JPH11260056A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH11260056A
JPH11260056A JP10060996A JP6099698A JPH11260056A JP H11260056 A JPH11260056 A JP H11260056A JP 10060996 A JP10060996 A JP 10060996A JP 6099698 A JP6099698 A JP 6099698A JP H11260056 A JPH11260056 A JP H11260056A
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bit line
sense amplifier
potential
precharge
memory device
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JP10060996A
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Toshiro Yamada
俊郎 山田
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor memory device whose current consumption is smaller than that of a device of a conventional constitution of a method wherein a precharge auxiliary switch is employed. SOLUTION: The precharge circuit UPRi of an upper sense amplifier part USAi precharges the corresponding pair of bit lines UBi and XUBi to a power supply potential VDD. On the other hand, the precharge circuit LPRi of a lower sense amplifier unit LSAi precharges the corresponding pair of bit lines LBi and XLBi to a ground potential VSS. In a precharge operation, 1st and 2nd sense amplifier driving signal lines VSN and VSP are short-circuited by a precharge auxiliary switching means SWSH. With this constitution, charge is transferred between the bit line whose potential is shifted from the precharge potential VDD and the bit line whose potential is shifted from the precharge potential VSS and a current required for the precharge operation can be reduced significantly.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
関するものであり、特に、MOSダイナミックメモリ
(DRAM)に関するものである。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly, to a MOS dynamic memory (DRAM).

【0002】[0002]

【従来の技術】図9は従来の半導体記憶装置としてのM
OSダイナミックメモリ(DRAM)の構成例を示す図
であり、センスアンプ部およびその周辺の構成を示す図
である。図9に示すように、コンデンサとトランジスタ
からなるメモリセルMC0,MC1は、対をなすビット
線bitおよびその反転ビット線xbitにそれぞれ接
続されており、このビット線対bit,xbitに対
し、プリチャージ回路PR、NMOSペアトランジスタ
NPおよびPMOSペアトランジスタPPを備えたセン
スアンプ部SAが設けられている。また、ビット線対b
it,xbitは、データ取り出し用信号線であるデー
タ線対DT0,DT1とコラムスイッチCLSWを介し
て接続されている。なお、図9では簡単のため、各ビッ
ト線に接続されたメモリセルは1個のみとしているが、
実際の装置では当然のことながら各ビット線に複数のメ
モリセルMCが接続されている。例えば64MビットD
RAMの場合には、通常、各ビット線対に256個程度
のメモリセルが接続されている。
2. Description of the Related Art FIG.
FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration example of an OS dynamic memory (DRAM), and is a diagram illustrating a configuration of a sense amplifier unit and peripheral components thereof. As shown in FIG. 9, memory cells MC0 and MC1 each including a capacitor and a transistor are connected to a paired bit line bit and its inverted bit line xbit, respectively. A sense amplifier SA including a circuit PR, an NMOS pair transistor NP, and a PMOS pair transistor PP is provided. The bit line pair b
It and xbit are connected to a data line pair DT0 and DT1, which are signal lines for extracting data, via a column switch CLSW. In FIG. 9, for simplicity, only one memory cell is connected to each bit line.
In an actual device, a plurality of memory cells MC are naturally connected to each bit line. For example, 64M bit D
In the case of a RAM, usually, about 256 memory cells are connected to each bit line pair.

【0003】図10は図9に示す従来の半導体記憶装置
の動作を示すタイミングチャートである。ビット線bi
t,xbitは、信号読み出しの前に、電位VDD/2
(VDDは電源電位)にプリチャージされている。次
に、ワード線WL0の電位が上昇し、このワード線WL
0に接続されたメモリセルMC0に蓄積された信号電荷
がビット線bitに読み出され、これによってビット線
bitの電位がわずかに(ΔV)変化する。
FIG. 10 is a timing chart showing the operation of the conventional semiconductor memory device shown in FIG. Bit line bi
t and xbit are equal to the potential VDD / 2 before the signal is read.
(VDD is a power supply potential). Next, the potential of the word line WL0 rises,
The signal charge stored in the memory cell MC0 connected to 0 is read out to the bit line bit, whereby the potential of the bit line bit slightly changes (ΔV).

【0004】次に第1のセンスアンプ駆動信号VSNの
電位を降下させ、続いて第2のセンスアンプ駆動信号V
SPの電位を上昇させることによって、センスアンプ部
SAはNMOSペアトランジスタNPおよびPMOSペ
アトランジスタPPの動作によって、ビット線対bi
t,xbit間の微小電位差ΔVを増幅する。次にメモ
リセルMCに再書き込み動作が行われる。この後、プリ
チャージ回路PRが動作し、ビット線bit,xbit
をその電位がVDD/2になるまで充電する。
Next, the potential of the first sense amplifier drive signal VSN is lowered, and then the second sense amplifier drive signal VSN is
By raising the potential of SP, the sense amplifier unit SA operates the bit line pair bi by the operation of the NMOS pair transistor NP and the PMOS pair transistor PP.
A small potential difference ΔV between t and xbit is amplified. Next, a rewrite operation is performed on the memory cell MC. Thereafter, the precharge circuit PR operates and the bit lines bit, xbit
Is charged until its potential becomes VDD / 2.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体記憶装置
の低消費電力化が望まれているが、プリチャージ動作時
における多量の電流消費が、消費電力の低減に対する1
つの大きな妨げになっている。また、動作電流を減らす
ために電源電圧を下げるというアプローチもあるが、こ
の場合には、電源電圧の低下とともにセンスアンプ増幅
時間(センスアンプ部が信号を増幅するために要する時
間)が著しく増大してしまうので、電源電圧を下げるの
にも自ずと限界がある。
In recent years, it has been desired to reduce the power consumption of a semiconductor memory device. However, a large amount of current consumption during the precharge operation is one of the reasons for the reduction in power consumption.
Are two major obstacles. There is also an approach of lowering the power supply voltage in order to reduce the operating current. In this case, however, the sense amplifier amplification time (the time required for the sense amplifier unit to amplify a signal) significantly increases as the power supply voltage decreases. Therefore, there is naturally a limit in reducing the power supply voltage.

【0006】本発明は、かかる点に鑑みてなされたもの
であり、従来よりも、プリチャージ動作時における消費
電流が少ない半導体記憶装置を提供することを課題とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a semiconductor memory device that consumes less current during a precharge operation than in the past.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めに、請求項1の発明が講じた解決手段は、複数のメモ
リセルと、複数のビット線対と、各ビット線対に対して
それぞれ設けられ、メモリセルから当該ビット線対に読
み出されたデータを増幅出力する複数のセンスアンプ部
とを有する半導体記憶装置として、前記複数のビット線
のうち少なくとも一部は、そのプリチャージ電位が第1
および第2の異なる電位に設定されているものである。
Means for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, a solution taken by the invention of claim 1 is that a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of bit line pairs are provided. And a plurality of sense amplifiers respectively provided for amplifying and outputting data read from the memory cell to the bit line pair. At least a part of the plurality of bit lines has a precharge potential. Is the first
And a second different potential.

【0008】請求項1の発明によると、第1の電位にプ
リチャージされるビット線と、第2の電位にプリチャー
ジされるビット線との間で、ビット線充放電電流を相殺
することが可能になり、プリチャージ電流を従来よりも
少なくすることができる。
According to the first aspect of the present invention, the bit line charge / discharge current is offset between the bit line precharged to the first potential and the bit line precharged to the second potential. As a result, the precharge current can be reduced as compared with the conventional case.

【0009】そして、請求項2の発明では、前記請求項
1の半導体記憶装置は、プリチャージ動作時に、前記第
1の電位にプリチャージされるビット線と前記第2の電
位にプリチャージされるビット線との間において、電荷
を転送させて、そのプリチャージ動作を補助するプリチ
ャージ補助手段を備えているものとする。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor memory device according to the first aspect, a bit line precharged to the first potential and a second potential are precharged during a precharge operation. It is assumed that there is provided a precharge assisting means for transferring charges between the bit lines and assisting the precharge operation.

【0010】請求項2の発明によると、プリチャージ動
作時に、プリチャージ補助手段によって、第1の電位に
プリチャージされるビット線対と第2の電位にプリチャ
ージされるビット線対との間において電荷が転送され
て、そのプリチャージ動作が補助されるので、プリチャ
ージ動作時に要する電流が従来よりも少なくてすむ。こ
れにより、半導体記憶装置の消費電力は大幅に低減され
る。
According to the second aspect of the present invention, during the precharge operation, the precharge auxiliary means causes the bit line pair to be precharged to the first potential and the bit line pair to be precharged to the second potential. Then, the electric charge is transferred, and the precharge operation is assisted, so that the current required at the time of the precharge operation can be reduced as compared with the related art. Thereby, the power consumption of the semiconductor memory device is greatly reduced.

【0011】そして、請求項3の発明では、前記請求項
2の半導体記憶装置は、前記各センスアンプ部を駆動す
る信号を転送する第1および第2のセンスアンプ駆動信
号線を備えたものとし、前記プリチャージ補助手段は、
前記第1および第2のセンスアンプ駆動信号線を短絡す
るか否かを切替制御するプリチャージ補助スイッチ手段
を有し、プリチャージ動作時に、このプリチャージ補助
スイッチ手段によって前記第1および第2のセンスアン
プ駆動信号線を短絡するものとし、この短絡した前記第
1および第2のセンスアンプ駆動信号線を介して、前記
第1の電位にプリチャージされる各ビット線のうちメモ
リセルからデータが読み出されて電位が変化した第1の
ビット線と、前記第2の電位にプリチャージされる各ビ
ット線のうちメモリセルからデータが読み出されて電位
が変化した第2のビット線との間において、電荷が転送
されるものとする。
According to a third aspect of the present invention, the semiconductor memory device of the second aspect includes first and second sense amplifier drive signal lines for transferring a signal for driving each of the sense amplifier units. , The precharge auxiliary means,
Precharge auxiliary switch means for controlling whether or not the first and second sense amplifier drive signal lines are short-circuited, and the first and second sense amplifier drive signal lines are controlled by the precharge auxiliary switch means during a precharge operation. A sense amplifier drive signal line is short-circuited, and data is transferred from a memory cell among the bit lines precharged to the first potential via the short-circuited first and second sense amplifier drive signal lines. A first bit line whose read-out potential has changed and a second bit line whose potential has changed by reading out data from a memory cell among the bit lines precharged to the second potential; It is assumed that charges are transferred between them.

【0012】さらに、請求項4の発明では、前記請求項
3の半導体記憶装置における複数のセンスアンプ部は、
それぞれ、対応するビット線対間に直列接続された2個
の一の導電型トランジスタからなり、一方のトランジス
タと接続されたビット線の電位が他方のトランジスタの
ゲートに印加され、かつ、トランジスタ同士の接続部が
前記第1のセンスアンプ駆動信号線と接続された第1の
ペアトランジスタと、対応するビット線対間に直列接続
された2個の他の導電型トランジスタからなり、一方の
トランジスタと接続されたビット線の電位が他方のトラ
ンジスタのゲートに印加され、かつ、トランジスタ同士
の接続部が前記第2のセンスアンプ駆動信号線と接続さ
れた第2のペアトランジスタとを備えているものとし、
前記プリチャージ補助スイッチ手段によって前記第1お
よび第2のセンスアンプ駆動信号線が短絡されたとき、
前記第1のビット線と前記第2のビット線との間におい
て、短絡された第1および第2のセンスアンプ駆動信号
線と、前記第1のビット線に対応するセンスアンプ部が
有する第1および第2のペアトランジスタの一方と、前
記第2のビット線に対応するセンスアンプ部が有する第
1および第2のペアトランジスタの他方とを介して、電
荷が転送されるものとする。
Further, in the invention according to claim 4, the plurality of sense amplifier units in the semiconductor memory device according to claim 3 are:
Each of the transistors includes two conductive transistors connected in series between the corresponding bit line pair, the potential of the bit line connected to one transistor is applied to the gate of the other transistor, and The connection portion is composed of a first pair transistor connected to the first sense amplifier drive signal line and two other conductivity type transistors connected in series between the corresponding bit line pair, and is connected to one of the transistors. The applied potential of the bit line is applied to the gate of the other transistor, and the connection between the transistors includes a second pair transistor connected to the second sense amplifier drive signal line,
When the first and second sense amplifier drive signal lines are short-circuited by the precharge auxiliary switch means,
Between the first bit line and the second bit line, a short-circuited first and second sense amplifier drive signal line and a first sense amplifier portion corresponding to the first bit line are provided. Charges are transferred via one of the first and second paired transistors and the other of the first and second paired transistors included in the sense amplifier corresponding to the second bit line.

【0013】そして、請求項5の発明では、前記請求項
1の半導体記憶装置における前記第1の電位にプリチャ
ージされるビット線の本数と前記第2の電位にプリチャ
ージされるビット線の本数とは、ほぼ同数であるものと
する。
According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the first aspect, the number of bit lines precharged to the first potential and the number of bit lines precharged to the second potential Are almost the same.

【0014】また、請求項6の発明では、前記請求項1
の半導体記憶装置における複数のセンスアンプ部は、レ
イアウト上隣接する複数のセンスアンプ部からなる第1
のセンスアンプ群とレイアウト上隣接する複数のセンス
アンプ部からなる第2のセンスアンプ群とを有し、前記
第1のセンスアンプ群に対応するビット線はそのプリチ
ャージ電位が前記第1の電位に設定されている一方、前
記第2のセンスアンプ群に対応するビット線はそのプリ
チャージ電位が前記第2の電位に設定されているものと
する。
[0014] In the invention of claim 6, according to claim 1,
The plurality of sense amplifier sections in the semiconductor memory device of the first aspect is composed of a plurality of
And a second sense amplifier group composed of a plurality of sense amplifier sections adjacent to each other on a layout, and a bit line corresponding to the first sense amplifier group has a precharge potential of the first potential. While the precharge potential of the bit line corresponding to the second sense amplifier group is set to the second potential.

【0015】そして、請求項7の発明では、前記請求項
1の半導体記憶装置は、前記複数のセンスアンプ部から
増幅出力されたメモリセルデータを転送する複数のデー
タ線対を備えたものとし、前記各データ線対は、メモリ
セルデータ転送の前に所定電位にプリチャージされ、か
つ、そのプリチャージ電位は、対応するセンスアンプ部
がビット線対をプリチャージする電位と実質的に同一で
あるものとする。
According to a seventh aspect of the present invention, the semiconductor memory device according to the first aspect includes a plurality of data line pairs for transferring memory cell data amplified and output from the plurality of sense amplifiers, Each data line pair is precharged to a predetermined potential before memory cell data transfer, and the precharge potential is substantially the same as the potential at which the corresponding sense amplifier unit precharges the bit line pair. Shall be.

【0016】さらに、請求項8の発明では、前記請求項
7の半導体記憶装置におけるデータ線対は、前記ビット
線対とほぼ平行に配置されたグローバルビット線対であ
るものとする。
Further, in the invention according to claim 8, the data line pair in the semiconductor memory device according to claim 7 is a global bit line pair arranged substantially in parallel with the bit line pair.

【0017】また、請求項9の発明が講じた解決手段
は、複数のメモリセルと、複数のビット線対と、各ビッ
ト線対に対してそれぞれ設けられ、メモリセルから当該
ビット線対に読み出されたデータを増幅出力する複数の
センスアンプ部とを有する半導体記憶装置として、プリ
チャージ動作時に、その電位がプリチャージ電位から変
化したビット線を選択的にプリチャージノードに接続し
て、プリチャージ動作を行う選択プリチャージ手段を備
えているものである。
According to a ninth aspect of the present invention, a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of bit line pairs are provided for each bit line pair. As a semiconductor memory device having a plurality of sense amplifiers for amplifying and outputting output data, a bit line whose potential has changed from a precharge potential is selectively connected to a precharge node during a precharge operation. It has a selection precharge means for performing a charging operation.

【0018】また、請求項10の発明が講じた解決手段
は、複数のメモリセルと、複数のビツト線対と、各ビッ
ト線対に対してそれぞれ設けられ、メモリセルから当該
ビット線対に読み出されたデータを増幅出力する複数の
センスアンプ部とを有する半導体記憶装置として、前記
複数のビット線対とほぼ平行に形成され、前記複数のセ
ンスアンプ部から出力されたデータを転送するグローバ
ルビット線対群を備え、各グローバルビット線対は、そ
れぞれ、少なくとも2個以上のセンスアンプ部とスイッ
チ手段を介して接続されており、このスイッチ手段は、
複数のセンスアンプ部が同時に当該グローバルビット線
対と電気的に接続されないよう、開閉動作するものであ
る。
According to another aspect of the present invention, a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of bit line pairs are provided for each of the bit line pairs. A semiconductor memory device having a plurality of sense amplifiers for amplifying and outputting the output data, a global bit formed substantially parallel to the plurality of bit line pairs and transferring data output from the plurality of sense amplifiers; A plurality of global bit line pairs, each of which is connected to at least two or more sense amplifier units via switch means.
The open / close operation is performed so that the plurality of sense amplifier units are not electrically connected to the global bit line pair at the same time.

【0019】また、請求項11の発明が講じた解決手段
は、複数のメモリセルと、複数のビット線対と、各ビッ
ト線対に対してそれぞれ設けられ、メモリセルから当該
ビット線対に読み出されたデータを増幅出力する複数の
センスアンプ部とを有する半導体記憶装置として、前記
複数のビット線対とほぼ平行に配置され、前記複数のセ
ンスアンプ部から出力されたデータを転送するグローバ
ルビット線対群と、前記グローバルビット線対群を転送
されたデータを、それぞれ増幅出力する第1および第2
のデータ増幅手段とを備え、前記第1および第2のデー
タ増幅手段は、出力データのビット数が互いに異なるも
のである。
According to another aspect of the present invention, a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of bit line pairs are provided for each bit line pair. A semiconductor memory device having a plurality of sense amplifiers for amplifying and outputting the output data, a global bit disposed substantially in parallel with the plurality of bit line pairs and transferring data output from the plurality of sense amplifiers; First and second amplifying and outputting the data transferred through the line pair group and the global bit line pair group, respectively.
And the first and second data amplifying means are different from each other in the number of bits of the output data.

【0020】そして、請求項12の発明では、前記請求
項11の半導体記憶装置において、前記グローバルビッ
ト線対群は、前記メモリセルおよびセンスアンプ部から
なるメモリコアの配置領域に亘って配置されており、前
記第1および第2のデータ増幅手段は、前記グローバル
ビット線対群の、前記メモリコアの配置領域を挟んだ両
端に設けられているものとする。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the semiconductor memory device of the eleventh aspect, the global bit line pair group is arranged over an arrangement area of a memory core including the memory cells and the sense amplifier unit. The first and second data amplifying means are provided on both ends of the global bit line pair group with the memory core arrangement region interposed therebetween.

【0021】さらに、請求項13の発明では、前記請求
項12の半導体記憶装置は、多数ビットのデータ処理を
行う超並列処理装置を備え、この超並列処理装置は、前
記第1および第2のデータ増幅手段のうちの一方の出力
データを入力とするものとする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, the semiconductor memory device according to the twelfth aspect includes a massively parallel processing device for performing multi-bit data processing. It is assumed that one output data of the data amplifying means is input.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)図1は本発明
の第1の実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回
路図である。図1に示す本実施形態に係る半導体記憶装
置において、複数のメモリセルMCを有するメモリセル
アレイは、レイアウト上、ワード線WL方向における上
側と下側とに分かれて配置されている。図1において、
UBi,XUBi(i=1〜n)は上側のビット線対、
LBi,XLBi(i=1〜n)は下側のビット線対、
USAi(i=1〜n)は第1のセンスアンプ群を構成
する上側のセンスアンプ部、LSAi(i=1〜n)は
第2のセンスアンプ群を構成する下側のセンスアンプ部
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention. In the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. 1, a memory cell array having a plurality of memory cells MC is separately arranged on the layout into an upper side and a lower side in a word line WL direction. In FIG.
UBi and XUBi (i = 1 to n) are upper bit line pairs,
LBi and XLBi (i = 1 to n) are lower bit line pairs,
USAi (i = 1 to n) is an upper sense amplifier unit constituting the first sense amplifier group, and LSAi (i = 1 to n) is a lower sense amplifier unit constituting the second sense amplifier group. .

【0023】上側のセンスアンプ部USAi(i=1〜
n)はそれぞれ、3個のPMOSからなるプリチャージ
回路UPRi、第1のペアトランジスタUNPiおよび
第2のペアトランジスタUPPiを有している。同様
に、下側のセンスアンプ部LSAi(i=1〜n)はそ
れぞれ、3個のNMOSからなるプリチャージ回路LP
Ri、第1のペアトランジスタLNPiおよび第2のペ
アトランジスタLPPiを有している。
The upper sense amplifier unit USAi (i = 1 to 1)
n) includes a precharge circuit UPRi composed of three PMOSs, a first pair transistor UNPi, and a second pair transistor UPPi. Similarly, the lower sense amplifier units LSAi (i = 1 to n) each have a precharge circuit LP composed of three NMOSs.
Ri, a first pair transistor LNPi and a second pair transistor LPPi.

【0024】上側のセンスアンプ回路USAiが有する
プリチャージ回路UPRiおよび下側のセンスアンプ回
路LSAiが有するプリチャージ回路LPRiは、とも
にプリチャージクロックPPREによって制御される。
プリチャージクロックPPREが“H”になると、プリ
チャージ回路UPRiは対応するビット線対UBi,X
UBiをそれぞれ第1の電位としての電源電位VDDに
プリチャージし、一方、プリチャージ回路LPRiは対
応するビット線対LBi,XLBiをそれぞれ第2の電
位としての接地電位VSSにプリチャージする。
The precharge circuit UPLi of the upper sense amplifier circuit USAi and the precharge circuit LPRI of the lower sense amplifier circuit LSAi are both controlled by a precharge clock PPRE.
When the precharge clock PPRE becomes “H”, the precharge circuit UPRi activates the corresponding bit line pair UBi, X
UBi is precharged to the power supply potential VDD as the first potential, while the precharge circuit LPri precharges the corresponding bit line pair LBi and XLBi to the ground potential VSS as the second potential.

【0025】上側のセンスアンプ部USAiが有する第
1のペアトランジスタUNPiは、対応するビット線対
UBi,XUBi間に直列接続された2個のNMOSか
らなり、一方のNMOSと接続されたビット線の電位が
他方のNMOSのゲートに印加されている。下側のセン
スアンプ部LSAiが有する第1のペアトランジスタL
NPiも同様に、対応するビット線対LBi,XLBi
間に直列接続された2個のNMOSからなり、一方のN
MOSと接続されたビット線の電位が他方のNMOSの
ゲートに印加されている。
The first pair transistor UNPi included in the upper sense amplifier unit USAi is composed of two NMOSs connected in series between the corresponding bit line pair UBi and XUBi. A potential is applied to the gate of the other NMOS. First pair transistor L included in lower sense amplifier section LSAi
Similarly, NPi also has a corresponding bit line pair LBi, XLBi
It consists of two NMOSs connected in series between
The potential of the bit line connected to the MOS is applied to the gate of the other NMOS.

【0026】また上側のセンスアンプ部USAiが有す
る第2のペアトランジスタUPPiは、対応するビット
線対UBi,XUBi間に直列接続された2個のPMO
Sからなり、一方のPMOSと接続されたビット線の電
位が他方のPMOSのゲートに印加されている。下側の
センスアンプ部LSAiが有する第2のペアトランジス
タLPPiも同様に、対応するビット線対LBi,XL
Bi間に直列接続された2個のPMOSからなり、一方
のPMOSと接続されたビット線の電位が他方のPMO
Sのゲートに印加されている。
The second pair transistor UPPi included in the upper sense amplifier unit USAi is composed of two PMOs connected in series between corresponding bit line pairs UBi and XUBi.
The potential of a bit line made of S and connected to one PMOS is applied to the gate of the other PMOS. Similarly, the second pair transistor LPPi of the lower sense amplifier LSAi has a corresponding bit line pair LBi, XL
Bi consists of two PMOSs connected in series, and the potential of a bit line connected to one PMOS is
Applied to the S gate.

【0027】各センスアンプ部USAi,LSAiを駆
動するNSAドライバ11およびPSAドライバ12
は、駆動制御信号SENに応じて、第1および第2のセ
ンスアンプ駆動信号線VSN,VSPを介して駆動信号
を各センスアンプ部USAi,LSAiにそれぞれ供給
する。第1のセンスアンプ駆動信号線VSNは、各セン
スアンプ部USAi,LSAiの第1のペアトランジス
タUNPi,LNPiにおけるNMOS同士の接続部に
それぞれ接続されている。一方、第2のセンスアンプ駆
動信号線VSPは、各センスアンプ部USAi,LSA
iの第2のペアトランジスタUPPi,LPPiにおけ
るPMOS同士の接続部にそれぞれ接続されている。
An NSA driver 11 and a PSA driver 12 for driving each of the sense amplifier units USAi and LSAi
Supplies a drive signal to each of the sense amplifier units USAi and LSAi via the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP in response to the drive control signal SEN. The first sense amplifier drive signal line VSN is connected to a connection between NMOSs in the first pair transistors UNPi, LNPi of each of the sense amplifier units USAi, LSAi. On the other hand, the second sense amplifier drive signal line VSP is connected to each sense amplifier unit USAi, LSA
i of the second pair transistors UPPi and LPPi are connected to the connection portions of the PMOSs.

【0028】従来の半導体記憶装置と比較すると、メモ
リセルアレイを構成する素子数は変わっていない。従来
の半導体記憶装置との違いは、上側のセンスアンプ部U
SAiのプリチャージ回路UPRiはPMOSで構成さ
れており、対応するビット線対UBi,XUBiをプリ
チャージするときのプリチャージ電位はVDDである一
方、下側のセンスアンプ部LSAiのプリチャージ回路
LPRiはNMOSで構成されており、対応するビット
線対LBi,XLBiをプリチャージするときのプリチ
ャージ電位はVSSである点である。
As compared with the conventional semiconductor memory device, the number of elements constituting the memory cell array has not changed. The difference from the conventional semiconductor memory device is that the upper sense amplifier unit U
The precharge circuit UPi of SAi is formed of PMOS, and the precharge potential when precharging the corresponding bit line pair UBi and XUBi is VDD, while the precharge circuit LPLi of the lower sense amplifier LSAi is The precharge potential is VSS when precharging the corresponding bit line pair LBi, XLBi.

【0029】また、第1および第2のセンスアンプ駆動
信号線VSN,VSPを短絡するか否かを制御するプリ
チャージ補助スイッチ手段SWSHが設けられている点
が、従来の半導体記憶装置と大きく異なっている。本実
施形態に係る半導体記憶装置において、プリチャージ補
助スイッチ手段SWSH、第1および第2のセンスアン
プ駆動信号線VSN,VSP、および各第1および第2
のペアトランジスタUNPi,UPPi,LNPi,L
PPiによって、プリチャージ補助手段が構成されてい
る。また、第1および第2のセンスアンプ駆動信号線V
SN,VSPによってプリチャージノードが構成されて
おり、上側のセンスアンプ部USAiが有する第1のペ
アトランジスタUNPiおよび下側のセンスアンプ部L
SAiが有する第2のペアトランジスタLPPiによっ
て、選択プリチャージ手段が構成されている。
Further, a precharge auxiliary switch means SWSH for controlling whether or not the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP are short-circuited is greatly different from the conventional semiconductor memory device. ing. In the semiconductor memory device according to the present embodiment, the precharge auxiliary switch means SWSH, the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP, and the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP.
Pair transistors UNPi, UPPi, LNPi, L
Precharge auxiliary means is constituted by PPi. The first and second sense amplifier drive signal lines V
A precharge node is formed by SN and VSP, and a first pair transistor UNPi and a lower sense amplifier L included in an upper sense amplifier USAi.
The second pre-transistor LPPi of SAi constitutes a selective precharge unit.

【0030】図2は図1に示す本実施形態に係る半導体
記憶装置の動作を示すタイミングチャートである。図2
を参照して、本実施形態に係る半導体記憶装置の動作に
ついて説明する。図2では、上側のビット線対UBi,
XUBiのうち、ビット線UBiには信号として“1”
が、ビット線XUBiには信号として“0”が出力され
る一方、下側のビット線対LBj,XLBjのうち、ビ
ット線LBjには信号として“1”が、ビット線XLB
jには信号として“0”が出力されるものとしている。
FIG. 2 is a timing chart showing the operation of the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. FIG.
The operation of the semiconductor memory device according to the embodiment will be described with reference to FIG. In FIG. 2, the upper bit line pair UBi,
Of the XUBi, "1" is applied as a signal to the bit line UBi.
While “0” is output as a signal to the bit line XUBi, while “1” is output as a signal to the bit line LBj of the lower bit line pair LBj and XLBj, and the bit line XLB
It is assumed that “0” is output as a signal to j.

【0031】まずメモリセルのデータ読み出し前におい
て、プリチャージ動作によって、上側のビット線対UB
i,XUBiはVDDにプリチャージされ、下側のビッ
ト線対LBj,XLBjはVSSにプリチャージされ
る。またNSAドライバ11およびPSAドライバ12
は作動せず、第1および第2のセンスアンプ駆動信号線
VSN,VSPの電位はVDD/2に維持されている。
First, before data is read from the memory cell, the upper bit line pair UB is
i, XUBi is precharged to VDD, and the lower bit line pair LBj, XLBj is precharged to VSS. NSA driver 11 and PSA driver 12
Does not operate, and the potentials of the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP are maintained at VDD / 2.

【0032】次に、メモリセルからのデータ読み出しが
行われる。読み出し対象のメモリセルに接続されたワー
ド線の電位を上昇させて、当該メモリセルに蓄積された
信号電荷を、対応するビット線対に出力させる。このと
き、ダミーワード線の電位も併せて上昇させて、あらか
じめダミーメモリセルに蓄積された基準信号も対応する
ビット線対に読み出させる。これによって、上側のビッ
ト線対UBi,XUBi間に微小電位差ΔV1が生じ、
下側のビット線対LBj,XLBj間に微小電位差ΔV
2が生じる。
Next, data is read from the memory cell. The potential of the word line connected to the memory cell to be read is increased, and the signal charge stored in the memory cell is output to the corresponding bit line pair. At this time, the potential of the dummy word line is also increased, and the reference signal previously stored in the dummy memory cell is read out to the corresponding bit line pair. As a result, a small potential difference ΔV1 is generated between the upper bit line pair UBi and XUBi,
The small potential difference ΔV between the lower bit line pair LBj and XLBj
2 results.

【0033】次に、ビット線対に生じた微小電位差がセ
ンスアンプ動作によって増幅される。まず、NSAドラ
イバ11およびPSAドライバ12が駆動制御信号SE
Nに応答して作動し、NSAドライバ11の動作によっ
て第1のセンスアンプ駆動信号線VSNの電位がVSS
まで低下するとともに、PSAドライバ12の動作によ
って第2のセンスアンプ駆動信号線VSPの電位がVD
Dまで上昇する。第1および第2のセンスアンプ駆動信
号VSN,VSPの電位変化によって、各センスアンプ
部USAi,LSAjの第1のペアトランジスタUNP
i,LNPjおよび第2のペアトランジスタUPPi,
LPPjが作動して、いわゆるセンスアンプ動作が行わ
れ、ビット線対間の微小電位差が増幅される。このよう
な動作の結果、上側のビット線XUBiの電位がVSS
まで低下するとともに、下側のビット線LBjの電位が
VDDまで上昇する。
Next, the minute potential difference generated in the bit line pair is amplified by the sense amplifier operation. First, the NSA driver 11 and the PSA driver 12 control the drive control signal SE.
N, and the potential of the first sense amplifier drive signal line VSN is changed to VSS by the operation of the NSA driver 11.
And the potential of the second sense amplifier drive signal line VSP becomes VD by the operation of the PSA driver 12.
It rises to D. The potential change of the first and second sense amplifier drive signals VSN and VSP causes the first pair transistor UNP of each sense amplifier unit USAi and LSAj to change.
i, LNPj and the second pair transistor UPPPi,
LPPj operates to perform a so-called sense amplifier operation, and a small potential difference between the bit line pair is amplified. As a result of such an operation, the potential of the upper bit line XUBi becomes VSS
And the potential of the lower bit line LBj rises to VDD.

【0034】コラムスイッチによって選択されたビット
線対のデータがメモリセルアレイから出力された後に、
各ビット線対は再びプリチャージされる。このとき、プ
リチャージ回路UPRi,LPRjによるプリチャージ
動作の前に、プリチャージ補助スイッチ手段SWSHを
オンにして第1および第2のセンスアンプ駆動信号線V
SN,VSPを短絡させることによって、プリチャージ
補助動作を行う。
After the data of the bit line pair selected by the column switch is output from the memory cell array,
Each bit line pair is precharged again. At this time, before the precharge operation by the precharge circuits UPRi and LPRj, the precharge auxiliary switch means SWSH is turned on to turn on the first and second sense amplifier drive signal lines V.
The precharge auxiliary operation is performed by short-circuiting SN and VSP.

【0035】プリチャージ補助スイッチ手段SWSHを
オンにして第1および第2のセンスアンプ駆動信号線V
SN,VSPを短絡させると、その電位はVDD/2に
ほぼ設定される。この第1および第2のセンスアンプ駆
動信号線VSN,VSPの電位の設定は電荷の再配分に
よってなされるため、このとき、電源電流は全く消費さ
れない。
The precharge auxiliary switch means SWSH is turned on to switch the first and second sense amplifier drive signal lines V
When SN and VSP are short-circuited, the potential is almost set to VDD / 2. Since the potentials of the first and second sense amplifier drive signal lines VSN and VSP are set by redistribution of electric charges, no power supply current is consumed at this time.

【0036】この結果、プリチャージ電位から電位変化
が生じたビット線同士の間で、当該ビット線に対応する
センスアンプ部の第1または第2のペアトランジスタ並
びに第1および第2のセンスアンプ駆動信号線VSN,
VSPを介して、電荷の転送が行われる。具体的には、
プリチャージ電位VDDからVSSに電位が低下したビ
ット線XUBiとプリチャージ電位VSSからVDDに
電位が上昇したビット線LBjとの間で、電荷の転送が
行われる。
As a result, the first or second pair transistor and the first and second sense amplifier drivers of the sense amplifier section corresponding to the bit line between bit lines having a potential change from the precharge potential. Signal line VSN,
Charge transfer is performed via the VSP. In particular,
Charge transfer is performed between the bit line XUBi whose potential has dropped from the precharge potential VDD to VSS and the bit line LBj whose potential has risen from the precharge potential VSS to VDD.

【0037】図3(a),(b)に示すように、ビット
線XUBiの電位はプリチャージ電位VDDからVSS
に低下しているので、第1のセンスアンプ駆動信号線V
SNから第1のペアトランジスタUNPiのNMOS
TN2を介して電荷が転送される一方、ビット線LBj
の電位はプリチャージ電位VSSからVDDに上昇して
いるので、第2のペアトランジスタLPPjのPMOS
TP1を介して第2のセンスアンプ駆動信号線VSP
に電荷が転送される。この結果、外部からの電流の供給
がない状態において、ビット線XUBiの電位はVDD
/2まで上昇する一方、ビット線LBjの電位はVDD
/2まで低下する。すなわち、電位変化が生じたビット
線に対して、対応するセンスアンプ部の第1または第2
のペアトランジスタを介して、選択的にプリチャージ補
助動作が行われる。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the potential of the bit line XUBi is changed from the precharge potential VDD to VSS.
, The first sense amplifier drive signal line V
From the SN, the NMOS of the first pair transistor UNPi
While charges are transferred via TN2, bit lines LBj
Of the second pair transistor LPPj since the potential of the second pair transistor LPPj rises from the precharge potential VSS to VDD.
A second sense amplifier drive signal line VSP via TP1
Is transferred to the device. As a result, the potential of the bit line XUBi becomes VDD when no current is supplied from the outside.
/ 2 while the potential of the bit line LBj is VDD
/ 2. In other words, the first or second sense amplifier unit of the corresponding sense amplifier unit
The precharge auxiliary operation is selectively performed through the paired transistors.

【0038】最後に、各プリチャージ回路UPRi,L
PRjによって、従来と同様のプリチャージ動作が行わ
れる。プリチャージクロックPPREが“H”になる
と、上側のプリチャージ回路UPRiは各ビット線対U
Bi,XUBiの電位がプリチャージ電位VDDに達す
るまでプリチャージ動作を行い、下側のプリチャージ回
路LPRjは、各ビット線対LBj,XLBjの電位が
プリチャージ電位VSSに達するまでプリチャージ動作
を行う。
Finally, each precharge circuit UPRi, L
PRj performs the same precharge operation as in the prior art. When the precharge clock PPRE becomes “H”, the upper precharge circuit UPRi sets each bit line pair U
The precharge operation is performed until the potential of Bi, XUBi reaches the precharge potential VDD, and the lower precharge circuit LPRj performs the precharge operation until the potential of each bit line pair LBj, XLBj reaches the precharge potential VSS. .

【0039】このように、本実施形態によると、プリチ
ャージ回路を作動させる前にプリチャージ補助動作を行
うことによって、従来よりも消費電流を大幅に削減する
ことができる。
As described above, according to the present embodiment, by performing the precharge assisting operation before the precharge circuit is operated, the current consumption can be significantly reduced as compared with the conventional case.

【0040】また本実施形態に係る半導体記憶装置によ
ると、従来よりも電源電圧を低く設定することができ
る。図4は本実施形態に係る半導体記憶装置における電
源電圧とセンス時間との関係を示すグラフである。図4
において、縦軸は電源電圧(V)、横軸はセンス時間
(ns)である。また比較対照のために、従来の半導体
記憶装置における電源電圧とセンス時間との関係につい
ても併せて示している。図4から分かるように、本実施
形態に係る半導体記憶装置は、従来のものと比べて、セ
ンスアンプが、より低い電源電圧まで正常動作する。こ
れは、電源電圧が同一のとき、センスアンプ部が有する
ペアトランジスタのソースドレイン間に印加される電圧
が、従来のものの約2倍になることに起因している。し
たがって、本実施形態において、電源電圧を従来よりも
低く設定することができる。
Further, according to the semiconductor memory device of the present embodiment, the power supply voltage can be set lower than in the prior art. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the power supply voltage and the sensing time in the semiconductor memory device according to the present embodiment. FIG.
In the graph, the vertical axis represents the power supply voltage (V), and the horizontal axis represents the sensing time (ns). For comparison, the relationship between the power supply voltage and the sensing time in a conventional semiconductor memory device is also shown. As can be seen from FIG. 4, in the semiconductor memory device according to the present embodiment, the sense amplifier operates normally up to a lower power supply voltage as compared with the conventional one. This is because, when the power supply voltage is the same, the voltage applied between the source and the drain of the pair transistor included in the sense amplifier section is about twice that of the conventional one. Therefore, in the present embodiment, the power supply voltage can be set lower than before.

【0041】この低電源電圧でも正常動作するという効
果と前記の消費電流節減の効果とが合わさって、半導体
記憶装置全体において、消費電流を従来の約半分にする
ことができる。
Combining the effect of normal operation even at this low power supply voltage and the above-mentioned effect of reducing current consumption, the current consumption of the entire semiconductor memory device can be reduced to about half that of the conventional semiconductor memory device.

【0042】なお本実施形態では、プリチャージ補助動
作を、第1および第2のペアトランジスタや第1および
第2のセンスアンプ駆動信号線を利用して行うものとし
たが、プリチャージ補助動作のための回路を別途設けて
もかまわない。
In the present embodiment, the precharge auxiliary operation is performed using the first and second pair transistors and the first and second sense amplifier drive signal lines. May be provided separately.

【0043】(第2の実施形態)図5は本発明の第2の
実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図であ
る。第1の実施形態においては、プリチャージ電位の異
なるセンスアンプ群が、ワード線方向に上下に分離して
配置されていたが、図5に示す本実施形態に係る半導体
記憶装置では、プリチャージ電位の異なるセンスアンプ
群が、ワード線WL方向に垂直な方向に分離して配置さ
れている。各構成要素およびその動作は、第1の実施形
態と同様である。
(Second Embodiment) FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. In the first embodiment, the sense amplifier groups having different precharge potentials are vertically separated from each other in the word line direction. However, in the semiconductor memory device according to the present embodiment shown in FIG. Are arranged separately in a direction perpendicular to the word line WL direction. Each component and its operation are the same as in the first embodiment.

【0044】本実施形態によると、トランジスタの導電
型が異なるプリチャージ回路をメモリセル部を挟んで分
離して配置することができるので、第1の実施形態と比
べてレイアウトが容易であり、面積がより小さなメモリ
コアを実現することができる。
According to the present embodiment, the precharge circuits having different conductivity types of the transistors can be arranged separately with the memory cell portion interposed therebetween, so that the layout is easier and the area is smaller than in the first embodiment. However, a smaller memory core can be realized.

【0045】(第3の実施形態)図6は第3の実施形態
に係る半導体記憶装置の構成を示す回路図である。図6
では、センスアンプ部からのデータ読み出し・書き込み
に係る構成要素についても図示している。図6に示すよ
うに、ビット線対UBi,XUBi(i=1,2)およ
びLBi,XLBi(i=1,2)と平行に、第1のグ
ローバルビット線対GRBU,XGRBUおよび第2の
グローバルビット線対GRBL,XGRBLが形成され
ており、第1のグローバルビット線対GRBU,XGR
BUはプリチャージ電位がVDDであるセンスアンプ部
USA1,USA2とスイッチ手段としてのコラムスイ
ッチUCL1,UCL2を介してそれぞれ接続され、第
2のグローバルビット線対GRBL,XGRBLはプリ
チャージ電位がVSSであるセンスアンプ部LSA1,
LSA2とスイッチ手段としてのコラムスイッチLCL
1,LCL2を介してそれぞれ接続されている。なお、
グローバルビット線とはビット線と平行に形成されたデ
ータ線のことをいう。
(Third Embodiment) FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment. FIG.
FIG. 2 also shows components related to data read / write from the sense amplifier unit. As shown in FIG. 6, the first global bit line pair GRBU, XGRBU and the second global bit line pair are parallel to the bit line pairs UBi, XUBi (i = 1, 2) and LBi, XLBi (i = 1, 2). A bit line pair GRBL, XGRBL is formed, and a first global bit line pair GRBU, XGR
BU is connected to sense amplifier units USA1 and USA2 whose precharge potential is VDD via column switches UCL1 and UCL2 as switch means, respectively, and the second global bit line pair GRBL and XGRBL has a precharge potential of VSS. Sense amplifier units LSA1,
LSA2 and column switch LCL as switch means
1 and LCL2. In addition,
The global bit line refers to a data line formed in parallel with the bit line.

【0046】本実施形態に係る半導体記憶装置におい
て、データ読み出し動作は次のように行われる。すなわ
ち、センスアンプ部USA1,USA2まで読み出され
たメモリセルMCのデータは、コラムスイッチUCL
1,UCL2を介して第1のグローバルビット線対GR
BU,XGRBUに読み出される一方、センスアンプ部
LSA1,LSA2まで読み出されたメモリセルMCの
データは、コラムスイッチLCL1,LCL2を介して
第2のグローバルビット線対GRBL,XGRBLに読
み出される。第1のグローバルビット線対GRBU,X
GRBUを転送されたメモリセルMCのデータは第1の
中間アンプ33によって増幅されるとともに、第2のグ
ローバルビット線対GRBU,XGRBUを転送された
メモリセルMCのデータは第2の中間アンプ34によっ
て増幅されて、それぞれ装置外部に出力される。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment, the data read operation is performed as follows. That is, the data of the memory cell MC read out to the sense amplifier units USA1 and USA2 is stored in the column switch UCL.
1, the first global bit line pair GR via UCL2
The data of the memory cell MC read out to the sense amplifier units LSA1 and LSA2 while being read out to the BU and XGRBU are read out to the second pair of global bit lines GRBL and XGRBL via the column switches LCL1 and LCL2. First global bit line pair GRBU, X
The data of the memory cell MC to which the GRBU has been transferred is amplified by the first intermediate amplifier 33, and the data of the memory cell MC to which the second pair of global bit lines GRBU and XGRBU has been transferred is amplified by the second intermediate amplifier 34. The signals are amplified and output to the outside of the device.

【0047】本実施形態において特徴的なのは、データ
読み出し動作に際し、第1のグローバルビット線対GR
BU,XGRBUはVDDプリチャージ回路31によっ
て電源電位VDDにプリチャージされる一方、第2のグ
ローバルビット線対GRBL,XGRBLはVSSプリ
チャージ回路32によって接地電位VSSにプリチャー
ジされる。すなわち、各グローバルビット線対は、接続
されたセンスアンプ部のプリチャージ電位に相当する電
位にプリチャージされる。このように、互いに接続され
たグローバルビット線対とセンスアンプ部とのプリチャ
ージ電位を合わせることによって、グローバルビット線
対の充放電による電流消費を最小限に押さえることがで
きる。
The feature of the present embodiment is that the first global bit line pair GR
BU and XGRBU are precharged to the power supply potential VDD by the VDD precharge circuit 31, while the second global bit line pair GRBL and XGRBL are precharged to the ground potential VSS by the VSS precharge circuit 32. That is, each global bit line pair is precharged to a potential corresponding to the precharge potential of the connected sense amplifier unit. As described above, by matching the precharge potentials of the global bit line pair and the sense amplifier unit connected to each other, it is possible to minimize current consumption due to charging and discharging of the global bit line pair.

【0048】なお図6では、説明の簡単化のため、一の
グローバルビット線対に2個のセンスアンプ部が接続さ
れた構成としているが、当然のことながら、一のグロー
バルビット線対に接続されたセンスアンプ部の個数は任
意の数であってもかまわない。
Although FIG. 6 shows a configuration in which two sense amplifiers are connected to one global bit line pair for simplification of description, it is needless to say that two sense amplifiers are connected to one global bit line pair. The number of the sense amplifiers may be any number.

【0049】また図6において、第1および第2のグロ
ーバルビット線対GRBU,XGRBUおよびGRB
L,XGRBLは各センスアンプ部を避けるように示し
ているが、これは図面の煩雑さを避けるためであり、実
際には、グローバルビット線対はセンスアンプ部上も含
めて任意の位置に配置される。
In FIG. 6, first and second global bit line pairs GRBU, XGRBU and GRB
Although L and XGRBL are shown so as to avoid each sense amplifier section, this is to avoid complication of the drawing. In practice, the global bit line pair is arranged at any position including on the sense amplifier section. Is done.

【0050】(第4の実施形態)図7は本発明の第4の
実施形態に係る半導体記憶装置の構成を示す図である。
図7に示すように、本実施形態に係る半導体記憶装置
は、Yデコーダ41が設けられており、第1のセンスア
ンプ群44aの各コラムスイッチ44bはYデコーダ4
1の出力Yiによって制御される一方、第2のセンスア
ンプ群45aの各コラムスイッチ45bはYデコーダ4
1からの出力Yjによって制御される。これによって、
センスアンプ群44a,45aから出力されたデータ
は、互いに干渉することなく、グローバルビット線対群
46を介して読み出すことができる。
(Fourth Embodiment) FIG. 7 is a diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 7, the semiconductor memory device according to the present embodiment is provided with a Y decoder 41, and each column switch 44b of the first sense amplifier group 44a is
1, while each column switch 45b of the second sense amplifier group 45a is controlled by the Y decoder 4.
1 is controlled by the output Yj. by this,
Data output from the sense amplifier groups 44a and 45a can be read out via the global bit line pair group 46 without interfering with each other.

【0051】また、本実施形態に係る半導体記憶装置で
は、グローバルビット線対群46の両側に第1のデータ
増幅手段としての第1の中間アンプ42および第2のデ
ータ増幅手段としての第2の中間アンプ43が設けられ
ており、第1の中間アンプ42は2ビット出力、第2の
中間アンプ43は4ビット出力になっている。このよう
な構成をとることによって、本実施形態に係る半導体記
憶装置を2ポートメモリとして動作させることができ
る。
In the semiconductor memory device according to this embodiment, the first intermediate amplifier 42 as the first data amplifier and the second intermediate amplifier 42 as the second data amplifier are provided on both sides of the global bit line pair group 46. An intermediate amplifier 43 is provided. The first intermediate amplifier 42 has a 2-bit output, and the second intermediate amplifier 43 has a 4-bit output. With such a configuration, the semiconductor memory device according to the present embodiment can be operated as a two-port memory.

【0052】なお、図7では、図面の簡単化のために、
信号線対は全て一本の線で示されている。また簡単化の
ため、グローバルビット線対群46は第1および第2の
センスアンプ群44a,45aを避けて図示されている
が、実際の装置では、センスアンプ部上も含めた任意の
位置に、ビット線と平行に配置される。
In FIG. 7, for simplification of the drawing,
All signal line pairs are indicated by a single line. For the sake of simplicity, the global bit line pair group 46 is shown avoiding the first and second sense amplifier groups 44a and 45a, but in an actual device, the global bit line pair group 46 is located at an arbitrary position including the sense amplifier section. , Are arranged in parallel with the bit lines.

【0053】図8は本発明に係るメモリコアを用いた半
導体チップの概略構成を示す図である。図8に示すよう
に、メモリセルとセンスアンプ部からなるメモリコア5
1が半導体チップ50のほぼ中央に配置されており、グ
ローバルビット線対群52が図における上下方向に配線
されている。グローバルビット線対群52の一端(図の
下側)には第1のデータ増幅手段としての第1の中間ア
ンプ53が設けられており、メモリコア51と半導体チ
ップ50外部との間のデータ入出力は、第1の中間アン
プ53を介し、入出力部55を経て行われる。入出力部
55の出力ビット幅は通常16ビット程度である。ま
た、グローバルビット線対群52の他端には第2のデー
タ増幅手段としての第2の中間アンプ54が設けられて
おり、この第2の中間アンプ54から出力された102
4ビット程度のビット幅を持つデータが超並列処理装置
56に入力され、処理される。
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip using a memory core according to the present invention. As shown in FIG. 8, a memory core 5 comprising a memory cell and a sense amplifier unit
1 is arranged substantially at the center of the semiconductor chip 50, and a global bit line pair group 52 is wired in the vertical direction in the figure. A first intermediate amplifier 53 as first data amplifying means is provided at one end (lower side in the figure) of the global bit line pair group 52, and a data input between the memory core 51 and the outside of the semiconductor chip 50 is provided. The output is performed via the first intermediate amplifier 53 and the input / output unit 55. The output bit width of the input / output unit 55 is usually about 16 bits. At the other end of the global bit line pair group 52, a second intermediate amplifier 54 is provided as a second data amplifying means.
Data having a bit width of about 4 bits is input to the massively parallel processing device 56 and processed.

【0054】実際の動作では、半導体チップ50外部か
ら第1の中間アンプ53を経てメモりコア51に書き込
まれたデータは、書き込みと異なるタイミングで第2の
中間アンプ54によって読み出され、超並列処理装置5
6によって処理される。処理結果データは再びメモリコ
ア51に書き込まれ、この処理結果データは、書き込み
と異なるタイミングで半導体チップ50外部に読み出さ
れる。
In an actual operation, data written to the memory core 51 from the outside of the semiconductor chip 50 via the first intermediate amplifier 53 is read out by the second intermediate amplifier 54 at a timing different from the writing, and is super-parallel. Processing device 5
6 is processed. The processing result data is written into the memory core 51 again, and the processing result data is read out of the semiconductor chip 50 at a different timing from the writing.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上のように本発明に係る半導体記憶装
置によると、第1の電位にプリチャージされるビット線
と第2の電位にプリチャージされるビット線との間で、
ビット線充放電電流を相殺することが可能になる。また
プリチャージ動作時に、プリチャージ補助手段によっ
て、第1の電位にプリチャージされるビット線対と第2
の電位にプリチャージされるビット線対との間において
電荷が転送されて、そのプリチャージ動作が補助される
ので、プリチャージ動作時に要する電流が従来よりも少
なくてすみ、消費電力が大幅に低減される。
As described above, according to the semiconductor memory device of the present invention, between the bit line precharged to the first potential and the bit line precharged to the second potential,
It becomes possible to cancel the bit line charge / discharge current. Further, during the precharge operation, the bit line pair precharged to the first potential by the precharge auxiliary means and the second
The electric charge is transferred between the bit line pair that is precharged to the potential and the precharge operation is assisted, so that the current required for the precharge operation is smaller than before and the power consumption is greatly reduced. Is done.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体記憶装
置の構成を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す本発明の第1の実施形態に係る半導
体記憶装置の動作を示すタイミングチャートである。
FIG. 2 is a timing chart showing an operation of the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention shown in FIG.

【図3】(a),(b)は本発明の第1の実施形態にお
いて消費電流を低減することができることを説明するた
めの図である。
FIGS. 3A and 3B are diagrams for explaining that current consumption can be reduced in the first embodiment of the present invention. FIGS.

【図4】本発明の第1の実施形態に係る半導体記憶装置
における電源電圧とセンス時間との関係を示すグラフで
ある。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between a power supply voltage and a sensing time in the semiconductor memory device according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第3の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第4の実施形態に係る半導体記憶装置
の構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration of a semiconductor memory device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図8】本発明に係るメモリコアを用いた半導体チップ
の概略構成を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a semiconductor chip using a memory core according to the present invention.

【図9】従来の半導体記憶装置の構成例を示す図であ
る。
FIG. 9 is a diagram illustrating a configuration example of a conventional semiconductor memory device.

【図10】図9に示す従来の半導体記憶装置の動作を示
すタイミングチャートである。
FIG. 10 is a timing chart showing the operation of the conventional semiconductor memory device shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MC メモリセル UBi,XUBi,LBi,XLBi ビット線 USAi,LSAi センスアンプ部 VDD 電源電位(第1の電位) VSS 接地電位(第2の電位) SWSH プリチャージ補助スイッチ手段 VSN 第1のセンスアンプ駆動信号線 VSP 第2のセンスアンプ駆動信号線 UNPi,LNPi 第1のペアトランジスタ UPPi,LPPi 第2のペアトランジスタ GRBU,XGRBU 第1のグローバルビット線対 GRBL,XGRBL 第2のグローバルビット線対 UCL1,UCL2,LCL1,LCL2 コラムスイ
ッチ(スイッチ手段) 42 第1の中間アンプ(第1のデータ増幅手段) 43 第2の中間アンプ(第2のデータ増幅手段) 44b,45b コラムスイッチ(スイッチ手段) 46 グローバルビット線対群 51 メモリコア 52 グローバルビット線対群 53 第1の中間アンプ(第1のデータ増幅手段) 54 第2の中間アンプ(第2のデータ増幅手段) 56 超並列処理装置
MC memory cell UBi, XUBi, LBi, XLBi Bit line USAi, LSAi Sense amplifier section VDD Power supply potential (first potential) VSS Ground potential (second potential) SWSH Precharge auxiliary switch means VSN First sense amplifier drive signal Line VSP Second sense amplifier drive signal line UNPi, LNPi First pair transistor UPPi, LPPi Second pair transistor GRBU, XGRBU First global bit line pair GRBL, XGRBL Second global bit line pair UCL1, UCL2 LCL1, LCL2 Column switch (switch means) 42 First intermediate amplifier (first data amplifying means) 43 Second intermediate amplifier (second data amplifying means) 44b, 45b Column switch (switch means) 46 Global bit line versus 51 first intermediate amplifier memory core 52 global bit line pair group 53 (first data amplifying means) 54 second intermediate amplifier (second data amplifying means) 56 massively parallel processor

Claims (13)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルと、複数のビット線対
と、各ビット線対に対してそれぞれ設けられ、メモリセ
ルから当該ビット線対に読み出されたデータを増幅出力
する複数のセンスアンプ部とを有する半導体記憶装置で
あって、 前記複数のビット線のうちの少なくとも一部は、そのプ
リチャージ電位が、第1および第2の異なる電位に設定
されていることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A plurality of sense amplifiers provided for a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and each bit line pair, and amplifying and outputting data read from the memory cells to the bit line pair. A precharge potential of at least a part of the plurality of bit lines is set to first and second different potentials. apparatus.
【請求項2】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 プリチャージ動作時に、前記第1の電位にプリチャージ
されるビット線と前記第2の電位にプリチャージされる
ビット線との間において、電荷を転送させて、そのプリ
チャージ動作を補助するプリチャージ補助手段を備えて
いることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein during a precharge operation, between a bit line precharged to said first potential and a bit line precharged to said second potential, A semiconductor memory device comprising a precharge assisting means for transferring a charge and assisting the precharge operation.
【請求項3】 請求項2記載の半導体記憶装置におい
て、 前記各センスアンプ部を駆動する信号を転送する第1お
よび第2のセンスアンプ駆動信号線を備え、 前記プリチャージ補助手段は、前記第1および第2のセ
ンスアンプ駆動信号線を短絡するか否かを切替制御する
プリチャージ補助スイッチ手段を有し、プリチャージ動
作時に、このプリチャージ補助スイッチ手段によって前
記第1および第2のセンスアンプ駆動信号線を短絡する
ものであり、 この短絡した前記第1および第2のセンスアンプ駆動信
号線を介して、前記第1の電位にプリチャージされる各
ビット線のうちメモリセルからデータが読み出されて電
位が変化した第1のビット線と、前記第2の電位にプリ
チャージされる各ビット線のうちメモリセルからデータ
が読み出されて電位が変化した第2のビット線との間に
おいて、電荷が転送されることを特徴とする半導体記憶
装置。
3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising: first and second sense amplifier drive signal lines for transferring a signal for driving each of said sense amplifier units, wherein said precharge auxiliary means comprises: Precharge auxiliary switch means for controlling whether to short-circuit the first and second sense amplifier drive signal lines, and the first and second sense amplifiers are operated by the precharge auxiliary switch means during a precharge operation. A drive signal line is short-circuited, and data is read from a memory cell among the bit lines precharged to the first potential via the short-circuited first and second sense amplifier drive signal lines. Data is read from a memory cell among a first bit line that has been output and the potential has changed, and bit lines that are precharged to the second potential. A charge is transferred to and from a second bit line whose potential has changed.
【請求項4】 請求項3記載の半導体記憶装置におい
て、 前記複数のセンスアンプ部は、それぞれ、 対応するビット線対間に直列接続された2個の一の導電
型トランジスタからなり、一方のトランジスタと接続さ
れたビット線の電位が他方のトランジスタのゲートに印
加され、かつ、トランジスタ同士の接続部が前記第1の
センスアンプ駆動信号線と接続された第1のペアトラン
ジスタと、 対応するビット線対間に直列接続された2個の他の導電
型トランジスタからなり、一方のトランジスタと接続さ
れたビット線の電位が他方のトランジスタのゲートに印
加され、かつ、トランジスタ同士の接続部が前記第2の
センスアンプ駆動信号線と接続された第2のペアトラン
ジスタとを備えているものであり、 前記プリチャージ補助スイッチ手段によって前記第1お
よび第2のセンスアンプ駆動信号線が短絡されたとき、
前記第1のビット線と前記第2のビット線との間におい
て、短絡された第1および第2のセンスアンプ駆動信号
線と、前記第1のビット線に対応するセンスアンプ部が
有する第1および第2のペアトランジスタの一方と、前
記第2のビット線に対応するセンスアンプ部が有する第
1および第2のペアトランジスタの他方とを介して、電
荷が転送されることを特徴とする半導体記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein each of the plurality of sense amplifier units includes two one conductivity type transistors connected in series between corresponding bit line pairs, and one of the plurality of sense amplifier units is one of the transistors. The potential of the bit line connected to the first transistor is applied to the gate of the other transistor, and the connection between the transistors is connected to the first paired transistor connected to the first sense amplifier drive signal line; It consists of two other conductive transistors connected in series between the pair, the potential of the bit line connected to one transistor is applied to the gate of the other transistor, and the connection between the transistors is the second transistor. And a second pair transistor connected to the sense amplifier drive signal line of the precharge auxiliary switch means. Thus when the first and second sense amplifier drive signal line is short-circuited,
Between the first bit line and the second bit line, a short-circuited first and second sense amplifier drive signal line and a first sense amplifier portion corresponding to the first bit line are provided. Semiconductor, wherein charges are transferred through one of the first and second paired transistors and the other of the first and second paired transistors included in the sense amplifier corresponding to the second bit line. Storage device.
【請求項5】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 前記第1の電位にプリチャージされるビット線の本数と
前記第2の電位にプリチャージされるビット線の本数と
は、ほぼ同数であることを特徴とする半導体記憶装置。
5. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the number of bit lines precharged to said first potential is substantially equal to the number of bit lines precharged to said second potential. A semiconductor memory device, comprising:
【請求項6】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 前記複数のセンスアンプ部は、レイアウト上隣接する複
数のセンスアンプ部からなる第1のセンスアンプ群と、
レイアウト上隣接する複数のセンスアンプ部からなる第
2のセンスアンプ群とを有し、 前記第1のセンスアンプ群に対応するビット線は、その
プリチャージ電位が前記第1の電位に設定されている一
方、前記第2のセンスアンプ群に対応するビット線は、
そのプリチャージ電位が前記第2の電位に設定されてい
ることを特徴とする半導体記憶装置。
6. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the plurality of sense amplifier units include a first sense amplifier group including a plurality of sense amplifier units adjacent on a layout.
A second sense amplifier group including a plurality of sense amplifier units adjacent to each other on a layout, wherein a bit line corresponding to the first sense amplifier group has a precharge potential set to the first potential. On the other hand, the bit line corresponding to the second sense amplifier group
A semiconductor memory device, wherein the precharge potential is set to the second potential.
【請求項7】 請求項1記載の半導体記憶装置におい
て、 前記複数のセンスアンプ部から増幅出力されたメモリセ
ルデータを転送する複数のデータ線対を備え、 前記各データ線対は、メモリセルデータ転送の前に所定
電位にプリチャージされ、かつ、そのプリチャージ電位
は、対応するセンスアンプ部がビット線対をプリチャー
ジする電位と、実質的に同一であることを特徴とする半
導体記憶装置。
7. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising a plurality of data line pairs for transferring memory cell data amplified and output from said plurality of sense amplifier units, wherein each of said data line pairs is a memory cell data. A semiconductor memory device which is precharged to a predetermined potential before transfer, and the precharge potential is substantially the same as a potential at which a corresponding sense amplifier unit precharges a bit line pair.
【請求項8】 請求項7記載の半導体記憶装置におい
て、 前記データ線対は、前記ビット線対とほぼ平行に配置さ
れたグローバルビット線対であることを特徴とする半導
体記憶装置。
8. The semiconductor memory device according to claim 7, wherein said data line pair is a global bit line pair arranged substantially in parallel with said bit line pair.
【請求項9】 複数のメモリセルと、複数のビット線対
と、各ビット線対に対してそれぞれ設けられ、メモリセ
ルから当該ビット線対に読み出されたデータを増幅出力
する複数のセンスアンプ部とを有する半導体記憶装置で
あって、 プリチャージ動作時に、その電位がプリチャージ電位か
ら変化したビット線を選択的にプリチャージノードに接
続して、プリチャージ動作を行う選択プリチャージ手段
を備えていることを特徴とする半導体記憶装置。
9. A plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of sense amplifiers provided for each bit line pair, for amplifying and outputting data read from the memory cells to the bit line pair. And a selection precharge means for performing a precharge operation by selectively connecting a bit line whose potential has changed from the precharge potential to a precharge node during a precharge operation. A semiconductor memory device characterized in that:
【請求項10】 複数のメモリセルと、複数のビツト線
対と、各ビット線対に対してそれぞれ設けられ、メモリ
セルから当該ビット線対に読み出されたデータを増幅出
力する複数のセンスアンプ部とを有する半導体記憶装置
であって、 前記複数のビット線対とほぼ平行に形成され、前記複数
のセンスアンプ部から出力されたデータを転送するグロ
ーバルビット線対群を備え、 各グローバルビット線対は、それぞれ、少なくとも2個
以上のセンスアンプ部とスイッチ手段を介して接続され
ており、このスイッチ手段は、複数のセンスアンプ部が
同時に当該グローバルビット線対と電気的に接続されな
いよう、開閉動作することを特徴とする半導体記憶装
置。
10. A plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and a plurality of sense amplifiers provided for each bit line pair and amplifying and outputting data read from the memory cell to the bit line pair. A global bit line pair group formed substantially in parallel with the plurality of bit line pairs and transferring data output from the plurality of sense amplifier units. Each pair is connected to at least two or more sense amplifier units via switch means, and this switch means is opened and closed so that the plurality of sense amplifier units are not electrically connected to the global bit line pair at the same time. A semiconductor memory device which operates.
【請求項11】 複数のメモリセルと、複数のビット線
対と、各ビット線対に対してそれぞれ設けられ、メモリ
セルから当該ビット線対に読み出されたデータを増幅出
力する複数のセンスアンプ部とを有する半導体記憶装置
であって、 前記複数のビット線対とほぼ平行に配置され、前記複数
のセンスアンプ部から出力されたデータを転送するグロ
ーバルビット線対群と、 前記グローバルビット線対群を転送されたデータを、そ
れぞれ増幅出力する第1および第2のデータ増幅手段と
を備え、 前記第1および第2のデータ増幅手段は、出力データの
ビット数が互いに異なるものであることを特徴とする半
導体記憶装置。
11. A plurality of sense amplifiers provided for a plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs, and each bit line pair, and amplifying and outputting data read from the memory cells to the bit line pair. A global bit line pair group arranged substantially in parallel with the plurality of bit line pairs and transferring data output from the plurality of sense amplifier units; and the global bit line pair. First and second data amplifying means for amplifying and outputting the data transferred from the group, respectively, wherein the first and second data amplifying means have different numbers of bits of output data from each other. A semiconductor memory device characterized by the following.
【請求項12】 請求項11記載の半導体記憶装置にお
いて、 前記グローバルビット線対群は、前記メモリセルおよび
センスアンプ部からなるメモリコアの配置領域に亘って
配置されており、 前記第1および第2のデータ増幅手段は、前記グローバ
ルビット線対群の、前記メモリコアの配置領域を挟んだ
両端に設けられていることを特徴とする半導体記憶装
置。
12. The semiconductor memory device according to claim 11, wherein said global bit line pair group is arranged over an arrangement region of a memory core comprising said memory cell and a sense amplifier unit, and 2. A semiconductor memory device according to claim 2, wherein the data amplifying means is provided at both ends of the global bit line pair group with the memory core arrangement area interposed therebetween.
【請求項13】 請求項12記載の半導体記憶装置にお
いて、 多数ビットのデータ処理を行う超並列処理装置を備え、 この超並列処理装置は、前記第1および第2のデータ増
幅手段のうちの一方の出力データを入力とするものであ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
13. The semiconductor memory device according to claim 12, further comprising a massively parallel processing device for performing multi-bit data processing, wherein said massively parallel processing device is one of said first and second data amplifying means. A semiconductor memory device to which the output data of (1) is input.
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