the like, paints for the outside and inside of ships, and the like. The fine particles used here are preferably the above-mentioned materials in consideration of the solvent resistance. Next, a fluorine-containing compound is applied.
The above-mentioned thing is mentioned as a fluorine-containing compound. In addition, a terminal SiR 3 (where R is OCH 3 , OC 2 H 5 , CH 3 or C
Since those 2 is H 5) is present scientifically binds to the surface by heating after coating preferable because of keeping the superhydrophobic long. Such materials include, for example, Silaace manufactured by Chisso Corporation (one end is SiR 3 and the other end is an amino group or an epoxy group) and a perfluoroalkyl chain or a perfluoropolyether chain has a hydroxyl group or It is obtained by condensing an amino group material.
【0052】本発明の用途としては活版が挙げられる。
このほか部分的に着色を施すことが可能なのでブロー
チ、ブレスレット、指輪等のアクセサリー類、花瓶、
絵、装飾板ガラス等の装飾品類等が挙げられる。また微
細加工技術への適用も可能と考えられる。これは光照射
により撥水性の低下した部分に親水性の樹脂の溶液を塗
布後乾燥することで、結果として光照射部分を山に、光
の未照射部分を谷とする加工が可能となるからである。
これはレジストによるパターン形成等への応用も考えら
れる。樹脂溶液に着色剤(染料や顔料)を混ぜておけば
立体感のある塗装も可能となる。これは上記装飾品の模
様を描く際に用いることもできる。The use of the present invention includes letterpress.
In addition, accessories such as brooches, bracelets, rings, vases,
Decorative articles such as pictures and decorative plate glass are included. It is also considered that application to microfabrication technology is possible. This is because a hydrophilic resin solution is applied to the portion where the water repellency is reduced by light irradiation and then dried, and as a result, it becomes possible to process the light irradiated portion as a mountain and the light non-irradiated portion as a valley. It is.
This may be applied to pattern formation using a resist. If a colorant (dye or pigment) is mixed with the resin solution, a three-dimensional coating can be achieved. This can also be used when drawing the pattern of the ornament.
【0053】なお画像形成後(またはパターンニング
後)、室内等に放置しておくと光の未照射部分も超撥水
性が失われることがある。これは室内の蛍光灯等から発
生する280 nm以上の波長によって光反応性物質が親水性
の構造に変化するためである。そこで画像形成後(また
はパターンニング後)、光反応性物質を除去することに
よって室内等に放置しておいてもその画像(またはパタ
ーン)の変化を防ぐことができる。除去の方法は光反応
性物質の溶解する有機溶媒で洗浄する等の方法が考えら
れるが、形成した画像(またはパターン)が変化しない
方法であれば特に限定はない。この操作を行うことで、
この物品を活版等として取り扱う際の利便性が高まると
考えられる。If the sheet is left in a room or the like after image formation (or after patterning), the portion not irradiated with light may lose super water repellency. This is because the photoreactive substance changes into a hydrophilic structure by a wavelength of 280 nm or more generated from a fluorescent lamp or the like in a room. Therefore, after forming an image (or after patterning), by removing the photoreactive substance, it is possible to prevent a change in the image (or pattern) even when the image is left in a room or the like. The removal may be performed by, for example, washing with an organic solvent in which the photoreactive substance is soluble, but is not particularly limited as long as the formed image (or pattern) does not change. By doing this,
It is considered that convenience in handling this article as letterpress or the like is enhanced.
【0054】[0054]
【実施例】本発明を以下の実施例により説明するが、そ
れらは単なる説明のためのものであり、本発明は実施例
によって制限されるものではない。実施例1 この実施例では、超撥水性を示す表面を形成するための
塗料の作製方法を示す。油化シェル・エポキシ(株)製
のエポキシ樹脂(EP1004)(44重量部)、丸善石油化学
(株)製のフェノール樹脂マルカリンカーM(30重量
部)、北興化学製の硬化促進剤であるトリエチルアンモ
ニウムカリボール塩(商品名TEA-K)(1重量部)をエチ
ルメチルケトン(950重量部)と酢酸エチレングリコー
ルモノ-n-ブチルエーテル(50重量部)の混合溶剤に溶
解し、これに含フッ素化合物として化合物1(2重量部)
を加えよく撹拌する。次に日本アエロジル(株)製アエ
ロジル130(平均粒径は0.016μm)(8重量部)と日本シ
リカ工業(株)製Nipsil E-220A(平均粒径は1.5mm)
(8重量部)を加え十分に撹拌する。こうして超撥水性
を示す表面を形成するための塗料(後述の実施例28では
超撥水塗料と記述する)が作製される。なおアエロジル
130はNipsil E-220Aの約1/94の粒径である。The present invention is illustrated by the following examples, which are for explanation only, and do not limit the present invention. Example 1 In this example, a method for producing a paint for forming a surface exhibiting super water repellency will be described. Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. epoxy resin (EP1004) (44 parts by weight), Maruzen Petrochemical Co., Ltd. phenolic resin Marukalinker M (30 parts by weight), Hokuko Chemical's curing accelerator triethyl Ammonium caribol salt (trade name: TEA-K) (1 part by weight) is dissolved in a mixed solvent of ethyl methyl ketone (950 parts by weight) and ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate (50 parts by weight), and the mixture is fluorinated. Compound 1 (2 parts by weight)
And mix well. Next, Aerosil 130 (average particle size 0.016 μm) (8 parts by weight) manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. and Nipsil E-220A (average particle size 1.5 mm) manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd.
(8 parts by weight) and stir well. In this way, a paint for forming a surface exhibiting super water repellency (described as a super water repellent paint in Example 28 described later) is produced. Aerosil
130 is about 1/94 of the particle size of Nipsil E-220A.
【0055】この塗料に長さ3 cm、幅2 cm、厚さ1 mmの
ガラス板を10秒間浸漬した後、速度3 cm/秒で引き上げ
る。このガラス板を120℃で30分間、引き続き200℃で45
分間加熱することで、水との接触角が150°以上の表
面、即ち超撥水性の表面を有するガラス板が作製され
る。次にこのガラス板表面に光反応性物質を塗布する。
マラカイトグリーン系のフォトクロミック化合物である
ビス[4-(ジメチルアミノ)フェニレン]フェニルメタン
(以後、化合物17と記述する)(1重量部)をジクロル
メタン(99重量部)に溶解する。A glass plate having a length of 3 cm, a width of 2 cm and a thickness of 1 mm is immersed in the paint for 10 seconds, and then pulled up at a speed of 3 cm / sec. The glass plate is kept at 120 ° C. for 30 minutes and then at 200 ° C. for 45 minutes.
By heating for a minute, a glass plate having a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, that is, a super water-repellent surface is produced. Next, a photoreactive substance is applied to the surface of the glass plate.
Bis [4- (dimethylamino) phenylene] phenylmethane (hereinafter, referred to as compound 17) (1 part by weight) which is a malachite green photochromic compound is dissolved in dichloromethane (99 parts by weight).
【0056】[0056]
【化22】 こうして作製された化合物17のジクロルメタン溶液に、
先に作製した超撥水性の表面を有するガラス板を10秒間
浸漬した後、速度3 cm/秒で引き上げる。このガラス板
を40℃で30分間乾燥する。こうして超撥水性を有する表
面の上に化合物17が塗布される。化合物17を塗布後も表
面は超撥水性を示していた。Embedded image In the dichloromethane solution of compound 17 thus prepared,
The glass plate having a super water repellent surface prepared above is immersed for 10 seconds, and then pulled up at a speed of 3 cm / sec. The glass plate is dried at 40 ° C. for 30 minutes. Thus, the compound 17 is applied on the surface having super water repellency. Even after the application of Compound 17, the surface showed super water repellency.
【0057】この表面に部分的に東芝硝子(株)製色ガ
ラスフィルターUV-D36Bを介してウシオ電機(株)製500
Wキセノンランプで光を2分間照射する。光の強度は6.6
ミリワット/平方センチメートルである。これによっ
て、光照射部分は水との接触角が90°まで低下した。し
かし光の非照射部分は超撥水性を有していた。なおUV-D
36Bは300〜400 nmの波長の光を透過する。The surface is partially passed through a color glass filter UV-D36B manufactured by Toshiba Glass Co., Ltd.
Irradiate light with a W xenon lamp for 2 minutes. Light intensity is 6.6
Milliwatt / cm2. As a result, the light-irradiated portion had a contact angle with water reduced to 90 °. However, the non-light-irradiated part had super water repellency. UV-D
36B transmits light with a wavelength of 300-400 nm.
【0058】次にアルドリッチ社製ポリアクリル酸(平
均分子量約450,000)(0.01重量部)を水(999.99重量
部)に溶解し、0.001重量%のポリアクリル酸水溶液
(1,000重量部)を調製する。この水溶液の中に上記の
光を照射されたガラス板を10秒間浸漬した後、速度3 cm
/秒で引き上げる。光照射された部分にポリアクリル酸
水溶液が付着する。このガラス板を120℃で30分間乾燥
する。次に日東紡績(株)製ポリアリルアミンPAA-10C
(1重量部)(平均分子量約10,000)を水(999重量部)
に溶解し、0.01重量%のポリアリルアミン水溶液(1,00
0重量部)を調製する。(元々PAA-10Cは10重量%の水溶
液になっている。)この水溶液の中に上記の光を照射さ
れたガラス板を10秒間浸漬した後、速度3 cm/秒で引き
上げる。ポリアクリル酸の付着部分にポリアリルアミン
水溶液が付着する。この付着部分ではポリアリルアミン
とポリアクリル酸が塩を形成する。ガラス板を水で洗
い、余分のポリアリルアミン(ポリアクリル酸と塩を形
成しなかったもの)を除去する。ポリアリルアミンとポ
リアクリル酸の塩は親水性は高いが水にほとんど溶解し
ない。そのためこの洗浄によってはガラス板から完全に
は除去されない。その後このガラス板を120℃で30分間
乾燥する。Then, polyacrylic acid (average molecular weight: about 450,000) (0.01 parts by weight) manufactured by Aldrich is dissolved in water (999.99 parts by weight) to prepare a 0.001% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (1,000 parts by weight). After immersing the glass plate irradiated with the above light in this aqueous solution for 10 seconds, the speed of 3 cm
Raise in / sec. The aqueous solution of polyacrylic acid adheres to the portion irradiated with light. The glass plate is dried at 120 ° C. for 30 minutes. Next, Nitto Boseki's polyallylamine PAA-10C
(1 part by weight) (average molecular weight about 10,000) to water (999 parts by weight)
In a 0.01% by weight aqueous solution of polyallylamine (1,00
0 parts by weight). (Originally PAA-10C is a 10% by weight aqueous solution.) The glass plate irradiated with the above light is immersed in this aqueous solution for 10 seconds, and then pulled up at a speed of 3 cm / second. The aqueous solution of polyallylamine adheres to the adhered portion of polyacrylic acid. At this attachment portion, polyallylamine and polyacrylic acid form a salt. Wash the glass plate with water to remove excess polyallylamine (which did not form salts with polyacrylic acid). The salt of polyallylamine and polyacrylic acid has high hydrophilicity but hardly dissolves in water. Therefore, the cleaning does not completely remove the glass plate. Thereafter, the glass plate is dried at 120 ° C. for 30 minutes.
【0059】乾燥後ポリアリルアミンとポリアクリル酸
が付着している部分の水との接触角は60°まで低下し
た。しかしその他の部分は超撥水性を保っていた。なお
乾燥後ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着してい
る部分は最大高さ10μmのポリアクリル酸とポリアリル
アミンからなる樹脂の凸部分ができていた。このことか
らこの方法が凹凸形成技術となりうることもわかった。実施例2 実施例1で作製したポリアリルアミンとポリアクリル酸
が付着している部分を有するガラス板をジクロルメタン
で洗い、表面の化合物17を除去する。このガラス板を40
℃で30分間乾燥後、先ほど照射を受けなかった部分にフ
ィルターをUV-D36Bからパイレックス製のガラス(280 n
m以上の波長の光を透過する)に代える以外は同様の光
源・照射時間で光照射したが、光照射された表面は超撥
水性を保ったままであった。これは光反応性物質である
化合物17を除去したためと考えられる。After drying, the contact angle of water between the portion where polyallylamine and polyacrylic acid were adhered was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. After the drying, the portion where the polyallylamine and polyacrylic acid were adhered had a convex portion of the resin made of polyacrylic acid and polyallylamine having a maximum height of 10 μm. From this, it was also found that this method could be a technique for forming unevenness. Example 2 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid prepared in Example 1 were attached was washed with dichloromethane to remove Compound 17 on the surface. 40 of this glass plate
After drying at 30 ° C for 30 minutes, filter the UV-D36B onto Pyrex glass (280 n
irradiating light with the same light source and irradiation time except that light of a wavelength of at least m was transmitted, but the surface irradiated with light remained super-water-repellent. This is considered to be due to the removal of compound 17, which is a photoreactive substance.
【0060】一方、ジクロルメタンで洗浄しなかったガ
ラス板は上記光照射によって超撥水性は失われ、照射部
分の水との接触角は90°になった。以上より光反応性物
質を除去する操作によってガラス板上の画像の光(280
nm以上の波長)による変化防ぐことが可能であることが
示された。一般の事務等蛍光灯による照明の光は280 nm
以上の波長の光である。そのため280 nm以上の波長の光
により画像が安定であることは暗室等の準備が不用とな
るため、この物品を活版等として取り扱う際の利便性が
高まると考えられる。実施例3 0.001重量%のポリアクリル酸水溶液(1,000重量部)に
日本アエロジル(株)製アエロジル200(平均粒径0.012
μm)(50重量部)を加える以外は実施例1と同様にして
ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着している部分
を有するガラス板を作製した。ポリアリルアミンとポリ
アクリル酸が付着している部分の水との接触角は30°ま
で低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。これにより微粒子(アエロジル200)を添加した方
がポリアリルアミンとポリアクリル酸の付着している部
分の接触角を下げられることが示された。実施例4 0.001重量%のポリアクリル酸水溶液(1,000重量部)に
日本シリカ工業(株)製Nipsil E-200(平均粒径3.0μ
m)(50重量部)を加える以外は実施例1と同様にしてポ
リアリルアミンとポリアクリル酸が付着している部分を
有するガラス板を作製した。ポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は30°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。これにより微粒子(Nipsil E-200)を添加した方
がポリアリルアミンとポリアクリル酸の付着している部
分の接触角を下げられることが示された。比較例1 0.001重量%のポリアクリル酸水溶液(1,000重量部)に
日本アエロジル(株)製アエロジル300(平均粒径0.007
μm)(50重量部)を加える以外は実施例1と同様にして
ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着している部分
を有するガラス板を作製した。ポリアリルアミンとポリ
アクリル酸が付着している部分の水との接触角は50°ま
で低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。これにより微粒子(アエロジル300)を添加した方
がポリアリルアミンとポリアクリル酸の付着している部
分の接触角を下げられることが示された。しかしアエロ
ジル200を用いたものより接触角低下の程度は小さかっ
た。比較例2 0.001重量%のポリアクリル酸水溶液(1,000重量部)に
日本シリカ工業(株)製Nipsil E-150J(平均粒径4.0
μm)(50重量部)を加える以外は実施例1と同様にして
ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着している部分
を有するガラス板を作製した。ポリアリルアミンとポリ
アクリル酸が付着している部分の水との接触角は50°ま
で低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。これにより微粒子(Nipsil E-150J)を添加した方
がポリアリルアミンとポリアクリル酸の付着している部
分の接触角を下げられることが示された。しかしNipsil
E-200を用いたものより接触角低下の程度は小さかっ
た。実施例5 化合物17(1重量部)の代わりにビス[4-(ジブチルアミ
ノ)フェニル]フェニルメタノール(以後化合物18と記
述)(1重量部)を用いる以外は実施例1と同様にして、
ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着している部分
を有するガラス板を作製した。On the other hand, the glass plate which was not washed with dichloromethane was lost the super water repellency by the light irradiation, and the contact angle of the irradiated portion with water became 90 °. From the above, the light of the image on the glass plate (280
It was shown that it is possible to prevent the change due to the wavelength (nm or more). Light of fluorescent light for general office use is 280 nm
It is light of the above wavelength. Therefore, if the image is stabilized by light having a wavelength of 280 nm or more, preparation of a dark room or the like becomes unnecessary, and it is considered that convenience in handling this article as letterpress or the like is improved. Example 3 Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerosil 200 (average particle diameter 0.012 parts) was added to a 0.001% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (1,000 parts by weight).
μm) (50 parts by weight), except that a glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1. The contact angle between the portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached to water was reduced to 30 °. However, the other parts maintained super water repellency. This indicates that the addition of the fine particles (Aerosil 200) can lower the contact angle of the portion where polyallylamine and polyacrylic acid are adhered. Example 4 Nipsil E-200 manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd.
m) A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that (50 parts by weight) was added. The contact angle between the portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached to water was reduced to 30 °. However, the other parts maintained super water repellency. This indicates that the addition of fine particles (Nipsil E-200) can lower the contact angle of the portion where polyallylamine and polyacrylic acid are adhered. Comparative Example 1 Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerosil 300 (average particle diameter 0.007%) was added to a 0.001% by weight aqueous solution of polyacrylic acid (1,000 parts by weight).
μm) (50 parts by weight), except that a glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1. The contact angle between water and the portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 50 °. However, the other parts maintained super water repellency. This indicates that the addition of the fine particles (Aerosil 300) can lower the contact angle of the portion where polyallylamine and polyacrylic acid are adhered. However, the degree of decrease in the contact angle was smaller than that using Aerosil 200. Comparative Example 2 Nipsil E-150J manufactured by Nippon Silica Kogyo Co., Ltd. (average particle diameter 4.0
μm) (50 parts by weight), except that a glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1. The contact angle between water and the portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 50 °. However, the other parts maintained super water repellency. This indicates that the addition of fine particles (Nipsil E-150J) can lower the contact angle of the portion where polyallylamine and polyacrylic acid are adhered. But Nipsil
The degree of decrease in the contact angle was smaller than that using E-200. Example 5 In the same manner as in Example 1 except that bis [4- (dibutylamino) phenyl] phenylmethanol (hereinafter referred to as compound 18) (1 part by weight) was used instead of compound 17 (1 part by weight),
A glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared.
【0061】[0061]
【化23】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は60°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。なお、化合
物18の合成はブルチン・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエ
ティ・オブ・ジャパン、1988年、第61巻、2321頁記載の
方法で行った。実施例6 化合物17(1重量部)の代わりに1-n-オクタデシル-3,3-
ジメチルインドリノ-6'-ニトロベンゾスピラン(以後化
合物19と記述)(1重量部)を用いる以外は実施例1と同
様にして、ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付着し
ている部分を有するガラス板を作製した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. The synthesis of compound 18 was carried out according to the method described in Bulltin of the Chemical Society of Japan, 1988, vol. 61, p. 2321. Example 6 1-n-octadecyl-3,3-in place of compound 17 (1 part by weight)
Glass having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid are adhered in the same manner as in Example 1 except that dimethylindolino-6'-nitrobenzospirane (hereinafter referred to as compound 19) (1 part by weight) is used. A plate was made.
【0062】[0062]
【化24】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は70°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。なお、化合
物19の合成はケミストリー・レターズ、1990年、555頁
記載の方法で行った。実施例7 化合物17(1重量部)の代わりに2,3-ジフェニル-1-イン
デノンオキシド(以後化合物20と記述)(1重量部)を
用いる以外は実施例1と同様にして、ポリアリルアミン
とポリアクリル酸が付着している部分を有するガラス板
を作製した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 70 °. However, the other parts maintained super water repellency. Compound 19 was synthesized according to the method described in Chemistry Letters, 1990, page 555. Example 7 A polyallylamine was prepared in the same manner as in Example 1 except that 2,3-diphenyl-1-indenone oxide (hereinafter referred to as compound 20) (1 part by weight) was used instead of compound 17 (1 part by weight). And a glass plate having a portion to which polyacrylic acid was attached.
【0063】[0063]
【化25】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は70°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。なお、化合
物20の合成はジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・エデュ
ケーション、1971年、第48巻、554頁記載の方法で行っ
た。実施例8 化合物17(1重量部)の代わりにトリフルオロメタンス
ルホニルオキシベンズイミド(以後化合物21と記述)
(1重量部)を用い、色ガラスフィルターをUV-D36Bの代
わりに東芝硝子(株)製UV-D33Sを用いる以外は実施例1
と同様にして、ポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分を有するガラス板を作製した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 70 °. However, the other parts maintained super water repellency. Compound 20 was synthesized according to the method described in Journal of the Chemical Education, 1971, Vol. 48, p. 554. Example 8 Instead of compound 17 (1 part by weight), trifluoromethanesulfonyloxybenzimide (hereinafter referred to as compound 21)
Example 1 except that UV-D33S (manufactured by Toshiba Glass Co., Ltd.) was used instead of UV-D36B for the color glass filter.
A glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were adhered was produced in the same manner as described above.
【0064】[0064]
【化26】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は70°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。実施例9 化合物21(1重量部)の代わりにトリス(ベンゼンスル
ホニルオキシ)ベンゼン(以後化合物22と記述)(1重
量部)を用いる以外は実施例8と同様にして、ポリアリ
ルアミンとポリアクリル酸が付着している部分を有する
ガラス板を作製した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 70 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 9 Polyallylamine and polyacrylic acid were prepared in the same manner as in Example 8 except that tris (benzenesulfonyloxy) benzene (hereinafter referred to as compound 22) (1 part by weight) was used instead of compound 21 (1 part by weight). A glass plate having a portion to which was adhered was produced.
【0065】[0065]
【化27】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は70°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。実施例10 化合物21(1重量部)の代わりにN-シクロヘキシルパラ
トルエンスルホニルアミド(以後化合物23と記述)(1
重量部)を用いる以外は実施例8と同様にして、ポリア
リルアミンとポリアクリル酸が付着している部分を有す
るガラス板を作製した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 70 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 10 Instead of compound 21 (1 part by weight), N-cyclohexyl paratoluenesulfonylamide (hereinafter referred to as compound 23) (1
(Parts by weight) in the same manner as in Example 8, to produce a glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached.
【0066】[0066]
【化28】 このガラス板のポリアリルアミンとポリアクリル酸が付
着している部分の水との接触角は70°まで低下した。し
かしその他の部分は超撥水性を保っていた。実施例11 以下の3つの材料(EP1004(44重量部)、マルカリンカ
ーM(30重量部)、TEA-K(1重量部))の代わりに昭和
電工(株)製グラスレジンGR650(50重量部)を用いる
以外は実施例1と同様にして、ポリアリルアミンとポリ
アクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作製
した。Embedded image The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 70 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 11 Glass resin GR650 (50 parts by weight, manufactured by Showa Denko KK) was used instead of the following three materials (EP1004 (44 parts by weight), Marcalinker M (30 parts by weight), and TEA-K (1 part by weight)). A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were adhered was produced in the same manner as in Example 1 except for using ()).
【0067】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は60°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例12 油化シェル・エポキシ(株)製のEP1004(44重量部)、
丸善石油化学(株)製のマルカリンカーM(30重量
部)、北興化学製のTEA-K(1重量部)をエチルメチルケ
トン(950重量部)と酢酸エチレングリコールモノ-n-ブ
チルエーテル(50重量部)の混合溶剤に溶解し、これに
含フッ素化合物として化合物1(2重量部)を加え良く撹
拌する。次に日本アエロジル(株)製アエロジル130(8
重量部)と日本シリカ工業(株)製Nipsil E-220A(8
重量部)を加え十分に撹拌する。こうして超撥水性を示
す表面を形成するための塗料が作製される。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 12 EP1004 (44 parts by weight) manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.
Maruzerinka M (30 parts by weight) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd., TEA-K (1 part by weight) manufactured by Hokuko Chemical, ethyl methyl ketone (950 parts by weight) and ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate (50 parts by weight) Of Compound 1) (2 parts by weight) as a fluorine-containing compound, and stirred well. Next, Nippon Aerosil Co., Ltd. Aerosil 130 (8
Parts by weight) and Nipsil E-220A (8
Parts by weight) and thoroughly stirred. Thus, a paint for forming a surface exhibiting super water repellency is produced.
【0068】この塗料に長さ3 cm、幅2 cm、厚さ1 mmの
ガラス板を10秒間浸漬した後、速度3 cm/秒で引き上げ
る。このガラス板を120℃で30分間、引き続き200℃で45
分間加熱することで、水との接触角が150°以上の表
面、即ち超撥水性の表面を有するガラス板が作製され
る。次に化合物12(1重量部)をジクロルメタン(99重
量部)に溶解する。この溶液に、先に作製した超撥水性
の表面を有するガラス板を10秒間浸漬した後、速度3 cm
/秒で引き上げる。このガラス板を40℃で30分間乾燥す
る。化合物12を塗布後も表面は超撥水性を示していた。A glass plate having a length of 3 cm, a width of 2 cm and a thickness of 1 mm is immersed in the paint for 10 seconds, and then pulled up at a speed of 3 cm / sec. The glass plate is kept at 120 ° C. for 30 minutes and then at 200 ° C. for 45 minutes.
By heating for a minute, a glass plate having a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, that is, a super water-repellent surface is produced. Next, compound 12 (1 part by weight) is dissolved in dichloromethane (99 parts by weight). After immersing the glass plate having a super water-repellent surface prepared above in this solution for 10 seconds, a speed of 3 cm
Raise in / sec. The glass plate is dried at 40 ° C. for 30 minutes. Even after the application of Compound 12, the surface showed super water repellency.
【0069】この表面に部分的に東芝硝子(株)製色ガ
ラスフィルターUV-D36Bを介してウシオ電機(株)製500
Wキセノンランプで光を2分間照射する。すると光照射部
分は水との接触角が90°まで低下した。しかし光の非照
射部分は超撥水性を有していた。次に東京化成製トリメ
トキシメチルシランを内側の寸法が縦3 cm、横2 cm、高
さ5 mmのガラス製容器に入れる。入れる量は高さ4 mmの
ところまでである。即ち上は1 mm空いている。上記ガラ
ス板の光の照射部分と非照射部分を有する表面に水を吸
わせたスポンジを押し当てた後、トリメトキシメチルシ
ランを入れた容器の上にふたをするように置く。この
際、光の照射部分と非照射部分を有する表面を内側にす
る。即ちトリメトキシメチルシランの蒸気が光の照射部
分と非照射部分を有する表面に触れるようにする。この
状態で1日間放置する。なおスポンジを押し当てた際、
水の付着量は肉眼では表面に水の存在が確認できないぐ
らいわずかに付いている状態に加減する。またガラス板
は容器の中に落下しないよう裏面と容器をテープ等で固
定する。The surface is partially passed through a color glass filter UV-D36B manufactured by Toshiba Glass Co., Ltd.
Irradiate light with a W xenon lamp for 2 minutes. Then, the contact angle with water of the light-irradiated portion was reduced to 90 °. However, the non-light-irradiated part had super water repellency. Next, Tokyo Chemical Industry's trimethoxymethylsilane is placed in a glass container having an inner dimension of 3 cm in length, 2 cm in width and 5 mm in height. The amount to be filled is up to 4 mm in height. That is, 1 mm is left above. A water-absorbing sponge is pressed against the surface of the glass plate having a light-irradiated portion and a non-irradiated portion, and then placed on a container containing trimethoxymethylsilane so as to cover it. At this time, the surface having the light irradiation part and the non-light irradiation part is set to the inside. That is, the vapor of the trimethoxymethylsilane comes into contact with the surface having the light-irradiated portion and the non-irradiated portion. Leave for 1 day in this state. When pressing a sponge,
The amount of water adhering to the surface is moderately small enough that the presence of water cannot be confirmed by the naked eye. The glass plate is fixed to the back surface and the container with tape or the like so as not to fall into the container.
【0070】放置後光照射部分は水との接触角が60°ま
で低下した。しかし光の非照射部分は超撥水性を保って
いた。実施例13 トリメトキシメチルシランの代わりに東京化成製トリメ
トキシ-n-オクタデシルシランを用い、放置時間が1日で
はなく10日間にする以外は実施例12と同様にして処理を
行った。その結果、ガラス板の光照射部分は水との接触
角が70°まで低下した。しかし光の非照射部分は超撥水
性を保っていた。実施例14 トリメトキシメチルシランの代わりに東京化成製トリメ
トキシ-n-フェニルシランを用い、放置時間が1日ではな
く3日間にする以外は実施例12と同様にして処理を行っ
た。その結果、ガラス板の光照射部分は水との接触角が
70°まで低下した。しかし光の非照射部分は超撥水性を
保っていた。実施例15 トリメトキシメチルシランの代わりに東京化成製トリエ
トキシメチルシランを用い、放置時間が1日ではなく2日
間にする以外は実施例12と同様にして処理を行った。そ
の結果、ガラス板の光照射部分は水との接触角が60°ま
で低下した。しかし光の非照射部分は超撥水性を保って
いた。実施例16 トリメトキシメチルシランの代わりに東京化成製テトラ
メチルオルソシリケートを用いる以外は実施例12と同様
にして処理を行った。その結果、ガラス板の光照射部分
は水との接触角が50°まで低下した。しかし光の非照射
部分は超撥水性を保っていた。実施例17 トリメトキシメチルシランの代わりに東京化成製テトラ
-n-ブチルオルソシリケートを用い、放置時間が1日では
なく10日間にする以外は実施例12と同様にして処理を行
った。その結果、ガラス板の光照射部分は水との接触角
が70°まで低下した。しかし光の非照射部分は超撥水性
を保っていた。実施例18 化合物1(2重量部)の代わりに化合物2(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。After the standing, the light-irradiated portion had a contact angle with water reduced to 60 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 13 A treatment was carried out in the same manner as in Example 12, except that trimethoxy-n-octadecylsilane manufactured by Tokyo Chemical Industry was used instead of trimethoxymethylsilane, and the standing time was changed to 10 days instead of 1 day. As a result, the light-irradiated portion of the glass plate had a contact angle with water reduced to 70 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 14 A treatment was carried out in the same manner as in Example 12, except that trimethoxy-n-phenylsilane manufactured by Tokyo Chemical Industry was used instead of trimethoxymethylsilane, and the standing time was changed to 3 days instead of 1 day. As a result, the light-irradiated part of the glass plate has a contact angle with water.
Dropped to 70 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 15 A treatment was performed in the same manner as in Example 12, except that triethoxymethylsilane manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used instead of trimethoxymethylsilane, and the standing time was changed to 2 days instead of 1 day. As a result, the light-irradiated portion of the glass plate had a contact angle with water reduced to 60 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 16 A treatment was carried out in the same manner as in Example 12 except that tetramethyl orthosilicate manufactured by Tokyo Chemical Industry was used instead of trimethoxymethylsilane. As a result, the light-irradiated portion of the glass plate had a contact angle with water reduced to 50 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 17 Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. instead of trimethoxymethylsilane
The treatment was carried out in the same manner as in Example 12, except that -n-butyl orthosilicate was used and the standing time was changed to 10 days instead of 1 day. As a result, the light-irradiated portion of the glass plate had a contact angle with water reduced to 70 °. However, the non-irradiated part of the light maintained super water repellency. Example 18 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 2 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0071】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は55°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例19 化合物1(2重量部)の代わりに化合物3(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 55 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 19 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound 3 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0072】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は60°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例20 化合物1(2重量部)の代わりに化合物4(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 20 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 4 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0073】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は55°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例21 化合物1(2重量部)の代わりに化合物5(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 55 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 21 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 5 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0074】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は60°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例22 化合物1(2重量部)の代わりに化合物6(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 22 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was produced in the same manner as in Example 1 except that Compound 6 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0075】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は55°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例23 化合物1(2重量部)の代わりに化合物7(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 55 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 23 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 7 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0076】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は60°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例24 化合物1(2重量部)の代わりに化合物8(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 24 A glass plate having a portion where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 8 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0077】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は55°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例25 化合物1(2重量部)の代わりに化合物9(2重量部)を用
いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンとポ
リアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を作
製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 55 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 25 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 9 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0078】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は60°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例26 化合物1(2重量部)の代わりに化合物10(2重量部)を
用いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンと
ポリアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を
作製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 60 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 26 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 10 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0079】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は55°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例27 化合物1(2重量部)の代わりに化合物11(2重量部)を
用いる以外は実施例1と同様にしてポリアリルアミンと
ポリアクリル酸が付着している部分を有するガラス板を
作製した。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were attached was reduced to 55 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 27 A glass plate having a portion to which polyallylamine and polyacrylic acid were attached was prepared in the same manner as in Example 1 except that Compound 11 (2 parts by weight) was used instead of Compound 1 (2 parts by weight). .
【0080】このガラス板のポリアリルアミンとポリア
クリル酸が付着している部分の水との接触角は50°まで
低下した。しかしその他の部分は超撥水性を保ってい
た。実施例28 図1に示す印刷装置によって印刷の実験をした。その結
果本発明の方法で印刷できることを確認した。なお、ド
ラム状の活版1の作製方法は後述する。The contact angle between water and the portion of the glass plate where polyallylamine and polyacrylic acid were adhered was reduced to 50 °. However, the other parts maintained super water repellency. Example 28 A printing experiment was performed by the printing apparatus shown in FIG. As a result, it was confirmed that printing was possible by the method of the present invention. The method for producing the drum-shaped letterpress 1 will be described later.
【0081】この印刷装置の原理は次の通りである。ド
ラム状の活版1に水性インキ溜2の中の水性インキ3を
インキ元ローラー4、インキ付けローラー5を介して必
要部分に付着させる。活版に付着したインキが、用紙搬
送ベルト用ロール6で駆動している用紙搬送ベルト7に
よって搬送されてきた用紙8に付着し印刷が完了する。The principle of the printing apparatus is as follows. The aqueous ink 3 in the aqueous ink reservoir 2 is adhered to a required portion of the drum-shaped letterpress 1 via an ink source roller 4 and an inking roller 5. The ink adhered to the letterpress adheres to the paper 8 transported by the paper transport belt 7 driven by the paper transport belt roll 6, and printing is completed.
【0082】ドラム状の活版1の作製方法は以下の通り
である。直径10 cm、長さ21 cmのアルミ製円筒に実施例
1で作製した超撥水塗料を実施例1と同様のディップ法で
塗布し、更に実施例1と同様の条件で乾燥した。次に実
施例1で作製した化合物12のジクロルメタン溶液を実施
例1と同様のディップ法で塗布し、更に実施例1と同様の
条件で乾燥した。The method for producing the drum-shaped letterpress 1 is as follows. Example of an aluminum cylinder with a diameter of 10 cm and a length of 21 cm
The super-water-repellent paint prepared in 1 was applied by the same dipping method as in Example 1, and further dried under the same conditions as in Example 1. Next, the dichloromethane solution of compound 12 prepared in Example 1 was applied by the same dipping method as in Example 1, and further dried under the same conditions as in Example 1.
【0083】次に超撥水塗料と化合物12を塗布したアル
ミ製円筒9を図2に示す活版作製装置によって活版に加
工する。その方法は以下の通りである。まずアルミ製円
筒9を円筒が回転できるような運搬台10に装着する。こ
れを運搬台搬送ベルト11に置く。円筒表面にレーザー13
の光をミラー14とポリゴンミラー15を介して照射し、潜
像を形成する。潜像形成後の表面に噴霧器16によって実
施例1で用いた0.001重量%のポリアクリル酸水溶液を噴
霧後、温風器19で表面を乾燥する。次に噴霧器20によっ
て実施例1で用いた0.01重量%のポリアリルアミン水溶
液を噴霧後、散水器22で水をかけ、余分のポリアリルア
ミン(ポリアクリル酸と塩を形成しないもの)を除去す
る。最後に恒温層23(内部の温度は120℃)で乾燥し、
図1の印刷装置で用いる活版を得た。実施例29 図3に示す方法で超撥水表面に凹凸を形成した。実施例1
で作製した超撥水表面を有するガラス板25(化合物12を
塗布したもの)にマスク26を介して紫外線ランプ27より
発せられる紫外光を照射する。紫外光照射後、このガラ
ス板を実施例1で調製した0.001重量%のポリアクリル
酸水溶液に実施例1で調製した0.01重量%のポリアリル
アミン水溶液に実施例1と同様の条件で浸漬し、さらに
実施例1と同様の条件で乾燥する。以上の操作によって
超撥水表面上に高さ約10μmのポリアクリル酸とポリア
リルアミンからなる樹脂の丘28が形成された。この方法
を用いれば表面に凹凸を形成することが可能であること
が示された。Next, the aluminum cylinder 9 coated with the super water-repellent paint and the compound 12 is processed into a letterpress by a letterpress making apparatus shown in FIG. The method is as follows. First, the aluminum cylinder 9 is mounted on a carrier 10 on which the cylinder can rotate. This is placed on the conveyor belt 11. Laser 13 on cylindrical surface
Is radiated through the mirror 14 and the polygon mirror 15 to form a latent image. After spraying the 0.001% by weight aqueous solution of polyacrylic acid used in Example 1 on the surface after the formation of the latent image by the sprayer 16, the surface is dried by the hot air blower 19. Next, after spraying the 0.01% by weight aqueous solution of polyallylamine used in Example 1 with the sprayer 20, water is sprayed with the water sprayer 22 to remove excess polyallylamine (which does not form a salt with polyacrylic acid). Finally, it is dried in constant temperature layer 23 (internal temperature is 120 ° C),
A letterpress used in the printing apparatus of FIG. 1 was obtained. Example 29 Irregularities were formed on the super water-repellent surface by the method shown in FIG. Example 1
The glass plate 25 having the super-water-repellent surface prepared in the above (coated with the compound 12) is irradiated with ultraviolet light emitted from an ultraviolet lamp 27 via a mask 26. After irradiation with ultraviolet light, the glass plate was immersed in a 0.001% by weight aqueous solution of polyacrylic acid prepared in Example 1 and in a 0.01% by weight aqueous solution of polyallylamine prepared in Example 1 under the same conditions as in Example 1. Dry under the same conditions as in Example 1. By the above operation, a resin hill 28 made of polyacrylic acid and polyallylamine having a height of about 10 μm was formed on the super water-repellent surface. It was shown that the use of this method makes it possible to form irregularities on the surface.
【0084】[0084]
【発明の効果】本発明により、光照射等の処理により水
との接触角が70°以下の部分を有する超撥水表面を有す
る物品を提供することが可能になった。この技術を用い
ることにより新しい印刷技術を提供することも可能にな
った。According to the present invention, it is possible to provide an article having a super water-repellent surface having a portion having a contact angle with water of 70 ° or less by treatment such as light irradiation. By using this technology, it has become possible to provide a new printing technology.
【図1】本発明の印刷装置の模式図である。FIG. 1 is a schematic view of a printing apparatus according to the present invention.
【図2】本発明の印刷装置に用いる活版の作製装置の模
式図である。FIG. 2 is a schematic view of an apparatus for producing a letterpress used in the printing apparatus of the present invention.
【図3】本発明の凹凸形成方法の説明図である。FIG. 3 is an explanatory view of a method for forming unevenness according to the present invention.
1 活版 2 インキ溜 3 水性インキ 4 インキ元ローラー 5 インキ付けローラー 6 用紙搬送ベルト用ロール 7 用紙搬送ベルト 8 用紙 9 超撥水塗料と化合物12を塗布したアルミ製円筒 10 運搬台 11 運搬台搬送ベルト 12 運搬台搬送ベルト用ロール 13 レーザー 14 ミラー 15 ポリゴンミラー 16 噴霧器 17 噴霧液の遮蔽板 18 温風の遮蔽板 19 温風器 20 噴霧器 21 散水液の遮蔽板 22 散水器 23 恒温層 24 バット 25 実施例1で作製した超撥水表面を有するガラス板
(化合物12が塗布してあるもの) 26 マスク 27 紫外線ランプ 28 ポリアクリル酸とポリアリルアミンからなる樹脂
(超撥水表面に対して凸部分になる)1 Letterpress 2 Ink reservoir 3 Water-based ink 4 Ink roller 5 Inking roller 6 Roller for paper transport belt 7 Paper transport belt 8 Paper 9 Aluminum cylinder coated with super water-repellent paint and compound 12 10 Carrier 11 Carrier conveyor belt 12 Roller for conveyor belt 13 Laser 14 Mirror 15 Polygon mirror 16 Sprayer 17 Spray liquid shield plate 18 Hot air shield plate 19 Hot air blower 20 Sprayer 21 Spray liquid shield plate 22 Sprinkler 23 Constant temperature layer 24 Butt 25 Implement Glass plate having super water repellent surface prepared in Example 1
(Compound 12 is coated) 26 Mask 27 UV lamp 28 Resin consisting of polyacrylic acid and polyallylamine (projected to the super water repellent surface)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 豊 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Yutaka Ito 7-1-1, Omika-cho, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Within Hitachi Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
Claims (8)
る物品において、該表面上に部分的に水との接触角が80
〜130°の部分を形成し、次に該部分に水との接触角が7
0°以下の表面を有する物質を結合または付着させたこ
とを特徴とする物品。1. An article having a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, wherein the surface has a water contact angle of 80
~ 130 ° part, then the part has a contact angle with water of 7
An article characterized by binding or adhering a substance having a surface of 0 ° or less.
(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から18の直鎖
又は分岐のアルキル基もしくはビニル基、アルキル基の
炭素数が1〜3のアミノアルキル基、トリル基、またはフ
ェニル基であり、OR'はメトキシ基またはエトキシ基で
ある)、或いは、R-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、R
およびOR'は上記の定義のとおりである)と水、または
水との接触角150°以上の該表面との反応物からなるも
のであることを特徴とする請求項1に記載の物品。2. A substance having a contact angle of 70 ° or less with water is R-Si
(OR ′) 3 or Si (OR ′) 4 (where R is a linear or branched alkyl or vinyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aminoalkyl group having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group, a tolyl group Or a phenyl group, and OR 'is a methoxy group or an ethoxy group), or R-Si (OR') 3 or Si (OR ') 4 (where R
And OR ′ is as defined above) and water or a reaction product of said surface with a contact angle of 150 ° or more with water.
する部材中に以下の 式: Rf−(R)z [式中、Rfは下記の構造: F(CF(CF3)-CF2-O-)m-CF(CF3)CONH-; F(CF2-CF2-CF2-O−)m'−CF2-CF2-CONH-;または −HNOC-[(-CF2-CF2-O-)n-(CF2-O-)n']-CF2-CONH- から選択され、ここで、mおよびm'は平均9乃至54で
あり、nは平均8乃至28であり、n'は平均10乃至40で
ある、Rは下記の構造: 【化1】 から選択され、zは1または2である]によって示され
る含フッ素化合物が含有されていることを特徴とする請
求項1又は2に記載の物品。3. In a member forming a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, the following formula: Rf- (R) z wherein Rf has the following structure: F (CF (CF 3 )- CF 2 -O-) m-CF ( CF 3) CONH-; F (CF 2 -CF 2 -CF 2 -O-) m'-CF 2 -CF 2 -CONH-; or -HNOC - [(- CF 2 -CF 2 -O-) n- (CF 2 -O-) n ']-CF 2 -CONH-, wherein m and m' average 9 to 54, and n average 8 to 54 28, n 'is an average of 10 to 40, R is the following structure: And z is 1 or 2.], wherein the fluorine-containing compound is represented by the formula:
との接触角が70°以下の部分を有する物品の製造方法に
おいて、該表面上に光照射して部分的に水との接触角が
80〜130°の部分を形成し、次に該部分に水との接触角
が70°以下の表面を有する物質を結合または付着させる
ことを特徴とする方法。4. A method for producing an article having a portion having a contact angle with water of 70 ° or less on a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, wherein the surface is partially irradiated with light by irradiating the surface with light. The contact angle of
A method comprising forming a portion having an angle of 80 to 130 °, and then bonding or attaching a substance having a surface having a contact angle with water of 70 ° or less to the portion.
装置において、該装置に用いられる活版の水との接触角
が未露光部分で150°以上であり、露光部分上に水との
接触角が70°以下の物質が付着または結合していること
を特徴とする印刷装置。5. A printing apparatus using a letterpress formed using light, wherein a contact angle of water of the letterpress used in the apparatus is 150 ° or more in an unexposed portion, and a contact angle of water on an exposed portion is reduced. A printing device, wherein a substance having an angle of 70 ° or less is attached or bonded.
(OR')3またはSi(OR')4(但し、Rは炭素数1から18の直鎖
又は分岐のアルキル基もしくはビニル基、アルキル基の
炭素数が1〜3のアミノアルキル基、トリル基、またはフ
ェニル基であり、OR'はメトキシ基またはエトキシ基で
ある)、或いは、R-Si(OR')3またはSi(OR')4(但し、R
およびOR'は上記の定義のとおりである)と水、または
水との接触角150°以上の該表面との反応物からなるも
のであることを特徴とする請求項5に記載の印刷装置。6. A substance having a contact angle of 70 ° or less with water is R-Si
(OR ′) 3 or Si (OR ′) 4 (where R is a linear or branched alkyl or vinyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aminoalkyl group having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl group, a tolyl group Or a phenyl group, and OR 'is a methoxy group or an ethoxy group), or R-Si (OR') 3 or Si (OR ') 4 (where R
6. The printing apparatus according to claim 5, wherein OR and OR ′ are as defined above), and water or a reaction product of the surface with water having a contact angle of 150 ° or more.
する部材中に以下の 式:Rf−(R)z [式中、Rfは下記の構造: F(CF(CF3)-CF2-O-)m-CF(CF3)CONH-; F(CF2-CF2-CF2-O−)m'−CF2-CF2-CONH-;または −HNOC-[(-CF2-CF2-O-)n-(CF2-O-)n']-CF2-CONH- から選択され、ここで、mおよびm'は平均9乃至54で
あり、nは平均8乃至28であり、n'は平均10乃至40で
ある、Rは下記の構造: 【化2】 から選択され、zは1または2である]によって示され
る含フッ素化合物が含有されていることを特徴とする請
求項5又は6に記載の印刷装置。7. In a member forming a surface having a contact angle with water of 150 ° or more, the following formula: Rf- (R) z, wherein Rf has the following structure: F (CF (CF 3 )- CF 2 -O-) m-CF ( CF 3) CONH-; F (CF 2 -CF 2 -CF 2 -O-) m'-CF 2 -CF 2 -CONH-; or -HNOC - [(- CF 2 -CF 2 -O-) n- (CF 2 -O-) n '] - is selected from CF 2 -CONH-, wherein, m and m' is an average 9 to 54, n is an average of 8 to 28, n 'is an average of 10 to 40, R is the following structure: And z is 1 or 2.], wherein the fluorine-containing compound represented by the formula (1) or (2) is contained.
150°以上の表面上に光照射して部分的に水との接触角
が80〜130°の部分を形成し、次に該部分に水との接触
角が70°以下の表面を有する物質を結合または付着させ
ることを特徴とする凹凸形成方法。8. In the unevenness forming technique, the contact angle with water is
By irradiating light on a surface of 150 ° or more, a part having a contact angle with water of 80 to 130 ° is partially formed, and then a substance having a surface with a contact angle of 70 ° or less with water is formed on the part. A method for forming concavities and convexities, which comprises bonding or attaching.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP6744698A JP3340377B2 (en) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | Article having surface where hydrophilic part and super water repellent part coexist, method for manufacturing the same, and printing apparatus using the same |
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---|---|---|---|
JP6744698A JP3340377B2 (en) | 1998-03-17 | 1998-03-17 | Article having surface where hydrophilic part and super water repellent part coexist, method for manufacturing the same, and printing apparatus using the same |
Publications (2)
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---|---|
JPH11265058A true JPH11265058A (en) | 1999-09-28 |
JP3340377B2 JP3340377B2 (en) | 2002-11-05 |
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---|---|---|---|---|
WO2005105443A1 (en) * | 2004-04-28 | 2005-11-10 | Mitsubishi Heavy Industries Ltd. | Plate making device, regenerative printing plate control method, and intermediate sleeve |
JP2007254651A (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Tosoh Corp | Organic silane compound, si-containing film-forming material, production method, and application |
JP2019505650A (en) * | 2015-12-21 | 2019-02-28 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | Novel composition and its use for modification of substrate surface |
US20230063903A1 (en) * | 2021-08-25 | 2023-03-02 | City University Of Hong Kong | Method of surface chemical functionalization for developing of functional hydrophobic surfaces |
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