JPH11181308A - High damping material composition - Google Patents

High damping material composition

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JPH11181308A
JPH11181308A JP9365328A JP36532897A JPH11181308A JP H11181308 A JPH11181308 A JP H11181308A JP 9365328 A JP9365328 A JP 9365328A JP 36532897 A JP36532897 A JP 36532897A JP H11181308 A JPH11181308 A JP H11181308A
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rubber
material composition
benzotriazole
bis
methyl
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利之 三原
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馳飛 呉
Kazunobu Hashimoto
和信 橋本
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Sumitomo Riko Co Ltd
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Sumitomo Riko Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high damping material composition capable of showing a high tan δ for a long time. SOLUTION: This composition is prepared by compounding, as a damping additive, a basic substance having not less than two bases selected from among a secondary amine, a tertiary amine, and a nitrogen contg. heterocyclic in a molecule, and, at need an acidic substance having regulating function of its basicity, into a base polymer having a polar side chain such as chlorinated polyethylene, etc., and compounding a nonionic surfactant, e.g. a polyethylene glycol, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高減衰材料組成物
に関し、さらに詳しくは、音響ルームの遮音壁、建築構
造体の遮音間仕切、車両の防音壁等に適用される振動や
騒音を吸収する制振材・防音材としての高減衰材料組成
物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-attenuation material composition, and more particularly, to a vibration-absorbing or sound-absorbing material applied to a sound insulation wall of an acoustic room, a sound insulation partition of a building structure, a sound insulation wall of a vehicle, and the like. The present invention relates to a high damping material composition as a vibration material and a soundproofing material.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の高減衰材料組成物としての高分
子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するものであり、
その材料微小部が何等かの原因で振動すると、夫々の材
料微小部に、複素正弦歪(ε*)が発生し、これにより
複素正弦応力(σ*)が発生する。複素弾性係数
(E*)は、次式に示したように、これらの比をとった
ものである。 複素弾性係数(E*)=複素正弦応力(σ*)/複素正弦
歪(ε*
2. Description of the Related Art A polymer material as a high damping material composition of this type exhibits a typical viscoelastic behavior.
When the material minute portion vibrates for some reason, a complex sinusoidal strain (ε * ) is generated in each material minute portion, thereby generating a complex sinusoidal stress (σ * ). Complex elastic modulus
(E * ) is the ratio of these as shown in the following equation. Complex modulus of elasticity (E * ) = complex sinusoidal stress (σ * ) / complex sinusoidal strain (ε * )

【0003】この複素弾性係数 (E*)の実数部は、材
料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数(E’)と定義さ
れ、その虚数部は、材料の粘性的な性質に係る損失弾性
係数(E”)と定義される。損失正接(tanδ)は、
次式に示したように、これらの比をとったものである。 損失正接(tanδ)=損失弾性係数(E”)/貯蔵弾
性係数(E’)
The real part of this complex elastic modulus (E * ) is defined as the storage elastic modulus (E ') relating to the elastic properties of the material, and the imaginary part thereof is the loss elasticity relating to the viscous properties of the material. The loss tangent (tan δ) is defined as the coefficient (E ″).
As shown in the following equation, these ratios are obtained. Loss tangent (tan δ) = loss elastic modulus (E ″) / storage elastic modulus (E ′)

【0004】この損失正接(以下、単に「tanδ」と
する)は、防音・制振特性を決定する因子の一つであ
り、この値が高いほど力学的エネルギーを電気あるいは
熱エネルギーとして吸収・放出して、優れた吸音性や制
振性等の機械特性を示すことが知られている。従来、高
減衰材料組成物のtanδとして求められる値は、0.
5以上である。
The loss tangent (hereinafter simply referred to as “tan δ”) is one of the factors that determine soundproofing / damping characteristics. The higher this value, the more the mechanical energy is absorbed or released as electric or thermal energy. Thus, it is known to exhibit mechanical properties such as excellent sound absorbing properties and vibration damping properties. Conventionally, the value determined as tan δ of a high attenuation material composition is 0.1.
5 or more.

【0005】この従来の要求特性を満たした高減衰材料
組成物として、例えば、高分子系複合材料が知られてい
る。この高分子系複合材料は、ポリマーアロイ或いは高
分子網目構造(IPN技術)を有する高分子化合物をベ
ースポリマーとしており、これに充填剤(マイカ剤等)
や可塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたもの
である。この高分子系複合材料のtanδの値は、ベー
スポリマーとして各種ゴム材料を用いた場合は、0.3
〜1.0程度、高分子樹脂材料を用いた場合は、1.0
〜2.0程度である。
As a high attenuation material composition satisfying the conventional required characteristics, for example, a polymer composite material is known. This polymer-based composite material uses a polymer alloy or a polymer compound having a polymer network structure (IPN technology) as a base polymer, and a filler (mica agent, etc.)
And a plasticizer added thereto and obtained through a predetermined manufacturing process. The value of tan δ of this polymer composite material was 0.3 when various rubber materials were used as the base polymer.
About 1.0, and about 1.0 when a polymer resin material is used.
About 2.0.

【0006】また、本出願人は、上記した要求特性を満
たしたtanδを発現する高減衰材料組成物として、極
性側鎖を有するベースポリマーである塩素化ポリエチレ
ンに、各種塩基性物質、例えばN,N−ジシクロヘキシ
ルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド等を配合し、
これに熱処理及び成形加工等を施して得られる材料を既
に提案している。これらの材料の中に、tanδが2.
0を超えているものもある。
[0006] The present applicant has also proposed, as a high attenuation material composition exhibiting tan δ satisfying the above-mentioned required characteristics, chlorinated polyethylene which is a base polymer having a polar side chain, various basic substances such as N, Compounding N-dicyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide and the like,
A material obtained by subjecting this to heat treatment and molding has already been proposed. Among these materials, tan δ is 2.
Some are above zero.

【0007】これらの高減衰組成物は、一般に経時変化
によりそのtanδが低下するが、本出願人は、極性側
鎖を有するベースポリマーである塩素化ポリエチレン
に、各種塩基性物質、例えばN−シクロヘキシルベンゾ
チアジル−2−スルフェンアミド等を配合し、更に1,
2,3−ベンゾトリアゾール等の酸性物質を配合し、所
定の工程を経て得られる材料を提案している。これらの
材料の中には、その低下率が10%以下のものもある。
[0007] These high attenuation compositions generally have their tan δ lowered with the passage of time. However, the present applicant has added various basic substances such as N-cyclohexyl to chlorinated polyethylene which is a base polymer having a polar side chain. Benzothiazyl-2-sulfenamide and the like,
A material obtained by mixing an acidic substance such as 2,3-benzotriazole and passing through a predetermined process has been proposed. Some of these materials have a reduction rate of 10% or less.

【0008】また、経時変化を抑える方法として材料の
表面に拘束層を設けてブリード現象等を抑える方法が特
願平9−215746号に開示されている。
Japanese Patent Application No. 9-215746 discloses a method of suppressing aging by providing a constraining layer on the surface of a material as a method of suppressing aging.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た塩素化ポリエチレン等のベースポリマーに、N,N−
ジシクロヘキシルベンゾチアジル−2−スルフェンアミ
ド等の塩基性物質を配合した材料は成形直後のtanδ
は非常に高いが、その値が経時変化により低下してしま
う。
However, N, N-
A material containing a basic substance such as dicyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide is tan δ immediately after molding.
Is very high, but its value decreases due to aging.

【0010】その理由としては、配合した塩基性物質が
粉末状の物質である場合は、経時変化により結晶化して
しまい、配合した塩基性物質が液状の物質である場合
は、経時変化によりドメインを形成して、分散性を悪く
したり、拡散してブルーム現象を起こしたりしてしまう
等のことが考えられる。
[0010] The reason is that if the compounded basic substance is a powdery substance, it will crystallize over time, and if the compounded basic substance is a liquid substance, the domain will be changed over time. It is conceivable that they are formed to deteriorate the dispersibility, or to diffuse to cause a bloom phenomenon.

【0011】また、上記した塩素化ポリエチレン等のベ
ースポリマーに、N−シクロヘキシルベンゾチアジル−
2−スルフェンアミドの塩基性物質を配合し、更に1,
2,3−ベンゾトリアゾール等の酸性物質を配合したも
のは、経時変化は少ないものの、元のtanδがあまり
高くないことから高い減衰性を発揮できない。
Further, N-cyclohexylbenzothiazyl- is added to the above-mentioned base polymer such as chlorinated polyethylene.
A basic substance of 2-sulfenamide is blended, and
A compound containing an acidic substance such as 2,3-benzotriazole has a small change with time, but cannot exhibit high attenuation since the original tan δ is not so high.

【0012】更に減衰材料の表面に拘束層を設けること
は、要求特性をかろうじて満たす程度のtanδを示す
材料の経時変化を抑えることには、ある程度効果がある
ものの、非常に高いtanδを示す材料の経時変化を抑
えることには、あまり効果はない。
Further, the provision of the constraining layer on the surface of the damping material is effective to some extent in suppressing the temporal change of the material exhibiting tan δ that barely satisfies the required characteristics. It is not very effective in suppressing aging.

【0013】高分子材料の表面では末端が濃縮されるた
めに分子運動が活発になり、そこに分散された低分子が
他のところに比べ一番結晶しやすく、そこに先にできた
結晶あるいは結晶の核が更に成長していく。よって表面
に拘束層を設ければ、経時変化をある程度は抑えられ
る。しかし拘束されていない部分から結晶ができてしま
うために、実際には経時変化を遅らせるだけの効果しか
ないので、その基本的な材料組成が変わっていない以
上、いずれ経時変化が起こってしまうことに代わりはな
い。つまり、拘束層を設ける以外に、根本的な材料組成
を見直す必要がある。
On the surface of the polymer material, molecular motion becomes active because the ends are concentrated, and the low molecules dispersed therein are easier to crystallize than other places, and the crystal or the crystal formed first is formed. Crystal nuclei continue to grow. Therefore, if a constraining layer is provided on the surface, a change with time can be suppressed to some extent. However, since crystals are formed from the unconstrained parts, there is actually only an effect of delaying the change over time, so as long as the basic material composition has not changed, the change over time will eventually occur There is no substitute. That is, it is necessary to review the fundamental material composition in addition to providing the constraining layer.

【0014】本発明の解決しようとする課題は、極性側
鎖を有するベースポリマーに塩基性物質及び必要に応じ
て酸性物質を配合した減衰材料の配合成分の分散性を良
くし、長期にわたって高いtanδを発現することがで
きる高減衰材料組成物を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to improve the dispersibility of the components of the damping material in which a basic substance and, if necessary, an acidic substance are blended in a base polymer having a polar side chain, and to provide a high tan δ for a long time. It is an object of the present invention to provide a high attenuation material composition capable of exhibiting the following.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の高減衰材料組成物は、極性側鎖を有するベー
スポリマーに、第2級アミン、第3級アミン及び含窒素
複素環より選ばれた塩基を1分子中に2個以上含む塩基
性物質と必要に応じて酸性物質を配合し、これに界面活
性剤を配合したことを要旨とするものである。
In order to solve this problem, a high attenuation material composition of the present invention comprises a base polymer having a polar side chain comprising a secondary amine, a tertiary amine and a nitrogen-containing heterocycle. The gist is that a basic substance containing two or more selected bases in one molecule and, if necessary, an acidic substance, and a surfactant are added thereto.

【0016】「極性側鎖を有するベースポリマー」とし
ては、ゴム、熱可塑性エラストマー、あるいは、樹脂等
が好適なものとして挙げられる。この場合に、「ゴム材
料」としては、天然ゴム、変性天然ゴム、グラフト天然
ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、スチレン−ブタ
ジエンゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリル−ブ
タジエンゴム、カルボキシル化ニトリルゴム、ニトリル
ゴム/塩化ビニル樹脂ブレンド、ニトリルゴム/EPD
Mゴムブレンド、ブチルゴム、臭素化ブチルゴム、塩素
化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴム、アクリルゴ
ム、エチレン−アクリルゴム、クロロスルホン化ポリエ
チレン、塩素化ポリエチレン、エピクロルヒドリンゴ
ム、エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチ
ルシリコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニ
ル−メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、フッ素
ゴム等が好適なものとして挙げられる。
Preferred examples of the "base polymer having a polar side chain" include rubber, thermoplastic elastomer, and resin. In this case, as the "rubber material", natural rubber, modified natural rubber, grafted natural rubber, cyclized natural rubber, chlorinated natural rubber, styrene-butadiene rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, Nitrile rubber / vinyl chloride resin blend, nitrile rubber / EPD
M rubber blend, butyl rubber, brominated butyl rubber, chlorinated butyl rubber, ethylene-vinyl acetate rubber, acrylic rubber, ethylene-acryl rubber, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated polyethylene, epichlorohydrin rubber, epichlorohydrin-ethylene oxide rubber, methyl silicone rubber, vinyl Suitable examples include methyl silicone rubber, phenyl-methyl silicone rubber, silicon fluoride rubber, and fluorine rubber.

【0017】また、「熱可塑性エラストマー材料」とし
ては、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化
ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可
塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマ
ー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド
系熱可塑性エラストマーが好適なものとして挙げられ
る。
The "thermoplastic elastomer material" includes polystyrene-based thermoplastic elastomer, polyvinyl chloride-based thermoplastic elastomer, polyolefin-based thermoplastic elastomer, polyurethane-based thermoplastic elastomer, polyester-based thermoplastic elastomer, and polyamide-based thermoplastic elastomer. Elastomers are preferred.

【0018】更に、「樹脂材料」としては、ポリ塩化ビ
ニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリルニトリル、ポ
リメチルメタアクリレート、スチレン・アクリルニトリ
ル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン
三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・塩ビグ
ラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチレン・
ビニルアルコール、塩素化塩化ビニル等が好適なものと
して挙げられる。
Further, the "resin material" includes polyvinyl chloride, chlorinated polypropylene, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyacrylonitrile, polymethyl methacrylate, and styrene. Acrylonitrile copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acryl-vinyl chloride graft copolymer, ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene
Suitable examples include vinyl alcohol and chlorinated vinyl chloride.

【0019】一方、「塩基性物質」としては、第2級ア
ミン、第3級アミン及び含窒素複素環より選ばれた塩基
を1分子中に2個以上含む塩基性物質、例えばスルフェ
ンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添
加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加
剤、ジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔料、ピリジン系
添加剤、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、ウレ
タン触媒、イソシアヌル酸誘導物、ヒンダードアミン系
添加剤等が好適なものとして挙げられる。
On the other hand, the "basic substance" includes a basic substance containing two or more bases selected from a secondary amine, a tertiary amine and a nitrogen-containing heterocyclic ring in one molecule, for example, a sulfenamide-based substance. Additives, thiazole additives, thiuram additives, guanidine additives, benzotriazole additives, dithiocarbamate additives, pigments, pyridine additives, lubricating oil additives, epoxy resin curing accelerators, urethane Suitable examples include a catalyst, an isocyanuric acid derivative, a hindered amine-based additive, and the like.

【0020】この場合に、「スルフェンアミド系添加
剤」としては、N−シクロヘキシルベンゾチアジル−2
−スルフェンアミド、N−tert−ブチルベンゾチア
ジル−2−スルフェンアミド、N−オキシジエチレンベ
ンゾチアジル−2−スルフェンアミド、N,N−ジシク
ロヘキシルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド等が
好適なものとして挙げられる。
In this case, the "sulfenamide-based additive" includes N-cyclohexylbenzothiazyl-2
-Sulfenamide, N-tert-butylbenzothiazyl-2-sulfenamide, N-oxydiethylenebenzothiazyl-2-sulfenamide, N, N-dicyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide and the like. It is mentioned as a suitable thing.

【0021】「チアゾール系添加剤」としては、2−
(N,N−ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチア
ゾール、2−(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾ
ール等が好適なものとして挙げられるほか、「チウラム
系添加剤」としては、テトラエチルチウラムジスルフィ
ド、テトラブチルチウラムジスルフィド等が好適なもの
として挙げられる。「グアニジン系添加剤」としては、
1,3−ジフェニルグアニジン、ジ−O−トリルグアニ
ジン等が好適なものとして挙げられる。
Examples of the "thiazole-based additive" include 2-
Suitable examples include (N, N-diethylthiocarbamoylthio) benzothiazole, 2- (4′-morpholinodithio) benzothiazole and the like, and “thiuram-based additives” include tetraethylthiuram disulfide, tetrabutylthiuram Disulfide and the like are preferred. As the “guanidine-based additive”,
Suitable examples include 1,3-diphenylguanidine and di-O-tolylguanidine.

【0022】また、「ベンゾトリアゾール系添加剤」と
しては、紫外線吸収剤である2−(2−ヒドロキシ−3
−(3,4,5,6−テトラ−ヒドロフタルイミド−メ
チル)−5−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、
防錆剤である1−[N,N−ビス(2−エチル−ヘキシ
ル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、(1,2,3
−ベンゾトリアゾリル−1−メチル)(1,2,4−ト
リアゾリル−1−メチル)−2−エチルヘキシルアミ
ン、N,N’−ビス(ベンゾトリアゾリルメチル)−ジ
アミノヘキサン、光安定剤である2,2’−メチレンビ
ス{4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6
−6[(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニ
ル]}、N,N−ビス(ベンゾトリアゾールメチル)−
2エチルヘキシルアミン、N,N−ビス(ベンゾトリア
ゾールメチル)−ラウリルアミン、1−(2−エチルヘ
キシルアミノメチル)−ベンゾトリアゾール、1−(ラ
ウリルアミノメチル)−ベンゾトリアゾール、1−(モ
ルホリノメチル)−ベンゾトリアゾール等が好適なもの
として挙げられる。
The "benzotriazole-based additive" includes an ultraviolet absorber, 2- (2-hydroxy-3).
-(3,4,5,6-tetra-hydrophthalimido-methyl) -5-methylphenyl) -benzotriazole,
1- [N, N-bis (2-ethyl-hexyl) aminomethyl] benzotriazole, which is a rust inhibitor, (1,2,3
-Benzotriazolyl-1-methyl) (1,2,4-triazolyl-1-methyl) -2-ethylhexylamine, N, N'-bis (benzotriazolylmethyl) -diaminohexane, light stabilizer Certain 2,2'-methylenebis {4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6
-6 [(2H-benzotriazol-2-yl) phenyl]}, N, N-bis (benzotriazolemethyl)-
2-ethylhexylamine, N, N-bis (benzotriazolemethyl) -laurylamine, 1- (2-ethylhexylaminomethyl) -benzotriazole, 1- (laurylaminomethyl) -benzotriazole, 1- (morpholinomethyl) -benzo Suitable examples include triazole.

【0023】「ジチオカルバミン酸塩系添加剤」として
は、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオ
カルバミン酸テルル等が好適なものとして挙げられるほ
か、「顔料」としては、4,4’,4”−トリスジメチ
ルアミノトリフェニルメタン、2,2’−(1,2−エ
ーテンジイル)ビス(5−メチルベンゾオキサゾール)
とジシクロヘキシルフタレート等が好適なものとして挙
げられ、「ピリジン系添加剤」としては、2,2−ジチ
オジオイリジンのブレンド等が好適なものとして挙げら
れる。
Suitable examples of the "dithiocarbamate-based additive" include zinc dibutyldithiocarbamate, tellurium diethyldithiocarbamate, and the like, and "pigments" include 4,4 ', 4 "-trisdimethylamino acid. Triphenylmethane, 2,2 '-(1,2-ethenediyl) bis (5-methylbenzoxazole)
And dicyclohexyl phthalate are preferred. As the “pyridine additive”, a blend of 2,2-dithiodioiridine is preferred.

【0024】「潤滑油添加剤」としては、メチレンビス
(ジブチルジチオカルバメート)「エポキシ樹脂硬化促
進剤」としては、2,4,6−トリ(ジメチルアミノメ
チル)フェノールが、それぞれ好適なものとして挙げら
れる。
Preferred examples of the "lubricating oil additive" include methylene bis (dibutyldithiocarbamate) and the preferred epoxy resin curing accelerator includes 2,4,6-tri (dimethylaminomethyl) phenol. .

【0025】更にまた、「ウレタン触媒」としては、ジ
モルホリンエーテル、N,N’,N”−トリス(ジメチ
ルアミノプロピル)ヘキサヒドロ−S−トリアジン、
N,N,N−トリス(3−ジメチルアミノプロピル)ア
ミン、N−メチル−N,N−ビス(3−ジメチルアミノ
プロピル)アミン等が好適なものとして挙げられる。
Furthermore, the "urethane catalyst" includes dimorpholine ether, N, N ', N "-tris (dimethylaminopropyl) hexahydro-S-triazine,
Suitable examples include N, N, N-tris (3-dimethylaminopropyl) amine, N-methyl-N, N-bis (3-dimethylaminopropyl) amine and the like.

【0026】「イソシアヌル酸誘導物」としては、不飽
和樹脂架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート、トリ
ス−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリ
メタアリルイソシアヌレート、トリス−(2,3−ジブ
ロモプロピル)イソシアヌレート等が好適なものとして
挙げられる。「ヒンダードアミン系添加剤」としては、
1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ビペリジル/
トリデシル1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレ
ート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールとβ,
β,β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,
8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン)
ジエタノールとの縮合物等が好適なものとして挙げられ
る。
Examples of the "isocyanuric acid derivative" include triallyl isocyanurate, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, trimethallyl isocyanurate, and tris- (2,3-dibromopropyl) which are unsaturated resin crosslinking agents. ) Isocyanurate and the like. As the "hindered amine-based additive",
1,2,2,6,6-pentamethyl-4-biperidyl /
Tridecyl 1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 2,
2,6,6-tetramethyl-4-piperidinol and β,
β, β ′, β′-tetramethyl-3,9- (2,4,
8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane)
Preferred examples include condensates with diethanol.

【0027】「酸性物質」としては、上記塩基性物質の
塩基性度を調節できるものであれば、酸性無機化合物、
酸性有機化合物のどちらでも適用できる。本発明では、
特に性能が確認されたチアゾール系の酸性有機化合物2
−メルカプトベンゾチアゾールが好適なものとして挙げ
られる。
As the “acidic substance”, an acidic inorganic compound, as long as the basicity of the basic substance can be adjusted,
Both acidic organic compounds can be applied. In the present invention,
Thiazole-based acidic organic compound 2 whose performance has been particularly confirmed
-Mercaptobenzothiazole is preferred.

【0028】塩基性物質を配合することにより、tan
δが高くなり、或いは塩基性物質の塩基性度が調節され
ることにより、最適なtanδが発現される。
By adding a basic substance, tan
When δ increases or the basicity of the basic substance is adjusted, an optimal tan δ is expressed.

【0029】「界面活性剤」としては、カチオン系、ア
ニオン系等もあるが、非イオン系のものが好ましい。こ
の非イオン系のものとしては、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール又はトリオール等の水酸
基、カルボキシル基、カルボニル基、エステル結合又は
エーテル結合を有する脂肪族化合物、或いはそれら脂肪
族化合物から誘導される脂肪族アミン又は脂肪族カルボ
ン酸等の非イオン性界面活性剤が挙げられる。
As the "surfactant", there are a cationic type and an anionic type, but a nonionic type is preferable. Examples of the nonionic one include a hydroxyl group such as polyethylene glycol, polypropylene glycol or triol, a carboxyl group, a carbonyl group, an aliphatic compound having an ester bond or an ether bond, or an aliphatic amine derived from the aliphatic compound or Nonionic surfactants such as aliphatic carboxylic acids are included.

【0030】非イオン系界面活性剤を配合することによ
り塩基性物質の結晶化が阻止され、またドメイン形成が
阻止されることによりベースポリマー中への塩基性物質
及び酸性物質の分散性が良くなるものである。
The incorporation of a nonionic surfactant prevents the crystallization of the basic substance and prevents the domain formation, thereby improving the dispersibility of the basic substance and the acidic substance in the base polymer. Things.

【0031】「非イオン系界面活性剤」の配合量は、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又は
トリオール等の水酸基、カルボキシル基、カルボニル
基、エステル結合又はエーテル結合を有する脂肪族化合
物を用いる場合は20〜50重量%の範囲、脂肪族アミ
ン又は脂肪族カルボン酸は20〜100重量%の範囲で
ある。
The amount of the "nonionic surfactant" is from 20 to 50 when an aliphatic compound having a hydroxyl group, carboxyl group, carbonyl group, ester bond or ether bond such as polyethylene glycol, polypropylene glycol or triol is used. % Of the aliphatic amine or aliphatic carboxylic acid ranges from 20 to 100% by weight.

【0032】この範囲より界面活性剤の配合量が少ない
場合には、高減衰性能を示さず、この範囲より多い場合
には、材料の加工性が悪くなる等の問題が生じるからで
ある。ポリエチレングリコールを用いる場合、その分子
量は1000〜10000の範囲にあれば、ベースポリ
マーの高分子鎖中に適度に分散する。
If the amount of the surfactant is less than this range, no high damping performance is exhibited. If the amount is more than this range, problems such as deterioration of workability of the material occur. When polyethylene glycol is used, if its molecular weight is in the range of 1,000 to 10,000, it is appropriately dispersed in the polymer chain of the base polymer.

【0033】上記構成を有する高減衰材料組成物によれ
ば、高いtanδを発現することは勿論のこと、非イオ
ン系界面活性剤の配合により、塩基性物質の結晶化及び
ドメインの形成等が阻止されるので、この高いtanδ
の発現を長期にわたって維持できるものとなる。
According to the high-attenuation material composition having the above structure, not only a high tan δ is developed, but also the crystallization of a basic substance and the formation of domains are prevented by the addition of a nonionic surfactant. Tanδ
Can be maintained over a long period of time.

【0034】[0034]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を詳細に説
明する。まず、本発明の各実施例は種々の材料組成で作
製したので、これについて説明する。なお、以下の説明
において「重量%」とは、ベースポリマー100重量%
に対する配合成分の重量%を意味するものである。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. First, each of the examples of the present invention was manufactured with various material compositions, which will be described. In the following description, “% by weight” means 100% by weight of the base polymer.
Means the weight% of the compounding component with respect to.

【0035】初めに表1は、ベースポリマーとして、塩
素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質、酸性物質
及び非イオン性界面活性剤を配合した本発明品(実施例
1〜4)の材料組成及びtanδの測定結果を示したも
のである。
First, Table 1 shows the material composition of the products of the present invention (Examples 1 to 4) in which chlorinated polyethylene was used as a base polymer, and a basic substance, an acidic substance and a nonionic surfactant were blended into the chlorinated polyethylene. And tan δ measurement results.

【0036】[0036]

【表1】 [Table 1]

【0037】本発明品(実施例1〜4)は、ベースポリ
マーとして塩素化ポリエチレン(昭和電工(株)製:商
品名「エラスレン401A」)を用い、それに酸性物質
として2−メルカプトベンゾチアゾール(大内化学工業
(株)製:商品名「ノクセラーM−P」)を、塩基性物
質としてN−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスル
フェンアミド(三新化学工業(株)製:商品名「サンセ
ラーCZ−P」)を配合したものに、更に非イオン系界
面活性剤を配合成分とし、所定の工程により作製された
ものである。
The products of the present invention (Examples 1 to 4) used chlorinated polyethylene (manufactured by Showa Denko KK, trade name "Eraslen 401A") as a base polymer, and 2-mercaptobenzothiazole (a large product) as an acidic substance. Uchikagaku Kogyo Co., Ltd .: trade name “Noxeller MP”) and N-cyclohexyl-2-benzothiazylsulfenamide (manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd .: trade name “Suncellar CZ”) as a basic substance. -P ") and a nonionic surfactant as a compounding component, and prepared by a predetermined process.

【0038】本発明品(実施例1〜2)は、非イオン系
の界面活性剤としてポリエチレングリコールを配合成分
としている。すなわち、実施例1が界面活性剤として分
子量4000のポリエチレングリコール(三洋化成
(株)製:商品名「PEG4000」)、実施例2が界
面活性剤として分子量6000のポリエチレングリコー
ル(三洋化成(株)製:商品名「PEG6000」)を
それぞれ配合成分としている。
The products of the present invention (Examples 1 and 2) contain polyethylene glycol as a nonionic surfactant. That is, Example 1 was a polyethylene glycol having a molecular weight of 4000 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd .: trade name "PEG4000") as a surfactant, and Example 2 was a polyethylene glycol having a molecular weight of 6000 (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.) as a surfactant. : “PEG6000” (trade name)) as the compounding components.

【0039】本発明品(実施例3〜4)は、脂肪族アミ
ン及び脂肪族カルボン酸の非イオン系界面活性剤を配合
成分としている。実施例3が脂肪族アミンを含有する物
質(シンコー技研(株)製:商品名「Bloom St
opper H.ER」)、実施例4が脂肪族カルボン
酸を含む物質(シンコー技研(株)製:商品名「Blo
om Stopper HR」)をそれぞれ配合成分と
している。
The products of the present invention (Examples 3 and 4) contain a nonionic surfactant of an aliphatic amine and an aliphatic carboxylic acid as a compounding component. Example 3 is a substance containing an aliphatic amine (manufactured by Shinko Giken Co., Ltd .: trade name "Bloom St").
opper H .; ER)), a substance containing an aliphatic carboxylic acid in Example 4 (manufactured by Shinko Giken Co., Ltd .: trade name "Blo
om Stopper HR ").

【0040】次に、本発明品(実施例1〜4)及び比較
品の作製工程について説明する。まず、上述したベース
ポリマー(塩素化ポリエチレン)100重量%に、酸性
物質(2−メルカプトベンゾチアゾール)を実施例1に
38重量%、実施例2に38重量%、実施例3に63重
量%、実施例4に63重量%ずつ配合し、塩基性物質
(N−シクロヘキシル−2−ベンゾチアジルスルフェン
アミド)を実施例1に62重量%、実施例2に62重量
%、実施例3に100重量%、実施例4に100重量%
ずつ配合し、非イオン系界面活性剤を実施例1〜4にそ
れぞれ20重量%ずつ配合する。
Next, the steps of manufacturing the product of the present invention (Examples 1 to 4) and the comparative product will be described. First, an acidic substance (2-mercaptobenzothiazole) was used in Example 1 at 38% by weight, Example 2 at 38% by weight, Example 3 at 63% by weight with respect to 100% by weight of the base polymer (chlorinated polyethylene) described above. 63% by weight was added to Example 4, and the basic substance (N-cyclohexyl-2-benzothiazylsulfenamide) was 62% by weight in Example 1, 62% by weight in Example 2, and 100% in Example 3. % By weight, 100% by weight in Example 4.
The nonionic surfactant is blended in each of Examples 1 to 4 by 20% by weight.

【0041】そして、これを室温で約15〜20分程
度、2本ロールで混練する。次に、この混練材料を、熱
プレス機により所定の型枠内で、添加剤の融点より20
℃高い温度で、10分程度溶融プレス成形する。そして
更に、0℃の温度条件下、これに130kgf/cm2
の面圧を掛けて冷却プレス成形し、これを2mmシート
とする。
The mixture is kneaded at room temperature for about 15 to 20 minutes with two rolls. Next, the kneaded material is heated in a predetermined mold by a hot press machine at a temperature of 20 ° C.
Melt press molding is performed at a high temperature for about 10 minutes. Under a temperature condition of 0 ° C., 130 kgf / cm 2
And press-formed by cooling to form a 2 mm sheet.

【0042】次に、表2は、実施例1〜4を評価するた
めの比較品である比較例1〜3の材料組成及びtanδ
の測定結果を示したものである。
Next, Table 2 shows the material composition and tan δ of Comparative Examples 1 to 3, which are comparative products for evaluating Examples 1 to 4.
5 shows the measurement results.

【0043】[0043]

【表2】 [Table 2]

【0044】比較例1は、ベースポリマーとしてエラス
レン401Aを100重量%、酸性物質としてノクセラ
ーM−Pを38重量%、塩基性物質としてサンセラーC
Z−Gを62重量%配合しており、界面活性剤は配合さ
れていない。
In Comparative Example 1, 100% by weight of Eraslene 401A was used as a base polymer, 38% by weight of Noxeller MP as an acidic substance, and Suncellar C as a basic substance.
Z-G is blended at 62% by weight, and no surfactant is blended.

【0045】比較例2は、ベースポリマーとしてエラス
レン401Aを100重量%、非イオン性界面活性剤と
してPEG4000を配合しており、酸性物質及び塩基
性物質は配合されていない。
Comparative Example 2 contains 100% by weight of Eraslen 401A as a base polymer and PEG 4000 as a nonionic surfactant, and contains no acidic substance or basic substance.

【0046】比較例3は、ベースポリマーとしてエラス
レン401Aを100重量%、酸性物質としてノクセラ
ーM−Pを63重量%、塩基性物質としてサンセラーC
Z−Gを100重量%配合しており、非イオン系界面活
性剤は配合されていない。比較品1〜3の試料の調整
は、実施例1〜4の場合と同様である。
In Comparative Example 3, 100% by weight of Eraslene 401A was used as a base polymer, 63% by weight of Noxeller MP as an acidic substance, and Suncellar C as a basic substance.
It contains 100% by weight of Z-G and contains no nonionic surfactant. The adjustment of the samples of the comparative products 1 to 3 is the same as that of the examples 1 to 4.

【0047】次に、本発明品(実施例1〜4)及び(比
較例1〜3)について、tanδピーク値及びそのピー
ク温度を測定した。この測定には、株式会社レオロジ社
製のスペクトロメータを用い、その測定条件を、歪が
0.05%(一定)、周波数が15Hz(一定)とし
た。
Next, the tan δ peak value and the peak temperature of the products of the present invention (Examples 1 to 4) and (Comparative Examples 1 to 3) were measured. For this measurement, a spectrometer manufactured by Rheology Co., Ltd. was used, and the measurement conditions were a strain of 0.05% (constant) and a frequency of 15 Hz (constant).

【0048】初めに、実施例1〜4の測定結果について
説明する。まず、実施例1の測定結果について、非イオ
ン系界面活性剤(PEG4000)の有無により比較例
1に対して評価する。成形直後のtanδピーク値につ
いて、実施例1は1.93という優れた値を得られた。
比較例1の成形直後の値は、実施例1程ではないにし
ろ、1.74という決して悪くない値を示し、成形直後
では大きな差は現れなかった。
First, the measurement results of Examples 1 to 4 will be described. First, the measurement results of Example 1 are evaluated with respect to Comparative Example 1 based on the presence or absence of a nonionic surfactant (PEG4000). As for the tan δ peak value immediately after molding, Example 1 obtained an excellent value of 1.93.
The value immediately after molding in Comparative Example 1 was not bad as in Example 1, but was not bad at 1.74, and no significant difference appeared immediately after molding.

【0049】しかしながら、これらの2週間後の値をみ
てみると、大きな違いが現れる。そこで、これらの違い
を表中のtanδ低下率を用いて比べてみる。ちなみ
に、tanδ低下率とは、(tanδ低下率(%))=
{(成形直後のtanδの値)−(経時変化後のtan
δの値)}÷(成形直後のtanδの値)×100によ
って、求められたものである。
However, looking at the values after two weeks, a great difference appears. Then, these differences will be compared using the tan δ reduction rate in the table. Incidentally, the tan δ reduction rate is defined as (tan δ reduction rate (%)) =
{(Value of tan δ immediately after molding) − (tan tan after change with time)
(value of δ)} ÷ (value of tan δ immediately after molding) × 100.

【0050】実施例1のtanδ低下率は7.3%と極
めて低く、その減衰性能を維持しているが、比較例1の
tanδ低下率は30.5%であり、その減衰性能は大
きく下がってしまった。
The reduction rate of tan δ of Example 1 was extremely low at 7.3%, and the damping performance was maintained. However, the reduction rate of tan δ of Comparative Example 1 was 30.5%, and the damping performance was greatly reduced. I have.

【0051】また、温度とtanδの関係を図1で見て
みると、実施例1のピーク温度は26.2℃と室温に近
くなっており、またその付近の温度域で高いtanδを
示しているが、比較例1は33.5℃と室温から離れて
いるばかりでなく、tanδも低くなっている。
FIG. 1 shows the relationship between temperature and tan δ. The peak temperature in Example 1 is 26.2 ° C., which is close to room temperature, and shows a high tan δ in a temperature range around the temperature. However, Comparative Example 1 is not only at 33.5 ° C., which is far from room temperature, but also has low tan δ.

【0052】つまり、実施例1の組成を有する減衰材料
は、最も使用頻度が高いであろう室温環境において、高
い減衰性を発現することができることを示している。そ
して、実施例1と比較例1との比較により、非イオン系
界面活性剤(PEG4000)の配合により、経時変化
が抑えられることも分かった。
That is, it is shown that the damping material having the composition of Example 1 can exhibit a high damping property in a room temperature environment where the most frequently used material is used. Then, a comparison between Example 1 and Comparative Example 1 also revealed that the change with time was suppressed by the addition of the nonionic surfactant (PEG4000).

【0053】更に、実施例1の評価をするために、塩基
性物質及び酸性物質の配合されていない比較例2との比
較では、図2で明らかなように、比較例2はtanδピ
ーク値が実施例1と比べて著しく低く、減衰材料として
用いるには明らかに不適であり、その経時変化を見るま
でもないことが分かる。
Further, in order to evaluate Example 1, in comparison with Comparative Example 2 in which a basic substance and an acidic substance were not blended, as apparent from FIG. 2, Comparative Example 2 had a tan δ peak value. It is remarkably lower than that of Example 1, and is clearly unsuitable for use as an attenuating material.

【0054】次に、実施例1のPEGの分子量を400
0から6000に変えた実施例2と、PEGが配合され
ていない比較例1とを比較すると、成形直後のtanδ
ピーク値は、実施例2,比較例1ともに良好な値を示し
ているが、2週間後のtanδピーク値に著しい違いが
現れる。すなわち、tanδ低下率で見ると、比較例1
は上述の通り30.5%となっているのに対し、実施例
2は11.4%と低い値にとどまっている。つまり、実
施例2は時間的経過によっても、減衰性を維持できるこ
とを示している。
Next, the molecular weight of the PEG of Example 1 was set to 400
A comparison between Example 2 in which 0 was changed to 6000 and Comparative Example 1 in which PEG was not blended shows that tan δ immediately after molding was obtained.
The peak values of both Example 2 and Comparative Example 1 are good, but a marked difference appears in the tan δ peak value after two weeks. That is, when viewed in terms of the tan δ reduction rate, Comparative Example 1
Is 30.5% as described above, whereas Example 2 is as low as 11.4%. That is, Example 2 shows that the damping property can be maintained even with the passage of time.

【0055】また、tanδと温度の関係を図3で見る
と、実施例2は、比較例1よりも室温環境に近い温度域
で、高いtanδを発現できるので、室温環境で長期
間、高い減衰性を示す材料組成であるといえる。
FIG. 3 shows the relationship between tan δ and temperature. In Example 2, higher tan δ can be expressed in a temperature range closer to the room temperature environment than in Comparative Example 1, so that high attenuation can be obtained for a long time in the room temperature environment. It can be said that the material composition has the property.

【0056】次に、実施例3の非イオン系界面活性剤と
して「Bloom StopperHR」を用いたもの
と実施例4の「Bloom Stopper H.E
N」を用いたものについて、そのような界面活性剤を用
いない比較例3の試料とを比較した。まず、成形直後の
tanδピーク値の値について、比較例3は2.15と
いう比較的高めの値であるが、実施例3は2.84、実
施例4は2.58といずれも高い値を示した。
Next, “Bloom Stopper HR” was used as the nonionic surfactant in Example 3 and “Bloom Stopper HE” in Example 4 was used.
For the sample using "N", the sample of Comparative Example 3 not using such a surfactant was compared. First, as for the value of the tan δ peak value immediately after molding, Comparative Example 3 is a relatively high value of 2.15, but Example 3 has a high value of 2.84 and Example 4 has a high value of 2.58. Indicated.

【0057】経時変化(1ヶ月後)についてみている
と、比較例3のtanδ低下率は32.6%であったの
に対し、実施例3のtanδ低下率は22.5%、また
実施例4は5.4%といずれも低かった。
Looking at the change over time (after one month), the tan δ reduction rate of Comparative Example 3 was 32.6%, whereas the tan δ reduction rate of Example 3 was 22.5%, and 4 was as low as 5.4%.

【0058】実施例3の22.5%という値はやや高め
であるが、元のtanδが極めて高いので、この程度の
低下率ならば、減衰性に何等影響を及ぼすものではな
い。また、実施例4の5.4%という値は、成形直後の
減衰性をほぼそのまま維持できている値といえる。
Although the value of 22.5% in Example 3 is slightly higher, the original tan δ is extremely high, so that a reduction rate of this degree does not affect the damping property. Further, the value of 5.4% in Example 4 can be said to be a value that can maintain the damping property immediately after molding almost as it is.

【0059】以上のことから、実施例1〜4及び比較例
1〜3について各測定結果の評価と総合評価を示した
が、総合評価としては実施例1〜4は極めて良好(◎
印)との評価が得られた。特に、その中でも実施例4は
ピーク値の高さ、経時変化の少なさとも際だっており、
高減衰性材料として実用性が最も高いと思われるが、使
用環境温度との兼ね合いもあり、材料を使い分けるのが
望ましい。
From the above, the evaluation of each measurement result and the overall evaluation are shown for Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, and Examples 1 to 4 are extremely good as the overall evaluation.
Mark) was obtained. Particularly, among them, Example 4 is remarkable in the height of the peak value and the small change with time.
Although it is considered that the material has the highest practicality as a high damping material, it is desirable to use different materials in consideration of the use environment temperature.

【0060】以上、本実施例を順に説明したが、要する
に、本実施例に係る高減衰材料組成物は、ベースポリマ
ーに、減衰性添加剤として第2級アミン、第3級アミン
及び含窒素複素環より選ばれた塩基を1分子中に2個以
上含む塩基性物質に、塩基性度を調節するために酸性物
質を配合し、更に非イオン系界面活性剤を配合したもの
であるから、塩基性物質が高いtanδを示す塩基性度
を有した状態で、結晶化或いはドメインの形成等をせ
ず、良好な分散性を示すことから、長期にわたって高い
tanδを発現できるようになる。更に、本実施例によ
れば、各実施例のピーク温度と各配合成分のガラス転移
温度の関係とに相関関係が認められることから、所期す
る温度特性を備えたものが得られる。
The present embodiment has been described above in order. In short, the high-damping material composition according to the present embodiment comprises, as a damping additive, a secondary amine, a tertiary amine and a nitrogen-containing complex in a base polymer. Since a basic substance containing two or more bases selected from a ring in one molecule is mixed with an acidic substance to adjust the degree of basicity, and further mixed with a nonionic surfactant, Since the active substance has a high degree of basicity showing a high tan δ, it does not crystallize or form a domain, and shows good dispersibility, so that a high tan δ can be expressed for a long time. Furthermore, according to the present embodiment, since a correlation is recognized between the peak temperature of each embodiment and the relationship between the glass transition temperatures of the respective components, it is possible to obtain those having the desired temperature characteristics.

【0061】本発明は、上記した実施例に何等限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
の改変が可能である。例えば、上記実施例ではベースポ
リマーとして、塩素化ポリエチレンを用いたが、要は極
性側鎖を有する材料であればよく、エチレン−ポリ塩化
ビニル、エチレン,酢酸共重合体−ポリ塩化ビニル、ウ
レタン−ポリ塩化ビニルの他、変性天然ゴム、グラフト
天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、カルボキシ
ル化ニトリルゴム、ニトリルゴム/塩化ビニル樹脂ブレ
ンド、ニトリルゴム/EPDMゴムブレンド、臭素化ブ
チルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニルゴ
ム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、クロロス
ルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン−エチレン
オキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メチルシ
リコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フッ化シ
リコンゴム、フッ素ゴムや、ポリ塩化ビニル系熱可塑性
エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、
ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱
可塑性エラストマー等の極性側鎖を有するベースポリマ
ーを適用することができる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment at all, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the above embodiment, chlorinated polyethylene was used as the base polymer. However, any material having a polar side chain may be used, and ethylene-polyvinyl chloride, ethylene-acetic acid copolymer-polyvinyl chloride, urethane- Other than polyvinyl chloride, modified natural rubber, grafted natural rubber, cyclized natural rubber, chlorinated natural rubber, carboxylated nitrile rubber, nitrile rubber / vinyl chloride resin blend, nitrile rubber / EPDM rubber blend, brominated butyl rubber, chlorinated Butyl rubber, ethylene-vinyl acetate rubber, acrylic rubber, ethylene-acryl rubber, chlorosulfonated polyethylene, epichlorohydrin-ethylene oxide rubber, methyl silicon rubber, vinyl-methyl silicon rubber, phenyl-methyl silicon rubber, fluorinated silicon rubber, fluorine rubber, PVC Le-based thermoplastic elastomer, polyurethane thermoplastic elastomer,
Base polymers having polar side chains, such as polyester-based thermoplastic elastomers and polyamide-based thermoplastic elastomers, can be used.

【0062】また、塩基性物質も、上記実施例で用いた
もの以外に、N−tert−ブチルベンゾチアジル−2
−スルフェンアミド、N−オキシジエチレンベンゾチア
ジル−2−スルフェンアミド、N,N−ジシクロヘキシ
ルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド、2−(N,
N−ジエチルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾー
ル、2−(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾー
ル、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチル
チウラムジスルフィド、1,3−ジフェニルグアニジ
ン、ジ−O−トリルグアニジン、2−(2−ヒドロキシ
−3−(3,4,5,6−テトラ−ヒドロフタルイミド
−メチル)−5−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾー
ル、1−[N,N−ビス(2−エチル−ヘキシル)アミ
ノメチル]ベンゾトリアゾール、(1,2,3−ベンゾ
トリアゾリル−1−メチル)(1,2,4−トリアゾリ
ル−1−メチル)−2−エチルヘキシルアミン、N,
N’−ビス(ベンゾトリアゾリルメチル)−ジアミノヘ
キサン、2,2’−メチレンビス{4−(1,1,3,
3−テトラメチルブチル)−6−6[(2H−ベンゾト
リアゾール−2−イル)フェニル]}、N,N−ビス
(ベンゾトリアゾールメチル)−2エチルヘキシルアミ
ン、N,N−ビス(ベンゾトリアゾールメチル)−ラウ
リルアミン、1−(2−エチルヘキシルアミノメチル)
−ベンゾトリアゾール、1−(ラウリルアミノメチル)
−ベンゾトリアゾール、1−(モルホリノメチル)−ベ
ンゾトリアゾール、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、
ジエチルジチオカルバミン酸テルル、4,4’,4”−
トリスジメチルアミノトリフェニルメタン、2,2’−
(1,2−エーテンジイル)ビス(5−メチルベンゾオ
キサゾール)とジシクロヘキシルフタレート、2,2−
ジチオジオイリジンのブレンド、メチレンビス(ジブチ
ルジチオカルバメート)、2,4,6−トリ(ジメチル
アミノメチル)フェノール、ジモルホリンエーテル、
N,N’,N”−トリス(ジメチルアミノプロピル)ヘ
キサヒドロ−S−トリアジン、N,N,N−トリス(3
−ジメチルアミノプロピル)アミン、N−メチル−N,
N−ビス(3−ジメチルアミノプロピル)アミン、トリ
アリルイソシアヌレート、トリス−(2−ヒドロキシエ
チル)イソシアヌレート、トリメタアリルイソシアヌレ
ート、トリス−(2,3−ジブロモプロピル)イソシア
ヌレート、1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ビ
ペリジル/トリデシル1,2,3,4−ブタンテトラカ
ルボキシレート、1,2,3,4−ブタンテトラカルボ
ン酸と2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジノ
ールとβ,β,β’,β’−テトラメチル−3,9−
(2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウ
ンデカン)ジエタノールとの縮合物等の第2級アミン、
第3級アミン及び含窒素複素環等の塩基を含む塩基性物
質であれば何等限定されることなく適用することができ
る。
[0062] In addition to the basic substances used in the above Examples, N-tert-butylbenzothiazyl-2
-Sulfenamide, N-oxydiethylenebenzothiazyl-2-sulfenamide, N, N-dicyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide, 2- (N,
N-diethylthiocarbamoylthio) benzothiazole, 2- (4'-morpholinodithio) benzothiazole, tetraethylthiuram disulfide, tetrabutylthiuram disulfide, 1,3-diphenylguanidine, di-O-tolylguanidine, 2- (2- Hydroxy-3- (3,4,5,6-tetra-hydrophthalimido-methyl) -5-methylphenyl) -benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethyl-hexyl) aminomethyl] benzotriazole , (1,2,3-benzotriazolyl-1-methyl) (1,2,4-triazolyl-1-methyl) -2-ethylhexylamine, N,
N'-bis (benzotriazolylmethyl) -diaminohexane, 2,2'-methylenebis {4- (1,1,3,
3-tetramethylbutyl) -6-6 [(2H-benzotriazol-2-yl) phenyl]}, N, N-bis (benzotriazolemethyl) -2-ethylhexylamine, N, N-bis (benzotriazolemethyl) -Laurylamine, 1- (2-ethylhexylaminomethyl)
-Benzotriazole, 1- (laurylaminomethyl)
-Benzotriazole, 1- (morpholinomethyl) -benzotriazole, zinc dibutyldithiocarbamate,
Tellurium diethyldithiocarbamate, 4,4 ', 4 "-
Trisdimethylaminotriphenylmethane, 2,2'-
(1,2-ethenediyl) bis (5-methylbenzoxazole) and dicyclohexyl phthalate, 2,2-
A blend of dithiodioiridines, methylene bis (dibutyldithiocarbamate), 2,4,6-tri (dimethylaminomethyl) phenol, dimorpholine ether,
N, N ′, N ″ -tris (dimethylaminopropyl) hexahydro-S-triazine, N, N, N-tris (3
-Dimethylaminopropyl) amine, N-methyl-N,
N-bis (3-dimethylaminopropyl) amine, triallyl isocyanurate, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, trimetaallyl isocyanurate, tris- (2,3-dibromopropyl) isocyanurate, 1,2 , 2,6,6-pentamethyl-4-biperidyl / tridecyl 1,2,3,4-butanetetracarboxylate, 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidinol and β, β, β ′, β′-tetramethyl-3,9-
Secondary amines such as condensates with (2,4,8,10-tetraoxaspiro [5,5] undecane) diethanol;
Any basic substance containing a base such as a tertiary amine and a nitrogen-containing heterocycle can be used without any limitation.

【0063】更に酸性物質も、上記実施例では酸性有機
化合物を用いたが、これは配合成分の塩基性度を調節す
るために用いたものであるから、その機能を果たすもの
であれば、塩酸等の無機化合物をも何等限定されること
なく適用することができる。また、酸性物質を配合しな
い状態で、既に配合成分の塩基性度が最適になっている
場合は、配合する必要がないと考えられる。
Further, as the acidic substance, an acidic organic compound was used in the above embodiment. However, since this was used to adjust the basicity of the blended components, hydrochloric acid was used as long as it fulfilled its function. And the like can be applied without any limitation. If the basicity of the components has already been optimized in the state where the acidic substance is not added, it is considered unnecessary to add the components.

【0064】非イオン系の界面活性剤については、ポリ
アルキルエーテル−カルボン酸誘導体、ポリアルキルエ
ーテル−多価アルコール誘導体、ポリアルキルエーテル
−多価アルコール−エステル誘導体、ポリアルキルエー
テル、多価カルボン酸及び誘導体、多価アルコール、多
価アルコール−エステル誘導体等が挙げられる。これら
の化合物の構造式を表3及び表4に示す。但し、表中の
Rは脂肪族誘導体、芳香族誘導体又は水素を示してい
る。
The nonionic surfactants include polyalkyl ether-carboxylic acid derivatives, polyalkyl ether-polyhydric alcohol derivatives, polyalkyl ether-polyhydric alcohol-ester derivatives, polyalkyl ethers, polycarboxylic acids, and the like. Derivatives, polyhydric alcohols, polyhydric alcohol-ester derivatives and the like. Tables 3 and 4 show the structural formulas of these compounds. Here, R in the table represents an aliphatic derivative, an aromatic derivative or hydrogen.

【0065】[0065]

【表3】 [Table 3]

【0066】[0066]

【表4】 [Table 4]

【0067】前述したような化合物に限らず、非イオン
系の界面活性作用を呈する機能を果たせる化合物であれ
ば、何等限定されることなく適用できる。
The present invention is not limited to the compounds described above, and any compound can be used without any limitation as long as it is a compound capable of exhibiting a nonionic surfactant activity.

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明に係る高減衰材料組成物によれ
ば、極性側鎖を有するベースポリマーに減衰性添加剤と
して、第2級アミン、第3級アミン及び含窒素複素環よ
り選ばれた塩基を1分子中に2個以上含む塩基性物質を
配合し必要に応じて酸性物質を配合することにより、高
いtanδが発現されることはもとより、更に界面活性
剤、特に非イオン性の界面活性剤を配合したものである
から、その高い減衰性を示す塩基性物質の結晶化或いは
ドメインの形成が阻害され、これにより、塩基性物質の
分散性が良くなり、経時変化を抑制することができる。
したがって、本発明に係る高減衰材料組成物によれば、
長期にわたって高いtanδを発現することができ、こ
の材料を音響ルームの遮音壁、建築構造体の遮音間仕
切、車両の防音壁等、幅広い分野に適用することは極め
て有益である。また、界面活性剤を配合することは、こ
の材料が減衰性添加剤である塩基性物質に比べて安価で
あることから、製造原価の低廉化にも寄与でき、その実
用の可能性は極めて高いものがある。
According to the high damping material composition of the present invention, the base polymer having polar side chains is selected from secondary amines, tertiary amines and nitrogen-containing heterocycles as damping additives. By blending a basic substance containing two or more bases in one molecule and, if necessary, blending an acidic substance, not only a high tan δ is expressed, but also a surfactant, especially a nonionic surfactant Since the compounding agent is added, the crystallization or domain formation of the basic substance exhibiting the high damping property is inhibited, whereby the dispersibility of the basic substance is improved and the change over time can be suppressed. .
Therefore, according to the high attenuation material composition of the present invention,
A high tan δ can be exhibited over a long period of time, and it is extremely useful to apply this material to a wide range of fields such as a sound insulation wall of an acoustic room, a sound insulation partition of a building structure, and a sound insulation wall of a vehicle. In addition, compounding a surfactant can contribute to lower production costs because this material is inexpensive compared to a basic substance that is an attenuating additive, and its practicality is extremely high. There is something.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る高減衰材料組成物(ベースポリマ
ー+塩基性物質、酸性物質+PEG4000配合)と比
較例(ベースポリマー+塩基性物質、酸性物質配合)と
の対比における温度とtanδの関係を示した図であ
る。
FIG. 1 shows the relationship between temperature and tan δ in the comparison between a high attenuation material composition according to the present invention (base polymer + basic substance, acidic substance + PEG4000 blend) and a comparative example (base polymer + basic substance, acidic substance blend). FIG.

【図2】同じく、本発明に係る高減衰材料組成物(ベー
スポリマー+塩基性物質、酸性物質+PEG4000配
合)と比較例(ベースポリマー+PEG4000配合)
との対比における温度とtanδの関係を示した図であ
る。
[FIG. 2] Similarly, a high attenuation material composition according to the present invention (base polymer + basic substance, acidic substance + PEG4000 blend) and a comparative example (base polymer + PEG4000 blend)
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between temperature and tan δ in comparison with FIG.

【図3】同じく、本発明に係る高減衰材料組成物(ベー
スポリマー+塩基性物質、酸性物質+PEG6000配
合)と比較例(ベースポリマー+塩基性物質、酸性物質
配合)との対比における温度とtanδの関係を示した
図である。
FIG. 3 Similarly, the temperature and tan δ in the comparison between the high attenuation material composition according to the present invention (base polymer + basic substance, acidic substance + PEG 6000 blend) and the comparative example (base polymer + basic substance, acidic substance blend). FIG.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI F16F 15/08 F16F 15/08 D G10K 11/162 G10K 11/16 A Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI F16F 15/08 F16F 15/08 D G10K 11/162 G10K 11/16 A

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 極性側鎖を有するベースポリマーに、第
2級アミン、第3級アミン及び含窒素複素環より選ばれ
た塩基を1分子中に2個以上含む塩基性物質と必要に応
じて酸性物質を配合したものに、界面活性剤を配合させ
たことを特徴とする高減衰材料組成物。
1. A basic substance containing two or more bases selected from a secondary amine, a tertiary amine and a nitrogen-containing heterocycle in one molecule in a base polymer having a polar side chain, and if necessary, a basic substance. A high-attenuation material composition comprising a surfactant and an acidic substance.
【請求項2】 前記ベースポリマーは、天然ゴム、変性
天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天
然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴ
ム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル
化ニトリルゴム、ニトリルゴム/塩化ビニル樹脂ブレン
ド、ニトリルゴム/EPDMゴムブレンド、ブチルゴ
ム、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−
酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレ
ン、塩素化ポリプロピレン、エピクロルヒドリンゴム、
エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチルシ
リコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニル−
メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、フッ素ゴム
より選ばれた少なくとも1種又は2種以上のゴム材料、
又はポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビ
ニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑
性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマ
ー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド
系熱可塑性エラストマーより選ばれた少なくとも1種又
は2種以上の熱可塑性エラストマー材料、又はポリ塩化
ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、
ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ化ビ
ニル、ポリふっ化ビニリデン、ポリアクリルニトリル、
ポリメチルメタアクリレート、スチレン・アクリルニト
リル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレ
ン三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・塩ビ
グラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチレン
・ビニルアルコール、塩素化塩化ビニルより選ばれた少
なくとも1種又は2種以上の樹脂材料からなることを特
徴とする請求項1に記載される高減衰材料組成物。
2. The base polymer includes natural rubber, modified natural rubber, grafted natural rubber, cyclized natural rubber, chlorinated natural rubber, styrene-butadiene rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, carboxylated nitrile rubber, nitrile. Rubber / vinyl chloride resin blend, nitrile rubber / EPDM rubber blend, butyl rubber, brominated butyl rubber, chlorinated butyl rubber, ethylene-
Vinyl acetate rubber, acrylic rubber, ethylene-acryl rubber, chlorosulfonated polyethylene, chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene, epichlorohydrin rubber,
Epichlorohydrin-ethylene oxide rubber, methyl silicone rubber, vinyl-methyl silicone rubber, phenyl-
At least one or two or more rubber materials selected from methyl silicone rubber, silicon fluoride rubber, and fluorine rubber;
Or at least one or two or more selected from a polystyrene-based thermoplastic elastomer, a polyvinyl chloride-based thermoplastic elastomer, a polyolefin-based thermoplastic elastomer, a polyurethane-based thermoplastic elastomer, a polyester-based thermoplastic elastomer, and a polyamide-based thermoplastic elastomer Thermoplastic elastomeric material, or polyvinyl chloride, chlorinated polypropylene, polyvinylidene chloride,
Polyvinyl acetate, polyvinyl alcohol, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, polyacrylonitrile,
Polymethyl methacrylate, styrene / acrylonitrile copolymer, acrylonitrile / butadiene / styrene terpolymer, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, acrylic / vinyl chloride graft copolymer, ethylene / vinyl chloride copolymer, ethylene The high-attenuation material composition according to claim 1, comprising at least one or two or more resin materials selected from vinyl alcohol and chlorinated vinyl chloride.
【請求項3】 前記塩基性物質は、N−シクロヘキシル
ベンゾチアジル−2−スルフェンアミド、N−tert
−ブチルベンゾチアジル−2−スルフェンアミド、N−
オキシジエチレンベンゾチアジル−2−スルフェンアミ
ド、N,N−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−2−ス
ルフェンアミドより選ばれた少なくとも1種又は2種以
上のスルフェンアミド系添加剤、2−(N,N−ジエチ
ルチオカルバモイルチオ)ベンゾチアゾール、2−
(4’−モルホリノジチオ)ベンゾチアゾールより選ば
れた少なくとも1種又は2種以上のチアゾール系添加
剤、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチル
チウラムジスルフィドより選ばれた少なくとも1種又は
2種以上のチウラム系添加剤、1,3−ジフェニルグア
ニジン、ジ−O−トリルグアニジンより選ばれた少なく
とも1種又は2種以上のグアニジン系添加剤、紫外線吸
収剤である2−(2−ヒドロキシ−3−(3,4,5,
6−テトラヒドロフタルイミド−メチル)−5−メチル
フェニル)−ベンゾトリアゾール、防錆剤である1−
[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]
ベンゾトリアゾール、(1,2,3−ベンゾトリアゾリ
ル−1−メチル)(1,2,4−トリアゾリル−1−メ
チル)−2−エチルヘキシルアミン、N,N’−ビス
(ベンゾトリアゾリルメチル)−ジアミノヘキサン、光
安定剤である2,2’−メチレンビス{4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−6−6[(2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)フェニル]}、N,N−ビ
ス(ベンゾトリアゾールメチル)−2エチルヘキシルア
ミン、N,N−ビス(ベンゾトリアゾールメチル)−ラ
ウリルアミン、1−(2−エチルヘキシルアミノメチ
ル)−ベンゾトリアゾール、1−(ラウリルアミノメチ
ル)−ベンゾトリアゾール、1−(モルホリノメチル)
−ベンゾトリアゾールより選ばれた少なくとも1種又は
2種以上のベンゾトリアゾール系添加剤、ジブチルジチ
オカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸テル
ルより選ばれた少なくとも1種又は2種以上のジチオカ
ルバミン酸塩系添加剤、4,4’,4”−トリスジメチ
ルアミノトリフェニルメタン、2,2’−(1,2−エ
ーテンジイル)ビス(5−メチルベンゾオキサゾール)
とジシクロヘキシルフタレートのブレンドより選ばれた
少なくとも1種又は2種以上の顔料、2,2−ジチオジ
オピリジン等のピリジン系添加剤、メチレンビス(ジブ
チルジチオカルバメート)等の潤滑油添加剤、2,4,
6−トリ(ジメチルアミノメチル)フェノール等のエポ
キシ樹脂硬化促進剤、ジモルホリンエーテル、N,
N’,N”−トリス(ジメチルアミノプロピル)ヘキサ
ヒドロ−S−トリアジン、N,N,N−トリス(3−ジ
メチルアミノプロピル)アミン、N−メチル−N,N−
ビス(3−ジメチルアミノプロピル)アミンより選ばれ
た少なくとも1種又は2種以上のウレタン触媒、不飽和
樹脂架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート、トリス
−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、トリメ
タアリルイソシアヌレート、トリス−(2,3−ジブロ
モプロピル)イソシアヌレートより選ばれた少なくとも
1種又は2種以上のイソシアヌル酸誘導物、1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ビペリジル/トリデシ
ル1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレート、
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸と2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジノールとβ,β,
β’,β’−テトラメチル−3,9−(2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン)ジエタ
ノールとの縮合物より選ばれた少なくとも1種又は2種
以上のヒンダードアミン系添加剤より選ばれた少なくと
も1種又は2種以上の材料からなることを特徴とする請
求項1又は2に記載される高減衰材料組成物。
3. The basic substance is N-cyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide, N-tert.
-Butylbenzothiazyl-2-sulfenamide, N-
At least one or two or more sulfenamide-based additives selected from oxydiethylenebenzothiazyl-2-sulfenamide, N, N-dicyclohexylbenzothiazyl-2-sulfenamide, 2- (N, N-diethylthiocarbamoylthio) benzothiazole, 2-
(4'-morpholinodithio) at least one or two or more thiazole additives selected from benzothiazole, at least one or two or more thiuram additives selected from tetraethylthiuram disulfide and tetrabutylthiuram disulfide , 1,3-diphenylguanidine, di-O-tolylguanidine, at least one or two or more guanidine-based additives, and 2- (2-hydroxy-3- (3,4,4) 5,
6-tetrahydrophthalimide-methyl) -5-methylphenyl) -benzotriazole, 1- which is a rust inhibitor
[N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl]
Benzotriazole, (1,2,3-benzotriazolyl-1-methyl) (1,2,4-triazolyl-1-methyl) -2-ethylhexylamine, N, N′-bis (benzotriazolylmethyl) ) -Diaminohexane, 2,2′-methylenebis {4- (1,1,
3,3-tetramethylbutyl) -6-6 [(2H-benzotriazol-2-yl) phenyl]}, N, N-bis (benzotriazolemethyl) -2-ethylhexylamine, N, N-bis (benzotriazole Methyl) -laurylamine, 1- (2-ethylhexylaminomethyl) -benzotriazole, 1- (laurylaminomethyl) -benzotriazole, 1- (morpholinomethyl)
At least one or two or more benzotriazole-based additives selected from benzotriazole, at least one or two or more dithiocarbamate-based additives selected from zinc dibutyldithiocarbamate and tellurium diethyldithiocarbamate; , 4 ', 4 "-Trisdimethylaminotriphenylmethane, 2,2'-(1,2-ethenediyl) bis (5-methylbenzoxazole)
At least one or two or more pigments selected from a blend of styrene and dicyclohexyl phthalate; a pyridine additive such as 2,2-dithiodipyridine; a lubricating oil additive such as methylene bis (dibutyldithiocarbamate);
Epoxy resin curing accelerator such as 6-tri (dimethylaminomethyl) phenol, dimorpholine ether, N,
N ', N "-tris (dimethylaminopropyl) hexahydro-S-triazine, N, N, N-tris (3-dimethylaminopropyl) amine, N-methyl-N, N-
At least one or more urethane catalysts selected from bis (3-dimethylaminopropyl) amine, triallyl isocyanurate as an unsaturated resin crosslinking agent, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, trimetaallyl At least one or two or more isocyanuric acid derivatives selected from isocyanurate and tris- (2,3-dibromopropyl) isocyanurate;
2,6,6-pentamethyl-4-biperidyl / tridecyl 1,2,3,4-butanetetracarboxylate,
1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid and 2,2,2
6,6-tetramethyl-4-piperidinol and β, β,
β ′, β′-tetramethyl-3,9- (2,4,8,1
At least one or two or more materials selected from at least one or two or more hindered amine additives selected from condensates with 0-tetraoxaspiro [5,5] undecane) diethanol. The high damping material composition according to claim 1 or 2,
【請求項4】 前記酸性物質は、チアゾール系またはト
リアゾール系等の酸性有機化合物、あるいは酸性無機化
合物であることを特徴とする請求項1、2又は3に記載
される高減衰材料組成物。
4. The high attenuation material composition according to claim 1, wherein the acidic substance is a thiazole-based or triazole-based acidic organic compound or an acidic inorganic compound.
【請求項5】 前記界面活性剤は非イオン系のものであ
ることを特徴とする請求項1、2、3又は4に記載され
る高減衰材料組成物。
5. The high attenuation material composition according to claim 1, wherein the surfactant is a non-ionic surfactant.
【請求項6】 前記非イオン系界面活性剤は、ポリエチ
レングリコール、ポリプロピレングリコール又はトリオ
ール等の水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、エス
テル結合又はエーテル結合を有する脂肪族化合物、或い
はそれら脂肪族化合物から誘導される脂肪族アミン又は
脂肪族カルボン酸等の非イオン系界面活性剤から選ばれ
た少なくとも1種又は2種以上の材料からなることを特
徴とする請求項5に記載される高減衰材料組成物。
6. The nonionic surfactant is an aliphatic compound having a hydroxyl group such as polyethylene glycol, polypropylene glycol or triol, a carboxyl group, a carbonyl group, an ester bond or an ether bond, or is derived from such an aliphatic compound. The high attenuation material composition according to claim 5, comprising at least one or two or more materials selected from nonionic surfactants such as aliphatic amines and aliphatic carboxylic acids.
【請求項7】 前記非イオン系界面活性剤の配合量が、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール又
はトリオール等の水酸基、カルボキシル基、カルボニル
基、エステル結合又はエーテル結合を有する脂肪族化合
物の場合は20〜50重量%、脂肪族アミン又は脂肪族
カルボン酸等の非イオン系界面活性剤の場合は20〜1
00重量%の範囲であることを特徴とする請求項6に記
載される高減衰材料組成物。
7. The compounding amount of the nonionic surfactant is as follows:
20 to 50% by weight in the case of an aliphatic compound having a hydroxyl group, carboxyl group, carbonyl group, ester bond or ether bond such as polyethylene glycol, polypropylene glycol or triol, and a nonionic interface such as aliphatic amine or aliphatic carboxylic acid. 20 to 1 for activator
7. The high attenuation material composition according to claim 6, wherein the amount is in the range of 00% by weight.
【請求項8】 前記ポリエチレングリコールの分子量は
1000〜10000の範囲であることを特徴とする請
求項6又は7に記載される高減衰材料組成物。
8. The high attenuation material composition according to claim 6, wherein the molecular weight of the polyethylene glycol ranges from 1,000 to 10,000.
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