JPH11256364A - Surface treating method for metallic member and metallic member - Google Patents
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- JPH11256364A JPH11256364A JP5719798A JP5719798A JPH11256364A JP H11256364 A JPH11256364 A JP H11256364A JP 5719798 A JP5719798 A JP 5719798A JP 5719798 A JP5719798 A JP 5719798A JP H11256364 A JPH11256364 A JP H11256364A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明が属する技術分野】本発明は、金属部材の表面処
理方法、とくに金属部材表面を蝕刻して所定のパターン
を形成する方法および表面処理が施された金属部材に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating a surface of a metal member, and more particularly to a method for etching a surface of a metal member to form a predetermined pattern and a metal member subjected to a surface treatment.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に、時計用外装部品のような金属部
材の表面に凹状のパターンを形成するには、めっき法
や、印刷法により行われていた。2. Description of the Related Art Generally, in order to form a concave pattern on the surface of a metal member such as a watch exterior part, a plating method or a printing method has been used.
【0003】例えば、めっき法の場合、目的とする模
様、文字、目盛等を印刷した後、電解めっき等によりマ
スクを形成し、次いで印刷部分を剥離してエッチングを
行い、凹状のパターンを形成していた。For example, in the case of the plating method, after printing a target pattern, characters, scales and the like, a mask is formed by electrolytic plating or the like, and then the printed portion is peeled off and etched to form a concave pattern. I was
【0004】印刷法の場合、目的のパターン部分を残し
てマスク印刷を行い、次いでエッチングした後、マスク
を除去して凹状のパターンを形成していた。In the case of the printing method, mask printing is performed while leaving a target pattern portion, and after etching, the mask is removed to form a concave pattern.
【0005】しかしこれらの方法によると、所望のパタ
ーンを印刷する際、金属部材の曲面部分や凹凸面上ある
いは側面にまわり込むようなデザインを印刷することは
非常に困難であり、かかる部分のマスク形成の際、人の
手作業によりマスク材料を塗布すること等が行われてい
た。However, according to these methods, when printing a desired pattern, it is very difficult to print a design that wraps around a curved surface or an uneven surface or a side surface of a metal member. At the time of formation, application of a mask material or the like has been performed manually.
【0006】このように、手作業により形成されたマス
クはパターン境界がビレたり、膜厚が不均一で膜性状が
不良となる。パターン境界のビレはそのままエッチング
パターンのビレにつながってしまい、膜厚が不均一の場
合、膜厚の薄い部分は長時間のエッチングに耐えられ
ず、金属部材表面の肌荒れ等を生じて外観が悪く、膜厚
が厚い部分はマスク剥離時にマスク残りとなったり、マ
スク残りのないよう長時間の剥離を行うと、金属部材表
面の肌荒れ等を生じる等の問題があった。[0006] As described above, the mask formed by the manual operation has a blurred pattern boundary, an uneven film thickness, and poor film properties. The kinks at the pattern boundaries directly lead to the kinks of the etching pattern, and when the film thickness is non-uniform, the thin film thickness cannot withstand long-time etching, resulting in rough surface of the metal member surface and poor appearance. In addition, there is a problem in that a portion having a large film thickness becomes a mask residue when the mask is peeled off, or if the peeling is performed for a long time so that the mask is not left, the surface of the metal member becomes rough.
【0007】一方、エキシマレーザー等の高エネルギー
レーザーを照射することにより金属部材に微細加工を施
すことが行われている。このようなレーザー加工によれ
ば、金属部材を直接加工することも可能であるため、工
程を簡略化することができる。また、レーザーの照射方
向を自由に変化させることができるため曲面上や側面に
まわり込むようなデザインも精度よくパターニングする
ことが可能である。On the other hand, fine processing is performed on a metal member by irradiating a high energy laser such as an excimer laser. According to such laser processing, the metal member can be directly processed, so that the process can be simplified. In addition, since the irradiation direction of the laser can be freely changed, it is possible to accurately pattern a design that goes around a curved surface or a side surface.
【0008】しかし、レーザー加工の場合、金属表面に
約10μm程度の溝を設けるにとどまり、それよりも深
い凹部(約20μm以上)を形成するべく強力なレーザ
ーを照射したり、照射時間を長くすると、照射部分の周
縁部に照射熱によるバリ・ビレ等が生じ、立体的で精巧
なデザインを設けることは困難であった。However, in the case of laser processing, only a groove of about 10 μm is provided on the metal surface, and if a powerful laser is irradiated to form a deeper recess (about 20 μm or more) or the irradiation time is increased, In addition, burrs and the like are generated at the peripheral portion of the irradiated portion due to irradiation heat, and it is difficult to provide a three-dimensional and sophisticated design.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、金属
部材の表面形状を問わず、精緻で立体的パターンを形成
することができ、立体的外観を得ることができる金属部
材の表面処理方法、およびかかる表面処理が施された金
属部材を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for surface treatment of a metal member capable of forming a precise three-dimensional pattern and obtaining a three-dimensional appearance regardless of the surface shape of the metal member. And to provide a metal member subjected to such a surface treatment.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(40)の本発明により達成される。This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (40).
【0011】(1) 金属部材の表面に保護層を形成す
る工程と、前記保護層の上にマスキング被膜を形成する
工程と、レーザー光を照射することにより少なくとも前
記マスキング被膜をパターニングする工程と、前記マス
キング被膜を用いて前記金属部材をエッチングする工程
とを有することを特徴とする金属部材の表面処理方法。(1) a step of forming a protective layer on the surface of a metal member, a step of forming a masking film on the protective layer, and a step of patterning at least the masking film by irradiating a laser beam; Etching the metal member using the masking film.
【0012】(2) 前記保護層は前記金属部材に少な
くとも耐食性を付与する耐食層である上記(1)に記載
の金属部材の表面処理方法。(2) The surface treatment method for a metal member according to the above (1), wherein the protective layer is a corrosion-resistant layer that imparts at least corrosion resistance to the metal member.
【0013】(3) 前記保護層は2以上の異なる薄膜
から構成されてなる上記(1)または(2)に記載の金
属部材の表面処理方法。(3) The surface treatment method for a metal member according to the above (1) or (2), wherein the protective layer comprises two or more different thin films.
【0014】(4) 前記保護層はめっきにより形成さ
れる上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。(4) The method according to any one of the above (1) to (3), wherein the protective layer is formed by plating.
【0015】(5) 前記保護層の膜厚は0.5〜30
μmである上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(5) The protective layer has a thickness of 0.5 to 30.
The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (1) to (4), wherein the thickness is μm.
【0016】(6) 前記レーザー光により前記マスキ
ング被膜とともに前記保護層の少なくとも一部を除去す
る上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の金属部材
の表面処理方法。(6) The surface treatment method for a metal member according to any one of (1) to (5), wherein at least a part of the protective layer is removed together with the masking film by the laser beam.
【0017】(7) 前記レーザー光により前記マスキ
ング被膜とともに前記保護層および前記金属部材の一部
を除去する上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(7) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (1) to (5), wherein the laser beam removes a part of the protective layer and the metal member together with the masking film.
【0018】(8) 前記マスキング被膜の形成は電着
塗装による上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(8) The method according to any one of (1) to (7), wherein the masking film is formed by electrodeposition coating.
【0019】(9) 前記マスキング被膜の膜厚は10
〜30μmである上記(1)ないし(8)のいずれかに
記載の金属部材の表面処理方法。(9) The masking film has a thickness of 10
The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (1) to (8), which has a thickness of from 30 to 30 μm.
【0020】(10) 前記エッチングにより前記金属部
材に形成された凹部の深さが20μm以上である上記
(1)ないし(9)のいずれかに記載の金属部材の表面
処理方法。(10) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (1) to (9), wherein the depth of the concave portion formed in the metal member by the etching is 20 μm or more.
【0021】(11) 前記エッチングはウェットエッチ
ングである上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(11) The surface treatment method for a metal member according to any one of (1) to (10), wherein the etching is wet etching.
【0022】(12) 前記エッチングはシャワーエッチ
ングである上記(11)に記載の金属部材の表面処理方
法。(12) The surface treatment method for a metal member according to (11), wherein the etching is shower etching.
【0023】(13) 前記凹部内に被覆層を形成する上
記(1)ないし(12)のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。(13) The surface treatment method for a metal member according to any one of (1) to (12), wherein a coating layer is formed in the recess.
【0024】(14) 前記凹部内に着色層を形成する上
記(1)ないし(13)のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。(14) The surface treatment method for a metal member according to any one of (1) to (13), wherein a colored layer is formed in the recess.
【0025】(15) 前記金属部材は時計用外装部品で
ある上記(1)ないし(14)のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。(15) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (1) to (14), wherein the metal member is a watch exterior part.
【0026】(16) 金属部材の表面に保護層を形成す
る工程と、前記保護層に少なくとも1層の下地層を形成
する工程と、前記下地層の上にマスキング被膜を形成す
る工程と、レーザー光を照射することにより少なくとも
前記マスキング被膜をパターニングする工程と、パター
ニングされた前記マスキング被膜を用いて前記金属部材
をエッチングする工程とを有することを特徴とする金属
部材の表面処理方法。(16) a step of forming a protective layer on the surface of the metal member; a step of forming at least one underlayer on the protective layer; a step of forming a masking film on the underlayer; A surface treatment method for a metal member, comprising: a step of patterning at least the masking film by irradiating light; and a step of etching the metal member using the patterned masking film.
【0027】(17) 前記保護層は前記金属部材に少な
くとも耐食性を付与する耐食層である上記(16)に記載
の金属部材の表面処理方法。(17) The surface treatment method for a metal member according to the above (16), wherein the protective layer is a corrosion-resistant layer that imparts at least corrosion resistance to the metal member.
【0028】(18) 前記保護層は2以上の異なる薄膜
から構成されてなる上記(16)または(17)に記載の金
属部材の表面処理方法。(18) The surface treatment method for a metal member according to the above (16) or (17), wherein the protective layer comprises two or more different thin films.
【0029】(19) 前記保護層はめっきにより形成さ
れる上記(16)ないし(18)のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。(19) The method according to any one of the above (16) to (18), wherein the protective layer is formed by plating.
【0030】(20) 前記保護層の膜厚は0.5〜30
μmである上記(16)ないし(19)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(20) The protective layer has a thickness of 0.5 to 30.
The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (19), wherein the thickness is μm.
【0031】(21) 前記下地層はマスキング被膜の接
着性を向上させるための接着強化層である上記(16)な
いし(20)のいずれかに記載の金属部材の表面処理方
法。(21) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (20), wherein the underlayer is an adhesion reinforcing layer for improving the adhesion of the masking film.
【0032】(22) 前記接着強化層は湿式めっきまた
は乾式めっきにより形成される上記(21)に記載の金属
部材の表面処理方法。(22) The surface treatment method for a metal member according to (21), wherein the adhesion reinforcing layer is formed by wet plating or dry plating.
【0033】(23) 前記接着強化層はAuまたはAu
系合金薄膜からなる上記(21)または(22)に記載の金
属部材の表面処理方法。(23) The adhesion reinforcing layer is made of Au or Au.
The surface treatment method for a metal member according to the above (21) or (22), comprising a system alloy thin film.
【0034】(24) 前記接着強化層の膜厚は1μm以
下である上記(21)ないし(23)のいずれかに記載の金
属部材の表面処理方法。(24) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (21) to (23), wherein the thickness of the adhesion reinforcing layer is 1 μm or less.
【0035】(25) 前記レーザー光により前記マスキ
ング被膜とともに前記保護層の少なくとも一部を除去す
る上記(16)ないし(24)のいずれかに記載の金属部材
の表面処理方法。(25) The surface treatment method for a metal member according to any one of (16) to (24), wherein at least a part of the protective layer is removed together with the masking film by the laser beam.
【0036】(26) 前記レーザー光により前記マスキ
ング被膜とともに前記保護層および前記金属部材の一部
を除去する上記(16)ないし(24)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(26) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (24), wherein the laser beam removes a part of the protection layer and the metal member together with the masking film.
【0037】(27) 前記マスキング被膜の形成は電着
塗装による上記(16)ないし(26)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(27) The method according to any one of the above (16) to (26), wherein the masking film is formed by electrodeposition coating.
【0038】(28) 前記マスキング被膜の膜厚は10
〜30μmである上記(16)ないし(27)のいずれかに
記載の金属部材の表面処理方法。(28) The masking film has a thickness of 10
The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (27), which has a thickness of from 30 to 30 μm.
【0039】(29) 前記エッチングはウェットエッチ
ングである上記(16)ないし(28)のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。(29) The method according to any one of the above (16) to (28), wherein the etching is wet etching.
【0040】(30) 前記エッチングはシャワーエッチ
ングである上記(29)に記載の金属部材の表面処理方
法。(30) The method for surface treating a metal member according to the above (29), wherein the etching is shower etching.
【0041】(31) 前記エッチングにより前記金属部
材に形成された凹部の深さが20μm以上である上記
(16)ないし(30)のいずれかに記載の金属部材の表面
処理方法。(31) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (30), wherein a depth of the concave portion formed in the metal member by the etching is 20 μm or more.
【0042】(32) 前記凹部内に被覆層を形成する上
記(16)ないし(31)のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。(32) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (31), wherein a coating layer is formed in the concave portion.
【0043】(33) 前記凹部内に着色層を形成する上
記(16)ないし(32)のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。(33) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (32), wherein a colored layer is formed in the concave portion.
【0044】(34) 前記金属部材は時計用外装部品で
ある上記(16)ないし(33)いずれかに記載の金属部材
の表面処理方法。(34) The surface treatment method for a metal member according to any one of the above (16) to (33), wherein the metal member is a watch exterior part.
【0045】(35) 表面に所定パターンの凹部が形成
された金属部材であって、前記金属部材の表面に保護層
が形成され、前記凹部はその一部がレーザー光の照射に
より形成され、エッチングにより完成されたものである
ことを特徴とする金属部材。(35) A metal member having a concave portion of a predetermined pattern formed on the surface, a protective layer is formed on the surface of the metal member, and the concave portion is partially formed by irradiating a laser beam. A metal member characterized by being completed by:
【0046】(36) 前記保護層の膜厚が0.5〜30
μmである上記(35)に記載の金属部材。(36) The protective layer has a thickness of 0.5 to 30.
The metal member according to the above (35), which is μm.
【0047】(37) 前記金属部材に形成された凹部の
深さが20μm以上である上記(35)または(36)に記
載の金属部材。(37) The metal member according to the above (35) or (36), wherein the depth of the concave portion formed in the metal member is 20 μm or more.
【0048】(38) 前記凹部内に被覆層が形成されて
いる上記(35)ないし(37)のいずれかに記載の金属部
材。(38) The metal member according to any one of (35) to (37), wherein a coating layer is formed in the recess.
【0049】(39) 前記凹部内に着色層が形成されて
いる上記(35)ないし(38)のいずれかに記載の金属部
材。(39) The metal member according to any one of (35) to (38), wherein a colored layer is formed in the recess.
【0050】(40) 前記金属部材は時計用外装部品で
ある上記(35)ないし(39)のいずれかに記載の金属部
材。(40) The metal member according to any one of the above (35) to (39), wherein the metal member is a watch exterior part.
【0051】[0051]
【発明の実施の形態】以下、本発明の金属部材の表面処
理方法および金属部材を添付図面に示す好適実施例に基
づいて説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a metal member according to a first embodiment of the present invention;
【0052】図1(1a)〜(1g)は、本発明の金属
部材の表面処理方法の第1実施形態を示す断面図であ
る。FIGS. 1A to 1G are cross-sectional views showing a first embodiment of the method for treating the surface of a metal member according to the present invention.
【0053】この図に示すように、本発明の金属部材の
表面処理方法は、金属部材1の表面に保護層2を形成す
る工程(1a、1b)と、保護層2の上にマスキング被
膜3を形成する工程(1c)と、レーザー光を照射する
ことにより少なくともマスキング被膜3をパターニング
する工程(1d)と、前記マスキング被膜3を用いて金
属部材1をエッチングする工程(1e)とを有する。As shown in this figure, the method for treating the surface of a metal member according to the present invention comprises the steps (1a, 1b) of forming a protective layer 2 on the surface of a metal member 1, and a masking film 3 on the protective layer 2. (1c), patterning at least the masking film 3 by irradiating a laser beam (1d), and etching the metal member 1 using the masking film 3 (1e).
【0054】金属部材1としては、いかなる金属材料か
らなるものであってもよく、例えば腕時計のような時計
用外装部品の材料の場合、耐食性、強度、製造コスト等
との観点から選択され、例えば、ステンレス鋼(SU
S)、黄銅(Bs)、洋白(NS)等の合金、Tiおよ
びTi系合金、Au、Ag、Pt等の貴金属、またはこ
れらの貴金属を含む合金等の金属材料が挙げられる。The metal member 1 may be made of any metal material. For example, in the case of a material for a watch exterior part such as a wristwatch, it is selected from the viewpoints of corrosion resistance, strength, manufacturing cost, and the like. , Stainless steel (SU
S), brass (Bs), alloys such as nickel silver (NS), and metal materials such as Ti and Ti-based alloys, noble metals such as Au, Ag, and Pt, and alloys including these noble metals.
【0055】<保護層の形成>まず、上述のような金属
部材1の表面に保護層2を形成する(1b)。これによ
り、通常の使用環境、例えば水、空気、汗等の体液等に
触れることにより生じる金属部材の物理的および化学的
変化を防止することができる。また、後述するマスキン
グ被膜の密着性を向上させ、さらに下地層やマスキング
被膜とともに、マスク機能の強化を図ることも可能であ
る。<Formation of Protective Layer> First, a protective layer 2 is formed on the surface of the metal member 1 as described above (1b). This can prevent physical and chemical changes of the metal member caused by contact with a normal use environment, for example, body fluid such as water, air, and sweat. Further, it is possible to improve the adhesion of a masking film described later, and further enhance the mask function together with the underlayer and the masking film.
【0056】このような保護層2としては、例えば金属
部材に耐食性、耐候性、耐水性、耐油性、耐摩耗性、耐
変色性等を付与し、防錆、防汚、防曇、防傷等の効果を
発揮するものが挙げられ、2以上の効果を発揮するもの
であってもよいが、少なくとも耐食性を付与する耐食層
であることが好ましい。As such a protective layer 2, for example, corrosion resistance, weather resistance, water resistance, oil resistance, abrasion resistance, discoloration resistance, etc. are imparted to a metal member, and rust prevention, antifouling, antifogging, and scratch resistance are provided. And the like, and may exhibit two or more effects. However, it is preferable that the layer is a corrosion-resistant layer that imparts at least corrosion resistance.
【0057】保護層2としては特に限定されず、例えば
樹脂等の有機化合物、AuまたはAu−Fe等のAu系
合金、PdまたはPd系合金、CrまたはCr合金等の
金属、または金属酸化物等の無機化合物を主とする薄膜
から構成されるもの等が挙げられ、金属表面に形成され
る不動態被膜等を含む。The protective layer 2 is not particularly limited, and may be, for example, an organic compound such as a resin, an Au-based alloy such as Au or Au—Fe, a metal such as a Pd or Pd-based alloy, Cr or a Cr alloy, or a metal oxide. And a passivation film formed on a metal surface.
【0058】保護層2は、少なくとも2以上の異なる薄
膜から構成されてなることが好ましい。これにより、各
薄膜の性質に基づき相乗的な保護効果を発揮させること
もできる。少なくとも2以上の異なる薄膜からなる保護
層としては、上記有機化合物または無機化合物を主とす
る薄膜および不動態被膜のうち、いかなる組み合わせに
より構成されていてもよい。The protective layer 2 is preferably composed of at least two or more different thin films. Thereby, a synergistic protection effect can be exhibited based on the properties of each thin film. The protective layer composed of at least two or more different thin films may be composed of any combination of the above-mentioned thin film mainly composed of an organic compound or an inorganic compound and a passive film.
【0059】保護層2の膜厚は、0.5〜30μm程度
が好ましい。保護層2の膜厚が小さすぎる場合、耐食性
の付与等の効果が十分に得られない場合があり、膜厚が
大きすぎる場合、保護層2の密着性、耐クラック性が不
十分となるおそれがある。The thickness of the protective layer 2 is preferably about 0.5 to 30 μm. If the thickness of the protective layer 2 is too small, effects such as imparting corrosion resistance may not be sufficiently obtained. If the thickness is too large, the adhesion and crack resistance of the protective layer 2 may be insufficient. There is.
【0060】保護膜2はめっきにより形成されることが
好ましい。これにより密着性、耐摩耗性等に優れた薄膜
を形成することができる。また、金属部材1の形状や大
きさを問わず、保護層2を形成することができ、膜厚の
調整も容易である。The protective film 2 is preferably formed by plating. This makes it possible to form a thin film having excellent adhesion, wear resistance and the like. Further, the protective layer 2 can be formed irrespective of the shape and size of the metal member 1, and the film thickness can be easily adjusted.
【0061】保護層2として形成される薄膜としては、
例えばAuまたはAu合金、純PdまたはPd合金、P
tまたはPt合金、CuまたはCu合金、CrまたはC
r合金、RuまたはRu合金、Ti、Ti合金またはT
i化合物等から構成されるめっき層が挙げられる。さら
に、上記金属を構成材料としてIPにより保護層2が形
成されていてもよい。The thin film formed as the protective layer 2 includes
For example, Au or Au alloy, pure Pd or Pd alloy, P
t or Pt alloy, Cu or Cu alloy, Cr or C
r alloy, Ru or Ru alloy, Ti, Ti alloy or T
and a plating layer composed of an i-compound or the like. Further, the protective layer 2 may be formed by IP using the above metal as a constituent material.
【0062】保護層2が異なる2以上の薄膜から構成さ
れている場合、少なくとも1層がめっきにより形成され
ていることが好ましい。めっきによれば金属部材1の表
面形状に関わらず膜厚の均一な薄膜を形成することが容
易である。When the protective layer 2 is composed of two or more different thin films, it is preferable that at least one layer is formed by plating. According to plating, it is easy to form a thin film having a uniform thickness regardless of the surface shape of the metal member 1.
【0063】保護層2の形成において用い得るめっき法
としては特に限定されず、電解めっきや無電解めっき等
の湿式めっきや、蒸着法、スパッタリング、イオンプレ
ーティング(IP)等の乾式めっき等が挙げられる。The plating method that can be used in forming the protective layer 2 is not particularly limited, and examples include wet plating such as electrolytic plating and electroless plating, and dry plating such as vapor deposition, sputtering, and ion plating (IP). Can be
【0064】以下、本実施形態において保護層2は耐食
層であることを想定して説明しているが、とくに耐食層
に限定されるものではない。Hereinafter, in this embodiment, the description is made assuming that the protective layer 2 is a corrosion-resistant layer, but the present invention is not particularly limited to the corrosion-resistant layer.
【0065】<マスキング被膜の形成>次に、上述した
保護層2にマスキング被膜3を形成する(1c)。この
マスキング被膜3は、後述するエッチング工程において
エッチングマスクとして機能する。<Formation of Masking Film> Next, a masking film 3 is formed on the above-mentioned protective layer 2 (1c). This masking film 3 functions as an etching mask in an etching step described later.
【0066】マスキング被膜3は、レーザー光が照射さ
れるとアブレーションする材料から構成される。これに
よりレーザー光によるマスクパターニングが可能とな
る。また、マスキング被膜3のアブレーションにより、
保護層2や金属部材1が露出し、レーザー光によりこれ
らの一部も除去されてマーキングが可能となる。The masking film 3 is made of a material that ablates when irradiated with a laser beam. This enables mask patterning with laser light. Also, by ablation of the masking film 3,
The protection layer 2 and the metal member 1 are exposed, and a part thereof is also removed by the laser beam, so that marking can be performed.
【0067】このようなマスキング被膜3を構成する材
料としては、レーザー光を吸収する材料であれば特に限
定されず、例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、
ポリスルホン系樹脂、エポキシ系、フッ素系等の樹脂材
料を用いることができる。さらに、Au、Ni、Pd、
Cu、Ag、Ti、Cr等の金属材料を用いることがで
きる。The material constituting such a masking film 3 is not particularly limited as long as it is a material that absorbs laser light. For example, an acrylic resin, a polyimide resin,
A resin material such as a polysulfone-based resin, an epoxy-based resin, and a fluorine-based resin can be used. Further, Au, Ni, Pd,
Metal materials such as Cu, Ag, Ti, and Cr can be used.
【0068】また、マスキング被膜3は透明であること
が好ましい。これにより金属部材1との密着状態を外部
から視認することが可能となる。The masking film 3 is preferably transparent. This makes it possible to visually confirm the state of close contact with the metal member 1 from the outside.
【0069】マスキング被膜3の形成方法は特に限定さ
れず、噴霧塗装、静電塗装、電着塗装等の塗装、湿式め
っき、乾式めっき(蒸着、IP等)等が挙げられるが、
なかでも電着塗装が好ましい。電着塗装によればマスキ
ング被膜3の膜厚をより均一に形成することができる。
均一な膜厚に形成されたマスキング被膜3は、エッチン
グした後、例えば剥離液に浸漬して除去されるが、この
とき膜厚が大きい部分のマスキング被膜が残留したり、
膜厚が小さい部分が長時間剥離液に晒される等のために
生じる金属部材表面の荒れを招くおそれがない。The method of forming the masking film 3 is not particularly limited, and examples include spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, etc., wet plating, dry plating (evaporation, IP, etc.).
Of these, electrodeposition coating is preferred. According to the electrodeposition coating, the film thickness of the masking film 3 can be formed more uniformly.
After etching, the masking film 3 formed in a uniform film thickness is removed by, for example, immersion in a stripping solution. At this time, the masking film in a portion having a large film thickness remains,
There is no possibility that the surface of the metal member will be roughened due to, for example, a portion having a small film thickness being exposed to the stripping solution for a long time.
【0070】また、レーザーにてマスクを除去する際に
も膜厚が不均一であると、部分的にマスクが残ってしま
うこともあるが、膜厚が均一な電着塗装においては均一
なマスク除去が可能である。When the mask is removed with a laser, if the film thickness is not uniform, the mask may remain partially. However, in the electrodeposition coating with a uniform film thickness, a uniform mask is used. Removal is possible.
【0071】電着塗装等により形成されるマスキング被
膜3の膜厚は、10〜30μm程度であることが好まし
い。膜厚が小さすぎるとマスキング被膜3にピンホール
が発生するおそれがあり、その箇所においてエッチング
不良が生じる場合がある。特に、エッチング時間を長く
する場合、エッチングマスクとしての機能を十分に発揮
し得ない場合がある。一方、膜厚が大きすぎると膜厚の
バラツキが大きくなるおそれがあり、このような場合、
マスキング被膜3を除去する際に上述したように剥離液
による金属部材1の表面の荒れを招くおそれがある。ま
た、膜厚が厚いと、被膜の内部応力が高くなり、密着性
が低下したりクラックが発生してエッチング時にマスク
部を荒らしてしまうことになる。The thickness of the masking film 3 formed by electrodeposition coating or the like is preferably about 10 to 30 μm. If the film thickness is too small, a pinhole may be generated in the masking film 3, and an etching failure may occur at that location. In particular, when the etching time is increased, the function as an etching mask may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if the film thickness is too large, the dispersion of the film thickness may be large, and in such a case,
When the masking film 3 is removed, the surface of the metal member 1 may be roughened by the stripping solution as described above. On the other hand, when the film thickness is large, the internal stress of the film is increased, the adhesion is reduced, and cracks are generated, so that the mask portion is roughened at the time of etching.
【0072】<レーザー加工>次に、レーザー光を照射
することにより、少なくとも上記マスキング被膜3をパ
ターニングし、エッチングマスクを形成する(1d)。
レーザー光によりマスクパターニングを行うことによっ
て、例えばフォトリソグラフィー等による場合に比べて
工程を簡略化することができる。また、レーザー光によ
ればバリのない微細精密パターンの形成も可能となる。
さらにレーザー光の照射位置や角度を任意に設定できる
ため、曲面や凹凸面上にパターンを形成する場合でも、
容易にかつ精度よく行うことができる。エッチング深さ
を深くする場合のサイドエッチングの補正もレーザー走
査プログラムにて容易に行うことができる。<Laser Processing> Next, by irradiating a laser beam, at least the masking film 3 is patterned to form an etching mask (1d).
By performing mask patterning using laser light, the process can be simplified as compared with, for example, a case using photolithography or the like. In addition, the use of laser light makes it possible to form a fine precision pattern without burrs.
Furthermore, since the irradiation position and angle of the laser beam can be set arbitrarily, even when forming a pattern on a curved surface or uneven surface,
It can be performed easily and accurately. Correction of side etching when the etching depth is increased can be easily performed by a laser scanning program.
【0073】レーザー光によりマスキング被膜3をパタ
ーニングする際、保護層2の少なくとも一部を除去する
ことが好ましく、金属部材1の一部まで除去することが
さらに好ましい。When patterning the masking film 3 with a laser beam, it is preferable to remove at least a part of the protective layer 2, and more preferably to remove a part of the metal member 1.
【0074】これにより、少なくとも保護層2の一部、
または保護層2および金属部材1の表面にマスキング被
膜3に形成されたパターンと同形状のパターンがマーキ
ングされ、次工程のエッチングをより効率よく行うこと
ができる。すなわち、予めレーザーにより保護層2や金
属部材1に荒れた凹状のパターンが形成されることによ
り、当該凹状のパターン部分にエッチング液が侵入し、
金属部材の蝕刻が迅速に進行する。とくに耐食性等を有
する保護層2はエッチングが困難である場合があり、レ
ーザーで少なくとも一部が除去されていると、エッチン
グをより迅速に行うことができる。Thus, at least a part of the protective layer 2,
Alternatively, a pattern having the same shape as the pattern formed on the masking film 3 is marked on the surfaces of the protective layer 2 and the metal member 1, so that the etching in the next step can be performed more efficiently. That is, since a rough concave pattern is formed on the protective layer 2 and the metal member 1 by laser in advance, the etchant enters the concave pattern portion,
Etching of the metal member proceeds rapidly. In particular, the protective layer 2 having corrosion resistance or the like may be difficult to etch, and if at least a part of the protective layer 2 is removed by a laser, the etching can be performed more quickly.
【0075】さらに、金属部材1の一部をレーザーで除
去する場合には、シャープな加工端面が得られ、いわゆ
るバリ、ビレのない鮮明なパターンが得られる。Further, when a part of the metal member 1 is removed by a laser, a sharp processed end face can be obtained, and a clear pattern without so-called burrs and burrs can be obtained.
【0076】本発明の方法において使用されるレーザー
としては、例えばNe−Heレーザー、Arレーザー、
CO2 レーザー等の気体レーザーや、ルビーレーザー、
半導体レーザー、YAGレーザー、ガラスレーザー等の
固体レーザーが挙げられる。なかでも、室温で連続発振
を容易に行うことができ、低い照射エネルギー領域にお
ける制御性の良さ等からYAGレーザーが好ましく用い
られる。The laser used in the method of the present invention includes, for example, Ne-He laser, Ar laser,
Gas laser such as CO 2 laser, ruby laser,
Solid-state lasers such as a semiconductor laser, a YAG laser, and a glass laser are exemplified. Above all, a YAG laser is preferably used because continuous oscillation can be easily performed at room temperature and good controllability in a low irradiation energy region is achieved.
【0077】レーザー光の照射条件については、マスキ
ング被膜3、下地層2および金属部材1の材質や膜厚等
によって適宜選択されるが、例えばYAGレーザーの場
合、エネルギー強度は10〜50W程度とすることが好
ましい。The irradiation conditions of the laser beam are appropriately selected depending on the materials and thicknesses of the masking film 3, the underlayer 2, and the metal member 1. For example, in the case of a YAG laser, the energy intensity is about 10 to 50 W. Is preferred.
【0078】<エッチング工程>次に、レーザー光によ
りパターニングされた前記マスキング被膜3を用いてエ
ッチングを行う(1e)。<Etching Step> Next, etching is performed using the masking film 3 patterned by a laser beam (1e).
【0079】これによりマスキング被膜3に所定パター
ンの凹部5を形成することができる。また、エッチング
によれば、エッチング液、エッチング時間等の選択によ
り、凹部5の深さを任意に設定することができる。これ
によりレーザー光で金属部材1の表面を直接パターニン
グ(マーキング)する方法では困難な深さまで蝕刻する
ことも可能である。すなわち、レーザー光による金属表
面のパターニングでは、深く凹部を形成するためにレー
ザー強度を大きくしたり、照射時間を長くすることが行
われる。しかし、強度や照射時間を過剰にすると照射部
分の周縁部に熱溶融による焦げ、変形およびバリ、ビレ
を生じ、金属部材の表面外観が悪くなるうえに、深さの
コントロールが困難であり深さのバラツキも大きくなる
場合がある。Thus, the concave portions 5 having a predetermined pattern can be formed in the masking film 3. Further, according to the etching, the depth of the concave portion 5 can be arbitrarily set by selecting an etching solution, an etching time and the like. Thereby, it is possible to etch to a depth that is difficult by a method of directly patterning (marking) the surface of the metal member 1 with a laser beam. That is, in the patterning of the metal surface by the laser beam, the laser intensity is increased or the irradiation time is lengthened to form a deep concave portion. However, if the strength and irradiation time are excessive, scorching, deformation, burrs, and burrs may occur at the periphery of the irradiated part due to thermal melting, which deteriorates the surface appearance of the metal member and makes it difficult to control the depth. May also be large.
【0080】本発明において、エッチング方法としては
特に限定されないが、浸漬エッチングやシャワーエッチ
ング等のウェットエッチングが好ましく、なかでもシャ
ワーエッチングが好ましい。シャワーエッチングによれ
ば、より短時間に金属部材に所定パターンの深い凹部を
鮮明に形成することができる。In the present invention, the etching method is not particularly limited, but wet etching such as immersion etching and shower etching is preferable, and shower etching is particularly preferable. According to the shower etching, a deep concave of a predetermined pattern can be clearly formed in the metal member in a shorter time.
【0081】エッチングにより金属部材1に形成される
凹部5の深さは特に限定されないが、20μm以上であ
ることが好ましく、50μm以上がより好ましい。これ
により金属部材1の表面に形成された模様、文字等の所
定パターンの凹部5が、より立体的に現れ、視覚によっ
て鮮明に捉えることができる。The depth of the concave portion 5 formed in the metal member 1 by etching is not particularly limited, but is preferably 20 μm or more, and more preferably 50 μm or more. As a result, the concave portion 5 having a predetermined pattern such as a pattern or a character formed on the surface of the metal member 1 appears more three-dimensionally and can be visually recognized clearly.
【0082】エッチングの後、凹部5内に被覆層7を設
けることが好ましい(1f)。これにより、保護層2が
形成されていない凹部5内に耐食性等を付与することが
できる。また、それと同時に被覆層7の選択によっては
凹部5の色調、質感等を調整することもできる。After the etching, a coating layer 7 is preferably provided in the recess 5 (1f). Thereby, corrosion resistance or the like can be imparted to the inside of the concave portion 5 where the protective layer 2 is not formed. At the same time, the color tone, texture, and the like of the concave portion 5 can be adjusted by selecting the coating layer 7.
【0083】被覆層7の構成材料としては上記の保護層
2と同様のものが挙げられるが、特にAuまたはAu合
金めっき、PdまたはPd合金めっき、PtまたはPt
合金めっき、CuまたはCu合金等からなるめっき層が
好ましい。Examples of the constituent material of the coating layer 7 include the same materials as those of the protective layer 2 described above. In particular, Au or Au alloy plating, Pd or Pd alloy plating, Pt or Pt
Alloy plating, a plating layer made of Cu or a Cu alloy or the like is preferable.
【0084】被覆層7の膜厚は、0.5〜10μm程度
が好ましい。被覆層7が薄すぎると耐食性等の付与・向
上が図れない場合がある。一方、厚過ぎる場合には被覆
層7にクラックが発生するおそれがあり、また被覆層7
の形成のために使用されるAu等の貴金属材料の量が増
加し製造コストが増大する。このような被覆層7は、保
護層2と同様に各種めっき法により形成することができ
る。The thickness of the coating layer 7 is preferably about 0.5 to 10 μm. If the coating layer 7 is too thin, it may not be possible to impart or improve corrosion resistance or the like. On the other hand, if the thickness is too large, cracks may occur in the coating layer 7.
The amount of a noble metal material such as Au used for forming the metal is increased, and the manufacturing cost is increased. Such a coating layer 7 can be formed by various plating methods similarly to the protective layer 2.
【0085】さらに、図2に示すように、凹部5内に被
覆層7を設けた後、着色層8を形成することが好まし
い。これにより金属部材1の表面に多色のデザインを施
すことができ、デザインのバリエーションが拡がる。例
えば、着色層8の色調と金属部材1自体の色調との組み
合わせによって立体感や豪華さ等の審美的外観を得るこ
とができる。Further, as shown in FIG. 2, it is preferable to form the coloring layer 8 after providing the coating layer 7 in the concave portion 5. Thereby, a multicolor design can be applied to the surface of the metal member 1, and the design variation is expanded. For example, a combination of the color tone of the colored layer 8 and the color tone of the metal member 1 itself can provide an aesthetic appearance such as a three-dimensional appearance and luxury.
【0086】着色層8の形成方法は特に限定されず、例
えば、Auめっき、黒Crめっき、Agめっき、Pdめ
っき、Rhめっき、Crめっき、Ruめっき、カラーめ
っき等の湿式めっきやイオンプレーティング等の乾式め
っきによる方法、塗装、塗料入れによる方法等が挙げら
れ、これらの方法を組み合わせてもよい。The method for forming the colored layer 8 is not particularly limited, and examples thereof include wet plating such as Au plating, black Cr plating, Ag plating, Pd plating, Rh plating, Cr plating, Ru plating, and color plating, and ion plating. , Dry coating, coating, coating with paint, etc., and these methods may be combined.
【0087】めっきにより着色層8を形成する場合、エ
ッチングした後マスキング被膜3を除去する前に行うこ
とが好ましい。これにより容易に凹部5内にのみ着色層
8を形成することができる。着色層8をめっきにより形
成する場合、凹部の形状、大きさを問わず密着性、耐摩
耗性に優れた着色層8を形成することができる。また着
色層8の膜厚の制御も容易である。In the case where the colored layer 8 is formed by plating, it is preferable to form the colored layer 8 after etching and before removing the masking film 3. Thereby, the colored layer 8 can be easily formed only in the concave portion 5. When the colored layer 8 is formed by plating, the colored layer 8 having excellent adhesion and abrasion resistance can be formed regardless of the shape and size of the concave portion. Further, it is easy to control the thickness of the colored layer 8.
【0088】着色層8を塗料入れにより形成する場合、
例えばマスキング被膜3を除去した後、塗料を塗布し、
金属部材1の表面に付着した塗料を払拭する。次に凹部
5内の塗料を加熱・乾燥する等により着色層8を形成す
る。When the colored layer 8 is formed by putting paint,
For example, after removing the masking film 3, a paint is applied,
The paint adhered to the surface of the metal member 1 is wiped off. Next, the coloring layer 8 is formed by heating and drying the paint in the recess 5.
【0089】最後に、マスキング被膜3を除去し、図に
示すような金属部材が得られる(1g)。マスキング被
膜3の除去方法はいかなる方法であってもよく、例えば
溶剤、アルカリ溶液等からなる剥離液に浸漬して溶解除
去する方法等が挙げられる。Finally, the masking film 3 is removed to obtain a metal member as shown in the figure (1 g). The method of removing the masking film 3 may be any method, for example, a method of dissolving and removing the masking film 3 by immersing it in a stripping solution composed of a solvent, an alkaline solution or the like.
【0090】図3(3a)〜(3h)は、本発明の金属
部材の表面処理方法の第2実施形態を示す断面図であ
る。FIGS. 3 (3a) to 3 (h) are sectional views showing a second embodiment of the method for treating the surface of a metal member according to the present invention.
【0091】この図に示すように、本実施例の金属部材
の表面処理方法は、金属部材の表面に保護層2を形成す
る工程(3a、3b)と、保護層2に少なくとも1層の
下地層9を形成する工程(3c)と、下地層9の上にマ
スキング被膜3を形成する工程(3d)と、レーザー光
を照射することにより少なくともマスキング被膜3をパ
ターニングする工程(3e)と、パターニングされたマ
スキング被膜3を用いて金属部材1をエッチングする工
程(3f)とを有する。As shown in this figure, the method for treating the surface of a metal member according to the present embodiment includes a step (3a, 3b) of forming a protective layer 2 on the surface of the metal member, A step (3c) of forming the ground layer 9, a step (3d) of forming the masking film 3 on the underlayer 9, a step of patterning at least the masking film 3 by irradiating a laser beam (3e), and patterning. (3f) etching the metal member 1 using the masking film 3 thus formed.
【0092】下地層9を形成する点以外は、上記第1実
施形態と同様である。以下、主に第1実施形態との相違
点について説明する。Except that the underlayer 9 is formed, it is the same as the first embodiment. Hereinafter, differences from the first embodiment will be mainly described.
【0093】本実施例の方法は、保護層2に少なくとも
1層の下地層9を形成する(4b)。下地層9としては
特に限定されないが、金属部材1とマスキング被膜3と
の接着性を向上させるための接着強化層であることが好
ましい。これにより、マスキング被膜3の接着性・密着
性がより向上し、しみ込み等のエッチング不良による凹
部周縁のバリ・ビレ等を有効に防止することができる。In the method of this embodiment, at least one underlayer 9 is formed on the protective layer 2 (4b). The underlayer 9 is not particularly limited, but is preferably an adhesion reinforcing layer for improving the adhesion between the metal member 1 and the masking film 3. As a result, the adhesiveness / adhesiveness of the masking film 3 is further improved, and it is possible to effectively prevent burrs and burrs on the periphery of the concave portion due to poor etching such as seepage.
【0094】このような接着強化層としては、例えばA
u、Ni、Pd、Crおよびそれらの合金等からなる薄
膜が挙げられ、AuまたはAu系合金薄膜からなるもの
が好ましい。これによりマスキング被膜の接着性、密着
性をより有効に向上させることができる。As such an adhesion reinforcing layer, for example, A
Examples of the thin film include u, Ni, Pd, Cr, and alloys thereof, and a thin film of Au or an Au-based alloy is preferable. Thereby, the adhesiveness and adhesiveness of the masking film can be more effectively improved.
【0095】接着強化層の形成方法は特に限定されない
が、湿式めっきまたは乾式めっきが好ましい。湿式めっ
きとしては電解めっき、無電解めっき等が挙げられ、乾
式めっきとしては例えば、蒸着、スパッタリング、IP
(イオンプレーティング)等が挙げられる。The method for forming the adhesion reinforcing layer is not particularly limited, but wet plating or dry plating is preferred. Examples of wet plating include electrolytic plating and electroless plating, and examples of dry plating include vapor deposition, sputtering, and IP.
(Ion plating) and the like.
【0096】接着強化層の膜厚は1μm以下が好まし
く、0.5μm以下のストライクめっき層であることが
より好ましい。これにより、密着性の向上を達成しつつ
膜厚のバラツキおよびクラックの発生防止を図り、製造
コストの増大を抑えることができる。The thickness of the adhesion reinforcing layer is preferably 1 μm or less, more preferably a strike plating layer of 0.5 μm or less. Thereby, it is possible to prevent the variation in the film thickness and the occurrence of cracks while improving the adhesion, thereby suppressing an increase in the manufacturing cost.
【0097】次に下地層9の上にマスキング被膜3を形
成する(3d)。マスキング被膜3の構成材料、膜性
状、形成方法は、上記第1実施形態の場合と同様のもの
が挙げられる。Next, a masking film 3 is formed on the underlayer 9 (3d). The constituent material, film properties, and forming method of the masking film 3 are the same as those in the first embodiment.
【0098】さらに、レーザー光により少なくともマス
キング被膜3をパターニングし、エッチングマスクを形
成する(3e)。このとき、マスキング被膜3のみなら
ず、下地層9、保護層2の少なくとも一部をレーザーに
より除去することが好ましく、金属部材1の一部まで除
去することがさらに好ましい。これにより上記第1実施
形態の場合と同様、少なくとも保護層2、または保護層
2および金属部材1の表面にマスキング被膜3に形成さ
れたパターンと同形状のパターンが精密にマーキングさ
れ、次工程のエッチングをより効率よく行うことができ
る(3f)。エッチングは第1実施形態と同様の方法で
行うことができる。Further, at least the masking film 3 is patterned by a laser beam to form an etching mask (3e). At this time, it is preferable to remove not only the masking film 3 but also at least a part of the underlayer 9 and the protective layer 2 by laser, and it is more preferable to remove a part of the metal member 1. As a result, similarly to the case of the first embodiment, at least a pattern having the same shape as the pattern formed on the masking film 3 on the surface of the protective layer 2 or the protective layer 2 and the metal member 1 is precisely marked. Etching can be performed more efficiently (3f). Etching can be performed in the same manner as in the first embodiment.
【0099】凹部5には、第1実施形態の場合と同様の
理由により、被覆層7が形成されることが好ましい(3
g)。また、凹部5には図2に示すように着色層8が形
成されていてもよい。被覆層7および着色層8の構成材
料、膜性状、形成方法等については第1実施形態と同様
のものが挙げられる。It is preferable that the covering layer 7 is formed in the recess 5 for the same reason as in the first embodiment.
g). Further, the coloring layer 8 may be formed in the concave portion 5 as shown in FIG. The constituent materials, film properties, forming methods, and the like of the coating layer 7 and the coloring layer 8 are the same as those in the first embodiment.
【0100】最後にマスキング被膜3および下地層9を
除去し本発明の金属部材が得られる(3h)。マスキン
グ被膜3および下地層9の除去方法としては、第1実施
形態の場合と同様である。Finally, the masking film 3 and the underlayer 9 are removed to obtain the metal member of the present invention (3h). The method of removing the masking film 3 and the underlayer 9 is the same as in the first embodiment.
【0101】以上のような表面処理を行うことにより金
属部材の表面には保護層が形成されており、また金属部
材には所定パターンの凹部が形成され、該凹部はその一
部がレーザー光の照射により形成され、さらにエッチン
グにより完成された本発明の金属部材が作製される。By performing the above-described surface treatment, a protective layer is formed on the surface of the metal member, and a concave portion having a predetermined pattern is formed on the metal member. The metal member of the present invention formed by irradiation and completed by etching is manufactured.
【0102】金属部材としては、例えば置物等のインテ
リア、エクステリア用品、時計ケース、時計バンド、文
字盤等の時計用外装部品、ネクタイピン、カフスボタ
ン、ブローチ、ライター、メガネ等の装飾品、ゴルフク
ラブ等のスポーツ用品、銘板、パネル、賞杯、その他ハ
ウジング等を含む各種機器部品、各種容器等が挙げられ
るが、なかでも時計用外装部品が好ましい。時計用外装
部品は、装飾品として外観の美しさが要求されるととも
に、実用品として金属表面に形成されたパターンの視認
性、緻密性および耐食性等が要求されるが、本発明の金
属部材の表面処理方法によれば、これらの要件を全て満
足することができる。Examples of the metal member include interior parts such as ornaments, exterior articles, watch exterior parts such as watch cases, watch bands, dials, ornaments such as tie pins, cufflinks, brooches, lighters, glasses, and golf clubs. Sports equipment, nameplates, panels, trophy cups, various equipment parts including housings, various containers, etc., and among them, watch exterior parts are preferable. Watch exterior parts are required to have a beautiful appearance as a decorative product, and as a practical product, visibility, denseness and corrosion resistance of a pattern formed on a metal surface are required. According to the surface treatment method, all of these requirements can be satisfied.
【0103】以上、金属部材の表面処理方法および金属
部材を図示の各実施例について説明したが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。例えば着色層8は凹部
5に部分的に形成されていてもよい。The surface treatment method of the metal member and the metal member have been described with reference to the illustrated embodiments, but the present invention is not limited to these embodiments. For example, the coloring layer 8 may be partially formed in the recess 5.
【0104】また、下地層9は複数の層からなるもので
もよい。さらにエッチングの後必ずしも除去されるもの
ではなく、保護層とともに金属部材表面に維持されてい
てもよい。The underlayer 9 may be composed of a plurality of layers. Furthermore, it is not necessarily removed after etching, and may be maintained on the surface of the metal member together with the protective layer.
【0105】[0105]
【実施例】次に、本発明の具体的実施例について説明す
る。Next, specific examples of the present invention will be described.
【0106】1.金属部材の表面処理 (実施例1)まず、Bs(黄銅)からなる金属部材1の
表面を研磨し、その表面に保護層2を形成した(1a、
1b)。1. Surface treatment of metal member (Example 1) First, the surface of a metal member 1 made of Bs (brass) was polished to form a protective layer 2 on the surface (1a,
1b).
【0107】次に、保護層2として金属部材1に接する
側からCuめっき層(膜厚:3μm)、その上にAuめ
っき層(膜厚:3μm)を積層して構成した。Next, a Cu plating layer (thickness: 3 μm) was laminated as a protective layer 2 from the side in contact with the metal member 1, and an Au plating layer (thickness: 3 μm) was laminated thereon.
【0108】保護層2を構成するAuめっき層の上に、
アクリル系樹脂((株)シミズ製「「AM−2」)を用
い、電着塗装により膜厚20μmのマスキング被膜3を
形成した(1c)。電着塗装は、液温:25℃、電圧:
50V、処理時間:2分、焼付:180℃×40分の条
件で行った。On the Au plating layer constituting the protective layer 2,
Using an acrylic resin (“AM-2” manufactured by Shimizu Corporation), a masking film 3 having a thickness of 20 μm was formed by electrodeposition coating (1c). For electrodeposition coating, liquid temperature: 25 ° C, voltage:
The test was performed under the conditions of 50 V, processing time: 2 minutes, and baking: 180 ° C. × 40 minutes.
【0109】次に、YAGレーザーを用いてマスキング
被膜3を所定のパターンに加工し、エッチングマスクを
形成した。なお、このとき金属部材1の一部も除去さ
れ、深さ10〜20μmの凹状のパターンが形成された
(1d)。YAGレーザーによる加工条件は、エネルギ
ー強度:13W、周波数:4kHz、電流:13A、スキ
ャン速度:50m/s とした。Next, the masking film 3 was processed into a predetermined pattern by using a YAG laser to form an etching mask. At this time, a part of the metal member 1 was also removed, and a concave pattern having a depth of 10 to 20 μm was formed (1d). The processing conditions with the YAG laser were: energy intensity: 13 W, frequency: 4 kHz, current: 13 A, scan speed: 50 m / s.
【0110】さらに、シャワーエッチングにより金属部
材1をエッチングし、所定のパターンの凹部5を形成し
た(1e)。エッチング条件は、エッチング液:塩化第
二鉄溶液、液温:30℃、処理時間:10分とし、金属
部材1の凹部5の深さは400μmであった。Further, the metal member 1 was etched by shower etching to form a concave portion 5 having a predetermined pattern (1e). The etching conditions were: etching solution: ferric chloride solution, liquid temperature: 30 ° C., processing time: 10 minutes, and the depth of the concave portion 5 of the metal member 1 was 400 μm.
【0111】エッチングにより形成された凹部5内に、
膜厚2μmのAuめっき層からなる被覆層7を形成した
(1f)。In the recess 5 formed by etching,
A coating layer 7 made of an Au plating layer having a thickness of 2 μm was formed (1f).
【0112】さらに凹部5に、電解めっき法により、着
色層8として膜厚1μmの黒クロムめっきの被膜(黒
色)を形成した。めっき液として、((株)ジャパンメ
タルフィニッシング製「エコノクロムBK」)を用い
た。Further, a black chrome plating film (black) having a film thickness of 1 μm was formed as a colored layer 8 in the concave portion 5 by electrolytic plating. (Econochrome BK, manufactured by Japan Metal Finishing Co., Ltd.) was used as a plating solution.
【0113】めっき条件等を表2に示す。Table 2 shows the plating conditions and the like.
【0114】最後に、金属部材1を剥離液に浸漬し、マ
スキング被膜3の除去を行った(1g)。剥離液とし
て、炭化水素溶液「ネオリバー635」を使用し、処理
条件は液温:20℃、浸漬時間:10分とした。Finally, the metal member 1 was immersed in a stripping solution to remove the masking film 3 (1 g). A hydrocarbon solution “Neoriver 635” was used as a stripping solution, and the processing conditions were a solution temperature of 20 ° C. and a dipping time of 10 minutes.
【0115】各工程における処理条件等について表1お
よび表2に示す。Tables 1 and 2 show the processing conditions and the like in each step.
【0116】[0116]
【表1】 [Table 1]
【0117】[0117]
【表2】 [Table 2]
【0118】(実施例2)Bs(黄銅)からなる金属部
材1の表面を研磨し、その表面に保護層2を形成した
(3a、3b)。保護層2は金属部材1に接する側か
ら、Cuめっき層(膜厚:3μm)、Pdめっき層(膜
厚:3μm)の2層の薄膜を積層して構成した。Example 2 The surface of a metal member 1 made of Bs (brass) was polished to form a protective layer 2 on the surface (3a, 3b). The protective layer 2 was formed by laminating two thin films of a Cu plating layer (thickness: 3 μm) and a Pd plating layer (thickness: 3 μm) from the side in contact with the metal member 1.
【0119】次に、下地層7(接着強化層)として、膜
厚0.1μmのAuストライクめっき層(Au St.)を
設けた(3c)。下地層7の形成条件を表1に示す。Next, an Au strike plating layer (Au St.) having a thickness of 0.1 μm was provided as an underlayer 7 (adhesion strengthening layer) (3c). Table 1 shows the conditions for forming the underlayer 7.
【0120】この下地層9の上に実施例1と同様にして
マスキング被膜3(膜厚:20μm)を形成した(3
d)。A masking film 3 (thickness: 20 μm) was formed on the underlayer 9 in the same manner as in Example 1.
d).
【0121】次に、YAGレーザーを用いてマスキング
被膜3を所定のパターンに加工し、エッチングマスクを
形成した。このとき、金属部材1の一部も除去され、深
さ10〜20μmの凹状パターンが形成された(3
e)。YAGレーザーによる加工の条件は実施例1と同
様である。Next, the masking film 3 was processed into a predetermined pattern using a YAG laser to form an etching mask. At this time, a part of the metal member 1 was also removed, and a concave pattern having a depth of 10 to 20 μm was formed (3).
e). The processing conditions using the YAG laser are the same as in the first embodiment.
【0122】さらに、シャワーエッチングにより金属部
材1をエッチングし、所定のパターンの凹部5を形成し
た(3f)。エッチング条件は、表2に示すようにエッ
チング液:塩化第二鉄溶液、液温:30℃、処理時間:
10分とし、金属部材1の凹部5の深さは400μmで
あった。Further, the metal member 1 was etched by shower etching to form a concave portion 5 having a predetermined pattern (3f). As shown in Table 2, the etching conditions were as follows: etching solution: ferric chloride solution, solution temperature: 30 ° C., processing time:
After 10 minutes, the depth of the concave portion 5 of the metal member 1 was 400 μm.
【0123】凹部5内に膜厚2μmのPdめっき層から
なる被覆層7を形成した(3g)。さらに、実施例1と
同様にして着色層8として膜厚1μmの黒クロムめっき
の被膜(黒色)を形成した。A coating layer 7 made of a Pd plating layer having a thickness of 2 μm was formed in the recess 5 (3 g). Further, a black chromium plating film (black) having a film thickness of 1 μm was formed as the colored layer 8 in the same manner as in Example 1.
【0124】最後に、実施例1と同様にしてマスキング
被膜3を除去した後、下地層9を剥離液に浸漬すること
により除去した。下地層9の除去には浸漬液としてシア
ン系溶液(商品名:「エンストリップ浸漬液」)を用
い、液温:60℃、浸漬時間:2分とした。Finally, after removing the masking film 3 in the same manner as in Example 1, the underlayer 9 was removed by immersion in a stripping solution. For removing the underlayer 9, a cyan solution (trade name: "Enstrip Immersion Liquid") was used as an immersion liquid, and the liquid temperature was 60 ° C. and the immersion time was 2 minutes.
【0125】その他の各工程の処理条件等を表1および
表2に示す。Tables 1 and 2 show other processing conditions and the like in each step.
【0126】(比較例1)まず、図4に示すようにBs
からなる金属部材の表面にパターン印刷12を設けた
(4a、4b)。次に、膜厚2μmのAuからなるマス
クめっき13を施した後(4c)、パターン印刷12を
剥離し(4d)、エッチングマスクを形成した。(Comparative Example 1) First, as shown in FIG.
The pattern printing 12 was provided on the surface of the metal member made of (4a, 4b). Next, after applying a mask plating 13 made of Au having a film thickness of 2 μm (4c), the pattern print 12 was peeled off (4d) to form an etching mask.
【0127】さらに、シャワーエッチング法により金属
部材をエッチングし、凹部14からなるパターンを形成
した。エッチング条件は、エッチング液:塩化第二鉄溶
液、液温:30℃、処理時間:2分とし、金属部材に形
成された凹部14の深さは30μmであった。Further, the metal member was etched by the shower etching method to form a pattern including the concave portions 14. The etching conditions were an etching solution: a ferric chloride solution, a liquid temperature: 30 ° C., and a processing time: 2 minutes, and the depth of the concave portion 14 formed in the metal member was 30 μm.
【0128】凹部14に被覆層16として膜厚2μmの
Pdめっき層を形成した後(4e)、マスクめっき13
を除去し(4f)、金属部材を作製した。マスクめっき
の除去は、シアン系溶液に浸漬(60℃×10分)して
行った。After a Pd plating layer having a thickness of 2 μm is formed as a coating layer 16 in the recess 14 (4e), the mask plating 13 is formed.
Was removed (4f) to produce a metal member. The removal of the mask plating was performed by immersing in a cyan solution (60 ° C. × 10 minutes).
【0129】各工程の処理条件等について表3に示す。Table 3 shows the processing conditions and the like in each step.
【0130】[0130]
【表3】 [Table 3]
【0131】(比較例2)Bsからなる金属部材の表面
に直接レーザー光を照射し、深さ50μmで所定パター
ンの凹部を形成した。凹部に比較例1と同様に膜厚2μ
mのPdめっき層を形成し、金属部材を作製した。(Comparative Example 2) A laser beam was directly applied to the surface of a metal member made of Bs to form a concave portion having a predetermined pattern with a depth of 50 µm. The thickness of the concave portion is 2 μm as in Comparative Example 1.
A Pd plating layer of m was formed to produce a metal member.
【0132】レーザー加工の条件等について表3に示
す。Table 3 shows the laser processing conditions and the like.
【0133】2.品質評価 上記実施例1、2および比較例1、2で作製された各金
属部材(各50個)について、外観(表面および凹部の
状態)を目視および顕微鏡確認により評価した。評価項
目および評価結果を表4に示す。なお、各評価項目にお
いて以下の状態を「良品」と判定し、3段階で表示する
ものとした。2. Quality Evaluation For each metal member (50 each) produced in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2, the appearance (the state of the surface and the concave portions) was evaluated by visual observation and microscopic confirmation. Table 4 shows the evaluation items and the evaluation results. In each evaluation item, the following status was determined to be "non-defective" and displayed in three levels.
【0134】 ○:良品率が90%を超える △:良品率が50〜90% ×:良品率が50%未満 立体感 パターンの全てにおいて凹凸が鮮明に現れている。:: The non-defective rate exceeds 90% Δ: The non-defective rate is 50 to 90% ×: The non-defective rate is less than 50% Three-dimensional pattern All three-dimensional patterns clearly show unevenness.
【0135】凹部の境界のビレ 凹部の周縁部にビレが見られない。Depression at the boundary of the depressed portion No depressed portion is found at the periphery of the depressed portion.
【0136】凹部以外の部分のエッチング 全くみられない。Etching of portions other than the concave portions is not observed at all.
【0137】マスク除去(剥離液)による表面の荒れ 全くみられない。The surface is not roughened by removing the mask (stripping solution).
【0138】凹部の境界のバリ 全くみられない。The burrs at the boundaries of the concave portions are not observed at all.
【0139】凹部のパターン精度 マスク形状と同一形状のパターンが形成されている。Pattern accuracy of concave portion A pattern having the same shape as the mask shape is formed.
【0140】[0140]
【表4】 [Table 4]
【0141】実施例1および2の金属部品はいずれも、
表面に精緻で立体感のあるパターンが形成された。ま
た、パターン(凹部)の周縁部にはビレやバリが全くみ
られず、審美性の高い金属部材が得られた。The metal parts of Examples 1 and 2 were:
An elaborate and three-dimensional pattern was formed on the surface. In addition, no burrs or burrs were observed at the periphery of the pattern (concave portion), and a metal member having high aesthetics was obtained.
【0142】さらに、凹部以外の部分においてエッチン
グが見られないことからマスキング被膜が良好に密着し
ていたことがわかった。一方、容易にかつ完全にマスキ
ング被膜が除去することができ、金属部材表面に荒れが
みられなかった。Further, since no etching was observed in portions other than the concave portions, it was found that the masking film was in good contact. On the other hand, the masking film could be easily and completely removed, and the surface of the metal member was not rough.
【0143】これに対し、比較例1の金属部材はエッジ
部のマスクめっきが完全ではなく、凹部以外の部分のエ
ッチングがみられた。また、パターン印刷のビレによ
り、凹部周縁部にエッチング不良によるビレがみられ、
パターニング精度に劣るものであった。また、金属部材
の表面にはエッチングマスク除去による荒れが見られ
た。On the other hand, in the metal member of Comparative Example 1, the mask plating at the edge portion was not perfect, and etching was observed at portions other than the concave portions. In addition, due to the fins of the pattern printing, fins due to poor etching were observed at the periphery of the concave part,
The patterning accuracy was poor. In addition, the surface of the metal member was rough due to removal of the etching mask.
【0144】比較例2の金属部材は凹部の深さが浅くて
立体感に乏しく、レーザー光の照射により発生する熱に
よりパターン周縁部にビレ、バリが生じ、外観が損なわ
れ、また熱によるスポット径のバラツキによってパター
ニング精度に劣るものであった。The metal member of Comparative Example 2 had a shallow concave portion and was poor in three-dimensional appearance. The heat generated by the irradiation of the laser beam caused burrs and burrs on the periphery of the pattern, impaired the appearance, and caused spots due to heat. The patterning accuracy was poor due to the variation in diameter.
【0145】[0145]
【発明の効果】以上述べたように、本発明の金属部材の
表面処理方法によれば、バリやビレのない鮮明で立体感
のある凹状のパターンを簡単かつ迅速に形成することが
できる。また、レーザー光によるパターニングによりマ
スクを形成するため、複雑な形状の金属部材表面にも精
密にパターンを設けることができ、デザインの自由度が
大きい。さらに、工程を簡略化することができ、製造コ
ストの低減を図ることができる。As described above, according to the method for treating the surface of a metal member of the present invention, it is possible to easily and quickly form a clear and three-dimensional concave pattern without burrs or burrs. Further, since the mask is formed by patterning with a laser beam, a pattern can be accurately provided on the surface of a metal member having a complicated shape, and the degree of freedom in design is large. Further, the steps can be simplified, and the manufacturing cost can be reduced.
【図1】本発明の金属部材の表面処理方法の第1実施形
態を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a surface treatment method for a metal member of the present invention.
【図2】本発明の金属部材に着色層を設けた場合の実施
形態を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment in which a colored layer is provided on the metal member of the present invention.
【図3】本発明の金属部材の表面処理方法の第2実施形
態を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a second embodiment of the surface treatment method for a metal member according to the present invention.
【図4】金属部材の表面処理方法の比較例を示す断面図
である。FIG. 4 is a cross-sectional view illustrating a comparative example of a surface treatment method for a metal member.
1 金属部材 2 保護層 3 マスキング被膜 5、14 凹部 7 被覆層 8 着色層 9 下地層 12 パターン印刷 13 マスクめっき 16 被覆層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Metal member 2 Protective layer 3 Masking film 5, 14 Depression 7 Coating layer 8 Coloring layer 9 Underlayer 12 Pattern printing 13 Mask plating 16 Coating layer
Claims (40)
と、 前記保護層の上にマスキング被膜を形成する工程と、 レーザー光を照射することにより少なくとも前記マスキ
ング被膜をパターニングする工程と、 前記マスキング被膜を用いて前記金属部材をエッチング
する工程とを有することを特徴とする金属部材の表面処
理方法。A step of forming a protective layer on a surface of the metal member; a step of forming a masking film on the protective layer; a step of patterning at least the masking film by irradiating a laser beam; Etching the metal member using a masking film.
耐食性を付与する耐食層である請求項1に記載の金属部
材の表面処理方法。2. The method according to claim 1, wherein the protective layer is a corrosion-resistant layer that imparts at least corrosion resistance to the metal member.
成されてなる請求項1または2に記載の金属部材の表面
処理方法。3. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein the protective layer is composed of two or more different thin films.
求項1ないし3のいずれかに記載の金属部材の表面処理
方法。4. The method according to claim 1, wherein the protective layer is formed by plating.
ある請求項1ないし4のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。5. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein said protective layer has a thickness of 0.5 to 30 μm.
膜とともに前記保護層の少なくとも一部を除去する請求
項1ないし5のいずれかに記載の金属部材の表面処理方
法。6. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein at least a part of the protective layer is removed together with the masking film by the laser beam.
膜とともに前記保護層および前記金属部材の一部を除去
する請求項1ないし5のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。7. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein said protective layer and a part of said metal member are removed together with said masking film by said laser beam.
よる請求項1ないし7のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。8. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein the masking film is formed by electrodeposition coating.
μmである請求項1ないし8のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。9. The film thickness of the masking film is 10 to 30.
The method for treating a surface of a metal member according to claim 1, wherein the thickness is μm.
形成された凹部の深さが20μm以上である請求項1な
いし9のいずれかに記載の金属部材の表面処理方法。10. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein a depth of the concave portion formed in the metal member by the etching is 20 μm or more.
である請求項1ないし10のいずれかに記載の金属部材
の表面処理方法。11. The method according to claim 1, wherein the etching is wet etching.
である請求項11に記載の金属部材の表面処理方法。12. The method according to claim 11, wherein the etching is shower etching.
1ないし12のいずれかに記載の金属部材の表面処理方
法。13. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein a coating layer is formed in the recess.
1ないし13のいずれかに記載の金属部材の表面処理方
法。14. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein a colored layer is formed in the concave portion.
請求項1ないし14のいずれかに記載の金属部材の表面
処理方法。15. The surface treatment method for a metal member according to claim 1, wherein the metal member is a watch exterior part.
程と、 前記保護層に少なくとも1層の下地層を形成する工程
と、 前記下地層の上にマスキング被膜を形成する工程と、 レーザー光を照射することにより少なくとも前記マスキ
ング被膜をパターニングする工程と、 パターニングされた前記マスキング被膜を用いて前記金
属部材をエッチングする工程とを有することを特徴とす
る金属部材の表面処理方法。16. A step of forming a protective layer on a surface of a metal member, a step of forming at least one underlayer on the protective layer, a step of forming a masking film on the underlayer, A step of patterning at least the masking film by irradiating the masking film; and a step of etching the metal member using the patterned masking film.
も耐食性を付与する耐蝕層である請求項16に記載の金
属部材の表面処理方法。17. The method according to claim 16, wherein the protective layer is a corrosion-resistant layer that imparts at least corrosion resistance to the metal member.
構成されてなる請求項16または17に記載の金属部材
の表面処理方法。18. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein the protective layer is composed of two or more different thin films.
請求項16ないし18のいずれかに記載の金属部材の表
面処理方法。19. The method according to claim 16, wherein the protective layer is formed by plating.
である請求項16ないし19のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。20. The protective layer has a thickness of 0.5 to 30 μm.
The surface treatment method for a metal member according to any one of claims 16 to 19, wherein
を向上させるための接着強化層である請求項16ないし
20のいずれかに記載の金属部材の表面処理方法。21. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein the underlayer is an adhesion reinforcing layer for improving the adhesion of the masking film.
式めっきにより形成される請求項21に記載の金属部材
の表面処理方法。22. The method according to claim 21, wherein the adhesion reinforcing layer is formed by wet plating or dry plating.
金薄膜からなる請求項21または22に記載の金属部材
の表面処理方法。23. The surface treatment method for a metal member according to claim 21, wherein the adhesion reinforcing layer is made of Au or an Au-based alloy thin film.
ある請求項21ないし23のいずれかに記載の金属部材
の表面処理方法。24. The surface treatment method for a metal member according to claim 21, wherein the thickness of the adhesion reinforcing layer is 1 μm or less.
被膜とともに前記保護層の少なくとも一部を除去する請
求項16ないし24のいずれかに記載の金属部材の表面
処理方法。25. The method according to claim 16, wherein at least a part of the protective layer is removed together with the masking film by the laser beam.
被膜とともに前記保護層および前記金属部材の一部を除
去する請求項16ないし24のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。26. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein the laser beam removes a part of the protection layer and the metal member together with the masking film.
による請求項16ないし26のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。27. The method according to claim 16, wherein the masking film is formed by electrodeposition coating.
0μmである請求項16ないし27のいずれかに記載の
金属部材の表面処理方法。28. The thickness of the masking film is 10 to 3
The surface treatment method for a metal member according to any one of claims 16 to 27, wherein the thickness is 0 µm.
である請求項16ないし28のいずれかに記載の金属部
材の表面処理方法。29. The method according to claim 16, wherein the etching is wet etching.
である請求項29に記載の金属部材の表面処理方法。30. The method according to claim 29, wherein the etching is shower etching.
形成された凹部の深さが20μm以上である請求項16
ないし30のいずれかに記載の金属部材の表面処理方
法。31. The recess formed in the metal member by the etching has a depth of 20 μm or more.
31. The surface treatment method for a metal member according to any one of claims 30 to 30.
16ないし31のいずれかに記載の金属部材の表面処理
方法。32. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein a coating layer is formed in the concave portion.
16ないし32のいずれかに記載の金属部材の表面処理
方法。33. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein a colored layer is formed in the concave portion.
請求項16ないし33いずれかに記載の金属部材の表面
処理方法。34. The surface treatment method for a metal member according to claim 16, wherein the metal member is a watch exterior part.
た金属部材であって、 前記金属部材の表面に保護層が形成され、前記凹部はそ
の一部がレーザー光の照射により形成され、エッチング
により完成されたものであることを特徴とする金属部
材。35. A metal member having a predetermined pattern of concave portions formed on a surface thereof, wherein a protective layer is formed on a surface of the metal member, and the concave portion is partially formed by laser light irradiation, and is etched. A metal member characterized by being completed.
である請求項35に記載の金属部材。36. The protective layer has a thickness of 0.5 to 30 μm.
36. The metal member according to claim 35, wherein:
が20μm以上である請求項35または36に記載の金
属部材。37. The metal member according to claim 35, wherein a depth of the concave portion formed in the metal member is 20 μm or more.
請求項35ないし37のいずれかに記載の金属部材。38. The metal member according to claim 35, wherein a coating layer is formed in the recess.
請求項35ないし38のいずれかに記載の金属部材。39. The metal member according to claim 35, wherein a colored layer is formed in the concave portion.
請求項35ないし39のいずれかに記載の金属部材。40. The metal member according to claim 35, wherein the metal member is a watch exterior part.
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---|---|---|---|
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JPH11256364A true JPH11256364A (en) | 1999-09-21 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1998
- 1998-03-09 JP JP05719798A patent/JP3477067B2/en not_active Expired - Fee Related
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