JPH11243246A - External resonator semiconductor laser - Google Patents

External resonator semiconductor laser

Info

Publication number
JPH11243246A
JPH11243246A JP4245298A JP4245298A JPH11243246A JP H11243246 A JPH11243246 A JP H11243246A JP 4245298 A JP4245298 A JP 4245298A JP 4245298 A JP4245298 A JP 4245298A JP H11243246 A JPH11243246 A JP H11243246A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
beam conversion
laser
substrate
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4245298A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Akimoto
浩司 秋本
Yuji Uenishi
祐司 上西
Yoshimasa Katagiri
祥雅 片桐
Shinji Nagaoka
新二 長岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP4245298A priority Critical patent/JPH11243246A/en
Publication of JPH11243246A publication Critical patent/JPH11243246A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor laser which is due to stabilize its operation by providing a beam converting function thereto. SOLUTION: A semiconductor laser 7, including a beam converter 6 of a beam conversion function having an anti-reflective film formed thereon, is formed on a relatively low level surface of a silicon substrate 1. Furthermore, a comb-like electrode 2, having a micro-mirror 5 fixed thereto as well as two anchors 4 having a center beam 3 straddled as fixed therebetween, are formed on a relatively high level surface of the substrate 1. These constituent elements are integrally formed on the substrate 1 so that interconnection between the micro-mirror 5 and electrode 2 is carried on the substrate 1 by the beam 3 which is spaced from the substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外部共振器半導体
レーザに係わり、特に、簡易な構成で動作の安定化が図
られる外部共振器半導体レーザに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an external cavity semiconductor laser, and more particularly, to an external cavity semiconductor laser having a simple structure and capable of stabilizing operation.

【0002】[0002]

【従来の技術】外部共振器半導体レーザは、半導体レー
ザの外部に、平面鏡、凹面鏡、回折格子等の光学デバイ
スを外部反射鏡として設け、半導体レーザから発振され
る光を外部反射鏡によって半導体レーザチップに再度戻
すことにより、外部反射鏡と半導体レーザの端面を共振
器として光発振を起こさせるレーザ装置である。
2. Description of the Related Art An external cavity semiconductor laser is provided with an optical device such as a plane mirror, a concave mirror, or a diffraction grating as an external reflector outside a semiconductor laser, and oscillates light from the semiconductor laser by the external reflector. This is a laser device that causes light oscillation by using the end faces of the external reflecting mirror and the semiconductor laser as resonators by returning to the above.

【0003】この外部共振器半導体レーザのレーザ発振
波長特性や光出力特性は、半導体レーザと外部反射鏡と
の距離、変位、さらには回折格子の設定角度に大きく依
存するため、半導体レーザと外部反射鏡との距離等を変
動させずにレーザ発振動作の安定化を図るために、大が
かりな装置構成となっていてそのコストも非常に高いも
のであった。
The laser oscillation wavelength characteristics and optical output characteristics of this external cavity semiconductor laser greatly depend on the distance and displacement between the semiconductor laser and the external reflection mirror and the set angle of the diffraction grating. In order to stabilize the laser oscillation operation without changing the distance from the mirror or the like, a large-scale apparatus configuration is used, and the cost is very high.

【0004】そこで、従来においては、例えば特願平4
−335825号公報記載の技術のように、同一の基板
上に半導体レーザと外部反射鏡とマイクロアクチュエー
タとをハイブリッド集積して、動作の安定化を図る外部
共振器半導体レーザが提案されていた。
Therefore, conventionally, for example, Japanese Patent Application No.
As in the technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 335825, an external cavity semiconductor laser has been proposed which stabilizes the operation by hybrid-integrating a semiconductor laser, an external reflector and a microactuator on the same substrate.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特願平
4−335825号公報記載の外部共振器半導体レーザ
装置にあっては、ストライプ型の半導体レーザからの出
射光の広がりが大きくなってしまうため、外部反射鏡か
ら半導体レーザへの反射戻り光量が、外部反射鏡の微小
な変位に対しても大きく変化してしまい、内部のキャリ
ア変動による波長シフトを引き起こしてしまう等の問題
があった。
However, in the external cavity semiconductor laser device described in Japanese Patent Application No. 4-335825, the spread of the light emitted from the stripe-type semiconductor laser increases. There has been a problem that the amount of reflected light returning from the external reflector to the semiconductor laser greatly changes even with a minute displacement of the external reflector, causing a wavelength shift due to internal carrier fluctuation.

【0006】また、ビーム変換を行うように、セルフォ
ックレンズ等を後付けすることも考えられるが、レンズ
等の光デバイスを後付けする際のアライメント調整は面
倒であるので製造工程が複雑となりコスト高も招くとい
う問題もあった。
Although it is conceivable to retrofit a selfoc lens or the like so as to perform beam conversion, alignment adjustment when retrofitting an optical device such as a lens is troublesome, so that the manufacturing process becomes complicated and cost increases. There was also a problem of inviting.

【0007】本発明は、このような従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、半導体レーザ
にビーム変換機能をもたせて動作の安定化を図った外部
共振器半導体レーザを提供する点にある。
The present invention has been made to solve such a conventional problem, and an object of the present invention is to provide an external cavity semiconductor laser in which a semiconductor laser has a beam conversion function to stabilize the operation. The point is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1に係る発明は、共振器長を制御可能な半導
体レーザであって、反射鏡を所定方向に移動して前記共
振器長を制御可能とする駆動機構と、反射防止部を備え
た半導体レーザと、を前記反射防止部から出力されたレ
ーザ光が前記可動反射鏡に入射されるように基板上に一
体に形成すると共に、前記半導体レーザに、それから発
光されるレーザ光のビーム変換を行うビーム変換部を備
えたことを特徴とする外部共振器半導体レーザである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor laser capable of controlling the length of a resonator, the reflector being moved in a predetermined direction by moving a reflecting mirror. A drive mechanism capable of controlling the length, and a semiconductor laser having an anti-reflection portion, and a laser beam output from the anti-reflection portion are integrally formed on a substrate so that the laser light is incident on the movable reflecting mirror. An external cavity semiconductor laser, characterized in that the semiconductor laser is provided with a beam converter for performing beam conversion of laser light emitted from the semiconductor laser.

【0009】また、請求項2に係る発明は、請求項1に
おいて、前記ビーム変換部は、前記半導体レーザの活性
層に連結されるテーパ形状導波路で構成されることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the beam conversion section is constituted by a tapered waveguide connected to an active layer of the semiconductor laser.

【0010】請求項1、2の発明によれば、ビーム変換
部が、半導体レーザからの発振光の集光や出射光の広が
り角度を狭くしたりするビーム変換を行って、反射鏡に
光を入射するので、半導体レーザへの反射戻り光量が反
射鏡の変位に依存しにくくなり、動作の安定化が図られ
るようになる。
According to the first and second aspects of the present invention, the beam conversion unit performs beam conversion for condensing the oscillation light from the semiconductor laser and narrowing the spread angle of the emitted light, and transmits the light to the reflecting mirror. Since the light is incident, the amount of light reflected back to the semiconductor laser hardly depends on the displacement of the reflecting mirror, and the operation can be stabilized.

【0011】さらに、請求項3に係る発明は、請求項1
および2のいずれかにおいて、前記反射防止部は、端面
の存在方向が半導体レーザの光軸方向と斜めになるよう
に、前記ビーム変換部の端面が加工されて形成されるこ
とを特徴とする。
Further, the invention according to claim 3 is based on claim 1.
In any one of (2) and (2), the antireflection section is formed by processing the end face of the beam conversion section so that the direction in which the end face exists is oblique to the optical axis direction of the semiconductor laser.

【0012】これによれば、ビーム変換部の端面が反射
防止作用を持つので、誘電体多層膜等を特に設けなくて
も、簡易な構成で反射防止部を実現できる。
According to this, since the end face of the beam conversion section has an antireflection effect, the antireflection section can be realized with a simple configuration without particularly providing a dielectric multilayer film or the like.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しつつ説明する。図1は、本発明の実施の形態に
係る外部共振器半導体レーザの外観構成図である。図1
に示すように、この実施の形態に係る外部共振器半導体
レーザは、図示しない反射防止膜を備えビーム変換機能
を有するビーム変換部6を設けた半導体レーザ7が、シ
リコン基板1における相対的に低い面に形成されてい
る。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is an external configuration diagram of an external cavity semiconductor laser according to an embodiment of the present invention. FIG.
As shown in the figure, in the external cavity semiconductor laser according to this embodiment, the semiconductor laser 7 provided with an anti-reflection film (not shown) and the beam conversion unit 6 having a beam conversion function is relatively low in the silicon substrate 1. Formed on the surface.

【0014】また、マイクロミラー5を固定した櫛形電
極2と、両持ち梁3を固定した2つのアンカー4とがシ
リコン基板1における相対的に高い面に形成されてい
る。これらの各構成要素はシリコン基板1上に一体に形
成されていて、また、マイクロミラー5と櫛形電極2と
の接続部は、両持ち梁3によってシリコン基板1と離れ
た状態で支えられている。
A comb-shaped electrode 2 to which a micro mirror 5 is fixed and two anchors 4 to which a doubly supported beam 3 is fixed are formed on a relatively high surface of the silicon substrate 1. These components are integrally formed on the silicon substrate 1, and the connection between the micromirror 5 and the comb-shaped electrode 2 is supported by the doubly supported beam 3 in a state separated from the silicon substrate 1. .

【0015】櫛形電極2とアンカー4との間に電圧を印
加すると、この印加電圧に対応する距離だけマイクロミ
ラー5が半導体レーザ7の光軸方向において移動し共振
器長(半導体レーザ5の手前側端面とマイクロミラー3
との距離)が移動制御されるとともに、印加電圧が無く
なった場合には、両持ち梁3の張力によってマイクロミ
ラー5が元の位置に戻るようになっている。
When a voltage is applied between the comb electrode 2 and the anchor 4, the micromirror 5 moves in the optical axis direction of the semiconductor laser 7 by a distance corresponding to the applied voltage, and the cavity length (the front side of the semiconductor laser 5) End face and micro mirror 3
Is controlled, and when the applied voltage is lost, the micromirror 5 returns to the original position by the tension of the doubly supported beam 3.

【0016】以下、模式的構成図を用いて具体的な実施
の形態について説明する。図2は、第1の実施の形態に
係る外部共振器半導体レーザの上面の模式的構成図であ
る。
A specific embodiment will be described below with reference to a schematic configuration diagram. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an upper surface of the external cavity semiconductor laser according to the first embodiment.

【0017】半導体レーザ7の端部にはビーム変換部6
が設けられ、さらに、このビーム変換部6には、誘電体
多層膜等からなる反射防止膜8が設けられている。マイ
クロミラー5を固定した櫛形電極2と、両持ち梁3を固
定した2つのアンカー4とが設けられていて、マイクロ
ミラー3と櫛形電極2との接続部は、両持ち梁3によっ
て基板(図示せず)と離れた状態で支えられている。こ
れらの各構成要素は図示しない基板に一体に形成されて
いる。
A beam conversion unit 6 is provided at an end of the semiconductor laser 7.
Further, the beam conversion unit 6 is provided with an antireflection film 8 made of a dielectric multilayer film or the like. A comb-shaped electrode 2 to which a micromirror 5 is fixed and two anchors 4 to which a doubly supported beam 3 is fixed are provided. A connection portion between the micromirror 3 and the comb-shaped electrode 2 is formed by a doubly supported beam 3 on a substrate (see FIG. (Not shown). These components are integrally formed on a substrate (not shown).

【0018】なお、半導体レーザ7およびビーム変換部
6としては、文献「マイクロレンズを用いた半導体レー
ザと光ファイバの集積形結合素子、電子情報通信学会論
文誌、C−I、vol.J77−C−I No.6 p
p390−397 1994年6月」に記載されている、レ
ンズ一体形成半導体レーザ等を用いればよく、これは、
ストライプ型の半導体レーザの端面近傍にガラス材料等
からなるレンズを設けて半導体レーザとレンズとを同一
基板上に一体形成して製造されるもので、レンズによっ
てレーザ光を集光するというビーム変換を行う。
The semiconductor laser 7 and the beam converter 6 are described in the document "Integrated Coupler of Semiconductor Laser and Optical Fiber Using Microlens, Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers, CI, vol. J77-C." -I No.6 p
p390-397, June 1994 "may be used.
It is manufactured by providing a lens made of glass material or the like near the end surface of a stripe type semiconductor laser and integrally forming the semiconductor laser and the lens on the same substrate. Do.

【0019】半導体レーザ7から出射された光は、ビー
ム変換部6であるレンズ一体形成半導体レーザのレンズ
によって集光され、この集光された光は反射防止膜8を
介してマイクロミラー5に入射される。さらに、この入
射された光は、櫛形電極2とアンカー4間に印加された
電圧によって、その位相が制御されながら(共振器長が
制御されながら)マイクロミラー5によって反射され、
この反射された戻り光は、再度、反射防止膜8を介して
半導体レーザ7に入射されて、半導体レーザ端面から取
り出されるという動作が行われる。
The light emitted from the semiconductor laser 7 is condensed by the lens of the lens-integrated semiconductor laser, which is a beam conversion unit 6, and the condensed light enters the micromirror 5 via the antireflection film 8. Is done. Further, the incident light is reflected by the micromirror 5 while its phase is controlled (while the resonator length is controlled) by the voltage applied between the comb-shaped electrode 2 and the anchor 4,
The reflected return light is again incident on the semiconductor laser 7 via the antireflection film 8 and is taken out from the end face of the semiconductor laser.

【0020】これによれば、半導体レーザ7から出射さ
れた光を、ビーム変換部6によって集光することによっ
て、半導体レーザへの反射戻り光量がマイクロミラー5
の変位に依存しにくくなり、レーザ動作の安定化が図ら
れるようになる。
According to this, the light emitted from the semiconductor laser 7 is condensed by the beam converter 6 so that the amount of light reflected back to the semiconductor laser is reduced by the micro mirror 5.
And the laser operation is stabilized.

【0021】図3は、第2の実施の形態に係る外部共振
器半導体レーザの上面の模式的構成図である。第1の実
施の形態におけるものと同一のものは同一の符号を付し
て示している。この実施の形態は、ビーム変換部6を、
半導体レーザ7の活性層7aに連結されるテーパ形状導
波路9で構成した点に特徴がある。
FIG. 3 is a schematic structural view of the upper surface of the external cavity semiconductor laser according to the second embodiment. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. In this embodiment, the beam conversion unit 6
It is characterized in that it is constituted by a tapered waveguide 9 connected to the active layer 7a of the semiconductor laser 7.

【0022】図4は半導体レーザ7およびテーパ形状導
波路9で構成したビーム変換部6の外観図であり、この
図に示すように、活性層7aに連結される導波路をテー
パ形状としてテーパ形状導波路9を構成し、このテーパ
形状導波路9によって活性層7aから誘導放出されたレ
ーザビームのスポットサイズを変換するというビーム変
換を行う。このようなスポットサイズ変換付きレーザダ
イオードについては、「1995年電子情報通信学会エレク
トロニクスソサイエティ大会、論文集SC−1−3」等
の文献に詳細な説明が記載されており、活性層長さを3
00〜400(μm)、テーパ形状長さを300(μ
m)程度にし、活性層、テーパ形状導波路9をInGa
AsP(MQW)、InGaAsP(バルク型)とすれ
ば、テーパ形状導波路9に入射された光のスポットサイ
ズは順次大きくなって2.5〜3(μm)程度まで大き
くなることが確認されている。
FIG. 4 is an external view of a beam converter 6 composed of a semiconductor laser 7 and a tapered waveguide 9. As shown in FIG. 4, the waveguide connected to the active layer 7a has a tapered shape. A waveguide 9 is formed, and the taper-shaped waveguide 9 performs beam conversion of changing the spot size of the laser beam stimulatedly emitted from the active layer 7a. Such a laser diode with spot size conversion is described in detail in a document such as "1995 IEICE Electronics Society Conference, SC-1-3," and the length of the active layer is 3
00 to 400 (μm), taper shape length 300 (μm)
m), and the active layer and the tapered waveguide 9 are made of InGa.
In the case of using AsP (MQW) or InGaAsP (bulk type), it has been confirmed that the spot size of the light incident on the tapered waveguide 9 gradually increases to about 2.5 to 3 (μm). .

【0023】半導体レーザ7から出射された光は、ビー
ム変換部6であるテーパ形状導波路9によってスポット
サイズが変換される。このスポットサイズが変換された
光は反射防止膜8を介してマイクロミラー5に入射され
る。さらに、この入射された光は、櫛形電極2とアンカ
ー4間に印加された電圧によって、その位相が制御され
ながらマイクロミラー5によって反射され、この反射さ
れた戻り光は、再度、反射防止膜8を介して半導体レー
ザ7に入射されて、半導体レーザ端面から取り出される
という動作が行われる。
The light emitted from the semiconductor laser 7 has its spot size converted by the tapered waveguide 9 which is the beam conversion unit 6. The light whose spot size has been converted is incident on the micromirror 5 via the antireflection film 8. Further, the incident light is reflected by the micromirror 5 while its phase is controlled by a voltage applied between the comb-shaped electrode 2 and the anchor 4, and the reflected return light is again reflected by the anti-reflection film 8. The laser beam is incident on the semiconductor laser 7 via the interface and is taken out from the end face of the semiconductor laser.

【0024】これによれば、半導体レーザ7から出射さ
れた光を、ビーム変換部6によってスポットサイズを大
きくし、その結果NAを小さくして出射光の広がり角度
を狭くできるので、半導体レーザへの反射戻り光量がマ
イクロミラー5の変位に依存しにくくなり、動作の安定
化が図られるようになる。また、このようなテーパ形状
導波路9は光集積技術によって小型に製造可能である。
According to this, the spot size of the light emitted from the semiconductor laser 7 can be increased by the beam conversion unit 6 and, as a result, the NA can be reduced and the spread angle of the emitted light can be narrowed. The amount of reflected return light is less likely to depend on the displacement of the micromirror 5, and operation can be stabilized. Further, such a tapered waveguide 9 can be manufactured in a small size by optical integration technology.

【0025】図5は、第3の実施の形態に係る外部共振
器半導体レーザの上面の模式的構成図である。第1の実
施の形態におけるものと同一のものは同一の符号を付し
て示している。この実施の形態は、反射防止膜8を設け
る替わりに、ビーム変換部6の端面を加工して反射防止
部を形成している点に特徴がある。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the upper surface of the external cavity semiconductor laser according to the third embodiment. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals. This embodiment is characterized in that, instead of providing the antireflection film 8, the end face of the beam converter 6 is processed to form the antireflection section.

【0026】図5に示すように、この実施の形態に外部
共振器レーザは、ビーム変換部6の端面10の存在方向
が半導体レーザの光軸方向と斜めになるように、ビーム
変換部6の端面が加工されている。なお、空気とビーム
変換部6との間に屈折率差が存在し光が屈折するため、
ビーム変換された光が適切にマイクロミラー5に入射さ
れるように、レーザ光の光軸方向をマイクロミラー5の
平面に垂直な方向に対して斜めになるように、半導体レ
ーザ7およびビーム変換部6を配置している。
As shown in FIG. 5, in this embodiment, the external cavity laser is provided so that the direction of the end face 10 of the beam converter 6 is oblique to the optical axis of the semiconductor laser. The end face is machined. In addition, since there is a refractive index difference between the air and the beam conversion unit 6 and light is refracted,
The semiconductor laser 7 and the beam converter are arranged so that the optical axis direction of the laser beam is oblique to the direction perpendicular to the plane of the micromirror 5 so that the beam-converted light is appropriately incident on the micromirror 5. 6 are arranged.

【0027】半導体レーザ7から出射された光は、ビー
ム変換部6でビーム変換が行われる。このビーム変換さ
れた光は端面10を介してマイクロミラー5に入射され
る。さらに、この入射された光は、櫛形電極2とアンカ
ー4間に印加された電圧によって、その位相が制御され
ながらマイクロミラー5によって反射され、この反射さ
れた戻り光は、再度、端面9を介して半導体レーザ7に
入射されて、半導体レーザ端面から取り出されるという
動作が行われる。
The light emitted from the semiconductor laser 7 is subjected to beam conversion by the beam converter 6. This beam-converted light is incident on the micro mirror 5 via the end face 10. Further, the incident light is reflected by the micromirror 5 while its phase is controlled by a voltage applied between the comb-shaped electrode 2 and the anchor 4, and the reflected return light passes through the end face 9 again. The laser beam is then incident on the semiconductor laser 7 and taken out from the end face of the semiconductor laser.

【0028】この端面10によれば、端面10の存在方
向と光軸方向とが直交しないので、端面10からの反射
光を少なくすることができ、もって誘電体多層膜等によ
って構成される反射防止膜と同様の作用を得ることが可
能となる。なお、端面10の存在方向が半導体レーザの
光軸方向とのなす角度は例えば8°程度にしておけばよ
く、また、図4の点線で示すように、第2の実施の形態
に係る外部共振器レーザにおいては、テーパ形状導波路
9のテーパ厚みが薄くなっている方の端面を加工すれば
良い。
According to the end face 10, since the direction in which the end face 10 is present is not orthogonal to the optical axis direction, the amount of light reflected from the end face 10 can be reduced. It is possible to obtain the same operation as that of the film. The angle between the direction in which the end face 10 exists and the direction of the optical axis of the semiconductor laser may be set to, for example, about 8 °. In addition, as shown by the dotted line in FIG. In the laser device, the end face of the tapered waveguide 9 having the smaller taper thickness may be processed.

【0029】以上説明してきたように、本発明の実施の
形態によれば、集光、スポットサイズ拡大等のビーム変
換によって、半導体レーザ5への反射戻り光量がマイク
ロミラー5の変位に依存しにくくなり、動作の安定化が
図られるようになる。また、半導体レーザ7およびビー
ム変換部6は、レンズ一体形成半導体レーザやテーパ形
状導波路9等によって実現できるので簡易で小型の装置
構成となる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the amount of light reflected back to the semiconductor laser 5 hardly depends on the displacement of the micromirror 5 due to beam conversion such as focusing and spot size expansion. Therefore, the operation can be stabilized. In addition, since the semiconductor laser 7 and the beam conversion unit 6 can be realized by a semiconductor laser integrally formed with a lens, a tapered waveguide 9, and the like, a simple and compact device configuration is obtained.

【0030】さらに、ビーム変換部6の簡単な端面加工
によって、反射防止部を実現可能になる。
Further, an antireflection section can be realized by simple processing of the end face of the beam conversion section 6.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1、2に係
る発明によれば、ビーム変換部が半導体レーザから発振
されるレーザ光のビーム変換を行うことにより、外部反
射鏡による反射戻り光量の変動を抑制して、レーザ発振
波長特性や光出力特性の安定化を図ることを可能にす
る。
As described above, according to the first and second aspects of the present invention, the beam conversion unit performs the beam conversion of the laser light oscillated from the semiconductor laser, so that the amount of light reflected back by the external reflecting mirror is obtained. Of the laser oscillation wavelength characteristic and the optical output characteristic can be stabilized.

【0032】特に、請求項2に係る発明によれば、ビー
ム変換部の大きさがさほど大きくならないので、外部共
振器半導体レーザの小型化を図ることができ一層外乱に
対する動作の安定化を図れる。
In particular, according to the second aspect of the present invention, since the size of the beam conversion portion does not increase so much, the size of the external cavity semiconductor laser can be reduced, and the operation against disturbance can be further stabilized.

【0033】また、請求項3に係る発明によれば、簡単
な加工で反射防止部を実現できる。
According to the third aspect of the present invention, the anti-reflection portion can be realized by simple processing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態に係る外部共振器半導体レ
ーザの外観構成図である。
FIG. 1 is an external configuration diagram of an external cavity semiconductor laser according to an embodiment of the present invention.

【図2】第1の実施の形態に係る外部共振器半導体レー
ザの上面の模式的構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an upper surface of the external cavity semiconductor laser according to the first embodiment.

【図3】第2の実施の形態に係る外部共振器半導体レー
ザの上面の模式的構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of an upper surface of an external cavity semiconductor laser according to a second embodiment.

【図4】半導体レーザ5およびテーパ形状導波路8で構
成したビーム変換部6の外観図である。
FIG. 4 is an external view of a beam conversion unit 6 including a semiconductor laser 5 and a tapered waveguide 8.

【図5】第3の実施の形態に係る外部共振器半導体レー
ザの上面の模式的構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an upper surface of an external cavity semiconductor laser according to a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シリコン基板 2 櫛形電極 3 両持ち梁 4 アンカー 5 マイクロミラー 6 ビーム変換部 7 半導体レーザ 7a 活性層 8 反射防止膜 10 端面 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Silicon substrate 2 Comb electrode 3 Doubly supported beam 4 Anchor 5 Micromirror 6 Beam conversion part 7 Semiconductor laser 7a Active layer 8 Anti-reflection film 10 End face

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長岡 新二 東京都新宿区西新宿三丁目19番2号 日本 電信電話株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Shinji Nagaoka 3-19-2 Nishishinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo Nippon Telegraph and Telephone Corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 共振器長を制御可能な半導体レーザであ
って、 反射鏡を所定方向に移動して前記共振器長を制御可能と
する駆動機構と、 反射防止部を備えた半導体レーザと、を前記反射防止部
から出力されたレーザ光が前記可動反射鏡に入射される
ように基板上に一体に形成すると共に、前記半導体レー
ザに、それから発光されるレーザ光のビーム変換を行う
ビーム変換部を備えたことを特徴とする外部共振器半導
体レーザ。
1. A semiconductor laser having a cavity length controllable, comprising: a driving mechanism capable of controlling a cavity length by moving a reflecting mirror in a predetermined direction; and a semiconductor laser having an antireflection unit. A beam conversion unit that integrally forms a laser beam output from the antireflection unit on a substrate so as to be incident on the movable reflection mirror, and performs beam conversion of laser light emitted from the semiconductor laser to the semiconductor laser. An external cavity semiconductor laser comprising:
【請求項2】 請求項1において、 前記ビーム変換部は、 前記半導体レーザの活性層に連結されるテーパ形状導波
路で構成されることを特徴とする外部共振器半導体レー
ザ。
2. The external cavity semiconductor laser according to claim 1, wherein the beam conversion unit is configured by a tapered waveguide connected to an active layer of the semiconductor laser.
【請求項3】 請求項1および2のいずれかにおいて、 前記反射防止部は、端面の存在方向が半導体レーザの光
軸方向と斜めになるように、前記ビーム変換部の端面が
加工されて形成されることを特徴とする外部共振器半導
体レーザ。
3. The end surface of the beam conversion unit according to claim 1, wherein the antireflection unit is formed by processing an end surface of the beam conversion unit such that the direction of the end surface is oblique to the optical axis direction of the semiconductor laser. An external cavity semiconductor laser characterized in that:
JP4245298A 1998-02-24 1998-02-24 External resonator semiconductor laser Pending JPH11243246A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4245298A JPH11243246A (en) 1998-02-24 1998-02-24 External resonator semiconductor laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4245298A JPH11243246A (en) 1998-02-24 1998-02-24 External resonator semiconductor laser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11243246A true JPH11243246A (en) 1999-09-07

Family

ID=12636470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4245298A Pending JPH11243246A (en) 1998-02-24 1998-02-24 External resonator semiconductor laser

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11243246A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009016546A (en) * 2007-07-04 2009-01-22 Anritsu Corp Short light pulse generating device, light sampling oscilloscope using the same, and light signal quality monitor

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009016546A (en) * 2007-07-04 2009-01-22 Anritsu Corp Short light pulse generating device, light sampling oscilloscope using the same, and light signal quality monitor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1729382B1 (en) Parabolic waveguide-type collimating device and tunable external cavity laser diode provided with the same
US6661830B1 (en) Tunable optically-pumped semiconductor laser including a polarizing resonator mirror
US8908723B2 (en) External cavity widely tunable laser using a silicon resonator and micromechanically adjustable coupling
Zhang et al. Discrete wavelength tunable laser using microelectromechanical systems technology
KR20030049475A (en) Optical deflector operated by electric signal and external cavity type of wave length tunable using the same
JP2000353856A (en) Semiconductor laser module
US7995625B2 (en) Resonator of hybrid laser diode
JP2572050B2 (en) Waveguide type optical head
JP6495640B2 (en) Optical communication device and method of manufacturing optical communication device
JPH11243246A (en) External resonator semiconductor laser
KR100550141B1 (en) Tunable external cavity laser diode using variable optical deflector
JP3196791B2 (en) Tunable semiconductor light emitting device
JPH0720359A (en) Optical device
KR20120047403A (en) Wavelength tunable filter and wavelength tunable external cavity laser thereof
JPH03195076A (en) External resonator type variable wavelength semiconductor laser
JP2019117394A (en) Optical communication device and manufacturing method therefor
JPH11298068A (en) Mounting substrate for solid-state laser device
JPH11177178A (en) Semiconductor laser module
JPS58150929A (en) Wavelength selecting element
JP2000174381A (en) Semiconductor laser module
KR100366699B1 (en) Apparatus for generating second harmonic having internal resonance type
JPH05341334A (en) Wavelength conversion device
Shimada et al. Focusing characteristics of a wide-striped laser diode integrated with a microlens
JP2814810B2 (en) Q switch laser
JP2996260B2 (en) Ring laser