JPH11172025A - Printed-wiring board pre-preg and metal clad laminated board using this - Google Patents

Printed-wiring board pre-preg and metal clad laminated board using this

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JPH11172025A
JPH11172025A JP9341790A JP34179097A JPH11172025A JP H11172025 A JPH11172025 A JP H11172025A JP 9341790 A JP9341790 A JP 9341790A JP 34179097 A JP34179097 A JP 34179097A JP H11172025 A JPH11172025 A JP H11172025A
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JP
Japan
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molecular weight
epoxy resin
prepreg
weight
resin
Prior art date
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Application number
JP9341790A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Sakai
広志 酒井
Akira Murai
曜 村井
Ikuo Sugawara
郁夫 菅原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JPH11172025A publication Critical patent/JPH11172025A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed-wiring board pre-preg which has an improved processibility and handleability and exerts an extremely low dusting characteristic when the pre-preg is cut or processed, and a metal clad laminated board with few dents using this. SOLUTION: A printed-wiring board pre-preg is obtained by impregnating a glass woven fabric or a glass bonded fabric with a varnish essentially comprising (a) a straight-chain, high-molecular-weight epoxy resin having an epoxy equivalent of 5,000 or larger and a weight average molecular weight of from 5,000 to 50,000, (b) a low-molecular-weight epoxy resin having a weight average molecular weight of 5,000 or smaller, (c) hardener and (d) a promoter, heating it and converting it to B-stage. A metal clad laminated board is obtained by laminating at least one piece of this printed-wiring board pre-preg and heat- pressure-molding it with metal foils applied on one side or both sides thereof.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線板を
はじめとする電気絶縁材料に使用するプリプレグおよび
それを用いた金属箔張積層板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a prepreg used for an electrical insulating material such as a printed wiring board and a metal foil-clad laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】エポキシ樹脂積層板はエポキシ樹脂組成
物のワニス溶液をガラス織布またはガラス不織布に含浸
し、乾燥してBステージ化したプリプレグを積層し、加
熱加圧して製造されている。エポキシ樹脂組成物は、エ
ポキシ当量が150〜1000程度の低分子量のエポキ
シ樹脂に硬化剤および硬化促進剤を配合し、必要により
難燃剤や充填剤を配合したものである。
2. Description of the Related Art Epoxy laminates are manufactured by impregnating a woven glass or nonwoven glass fabric with a varnish solution of an epoxy resin composition, drying and drying a B-staged prepreg, and applying heat and pressure. The epoxy resin composition is obtained by blending a curing agent and a curing accelerator with a low molecular weight epoxy resin having an epoxy equivalent of about 150 to 1000, and blending a flame retardant and a filler as necessary.

【0003】ガラス織布またはガラス不織布はロール状
のものを使用することが多く、その結果プリプレグもロ
ール状で製造され、その後に所定の寸法に切断されて、
次の積層板製造工程に使用される。
[0003] Glass woven fabric or glass nonwoven fabric is often used in the form of a roll, and as a result, prepreg is also manufactured in the form of a roll, and then cut into predetermined dimensions.
It will be used in the next laminated board manufacturing process.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが従来のエポキ
シ樹脂プリプレグは切断時および積層前の構成時に切断
面および表面からの発塵が多く、金属箔張積層板を成形
する際に、樹脂粉が金属箔表面に付着することにより、
打痕不良を生じ易い。この対応策として、プリプレグ切
断後にプリプレグを再加熱処理して、付着した粉を融着
させる方法があるが、再加熱することによりプリプレグ
の硬化反応が進んでしまいプリプレグ特性が変化してし
まったり、再加熱したプリプレグも運搬の際に擦れて再
発塵する等のデメリットがあり、決定的な解決策とはい
えない。また、工程が増えることにより生産効率が低下
してしまう。
However, the conventional epoxy resin prepreg generates a large amount of dust from the cut surface and the surface during cutting and before the lamination, and when the metal foil-clad laminate is formed, the resin powder is made of metal. By adhering to the foil surface,
Dent defects are likely to occur. As a countermeasure, there is a method of reheating the prepreg after cutting the prepreg and fusing the adhered powder, but by reheating, the curing reaction of the prepreg progresses, and the prepreg characteristics are changed, The reheated prepreg also has disadvantages such as rubbing during transportation and re-dusting, and cannot be said to be a definitive solution. In addition, the production efficiency decreases due to the increase in the number of steps.

【0005】本発明の目的は、発塵性を著しく小さくし
て、加工性および取扱性を向上させたプリント配線板用
プリプレグ及びそれを用いた金属箔張積層板を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a prepreg for a printed wiring board, which has extremely reduced dusting properties and has improved workability and handleability, and a metal foil-clad laminate using the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、(a)エポキ
シ当量が5000以上で重量平均分子量が5000〜5
0000の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂、(b)低分
子量エポキシ樹脂、(c)硬化剤、(d)硬化促進剤を
必須成分として配合したワニスをガラス織布またはガラ
ス不織布に含浸し、加熱して、Bステージ化することを
特徴とするプリント配線板用プリプレグである。また、
本発明は、(a)の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂がワ
ニスの樹脂固形分の15〜50重量%であると好ましい
プリント配線板用プリプレグである。そして、この
(a)の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂がフェノキシ樹
脂またはビフェニルジオールとビフェニルジオールのジ
グリシジルエーテルの重合体であると好ましいプリント
配線板用プリプレグである。さらに、本発明は、上記の
プリント配線板用プリプレグを少なくとも1枚以上重
ね、その片面若しくは両面に金属箔を介して加熱加圧成
形して得られる金属箔張積層板である。
According to the present invention, there are provided (a) an epoxy equivalent of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 5,000 to 5,
A varnish containing 0000 linear high molecular weight epoxy resin, (b) low molecular weight epoxy resin, (c) curing agent, and (d) curing accelerator as essential components is impregnated into glass woven fabric or glass nonwoven fabric, and heated. Then, a prepreg for a printed wiring board characterized in that the prepreg is formed into a B stage. Also,
The present invention is a prepreg for a printed wiring board, wherein the linear high molecular weight epoxy resin (a) is preferably 15 to 50% by weight of the resin solid content of the varnish. And it is a prepreg for a printed wiring board, wherein the linear high molecular weight epoxy resin of (a) is preferably a phenoxy resin or a polymer of biphenyldiol and diglycidyl ether of biphenyldiol. Further, the present invention is a metal-foil-clad laminate obtained by laminating at least one or more prepregs for a printed wiring board described above and heating and press-molding one or both surfaces thereof via a metal foil.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】ここに用いられる(a)の直鎖状
の高分子量エポキシ樹脂は、2官能エポキシ樹脂と2官
能フェノール類を重合反応させることにより高分子量化
させたものであって、エポキシ当量が5000以上で重
量平均分子量が5000〜50000の高分子量エポキ
シ樹脂を用いれば制限されない。このような高分子量エ
ポキシ樹脂は直鎖状に重合した高分子量体であるため
に、熱可塑性樹脂と同様の性質を持っている。例えば、
フェノキシ樹脂もビスフェノールAのジグリシジルエー
テルとビスフェノールAが重合した構造を持つ高分子量
エポキシ樹脂の1種であるが、このフェノキシ樹脂は熱
可塑性樹脂として知られており、塗料、成型加工、接着
剤等に使用されている。そのため、ワニス中にこのよう
な高分子量エポキシ樹脂を混合することにより、プリプ
レグ樹脂中でフィルム化して発塵するのを防止すること
ができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The linear high molecular weight epoxy resin (a) used herein is obtained by polymerizing a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol to have a high molecular weight. The use of a high molecular weight epoxy resin having an epoxy equivalent of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000 is not limited. Since such a high molecular weight epoxy resin is a high molecular weight polymer which is linearly polymerized, it has the same properties as a thermoplastic resin. For example,
Phenoxy resin is also a kind of high molecular weight epoxy resin having a structure in which diglycidyl ether of bisphenol A and bisphenol A are polymerized, and this phenoxy resin is known as a thermoplastic resin, and includes paints, molding processes, adhesives, etc. Used in Therefore, by mixing such a high molecular weight epoxy resin into the varnish, it is possible to prevent the varnish from forming a film in the prepreg resin and generating dust.

【0008】本発明で使用する(a)の直鎖状の高分子
量エポキシ樹脂は、特開平4−120124号公報に示
されている二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類を
例えばアルカリ金属化合物触媒の存在下、溶媒中で加熱
して重合させ、合成することにより製造することができ
る。高分子量エポキシ樹脂の合成原料である二官能エポ
キシ樹脂は、分子内に二個のエポキシ基をもつ化合物で
あれば制限されない。例えば、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールS型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族
鎖状エポキシ樹脂、その他、二官能フェノール類のジグ
リシジルエーテル化物、二官能アルコール類のジグリシ
ジルエーテル化物、およびそれらのハロゲン化物、水素
添加物などがある。これらの化合物の分子量は制限され
ず何種類かを併用することができる。また二官能エポキ
シ樹脂以外の成分を含んでいても構わない。
The straight-chain, high-molecular-weight epoxy resin (a) used in the present invention is prepared by combining a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol disclosed in JP-A-4-120124, for example, with an alkali metal compound catalyst. It can be produced by heating and polymerizing in a solvent in the presence and synthesizing. The bifunctional epoxy resin which is a raw material for synthesizing a high molecular weight epoxy resin is not limited as long as it is a compound having two epoxy groups in a molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, other diglycidyl etherified products of bifunctional phenols, and bifunctional alcohols Diglycidyl ethers, and their halides, hydrogenated products, and the like. The molecular weight of these compounds is not limited, and several kinds can be used in combination. Further, components other than the bifunctional epoxy resin may be included.

【0009】高分子量エポキシ樹脂の合成原料である二
官能フェノール類は、二個のフェノール性水酸基をもつ
化合物であれば特に制限されない。例えば、単環二官能
フェノールであるヒドロキノン、レゾルシノール、カテ
コール、多環二官能フェノールであるビスフェノール
A、ビスフェノールF、ジヒドロキシジフェニルエーテ
ル、ナフタレンジオールおよびこれらのハロゲン化物、
アルキル基置換体、異性体などがある。これらの化合物
の分子量は制限されず、これらの化合物は何種類かを併
用することができる。また二官能フェノール類以外の成
分が、少量であれば含まれていても良い。
The bifunctional phenol which is a raw material for synthesizing a high molecular weight epoxy resin is not particularly limited as long as it is a compound having two phenolic hydroxyl groups. For example, monocyclic bifunctional phenol hydroquinone, resorcinol, catechol, polycyclic bifunctional phenol bisphenol A, bisphenol F, dihydroxydiphenyl ether, naphthalene diol and halides thereof,
There are alkyl group substituents and isomers. The molecular weight of these compounds is not limited, and some of these compounds can be used in combination. In addition, components other than the bifunctional phenols may be contained in a small amount.

【0010】高分子量エポキシ樹脂の合成触媒として、
アルカリ金属化合物を使用するのが好ましい。アルカリ
金属化合物の例としては、ナトリウム、リチウム、カリ
ウムの水酸化物、ハロゲン化物、有機酸塩、アルコラー
ト、フェノラート、水素化物、ホウ水素化物、アミドな
どがある。
As a catalyst for synthesizing a high molecular weight epoxy resin,
It is preferred to use an alkali metal compound. Examples of alkali metal compounds include sodium, lithium and potassium hydroxides, halides, organic acid salts, alcoholates, phenolates, hydrides, borohydrides, amides and the like.

【0011】高分子量エポキシ重合体の合成溶媒は、ア
ミド系溶媒または、沸点が130℃以上のケトン系溶媒
を用いるのが好ましい。合成溶媒として好ましいアミド
系溶媒は、原料となる二官能エポキシ樹脂と二官能フェ
ノール類を溶解すれば、制限されずに用いることができ
る。例えばホルムアミド、N−メチルホルムアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メ
チルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N,N′,N′−テトラメチル尿素、2−ピロリド
ン、N−メチルピロリドン、カルバミド酸エステルなど
がある。また、合成溶媒として好ましいケトン系溶媒
は、沸点が130℃以上で、原料となる二官能エポキシ
樹脂と二官能フェノール類を溶解すれば制限されず、例
えばシクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジイソブチ
ルケトン、ホロン、イソホロン、メチルシクロヘキサノ
ン、アセトフェノンなどが挙げられる。これらの溶媒は
併用して使用することができる。またアミド系、ケトン
系、エーテル系、アルコール系、エステル系などに代表
されるその他の溶媒と併用しても構わない。
As a solvent for synthesizing the high molecular weight epoxy polymer, it is preferable to use an amide solvent or a ketone solvent having a boiling point of 130 ° C. or higher. An amide-based solvent that is preferable as a synthesis solvent can be used without limitation as long as it dissolves a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol as raw materials. For example, formamide, N-methylformamide,
N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide,
N, N, N ', N'-tetramethylurea, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone, carbamic acid esters and the like. Further, a ketone solvent preferable as a synthesis solvent has a boiling point of 130 ° C. or higher and is not limited as long as it dissolves a bifunctional epoxy resin as a raw material and a bifunctional phenol, and for example, cyclohexanone, acetylacetone, diisobutylketone, holone, isophorone, Methylcyclohexanone, acetophenone and the like can be mentioned. These solvents can be used in combination. Further, it may be used in combination with other solvents such as amides, ketones, ethers, alcohols and esters.

【0012】高分子量エポキシ樹脂の合成条件として
は、二官能エポキシ樹脂と二官能フェノール類の配合当
量比は、エポキシ基/フェノール性水酸基=1/0.9
〜1.1であることが望ましい。0.9当量未満である
と、直鎖状に高分子量化せずに、副反応が起きて架橋
し、溶媒に不溶になる。1.1当量を超えると、高分子
量化が進まない。高分子量エポキシ重合体の合成反応温
度は、60〜150℃であることが望ましい。60℃よ
り低いと高分子量化反応が著しく遅く、150℃より高
いと副反応が多くなり直鎖状に高分子量化しない。高分
子量エポキシ重合体の合成反応時の固形分濃度は50重
量%以下であればより好ましいが、さらに好ましくは4
0重量%以下にすることが望ましい。高濃度になるにし
たがい副反応が多くなり、直鎖状に高分子量化しにくく
なる。したがって、比較的高濃度で重合反応を行い、し
かも直鎖状の高分子量エポキシ重合体を得ようとする場
合には、反応温度を低くし、触媒量を少なくする必要が
ある。
The conditions for synthesizing the high molecular weight epoxy resin are as follows: the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol is as follows: epoxy group / phenolic hydroxyl group = 1 / 0.9
It is desirable that the value be ~ 1.1. When the amount is less than 0.9 equivalent, a side reaction occurs without causing a high molecular weight in a linear form, whereby the polymer is crosslinked and insoluble in a solvent. If it exceeds 1.1 equivalents, the increase in the molecular weight will not proceed. The synthesis reaction temperature of the high molecular weight epoxy polymer is desirably 60 to 150 ° C. When the temperature is lower than 60 ° C., the reaction for increasing the molecular weight is remarkably slow, and when the temperature is higher than 150 ° C., side reactions increase and the molecular weight is not increased linearly. The solid content concentration during the synthesis reaction of the high molecular weight epoxy polymer is more preferably 50% by weight or less, more preferably 4% by weight.
It is desirable that the content be 0% by weight or less. As the concentration increases, side reactions increase and it becomes difficult to increase the molecular weight in a linear manner. Therefore, when performing a polymerization reaction at a relatively high concentration and obtaining a linear high molecular weight epoxy polymer, it is necessary to lower the reaction temperature and reduce the amount of catalyst.

【0013】この直鎖状の高分子量エポキシ樹脂(a)
のエポキシ当量は5000以上でなければならない。エ
ポキシ当量がこれより小さいと、プリプレグからの発塵
を防止することが困難である。また、高分子量エポキシ
樹脂(a)の重量平均分子量は、5000〜50000
でなければならない。この範囲より重量平均分子量が小
さいとプリプレグからの発塵を防止することができず、
また大きすぎると、高分子量エポキシ樹脂の粘度が高く
なってしまい作業性が悪くなってしまう。更に、そのプ
リプレグを用いて作製する積層板のガラス転移温度(T
g)が低下したり、耐熱性が悪化してしまう。
This linear high molecular weight epoxy resin (a)
Must have an epoxy equivalent of 5000 or more. If the epoxy equivalent is smaller than this, it is difficult to prevent dust generation from the prepreg. The weight average molecular weight of the high molecular weight epoxy resin (a) is 5,000 to 50,000.
Must. If the weight average molecular weight is smaller than this range, dust generation from the prepreg cannot be prevented,
On the other hand, if it is too large, the viscosity of the high-molecular-weight epoxy resin increases, and the workability deteriorates. Further, the glass transition temperature (T
g) is reduced or heat resistance is deteriorated.

【0014】この高分子量エポキシ樹脂(a)の配合量
としてはワニスの樹脂固形分の15〜50重量%、より
好ましくは20〜40重量%が良好なプリプレグ特性を
得ることができる。この範囲より配合量が少ないと、プ
リプレグからの発塵を抑えることができない。また多す
ぎると、積層板の耐熱性の悪化やガラス転移温度(T
g)の低下等の積層板特性が低下してしまう。
As the compounding amount of the high molecular weight epoxy resin (a), 15 to 50% by weight, more preferably 20 to 40% by weight of the resin solid content of the varnish can obtain good prepreg characteristics. If the amount is less than this range, dust generation from the prepreg cannot be suppressed. If too large, the heat resistance of the laminate deteriorates and the glass transition temperature (T
The characteristics of the laminate such as g) decrease.

【0015】また、本発明で使用する(b)の低分子量
エポキシ樹脂の種類としては、分子内に2個以上のエポ
キシ基を有するものであれば制限されず、例えば、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポ
キシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、脂環式エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA
ノボラック型エポキシ樹脂、多官能フェノールのジグリ
シジルエーテル化物、多官能アルコールのジグリシジル
エーテル化物、これらのハロゲン化物、これらの水素添
加物等があり、何種類かを併用することもできる。
The type of the low molecular weight epoxy resin (b) used in the present invention is not limited as long as it has two or more epoxy groups in the molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, Bisphenol F epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, alicyclic epoxy resin, phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, bisphenol A
There are novolak type epoxy resins, diglycidyl etherified products of polyfunctional phenols, diglycidyl etherified products of polyfunctional alcohols, halides thereof, hydrogenated products thereof, and the like, and some of them can be used in combination.

【0016】エポキシ樹脂の硬化剤(c)としてはアミ
ン類、フェノール類、酸無水物等が挙げられるが、電気
絶縁性ワニス用に通常用いられているものであれば特に
制約はない。アミン類としては、ジエチルアミン、ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジエチル
アミノプロピルアミン、アミノエチルピペラジン、メン
センジアミン、メタキシリレンジアミン、ジシアンジア
ミド、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニル
スルフォン、メチレンジアニリン、メタフェニレンジア
ミン等があげられる。フェノール類としては、ビフェノ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノー
ルノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノール
Aノボラックおよびこれらのハロゲン化物、アルキル基
置換体等がある。酸無水物としては、無水ヘキサヒドロ
フタル酸(HPA)、無水テトラヒドロフタル酸(TH
PA)、無水ピロメリット酸(PMDA)、無水クロレ
ンド酸(HET)、無水ナディック酸(NA)、無水メ
チルナディック酸(MNA)、無水ドデシニルコハク酸
(DDSA)、無水フタル酸(PA)、メチルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸(MeHPA)、無水マレイン酸等が
ある。これらの硬化剤は何種類かを併用してもよい。
Examples of the curing agent (c) for the epoxy resin include amines, phenols, and acid anhydrides, but are not particularly limited as long as they are generally used for an electrically insulating varnish. Examples of the amines include diethylamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diethylaminopropylamine, aminoethylpiperazine, mensendiamine, metaxylylenediamine, dicyandiamide, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, methylenedianiline, and metaphenylenediamine. . Examples of phenols include biphenol, bisphenol A, bisphenol F, phenol novolak, cresol novolak, bisphenol A novolak, and halides and alkyl group-substituted products thereof. Examples of the acid anhydride include hexahydrophthalic anhydride (HPA) and tetrahydrophthalic anhydride (THA).
PA), pyromellitic anhydride (PMDA), chlorendic anhydride (HET), nadic anhydride (NA), methylnadic anhydride (MNA), dodecynylsuccinic anhydride (DDSA), phthalic anhydride (PA), methylhexa Examples include hydrophthalic anhydride (MeHPA) and maleic anhydride. Some of these curing agents may be used in combination.

【0017】(d)の硬化促進剤としてはイミダゾール
化合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモ
ニウム塩等が用いられるが、第2級アミノ基をアクリロ
ニトリル、イソシアネート、メラミン、アクリレート等
でマスク化したイミダゾール化合物を用いると従来の2
倍以上の保存安定性を有するプリプレグを得ることがで
きる。ここで使用されるイミダゾール化合物としては、
イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチル−
4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、
2−ウンデシルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチ
ルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4,
5−ジフェニルイミダゾール、2−メチルイミダゾリ
ン、2−エチル−4−メチルイミダゾリン、2−フェニ
ルイミダゾリン、2−ウンデシルイミダゾリン、2−ヘ
プタデシルイミダゾリン、2−イソプロピルイミダゾー
ル、2,4−ジメチルイミダゾール、2−フェニル−4
−メチルイミダゾール、2−メチルイミダゾリン、2−
イソプロピルイミダゾリン、2,4−ジメチルイミダゾ
リン、2−フェニル−4−メチルイミダゾリン等があ
る。マスク化剤としてはアクリロニトリル、フェニレン
ジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ナフタ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、メチレンビスフェニルイソシアネート、メラミンア
クリレート等がある。これらの硬化促進剤は何種類かを
併用してもよい。
As the curing accelerator (d), an imidazole compound, an organic phosphorus compound, a tertiary amine, a quaternary ammonium salt or the like is used, and the secondary amino group is changed to acrylonitrile, isocyanate, melamine, acrylate or the like. When a masked imidazole compound is used, the conventional 2
A prepreg having twice or more storage stability can be obtained. As the imidazole compound used here,
Imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-
4-methylimidazole, 2-phenylimidazole,
2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 4,
5-diphenylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-ethyl-4-methylimidazoline, 2-phenylimidazoline, 2-undecylimidazoline, 2-heptadecylimidazoline, 2-isopropylimidazole, 2,4-dimethylimidazole, 2- Phenyl-4
-Methylimidazole, 2-methylimidazoline, 2-
There are isopropylimidazoline, 2,4-dimethylimidazoline, 2-phenyl-4-methylimidazoline and the like. Examples of the masking agent include acrylonitrile, phenylene diisocyanate, toluene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, methylene bisphenyl isocyanate, and melamine acrylate. Some of these curing accelerators may be used in combination.

【0018】上記(a)、(b)、(c)および(d)
は必須成分であり、その他に必要に応じて充填剤、着色
剤、酸化防止剤、還元剤、紫外線不透過剤等を加えても
よい。
The above (a), (b), (c) and (d)
Is an essential component, and if necessary, a filler, a coloring agent, an antioxidant, a reducing agent, an ultraviolet ray opaque agent and the like may be added.

【0019】上記(a)、(b)、(c)および(d)
を溶剤中で配合して得たエポキシ樹脂ワニスをガラス織
布またはガラス不織布に含浸させて、乾燥することによ
りプリプレグを得ることができる。ここで使用するガラ
ス織布またはガラス不織布の種類には特に指定はなく、
厚さ0.02〜0.4mmまでのものを、目的のプリプ
レグまたは積層板の厚さに合わせて使用することができ
る。プリプレグを製造する時の乾燥条件は乾燥温度60
〜200℃、乾燥時間1〜30分間の間で目的のプリプ
レグ特性に合わせて自由に選択することができる。
The above (a), (b), (c) and (d)
A prepreg can be obtained by impregnating a glass woven fabric or a glass nonwoven fabric with an epoxy resin varnish obtained by blending in a solvent and drying the mixture. There is no particular designation for the type of glass woven or nonwoven glass used here,
Those having a thickness of 0.02 to 0.4 mm can be used according to the thickness of the target prepreg or laminate. The drying conditions for producing prepreg are drying temperature 60
The temperature can be freely selected in accordance with the desired prepreg characteristics at a temperature of 200 ° C. and a drying time of 1 to 30 minutes.

【0020】目的とする積層板の厚みに合わせて得られ
たプリプレグを積層し、その片側または両側に金属箔を
重ね、加熱加圧して積層板を製造する。金属箔としては
主に銅箔やアルミ箔を用いるが、他の金属箔を用いても
よい。金属箔の厚みは通常5〜200μmである。
The prepregs obtained according to the desired thickness of the laminated board are laminated, and a metal foil is laminated on one or both sides thereof, and heated and pressed to produce a laminated board. A copper foil or an aluminum foil is mainly used as the metal foil, but another metal foil may be used. The thickness of the metal foil is usually 5 to 200 μm.

【0021】積層板製造時の加熱温度は130〜200
℃、より好ましくは160〜180℃で、圧力は0.5
〜10MPa、より好ましくは1〜4MPaであり、プ
リプレグ特性や、プレス機の能力、目的の積層板の厚み
等により決定する。
The heating temperature during the production of the laminate is 130 to 200
° C, more preferably 160-180 ° C, pressure 0.5
The pressure is from 10 to 10 MPa, more preferably from 1 to 4 MPa, and is determined according to the prepreg characteristics, the capacity of the press machine, the thickness of the target laminate, and the like.

【0022】[0022]

【実施例】(実施例1) (a)エポキシ当量が5000以上で重量平均分子量が
5000〜50000の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂
として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノ
ールAの重合体でエポキシ当量が5600、重量平均分
子量Mwが27000の高分子量エポキシ樹脂110重
量部、(b)重量平均分子量が5000以下の低分子量
エポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂
(油化シェルエポキシ株式会社の商品名エピコートE5
048を使用)100重量部、(c)硬化剤としてフェ
ノールノボラック樹脂(大日本インキ化学工業株式会社
の商品名フェノライトTD−2131を使用)15重量
部、(d)硬化促進剤として2−フェニルイミダゾール
0.10重量部を、メチルエチルケトンとエチレングリ
コールモノメチルエーテルの混合溶剤(重量比で10:
1)に溶解して、樹脂固形分65重量%のワニスを得た
(高分子量エポキシ樹脂の配合比は樹脂固形分の49重
量%)。このワニスを100μmのガラス織布(MIL
品番2116タイプ)に含浸し、150℃の乾燥機中で
4分間乾燥し、樹脂分58重量%のB−ステージ状態の
プリプレグを得た。このプリプレグは、切断時および取
扱時に切断端部および表面からの樹脂粉の飛散が無かっ
た。得られたプリプレグ4枚を重ねて、その両側に厚み
18μmの銅箔を配し、圧力2MPa、温度170℃で
90分間加熱加圧して両面銅張積層板を得た。この両面
銅張積層板の銅箔引き剥がし強さは1.39kN/mで
あった。
EXAMPLES (Example 1) (a) As a linear high molecular weight epoxy resin having an epoxy equivalent of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000, an epoxy equivalent of a bisphenol A type epoxy resin and a polymer of bisphenol A is used. As a low molecular weight epoxy resin having a weight average molecular weight Mw of 27000 and a low molecular weight epoxy resin having a weight average molecular weight of 5000 or less, bisphenol A type epoxy resin (Epicoat, a trade name of Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.) E5
048) 100 parts by weight, (c) 15 parts by weight of phenol novolak resin as a curing agent (trade name: Phenolite TD-2131 of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), and (d) 2-phenyl as a curing accelerator 0.10 parts by weight of imidazole was mixed with a mixed solvent of methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether (weight ratio: 10:
By dissolving in 1), a varnish having a resin solid content of 65% by weight was obtained (the compounding ratio of the high molecular weight epoxy resin was 49% by weight of the resin solid content). This varnish was applied to a 100 μm glass woven fabric (MIL).
No. 2116 type) and dried in a dryer at 150 ° C. for 4 minutes to obtain a prepreg in a B-stage state having a resin content of 58% by weight. This prepreg did not scatter resin powder from the cut end and the surface during cutting and handling. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. The copper foil peel strength of this double-sided copper-clad laminate was 1.39 kN / m.

【0023】(実施例2)実施例1における直鎖状の高
分子量エポキシ樹脂を、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂とテトラブロモビスフェノールAの重合体の構造を持
った直鎖状の高分子量エポキシ樹脂(エポキシ当量:7
400、Mw:34000)に替え、配合量を75重量
部にした以外は実施例1と同様な方法で、樹脂固形分6
0重量%のワニスを得た(高分子量エポキシ樹脂の配合
比は樹脂固形分の39重量%)。このワニスを100μ
mのガラス織布(MIL晶番2116タイプ)に含浸
し、150℃の乾燥機中で4分間乾燥し、樹脂分56重
量%のB−ステージ状態のプリプレグを得た。このプリ
プレグは、切断時および取扱時に切断端部および表面か
らの樹脂粉の飛散が無かった。得られたプリプレグ4枚
を重ねて、その両側に厚み18μmの銅箔を配し、圧力
2MPa、温度170℃で90分間加熱加圧して両面銅
張積層板を得た。この両面銅張積層板の銅箔引き剥がし
強さを測定した結果、1.51kN/mであった。
(Example 2) The linear high molecular weight epoxy resin in Example 1 was replaced with a linear high molecular weight epoxy resin having a polymer structure of bisphenol A type epoxy resin and tetrabromobisphenol A (epoxy resin). Equivalent: 7
400, Mw: 34000) and a resin solid content of 6 in the same manner as in Example 1 except that the blending amount was 75 parts by weight.
A varnish of 0% by weight was obtained (the compounding ratio of the high molecular weight epoxy resin was 39% by weight of the resin solids). 100μ of this varnish
m woven glass (MIL crystal No. 2116 type) and dried in a dryer at 150 ° C. for 4 minutes to obtain a B-stage prepreg having a resin content of 56% by weight. This prepreg did not scatter resin powder from the cut end and the surface during cutting and handling. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. It was 1.51 kN / m as a result of measuring the copper foil peeling strength of this double-sided copper-clad laminate.

【0024】(実施例3)ビスフェノールAノボラック
型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社の商品
名エピクロンN−865を使用)100重量部、変性フ
ェノールノボラック樹脂(大日本インキ化学工業株式会
社の商品名フェノライトVH−4170を使用)45重
量部、テトラブロモビスフェノールA30重量部、ウン
デシルイミダゾール0.2重量部、および高分子量エポ
キシ樹脂(エポキシ当量:14000,Mw:3000
0、フェノキシ樹脂)75重量部を、メチルエチルケト
ンとエチレングリコールモノメチルエーテルとシクロヘ
キサノンの混合溶剤(重量比で10:1:4)に溶解し
て、樹脂固形分50重量%のワニスを得た(高分子量エ
ポキシ樹脂の配合比は樹脂固形分の30重量%)。この
ワニスを100μmのガラス織布(MIL品番2116
タイプ)に含浸し、170℃の乾燥機中で2分間乾燥
し、樹脂分60重量%のB−ステージ状態のプリプレグ
を得た。このプリプレグは、切断時および取扱時に切断
端部や表面からの樹脂粉の飛散が無かった。得られたプ
リプレグ4枚を重ねて、その両側に厚み18μmの銅箔
を配し、圧力2MPa、温度170℃で90分間加熱加
圧して両面銅張積層板を得た。この両面銅張積層板の銅
箔引き剥がし強さは1.65kN/mであった。
Example 3 100 parts by weight of a bisphenol A novolak type epoxy resin (using Epicron N-865 of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and a modified phenol novolak resin (trademark of Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Name phenolite VH-4170) 45 parts by weight, 30 parts by weight of tetrabromobisphenol A, 0.2 parts by weight of undecylimidazole, and a high molecular weight epoxy resin (epoxy equivalent: 14000, Mw: 3000)
0, phenoxy resin) was dissolved in a mixed solvent (weight ratio 10: 1: 4) of methyl ethyl ketone, ethylene glycol monomethyl ether and cyclohexanone to obtain a varnish having a resin solid content of 50% by weight (high molecular weight) The mixing ratio of the epoxy resin is 30% by weight of the resin solids). This varnish was applied to a 100 μm glass woven fabric (MIL part number 2116).
) And dried in a dryer at 170 ° C. for 2 minutes to obtain a prepreg in a B-stage state having a resin content of 60% by weight. This prepreg did not scatter resin powder from the cut end or the surface during cutting and handling. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. The copper foil peel strength of the double-sided copper-clad laminate was 1.65 kN / m.

【0025】(実施例4)実施例3における高分子量エ
ポキシ樹脂を、ビフェニルジオールとビフェニルジオー
ルのジグリシジルエーテル化物の重合体の構造を持った
直鎖状の高分子量エポキシ樹脂(エポキシ当量:750
0,Mw:27000)に替え、配合量を60重量部に
した以外は実施例3と同様な方法で、樹脂固形分63重
量%のワニスを得た(高分子量エポキシ樹脂の配合比は
全固形分の26重量%)。このワニスを100μmのガ
ラス織布(MIL品番2116タイプ)に含浸し、17
0℃の乾燥機中で2分間乾燥し、樹脂分55重量%のB
−ステージ状態のプリプレグを得た。このプリプレグ
は、切断時および取扱時に切断端部や表面からの樹脂粉
の飛散が無かった。得られたプリプレグ4枚を重ねて、
その両側に厚み18μmの銅箔を配し、圧力2MPa、
温度170℃で90分間加熱加圧して両面銅張積層板を
得た。この両面銅張積層板の銅箔引き剥がし強さは1.
61kN/mであった。
Example 4 The high molecular weight epoxy resin in Example 3 was replaced with a linear high molecular weight epoxy resin having a polymer structure of biphenyldiol and a diglycidyl etherified product of biphenyldiol (epoxy equivalent: 750).
0, Mw: 27000) and a varnish having a resin solid content of 63% by weight was obtained in the same manner as in Example 3 except that the compounding amount was changed to 60 parts by weight (the compounding ratio of the high molecular weight epoxy resin was all solids). 26% by weight). This varnish is impregnated with 100 μm glass woven fabric (MIL part number 2116 type),
It is dried in a dryer at 0 ° C. for 2 minutes, and contains 55% by weight of resin B
-A prepreg in a stage state was obtained. This prepreg did not scatter resin powder from the cut end or the surface during cutting and handling. Stack the four prepregs obtained,
A copper foil with a thickness of 18 μm is arranged on both sides thereof, and a pressure of 2 MPa is applied.
It was heated and pressed at a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. The copper foil peel strength of this double-sided copper-clad laminate was 1.
It was 61 kN / m.

【0026】(比較例1)実施例1における高分子量エ
ポキシ樹脂を、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビス
フェノールAの重合体の構造を持った直鎖状高分子量エ
ポキシ樹脂(エポキシ当量:2700,Mw:1700
0)に替え、配合量を95重量部にした以外は実施例1
と同様な方法で、樹脂固形分70重量%のワニスを得た
(高分子量エポキシ樹脂の配合比は樹脂固形分の45重
量%)。このワニスを100μmのガラス織布(M1L
品番2116タイプ)に含浸し、150℃の乾燥機中で
4分間乾燥し、樹脂分58重量%のB−ステージ状態の
プリプレグを得た。このプリプレグは、切断時および取
扱時に切断端部や表面から樹脂粉が飛散した。得られた
プリプレグ4枚を重ねて、その両側に厚み18μmの銅
箔を配し、圧力2MPa、温度170℃で90分間加熱
加圧して両面銅張積層板を得た。この両面銅張積層板の
銅箔引き剥がし強さを測定した結果、1.42kN/m
であった。
Comparative Example 1 The high molecular weight epoxy resin in Example 1 was a linear high molecular weight epoxy resin having a structure of a bisphenol A type epoxy resin and a polymer of bisphenol A (epoxy equivalent: 2700, Mw: 1700).
Example 1 except that the compounding amount was changed to 95 parts by weight instead of 0).
A varnish having a resin solid content of 70% by weight was obtained in the same manner as described above (the compounding ratio of the high molecular weight epoxy resin was 45% by weight of the resin solids). This varnish was applied to a 100 μm glass woven fabric (M1L
No. 2116 type) and dried in a dryer at 150 ° C. for 4 minutes to obtain a prepreg in a B-stage state having a resin content of 58% by weight. In the prepreg, resin powder scattered from the cut end and the surface during cutting and handling. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. As a result of measuring the copper foil peeling strength of this double-sided copper-clad laminate, 1.42 kN / m was obtained.
Met.

【0027】(比較例2)実施例3における高分子量エ
ポキシ樹脂を、ビスフェノールAとビスフェノールA型
エポキシ樹脂の重合体の構造を持った直鎖状の高分子量
エポキシ樹脂(エポキシ当量:7800,Mw:940
00)に替え、配合量を60重量部にした以外は実施例
3と同様な方法で、樹脂固形分55重量%のワニスを得
た(高分子量エポキシ樹脂の配合比は樹脂固形分の26
重量%)。このワニスを100μmのガラス織布(MI
L品番2116タイプ)に含浸し、175℃の乾燥機中
で2分間乾燥し、樹脂分62重量%のB−ステージ状態
のプリプレグを得た。このプリプレグは、切断時および
取扱時に切断端部や表面からの樹脂粉の飛散が無かっ
た。得られたプリプレグ4枚を重ねて、その両側に厚み
18μmの銅箔を配し、圧力2MPa、温度170℃で
90分間加熱加圧して両面銅張積層板を得た。この両面
銅張積層板の銅箔引き剥がし強さは1.50kN/mで
あった。
Comparative Example 2 The high molecular weight epoxy resin in Example 3 was replaced with a linear high molecular weight epoxy resin having a structure of a polymer of bisphenol A and a bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 7800, Mw: 940
00), a varnish having a resin solid content of 55% by weight was obtained in the same manner as in Example 3 except that the mixing amount was changed to 60 parts by weight.
weight%). The varnish was applied to a 100 μm glass woven fabric (MI
L part number 2116 type) and dried in a dryer at 175 ° C. for 2 minutes to obtain a B-stage prepreg having a resin content of 62% by weight. This prepreg did not scatter resin powder from the cut end or the surface during cutting and handling. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. The copper foil peel strength of the double-sided copper-clad laminate was 1.50 kN / m.

【0028】(比較例3)実施例1における高分子量エ
ポキシ樹脂の配合量を15重量部にし、2−フェニルイ
ミダゾールの配合量を0.17重量部にした以外は実施
例1と同様な方法で、樹脂固形分75重量%のワニスを
得た(高分子量エポキシ樹脂の配合比は樹脂固形分の1
2重量%)。このワニスを100μmのガラス織布(M
IL品番2116タイプ)に含浸し、150℃の乾燥機
中で4分間乾燥し、樹脂分58重量%のB−ステージ状
態のプリプレグを得た。このプリプレグは、表面からの
樹脂粉の発生は無かったが、カッターナイフで切断した
ところ、切断端部からの樹脂の飛散が見られた。得られ
たプリプレグ4枚を重ねて、その両側に厚み18μmの
銅箔を配し、圧力2MPa、温度170℃で90分間加
熱加圧して両面銅張積層板を得た。この両面銅張積層板
の銅箔引き剥がし強さを測定した結果、1.37kN/
mであった。
(Comparative Example 3) The same method as in Example 1 was used except that the compounding amount of the high molecular weight epoxy resin in Example 1 was changed to 15 parts by weight and the compounding amount of 2-phenylimidazole was changed to 0.17 parts by weight. A varnish having a resin solid content of 75% by weight was obtained.
2% by weight). This varnish was applied to a 100 μm glass woven fabric (M
(IL part number 2116 type) and dried in a dryer at 150 ° C. for 4 minutes to obtain a prepreg in a B-stage state having a resin content of 58% by weight. Although no resin powder was generated from the surface of this prepreg, when the resin was cut with a cutter knife, scattering of the resin from the cut end was observed. The obtained four prepregs were stacked, copper foil having a thickness of 18 μm was arranged on both sides thereof, and heated and pressed at a pressure of 2 MPa and a temperature of 170 ° C. for 90 minutes to obtain a double-sided copper-clad laminate. As a result of measuring the copper foil peeling strength of this double-sided copper-clad laminate, 1.37 kN /
m.

【0029】以上得られた両面銅箔張積層板の銅箔をエ
ッチング後、耐熱性およびTgの測定を行なった。その
結果を表1に示した。なお、耐熱性は、飽和蒸気圧、1
20℃、2027hPaのプレッシャークッカー中に、
表に記載した時間処理した後の外観の変化を目視にて観
察した結果を示す。各記号は、○:変化無し、△:ミー
ズリングまたは目浮き発生、×:白化を意味し、3つの
記号は、3つの試験片により評価した結果をそれぞれ示
したものである。また、Tgの測定は、デュポン社製ダ
イナミック熱機械分析装置982型(以下DMAと略
す。)にて測定した値を示した。
After etching the copper foil of the double-sided copper foil-clad laminate thus obtained, the heat resistance and Tg were measured. The results are shown in Table 1. The heat resistance is as follows: saturated vapor pressure, 1
In a pressure cooker at 20 ° C and 2027 hPa,
The result of having observed visually the change of the external appearance after the time process described in the table | surface is shown. Each symbol indicates ○: no change, Δ: occurrence of measling or bleeding, ×: whitening, and three symbols indicate the results of evaluation using three test pieces, respectively. In addition, the measurement of Tg showed a value measured by a dynamic thermomechanical analyzer 982 manufactured by DuPont (hereinafter abbreviated as DMA).

【0030】[0030]

【表1】 項目 実施例1 実施例2 実施例3 実施例4 比較例1 比較例2 比較例 3耐熱性A △△△ ○△△ ○○△ ○○○ △△△ △×× ○○○ 耐熱性B △×× △△△ ○△△ ○△△ △×× ××× ○△△ Tg(℃) 137 144 219 228 125 120 146 耐熱性A:96時間処理、 耐熱性B:192時間処理 [Table 1] Item Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 Comparative example 1 Comparative example 2 Comparative example 3 Heat resistance A △△△ ○ △△ ○○ △ ○○○ △△△ △ ×× ○○○ Heat resistance B △ ×× △△△ ○ △△ ○ △△ △ ×× ××× ○ △△ Tg (℃) 137 144 219 228 125 120 146 Heat resistance A: 96 hours, Heat resistance B: 192 hours

【0031】直鎖状の高分子量エポキシ樹脂にフェノキ
シ樹脂(実施例3)やビフェニルジオールとビフェニル
ジオールのジグリシジルエーテル化物の重合体(実施例
4)を用いた実施例では、Tgが高く、耐熱性も良好で
ある。また、プリプレグの切断時や取扱時に切断端部や
表面からの樹脂粉の飛散がなく、打痕の発生が見られず
良好であった。これに対して、従来のエポキシ樹脂のプ
リプレグは、プリプレグの切断時や取扱時に切断端部や
表面からの樹脂粉の飛散があり、比較例1の高分子量エ
ポキシ樹脂のエポキシ当量が5000以下では、Tgが
低下する。また、高分子量エポキシ樹脂の重量平均分子
量が5000〜50000の範囲を超えた比較例2で
は、耐熱性やTgに劣る。更に、高分子量エポキシ樹脂
の配合割合が樹脂固形分の15重量%以下である比較例
3は、耐熱性やTgにおいて優れるもののプリプレグの
切断時や取扱時に切断端部や表面からの樹脂粉の飛散が
ある。これら比較例のプリプレグから得た銅張積層板
は、銅箔表面に打痕が発生した。
In the examples using a phenoxy resin (Example 3) or a polymer of biphenyldiol and a diglycidyl etherified product of biphenyldiol (Example 4) as the linear high molecular weight epoxy resin, the Tg is high and the heat resistance is high. The properties are also good. In addition, the resin powder was not scattered from the cut end portion or the surface during cutting or handling of the prepreg, and no dents were observed. On the other hand, the conventional epoxy resin prepreg has scattering of resin powder from the cut end or the surface when cutting or handling the prepreg, and when the epoxy equivalent of the high molecular weight epoxy resin of Comparative Example 1 is 5000 or less, Tg decreases. In Comparative Example 2 in which the weight average molecular weight of the high molecular weight epoxy resin exceeds the range of 5,000 to 50,000, heat resistance and Tg are inferior. Furthermore, Comparative Example 3, in which the blending ratio of the high molecular weight epoxy resin is 15% by weight or less of the resin solid content, is excellent in heat resistance and Tg, but the resin powder is scattered from the cut end and the surface during cutting or handling of the prepreg. There is. The copper-clad laminates obtained from the prepregs of these comparative examples had dents on the copper foil surface.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、耐熱性やTg等の積層
板特性の低下無しに、切断時や取扱時に樹脂粉の飛散が
少ないプリプレグを得ることができる。また、このプリ
プレグを使用することにより、銅箔引き剥がし強さに優
れた積層板を得ることができる。
According to the present invention, it is possible to obtain a prepreg with less scattering of resin powder at the time of cutting or handling, without deteriorating the laminate properties such as heat resistance and Tg. Also, by using this prepreg, a laminate excellent in copper foil peeling strength can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // H05K 1/03 610 H05K 1/03 610L ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // H05K 1/03 610 H05K 1/03 610L

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)エポキシ当量が5000以上で重
量平均分子量が5000〜50000の直鎖状の高分子
量エポキシ樹脂、(b)重量平均分子量が5000以下
の低分子量エポキシ樹脂、(c)硬化剤、(d)硬化促
進剤を必須成分として配合したワニスをガラス織布また
はガラス不織布に含浸し、加熱、乾燥して、Bステージ
化したプリント配線板用プリプレグ。
1. A linear high molecular weight epoxy resin having an epoxy equivalent of 5,000 or more and a weight average molecular weight of 5,000 to 50,000, (b) a low molecular weight epoxy resin having a weight average molecular weight of 5,000 or less, and (c) curing A prepreg for a printed wiring board, which is obtained by impregnating a glass woven fabric or a nonwoven glass fabric with a varnish containing an agent and (d) a hardening accelerator as an essential component, heating and drying to form a B-stage.
【請求項2】 (a)の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂
がワニスの樹脂固形分の15〜50重量%である請求項
1に記載のプリント配線板用プリプレグ。
2. The prepreg for a printed wiring board according to claim 1, wherein the linear high molecular weight epoxy resin (a) is 15 to 50% by weight of the resin solid content of the varnish.
【請求項3】 (a)の直鎖状の高分子量エポキシ樹脂
がフェノキシ樹脂またはビフェニルジオールとビフェニ
ルジオールのジグリシジルエーテルの重合体である請求
項1または請求項2に記載のプリント配線板用プリプレ
グ。
3. The prepreg for a printed wiring board according to claim 1, wherein the linear high molecular weight epoxy resin (a) is a phenoxy resin or a polymer of biphenyldiol and diglycidyl ether of biphenyldiol. .
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかに記
載のプリント配線板用プリプレグを少なくとも1枚以上
重ね、その片面若しくは両面に金属箔を介して加熱加圧
成形して得られる金属箔張積層板。
4. A metal foil obtained by laminating at least one or more prepregs for printed wiring boards according to claim 1 and heating and press-molding the prepreg on one or both sides thereof via a metal foil. Upholstered laminate.
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JP (1) JPH11172025A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2007277333A (en) * 2006-04-04 2007-10-25 Dainippon Ink & Chem Inc Resin composition, phenoxy resin, coating material composition, adhesive agent composition, adhesive film, prepreg, multilayer printed wiring board and resin-clad copper foil
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