JPH1119788A - Laser beam machine - Google Patents

Laser beam machine

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JPH1119788A
JPH1119788A JP9188907A JP18890797A JPH1119788A JP H1119788 A JPH1119788 A JP H1119788A JP 9188907 A JP9188907 A JP 9188907A JP 18890797 A JP18890797 A JP 18890797A JP H1119788 A JPH1119788 A JP H1119788A
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JP
Japan
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shape
fuse
workpiece
laser
beam shape
Prior art date
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Application number
JP9188907A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiichi Hirose
恵一 広瀬
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication of JPH1119788A publication Critical patent/JPH1119788A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laser beam machine capable of precisely machining a work with a beam shape suitable to the shape of the work. SOLUTION: The laser beam machine 30, by which a work 7 is machined by being irradiated with a laser beam 1a, is equipped with a CCD camera 12 for picking up the image of the work 7, an image processor 15 for recognizing the planar shape of the work 7 from the image data, a data processor 14 for selecting from plural beam shapes one that is suitable to the work 7, and a variable aperture 3 for switching the beam shape to this selected one.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ加工装置に
係わり、特に、被加工物の形状に適したビーム形状によ
り、被加工物を的確に加工できるレーザ加工装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing apparatus, and more particularly to a laser processing apparatus capable of processing a workpiece accurately by using a beam shape suitable for the shape of the workpiece.

【0002】[0002]

【従来の技術】レーザ加工装置は、レーザ光源から放射
されたレーザビームを照射光学系を介して被加工物に照
射し、加工処理を行うものである。
2. Description of the Related Art A laser processing apparatus irradiates a workpiece with a laser beam emitted from a laser light source via an irradiation optical system to perform a processing process.

【0003】従来からこの種の装置は、半導体装置の回
路パターンに設けられたヒューズにレーザを照射し、配
線を切断することに良く用いられている。ヒューズと
は、レーザ加工の際に切断しやすい材質、形状のパター
ンにより回路内に設けられているものである。
Conventionally, this type of device is often used to irradiate a fuse provided on a circuit pattern of a semiconductor device with a laser beam to cut a wiring. The fuse is provided in the circuit by a pattern of a material and a shape that can be easily cut during laser processing.

【0004】従来のレーザ加工装置では、被加工物の形
状(ヒューズの平面形状)にかかわらず、1種類のビー
ム形状(ビームの平面形状)でステージ上の被加工物の
加工を行っていた。
[0004] In the conventional laser processing apparatus, the workpiece on the stage is processed with one type of beam shape (beam planar shape) regardless of the shape of the workpiece (fuse planar shape).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上記のように従来のレ
ーザ加工装置では、1種類のビーム形状で被加工物の加
工を行っているため、ビーム形状が被加工物の形状に合
っていない場合、加工後の被加工物に未加工の部分があ
ったり、目的以外の部分(加工しようとしている部分以
外の部分)を加工してしまうことがある。
As described above, in the conventional laser processing apparatus, since the workpiece is processed with one type of beam shape, when the beam shape does not match the shape of the workpiece. In some cases, an unprocessed portion may be present in the processed workpiece, or a portion other than the intended portion (a portion other than the portion to be processed) may be processed.

【0006】次に、1種類のビーム形状で被加工物の加
工を行った場合の問題を具体的に説明する。図4(a)
は、半導体基板上のヒューズ及びその上に従来のレーザ
加工装置によって照射されるビーム形状を示す平面図で
あり、図4(b)は、半導体基板上のヒューズ及びその
上に従来のレーザ加工装置によって照射される他のビー
ム形状を示す平面図である。
Next, the problem in the case of processing a workpiece with one type of beam shape will be specifically described. FIG. 4 (a)
FIG. 4B is a plan view showing a fuse on a semiconductor substrate and a beam shape irradiated on the fuse by a conventional laser processing apparatus. FIG. 4B is a plan view showing a fuse on the semiconductor substrate and a conventional laser processing apparatus on the fuse. FIG. 7 is a plan view showing another beam shape irradiated by the laser beam.

【0007】図4(a)に示すように、1種類のビーム
形状としてヒューズ16に対して小さいビーム形状17
を用いると、ヒューズ16を完全に加工することができ
ない。つまり、ヒューズ16に対してビーム形状17が
小さいと、ヒューズ16の切れ幅を十分に確保できず、
切断後のヒューズ16において電気的な絶縁抵抗を十分
に確保することができない。
[0007] As shown in FIG. 4 (a), a small beam shape 17
, The fuse 16 cannot be completely processed. That is, if the beam shape 17 is smaller than the fuse 16, the cut width of the fuse 16 cannot be sufficiently secured.
It is not possible to ensure sufficient electrical insulation resistance in the fuse 16 after cutting.

【0008】一方、図4(b)に示すように、1種類の
ビーム形状としてヒューズ18に対して大きいビーム形
状20を用いると、隣のヒューズ19の一部を加工して
しまうこととなる。
On the other hand, as shown in FIG. 4B, if a large beam shape 20 is used for the fuse 18 as one type of beam shape, a part of the adjacent fuse 19 will be processed.

【0009】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、被加工物の形状に適した
ビーム形状により、被加工物を的確に加工できるレーザ
加工装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a laser processing apparatus capable of accurately processing a workpiece by using a beam shape suitable for the shape of the workpiece. Is to do.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係るレーザ加工装置は、被加工物にレーザ
ビームを照射して加工するレーザ加工装置であって、こ
の被加工物を映した画像から該被加工物の形状を認識す
る認識手段と、この認識手段により認識した形状から被
加工物の加工に適したレーザビームの形状を選択する選
択手段と、この選択手段により選択された形状にレーザ
ビームを成形する成形手段と、を具備することを特徴と
する。また、上記選択手段においては、上記認識手段に
より認識した形状が縦長である場合は縦長のビーム形状
を選択し、該認識手段により認識した形状が横長である
場合は横長のビーム形状を選択するものであることが好
ましい。
In order to solve the above problems, a laser processing apparatus according to the present invention is a laser processing apparatus for irradiating a workpiece with a laser beam and processing the workpiece. Recognition means for recognizing the shape of the workpiece from the obtained image, selection means for selecting a laser beam shape suitable for processing the workpiece from the shape recognized by the recognition means, and selection means selected by the selection means. Shaping means for shaping the laser beam into a shape. The selecting means selects a vertically long beam shape when the shape recognized by the recognition means is vertically long, and selects a horizontally long beam shape when the shape recognized by the recognition means is horizontally long. It is preferred that

【0011】このレーザ加工装置では、認識手段により
被加工物の形状を画像認識し、この認識した形状から被
加工物の加工に適したレーザビームの形状を選択手段に
より選択し、この選択された形状にレーザビームを成形
手段により成形する。このため、被加工物の加工に適し
たビーム形状を自動的に選択し、そのビームを該被加工
物に照射することができる。従って、被加工物を的確に
加工することができる。
In this laser processing apparatus, the shape of the workpiece is image-recognized by the recognition means, and the shape of the laser beam suitable for processing the workpiece is selected from the recognized shape by the selection means. A laser beam is formed into a shape by a forming unit. Therefore, it is possible to automatically select a beam shape suitable for processing the workpiece and irradiate the beam to the workpiece. Therefore, the workpiece can be accurately processed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の
形態によるレーザ加工装置の構成を示す図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0013】レーザ加工装置30は制御部9を有し、こ
の制御部9は加工レーザ光源1、光量可変部2、可変ア
パーチャ3及びステージ8それぞれの制御を行うもので
ある。加工レーザ光源1は制御部9の制御に応じて加工
レーザ光1aを発信する。加工レーザ光源1から発信さ
れた加工レーザ光1aは、光量可変部2、ビームサイズ
とビーム形状可変のための可変アパーチャ3、ダイクロ
イックミラー4、ハーフミラー4a、対物レンズ6を順
に通り、ステージ8上に固定されている被加工物7に照
射される。これにより、被加工物7が加工される。尚、
ダイクロイックミラー4は入射されたレーザ光1aの大
部分を反射する。
The laser processing apparatus 30 has a control unit 9 for controlling each of the processing laser light source 1, the light quantity variable unit 2, the variable aperture 3, and the stage 8. The processing laser light source 1 emits the processing laser light 1a under the control of the control unit 9. The processing laser light 1a emitted from the processing laser light source 1 passes through the variable light amount unit 2, the variable aperture 3 for changing the beam size and the beam shape, the dichroic mirror 4, the half mirror 4a, and the objective lens 6 in this order, and passes on the stage 8. The work 7 is fixed to the workpiece 7. Thereby, the workpiece 7 is processed. still,
The dichroic mirror 4 reflects most of the incident laser light 1a.

【0014】光量可変部2には、偏光板が装備されてお
り、この偏光板をレーザ光の偏光面に対して回転させる
ことによりレーザ光量が調整される。また、可変アパー
チャ3は、制御部9からの指示に従い、加工レーザ光1
aのビームの大きさを変える、また、ビーム形状をヒュ
ーズ形状に適合したものに切り替える機能を有する。つ
まり、可変アパーチャ3は、ビームの大きさを変えて切
り替え可能な複数のビーム形状のうち最適な形状又は適
した形状を、制御部9からの指示に従い選択して切り替
えるようになっている。
The light amount variable section 2 is provided with a polarizing plate, and the amount of laser light is adjusted by rotating the polarizing plate with respect to the polarization plane of the laser light. In addition, the variable aperture 3 receives the processing laser light 1 according to an instruction from the control unit 9.
It has a function of changing the size of the beam a and switching the beam shape to a beam shape suitable for the fuse shape. In other words, the variable aperture 3 is configured to select and switch an optimal shape or an appropriate shape from a plurality of beam shapes that can be switched by changing the beam size in accordance with an instruction from the control unit 9.

【0015】ステージ8には制御部9によって駆動制御
される図示せぬ移動手段が設けられている。この移動手
段は、ステージ8をレーザビームに対して垂直方向又は
水平方向に移動可能とするとともに、所定の駆動軸を中
心として水平平面上で回転可能とするものである。従っ
て、被加工物7の移動、回転はステージ8を移動させる
ことにより行う。また、ステージ8には、ステージ8の
位置移動を検出する図示せぬ位置検出手段が設けられて
おり、この位置検出手段は制御部9により制御される。
The stage 8 is provided with moving means (not shown) which is driven and controlled by the control unit 9. This moving means enables the stage 8 to move in the vertical or horizontal direction with respect to the laser beam, and also allows the stage 8 to rotate on a horizontal plane about a predetermined drive shaft. Therefore, the movement and rotation of the workpiece 7 are performed by moving the stage 8. Further, the stage 8 is provided with position detecting means (not shown) for detecting the position movement of the stage 8, and this position detecting means is controlled by the control unit 9.

【0016】ステージ8の端部にはエネルギーメータ5
が置かれている。照射エネルギーの設定は以下のように
行う。まずステージ8上のエネルギーメータ5でエネル
ギーがモニターされ、制御部9は所定のエネルギーにな
るように光量可変部2を調整し照射エネルギーの設定が
行われる。また、加工中のエネルギーは光量センサ5a
でモニターされ、制御部9でエネルギー安定性等が測定
される。
An energy meter 5 is provided at an end of the stage 8.
Is placed. The irradiation energy is set as follows. First, the energy is monitored by the energy meter 5 on the stage 8, and the control unit 9 adjusts the light amount variable unit 2 so as to have a predetermined energy, and sets the irradiation energy. In addition, the energy during processing is measured by the light amount sensor 5a
And the controller 9 measures energy stability and the like.

【0017】また、レーザ加工装置30は、被加工物7
の加工状態を観察するための観察光源10を有してい
る。この観察光源10から出される観察光10aは、反
射ミラー11、ダイクロイックミラー4、ハーフミラー
4a、対物レンズ6を順に通り、被加工物7上に照射さ
れる。被加工物7からの反射光は、再び対物レンズ6、
ハーフミラー4a、ダイクロイックミラー4、反射ミラ
ー11を順に通って、CCD(Charge Coupled Device
)カメラ12に入射される。
Further, the laser processing device 30 is used to
Has an observation light source 10 for observing the processing state of. The observation light 10a emitted from the observation light source 10 passes through the reflection mirror 11, the dichroic mirror 4, the half mirror 4a, and the objective lens 6, and is irradiated onto the workpiece 7 in order. The reflected light from the workpiece 7 is again reflected by the objective lens 6,
The light passes through the half mirror 4a, the dichroic mirror 4, and the reflection mirror 11 in order, and passes through a CCD (Charge Coupled Device).
) Light is incident on the camera 12.

【0018】観察光源10はハロゲンランプ及び所定の
波長帯域のみを透過させる光フィルタを内蔵している。
ハロゲンランプから放出される光は光フィルタを介して
出射される。
The observation light source 10 incorporates a halogen lamp and an optical filter that transmits only a predetermined wavelength band.
Light emitted from the halogen lamp is emitted through an optical filter.

【0019】CCDカメラ12は、被加工物7からの反
射光を画像信号に変換する。この変換された画像データ
(画像信号)は画像処理部15に送られる。この画像処
理部15は、CCDカメラ12から入力された画像デー
タをもとに画像パターンを認識し、その結果はデータ処
理部14に送信される。また、画像処理部15は、当該
画像データをTVモニター13に出力する。TVモニタ
ー13は、画像処理部15から出力された画像信号を表
示出力するようになっている。また、データ処理部14
はヒューズテーブルファイルを有しており、このヒュー
ズテーブルファイルには被加工物7であるヒューズの位
置がヒューズ座標としてあらかじめ登録されている。
The CCD camera 12 converts light reflected from the workpiece 7 into an image signal. The converted image data (image signal) is sent to the image processing unit 15. The image processing unit 15 recognizes an image pattern based on the image data input from the CCD camera 12, and the result is transmitted to the data processing unit 14. Further, the image processing unit 15 outputs the image data to the TV monitor 13. The TV monitor 13 displays and outputs an image signal output from the image processing unit 15. The data processing unit 14
Has a fuse table file. In this fuse table file, the position of the fuse as the workpiece 7 is registered in advance as fuse coordinates.

【0020】次に、上述したレーザ加工装置30におけ
るビーム形状の選択及び加工の手順を説明する。
Next, the procedure for selecting and processing the beam shape in the laser processing apparatus 30 will be described.

【0021】図2は、レーザ加工装置におけるビーム形
状選択及び加工の手順を示すフローチャートである。図
3(a)は、半導体基板上の縦長ヒューズ21及びその
上に図1に示すレーザ加工装置によって照射されるビー
ム形状22を示す平面図であり、図3(b)は、半導体
基板上の横長ヒューズ23及びその上に図1に示すレー
ザ加工装置によって照射されるビーム形状24を示す平
面図である。
FIG. 2 is a flowchart showing the procedure of beam shape selection and processing in the laser processing apparatus. FIG. 3A is a plan view showing a vertically long fuse 21 on a semiconductor substrate and a beam shape 22 irradiated thereon by the laser processing apparatus shown in FIG. 1, and FIG. FIG. 2 is a plan view showing a horizontally long fuse 23 and a beam shape 24 irradiated thereon by the laser processing apparatus shown in FIG. 1.

【0022】先ず、図2に示すように、ヒューズテーブ
ルファイル内のヒューズ座標を読み込む。すなわち、ヒ
ューズテーブルファイル内のデータ(あらかじめ登録さ
れているヒューズ座標)がデータ処理部14から制御部
9に送られる。
First, as shown in FIG. 2, the fuse coordinates in the fuse table file are read. That is, data (fuse coordinates registered in advance) in the fuse table file is sent from the data processing unit 14 to the control unit 9.

【0023】この後、ステージをヒューズ座標に移動し
て、その画像を取り込んで、画像の形状を認識する。す
なわち、制御部9がヒューズ座標をもとに移動手段を駆
動制御することにより、ヒューズ加工の前に、加工する
ヒューズがレーザの光軸に位置するようにステージ8を
移動させる。そして、そのヒューズを映した画像をCC
Dカメラ12で取り込み、その画像データを画像処理部
15において処理することにより、ヒューズの平面形状
を認識する。
Thereafter, the stage is moved to the fuse coordinates, the image is captured, and the shape of the image is recognized. That is, the control unit 9 drives and controls the moving unit based on the fuse coordinates, so that the stage 8 is moved before the fuse processing so that the fuse to be processed is located on the optical axis of the laser. Then, the image showing the fuse is CC
The plane shape of the fuse is recognized by capturing the image data with the D camera 12 and processing the image data in the image processing unit 15.

【0024】次に、ヒューズ形状に合ったビーム形状を
選択して、その情報をヒューズテーブルファイルに書き
込む。すなわち、画像処理部15で認識したヒューズの
平面形状が図3(a)に示すような縦長ヒューズ21で
ある場合は、ヒューズ21の向きに適した縦長の長方形
のビーム形状22を選択し、その情報がヒューズテーブ
ルファイルに記録される。また、画像処理部15で認識
したヒューズの平面形状が図3(b)に示すような横長
ヒューズ23である場合は、ヒューズ23の向きに適し
た横長の長方形のビーム形状24を選択し、その情報が
ヒューズテーブルファイルに記録される。
Next, a beam shape corresponding to the fuse shape is selected, and the information is written in a fuse table file. That is, when the planar shape of the fuse recognized by the image processing unit 15 is a vertically long fuse 21 as shown in FIG. 3A, a vertically long rectangular beam shape 22 suitable for the direction of the fuse 21 is selected. The information is recorded in the fuse table file. If the fuse has a horizontally elongated fuse 23 as shown in FIG. 3B, the horizontally elongated rectangular beam shape 24 suitable for the direction of the fuse 23 is selected. The information is recorded in the fuse table file.

【0025】以上のような手順を繰り返すことにより、
半導体基板上の各ヒューズに対するビーム形状が選択さ
れ、その情報がヒューズテーブルファイルに記録され
る。
By repeating the above procedure,
A beam shape for each fuse on the semiconductor substrate is selected, and the information is recorded in a fuse table file.

【0026】この後、ヒューズ加工を始める。加工すべ
きヒューズが書かれているヒューズデータファイルと、
ヒューズ座標とビーム形状が書かれているヒューズテー
ブルファイルから、ヒューズの座標とビーム形状を決定
する。
Thereafter, fuse processing is started. A fuse data file containing the fuses to be machined,
The fuse coordinates and the beam shape are determined from the fuse table file in which the fuse coordinates and the beam shape are written.

【0027】次に、レーザ光1aが上記決定したビーム
形状になるように制御部9によって可変アパーチャ3を
切り替える。加工するヒューズが上記決定したヒューズ
座標に位置するようにステージ8を移動させる。そし
て、レーザを照射してヒューズを加工する。
Next, the variable aperture 3 is switched by the control unit 9 so that the laser beam 1a has the determined beam shape. The stage 8 is moved so that the fuse to be processed is located at the determined fuse coordinates. Then, the laser is irradiated to process the fuse.

【0028】上記実施の形態によれば、ヒューズがレー
ザの光軸に位置するようにステージ8を移動手段により
移動させ、そのヒューズの画像をCCDカメラ12で取
り込み、その画像データから画像処理部15によりヒュ
ーズの平面形状を認識し、複数のビーム形状のうちから
そのヒューズ形状に適したビーム形状をデータ処理部1
4で選択する。そして、ビーム形状を可変アパーチャ3
で被加工物であるヒューズの形状に適した形状に切り替
え、そのレーザビームによりそのヒューズを加工してい
る。従って、加工後のヒューズに未加工の部分が生じた
り、目的以外の部分を加工してしまうことがなく、ヒュ
ーズを的確に加工することができる。
According to the above embodiment, the stage 8 is moved by the moving means so that the fuse is positioned on the optical axis of the laser, the image of the fuse is captured by the CCD camera 12, and the image processing unit 15 is obtained from the image data. Recognizes the planar shape of the fuse, and determines a beam shape suitable for the fuse shape from the plurality of beam shapes by the data processing unit 1.
Select with 4. Then, the beam shape is changed by an aperture 3
Then, the shape is changed to a shape suitable for the shape of the fuse as the workpiece, and the fuse is processed by the laser beam. Therefore, the unprocessed portion does not occur in the processed fuse or a portion other than the intended portion is not processed, so that the fuse can be accurately processed.

【0029】また、被加工物7の形状を画像認識するこ
とによりビーム形状を決定するため、オペレータ操作を
少なくすることができる。
Further, since the beam shape is determined by recognizing the shape of the workpiece 7 by image recognition, the number of operator operations can be reduced.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、被
加工物の形状に適したビーム形状により、被加工物を的
確に加工できるレーザ加工装置を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a laser processing apparatus capable of accurately processing a workpiece with a beam shape suitable for the shape of the workpiece.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態によるレーザ加工装置の構
成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】レーザ加工装置におけるビーム形状選択及び加
工の手順を示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing a procedure of beam shape selection and processing in the laser processing apparatus.

【図3】図3(a)は、半導体基板上の縦長ヒューズ及
びその上に図1に示すレーザ加工装置によって照射され
るビーム形状を示す平面図であり、図3(b)は、半導
体基板上の横長ヒューズ及びその上に図1に示すレーザ
加工装置によって照射されるビーム形状を示す平面図で
ある。
3A is a plan view showing a vertically long fuse on a semiconductor substrate and a beam shape irradiated thereon by the laser processing apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3B is a plan view showing the semiconductor substrate; FIG. 2 is a plan view showing an upper oblong fuse and a beam shape irradiated thereon by the laser processing apparatus shown in FIG. 1.

【図4】図4(a)は、半導体基板上のヒューズ及びそ
の上に従来のレーザ加工装置によって照射されるビーム
形状を示す平面図であり、図4(b)は、半導体基板上
のヒューズ及びその上に従来のレーザ加工装置によって
照射される他のビーム形状を示す平面図である。
FIG. 4A is a plan view showing a fuse on a semiconductor substrate and a beam shape irradiated thereon by a conventional laser processing apparatus, and FIG. 4B is a view showing a fuse on the semiconductor substrate. FIG. 11 is a plan view showing another beam shape irradiated thereon by a conventional laser processing apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…加工レーザ光源 1a…加工レーザ
光 2…光量可変部 3…可変アパーチ
ャ 4…ダイクロイックミラー 4a…ハーフミラ
ー 5…エネルギーメータ 5a…光量センサ 6…対物レンズ 7…被加工物 8…ステージ 9…制御部 10…観察光源 11…反射ミラー 12…CCDカメラ 13…TVモニタ
ー 14…データ処理部 15…画像処理部 16…ヒューズ 17…ビーム形状 18…ヒューズ 19…ヒューズ 20…ビーム形状 21…縦長ヒュー
ズ 22…ビーム形状 23…横長ヒュー
ズ 24…ビーム形状 30…レーザ加工
装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing laser light source 1a ... Processing laser light 2 ... Light amount variable part 3 ... Variable aperture 4 ... Dichroic mirror 4a ... Half mirror 5 ... Energy meter 5a ... Light amount sensor 6 ... Objective lens 7 ... Workpiece 8 ... Stage 9 ... Control Unit 10: Observation light source 11: Reflecting mirror 12: CCD camera 13: TV monitor 14: Data processing unit 15: Image processing unit 16: Fuse 17: Beam shape 18: Fuse 19 ... Fuse 20 ... Beam shape 21: Vertical fuse 22 ... Beam shape 23 ... Horizontal fuse 24 ... Beam shape 30 ... Laser processing equipment

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被加工物にレーザビームを照射して加工
するレーザ加工装置であって;この被加工物を映した画
像から該被加工物の形状を認識する認識手段と、 この認識手段により認識した形状から被加工物の加工に
適したレーザビームの形状を選択する選択手段と、 この選択手段により選択された形状にレーザビームを成
形する成形手段と、 を具備することを特徴とするレーザ加工装置。
1. A laser processing apparatus for processing a workpiece by irradiating a laser beam to the workpiece; a recognizing means for recognizing a shape of the workpiece from an image reflecting the workpiece; A laser comprising: a selecting unit that selects a shape of a laser beam suitable for processing a workpiece from a recognized shape; and a forming unit that shapes the laser beam into a shape selected by the selecting unit. Processing equipment.
【請求項2】 上記選択手段においては、上記認識手段
により認識した形状が縦長である場合は縦長のビーム形
状を選択し、該認識手段により認識した形状が横長であ
る場合は横長のビーム形状を選択するものであることを
特徴とする請求項1記載のレーザ加工装置。
2. The method according to claim 1, wherein the selecting means selects a vertically long beam shape when the shape recognized by the recognition means is vertically long, and selects a horizontally long beam shape when the shape recognized by the recognition means is horizontally long. 2. The laser processing apparatus according to claim 1, wherein the laser processing apparatus is selected.
JP9188907A 1997-07-01 1997-07-01 Laser beam machine Pending JPH1119788A (en)

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JP (1) JPH1119788A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002273583A (en) * 2001-03-19 2002-09-25 Inst Of Physical & Chemical Res Machining device for transparent medium
JP2005268473A (en) * 2004-03-18 2005-09-29 Ricoh Microelectronics Co Ltd Manufacturing method of member for extension boards
JP2010240665A (en) * 2009-04-01 2010-10-28 Hitachi High-Technologies Corp Method and apparatus for inspecting laser beam state and method for manufacturing solar panel
US8049135B2 (en) * 2004-06-18 2011-11-01 Electro Scientific Industries, Inc. Systems and methods for alignment of laser beam(s) for semiconductor link processing
KR20220018980A (en) 2019-06-17 2022-02-15 토레이 엔지니어링 컴퍼니, 리미티드 Laser processing apparatus and method, chip transfer apparatus and method

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