JPH11219586A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents
Semiconductor integrated circuitInfo
- Publication number
- JPH11219586A JPH11219586A JP10021896A JP2189698A JPH11219586A JP H11219586 A JPH11219586 A JP H11219586A JP 10021896 A JP10021896 A JP 10021896A JP 2189698 A JP2189698 A JP 2189698A JP H11219586 A JPH11219586 A JP H11219586A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circuit
- power supply
- output
- voltage
- internal power
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 39
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 17
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007562 laser obscuration time method Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Static Random-Access Memory (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、特に外部から供給される電源電圧を所定の電圧に
変換して内部回路に供給する内部電源回路を有する半導
体集積回路に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a semiconductor integrated circuit having an internal power supply circuit which converts a power supply voltage supplied from the outside into a predetermined voltage and supplies the same to an internal circuit.
【0002】[0002]
【従来の技術】図10は、従来の半導体集積回路の例を
示した回路図である。なお、図10においては、DRA
Mで使用されている内部電源降圧回路を例にして示して
いる。図10において、内部電源降圧回路200は、電
源端子から供給される外部からの電源電圧Vccを降圧し
て内部電源電圧int.Vccを生成し、半導体集積回路の各
内部回路に供給するものである。DRAMにおいて、メ
モリに格納されたデータの保持を行うだけのスタンバイ
状態では消費電流が非常に小さくなり、スタンバイ状態
時では、内部電源降圧回路200から各部へ供給する内
部電源の電流容量をメモリがアクティブ状態のときより
も十分に小さくする。2. Description of the Related Art FIG. 10 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor integrated circuit. In FIG. 10, DRA
The internal power supply step-down circuit used in M is shown as an example. In FIG. 10, an internal power supply step-down circuit 200 generates an internal power supply voltage int.Vcc by stepping down an external power supply voltage Vcc supplied from a power supply terminal and supplies the internal power supply voltage to each internal circuit of the semiconductor integrated circuit. . In a DRAM, the current consumption is extremely small in a standby state in which only data stored in the memory is held. In the standby state, the memory activates the current capacity of the internal power supply supplied from the internal power supply step-down circuit 200 to each unit. Make it much smaller than in the state.
【0003】このことから、内部電源降圧回路200
は、電流供給能力の小さいスタンバイ用降圧電源回路
(以下、スタンバイ用VDCと呼ぶ)201と、電流供
給能力の大きいアクティブ用降圧電源回路(以下、アク
ティブ用VDCと呼ぶ)202と、基準電圧Vrefを生
成して出力する基準電圧発生回路203とで構成されて
いる。スタンバイ用VDC201及びアクティブ用VD
C202において、基準電圧発生回路203から入力さ
れる基準電圧Vrefによって、内部電源電圧int.Vccの
電圧値が決まる。すなわち、内部電源降圧回路200
は、基準電圧発生回路203から入力された基準電圧V
refになるように、内部電源電圧int.Vccの電圧値を制
御して出力する。[0003] From this, the internal power supply step-down circuit 200
Is a step-down power supply circuit for standby (hereinafter referred to as standby VDC) 201 having a small current supply capability, an active step-down power supply circuit (hereinafter referred to as VDC) 202 having a large current supply capability, and a reference voltage Vref. And a reference voltage generation circuit 203 for generating and outputting. Standby VDC 201 and active VDC
In C202, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is determined by the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 203. That is, the internal power supply step-down circuit 200
Is the reference voltage V input from the reference voltage generation circuit 203.
The voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is controlled and output so as to be ref.
【0004】スタンバイ用VDC201は、差動増幅器
211とpチャネル型MOSトランジスタ(以下、pM
OSトランジスタと呼ぶ)212とで形成されており、
アクティブ用VDC202は、差動増幅器215とpM
OSトランジスタ216,217とで形成されている。
スタンバイ用VDC201において、差動増幅器211
の出力は、pMOSトランジスタ212のゲートに接続
され、pMOSトランジスタ212のドレインは、差動
増幅器211の非反転入力に接続され、該接続部はスタ
ンバイ用VDC201の出力をなしている。更に、差動
増幅器211の反転入力は、基準電圧発生回路203に
接続されて基準電圧Vrefが入力され、pMOSトラン
ジスタ212のソースは電源端子に接続され、電源電圧
Vccが印加される。[0004] The standby VDC 201 includes a differential amplifier 211 and a p-channel MOS transistor (hereinafter referred to as pM
212).
The active VDC 202 includes a differential amplifier 215 and a pM
OS transistors 216 and 217 are formed.
In the standby VDC 201, the differential amplifier 211
Is connected to the gate of the pMOS transistor 212, the drain of the pMOS transistor 212 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 211, and the connection forms the output of the standby VDC 201. Further, the inverting input of the differential amplifier 211 is connected to the reference voltage generating circuit 203 to receive the reference voltage Vref, the source of the pMOS transistor 212 is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is applied.
【0005】アクティブ用VDC202において、差動
増幅器215の出力は、pMOSトランジスタ216の
ゲートに接続され、pMOSトランジスタ216のドレ
インは、差動増幅器215の非反転入力に接続され、該
接続部は、pMOSトランジスタ217のソースに接続
されている。差動増幅器215の反転入力は、基準電圧
発生回路203に接続されて基準電圧Vrefが入力さ
れ、pMOSトランジスタ216のソースは電源端子に
接続され、電源電圧Vccが印加される。In the active VDC 202, the output of the differential amplifier 215 is connected to the gate of a pMOS transistor 216, the drain of the pMOS transistor 216 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 215, and the connection is It is connected to the source of the transistor 217. The inverting input of the differential amplifier 215 is connected to the reference voltage generation circuit 203 to receive the reference voltage Vref, the source of the pMOS transistor 216 is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is applied.
【0006】pMOSトランジスタ217のゲートは、
外部からロウアドレスストローブ信号(以下、/RAS
信号と呼ぶ)が入力される外部入力端子/RAS(以
下、/RAS端子と呼ぶ)に接続されている。なお、/
RASにおける/は、信号レベルの反転を示すものであ
り、Lowアクティブであることを示している。更に、
pMOSトランジスタ217のドレインは、アクティブ
用VDC202の出力をなすと共に、スタンバイ用VD
C201の出力に接続されて、該接続部が内部電源降圧
回路200の出力をなしている。The gate of the pMOS transistor 217 is
An external row address strobe signal (hereinafter, / RAS)
Signal is input to an external input terminal / RAS (hereinafter, referred to as a / RAS terminal). In addition, /
The / in the RAS indicates the inversion of the signal level, and indicates that the signal is low active. Furthermore,
The drain of the pMOS transistor 217 outputs the output of the active VDC 202 and the standby VD
Connected to the output of C201, this connection forms the output of the internal power supply step-down circuit 200.
【0007】このような構成において、スタンバイ用V
DC201のpMOSトランジスタ212及びアクティ
ブ用VDC202のpMOSトランジスタ216は、ゲ
ートのサイズが異なったもので形成されており、pMO
Sトランジスタ216は、pMOSトランジスタ212
よりも十分に大きな電流が流れるように形成されてい
る。In such a configuration, the standby V
The pMOS transistor 212 of the DC 201 and the pMOS transistor 216 of the active VDC 202 are formed with different gate sizes.
The S transistor 216 is a pMOS transistor 212
It is formed so that a sufficiently larger current flows.
【0008】このことから、アクティブ状態時には、L
owレベルの/RAS信号がpMOSトランジスタ21
7のゲートに入力され、pMOSトランジスタ217は
オンして導通状態となり、pMOSトランジスタ212
及び216から電流が供給され、内部電源降圧回路20
0の電流供給能力を高めて内部電源電圧int.Vccが出力
される。一方、スタンバイ状態時には、pMOSトラン
ジスタ217のゲートにはHighレベルの/RAS信
号が入力され、pMOSトランジスタ217はオフして
非導通状態となり、pMOSトランジスタ212からの
み電流が供給され、内部電源降圧回路200の電流供給
能力を低下させて内部電源電圧int.Vccが出力される。For this reason, in the active state, L
The low level / RAS signal is output from the pMOS transistor 21
7, the pMOS transistor 217 is turned on to be in a conductive state, and the pMOS transistor 212 is turned on.
And 216, the internal power supply step-down circuit 20
0, the internal power supply voltage int.Vcc is output. On the other hand, in the standby state, the high level / RAS signal is input to the gate of the pMOS transistor 217, the pMOS transistor 217 is turned off and turned off, and the current is supplied only from the pMOS transistor 212. And the internal power supply voltage int.Vcc is output.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかし、アクティブ状
態からスタンバイ状態に切り換わる際、pMOSトラン
ジスタ216から流れる大きな電流を、pMOSトラン
ジスタ217をオフさせて非導通状態にすることによっ
て、内部電源降圧回路200の出力に流れないように遮
断するため、pMOSトランジスタ216のドレイン電
圧が上昇し、これに伴って電源電圧Vccも上昇する。However, at the time of switching from the active state to the standby state, a large current flowing from the pMOS transistor 216 is turned off to turn off the pMOS transistor 217, thereby turning off the internal power supply step-down circuit 200. In order to block the output from flowing, the drain voltage of the pMOS transistor 216 rises, and accordingly, the power supply voltage Vcc also rises.
【0010】このように、pMOSトランジスタ217
をオフさせて非導通状態にするごとに電源電圧Vccには
ノイズが発生した状態となり、電源電圧Vccが印加され
ている各内部回路に該ノイズの影響が現れるという問題
があった。内部電源降圧回路200の場合、基準電圧発
生回路203においても電源電圧Vccから基準電圧Vre
fを生成しており、上記ノイズによって基準電圧Vrefに
ノイズが現れることから、内部電源電圧int.Vccがノイ
ズの影響から一定にならないという問題があった。As described above, the pMOS transistor 217
Every time the power supply voltage Vcc is turned off and turned off, noise is generated in the power supply voltage Vcc, and the effect of the noise appears on each internal circuit to which the power supply voltage Vcc is applied. In the case of the internal power supply step-down circuit 200, the reference voltage generation circuit 203 also converts the power supply voltage Vcc to the reference voltage Vre.
Since f is generated and noise appears in the reference voltage Vref due to the noise, there is a problem that the internal power supply voltage int.Vcc is not constant due to the influence of noise.
【0011】このようなノイズの問題は、通常動作時だ
けに起きるものではなく、通常動作モードからテストモ
ードに移行する際にも発生する。DRAMにおける内部
電源回路としては、内部電源降圧回路200以外に、基
板電圧発生回路及び昇圧電圧発生回路を備えている。該
基板電圧発生回路は、半導体基板のバイアス電圧を生成
して出力し、半導体基板に負の基板電圧Vbbを印加す
る。また、昇圧電圧発生回路は、電源端子から供給され
る外部からの電源電圧Vccを昇圧して昇圧電圧Vppを生
成し各部に供給する。[0011] Such a noise problem does not occur only during normal operation, but also occurs when shifting from the normal operation mode to the test mode. The internal power supply circuit in the DRAM includes a substrate voltage generation circuit and a boosted voltage generation circuit in addition to the internal power supply voltage step-down circuit 200. The substrate voltage generation circuit generates and outputs a bias voltage of the semiconductor substrate, and applies a negative substrate voltage Vbb to the semiconductor substrate. The boosted voltage generation circuit boosts an external power supply voltage Vcc supplied from a power supply terminal, generates a boosted voltage Vpp, and supplies the generated voltage to each unit.
【0012】テストモードにおいては、内部電源降圧回
路、基板電圧発生回路及び昇圧電圧発生回路から出力さ
れる電圧を使用せずに、電源電圧Vccや外部から印加さ
れる電圧を使用して各部のテストを行う。図11は、半
導体集積回路の内部電源回路における従来の構成例を示
した概略のブロック図である。なお、図11では、DR
AMで使用されている内部電源回路を例にして示してい
る。In the test mode, each part is tested by using the power supply voltage Vcc or an externally applied voltage without using the voltages output from the internal power supply step-down circuit, the substrate voltage generation circuit and the boosted voltage generation circuit. I do. FIG. 11 is a schematic block diagram showing a conventional configuration example of an internal power supply circuit of a semiconductor integrated circuit. In FIG. 11, DR
An internal power supply circuit used in AM is shown as an example.
【0013】図11において、内部電源回路220は、
図10で示した内部電源降圧回路200、基板電圧発生
回路221、及び昇圧電圧発生回路222を備えてお
り、内部電源降圧回路200、基板電圧発生回路221
及び昇圧電圧発生回路222の出力には、出力切換回路
225〜227が対応して接続されている。出力切換回
路225は、内部電源降圧回路200の出力と電源電圧
Vccが印加される外部入力端子Iaとの切換を行い、出
力切換回路226は、基板電圧発生回路221の出力と
外部から所定の電圧が印加される外部入力端子Ibとの
切換を行い、出力切換回路227は、昇圧電圧発生回路
222の出力と外部から所定の電圧が印加される外部入
力端子Icとの切換を行う。In FIG. 11, an internal power supply circuit 220
The internal power supply step-down circuit 200, the substrate voltage generation circuit 221 and the boost voltage generation circuit 222 shown in FIG.
Output switching circuits 225 to 227 are connected to outputs of the boosted voltage generation circuit 222. The output switching circuit 225 switches between the output of the internal power supply step-down circuit 200 and the external input terminal Ia to which the power supply voltage Vcc is applied. The output switching circuit 226 outputs the output of the substrate voltage generation circuit 221 and a predetermined voltage from the outside. The output switching circuit 227 switches between the output of the boosted voltage generation circuit 222 and the external input terminal Ic to which a predetermined voltage is applied from the outside.
【0014】出力切換回路225〜227は同じ回路で
あり、出力切換回路225を用いて説明する。出力切換
回路225は、nチャネル型MOSトランジスタ(以
下、nMOSトランジスタと呼ぶ)231,232及び
インバータ回路233で形成されている。nMOSトラ
ンジスタ231のドレインは外部入力端子Iaに接続さ
れて電源電圧Vccが印加されており、nMOSトランジ
スタ231のソースとnMOSトランジスタ232のソ
ースは接続され、該接続部が内部電源回路220の1つ
の出力を形成している。The output switching circuits 225 to 227 are the same circuit, and will be described using the output switching circuit 225. The output switching circuit 225 includes n-channel MOS transistors (hereinafter, referred to as nMOS transistors) 231 and 232 and an inverter circuit 233. The drain of the nMOS transistor 231 is connected to the external input terminal Ia to which the power supply voltage Vcc is applied. The source of the nMOS transistor 231 and the source of the nMOS transistor 232 are connected. Is formed.
【0015】nMOSトランジスタ232のドレインは
内部電源降圧回路200の出力に接続され、ゲートには
インバータ回路233の出力が接続されている。また、
nMOSトランジスタ231のゲートとインバータ回路
233の入力とが接続され、該接続部には、通常動作か
らテストモード動作への移行を指令する信号TEST
(以下、TEST信号と呼ぶ)が入力される。The drain of the nMOS transistor 232 is connected to the output of the internal power supply step-down circuit 200, and the gate is connected to the output of the inverter circuit 233. Also,
The gate of the nMOS transistor 231 is connected to the input of the inverter circuit 233, and a signal TEST instructing a transition from the normal operation to the test mode operation is connected to the connection.
(Hereinafter, referred to as a TEST signal).
【0016】このような構成において、通常動作時に
は、LowレベルのTEST信号が入力されnMOSト
ランジスタ231がオフして非導通状態となり、nMO
Sトランジスタ232はオンして導通状態となってい
る。このことから、nMOSトランジスタ232には、
最大で、アクティブ状態時にスタンバイ用VDC201
及びアクティブ用VDC202から出力された電流が流
れている。ここで、HighレベルのTEST信号が入
力されてテストモードになると、nMOSトランジスタ
231がオンして導通状態となると共にnMOSトラン
ジスタ232はオフして非導通状態となる。In such a configuration, during normal operation, a low-level TEST signal is input, and the nMOS transistor 231 is turned off to be in a non-conductive state.
The S transistor 232 is turned on to be in a conductive state. From this, the nMOS transistor 232 includes:
At maximum, VDC 201 for standby in active state
The current output from the active VDC 202 flows. Here, when a high-level TEST signal is input and the test mode is entered, the nMOS transistor 231 is turned on and turned on, and the nMOS transistor 232 is turned off and turned off.
【0017】このため、通常動作からテストモードにな
った際、nMOSトランジスタ232に最大の電流が流
れていた場合、図10で示したpMOSトランジスタ2
17をオフさせたときと同じ問題が発生する。このこと
は、テストモード時に、基板電圧発生回路221の出力
電流が出力切換回路226によって遮断された場合、及
び昇圧電圧発生回路222の出力電流が出力切換回路2
27によって遮断された場合においても同様の問題が発
生する。Therefore, when the test mode is changed from the normal operation to the test mode, if the maximum current flows through the nMOS transistor 232, the pMOS transistor 2 shown in FIG.
The same problem as when turning off 17 occurs. This is because the output current of the substrate voltage generation circuit 221 is cut off by the output switching circuit 226 during the test mode, and the output current of the boosted voltage generation circuit 222 is
A similar problem occurs when the light is blocked by the switch 27.
【0018】本発明は、上記のような問題を解決するた
めになされたものであり、動作モードの切り換え時等に
おいて、出力電流の遮断制御を行う際のノイズ発生を防
止することができる半導体集積回路を得ることを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and it is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of preventing generation of noise when controlling the cutoff of output current when switching operation modes. The aim is to obtain a circuit.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体集
積回路は、外部から印加される電源電圧を基に所定の電
圧を生成して内部の各回路に供給する内部電源回路を有
する半導体集積回路において、所定の基準電圧を生成し
て出力する基準電圧発生部と、該基準電圧発生部からの
基準電圧を基に外部からの電源電圧から所定の内部電源
電圧を生成して各回路に出力する第1内部電源回路部
と、基準電圧発生部からの基準電圧を基に外部からの電
源電圧から所定の内部電源電圧を生成して第1内部電源
回路部と共に各回路に出力する、第1内部電源回路部よ
りも電流供給能力の大きい第2内部電源回路部とを備
え、該第2内部電源回路部は、内部電源電圧の供給を行
っている各回路の消費電流が小さくなるとき、出力電流
を減少させて内部電源電圧の出力を停止するものであ
る。SUMMARY OF THE INVENTION A semiconductor integrated circuit according to the present invention has an internal power supply circuit which generates a predetermined voltage based on a power supply voltage applied from the outside and supplies it to each internal circuit. A reference voltage generating section for generating and outputting a predetermined reference voltage, and generating a predetermined internal power supply voltage from an external power supply voltage based on the reference voltage from the reference voltage generation section and outputting the generated internal power supply voltage to each circuit A first internal power supply circuit section, a first internal power supply voltage generating section for generating a predetermined internal power supply voltage from an external power supply voltage based on a reference voltage from a reference voltage generating section and outputting the predetermined internal power supply voltage to each circuit together with the first internal power supply circuit section; A second internal power supply circuit having a higher current supply capability than the power supply circuit, wherein the second internal power supply circuit outputs an output current when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage decreases. Reduce the internal power It is intended to stop the output of the pressure.
【0020】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1において、第2内部電源回路部が、出力された
内部電源電圧と所定の基準電圧とが入力される差動増幅
器と、入力信号を異なる時間に遅延させて生成した各信
号を出力する遅延回路部と、差動増幅器の出力電圧及び
該遅延回路部からの各信号に応じて内部電源電圧を供給
するための出力電流を変える出力回路部とを備え、遅延
回路部は、内部電源電圧の供給が行われている各回路の
消費電流が小さくなるとき外部から所定の信号が入力さ
れ、出力回路部は、遅延回路部から出力される遅延量の
異なる各遅延信号に応じて出力電流を段階的に減少させ
て内部電源電圧の出力を停止するものである。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
2. The second internal power supply circuit unit according to claim 1, wherein the second internal power supply circuit outputs a differential amplifier to which the output internal power supply voltage and a predetermined reference voltage are input, and each signal generated by delaying an input signal to a different time. A delay circuit section, and an output circuit section for changing an output current for supplying an internal power supply voltage in accordance with an output voltage of the differential amplifier and each signal from the delay circuit section; When the current consumption of each of the circuits supplied is reduced, a predetermined signal is input from the outside, and the output circuit section outputs an output current according to each of the delay signals having different delay amounts output from the delay circuit section. The output of the internal power supply voltage is stopped in a stepwise manner.
【0021】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1において、第2内部電源回路部が、出力された
内部電源電圧と所定の基準電圧とが入力される差動増幅
器と、該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧
を供給するための出力電流を変える出力回路部と、該出
力回路部からの出力電流の遮断制御を行う遮断制御回路
部とを備え、該遮断制御回路部は、内部電源電圧の供給
が行われている各回路の消費電流が小さくなるときに外
部から入力される所定の信号が入力されると、出力回路
部から出力される出力電流を段階的に減少させて外部へ
の出力を遮断するものである。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
2. The differential amplifier according to claim 1, wherein the second internal power supply circuit unit supplies the output power supply voltage and a predetermined reference voltage to the differential amplifier, and supplies the internal power supply voltage according to the output voltage of the differential amplifier. An output circuit section for changing an output current for shutting down, and a cutoff control circuit section for performing cutoff control of an output current from the output circuit section, wherein the cutoff control circuit section is supplied with an internal power supply voltage. When a predetermined signal input from the outside is input when the current consumption of each circuit is reduced, the output current output from the output circuit section is reduced stepwise to shut off the output to the outside. .
【0022】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項3において、遮断制御回路部が、入力信号を異な
る時間に遅延させて生成した各信号を出力する遅延回路
部と、該遅延回路部から出力される各遅延信号によって
動作制御が行われる、ゲートサイズの異なる複数のMO
Sトランジスタとを備え、遅延回路部は、該各MOSト
ランジスタをオンさせて導通状態にし出力回路部からの
出力電流を各回路に出力し、外部から上記所定の信号が
入力されると、ドレイン電流の大きいMOSトランジス
タから順にオフさせて非導通状態にし、出力回路部から
出力される出力電流を段階的に減少させて外部への出力
を遮断するものである。Further, according to the semiconductor integrated circuit of the present invention,
The control according to claim 3, wherein the cutoff control circuit unit outputs each signal generated by delaying the input signal at a different time, and the respective delay signals output from the delay circuit unit perform operation control. Multiple MOs with different gate sizes
An S transistor, and the delay circuit unit turns on each MOS transistor to make it conductive, outputs an output current from the output circuit unit to each circuit, and when the predetermined signal is input from the outside, a drain current Are turned off in order from the MOS transistor having the largest value to make it non-conductive, the output current output from the output circuit section is reduced stepwise, and the output to the outside is cut off.
【0023】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1において、第2内部電源回路部が、出力された
内部電源電圧と所定の基準電圧とが入力される差動増幅
器と、該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧
を供給するための出力電流を変える出力回路部とを備
え、該出力回路部は、内部電源電圧の供給が行われてい
る各回路の消費電流が小さくなるときに外部から入力さ
れる所定の信号が入力されると、出力電流を連続的に減
少させて内部電源電圧の出力を停止するものである。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
2. The differential amplifier according to claim 1, wherein the second internal power supply circuit unit supplies the output power supply voltage and a predetermined reference voltage to the differential amplifier, and supplies the internal power supply voltage according to the output voltage of the differential amplifier. And an output circuit for changing an output current for inputting a predetermined signal externally input when the current consumption of each circuit to which the internal power supply voltage is supplied becomes small. Then, the output current is continuously reduced to stop the output of the internal power supply voltage.
【0024】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項1において、第2内部電源回路部が、出力された
内部電源電圧と所定の基準電圧とが入力される差動増幅
器と、該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧
を供給するための出力電流を変える出力回路部と、外部
から所定の信号が入力されると該出力回路部からの出力
電流に対する外部への出力を遮断する遮断制御回路部
と、該遮断制御回路部による出力電流遮断時に、上記出
力回路部の出力電圧を所定の間バイパスして、該出力電
圧の上昇を低下させるバイパス回路部とを備えるもので
ある。Further, the semiconductor integrated circuit according to the present invention is
2. The differential amplifier according to claim 1, wherein the second internal power supply circuit unit supplies the output power supply voltage and a predetermined reference voltage to the differential amplifier, and supplies the internal power supply voltage according to the output voltage of the differential amplifier. An output circuit section for changing an output current for performing the operation, a cutoff control circuit section for cutting off an output to the outside with respect to an output current from the output circuit section when a predetermined signal is input from the outside, and a cutoff control circuit section. When the output current is interrupted, a bypass circuit for bypassing the output voltage of the output circuit for a predetermined time and reducing the rise of the output voltage is provided.
【0025】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項6において、第2内部電源回路部が、遮断制御回
路部による出力電流遮断時に、第2内部電源回路部の出
力に外部からの電源電圧を所定の間印加する電圧印加回
路部を更に備えるものである。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
7. The power supply circuit according to claim 6, wherein the second internal power supply circuit further includes a voltage application circuit that applies an external power supply voltage to the output of the second internal power supply circuit for a predetermined time when the output current is cut off by the cutoff control circuit. Things.
【0026】また、この発明に係る半導体集積回路は、
外部から印加される電源電圧を基に所定の電圧を生成し
て各回路に供給する内部電源回路部と、所定の信号が入
力されると該内部電源回路部からの出力電圧の各回路へ
の供給を遮断すると共に、外部から印加される所定の電
圧を各回路に供給する出力切換回路部とを備え、出力切
換回路部が、所定の信号が入力されると内部電源回路部
からの出力電流を減少させて内部電源回路部からの出力
電圧を遮断するものである。Further, the semiconductor integrated circuit according to the present invention is
An internal power supply circuit section that generates a predetermined voltage based on a power supply voltage applied from the outside and supplies the generated voltage to each circuit; and, when a predetermined signal is input, an output voltage from the internal power supply circuit section to each circuit. An output switching circuit section for interrupting the supply and supplying a predetermined voltage applied from the outside to each circuit, wherein the output switching circuit section outputs an output current from the internal power supply circuit section when a predetermined signal is input. To reduce the output voltage from the internal power supply circuit.
【0027】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項8において、出力切換回路部が、入力信号を異な
る時間に遅延させて生成した各信号を出力する遅延回路
部と、該遅延回路部から出力される各遅延信号によって
動作制御が行われる複数のMOSトランジスタからな
り、内部電源回路部からの出力電圧の各回路への出力制
御を行う内部電圧制御回路部と、遅延回路部から出力さ
れる各遅延信号によって動作制御が行われる複数のMO
Sトランジスタからなり、外部から印加される電圧の各
回路への出力制御を行う外部電圧制御回路部とを備え、
遅延回路部は、所定の信号が入力されると、内部電圧制
御回路部の各MOSトランジスタを順にオフさせて非導
通状態にすると同時に、外部電圧制御回路部の各MOS
トランジスタを順にオンさせて導通状態にし、内部電源
回路部から出力される出力電流を段階的に減少させて外
部への出力を遮断すると共に、外部から入力される電流
を段階的に増加させて外部から印加される電圧を各回路
へ供給するものである。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention is
9. A plurality of output switching circuit units according to claim 8, wherein the output switching circuit unit outputs each signal generated by delaying the input signal at a different time, and the plurality of operation control units are controlled by the respective delay signals output from the delay circuit unit. An internal voltage control circuit unit for controlling the output of the output voltage from the internal power supply circuit unit to each circuit, and a plurality of MOs whose operations are controlled by the respective delay signals output from the delay circuit unit.
An external voltage control circuit unit comprising an S transistor and controlling output of a voltage applied from the outside to each circuit;
When a predetermined signal is input, the delay circuit unit sequentially turns off each MOS transistor of the internal voltage control circuit unit to make it nonconductive, and at the same time, each MOS transistor of the external voltage control circuit unit.
The transistors are turned on in order to make them conductive, and the output current output from the internal power supply circuit is gradually reduced to cut off the output to the outside, and the current input from the outside is gradually increased to reduce the external current. Is supplied to each circuit.
【0028】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項8又は請求項9のいずれかにおいて、内部電源回
路部は、外部から供給される電源電圧を降圧し所定の内
部電源電圧を生成して各回路に供給する内部電源降圧回
路である。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
In any one of claims 8 and 9, the internal power supply circuit section is an internal power supply step-down circuit that steps down a power supply voltage supplied from the outside, generates a predetermined internal power supply voltage, and supplies the generated internal power supply voltage to each circuit.
【0029】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項8又は請求項9のいずれかにおいて、内部電源回
路部は、外部から供給される電源電圧から半導体基板の
バイアス電圧を生成して出力し、半導体基板に所定の基
板電圧を印加する基板電圧発生回路である。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention comprises:
10. The substrate voltage according to claim 8, wherein the internal power supply circuit generates and outputs a bias voltage for the semiconductor substrate from a power supply voltage supplied from the outside, and applies a predetermined substrate voltage to the semiconductor substrate. It is a generating circuit.
【0030】また、この発明に係る半導体集積回路は、
請求項8又は請求項9のいずれかにおいて、内部電源回
路部は、外部から供給される電源電圧を昇圧して所定の
昇圧電圧を生成し各回路に供給する昇圧電圧発生回路で
ある。Further, a semiconductor integrated circuit according to the present invention
In any one of claims 8 and 9, the internal power supply circuit section is a boosted voltage generation circuit that boosts a power supply voltage supplied from the outside to generate a predetermined boosted voltage and supplies the boosted voltage to each circuit.
【0031】[0031]
【発明の実施の形態】次に、図面に示す実施の形態に基
づいて、本発明を詳細に説明する。実施の形態1.図1
は、本発明の実施の形態1における半導体集積回路の例
を示した回路図である。なお、図1においては、DRA
Mで使用される内部電源降圧回路を例にして示してい
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail based on an embodiment shown in the drawings. Embodiment 1 FIG. FIG.
1 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, the DRA
The internal power supply step-down circuit used in M is shown as an example.
【0032】図1において、内部電源降圧回路1は、電
源端子から供給される外部からの電源電圧Vccを降圧し
て内部電源電圧int.Vccを生成し、半導体集積回路の各
内部回路に供給するものである。DRAMにおいて、メ
モリに格納されたデータの保持を行うだけのスタンバイ
状態では消費電流が非常に小さくなり、スタンバイ状態
時では、内部電源降圧回路1から各部へ供給する内部電
源の電流容量をメモリがアクティブ状態のときよりも十
分に小さくする。In FIG. 1, an internal power supply step-down circuit 1 steps down an external power supply voltage Vcc supplied from a power supply terminal to generate an internal power supply voltage int.Vcc, and supplies it to each internal circuit of the semiconductor integrated circuit. Things. In a DRAM, the current consumption is extremely small in a standby state only for holding data stored in the memory. In the standby state, the memory activates the current capacity of the internal power supply supplied from the internal power supply step-down circuit 1 to each unit. Make it much smaller than in the state.
【0033】このことから、内部電源降圧回路1は、電
流供給能力の小さいスタンバイ用降圧電源回路(以下、
スタンバイ用VDCと呼ぶ)2と、電流供給能力の大き
いアクティブ用降圧電源回路(以下、アクティブ用VD
Cと呼ぶ)3と、基準電圧Vrefを生成して出力する基
準電圧発生回路4とで構成されている。スタンバイ用V
DC2及びアクティブ用VDC3において、基準電圧発
生回路4から入力される基準電圧Vrefによって、内部
電源電圧int.Vccの電圧値が決まる。すなわち、内部電
源降圧回路1は、基準電圧発生回路4から入力された基
準電圧Vrefになるように、内部電源電圧int.Vccの電
圧値を制御して出力する。なお、スタンバイ用VDC2
は第1内部電源回路部をなし、アクティブ用VDC3は
第2内部電源回路部をなす。From this, the internal power supply step-down circuit 1 is provided with a standby step-down power supply circuit (hereinafter, referred to as a small step-down power supply circuit) having a small current supply capability.
A standby VDC 2 and an active step-down power supply circuit (hereinafter referred to as active
C) and a reference voltage generating circuit 4 for generating and outputting a reference voltage Vref. Standby V
In the DC2 and the active VDC3, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is determined by the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4. That is, the internal power supply step-down circuit 1 controls and outputs the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc so as to be the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4. Note that the standby VDC 2
Constitutes a first internal power supply circuit, and the active VDC 3 constitutes a second internal power supply circuit.
【0034】スタンバイ用VDC2は、差動増幅器11
とpチャネル型MOSトランジスタ(以下、pMOSト
ランジスタと呼ぶ)12とで形成されている。スタンバ
イ用VDC2において、差動増幅器11の出力は、pM
OSトランジスタ12のゲートに接続され、pMOSト
ランジスタ12のドレインは、差動増幅器11の非反転
入力に接続され、該接続部はスタンバイ用VDC2の出
力をなしている。更に、差動増幅器11の反転入力は、
基準電圧発生回路4に接続されて基準電圧Vrefが入力
され、pMOSトランジスタ12のソースは電源端子に
接続され、電源電圧Vccが印加されている。The standby VDC 2 is connected to the differential amplifier 11
And a p-channel MOS transistor (hereinafter, referred to as a pMOS transistor) 12. In the standby VDC 2, the output of the differential amplifier 11 is pM
The gate of the OS transistor 12 is connected, the drain of the pMOS transistor 12 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 11, and the connection forms the output of the standby VDC 2. Further, the inverting input of the differential amplifier 11 is
The reference voltage Vref is input to the reference voltage generation circuit 4, the source of the pMOS transistor 12 is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is applied.
【0035】アクティブ用VDC3は、差動増幅器1
5、pMOSトランジスタ16〜20、nチャネル型M
OSトランジスタ(以下、nMOSトランジスタと呼
ぶ)21〜23及び遅延回路25で形成されている。差
動増幅器15の出力は、pMOSトランジスタ16のゲ
ート、pMOSトランジスタ17のソース及びnMOS
トランジスタ21のソースに接続され、差動増幅器15
の反転入力は、基準電圧発生回路4に接続されて基準電
圧Vrefが入力されている。pMOSトランジスタ16
のソース及びnMOSトランジスタ21のドレインは、
電源端子に接続されて電源電圧Vccが印加され、pMO
Sトランジスタ16のドレインは差動増幅器15の非反
転入力に接続され、nMOSトランジスタ21のゲート
は、遅延回路25に接続されている。The active VDC 3 is a differential amplifier 1
5, pMOS transistors 16 to 20, n-channel type M
An OS transistor (hereinafter, referred to as an nMOS transistor) 21 to 23 and a delay circuit 25 are formed. The output of the differential amplifier 15 is the gate of the pMOS transistor 16, the source of the pMOS transistor 17, and the nMOS
The differential amplifier 15 is connected to the source of the transistor 21.
Is connected to the reference voltage generation circuit 4 and receives the reference voltage Vref. pMOS transistor 16
And the drain of the nMOS transistor 21
The power supply terminal is connected to the power supply voltage Vcc, and pMO
The drain of the S transistor 16 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15, and the gate of the nMOS transistor 21 is connected to the delay circuit 25.
【0036】pMOSトランジスタ17及びnMOSト
ランジスタ22の各ゲートはそれぞれ接続され、該接続
部は遅延回路25に接続されている。また、pMOSト
ランジスタ17のドレイン及びnMOSトランジスタ2
2のソースは接続され、該接続部はpMOSトランジス
タ18のゲートに接続されている。pMOSトランジス
タ18のソース及びnMOSトランジスタ22のドレイ
ンは電源端子にそれぞれ接続されて電源電圧Vccが印加
されている。pMOSトランジスタ18のゲートには、
更にpMOSトランジスタ19のソースが接続され、p
MOSトランジスタ18のドレインは差動増幅器15の
非反転入力に接続されている。The gates of the pMOS transistor 17 and the nMOS transistor 22 are connected to each other, and the connection is connected to the delay circuit 25. The drain of the pMOS transistor 17 and the nMOS transistor 2
2 are connected to each other, and the connection is connected to the gate of the pMOS transistor 18. The source of the pMOS transistor 18 and the drain of the nMOS transistor 22 are connected to a power supply terminal, respectively, to which a power supply voltage Vcc is applied. The gate of the pMOS transistor 18
Further, the source of the pMOS transistor 19 is connected,
The drain of the MOS transistor 18 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15.
【0037】pMOSトランジスタ19及びnMOSト
ランジスタ23の各ゲートはそれぞれ接続され、該接続
部は遅延回路25に接続されている。pMOSトランジ
スタ19のドレイン及びnMOSトランジスタ23のソ
ースは接続され、該接続部はpMOSトランジスタ20
のゲートに接続されている。pMOSトランジスタ20
のソース及びnMOSトランジスタ23のドレインは電
源端子にそれぞれ接続されて電源電圧Vccが印加されて
いる。The gates of the pMOS transistor 19 and the nMOS transistor 23 are connected to each other, and the connection is connected to the delay circuit 25. The drain of the pMOS transistor 19 and the source of the nMOS transistor 23 are connected.
Connected to the gate. pMOS transistor 20
And the drain of the nMOS transistor 23 are connected to a power supply terminal, respectively, to which a power supply voltage Vcc is applied.
【0038】pMOSトランジスタ20のドレインは差
動増幅器15の非反転入力に接続され、pMOSトラン
ジスタ16,18,20の各ドレインと差動増幅器15
の非反転入力との接続部は、アクティブ用VDC3の出
力をなすと共に、スタンバイ用VDC2の出力と接続さ
れて内部電源降圧回路1の出力をなしている。なお、p
MOSトランジスタ16〜20及びnMOSトランジス
タ21〜23は出力回路部をなす。The drain of the pMOS transistor 20 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15, and the drains of the pMOS transistors 16, 18, and 20 are connected to the differential amplifier 15
Is connected to the output of the active VDC 3 and is connected to the output of the standby VDC 2 to form the output of the internal power supply step-down circuit 1. Note that p
The MOS transistors 16 to 20 and the nMOS transistors 21 to 23 form an output circuit.
【0039】図2は、遅延回路25の回路例を示した図
であり、図2において、遅延回路25は、インバータ回
路31〜36、及びコンデンサ37〜42で構成されて
いる。インバータ回路31〜36は直列に接続されてお
り、インバータ回路31の入力が遅延回路25の入力を
なし、外部からロウアドレスストローブ信号(以下、/
RAS信号と呼ぶ)が入力される外部入力端子/RAS
(以下、/RAS端子と呼ぶ)に接続されている。FIG. 2 is a diagram showing a circuit example of the delay circuit 25. In FIG. 2, the delay circuit 25 includes inverter circuits 31 to 36 and capacitors 37 to 42. The inverter circuits 31 to 36 are connected in series, an input of the inverter circuit 31 forms an input of the delay circuit 25, and an external row address strobe signal (hereinafter, //).
RAS signal) is input to an external input terminal / RAS
(Hereinafter, referred to as a / RAS terminal).
【0040】インバータ回路31の出力とインバータ回
路32の入力との接続部は、コンデンサ37を介して電
源電圧Vccが印加される電源端子に接続されると共にコ
ンデンサ38を介して接地されている。インバータ回路
32の出力は、インバータ回路33の入力に接続される
と共に図1のpMOSトランジスタ19及びnMOSト
ランジスタ23の各ゲートに接続され、/RAS信号を
遅延させた信号φ1を出力する。なお、/RASにおけ
る/は、信号レベルの反転を示すものであり、Lowア
クティブであることを示している。The connection between the output of the inverter circuit 31 and the input of the inverter circuit 32 is connected to a power supply terminal to which a power supply voltage Vcc is applied via a capacitor 37 and is grounded via a capacitor 38. The output of the inverter circuit 32 is connected to the input of the inverter circuit 33 and to the gates of the pMOS transistor 19 and the nMOS transistor 23 in FIG. 1, and outputs a signal φ1 obtained by delaying the / RAS signal. In addition, / in / RAS indicates the inversion of the signal level, and indicates that the signal is low active.
【0041】インバータ回路33の出力とインバータ回
路34の入力との接続部は、コンデンサ39を介して電
源電圧Vccが印加される電源端子に接続されると共にコ
ンデンサ40を介して接地されている。インバータ回路
34の出力は、インバータ回路35の入力に接続される
と共に図1のpMOSトランジスタ17及びnMOSト
ランジスタ22の各ゲートに接続され、信号φ1を遅延
させた信号φ2を出力する。同様に、インバータ回路3
5の出力とインバータ回路36の入力との接続部は、コ
ンデンサ41を介して電源電圧Vccが印加される電源端
子に接続されると共にコンデンサ42を介して接地され
ている。インバータ回路36の出力は、図1のnMOS
トランジスタ21のゲートに接続され、信号φ2を遅延
させた信号φ3を出力する。The connection between the output of the inverter circuit 33 and the input of the inverter circuit 34 is connected to the power supply terminal to which the power supply voltage Vcc is applied via the capacitor 39 and is grounded via the capacitor 40. The output of the inverter circuit 34 is connected to the input of the inverter circuit 35 and to the gates of the pMOS transistor 17 and the nMOS transistor 22 in FIG. 1, and outputs a signal φ2 obtained by delaying the signal φ1. Similarly, the inverter circuit 3
The connection between the output of the inverter 5 and the input of the inverter circuit 36 is connected to a power supply terminal to which the power supply voltage Vcc is applied via a capacitor 41 and is grounded via a capacitor 42. The output of the inverter circuit 36 is the nMOS of FIG.
It is connected to the gate of transistor 21 and outputs signal φ3 obtained by delaying signal φ2.
【0042】図3は、図2で示した遅延回路25の動作
例を示したタイミングチャートである。図1から図3を
用いて内部電源降圧回路1の動作例について説明する。
図3から分かるように、/RAS信号の信号レベルの変
化に対して、信号φ1が最も遅延量が小さく、次に信号
φ2が遅延量が小さく、信号φ3が最も遅延量が大きい。
/RAS信号がHighレベルで信号φ1〜φ3がHig
hレベルであるスタンバイ状態時には、nMOSトラン
ジスタ21〜23がオンして導通状態となることからp
MOSトランジスタ16,18,20はオフして非導通
状態となり、pMOSトランジスタ17及び19はオフ
して非導通状態となる。このことから、アクティブ用V
DC3からの内部電源電圧int.Vccの供給は停止し、ス
タンバイ用VDC2からのみ内部電源電圧int.Vccの供
給が行われる。FIG. 3 is a timing chart showing an operation example of the delay circuit 25 shown in FIG. An operation example of the internal power supply step-down circuit 1 will be described with reference to FIGS.
As can be seen from FIG. 3, for the change in the signal level of the / RAS signal, the signal φ1 has the smallest delay, the signal φ2 has the smallest delay, and the signal φ3 has the largest delay.
/ RAS signal is high and signals φ1 to φ3 are high
In the standby state at the h level, the nMOS transistors 21 to 23 are turned on to be in a conductive state.
The MOS transistors 16, 18, and 20 are turned off and become non-conductive, and the pMOS transistors 17 and 19 are turned off and become non-conductive. From this, the active V
The supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the DC3 is stopped, and the supply of the internal power supply voltage int.Vcc is performed only from the standby VDC2.
【0043】次に、/RAS信号がHighレベルから
Lowレベルに立ち下がって、スタンバイ状態からアク
ティブ状態に変わるとき、最初に信号φ1がHighレ
ベルからLowレベルに立ち下がってpMOSトランジ
スタ19がオンして導通状態になると共にnMOSトラ
ンジスタ23がオフして非導通状態となる。続いて信号
φ2がHighレベルからLowレベルに立ち下がっ
て、pMOSトランジスタ17がオンして導通状態にな
ると共にnMOSトランジスタ22がオフして非導通状
態となる。Next, when the / RAS signal falls from the high level to the low level and changes from the standby state to the active state, first, the signal φ1 falls from the high level to the low level and the pMOS transistor 19 turns on. At the same time, the nMOS transistor 23 is turned off and becomes non-conductive. Subsequently, the signal φ2 falls from the high level to the low level, and the pMOS transistor 17 is turned on to turn on, and the nMOS transistor 22 is turned off to turn off.
【0044】更に続いて、信号φ3がHighレベルか
らLowレベルに立ち下がって、nMOSトランジスタ
21がオフして非導通状態になることから、pMOSト
ランジスタ16がオンしてpMOSトランジスタ16,
18,20より内部電源電圧int.Vccの供給が行われ
る。Subsequently, the signal φ3 falls from the high level to the low level, and the nMOS transistor 21 is turned off and turned off, so that the pMOS transistor 16 is turned on and the pMOS transistor 16,
The internal power supply voltage int.Vcc is supplied from 18 and 20.
【0045】ここで、/RAS信号がLowレベルから
Highレベルに立ち上がって、アクティブ状態からス
タンバイ状態に変わるとき、最初に信号φ1がLowレ
ベルからHighレベルに立ち上がってpMOSトラン
ジスタ19がオフして非導通状態となると共にnMOS
トランジスタ23がオンして導通状態となることから、
pMOSトランジスタ20がオフして非導通状態とな
る。この時点で、内部電源電圧int.Vccは、pMOSト
ランジスタ16及び18から供給されている。その後、
信号φ2がLowレベルからHighレベルに立ち上が
って、pMOSトランジスタ17がオフして非導通状態
になると共にnMOSトランジスタ22がオンして導通
状態となることから、pMOSトランジスタ18がオフ
して非導通状態となる。この時点で、内部電源電圧int.
Vccは、pMOSトランジスタ16のみから供給されて
いる。Here, when the / RAS signal rises from the Low level to the High level and changes from the active state to the standby state, first, the signal φ1 rises from the Low level to the High level and the pMOS transistor 19 is turned off and non-conductive. State and nMOS
Since the transistor 23 is turned on and becomes conductive,
The pMOS transistor 20 turns off and becomes non-conductive. At this point, the internal power supply voltage int.Vcc has been supplied from the pMOS transistors 16 and 18. afterwards,
Since the signal φ2 rises from the Low level to the High level, the pMOS transistor 17 is turned off and turned off, and the nMOS transistor 22 is turned on and turned on, so that the pMOS transistor 18 is turned off and turned off. Become. At this point, the internal power supply voltage int.
Vcc is supplied only from the pMOS transistor 16.
【0046】更にその後、信号φ3がLowレベルから
Highレベルに立ち上がって、nMOSトランジスタ
21がオンして導通状態になることから、pMOSトラ
ンジスタ16がオフして非導通状態となり、アクティブ
用VDC3からの内部電源電圧int.Vccの供給が停止
し、スタンバイ用VDC2からのみ内部電源電圧int.V
ccの供給が行われる。このように、アクティブ状態から
スタンバイ状態に移行するときにアクティブ用VDC3
からの内部電源電圧int.Vccの供給を停止させる際、p
MOSトランジスタ16,18,20を順にオフさせて
アクティブ用VDC3からの出力電流を段階的に減少さ
せて内部電源電圧int.Vccの供給を停止させる。Thereafter, the signal φ3 rises from the Low level to the High level, and the nMOS transistor 21 is turned on and turned on. Therefore, the pMOS transistor 16 is turned off and turned off, and the internal voltage from the active VDC 3 is reduced. The supply of the power supply voltage int.Vcc stops, and the internal power supply voltage int.V only from the standby VDC2.
Supply of cc is performed. As described above, when transitioning from the active state to the standby state, the active VDC 3
When the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the
The MOS transistors 16, 18, and 20 are sequentially turned off to gradually decrease the output current from the active VDC 3, thereby stopping the supply of the internal power supply voltage int.Vcc.
【0047】上記のように、本実施の形態1における半
導体集積回路は、内部電源降圧回路1において、アクテ
ィブ状態時には、スタンバイ用VDC2のpMOSトラ
ンジスタ12及びアクティブ用VDC3のpMOSトラ
ンジスタ16,18,20から内部電源電圧int.Vccの
供給を行い、スタンバイ状態時にアクティブ用VDC3
からの内部電源電圧int.Vccの供給を停止させる際、p
MOSトランジスタ16,18,20を順にオフさせて
アクティブ用VDC3からの出力電流を段階的に減少さ
せて遮断し、アクティブ用VDC3からの内部電源電圧
int.Vccの供給を停止させるようにした。このことか
ら、アクティブ状態からスタンバイ状態に移行する際
に、出力電流の遮断制御を行うときの電源電圧Vccに対
するノイズの発生を防止することができ、信頼性の向上
を図ることができる。As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the first embodiment, when the internal power supply voltage down converter 1 is in the active state, the pMOS transistor 12 of the standby VDC 2 and the pMOS transistors 16, 18, and 20 of the active VDC 3 The internal power supply voltage int.Vcc is supplied, and the active VDC 3
When the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the
The MOS transistors 16, 18, and 20 are sequentially turned off to gradually reduce the output current from the active VDC 3 and cut off the internal power supply voltage from the active VDC 3.
The supply of int.Vcc was stopped. Thus, when shifting from the active state to the standby state, it is possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage Vcc when performing the cutoff control of the output current, thereby improving the reliability.
【0048】実施の形態2.実施の形態1では、アクテ
ィブ用VDC3における出力電流の供給を行うpMOS
トランジスタを複数設けてアクティブ用VDC3からの
出力電流を段階的に減少させたが、アクティブ用VDC
における出力電流を供給するpMOSトランジスタを1
つにし、該pMOSトランジスタから出力される出力電
流を段階的に遮断したり出力したりするようにしてもよ
く、このようにしたものを本発明の実施の形態2とす
る。Embodiment 2 In the first embodiment, a pMOS for supplying an output current in the active VDC 3
The output current from the active VDC 3 is reduced stepwise by providing a plurality of transistors.
The pMOS transistor that supplies the output current at
In the meantime, the output current output from the pMOS transistor may be cut off or output stepwise, and this is referred to as a second embodiment of the present invention.
【0049】図4は、本発明の実施の形態2における半
導体集積回路の例を示した回路図である。なお、図4で
は、DRAMで使用される内部電源降圧回路を例にして
示しており、図1と同じものは同じ符号で示しここでは
その説明を省略すると共に図1との相違点のみ説明す
る。図4における図1との相違点は、図1のアクティブ
用VDC3の回路構成を変えたことにあり、このことか
ら図1のアクティブ用VDC3をアクティブ用VDC5
1とし、これに伴って図1の内部電源降圧回路1を内部
電源降圧回路55としたことにある。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the second embodiment of the present invention. In FIG. 4, an internal power supply step-down circuit used in a DRAM is shown as an example, and the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted and only the differences from FIG. 1 will be described. . 4 is different from FIG. 1 in that the circuit configuration of the active VDC 3 in FIG. 1 is changed. Therefore, the active VDC 3 in FIG.
1, and the internal power supply step-down circuit 1 of FIG.
【0050】図4において、内部電源降圧回路55は、
電流供給能力の小さいスタンバイ用VDC2と、電流供
給能力の大きいアクティブ用VDC51と、基準電圧V
refを生成して出力する基準電圧発生回路4とで構成さ
れている。スタンバイ用VDC2及びアクティブ用VD
C51において、基準電圧発生回路4から入力される基
準電圧Vrefによって、内部電源電圧int.Vccの電圧値
が決まり、内部電源降圧回路55は、基準電圧発生回路
4から入力された基準電圧Vrefになるように、内部電
源電圧int.Vccの電圧値を制御して出力する。なお、ア
クティブ用VDC51は第2内部電源回路部をなす。In FIG. 4, the internal power supply step-down circuit 55
A standby VDC 2 having a small current supply capability, an active VDC 51 having a large current supply capability, and a reference voltage V
and a reference voltage generating circuit 4 for generating and outputting ref. VDC2 for standby and VD for active
In C51, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is determined by the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4, and the internal power supply step-down circuit 55 becomes the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4. Thus, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is controlled and output. The active VDC 51 forms a second internal power supply circuit.
【0051】アクティブ用VDC51は、差動増幅器1
5、pMOSトランジスタ61〜63及び遅延回路64
で形成されている。差動増幅器15の出力は、pMOS
トランジスタ61のゲートに接続され、pMOSトラン
ジスタ61のドレインは、差動増幅器15の非反転入力
に接続され、該接続部は、pMOSトランジスタ62及
び63の各ソースに接続されている。差動増幅器15の
反転入力は、基準電圧発生回路4に接続されて基準電圧
Vrefが入力され、pMOSトランジスタ61のソース
は電源端子に接続され、電源電圧Vccが印加されてい
る。The active VDC 51 is a differential amplifier 1
5, pMOS transistors 61 to 63 and delay circuit 64
It is formed with. The output of the differential amplifier 15 is a pMOS
The drain of the pMOS transistor 61 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15, and the connection is connected to the sources of the pMOS transistors 62 and 63. The inverting input of the differential amplifier 15 is connected to the reference voltage generation circuit 4 to receive the reference voltage Vref, the source of the pMOS transistor 61 is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is applied.
【0052】pMOSトランジスタ62及び63におい
て、各ゲートは遅延回路64にそれぞれ接続され、各ド
レインは、接続されてアクティブ用VDC51の出力を
なすと共に、スタンバイ用VDC2の出力に接続され
て、該接続部が内部電源降圧回路55の出力をなしてい
る。pMOSトランジスタ62には、電流供給能力にお
いて、pMOSトランジスタ63よりも十分に大きいも
のを使用する。なお、pMOSトランジスタ61は出力
回路部をなし、pMOSトランジスタ62,63及び遅
延回路64は遮断制御回路部をなす。In the pMOS transistors 62 and 63, each gate is connected to the delay circuit 64, and each drain is connected to form the output of the active VDC 51, and is connected to the output of the standby VDC 2, and Represents the output of the internal power supply voltage down converter 55. As the pMOS transistor 62, a transistor whose current supply capability is sufficiently larger than that of the pMOS transistor 63 is used. The pMOS transistor 61 forms an output circuit, and the pMOS transistors 62 and 63 and the delay circuit 64 form a cutoff control circuit.
【0053】図5は、遅延回路64の回路例を示した図
であり、図5において、遅延回路64は、インバータ回
路71〜74、及びコンデンサ75〜78で構成されて
いる。インバータ回路71〜74は直列に接続されてお
り、インバータ回路71の入力が遅延回路64の入力を
なし、外部から/RAS信号が入力される/RAS端子
に接続されている。インバータ回路71の出力とインバ
ータ回路72の入力との接続部は、コンデンサ75を介
して電源電圧Vccが印加される電源端子に接続されると
共にコンデンサ76を介して接地されている。FIG. 5 is a diagram showing a circuit example of the delay circuit 64. In FIG. 5, the delay circuit 64 includes inverter circuits 71 to 74 and capacitors 75 to 78. The inverter circuits 71 to 74 are connected in series. The input of the inverter circuit 71 forms the input of the delay circuit 64, and is connected to the / RAS terminal to which the / RAS signal is input from the outside. The connection between the output of the inverter circuit 71 and the input of the inverter circuit 72 is connected to a power supply terminal to which the power supply voltage Vcc is applied via a capacitor 75 and is grounded via a capacitor 76.
【0054】インバータ回路72の出力は、インバータ
回路73の入力に接続されると共に図4のpMOSトラ
ンジスタ62のゲートに接続され、/RAS信号を遅延
させた信号φ4を出力する。インバータ回路73の出力
とインバータ回路74の入力との接続部は、コンデンサ
77を介して電源電圧Vccが印加される電源端子に接続
されると共にコンデンサ78を介して接地されている。
インバータ回路74の出力は、図4のpMOSトランジ
スタ63のゲートに接続され、信号/RASを遅延させ
た信号φ5を出力する。The output of the inverter circuit 72 is connected to the input of the inverter circuit 73 and to the gate of the pMOS transistor 62 shown in FIG. 4, and outputs a signal φ4 obtained by delaying the / RAS signal. The connection between the output of the inverter circuit 73 and the input of the inverter circuit 74 is connected to a power supply terminal to which the power supply voltage Vcc is applied via a capacitor 77 and is grounded via a capacitor 78.
The output of the inverter circuit 74 is connected to the gate of the pMOS transistor 63 in FIG. 4, and outputs a signal φ5 obtained by delaying the signal / RAS.
【0055】このような構成において、アクティブ用V
DC51の動作例について説明する。なお、遅延回路6
4の動作例を示したタイミングチャートは、信号φ1を
信号φ4にし、信号φ2を信号φ5にして、信号φ3をなく
す以外は図3と同じであるので省略する。/RAS信号
の信号レベルの変化に対して、信号φ5よりも信号φ4の
方が遅延量が小さい。/RAS信号がHighレベルで
信号φ4及びφ5が共にHighレベルであるスタンバイ
状態時には、pMOSトランジスタ62及び63は共に
オフして非導通状態となる。このことから、アクティブ
用VDC51からの内部電源電圧int.Vccの供給は停止
し、スタンバイ用VDC2からのみ内部電源電圧int.V
ccの供給が行われる。In such a configuration, the active V
An operation example of the DC 51 will be described. The delay circuit 6
The timing chart showing the operation example 4 is the same as that of FIG. 3 except that the signal φ1 is changed to the signal φ4, the signal φ2 is changed to the signal φ5, and the signal φ3 is eliminated. The signal φ4 has a smaller delay amount than the signal φ5 with respect to the change in the signal level of the / RAS signal. In the standby state in which the / RAS signal is at the high level and the signals φ4 and φ5 are both at the high level, the pMOS transistors 62 and 63 are both turned off and become non-conductive. Therefore, the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the active VDC 51 is stopped, and the internal power supply voltage int.V only from the standby VDC 2 is stopped.
Supply of cc is performed.
【0056】次に、/RAS信号がHighレベルから
Lowレベルに立ち下がって、スタンバイ状態からアク
ティブ状態に変わるとき、最初に信号φ4がHighレ
ベルからLowレベルに立ち下がってpMOSトランジ
スタ62がオンして導通状態となり、内部電源電圧int.
Vccの供給が始まる。その後、信号φ5がHighレベ
ルからLowレベルに立ち下がって、pMOSトランジ
スタ63がオンして導通状態になり、pMOSトランジ
スタ62及び63を介して内部電源電圧int.Vccの供給
が行われる。Next, when the / RAS signal falls from the high level to the low level and changes from the standby state to the active state, first, the signal φ4 falls from the high level to the low level and the pMOS transistor 62 turns on. Turns on and the internal power supply voltage int.
Vcc supply begins. After that, the signal φ5 falls from the High level to the Low level, the pMOS transistor 63 is turned on and becomes conductive, and the internal power supply voltage int.Vcc is supplied via the pMOS transistors 62 and 63.
【0057】ここで、/RAS信号がLowレベルから
Highレベルに立ち上がって、アクティブ状態からス
タンバイ状態に変わるとき、最初に信号φ4がLowレ
ベルからHighレベルに立ち上がってpMOSトラン
ジスタ62がオフして非導通状態となり、その後、信号
φ5がLowレベルからHighレベルに立ち上がって
pMOSトランジスタ63がオフして非導通状態とな
る。このようにして、アクティブ用VDC51からの内
部電源電圧int.Vccの供給が停止し、スタンバイ用VD
C2からのみ内部電源電圧int.Vccの供給が行われる。Here, when the / RAS signal rises from the low level to the high level and changes from the active state to the standby state, first, the signal φ4 rises from the low level to the high level, and the pMOS transistor 62 is turned off to turn off. After that, the signal φ5 rises from the Low level to the High level, and the pMOS transistor 63 is turned off to be in a non-conductive state. In this way, the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the active VDC 51 is stopped, and the standby VDD
The internal power supply voltage int.Vcc is supplied only from C2.
【0058】上記のように、本実施の形態2における半
導体集積回路は、アクティブ状態からスタンバイ状態に
移行するときにアクティブ用VDC51からの内部電源
電圧int.Vccの供給を停止させる際、電流供給能力の大
きいpMOSトランジスタ62をオフさせて非導通状態
にした後、電流供給能力の小さいpMOSトランジスタ
63をオフさせてアクティブ用VDC51からの出力電
流を段階的に減少させて内部電源電圧int.Vccの供給を
停止させるようにした。このことから、アクティブ状態
からスタンバイ状態に移行する際に、出力電流の遮断制
御を行う際の電源電圧Vccに対するノイズの発生を防止
することができ、信頼性の向上を図ることができる。As described above, the semiconductor integrated circuit according to the second embodiment has a current supply capability when the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the active VDC 51 is stopped when shifting from the active state to the standby state. Of the internal power supply voltage int.Vcc by turning off the pMOS transistor 62 having a large current and turning off the pMOS transistor 63 having a small current supply capability to gradually reduce the output current from the active VDC 51. Was stopped. This makes it possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage Vcc when performing the cutoff control of the output current when shifting from the active state to the standby state, thereby improving reliability.
【0059】実施の形態3.実施の形態1及び実施の形
態2では、アクティブ状態からスタンバイ状態に移行す
る際、アクティブ用VDCからの出力電流を段階的に減
少させて遮断するようにしたが、アクティブ用VDCか
らの出力電流を連続的に減少させて遮断するようにして
もよく、このようにしたものを本発明の実施の形態3と
する。Embodiment 3 In the first and second embodiments, when transitioning from the active state to the standby state, the output current from the active VDC is gradually reduced and cut off, but the output current from the active VDC is reduced. It is also possible to cut off continuously by reducing it. Such a configuration is referred to as a third embodiment of the present invention.
【0060】図6は、本発明の実施の形態3における半
導体集積回路の例を示した回路図である。なお、図6で
は、DRAMで使用される内部電源降圧回路を例にして
示しており、図1と同じものは同じ符号で示しここでは
その説明を省略すると共に図1との相違点のみ説明す
る。図6における図1との相違点は、図1のアクティブ
用VDC3の回路構成を変えたことにあり、このことか
ら図1のアクティブ用VDC3をアクティブ用VDC8
1とし、これに伴って図1の内部電源降圧回路1を内部
電源降圧回路85としたことにある。FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 6, an internal power supply step-down circuit used in a DRAM is shown as an example, and the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted here, and only different points from FIG. 1 will be described. . 6 is different from FIG. 1 in that the circuit configuration of the active VDC 3 of FIG. 1 is changed. Therefore, the active VDC 3 of FIG.
1, and accordingly, the internal power supply step-down circuit 1 of FIG.
【0061】図6において、内部電源降圧回路85は、
電流供給能力の小さいスタンバイ用VDC2と、電流供
給能力の大きいアクティブ用VDC81と、基準電圧V
refを生成して出力する基準電圧発生回路4とで構成さ
れている。スタンバイ用VDC2及びアクティブ用VD
C81において、基準電圧発生回路4から入力される基
準電圧Vrefによって、内部電源電圧int.Vccの電圧値
が決まり、内部電源降圧回路85は、基準電圧発生回路
4から入力された基準電圧Vrefになるように、内部電
源電圧int.Vccの電圧値を制御して出力する。なお、ア
クティブ用VDC81は第2内部電源回路部をなす。In FIG. 6, the internal power supply step-down circuit 85
A standby VDC 2 having a small current supply capability, an active VDC 81 having a large current supply capability, and a reference voltage V
and a reference voltage generating circuit 4 for generating and outputting ref. VDC2 for standby and VD for active
In C81, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is determined by the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4, and the internal power supply step-down circuit 85 becomes the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4. Thus, the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc is controlled and output. The active VDC 81 forms a second internal power supply circuit.
【0062】アクティブ用VDC81は、差動増幅器1
5、インバータ回路91、pMOSトランジスタ92,
93、コンデンサ94,95及び抵抗96で形成されて
いる。差動増幅器15の出力は、pMOSトランジスタ
92のゲート及びpMOSトランジスタ93のドレイン
に接続されている。pMOSトランジスタ92におい
て、ソースは電源端子に接続されて電源電圧Vccが印加
され、ドレインは差動増幅器15の非反転入力に接続さ
れ、該接続部はアクティブ用VDC81の出力をなすと
共に、スタンバイ用VDC2の出力に接続されて該接続
部が内部電源降圧回路85の出力をなしている。The active VDC 81 is a differential amplifier 1
5, an inverter circuit 91, a pMOS transistor 92,
93, capacitors 94 and 95, and a resistor 96. The output of the differential amplifier 15 is connected to the gate of the pMOS transistor 92 and the drain of the pMOS transistor 93. In the pMOS transistor 92, the source is connected to the power supply terminal and the power supply voltage Vcc is applied, the drain is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15, and the connection forms the output of the active VDC 81 and the standby VDC2. Connected to the output of the internal power supply step-down circuit 85.
【0063】また、インバータ回路91の入力は/RA
S端子に接続され、インバータ回路91の出力は、抵抗
96を介してpMOSトランジスタ93のゲートに接続
されている。更に、pMOSトランジスタ93におい
て、ゲートはコンデンサ94を介して電源端子に接続さ
れて電源電圧Vccが印加されると共にコンデンサ95を
介して接地されており、ソースは電源端子に接続されて
電源電圧Vccが印加されている。なお、インバータ回路
91、pMOSトランジスタ92,93、コンデンサ9
4,95及び抵抗96は出力回路部をなす。The input of the inverter circuit 91 is / RA
The output of the inverter circuit 91 is connected to the gate of the pMOS transistor 93 via the resistor 96. Further, in the pMOS transistor 93, the gate is connected to a power supply terminal via a capacitor 94, to which the power supply voltage Vcc is applied and grounded via a capacitor 95, and the source is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is Has been applied. The inverter circuit 91, the pMOS transistors 92 and 93, the capacitor 9
4, 95 and the resistor 96 form an output circuit section.
【0064】このような構成において、アクティブ状態
時には、/RAS端子からLowレベルの/RAS信号
が入力され、pMOSトランジスタ93がオフして非導
通状態となり、アクティブ用VDC81のpMOSトラ
ンジスタ92及びスタンバイ用VDC2のpMOSトラ
ンジスタ12から電流が供給されて内部電源電圧int.V
ccが出力される。ここで、アクティブ状態からスタンバ
イ状態に移る際、/RAS端子からHighレベルの/
RAS信号が入力され、コンデンサ95及び抵抗96の
時定数に応じてpMOSトランジスタ93のゲート電圧
が次第に低下し、pMOSトランジスタ92のゲート電
圧が次第に上昇する。このことから、pMOSトランジ
スタ92より供給される電流は連続的に減少してやがて
pMOSトランジスタ92からの電流供給が停止し、ス
タンバイ用VDC2からのみ電流が供給されて内部電源
電圧int.Vccが出力される。In such a configuration, in the active state, a low-level / RAS signal is input from the / RAS terminal, the pMOS transistor 93 is turned off and becomes non-conductive, and the pMOS transistor 92 of the active VDC 81 and the standby VDC 2 Of the internal power supply voltage int.V
cc is output. Here, when transitioning from the active state to the standby state, a high level //
When the RAS signal is input, the gate voltage of the pMOS transistor 93 gradually decreases and the gate voltage of the pMOS transistor 92 gradually increases according to the time constant of the capacitor 95 and the resistor 96. As a result, the current supplied from the pMOS transistor 92 continuously decreases, and then the current supply from the pMOS transistor 92 stops, and the current is supplied only from the standby VDC 2 to output the internal power supply voltage int.Vcc. You.
【0065】次に、スタンバイ状態からアクティブ状態
に移る際、/RAS端子からLowレベルの/RAS信
号が入力され、pMOSトランジスタ93のゲート電圧
が次第に上昇しpMOSトランジスタ93はオフして遮
断状態となり、pMOSトランジスタ92は差動増幅器
15からの出力電圧によって動作制御されて出力電流の
供給が行われて内部電源電圧int.Vccが出力される。こ
のようにして、スタンバイ用VDC2及びアクティブ用
VDC81からそれぞれ電流が出力されて内部電源電圧
int.Vccが出力される。Next, when transitioning from the standby state to the active state, a low-level / RAS signal is input from the / RAS terminal, the gate voltage of the pMOS transistor 93 gradually increases, and the pMOS transistor 93 is turned off and cut off. The operation of the pMOS transistor 92 is controlled by the output voltage from the differential amplifier 15, the output current is supplied, and the internal power supply voltage int.Vcc is output. In this way, currents are output from the standby VDC 2 and the active VDC 81, respectively, and the internal power supply voltage
int.Vcc is output.
【0066】このように、本実施の形態3における半導
体集積回路は、アクティブ状態からスタンバイ状態に移
行する際、アクティブ用VDC81からの出力電流を連
続的に減少させて遮断し、アクティブ用VDC81から
の内部電源電圧int.Vccの供給を停止させるようにし
た。このことから、アクティブ状態からスタンバイ状態
に移行するときに、出力電流の遮断制御を行う際の電源
電圧Vccに対するノイズの発生を防止することができ、
信頼性の向上を図ることができる。As described above, when the semiconductor integrated circuit according to the third embodiment shifts from the active state to the standby state, the output current from the active VDC 81 is continuously reduced and cut off, and The supply of the internal power supply voltage int.Vcc was stopped. From this, when shifting from the active state to the standby state, it is possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage Vcc when performing the cutoff control of the output current,
Reliability can be improved.
【0067】実施の形態4.実施の形態1から実施の形
態3においては、アクティブ用VDCからの電流供給を
停止した際にノイズが発生しないようにしたが、アクテ
ィブ用VDCからの電流供給を停止した際に発生したノ
イズを電源電圧Vccに影響を及ぼさないようにバイパス
する回路を設けるようにしてもよく、このようにしたも
のを本発明の実施の形態4とする。Embodiment 4 In the first to third embodiments, noise is not generated when the current supply from the active VDC is stopped. However, the noise generated when the current supply from the active VDC is stopped is supplied to the power supply. A bypass circuit may be provided so as not to affect the voltage Vcc, and such a circuit is referred to as a fourth embodiment of the present invention.
【0068】図7は、本発明の実施の形態4における半
導体集積回路の例を示した回路図である。なお、図7で
は、DRAMで使用される内部電源降圧回路を例にして
示しており、図1と同じものは同じ符号で示しここでは
その説明を省略すると共に図1との相違点のみ説明す
る。図7における図1との相違点は、図1のアクティブ
用VDC3の回路構成を変えたことにあり、このことか
ら図1のアクティブ用VDC3をアクティブ用VDC1
01とし、これに伴って図1の内部電源降圧回路1を内
部電源降圧回路105としたことにある。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment of the present invention. In FIG. 7, an internal power supply step-down circuit used in a DRAM is shown as an example, and the same components as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted here, and only different points from FIG. 1 will be described. . 7 is different from FIG. 1 in that the circuit configuration of the active VDC 3 in FIG. 1 is changed. Therefore, the active VDC 3 in FIG.
01, and accordingly, the internal power supply step-down circuit 1 of FIG.
【0069】図7において、内部電源降圧回路105
は、電流供給能力の小さいスタンバイ用VDC2と、電
流供給能力の大きいアクティブ用VDC101と、基準
電圧Vrefを生成して出力する基準電圧発生回路4とで
構成されている。スタンバイ用VDC2及びアクティブ
用VDC101において、基準電圧発生回路4から入力
される基準電圧Vrefによって、内部電源電圧int.Vcc
の電圧値が決まり、内部電源降圧回路105は、基準電
圧発生回路4から入力された基準電圧Vrefになるよう
に、内部電源電圧int.Vccの電圧値を制御して出力す
る。なお、アクティブ用VDC101は第2内部電源回
路部をなす。In FIG. 7, internal power supply step-down circuit 105
Comprises a standby VDC 2 having a small current supply capability, an active VDC 101 having a large current supply capability, and a reference voltage generating circuit 4 for generating and outputting a reference voltage Vref. In the standby VDC 2 and the active VDC 101, the internal power supply voltage int.Vcc is supplied by the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4.
Is determined, and the internal power supply step-down circuit 105 controls and outputs the voltage value of the internal power supply voltage int.Vcc so that the reference voltage Vref input from the reference voltage generation circuit 4 is obtained. The active VDC 101 forms a second internal power supply circuit.
【0070】アクティブ用VDC101は、差動増幅器
15、pMOSトランジスタ111〜114、抵抗11
5,116及びワンショットパルス発生回路117で形
成されている。差動増幅器15の出力は、pMOSトラ
ンジスタ111のゲートに接続され、pMOSトランジ
スタ111のドレインは、差動増幅器15の非反転入力
に接続され、該接続部は、pMOSトランジスタ112
及び113の各ソースに接続されている。pMOSトラ
ンジスタ113において、ドレインは抵抗115を介し
て接地され、ゲートはワンショットパルス発生回路11
7の出力に接続されている。差動増幅器15の反転入力
は、基準電圧発生回路4に接続されて基準電圧Vrefが
入力され、pMOSトランジスタ111のソースは電源
端子に接続され、電源電圧Vccが印加されている。The active VDC 101 includes a differential amplifier 15, pMOS transistors 111 to 114, a resistor 11
5, 116 and a one-shot pulse generation circuit 117. The output of the differential amplifier 15 is connected to the gate of the pMOS transistor 111, the drain of the pMOS transistor 111 is connected to the non-inverting input of the differential amplifier 15, and the connection is made to the pMOS transistor 112
, And 113. In the pMOS transistor 113, the drain is grounded via the resistor 115, and the gate is the one-shot pulse generation circuit 11
7 is connected to the output. The inverting input of the differential amplifier 15 is connected to the reference voltage generating circuit 4 to receive the reference voltage Vref, the source of the pMOS transistor 111 is connected to the power supply terminal, and the power supply voltage Vcc is applied.
【0071】pMOSトランジスタ112において、ゲ
ートは/RAS端子に接続され、ドレインはpMOSト
ランジスタ114のドレインに接続され、該接続部は、
アクティブ用VDC101の出力をなすと共に、スタン
バイ用VDC2の出力に接続されて内部電源降圧回路1
05の出力をなしている。pMOSトランジスタ114
において、ソースは抵抗116を介して電源端子に接続
されて電源電圧Vccが印加され、ゲートはワンショット
パルス発生回路117の出力に接続されている。In the pMOS transistor 112, the gate is connected to the / RAS terminal, the drain is connected to the drain of the pMOS transistor 114, and the connection is
The output of the active VDC 101 and the output of the internal power supply step-down circuit 1 connected to the output of the standby VDC 2
05 is output. pMOS transistor 114
In FIG. 7, the source is connected to the power supply terminal via the resistor 116, the power supply voltage Vcc is applied, and the gate is connected to the output of the one-shot pulse generation circuit 117.
【0072】また、ワンショットパルス発生回路117
の入力は/RAS端子に接続されている。なお、pMO
Sトランジスタ111が出力回路部をなし、pMOSト
ランジスタ112が遮断制御回路部をなし、pMOSト
ランジスタ113、抵抗115及びワンショットパルス
発生回路117がバイパス回路をなす。更に、pMOS
トランジスタ114、抵抗116及びワンショットパル
ス発生回路117が電圧印加回路部をなす。The one-shot pulse generation circuit 117
Is connected to the / RAS terminal. Note that pMO
The S transistor 111 forms an output circuit section, the pMOS transistor 112 forms a cutoff control circuit section, and the pMOS transistor 113, the resistor 115, and the one-shot pulse generation circuit 117 form a bypass circuit. Furthermore, pMOS
The transistor 114, the resistor 116, and the one-shot pulse generation circuit 117 form a voltage application circuit.
【0073】このような構成において、/RAS信号が
Highレベルであるスタンバイ状態時には、pMOS
トランジスタ112〜114はオフして非導通状態とな
る。このことから、アクティブ用VDC101からの内
部電源電圧int.Vccの供給は停止し、スタンバイ用VD
C2からのみ内部電源電圧int.Vccの供給が行われる。
次に、/RAS信号がHighレベルからLowレベル
に立ち下がって、スタンバイ状態からアクティブ状態に
変わるとき、pMOSトランジスタ112はオンして導
通状態となり、pMOSトランジスタ112を介して内
部電源電圧int.Vccの供給が行われる。In such a configuration, when the / RAS signal is at the high level in the standby state, the pMOS
The transistors 112 to 114 are turned off and are turned off. For this reason, the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the active VDC 101 is stopped, and the standby VDD
The internal power supply voltage int.Vcc is supplied only from C2.
Next, when the / RAS signal falls from the High level to the Low level and changes from the standby state to the active state, the pMOS transistor 112 is turned on and becomes conductive, and the internal power supply voltage int. Feeding takes place.
【0074】ここで、/RAS信号がLowレベルから
Highレベルに立ち上がって、アクティブ状態からス
タンバイ状態に変わるとき、ワンショットパルス発生回
路117からLowレベルのワンショットパルス信号が
出力され、pMOSトランジスタ112がオフして非導
通状態になると共に、pMOSトランジスタ113及び
114は、ワンショットパルス発生回路117からワン
ショットパルス信号が入力されている間、それぞれオン
して導通状態となる。pMOSトランジスタ113及び
114は、ワンショットパルス発生回路117からワン
ショットパルス信号が入力されなくなると、再びオフし
て非導通状態となる。Here, when the / RAS signal rises from the low level to the high level and changes from the active state to the standby state, the one-shot pulse generation circuit 117 outputs a low-level one-shot pulse signal, and the pMOS transistor 112 The pMOS transistors 113 and 114 are turned on and turned on while the one-shot pulse signal is being input from the one-shot pulse generation circuit 117, while being turned off and turned off. When the one-shot pulse signal is no longer input from the one-shot pulse generation circuit 117, the pMOS transistors 113 and 114 are turned off again and become non-conductive.
【0075】このように、pMOSトランジスタ112
がオフして非導通状態になるとき、pMOSトランジス
タ113を所定の間オンさせることによって、pMOS
トランジスタ111のドレインとpMOSトランジスタ
112のソースとの接続部を抵抗115を介して接地
し、pMOSトランジスタ114を所定の間オンさせる
ことによって、アクティブ用VDC101の出力に抵抗
116を介して電源電圧Vccを印加するようにした。As described above, the pMOS transistor 112
Is turned off and becomes non-conductive, the pMOS transistor 113 is turned on for a predetermined time,
The connection between the drain of the transistor 111 and the source of the pMOS transistor 112 is grounded via a resistor 115, and the pMOS transistor 114 is turned on for a predetermined period, so that the output of the active VDC 101 is connected to the power supply voltage Vcc via a resistor 116. It was applied.
【0076】上記のように、本実施の形態4における半
導体集積回路は、アクティブ状態からスタンバイ状態に
移行するときにアクティブ用VDC101からの内部電
源電圧int.Vccの供給を停止させる際、pMOSトラン
ジスタ113を所定の間オンさせることによって、pM
OSトランジスタ111のドレインとpMOSトランジ
スタ112のソースとの接続部を抵抗115を介して接
地し、pMOSトランジスタ114を所定の間オンさせ
ることによって、アクティブ用VDC101の出力に抵
抗116を介して電源電圧Vccを印加するようにした。
このことから、pMOSトランジスタ112が非導通状
態になった際に、発生したノイズを接地にバイパスする
と共に内部電源降圧回路105から出力される内部電源
電圧int.Vccの低下を防止することができ、アクティブ
状態からスタンバイ状態に移行する際に、出力電流の遮
断制御を行う際の電源電圧Vccに対するノイズの発生を
防止することができ、信頼性の向上を図ることができ
る。As described above, in the semiconductor integrated circuit according to the fourth embodiment, when the supply of the internal power supply voltage int.Vcc from the active VDC 101 is stopped when shifting from the active state to the standby state, the pMOS transistor 113 is used. By turning on for a predetermined time, pM
The connection between the drain of the OS transistor 111 and the source of the pMOS transistor 112 is grounded via a resistor 115, and the pMOS transistor 114 is turned on for a predetermined period, whereby the output of the active VDC 101 is connected to the power supply voltage Vcc via a resistor 116. Was applied.
Therefore, when the pMOS transistor 112 is turned off, the generated noise can be bypassed to the ground and the internal power supply voltage int.Vcc output from the internal power supply voltage down circuit 105 can be prevented from lowering. At the time of transition from the active state to the standby state, it is possible to prevent generation of noise with respect to the power supply voltage Vcc at the time of performing output current cutoff control, thereby improving reliability.
【0077】実施の形態5.実施の形態1から実施の形
態4においては、通常動作時における内部電源降圧回路
内で発生するノイズの影響を防止するものであったが、
半導体集積回路の内部電源回路における、通常動作モー
ドからテストモードに移る際に発生するノイズの影響を
防止するようにしたものを本発明の実施の形態5とす
る。図8は、本発明の実施の形態5における半導体集積
回路の回路例を示した概略のブロック図である。なお、
図8では、DRAMで使用される内部電源回路を例にし
て示しており、該内部電源回路における内部電源降圧回
路は、実施の形態1の内部電源降圧回路1を例にして示
しているが、実施の形態2から実施の形態4における各
内部電源降圧回路においても同様であるのでその説明を
省略する。Embodiment 5 In the first to fourth embodiments, the influence of noise generated in the internal power supply step-down circuit during normal operation is prevented.
A fifth embodiment of the present invention is directed to an internal power supply circuit of a semiconductor integrated circuit in which the influence of noise generated when shifting from a normal operation mode to a test mode is prevented. FIG. 8 is a schematic block diagram showing a circuit example of a semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment of the present invention. In addition,
FIG. 8 shows an example of an internal power supply circuit used in a DRAM, and the internal power supply step-down circuit in the internal power supply circuit is shown as an example of the internal power supply step-down circuit 1 of the first embodiment. The same applies to each of the internal power supply step-down circuits according to the second to fourth embodiments, and a description thereof will be omitted.
【0078】図8において、内部電源回路120は、内
部電源降圧回路1、半導体基板のバイアス電圧を生成し
て出力し半導体基板に負の基板電圧Vbbを印加する基板
電圧発生回路121、電源端子から供給される外部から
の電源電圧Vccを昇圧して昇圧電圧Vppを生成し各部に
供給する昇圧電圧発生回路122及び出力切換回路12
3〜125を備えている。内部電源降圧回路1、基板電
圧発生回路121及び昇圧電圧発生回路122の出力に
は、出力切換回路123〜125が対応して接続されて
いる。In FIG. 8, an internal power supply circuit 120 includes an internal power supply step-down circuit 1, a substrate voltage generation circuit 121 for generating and outputting a bias voltage for the semiconductor substrate and applying a negative substrate voltage Vbb to the semiconductor substrate, and a power supply terminal. A boosted voltage generating circuit 122 and an output switching circuit 12 which boost a supplied external power supply voltage Vcc to generate a boosted voltage Vpp and supply it to each section.
3 to 125 are provided. Output switching circuits 123 to 125 are connected to the outputs of the internal power supply step-down circuit 1, the substrate voltage generation circuit 121, and the boosted voltage generation circuit 122, respectively.
【0079】出力切換回路123は、内部電源降圧回路
1の出力と電源電圧Vccが印加される外部入力端子I1
との切換を行い、出力切換回路124は、基板電圧発生
回路121の出力と外部から所定の電圧が印加される外
部入力端子I2との切換を行い、出力切換回路125
は、昇圧電圧発生回路122の出力と外部から所定の電
圧が印加される外部入力端子I3との切換を行う。出力
切換回路123は、通常動作時に、内部電源降圧回路1
から出力される内部電源電圧int.Vccを各回路に出力
し、所定のテストモード信号TEST(以下、TEST
信号と呼ぶ)が入力されると、内部電源降圧回路1から
出力されている内部電源電圧int.Vccの代わりに外部入
力端子I1に印加されている電源電圧Vccを各回路に出
力する。The output switching circuit 123 is connected to an external input terminal I1 to which the output of the internal power supply step-down circuit 1 and the power supply voltage Vcc are applied.
The output switching circuit 124 switches between the output of the substrate voltage generating circuit 121 and an external input terminal I2 to which a predetermined voltage is applied from the outside.
Switches between the output of the boosted voltage generation circuit 122 and an external input terminal I3 to which a predetermined voltage is applied from the outside. The output switching circuit 123 operates during the normal operation.
The internal power supply voltage int.Vcc output from the circuit is output to each circuit, and a predetermined test mode signal TEST (hereinafter, TEST) is output.
When this signal is input, the power supply voltage Vcc applied to the external input terminal I1 is output to each circuit instead of the internal power supply voltage int.Vcc output from the internal power supply voltage step-down circuit 1.
【0080】出力切換回路124は、通常動作時に、基
板電圧発生回路121から出力される基板電圧Vbbを各
回路に出力し、所定のTEST信号が入力されると、基
板電圧発生回路121から出力されている基板電圧Vbb
の代わりに外部入力端子I2に外部から印加される電圧
を各回路に出力する。また、出力切換回路125は、通
常動作時に、昇圧電圧発生回路122から出力される昇
圧電圧Vppを各回路に出力し、所定のTEST信号が入
力されると、昇圧電圧発生回路122から出力されてい
る昇圧電圧Vppの代わりに外部入力端子I3に外部から
印加される電圧を各回路に出力する。The output switching circuit 124 outputs the substrate voltage Vbb output from the substrate voltage generation circuit 121 to each circuit during normal operation, and outputs a predetermined voltage from the substrate voltage generation circuit 121 when a predetermined TEST signal is input. Substrate voltage Vbb
Instead, a voltage externally applied to the external input terminal I2 is output to each circuit. The output switching circuit 125 outputs the boosted voltage Vpp output from the boosted voltage generation circuit 122 to each circuit during normal operation, and outputs the boosted voltage Vpp from the boosted voltage generation circuit 122 when a predetermined TEST signal is input. A voltage externally applied to the external input terminal I3 instead of the boosted voltage Vpp is output to each circuit.
【0081】図9は、出力切換回路123の回路例を示
した回路図である。図9において、出力切換回路123
は、nMOSトランジスタ131〜136、インバータ
回路137〜139、ダイオード140及び遅延回路1
41で形成されている。内部電源降圧回路1の出力には
ダイオード140のアノードが接続されており、nMO
Sトランジスタ131〜133の各ドレインはそれぞれ
接続され、該接続部はダイオード140のカソードに接
続されている。nMOSトランジスタ131〜136の
各ソースはそれぞれ接続され、該接続部は出力切換回路
123の出力をなすと共に、内部電源回路120の1つ
の出力をなしている。FIG. 9 is a circuit diagram showing a circuit example of the output switching circuit 123. In FIG. 9, the output switching circuit 123
Are nMOS transistors 131 to 136, inverter circuits 137 to 139, a diode 140, and a delay circuit 1
41. The output of the internal power supply step-down circuit 1 is connected to the anode of the diode 140,
The drains of the S transistors 131 to 133 are respectively connected, and the connection is connected to the cathode of the diode 140. The sources of the nMOS transistors 131 to 136 are connected to each other, and the connection forms the output of the output switching circuit 123 and the output of the internal power supply circuit 120.
【0082】また、nMOSトランジスタ134〜13
6の各ドレインはそれぞれ接続され、該接続部は外部入
力端子I1に接続されている。nMOSトランジスタ1
31〜133の各ゲートにはインバータ回路137〜1
39の出力が対応して接続され、インバータ回路137
〜139の各入力、及びnMOSトランジスタ134〜
136の各ゲートは、遅延回路141に接続されてい
る。なお、nMOSトランジスタ131〜133、イン
バータ回路137〜139及びダイオード140は内部
電圧制御回路部をなし、nMOSトランジスタ134〜
136は外部電圧制御回路部をなす。また、遅延回路1
41は、図2で示した遅延回路25と同じ回路であり、
遅延回路25の入力にTEST信号が入力されるように
したものであることから、遅延回路141の回路例の説
明を省略する。The nMOS transistors 134 to 13
6 are connected to each other, and the connection is connected to the external input terminal I1. nMOS transistor 1
The inverter circuits 137 to 1 are provided at the gates of 31 to 133, respectively.
39 are connected correspondingly, and the inverter circuit 137 is connected.
To 139 and the nMOS transistor 134 to
Each gate of 136 is connected to the delay circuit 141. The nMOS transistors 131 to 133, the inverter circuits 137 to 139, and the diode 140 form an internal voltage control circuit, and the nMOS transistors 134 to 133
136 is an external voltage control circuit unit. Also, delay circuit 1
41 is the same circuit as the delay circuit 25 shown in FIG.
Since the TEST signal is input to the input of the delay circuit 25, the description of the circuit example of the delay circuit 141 is omitted.
【0083】遅延回路141は、入力信号に対して信号
φ6〜φ8を出力し、入力信号の信号レベルの変化に対し
て、信号φ6が最も遅延量が小さく、次に信号φ7が遅延
量が小さく、信号φ8が最も遅延量が大きい。nMOS
トランジスタ134のゲート及びインバータ回路137
の入力には遅延回路141からそれぞれ信号φ6が入力
され、nMOSトランジスタ135のゲート及びインバ
ータ回路138の入力には遅延回路141からそれぞれ
信号φ7が入力され、nMOSトランジスタ136のゲ
ート及びインバータ回路139の入力には遅延回路14
1からそれぞれ信号φ8が入力されている。なお、信号
φ6は図2の信号φ1に、信号φ7は図2の信号φ2に、信
号φ8は図2の信号φ3に対応している。The delay circuit 141 outputs signals φ6 to φ8 in response to an input signal, and the signal φ6 has the smallest delay and the signal φ7 has the smallest delay in response to a change in the signal level of the input signal. , The signal φ8 has the largest delay amount. nMOS
The gate of the transistor 134 and the inverter circuit 137
, The signal φ6 is input from the delay circuit 141, the gate of the nMOS transistor 135 and the input of the inverter circuit 138 are input with the signal φ7 from the delay circuit 141, and the gate of the nMOS transistor 136 and the input of the inverter circuit 139. Has a delay circuit 14
Signals .phi.8 are input from 1 respectively. The signal φ6 corresponds to the signal φ1 in FIG. 2, the signal φ7 corresponds to the signal φ2 in FIG. 2, and the signal φ8 corresponds to the signal φ3 in FIG.
【0084】通常動作時には遅延回路141の入力に
は、例えばLowレベルの信号が入力されており、遅延
回路141からはLowレベルの信号φ6〜φ8が出力さ
れている。このことから、nMOSトランジスタ131
〜133がオンして導通状態となり、nMOSトランジ
スタ134〜136がオフして非導通状態となってい
る。このため、出力切換回路123からは、内部電源降
圧回路1から出力されている内部電源電圧int.Vccが出
力される。During normal operation, for example, a low-level signal is input to the input of the delay circuit 141, and the low-level signals φ6 to φ8 are output from the delay circuit 141. From this, the nMOS transistor 131
133 turn on to turn on, and the nMOS transistors 134 to 136 turn off to turn off. Therefore, the output switching circuit 123 outputs the internal power supply voltage int.Vcc output from the internal power supply step-down circuit 1.
【0085】ここで、通常動作からテストモード動作に
変わるとき、例えばHighレベルのTEST信号が遅
延回路141に入力される。遅延回路141の入力がL
owレベルからHighレベルに立ち上がると、最初に
信号φ6がLowレベルからHighレベルに立ち上が
ってnMOSトランジスタ131がオフして非導通状態
になると共にnMOSトランジスタ134がオンして導
通状態となる。Here, when changing from the normal operation to the test mode operation, for example, a high level TEST signal is input to the delay circuit 141. The input of the delay circuit 141 is L
When the signal φ6 rises from the low level to the high level, first, the signal φ6 rises from the low level to the high level, and the nMOS transistor 131 is turned off and turned off, and the nMOS transistor 134 is turned on and turned on.
【0086】続いて信号φ7がLowレベルからHig
hレベルに立ち上がって、nMOSトランジスタ132
がオフして非導通状態になると共にnMOSトランジス
タ135がオンして導通状態となる。更に続いて、信号
φ8がLowレベルからHighレベルに立ち上がっ
て、nMOSトランジスタ133がオフして非導通状態
になると共にnMOSトランジスタ136がオンして導
通状態となって、出力切換回路123から内部電源電圧
int.Vccに代わって外部入力端子I1に印加された電源
電圧Vccが出力される。Subsequently, the signal φ7 changes from the low level to the high level.
After rising to the h level, the nMOS transistor 132
Is turned off to turn off, and the nMOS transistor 135 turns on to turn on. Subsequently, the signal φ8 rises from the Low level to the High level, the nMOS transistor 133 is turned off and turned off, and the nMOS transistor 136 is turned on and turned on.
The power supply voltage Vcc applied to the external input terminal I1 is output instead of int.Vcc.
【0087】テストモード動作から通常動作に変わると
き、遅延回路141の入力がHighレベルからLow
レベルに立ち上がり、最初に信号φ6がHighレベル
からLowレベルに立ち下がって、nMOSトランジス
タ131がオンして導通状態になると共にnMOSトラ
ンジスタ134がオフして非導通状態となる。When the operation changes from the test mode operation to the normal operation, the input of the delay circuit 141 is changed from the high level to the low level.
The signal φ6 first falls from a high level to a low level, turning on the nMOS transistor 131 to turn on, and turning off the nMOS transistor 134 to turn off.
【0088】続いて信号φ7がHighレベルからLo
wレベルに立ち下がって、nMOSトランジスタ132
がオンして導通状態になると共にnMOSトランジスタ
135がオフして非導通状態となる。更に続いて、信号
φ8がHighレベルからLowレベルに立ち下がっ
て、nMOSトランジスタ133がオフして非導通状態
になると共にnMOSトランジスタ136がオンして導
通状態となって、出力切換回路123から内部電源電圧
int.Vccが出力されるようになる。Subsequently, the signal φ7 changes from the High level to the Lo level.
The nMOS transistor 132 falls to the w level.
Is turned on to turn on, and the nMOS transistor 135 is turned off to turn off. Subsequently, the signal φ8 falls from the high level to the low level, and the nMOS transistor 133 is turned off and turned off, and the nMOS transistor 136 is turned on and turned on. Voltage
int.Vcc is output.
【0089】出力切換回路124及び125の回路は、
出力切換回路123と基本的には同じであるのでその説
明を省略する。しかし、出力切換回路124において、
外部入力端子I2に印加される電圧が基板電圧Vbbより
も大きい場合、出力切換回路123と同様に基板電圧発
生回路121の出力にダイオードを順方向に接続し、外
部入力端子I2に印加される電圧が基板電圧Vbbよりも
小さい場合、外部入力端子I2から印加される電圧はダ
イオードを介してnMOSトランジスタ134〜136
の各ドレインに印加されるようにする。The output switching circuits 124 and 125
Since the output switching circuit 123 is basically the same as the output switching circuit 123, the description thereof is omitted. However, in the output switching circuit 124,
When the voltage applied to the external input terminal I2 is higher than the substrate voltage Vbb, a diode is connected to the output of the substrate voltage generating circuit 121 in the forward direction similarly to the output switching circuit 123, and the voltage applied to the external input terminal I2 Is smaller than the substrate voltage Vbb, the voltage applied from the external input terminal I2 is applied to the nMOS transistors 134 to 136 via the diodes.
Is applied to each drain.
【0090】同様に、出力切換回路125において、外
部入力端子I3に印加される電圧が昇圧電圧Vppよりも
大きい場合、出力切換回路123と同様に昇圧電圧発生
回路122の出力にダイオードを順方向に接続し、外部
入力端子I3に印加される電圧が昇圧電圧Vppよりも小
さい場合、外部入力端子I3から印加される電圧はダイ
オードを介してnMOSトランジスタ134〜136の
各ドレインに印加されるようにする。Similarly, in the output switching circuit 125, when the voltage applied to the external input terminal I3 is higher than the boosted voltage Vpp, a diode is connected to the output of the boosted voltage generating circuit 122 in the forward direction similarly to the output switching circuit 123. If the voltage applied to the external input terminal I3 is smaller than the boosted voltage Vpp, the voltage applied from the external input terminal I3 is applied to the drains of the nMOS transistors 134 to 136 via diodes. .
【0091】このように、本実施の形態5における半導
体集積回路は、通常動作からテストモード動作に移行す
る際、内部電源降圧回路1、基板電圧発生回路121及
び昇圧電圧発生回路122から出力される各出力電流を
それぞれ段階的に減少させて遮断すると共に、各外部入
力端子I1〜I3から入力される各入力電流をそれぞれ段
階的に増加させて、内部電源電圧int.Vcc、基板電圧V
bb及び昇圧電圧Vppをそれぞれ対応させた外部から入力
される所定の電圧に切り換えて内部電源回路120から
出力するようにした。このことから、通常動作からテス
トモード動作に移行する際に、内部電源降圧回路、基板
電圧発生回路及び昇圧電圧発生回路からの各出力電流の
遮断制御を行う際の電源電圧Vccに対するノイズの発生
を防止することができ、信頼性の向上を図ることができ
る。As described above, the semiconductor integrated circuit according to the fifth embodiment outputs from internal power supply voltage down converter 1, substrate voltage generating circuit 121, and boosted voltage generating circuit 122 when shifting from the normal operation to the test mode operation. Each output current is gradually reduced and cut off, and each input current input from each of the external input terminals I1 to I3 is gradually increased so that the internal power supply voltage int.
bb and the boosted voltage Vpp are respectively switched to corresponding predetermined externally input voltages and output from the internal power supply circuit 120. From this, when shifting from the normal operation to the test mode operation, generation of noise with respect to the power supply voltage Vcc at the time of performing cutoff control of each output current from the internal power supply step-down circuit, the substrate voltage generation circuit, and the boost voltage generation circuit. Can be prevented, and the reliability can be improved.
【0092】[0092]
【発明の効果】請求項1に係る半導体集積回路は、第1
内部電源回路部及び第2内部電源回路部から内部電源電
圧の供給を行い、第2内部電源回路部からの内部電源電
圧の供給を停止させる際、第2内部電源回路部からの出
力電流を段階的に減少させて遮断し、第2内部電源回路
部からの内部電源電圧の供給を停止させるようにした。
このことから、内部電源電圧の供給を行っている各回路
の消費電流が小さくなるときに、電流供給能力の大きい
第2内部電源回路部からの出力電流の遮断制御を行う際
の電源電圧等に対するノイズの発生を防止することがで
き、信頼性の向上を図ることができる。According to the first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor integrated circuit comprising:
When the internal power supply voltage is supplied from the internal power supply circuit section and the second internal power supply circuit section, and the supply of the internal power supply voltage from the second internal power supply circuit section is stopped, the output current from the second internal power supply circuit section is stepped. Then, the supply of the internal power supply voltage from the second internal power supply circuit unit is stopped.
From this, when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage becomes small, the power supply voltage or the like when the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit part having a large current supply capability is performed. Generation of noise can be prevented, and reliability can be improved.
【0093】請求項2に係る半導体集積回路は、請求項
1において、具体的には、第2内部電源回路部は、差動
増幅器と遅延回路部と出力回路部とを備え、遅延回路部
は、内部電源電圧の供給が行われている各回路の消費電
流が小さくなるとき外部から所定の信号が入力され、出
力回路部は、遅延回路部から出力される遅延量の異なる
各遅延信号に応じて出力電流を段階的に減少させて内部
電源電圧の出力を停止するようにした。このことから、
内部電源電圧の供給を行っている各回路の消費電流が小
さくなるときに、電流供給能力の大きい第2内部電源回
路部からの出力電流の遮断制御を行う際の電源電圧等に
対するノイズの発生を防止することができ、信頼性の向
上を図ることができる。According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the second internal power supply circuit section includes a differential amplifier, a delay circuit section, and an output circuit section. When the current consumption of each circuit to which the internal power supply voltage is supplied decreases, a predetermined signal is input from the outside, and the output circuit unit responds to each delay signal having a different delay amount output from the delay circuit unit. Thus, the output current is reduced stepwise to stop the output of the internal power supply voltage. From this,
When the current consumption of each circuit that supplies the internal power supply voltage decreases, the generation of noise with respect to the power supply voltage or the like when the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit part having a large current supply capability is performed. Can be prevented, and the reliability can be improved.
【0094】請求項3に係る半導体集積回路は、請求項
1において、具体的には、第2内部電源回路部は、差動
増幅器と出力回路部と遮断制御回路部とを備え、遮断制
御回路部は、内部電源電圧の供給が行われている各回路
の消費電流が小さくなるときに外部から入力される所定
の信号が入力されると、出力回路部から出力される出力
電流を段階的に減少させて外部への出力を遮断するよう
にした。このことから、内部電源電圧の供給を行ってい
る各回路の消費電流が小さくなるときに、電流供給能力
の大きい第2内部電源回路部からの出力電流の遮断制御
を行う際の電源電圧等に対するノイズの発生を防止する
ことができ、信頼性の向上を図ることができる。According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the second internal power supply circuit section includes a differential amplifier, an output circuit section, and a cutoff control circuit section. When a predetermined signal input from the outside is input when the current consumption of each circuit to which the internal power supply voltage is supplied becomes small, the output current output from the output circuit unit is gradually changed. The output was cut off to reduce the output. From this, when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage becomes small, the power supply voltage or the like when the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit part having a large current supply capability is performed. Generation of noise can be prevented, and reliability can be improved.
【0095】請求項4に係る半導体集積回路は、請求項
3において、具体的には、遮断制御回路部は、遅延回路
部とゲートサイズの異なる複数のMOSトランジスタと
を備え、遅延回路部は、該各MOSトランジスタをオン
させて導通状態にし出力回路部からの出力電流を各回路
に出力し、外部から上記所定の信号が入力されると、ド
レイン電流の大きいMOSトランジスタから順にオフさ
せて非導通状態にし、出力回路部から出力される出力電
流を段階的に減少させて外部への出力を遮断するように
した。このことから、内部電源電圧の供給を行っている
各回路の消費電流が小さくなるときに、電流供給能力の
大きい第2内部電源回路部からの出力電流の遮断制御を
行う際の電源電圧等に対するノイズの発生を防止するこ
とができ、信頼性の向上を図ることができる。According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the third aspect, the cutoff control circuit section includes a delay circuit section and a plurality of MOS transistors having different gate sizes, and the delay circuit section includes: Each of the MOS transistors is turned on to make it conductive, and the output current from the output circuit section is output to each circuit. When the above-mentioned predetermined signal is input from the outside, the MOS transistors with the largest drain current are turned off in order to turn off. In this state, the output current output from the output circuit unit is reduced in a stepwise manner to cut off output to the outside. From this, when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage becomes small, the power supply voltage or the like when the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit part having a large current supply capability is performed. Generation of noise can be prevented, and reliability can be improved.
【0096】請求項5に係る半導体集積回路は、請求項
1において、具体的には、第2内部電源回路部は、差動
増幅器と出力回路部とを備え、出力回路部は、内部電源
電圧の供給が行われている各回路の消費電流が小さくな
るときに外部から入力される所定の信号が入力される
と、出力電流を連続的に減少させて内部電源電圧の出力
を停止するようにした。このことから、内部電源電圧の
供給を行っている各回路の消費電流が小さくなるとき
に、電流供給能力の大きい第2内部電源回路部からの出
力電流の遮断制御を行う際の電源電圧等に対するノイズ
の発生を防止することができ、信頼性の向上を図ること
ができる。According to a fifth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the second internal power supply circuit section includes a differential amplifier and an output circuit section, and the output circuit section includes an internal power supply voltage. When a predetermined signal that is input from the outside is input when the current consumption of each circuit in which the power supply is performed is reduced, the output current is continuously reduced so that the output of the internal power supply voltage is stopped. did. From this, when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage becomes small, the power supply voltage or the like when the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit part having a large current supply capability is performed. Generation of noise can be prevented, and reliability can be improved.
【0097】請求項6に係る半導体集積回路は、請求項
1において、具体的には、第2内部電源回路部は、差動
増幅器と、該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源
電圧を供給するための出力電流を変える出力回路部と、
外部から所定の信号が入力されると該出力回路部からの
出力電流に対する外部への出力を遮断する遮断制御回路
部と、該遮断制御回路部による出力電流遮断時に、出力
回路部の出力電圧を所定の間バイパスして、該出力電圧
の上昇を低下させるバイパス回路部とを備えるようにし
た。このことから、電流供給能力の大きい第2内部電源
回路部からの出力電流の遮断制御を行う際に、発生した
ノイズを接地にバイパスすることができ、内部電源電圧
の供給を行っている各回路の消費電流が小さくなるとき
に、電流供給能力の大きい第2内部電源回路部からの出
力電流の遮断制御を行う際の電源電圧等に対するノイズ
の発生を防止することができ、信頼性の向上を図ること
ができる。According to a sixth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the first aspect, the second internal power supply circuit section includes a differential amplifier and an internal power supply voltage corresponding to an output voltage of the differential amplifier. An output circuit section for changing an output current for supplying
A cut-off control circuit that cuts off an output to the outside with respect to an output current from the output circuit when a predetermined signal is input from outside; and an output voltage of the output circuit when the cut-off control circuit cuts off the output current. A bypass circuit that bypasses for a predetermined time and reduces the rise of the output voltage. For this reason, it is possible to bypass generated noise to the ground when performing the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit unit having a large current supply capability, and to supply the internal power supply voltage to each circuit. When the current consumption becomes smaller, it is possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage and the like when performing the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit unit having a large current supply capability, thereby improving the reliability. Can be planned.
【0098】請求項7に係る半導体集積回路は、請求項
6において、具体的には、第2内部電源回路部は、遮断
制御回路部による出力電流遮断時に、第2内部電源回路
部の出力に外部からの電源電圧を所定の間印加する電圧
印加回路部を更に備えるようにした。このことから、電
流供給能力の大きい第2内部電源回路部からの出力電流
の遮断制御を行う際に、第1内部電源回路部から出力さ
れる内部電源電圧の低下を防止することができ、内部電
源電圧の供給を行っている各回路の消費電流が小さくな
るときに、電流供給能力の大きい第2内部電源回路部か
らの出力電流の遮断制御を行う際の電源電圧等に対する
ノイズの発生を更に確実に防止することができ、信頼性
の向上をより一層図ることができる。According to a seventh aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the sixth aspect, the second internal power supply circuit section outputs the output of the second internal power supply circuit section when the output current is cut off by the cutoff control circuit section. A voltage application circuit unit for applying an external power supply voltage for a predetermined period is further provided. Accordingly, it is possible to prevent a decrease in the internal power supply voltage output from the first internal power supply circuit unit when performing the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit unit having a large current supply capability. When the current consumption of each circuit supplying the power supply voltage decreases, the generation of noise with respect to the power supply voltage or the like when performing the cutoff control of the output current from the second internal power supply circuit unit having a large current supply capability is further reduced. This can be reliably prevented, and the reliability can be further improved.
【0099】請求項8に係る半導体集積回路は、所定の
信号が入力されると、出力切換回路部によって、内部電
源回路部から出力される出力電流を段階的に減少させて
遮断すると共に、外部から入力される各入力電流をそれ
ぞれ段階的に増加させて、内部電源回路部からの出力電
圧を外部から入力される所定の電圧に切り換えて各回路
に供給するようにした。このことから、内部電源回路部
からの出力電圧を外部から入力される所定の電圧に切り
換える際に、内部電源回路部からの出力電流の遮断制御
を行う際の電源電圧等に対するノイズの発生を防止する
ことができ、信頼性の向上を図ることができる。According to the semiconductor integrated circuit of the present invention, when a predetermined signal is inputted, the output current outputted from the internal power supply circuit is reduced stepwise by the output switching circuit to cut off the external current. The input current input from the external power supply is gradually increased, and the output voltage from the internal power supply circuit section is switched to a predetermined voltage input from the outside and supplied to each circuit. Thus, when switching the output voltage from the internal power supply circuit to a predetermined voltage input from the outside, it is possible to prevent the generation of noise with respect to the power supply voltage and the like when controlling the cutoff of the output current from the internal power supply circuit. And reliability can be improved.
【0100】請求項9に係る半導体集積回路は、請求項
8において、具体的には、出力切換回路部は、遅延回路
部と、内部電圧制御回路部と、外部電圧制御回路部とを
備え、遅延回路部は、所定の信号が入力されると、内部
電源回路部から出力される出力電流を段階的に減少させ
て外部への出力を遮断すると共に、外部から入力される
電流を段階的に増加させて外部から印加される電圧を各
回路へ供給するようにした。このことから、内部電源回
路部からの出力電圧を外部から入力される所定の電圧に
切り換える際に、内部電源回路部からの出力電流の遮断
制御を行う際の電源電圧等に対するノイズの発生を防止
することができ、信頼性の向上を図ることができる。According to a ninth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to the eighth aspect, the output switching circuit section includes a delay circuit section, an internal voltage control circuit section, and an external voltage control circuit section. When a predetermined signal is input, the delay circuit section gradually reduces the output current output from the internal power supply circuit section to cut off output to the outside, and gradually reduces the current input from the outside. The voltage applied from the outside is increased and supplied to each circuit. Thus, when switching the output voltage from the internal power supply circuit to a predetermined voltage input from the outside, it is possible to prevent the generation of noise with respect to the power supply voltage and the like when controlling the cutoff of the output current from the internal power supply circuit. And reliability can be improved.
【0101】請求項10に係る半導体集積回路は、請求
項8又は請求項9のいずれかにおいて、具体的には、内
部電源回路部は、外部から供給される電源電圧を降圧し
所定の内部電源電圧を生成して各回路に供給する内部電
源降圧回路であり、内部電源降圧回路からの内部電源電
圧を外部から入力される所定の電圧に切り換える際に、
内部電源降圧回路からの出力電流の遮断制御を行う際の
電源電圧等に対するノイズの発生を防止することがで
き、信頼性の向上を図ることができる。According to a tenth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the eighth and ninth aspects, specifically, the internal power supply circuit section reduces a power supply voltage supplied from the outside to a predetermined internal power supply. It is an internal power supply step-down circuit that generates a voltage and supplies it to each circuit.When switching the internal power supply voltage from the internal power supply step-down circuit to a predetermined voltage input from the outside,
It is possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage or the like when performing the cutoff control of the output current from the internal power supply step-down circuit, thereby improving the reliability.
【0102】請求項11に係る半導体集積回路は、請求
項8又は請求項9のいずれかにおいて、具体的には、内
部電源回路部は、外部から供給される電源電圧から半導
体基板のバイアス電圧を生成して出力し、半導体基板に
所定の基板電圧を印加する基板電圧発生回路であり、基
板電圧発生回路からの基板電圧を外部から入力される所
定の電圧に切り換える際に、基板電圧発生回路からの出
力電流の遮断制御を行う際の電源電圧等に対するノイズ
の発生を防止することができ、信頼性の向上を図ること
ができる。According to the eleventh aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the eighth and ninth aspects, specifically, the internal power supply circuit section determines a bias voltage of the semiconductor substrate from a power supply voltage supplied from the outside. A substrate voltage generation circuit that generates and outputs a predetermined substrate voltage to a semiconductor substrate, and switches the substrate voltage from the substrate voltage generation circuit to a predetermined voltage input from the outside. In this case, it is possible to prevent the occurrence of noise with respect to the power supply voltage or the like when performing the output current cutoff control, and to improve the reliability.
【0103】請求項12に係る半導体集積回路は、請求
項8又は請求項9のいずれかにおいて、具体的には、内
部電源回路部は、外部から供給される電源電圧を昇圧し
て所定の昇圧電圧を生成し各回路に供給する昇圧電圧発
生回路であり、昇圧電圧発生回路からの昇圧電圧を外部
から入力される所定の電圧に切り換える際に、昇圧電圧
発生回路からの出力電流の遮断制御を行う際の電源電圧
等に対するノイズの発生を防止することができ、信頼性
の向上を図ることができる。According to a twelfth aspect of the present invention, in the semiconductor integrated circuit according to any one of the eighth and ninth aspects, specifically, the internal power supply circuit portion boosts a power supply voltage supplied from the outside to a predetermined boosted voltage. A boosted voltage generating circuit that generates a voltage and supplies it to each circuit.When switching the boosted voltage from the boosted voltage generating circuit to a predetermined voltage input from the outside, the boosted voltage generating circuit performs cutoff control of the output current from the boosted voltage generating circuit. Generation of noise with respect to a power supply voltage or the like at the time of performing the operation can be prevented, and reliability can be improved.
【図1】 本発明の実施の形態1における半導体集積回
路の例を示した回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 図1における遅延回路25の回路例を示した
図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a circuit example of a delay circuit 25 in FIG. 1;
【図3】 図2で示した遅延回路25の動作例を示した
タイミングチャートである。FIG. 3 is a timing chart illustrating an operation example of the delay circuit 25 illustrated in FIG. 2;
【図4】 本発明の実施の形態2における半導体集積回
路の例を示した回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.
【図5】 図4における遅延回路64の回路例を示した
図である。FIG. 5 is a diagram illustrating a circuit example of a delay circuit 64 in FIG. 4;
【図6】 本発明の実施の形態3における半導体集積回
路の例を示した回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a third embodiment of the present invention.
【図7】 本発明の実施の形態4における半導体集積回
路の例を示した回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a semiconductor integrated circuit according to a fourth embodiment of the present invention.
【図8】 本発明の実施の形態5における半導体集積回
路の回路例を示した概略のブロック図である。FIG. 8 is a schematic block diagram illustrating a circuit example of a semiconductor integrated circuit according to a fifth embodiment of the present invention.
【図9】 図8における出力切換回路123の回路例を
示した回路図である。9 is a circuit diagram showing a circuit example of the output switching circuit 123 in FIG.
【図10】 半導体集積回路における内部電源降圧回路
の従来例を示した回路図である。FIG. 10 is a circuit diagram showing a conventional example of an internal power supply step-down circuit in a semiconductor integrated circuit.
【図11】 半導体集積回路の内部電源回路における従
来の構成例を示した概略のブロック図である。FIG. 11 is a schematic block diagram showing a conventional configuration example of an internal power supply circuit of a semiconductor integrated circuit.
1,55,85,105 内部電源降圧回路、 2 ス
タンバイ用VDC、3,51,81,101 アクティ
ブ用VDC、 4 基準電圧発生回路、 15 差動増
幅器、 25,64,141 遅延回路、 117 ワ
ンショットパルス発生回路、 120 内部電源回路、
121 基板電圧発生回路、 122 昇圧電圧発生
回路、 123〜125 出力切換回路1, 55, 85, 105 Internal power supply step-down circuit, 2 Standby VDC, 3, 51, 81, 101 Active VDC, 4 Reference voltage generation circuit, 15 Differential amplifier, 25, 64, 141 Delay circuit, 117 One shot Pulse generation circuit, 120 internal power supply circuit,
121 substrate voltage generation circuit, 122 boost voltage generation circuit, 123-125 output switching circuit
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 21/8242 (72)発明者 折戸 匡広 東京都千代田区大手町二丁目6番2号 三 菱電機エンジニアリング株式会社内──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H01L 21/8242 (72) Inventor Masahiro Orito 2-6-2 Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Mitsubishi Electric Engineering Co., Ltd.
Claims (12)
の電圧を生成して内部の各回路に供給する内部電源回路
を有する半導体集積回路において、 所定の基準電圧を生成して出力する基準電圧発生部と、 該基準電圧発生部からの基準電圧を基に外部からの電源
電圧から所定の内部電源電圧を生成して各回路に出力す
る第1内部電源回路部と、 上記基準電圧発生部からの基準電圧を基に外部からの電
源電圧から所定の内部電源電圧を生成して上記第1内部
電源回路部と共に各回路に出力する、上記第1内部電源
回路部よりも電流供給能力の大きい第2内部電源回路部
とを備え、 該第2内部電源回路部は、内部電源電圧の供給を行って
いる各回路の消費電流が小さくなるとき、出力電流を減
少させて内部電源電圧の出力を停止することを特徴とす
る半導体集積回路。1. A semiconductor integrated circuit having an internal power supply circuit for generating a predetermined voltage based on a power supply voltage applied from the outside and supplying the generated voltage to internal circuits, a reference for generating and outputting a predetermined reference voltage A voltage generator, a first internal power supply circuit for generating a predetermined internal power supply voltage from an external power supply voltage based on the reference voltage from the reference voltage generator, and outputting the internal power supply voltage to each circuit; A predetermined internal power supply voltage is generated from an external power supply voltage on the basis of a reference voltage from the external power supply, and is output to each circuit together with the first internal power supply circuit. The current supply capability is greater than that of the first internal power supply circuit. A second internal power supply circuit, wherein the second internal power supply circuit reduces the output current and reduces the output of the internal power supply voltage when the current consumption of each circuit supplying the internal power supply voltage decreases. Characterized by stopping Semiconductor integrated circuit that.
る差動増幅器と、 入力信号を異なる時間に遅延させて生成した各信号を出
力する遅延回路部と、 上記差動増幅器の出力電圧及び該遅延回路部からの各信
号に応じて内部電源電圧を供給するための出力電流を変
える出力回路部とを備え、 上記遅延回路部は、内部電源電圧の供給が行われている
各回路の消費電流が小さくなるとき外部から所定の信号
が入力され、上記出力回路部は、遅延回路部から出力さ
れる遅延量の異なる各遅延信号に応じて出力電流を段階
的に減少させて内部電源電圧の出力を停止することを特
徴とする請求項1に記載の半導体集積回路。2. The second internal power supply circuit section includes a differential amplifier to which the output internal power supply voltage and a predetermined reference voltage are input, and outputs each signal generated by delaying an input signal to a different time. A delay circuit unit that changes an output current for supplying an internal power supply voltage in accordance with an output voltage of the differential amplifier and each signal from the delay circuit unit. When the current consumption of each circuit to which the internal power supply voltage is supplied decreases, a predetermined signal is input from the outside, and the output circuit unit responds to each delay signal having a different delay amount output from the delay circuit unit. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the output current is reduced stepwise to stop outputting the internal power supply voltage.
る差動増幅器と、 該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧を供給
するための出力電流を変える出力回路部と、 該出力回路部からの出力電流の遮断制御を行う遮断制御
回路部とを備え、 該遮断制御回路部は、内部電源電圧の供給が行われてい
る各回路の消費電流が小さくなるときに外部から入力さ
れる所定の信号が入力されると、出力回路部から出力さ
れる出力電流を段階的に減少させて外部への出力を遮断
することを特徴とする請求項1に記載の半導体集積回
路。3. A differential amplifier to which the output internal power supply voltage and a predetermined reference voltage are input, and wherein the second internal power supply circuit section controls the internal power supply voltage in accordance with the output voltage of the differential amplifier. An output circuit for changing an output current to be supplied; and a cutoff control circuit for performing cutoff control of the output current from the output circuit. The cutoff control circuit receives an internal power supply voltage. When a predetermined signal that is input from the outside is input when the current consumption of each circuit is reduced, the output current output from the output circuit unit is gradually reduced to shut off the output to the outside. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein:
力する遅延回路部と、 該遅延回路部から出力される各遅延信号によって動作制
御が行われる、ゲートサイズの異なる複数のMOSトラ
ンジスタとを備え、 上記遅延回路部は、該各MOSトランジスタをオンさせ
て導通状態にし上記出力回路部からの出力電流を各回路
に出力し、外部から上記所定の信号が入力されると、ド
レイン電流の大きいMOSトランジスタから順にオフさ
せて非導通状態にし、上記出力回路部から出力される出
力電流を段階的に減少させて外部への出力を遮断するこ
とを特徴とする請求項3に記載の半導体集積回路。4. The shutoff control circuit section outputs a signal generated by delaying an input signal at a different time, and controls operation by each delay signal output from the delay circuit section. A plurality of MOS transistors having different gate sizes, wherein the delay circuit unit turns on each MOS transistor to make it conductive, outputs an output current from the output circuit unit to each circuit, and externally outputs the predetermined current. When a signal is input, the MOS transistors with larger drain currents are sequentially turned off to turn off the MOS transistors, and the output current output from the output circuit section is reduced stepwise to shut off output to the outside. 4. The semiconductor integrated circuit according to claim 3, wherein
る差動増幅器と、 該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧を供給
するための出力電流を変える出力回路部とを備え、 該出力回路部は、内部電源電圧の供給が行われている各
回路の消費電流が小さくなるときに外部から入力される
所定の信号が入力されると、出力電流を連続的に減少さ
せて内部電源電圧の出力を停止することを特徴とする請
求項1に記載の半導体集積回路。5. A differential amplifier to which the output internal power supply voltage and a predetermined reference voltage are input, and wherein the second internal power supply circuit section controls the internal power supply voltage in accordance with the output voltage of the differential amplifier. An output circuit for changing an output current for supply, wherein the output circuit receives a predetermined signal input from the outside when the current consumption of each circuit to which the internal power supply voltage is supplied becomes small. 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein when input, the output current is continuously reduced to stop outputting the internal power supply voltage.
る差動増幅器と、 該差動増幅器の出力電圧に応じて、内部電源電圧を供給
するための出力電流を変える出力回路部と、 外部から所定の信号が入力されると該出力回路部からの
出力電流に対する外部への出力を遮断する遮断制御回路
部と、 該遮断制御回路部による出力電流遮断時に、上記出力回
路部の出力電圧を所定の間バイパスして、該出力電圧の
上昇を低下させるバイパス回路部とを備えることを特徴
とする請求項1に記載の半導体集積回路。6. A differential amplifier to which the output internal power supply voltage and a predetermined reference voltage are input, and wherein the second internal power supply circuit section controls the internal power supply voltage in accordance with the output voltage of the differential amplifier. An output circuit for changing an output current to be supplied; a cutoff control circuit for cutting off an output of the output current from the output circuit to the outside when a predetermined signal is input from the outside; 2. The semiconductor integrated circuit according to claim 1, further comprising: a bypass circuit unit that bypasses an output voltage of the output circuit unit for a predetermined time when the output current is interrupted for a predetermined time and reduces an increase in the output voltage.
路部による出力電流遮断時に、第2内部電源回路部の出
力に外部からの電源電圧を所定の間印加する電圧印加回
路部を更に備えることを特徴とする請求項6に記載の半
導体集積回路。7. The second internal power supply circuit further includes a voltage application circuit for applying an external power supply voltage to the output of the second internal power supply for a predetermined period when the output current is cut off by the cutoff control circuit. The semiconductor integrated circuit according to claim 6, further comprising:
の電圧を生成して各回路に供給する内部電源回路部と、 所定の信号が入力されると該内部電源回路部からの出力
電圧の各回路への供給を遮断すると共に、外部から印加
される所定の電圧を各回路に供給する出力切換回路部と
を備え、 上記出力切換回路部は、所定の信号が入力されると、内
部電源回路部からの出力電流を減少させて内部電源回路
部からの出力電圧を遮断することを特徴とする半導体集
積回路。8. An internal power supply circuit section for generating a predetermined voltage based on a power supply voltage applied from the outside and supplying the generated voltage to each circuit, and an output voltage from the internal power supply circuit section when a predetermined signal is input. And an output switching circuit unit for interrupting supply to each circuit and supplying a predetermined voltage applied from the outside to each circuit. A semiconductor integrated circuit for reducing an output current from a power supply circuit unit and cutting off an output voltage from an internal power supply circuit unit.
力する遅延回路部と、 該遅延回路部から出力される各遅延信号によって動作制
御が行われる複数のMOSトランジスタからなり、内部
電源回路部からの出力電圧の各回路への出力制御を行う
内部電圧制御回路部と、 上記遅延回路部から出力される各遅延信号によって動作
制御が行われる複数のMOSトランジスタからなり、外
部から印加される電圧の各回路への出力制御を行う外部
電圧制御回路部とを備え、 上記遅延回路部は、所定の信号が入力されると、上記内
部電圧制御回路部の各MOSトランジスタを順にオフさ
せて非導通状態にすると同時に、上記外部電圧制御回路
部の各MOSトランジスタを順にオンさせて導通状態に
し、上記内部電源回路部から出力される出力電流を段階
的に減少させて外部への出力を遮断すると共に、外部か
ら入力される電流を段階的に増加させて外部から印加さ
れる電圧を各回路へ供給することを特徴とする請求項8
に記載の半導体集積回路。9. The output switching circuit section outputs a signal generated by delaying an input signal at a different time, and an operation control is performed by each delay signal output from the delay circuit section. An internal voltage control circuit section comprising a plurality of MOS transistors for controlling output of an output voltage from the internal power supply circuit section to each circuit; and a plurality of operation control sections each of which is controlled by each delay signal output from the delay circuit section. An external voltage control circuit unit configured of a MOS transistor for controlling output of a voltage applied from the outside to each circuit, wherein the delay circuit unit receives the predetermined signal and the internal voltage control circuit unit At the same time, the respective MOS transistors of the external voltage control circuit section are sequentially turned on to be in the conductive state, and the internal The output current output from the source circuit unit is stepwise reduced to cut off the output to the outside, and the current input from the outside is stepwise increased to supply the voltage applied from the outside to each circuit. 9. The method according to claim 8, wherein
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 1.
される電源電圧を降圧し所定の内部電源電圧を生成して
各回路に供給する内部電源降圧回路であることを特徴と
する請求項8又は請求項9のいずれかに記載の半導体集
積回路。10. The internal power supply step-down circuit according to claim 8, wherein the internal power supply circuit section is an internal power supply step-down circuit that steps down a power supply voltage supplied from the outside, generates a predetermined internal power supply voltage, and supplies it to each circuit. Or a semiconductor integrated circuit according to claim 9.
される電源電圧から半導体基板のバイアス電圧を生成し
て出力し、半導体基板に所定の基板電圧を印加する基板
電圧発生回路であることを特徴とする請求項8又は請求
項9のいずれかに記載の半導体集積回路。11. The semiconductor device according to claim 1, wherein the internal power supply circuit is a substrate voltage generation circuit that generates and outputs a bias voltage of the semiconductor substrate from a power supply voltage supplied from the outside and applies a predetermined substrate voltage to the semiconductor substrate. 10. The semiconductor integrated circuit according to claim 8, wherein:
される電源電圧を昇圧して所定の昇圧電圧を生成し各回
路に供給する昇圧電圧発生回路であることを特徴とする
請求項8又は請求項9のいずれかに記載の半導体集積回
路。12. The boosted voltage generating circuit according to claim 8, wherein the internal power supply circuit is a boosted voltage generating circuit which boosts a power supply voltage supplied from the outside to generate a predetermined boosted voltage and supplies the boosted voltage to each circuit. A semiconductor integrated circuit according to claim 9.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10021896A JPH11219586A (en) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | Semiconductor integrated circuit |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10021896A JPH11219586A (en) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | Semiconductor integrated circuit |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11219586A true JPH11219586A (en) | 1999-08-10 |
Family
ID=12067884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10021896A Pending JPH11219586A (en) | 1998-02-03 | 1998-02-03 | Semiconductor integrated circuit |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11219586A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007102994A (en) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | Samsung Electronics Co Ltd | Multi-chip semiconductor memory device having internal power supply voltage generation circuit for decreasing current consumption |
KR100968441B1 (en) | 2004-02-06 | 2010-07-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | An internal voltage generator for semiconductor device |
US9645623B2 (en) | 2013-04-03 | 2017-05-09 | Fujitsu Limited | Semiconductor integrated circuit and method of controlling power supply |
-
1998
- 1998-02-03 JP JP10021896A patent/JPH11219586A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100968441B1 (en) | 2004-02-06 | 2010-07-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | An internal voltage generator for semiconductor device |
JP2007102994A (en) * | 2005-10-06 | 2007-04-19 | Samsung Electronics Co Ltd | Multi-chip semiconductor memory device having internal power supply voltage generation circuit for decreasing current consumption |
US9645623B2 (en) | 2013-04-03 | 2017-05-09 | Fujitsu Limited | Semiconductor integrated circuit and method of controlling power supply |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3773718B2 (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US8085085B1 (en) | Substrate bias feedback scheme to reduce chip leakage power | |
US6194887B1 (en) | Internal voltage generator | |
US7579821B2 (en) | Voltage generator | |
JPH0447591A (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US7751230B2 (en) | Negative voltage generating device | |
KR100648857B1 (en) | Circuit and method for generating of power up signal | |
JPH1173769A (en) | Semiconductor device | |
KR0170514B1 (en) | A semiconductor memory device with boosted power supply | |
KR100336254B1 (en) | Booster circuit | |
US5631867A (en) | Semiconductor storage device requiring short time for program voltage to rise | |
US7816976B2 (en) | Power supply circuit using insulated-gate field-effect transistors | |
JP2000112547A (en) | Substrate voltage generating circuit and semiconductor integrated circuit device | |
JP3875285B2 (en) | Intermediate voltage generation circuit for semiconductor integrated circuit | |
KR100605591B1 (en) | Boosted voltage generator in semiconductor device | |
JPH11219586A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
KR100323981B1 (en) | Internal voltage generating circuit of semiconductor memory device | |
GB2373865A (en) | High voltage detector | |
JPH09312095A (en) | Semiconductor integrated circuit | |
US6034920A (en) | Semiconductor memory device having a back gate voltage controlled delay circuit | |
KR100379554B1 (en) | Device for Generating Inner Power Voltage Source | |
JPH10242815A (en) | Pulse generating circuit and power circuit for sense amplifier | |
JP5102413B2 (en) | Apparatus for generating a second power supply voltage from a first power supply voltage, a reference voltage generator, and a method and apparatus for generating a desired voltage | |
KR0183874B1 (en) | Vint generation circuit of semiconductor memory device | |
KR100390993B1 (en) | Power-up generating device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071112 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081112 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091112 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |