JPH11248326A - 冷凍機 - Google Patents

冷凍機

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JPH11248326A
JPH11248326A JP6025798A JP6025798A JPH11248326A JP H11248326 A JPH11248326 A JP H11248326A JP 6025798 A JP6025798 A JP 6025798A JP 6025798 A JP6025798 A JP 6025798A JP H11248326 A JPH11248326 A JP H11248326A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 サンプルを大変低温に冷却するための冷凍機
を提供するにある。 【解決手段】 サンプル（１６、１７）を冷却するため
の冷凍機は、使用中のときに気体4Hｅを貯蔵するための
リザーバ（１）と、リザーバからの気体4Hｅを冷却する
ための冷却機（１３）と、冷却機を介して容器と流体連
通しているヘリウム容器（１８、１９）と、を有する。
ヘリウム容器は使用中4Hｅを収容し、サンプルが、使用
中、ヘリウム容器内の4Hｅと熱接触して設けられ、それ
によって、ヘリウム容器内の4Hｅは、熱がサンプルから
冷却機に伝達する経路を作る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する分野】本発明はサンプルを冷却するため
の冷凍機に関する。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】サンプル
を大変低温に冷却するための冷凍機が多数知られてい
る。１つの周知の冷凍機では、サンプルが液体4Hｅの浴
に漬けられる。熱エネルギーが液体4Hｅの伝導及び対流
によってサンプルから効率的に除去され、そして液体4H
ｅの蒸発潜熱によって吸収される。しかしながら、この
装置は多くの問題を有している。第１に、4Hｅが蒸発す
るから、浴に貯蔵ジュワーから液体4Hｅを補給してサン
プルが完全に漬かったままであるようにしなければなら
ない。第２には、サンプルを完全に漬けるのには、また
必要とされる補給頻度を最小にするのには大量の液体4H
ｅを必要とする。第３には、サンプルが加熱すれば、液
体4Hｅの突然の蒸発が液体上の圧力の危険な上昇を引き
起こす事がある。第４には、浴がいっぱいである時、装
置を逆さにすることは不可能である。
【０００３】これらの問題を解決する試みでは、「寒剤
のない」装置がオックスホード器械で開発され、テスラ
７８ｍｍ室温ボア寒剤のない磁石参照番号Ｃｒｙｏｆ５
／７８として販売されている。寒剤のない装置は４．２
Ｋの温度で低温段階をもたらす冷却エンジンからなる。
サンプルは放射シールド及び真空空間によって室温から
遮蔽される。サンプル及び放射シールドは銅フランジの
ような熱伝導リンクによって低温段階に連結される。ヘ
リウム寒剤が必要とされないけれども、この装置は多く
の問題を有する。第１に、装置は室温から冷却するのに
長い時間がかかる。第２には、装置は冷却エンジンの限
られた有限の冷凍力により大きな又は突然の熱負荷を効
率的に吸収することができない。第３には、冷却エンジ
ンがパワー損失を受けるならば、装置は大変急速に暖ま
る。第４には、冷却エンジンは液体4Hｅ温度（即ち、４
Ｋの程度の温度にまでサンプルを冷却することができな
い。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の観点によ
れば、使用中であるときに、気体4Hｅを貯蔵するための
リザーバと、リザーバからの気体4Hｅを冷却するための
冷却機と、冷却機を介して容器と流体連通しているヘリ
ウム容器と、を有する、サンプルを冷却するための冷凍
機において、ヘリウム容器は使用中4Hｅを収容し、サン
プルが、使用中、ヘリウム容器内の4Hｅと熱接触して設
けられ、それによって、ヘリウム容器内の4Hｅは、熱が
サンプルから冷却機に伝達する経路をなしている、冷凍
機を提供する。本発明の第２の観点によれば、気体4Hｅ
のリザーバを準備し、リザーバからの気体4Hｅを冷却機
で冷却し、ヘリウム容器内に4Hｅを準備し、サンプルを
ヘリウム容器内の4Hｅと熱接触して設け、熱をヘリウム
容器内の4Hｅによって作られる経路に沿ってサンプルか
ら冷却機に伝達する、サンプルの冷却方法を提供する。
【０００５】本発明は普通の冷凍機と比較して多くの利
点を提供する。第１に、冷凍機は普通の液体4Hｅ浴装置
におけるよりも著しく少量の4Hｅを使用しながら、4Hｅ
の冷却性質を利用する。第２には、ヘリウム容器及びリ
ザーバは一緒になって、4Hｅを補給する必要のない密閉
容積を形成する。第３には、サンプルが急速に暖まるな
らば、4Hｅは圧力の危険な上昇を引き起こすことなく、
ヘリウム容器からリザーバの中へ安全に膨張する。冷却
機は4Hｅを4Hｅの沸点以上のほぼ２０Ｋまで冷却する。
この場合には、冷凍機内の4Hｅのすべてが気体である。
しかしながら、好ましくは、冷却機は気体 4Hｅを凝縮さ
せてヘリウム容器に流入させるのに十分なクーリングパ
ワーを有する。これは、液体4Hｅのより効率的な熱伝達
特性を利用する。例えば、液体4Hｅはサンプルを濡ら
し、かくして、サンプルの「ホットスポット」をより効
率的に除去する。加えて、凝縮した4Hｅが低温熱質量に
著しく加わり、それ故に、温度変動に対する免除を改善
する。
【０００６】サンプルは4Hｅと接してヘリウム容器内に
収容される。変形例として、サンプルはヘリウム容器の
外側のサンプル室内に収容され、熱伝導リンクによって
ヘリウム容器内の4Hｅに熱的に接続される。適当な冷却
機を使用しても良いが、典型的には、冷却機は閉サイク
ル極低温冷却機のような冷却エンジンからなる。好まし
い例では、冷却機はギホルドーマクマホンサイクル極低
温冷却機からなる。典型的には、冷凍機はサンプルを外
部放射から遮蔽する放射シールドを更に有する。この場
合には、冷却機は好ましくは放射シールドをも冷却す
る。4Hｅの容積の減少（普通のヘリウム浴と比較したと
き）により、冷凍機は室温から冷えるのに長い時間がか
かる。従って、好ましくは、冷凍機は液体窒素で冷凍機
を予備冷却するための液体窒素予備冷却装置を更に有す
る。
【０００７】液体窒素予備冷却装置は放射シールド及び
又はサンプルを予備冷却する。冷却時間もサンプルお呼
び又は放射シールドを冷却するための１つ又はそれ以上
の追加の冷却機を設けることによって短くすることがで
きる。典型的には、ヘリウム容器の容積は、使用中ヘリ
ウム容器内の4Hｅの容積全体が５リットル以下、好まし
くば、２リットル以下であるように選択される。サンプ
ルがヘリウム容器内に収容されるならば、この容積はサ
ンプルとヘリウム容器の内周との間の容積になる。この
場合には、ヘリウムと接触するサンプルの領域は典型的
には、１ｍ2 よりも大きい。好ましい冷却機では、容積
は１リットル乃至２リットルである。冷却機が4Hｅを凝
縮する場合には、ヘリウム容器と寒剤リザーバの体積
は、ヘリウム容器に流入する液体4Hｅの容積全体が５リ
ットルを超えない、好ましくは２リットルを超えないよ
うに等量に選択される。好ましい例では、凝縮した容積
は１リットル乃至２リットルである。
【０００８】好ましい実施形態では、サンプルから冷却
機に伝達する熱の追加の経路を与えるために固体の高熱
伝導リンクも設けられる。どんなサンプルをも冷凍機で
冷却することができるが、好ましくは、サンプルは超伝
導磁石からなる。4Hｅの効率的な熱運搬特性は、渦電流
加熱によって引き起こされる局部的な高温スポットを冷
却することが重要であるようなこの適応に特に相応し
い。加えて、磁石が冷えるならば、冷却機は突然の熱負
荷を容易に吸収することができ、蒸発する4Hｅが圧力の
危険な上昇を引き起こすことなくリザーバの中へ安全に
膨張することができる。磁石はＮｂ3 Ｓｎからなる材料
で形成されるのが良い。しかしながら、この材料は高価
であり、好ましくは、磁石はＮｂＴｉからなる材料で形
成される。
【０００９】
【発明の実施形態】今、本発明の例を添付図面を参照し
て説明する。図１を参照すると、ヘリウムガスボンベ１
がヘリウムガスをヘリウムガス強給弁３の制御の下に１
２００リットル容量のガス貯蔵タンク２に供給する。ヘ
リウムガス貯蔵タンク２は４．２Ｋで１ー２リットルの
液体ヘリウムに凝縮するのに十分なガスを室温で貯蔵す
る。ガス貯蔵タンク２は制御／常用キャビネット４内に
収容される。液体窒素ジュワー５が液体窒素を窒素供給
弁６を介して制御／常用キャビネット４に供給する。超
伝導磁石（図１に図示せず）はこの装置で冷却され、そ
して外真空ケーシング８内に収容される。低温ヘッド１
３と、コンプレッサー１４とを有する４Ｋギホードーマ
クマホーンサイクル極低温冷却機によって一次冷却力が
得られる。適当な４Ｋ超低温冷却機の例は、モデルＲＤ
Ｋー４０８Ｄ低温ヘッドとモデルＣＳＷ７１Ｂコンプレ
ッサーとを有する住友重工業株式会社製のＳＲＤＫー４
０８ＤＷ希土類強化極低温冷却機である。低温ヘッド１
２と、コンプレッサー１５とを有する２０Ｋギホードー
マクマホーンサイクル極低温冷却機によって二次冷却力
が得られる。全てのガス供給ライン及び電気供給ライン
が図２にもっと詳細に示すように、外装キャタピラー導
管１１内に収容される。
【００１０】図２を参照すると、コンプレッサー１４、
１５はそれぞれのヘリウム可撓性ライン６６、６７によ
って低温ヘッド１２、１３に接続される。可撓性ライン
６６、６７はヘリウムをコンプレッサーから低温ヘッド
に供給し、且つ又ヘリウムを低温ヘッドからコンデンサ
ーに戻す。ヘリウムガス供給ライン２３でのヘリウムの
流量はガスコントローラ２６によって制御される弁２
４、２５によって調整される。これらの弁は通常は開い
ていて磁石の冷却中急激な膨張を可能にする。室温から
４．２Ｋまでの冷却を加速するために、液体窒素が予備
冷却熱交換器に供給され、該熱交換器は磁石及び放射シ
ールド（以下に説明する）と熱接触している。液体窒素
は液体窒素コントローラ４１の制御の下に液体窒素供給
ライン４０から供給される。液体窒素コントローラ４１
は液体窒素をジュワー５から供給ライン４２を経て受
け、窒素ガスをベント４３から排出する。窒素は戻りラ
イン４４によって窒素コントローラ４１に戻される。
【００１１】コンデンサー１４、１５及びコントローラ
２６、４１はＰＣ４５によって制御される。ガス貯蔵タ
ンク２の圧力は圧力ゲージ４６でモニターすることがで
き、ヘリウム区画室３４、３５（図４及び５に示す）の
圧力は圧力ゲージ４７でモニターすることができる。
今、図３ー５を参照すると、超伝導磁石は一対の直列に
接続された超伝導ＮｂＴｉ磁石コイル１６、１７からな
る。各コイル１６、１７はそれぞれのアルミニウム巻型
５０、５１の縁部の周りに延びるＵ形溝に巻かれる。ア
ルミニウム巻型５０、５１は各々それぞれのステンレス
又は銅製の磁石容器１８、１９にボルト止めされ且つ溶
接される。超伝導磁石スイッチ（図示せず）が磁石容器
１８、１９の一方に収容される。磁石容器１８、１９は
放射シールド２０の内側のストラットで吊り下げられて
いる。放射シールド２０は磁石及び超伝導スイッチを３
００Ｋ放射から遮蔽する。放射シールド２０は真空絶縁
をもたらし、かつ装置の外部インターフェースとして作
用する外側真空ケーシング８内に収容される。
【００１２】各コイル１６、１７は１８９０ｍｍの内
径、１９６０ｍｍの外径、及び２００ｍｍの幅（図４及
び５で左から右）を有する。従って、液体ヘリウムによ
って濡らされる磁石の領域は１．９６ｍ×π×０．２ｍ
＝１．２３ｍ2 である。コイルは０．２５Ｔの磁界を
発生させる。供給ライン４０からの液体窒素が２０Ｋ冷
却機を収容するターレットの入口ポート５３（図３）に
供給される。入口ポート５３は、５４で指示したよう
に、放射シールド２０の内側に巻かれ、５５で指示した
ように、磁石容器１８、１９の外側に巻かれた連続長さ
の６ー１０ｍｍ外径の管を有する熱交換機に通じてい
る。熱交換機からの液体窒素は出口ポート５６（図３）
を経て戻りライン４４に出る。
【００１３】図５（４Ｋ極低温冷却機の低温ヘッド１３
を示す）を参照すると、低温ヘッド１３は冷却室２９内
に設けられた第１低温ステーション２７及び第２低温ス
テーション２８を有する。極低温冷却機は、課せられる
熱負荷に応じて、第１段階低温ステーション２７のため
に、２５Ｋ乃至４０Ｋの範囲の、及び第２低温ステーシ
ョン２８のために、３．５Ｋ乃至４．２Ｋの範囲の温度
で連続閉サイクル冷凍を生じさせる。低温ヘッド１２、
１３は各々放射シールド２０との伝導性連結を有し、従
って、伝導によって放射シールドを冷却する。ヘリウム
供給ライン２３は入力部７を介して低温ヘッド１３に接
続される。入力部７は冷却室２９と流体連通している。
冷却室２９も、Ｔー接合部３１に延びる供給ライン３０
と流体連通している。Ｔー接合部３１からの供給ライン
３２、３３は各々磁石１６、１７とそのそれぞれの磁石
容器１８、１９の内周との間ヘリウム室３４、３５と連
通する。従って、ヘリウム室３４、３５は各々４Ｋ低温
ヘッド１３を介して貯蔵タンク２と流体連通している。
磁石コイル１６、１７とそれらのそれぞれの磁石容器と
の間の空間は１ー５ｍｍの程度のものであり、各ヘリウ
ム室３４、３５の容積は１リットル程度のものである。
【００１４】低温段階２８とコイル１６、１７との間に
は、銅フランジ５８に取り付けられた銅編み組５７の多
数のストランドによって中実の高熱伝導リンクが作られ
る。低温ヘッド１３は又磁石を作動する電流リード線
（図示せず）及び超伝導スイッチを作動するためのリー
ド線（図示せず）を収容する。磁石の電流リード線は真
鍮か、或いは好ましくは、高温超伝導体のいずれかでよ
い。装置は次の方法で室温から冷却される。 1 ．先ず、外側真空ケーシング内の圧力を適当な真空ポ
ンプを使用して８乃至１×１０-4ミリバールに減ずる事
が必要である。初期のポンプダウンの後、真空保全性は
収着ポンプ（図示せず）によって維持される。 2 ．極低温冷却機１２ー１５にスイッチを入れる。
【００１５】3 ．液体窒素供給弁６０を開く。 4 ．液体窒素コントローラ４１は液体窒素を予備冷却熱
交換機を介して磁石容器１８、１９及び放射シールド２
０の周りに液送する。これは、放射シールド２０及び超
伝導磁石コイル１６、１７を冷却する。 5 ．液体窒素供給弁６０を閉じ、戻り弁６１を開く。 6 ．ヘリウムガスでベント側からパージすることによっ
て、液体窒素を装置から取り出す。これは、残留液体窒
素を予備冷却熱交換機から液体窒素貯蔵ジュワー５に吸
い戻す。放射シールド及び磁石コイルが凝固点以下に冷
えたとき、液体窒素が放射シールド２０及び磁石コイル
１６、１７上で凍結固体になるから、液体窒素を除去す
ることが必要である。加えて、窒素は著しい熱質量有
し、該熱質量は本当は有用ではないから、低温ヘッドク
ーリングパワーは浪費されて窒素を冷却する。
【００１６】7 ．磁石は低温ヘッド１２、１３との固体
の熱伝導性取り付け部（即ち、フランジ５８及び編み組
５７）の伝導により、また磁石を取り囲むヘリウムガス
の対流及び伝導により、冷却され、即ちヘリウム室３
４、３５内のヘリウムガス及び供給ライン３１、３２、
３３に沿うヘリウムガスは磁石コイル１６、１７から冷
却室２９への熱伝達経路を作る。 8 ．第２低温段階２８がガス圧力でヘリウム飽和温度以
下に減少すると、液体ヘリウムの凝縮が第２低温段階で
起こる。次いで、液体ヘリウムは供給ライン３１に沿っ
て流れ、供給ライン３２、３３を経てヘリウム室３４、
３５に流入する。 9 ．温度が更に下がり、液体ヘリウムの凝縮が続くと、
磁石コイル１６、１７及び超伝導スイッチ（図示せず）
が先ず液体ヘリウムで濡らされ、遂には、液体ヘリウム
に完全に漬けられる。
【００１７】10．凝縮は、圧力が、凝縮が終わるヘリウ
ム飽和圧力と等しくなるまで続く。この時点で、ガス貯
蔵タンク２は減少した圧力で室温になる。 11．今や、磁石コイル１６、１７及び超伝導スイッチは
ほぼ４Ｋであり、普通の方法で作動することができる。 装置の液体窒素による予備冷却を使用して装置を室温か
らほぼ４．２Ｋまで完全に冷却するのに必要とされる時
間は磁石のトン当たりほぼ２４時間である。ガス貯蔵タ
ンク２の圧力対磁石の温度を図６に示す。分かるよう
に、圧力は１バールよりも大きく、典型的には、１バー
ルから２バールの間にある。正常な操作中、圧力はヘリ
ウム回路のあらゆるところ（即ち、貯蔵タンク２、冷却
室２９、供給ライン３０、３２、３３及びヘリウム室３
４、３５）で実質的に同じである。しかしながら、ヘリ
ウムガス供給ライン２３が修理中外されるときに、ヘリ
ウム室３４、３５の別々の圧力ゲージ４７が必要とされ
る。再び接続する前に、ヘリウム室３４、３５の圧力と
貯蔵タンク２の圧力を圧力ゲージ４６、４７を参照して
等しくする。
【００１８】磁石コイル１６、１７の高温スポット（渦
電流等で発生される）は液体ヘリウムの伝導及び対流に
よって及び液体ヘリウムの蒸発潜熱によって急速に冷却
される。その過程で蒸発したヘリウムは、磁石が不変モ
ードにあるときに、後で再び凝縮される。停電の場合に
は（或いは、４Ｋ極低温冷却機１３、１４を交換又は修
理しなければならない場合には）磁石を冷やすおおよそ
の時間は一時間程度のもので、全体のヘリウム容積及び
低温保持装置の形態で決まる。電力が再び接続される間
（或いは４Ｋ極低温冷却機１３、１４を交換又は修理さ
れる間）磁石を予め選択された定置磁界で不変モードに
維持することができ、磁石が低温に保たれる限り、磁石
は作動し続ける。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による冷凍機の例の第１の概略図であ
る。
【図２】電子及びガス設備を示す、図１の装置の第２の
概略図である。
【図３】磁石装置の平面図である。
【図４】図３のＹーＹ線に沿う断面図である。
【図５】４Ｋ極低温冷却機を示す、図３のＺーＺ線にお
ける断面図である。
【図６】ヘリウムガス貯蔵タンクの圧力対磁石の温度を
示すグラフである。
【符号の説明】
１ リザーバ ５ 液体窒素による予備冷却装置 １６ 超伝導磁石（サンプル） １７ 超伝導磁石（サンプル） １８ ヘリウム容器 １９ ヘリウム容器 ２０ 放射シールド
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年４月１３日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【図３】
【図４】
【図２】
【図５】
【図６】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ケヴィン ウィリアム ジョン ティーム ズ イギリス オックソン オーエックス８ １ピーキュー ウィットニー エインシャ ム ウィットニー ロード 10 (72)発明者 ピーター デレク ダニエルズ イギリス ノーザンプトンシャー エヌエ ヌ１ ３アールエックス ダヴェントリー ウッドフォード ホールズ ウィーロー クローズ ７

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 使用中のときに気体4Hｅを貯蔵するため
    のリザーバ（１）と、リザーバからの気体4Hｅを冷却す
    るための冷却機（１３）と、冷却機を介して容器と流体
    連通しているヘリウム容器（１８、１９）と、を有す
    る、サンプル（１６、１７）を冷却するための冷凍機に
    おいて、ヘリウム容器は使用中4Hｅを収容し、サンプル
    が、使用中、ヘリウム容器内の4Hｅと熱接触して設けら
    れ、それによって、ヘリウム容器内の4Hｅは、熱がサン
    プルから冷却機に伝達する経路をなす、冷凍機。
  2. 【請求項２】 冷却機（１３）は気体4Hｅを凝縮させ且
    つヘリウム容器に流入させるのに十分なクーリングパワ
    ーを有する、請求項１に記載の冷凍機。
  3. 【請求項３】 ヘリウム容器（１８、１９）の容積及び
    リザーバ（１）の容積は、ヘリウム容器に流入する液体
    4Hｅの全容積が５リットルを超えないように選択され
    る、請求項２に記載の冷凍機。
  4. 【請求項４】 ヘリウム容器（１８、１９）の容積及び
    リザーバ（１）の容積は、ヘリウム容器に流入する液体
    4Hｅの全容積が２リットルを超えないように選択され
    る、請求項３に記載の冷凍機。
  5. 【請求項５】 サンプル（１６、１７）が、使用中、ヘ
    リウム容器（１８、１９）内に収容される、請求項１乃
    至４のいずれか１項に記載の冷凍機。
  6. 【請求項６】 冷却機（１３）は閉サイクル極低温冷却
    機からなる、請求項１乃至５のいずれか１項に記載の冷
    凍機。
  7. 【請求項７】 冷却機（１３）はギフホードーマクマホ
    ーンサイクル極低温冷却機からなる、請求項６に記載の
    冷凍機。
  8. 【請求項８】 サンプルを外部放射から遮蔽する放射シ
    ールド（２０）を更に有する、請求項１乃至７のいずれ
    か１項に記載の冷凍機。
  9. 【請求項９】 冷却機（１３）は放射シールド（２０）
    を冷却する、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の冷
    凍機。
  10. 【請求項１０】 冷凍機を液体窒素で予備冷却するため
    の液体窒素による予備冷却装置（５）を更に有する、請
    求項１乃至９のいずれか１項に記載の冷凍機。
  11. 【請求項１１】 液体窒素による予備冷却装置（５）は
    放射シールドを予備冷却する、請求項８又は１０に記載
    の冷凍機。
  12. 【請求項１２】 液体窒素による予備冷却装置（５）は
    サンプルを予備冷却する、請求項１０又は１１に記載の
    冷凍機。
  13. 【請求項１３】 サンプル及び又は放射シールドを冷却
    するための１つ又はそれ以上の追加の冷却機（１２）を
    更に有する請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の冷
    凍機。
  14. 【請求項１４】 ヘリウム容器（１８、１９）の容積、
    ヘリウム容器内の使用中の4Hｅの全容積が５リットルよ
    りも少ないように選択される、請求項１乃至１３のいず
    れか１項に記載の冷凍機。
  15. 【請求項１５】 ヘリウム容器（１８、１９）の容積
    は、ヘリウム容器内の使用中の4Hｅの全容積が２リット
    ルよりも少ないように選択される、請求項１４に記載の
    冷凍機。
  16. 【請求項１６】 サンプルから冷却機に伝達する熱の追
    加の経路をなす固体熱伝導リンクを更に有する、請求項
    １乃至１５のいずれか１項に記載の冷凍機。
  17. 【請求項１７】 請求項１乃至１６のいずれか１項に記
    載の冷凍機と、ヘリウム容器内の4Hｅと熱接触して設け
    られた超伝導磁石（１６）とを有し、それによって、ヘ
    リウム容器内の4Hｅがサンプルから冷却機に伝達する熱
    の経路をなす、磁界を発生させるための装置。
  18. 【請求項１８】 超伝導磁石に接続された１つ又はそれ
    以上の電流リード線を更に有し、電流リード線は高温超
    伝導体で作られる、請求項１６に記載の装置。
  19. 【請求項１９】 気体4Hｅを貯蔵するためのリザーバ
    （１）は室温リザーバである請求項１乃至１８のいずれ
    か１項に記載の冷凍機。
  20. 【請求項２０】 気体4Hｅのリザーバ（１）を準備し、
    リザーバ（１）からの気体4Hｅを冷却機（１３）で冷却
    し、ヘリウム容器（１８、１９）内に4Hｅを入れ、サン
    プル（１６、１７）をヘリウム容器内の4Hｅと熱接触し
    て設け、熱を、ヘリウム容器内の4Hｅによって作られる
    経路に沿ってサンプルから冷却機に伝達する、サンプル
    （１６、１７）を冷却する方法。
  21. 【請求項２１】 気体4Hｅのリザーバ（１）を準備し、
    リザーバ（１）からの気体4Hｅを冷却機（１３）で冷却
    し、ヘリウム容器（１８、１９）内に4Hｅを入れ、超伝
    導磁石（１６、１７）をヘリウム容器内の4Hｅと熱接触
    して設け、熱を、ヘリウム容器内の4Hｅによって作られ
    る経路に沿って超伝導磁石から冷却機に伝達する、磁界
    を発生させる方法。
JP6025798A 1998-02-19 1998-03-12 冷凍機 Abandoned JPH11248326A (ja)

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