JPH11214832A - Formation of plating wire in circuit board - Google Patents

Formation of plating wire in circuit board

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JPH11214832A
JPH11214832A JP1273598A JP1273598A JPH11214832A JP H11214832 A JPH11214832 A JP H11214832A JP 1273598 A JP1273598 A JP 1273598A JP 1273598 A JP1273598 A JP 1273598A JP H11214832 A JPH11214832 A JP H11214832A
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JP
Japan
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plating
circuit board
wire
wiring
plated
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Application number
JP1273598A
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Japanese (ja)
Inventor
Akira Oba
章 大庭
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Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To easily detect unplated parts of external input/output terminals and component mounting sections, by connecting the external input/output terminals and the component mounting sections by plating wires with a cut line which should be divided into each circuit board put between, and allowing current to flow in one path from one side to the other in each of a plurality of groups of divided sections to be plated. SOLUTION: A region to be plated is divided into an upper group 12a and a lower group 12b by cutting a part of a plating wire or snake wire 16. In each group, current is caused to flow in one direction and, if the group is broken at one place, plating does not progress for the rest of the group. In the wire for plating, current flows in one direction and there is no double conduction. Therefore, even if the wire has defects on the way, the defects can be easily detected by the existence of an unplated section. Furthermore, a variation in length of plating wires can be supported in wiring.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回路基板のめっき
線の形成方法、特にめっき線の長さのばらつきを抑える
配線を可能とするめっき線の形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a plated wire on a circuit board, and more particularly to a method for forming a plated wire capable of suppressing variation in the length of the plated wire.

【0002】詳述すれば、本発明は、ボールグリッドア
レイ(BGA)基板さらには、チップキャリアのような
電子部品搭載用の回路基板の外部入出力端子および/ま
たは部品実装部をNi/Auによる電解めっきをするのに適
した回路基板のめっき線の形成方法に関する。
More specifically, according to the present invention, external input / output terminals and / or component mounting portions of a circuit board for mounting electronic components such as a ball grid array (BGA) substrate and a chip carrier are made of Ni / Au. The present invention relates to a method for forming a plated wire of a circuit board suitable for performing electrolytic plating.

【0003】[0003]

【従来の技術】ICやLSI等の電子部品のプラスチッ
クパッケージの1種に、リードフレームではなく、プラ
スチック製の回路基板に電子部品を搭載し、搭載部に樹
脂を注入して封止する種類のものがある。
2. Description of the Related Art In a type of plastic package for electronic components such as ICs and LSIs, electronic components are mounted on a plastic circuit board instead of a lead frame, and a resin is injected into the mounting portion and sealed. There is something.

【0004】このプラスチックパッケージに使用される
プラスチック基板の材質は、ガラス繊維/エポキシ樹脂
やガラス繊維/フェノール樹脂といった複合材料からな
るリジッドフィルムと、ポリイミド樹脂等の耐熱樹脂か
らなるフレキシブルフィルムの両者が使用されている。
The plastic package used for this plastic package is made of a rigid film made of a composite material such as glass fiber / epoxy resin or glass fiber / phenol resin, and a flexible film made of a heat-resistant resin such as polyimide resin. Have been.

【0005】この種のプラスチックパッケージは、セラ
ミックパッケージと同様の構造にすることができ、PG
A (ピングリッドアレイ) 、BGA (ボールグリッドア
レイ、バンプグリッドアレイと呼ぶこともある) 、LG
A(ランドグリッドアレイ)等が利用されているが、中
でもピンを使用せずに多端子化が可能で、フレキシブル
なプラスチック回路基板でも適用可能なBGA (即ち、
pBGA) が注目を集めている。
[0005] This type of plastic package can have the same structure as a ceramic package.
A (pin grid array), BGA (sometimes called ball grid array, bump grid array), LG
A (land grid array) or the like is used. Among them, a BGA (that is, a multi-terminal structure that can be used without using pins and is applicable to a flexible plastic circuit board) is used.
(pBGA) is attracting attention.

【0006】プラスチック基板の回路形成は、プリント
配線板と同様に、銅箔をプラスチック基板の両面に積層
し、フォトレジストを用いたフォトリソグラフィー技術
により銅箔の不要部分をエッチング除去することにより
行われる。その前に、必要によりプラスチック基板にス
ルーホールをドリリングにより形成し、スルーホールの
壁面を銅めっき(通常は、無電解めっき後に電解めっき
で銅層を厚膜化)により銅皮膜で被覆しておく。
As in the case of a printed wiring board, a circuit is formed on a plastic substrate by laminating copper foil on both surfaces of the plastic substrate and etching away unnecessary portions of the copper foil by photolithography using a photoresist. . Before that, if necessary, a through hole is formed in the plastic substrate by drilling, and the wall surface of the through hole is covered with a copper film by copper plating (normally, the copper layer is thickened by electrolytic plating after electroless plating). .

【0007】こうして形成されたプラスチック回路基板
の両面の電極部を含む電気的接続に利用される回路部分
(以下、外部入出力端子および/または部品実装部と称
する) は、銅のままでは酸化され易く導電性が低下する
ので、金めっきを施して外部入出力端子および/または
部品実装部を保護する。この外部入出力端子および/ま
たは部品実装部は、電子部品を搭載する表面側では、電
子部品との電気的接続に利用されるワイヤボンディング
部またはフリップチップ接続の場合には電極パッド部で
あり、裏面側ではマザーボードに接続される電極パッド
部である。
A circuit portion used for electrical connection including electrode portions on both surfaces of the plastic circuit board thus formed.
(Hereinafter, these are referred to as external input / output terminals and / or component mounting portions) are easily oxidized when copper is used, and the conductivity is reduced. Therefore, gold plating is applied to protect the external input / output terminals and / or component mounting portions. . The external input / output terminals and / or component mounting portions are, on the surface side on which the electronic component is mounted, a wire bonding portion used for electrical connection with the electronic component or an electrode pad portion in the case of flip chip connection. On the back side, it is an electrode pad section connected to the motherboard.

【0008】金めっきは、金めっき単独の場合には 2.5
〜5μmといった厚膜にしないとピンホールのないめっ
き皮膜が得られないが、下地にNiめっきを施しておくと
耐食性が著しく向上するため、金めっきを薄くすること
ができる。高価な金の使用量を減らすため、下地にNiめ
っきを行うNi/Auめっきとするのが普通である。
[0008] Gold plating is 2.5
A plating film without pinholes cannot be obtained unless the thickness is as thick as 5 μm, but if Ni plating is applied to the base, the corrosion resistance is remarkably improved, so that the gold plating can be thinned. In order to reduce the amount of expensive gold used, it is common to use Ni / Au plating in which the base is plated with Ni.

【0009】このNi/Auめっきは、プラスチック基板に
ソルダレジストをスクリーン印刷して、めっきする部位
以外をソルダレジストで被覆した後、一度のめっき作業
で適当な膜厚のめっき皮膜が得られる電解めっき法によ
り行われる。その後、パンチングおよび/またはルータ
ーにより基板の周辺に位置合わせ用の穴をあけた後、検
査および包装され、出荷される。
In this Ni / Au plating, a solder resist is screen-printed on a plastic substrate, a portion other than a portion to be plated is covered with the solder resist, and a plating film having an appropriate thickness can be obtained by a single plating operation. It is done by law. Thereafter, holes for alignment are made around the substrate by punching and / or a router, and then inspected, packaged, and shipped.

【0010】さらに、チップキャリア類 (水晶振動子ケ
ース含む) においては、セラミックパッケージに電子部
品を搭載し、後に封止キャップを取りつけ、封止するも
のが存在する。このチップキャリアにおいても、通常、
電極部はタングステン材料が使用されているが、電気的
接続に利用される部位すなわち、外部入出力端子および
部品搭載部はNi/Alメッキを施して実装可能としてい
る。
Further, in chip carriers (including a quartz oscillator case), there is a type in which an electronic component is mounted on a ceramic package, and a sealing cap is later attached and sealed. Also in this chip carrier, usually
Although a tungsten material is used for the electrode portion, a portion used for electrical connection, that is, an external input / output terminal and a component mounting portion are subjected to Ni / Al plating to be mountable.

【0011】図1に示すように、チップキャリア10は、
一般に複数(例、4〜8個)の基板が1列または2列以
上につながって並んだ「連」12と呼ばれる状態で製造さ
れる。ユーザは、連12の状態の各チップキャリア10に複
数の電子部品 (図示せず) を一度に搭載し、次いで各電
子部品の搭載部を封止した後、最後に個々のチップキャ
リアに切断もしくはブレイクする。それにより、1個づ
つのチップキャリアを取り扱う場合に比べて作業能率が
大幅に向上する。
As shown in FIG. 1, the chip carrier 10 comprises:
In general, a plurality of (eg, 4 to 8) substrates are manufactured in a state called a “series” 12 in which one or more rows are connected in a row. The user mounts a plurality of electronic components (not shown) on each chip carrier 10 in the state of the ream 12 at a time, then seals the mounting portion of each electronic component, and finally cuts or cuts into individual chip carriers. Break. Thereby, the work efficiency is greatly improved as compared with the case where one chip carrier is handled.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】このような多数のセラ
ミックチップキャリア等回路基板の両面の外部入出力端
子および/または部品実装部にNi/Auの電解めっきを施
すには、すべての外部入出力端子および/または部品実
装部を外部電源と接続させる必要がある。なお、図1で
は電極部 (図示せず) からの出入力端子部までの配線部
14だけを示す。
In order to apply Ni / Au electrolytic plating to external input / output terminals and / or component mounting portions on both surfaces of such a large number of circuit boards such as ceramic chip carriers, all external input / output Terminals and / or component mounting parts need to be connected to an external power supply. In FIG. 1, the wiring section from the electrode section (not shown) to the input / output terminal section is shown.
Only 14 is shown.

【0013】そのため、図2に示すように、従来は、す
ねいく配線16 (千鳥配線) 等の技術を駆使し、各電極部
の入出力端子14を連12のまま同時にめっきを施してか
ら、図3に示すように連12をブレイクあるいは切断によ
り単品20とすることで、このすねいく配線16を分断して
いた。
For this reason, as shown in FIG. 2, conventional techniques such as squid wiring 16 (staggered wiring) and the like are used, and the input / output terminals 14 of each electrode portion are plated simultaneously with the streaks 12 at the same time. As shown in FIG. 3, by breaking or cutting the ream 12 into a single product 20, the sleeky wiring 16 is divided.

【0014】しかし、この方法だと、すねいく配線16
が、各回路基板の端外周を取り巻いているために、2重
3重のめっき線となっており、導通は多数方向からとる
ことができ、もし、製品内で、めっき線以外の配線とし
て必要なところが、分断されていても、他から回り込ん
でいるすねいく配線によって、導通がとれ、そのような
部位にもめっきが付いてしまい、不良品であっても、良
品と判断されてしまう。
However, in this method, the wiring 16
However, because it surrounds the outer circumference of the end of each circuit board, it is a double / triple plated wire, and conduction can be taken from many directions. However, even if it is cut off, conduction is obtained due to the shining wiring wrapping around from other parts, and plating is applied to such a portion, and even a defective product is determined to be a good product.

【0015】ここに、本発明の一般的課題は、隣接する
回路基板間のタイバーが不要となる回路基板の電解めっ
き方法を提供することである。さらに、本発明のより具
体的な目的は、めっきすべき外部入出力端子および/ま
たは部品実装部にめっきがされていない箇所を容易に検
出できる、BGA 基板、チップキャリア等の回路基板のめ
っき線の形成方法を提供することである。
Here, a general object of the present invention is to provide a method for electrolytic plating a circuit board which does not require a tie bar between adjacent circuit boards. Further, a more specific object of the present invention is to provide a plating wire for a circuit board such as a BGA board or a chip carrier, which can easily detect a portion where an external input / output terminal to be plated and / or a component mounting portion is not plated. Is to provide a method for forming

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は、こ
のめっき用のすねいく配線を、各回路基板の必要とする
めっき部分には、ただ一カ所から、導通を取り得るよう
な配線にすることに着目した。
The inventor of the present invention has proposed that the slick wiring for plating be formed on a required plating portion of each circuit board from a single location so as to be capable of conducting. I focused on doing.

【0017】さらに、めっきのバランスをとるために、
それぞれのめっき線の合計長さをできるだけ同じになる
ように、従来のすねいく配線を途中で分断させて、めっ
き領域を複数の領域に区分し、それぞれにおいて1つの
方向だけからの導通をとるようにすることにより、上述
の課題が効果的に解決できることを知り、本発明を完成
した。
Further, in order to balance the plating,
Divide the conventional shining wiring in the middle so that the total length of each plating wire is as same as possible, divide the plating area into a plurality of areas, and take conduction from only one direction in each. By doing so, the inventors have found that the above-mentioned problem can be effectively solved, and have completed the present invention.

【0018】ここに、本発明は、連接された複数の回路
基板の外部入出力端子および/または部品実装部を電気
めっきする際、各回路基板における隣接するめっきすべ
き外部入出力端子および/または部品実装部を、各回路
基板に分割すべき切断線を挟んで、めっき線で連結する
とともに、めっき線で連結されたそれらの外部入出力端
子および/または部品実装部を複数の群に分割させて、
各群において一方から他方へ一つの経路でもって導通を
とるようにすることを特徴とする回路基板のめっき線の
形成方法である。
Here, the present invention relates to a method for electroplating external input / output terminals and / or component mounting portions of a plurality of circuit boards connected to each other, the adjacent external input / output terminals to be plated and / or The component mounting section is connected to each circuit board by a plating line across a cutting line to be divided, and the external input / output terminals and / or the component mounting section connected by the plating line are divided into a plurality of groups. hand,
A method for forming a plated wire on a circuit board, characterized in that each group conducts conduction from one side to the other side in one path.

【0019】本発明の実施態様によれば、上述のように
外部入出力端子および/または部品実装部を複数の群に
分ける場合、各群のめっき線の長さは可及的に等しいも
のとするのが好ましい。また群の数はその限りにおいて
少ないのが作業能率向上の点から好ましい。
According to the embodiment of the present invention, when the external input / output terminals and / or component mounting parts are divided into a plurality of groups as described above, the lengths of the plating wires in each group are as equal as possible. Is preferred. It is preferable that the number of groups is as small as possible from the viewpoint of improving work efficiency.

【0020】このように、本発明によれば、各めっき領
域の群はそれぞれ1つの方向にだけ導通をとっているか
ら、1ヶ所でも破断箇所があればその群においてそれよ
り先の部位にはめっきが付かず容易に目視で判別でき
る。
As described above, according to the present invention, each group of plating regions conducts only in one direction, and therefore, if there is even a broken portion in any one portion, the group in the group further includes a broken portion. It can be easily visually identified without plating.

【0021】またタイバーで引出し線、例えばめっき線
を接続する代わりに、隣接する引出し線同士をめっき線
として専用線で接続し、連または各回路基板の切断時に
この専用線が断線するように切断することで、タイバー
の少なくとも一部を省略できる。
Also, instead of using a tie bar to connect a lead line, for example, a plated line, adjacent lead lines are connected to each other with a dedicated line as a plated line, and cut such that the dedicated line is disconnected when a series or each circuit board is cut. By doing so, at least a part of the tie bar can be omitted.

【0022】セラミック回路基板とは異なり、プラスチ
ック回路基板を用いる場合、回路基板の四方の引出し線
がそれぞれ異なった位置に設けられることが多い。これ
は、パッケージの出力ボールパッド部、特に1本づつめ
っき線としての引出し線を取る必要のある信号線用ボー
ルパッド部が任意の位置に配置されており、対称性がな
いためである。
Unlike a ceramic circuit board, when a plastic circuit board is used, four lead lines of the circuit board are often provided at different positions. This is because the output ball pad portion of the package, in particular, the signal line ball pad portion which needs to take out the lead wire as a plating wire one by one is arranged at an arbitrary position and has no symmetry.

【0023】従って、そのように、縦または横方向に隣
接する回路基板間において、引出し線が必ずしも連続し
ておらず、一方の回路基板に存在する引出し線に対応す
る引出し線が、隣接する回路基板には存在せずに、一方
の回路基板の外周縁部で終わっている場合には、一方の
回路基板にしか存在しない引出し線を他方の回路基板に
まで専用線で延設し、この延設部を上記のように接続用
専用線で両側の引出し線 (またはその延設部) と接続す
ればよい。その際には、片側の接続は、必ずしも切断部
をまたぐように行う必要はなく、延設した他方の回路基
板内だけで接続してもよい。
Therefore, the lead lines are not always continuous between the circuit boards adjacent in the vertical or horizontal direction, and the lead lines corresponding to the lead lines existing on one circuit board are connected to the adjacent circuit boards. If it does not exist on the board but ends at the outer peripheral edge of one circuit board, a lead wire that exists only on one circuit board is extended to the other circuit board with a dedicated line, and this extension is performed. The installation portion may be connected to the lead wires on both sides (or extension portions thereof) by the dedicated connection line as described above. In that case, the connection on one side does not necessarily need to be made to straddle the cut portion, but may be made only in the other extended circuit board.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】図4は本発明にしたがって行うめ
っき線形成方法を説明するもので、図中、めっき線、つ
まりすねいく配線部16を、例えば「×」箇所で1部分断
することにより、めっき領域は図示例では上段の連12a
と下段の連12bとの2つの区域に2分割され、しかもそ
れらはいずれも一方向から導通がとられているため、ど
こか1ヶ所の破断でその先にはめっきは行われなくな
る。
FIG. 4 illustrates a method of forming a plated wire according to the present invention. In FIG. 4, a plated wire, that is, a shining wiring portion 16 is partially cut at, for example, "x" locations. Therefore, the plating area is the upper row 12a in the illustrated example.
And the lower row 12b are divided into two sections, and both of them are conducted from one direction, so that any breakage at any one place prevents plating from being performed further.

【0025】こうすることによって、めっき用配線は、
一方向からの電流の流れとなり、2重導通がなくなる。
よって、途中の配線に不備 (断線等) があったとして
も、そのような不備は不めっき部位の存在によって容易
に見いだすことができる。
By doing so, the wiring for plating is
Current flows from one direction, and double conduction is eliminated.
Therefore, even if there is a defect (such as a disconnection) in the wiring in the middle, such a defect can be easily found due to the presence of the unplated portion.

【0026】また、本発明は、連の形態の回路基板の製
造だけでなく、単体の回路基板の製造における電解めっ
きにも適用することができる。単体の回路基板の場合、
本発明による隣接回路基板との引出し線の接続方法は、
基板の4辺全ての引出し線に適用することが好ましい
が、一部だけに適用してもよい。
Further, the present invention can be applied not only to the manufacture of a series of circuit boards, but also to electrolytic plating in the manufacture of a single circuit board. For a single circuit board,
The method for connecting a lead wire to an adjacent circuit board according to the present invention is as follows.
Although it is preferable to apply to all the lead lines of the substrate, it may be applied to only some of them.

【0027】本発明の方法に用いるチップキャリア等回
路基板は、セラミックス回路基板に求められるような耐
熱性、絶縁性その他の特性を有していれば特に制限され
ない。代表例はセラミックス以外では、ポリイミド樹
脂、特に付加重合型ポリイミド樹脂 (例、BTレジン)
であるが、ガラス繊維含有エポキシ樹脂といった複合材
料も使用して構成することができる。
The circuit board such as a chip carrier used in the method of the present invention is not particularly limited as long as it has heat resistance, insulation and other properties required for a ceramic circuit board. Typical examples are polyimide resins other than ceramics, especially addition-polymerized polyimide resins (eg, BT resin)
However, a composite material such as a glass fiber-containing epoxy resin can also be used.

【0028】また、本発明の方法に用いる回路基板の種
類も特に制限されない。好ましい種類はチップキャリア
であるが、pBGA、pPGA、pLGA等の他のプラ
スチック回路基板の電極部の電解めっきにも本発明の方
法を適用できる。
The type of the circuit board used in the method of the present invention is not particularly limited. The preferred type is a chip carrier, but the method of the present invention can be applied to electrolytic plating of an electrode portion of another plastic circuit board such as pBGA, pPGA, and pLGA.

【0029】本発明の電解めっき方法では、各電極に接
続した通電用の引出し線、つまりめっき線を別の専用線
により接続し、また引出し線が「連続した引出し線」で
はない場合には、その引出し線を専用線で隣りの基板内
まで延設する。この専用線の配線形成は、電極や引出し
線の形成と同時に実施できる。電極や引出し線は、プラ
スチック基板で言えば、プラスチックシート (ブラン
ク) の両面に積層した銅箔をフォトリソグラフィー技術
により特定部分だけエッチング除去することにより形成
されるが、その際に引出し線を接続する専用線や引出し
線延設部も同時に形成できる。即ち、使用するフォトマ
スクの形状を変更するだけで、別に余分の工程を付加す
ることなく、上記の専用線を電極や引出し線と同時に形
成することができる。
In the electrolytic plating method of the present invention, the lead wire for current supply connected to each electrode, that is, the plating wire is connected by another dedicated wire, and when the lead wire is not a “continuous lead wire”, The lead wire is extended to the adjacent substrate with a dedicated line. The formation of the dedicated lines can be performed simultaneously with the formation of the electrodes and the lead lines. In the case of a plastic substrate, electrodes and lead lines are formed by etching away specific portions of copper foil laminated on both sides of a plastic sheet (blank) by photolithography technology, and connect the lead lines at that time A dedicated line and a lead wire extension can be formed at the same time. That is, the above-described dedicated line can be formed simultaneously with the electrode and the lead-out line by simply changing the shape of the photomask to be used and without adding an extra step.

【0030】同様に、セラミック基板(チップキャリア
類)でも、印刷用フォトマスクの形状を変更するだけで
良い。本発明の方法における電解めっき自体は、従来と
同様に実施すればよい。電解めっきのめっき金属種も特
に制限されないが、プラスチック回路基板およびセラミ
ック回路基板の電極部は一般にNi/Auめっきされる。即
ち、まず電解Niめっき、次いで電解Auめっきが施され
る。
Similarly, for a ceramic substrate (chip carriers), it is only necessary to change the shape of the printing photomask. The electrolytic plating itself in the method of the present invention may be performed in the same manner as in the related art. The plating metal type of the electrolytic plating is not particularly limited, but the electrode portions of the plastic circuit board and the ceramic circuit board are generally plated with Ni / Au. That is, first, electrolytic Ni plating and then electrolytic Au plating are performed.

【0031】めっき終了後に、所定の切断位置で切断し
て、単体の形態のプラスチック回路基板もしくはセラミ
ック回路基板を得る。この切断により、切断位置を横断
して形成された専用線が切断される結果、隣接する基板
の両方とも、めっき線としての引出し線は互いに電気的
に絶縁される。
After plating is completed, cutting is performed at a predetermined cutting position to obtain a single-piece plastic circuit board or ceramic circuit board. As a result of this cutting, the dedicated line formed across the cutting position is cut, and as a result, the lead wires as plating lines are electrically insulated from each other on both of the adjacent substrates.

【0032】[0032]

【実施例】本例では回路基板として、プラスチック製の
チップキャリアを使用して、本発明を実施した。
EXAMPLE In this example, the present invention was implemented using a plastic chip carrier as a circuit board.

【0033】図5に示すように、チップキャリア50内の
チップ (図示せず) からワイヤーボンド法等を通じて、
チップキャリア50の外周の入出力端子部までの配線(A)
は、このチップキャリアにとって必要な配線である。ち
なみに、実線(B) は、チップキャリア50をアレイ状に配
置した時のチップキャリア50の境界線、すなわち、後工
程で切断あるいは、ブレイクする場所である。なお、図
中、符号52、54は、それぞれ外部入出端子部のエッジキ
ャスタレーションを示す。符号56は、単体化した基板の
コーナー逆R形態を作る穴である。しかしながら、この
状態では、これらの配線に対してめっきを施すことがで
きない。
As shown in FIG. 5, a chip (not shown) in a chip carrier 50 is formed by a wire bonding method or the like.
Wiring to the input / output terminals on the outer periphery of the chip carrier 50 (A)
Are wirings necessary for this chip carrier. Incidentally, the solid line (B) is a boundary line of the chip carriers 50 when the chip carriers 50 are arranged in an array, that is, a place where the chip carriers 50 are cut or broken in a later step. In the drawings, reference numerals 52 and 54 denote edge castellations of the external input / output terminals, respectively. Reference numeral 56 denotes a hole for forming a corner inverted R shape of the singulated substrate. However, in this state, plating cannot be performed on these wirings.

【0034】そこで、図6において、めっきが必要とさ
れる配線に対して、めっきが付くように、めっき用すね
いく配線を追加する。符号(C) は、すねいく配線を示
す。
Therefore, in FIG. 6, a sliver wiring for plating is added so that plating is applied to the wiring requiring plating. The symbol (C) indicates a slick wiring.

【0035】これでは、イ、ロ、ハ、ニの4方向から、
めっき線がきており、たとえチップキャリア50として必
要な配線(D) の部分が断線していても、その箇所を除い
て前後の配線にはめっきが付くことになる。(E) 部に
は、図7に示すように、配線(D) の部分が断線してい
て、めっき線イ、ハ、ニから、導通がとれていなくて
も、めっきすねいく(ロ) から導通がとれているのでチッ
プキャリア50の配線(E) にはめっきが付いてしまい、断
線が判らないことになる。
In this case, from four directions, i, b, c and d,
Even if a plated wire is formed and the portion of the wiring (D) necessary for the chip carrier 50 is broken, the wiring before and after the portion is plated except for that portion. In the part (E), as shown in FIG. 7, the part of the wiring (D) is broken, and even if the continuity is not obtained from the plated wires A, C, and D, the plating is sunk (B). Since the continuity is established, the wiring (E) of the chip carrier 50 is plated and the disconnection cannot be recognized.

【0036】そこで、本発明によればチップキャリア50
の必要とする配線が断線した場合においては、めっきが
付かないように、めっき線引き出しを改良したものであ
って、それを図8に基づいて説明すると、チップキャリ
ア50にめっきを施すためのすねいく配線 (各イ、ロ、
ハ、ニの4つの群に分けられている) は、それぞれ一方
向の経路で導通がとられており、またお互いに接続され
ていない構造になっている。
Therefore, according to the present invention, the chip carrier 50
In the case where the wiring required by (1) is broken, the plating wire lead-out is improved so that plating is not applied. This will be described with reference to FIG. Wiring (Each b, b,
Are divided into four groups of (c) and (d), each of which has conduction in one-way path, and is not connected to each other.

【0037】したがって、たとえば、図9に示すように
配線(D) が断線していれば、その箇所を含むそれより先
のめっき線につながっている外部入出端子および隣りの
配線(E) を介した部品搭載部にはめっきが付かないこと
から、目視によっても容易にその欠陥は判別できる。
Therefore, for example, as shown in FIG. 9, if the wiring (D) is broken, the external wiring terminal (E) connected to the external input / output terminal connected to the plating wire ahead of the wiring including that part is connected. Since no plating is applied to the component mounting portion, the defect can be easily determined visually.

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明によれば、めっき線の2重配線が
なくなることから、チップキャリアで必要とする配線
が、もし何等かの理由で断線していれば、そのチップキ
ャリアにおけるめっきが必要な箇所には、鍍金が付着さ
れないので、製品不良が目視で判別可能となる。
According to the present invention, since the double wiring of the plating wire is eliminated, if the wiring required by the chip carrier is broken for any reason, plating on the chip carrier is necessary. Since no plating is attached to such a location, a defective product can be visually identified.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】チップキャリアの連の概略図である。FIG. 1 is a schematic view of a series of chip carriers.

【図2】図1の連にめっき用すねいく線を加えた概略図
である。
FIG. 2 is a schematic view in which a shining line for plating is added to the series of FIG. 1;

【図3】図2の連を各回路基板に切断して個別化したと
きの1つの回路基板の概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of one circuit board when the series of FIG. 2 is cut into individual circuit boards and individualized.

【図4】本発明にしたがって、めっき線の2重配線をな
くしたときの概略図である。
FIG. 4 is a schematic view when the double wiring of the plating wire is eliminated according to the present invention.

【図5】図1の基板のコーナの拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a corner of the substrate of FIG. 1;

【図6】図5においてさらにすねいく配線を追加したと
きの基板のコーナの拡大図である。
FIG. 6 is an enlarged view of a corner of the board when shining wiring is further added in FIG. 5;

【図7】図6において、一部断線化させたときの同じく
拡大図である。
FIG. 7 is an enlarged view of FIG. 6 with a partial disconnection.

【図8】本発明にしたがってめっき線の2重配線を廃止
したときの概略図である。
FIG. 8 is a schematic diagram when the double wiring of the plating wire is eliminated according to the present invention.

【図9】図8において、配線(D) の一部を切断させたと
きの概略図である。
FIG. 9 is a schematic diagram when a part of a wiring (D) is cut off in FIG.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 連接された複数の回路基板の外部入出力
端子および/または部品実装部を電気めっきする際、各
回路基板における隣接するめっきすべき外部入出力端子
および/または部品実装部を、各回路基板に分割すべき
切断線を挟んで、めっき線で連結するとともに、めっき
線で連結されたそれらの外部入出力端子および/または
部品実装部を複数の群に分けて、各群において一方から
他方へ一つの経路でもって導通をとるようにすることを
特徴とする回路基板のめっき線の形成方法。
When electroplating external input / output terminals and / or component mounting portions of a plurality of circuit boards connected to each other, adjacent external input / output terminals and / or component mounting portions to be plated on each circuit board are connected to each other. The external input / output terminals and / or component mounting parts connected by the plating lines are divided into a plurality of groups while connecting the cutting lines to be divided to the respective circuit boards with the plating lines therebetween. A method of forming a plated wire on a circuit board, wherein conduction is established from one to another by a single path.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1085571A1 (en) * 1999-09-20 2001-03-21 Texas Instruments Incorporated Method for increasing device reliability of a BGA package
JP2008181927A (en) * 2007-01-23 2008-08-07 Kyocera Corp Multiple-piece patterned wiring board and manufacturing method thereof
JP2012089797A (en) * 2010-10-22 2012-05-10 Kyocera Corp Multipiece wiring board

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1085571A1 (en) * 1999-09-20 2001-03-21 Texas Instruments Incorporated Method for increasing device reliability of a BGA package
JP2008181927A (en) * 2007-01-23 2008-08-07 Kyocera Corp Multiple-piece patterned wiring board and manufacturing method thereof
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Effective date: 20040601