JPH11202099A - Method for cleaning electron beam accelerator - Google Patents
Method for cleaning electron beam acceleratorInfo
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- JPH11202099A JPH11202099A JP1813698A JP1813698A JPH11202099A JP H11202099 A JPH11202099 A JP H11202099A JP 1813698 A JP1813698 A JP 1813698A JP 1813698 A JP1813698 A JP 1813698A JP H11202099 A JPH11202099 A JP H11202099A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、電子線照射装置
を構成する電子線加速器のフィラメントおよびその周辺
部品をクリーニングする方法に関する。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method of cleaning a filament of an electron beam accelerator constituting an electron beam irradiation apparatus and its peripheral parts.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図２に、従来の電子線照射装置の一例を
示す。この電子線照射装置は、電子線１２を加速して引
き出す電子線加速器２と、それに必要な電力を供給する
電源装置２０とから成る。2. Description of the Related Art FIG. 2 shows an example of a conventional electron beam irradiation apparatus. This electron beam irradiation device includes an electron beam accelerator 2 for accelerating and extracting an electron beam 12 and a power supply device 20 for supplying necessary electric power.
【０００３】電子線加速器２は、この例では電子線１２
を走査しない非走査形のものであり、図示しない真空排
気装置によって真空（例えば１０-3Ｐａ〜１０-5Ｐａ程
度）に排気される筒状の真空容器４と、この真空容器４
内に設けられた熱電子放出用のフィラメント６と、この
フィラメント６の近傍に設けられていてフィラメント６
から放出させた熱電子を電子線１２として引き出す引出
し電極１０と、この引出し電極１０に対向するように真
空容器４に取り付けられていて真空容器４の内外を分離
する窓箔１４とを備えており、フィラメント６から引出
し電極１０を通して引き出した電子線１２を窓箔１４を
透過させて真空容器４外に引き出すよう構成されてい
る。引き出された電子線１２は被照射物１６に照射され
る。In this example, the electron beam accelerator 2 is an electron beam 12.
Is a non-scanning type that does not scan, and is evacuated to a vacuum (for example, about 10 −3 Pa to about 10 −5 Pa) by a vacuum exhaust device (not shown);
And a filament 6 provided near the filament 6 for emitting thermionic electrons.
And a window foil 14 attached to the vacuum vessel 4 so as to face the extractor electrode 10 and to separate the inside and outside of the vacuum vessel 4 from each other. The electron beam 12 drawn from the filament 6 through the extraction electrode 10 is transmitted through the window foil 14 and drawn out of the vacuum container 4. The extracted electron beam 12 is irradiated on the irradiation target 16.
【０００４】フィラメント６は、通常は、線状をしてい
て複数本が互いに並列接続されている。各フィラメント
６は、通常はタングステンで構成されている。また、フ
ィラメント６は、この例では、引出し電極１０と同電位
のものであって電界緩和用の筒状のシールド電極８によ
って囲まれており、引出し電極１０はこのシールド電極
８の開口部に取り付けられている。シールド電極８は、
通常はこの例のように設けられる。真空容器４およびそ
れに取り付けられた窓箔１４は、後述する圧力容器２２
と共に電気的に接地されている。The filament 6 is usually linear and a plurality of filaments 6 are connected in parallel. Each filament 6 is usually made of tungsten. In this example, the filament 6 has the same potential as the extraction electrode 10 and is surrounded by a cylindrical shield electrode 8 for alleviating the electric field, and the extraction electrode 10 is attached to the opening of the shield electrode 8. Have been. The shield electrode 8
Usually, it is provided as in this example. The vacuum vessel 4 and the window foil 14 attached thereto are connected to a pressure vessel 22 described later.
And is electrically grounded.
【０００５】電源装置２０は、フィラメント６に加熱用
の電力を供給する絶縁変圧器２４と、この絶縁変圧器２
４に大地電位部から電力を供給する電源３２と、絶縁変
圧器２４の２次巻線２４ｂの中性点Ｎとシールド電極８
との間に接続されていてフィラメント６とシールド電極
８および引出し電極１０との間にフィラメント６側を
負、引出し電極１０側を正にして直流の引出し電圧Ｖｅ
（例えば２００Ｖ〜５００Ｖ程度）を印加する引出し電
源２６と、シールド電極８および引出し電極１０と圧力
容器２２との間に、即ちシールド電極８および引出し電
極１０と真空容器４および窓箔１４との間に、シールド
電極８側を負、窓箔１４側を正にして直流の加速電圧Ｖ
ａ（例えば１００ｋＶ〜３００ｋＶ程度）を印加する加
速電源２８とを備えている。A power supply device 20 includes an insulating transformer 24 for supplying electric power for heating the filament 6 and an insulating transformer 2 for supplying electric power to the filament 6.
4, a power source 32 for supplying power from the ground potential portion, a neutral point N of the secondary winding 24b of the insulating transformer 24, and the shield electrode 8
Between the filament 6 and the shield electrode 8 and the extraction electrode 10, the filament 6 side is negative, and the extraction electrode 10 side is positive, and the direct current extraction voltage Ve
(For example, about 200 V to 500 V) and between the shield electrode 8 and the extraction electrode 10 and the pressure vessel 22, that is, between the shield electrode 8 and the extraction electrode 10 and the vacuum vessel 4 and the window foil 14. With the shield electrode 8 side negative and the window foil 14 side positive, the DC acceleration voltage V
a (for example, about 100 kV to 300 kV).
【０００６】絶縁変圧器２４の２次巻線２４ｂ以降は、
加速電源２８によって負の高電位にされる。従って、絶
縁変圧器２４、引出し電源２６および加速電源２８は、
絶縁ガス（例えばＳＦ6 ガス）が充填される圧力容器２
２内に収納して、当該電源装置２０の小型化を図ってい
る。この圧力容器２２と電子線加速器２の真空容器４と
の間は、絶縁スペーサ３０によって仕切られている。[0006] After the secondary winding 24b of the insulating transformer 24,
The acceleration power supply 28 is set to a negative high potential. Therefore, the insulation transformer 24, the extraction power supply 26 and the acceleration power supply 28
Pressure vessel 2 filled with insulating gas (for example, SF 6 gas)
2 to reduce the size of the power supply device 20. The pressure vessel 22 and the vacuum vessel 4 of the electron beam accelerator 2 are separated by an insulating spacer 30.
【０００７】このような電子線照射装置においては、電
子線加速器２を構成するフィラメント６およびその周辺
部品（この例では主として引出し電極１０およびシール
ド電極８。以下同じ）からのガス出し（脱ガス）と不純
物除去のために、それらを時々（特に大気開放後の再運
転前に）クリーニングする必要がある。In such an electron beam irradiation apparatus, gas is discharged (degassed) from the filament 6 constituting the electron beam accelerator 2 and its peripheral components (in this example, mainly the extraction electrode 10 and the shield electrode 8; the same applies hereinafter). It is necessary to clean them from time to time (especially before restarting after opening to the atmosphere) to remove impurities.
【０００８】このクリーニングは、従来は、真空容器４
内を高真空（例えば前述したように１０-3Ｐａ〜１０-5
Ｐａ程度）に排気した状態で、フィラメント６を通電加
熱することによって、フィラメント６からの主として輻
射熱による周辺部品の加熱によって、当該周辺部品から
のガス出しを行っていた。Conventionally, this cleaning is performed by using a vacuum container 4.
High vacuum (for example, 10 −3 Pa to 10 −5 as described above)
(Pa), the filament 6 is energized and heated, so that the peripheral component is heated mainly by radiant heat from the filament 6 to release gas from the peripheral component.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な従来のクリーニング方法においては、次のような課題
があった。However, the conventional cleaning method as described above has the following problems.
【００１０】即ち、フィラメント６に付着している不純
物を構成する典型的な元素としては、炭素、窒素、酸
素、水素、ナトリウム、カリウム、塩素が挙げられ、フ
ィラメント６を加熱することによって融点の低いもの
（即ち上記元素の内の炭素以外のもの）はフィラメント
６から離脱するけれども、フィラメント６の通常の加熱
温度（例えば約２４００Ｋ）より融点の高い炭素はフィ
ラメント６に残留する。そしてこのフィラメント６に残
留した炭素は、フィラメント６の材料であるタングステ
ンと反応して、炭化タングステン（ＷＣ）を形成する。
この炭化タングステンの形成は、フィラメント６の仕事
関数、電気特性、機械特性を変化させ、フィラメント６
のエミッション（電子放出）特性の変化、電気抵抗の上
昇、脆化等を惹き起こす。That is, typical elements constituting impurities adhering to the filament 6 include carbon, nitrogen, oxygen, hydrogen, sodium, potassium, and chlorine. Although the ones (ie, those other than carbon in the above elements) are detached from the filament 6, carbon having a melting point higher than the normal heating temperature of the filament 6 (for example, about 2400 K) remains in the filament 6. The carbon remaining on the filament 6 reacts with tungsten, which is the material of the filament 6, to form tungsten carbide (WC).
This formation of tungsten carbide changes the work function, electrical properties and mechanical properties of the filament 6 and
Causes changes in emission (electron emission) characteristics, increase in electrical resistance, embrittlement, and the like.
【００１１】また、真空雰囲気中におけるフィラメント
６からの輻射による加熱では、周辺部品の加熱温度が低
いので（例えば引出し電極１０やシールド電極８の温度
は約２００℃〜４００℃程度までしか上昇しない）、周
辺部品のガス出しに長時間を要し、従ってそれらのクリ
ーニングに長時間を要する。Further, in the heating by radiation from the filament 6 in a vacuum atmosphere, the heating temperature of the peripheral parts is low (for example, the temperature of the extraction electrode 10 and the shield electrode 8 rises only to about 200 ° C. to 400 ° C.). It takes a long time to degas peripheral components and therefore a long time to clean them.
【００１２】そこでこの発明は、上記のような電子線加
速器において、フィラメントから融点の低い不純物だけ
でなく炭素も除去することができ、しかもフィラメント
およびその周辺部品のクリーニングを短時間で行うこと
ができるクリーニング方法を提供することを主たる目的
とする。Therefore, according to the present invention, in the above-described electron beam accelerator, not only impurities having a low melting point but also carbon can be removed from the filament, and the filament and its peripheral parts can be cleaned in a short time. The main purpose is to provide a cleaning method.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段】この発明のクリーニング
方法は、前記真空容器内を真空排気しながら当該真空容
器内に水素ガスを導入し、かつ前記フィラメントを通電
加熱すると共に当該フィラメントと前記引出し電極との
間に前者を負にして直流電圧を印加し、それによって前
記フィラメントと引出し電極との間で放電を生じさせて
水素プラズマを生成することを特徴としている。According to a cleaning method of the present invention, a hydrogen gas is introduced into a vacuum vessel while the inside of the vacuum vessel is evacuated, and the filament is energized and heated. A DC voltage is applied between the filament and the extraction electrode by making the former negative, whereby hydrogen plasma is generated by generating a discharge between the filament and the extraction electrode.
【００１４】上記方法によれば、フィラメントと引出し
電極との間で生成する水素プラズマ中の水素イオンは、
負にバイアスされているフィラメントに向けて加速され
てフィラメントに衝突する。この水素イオンは活性が高
く、それによる衝撃によって、フィラメント表面の不純
物を水素化合物の形で除去することができる。特に、フ
ィラメントの加熱だけでは除去し切れなかったフィラメ
ント表面の炭素を、水素イオンの衝撃によって炭化水素
の形で除去することができる。According to the above method, the hydrogen ions in the hydrogen plasma generated between the filament and the extraction electrode are:
It is accelerated toward the negatively biased filament and collides with the filament. The hydrogen ions are highly active, and the impact can remove impurities on the filament surface in the form of hydrogen compounds. In particular, carbon on the surface of the filament, which could not be removed only by heating the filament, can be removed in the form of a hydrocarbon by the impact of hydrogen ions.
【００１５】同時に、フィラメントの周辺部品は、水素
分子や上記水素プラズマ中の活性の高い水素イオンおよ
び遊離水素原子に曝され、これらの雰囲気中でフィラメ
ントによって加熱されるので、周辺部品表面の不純物は
水素化合物を形成して表面から離脱する。この水素化合
物を形成して離脱する分、単に真空雰囲気中で加熱する
従来法よりも脱ガス量が多くなり、周辺部品のガス出し
時間を短縮することができる。At the same time, the peripheral parts of the filament are exposed to hydrogen molecules and highly active hydrogen ions and free hydrogen atoms in the hydrogen plasma, and are heated by the filament in these atmospheres. Form hydrogen compounds and escape from the surface. As much as the hydrogen compound is formed and desorbed, the amount of degassing is larger than in the conventional method of simply heating in a vacuum atmosphere, and the time required for degassing peripheral components can be reduced.
【００１６】このような作用によって、フィラメントか
ら融点の低い不純物だけでなく炭素も除去することがで
き、しかもフィラメントおよびその周辺部品のクリーニ
ングを短時間で行うことができる。By such an action, not only impurities having a low melting point but also carbon can be removed from the filament, and the filament and its peripheral parts can be cleaned in a short time.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】図１は、この発明に係るクリーニ
ング方法を実施する電子線照射装置の一例を示す図であ
る。図２の従来例と同一または相当する部分には同一符
号を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に
説明する。FIG. 1 is a view showing an example of an electron beam irradiation apparatus for performing a cleaning method according to the present invention. Parts that are the same as or correspond to those in the conventional example of FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and differences from the conventional example will be mainly described below.
【００１８】この電子線照射装置は、前述した電子線加
速器２の真空容器４にガス導入口３４を設け、そこに流
量調節器３６を介して水素ガス源（例えば水素ガスボン
ベ）３８を接続して、電子線加速器２のクリーニング時
に真空容器４内に水素ガス４０を導入することができる
ようにしている。In this electron beam irradiation apparatus, a gas inlet 34 is provided in the vacuum vessel 4 of the electron beam accelerator 2 described above, and a hydrogen gas source (for example, a hydrogen gas cylinder) 38 is connected to the gas inlet 34 via a flow rate controller 36. The hydrogen gas 40 can be introduced into the vacuum chamber 4 when the electron beam accelerator 2 is cleaned.
【００１９】電子線加速器２のクリーニングに際して
は、真空容器４内を図示しない真空排気装置によって真
空排気しながら、当該真空容器４内に水素ガス源３８か
らの水素ガス４０を流量調節器３６によって流量を調節
して導入する。具体的には、真空容器４内の水素ガス圧
が、フィラメント６とシールド電極１０間の直流放電に
都合の良い圧力（例えば１０Ｐａ〜１０-1Ｐａ程度）に
なるように水素ガス４０を導入する。At the time of cleaning the electron beam accelerator 2, while the inside of the vacuum vessel 4 is evacuated by a vacuum exhaust device (not shown), the flow rate of hydrogen gas 40 from a hydrogen gas source 38 into the vacuum vessel 4 is controlled by a flow controller 36. Adjust and introduce. Specifically, the hydrogen gas 40 is introduced so that the hydrogen gas pressure in the vacuum vessel 4 becomes a pressure (for example, about 10 Pa to 10 -1 Pa) convenient for DC discharge between the filament 6 and the shield electrode 10. .
【００２０】更に、絶縁変圧器２４からフィラメント６
に電力を供給してフィラメント６を通電加熱すると共
に、当該フィラメント６と引出し電極１０およびシール
ド電極８との間に、フィラメント６側を負、引出し電極
１０およびシールド電極８側を正にして、この例では前
述した引出し電源２６から直流電圧（引出し電圧Ｖｅ）
を印加する。Further, from the insulating transformer 24, the filament 6
Is supplied to the filament 6 so as to energize and heat the filament 6, and between the filament 6 and the extraction electrode 10 and the shield electrode 8, the filament 6 side is negative, and the extraction electrode 10 and the shield electrode 8 side are positive. In the example, a DC voltage (drawing voltage Ve) is supplied from the above-described drawing power supply 26.
Is applied.
【００２１】これによって、フィラメント６から放出さ
れた熱電子が正にバイアスされている引出し電極１０お
よびシールド電極８に向けて加速され、その途中で雰囲
気中の水素分子と衝突してそれを電離するので、フィラ
メント６と引出し電極１０との間に直流放電が生じて、
更にこの例では印加電圧等の条件によってはフィラメン
ト６とシールド電極８との間にも直流放電が生じて、フ
ィラメント６と引出し電極１０との間に、更に上記条件
によってはフィラメント６とシールド電極８との間に
も、水素プラズマ４２が生成される。このときの放電電
流は、例えば、引出し電源２６から印加する電圧の大き
さや、真空容器４内に導入する水素ガス４０の流量等に
よって調節することができる。As a result, thermions emitted from the filament 6 are accelerated toward the positively biased extraction electrode 10 and the shield electrode 8, and collide with hydrogen molecules in the atmosphere on the way to ionize them. Therefore, a DC discharge is generated between the filament 6 and the extraction electrode 10, and
Further, in this example, a DC discharge is also generated between the filament 6 and the shield electrode 8 depending on conditions such as an applied voltage and the like, and between the filament 6 and the extraction electrode 10 and further depending on the above conditions. The hydrogen plasma 42 is also generated between the steps. The discharge current at this time can be adjusted by, for example, the magnitude of the voltage applied from the extraction power supply 26, the flow rate of the hydrogen gas 40 introduced into the vacuum vessel 4, and the like.
【００２２】このとき、フィラメント６は、引出し電源
２６によって負にバイアスされているので、上記水素プ
ラズマ４２中の水素イオンは、フィラメント６に向けて
加速されてフィラメント６に衝突する。この水素イオン
は活性が高く、それによる衝撃によって、フィラメント
６の表面に付着している前述したような不純物は、当該
水素イオンと反応して水素化合物を形成してフィラメン
ト６から離脱する。典型的な例としては、ＣＨn （炭化
水素）、Ｈ2Ｏ（水）、ＮＨ3 （アンモニア）を形成し
てフィラメント６から離脱する。特に、従来法において
フィラメント６の加熱だけでは除去し切れなかったフィ
ラメント表面の炭素をも、ＣＨ4 （メタン）、Ｃ2Ｈ6
（エタン）等の炭化水素の形で離脱させて除去すること
ができる。At this time, since the filament 6 is negatively biased by the extraction power supply 26, the hydrogen ions in the hydrogen plasma 42 are accelerated toward the filament 6 and collide with the filament 6. The hydrogen ions have high activity, and the impact caused by the impact causes the above-mentioned impurities adhering to the surface of the filament 6 to react with the hydrogen ions to form a hydrogen compound and to be separated from the filament 6. A typical example, CH n (hydrocarbon), H 2 O (water), to form a NH 3 (ammonia) is disengaged from the filament 6. In particular, the carbon on the filament surface, which could not be completely removed by heating the filament 6 in the conventional method, is also removed from CH 4 (methane) and C 2 H 6.
It can be removed in the form of a hydrocarbon such as (ethane).
【００２３】このようにして、フィラメント６からのガ
ス出しと不純物除去を効果的に行うことができ、従来法
よりも短時間で清浄なフィラメント６を得ることができ
る。特に、このクリーニング方法は、炭素の除去にも効
果があるので、従来法では困難であった、フィラメント
表面における炭化タングステンの生成を抑制することが
できる。その結果、炭化タングステンの生成に起因する
フィラメント特性の変化等を防止することができる。In this way, gas can be effectively released from the filament 6 and impurities can be removed, and a clean filament 6 can be obtained in a shorter time than in the conventional method. In particular, since this cleaning method is also effective in removing carbon, it is possible to suppress the formation of tungsten carbide on the filament surface, which was difficult with the conventional method. As a result, it is possible to prevent a change in filament characteristics due to the formation of tungsten carbide, and the like.
【００２４】上記フィラメント６のクリーニングと同時
に、フィラメント６の周辺部品（即ちこの例では主とし
て引出し電極１０およびシールド電極８）は、導入され
た水素ガス４０を構成する水素分子や、水素プラズマ４
２中の活性の高い水素イオンおよび遊離水素原子Ｈ
* （これは水素ラジカルとも呼ばれる）に曝され、これ
らの雰囲気中でフィラメント６からの輻射熱等によって
加熱されるので、周辺部品表面の不純物は水素化合物を
形成してその表面から離脱する。この水素化合物を形成
して離脱する分、単に真空雰囲気中で加熱する従来法よ
りも脱ガス量が多くなり、周辺部品のガス出し時間を、
即ちクリーニング時間を短縮することができる。At the same time as the cleaning of the filament 6, the peripheral parts of the filament 6 (that is, mainly the extraction electrode 10 and the shield electrode 8 in this example) include the hydrogen molecules constituting the introduced hydrogen gas 40 and the hydrogen plasma 4.
Active hydrogen ions and free hydrogen atoms H
* (This is also called hydrogen radicals) and is heated by radiant heat from the filament 6 in these atmospheres, so that impurities on the peripheral component surface form hydrogen compounds and are separated from the surface. As much as the hydrogen compound is formed and desorbed, the amount of degassing is larger than in the conventional method of simply heating in a vacuum atmosphere, and the degassing time of peripheral parts is reduced.
That is, the cleaning time can be reduced.
【００２５】しかも上記のようにしてフィラメント６お
よびその周辺部品のクリーニングを効果的に行うことに
よって、当該クリーニング後はそれらからの脱ガス量が
非常に少なくなるので、クリーニング後の電子線加速器
２の通常の（即ち電子線１２を引き出す）運転時におけ
る真空容器４内の真空度を短時間で良くすることも可能
になる。In addition, by effectively cleaning the filament 6 and its peripheral parts as described above, the amount of degassing from the filament 6 after cleaning is very small. It is also possible to improve the degree of vacuum in the vacuum vessel 4 during a normal operation (that is, when drawing out the electron beam 12) in a short time.
【００２６】なお、上記水素プラズマ４２の生成には、
上記引出し電源２６とは別の直流電源を設けてそれを用
いても良いけれども、この例のように電子線１２の引き
出し用に従来から備えられている引出し電源２６を用い
るのが好ましく、そのようにすれば新たな電源を追加し
なくて済む。The generation of the hydrogen plasma 42 includes:
Although a separate DC power supply may be provided and used in addition to the drawer power supply 26, it is preferable to use a drawer power supply 26 conventionally provided for drawing out the electron beam 12 as in this example. This eliminates the need to add a new power supply.
【００２７】[0027]
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、フィラ
メントと引出し電極との間に水素プラズマを生成して当
該水素プラズマ中に存在する活性の高い水素イオン等を
利用することができるので、フィラメントから融点の低
い不純物だけでなく炭素も効果的に除去することができ
る。その結果、フィラメント表面における炭化タングス
テンの生成を抑制して、炭化タングステンの生成に起因
するフィラメント特性の変化等を防止することができ
る。しかも、フィラメントおよびその周辺部品のガス出
し時間を短縮してそれらのクリーニングを短時間で行う
ことができる。As described above, according to the present invention, hydrogen plasma is generated between the filament and the extraction electrode, and highly active hydrogen ions and the like existing in the hydrogen plasma can be used. Carbon as well as low melting point impurities can be effectively removed from the filament. As a result, generation of tungsten carbide on the surface of the filament can be suppressed, and a change in filament characteristics and the like due to generation of tungsten carbide can be prevented. In addition, the time required for degassing the filament and its peripheral parts can be reduced, and the cleaning thereof can be performed in a short time.
【図１】この発明に係るクリーニング方法を実施する電
子線照射装置の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating an example of an electron beam irradiation apparatus that performs a cleaning method according to the present invention.
【図２】従来の電子線照射装置の一例を示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a conventional electron beam irradiation apparatus.
２ 電子線加速器 ４ 真空容器 ６ フィラメント ８ シールド電極 １０ 引出し電極 １２ 電子線 １４ 窓箔 ２０ 電源装置 ２６ 引出し電源 ３８ 水素ガス源 ４０ 水素ガス ４２ 水素プラズマ 2 electron beam accelerator 4 vacuum vessel 6 filament 8 shield electrode 10 extraction electrode 12 electron beam 14 window foil 20 power supply device 26 extraction power supply 38 hydrogen gas source 40 hydrogen gas 42 hydrogen plasma
Claims (1)
容器内に設けられたフィラメントと、このフィラメント
の近傍に設けられた引出し電極と、この引出し電極に対
向するように前記真空容器に取り付けられていて当該真
空容器の内外を分離する窓箔とを備え、前記フィラメン
トから引出し電極を通して引き出した電子線を窓箔を透
過させて真空容器外に引き出す構成の電子線加速器にお
いて、前記真空容器内を真空排気しながら当該真空容器
内に水素ガスを導入し、かつ前記フィラメントを通電加
熱すると共に当該フィラメントと前記引出し電極との間
に前者を負にして直流電圧を印加し、それによって前記
フィラメントと引出し電極との間で放電を生じさせて水
素プラズマを生成することを特徴とする電子線加速器の
クリーニング方法。1. A vacuum vessel which is evacuated to vacuum, a filament provided in the vacuum vessel, an extraction electrode provided in the vicinity of the filament, and attached to the vacuum vessel so as to face the extraction electrode. A window foil that separates the inside and outside of the vacuum vessel from the vacuum vessel, and wherein the electron beam extracted from the filament through an extraction electrode passes through the window foil and is drawn out of the vacuum vessel. Introducing hydrogen gas into the vacuum vessel while evacuating, and applying a direct current voltage between the filament and the extraction electrode by applying a direct current voltage between the filament and the extraction electrode, thereby applying a DC voltage to the filament. A method for cleaning an electron beam accelerator, wherein a discharge is generated between the electrode and an extraction electrode to generate hydrogen plasma.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1813698A JPH11202099A (en) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | Method for cleaning electron beam accelerator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1813698A JPH11202099A (en) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | Method for cleaning electron beam accelerator |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11202099A true JPH11202099A (en) | 1999-07-30 |
Family
ID=11963196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1813698A Pending JPH11202099A (en) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | Method for cleaning electron beam accelerator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11202099A (en) |
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| US9673042B2 (en) | 2015-09-01 | 2017-06-06 | Applied Materials, Inc. | Methods and apparatus for in-situ cleaning of copper surfaces and deposition and removal of self-assembled monolayers |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP1813698A patent/JPH11202099A/en active Pending
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