JPH11169802A - Electronic part washing method and electronic part washing device - Google Patents
Electronic part washing method and electronic part washing deviceInfo
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- JPH11169802A JPH11169802A JP33970997A JP33970997A JPH11169802A JP H11169802 A JPH11169802 A JP H11169802A JP 33970997 A JP33970997 A JP 33970997A JP 33970997 A JP33970997 A JP 33970997A JP H11169802 A JPH11169802 A JP H11169802A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品の洗浄方
法ならびに装置に関し、特に、BGA(Ball Grid Arra
y ), CSP(Chip Size Package )等の半導体装置の
洗浄に適用して有効な技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning electronic components, and more particularly to a BGA (Ball Grid Arra).
y), which relates to a technique which is effective when applied to cleaning of semiconductor devices such as CSP (Chip Size Package).
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、マルチチップ・モジュールの実現
手段として、BGA, CSP等を使用する試みが広く行
われてきている。これらのBGA, CSP等は、フラッ
クスを印刷、転写等したボール等をチップや基板等の上
にマウントし、これを高温中にて半田付けすることによ
って製造される。そして、半田付けの後フラックスの洗
浄が行われ、乾燥工程やテスト工程を経て製品化され
る。2. Description of the Related Art In recent years, attempts to use BGA, CSP and the like as means for realizing a multichip module have been widely made. These BGAs, CSPs and the like are manufactured by mounting a ball or the like on which a flux is printed or transferred on a chip or a substrate and soldering the ball at a high temperature. Then, after the soldering, the flux is cleaned, and the product is manufactured through a drying process and a test process.
【0003】ここで、フラックスの洗浄方法としては、
従来より、洗浄液中に製品を浸して行う浸漬洗浄や、製
品に洗浄液を噴射するシャワー洗浄などが用いられてい
る。この場合、浸漬洗浄では、治具やバスケットに製品
を収容しそれを洗浄液内で揺り動かし、バッチ処理によ
りフラックスの洗浄を行う。一方、シャワー洗浄では、
製品をベルト搬送して洗浄液のシャワーに潜らせ連続的
にフラックス洗浄を行う。なお、フラックスにはロジン
系のものと水溶性のものとがあり、洗浄の際には、その
種類によって水または各種洗浄剤が適宜選択される。[0003] Here, as a method for cleaning the flux,
Conventionally, immersion cleaning in which a product is immersed in a cleaning liquid, shower cleaning in which a cleaning liquid is sprayed on a product, and the like have been used. In this case, in the immersion cleaning, the product is accommodated in a jig or a basket, which is swung in a cleaning liquid, and the flux is cleaned by batch processing. On the other hand, in shower cleaning,
The product is conveyed by belt and immersed in a shower of cleaning liquid to continuously perform flux cleaning. There are two types of flux: rosin-based flux and water-soluble flux. At the time of washing, water or various detergents are appropriately selected depending on the type.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな洗浄方法にあっては、まず、浸漬洗浄の場合には、
いわゆる溜め洗い状態であるため、1回の処理ではフラ
ックスを十分に落とし切れないという問題がある。この
場合、超音波洗浄を併用すれば洗浄効果の改善を図るこ
とが可能であるものの、超音波により配線が断線する場
合があるため恒常的に用いることは難しい。すなわち、
精密な半導体装置の場合、不良発生防止のため超音波洗
浄が禁止されているものもあり、かかる製品では浸漬洗
浄を繰り返してフラックスの除去を行っていた。However, in such a cleaning method, first, in the case of immersion cleaning,
Because of the so-called pool washing state, there is a problem that the flux cannot be sufficiently reduced by one treatment. In this case, it is possible to improve the cleaning effect by using ultrasonic cleaning together, but it is difficult to use it regularly because the wiring may be broken by ultrasonic waves. That is,
In the case of a precise semiconductor device, ultrasonic cleaning is prohibited in some cases in order to prevent defects from occurring, and in such products, immersion cleaning is repeated to remove flux.
【0005】一方、シャワー洗浄の場合には、加圧液流
による処理であるため浸漬洗浄に比して洗浄効率は良い
が、装置が大がかりとなりスペース効率が良くないとい
う問題があった。特に、BGA等のシャワー洗浄は、一
般にプリント基板用の装置を転用して行うことが多く、
この場合、製品の大きさに比べて装置が必要以上に大き
く、洗浄効率の良い小型の専用機の開発が望まれてい
た。On the other hand, in the case of shower cleaning, the cleaning efficiency is higher than that of immersion cleaning because the processing is carried out by a pressurized liquid flow, but there is a problem that the apparatus is large and space efficiency is not good. In particular, shower cleaning such as BGA is often performed by diverting a device for a printed circuit board in general.
In this case, there has been a demand for the development of a small-sized special-purpose machine with an unnecessarily large device compared to the size of the product and high cleaning efficiency.
【0006】本発明の目的は、電子部品の洗浄および乾
燥を効率良く行うことができ、かつ小型でありながら汎
用性のある電子部品洗浄装置を提供することにある。An object of the present invention is to provide a small and versatile electronic component cleaning apparatus which can efficiently clean and dry electronic components and is small in size.
【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.
【0009】すなわち、本発明の電子部品洗浄方法は、
被洗浄物に対して洗浄液を噴射することにより被洗浄物
の洗浄を行う電子部品洗浄方法であって、被洗浄物を洗
浄液が噴射される噴射孔の前方にて揺動させ、揺動状態
にある被洗浄物に対し噴射孔より洗浄液を噴射すること
により被洗浄物を洗浄する洗浄工程を有することを特徴
としている。この場合、被洗浄物を洗浄液中にて洗浄液
を噴射して洗浄しても良く、また、それを空気中によっ
て行っても良い。That is, the electronic component cleaning method of the present invention comprises:
An electronic component cleaning method for cleaning an object to be cleaned by injecting a cleaning liquid to the object to be cleaned, wherein the object to be cleaned is swung in front of an injection hole from which the cleaning liquid is sprayed, and is brought into a swinging state. It is characterized by having a cleaning step of cleaning the object to be cleaned by injecting a cleaning liquid from an injection hole to the object to be cleaned. In this case, the object to be cleaned may be cleaned by spraying the cleaning liquid in the cleaning liquid, or the cleaning may be performed in the air.
【0010】さらに、本発明の電子部品洗浄方法は、被
洗浄物を洗浄液中に浸漬することにより被洗浄物の洗浄
を行う電子部品洗浄方法であって、被洗浄物を洗浄液中
にて揺動させ、揺動状態にある被洗浄物に対し超音波を
付与することにより被洗浄物を洗浄する洗浄工程を有す
ることを特徴としている。Further, the electronic component cleaning method according to the present invention is a method for cleaning an object to be cleaned by immersing the object to be cleaned in a cleaning liquid, wherein the object to be cleaned is swung in the cleaning liquid. And a cleaning step of cleaning the object to be cleaned by applying ultrasonic waves to the object to be cleaned in a swinging state.
【0011】この場合、前記の各電子部品洗浄方法にお
いて、洗浄工程の際に被洗浄物に付着した洗浄液を遠心
力を利用して取り除く液切工程を加えても良い。さら
に、この液切工程の後に、第2の洗浄工程および第2の
液切工程をさらに加えても良い。In this case, in each of the above electronic component cleaning methods, a liquid removal step of removing the cleaning liquid attached to the object to be cleaned in the cleaning step by using centrifugal force may be added. Further, after the liquid draining step, a second cleaning step and a second liquid draining step may be further added.
【0012】一方、本発明の電子部品洗浄装置は、被洗
浄物に対して洗浄液を噴射することにより被洗浄物の洗
浄を行う電子部品洗浄装置であって、洗浄液を噴射する
噴射孔を有してなるノズルと、噴射孔の前方を揺動可能
に設けられ、被洗浄物を保持した状態で噴射孔の前方を
移動し、噴射孔から噴射される洗浄液によって被洗浄物
を洗浄する洗浄治具とを有することを特徴としている。On the other hand, an electronic component cleaning apparatus of the present invention is an electronic component cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by injecting a cleaning liquid to the object to be cleaned, and has an injection hole for injecting the cleaning liquid. Nozzle and a cleaning jig provided to be swingable in front of the injection hole, moved in front of the injection hole while holding the object to be cleaned, and cleaning the object to be cleaned with the cleaning liquid injected from the injection hole. And characterized in that:
【0013】この場合、前記噴射孔を洗浄液を収容した
洗浄槽内に配置し、被洗浄物に対し洗浄液中にて洗浄液
を噴射するようにしても良く、勿論これを空気中にて行
っても良い。また、洗浄治具に被洗浄物を縦向きに収容
保持するようにしても良く、これにより洗浄液の持ち出
しや持ち込みが減少する。In this case, the injection holes may be arranged in a cleaning tank containing the cleaning liquid, and the cleaning liquid may be injected into the cleaning object in the cleaning liquid. good. Further, the object to be cleaned may be stored and held in the cleaning jig in a vertical direction, thereby reducing carry-out and carry-in of the cleaning liquid.
【0014】さらに、前記洗浄治具にて洗浄を行った被
洗浄物を収容する液切治具を有し、この液切治具を回転
させることにより遠心力によって被洗浄物に付着した洗
浄液を取り除く液切装置をさらに有するようにしても良
い。Further, there is provided a liquid cutting jig for accommodating the object to be cleaned which has been cleaned by the cleaning jig, and the cleaning liquid attached to the object to be cleaned by centrifugal force by rotating the liquid cutting jig. You may make it further have the liquid removal apparatus which removes.
【0015】加えて、本発明は、被洗浄物を洗浄液中に
浸漬することにより被洗浄物の洗浄を行う電子部品洗浄
装置であって、被洗浄物を保持した状態で洗浄液中にて
揺動させる洗浄治具と、噴射ノズルまたは超音波発生装
置を交換設置可能に形成され、揺動状態にある被洗浄物
に洗浄液の噴射または超音波の付与を行うことにより被
洗浄物を洗浄する洗浄ユニットとを有することをも特徴
としている。In addition, the present invention relates to an electronic component cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by immersing the object to be cleaned in a cleaning liquid, and oscillating in the cleaning liquid while holding the object to be cleaned. A cleaning unit that is formed so that a cleaning jig to be replaced and an injection nozzle or an ultrasonic generator can be exchanged, and performs cleaning liquid injection or ultrasonic application to a swinging cleaning object to wash the cleaning object. Is also characterized.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1である電子部品洗浄装置(以下、洗浄装置と略
す)の構成を示す説明図であり、当該洗浄装置を横から
見た状態を示す図である。また、図2は、図1の洗浄装
置を上から見た状態を示す説明図である。なお、実施の
形態1では、ロジン系のフラックスを用いた電子部品を
洗浄する際に用いる洗浄装置を例にとって説明する。(Embodiment 1) FIG. 1 is an explanatory view showing the structure of an electronic component cleaning apparatus (hereinafter abbreviated as "cleaning apparatus") according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state in which the cleaning apparatus of FIG. 1 is viewed from above. In the first embodiment, a cleaning device used for cleaning an electronic component using a rosin-based flux will be described as an example.
【0018】図1の洗浄装置は、大きく分けて次の4つ
の機能部から構成されている。すなわち、半田付け工程
の終わったBGA等の製品を洗浄工程に供給する供給部
1と、製品の洗浄を行う洗浄部2と、洗浄後の製品を乾
燥させる乾燥部3と、洗浄工程を終えた製品を収容する
収納部4および製品を各部に移送する移送装置5とから
構成されている。そして、移送装置5によって、供給部
1から製品を取り出し、洗浄部2、乾燥部3と順に送る
ことにより、フラックスの洗浄除去ならびに乾燥処理が
行われるようになっている。The cleaning apparatus shown in FIG. 1 is roughly composed of the following four functional units. That is, a supply unit 1 for supplying a product such as BGA after the soldering process to the cleaning process, a cleaning unit 2 for cleaning the product, a drying unit 3 for drying the product after the cleaning, and the cleaning process are completed. It comprises a storage section 4 for storing products and a transfer device 5 for transferring the products to each section. The transfer device 5 takes out the product from the supply unit 1 and sends the product to the washing unit 2 and the drying unit 3 in order, so that the flux is washed and removed and the drying process is performed.
【0019】ここで、供給部1は、半田付け後の製品を
格納したマガジン10を収容する満杯マガジン供給部1
1aと、製品が取り出されて空になったマガジン10を
収容しておく空マガジン収納部11bとから構成されて
いる。そして、移送装置5により満杯マガジン供給部1
1aから被洗浄製品が取り出され、次の洗浄部2へと運
ばれる。Here, the supply unit 1 is a full magazine supply unit 1 for storing a magazine 10 in which products after soldering are stored.
1a and an empty magazine storage section 11b for storing the magazine 10 that has been emptied by taking out the product. Then, the full magazine supply unit 1 is transferred by the transfer device 5.
The product to be cleaned is taken out from 1a and transported to the next cleaning section 2.
【0020】洗浄部2は、さらに、前洗浄部6、前洗浄
液切部7、後洗浄部(第2の洗浄工程)8および後洗浄
液切部(第2の液切工程)9とから構成されており、製
品に付着したフラックスや汚れをここで除去している。
この場合、前洗浄部6には、洗浄液(例えば60℃)が
満たされた1個の洗浄槽12に3台の洗浄機13(13
a〜13c)が配置され、洗浄剤を用いた一次洗浄工程
が行われる。また、後洗浄部8は、3個の独立した洗浄
槽14a〜14cから成り、それぞれに洗浄機13(1
3d〜13f)が配置されている。この場合、後洗浄部
8の洗浄槽14aには油水分離のため60℃程度に加温
された純水が、また、洗浄槽14b, 14cには、35
℃の新しい純水が常時供給されており、3段階に亘って
すすぎ工程が行われる。なお、洗浄槽12の洗浄液や洗
浄槽14a〜14cの純水は、図示しないリサイクル装
置によってそれぞれ清浄化されて再使用される。The cleaning section 2 further includes a pre-cleaning section 6, a pre-cleaning liquid cutting section 7, a post-cleaning section (second cleaning step) 8, and a post-cleaning liquid cutting section (second liquid cutting step) 9. The flux and dirt adhering to the product are removed here.
In this case, the pre-cleaning section 6 includes three cleaning machines 13 (13) in one cleaning tank 12 filled with a cleaning liquid (for example, 60 ° C.).
a to 13c) are arranged, and a primary cleaning step using a cleaning agent is performed. The post-cleaning section 8 includes three independent cleaning tanks 14a to 14c.
3d to 13f) are arranged. In this case, pure water heated to about 60 ° C. for separating oil and water is supplied to the cleaning tank 14 a of the post-cleaning section 8, and 35 μm is supplied to the cleaning tanks 14 b and 14 c.
New pure water at 0 ° C. is constantly supplied, and the rinsing process is performed in three stages. The cleaning liquid in the cleaning tank 12 and the pure water in the cleaning tanks 14a to 14c are respectively cleaned and reused by a recycle device (not shown).
【0021】一方、前洗浄部6と後洗浄部8との間には
前洗浄液切部7が設けられており、そこには遠心力を利
用した液切装置15が設置されている。また、後洗浄部
8の後段にも同様の液切装置15が設置されており、こ
れらにより、前洗浄部6や後洗浄部8にて付着した液体
を製品から除去・回収している。On the other hand, a pre-cleaning liquid cutting unit 7 is provided between the pre-cleaning unit 6 and the post-cleaning unit 8, and a liquid cutting device 15 utilizing centrifugal force is provided therein. Further, a similar liquid draining device 15 is provided at a stage subsequent to the post-cleaning unit 8, thereby removing and collecting the liquid adhering in the pre-cleaning unit 6 and the post-cleaning unit 8 from the product.
【0022】洗浄部2の後段には乾燥部3が設置されて
おり、ここで製品に付着している水滴を完全に蒸発さ
せ、製品の洗浄工程を終了する。そして、乾燥処理の済
んだ製品は収納部4に移送され、マガジン10に格納さ
れる。なお、収納部4も、供給部1と同様に、空マガジ
ン供給部16aと満杯マガジン収納部16bとから構成
されており、洗浄・乾燥処理の終わった製品はマガジン
10に収容された状態で次の工程へと送られる。A drying unit 3 is provided downstream of the washing unit 2, where water droplets adhering to the product are completely evaporated, and the washing process of the product is completed. Then, the dried product is transferred to the storage unit 4 and stored in the magazine 10. The storage unit 4 also includes, like the supply unit 1, an empty magazine supply unit 16a and a full magazine storage unit 16b, and the products that have been washed and dried are stored in the magazine 10 next. Is sent to the process.
【0023】ところで、当該洗浄装置における洗浄機1
3では、従来の浸漬方式やシャワー方式とは異なる揺動
ジェット方式が採用されており、電子部品に付着したフ
ラックスや汚れを効率良く取り除くことができるように
なっている。図3, 4は洗浄槽12に配された洗浄機1
3の概略を示した説明図である。なお、洗浄槽12に
は、図1に示したように洗浄機13が3台設けられてい
るが、図面が煩雑となるため図3では洗浄機13aを1
台のみ記載している。また、後洗浄部8の洗浄槽14a
〜14cに取り付けられた洗浄機13も同様の構成とな
っている。By the way, the washing machine 1 in the washing apparatus is used.
In No. 3, an oscillating jet system different from the conventional immersion system or shower system is adopted, so that flux and dirt attached to the electronic component can be efficiently removed. FIGS. 3 and 4 show the washing machine 1 arranged in the washing tank 12.
It is explanatory drawing which showed the outline of No.3. Although three washing machines 13 are provided in the washing tank 12 as shown in FIG. 1, since the drawing is complicated, in FIG.
Only the units are shown. The cleaning tank 14a of the post-cleaning section 8
The washing machine 13 attached to 1414c has the same configuration.
【0024】図3, 4に示したように、洗浄機13は、
洗浄槽12内を上下方向に昇降可能に取り付けられた洗
浄治具17と、洗浄槽12の底部に配置されたジェット
ノズル(洗浄ユニット)18とから構成されている。こ
の場合、洗浄槽12内には洗浄液が満たされており、図
示しないポンプにより、例えば毎分5リットルの割合で
新しい洗浄液が供給され溢れた洗浄液はドレンパイプ3
1の排水口31aから排出される。As shown in FIG. 3 and FIG.
The cleaning tank 12 includes a cleaning jig 17 that can be moved up and down in the cleaning tank 12 and a jet nozzle (cleaning unit) 18 disposed at the bottom of the cleaning tank 12. In this case, the cleaning tank 12 is filled with the cleaning liquid, and a new cleaning liquid is supplied by a pump (not shown) at a rate of, for example, 5 liters per minute.
It is discharged from one drain port 31a.
【0025】洗浄治具17には、溝孔19が設けられて
おり、洗浄治具17を下に降ろすとこの溝孔19にジェ
ットノズル(ノズル)18のノズル部20が入り込むよ
うになっている。また、ジェットノズル18のノズル部
20にはジェット噴射孔(噴射孔)21が形成されてお
り、そこから洗浄剤や純水などの洗浄液が噴射される。
さらに、洗浄治具17には保持板22が設けられてお
り、この保持板22に、フレーム32に保持された状態
の電子部品23が縦置きに装着される。そして、洗浄治
具17に電子部品23を装着した状態で下に降ろして洗
浄治具17をジェットノズル18に係合させ、ジェット
噴射孔21から噴射される洗浄液により電子部品23を
洗浄する。The cleaning jig 17 is provided with a groove 19. When the cleaning jig 17 is lowered, the nozzle portion 20 of the jet nozzle (nozzle) 18 enters the groove 19. . Further, a jet injection hole (injection hole) 21 is formed in the nozzle portion 20 of the jet nozzle 18, and a cleaning liquid such as a cleaning agent or pure water is injected from the jet injection hole 21.
Further, a holding plate 22 is provided on the cleaning jig 17, and the electronic components 23 held by the frame 32 are vertically mounted on the holding plate 22. Then, the electronic component 23 is lowered while the electronic component 23 is mounted on the cleaning jig 17, the cleaning jig 17 is engaged with the jet nozzle 18, and the electronic component 23 is washed with the cleaning liquid injected from the jet injection hole 21.
【0026】ここで、ジェットノズル18は、多数のジ
ェット噴射孔21を有する4個のノズル部20と、この
ノズル部20に洗浄剤や純水を供給する供給管24とか
ら構成されている。図5は、ジェットノズル18の構成
を示す説明図であり、図5aはその正面図、図5bは側
面図である。ノズル部20は、中空の角パイプから形成
されており、図5bに示したように、供給管24のノズ
ル支持部24a上面に4個垂直に設置されている。一
方、供給管24は、ノズル支持部24aと、中空の角パ
イプから作られた導入管部24bとからなり、その内部
はノズル部20と連通状態となっている。また、供給管
24の導入管部24bは、洗浄槽12の側壁を乗り越え
るため、ノズル支持部24aから一旦上へと立ち上がっ
て再び下に向かって延びており、その先端には図示しな
いジェットポンプからの配管が接続される。Here, the jet nozzle 18 comprises four nozzle portions 20 having a large number of jet injection holes 21 and a supply pipe 24 for supplying a cleaning agent or pure water to the nozzle portions 20. 5A and 5B are explanatory views showing the configuration of the jet nozzle 18, FIG. 5A is a front view thereof, and FIG. 5B is a side view. As shown in FIG. 5B, four nozzle portions 20 are vertically installed on the upper surface of the nozzle support portion 24a of the supply pipe 24, as shown in FIG. On the other hand, the supply pipe 24 includes a nozzle support part 24a and an introduction pipe part 24b made of a hollow square pipe, and the inside thereof is in communication with the nozzle part 20. In addition, the introduction pipe portion 24b of the supply pipe 24 rises once upward from the nozzle support portion 24a and extends downward again in order to get over the side wall of the cleaning tank 12, and has a distal end from a jet pump (not shown). Pipes are connected.
【0027】さらに、各ノズル部20の上枠20aの側
面には、直径1mmに形成されたジェット噴射孔21が
多数設けられている。従って、図示しないジェットポン
プから供給管24を介して供給された洗浄剤等は、この
ジェット噴射孔21から図5bに矢印にて示したよう
に、各ノズル部20の側方に向かって噴出することにな
る。なお、ジェットノズル18は、導入管部24bに設
けられたブラケット25によって洗浄槽12に固定され
る。なお、ジェットノズル18に代えて超音波洗浄ユニ
ットを取り付けることも可能である。Further, a large number of jet injection holes 21 each having a diameter of 1 mm are provided on the side surface of the upper frame 20a of each nozzle portion 20. Therefore, the cleaning agent and the like supplied from a jet pump (not shown) via the supply pipe 24 are ejected from the jet injection holes 21 toward the sides of the respective nozzle portions 20 as indicated by arrows in FIG. 5B. Will be. Note that the jet nozzle 18 is fixed to the cleaning tank 12 by a bracket 25 provided on the introduction pipe portion 24b. In addition, it is also possible to attach an ultrasonic cleaning unit instead of the jet nozzle 18.
【0028】図6は洗浄治具17の構成を示した説明図
であり、図6aはその正面図、図6bは平面図である。
また、図7は図6の洗浄治具17において用いられる保
持板22の構成を示した説明図であり、図6aのA矢視
方向の図である。FIG. 6 is an explanatory view showing the structure of the cleaning jig 17, FIG. 6a is a front view thereof, and FIG. 6b is a plan view.
FIG. 7 is an explanatory view showing a configuration of the holding plate 22 used in the cleaning jig 17 of FIG. 6, and is a view in the direction of arrow A in FIG. 6A.
【0029】図6a, bに示したように、洗浄治具17
は、治具枠26の両端に治具ベース27a, 27bを配
し、その上に4個の電子部品保持部28を形成した構成
となっている。電子部品保持部28は、治具ベース27
a, 27b上に固定された支持枠29と、図7に示した
ような保持板22と、くの字状に曲げられた押え板30
とからなり、支持枠29上に5個の保持板22と2個の
保持板22がそれぞれ取り付けられている。そして、各
支持枠29の間および支持枠29と治具枠26の間に溝
孔19が形成されている。なお、電子部品保持部28の
数や保持板22の個数が前記の数に限定されないのは言
うまでもない。As shown in FIGS. 6A and 6B, the cleaning jig 17 is used.
Has a configuration in which jig bases 27a and 27b are arranged at both ends of a jig frame 26, and four electronic component holding portions 28 are formed thereon. The electronic component holding section 28 includes a jig base 27.
a and 27b, a holding plate 22 as shown in FIG. 7, and a holding plate 30 bent in a U-shape.
The five holding plates 22 and the two holding plates 22 are respectively mounted on the support frame 29. The slots 19 are formed between the support frames 29 and between the support frame 29 and the jig frame 26. It is needless to say that the number of the electronic component holding portions 28 and the number of the holding plates 22 are not limited to the above numbers.
【0030】この場合、保持板22は、図7に示したよ
うに、その中央に上端が広く開口した溝22aが設けら
れており、この溝22aに電子部品23が挿入される。
また、押え板30は、板ばね状の部材であり上端側が外
側に開いた状態で支持枠29上に取り付けられ、フレー
ム32をその基部30aにて挟み込むようにして位置決
め保持するようになっている。これにより、電子部品2
3は、押え板30の開いた上端部に案内されつつ保持板
22の溝22aに収容され、図6aにて二点鎖線にて示
した状態で洗浄治具17に装着される。また、押え板3
0により位置決めされて保持されるため、収納部4にお
いてもフレーム32を位置ズレすることなくマガジン1
0に収容できる。In this case, as shown in FIG. 7, the holding plate 22 is provided with a groove 22a having a wide open upper end at the center thereof, and the electronic component 23 is inserted into the groove 22a.
Further, the holding plate 30 is a leaf spring-shaped member and is mounted on the support frame 29 with the upper end side opened outward, and is positioned and held so that the frame 32 is sandwiched by its base 30a. . Thereby, the electronic component 2
3 is accommodated in the groove 22a of the holding plate 22 while being guided by the open upper end of the holding plate 30, and is mounted on the cleaning jig 17 in a state shown by a two-dot chain line in FIG. 6A. Also, presser plate 3
0, the magazine 32 can be positioned in the storage section 4 without displacing the frame 32.
0 can be accommodated.
【0031】一方、治具枠26にはブラケット67が取
り付けられており、その把手部67aを図示しない治具
昇降装置に取り付けることにより、図3, 4に示したよ
うに洗浄槽12内を昇降するようになっている。そし
て、洗浄治具17を下降させて溝孔19内にジェットノ
ズル18のノズル部20を挿入し、電子部品23をジェ
ット噴射孔21に対向させて洗浄治具17を上下に揺動
させる。このときの様子を示したものが図8である。On the other hand, a bracket 67 is attached to the jig frame 26, and the handle 67a is attached to a jig elevating device (not shown) to move up and down the cleaning tank 12 as shown in FIGS. It is supposed to. Then, the cleaning jig 17 is lowered to insert the nozzle portion 20 of the jet nozzle 18 into the slot 19, and the electronic component 23 is opposed to the jet injection hole 21 to swing the cleaning jig 17 up and down. FIG. 8 shows the situation at this time.
【0032】図8に示したように、洗浄治具17に保持
された電子部品23は、ジェット噴射孔21から噴出す
るジェット噴流によって洗浄される。この際、電子部品
23は10mm以下の近接位置からジェット噴流が吹き
かけられ、ボール近傍に付着したフラックスが除去され
る。また、ジェット噴流により電子部品23に加えられ
る力は保持板22によって受け止められるため、フレー
ム32が大きく歪んだり吹き飛ばされたりすることもな
い。As shown in FIG. 8, the electronic component 23 held by the cleaning jig 17 is cleaned by a jet jet ejected from the jet orifice 21. At this time, the electronic component 23 is blown with a jet jet from a proximity position of 10 mm or less, and the flux attached to the vicinity of the ball is removed. Further, since the force applied to the electronic component 23 by the jet jet is received by the holding plate 22, the frame 32 is not greatly distorted or blown off.
【0033】このように、当該洗浄機13においては、
洗浄治具17を洗浄液を満たした洗浄槽12内で揺動さ
せるのみならず、縦置きにした電子部品23に直接ジェ
ット噴流を噴射するようにしたことにより、従来の浸漬
方式やシャワー方式に比して小さなスペースで効率良く
部品洗浄を行うことが可能となる。As described above, in the washing machine 13,
The cleaning jig 17 is not only swung in the cleaning tank 12 filled with the cleaning liquid, but also jetted directly onto the electronic components 23 placed vertically, so that the cleaning jig 17 can be compared with the conventional immersion type or shower type. As a result, the parts can be efficiently cleaned in a small space.
【0034】なお、洗浄槽12に洗浄液を満たさずに、
気中によってジェット洗浄することも可能である。但
し、気中ジェット方式の場合には、液中ジェット方式よ
りもジェット噴流が強くなり洗浄効果も高まるもののジ
ェット噴流が当たらない部分は洗浄されない。その点、
液中ジェット方式では、被洗浄物全体が洗浄剤に浸され
ることになり、ジェット噴流が当たらない部分も洗浄さ
れることになる。The cleaning tank 12 is not filled with the cleaning liquid,
It is also possible to perform jet cleaning in the air. However, in the case of the submerged jet system, the jet jet is stronger than in the submerged jet system and the cleaning effect is enhanced, but the portion not hit by the jet jet is not cleaned. That point,
In the submerged jet method, the entire object to be cleaned is immersed in the cleaning agent, and the portion not hit by the jet jet is also cleaned.
【0035】このような構成からなる前洗浄部6と後洗
浄部8の後段にはそれぞれ液切装置15a, 15b(1
5)が配設されている。図9は、当該洗浄装置において
用いられる液切装置15の構成を示す説明図である。The draining devices 15a and 15b (1) are provided downstream of the pre-cleaning section 6 and the
5) is provided. FIG. 9 is an explanatory diagram illustrating a configuration of a liquid draining device 15 used in the cleaning device.
【0036】従来、この種の洗浄装置には、いわゆるエ
アブローによる吹き飛ばし型の液切装置が用いられてい
たが、このようなタイプの液切装置には次のような問題
点があった。すなわち、まず、有効な液切りを行うため
には大出力のエアブローを用いる必要があるため、エア
消費量が大きいという問題があった。また、その作動音
が非常に大きく作業環境が良くないという問題もあっ
た。さらに、播き散らされた液体により周囲の環境が悪
化するという問題があった。加えて、電子部品に付着し
ている液体が四方八方に飛び散るため、その回収が容易
ではないという問題もあった。Conventionally, a blow-off type liquid draining device using a so-called air blow has been used for this type of cleaning device. However, such a type of liquid draining device has the following problems. That is, first, it is necessary to use a high-output air blow in order to perform effective drainage, so that there is a problem that the air consumption is large. Another problem is that the operating noise is very loud and the working environment is not good. Further, there is a problem that the surrounding environment is deteriorated by the scattered liquid. In addition, there is a problem that the liquid attached to the electronic component is not easily collected because the liquid scatters in all directions.
【0037】そこで当該装置では、遠心力を利用して液
切りを行い、さらに、除去した洗浄液を容易に回収でき
るようにしてそのリサイクル化を図ることにより、洗浄
液を節約するとともに、周囲の環境悪化をも防止してい
る。また、後段への洗浄液の持ち込みを減らすことによ
り、後段におけるすすぎや乾燥処理を容易にするととも
に、廃水処理負担の低減をも図っている。Therefore, in this apparatus, the centrifugal force is used to drain the liquid, and further, the removed cleaning liquid can be easily collected and recycled, thereby saving the cleaning liquid and deteriorating the surrounding environment. Is also prevented. In addition, by reducing the carry-in of the cleaning liquid to the subsequent stage, rinsing and drying in the subsequent stage are facilitated, and the burden on wastewater treatment is reduced.
【0038】すなわち、前洗浄部6の後段に設けられる
液切装置15では、洗浄槽12から洗浄槽14への洗浄
液の持ち込みを少なくし、洗浄槽14でのすすぎ工程を
より効率化している。このため、通常ではすすぎ工程の
第1段階に当たる洗浄槽14aの水(純水)は洗浄液の
混入が多く循環使用できないが、本洗浄装置では、この
第1槽目の水もリサイクルすることが可能になってい
る。従って、製造ラインにおける廃水処理負担を減らす
ことができ、廃水処理にかかるコストを削減することが
できる。また、液切装置15にて除去された洗浄液は再
び回収されて再利用されるため、洗浄液を節約すること
ができ装置のランニングコストを削減することも可能と
なる。このように、当該洗浄装置では、この液切装置1
5を活用することにより、より効率良い形でクローズド
システムを形成することができ、洗浄処理にかかるラン
ニングコストをトータルで削減できるようになってい
る。That is, in the liquid removing device 15 provided at the subsequent stage of the pre-cleaning section 6, the carry-in of the cleaning liquid from the cleaning tank 12 to the cleaning tank 14 is reduced, and the rinsing step in the cleaning tank 14 is made more efficient. For this reason, the water (pure water) in the cleaning tank 14a, which is normally the first stage of the rinsing step, contains a large amount of cleaning liquid and cannot be recycled. However, the present cleaning apparatus can also recycle the water in the first tank. It has become. Therefore, the burden of wastewater treatment on the production line can be reduced, and the cost for wastewater treatment can be reduced. Further, since the cleaning liquid removed by the liquid removing device 15 is recovered and reused again, the cleaning liquid can be saved and the running cost of the device can be reduced. Thus, in the cleaning device, the draining device 1
By utilizing the method 5, a closed system can be formed in a more efficient manner, and the running cost for the cleaning process can be reduced in total.
【0039】また、後洗浄部8の後段の液切装置15で
は、乾燥部3への洗浄水の持ち込みを減らして乾燥効率
を上げ乾燥時間の短縮化を図るとともに、ウォーターマ
ークの付着の防止を図っている。この場合、特に高密度
ICなどを対象とした精密洗浄においては、空気中の不
純物の付着による作動不良を防止するため、水滴の跡で
あるウォーターマークが残っているものは洗浄不良とさ
れる。そこで、高品質の電子部品を提供すべく、本洗浄
装置では、乾燥前に如何に水を切るかという観点から、
後洗浄部8の後段にも液切装置15を設けている。Further, in the liquid draining device 15 at the subsequent stage of the post-washing section 8, washing water is brought into the drying section 3 to reduce the drying efficiency, shorten the drying time, and prevent adhesion of the watermark. I'm trying. In this case, in particular, in precision cleaning for high-density ICs and the like, in order to prevent malfunction due to the attachment of impurities in the air, those having a water mark as a trace of water droplets are regarded as cleaning failure. Therefore, in order to provide high-quality electronic components, this cleaning device is designed to remove water before drying.
A liquid removal device 15 is also provided at a stage subsequent to the post-cleaning unit 8.
【0040】そこで、当該洗浄装置における液切装置1
5の構成について説明すると、この液切装置15は、図
9に示したように、カバー37を備えフレーム32を収
容保持する液切治具33と、液切治具33を高速回転さ
せる回転駆動部34と、カバー37を駆動するカバー駆
動部35とから構成されている。ここで、液切治具33
には、図6, 7の洗浄治具17と同様に、保持板22と
押え板30が4組設けられており、そこにフレーム32
を保持できるようになっている。また、液切治具33
は、ベアリング38, 39にて支持された回転軸36に
固着されており、回転軸36を中心に回動自在に支持さ
れている。さらに、液切治具33は、仕切板45にて隔
離された液切室46内に設けられており、液切室46の
下部には排液口47が取り付けられている。従って、液
切治具33の回転により飛び散った洗浄液はこの液切室
46内に集められ、排液口47を介して回収され図示し
ない洗浄剤用のタンクに送られる。Therefore, the draining device 1 in the washing device is used.
The configuration of the liquid draining device 15 will now be described. As shown in FIG. 9, the liquid draining device 15 includes a liquid draining jig 33 having a cover 37 for housing and holding the frame 32, and a rotary drive for rotating the liquid draining jig 33 at a high speed. And a cover driving unit 35 for driving the cover 37. Here, the liquid cutting jig 33
In the same manner as the cleaning jig 17 of FIGS.
Can be held. Also, the liquid draining jig 33
Is fixed to a rotating shaft 36 supported by bearings 38 and 39, and is rotatably supported about the rotating shaft 36. Further, the liquid draining jig 33 is provided in a liquid draining chamber 46 separated by a partition plate 45, and a drainage port 47 is attached to a lower part of the liquid draining chamber 46. Therefore, the cleaning liquid scattered by the rotation of the liquid draining jig 33 is collected in the liquid draining chamber 46, collected through the drainage port 47, and sent to a cleaning agent tank (not shown).
【0041】回転駆動部34は、サーボモータ(以下、
モータと略す)40と、モータ40の出力軸40aに取
り付けられた駆動プーリ41と、回転軸36の図中右端
側に取り付けられ駆動プーリ41とベルト42を介して
連結された従動プーリ43とから構成されている。The rotation drive unit 34 is provided with a servomotor (hereinafter, referred to as a servomotor).
A motor 40), a drive pulley 41 attached to an output shaft 40a of the motor 40, and a driven pulley 43 attached to the right end side of the rotating shaft 36 in the figure and connected to the drive pulley 41 via a belt 42. It is configured.
【0042】液切治具33にはまた、カバー37が設け
られており、液切治具33が高速回転している際に洗浄
液が装置外に飛び散らないようになっている。このカバ
ー37は、軸受体48, 49に固定されたカバー取付板
50に取り付けられており、液切治具33の外側に回動
自在に支持されている。そして、通常は図9に示したよ
うに液切治具33の下側に格納されており、フレーム3
2の出し入れの邪魔にならないようになっている。The liquid draining jig 33 is also provided with a cover 37 so that the cleaning liquid does not splash outside the apparatus when the liquid draining jig 33 is rotating at a high speed. The cover 37 is attached to a cover attachment plate 50 fixed to bearings 48 and 49, and is rotatably supported outside the liquid cutting jig 33. Normally, as shown in FIG.
It doesn't get in the way of putting in and out of 2.
【0043】このカバー37は、カバー駆動部35によ
って駆動され、液切治具33の回転時には、図9におい
て一点鎖線にて示した位置に移動し、液切治具33と共
に回転する。カバー駆動部35は、回転角度が制御可能
なロータリアクチュエータ51と、ロータリアクチュエ
ータ51の出力軸51aに取り付けられた駆動プーリ5
2と、軸受体48の図中左端側に取り付けられ駆動プー
リ52とベルト53を介して連結された従動プーリ54
とから構成されている。なお、当該液切装置15では、
前記の駆動プーリ41、従動プーリ43も含めプーリに
はタイミングプーリが使用され、ベルト42およびベル
ト53にはタイミングベルトが使用されている。The cover 37 is driven by the cover drive unit 35 and moves to the position shown by the dashed line in FIG. 9 when the liquid cutting jig 33 rotates, and rotates together with the liquid cutting jig 33. The cover driving unit 35 includes a rotary actuator 51 whose rotation angle can be controlled, and a driving pulley 5 attached to an output shaft 51 a of the rotary actuator 51.
2 and a driven pulley 54 attached to the left end side of the bearing body 48 in the drawing and connected to the drive pulley 52 via a belt 53.
It is composed of In addition, in the said liquid removal apparatus 15,
Timing pulleys are used for the pulleys including the driving pulley 41 and the driven pulley 43, and timing belts are used for the belts 42 and 53.
【0044】そして、液切治具33にフレーム32を載
置し、カバー37を閉じて液切治具33を高速回転させ
る。この際、液切装置15における処理条件は、取り除
かれる液体の性質(液の粘度、広がり率等)によって異
なる。図10〜図13は、液切装置15を用いて実際に
液切りを行った場合のデータである。図10は純水と洗
浄剤との液切り効果の違いを示した表であり、図11は
図10の結果をグラフとして表したものである。図1
0, 11からわかるように、純水の場合は水滴状に多く
の量が付着するものの液切し易い。これに対し洗浄液の
場合には広がって付着するため、純水よりも付着量は少
ないが液切りしにくいことがわかる。Then, the frame 32 is placed on the liquid cutting jig 33, the cover 37 is closed, and the liquid cutting jig 33 is rotated at a high speed. At this time, the processing conditions in the liquid removing device 15 differ depending on the properties of the liquid to be removed (viscosity, spreading rate, etc. of the liquid). FIG. 10 to FIG. 13 show data in the case where the liquid was actually drained using the liquid draining device 15. FIG. 10 is a table showing the difference in the draining effect between pure water and the cleaning agent, and FIG. 11 is a graph showing the results of FIG. FIG.
As can be seen from 0 and 11, in the case of pure water, although a large amount adheres in the form of water droplets, drainage is easy. On the other hand, in the case of the cleaning liquid, since it spreads and adheres, the amount of adhesion is smaller than that of pure water, but it is found that the liquid is difficult to drain.
【0045】一方、図12は各種液切り方式による液切
り効果を比較した表であり、図13は図12のデータの
うち回転速度と水分残量との関係を示したグラフであ
る。図12からわかるように、電子部品を垂直にした方
が水平においた場合よりも水分付着量は少ない。また、
エアブローよりも遠心力を利用した液切りの方が効果が
高いことがわかる。さらに、遠心液切りでも、回転数が
高い方が効果があることもわかる。On the other hand, FIG. 12 is a table comparing the draining effects of various draining methods, and FIG. 13 is a graph showing the relationship between the rotation speed and the remaining water amount in the data of FIG. As can be seen from FIG. 12, the amount of water adhesion is smaller when the electronic component is vertical than when it is horizontal. Also,
It can be seen that liquid removal using centrifugal force is more effective than air blow. Further, it can be seen that the higher the number of rotations is, the more effective the centrifugal liquid drainer is.
【0046】次に、このような液切装置15の後段に
は、図1, 2に示したように、乾燥部3の乾燥装置66
が設けられており、ここですすぎ洗浄の終わった電子部
品を熱風乾燥して洗浄工程の仕上げを行っている。図1
4は、この乾燥装置66の構成を示した説明図である。
乾燥装置66は、図14に示したように、乾燥槽55
に、乾燥治具56と、シロッコファン57およびヒータ
58を配した構成となっており、シロッコファン57か
らヒータ58を介して送られて来る熱風によって、乾燥
治具56に保持した電子部品23を乾燥するようしてい
る。乾燥治具56には、この場合も図6, 7の洗浄治具
17と同様に、保持板22と押え板30が設けられてお
り、そこにフレーム32を保持できるようになってい
る。なお、乾燥治具56は、図2に示されているよう
に、図14の紙面と垂直方向に沿って多数平行に配設さ
れている。Next, as shown in FIGS. 1 and 2, a drying device 66 of the drying section 3 is provided downstream of the draining device 15.
Here, the electronic components that have been rinsed and cleaned are dried with hot air to finish the cleaning process. FIG.
FIG. 4 is an explanatory view showing the configuration of the drying device 66.
The drying device 66, as shown in FIG.
And a drying jig 56, a sirocco fan 57, and a heater 58. The electronic components 23 held by the drying jig 56 are heated by hot air sent from the sirocco fan 57 through the heater 58. Try to dry. In this case, similarly to the cleaning jig 17 of FIGS. 6 and 7, the drying jig 56 is provided with the holding plate 22 and the holding plate 30 so that the frame 32 can be held there. As shown in FIG. 2, a large number of drying jigs 56 are provided in parallel with the paper surface of FIG.
【0047】この場合、液切装置15を用いて液切りし
た後に乾燥させた場合と、液切りを行わずに乾燥させた
場合では乾燥時間に差が生じる。図15は、それらの両
者を比較したテスト結果であり、図中Aは液切装置15
にて液切りをした場合のデータであり、Bはティッシュ
により表面の水滴を拭き取った場合のデータである。図
15からも明らかなように、液切装置15を用いたもの
では120秒後には水分残量が0となるが、ティッシュ
拭き取りのものでは水分残量が0となるまでに150を
要している。なお、テスト後にAのサンプルを2個蓋を
剥がして隙間の水分残量を目視でチェックしたが、内部
に水分は残っていなかった。In this case, there is a difference in the drying time between the case where the drying is performed after draining using the draining device 15 and the case where the drying is performed without draining. FIG. 15 shows test results comparing the two, and FIG.
Is the data when the liquid was drained, and B is the data when the water droplets on the surface were wiped off with a tissue. As is clear from FIG. 15, in the case of using the liquid draining device 15, the residual water amount becomes 0 after 120 seconds, but in the case of wiping tissue, it takes 150 before the residual water amount becomes 0. I have. After the test, two lids of the sample A were peeled off, and the remaining amount of water in the gap was visually checked, but no water remained inside.
【0048】また、液切装置15における回転数と乾燥
時間との関係を図16, 17に示す。図16は、回転数
が1000RPMの場合と2000RPMの場合で乾燥
時間を比較したものであり、図17はその結果をグラフ
化したものである。これらの結果からわかるように、回
転数を上げればその分水分残量が少なくなるため、当然
に乾燥時間も短縮される。従って、図10, 11, 13
などのデータも合わせて、液切り時間と乾燥時間を最も
短縮化できる条件を製品に応じて設定すれば、従来の洗
浄装置に比して大幅に作業効率を向上することが可能と
なる。FIGS. 16 and 17 show the relationship between the number of rotations and the drying time in the liquid removing device 15. FIG. 16 shows a comparison of the drying time between the case where the rotation speed is 1000 RPM and the case where the rotation speed is 2000 RPM. FIG. 17 is a graph showing the results. As can be seen from these results, when the number of rotations is increased, the remaining amount of water is reduced accordingly, so that the drying time is naturally shortened. Therefore, FIGS.
If the conditions that can minimize the draining time and the drying time are set in accordance with the product in consideration of the data such as the above, the working efficiency can be greatly improved as compared with the conventional cleaning apparatus.
【0049】ところで当該洗浄装置では、従来の他の洗
浄装置のようにトレイやバスケットをハンドリングして
洗浄処理を行うのではなく、フレーム32を移送装置5
によって搬送して洗浄処理を行っている。このため、本
装置では従来の装置に比して洗浄液を槽外に持ち出した
り、他の槽に持ち込んだりする量が少なく、この点にお
いても液の節約や液の疲労低減が図られている。In the cleaning apparatus, the frame 32 is moved to the transfer device 5 instead of handling the tray or basket to perform the cleaning process as in other conventional cleaning devices.
For cleaning. For this reason, in the present apparatus, the amount of the cleaning liquid taken out of the tank or brought into another tank is smaller than that of the conventional apparatus. In this respect, the liquid is saved and the fatigue of the liquid is reduced.
【0050】そこで、改めて図1, 2を参照すると、移
送装置5は、洗浄装置の長手方向に沿って設けられたガ
イドレール59と、ガイドレール59上を図示しない駆
動手段によりガイドレール59に沿って移動自在に配設
された2台のチャックユニット60a, 60b(60)
とから構成されている。図18は移送装置5に用いられ
るチャックユニット60の構成を示す説明図であり、
(a)はフレーム32を保持していない状態、(b)は
フレーム32を保持する場合の状態を示す図である。ま
た、図19は、チャックユニット60を側面方向から見
た説明図である。Therefore, referring to FIGS. 1 and 2 again, the transfer device 5 includes a guide rail 59 provided along the longitudinal direction of the cleaning device, and a drive unit (not shown) on the guide rail 59 along the guide rail 59. Chuck units 60a, 60b (60) movably disposed
It is composed of FIG. 18 is an explanatory diagram showing the configuration of the chuck unit 60 used in the transfer device 5,
FIG. 7A is a diagram illustrating a state where the frame 32 is not held, and FIG. 7B is a diagram illustrating a state where the frame 32 is held. FIG. 19 is an explanatory diagram of the chuck unit 60 viewed from the side.
【0051】チャックユニット60は、開閉ビーム6
1, 62を作動させて可動爪63を開閉することにより
フレーム32をハンドリングして所望の位置に持ち運び
できるようになっている。この場合、可動爪63は、そ
の先端が図18において右を向いている可動爪63aが
開閉ビーム61に、先端が図18において左に向いてい
る可動爪63bが開閉ビーム62にそれぞれ取り付けら
れている。また、可動爪63は、図19に示されている
ように、図18の紙面とは垂直な方向に複数個設けられ
ており、その爪先は図20のように配置されている。図
20は、可動爪63の爪先の配置を示す説明図であり、
可動爪63aと可動爪63bの爪先は図20に示したよ
うに、互いに干渉することなく重なり合うように形成さ
れている。これにより、開閉ビーム61, 62を内側方
向(図18aの矢印方向)に移動させると、図18
(b)のように可動爪63aと可動爪63bが近接し、
両者の間にフレーム32を抱え込むことができることに
なる。The chuck unit 60 includes an opening / closing beam 6.
The frame 32 can be handled and carried to a desired position by opening and closing the movable claw 63 by operating the first and second members 62. In this case, the movable claw 63 has a movable claw 63a having a tip facing right in FIG. 18 attached to the opening / closing beam 61, and a movable claw 63b having a tip facing left in FIG. I have. Also, as shown in FIG. 19, a plurality of movable claws 63 are provided in a direction perpendicular to the plane of FIG. 18, and the toes are arranged as shown in FIG. FIG. 20 is an explanatory diagram showing the arrangement of the toes of the movable claw 63.
As shown in FIG. 20, the toes of the movable claw 63a and the movable claw 63b are formed so as to overlap without interfering with each other. As a result, when the opening and closing beams 61 and 62 are moved inward (in the direction of the arrow in FIG. 18A),
As shown in (b), the movable claw 63a and the movable claw 63b are close to each other,
The frame 32 can be held between them.
【0052】なお、可動爪63の基部にはパッド64が
設けられており、可動爪63aと可動爪63bとの間に
所定の空間を確保するようにしている。従って、可動爪
同士が必要以上に近接して、それらの間に収容されたフ
レーム32を傷めることはない。また、開閉ビーム6
1, 62は、チャックユニット60の上部に設けられた
モータ65によって行われる。A pad 64 is provided at the base of the movable claw 63 so as to secure a predetermined space between the movable claw 63a and the movable claw 63b. Therefore, the movable claws do not approach each other more than necessary and do not damage the frame 32 housed between them. Opening beam 6
Steps 1 and 62 are performed by a motor 65 provided above the chuck unit 60.
【0053】次に、このような構成からなる当該洗浄装
置における電子部品の洗浄作業について説明する。ま
ず、図18に示した移送装置5のチャックユニット60
aを供給部1の満マガジン供給部11aに移動させ、マ
ガジン10から洗浄を要する電子部品を搭載したフレー
ム32を取り出す。このとき、チャックユニット60a
では、開閉ビーム61, 62を内側方向に移動させ可動
爪63を閉じ、可動爪63aと可動爪63bの間にフレ
ーム32を抱え込む。なお、当該洗浄装置では、1回の
動作にて最大4枚のフレーム32を移動させて洗浄処理
を行うことができるが、その数は各装置の設定によって
適宜変更でき、これに限定されるものではない。Next, the operation of cleaning the electronic parts in the cleaning apparatus having the above-described configuration will be described. First, the chuck unit 60 of the transfer device 5 shown in FIG.
is moved to the full magazine supply section 11a of the supply section 1, and the frame 32 on which the electronic components requiring cleaning are taken out of the magazine 10. At this time, the chuck unit 60a
Then, the movable claws 63 are closed by moving the opening / closing beams 61 and 62 inward, and the frame 32 is held between the movable claws 63a and 63b. In addition, in the cleaning device, the cleaning process can be performed by moving up to four frames 32 in one operation, but the number thereof can be appropriately changed by setting of each device and is not limited thereto. is not.
【0054】フレーム32を取得した移送装置5は、こ
のフレームを洗浄部2へ移送し、洗浄槽12の最も手前
の洗浄機13aにフレーム32を載置する。このとき、
洗浄機13aでは、洗浄治具17が洗浄槽12の液面の
上に待機しており、チャックユニット60aは、その電
子部品保持部28にフレーム32を収容保持させた状態
で可動爪63を開き洗浄機13aから離れる。The transfer device 5 that has acquired the frame 32 transfers the frame to the cleaning unit 2 and places the frame 32 on the cleaning machine 13a closest to the cleaning tank 12. At this time,
In the cleaning machine 13a, the cleaning jig 17 is on standby above the liquid level in the cleaning tank 12, and the chuck unit 60a opens the movable claw 63 in a state where the frame 32 is stored and held in the electronic component holding unit 28. Move away from the washer 13a.
【0055】洗浄機13aでは、洗浄治具17を下降さ
せてジェットノズル18のノズル部20に重ね合わせ
る。ジェットノズル18では、ジェット噴射孔21から
洗浄治具17に保持された電子部品23に向かって洗浄
液を噴射する。また、洗浄治具17は同時に上昇と下降
を繰り返し、電子部品23にジェット噴流がまんべんな
く当たるようにする。これにより、電子部品23に付着
したフラックスが、洗浄治具17の揺動作用とジェット
噴流により効果的に取り除かれる。In the cleaning machine 13a, the cleaning jig 17 is lowered and overlaps the nozzle portion 20 of the jet nozzle 18. The jet nozzle 18 injects a cleaning liquid from the jet injection hole 21 toward the electronic component 23 held by the cleaning jig 17. Further, the cleaning jig 17 repeats ascending and descending at the same time so that the jet jet may evenly hit the electronic component 23. As a result, the flux adhering to the electronic component 23 is effectively removed by the swing operation of the cleaning jig 17 and the jet jet.
【0056】このような動作を所定時間(例えば30
秒)行った後、当該洗浄装置では、すすぎ工程の前に液
切りを行う。すなわち、洗浄治具17を上昇させ移送装
置5によりフレーム32を液切装置15aに搬送する。
液切装置15aでは、その液切治具33にフレーム32
が載置され、カバー37が閉じられる。そして、所定条
件(例えば2000rpm、5秒間)にて液切治具33
を回転させ、遠心力により電子部品に付着した洗浄液を
取り除く。Such an operation is performed for a predetermined time (for example, 30 minutes).
Seconds), the washing apparatus performs drainage before the rinsing step. That is, the cleaning jig 17 is raised, and the transfer device 5 conveys the frame 32 to the liquid removing device 15a.
In the liquid draining device 15a, the frame 32 is attached to the liquid draining jig 33.
Is placed, and the cover 37 is closed. Then, under a predetermined condition (for example, 2000 rpm, 5 seconds), the liquid cutting jig 33
Is rotated to remove the cleaning liquid attached to the electronic component by centrifugal force.
【0057】このようにして洗浄液をふるい落とした
後、今度は洗浄液のすすぎを行う。すなわち、洗浄治具
17を上昇させて移送装置5によりフレーム32を後洗
浄部8の洗浄槽14aに搬送する。このとき、当該洗浄
装置では、移送装置5のチャックユニット60bにより
この移送動作を行う。洗浄槽14aでは、洗浄機13d
の洗浄治具17が洗浄槽12の液面の上に待機してお
り、チャックユニット60bはそこにフレーム32を置
き洗浄機13dから離れる。洗浄機13dは、前述の洗
浄機13aと同様に洗浄治具17の揺動作用とジェット
噴流により電子部品23のすすぎを行う。After the cleaning liquid has been sieved in this way, the cleaning liquid is then rinsed. That is, the cleaning jig 17 is raised, and the transfer device 5 conveys the frame 32 to the cleaning tank 14 a of the post-cleaning unit 8. At this time, in the cleaning device, the transfer operation is performed by the chuck unit 60b of the transfer device 5. In the cleaning tank 14a, the cleaning machine 13d
Cleaning jig 17 is on standby above the liquid level in cleaning tank 12, and chuck unit 60b places frame 32 there and separates from cleaning machine 13d. The cleaning machine 13d rinses the electronic component 23 by the swing operation of the cleaning jig 17 and the jet jet similarly to the above-described cleaning machine 13a.
【0058】洗浄槽14aでの第1回目のすすぎを所定
時間(例えば30秒)行った後、洗浄槽14bに移送し
第2回目のすすぎを行い、続いて洗浄槽14cに移り第
3回目のすすぎを行う。そして、第3回目のすすぎを終
えた後、液切装置15bに搬送しすすぎの際に電子部品
23に付着した洗浄水を取り除く。なお、液切装置15
における処理条件は、前記のように取り除かれる液体の
性質(液の粘度、広がり率等)によって異なる。After performing the first rinsing in the cleaning tank 14a for a predetermined time (for example, 30 seconds), the rinsing is transferred to the cleaning tank 14b, and the second rinsing is performed. Perform a rinse. Then, after the third rinsing is completed, the washing water adhered to the electronic component 23 during the transfer to the liquid removing device 15b and rinsing is removed. The draining device 15
Is different depending on the properties of the liquid to be removed as described above (viscosity, spreading rate, etc. of the liquid).
【0059】すすぎ、液切りを終えた後、最後に乾燥を
行う。すなわち、チャックユニット60bによりフレー
ム32を乾燥装置66に搬送する。乾燥装置66では、
その乾燥治具56にフレーム32が載置され、シロッコ
ファン57からヒータ58を介して送られて来る熱風に
よって電子部品23を乾燥させる。この乾燥処理の後、
乾燥処理の済んだ電子部品23を収容したフレーム32
は、チャックユニット60bにより乾燥装置66から取
り出され収納部4に移送されマガジン10に格納され
る。そして、マガジン10が一杯になったところでその
マガジン10は満マガジン供給部16aに搬送され次の
工程へと送られる。After rinsing and draining, drying is finally performed. That is, the frame 32 is transported to the drying device 66 by the chuck unit 60b. In the drying device 66,
The frame 32 is placed on the drying jig 56, and the electronic component 23 is dried by hot air sent from the sirocco fan 57 via the heater 58. After this drying process,
Frame 32 containing electronic component 23 that has been dried
Is taken out of the drying device 66 by the chuck unit 60b, transferred to the storage section 4, and stored in the magazine 10. When the magazine 10 becomes full, the magazine 10 is conveyed to the full magazine supply unit 16a and sent to the next step.
【0060】ところで、このような洗浄処理を行うに際
し、フレーム32をひとつひとつ処理していたのでは、
待機時間が生じ処理効率が悪くなる。そこで、当該洗浄
装置では、洗浄槽12に3台の洗浄機13を配置してそ
れぞれに時間差をもって洗浄動作を行わせ無駄な待機時
間が生じないようにしている。図21は、その処理パタ
ーンを示す説明図である。By the way, when such a cleaning process is performed, if the frames 32 are processed one by one,
Waiting time occurs and processing efficiency deteriorates. Therefore, in the cleaning apparatus, three cleaning machines 13 are arranged in the cleaning tank 12, and the cleaning operation is performed with a time lag between each of the three cleaning machines 13, so that unnecessary waiting time is not generated. FIG. 21 is an explanatory diagram showing the processing pattern.
【0061】ここでは、図21(a)のように、チャッ
クユニット60aを用いてまず洗浄機13aにフレーム
32aを入れる。次に、図21(b)のように、洗浄機
13bにフレーム32bを入れる。そして、その後、図
21(c)のように、洗浄機13cにフレーム32cを
入れる。このように洗浄機13cにフレーム32cを入
れた後、図21(d)のように、それまでの間洗浄作業
を行っていた洗浄機13aからフレーム32aをチャッ
クユニット60bを用いて取り出し、洗浄槽14aの洗
浄機13dに移送する。また、それと前後してチャック
ユニット60aを用いて新しいフレーム32dを洗浄機
13aに入れる。Here, as shown in FIG. 21A, the frame 32a is first put into the cleaning machine 13a by using the chuck unit 60a. Next, as shown in FIG. 21B, the frame 32b is put in the cleaning machine 13b. Then, as shown in FIG. 21C, the frame 32c is put into the cleaning machine 13c. After the frame 32c is put into the cleaning machine 13c in this way, as shown in FIG. 21D, the frame 32a is taken out from the cleaning machine 13a, which has been performing the cleaning work up to that time, using the chuck unit 60b, and the cleaning tank is cleaned. It transfers to the washing machine 13d of 14a. Before and after that, a new frame 32d is put into the washing machine 13a by using the chuck unit 60a.
【0062】洗浄機13dにおけるフレーム32aの第
1回目のすすぎが終わると、チャックユニット60bに
よりフレーム32aを洗浄槽14bの洗浄機13eに移
し、その後、洗浄機13bからフレーム32bを取り出
し洗浄機13dに移す。それと前後してチャックユニッ
ト60aを用いて新しいフレーム32eを洗浄機13b
に入れる。そいて、このような時間差動作を繰り返し行
うことにより、洗浄槽12における洗浄作業の時間を有
効に利用し無駄のない洗浄作業が可能となる。After the first rinsing of the frame 32a in the washing machine 13d is completed, the frame 32a is moved to the washing machine 13e of the washing tank 14b by the chuck unit 60b, and then the frame 32b is taken out of the washing machine 13b and sent to the washing machine 13d. Move. Before or after that, a new frame 32e is cleaned by the cleaning unit 13b using the chuck unit 60a.
Put in. By repeating such a time lag operation, the time of the cleaning operation in the cleaning tank 12 can be effectively used, and the cleaning operation without waste can be performed.
【0063】このように、本発明による洗浄装置によれ
ば、揺動ジェット方式を採用して電子部品の洗浄を行う
ため、従来の方式に比して効率良くフラックスや汚れ等
を取り除くことが可能となる。また、揺動ジェットを電
子部品を縦置きして行っているため、ベルト搬送による
シャワー洗浄装置のように大きなスペースを必要とせ
ず、コンパクトな洗浄装置を提供することが可能とな
る。As described above, according to the cleaning apparatus of the present invention, since the oscillating jet method is used for cleaning the electronic parts, it is possible to remove flux and dirt more efficiently than the conventional method. Becomes In addition, since the oscillating jet is performed by vertically arranging the electronic components, a large space is not required unlike a shower cleaning device using a belt conveyor, and a compact cleaning device can be provided.
【0064】図22に、本発明による洗浄方式(揺動ジ
ェット方式)を用いた場合と、単に揺動浸漬した場合の
洗浄テストの結果を示す。また、図22には、ジェット
ノズル18に代えて超音波洗浄ユニットを取り付けた場
合の洗浄テストの結果も併せて示す。なお、図22のテ
ストにおいては、すすぎは2回実施し、第3回目のすす
ぎは省略した。FIG. 22 shows the results of the cleaning test when the cleaning method (oscillating jet method) according to the present invention is used and when the immersing operation is simply performed. FIG. 22 also shows the results of a cleaning test when an ultrasonic cleaning unit is attached instead of the jet nozzle 18. In the test of FIG. 22, the rinsing was performed twice, and the third rinsing was omitted.
【0065】図22からわかるように、洗浄効果として
は、「揺動浸漬+超音波」の場合が最も高く、「揺動浸
漬+液中ジェット」はそれに次ぐ結果となった。しかし
ながら、単なる揺動浸漬に比して揺動ジェット方式が相
当に有効であることも確認でき、超音波洗浄を行えない
電子部品の洗浄には有効であることがわかった。As can be seen from FIG. 22, the cleaning effect was highest in the case of “oscillation immersion + ultrasonic wave”, and the result of “oscillation immersion + jet in liquid” was second to that. However, it was confirmed that the oscillating jet method was considerably more effective than mere immersion immersion, and it was found that the oscillating jet method was effective for cleaning electronic components that could not be subjected to ultrasonic cleaning.
【0066】なお、前記の種々のテスト条件は、あくま
でも一例でありその条件に本発明による洗浄装置が限定
されるものではない。また、前記の例では、液中ジェッ
トによる方式を示したが、前述のように液中のみならず
気中ジェットによる方式も可能であり、さらに、洗浄槽
によって方式を異ならせ、これらを適宜組み合わせて用
いるようにすることも可能である。加えて、洗浄方式は
ジェット方式のみならず、ユニット交換により超音波洗
浄方式を容易に採用できる。さらにこの場合、例えば、
洗浄槽12では超音波方式、洗浄槽14ではジェット方
式など、槽ごとに異なる洗浄方式を用いても良い。The above-described various test conditions are merely examples, and the cleaning apparatus according to the present invention is not limited to these conditions. In the above-described example, the system using the submerged jet is shown. However, as described above, a system using an aerial jet as well as a submerged jet is also possible. It is also possible to use it. In addition, the cleaning method is not limited to the jet method, and the ultrasonic cleaning method can be easily adopted by replacing the unit. In this case, for example,
A different cleaning method may be used for each tank, such as an ultrasonic method for the cleaning tank 12 and a jet method for the cleaning tank 14.
【0067】一方、当該洗浄装置では、洗浄槽の使用形
態を適宜切り換えることにより、水溶性、ロジン系何れ
のフラックスにも柔軟に対応することができる。すなわ
ち、洗浄槽14は必ずしもすすぎ専用に用いる必要はな
く、洗浄槽14aにも洗浄槽12とは異なる洗浄剤を入
れるなど、槽によって適宜内容物を異ならせるようにし
ても良い。また、図22のテストのように、洗浄剤との
関係によってすすぎを1回省くなど、すすぎの数も3回
には限られない。特に、水溶性フラックスを用いた場合
には、前洗浄工程を省略して、例えば温水3回出洗浄す
るようにしても良く、この場合には洗浄槽12をスキッ
プして当初から洗浄槽14にて洗浄作業を行うようにで
きる。On the other hand, the washing apparatus can flexibly cope with both water-soluble and rosin-based fluxes by appropriately switching the use form of the washing tank. That is, the cleaning tank 14 does not necessarily need to be used exclusively for rinsing, and the contents may be appropriately changed depending on the tank, for example, by adding a cleaning agent different from that of the cleaning tank 12 to the cleaning tank 14a. Further, as in the test in FIG. 22, the number of rinses is not limited to three, such as omitting one rinse depending on the relationship with the cleaning agent. In particular, when a water-soluble flux is used, the pre-cleaning step may be omitted, and washing may be performed, for example, three times with hot water. In this case, the cleaning tank 12 is skipped and the cleaning tank 14 is skipped from the beginning. Cleaning work.
【0068】(実施の形態2)次に、本発明の実施の形
態2である洗浄装置について説明する。実施の形態2の
洗浄装置は、実施の形態1においてはフレーム32に保
持して電子部品を洗浄したところを、単品で取り扱って
洗浄するようにしたものである。この場合、実施の形態
2と実施の形態1とは、移送装置5、洗浄機13、液切
装置15、乾燥装置66などにおける電子部品23を保
持するための構成が異なっており、他の構成については
実施の形態1の洗浄装置と同様である。なお、実施の形
態1と同様の装置、部材については同一の符号を付しそ
の詳細は省略する。(Embodiment 2) Next, a cleaning apparatus according to Embodiment 2 of the present invention will be described. The cleaning device according to the second embodiment is a device in which the electronic component is cleaned while being held on the frame 32 in the first embodiment, and is handled as a single item and cleaned. In this case, the second embodiment is different from the first embodiment in the configuration for holding the electronic component 23 in the transfer device 5, the washing machine 13, the liquid removal device 15, the drying device 66, and the like. Is the same as that of the cleaning apparatus of the first embodiment. Note that the same reference numerals are given to the same devices and members as in Embodiment 1, and the details are omitted.
【0069】図23は、実施の形態2の移送装置5にて
用いられるチャックユニット70の構成を示す説明図で
あり、図23aはその正面図、図23bは側面図であ
る。このチャックユニット70は、電子部品23の固片
71を、押えパッド72によって真空吸引して水平に保
持しつつ可動爪73によって抱え込んで搬送するもので
ある。可動爪73は、図23bに示したように、開閉ビ
ーム74に取り付けられており、図中の左右方向に移動
するようになっている。押えパッド72は、押えピン7
5の先端に取り付けられ、図示しない真空ポンプと接続
されており、その下面に固片71を吸着できるようにな
っている。また、押えピン75にはスプリング76が嵌
装されており、押えパッド72に所定の押圧力を付与し
ている。FIG. 23 is an explanatory view showing the structure of the chuck unit 70 used in the transfer device 5 according to the second embodiment. FIG. 23a is a front view, and FIG. 23b is a side view. In the chuck unit 70, the solid piece 71 of the electronic component 23 is held by the movable claw 73 and transported while being held horizontally by vacuum suction by the press pad 72. The movable claw 73 is attached to the opening / closing beam 74 as shown in FIG. 23B, and moves in the left-right direction in the figure. The press pad 72 is provided with the press pin 7.
5 and is connected to a vacuum pump (not shown) so that the solid pieces 71 can be adsorbed on the lower surface thereof. A spring 76 is fitted on the holding pin 75, and applies a predetermined pressing force to the holding pad 72.
【0070】さらに、チャックユニット70には、規制
ピン77が押えパッド72と一列をなして設けられてい
る。この規制ピン77は、先端がテーパ状になった小径
部77aによって固片71の位置決めを行うものであ
る。これにより、固片71は、図23aにおいて左右方
向の位置決めがなされてチャックユニット70に保持さ
れる。Further, a regulating pin 77 is provided in the chuck unit 70 in a line with the press pad 72. The restriction pin 77 is for positioning the solid piece 71 by a small diameter portion 77a having a tapered tip. Thereby, the solid piece 71 is positioned in the left-right direction in FIG. 23A and held by the chuck unit 70.
【0071】次に、実施の形態2の洗浄機13で用いら
れる洗浄治具80について説明する。図24はその構成
を示す説明図であり、図24aはその平面図、図24b
は正面図である。洗浄治具80は、チャックユニット7
0を有する移送装置5により搬送されてきた電子部品2
3の固片71を水平保持して洗浄する専用治具である。
この場合、固片71は基台82に取り付けられた下側治
具83上に載せられ、押さえプレート84により上側か
ら押さえ込まれる。下側治具83上には位置決めブロッ
ク85が設けられており、位置決めブロック85によっ
て画定された空間内に固片71は載置される。Next, a cleaning jig 80 used in the cleaning machine 13 of the second embodiment will be described. FIG. 24 is an explanatory view showing the configuration, FIG. 24a is a plan view thereof, and FIG.
Is a front view. The cleaning jig 80 includes the chuck unit 7.
Electronic component 2 transported by the transfer device 5 having
This is a dedicated jig for holding the third solid piece 71 horizontally for cleaning.
In this case, the solid piece 71 is placed on the lower jig 83 attached to the base 82 and is pressed from above by the pressing plate 84. A positioning block 85 is provided on the lower jig 83, and the solid pieces 71 are placed in the space defined by the positioning block 85.
【0072】また、押さえプレート84は、支持部84
aにより下側治具83に対して回動自在に取り付けられ
ており、下側治具83上に固片71を載置する際に自動
的に開かれ、洗浄位置では自重により閉じるようになっ
ている。図25は、押さえプレート84の開閉機構の構
成を示した説明図である。図25に示したように、洗浄
位置(下側)では、押さえプレート84はその自重によ
り下側治具83上に重なって閉じた状態となっている。
これに対して固片搭載位置(上側)に洗浄治具80が上
昇して行くと、ローラ86が洗浄槽12内に設けられた
係合片88に当接する。そして、なおも洗浄治具80が
上昇するとローラ86が取り付けられているアーム89
が作動し、押さえプレート84が上側に跳ね上げられ
る。これにより、固片搭載位置に至ると押さえプレート
84は図25の上側の図に示した状態に保持され固片搭
載が可能となる。Further, the holding plate 84 is
a, it is rotatably attached to the lower jig 83, and is automatically opened when the solid piece 71 is placed on the lower jig 83, and is closed by its own weight in the washing position. ing. FIG. 25 is an explanatory diagram showing the configuration of the opening / closing mechanism of the holding plate 84. As shown in FIG. 25, at the cleaning position (the lower side), the holding plate 84 is closed on the lower jig 83 due to its own weight.
On the other hand, when the cleaning jig 80 moves up to the solid piece mounting position (upper side), the roller 86 comes into contact with the engaging piece 88 provided in the cleaning tank 12. When the cleaning jig 80 still moves up, the arm 89 to which the roller 86 is attached is attached.
Is activated, and the holding plate 84 is flipped upward. As a result, when reaching the solid piece mounting position, the holding plate 84 is held in the state shown in the upper part of FIG. 25, and solid piece mounting becomes possible.
【0073】一方、固片を搭載して洗浄位置に降りる
と、押さえプレート84は次第にその自重により閉じ始
め、ローラ86が係合片88から外れると、押さえプレ
ート84は下側治具83上に重なる。これにより、下側
治具83上に載置された固片71は押さえプレート84
により押さえ込まれることになる。On the other hand, when the solid piece is mounted and descends to the washing position, the pressing plate 84 gradually starts to close due to its own weight, and when the roller 86 comes off from the engaging piece 88, the pressing plate 84 is placed on the lower jig 83. Overlap. As a result, the solid pieces 71 placed on the lower jig 83 are
Will be suppressed.
【0074】このように、本発明による洗浄装置は、フ
レーム32を用いて電子部品23を洗浄することができ
るのみならず、フレーム32を用いることなく固片71
を直接ハンドリングして洗浄を行うこともできる。な
お、下側治具83および押さえプレート84の大きさ
は、固片71のサイズにより適宜変更できるようになっ
ている。As described above, the cleaning device according to the present invention can not only clean the electronic component 23 using the frame 32 but also remove the solid piece 71 without using the frame 32.
Can be directly handled for washing. The size of the lower jig 83 and the holding plate 84 can be changed as appropriate according to the size of the solid piece 71.
【0075】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say,
【0076】例えば、実施の形態1ではフレーム32に
4個の電子部品23を搭載した例、実施の形態2では固
片71を8個一度に洗浄できる例を示したが、電子部品
23の搭載個数はこれに限定されない。For example, the first embodiment shows an example in which four electronic components 23 are mounted on the frame 32, and the second embodiment shows an example in which eight solid pieces 71 can be washed at once. The number is not limited to this.
【0077】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその利用分野であるCSP等の半導体装
置の洗浄に適用した場合について説明したが、これに限
定されるものではなく、たとえば、プリント基板や他の
電子素子の洗浄にも適用できる。In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the cleaning of a semiconductor device such as a CSP, which is a field of application, has been described. However, the present invention is not limited to this. And cleaning of other electronic devices.
【0078】[0078]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described.
It is as follows.
【0079】(1). 電子部品を噴射孔の前方にて揺動
させて洗浄するようにしたことにより、従来の方式に比
して効率良くフラックスや汚れ等を取り除くことが可能
となる。(1) By washing the electronic component by swinging it in front of the injection hole, it is possible to remove flux, dirt, and the like more efficiently than in the conventional method.
【0080】(2). 電子部品を縦置きして洗浄してい
るため、ベルト搬送によるシャワー洗浄装置のように大
きなスペースを必要とせず、コンパクトな洗浄装置を提
供することが可能となる。また、次段への洗浄液の持ち
込みも少ない。(2) Since the electronic components are placed vertically for cleaning, a large space is not required unlike a shower cleaning device by belt conveyance, and a compact cleaning device can be provided. In addition, the cleaning liquid is not brought into the next stage.
【0081】(3). 遠心力を利用した液切りを行うこ
とにより、洗浄液を節約することができる。また、後段
への洗浄液の持ち込みを減らすことができるため、後段
におけるすすぎや乾燥処理が容易となり、廃水処理負担
も低減される。さらに、除去した洗浄液を容易に回収可
能とすることにより、洗浄液のリサイクル化を図ること
ができる。従って、洗浄液のコストやすすぎ、乾燥工程
の時間削減等により、ランニングコストを削減すること
が可能となる。(3). By performing liquid removal using centrifugal force, the washing liquid can be saved. In addition, since the carry-in of the cleaning liquid to the subsequent stage can be reduced, the rinsing and drying processes in the subsequent stage become easy, and the burden on wastewater treatment is reduced. Further, by enabling the removed cleaning liquid to be easily collected, the cleaning liquid can be recycled. Therefore, the running cost can be reduced by reducing the cost of the cleaning liquid and the time required for the drying step.
【図1】本発明の実施の形態1である電子部品洗浄装置
の構成を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a configuration of an electronic component cleaning device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1の洗浄装置を上から見た状態を示す説明図
である。FIG. 2 is an explanatory view showing a state where the cleaning device of FIG. 1 is viewed from above.
【図3】図1の洗浄装置に用いられる洗浄機の概略を示
した説明図である。FIG. 3 is an explanatory view schematically showing a cleaning machine used in the cleaning apparatus of FIG. 1;
【図4】図1の洗浄装置に用いられる洗浄機の概略を示
した説明図である。FIG. 4 is an explanatory view schematically showing a cleaning machine used in the cleaning apparatus of FIG. 1;
【図5a】ジェットノズルの構成を示す説明図であり、
ジェットノズルの正面図である。FIG. 5A is an explanatory diagram showing a configuration of a jet nozzle,
It is a front view of a jet nozzle.
【図5b】ジェットノズルの構成を示す説明図であり、
ジェットノズルの側面図である。FIG. 5B is an explanatory diagram showing a configuration of a jet nozzle;
It is a side view of a jet nozzle.
【図6a】洗浄治具の構成を示した説明図であり、洗浄
治具の正面図である。FIG. 6A is an explanatory view showing a configuration of a cleaning jig, and is a front view of the cleaning jig.
【図6b】洗浄治具の構成を示した説明図であり、洗浄
治具の平面図である。FIG. 6B is an explanatory view showing a configuration of the cleaning jig, and is a plan view of the cleaning jig.
【図7】図6a, bの洗浄治具で用いられる保持板の構
成を示す説明図であり、図6aにおけるA矢視方向の図
である。7 is an explanatory view showing a configuration of a holding plate used in the cleaning jig of FIGS. 6a and 6b, and is a view in the direction of arrow A in FIG. 6a.
【図8】洗浄治具に保持された電子部品が、ジェット噴
射口から噴出するジェット噴流によって洗浄される様子
を示した説明図である。FIG. 8 is an explanatory view showing a state in which an electronic component held by a cleaning jig is cleaned by a jet jet ejected from a jet outlet.
【図9】図1の洗浄装置において用いられる液切装置の
構成を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing a configuration of a liquid draining device used in the cleaning device of FIG. 1;
【図10】図9の液切り装置を用いて実際に液切りを行
った場合のデータを示した表である。FIG. 10 is a table showing data when liquid drainage is actually performed using the liquid drainage device of FIG. 9;
【図11】図10の結果を表したグラフである。FIG. 11 is a graph showing the results of FIG.
【図12】各種液切り方式による液切り効果を比較した
表である。FIG. 12 is a table comparing the drainage effects of various drainage methods.
【図13】図12のデータのうち回転速度と水分残量と
の関係を示したグラフである。FIG. 13 is a graph showing the relationship between the rotation speed and the remaining water content in the data of FIG.
【図14】図1の洗浄装置において用いられる乾燥装置
の構成を示した説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing a configuration of a drying device used in the cleaning device of FIG. 1;
【図15】液切り装置にて液切りをした場合の水分残量
とティッシュにより表面の水滴を拭き取った場合の水分
残量とを比較したデータを示す表である。FIG. 15 is a table showing data comparing the remaining amount of water when the liquid is drained by the liquid draining device and the remaining amount of water when the water droplets on the surface are wiped off with a tissue.
【図16】回転数が1000RPMの場合と2000R
PMの場合で乾燥時間を比較したデータを示す表であ
る。FIG. 16 shows a case where the rotational speed is 1000 RPM and 2000 RPM.
It is a table | surface which shows the data which compared the drying time in case of PM.
【図17】図16の結果を示すグラフである。FIG. 17 is a graph showing the results of FIG.
【図18】移送装置に用いられるチャックユニットの構
成を示す説明図であり、(a)はフレームを保持してい
ない状態(開状態)、(b)はフレームを保持する場合
の状態(閉状態)を示す図である。FIGS. 18A and 18B are explanatory diagrams showing a configuration of a chuck unit used in the transfer device, wherein FIG. 18A is a state in which a frame is not held (open state), and FIG. FIG.
【図19】チャックユニットを側面方向から見た説明図
である。FIG. 19 is an explanatory diagram of the chuck unit viewed from a side.
【図20】可動爪の爪先の配置を示す説明図である。FIG. 20 is an explanatory diagram showing an arrangement of a toe of a movable claw.
【図21】洗浄処理パターンを示す説明図である。FIG. 21 is an explanatory diagram showing a cleaning processing pattern.
【図22】本発明による揺動ジェット方式と他の洗浄方
式の場合の洗浄テストの結果を示す表である。FIG. 22 is a table showing the results of a cleaning test in the case of the oscillating jet system according to the present invention and another cleaning system.
【図23a】本発明の実施の形態2である洗浄装置に用
いられる移送装置にて使用されるチャックユニットの構
成を示す説明図であり、チャックユニットの正面図であ
る。FIG. 23a is an explanatory view showing a configuration of a chuck unit used in a transfer device used in a cleaning apparatus according to Embodiment 2 of the present invention, and is a front view of the chuck unit.
【図23b】本発明の実施の形態2である洗浄装置に用
いられる移送装置にて使用されるチャックユニットの構
成を示す説明図であり、チャックユニットの側面図であ
る。FIG. 23b is an explanatory view showing a configuration of a chuck unit used in the transfer device used in the cleaning device according to the second embodiment of the present invention, and is a side view of the chuck unit.
【図24a】本発明の実施の形態2である洗浄装置に用
いられる洗浄機にて使用される洗浄治具の構成を示す説
明図であり、洗浄治具の平面図である。FIG. 24a is an explanatory diagram showing a configuration of a cleaning jig used in a cleaning machine used in a cleaning apparatus according to Embodiment 2 of the present invention, and is a plan view of the cleaning jig.
【図24b】本発明の実施の形態2である洗浄装置に用
いられる洗浄機にて使用される洗浄治具の構成を示す説
明図であり、洗浄治具の正面図である。FIG. 24b is an explanatory diagram showing a configuration of a cleaning jig used in the cleaning machine used in the cleaning device according to the second embodiment of the present invention, and is a front view of the cleaning jig.
【図25】押さえプレートの開閉機構の構成を示した説
明図である。FIG. 25 is an explanatory diagram showing a configuration of a holding plate opening / closing mechanism.
1 供給部 2 洗浄部 3 乾燥部 4 収納部 5 移送装置 6 前洗浄部 7 前洗浄液切部 8 後洗浄部 9 後洗浄液切部 10 マガジン 11a 満杯マガジン供給部 11b 空マガジン収納部 12 洗浄槽 13 洗浄機 13a 洗浄機 13b 洗浄機 13c 洗浄機 13d 洗浄機 13e 洗浄機 13f 洗浄機 14 洗浄槽 14a 洗浄槽 14b 洗浄槽 14c 洗浄槽 15 液切装置 15a 液切装置 15b 液切装置 16a 空マガジン供給部 16b 満杯マガジン収納部 17 洗浄治具 18 ジェットノズル 19 溝孔 20 ノズル部 20a 上枠 21 ジェット噴射孔 22 保持板 22a 溝 23 電子部品 24 供給管 24a ノズル支持部 24b 導入管部 25 ブラケット 26 治具枠 27a 治具ベース 27b 治具ベース 28 電子部品保持部 29 支持枠 30 押え板 30a 基部 31 ドレンパイプ 31a 排水口 32 フレーム 32a フレーム 32b フレーム 32c フレーム 32d フレーム 32e フレーム 33 液切治具 34 回転駆動部 35 カバー駆動部 36 回転軸 37 カバー 38 ベアリング 39 ベアリング 40 フレーム 40 モータ 40a 出力軸 41 駆動プーリ 42 ベルト 43 従動プーリ 45 仕切板 46 液切室 47 排液口 48 軸受体 49 軸受体 50 カバー取付板 51 ロータリアクチュエータ 51a 出力軸 52 駆動プーリ 53 ベルト 54 従動プーリ 55 乾燥槽 56 乾燥治具 57 シロッコファン 58 ヒータ 59 ガイドレール 60 チャックユニット 60a チャックユニット 60b チャックユニット 61 開閉ビーム 62 開閉ビーム 63 可動爪 63a 可動爪 63b 可動爪 64 パッド 65 モータ 66 乾燥装置 67 ブラケット 67a 把手部 70 チャックユニット 71 固片 72 押えパッド 73 可動爪 74 開閉ビーム 75 押えピン 76 スプリング 77 規制ピン 77a 小径部 80 洗浄治具 82 基台 83 下側治具 84 プレート 84a 支持部 85 位置決めブロック 86 ローラ 88 係合片 89 アーム DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Supply part 2 Cleaning part 3 Drying part 4 Storage part 5 Transfer device 6 Pre-cleaning part 7 Pre-cleaning liquid cutting part 8 Post-cleaning part 9 Post-cleaning liquid cutting part 10 Magazine 11a Full magazine supply part 11b Empty magazine storage part 12 Cleaning tank 13 Cleaning Machine 13a washing machine 13b washing machine 13c washing machine 13d washing machine 13e washing machine 13f washing machine 14 washing tank 14a washing tank 14b washing tank 14c washing tank 15 liquid draining device 15a liquid draining device 15b liquid draining device 16a empty magazine supply section 16b full Magazine storage unit 17 Cleaning jig 18 Jet nozzle 19 Slot hole 20 Nozzle unit 20a Upper frame 21 Jet injection hole 22 Holding plate 22a Groove 23 Electronic component 24 Supply pipe 24a Nozzle support 24b Introduction pipe 25 Bracket 26 Jig frame 27a Jig Fixture base 27b Jig base 28 Electronic component holder 29 Support REFERENCE SIGNS LIST 30 holding plate 30 a base 31 drain pipe 31 a drain port 32 frame 32 a frame 32 b frame 32 c frame 32 d frame 32 e frame 33 liquid cutting jig 34 rotation drive unit 35 cover drive unit 36 rotation shaft 37 cover 38 bearing 39 bearing 40 frame 40 motor 40 a Output shaft 41 Drive pulley 42 Belt 43 Driven pulley 45 Partition plate 46 Drainage chamber 47 Drain port 48 Bearing body 49 Bearing body 50 Cover mounting plate 51 Rotary actuator 51a Output shaft 52 Drive pulley 53 Belt 54 Driven pulley 55 Drying tank 56 Drying Jig 57 Sirocco fan 58 Heater 59 Guide rail 60 Chuck unit 60a Chuck unit 60b Chuck unit 61 Open / close beam 62 Open / close beam 63 Movable claw 6 a Movable claw 63b Movable claw 64 Pad 65 Motor 66 Drying device 67 Bracket 67a Handle 70 Chuck unit 71 Solid piece 72 Press pad 73 Movable claw 74 Open / close beam 75 Press pin 76 Spring 77 Restriction pin 77a Small diameter section 80 Cleaning jig 82 Base Table 83 Lower jig 84 Plate 84a Supporting part 85 Positioning block 86 Roller 88 Engagement piece 89 Arm
Claims (11)
により前記被洗浄物の洗浄を行う電子部品洗浄方法であ
って、 前記被洗浄物を前記洗浄液が噴射される噴射孔の前方に
て揺動させ、揺動状態にある前記被洗浄物に対し前記噴
射孔より洗浄液を噴射することにより前記被洗浄物を洗
浄する洗浄工程を有することを特徴とする電子部品洗浄
方法。1. An electronic component cleaning method for cleaning an object to be cleaned by injecting a cleaning liquid onto the object to be cleaned, wherein the object to be cleaned is placed in front of an injection hole from which the cleaning liquid is injected. An electronic component cleaning method, comprising a cleaning step of cleaning the object to be cleaned by oscillating the cleaning object by injecting a cleaning liquid from the injection hole to the object to be cleaned in the oscillating state.
て、前記被洗浄物に対し洗浄液中にて洗浄液を噴射する
ことを特徴とする電子部品洗浄方法。2. The electronic component cleaning method according to claim 1, wherein a cleaning liquid is sprayed on the object to be cleaned in the cleaning liquid.
て、前記被洗浄物に対し空気中にて洗浄液を噴射するこ
とを特徴とする電子部品洗浄方法。3. The electronic component cleaning method according to claim 1, wherein a cleaning liquid is sprayed on the object to be cleaned in air.
り前記被洗浄物の洗浄を行う電子部品洗浄方法であっ
て、 前記被洗浄物を前記洗浄液中にて揺動させ、揺動状態に
ある前記被洗浄物に対し超音波を付与することにより前
記被洗浄物を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とす
る電子部品洗浄方法。4. An electronic component cleaning method for cleaning an object to be cleaned by immersing the object to be cleaned in a cleaning liquid, wherein the object to be cleaned is oscillated in the cleaning liquid to be in an oscillating state. An electronic component cleaning method, comprising a cleaning step of cleaning the object to be cleaned by applying ultrasonic waves to the object to be cleaned.
子部品洗浄方法であって、前記洗浄工程の際に前記被洗
浄物に付着した洗浄液を遠心力を利用して取り除く液切
工程を有することを特徴とする電子部品洗浄方法。5. The method for cleaning an electronic component according to claim 1, wherein a cleaning liquid attached to the object to be cleaned is removed using a centrifugal force in the cleaning step. An electronic component cleaning method comprising a step.
て、前記液切工程の後に、第2の洗浄工程および第2の
液切工程をさらに有することを特徴とする電子部品洗浄
方法。6. The electronic component cleaning method according to claim 5, further comprising a second cleaning step and a second liquid removal step after the liquid removal step.
により前記被洗浄物の洗浄を行う電子部品洗浄装置であ
って、 前記洗浄液を噴射する噴射孔を有してなるノズルと、 前記噴射孔の前方を揺動可能に設けられ、前記被洗浄物
を保持した状態で前記噴射孔の前方を移動し、前記噴射
孔から噴射される洗浄液によって前記被洗浄物を洗浄す
る洗浄治具とを有することを特徴とする電子部品洗浄装
置。7. An electronic component cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by injecting a cleaning liquid onto the object to be cleaned, comprising: a nozzle having an injection hole for injecting the cleaning liquid; A cleaning jig that is provided to be swingable in front of the hole, moves in front of the injection hole while holding the object to be cleaned, and cleans the object to be cleaned with the cleaning liquid injected from the injection hole. An electronic component cleaning apparatus comprising:
て、前記洗浄治具は、前記被洗浄物を縦向きに収容保持
することを特徴とする電子部品洗浄装置。8. The electronic component cleaning apparatus according to claim 7, wherein the cleaning jig vertically stores and holds the object to be cleaned.
て、前記噴射孔を前記洗浄液を収容した洗浄槽内に配置
し、被洗浄物に対し洗浄液中にて洗浄液を噴射すること
を特徴とする電子部品洗浄装置。9. The electronic component cleaning apparatus according to claim 7, wherein the injection holes are arranged in a cleaning tank containing the cleaning liquid, and the cleaning liquid is injected into the cleaning object in the cleaning liquid. Electronic parts cleaning equipment.
電子部品洗浄装置であって、前記洗浄治具にて洗浄を行
った前記被洗浄物を収容する液切治具を有し、前記液切
治具を回転させることにより遠心力によって前記被洗浄
物に付着した洗浄液を取り除く液切装置をさらに有する
ことを特徴とする電子部品洗浄装置。10. The electronic component cleaning apparatus according to claim 7, further comprising a liquid draining jig for storing the object to be cleaned which has been cleaned by the cleaning jig. An electronic component cleaning apparatus, further comprising a liquid removal device for removing the cleaning liquid attached to the object to be cleaned by centrifugal force by rotating the liquid removal jig.
より前記被洗浄物の洗浄を行う電子部品洗浄装置であっ
て、 前記被洗浄物を保持した状態で前記洗浄液中にて揺動さ
せる洗浄治具と、 噴射ノズルまたは超音波発生装置を交換設置可能に形成
され、前記揺動状態にある前記被洗浄物に洗浄液の噴射
または超音波の付与を行うことにより前記被洗浄物を洗
浄する洗浄ユニットとを有することを特徴とする電子部
品洗浄装置。11. An electronic component cleaning apparatus for cleaning an object to be cleaned by immersing the object to be cleaned in a cleaning solution, wherein the cleaning device oscillates in the cleaning solution while holding the object to be cleaned. A jig, a jet nozzle or an ultrasonic generator is formed so as to be replaceable, and the cleaning is performed by jetting a cleaning liquid or applying ultrasonic waves to the object to be cleaned in the oscillating state to wash the object to be cleaned. An electronic component cleaning apparatus comprising: a unit;
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33970997A JPH11169802A (en) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | Electronic part washing method and electronic part washing device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33970997A JPH11169802A (en) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | Electronic part washing method and electronic part washing device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11169802A true JPH11169802A (en) | 1999-06-29 |
Family
ID=18330072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33970997A Pending JPH11169802A (en) | 1997-12-10 | 1997-12-10 | Electronic part washing method and electronic part washing device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11169802A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005144441A (en) * | 2003-10-23 | 2005-06-09 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | High-pressure washing apparatus |
JP2009140978A (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Nec Electronics Corp | Cleaning method of flux |
KR101527200B1 (en) * | 2012-08-28 | 2015-06-09 | (주)에이티테크놀러지 | Apparatus for cleaning test jig for testing electrical condition of electronic component and apparatus for testing electronic component having the same |
CN114130738A (en) * | 2021-11-17 | 2022-03-04 | 春秋航空技术发展江苏有限公司 | Automatic cleaning machine capable of drying quickly and used for repairing electrical equipment |
-
1997
- 1997-12-10 JP JP33970997A patent/JPH11169802A/en active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114130738A (en) * | 2021-11-17 | 2022-03-04 | 春秋航空技术发展江苏有限公司 | Automatic cleaning machine capable of drying quickly and used for repairing electrical equipment |
CN114130738B (en) * | 2021-11-17 | 2023-09-26 | 春秋航空技术发展江苏有限公司 | But quick drying's electrical equipment repair is with self-cleaning machine |
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