JPH11217423A - Curable resin composition - Google Patents

Curable resin composition

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JPH11217423A
JPH11217423A JP31620098A JP31620098A JPH11217423A JP H11217423 A JPH11217423 A JP H11217423A JP 31620098 A JP31620098 A JP 31620098A JP 31620098 A JP31620098 A JP 31620098A JP H11217423 A JPH11217423 A JP H11217423A
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JP
Japan
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compound
epoxy
meth
acrylate
resin composition
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Application number
JP31620098A
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Japanese (ja)
Inventor
Takatsugu Ito
隆次 伊藤
Kazuhiro Shinohara
和浩 篠原
Hiroshi Fujimoto
弘 藤本
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a curable resin composition excellent in thermal shock resistance and pressure cooker test resistance and capable of long-term storage by incorporating a compound having at least two epoxy groups and a latent epoxy resin curing agent. SOLUTION: The epoxy compound used is usually one having an epoxy equivalent of 100-4,000. It is desirable that this composition contains, in addition, a carboxyl-containing photopolymerizable compound. It is suitable that it contains further a photopolymerizable compound having a photopolymerizable double bond. When a carboxyl-containing photopolymerizable compound or other photopolymerizable compounds are used, it is desirable to add a photopolymerization initiator. The latent epoxy-curing agent used is exemplified by a dispersion type, a thermally decomposable type, a photodecomposable type, an encapsulated type, or a microencapsulated type. The amount of the latent epoxy curing agent used is desirably 0.5-10 wt.% based on the total amount of the epoxy compound and the photopolymerizable compound.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は硬化性樹脂組成物、
特に電子部品封止用硬化型樹脂組成物に関するものであ
る。さらに詳しくは、潜在性エポキシ硬化剤を含むこと
で、加熱により完全硬化する反応を利用することによ
り、耐熱衝撃性、耐湿性、電気絶縁性などの諸性能に優
れた電子部品封止用硬化型樹脂組成物に関するものであ
る。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a curable resin composition,
In particular, it relates to a curable resin composition for sealing electronic parts. More specifically, by using a reaction that completely cures by heating by including a latent epoxy curing agent, a curing type for sealing electronic components that has excellent properties such as thermal shock resistance, moisture resistance, and electrical insulation. The present invention relates to a resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子産業のめまぐるしい発展によ
り、OA機器、自動車用途等の電子部品の需要が急増
し、その信頼性が要求されている。それに伴い、電子部
品用封止剤の高性能化が要望されている。従来電子部品
用封止剤としてエポキシ、或いはエポキシフェノール等
の熱硬化型樹脂が使用されてきた。しかし、これら熱硬
化型樹脂は、硬化時の溶剤の揮発に伴うピンホールの発
生による耐湿性の低下、熱衝撃にもろい等において高信
頼性という要求を、十分満足するものではない。さら
に、硬化時間が長いため、生産性の低下に伴うコストの
上昇、また、溶剤を使用するため非衛生的であるという
欠点を有している。一方、近年、無溶剤と速硬化性に優
れる紫外線硬化型樹脂の開発が進められてきた。
2. Description of the Related Art In recent years, with the rapid development of the electronics industry, demand for electronic components for OA equipment, automobiles and the like has increased rapidly, and their reliability has been demanded. Along with this, there has been a demand for higher performance of sealants for electronic components. Conventionally, a thermosetting resin such as epoxy or epoxyphenol has been used as a sealant for electronic parts. However, these thermosetting resins do not sufficiently satisfy the requirements of high reliability in terms of reduced moisture resistance due to generation of pinholes due to volatilization of the solvent during curing, and fragility of thermal shock. In addition, there is a disadvantage that the curing time is long, the cost is increased due to a decrease in productivity, and the use of a solvent is unsanitary. On the other hand, in recent years, development of an ultraviolet curable resin having no solvent and excellent in rapid curability has been promoted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この紫外線硬化型樹脂
は、速硬化性、接着性、電気絶縁性、耐溶剤性などの諸
性能に優れるものであるが、耐熱衝撃性、耐プレッシャ
ー・クッカー・テスト性が十分ではなく、信頼性の面で
実用化されていないのが現状である。また、効果前の樹
脂の貯蔵安定性も悪く、使いにくいものであった。
The ultraviolet-curable resin is excellent in various properties such as quick-curing property, adhesive property, electric insulation property and solvent resistance. At present, the testability is not sufficient, and it has not been put to practical use in terms of reliability. In addition, the storage stability of the resin before the effect was poor, and it was difficult to use.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
耐熱衝撃性、耐プレッシャー・クッカー・テスト性に優
れ、併せて接着性、電気絶縁性、耐溶剤性などの諸性能
を保持した硬化型樹脂組成物を得るべく鋭意研究を重ね
た結果、潜在性エポキシ硬化剤を配合することにより、
耐熱衝撃性、耐プレッシャー・クッカー・テスト性に優
れ、長期の貯蔵が可能な、硬化型樹脂組成物が得られる
ことを見出し、本発明に到達した。
Means for Solving the Problems Accordingly, the present inventors have:
Extensive research was conducted to obtain a curable resin composition with excellent thermal shock resistance, pressure cooker testability, and various properties such as adhesion, electrical insulation, and solvent resistance. By compounding an epoxy curing agent,
The present inventors have found that a curable resin composition having excellent thermal shock resistance and pressure cooker testability and capable of being stored for a long period of time can be obtained.

【0005】すなわち、本発明は、分子内に少なくとも
2個のエポキシ基を有する化合物及び潜在性エポキシ樹
脂硬化剤を含むことを特徴とする硬化型樹脂組成物であ
る。
That is, the present invention is a curable resin composition comprising a compound having at least two epoxy groups in a molecule and a latent epoxy resin curing agent.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明で使用する少なくとも2個
のエポキシ基を有するエポキシ化合物(A)とは、1分
子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物であ
り、そのエポキシ当量は100〜4000、好ましくは
100〜1000である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The epoxy compound (A) having at least two epoxy groups used in the present invention is an epoxy compound having two or more epoxy groups in one molecule and having an epoxy equivalent of 100 to 100. 4000, preferably 100 to 1,000.

【0007】代表的な化合物としては、ビスフェノール
A、ビスフェノールF、ハロゲン化ビスフェニールAな
どのジグリシジルエーテルであるビスフェノール型エポ
キシ樹脂や、フェノールノボラック、クレゾールノボラ
ックなどのポリグリシジルエーテルであるノボラック型
エポキシ樹脂を代表とする2価以上の、多価フェノール
類のポリグリシジルエーテル類、エチレングリコール、
プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,
4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、トリ
メチロールプロパンなどの2価以上の多価アルコール類
のポリグリシジルエーテル類などがある。これらのエポ
キシ化合物は単独にまたは2種以上併用して使用するこ
とができる。
Representative compounds are bisphenol-type epoxy resins such as diglycidyl ethers such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenyl A halides, and novolak-type epoxy resins such as polyglycidyl ethers such as phenol novolak and cresol novolak. Polyglycidyl ethers of polyhydric phenols, ethylene glycol,
Propylene glycol, neopentyl glycol, 1,
Examples include polyglycidyl ethers of dihydric or higher polyhydric alcohols such as 4-butanediol, 1,6-hexanediol, and trimethylolpropane. These epoxy compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0008】また、アリルグリシジルエーテル、フェニ
ルグリシジルエーテルなどの分子内に、エポキシ基を1
個有するエポキシ化合物を併用して使用することもでき
る。これらの、少なくとも2個のエポキシ基を有するエ
ポキシ化合物の中で好ましいエポキシ化合物としては、
ビスフェノールA型エポキシ化合物、フェノールノボラ
ック型ポリエポキシ化合物、クレゾールノボラック型ポ
リエポキシ化合物などがあげられる。
Further, an epoxy group is added to the molecule of allyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether or the like.
It is also possible to use a plurality of epoxy compounds in combination. Among these epoxy compounds having at least two epoxy groups, preferred epoxy compounds include:
Bisphenol A type epoxy compounds, phenol novolak type polyepoxy compounds, cresol novolak type polyepoxy compounds and the like can be mentioned.

【0009】本発明ではカルボキシル基を有する光重合
化合物(B)を併用することが好ましい。カルボキシル
基を有する光重合化合物(B)としては、例えば、
(I)アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロト
ン酸、フマル酸などの不飽和カルボン酸系化合物類や、
(II)次の一般式(I)で表される化合物がある。 (CH3=C(R1)-COO)m(R2)-A-(R3)-(COOH)n …(I) (式中、R1は水素又はメチル基を示し、R2およびR
3は各々脂肪族、芳香族、脂環族の残基を示し、Aはエ
ステル結合を表し、mおよびnは各々1〜3の正の整数
を示す。)
In the present invention, it is preferable to use a photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group in combination. As the photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group, for example,
(I) unsaturated carboxylic compounds such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid and fumaric acid;
(II) There is a compound represented by the following general formula (I). (CH 3 CC (R1) -COO) m (R2) -A- (R3)-(COOH) n (I) (wherein, R 1 represents hydrogen or a methyl group, and R 2 and R
3 represents an aliphatic, aromatic or alicyclic residue, A represents an ester bond, and m and n each represent a positive integer of 1 to 3. )

【0010】一般式(I)において、R2は炭素原子数
2〜10である2〜4価の炭化水素基、またはヒドロキ
シル基含有炭化水素基であることが好ましく、R3は炭
素原子数2〜10である2〜4価の脂肪族多塩基酸残
基、炭素原子数6〜15である2〜4価の芳香族多塩基
酸残基または、炭素原子数6〜10である2〜4価の脂
環族多塩基酸残基であることが好ましい。
In the general formula (I), R2 is preferably a divalent to tetravalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, or a hydroxyl group-containing hydrocarbon group, and R3 is preferably 2 to 10 carbon atoms. A divalent to tetravalent aliphatic polybasic acid residue, a C6 to C15 divalent aromatic polybasic acid residue, or a C6 to C10 divalent tetravalent It is preferably an alicyclic polybasic acid residue.

【0011】一般式(I)で表される化合物としては、
例えば、次のような化合物がある。m=1、n=1の化
合物としては、例えば、コハク酸モノ(メタ)アクリロ
イルオキシエチルエステル(アクリロイルオキシエチル
エステル)およびメタクリロイルオキシエチルエステル
を示す。以下同様に略記する。)、フタル酸モノ(メ
タ)アクリロイルオキシエチルエステル、マレイン酸モ
ノ(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、テトラ
ハイドロフタル酸モノ(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルエステル、ヘキサハイドロフタル酸モノ(メタ)アク
リロイルオキシエチルエステル、エンドービシクロ(2
・2・1)−5−ヘプテン−2,3−ジカルボン酸モノ
(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル、テトラハ
イドロフタル酸モノ−2−(メタ)アクリロイルオキシ
−1−(フェノキシメチル)エチルエステル、フタル酸
モノ−2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキ
シプロピルエステル、コハク酸モノ−2−ヒドロキシ−
3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルエステルなど
がある。
The compound represented by the general formula (I) includes
For example, there are the following compounds. Examples of the compound where m = 1 and n = 1 include, for example, mono (meth) acryloyloxyethyl succinate (acryloyloxyethyl ester) and methacryloyloxyethyl ester. Hereinafter, it is abbreviated similarly. ), Mono (meth) acryloyloxyethyl phthalate, mono (meth) acryloyloxyethyl maleate, tetra (mono) acryloyloxyethyl tetrahydrophthalate, mono (meth) acryloyloxyethyl ethyl hexahydrophthalate, Endobicyclo (2
• 2.1) -5-heptene-2,3-dicarboxylic acid mono (meth) acryloyloxyethyl ester, tetrahydrophthalic acid mono-2- (meth) acryloyloxy-1- (phenoxymethyl) ethyl ester, phthalic acid Mono-2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl ester, mono-2-hydroxy-succinate
3- (meth) acryloyloxypropyl ester and the like.

【0012】m=1、n=2の化合物としては、例え
ば、トリメリット酸モノ−2−(メタ)アクリロイルオ
キシエチルエステルなどがある。m=1、m=3の化合
物としては、例えば、ピロメリット酸モノ−2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルエステルなどがある。
Examples of the compound where m = 1 and n = 2 include trimellitic acid mono-2- (meth) acryloyloxyethyl ester. Examples of the compound with m = 1 and m = 3 include pyromellitic acid mono-2- (meth) acryloyloxyethyl ester.

【0013】m=2、n=1の化合物としては、例え
ば、フタル酸モノ−[2,3−ビス(メタ)アクリロイ
ルオキシイソプロピル]エステル、メチルテトラハイド
ロフタル酸モノ−[2,3−ビス(メタ)アクリロイル
オキシイソプロピル]エステル、テトラハイドロフタル
酸モノ−[2,3−ビス(メタ)アクリロイルオキシイ
ソプロピル]エステル、コハク酸モノ−[2,3−ビス
(メタ)アクリロイルオキシイソプロピルエステルなど
がある。
Examples of the compound having m = 2 and n = 1 include mono- [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl] phthalate and mono- [2,3-bis (methyltetrahydrophthalate). Examples thereof include (meth) acryloyloxyisopropyl] ester, mono- [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl] tetrahydrophthalate, and mono- [2,3-bis (meth) acryloyloxyisopropyl succinate).

【0014】m=2、n=2の化合物としては、例え
ば、トリメリット酸モノ−[4,5−ビス(メタ)アク
リロイルオキシネオペンチル]エステル、トリメリット
酸モノ−[3,4−ビス(メタ)アクリロイルオキシい
そブチル]エステルなどがある。m=3、n=2化合物
としては、例えば、トリメリット酸モノ−[3,4,5
−トリス(メタ)アクリロイルオキシネオペンチル]エ
ステルなどがある。
Examples of the compound in which m = 2 and n = 2 include, for example, trimellitic acid mono- [4,5-bis (meth) acryloyloxyneopentyl] ester and trimellitic acid mono- [3,4-bis ( (Meth) acryloyloxyisobutyl] ester. Examples of the compound having m = 3 and n = 2 include trimellitic acid mono- [3,4,5
-Tris (meth) acryloyloxyneopentyl] ester;

【0015】m=3、n=3の化合物としては、例え
ば、ピロメリット酸モノ−[3,4,5−トリス(メ
タ)アクリロイルオキシネオベンチル]エステルなどが
ある。カルボキシル基を有する光重合性化合物(B)と
しては、前述の化合物の中で、特に(II)のものが好ま
しい。これらのカルボキシル基を有する光重合化合物
(B)は、単独にまたは、2種以上併用して後記する他
の光重合性化合物(C)の1種または、2種以上と併用
して使用されることが好ましい。
Examples of the compound where m = 3 and n = 3 include mono- [3,4,5-tris (meth) acryloyloxyneobenyl] pyromellitic acid ester. As the photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group, (II) is particularly preferable among the aforementioned compounds. These photopolymerizable compounds (B) having a carboxyl group are used alone or in combination of two or more, and in combination with one or more of other photopolymerizable compounds (C) described later. Is preferred.

【0016】カルボキシル基を有する光重合性化合物
(B)と、他の光重合性化合物中に占める分子内に1個
以上のカルボキシル基を含有する光重合性化合物(B)
の配合量は10〜90重量%である。その配合量が10
重量%未満の場合は、得られる樹脂組成物の硬化性が著
しく劣る。
A photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group and a photopolymerizable compound (B) containing at least one carboxyl group in a molecule occupied by other photopolymerizable compounds.
Is 10 to 90% by weight. The compounding amount is 10
When the amount is less than the weight%, the curability of the obtained resin composition is remarkably inferior.

【0017】上記の光重合性化合物(C)とは、分子内
に1個以上の光重合性二重結合を有する光重合可能な化
合物である。分子内に1個の光重合性二重結合を有する
光重合可能な化合物としては、例えば、(I)メチル
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
n−および1−プロピル(メタ)アクリレート、n−,
sec−およびt−ブチル(メタ)アクリレート、2−
エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メ
タ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート
類、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートなどの
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類、あるいは
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポ
リプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレートなど
の、ポリオキシアルキレングリコールモノ(メタ)アク
リレート類、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレ
ートなどの複素環含有(メタ)アクリレート類、ジメチ
ルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノ
エチル(メタ)アクリレートなどのアミノアルキル(メ
タ)アクリレヘト類、イソボルニル(メタ)アクリレー
トなどの脂環含有(メタ)アクリレート類、フェノキシ
エチルアクリレート、トリロキシエチルアクリレート、
(II)ビスフェノールAのエチレンオキシドおよびプロ
ピレンオキシド付加物などのビスフェノールAのアルキ
レンオキシド付加物のモノ(メタ)アクリレート類、
(III)ジイソシアネート化合物と1個以上のアルコール
性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端イソ
シアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水酸基
含有(メタ)アクリレート類を反応させて得られる分子
内に1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するウレ
タン変性モノ(メタ)アクリレート類、(IV)分子内に
1個以上のエポキシ基を有する化合物にアクリル酸また
は、メタクリル酸を反応させて得られるエポキシモノ
(メタ)アクリレート類、および(V)カルボン酸成分
として、アクリル酸またはメタクリル酸および、多価カ
ルボン酸とアルコール成分として、2価以上の多価アル
コールとを反応させて得られるオリゴエステルモノ(メ
タ)アクリレート類などがある。
The photopolymerizable compound (C) is a photopolymerizable compound having one or more photopolymerizable double bonds in the molecule. Examples of the photopolymerizable compound having one photopolymerizable double bond in the molecule include (I) methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate,
n- and 1-propyl (meth) acrylate, n-,
sec- and t-butyl (meth) acrylate, 2-
Alkyl (meth) acrylates such as ethylhexyl (meth) acrylate and lauryl (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylates such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, or polyethylene glycol mono (meth) acrylate and polypropylene glycol mono Polyoxyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as (meth) acrylate, heterocyclic-containing (meth) acrylates such as tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate (Meth) acrylates such as aminoalkyl (meth) acrylates, alicyclic-containing (meth) acrylates such as isobornyl (meth) acrylate, and phenoxyethyl acrylate Tri b carboxyethyl acrylate,
(II) mono (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A, such as ethylene oxide and propylene oxide adducts of bisphenol A;
(III) a compound obtained by reacting a diisocyanate compound and one or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds in advance with a terminal isocyanate group-containing compound, and further reacting an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate with one compound in a molecule obtained by reacting the compound. Urethane-modified mono (meth) acrylates having a (meth) acryloyloxy group, (IV) epoxy mono (meth) obtained by reacting a compound having one or more epoxy groups in a molecule with acrylic acid or methacrylic acid A) acrylates, and (V) acrylic acid or methacrylic acid as a carboxylic acid component, and an oligoester mono (meth) acrylate obtained by reacting a polyhydric carboxylic acid with a dihydric or higher polyhydric alcohol as an alcohol component. Kind.

【0018】分子内に2個の光重合性二重結合を有す
る、光重合可能な化合物としては、例えば、(I)エチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール
ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコールジ
(メタ)アクリレート類、ジエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
トなどの、ポリオキシアルキレングリコールジ(メタ)
アクリレート類、(II)ビスフェノールAのエチレンオ
キシドおよび、プロピレンオキシド付加物などのビスフ
ェノールAのアルキレンオキシド付加物のジ(メタ)ア
クリレート類、(III)ジイソシアネート化合物と2個以
上のアルコール性水酸基含有化合物を予め反応させて得
られる末端イソシアネート基含有化合物に、さらにアル
コール性水酸基含有(メタ)アクリレート類を反応させ
て、得られる分子内に2個の(メタ)アクリロイルオキ
シ基を含有する、ウレタン変性ジ(メタ)アクリレート
類、(IV)分子内に2個以上のエポキシ基を有する化合
物にアクリル酸または/およびメタクリル酸を反応させ
て得られるエポキシジ(メタ)アクリレート類、(V)
カルボン酸成分としてアクリル酸またはメタクリル酸お
よび多価カルボン酸とアルコール成分として2価以上の
多価アルコールとを反応させて得られる、オリゴエステ
ルジ(メタ)アクリレート類などがある。
Examples of the photopolymerizable compound having two photopolymerizable double bonds in the molecule include (I) ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4 -Alkylene glycol di (meth) acrylates such as butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol Di (meta)
Polyoxyalkylene glycol di (meth) such as acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and polypropylene glycol di (meth) acrylate
Acrylates, (II) ethylene oxide of bisphenol A and di (meth) acrylates of alkylene oxide adducts of bisphenol A such as adducts of propylene oxide, (III) diisocyanate compounds and two or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds are prepared in advance. The compound having a terminal isocyanate group obtained by the reaction is further reacted with an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate, and the resulting molecule contains two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. Acrylates, (IV) epoxy di (meth) acrylates obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups in the molecule with acrylic acid and / or methacrylic acid, (V)
Oligoester di (meth) acrylates obtained by reacting acrylic acid or methacrylic acid as a carboxylic acid component and a polyhydric carboxylic acid with a dihydric or higher polyhydric alcohol as an alcohol component are exemplified.

【0019】分子内に3個以上の光重合性二重結合を有
する光重合可能な化合物としては、例えば、(I)トリ
メチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラ(メタ)アクリレートなどの3価以上
の脂肪族多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート
類、(II)ジイソシアネート化合物と3個以上のアルコ
ール性水酸基含有化合物を予め反応させて得られる末端
イソイアネート基含有化合物に、さらにアルコール性水
酸基含有(メタ)アクリレートを反応させて得られる分
子内に3個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有す
る、ウレタン変性ポリ(メタ)アクリレート類、(III)
分子内に3個以上のエポキシ基を有する化合物に、アク
リル酸または/およびメタクリル酸を反応させて得られ
る、エポキシポリ(メタ)アクリレート類などがある。
Examples of the photopolymerizable compound having three or more photopolymerizable double bonds in the molecule include (I) trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, penta Poly (meth) acrylates of a tri- or higher aliphatic polyhydric alcohol such as erythritol tetra (meth) acrylate, and a terminal isocyanate group obtained by previously reacting (II) a diisocyanate compound with three or more alcoholic hydroxyl group-containing compounds Urethane-modified poly (meth) acrylates having three or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule obtained by further reacting an alcoholic hydroxyl group-containing (meth) acrylate with the containing compound, (III)
There are epoxy poly (meth) acrylates obtained by reacting a compound having three or more epoxy groups in a molecule with acrylic acid and / or methacrylic acid.

【0020】耐熱衝撃性、耐プレッシャー・クッカー・
テスト性に優れた硬化型樹脂組成物を得るためには、光
重合性化合物(C)の少なくとも一成分は、そのホモポ
リマーのガラス転移温度が−40℃以下であることが好
ましい。ホモポリマーのガラス転移温度が、−40℃以
下の光重合性化合物としては、例えば、n−プロピルア
クリレート、n−ブチルアクリレート、2−エチルヘキ
シルアクリレート、n−オクチルアクリレート、n−デ
シルメタアクリレート、n−ドテシルメタアクリレー
ト、n−オクタデシルメタアクリレート、2−メトキシ
エチルアクリレート、3−メトキシプロピルアクリレー
ト、3−メトキシブチルアクリレート、2−エトキシメ
チルアクリレート、3−エトキシプロピルアクリレー
ト、ジエチレングリコールモノ2−エチルヘキシルエー
テルモノアクリレート、6−シアノ−3−チアヘキシル
アクリレート、3−チアブチルアクリレート、4−チア
ヘキシルアクリレート、3−チアペンチルアクリレート
などがある。
Heat shock resistance, pressure cooker resistance
In order to obtain a curable resin composition having excellent testability, it is preferable that at least one component of the photopolymerizable compound (C) has a glass transition temperature of a homopolymer of −40 ° C. or lower. Examples of the photopolymerizable compound having a glass transition temperature of the homopolymer of −40 ° C. or lower include, for example, n-propyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, n-decyl methacrylate, n- Dotesyl methacrylate, n-octadecyl methacrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-methoxypropyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-ethoxymethyl acrylate, 3-ethoxypropyl acrylate, diethylene glycol mono 2-ethylhexyl ether monoacrylate, Examples include 6-cyano-3-thiahexyl acrylate, 3-thiabutyl acrylate, 4-thiahexyl acrylate, and 3-thiapentyl acrylate.

【0021】光重合性化合物(C)においての、ホモポ
リマーのガラス転移温度が−40℃以下である光重合性
化合物の配合量は、光重合性化合物(C)の総量に対し
て、5〜100重量%であり、好ましくは10〜100
重量%である。その配合量が5重量%未満の場合は、耐
熱衝撃性、耐プレッシャー・クッカー・テスト性に優れ
た、硬化物が得がたい。
The amount of the photopolymerizable compound having a glass transition temperature of the homopolymer of -40 ° C. or lower in the photopolymerizable compound (C) is 5 to 5% based on the total amount of the photopolymerizable compound (C). 100% by weight, preferably 10 to 100%
% By weight. When the amount is less than 5% by weight, it is difficult to obtain a cured product excellent in thermal shock resistance and pressure cooker testability.

【0022】本発明で使用するエポキシ化合物(A)
と、前記したカルボキシル基を有する光重合性化合物
(B)と、他の光重合性化合物(C)との混合物との配
合比は、エポキシ化合物(A):光重合性化合物
[(B)+(C)]=10:90〜90:10(重量
比)の範囲が好ましく、さらに好ましくは、エポキシ化
合物(A):光重合性化合物[(B)+(C)]=2
0:80〜80:20(重量比)の範囲である。エポキ
シ化合物(A)の配合量が10重量%未満では、前記し
たカルボキシル基を有する光重合性化合物(B)とエポ
キシ化合物(A)との反応が実質的にすくなすぎ、接着
性、耐熱性などに優れた硬化物が得がたい。また、エポ
キシ化合物(A)の配合量が90重量%を超える場合
は、硬化型樹脂組成物としての粘度が高くなり、取扱い
性に欠けるとともに、活性光線により硬化反応の利点、
すなわち速硬化性を活かし得ない。
Epoxy compound (A) used in the present invention
And the mixture ratio of the above-mentioned photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group and another photopolymerizable compound (C) is as follows: epoxy compound (A): photopolymerizable compound [(B) + (C)] = 10:90 to 90:10 (weight ratio), more preferably epoxy compound (A): photopolymerizable compound [(B) + (C)] = 2
0:80 to 80:20 (weight ratio). When the blending amount of the epoxy compound (A) is less than 10% by weight, the reaction between the photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group and the epoxy compound (A) becomes substantially too fast, and the adhesiveness, heat resistance, etc. It is difficult to obtain an excellent cured product. When the amount of the epoxy compound (A) exceeds 90% by weight, the viscosity of the curable resin composition becomes high, the handleability is poor, and the advantage of the curing reaction by actinic rays is obtained.
That is, the quick curing property cannot be utilized.

【0023】本発明ではカルボキシル基を有する光重合
性化合物(B)や他の光重合性化合物(C)を使用する
場合は、光重合開始剤(D)を添加することが好まし
い。光重合開始剤(D)としては、例えば、ベンジルジ
メチルケタノールなどのケタノール類、ベンゾインメチ
ルエーテル、ベンゾイエンエーテル、ベンゾイン、α−
メチルベンゾインなどのベンゾイン類、9,10−アン
トラキノン、1−クロルアントラキノン、2−エチルア
ントラキノンなどのアントラキノン類、ベンゾフェノ
ン、p−クロルベンゾフェノン、p−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラ−(t−ブ
チンパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン類、2−ヒ
ドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−(4−イ
ソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプ
ロピオフェノンなどのプロピオフェノン類、ジベンゾス
ベロンなどのスベロン類、ジフェニルジスフィド、テト
ラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントンなどの
含イオウ化合物類、メチレンブルー、エオシン、フルオ
レセインなどの色素類などがあげられ、単独にまたは2
種以上併用して使用される。
In the present invention, when a photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group or another photopolymerizable compound (C) is used, it is preferable to add a photopolymerization initiator (D). Examples of the photopolymerization initiator (D) include ketanols such as benzyldimethylketanol, benzoin methyl ether, benzien ether, benzoin, α-
Benzoins such as methylbenzoin, anthraquinones such as 9,10-anthraquinone, 1-chloroanthraquinone and 2-ethylanthraquinone, benzophenone, p-chlorobenzophenone, p-dimethylaminobenzophenone, 3,3 ′, 4,4′- Propiophenones such as tetra- (t-butyneperoxycarbonyl) benzophenones, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone and 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropiophenone; Suberones such as dibenzosuberone; sulfur-containing compounds such as diphenyl disulfide, tetramethylthiuram disulfide and thioxanthone; and dyes such as methylene blue, eosin and fluorescein.
Used in combination of more than one species.

【0024】この重合開始剤の配合量はエポキシ化合物
(A)と、光重合性化合物(B+C)との総量に対して
0.05〜20重量%が好ましく、さらに好ましくは、
0.5〜10重量%である。この重合開始剤の配合量が
0.05重量%未満では、紫外線非照射部の硬化性が低
下し、完全硬化した硬化物が得がたい。また、この重合
開始剤の配合量が20重量%を超える場合は、貯蔵安定
性が悪い。
The amount of the polymerization initiator is preferably 0.05 to 20% by weight, more preferably the total amount of the epoxy compound (A) and the photopolymerizable compound (B + C).
0.5 to 10% by weight. If the amount of the polymerization initiator is less than 0.05% by weight, the curability of the unirradiated portion of the ultraviolet ray is reduced, and it is difficult to obtain a completely cured product. When the amount of the polymerization initiator exceeds 20% by weight, storage stability is poor.

【0025】本発明で使用する潜在性エポキシ硬化剤
(E)としては、例えば、分散型硬化剤としてBF3錯
体類、イミタゾール誘導体類、ジシアンおよびその誘導
体、有機酸ヒドラジト類、ジアミノマレオニトリルおよ
びその誘導体、メラミンおよびその誘導体、ポリアミド
類などがある。また、熱分解型硬化剤としてアミンイミ
ド、光分解型硬化剤として芳香族ジアゾニウム塩、ジア
リルヨードニウム塩、トリアリルスルホニウム塩、トリ
アリルセレニウム塩などがある。さらにモレキュラーシ
ーブとして封入型硬化剤、イミダゾールなどを微細な油
滴として被膜で包み込んだマイクロカプセル化硬化剤な
どがある。
The latent epoxy curing agent (E) used in the present invention includes, for example, BF3 complexes, imidazole derivatives, dicyan and its derivatives, organic acid hydrazites, diaminomaleonitrile and its derivatives as dispersion-type curing agents , Melamine and its derivatives, polyamides and the like. Further, there are amine imide as a thermal decomposition type curing agent, and aromatic diazonium salt, diallyl iodonium salt, triallylsulfonium salt, triallyl selenium salt and the like as photodecomposition type curing agents. Further, as the molecular sieve, there is an encapsulating hardener, a microencapsulated hardener in which imidazole or the like is wrapped in a film as fine oil droplets.

【0026】これら潜在型エポキシ硬化剤は、温度
(熱)、光等の外部刺激により初めてエポキシ硬化剤と
しての活性を出すものであり、常温での保存時には活性
が少なく、通常のエポキシ硬化剤と比較し、常温での長
期保存が可能になる。
These latent type epoxy curing agents exhibit an activity as an epoxy curing agent for the first time by an external stimulus such as temperature (heat), light, etc., have a low activity when stored at room temperature, and are different from ordinary epoxy curing agents. In comparison, long-term storage at room temperature becomes possible.

【0027】この潜在性エポキシ硬化剤の配合量は、エ
ポキシ化合物(A)と光重合性化合物(B+C)との総
量に対して、0.5〜10重量%が好ましく、さらに好
ましくは1〜5重量%である。この潜在性エポキシ硬化
剤の配合量が0.5重量%未満では、硬化性が著しく低
下し完全硬化した硬化物が得がたい。また、10重量%
を超える場合は、貯蔵安定性が悪い。
The compounding amount of the latent epoxy curing agent is preferably 0.5 to 10% by weight, more preferably 1 to 5% by weight, based on the total amount of the epoxy compound (A) and the photopolymerizable compound (B + C). % By weight. If the amount of the latent epoxy curing agent is less than 0.5% by weight, the curability is remarkably reduced, and a completely cured product is difficult to obtain. 10% by weight
When it exceeds, the storage stability is poor.

【0028】本発明においてはエポキシ基とカルボキシ
ル基との反応を促進させる必要がある場合は、反応促進
剤の添加が効果的である。反応促進剤としては、例え
ば、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾー
ル、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジ
ル−2−メチルイミダゾールなどのイミダゾール類、ベ
ンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、N,N
−ジメチルアミノエタノール、N,N−ジエチルアミノ
エタノール、N,N−ジプロピルアミノエタノールなど
の第3級アミン類、トリジメチルアミノメチルフェノー
ルのトリアセテートおよび、トリベンゾエートなどの第
3級アミン類などがあり、単独にまたは2種以上併用し
て使用される。
In the present invention, when it is necessary to accelerate the reaction between the epoxy group and the carboxyl group, the addition of a reaction accelerator is effective. Examples of the reaction accelerator include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, benzyldimethylamine, triethanolamine, N, N
Tertiary amines such as -dimethylaminoethanol, N, N-diethylaminoethanol, N, N-dipropylaminoethanol, and tertiary amines such as triacetate and tribenzoate of tridimethylaminomethylphenol; Used alone or in combination of two or more.

【0029】本発明においては、これら反応促進剤の添
加量はエポキシ化合物(A)と光重合性化合物との総量
に対して0.05〜5重量%であり、好ましくは0.1
〜3.5重量%である。
In the present invention, the addition amount of these reaction accelerators is 0.05 to 5% by weight, preferably 0.1%, based on the total amount of the epoxy compound (A) and the photopolymerizable compound.
~ 3.5% by weight.

【0030】本発明に使用する硬化型樹脂組成物は、室
温または必要により加温下で攪拌混合することにより容
易に製造される。製造時の熱重合や貯蔵中の暗反応を防
止するために、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメ
チルエーテル、1−ブチル−カテコール、p−ベンゾキ
ノン、2,5−t−ブチル−ハイドロキノン、フェノチ
アジンなどの公知の熱重合防止剤を添加するのが望まし
い。その添加量は本発明に使用する光重合性化合物に対
し、0.001〜0.1重量%であり、好ましくは、
0.001〜0.05重量%である。
The curable resin composition used in the present invention is easily produced by stirring and mixing at room temperature or, if necessary, while heating. Known thermal polymerization such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 1-butyl-catechol, p-benzoquinone, 2,5-t-butyl-hydroquinone, and phenothiazine to prevent thermal polymerization during production and dark reaction during storage. It is desirable to add an inhibitor. The addition amount is 0.001 to 0.1% by weight based on the photopolymerizable compound used in the present invention.
0.001 to 0.05% by weight.

【0031】本発明に使用する硬化型樹脂組成物には、
上記添加剤の他に、公知の着色剤、表面平滑剤、消泡
剤、充填剤、分散剤、カップリング剤、難燃剤などの各
種添加剤を必要に応じて添加することができる。
The curable resin composition used in the present invention includes:
In addition to the above additives, various additives such as known coloring agents, surface smoothing agents, defoaming agents, fillers, dispersants, coupling agents, and flame retardants can be added as necessary.

【0032】本発明の硬化型樹脂組成物の硬化方法は、
まず活性光線の照射により、カルボキシル基を有する光
重合性化合物(B)あるいは(B)と、他の光重合性化
合物(C)との混合物を重合させ、カルボキシル基含有
重合物とし、次いで加熱によりエポキシ化合物(A)と
上記重合物に含有されるカルボキシル基とを反応させて
完全硬化させる2段階から成る。
The method for curing the curable resin composition of the present invention comprises:
First, by irradiation with actinic light, a photopolymerizable compound (B) having a carboxyl group or a mixture of (B) and another photopolymerizable compound (C) is polymerized to form a carboxyl group-containing polymer, and then heated. It comprises two steps of reacting the epoxy compound (A) with the carboxyl group contained in the polymer to completely cure it.

【0033】本発明の前記硬化型樹脂組成物を用いた電
子部品封止方法としては、ディッピング法、ディスペン
サーによるポッティング法、ドリッピング法などの一般
的な封止方法がある。
As a method for sealing an electronic component using the curable resin composition of the present invention, there are general sealing methods such as a dipping method, a potting method using a dispenser, and a dripping method.

【0034】光重合反応条件としては特に制限はない
が、積算光量100mJ/m2 〜5000mJ/m2 が好まし
い。また、熱硬化反応条件としては、温度80〜250
℃において、1〜300分が好ましい。
[0034] There is no particular restriction on the photopolymerization reaction conditions, preferably integrated light amount 100mJ / m2 ~5000mJ / m 2. The thermosetting reaction conditions include a temperature of 80 to 250.
At 300C, 1 to 300 minutes are preferred.

【0035】本発明の硬化型樹脂組成物は、紫外線、電
子線などの活性光線を照射して重合反応を誘起させる。
紫外線照射に用いる光源としては、太陽光線、ケミカル
ラナプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、
キセノンランプ、メタルハライドランプなどが使用され
る。電子線を照射する場合には、必ずしも光開始剤は必
要としない。
The curable resin composition of the present invention is irradiated with an actinic ray such as an ultraviolet ray or an electron beam to induce a polymerization reaction.
Light sources used for UV irradiation include sunlight, chemical lanap, low-pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, carbon arc lamp,
Xenon lamps, metal halide lamps and the like are used. When irradiating with an electron beam, a photoinitiator is not necessarily required.

【0036】加熱に用いられる熱源としては、例えば、
赤外線ヒーター、熱風加熱、高周波加熱などの公知の加
熱方法が使用される。また、紫外線照射に用いる光源が
発する熱を利用することもできる。
As a heat source used for heating, for example,
Known heating methods such as infrared heater, hot air heating, and high frequency heating are used. In addition, heat generated by a light source used for ultraviolet irradiation can be used.

【0037】[0037]

【実施例】以下、本発明を具体的に説明するために実施
例を挙げるが、本発明はそれらの実施例に何ら限定され
るものではない。実施例中、部および%とあるのは各々
重量部および重量%を示す。硬化型樹脂組成物の樹脂特
性およびその硬化物の性能は次の方法により測定した。
EXAMPLES The present invention will now be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, parts and% indicate parts by weight and% by weight, respectively. The resin properties of the curable resin composition and the performance of the cured product were measured by the following methods.

【0038】1)粘度:JIS K6901に準じてブ
ルックフィールド型粘度計を用いて、25℃で測定し
た。 2)揺変度:JIS K6901に準じてブルックフィ
ールド型粘度計を用いて、25℃2r.p.mで測定し
た粘度の比の値を算出した。 3)硬度:鉛筆硬度を測定した。 4)耐熱衝撃性:ハイブリッドICをディップコートし
たテストピースを用い、−55℃,30分〜125℃、
30分のヒートサイクルを300回繰り返した後、外観
変化の有無を目視観察した。さらに、ハイブリッドIC
基板に印刷された銀・パラジウム導体の線間(1mm)
の絶縁抵抗値を500V、1分間の電圧を印加後、測定
した。 5)耐プレッシャー・クッカー・テスト性:121℃、
2atm、100%RH環境下に300時間放置したテ
ストピースの外観、目視観察および、同テストピースを
室温で2時間放置した後の絶縁抵抗値を測定した。
1) Viscosity: Measured at 25 ° C. using a Brookfield viscometer according to JIS K6901. 2) Thixotropic degree: Using a Brookfield viscometer according to JIS K6901, 2 ° C at 25 ° C. p. The value of the ratio of the viscosities measured in m was calculated. 3) Hardness: Pencil hardness was measured. 4) Thermal shock resistance: Using a test piece dip-coated with a hybrid IC, at -55 ° C for 30 minutes to 125 ° C,
After repeating the heat cycle for 30 minutes 300 times, the presence or absence of a change in appearance was visually observed. Furthermore, hybrid IC
Between silver and palladium conductors printed on the board (1 mm)
Was measured after applying a voltage of 500 V for 1 minute. 5) Pressure cooker test resistance: 121 ° C.
The appearance and visual observation of the test piece left for 300 hours in an environment of 2 atm and 100% RH were measured, and the insulation resistance value after the test piece was left for 2 hours at room temperature was measured.

【0039】実施例1 ビスフェノールA型エポキシ化合物であるエピコート5
050(油化シェルエポキシ(株)製)100部、2−
アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸50
部、トリロキシエチルアクリレート104部、ホモポリ
マーのガラス転移温度が−65℃であるジエチレングリ
コールモノ2−エチルヘキシルエーテルモノアクリレー
ト34部を攪拌容器に仕込み、80℃で混合攪拌し、透
明な樹脂組成物(1)を得た。この樹脂組成物(1)1
00部に対し、光重合開始剤として、3,3′、4,
4′テトラ(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン1部、ベンジルジメチルケタール1部、潜在性
エポキシ硬化剤として、2−メチルイミダゾールのマイ
クロカプセル化硬化剤2部、各種添加剤としてシランカ
ップリング剤1部、シラン系消泡剤0.1部、着色剤
0.2部および分散剤0.5部を配合し、樹脂組成物
(2)を得た。この樹脂組成物(2)100部に対し、
充填剤としてタルク32部および難燃剤としてSb2O
31.5部を配合し、分散して硬化型樹脂組成物(a)
を得た。次いで、ハイブリッドICを硬化型樹脂組成物
(a)でディップコートした後、2000mJ/m2
紫外線を照射し、次いで150℃で30分間加熱して硬
化させ封止ハイブリッドICを得た。得られた硬化型樹
脂組成物の樹脂特性およびその硬化物の特性を第1表に
示した。次に、得られた封止ハイブリッドICの耐熱衝
撃性および耐プレッシャー・クッカー・テスト性を測定
した。
Example 1 Epicoat 5 which is a bisphenol A type epoxy compound
050 (manufactured by Yuka Shell Epoxy) 100 parts, 2-
Acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid 50
Parts, 104 parts of triloxyethyl acrylate, and 34 parts of diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether monoacrylate having a homopolymer having a glass transition temperature of -65 ° C were charged into a stirring vessel, mixed and stirred at 80 ° C, and mixed with a transparent resin composition ( 1) was obtained. This resin composition (1) 1
With respect to 00 parts, 3,3 ', 4,
1 part of 4'tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 1 part of benzyldimethyl ketal, 2 parts of 2-methylimidazole microencapsulation curing agent as a latent epoxy curing agent, and silane coupling agent 1 as various additives Parts, 0.1 part of a silane-based antifoaming agent, 0.2 part of a coloring agent, and 0.5 part of a dispersant, to obtain a resin composition (2). For 100 parts of this resin composition (2),
32 parts of talc as a filler and Sb2O as a flame retardant
31.5 parts are blended and dispersed to obtain a curable resin composition (a)
I got Next, the hybrid IC was dip-coated with the curable resin composition (a), irradiated with ultraviolet rays of 2000 mJ / m 2 , and then heated and cured at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a sealed hybrid IC. Table 1 shows the resin properties of the obtained curable resin composition and the properties of the cured product. Next, the thermal shock resistance and the pressure cooker test resistance of the obtained encapsulated hybrid IC were measured.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】実施例2、3 実施例2では、実施例1の硬化型樹脂組成物(a)の他
の光重合性化合物(c)を、ジエチレングリコールモノ
2−エチルヘキシルエーテルモノアクリレート136部
のみに変更した硬化型樹脂組成物(b)を実施例3では
実施例1の硬化型樹脂組成物(a)の光重合性化合物
(c)の一成分であるトリロキシエチルアクリレートを
テトラヒドロキシフルフリルアクリレート78部に変更
した硬化型樹脂組成物(c)を得た。次いで実施例1と
同様にしてハイブリッドICを硬化型樹脂組成物(b)
(c)で、各々ディップコートした後、2000mJ/
2の紫外線を照射し、次いで150℃で30分間加熱
して硬化させ、封止ハイブリットICを得た。それぞれ
の樹脂特性および硬化物の特性を第2表に示した。次に
得られた封止ハイブリットI Cの耐熱衝撃性および耐プ
レッシャー・クッカー・テスト性を測定した。
Examples 2 and 3 In Example 2, the other photopolymerizable compound (c) of the curable resin composition (a) of Example 1 was changed to only 136 parts of diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether monoacrylate. In Example 3, the curable resin composition (b) obtained in Example 3 was obtained by converting trioxyethyl acrylate, which is one component of the photopolymerizable compound (c) of the curable resin composition (a) of Example 1, to tetrahydroxyfurfuryl acrylate 78. Thus, a curable resin composition (c) changed to parts was obtained. Then, the hybrid IC was cured in the same manner as in Example 1 to obtain a curable resin composition (b).
(C) After each dip coating, 2000 mJ /
Irradiation with ultraviolet rays of m 2 was performed , followed by heating at 150 ° C. for 30 minutes to cure, thereby obtaining a sealed hybrid IC. Table 2 shows the properties of each resin and the properties of the cured product. Next, the thermal shock resistance and the pressure cooker test resistance of the obtained sealed hybrid IC were measured.

【0042】[0042]

【表2】 [Table 2]

【0043】実施例1、2、3の基本樹脂組成物およ
び、耐熱衝撃性、耐プレッシャー・クッカー・テスト性
の測定結果を第3表、第4表に示した。
Tables 3 and 4 show the basic resin compositions of Examples 1, 2 and 3, and the results of measurement of thermal shock resistance and pressure cooker test resistance.

【0044】[0044]

【表3】 [Table 3]

【0045】[0045]

【表4】 [Table 4]

【0046】[0046]

【発明の効果】本発明の特に優れた効果としては、次の
点が挙げられる。 (1)潜在性エポキシ硬化剤を配合するため、硬化性に
優れ、かつ保存安定性にも優れる。さらには使用時には
硬化剤を添加する必要がないため、作業性に優れる。 (2)本発明の樹脂組成物は加熱により硬化を行い、紫
外線などの活性光線が照射されにくい肉厚部分や遮光さ
れた部分であっても、樹脂の完全硬化物を得ることがで
き、併せて、紫外線硬化型樹脂の特長である速硬化性を
有している。 (3)本発明の樹脂組成物は、多量の充填剤が配合され
る場合や肉厚部であっても、紫外線照射により極く短時
間のうちに樹脂の流動性が失われるため、直ちに次工程
へ移すことができ、従来の熱硬化型樹脂あるいは紫外線
・熱硬化併用型樹脂と比較して、大巾な生産性向上が可
能である。 (4)本発明の樹脂組成物は、耐プレッシャー・クッカ
ー・テスト性に非常に優れ、併せて各種プラスチック、
セラミック、ガラス金属に対する接着性にも優れてい
る。 (5)エポキシ化合物(A)と光重合性化合物((B)
と(C))とは相溶性が良好であり、樹脂組成物の粘度
は自由に調整できる。 本発明の硬化型樹脂組成物は、このような長所を生かし
て、IC、LSI、ダイオード、サイリスタ、ハイブリ
ッドIC、抵抗器、コンデンサー、発光ダイオード、液
晶表示素子、光センサー、圧力センサー、温度センサー
などの電子部品、光電子部品の封止・被覆用途に使用さ
れる。また、塗料用途、インキ用途、接着用途などの分
野にも使用可能である。
Advantageous effects of the present invention are as follows. (1) Since a latent epoxy curing agent is blended, the curability is excellent and the storage stability is excellent. Furthermore, since there is no need to add a curing agent at the time of use, workability is excellent. (2) The resin composition of the present invention is cured by heating to obtain a completely cured resin even in a thick portion or a light-shielded portion where actinic rays such as ultraviolet rays are hardly irradiated. In addition, it has a rapid curing property which is a feature of the ultraviolet curing resin. (3) Since the resin composition of the present invention loses the fluidity of the resin within a very short time due to irradiation of ultraviolet rays even when a large amount of filler is blended or in a thick part, The process can be moved to the process, and a great improvement in productivity can be achieved as compared with a conventional thermosetting resin or a combination resin of ultraviolet ray and thermosetting. (4) The resin composition of the present invention is extremely excellent in resistance to pressure, cooker and test, and various plastics,
Excellent adhesion to ceramic and glass metal. (5) Epoxy compound (A) and photopolymerizable compound ((B)
And (C)) have good compatibility, and the viscosity of the resin composition can be freely adjusted. The curable resin composition of the present invention takes advantage of such advantages to provide ICs, LSIs, diodes, thyristors, hybrid ICs, resistors, capacitors, light emitting diodes, liquid crystal display elements, optical sensors, pressure sensors, temperature sensors, and the like. Used for sealing and coating of electronic parts and optoelectronic parts. It can also be used in fields such as paint applications, ink applications, and adhesive applications.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内に少なくとも2個のエポキシ基を
有する化合物及び潜在性エポキシ樹脂硬化剤を含むこと
を特徴とする硬化型樹脂組成物。
1. A curable resin composition comprising a compound having at least two epoxy groups in a molecule and a latent epoxy resin curing agent.
JP31620098A 1989-08-25 1998-11-06 Curable resin composition Pending JPH11217423A (en)

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