JPH11174490A - Liquid crystal display element and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display element and its manufacture

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JPH11174490A
JPH11174490A JP29946697A JP29946697A JPH11174490A JP H11174490 A JPH11174490 A JP H11174490A JP 29946697 A JP29946697 A JP 29946697A JP 29946697 A JP29946697 A JP 29946697A JP H11174490 A JPH11174490 A JP H11174490A
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signal lines
injection signal
signal line
pair
liquid crystal
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Jung-Mok Jun
正 牧 田
Lee Seok-Lyul
錫 烈 李
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Hyundai Electronics Industries Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the numerical aperture of a liquid crystal display element by sharing two adjacent pixel electrodes existing in a wide range by each of common electrodes. SOLUTION: A pair of sub-injection signal lines 20a, 20b constituting each injection signal line 20 are separated from a pair of sub-injection signal lins 20c, 20d with a wide interval. The signal lines 20a, 20c are arrayed so as to be adjacent to another pair of sub-injection signal lines 20b, 20d with small intervals. The signal lines 20a, 20b and a pair of display signal lines 50a, 50b restrict a 1st range 80, i.e., a narrow range and the signal lines 20b, 20c and the signal lines 50a, 50b restrict a 2nd range, i.e., a wide range. Many pixel electrodes are formed in the 2nd range so that two pixel electrodes are arrayed in the 2nd range. An H-shaped common electrode 100 is arrayed in the wide range 90 and shares a pair of pixel electrodes 40a, 40b, which are driven independently of the injection signal lines 20 and the display signal lines 50.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関
し、特には、液晶表示素子の開口率及び画質を向上させ
ることができる活性液晶表示素子及びその製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly, to an active liquid crystal display device capable of improving the aperture ratio and image quality of a liquid crystal display device, and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】人間とコンピューターの間のインターフ
ェース(interface) としての役割をする個人用の空間節
約形の表示素子に対する要求に応ずるため、液晶表示器
(LCD) 、プラズマ表示盤(PDP) 及び電気蛍光発光(elect
roluminescent)表示器などのような、多様の形態のフラ
ットスクリーン又は平板表示器が、従来の表示装置、特
に比較的大きく前方へ突き出した型状になっている陰極
線管(CRT) の代わりをするために開発されてきた。
2. Description of the Related Art In order to meet the demand for a personal space-saving display element serving as an interface between a human and a computer, a liquid crystal display is used.
(LCD), plasma display panel (PDP) and electrofluorescence (elect
Various forms of flat screen or flat panel displays, such as roluminescent displays, to replace conventional displays, especially cathode ray tubes (CRTs) that are relatively large and protruding in shape. Has been developed.

【0003】液晶表示装置は、液晶の分子配列が電界に
より変化する液晶の電気光学特性(electroopticpropert
y)を用い、単純マトリックス形態及び活性マトリックス
形態を有する。特に、活性マトリックスのLCDは液晶
技術と半導体技術とを複合的に用い、CRT表示器より
画像が鮮明であると認識されている。
A liquid crystal display device has an electrooptic property of a liquid crystal in which the molecular arrangement of the liquid crystal is changed by an electric field.
Using y), it has a simple matrix form and an active matrix form. In particular, active matrix LCDs use a combination of liquid crystal technology and semiconductor technology, and are perceived as having sharper images than CRT displays.

【0004】活性マトリックス液晶表示装置は、マトリ
ックスの配列をなす多数の画素の各々に、非直線的な特
性を有する活性素子のスイッチング特性を用い、各画素
を制御する。活性素子として、三つの端子を有する薄膜
トランジスタ( 以下、TFT という) が通常使用され、
又、薄膜ダイオード(TFD) 、例えば二つの端子を有する
金属絶縁体金属(metal insulated metal) の薄膜ダイオ
ードが使用される。
An active matrix liquid crystal display device controls each pixel by using switching characteristics of an active element having a non-linear characteristic for each of a large number of pixels forming a matrix array. As the active element, a thin film transistor having three terminals (hereinafter, referred to as TFT) is usually used,
Also, a thin film diode (TFD), for example, a metal insulated metal thin film diode having two terminals is used.

【0005】活性マトリックス液晶表示器上に表示され
る画像の均一性を得るため、書き込み動作(writing ope
ration) 時、表示(display) 信号線を介して印加された
信号の電圧を次の信号を受ける時までに限定された時間
の間一定に維持すべきである。この効果を得るため、蓄
積キャパシタが各画素に形成される。又、表示器の画質
を改善するため、蓄積キャパシタは液晶セルに並列に形
成される。ここで、蓄積キャパシタは通常注射信号線か
ら分離された独立的なワイヤ形態として形成され、独立
的なワイヤ形態の蓄積キャパシタンスを形成するための
キャパシタ電極は、注射信号線の形成工程時に前記注射
信号線と同時に形成される。
In order to obtain uniformity of an image displayed on an active matrix liquid crystal display, a writing operation is performed.
At the time of ration, the voltage of the signal applied via the display signal line should be kept constant for a limited time before receiving the next signal. To achieve this effect, a storage capacitor is formed for each pixel. In order to improve the image quality of the display, the storage capacitor is formed in parallel with the liquid crystal cell. Here, the storage capacitor is usually formed as an independent wire form separated from the injection signal line, and the capacitor electrode for forming the storage capacitance in the independent wire form is used for forming the injection signal line during the injection signal line forming process. It is formed at the same time as the line.

【0006】図3は独立したワイヤ形態の蓄積キャパシ
タが形成された従来の活性マトリックスLCDの画素レ
イアウトを示す。図示されたように、多数の注射信号線
2と表示信号線5とがマトリックス形状で下部ガラス基
板1上に配列され、これら2種類の信号線2、5により
囲まれた区域に画素が形成されており、各画素にITO
(Indium Tin Oxide)のような透明電極材料である画素電
極4が配列されている。又、注射信号線2上にはTFT
のチャンネル役割をする半導体層3が形成され、各半導
体層3はドレイン電極6により表示信号線5と接続され
ると共にソース電極7により画素電極4と接続される。
従って、マトリックス形状に配列された各画素は、スイ
ッチング素子としての機能をするTFTによりその駆動
が独立的に制御される。
FIG. 3 shows a pixel layout of a conventional active matrix LCD on which independent wire type storage capacitors are formed. As shown, a large number of injection signal lines 2 and display signal lines 5 are arranged in a matrix on the lower glass substrate 1, and pixels are formed in an area surrounded by these two types of signal lines 2, 5. And each pixel has ITO
The pixel electrodes 4 which are transparent electrode materials such as (Indium Tin Oxide) are arranged. Also, a TFT is provided on the injection signal line 2.
The semiconductor layers 3 each serving as a channel are formed. Each semiconductor layer 3 is connected to the display signal line 5 by the drain electrode 6 and connected to the pixel electrode 4 by the source electrode 7.
Accordingly, the driving of each pixel arranged in a matrix is independently controlled by the TFT functioning as a switching element.

【0007】又、各画素には各注射信号線2から所定間
隔が離隔され、それと平行な独立したワイヤ形態の蓄積
キャパシタ電極10が形成される。キャパシタ電極10
は不透明電導性金属、例えばクロム、タンタル、アルミ
ニウム、又はモリブデンなどから形成される。
Each pixel is separated from each injection signal line 2 by a predetermined distance, and an independent wire-shaped storage capacitor electrode 10 is formed in parallel with each injection signal line 2. Capacitor electrode 10
Is formed from an opaque conductive metal, such as chromium, tantalum, aluminum, or molybdenum.

【0008】しかし、前記のように独立的なワイヤ形態
の蓄積キャパシタを有する活性マトリックスLCDは、
各画素内に不透明金属からなるキャパシタ電極が形成さ
れるので、LCDの開口率が減少する。
However, as described above, an active matrix LCD having an independent wire-shaped storage capacitor is:
Since a capacitor electrode made of an opaque metal is formed in each pixel, the aperture ratio of the LCD is reduced.

【0009】又、最近LCDはその開口率を向上させる
ために画素電極と表示信号線との間の間隔及び、注射信
号線の間の間隔、表示信号線の間の間隔が最小になるよ
うに設計されているので、前記注射信号線及び表示信号
線に印加される信号の電圧変化により、前記注射信号線
及び表示信号線と画素電極との間に寄生容量(parasitic
capacitance) が生じそのために輝度のしみ(illuminan
ce spots) 及びクロストーク(crosstalking)が発生する
問題点がある。
Recently, in order to improve the aperture ratio of the LCD, the distance between the pixel electrode and the display signal line, the distance between the injection signal lines, and the distance between the display signal lines are minimized. Since it is designed, a voltage change of a signal applied to the injection signal line and the display signal line causes a parasitic capacitance (parasitic) between the injection signal line and the display signal line and the pixel electrode.
capacitance), and as a result
There is a problem that ce spots and crosstalking occur.

【0010】又、活性マトリックスLCDのカラー化を
実現するため、前記のような構造を有する下部基板とカ
ラーフィルタの形成された上部基板との合着(combinin
g) 工程時、画素電極とカラーフィルタとを正確に整列
させることには難しい問題点がある。これにより、画素
電極が対応するカラーフィルタに正確に整列していない
場合には光漏洩が発生し、又、光漏洩を防止するため
に、上部基板のカラーフィルタ間を分離させるためのブ
ラックマトリックスの幅を増大させれば、LCDの開口
率が低下する問題点が生じる。
Also, in order to realize the colorization of the active matrix LCD, the lower substrate having the above structure is combined with the upper substrate having the color filters formed thereon.
g) It is difficult to accurately align pixel electrodes and color filters during the process. Accordingly, when the pixel electrodes are not correctly aligned with the corresponding color filters, light leakage occurs, and in order to prevent light leakage, a black matrix for separating the color filters on the upper substrate is used. Increasing the width causes a problem that the aperture ratio of the LCD decreases.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、開口
率を向上させることができるLCD及びその製造方法を
提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an LCD capable of improving the aperture ratio and a method of manufacturing the same.

【0012】本発明の他の目的は、表示信号線と画素電
極との間の区域に遮光層を形成し、光漏洩を防止できる
LCD及びその製造方法を提供することにある。
It is another object of the present invention to provide an LCD in which a light-shielding layer is formed in an area between a display signal line and a pixel electrode to prevent light leakage, and a method of manufacturing the same.

【0013】本発明のさらなる他の目的は、表示信号線
と画素電極との間の間隔を従来の間隔より広く確保でき
るようにすることで、前記画素電極と表示信号線との間
に寄生キャパシタンスが発生することを防止し、寄生キ
ャパシタンスによる輝度のしみ及びクロストークが抑制
できるLCD及びその製造方法を提供することにある。
Still another object of the present invention is to make it possible to secure a larger distance between the display signal line and the pixel electrode than in the conventional case, thereby providing a parasitic capacitance between the pixel electrode and the display signal line. It is an object of the present invention to provide an LCD and a method of manufacturing the same, which can prevent the occurrence of the bleeding and suppress the luminance stain and crosstalk due to the parasitic capacitance.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明に係る液晶表示素子は、透明基板と、前記透
明基板上に配列される多数の注射信号線及び、前記多数
の注射信号線と交差する多数の表示信号線を有し、各注
射信号線は一対の副注射信号線から構成される。前記注
射信号線は多数対の副注射信号線が互いに広い間隔をお
いて反復されるように配列され、 前記一対の副注射信号
線中の一つは他のもう一つと狭い間隔を持ち隣接される
ように配列されており、前記一対の副注射信号線と一対
の表示信号線とは第1区域(狭い領域)を限定し、前記
一対の副注射信号線中の一つの副注射信号線と、それと
向き合っている次の対の副注射信号線中の一つの副注射
信号線と、一対の表示信号線とは前記第1領域より広い
第2区域(広い領域)を限定する多数の注射信号線及び
多数の表示信号線と、前記第2区域ごとに二つずつ配列
されているITOのような透明性導電物質から構成され
た多数の画素電極と、各々が前記表示信号線中の対応す
る信号線と前記画素電極中の対応する電極とに連結さ
れ、第2区域に対応する多数のスイッチング素子と、を
備えることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device comprising: a transparent substrate; a plurality of injection signal lines arranged on the transparent substrate; and the plurality of injection signal lines. , And each injection signal line is composed of a pair of sub-injection signal lines. The injection signal lines are arranged such that a plurality of pairs of sub-injection signal lines are repeated at a wide interval from each other, and one of the pair of sub-injection signal lines is adjacent to the other with a narrow interval. The pair of sub-injection signal lines and the pair of display signal lines define a first area (narrow area), and one sub-injection signal line of the pair of sub-injection signal lines One sub-injection signal line of the next pair of sub-injection signal lines facing it and a pair of display signal lines are a number of injection signals defining a second area (wide area) wider than the first area. And a plurality of display signal lines, and a plurality of pixel electrodes made of a transparent conductive material such as ITO arranged two by two in each of the second areas, each corresponding to a corresponding one of the display signal lines. A second section connected to a signal line and a corresponding electrode in the pixel electrode; And a large number of switching elements corresponding to

【0015】ゲート電極として使用される一対の副注射
信号線中の一つに対応して設けた一つの逆スタッガード
薄膜トランジスタは、スイッチング素子として前記副注
射信号線中の一つの上面に形成され、表示信号線を通じ
て一つの第2領域にある一つの画素電極へ電気信号を印
加する。同じ方法で、一対の副注射信号線中の他のもう
一つを用いる逆スタッガード薄膜トランジスタは、スイ
ッチング素子として前記副注射信号線中のもう一つの上
面に形成され、表示信号線を通じて前記の一つの第2領
域に隣接した他の第2領域にある一つの画素電極へ電気
信号を印加する。
One inverted staggered thin film transistor provided corresponding to one of the pair of sub-injection signal lines used as a gate electrode is formed as a switching element on one upper surface of the sub-injection signal line, An electric signal is applied to one pixel electrode in one second region through a display signal line. In the same manner, the reverse staggered thin film transistor using the other one of the pair of sub-injection signal lines is formed on another upper surface of the sub-injection signal line as a switching element, and the one through the display signal line. An electric signal is applied to one pixel electrode in another second region adjacent to one second region.

【0016】又、液晶表示素子は、“H”文字形の共通
電極が広い領域内に配置され、一対の画素電極に対応す
る。前記共通電極はTFTに連結された周辺部を除外し
二つの画素電極の周辺部に沿って絶縁層を介して重畳さ
れ、これらの間に蓄積キャパシタを形成する。前記共通
電極の対向する二つの外郭の側面は光漏洩を防止するた
めに少なくとも表示信号線まで伸張する。共通電極は隣
接する共通電極に両側の前記注射信号線と平行に接触部
分を通じて連結される。共通電極は前記注射信号線と表
示信号線とは独立に駆動される。
Further, in the liquid crystal display device, a common electrode having an "H" character shape is arranged in a wide area, and corresponds to a pair of pixel electrodes. The common electrode is superimposed on the periphery of the two pixel electrodes via an insulating layer except for the periphery connected to the TFT, and forms a storage capacitor therebetween. Side surfaces of the two outer shells of the common electrode extend at least to a display signal line to prevent light leakage. The common electrode is connected to an adjacent common electrode through contact portions in parallel with the injection signal lines on both sides. The common electrode is driven independently of the injection signal line and the display signal line.

【0017】本発明により、共通電極が一つの広い領域
にある二つの隣接する画素電極を共有するように構成す
ることで、 開口率が増加する。又、不透明な物質から構
成された共通電極が“H”文字形であり、画素電極と重
畳しないで対向する両側面が表示信号線へ伸張し、表示
信号線と画素電極との間の光遮断層の役割をするのでL
CDの光漏洩が防止され、光漏洩を防止するために上部
基板のブラックマトリックスを下部基板の画素電極の周
辺部に対応する部分へ延長する必要がない。
According to the present invention, the aperture ratio is increased by configuring the common electrode to share two adjacent pixel electrodes in one wide area. Also, the common electrode made of an opaque substance has an "H" character shape, and both sides facing each other extend to the display signal line without overlapping with the pixel electrode, thereby blocking light between the display signal line and the pixel electrode. L acts as a layer
Light leakage of the CD is prevented, and it is not necessary to extend the black matrix of the upper substrate to a portion corresponding to the periphery of the pixel electrode of the lower substrate in order to prevent light leakage.

【0018】さらには、本発明によると、各共通電極が
各画素領域にある二つの画素電極を共有することでLC
Dの開口率が増加するので、画素電極と表示信号線との
間の距離が従来の素子より広くなる。従って、画素電極
と表示信号線との間の寄生容量が大幅に減少し、これに
より表示信号線に印加される電圧の変化のためにLCD
駆動時に発生する輝度のしみ及びクロストークなどによ
るLCDの不備が防止される。
Further, according to the present invention, each common electrode shares two pixel electrodes in each pixel region, so that LC
Since the aperture ratio of D increases, the distance between the pixel electrode and the display signal line becomes wider than in the conventional device. Therefore, the parasitic capacitance between the pixel electrode and the display signal line is greatly reduced, and thus, the change in the voltage applied to the display signal line causes
LCD defects due to luminance spots and crosstalk generated during driving are prevented.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の望ましい実施例を詳しく説明する。
Preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0020】図1に示されたように、多数の注射信号線
20と、それと交差する多数の表示信号線50とが透明
基板200上に配列されている。各注射信号線20は一
対の副注射信号線から構成されている。又、注射信号線
は多数対の副注射信号線が互いに広い間隔をおいて反復
されるように配列されている。例えば、第1副注射信号
線20aと第2副注射信号線20bとは一対の注射信号
線を構成する。第3副注射信号線20cと第4副注射信
号線20dとはまた別の一対の注射信号線を構成する。
一対の副注射信号線20a及び20bは、また一対の副
注射信号線20c及び20dと広い間隔をおいて分離さ
れている。一対の副注射信号線中の一つの20a( また
は20c)、一対の副注射信号線中のもう一つの20b
(または20d) と狭い間隔をおいて隣接されるように
配列されている。一対の副注射信号線20a及び20b
は、一対の表示信号線50a及び50bと第1区域80
の即ち狭い区域を限定する。一対の副注射信号線中の一
つ20bと、それと向き合ってある次の対の副注射信号
線中の一つ20c及び、表示信号線50a及び50bと
は第2区域90の即ち広い区域を限定する。
As shown in FIG. 1, a large number of injection signal lines 20 and a large number of display signal lines 50 crossing the injection signal lines 20 are arranged on a transparent substrate 200. Each injection signal line 20 is composed of a pair of auxiliary injection signal lines. Also, the injection signal lines are arranged such that a number of pairs of sub-injection signal lines are repeated at a wide interval from each other. For example, the first auxiliary injection signal line 20a and the second auxiliary injection signal line 20b constitute a pair of injection signal lines. The third auxiliary injection signal line 20c and the fourth auxiliary injection signal line 20d form another pair of injection signal lines.
The pair of auxiliary injection signal lines 20a and 20b are separated from the pair of auxiliary injection signal lines 20c and 20d at a wide interval. One 20a (or 20c) in a pair of sub-injection signal lines, another 20b in a pair of sub-injection signal lines
(Or 20d) so as to be adjacent to each other with a small interval. A pair of auxiliary injection signal lines 20a and 20b
Is a pair of the display signal lines 50a and 50b and the first area 80.
Or a narrow area. One 20b of the pair of sub-injection signal lines, one 20c of the next pair of sub-injection signal lines facing it, and the display signal lines 50a and 50b define the second area 90, that is, the wide area. I do.

【0021】多数の画素電極は、二つの画素電極が各第
2区域内に配列されるように、第2区域内に形成されて
いる。例えば、二つの画素電極40a及び40bは、第
2区域90内で互いに予定された間隔をおいて表示信号
線50と平行に配列されている。各画素電極はITOの
ような透明電導性材料から形成されている。
The plurality of pixel electrodes are formed in the second area such that two pixel electrodes are arranged in each second area. For example, the two pixel electrodes 40 a and 40 b are arranged in the second area 90 in parallel with the display signal line 50 at predetermined intervals. Each pixel electrode is formed from a transparent conductive material such as ITO.

【0022】多数のスイッチング素子は各々画素電極に
電気的信号を印加するための注射信号線上に形成されて
いる。図3に示されたように、スイッチング素子として
二つの薄膜トランジスタ110a及び110bは、表示
信号線50aを二つの画素電極40a及び40bに連結
させるために第2区域90に対応する。一方、副注射信
号線20bをゲート電極として使用する逆スタッガード
薄膜トランジスタ(inversely staggered TFT )が、表示
信号線50aを通じて画素電極40aに電気信号を印加
するためのスイッチング素子として副注射信号線20b
上に形成される。又、同一の方式で、副注射信号線20
aをゲート電極として使用する逆スタッガード薄膜トラ
ンジスタ(inversely staggered TFT )が、表示信号線5
0aを通じて画素電極40cに電気的信号を印加するた
めのスイッチング素子として副注射信号線20a上に形
成される。逆スタッガード薄膜トランジスタの代わり
に、薄膜ダイオード(TFD )、例えば二つの端子を有する
金属絶体金属 (MIM )ダイオードが用いられる。ここ
で、表示信号線50aから突出した部分60aは、二つ
の薄膜トランジスタ110a及び110cの共通ドレイ
ン電極としての役割行う。共通ドレイン電極は、画素電
極40a及び、狭い区域80の上にある広い区域内の画
素電極40cに対応する。類似した方式で、表示信号線
50aから突出した部分60bは、薄膜トランジスタ1
10b及び110dの共通ドレイン電極を形成する。
A number of switching elements are formed on injection signal lines for applying electric signals to the pixel electrodes. As shown in FIG. 3, the two thin film transistors 110a and 110b as switching elements correspond to the second area 90 to connect the display signal line 50a to the two pixel electrodes 40a and 40b. On the other hand, an inversely staggered TFT using the sub-injection signal line 20b as a gate electrode is used as a switching element for applying an electric signal to the pixel electrode 40a through the display signal line 50a.
Formed on top. In the same manner, the secondary injection signal line 20 is used.
a is used as a gate electrode, and an inversely staggered TFT is used as the display signal line 5.
It is formed on the sub-injection signal line 20a as a switching element for applying an electric signal to the pixel electrode 40c through Oa. Instead of a reverse staggered thin film transistor, a thin film diode (TFD), for example, a metal-excellent metal (MIM) diode having two terminals, is used. Here, the portion 60a protruding from the display signal line 50a serves as a common drain electrode of the two thin film transistors 110a and 110c. The common drain electrode corresponds to the pixel electrode 40a and the pixel electrode 40c in the wide area above the narrow area 80. In a similar manner, the portion 60b protruding from the display signal line 50a is
The common drain electrodes 10b and 110d are formed.

【0023】“H”文字形の共通電極100は広い区域
90内に配列され、一対の画素電極40a及び40bを
共有している。図1に示されたように、共通電極100
は画素電極40a及40bとの間に蓄積キャパシタンス
形キャパシタを形成するため、二つの薄膜トランジスタ
110a及び110bに連結される二つの画素電極40
a及び40bの周辺部分100d及び100hを除外し
たところの2つの画素電極40a及び40bの周辺部分
100a、100b、100c、100e、100f、
及び100gに沿って画素電極と、重畳されるように配
列されている。電極100の二つの側面部分100i及
び100jは光漏洩を防止するために、少なくとも表示
信号線50a及び50bまで各々延長されている。
The "H" character-shaped common electrodes 100 are arranged in a wide area 90 and share a pair of pixel electrodes 40a and 40b. As shown in FIG.
Are two pixel electrodes 40 connected to two thin film transistors 110a and 110b to form a storage capacitance type capacitor between the pixel electrodes 40a and 40b.
The peripheral portions 100a, 100b, 100c, 100e, 100f of the two pixel electrodes 40a and 40b excluding the peripheral portions 100d and 100h of a and 40b.
And 100 g along with the pixel electrode. The two side portions 100i and 100j of the electrode 100 extend at least to the display signal lines 50a and 50b, respectively, to prevent light leakage.

【0024】図1に示されるように、“H”文字形の共
通電極100の各々は、連結部分100k及び100l
で隣接した“H”文字形の共通電極と左右方向へ注射信
号線と平行に連結されている。“H”文字形の電極10
0の各々は、注射信号線20と表示信号線50とは独立
して駆動される。
As shown in FIG. 1, each of the "H" character-shaped common electrodes 100 includes connecting portions 100k and 100l.
Are connected in parallel with the injection signal line in the left-right direction with the adjacent common electrode of the letter "H". "H" letter-shaped electrode 10
Each of the 0s is driven independently of the injection signal line 20 and the display signal line 50.

【0025】以下、本発明によるLCDを製造する方法
に対する一つの実施例を図1及び図2を参照して説明す
る。
Hereinafter, one embodiment of a method of manufacturing an LCD according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0026】図2に示されたように、先ず、透明基板2
00上に4000Å以下の厚さに第1金属層を蒸着す
る。そして、第1金属層をパターニング(patterning)し
注射信号線20と共通電極100とを形成する。このと
き、連結部分100k及び100Iが2つの隣接した共
通電極の間を連結するためにまた形成される。
As shown in FIG. 2, first, the transparent substrate 2
A first metal layer is deposited on the first metal layer to a thickness of 4000 ° or less. Then, the injection signal line 20 and the common electrode 100 are formed by patterning the first metal layer. At this time, connecting portions 100k and 100I are also formed to connect between two adjacent common electrodes.

【0027】ここで、図2に示されたように、注射信号
線20は多数対の副注射信号線から構成される。注射信
号線20は、多数対の副注射信号線がそれらの間に広い
間隔をおいて反復されるように配列されており、対をな
す2つの副注射信号線中の1つの20aは、もう1つの
20bとそれらの間に狭い間隔をおいて互いに隣接され
るように配列されている。共通電極100の各々は
“H”文字の形態を有する。“H”文字形態を有する電
極の各々は、それと隣接した“H”文字形態の共通電極
と連結部分100k及び100lとにより、注射信号線
と平行に左右へ連結されている。共通電極100は光遮
断層としての役割をするので、第1金属層はクロム、タ
ンタル、アルミニウム、モリタンタル及びモリタングス
テンなどのような不透明金属または合金から形成され
る。
Here, as shown in FIG. 2, the injection signal line 20 includes a plurality of pairs of sub-injection signal lines. The injection signal lines 20 are arranged such that a number of pairs of sub-injection signal lines are repeated with a large interval between them, and one 20a of the two sub-injection signal lines in the pair is One 20b is arranged so as to be adjacent to each other with a small space therebetween. Each of the common electrodes 100 has the form of an “H” character. Each of the electrodes having the “H” character form is connected to the left and right in parallel with the injection signal line by the adjacent “H” character form common electrode and the connection portions 100k and 100l. Since the common electrode 100 serves as a light blocking layer, the first metal layer is formed of an opaque metal or alloy such as chromium, tantalum, aluminum, molytantalum, and molytungsten.

【0028】続いて、化学蒸着法を使用し、前記の形成
物上に予定された厚さで絶縁層110を形成し、次いで
注射信号線20上にスイッチング素子を形成する領域を
限定するために、薄膜トランジスタのチャンネルとして
の役割をする非晶質シリコンの半導体層30を、絶縁層
110の表面上に形成する。
Subsequently, an insulating layer 110 is formed at a predetermined thickness on the above-mentioned structure using a chemical vapor deposition method, and then a region for forming a switching element on the injection signal line 20 is defined. Then, a semiconductor layer 30 of amorphous silicon serving as a channel of the thin film transistor is formed on the surface of the insulating layer 110.

【0029】その後、これら構造物上にITOのような
透明電導成薄膜を蒸着してからパターニングし、後で形
成される各第2領域内に二つの画素電極40a及び40
bを形成する。図2に示されるように、二つの画素電極
40a、40bは共通電極100に対応し、二つの画素
電極40a、40bは、その周辺部100a、100
b、100c、100e、100f、100gにおいて
は共通電極100と絶縁層110を介して重畳される。
After that, a transparent conductive thin film such as ITO is deposited on these structures and patterned, and two pixel electrodes 40a and 40 are formed in each second region to be formed later.
b is formed. As shown in FIG. 2, the two pixel electrodes 40a and 40b correspond to the common electrode 100, and the two pixel electrodes 40a and 40b have their peripheral portions 100a and 100b.
In b, 100c, 100e, 100f, and 100g, the common electrode 100 and the common electrode 100 are overlapped via the insulating layer 110.

【0030】次に、不透明電導金属を上の段階で生じた
形成物上に蒸着してからパターニングし、注射信号線2
0と交差する表示信号線(図2には示されてない)と、
ドレイン電極60a及び60bと、ソース電極70a、
70b、70c及び70dとを同時に形成する。ここ
で、図1に示されるように、表示信号線50aからの突
出部分60a及び60bの各々は、一対の副注射信号線
20a及び20b、または20c及び20d上に形成さ
れる一対の薄膜トランジスタ110c及び110a、ま
たは110b及び110dに対応する。
Next, an opaque conductive metal is vapor-deposited on the structure formed in the above step, and then patterned to form an injection signal line 2.
A display signal line crossing zero (not shown in FIG. 2);
Drain electrodes 60a and 60b and source electrode 70a,
70b, 70c and 70d are formed simultaneously. Here, as shown in FIG. 1, each of the protruding portions 60a and 60b from the display signal line 50a is connected to a pair of sub-injection signal lines 20a and 20b, or a pair of thin film transistors 110c and 20c formed on 20c and 20d. It corresponds to 110a or 110b and 110d.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明の実施例によると、共通電極の各
々が広い区域内にある二つの隣接した画素電極を共有す
るので、液晶表示素子の開口率が向上する。又、不透明
金属の共通電極が“H”文字形であり、また画素電極と
重畳されない共通電極の二つの側面部分が各々表示信号
線まで延長され、表示信号線と画素電極との間の光遮断
層としての役割をするので、LCDの光漏洩がなくな
り、光漏洩を防止するために上部基板上のブラックマト
リックスを画素電極の周辺部分に対応する領域まで延長
する必要がなくなる。
According to the embodiment of the present invention, each of the common electrodes shares two adjacent pixel electrodes in a wide area, so that the aperture ratio of the liquid crystal display device is improved. In addition, the common electrode of the opaque metal has an "H" character shape, and two side portions of the common electrode which do not overlap with the pixel electrode are respectively extended to the display signal line, so that light is blocked between the display signal line and the pixel electrode. Since it functions as a layer, light leakage of the LCD is eliminated, and it is not necessary to extend the black matrix on the upper substrate to a region corresponding to a peripheral portion of the pixel electrode in order to prevent light leakage.

【0032】又、本発明によると、共通電極一つ当たり
二つの画素電極が対応する構造になっているので、LC
Dの開口率を向上させることができ、画素電極と表示信
号線との間に従来より広いある程度の間隔を確保でき
る。従って、画素電極と表示信号線との間に発生する寄
生容量を抑制することができるので、輝度のしみとクロ
ストークによるLCDの画質の低下が防止できる。
Further, according to the present invention, since two pixel electrodes correspond to one common electrode, LC
The aperture ratio of D can be improved, and a certain gap wider than before can be secured between the pixel electrode and the display signal line. Accordingly, since the parasitic capacitance generated between the pixel electrode and the display signal line can be suppressed, it is possible to prevent the deterioration of the image quality of the LCD due to the luminance spot and the crosstalk.

【0033】一方、ここでは本発明の特定の実施例に対
し図示して説明したが、当業者によりこれに対する修正
と変型が可能である。従って、特許請求の範囲は、本発
明の真正の概念の範囲に属する限り、すべての修正と変
型とを含むものとして理解できる。
On the other hand, although specific embodiments of the present invention have been shown and described herein, modifications and variations may be made by those skilled in the art. It is therefore intended that the following claims be interpreted as including all alterations and modifications as fall within the true concept of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による活性マトリックス形LCDを説明
するための平面図である。
FIG. 1 is a plan view illustrating an active matrix type LCD according to the present invention.

【図2】本発明による活性マトリックス形LCDの製造
方法を説明するために図1をIII −III ´に沿って切断
した断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along a line III-III ′ of FIG. 1 for explaining a method of manufacturing an active matrix LCD according to the present invention.

【図3】従来技術による活性マトリックスLCDを説明
するための平面図である。
FIG. 3 is a plan view illustrating an active matrix LCD according to the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20、20a、20b、20c、20d 注射信号線 30 半導体層 40a、40b、40c 画素電極 50、50a、50b 表示信号線 80 第1区域 90 第2区域 100 共通電極 20, 20a, 20b, 20c, 20d Injection signal line 30 Semiconductor layer 40a, 40b, 40c Pixel electrode 50, 50a, 50b Display signal line 80 First section 90 Second section 100 Common electrode

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板と、 前記透明基板表面に配列され、各々が一対の副注射信号
線から構成された多数の注射信号線と、 前記の多数の注射信号線は、多数の副注射信号線対が第
1の長さに離隔され反復されるように配列され、前記一
対の副注射信号線中の一つは前記一対の副注射信号線の
もう一つと前記第1の長さより短い長さの第2の長さに
離隔され、 前記多数の注射信号線と交差して前記透明基板表面に配
列された多数の表示信号線と、 前記表示信号線の一対は、前記一対の副注射信号線とと
もに第1領域を限定し、前記一対の副注射信号線の上段
信号線と、前記一対の副注射信号線の次の副注射信号線
の一対の下段信号線及び、前記表示信号線の一対が前記
第1領域より広い第2領域を限定し、 前記第2領域ごとに二つずつ配列される多数の画素電極
と、 それぞれが前記表示信号線中の対応する信号線と前記画
素電極の中の対応する電極とに連結され、第2領域に対
応する多数のスイッチング素子及び、 対応する第2領域内にある対応する二つの画素電極と向
き合うようにするため、それぞれが前記各第2領域内に
ある二つの画素電極により共有されるように第2領域中
に配列されており、多数の注射信号線と多数の表示信号
線と独立的に駆動される多数の共通電極とからなること
を特徴とする液晶表示素子。
A plurality of injection signal lines arranged on a surface of the transparent substrate, each of the plurality of injection signal lines including a pair of sub-injection signal lines; The line pairs are arranged to be spaced apart and repeated at a first length, wherein one of the pair of sub-injection signal lines is shorter than the other of the pair of sub-injection signal lines and the first length. A plurality of display signal lines intersecting with the plurality of injection signal lines and arranged on the surface of the transparent substrate, and a pair of the display signal lines is a pair of the sub-injection signals. The first region is limited together with the line, the upper signal line of the pair of sub-injection signal lines, the lower signal line of the pair of sub-injection signal lines next to the pair of sub-injection signal lines, and the pair of the display signal lines. Defines a second area wider than the first area, and two are arranged for each second area. A plurality of pixel electrodes, each of which is connected to a corresponding one of the display signal lines and a corresponding one of the pixel electrodes, and a plurality of switching elements corresponding to the second region; A plurality of injections are arranged in the second region, each being shared by the two pixel electrodes in each said second region, so as to face two corresponding pixel electrodes in the region. A liquid crystal display device comprising a signal line, a number of display signal lines, and a number of common electrodes driven independently.
【請求項2】 前記第2領域の一つの共通電極が、隣接
する第2領域の共通電極に連結させる部分を更に含むこ
とを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein one common electrode of the second region further includes a portion connected to a common electrode of an adjacent second region.
【請求項3】 前記多数の共通電極のそれぞれは“H”
文字の形態をなしており、前記各共通電極は、対応する
二つの画素電極と蓄積キャパシタンス形キャパシタを形
成するため、スイッチング素子とそれぞれ連結される、
対応する二つの画素電極の縁部分を除外した前記二つの
画素電極の縁部分に沿って重畳することを特徴とする請
求項1記載の液晶表示素子。
3. Each of the plurality of common electrodes is “H”.
In the form of a letter, wherein each of said common electrodes is respectively connected to a switching element to form a storage capacitance type capacitor with two corresponding pixel electrodes;
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display element overlaps the edge portions of the two pixel electrodes except for the edge portions of the corresponding two pixel electrodes.
【請求項4】 前記共通電極の二つの対向する最外郭の
側面が少なくとも前記表示信号線まで伸張することを特
徴とする請求項3記載の液晶表示素子。
4. The liquid crystal display device according to claim 3, wherein two opposed outermost side surfaces of the common electrode extend at least to the display signal line.
【請求項5】 前記二つのスイッチング素子は、一対の
副注射信号線上に形成され、前記二つのスイッチング素
子は、二つのドレイン電極としての役割をなして対応す
る表示信号線からの一つの共通突出部分を有することを
特徴とする請求項1記載の液晶表示素子。
5. The two switching elements are formed on a pair of sub-injection signal lines, and the two switching elements serve as two drain electrodes and have one common protrusion from a corresponding display signal line. 2. The liquid crystal display device according to claim 1, comprising a portion.
【請求項6】 前記共通電極と前記注射信号線は、同一
の材料から形成されることを特徴とする請求項1記載の
液晶表示素子。
6. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the common electrode and the injection signal line are formed of the same material.
【請求項7】 前記材料は、アルミニウム、クロム、モ
リタンタル及びモリブデンとからなるグループから選択
された少なくとも一つの不透明電導性金属または合金で
あることを特徴とする請求項6記載の液晶表示素子。
7. The liquid crystal display device according to claim 6, wherein the material is at least one opaque conductive metal or alloy selected from the group consisting of aluminum, chromium, molybdenum and molybdenum.
【請求項8】 第1項の液晶表示素子を製造する方法
は、前記透明基板上に第1金属層を形成する段階と、前
記第1金属層をパターニングして前記注射信号線と、前
記第2領域内の共通電極を形成する段階と、結果として
形成された構造体の表面上に連続して絶縁体層及び半導
体層を形成する段階と、前記半導体層が前記注射信号線
の一部分の周囲のみに残るように前記半導体層をパター
ニングする段階と、その結果として形成された構造体の
表面上に透明電導層を形成する段階と、前記透明電導層
をパターニングして画素電極を形成する段階と、更にそ
の結果として形成された構造体上に第2金属層を形成す
る段階及び前記第2金属層をパターニングして同時に前
記半導体層上に多数の表示信号線及び、スイッチング素
子のソース/ドレイン電極を形成する段階とを含むこと
を特徴とする液晶表示素子の製造方法。
8. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, further comprising: forming a first metal layer on the transparent substrate; patterning the first metal layer to form the injection signal line; Forming a common electrode in the two regions; forming an insulator layer and a semiconductor layer continuously on the surface of the resulting structure; and forming the semiconductor layer around a portion of the injection signal line. Patterning the semiconductor layer so as to remain only, forming a transparent conductive layer on the surface of the resulting structure, and forming a pixel electrode by patterning the transparent conductive layer. Forming a second metal layer on the resultant structure, and patterning the second metal layer to simultaneously form a plurality of display signal lines and a source / drain of a switching element on the semiconductor layer. Forming a liquid crystal display element.
【請求項9】 前記注射信号線と前記共通電極とを形成
する段階で、前記一つの第2領域の共通電極を前記一つ
の第2領域に隣接する他の第2領域の共通電極に連結さ
せる連結部を同時に形成することを特徴とする請求項8
記載の液晶表示素子の製造方法。
9. The step of forming the injection signal line and the common electrode, wherein the common electrode of the one second area is connected to the common electrode of another second area adjacent to the one second area. 9. The connecting part is formed simultaneously.
The manufacturing method of the liquid crystal display element described in.
【請求項10】 前記共通電極の二つの対向する最外郭
の側面が少なくとも前記表示信号線まで伸張することを
特徴とする請求項8記載の液晶表示素子の製造方法。
10. The method according to claim 8, wherein two opposed outermost side surfaces of the common electrode extend at least to the display signal line.
【請求項11】 前記多数の共通電極のそれぞれは
“H”文字の形態をなしており、前記各共通電極は、対
応する二つの画素電極と蓄積キャパシタンス形キャパシ
タを形成するため、スイッチング素子がそれぞれ連結さ
れる、対応する二つの画素電極の縁部分に沿って重畳す
ることを特徴とする請求項8記載の液晶表示素子の製造
方法。
11. Each of the plurality of common electrodes is in the form of an “H” character, and each of the common electrodes forms a storage capacitance type capacitor with two corresponding pixel electrodes. 9. The method according to claim 8, wherein the overlapping is performed along an edge of the corresponding two pixel electrodes.
【請求項12】 前記二つのスイッチング素子は前記一
対の副注射信号線上に形成され、前記二つのスイッチン
グ素子は、対応する表示信号線から突出されてドレイン
電極の役割をする一つの共通電極を有することを特徴と
する請求項8記載の液晶表示素子の製造方法。
12. The two switching elements are formed on the pair of sub-injection signal lines, and the two switching elements have one common electrode protruding from a corresponding display signal line and serving as a drain electrode. 9. The method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 8, wherein:
【請求項13】 前記共通電極と前記注射信号線は同一
物質からなることを特徴とする請求項8記載の液晶表示
素子の製造方法。
13. The method according to claim 8, wherein the common electrode and the injection signal line are made of the same material.
【請求項14】 前記第1金属層は、アルミニウム、ク
ロム、モリタンタル及びモリブデンとからなるグループ
から選択された、少なくとも一つの不透明電導性金属又
は合金であることを特徴とする請求項13記載の液晶表
示素子の製造方法。
14. The liquid crystal according to claim 13, wherein the first metal layer is at least one opaque conductive metal or alloy selected from the group consisting of aluminum, chromium, molybdenum and molybdenum. A method for manufacturing a display element.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8194199B2 (en) 2004-12-02 2012-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Liquid crystal display device having a ratio of liquid crystal capacitances equal to a ratio of parasitic capacitances

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