JPH111673A - Polyglycidylpihenyl ether of alkylene or alkyleneoxy chain for use in microelectronics adhesive - Google Patents

Polyglycidylpihenyl ether of alkylene or alkyleneoxy chain for use in microelectronics adhesive

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JPH111673A
JPH111673A JP14587896A JP14587896A JPH111673A JP H111673 A JPH111673 A JP H111673A JP 14587896 A JP14587896 A JP 14587896A JP 14587896 A JP14587896 A JP 14587896A JP H111673 A JPH111673 A JP H111673A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy compd. which gives the major component of an adhesive which cures rapidly and exhibits high strengths and flexibility by selecting an epoxy compd. which contains a medium-length main oligomer chain comprising repeating alkylene or alkyleneoxy units and has arom. parts at only the molecular terminals and two or less hydroxyl groups. SOLUTION: The objective compd. is a flexible epoxy compd. having a total chlorine content of lower than 0.1 wt.% and a structure represented by the formula (R<1> is H, 1-18C alkyl, 1-5C alkoxy, aryl, alkaryl, 1-5C perfluoroalkyl, or 1-5C acyl; n is 1-3; and when q is 1-6, then the flexible chain is CH2 CH2 CH2 CH2 O and when q is 3-10, the flexible chain is CH2 CH2 O). To prevent the ionic contamination of the compd., it is prepd. by a synthetic method which does not use epichlorohydrin. The compd. is liq. at room temp., has a neat resin viscosity of 25,000 cP or lower at 25 deg.C, and, when cured, exhibits a glass transition point of 150 deg.C or lower and an elastic modulus of 2.0 MPa or lower.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】本発明は、急速硬化することができ、且
つ、イオン汚染が低いかまたは全くイオン汚染されてい
ないマイクロエレクトロニクス接着剤における使用のた
めの可撓性エポキシ化合物、および、その合成法に関す
る。
[0001] The present invention relates to flexible epoxy compounds for use in microelectronic adhesives that can be rapidly cured and have low or no ionic contamination, and a method of synthesizing the same.

【0002】半導体集積回路の製造における1つの工程
は、シリコンチップまたはダイを接着剤で、金属導線が
延びている銅フレームに結合することである。結合した
ダイおよび導線フレームアセンブリーはポリマーシーラ
ントで封入され、封入部から延びている金属導線の手段
により外部回路に接続される。
One step in the manufacture of semiconductor integrated circuits is to bond a silicon chip or die with an adhesive to a copper frame over which metal conductors extend. The bonded die and wire frame assembly are encapsulated with a polymer sealant and connected to external circuitry by means of metal wires extending from the encapsulation.

【0003】エポキシ配合物はその優れた接着強度のた
めにダイ結合または封入接着剤として好ましい。従来か
ら使用されているエポキシはその強度のために芳香族エ
ポキシであるが、これは生来、硬く、そして脆い。製造
の間に、接着剤および基板は繰り返しの熱サイクルを受
ける。もし接着剤と基板が大きく異なる熱膨張率を有す
るならば、熱サイクルの応力は接着剤の破壊、基板の曲
げ、またはダイの破壊をもたらす可能性がある。この
為、マイクロエレクトロニクスで使用される接着剤に要
求される重要な基準は、接着剤が、熱サイクルを吸収す
るために強度があり且つ可撓性であることである。
[0003] Epoxy formulations are preferred as die bonding or encapsulating adhesives due to their excellent adhesive strength. Conventionally used epoxies are aromatic epoxies due to their strength, but are inherently hard and brittle. During manufacture, the adhesive and the substrate undergo repeated thermal cycling. If the adhesive and the substrate have significantly different coefficients of thermal expansion, the thermal cycling stress can result in adhesive failure, substrate bending, or die failure. Thus, an important criterion for adhesives used in microelectronics is that the adhesive be strong and flexible to absorb thermal cycling.

【0004】第二の重要な基準は、接着剤が組み立て加
工ラインの速度に見合う速度で急速に硬化することがで
きることである。要求される急速硬化時間は、通常、2
00℃で30〜60秒間であり、それはスナップ硬化
(急速硬化)として知られている。接着剤の強度、可撓
性および急速硬化性の基準のこの組み合わせは、1種の
接着剤では達成することが困難である。
A second important criterion is that the adhesive can cure rapidly at a speed commensurate with the speed of the assembly line. The required rapid cure time is typically 2
At 00 ° C. for 30-60 seconds, which is known as snap cure (rapid cure). This combination of adhesive strength, flexibility and fast setting criteria is difficult to achieve with a single adhesive.

【0005】エポキシ配合物は、イオン汚染、特にナト
リウムおよび塩化物イオン汚染されておらず、そして結
合した塩素がないことも重要である。これらの汚染物は
半導体デバイス中の金属導線の腐蝕をもたらし、最終的
にはデバイスの破壊をもらしうる。
It is also important that the epoxy formulation be free of ionic contamination, especially sodium and chloride ion contamination, and that it be free of bound chlorine. These contaminants can cause corrosion of the metal wires in the semiconductor device, which can ultimately result in destruction of the device.

【0006】可撓性を付与するために、エポキシは脂肪
族軟化剤と共反応することができるが、これは、しかし
ながら、芳香族部分のレベルが低下するから接着剤強度
が下がる。軟化剤の添加は、また、軟化剤がエポキシ当
たりに高い分子量を有するから、急速硬化性を低下させ
る。更に、脂肪族および芳香族エポキシが硬化するとき
に、反応速度の違いのために共反応することができず、
硬化の前に低分子量の化合物が揮発し、そして高分子量
の化合物が完全には硬化できない。時々、遅い硬化配合
物でさえ問題になる、このファクターの組み合わせは急
速硬化配合物では致命的である。
[0006] To impart flexibility, the epoxy can co-react with the aliphatic softener, however, this reduces adhesive strength due to the reduced level of aromatic moieties. The addition of a softener also reduces the rapid curability because the softener has a high molecular weight per epoxy. Furthermore, when the aliphatic and aromatic epoxies cure, they cannot co-react due to differences in reaction rates,
Prior to curing, low molecular weight compounds volatilize and high molecular weight compounds cannot be completely cured. Sometimes this combination of factors is fatal in fast cure formulations, even with slow cure formulations.

【0007】これらの問題の幾つかを解決するための可
能な手段として、同一ポリマー主鎖に芳香族部分と脂肪
族部分を組み合わせることが知られているが、この種の
現在入手可能なポリマーは高い芳香族部分/脂肪族部分
の比を有し、それは可撓性をなくすものである。更に、
これらの材料の調製方法は、高い塩素汚染をもたらし、
それマイクロエレクトロニクス用途では有害である。こ
のポリマーは、また、高い粘度を有し、それは希釈剤と
して溶剤の添加を必要とする。急速硬化の間に、硬化
は、時々、溶剤の完全な蒸発よりも速く、それは硬化し
た接着剤中にボイドをもたらし、マイクロエレクトロニ
クスチップまたはデバイスを破損する可能性がある。こ
の為、溶剤を必要としない低い粘度の材料が好ましい。
[0007] One possible means to solve some of these problems is to combine aromatic and aliphatic moieties in the same polymer backbone, but currently available polymers of this type are It has a high aromatic / aliphatic ratio, which makes it less flexible. Furthermore,
The method of preparation of these materials results in high chlorine contamination,
It is harmful in microelectronics applications. This polymer also has a high viscosity, which requires the addition of a solvent as a diluent. During rapid cure, cure is sometimes faster than complete evaporation of the solvent, which results in voids in the cured adhesive and can damage microelectronic chips or devices. For this reason, low viscosity materials that do not require solvents are preferred.

【0008】可撓性化合物に強度を付与し、そして急速
硬化させることに関する問題は、マイクロエレクトロニ
クス工業がより大きなダイサイズに移行しているので増
幅される。このことは、強度および純度を有し、且つ、
急速硬化されたダイ結合接着剤へと配合される、改良さ
れた可撓性エポキシを継続的に要求する。
[0008] The problems associated with imparting strength and rapidly curing flexible compounds are amplified as the microelectronics industry moves to larger die sizes. This has strength and purity, and
There is a continuing need for improved flexible epoxies that are formulated into rapidly cured die attach adhesives.

【0009】本発明は、急速硬化性ダイ結合接着剤、封
入剤およびコーティングを配合するために使用されるこ
とができる可撓性エポキシ樹脂に関する。エポキシは、
エピクロロヒドリンの使用を避ける合成経路により調製
され、そのことは、イオン汚染源(例えば、ナトリウム
イオン、塩化物イオンおよび有機結合した塩素を含む)
のレベルを従来技術の組成物と比較して低くして約0.
1重量%以下にする。従来技術の組成物は、特に厳格な
精製法を受けないときには、より高いレベルの汚染物を
含み、この精製法は収率を大きく減じるものである。更
に、この合成経路は、様々な樹脂の混合物でなく、はっ
きりとした化学構造体の調製を可能にする。
[0009] The present invention is directed to a flexible epoxy resin that can be used to formulate a fast setting die attach adhesive, encapsulant and coating. Epoxy is
Prepared by a synthetic route that avoids the use of epichlorohydrin, which includes ionic contaminants (eg, including sodium ions, chloride ions and organically bound chlorine)
At a lower level of about 0.1% compared to prior art compositions.
Not more than 1% by weight. Prior art compositions contain higher levels of contaminants, especially when not subjected to rigorous purification methods, which significantly reduce yields. Furthermore, this synthetic route allows the preparation of well defined chemical structures, rather than mixtures of various resins.

【0010】エポキシ樹脂は室温において液体であり、
150℃以下の硬化後のTg値を有し、そして25℃で
25,000cps以下の純粋樹脂粘度を有する。この為、多
量充填剤(例えば、伝熱性または導電性充填剤)入り接
着剤へとこれらのエポキシを配合するために溶剤を必要
としない。
The epoxy resin is liquid at room temperature,
Has a Tg value after curing of 150 ° C. or less, and at 25 ° C.
It has a pure resin viscosity of 25,000 cps or less. Thus, no solvent is required to incorporate these epoxies into adhesives containing high levels of fillers (e.g., heat or conductive fillers).

【0011】これらのエポキシの弾性率、%歪みおよび
ガラス転移温度(Tg)値は高い可撓性を示す。弾性率
は、通常、2.0MPa以下である。%歪みは、通常、
5%以上である。これらのエポキシの硬化後のTg値は
150℃以下であり、そしてある場合には100℃以下
であろう。
The elastic modulus,% strain and glass transition temperature (Tg) values of these epoxies show high flexibility. The elastic modulus is usually 2.0 MPa or less. % Distortion is usually
5% or more. The Tg values after curing of these epoxies are below 150 ° C, and in some cases will be below 100 ° C.

【0012】別の態様において、本発明はマイクロエレ
クトロニクス用途における使用のためのこれらのエポキ
シで製造される接着剤に関する。これらの化合物の可撓
性は導電性材料、例えば、銀フレークと配合され、そし
てシリコンチップを金属リードフレーム基板に結合する
ために使用されるときに保持される。硬化後のエポキシ
は350mm以上の高い曲率半径を示す(曲率半径が大
きいほど、チップの曲げが小さく、それにより、可撓性
接着剤であることを意味する。)。
In another aspect, the invention relates to adhesives made with these epoxies for use in microelectronic applications. The flexibility of these compounds is compounded with conductive materials, such as silver flakes, and is retained when used to bond silicon chips to metal leadframe substrates. The cured epoxy shows a high radius of curvature of 350 mm or more (the larger the radius of curvature, the less the chip bends, thereby indicating a flexible adhesive).

【0013】硬化したエポキシは、また、ダイ剪断強度
として測定して良好な接着強度を示す。ダイ剪断は金属
基板から結合しているチップを除去するために必要な力
の測定値であり、これらの化合物では、13MPa以上
である。
[0013] The cured epoxy also exhibits good adhesive strength, measured as die shear strength. Die shear is a measure of the force required to remove the bonded chips from the metal substrate and is 13 MPa or more for these compounds.

【0014】更に、接着剤は可撓性または強度の損失を
示さない。好ましくは、配合物は、20〜80重量部の
可撓性エポキシおよび80〜20重量部の芳香族O−グ
リシジルエーテル(100重量部の合計に対して)、硬
化剤、導電性充填剤および所望により、エポキシ樹脂1
00部当たりに20〜50重量部のフェノール硬化剤
(pphr)を含む。
Furthermore, the adhesive does not show any loss of flexibility or strength. Preferably, the formulation comprises 20 to 80 parts by weight of a flexible epoxy and 80 to 20 parts by weight of an aromatic O-glycidyl ether (based on a total of 100 parts by weight), a curing agent, a conductive filler and the desired By the epoxy resin 1
Contains 20 to 50 parts by weight of phenolic hardener (pphr) per 00 parts.

【0015】エポキシ樹脂の構成組成は、可撓性を提供
するために中程度の長さのアルキレンまたはアルキレン
オキシ繰り返し単位のオリゴマー主鎖を含むが、有用な
接着特性を生じるために十分な架橋密度を維持しなけれ
ばならない。この可撓性主鎖は、1個以上のエポキシ官
能基を有する芳香族部分を含む片側末端または両側末端
で停止している。この為、この化合物は2個以下の芳香
族部分を有し、それは末端でのみ存在する。ポリマー主
鎖中の芳香族部分の数および位置を制限することは、芳
香族部分により、硬化した材料に付与された強度を維持
し、脂肪族部分により、硬化した材料に付与された可撓
性を最大にする。
The composition of the epoxy resin includes a medium length alkylene or oligomer backbone oligomer backbone to provide flexibility, but sufficient crosslink density to produce useful adhesive properties. Must be maintained. The flexible backbone is terminated at one or both ends containing an aromatic moiety having one or more epoxy functional groups. Thus, the compound has no more than two aromatic moieties, which are only present at the termini. Limiting the number and location of the aromatic moieties in the polymer backbone maintains the strength imparted to the cured material by the aromatic moieties and the flexibility imparted to the cured material by the aliphatic moieties To maximize.

【0016】この化合物は分子内に2個以下のヒドロキ
シル基を有し;2個以下にヒドロキシル基の数を制限す
ることは低い粘度にするものである。
This compound has no more than two hydroxyl groups in the molecule; limiting the number of hydroxyl groups to no more than two results in low viscosity.

【0017】エポキシは、次の一般式のいずれかを有す
る。
Epoxy has one of the following general formulas:

【化9】 (式中、R’はH、C1-18アルキル、C1-5 アルコキシ
若しくはアリール若しくはアルキルアリールまたはC
1-5 アシルであり、nは1〜3の整数であり、そして可
撓性鎖は上記の各構造に関して記載した通りであり、そ
してp、qおよびrは各構造に関して記載した通りであ
る。)。
Embedded image (Wherein R ′ is H, C 1-18 alkyl, C 1-5 alkoxy or aryl or alkylaryl or C
1-5 acyl, n is an integer from 1 to 3, and the flexible chain is as described for each structure above, and p, q and r are as described for each structure. ).

【0018】ここで用いられるときに、アルキルはアル
カンから得られる炭化水素基を指し、そして一般式Cn
2n+1を有し;アルコキシは酸素をも含むアルキル基を
指し;アリール基はベンゼンの環構造特性を有する基を
指し;アルキルアリール基はアルキルおよびアリール構
造の両方を有する基を指し;ペルフルオロアルキルは1
個以上の水素がフッ素で置換されているアルキル基を指
し;そしてアシル基はカルボキシル基のOH基がある他
の置換基で置換されている有機酸基を指し;この場合、
フェニル環にそれが結合している。
As used herein, alkyl refers to a hydrocarbon group derived from an alkane and has the general formula C n
Has a H 2n + 1; alkoxy refers to an alkyl group containing also oxygen; aryl group refers to a group having a ring structure characteristic of benzene; alkylaryl group refers to a group having both an alkyl and aryl structures; perfluoro Alkyl is 1
An acyl group refers to an organic acid group in which one or more hydrogens have been replaced by fluorine; and an acyl group refers to an organic acid group in which the OH group of the carboxyl group has been replaced by some other substituent;
It is attached to the phenyl ring.

【0019】可撓化エポキシ樹脂は、イオン汚染されて
いない生成物を生じるあらゆる適切な合成法により調製
されることができる。好ましい合成経路はエピクロロヒ
ドリンの使用を避けるものであり、そして(a)オレフ
ィン基を有するフェノキシ化合物にアルキレンまたはア
ルキレンオキシ鎖を結合させることによりオレフィン前
駆体を調製する工程および(b)オレフィン基を対応す
るエポキシドへと酸化させる工程を含む。
[0019] The flexible epoxy resin can be prepared by any suitable synthetic method that results in a product that is not ion-contaminated. A preferred synthetic route avoids the use of epichlorohydrin, and (a) preparing an olefin precursor by attaching an alkylene or alkyleneoxy chain to a phenoxy compound having an olefin group; and (b) To oxidize to the corresponding epoxide.

【0020】工程(a)において、可撓性アルキレンま
たはアルキレンオキシ鎖は求核性置換に対して活性化さ
れる官能基を末端とする。好ましくは、この官能基はエ
ポキシ、クロロ、スルホネートまたはトルエンスルホネ
ートである。可撓性鎖はフェノラート化合物を求核付加
して塩化物、スルホネートまたはアルコキシ(エポキシ
環の開環による)官能基を追い出すことにより誘導され
る。フェノラートは、水酸化ナトリウムまたは他のアル
カリ金属水酸化物と、1個のみのヒドロキシル基を有す
るフェノール化合物との反応から調製される。1個のみ
のヒドロキシル基を有するフェノール化合物は求核置換
が一度だけ起こり、そして明確な化学構造を生じること
(即ち、生成物が混合物でないこと)を確保する。フェ
ノール化合物はオレフィン部分、好ましくはアリル基で
も置換されており、それは求核性置換に対して不活性で
あり、そして最終のエポキシド生成物のためのサイトと
して作用する。工程(b)において、フェノール基上の
オレフィンはオキシラン(エポキシド)に転化される。
In step (a), the flexible alkylene or alkyleneoxy chain terminates in a functional group that is activated for nucleophilic substitution. Preferably, this functional group is an epoxy, chloro, sulfonate or toluene sulfonate. The flexible chain is derived by nucleophilic addition of a phenolate compound to drive out chloride, sulfonate or alkoxy (by opening the epoxy ring) functionality. The phenolates are prepared from the reaction of sodium hydroxide or other alkali metal hydroxide with a phenolic compound having only one hydroxyl group. Phenolic compounds having only one hydroxyl group ensure that nucleophilic substitution occurs only once and results in a well-defined chemical structure (ie, the product is not a mixture). The phenolic compound is also substituted with an olefin moiety, preferably an allyl group, which is inert to nucleophilic substitution and acts as a site for the final epoxide product. In step (b), the olefin on the phenol group is converted to an oxirane (epoxide).

【0021】オレフィン前駆体の調製 エポキシ化合物へのオレフィン前駆体は好ましくは下記
に記載の一般法のいずれかにより調製されることができ
る。各方法のより詳細な記載は実施例に提供されてい
る。
Preparation of Olefin Precursor The olefin precursor to the epoxy compound can preferably be prepared by any of the general methods described below. A more detailed description of each method is provided in the examples.

【0022】I.最終生成物において上記の一般構造の
いずれかに一致する適切な長さのアルキレンまたはアル
キレンオキシ鎖のジグリシジル化合物は、フェノール化
合物とオキシランとの間の縮合反応を触媒するために有
効な触媒の存在下で、1個以上のオレフィン基を有する
フェノール化合物と反応することができる。
I. Diglycidyl compounds of alkylene or alkyleneoxy chains of appropriate length corresponding to any of the above general structures in the final product can be obtained in the presence of a catalyst effective to catalyze the condensation reaction between the phenolic compound and oxirane. To react with a phenol compound having one or more olefin groups.

【0023】好ましいジグリシジル化合物は、1,4-ブタ
ンジオールグリジシルエーテル;1,12- ドデカンジオー
ルグリシジルエーテル;ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリ(テトラメチレングリコール)ジ
グリシジルエーテルおよびポリプロピレングリコールジ
グリシジルエーテル、ここで、分子のポリグリコール部
分は2000ダルトン以下の分子量を有する;1,2,9,10- ジ
エポキシデカン、1,2,13,14-ジエポキシテトラデカンお
よび類似化合物;並びにポリ(カプロラクトン)ジオー
ルのジグリシジルエーテルである。
Preferred diglycidyl compounds are 1,4-butanediol glycidyl ether; 1,12-dodecanediol glycidyl ether; polyethylene glycol diglycidyl ether, poly (tetramethylene glycol) diglycidyl ether and polypropylene glycol diglycidyl ether. Wherein the polyglycol portion of the molecule has a molecular weight of less than 2000 daltons; 1,2,9,10-diepoxydecane, 1,2,13,14-diepoxytetradecane and similar compounds; and poly (caprolactone) diol Diglycidyl ether.

【0024】好ましいオレフィン官能化フェノール化合
物は2-アリルフェノール;2,6-ジアリルフェノール;2,
4-ジアリルフェノール;4-アリル-2- メトキシフェノー
ル;および他の類似フェノール化合物である。フェノー
ル化合物は、ジグリシジル化合物との高程度の反応を行
うために過剰で使用されることができ、そして過剰部分
は蒸留により生成物から除去されることができる。フェ
ノール化合物は、また、生成物の生成において必要な2
つの工程のいずれも阻害しない基で置換されていてよ
い。
Preferred olefin-functionalized phenolic compounds are 2-allylphenol; 2,6-diallylphenol;
4-diallylphenol; 4-allyl-2-methoxyphenol; and other similar phenolic compounds. The phenolic compound can be used in excess to effect a high degree of reaction with the diglycidyl compound, and the excess can be removed from the product by distillation. The phenolic compounds also provide the necessary 2 in the product formation.
It may be substituted with a group that does not inhibit any of the two steps.

【0025】好ましい触媒は、塩化物、臭化物、硫酸水
素、酢酸の第四級アンモニウム塩またはホスホニウム
塩、および、他の既知の触媒、例えば、トリフェニルホ
スフィンである。より好ましい触媒は低級アルキル成分
を含む第四級アンモニウム塩、特にテトラメチルアンモ
ニウムクロリドである。
Preferred catalysts are chloride, bromide, hydrogen sulfate, quaternary ammonium or phosphonium salts of acetic acid, and other known catalysts, for example, triphenylphosphine. A more preferred catalyst is a quaternary ammonium salt containing a lower alkyl component, especially tetramethylammonium chloride.

【0026】II.最終生成物において上記の一般構造
のいずれかに一致する適切な長さであって、且つ、塩化
物、臭化物、ヨウ化物またはトシレートのような脱離基
を鎖の末端に有するアルキレンまたはアルキレンオキシ
鎖は、オレフィン基を含むフェノキシドのアルカリ金属
塩またはアルカリ土類金属塩と反応することができる。
II. An alkylene or alkyleneoxy chain of suitable length corresponding to any of the above general structures in the final product and having a leaving group at the end of the chain such as chloride, bromide, iodide or tosylate Can react with alkali metal or alkaline earth metal salts of phenoxides containing olefin groups.

【0027】脱離基を有するアルキレンまたはアルキレ
ンオキシ化合物は、一般に、既知の反応を用いて、ヒド
ロキシル基を脱離基に転化することにより、対応するア
ルコールから誘導される。例えば、アルキレン若しくは
アルキレンオキシクロリドは、SOCl2 との反応によ
りアルコールから生じることができる。トシレートは塩
基の存在下で塩化トシルとの反応によりアルコールから
生じることができる。適切なアルコール末端アルキレン
若しくはアルキレンオキシ鎖の例は、1,4-ブタンジオー
ル;1,12- ドデカンジオール;ポリ(カプロラクトン)
ジオール;ポリエチレングリコール;および1,10- デカ
ンジオールを含む。
The alkylene or alkyleneoxy compound having a leaving group is generally derived from the corresponding alcohol by converting the hydroxyl group to a leaving group using known reactions. For example, alkylene or alkyleneoxy chloride can be derived from an alcohol by reaction with SOCl 2 . Tosylate can be derived from an alcohol by reaction with tosyl chloride in the presence of a base. Examples of suitable alcohol-terminated alkylene or alkyleneoxy chains are 1,4-butanediol; 1,12-dodecanediol; poly (caprolactone)
Diols; polyethylene glycols; and 1,10-decanediol.

【0028】オレフィン官能化フェノキシド化合物は、
共沸溶剤の存在下で、アルカリ金属若しくはアルカリ土
類金属水酸化物の作用により、対応するフェノール化合
物から生じる。これらの反応は当業界においてよく知ら
れている。適切な共沸溶剤はトルエン、キシレン、p−
シメンおよび類似溶剤を含む。
The olefin-functionalized phenoxide compound is
Derived from the corresponding phenolic compound by the action of an alkali metal or alkaline earth metal hydroxide in the presence of an azeotropic solvent. These reactions are well known in the art. Suitable azeotropic solvents are toluene, xylene, p-
Contains cymene and similar solvents.

【0029】オレフィン末端基のエポキシ化 前駆体を生成した後に、オレフィンは対応するエポキシ
を提供するために有効ないずれかの方法により酸化され
る。有効に酸化過程を行う様々な方法は文献中に記載さ
れており、そして、酸化剤として、過酢酸またはトリフ
ルオロ酢酸のような有機過酸;ペルオキシイミド酸;ジ
メチルジオキシランのようなジオキシラン化合物;ペル
オキシタングステン酸系のような無機酸;メチルトリオ
キソレニウムおよび過酸化水素、チタニウム触媒された
t−ブチルヒドロペルオキシドおよびマンガン−サレン
触媒された酸化剤のような金属触媒系の使用を含む。
After forming the epoxidation precursor of the olefin end group , the olefin is oxidized by any method effective to provide the corresponding epoxy. Various methods of effectively performing the oxidation process have been described in the literature and, as oxidizing agents, organic peracids such as peracetic acid or trifluoroacetic acid; peroxyimidic acids; dioxirane compounds such as dimethyldioxirane; Including the use of inorganic acids such as peroxytungstic acid systems; metal catalyst systems such as methyltrioxorhenium and hydrogen peroxide, titanium catalyzed t-butyl hydroperoxide and manganese-salen catalyzed oxidants.

【0030】好ましいエポキシ化法は無機過酸、過酢酸
およびペルオキシイミド酸を一次酸化剤として使用す
る。各方法の更なる詳細は実施例に提供されている。
The preferred epoxidation method uses inorganic peracids, peracetic acid and peroxyimidic acid as primary oxidizing agents. Further details of each method are provided in the examples.

【0031】好ましい無機過酸はタングステン酸、リン
タングステン酸および類似化合物をベースとし、過酸化
水素を二次酸化剤として使用する。酸化法は、二相系を
用い、そして第四級アンモニウム若しくはホスホニウム
塩を相間移動触媒として用いることにより改良される。
Preferred inorganic peracids are based on tungstic acid, phosphotungstic acid and similar compounds, using hydrogen peroxide as secondary oxidizing agent. The oxidation process is improved by using a two-phase system and using a quaternary ammonium or phosphonium salt as a phase transfer catalyst.

【0032】酢酸中の過酢酸も酸化剤としてうまく使用
されることができる。この酸化のために多くの溶剤は適
切であるが、その速度は、塩素化溶剤、例えば、ジクロ
ロエタン中において、より速い。この方法において、反
応は完全な転化まで進むので、累積した酢酸はオキシラ
ンを攻撃しはじめる。その結果として低いオキシラン含
有分(高いWPE)を有する生成物となり、そして酸化
剤が第四級オニウム塩の存在下での無機過酸であるとき
よりも高い粘度となる。
[0032] Peracetic acid in acetic acid can also be successfully used as an oxidizing agent. Many solvents are suitable for this oxidation, but the rate is faster in chlorinated solvents such as dichloroethane. In this way, the accumulated acetic acid begins to attack oxirane as the reaction proceeds to complete conversion. The result is a product with a low oxirane content (high WPE) and a higher viscosity than when the oxidizing agent is an inorganic peracid in the presence of a quaternary onium salt.

【0033】酸化剤としてのペルオキシイミド酸は副生
成物がアセトアミドであるという利点を提供し、アセト
アミドはオキシランに対して無毒である。好ましいペル
オキシイミド酸はアセトニトリルおよび過酸化水素から
誘導される。ペルオキシイミド酸酸化のための最適条件
は、KHCO3 の使用、40℃近い反応温度、および、
所望により、水性スポンジ、例えば、2,2 - ジメトキシ
プロパンの使用を含む。
Peroxyimidic acid as oxidizing agent offers the advantage that the by-product is acetamide, which is non-toxic to oxirane. Preferred peroxyimidic acids are derived from acetonitrile and hydrogen peroxide. The optimal conditions for peroxyimidic acid oxidation are the use of KHCO 3 , a reaction temperature close to 40 ° C., and
Optionally, includes the use of an aqueous sponge, for example, 2,2-dimethoxypropane.

【0034】本発明の可撓性エポキシ組成物は、炉で硬
化される接着剤として有用であるが、その用途は、もし
急速硬化特性があるならば広がることができる。このエ
ポキシは、良好な接着強度、可撓性、および急速硬化能
を示す接着剤に配合されることができる。好ましい配合
物は20〜80重量部の可撓性エポキシおよび80〜2
0重量部の芳香族O−グリシジルエーテル樹脂(合計で
100重量部)、硬化触媒および所望により1種以上の
充填剤を含むであろう。一般に、硬化触媒は100重量
部の樹脂当たりに約5〜10重量部の量で存在するイミ
ダゾール触媒であり、そして充填剤は伝熱性または導電
性充填剤、例えば、銀フレークであるが、他の導電性ま
たは伝熱性充填剤またはシリカは使用されることができ
る。充填ジグリシジルエーテルは、好ましくは接着剤配
合物の25体積%の量で存在する。
Although the flexible epoxy compositions of the present invention are useful as oven cured adhesives, their use can be extended if they have rapid cure properties. The epoxy can be formulated into an adhesive that exhibits good adhesive strength, flexibility, and rapid curing capability. Preferred formulations are 20-80 parts by weight of a flexible epoxy and 80-2
It will contain 0 parts by weight of the aromatic O-glycidyl ether resin (100 parts by weight in total), the curing catalyst and optionally one or more fillers. Generally, the curing catalyst is an imidazole catalyst present in an amount of about 5 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of resin, and the filler is a thermally or electrically conductive filler, such as silver flake, Conductive or thermally conductive fillers or silica can be used. The filled diglycidyl ether is preferably present in an amount of 25% by volume of the adhesive formulation.

【0035】芳香族O−グリシジルエーテル(芳香族エ
ポキシ)は1個以上の芳香環で置換されており、そして
所望により1個以上のC1 〜C3 基で置換されているで
あろう。この芳香族エポキシは200以下のエポキシ当
量(WPE、エポキシ当たりの重量)を有し、そして対
応したフェノール硬化剤により得ることができる。例示
の芳香族エポキシはビスフェノールFジグリシジルエー
テル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、レソル
シノールジグリシジルエーテルおよびエポキシフェノー
ルノボラックである。
The aromatic O-glycidyl ether (aromatic epoxy) will be substituted with one or more aromatic rings and, if desired, one or more C 1 -C 3 groups. The aromatic epoxy has an epoxy equivalent weight (WPE, weight per epoxy) of 200 or less and can be obtained with the corresponding phenolic curing agent. Exemplary aromatic epoxies are bisphenol F diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, resorcinol diglycidyl ether and epoxyphenol novolak.

【0036】接着剤配合物は、1個の芳香環(上記の芳
香族エポキシに由来する)当たりに1個以上のヒドロキ
シル基を有するフェノール硬化剤を、100部の樹脂当
たりに20〜50部で更に含むことができる。例示のフ
ェノール硬化剤は、市販のフェノールノボラック樹脂、
ビスフェノールF、ビスフェノールAおよびレソルシノ
ールである。フェノールの樹脂の添加は湿分に対する暴
露および250℃での熱衝撃の後の配合物の接着強度を
改良し、そして配合物からの可撓性エポキシのブリーデ
ィングを抑制するように作用する。
The adhesive formulation comprises a phenolic curing agent having one or more hydroxyl groups per aromatic ring (derived from the aromatic epoxy described above) at 20-50 parts per 100 parts resin. It may further include. Exemplary phenolic curing agents include commercially available phenol novolak resins,
Bisphenol F, bisphenol A and resorcinol. The addition of the phenolic resin improves the adhesive strength of the formulation after exposure to moisture and thermal shock at 250 ° C., and acts to inhibit bleeding of the flexible epoxy from the formulation.

【0037】一般に、あらゆる有効な硬化触媒は、有効
な触媒量で使用されることができる。好ましい硬化触媒
はイミダゾール触媒であり、そして、通常、100部の
樹脂当たりに約5部の量で存在する。好ましいイミダゾ
ール触媒は、イミダゾール、2−エチルイミダゾール、
2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイ
ミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾールお
よび2−ウンデシルイミダゾールである。
In general, any effective curing catalyst can be used in an effective catalytic amount. The preferred curing catalyst is an imidazole catalyst and is usually present in an amount of about 5 parts per 100 parts resin. Preferred imidazole catalysts are imidazole, 2-ethylimidazole,
2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole and 2-undecylimidazole.

【0038】充填剤はマイクロエレクトロニクス用途に
おいて適切であることが知られているいずれかの伝熱性
若しくは導電性材料であってよく、いずれかの有効な量
で使用されてよい。多くの用途では、好ましい充填剤は
銀フレークであるが、他の導電性若しくは伝熱性材料が
使用されてもよく、そして好ましくは接着剤配合物の体
積の約25%の量で存在する。
[0038] The filler may be any thermally or electrically conductive material known to be suitable in microelectronics applications and may be used in any effective amount. For many applications, the preferred filler is silver flake, but other conductive or thermally conductive materials may be used, and preferably are present in an amount of about 25% of the volume of the adhesive formulation.

【0039】次の例は2種の合成経路による代表的なオ
レフィン前駆体(アダクト)の調製およびエポキシ化合
物(エポキシ)を提供するための3種のエポキシ化法に
よるオレフィンのエポキシ化を例示する。評価試験法を
提供し、そして性能を表に示す。
The following examples illustrate the preparation of representative olefin precursors (adducts) by two synthetic routes and the epoxidation of olefins by three epoxidation methods to provide epoxy compounds (epoxies). An evaluation test method is provided and the performance is shown in the table.

【0040】可撓性エポキシおよびO−グリシジルエー
テル芳香族エポキシを含む急速硬化性ダイ結合接着剤配
合物およびフェノール硬化剤を含む配合物も開示する。試験法 試料エポキシ樹脂を評価するために次の試験法を使用す
る。各エポキシ製品についてのエポキシ当量(WPE、
エポキシ当量当たりの重量)を、氷酢酸中に化合物を溶
解させ、次いで、クリスタルバイオレット指示薬のバイ
オレット/グリーン転移まで標準化HBr/酢酸(約
0.1N)で滴定することにより決定した。各試料の粘
度を25℃で多種のスピンドル速度でブルックフィール
ドコーンアンドプレート粘度計を使用して決定した。
[0040] Also disclosed are fast-curing die bond adhesive formulations comprising a flexible epoxy and an O-glycidyl ether aromatic epoxy and formulations comprising a phenolic curing agent. Test Method The following test method is used to evaluate the sample epoxy resin. Epoxy equivalent for each epoxy product (WPE,
(Weight per epoxy equivalent) was determined by dissolving the compound in glacial acetic acid and then titrating with standardized HBr / acetic acid (about 0.1N) to the violet / green transition of the crystal violet indicator. The viscosity of each sample was determined at 25 ° C. at various spindle speeds using a Brookfield cone and plate viscometer.

【0041】加水分解可能な塩素の量を次の方法により
決定した:テフロン(登録商標)被覆された磁気攪拌棒
を有する清浄な125 ml三角フラスコに1 〜5g(0.1mgまで
近似) の樹脂を正確に計量して入れた。メタノール中に
溶解した40mlの0.1NのKOH を加えた。磁気攪拌機/ ホッ
トプレートユニットにより加熱された水浴中に、還流凝
縮器を具備したフラスコを入れた。攪拌されている溶液
を正確に15分間還流し、その後、フラスコを取り出し、
そしてそれを室温に放冷した。液体を清浄な250ml ビー
カーに移した。試料フラスコをメタノール50mlで3 回濯
ぎ、液体をビーカーに移した。10mlの氷酢酸を加え、そ
して0.005NのAgNO3 溶液で最終ポイントまで塩化物イオ
ンを電位差計で滴定した。加水分解可能な塩化物含有分
を次のようにppm で計算した。 塩化物(ppm)=(ml 滴定液)(N AgNO3)(3.55x104)/ 試料の
重量g 合計の塩化物の量を次の方法により決定した: 磁気攪拌
棒を有する清浄な三角フラスコに1 〜5g(0.1mgまで近
似) の樹脂を正確に計量して入れた。30mlのジオキサン
および15mlの3N KOH溶液をエタノール中に加えた。磁気
攪拌機/ ホットプレートユニットにより100 ℃に加熱さ
れた水浴中に、還流凝縮器を具備したフラスコを入れ
た。試料溶液を30分間還流させた。フラスコを取り出
し、そしてそれを室温に放冷した。液体を清浄な400ml
ビーカーに移した。試料フラスコをメタノール50mlで3
回濯ぎ、液体をビーカーに移した。100ml の氷酢酸を加
えた。KNO3塩ブリッジを有する銀電極を使用して、0.00
5NのAgNO3 溶液で最終ポイントまで電位差計で滴定し
た。上記のように塩化物イオンをppm で計算した。例I.オレフィン前駆体の合成 アダクトA
The amount of hydrolyzable chlorine was determined by the following method: 1-5 g (approximately 0.1 mg) of resin was placed in a clean 125 ml Erlenmeyer flask having a Teflon-coated magnetic stir bar. Accurately weighed. 40 ml of 0.1 N KOH dissolved in methanol was added. The flask equipped with a reflux condenser was placed in a water bath heated by a magnetic stirrer / hot plate unit. Reflux the stirred solution for exactly 15 minutes, then remove the flask,
It was allowed to cool to room temperature. The liquid was transferred to a clean 250ml beaker. The sample flask was rinsed three times with 50 ml of methanol and the liquid was transferred to a beaker. 10 ml of glacial acetic acid was added and chloride ions were titrated potentiometrically to the final point with a 0.005 N AgNO 3 solution. The hydrolyzable chloride content was calculated in ppm as follows: Chloride (ppm) = (ml titrant) (N AgNO 3) (3.55x10 4) / amount of weight g total chloride samples were determined by the following method: to a clean Erlenmeyer flask with a magnetic stir bar 1-5 g (approximately 0.1 mg) of the resin was accurately weighed in. 30 ml of dioxane and 15 ml of 3N KOH solution were added in ethanol. The flask equipped with a reflux condenser was placed in a water bath heated to 100 ° C. by a magnetic stirrer / hot plate unit. The sample solution was refluxed for 30 minutes. The flask was removed and it was allowed to cool to room temperature. 400ml clean liquid
Transferred to beaker. Sample flask with 50 ml of methanol
Rinse once and the liquid was transferred to a beaker. 100 ml of glacial acetic acid was added. Using a silver electrode with a KNO 3 salt bridge, 0.00
Potentiometric titration with a 5N AgNO 3 solution to the final point. Chloride ion was calculated in ppm as above. Example I. Olefin precursor synthetic adduct A :

【化10】 Embedded image

【0042】反応装置は、メカニカルスターラー、温度
計および凝縮器を具備した500 ml丸底フラスコであっ
た。試薬の2-アリルフェノール(159g 、1.19モル) 、1,
4-ブタンジオールジグルシジルエーテル(120g 、0.59モ
ル) および1%テトラメチルアンモニウムクロリド触媒
(2.5g)を反応装置に加え、そして50℃で約1 時間攪拌し
た。温度を70℃に上げ、そしてその温度で試薬を更に1
時間攪拌し; その後、温度を120 ℃に上げ、そして試薬
をその温度に維持し、その間、反応の進行をガスクロマ
トグラフ(GC)でモニターした。4 時間後に完了したもの
と決定し、その時、反応物を冷却して、そしてワークア
ップを開始した。
The reactor was a 500 ml round bottom flask equipped with a mechanical stirrer, thermometer and condenser. The reagents 2-allylphenol (159 g, 1.19 mol), 1,
4-butanediol diglycidyl ether (120g, 0.59mol) and 1% tetramethylammonium chloride catalyst
(2.5 g) was added to the reactor and stirred at 50 ° C. for about 1 hour. Raise the temperature to 70 ° C and at that temperature add one more reagent
Stirred for hours; thereafter, the temperature was raised to 120 ° C. and the reagents were maintained at that temperature, while the progress of the reaction was monitored by gas chromatography (GC). It was determined to be complete after 4 hours, at which time the reaction was cooled and work-up was started.

【0043】反応混合物を1つ口フラスコに移し、そし
てkugelrohr 装置(120℃/0.1mmHg)上に載せて全ての残
存出発材料( 特に、2-アリルフェノール) を除去した。
The reaction mixture was transferred to a one-necked flask and placed on a kugelrohr apparatus (120 ° C./0.1 mmHg) to remove any residual starting material, especially 2-allylphenol.

【0044】アダクトを1000ml分液漏斗に移し、そして
300ml のトルエン中に溶解させた。この有機相を5%炭酸
ナトリウム(3x200mL) 、10% 硫酸ナトリウム(3x200mL)
で洗浄し、そして中性アルミナパッド( 約200mL)を通し
てトルエンで濯いだ。
Transfer the adduct to a 1000 ml separatory funnel and
Dissolved in 300 ml of toluene. This organic phase is 5% sodium carbonate (3x200mL), 10% sodium sulfate (3x200mL)
And rinsed with toluene through a neutral alumina pad (about 200 mL).

【0045】トルエンをロータリーエバポレーターで60
℃/25mmHg 真空で除去し、その後、70℃/0.1mmHgでkuge
lrohr 装置に載せて全ての残存溶剤を除去した。
Toluene was converted to 60 with a rotary evaporator.
℃ / 25mmHg Removed by vacuum, then kuge at 70 ℃ / 0.1mmHg
All residual solvents were removed on an lrohr apparatus.

【0046】アダクトは90% 収率で得られ、そしてIRお
よび1H NMR分光分析器で特性を調べた。それは25℃で65
0 〜870cpsの範囲の粘度を有した。
The adduct was obtained in 90% yield and was characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. It is 65 at 25 ° C
It had a viscosity ranging from 0 to 870 cps.

【0047】アダクトB Adduct B

【化11】 Embedded image

【0048】アダクトAで用いたのと同様の方法でアダ
クトBを調製したが、2,6-ジアリルフェノール(310g、
1.78モル) を、4.5gのテトラメチルアンモニウムクロリ
ドの存在下で1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル
(180g 、0.89モル) と反応させた。反応混合物の温度を
徐々に180 ℃に上げ、そしてGCで示して反応が完了する
まで1 時間、そこに保持した。生成物をアダクトAで記
載した通りに収率81%で単離し、そしてIRおよび1H NMR
分光分析器で特性を調べた。25℃で983cpsの粘度であっ
た。
Adduct B was prepared in the same manner as used for Adduct A, except that 2,6-diallylphenol (310 g,
1.78 mol) in the presence of 4.5 g of tetramethylammonium chloride in 1,4-butanediol diglycidyl ether
(180 g, 0.89 mol). The temperature of the reaction mixture was gradually raised to 180 ° C. and held there for 1 hour until the reaction was complete as indicated by GC. The product was isolated in 81% yield as described for Adduct A and IR and 1 H NMR
The characteristics were examined with a spectrometer. It had a viscosity of 983 cps at 25 ° C.

【0049】アダクトC Adduct C :

【化12】 Embedded image

【0050】アダクトAで用いたのと同様の方法でアダ
クトCを調製したが、2-アリルフェノール(8.44g 、0.
063 モル) を1,2,13,14-ジエポキシテトラデカン(6.48
g、0.0286モル;1,13-テトラデカジエンの酸化により調
製) と、0.1gのテトラメチルアンモニウムクロリドの存
在下で反応させた。反応混合物の温度を185 ℃に上げ、
そしてGCで示して反応が完了するまで3.3 時間、そこに
保持した。生成物をアダクトAで記載した通りに収率81
%で単離し、そしてIRおよび1H NMR分光分析器で特性を
調べた。
Adduct C was prepared in a similar manner to that used for Adduct A, except that 2-allylphenol (8.44 g, 0.1%) was used.
063 mol) in 1,2,13,14-diepoxytetradecane (6.48
g, 0.0286 mol; prepared by oxidation of 1,13-tetradecadiene) in the presence of 0.1 g of tetramethylammonium chloride. The temperature of the reaction mixture was raised to 185 ° C,
It was held there for 3.3 hours until the reaction was complete as indicated by GC. The product was obtained in a yield of 81 as described in Adduct A.
% And characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy.

【0051】アダクトD Adduct D :

【化13】 Embedded image

【0052】反応装置は、メカニカルスターラー、温度
計、Dean-Starkトラップおよび凝縮器を具備した1 リッ
トルマルチネックフラスコであった。固体の水酸化ナト
リウムペレット(19.95g 、0.5 モル) および83mLのキシ
レンを穏やかな窒素のパージ下で装置に加え、そしてヒ
ーティングマントルで70℃に加熱した。その温度で、20
0mL のキシレン中に溶解した2-アリルフェノール(66.9
g、0.5 モル) をスロー滴下漏斗を通して導入し、その
間、系を還流させた。副生成物として生成した水をDean
-Starkトラップに共沸蒸留によって除去し、次いで、De
an-Starkトラップにより更なるキシレン(225mL) を蒸発
させて全てのトラップした水を除去した。
The reactor was a 1 liter multi-neck flask equipped with a mechanical stirrer, thermometer, Dean-Stark trap and condenser. Solid sodium hydroxide pellets (19.95 g, 0.5 mol) and 83 mL of xylene were added to the apparatus under a gentle nitrogen purge and heated to 70 ° C. with a heating mantle. At that temperature, 20
2-Allylphenol (66.9) dissolved in 0 mL xylene
g, 0.5 mol) was introduced through a slow dropping funnel while the system was refluxed. Dean water generated as a by-product
-Removed by azeotropic distillation in a Stark trap and then De
Additional xylene (225 mL) was evaporated with an-Stark trap to remove any trapped water.

【0053】その後、125mL のp-シメン、25mLのジメチ
ルホルムアミドおよび0.1gのKIを加え、そして全内容物
を100 ℃に冷却した。50mLのp-シメン中に溶解したポリ
( テトラヒドロフラン)-250 の二塩化物(45g、0.17モ
ル; ポリ( テトラヒドロフラン)-250 に塩化チオニルを
作用させて調製、BASF Corp.から入手可能) をスロー滴
下漏斗を通してフラスコに導入した。反応温度を150 ℃
に上げ、24時間保持した。冷却時に、副生成物の塩( 塩
化ナトリウム) を濾過により除去し、そしてpHが中性(
試験ストリップ上でpH=7) になるまで、濾液を5%水酸化
ナトリウム(2x150mL) そしてその後、10% 硫酸ナトリウ
ム( 150mL ずつ) で洗浄した。溶剤を最初にロータリー
エバポレーター、その後、Kugelrohr 装置(130℃/0.2mm
Hg) で除去した。生成物を95% 収率で回収し、そしてIR
および1H NMR分光分析器で分析した。
Thereafter, 125 ml of p-cymene, 25 ml of dimethylformamide and 0.1 g of KI were added, and the whole content was cooled to 100.degree. Poly dissolved in 50 mL of p-cymene
Dichloride of (tetrahydrofuran) -250 (45 g, 0.17 mol; prepared by reacting poly (tetrahydrofuran) -250 with thionyl chloride, available from BASF Corp.) was introduced into the flask through a slow dropping funnel. Reaction temperature 150 ℃
And held for 24 hours. Upon cooling, the by-product salt (sodium chloride) is removed by filtration and the pH is neutral (
The filtrate was washed with 5% sodium hydroxide (2 × 150 mL) and then with 10% sodium sulfate (150 mL each) until pH = 7) on the test strip. The solvent was first rotary evaporated and then Kugelrohr equipment (130 ° C / 0.2mm
Hg). The product was recovered in 95% yield and the IR
And 1 H NMR spectroscopy.

【0054】アダクトE Adduct E :

【化14】 Embedded image

【0055】反応装置はメカニカルスターラー、温度
計、Dean-Starkトラップおよび凝縮器を具備した5 リッ
トルマルチネックフラスコであった。固体の水酸化ナト
リウムペレット(79.2g、1.98モル) および1 L のキシレ
ンを穏やかな窒素パージ下で反応装置に加え、そして13
5 ℃に加熱した( 還流) 。その温度で、2-アリルフェノ
ール(267g 、1.98モル) をスロー滴下漏斗を通して導入
し、その間、系の還流を続けた。副生成物として生成し
た水をDean-Starkトラップに共沸蒸留によって除去し、
次いで、Dean-Starkトラップにより更なる100ml のキシ
レンを蒸発させて全てのトラップした水を除去した。
The reactor was a 5 liter multi-neck flask equipped with a mechanical stirrer, thermometer, Dean-Stark trap and condenser. Solid sodium hydroxide pellets (79.2 g, 1.98 mol) and 1 L of xylene were added to the reactor under a gentle nitrogen purge, and 13
Heated to 5 ° C (reflux). At that temperature, 2-allylphenol (267 g, 1.98 mol) was introduced through a slow dropping funnel while continuing to reflux the system. The water produced as a by-product is removed by azeotropic distillation in a Dean-Stark trap,
An additional 100 ml of xylene was then evaporated by a Dean-Stark trap to remove any trapped water.

【0056】内部温度を90℃に下げ、そして300mL のキ
シレン中に溶解した100mL のジメチルホルムアミドおよ
びテトラエチレングリコールジトシレート(400g 、0.79
5 モル; ピリジンの存在下でテトラエチレングリコール
へ塩化p-トルエンスルホニルを作用させて調製) をスロ
ー滴下漏斗を通してフラスコに導入した。反応温度を12
0 ℃に上げ、そしてそこに2 時間保持した。反応物を冷
却し、そして副生成物の塩( ナトリウムトシレート) を
濾過で除去した。pHが中性( 試験ストリップ上でpH=7)
になるまで、濾液を5%水酸化ナトリウム(2x600mL) で洗
浄し、その後、10% 硫酸ナトリウム(3x300mL)で洗浄し
た。
The internal temperature was reduced to 90 ° C. and 100 mL of dimethylformamide and tetraethylene glycol ditosylate (400 g, 0.79 mL) dissolved in 300 mL of xylene.
5 mol; prepared by reacting p-toluenesulfonyl chloride with tetraethylene glycol in the presence of pyridine) was introduced into the flask through a slow dropping funnel. Reaction temperature 12
Raised to 0 ° C. and held there for 2 hours. The reaction was cooled and the by-product salt (sodium tosylate) was removed by filtration. Neutral pH (pH = 7 on test strip)
The filtrate was washed with 5% sodium hydroxide (2 × 600 mL) until then, and then with 10% sodium sulfate (3 × 300 mL).

【0057】最初に溶剤をロータリーエバポレーターで
除去し、その後、kugelrohr 装置(80 ℃/0.2mmHg) で除
去した。生成物を95% 収率で回収し、そしてIRおよび1H
NMR分光分析器で分析した。
The solvent was first removed on a rotary evaporator and then on a kugelrohr apparatus (80 ° C./0.2 mmHg). The product was recovered in 95% yield and IR and 1 H
Analyzed by NMR spectroscopy.

【0058】例II:エポキシ化合物の合成エポキシ
A:
Example II: Synthesis of epoxy compound Epoxy A:

【化15】 Embedded image

【0059】アダクトAを2種の方法で酸化してエポキ
シAを提供した;過酢酸およびペルオキシイミド酸を使
用。
Adduct A was oxidized in two ways to provide Epoxy A; using peracetic acid and peroxyimidic acid.

【0060】1.過酢酸での酸化 反応装置はメカニカルスターラー、温度計およびスロー
滴下漏斗を具備した500 mLフラスコであった。アダクト
A(75g 、0.16モル、0.32モルのオレフィン官能価) 、
1,2-ジクロロエタン(150mL) および酢酸ナトリウム(4.7
g)を反応装置に加え、そして水浴を使用して23℃にし
た。過酢酸(94.7g)(酢酸中35%)の導入を開始し、そして
反応物は29℃に発熱した。添加を完了した後、水浴を30
℃に加熱した。内部温度は38℃に上がった。10分後に、
温度を35℃に下げ、そして35℃の温度に5 時間保持し
た。IR分光分析器の1635cm-1吸収の消失または最小化に
より反応の完了をモニターした。完了時に、300mL の蒸
留水を反応混合物に加えた。相は分離し、そして有機相
を300mL の5%重炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、その後、
200mL の5%亜硫酸ナトリウム溶液で洗浄した。トルエン
(300mL)を加えてエマルジョンを破壊した。その後、有
機相を200mL の10% 硫酸ナトリウムで洗浄し、そして20
0mL の蒸留水で洗浄した。
1. The oxidation reactor with peracetic acid was a 500 mL flask equipped with a mechanical stirrer, thermometer and slow dropping funnel. Adduct A (75 g, 0.16 mol, 0.32 mol olefin functionality),
1,2-dichloroethane (150 mL) and sodium acetate (4.7
g) was added to the reactor and brought to 23 ° C. using a water bath. The introduction of peracetic acid (94.7 g) (35% in acetic acid) was started and the reaction exothermed to 29 ° C. After completing the addition, remove the water bath for 30 minutes.
Heated to ° C. The internal temperature rose to 38 ° C. After 10 minutes,
The temperature was reduced to 35 ° C and kept at a temperature of 35 ° C for 5 hours. Reaction completion was monitored by disappearance or minimization of the 1635 cm -1 absorption of the IR spectrometer. Upon completion, 300 mL of distilled water was added to the reaction mixture. The phases were separated and the organic phase was washed with 300 mL of 5% sodium bicarbonate solution, after which
Washed with 200 mL of 5% sodium sulfite solution. The emulsion was broken by adding toluene (300 mL). Thereafter, the organic phase is washed with 200 mL of 10% sodium sulfate and
Washed with 0 mL of distilled water.

【0061】有機相を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥
し、そして吸引濾過した。最初に溶剤をロータリーエバ
ポレーター(50 ℃/20mmHg)で除去し、その後、kugelroh
r 装置(60 ℃/0.1mmHg) で除去した。最終生成物をオイ
ルとして単離し、そして25℃で7280cps 、エポキシ当量
=269( 計算値=251) であり、IRおよび1H NMR分光分析器
により特性を調べた。合計塩素=717ppm 。この材料の第
二回目の調製では、EEW=274 、粘度6550cps 、加水分解
可能な塩素=519ppm および合計塩素=719ppm であった。
The organic phase was separated off, dried over magnesium sulfate and filtered off with suction. First, the solvent was removed with a rotary evaporator (50 ° C / 20 mmHg).
r Removed with equipment (60 ° C / 0.1mmHg). The final product is isolated as an oil, and 7280 cps at 25 ° C., epoxy equivalent
= 269 (calculated = 251) and was characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Total chlorine = 717 ppm. In a second preparation of this material, EEW = 274, viscosity 6550 cps, hydrolyzable chlorine = 519 ppm and total chlorine = 719 ppm.

【0062】2.アセトニトリル/過酸化水素(ペルオ
キシイミド酸)による酸化:反応装置はメカニカルスラ
ーラー、温度計およびスロー滴下漏斗を具備した250 ml
丸底フラスコであった。アダクトA(30.0g 、0.0638モ
ル、0.128 モルのオレフィン官能価) 、メタノール(74m
L)、アセトニトリル(11.54g 、0.2815モル)およびKHCO
3 (7.12g、0.7111モル) を装置に加え、そして40℃に加
熱した。その温度で、30%H2O2(10.0g 、0.0882モル) を
滴下して加えた。反応混合物を40℃に7 時間保持し、そ
の点で、更なる30%H2O2(13.8g 、0.1218モル) を滴下し
て加えた。反応物を40℃に更に20時間保持した。
[0062] 2. Acetonitrile / hydrogen peroxide (Peru
Oxidation with xyimidic acid): 250 ml reactor equipped with mechanical stirrer, thermometer and slow dropping funnel
It was a round bottom flask. Adduct A (30.0 g, 0.0638 mol, 0.128 mol olefin functionality), methanol (74 m
L), acetonitrile (11.54 g, 0.2815 mol) and KHCO
3 (7.12 g, 0.7111 mol) was added to the apparatus and heated to 40 ° C. At that temperature, 30% H 2 O 2 (10.0 g, 0.0882 mol) was added dropwise. The reaction mixture was kept at 40 ° C. for 7 hours, at which point a further 30% H 2 O 2 (13.8 g, 0.1218 mol) was added dropwise. The reaction was kept at 40 ° C. for another 20 hours.

【0063】その後、2,2-ジメトキシプロパン(48g、0.
462 モル、即ち、30% 過酸化水素からのH2O 基準で0.5
当量) を滴下して加えた。反応物を40℃で更に24.5時間
加熱し、それは反応試料のIRトレースが最小の1637cm-1
吸収を示す点に対応する。10%Na2SO3 の添加により過酸
化物を中和し、それはKI- スターチインジケーター試験
ストリップで決定した。メタノールおよびアセトニリル
を真空中でロータリーエバポレーター(40 ℃/25mmHg)で
除去した。残留物を150mL のトルエンに吸収させ、そし
て蒸留水(150mL) で洗浄した。乳化を10%Na2SO4 の添加
で緩和した。有機相を分離し、そして溶剤を最初にロー
タリーエバポレーター(80 ℃/25mmHg)、その後、kugelr
ohr 装置(80 ℃/0.1mmHg) で除去した。
Thereafter, 2,2-dimethoxypropane (48 g, 0.
462 moles, i.e., 0.5 with H 2 O reference from 30% hydrogen peroxide
(Equivalent) was added dropwise. The reaction was heated at 40 ° C. for an additional 24.5 hours, which resulted in a minimum IR trace of the reaction sample at 1637 cm −1.
Corresponds to the point showing absorption. The peroxide was neutralized by the addition of 10% Na 2 SO 3 , which was determined on KI-starch indicator test strips. Methanol and acetonitrile were removed on a rotary evaporator (40 ° C./25 mmHg) in vacuo. The residue was taken up in 150 mL of toluene and washed with distilled water (150 mL). Emulsification was moderated by the addition of 10% Na 2 SO 4 . The organic phase is separated off and the solvent is first removed on a rotary evaporator (80 ° C./25 mmHg), followed by kugelr
It was removed with an ohr device (80 ° C / 0.1mmHg).

【0064】生成物を74% 収率(23.7g) で単離し、エポ
キシ当量=315( 計算値=251) 、粘度=25 ℃で6270cps で
あり、IRおよび1H NMR分光分析器で特性を調べた。加水
分解可能な塩素=455ppm および合計塩素=564ppm であっ
た。
The product was isolated in 74% yield (23.7 g), epoxy equivalent = 315 (calculated = 251), viscosity = 6270 cps at 25 ° C., and characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Was. Hydrolyzable chlorine was 455 ppm and total chlorine was 564 ppm.

【0065】エポキシB Epoxy B :

【化16】 Embedded image

【0066】アダクトBを2種の方法により酸化させて
エポキシBを提供した:過酢酸およびペルオキシイミド
Adduct B was oxidized by two methods to provide epoxy B: peracetic acid and peroxyimidic acid

【0067】1.過酢酸での酸化 アダクトBを35% 過酢酸を使用してエポキシAの合成に
関して記載したように酸化した。アダクトB(110g、0.
2 モル) を、220mL の1,2-ジクロロエタン中で35℃にお
いて過酢酸(210mLの35% 溶液、1.09モル) で処理した。
生成物を85% の収率で回収し、そして176(計算値=154)
、粘度25℃で24,300cps であり、IRおよび1H NMR分光
分析器で特性を調べた。加水分解可能な塩素=467ppm お
よび合計塩素=620ppm であった。
1. Oxidation with peracetic acid Adduct B was oxidized as described for the synthesis of Epoxy A using 35% peracetic acid. Adduct B (110g, 0.
Was treated with peracetic acid (210 mL of a 35% solution, 1.09 mol) in 220 mL of 1,2-dichloroethane at 35 ° C.
The product was recovered in 85% yield and 176 (calc = 154).
The viscosity was 25,300 cps at 25 ° C. and was characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Hydrolyzable chlorine was 467 ppm and total chlorine was 620 ppm.

【0068】2.アセトニトリル/過酸化水素(ペルオ
キシイミド酸)による酸化:エポキシAの合成に関して
記載したようにアセトニトリルおよび過酸化水素を使用
してアダクトBを酸化した。アセトニトリルおよび過酸
化水素は現場でペルオキシイミド酸を発生した。アダク
トB(150g、0.27モル) をアセトニトリル(97g) 、重炭
酸カリウム(60.5g) 、30% 過酸化水素(200g)、2,2-ジメ
トキシプロパン(812.5g)およびメタノール(375mL) で処
理した。163cm -1のIR吸収が有意に変化しなくなるまで
40℃で反応を行った。生成物を74% 収率(23.7g) で単離
し、エポキシ当量=229( 計算値=154) 、粘度=25 ℃で2
0,900cps であり、IRおよび1H NMR分光分析器で特性を
調べた。加水分解可能な塩素=624ppm および合計塩素=8
39ppm であった。
2. Acetonitrile / hydrogen peroxide (Peru
Oxidation with xyimidic acid): Adduct B was oxidized using acetonitrile and hydrogen peroxide as described for the synthesis of epoxy A. Acetonitrile and hydrogen peroxide generated peroxyimidic acid in situ. Adduct B (150 g, 0.27 mol) was treated with acetonitrile (97 g), potassium bicarbonate (60.5 g), 30% hydrogen peroxide (200 g), 2,2-dimethoxypropane (812.5 g) and methanol (375 mL). Until the IR absorption at 163 cm -1 no longer changes significantly
The reaction was performed at 40 ° C. The product was isolated in 74% yield (23.7 g), epoxy equivalent = 229 (calculated = 154), viscosity = 2 at 25 ° C.
0,900 cps and characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Hydrolysable chlorine = 624 ppm and total chlorine = 8
It was 39 ppm.

【0069】エポキシC:Epoxy C:

【化17】 Embedded image

【0070】ペルオキシタングステン酸触媒を用いて酸
化してエポキシCを提供した。ペルオキシタングステン
酸による酸化:アダクトC(17g 、0.035 モル) を60mL
のジクロロエタン中に溶解させ、それに、3.8gの硫酸水
素テトラブチルアンモニウムを加え、そしてこれを室温
で激しく攪拌した。この激しく攪拌された溶液に、10ml
の蒸留水中のタングステン酸ナトリウム二水和物(6.3g)
と、pHを6.5 に調節するために十分な量の85% リン酸を
含む水性混合物を加えた。その後、30% 過酸化水素(15.
7g、0.138 モル) を室温において加え、そして合わせた
内容物を96時間攪拌した。その点で、1637cm-1の吸収の
IRスペクトルは最小になった。
Oxidation using a peroxytungstic acid catalyst provided Epoxy C. Peroxytungsten
Oxidation with acid : 60 mL of adduct C (17 g, 0.035 mol)
Of dichloroethane, to which 3.8 g of tetrabutylammonium hydrogen sulfate were added and this was stirred vigorously at room temperature. 10 ml into this vigorously stirred solution
Sodium tungstate dihydrate in distilled water (6.3g)
And an aqueous mixture containing a sufficient amount of 85% phosphoric acid to adjust the pH to 6.5. Then 30% hydrogen peroxide (15.
(7 g, 0.138 mol) were added at room temperature and the combined contents were stirred for 96 hours. At that point, the absorption of 1637 cm -1
The IR spectrum was minimized.

【0071】相を分離させ、そして過酸化物が完全にク
エンチされるまで有機層を5%の亜硫酸ナトリウム(2x100
mL) で洗浄することにより生成物を単離した。40℃以下
の温度でロータリーエバポレーターで溶剤を除去し、そ
して残留物を100mL のトルエンに溶解させた。トルエン
層を、150mL の5%炭酸ナトリウム、水(2x150mL) 、その
後、10% 硫酸ナトリウム(2x150mL) で洗浄した。最初に
ロータリーエバポレーターで、次にkugelrohr 装置で高
真空(80 ℃/0.1mmHg) でトルエンを有機層から除去し
た。生成物は93% の収率で単離されたオイルであり、そ
してエポキシ当量=289( 計算値=263) 、粘度=25 ℃で91
00cps であり、IRおよび1H NMR分光分析器で特性を調べ
た。加水分解可能な塩素=883ppm および合計塩素=959pp
m であった。
The phases were separated, and the organic layer was washed with 5% sodium sulfite (2 × 100) until the peroxide was completely quenched.
The product was isolated by washing with (mL). The solvent was removed on a rotary evaporator at a temperature below 40 ° C. and the residue was dissolved in 100 ml of toluene. The toluene layer was washed with 150 mL of 5% sodium carbonate, water (2 × 150 mL), and then with 10% sodium sulfate (2 × 150 mL). The toluene was removed from the organic layer first on a rotary evaporator and then on a kugelrohr apparatus under high vacuum (80 ° C / 0.1 mmHg). The product is an isolated oil in 93% yield and has an epoxy equivalent = 289 (calculated = 263), viscosity = 91 at 25 ° C.
00 cps and characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Hydrolysable chlorine = 883 ppm and total chlorine = 959 pp
m.

【0072】エポキシD Epoxy D :

【化18】 Embedded image

【0073】アダクトDを2種の方法により酸化してエ
ポキシDを提供した:過酢酸およびペルオキシタングス
テン酸を使用。 1.過酢酸による酸化 35℃の1,2-ジクロロエタン中の35% 過酢酸を使用して、
エポキシAの合成において記載したように、アダクトD
(50g 、0.107 モル) を酸化した。60% の収率のオイル
として生成物を単離し、それはエポキシ当量=274(計算
値=249) 、25℃での粘度=417cps であり、IRおよび1H N
MR分光分析器により特性を調べた。加水分解可能な塩
素:35ppm および合計塩素:103ppmであった。
Adduct D was oxidized by two methods to provide epoxy D: using peracetic acid and peroxytungstic acid. 1. Oxidation with peracetic acid Using 35% peracetic acid in 1,2-dichloroethane at 35 ° C,
As described in the synthesis of epoxy A, adduct D
(50 g, 0.107 mol) was oxidized. The product was isolated as an oil in 60% yield, which had an epoxy equivalent = 274 (calculated = 249), viscosity at 25 ° C. = 417 cps, IR and 1 HN
The characteristics were examined by MR spectroscopy. Hydrolyzable chlorine: 35 ppm and total chlorine: 103 ppm.

【0074】2.ペルオキシタングステン酸触媒による
酸化 タングステン酸ナトリウム二水和物および過酸化水素を
使用して、エポキシCの合成において記載したように、
アダクトD(67.8g 、0.14モル) を酸化した。生成物を
83%収率でオイルとして単離し、そしてそれはエポキシ
当量=252(計算値=249) 、25℃での粘度=410cps であ
り、そしてIRおよび1H NMR分光分析器により特性を調べ
た。加水分解可能な塩素=53ppmおよび合計塩素=100ppm
であった。
2. With peroxytungstic acid catalyst
Using sodium tungstate dihydrate and hydrogen peroxide, as described in the synthesis of Epoxy C,
Adduct D (67.8 g, 0.14 mol) was oxidized. The product
Isolated as an oil in 83% yield, it had an epoxy equivalent = 252 (calculated = 249), viscosity at 25 ° C. = 410 cps, and was characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Hydrolyzable chlorine = 53 ppm and total chlorine = 100 ppm
Met.

【0075】エポキシE Epoxy E :

【化19】 Embedded image

【0076】アダクトEを2種の方法により酸化した:
過酢酸およびペルオキシタングステン酸触媒を使用。
Adduct E was oxidized by two methods:
Uses peracetic acid and peroxytungstic acid catalysts.

【0077】1.過酢酸による酸化 35℃の1,2-ジクロロエタン中の35% 過酢酸を使用して、
エポキシAの合成において記載したように、アダクトE
(30g 、0.07モル) を酸化した。91% の収率のオイルと
して生成物を単離し、それはエポキシ当量=258(計算値
=229) 、25℃での粘度=397cps であり、IRおよび1H NMR
分光分析器により特性を調べた。この材料の第二回目の
調製において、EEW=259 、粘度=354cps 、加水分解可能
な塩素=検出限界以下および合計塩素=785ppm であっ
た。
1. Oxidation with peracetic acid Using 35% peracetic acid in 1,2-dichloroethane at 35 ° C,
As described in the synthesis of epoxy A, adduct E
(30 g, 0.07 mol) was oxidized. The product was isolated as a 91% yield oil, which had an epoxy equivalent = 258 (calculated
= 229), viscosity at 25 ° C. = 397 cps, IR and 1 H NMR
The characteristics were examined with a spectrometer. In a second preparation of this material, EEW = 259, viscosity = 354 cps, hydrolyzable chlorine = below the detection limit, and total chlorine = 785 ppm.

【0078】2.ペルオキシタングステン酸触媒作用に
よる酸化 タングステン酸ナトリウム二水和物および過酸化水素を
使用して、エポキシCの合成において記載したように、
アダクトE(24g 、0.056 モル) を酸化した。生成物を
94%収率でオイルとして単離し、そしてエポキシ当量=
241(計算値=229) 、25℃での粘度=347cps であり、IRお
よび1H NMR分光分析器により特性を調べた。加水分解可
能な塩素=58ppmおよび合計塩素=578ppm であった。
2. For peroxytungstic acid catalysis
Using sodium tungstate dihydrate and hydrogen peroxide as described in the synthesis of Epoxy C:
Adduct E (24 g, 0.056 mol) was oxidized. The product
Isolated as an oil in 94% yield and epoxy equivalent =
241 (calculated value = 229), viscosity at 25 ° C. = 347 cps, and characterized by IR and 1 H NMR spectroscopy. Hydrolyzable chlorine was 58 ppm and total chlorine was 578 ppm.

【0079】エポキシF、比較例:Epoxy F, Comparative Example:

【化20】 Embedded image

【0080】本発明の実施例に対する比較として、Sell
ers に付与された米国特許第3,522,210 号、実施例1Aお
よび15に記載の方法によりエポキシFを調製した。
As a comparison with the embodiment of the present invention,
Epoxy F was prepared by the method described in U.S. Pat. No. 3,522,210 to ers, Examples 1A and 15.

【0081】ビスフェノール化合物( 実施例1)の調製:
メカニカルスターラー、温度計、スロー滴下漏斗、凝縮
器および窒素ブランケットを具備した1 リットルフラス
コに、ビスフェノールA(228.29g 、1.0 モル) 、150gの
ジメチルスルホキシド(DMSO)および150gのトルエンを装
填した。固体が溶解した後、50% NaOH水溶液(80g、1.0
モル) を20分間にわたって加えた。温度は約50℃に上が
り、そして温度を100〜110 ℃に上げるために熱を加え
た。101 ℃で還流に達し、その点で、2-クロロエチルエ
ーテル(71.5g、58.6mL、0.5 モル) をスロー滴下漏斗を
通して18分間にわたって加えた。反応温度を36.75 時間
にわたって還流して保持し、その点で、pHは7 〜8 に達
していなかったが、GC分析は反応がビスフェノールA の
消費に関して止まったことを示した。トルエン(150mL)
を加え、そして共沸蒸留を開始して約60mLのH2O を除去
し、そして別の40mLのトルエンを更に除去して、乾燥を
確実なものとした。この有機溶液を濾過し、濃HCl で中
和してpH=6とし、そして再濾過した。溶液を1 つ口丸底
フラスコに入れ、そして60℃/11mmHg のロータリーエバ
ポレーターでストリップして、300mL の蒸留物を回収し
た。更なる蒸留を周囲圧力( 約760mmHg)および170 ℃ポ
ット温度で行い、その後、約30mmHgの真空を確立し、そ
してポット温度を219 ℃( 蒸気温度を122 ℃) に上げ
た。フラスコを室温に冷却した。
Preparation of Bisphenol Compound (Example 1):
A 1 liter flask equipped with a mechanical stirrer, thermometer, slow dropping funnel, condenser and nitrogen blanket was charged with bisphenol A (228.29 g, 1.0 mol), 150 g of dimethyl sulfoxide (DMSO) and 150 g of toluene. After the solid was dissolved, a 50% aqueous NaOH solution (80 g, 1.0 g
Mol) was added over 20 minutes. The temperature rose to about 50 ° C and heat was applied to raise the temperature to 100-110 ° C. Reflux was reached at 101 ° C., at which point 2-chloroethyl ether (71.5 g, 58.6 mL, 0.5 mol) was added via a slow dropping funnel over 18 minutes. The reaction temperature was held at reflux for 36.75 hours, at which point the pH had not reached 7-8, but GC analysis indicated that the reaction had ceased with bisphenol A consumption. Toluene (150mL)
Was added and an azeotropic distillation was started to remove about 60 mL of H 2 O and another 40 mL of toluene was further removed to ensure drying. The organic solution was filtered, neutralized with concentrated HCl to pH = 6 and re-filtered. One solution was placed in a round bottom flask and stripped on a rotary evaporator at 60 ° C./11 mmHg to collect 300 mL of distillate. Further distillation was performed at ambient pressure (about 760 mmHg) and 170 ° C. pot temperature, after which a vacuum of about 30 mmHg was established and the pot temperature was raised to 219 ° C. (steam temperature 122 ° C.). The flask was cooled to room temperature.

【0082】可撓性結合鎖を有するジグリシジルエーテ
ルの調製(実施例15):400 g のエタノールおよび240ml
のエピクロロヒドリン中に材料を溶解させて、第二反応
のための2 リットルマルチネックフラスコに移した。こ
の溶液を60℃に加熱し、その点で、50%NaOH 約70mLの添
加を行った( 25分間で約7mL 、5 分間で約10mL、35分間
で約46mLおよび15分間で約7mL)。反応混合物を2 リット
ル1 つ口フラスコに移し、そしてエタノール、水および
エピクロロヒドリンを96℃/11mmHg のロータリーエバポ
レーターで除去した。残留物を600mL のメチルイソブチ
ルケトンおよび800mL の水に溶解させ、分液漏斗に移
し、そして相を分離させた。有機層を200mL の水で洗浄
し、それはエマルジョンとなり、このエマルジョンを10
0mL の飽和硫酸ナトリウムを添加することにより緩和し
た。水洗浄のpHは約7(中性) であった。有機溶液をロー
タリーエバポレーターに入れ、溶剤を95℃/11mmHg で除
去した。この材料を更に133 ℃/1.5mmHgのkugelrohr 装
置でストリップした。濃い琥珀色のタッフィー状の稠度
である生成物を89% の収率で単離し、そしてエポキシ当
量WPE =357.5 、加水分解可能な塩素=435ppm 、結合し
た塩素=2103ppmおよび合計塩素=2538ppmであった。
Preparation of Diglycidyl Ether with Flexible Linking Chain (Example 15): 400 g of ethanol and 240 ml
Dissolved material in epichlorohydrin and transferred to a 2 liter multi-neck flask for a second reaction. The solution was heated to 60 ° C., at which point about 70 mL of 50% NaOH was added (about 7 mL for 25 min, about 10 mL for 5 min, about 46 mL for 35 min and about 7 mL for 15 min). The reaction mixture was transferred to a 2 liter single neck flask and the ethanol, water and epichlorohydrin were removed on a rotary evaporator at 96 ° C./11 mm Hg. The residue was dissolved in 600 mL of methyl isobutyl ketone and 800 mL of water, transferred to a separatory funnel, and the phases were separated. Wash the organic layer with 200 mL of water, which becomes an emulsion,
Mitigation was achieved by adding 0 mL of saturated sodium sulfate. The pH of the water wash was about 7 (neutral). The organic solution was placed on a rotary evaporator and the solvent was removed at 95 ° C./11 mmHg. This material was further stripped in a kugelrohr apparatus at 133 ° C./1.5 mmHg. The product, a dark amber toffee-like consistency, was isolated in 89% yield and had an epoxy equivalent WPE = 357.5, hydrolyzable chlorine = 435 ppm, bound chlorine = 2103 ppm and total chlorine = 2538 ppm .

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】本発明のエポキシ化合物と従来技術の化合
物Fとを比較すると、加水分解可能な塩素含有分は同様
であることが判り、そしてこの値を低下させるためにエ
ポキシド含有分子の処理に関する方法が文献中に記載さ
れていることが更に判る(例えば、米国特許第4,785,06
1 号参照。それは、コラム2 で、加水分解可能な塩素、
結合した塩素、および合計の塩素に関して議論してい
る。) 。それでも、敏感なマイクロエレクトロニクス回
路の導線の腐蝕の防止を考えたときに、合計塩素値は重
要であり、そして報告されている方法はエピクロロヒド
リンをベースとする合成経路からこの塩素汚染を低減す
るが、有効に排除できるものでない。
A comparison of the epoxy compounds of the present invention with the prior art compound F shows that the hydrolyzable chlorine content is similar, and a method for the treatment of epoxide-containing molecules to reduce this value. It can further be seen in the literature (see, for example, US Pat. No. 4,785,06).
See issue 1. It is in column 2, hydrolyzable chlorine,
We are discussing the combined chlorine, and the total chlorine. ). Nevertheless, when considering the prevention of corrosion of sensitive microelectronic circuit conductors, the total chlorine value is important, and the reported methods reduce this chlorine contamination from epichlorohydrin-based synthetic routes. However, it cannot be effectively eliminated.

【0085】例III.エポキシの可撓性および強度 エポキシを、その可撓性の測定として弾性率、%歪み、
曲率半径、および、その接着強度の測定としてダイ剪断
を試験した。
Example III. Epoxy Flexibility and Strength Epoxy is measured as modulus of elasticity,% strain,
Die shear was tested as a measure of the radius of curvature and its adhesive strength.

【0086】弾性率は、動的荷重下で材料が変形すると
きの応力/歪みの比を示す弾性係数である。これらのエ
ポキシは低い弾性率を示し、好ましくは2.0MPa以
下である。%歪みは変形に対する耐性の測定であり、そ
してこれらの化合物は5%以上の伸び率%歪みを有し、
そして特定の場合には、顕著に試験試料は降伏した。
The elastic modulus is an elastic coefficient indicating a stress / strain ratio when a material is deformed under a dynamic load. These epoxies exhibit a low modulus of elasticity, preferably below 2.0 MPa. % Strain is a measure of resistance to deformation, and these compounds have an elongation% strain of 5% or more;
And in certain cases, the test sample yielded significantly.

【0087】銀フレークに配合し、そしてシリコンチッ
プを金属リードフレーム基板に結合されるときに、硬化
したエポキシは350 mm以上の高い曲率半径、室温で13
MPa以上の良好なダイ結合強度を示した。
When compounded into silver flakes and the silicon chips are bonded to a metal leadframe substrate, the cured epoxy has a high radius of curvature of over 350 mm,
Good die bonding strength of not less than MPa was shown.

【0088】これらのエポキシの硬化後のTg値は15
0℃以下であり、そしてある化合物の場合には100℃
以下であろう。
The cured Tg value of these epoxies was 15
0 ° C. or lower, and in some cases 100 ° C.
It will be below.

【0089】弾性率 次の装置を使用して、弾性率およ
び%歪み曲げ試験のためのエポキシプラークを調製し
た:2個のパイレックスプレート、10x10 3/16" 、F.J.
Gray Co.; 銅ワイヤー(23"/ 試験);シリコーンチューブ
ID=3/32", 外径(OD)=5/32"、壁=1/32"( 約23"/試験);ア
ルミニウムスペーサー(2"x3/4"x1/8"); バインダーチッ
プサイズミディアム(5/8");Airtech International,In
c. のRelease ALL #50 。
Modulus of elasticity The following equipment was used to prepare epoxy plaques for modulus and% strain bending tests: 2 Pyrex plates, 10 × 10 3/16 ", FJ
Gray Co .; Copper wire (23 "/ test); Silicone tube
ID = 3/32 ", outer diameter (OD) = 5/32", wall = 1/32 "(about 23" / test); aluminum spacer (2 "x3 / 4" x1 / 8 "); binder chip size Medium (5/8 "); Airtech International, In
c. Release ALL # 50.

【0090】プラークの成形品を調製するために、2 枚
のガラス( パイレックス) プレートをトルエン、次にア
セトンで洗浄した。Release ALL #50 の薄いコートを各
プレートの片面にきれいなラグで適用し、そして室温で
10分間乾燥させた。プレートを125 ℃で30分間炉内で乾
燥させた。23" の長さの銅ワイヤーを23" の長さのシリ
コーンチューブに挿入し、そしてワイヤー/ チューブを
U 型の型に曲げて、硬化前の液体エポキシ配合物のリザ
ーバーとして2 枚のガラスの間に適合させた。アルミニ
ウムスペーサーをガラスプレートの被覆された側の縁に
沿って配置した。ワイヤー/ チューブ型を、その後、ス
ペーサーに対して内側に、ガスプレートの被覆面上に置
いた。第二のガラスプレート、ワイヤー/ チューブ型お
よびスペーサーを第一のガラスプレート上に置き、ワイ
ヤー/ チューブ型およびスペーサーが2 枚のプレートの
間に挟まれるようにした。この2 枚のガラスプレートを
バインダークリップを使用してクランプした。
To prepare plaque moldings, two glass (Pyrex) plates were washed with toluene and then with acetone. Apply a thin coat of Release ALL # 50 on one side of each plate with clean lugs and allow to cool at room temperature.
Dried for 10 minutes. The plate was dried in the oven at 125 ° C. for 30 minutes. Insert a 23 "long copper wire into a 23" long silicone tubing, and insert the wire / tube
It was bent into a U-shape and fitted between the two glasses as a reservoir for the liquid epoxy formulation before curing. An aluminum spacer was placed along the edge of the coated side of the glass plate. The wire / tube mold was then placed on the covered side of the gas plate, inside the spacer. The second glass plate, wire / tube mold and spacer were placed on the first glass plate so that the wire / tube mold and spacer were sandwiched between the two plates. The two glass plates were clamped using a binder clip.

【0091】90.25gのエポキシ樹脂の試料を250mL の1
つ口フラスコに注いだ。Kugelrohr装置で70〜75℃およ
び0.2mmHg で約20分間試料を脱気し、そして50℃に冷却
した。100 重量部のエポキシを基準として、(4.75g) 5
重量部の2-エチル-4- メチルイミダゾールを混合しなが
ら試料に加えた。試料をKugelrohr 装置で50℃で2mmHg
で約20分間試料を脱気した。
A sample of 90.25 g of epoxy resin was added to 250 mL of 1
Poured into a one-necked flask. The sample was degassed on a Kugelrohr apparatus at 70-75 ° C and 0.2 mm Hg for about 20 minutes and cooled to 50 ° C. (4.75 g) based on 100 parts by weight of epoxy
Parts by weight of 2-ethyl-4-methylimidazole were added to the sample with mixing. The sample is 2mmHg at 50 ℃ with Kugelrohr instrument
The sample was degassed for about 20 minutes.

【0092】エポキシ試料をU 型のワイヤー/ チューブ
およびガラスプレートの型により形成されたキャビティ
ー内に、エアポケットを形成しないように注意しながら
注いだ。注いだエポキシ試料をプログラム可能な炉内で
直立の位置で次のプログラムに従って硬化させた:50 ℃
で30分間;50 ℃から125 ℃に1 ℃/ 分で;125℃に1 時間
保持;125℃から175 ℃に10℃/ 分で;175℃で1 時間保
持;90 分で60℃に冷却。
The epoxy sample was poured into the cavity formed by the U-shaped wire / tube and glass plate mold, taking care not to form air pockets. The poured epoxy sample was cured in an upright position in a programmable furnace according to the following program: 50 ° C
30 minutes at 50 ° C to 125 ° C at 1 ° C / min; 1 hour at 125 ° C; 10 ° C / min from 125 ° C to 175 ° C; 1 hour at 175 ° C; cooling to 60 ° C at 90 minutes.

【0093】型から剥離した後に得られるエポキシプラ
ークを、水冷されたダイアモンド刃ノコギリで3"x0.5"
ピースに切断した。0.5"の切断は若干大きく切り、そし
てその後、プラークを研削して正確に0.5"とした。
The epoxy plaque obtained after peeling from the mold was 3 "x0.5" with a water-cooled diamond blade saw.
Cut into pieces. The 0.5 "cut was cut slightly larger and then the plaque was ground to exactly 0.5".

【0094】ASTM法 D790-84a に従って3 点曲げモード
で室温においてインストロン4507を使用してプラークに
対して曲げ試験を行った。これらの実験のデータを次の
表に、ヤング弾性率、% 歪みおよび℃単位でのTg(tan
δのピーク) として報告する。
The plaques were subjected to bending tests using an Instron 4507 at room temperature in a three-point bending mode according to ASTM method D790-84a. The data from these experiments are shown in the following table, Young's modulus,% strain and Tg (tan
δ peak).

【0095】ダイ剪断 各エポキシ(100重量部のエポキ
シに対して硬化触媒として5 部の2-エチル-4- メチルイ
ミダゾールを加えた。) を25体積% の銀フレークと、銀
が完全に湿潤するまで混合した。この混合物を真空下で
室温において15〜20分間脱気し、その後、60分間、頻繁
に攪拌しながら室温に放置した。
Die shear Each epoxy (100 parts by weight of epoxy plus 5 parts of 2-ethyl-4-methylimidazole as curing catalyst) was added to 25% by volume of silver flakes and silver was completely wetted. Until mixed. The mixture was degassed under vacuum at room temperature for 15-20 minutes, then left at room temperature for 60 minutes with frequent stirring.

【0096】シリコンチップ(80x80ミル2)を接着剤配合
物で片面を被覆し、そして銅リードフレーム(D/L) 上に
置き、そして175 ℃で1 時間硬化させた。試料を、硬化
後に、室温(RT)におけるダイ剪断強度について試験し
た。ダイ剪断強度をHybrid mmachine Products Corp.ダ
イ剪断試験機( モデル1750)/Chatillon DFI 50デジタル
力ゲージを使用してダイ剪断強度を測定した。結合した
ダイを除去するために必要な力をkg単位で読み、そして
10個の試料を平均してMPa でのダイ剪断強度に変換し
た。好ましいダイ剪断強度値は13MPa 以上である。
A silicon chip (80 × 80 mil 2 ) was coated on one side with the adhesive formulation and placed on a copper lead frame (D / L) and cured at 175 ° C. for 1 hour. The samples were tested for die shear strength at room temperature (RT) after curing. Die shear strength was measured using a Hybrid mmachine Products Corp. Die Shear Tester (Model 1750) / Chatillon DFI 50 digital force gauge. Read the force required to remove the bonded die in kg, and
Ten samples were averaged and converted to die shear strength in MPa. Preferred die shear strength values are at least 13 MPa.

【0097】曲率半径 ダイ剪断試験法で、上記の通
り、試験される各エポキシを調製し、脱気し、そして1
時間老化した。シリコンチップ(200x600ミル2 ) を接着
剤で片面上を被覆し、そしてリードフレーム上に置き、
そして175 ℃の炉内で1 時間硬化させた。硬化した試料
の曲率半径をTokyo Seimitsu SURFCOM表面組織測定器を
使用して測定し、3 個の試料を平均してミリメートル(m
m)単位で報告した。好ましい曲率半径値は350mm 以上で
あった。
Each epoxy to be tested was prepared, degassed, and degassed, as described above, in the radius of curvature die shear test method.
Aged for hours. The silicon chip (200X600 mil 2) was coated on one side with adhesive and placed on a lead frame,
Then, it was cured in an oven at 175 ° C. for 1 hour. The radius of curvature of the cured sample was measured using a Tokyo Seimitsu SURFCOM texturometer and the average of three samples was millimeter (m
m) reported in units. The preferred radius of curvature was 350 mm or more.

【0098】対照エポキシ 対照エポキシ樹脂を次の通
りであった。Dai Nipponの製品デアルEPICLON 830Sの商
品名で販売されているビスフェノールF ジグリシジルエ
ーテルであり、下記式を有する。
Control Epoxy The control epoxy resin was as follows: A bisphenol F diglycidyl ether sold under the trade name of Dai Nippon's product Deal EPICLON 830S, having the following formula:

【化21】 Embedded image

【0099】Shell Corporation の製品であるEPON 828
の商品名で販売されているビスフェノールA ジグリシジ
ルエーテルであり、下記式を有する。
EPON 828, a product of Shell Corporation
Bisphenol A diglycidyl ether sold under the trade name of

【化22】 Embedded image

【0100】Shell Corporation の製品であるEPON 871
の商品名で販売されているダイマー酸ジグリシジルエス
テルであり、下記式を有する。
EPON 871 which is a product of Shell Corporation
Diglycidyl dimer acid sold under the trade name of

【化23】 Embedded image

【0101】Dow Corporation の製品であるDER 732 の
商品名で販売されているポリグリコールジエポキシドで
あり、下記式を有する。
A polyglycol diepoxide sold under the trade name DER 732, a product of Dow Corporation, having the following formula:

【化24】 Embedded image

【0102】性能結果 エポキシA〜Eを上記の試験法
に従い試験し、そして、対照の芳香族エポキシ樹脂およ
び軟化剤を含むエポキシ樹脂と比較した。可撓性および
強度性能試験並びに対照エポキシとの比較の結果は、対
照と比較して、低い弾性率および高い%歪みを示した。
とりわけ、対照と比較して、少数の可撓性エポキシが歪
み試験の間に降伏し、それら全てが急速硬化した。
Performance Results Epoxy AE was tested according to the test method described above and compared to control aromatic epoxy resins and epoxy resins containing softeners. The results of the flexibility and strength performance tests and comparison with the control epoxy showed low modulus and high% strain compared to the control.
Notably, a small number of flexible epoxies yielded during the strain test compared to the control, all of which cured rapidly.

【0103】本発明のエポキシの全ておよび芳香族の対
照エポキシは高い接着強度を示し、そしてある場合に
は、非常に高い曲率半径を示した。EPON 871エポキシ樹
脂およびDER 732 エポキシ樹脂の対照試料は反応性軟化
剤を基礎とし、それらは高い曲率半径の値を示すが、低
いダイ剪断強度に悩まされた。
All of the epoxies of the present invention and the aromatic control epoxies exhibited high bond strengths and, in some cases, very high radii of curvature. The control samples of EPON 871 epoxy resin and DER 732 epoxy resin were based on reactive softeners, which exhibited high radius of curvature values but suffered from low die shear strength.

【0104】EPON 871エポキシ樹脂( 反応性軟化剤) と
芳香族ビスフェノールF エポキシドの対照のブレンド
は、良好なダイ剪断強度を示すが、これは、曲率半径に
より示される可撓性の損失という犠牲を払って達成され
る。
The control blend of EPON 871 epoxy resin (reactive softener) and aromatic bisphenol F epoxide exhibits good die shear strength, but at the expense of loss of flexibility as indicated by the radius of curvature. Achieved by paying.

【0105】[0105]

【表2】 硬化触媒:a=2-エチル-4- メチルイミダゾール、4 〜
6pphr(100 部の樹脂当たりの部);硬化触媒b=フェノール
ノボラック(Schenectady Chemical のHRJ-1167) 、10pp
hrおよび2-エチル-4- メチルイミダゾール、4pphr 。
[Table 2] Curing catalyst: a = 2-ethyl-4-methylimidazole, 4-
6 pphr (parts per 100 parts resin); curing catalyst b = phenol novolak (HRJ-1167 from Schenectady Chemical), 10 pp
hr and 2-ethyl-4-methylimidazole, 4 pphr.

【0106】例IV:急速硬化される接着剤配合物、本
発明のエポキシC、DおよびE並びにエポキシXで指定
される特許権付きの可撓性エポキシをダイ結合接着剤へ
と配合され、それは、80重量部の可撓性エポキシおよび
20重量部の芳香族O-グリシジルエーテルを含み、そして
100 部のエポキシ樹脂当たりに20または40部(pphr)のエ
ポキシ樹脂のフェノール硬化剤を含んだ。硬化剤は5pph
r の2-エチル-4- メチルイミダゾールであった。
Example IV: A rapidly cured adhesive formulation , a patented flexible epoxy designated Epoxy C, D and E of the present invention and Epoxy X is compounded into a die bond adhesive. , 80 parts by weight of flexible epoxy and
Contains 20 parts by weight of aromatic O-glycidyl ether, and
20 or 40 parts (pphr) of epoxy resin phenolic hardener was included per 100 parts of epoxy resin. 5pph hardener
r was 2-ethyl-4-methylimidazole.

【0107】エポキシXはダイマー酸から合成された特
許権付き可撓性ジエポキシであり、そして2 個のエポキ
シ末端基の間に36個の炭素鎖を有する。芳香族エポキシ
は次の通りであった。Shell Corporation の製品である
EPON 862の商品名で販売されているビスフェノールF エ
ポキシ樹脂であり、下記構造を有する。
Epoxy X is a patented flexible diepoxy synthesized from dimer acid and has 36 carbon chains between the two epoxy end groups. The aromatic epoxy was as follows. Shell Corporation product
It is a bisphenol F epoxy resin sold under the trade name of EPON 862 and has the following structure.

【化25】 Embedded image

【0108】特許権付きエポキシ樹脂であり、エポキシ
Yで指定され、下記構造を有する。
An epoxy resin with a patent right, designated by epoxy Y and having the following structure.

【化26】 Embedded image

【0109】フェノール硬化剤は、Schenectady Chemic
alからHRJ-1167の商品名で販売されているフェノールノ
ボラック樹脂であり、下記構造を有する。
The phenol curing agent is Schenectady Chemic
al phenol novolak resin sold under the trade name HRJ-1167 and has the following structure:

【化27】 Embedded image

【0110】配合物の調製は次の通りであった:フェノ
ール硬化剤樹脂を可撓性エポキシ中に130 ℃で溶解さ
せ;イミダゾール触媒を芳香族エポキシ中で溶解させ;
これらの2種の混合物をブレンドし、そしてこのブレン
ドを25体積%の銀フレークと混合した。
The preparation of the formulation was as follows: the phenolic hardener resin was dissolved in the flexible epoxy at 130 ° C .; the imidazole catalyst was dissolved in the aromatic epoxy;
The two mixtures were blended and the blend was mixed with 25% by volume silver flake.

【0111】これらの配合物および市販物と類似の対照
ダイ結合剤を使用して、80x80 ミル 2 および200x600 ミ
2 シリコンダイを銅リードフレームに結合させた。こ
れらのアセンブリーを225 ℃で1 分間で急速硬化させ、
そしてDSC 分析で測定して完全に硬化していた。
Similar controls to these formulations and commercial products
80x80 mil using die binder TwoAnd 200x600mi
LeTwoThe silicon die was bonded to a copper lead frame. This
Rapidly cure these assemblies at 225 ° C for 1 minute,
It was completely cured as measured by DSC analysis.

【0112】接着剤配合物を、例IIIに記載のように
ダイ剪断強度および曲率半径に関して試験した。ダイ剪
断試験は(i)室温(RT)で、(ii)250 ℃で1分
間(250 ℃/1分)加熱した後に250 ℃で(製造の間の
ワイヤー結合をシミュレートしたもの)、(iii)水
中で2時間沸騰させ、そして250 ℃で1分間加熱した後
に250 ℃で(100 ℃H2O;250 ℃/ 1 分)(湿分に対する耐
性、および、ハンダの再流動過程、220 ℃〜260 ℃の間
の湿分暴露後の完全に封入されたパッケージの機械破壊
である「ポップコーン」として知られている現象に対す
る耐性を試験することが意図されている) の硬化後に80
x80 ミル2 のダイで行われた。
The adhesive formulation was tested for die shear strength and radius of curvature as described in Example III. Die shear tests were performed at (i) room temperature (RT), (ii) 250 ° C. for 1 minute (250 ° C./1 minute) followed by 250 ° C. (simulating wire bonding during production), (iii) ) boiled for 2 hours in water, and after heating for 1 minute at 250 ° C. at 250 ℃ (100 ℃ H 2 O ; resistance to 250 ° C. / 1 min) (moisture, and solder reflow processes, 220 ° C. ~ It is intended to test the resistance to a phenomenon known as "popcorn", which is the mechanical failure of a fully encapsulated package after exposure to moisture between 260 ° C)
Made on a x80 mill 2 die.

【0113】結果を次の表に示し、そして本発明の可撓
性エポキシを含む急速硬化される配合物は室温でおよび
熱衝撃後に可撓性および良好なダイ剪断強度を維持する
ことを示す。湿分暴露後および熱衝撃後のダイ剪断強度
はダイ結合接着剤としての使用にために許容される範囲
にある。
The results are shown in the following table and show that the rapidly cured formulations containing the flexible epoxies of the present invention maintain flexibility and good die shear strength at room temperature and after thermal shock. Die shear strength after moisture exposure and after thermal shock is in an acceptable range for use as a die bonding adhesive.

【0114】[0114]

【表3】 [Table 3]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スティーブン ピー.フェネッリ アメリカ合衆国,ニュージャージー 08876,ヒルズボロー,ヘイバーフォード コート 79 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Stephen P. Fenelli United States, New Jersey 08876, Hillsborough, Haverford Court 79

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性エポキシ化合物であって、0.1
重量%未満の合計塩素含有分を有し、且つ、 【化1】 (式中、R’はH、C1-18アルキル、C1-5 アルコキシ
若しくはアリール若しくはアルキルアリール、C1-5
ルフルオロアルキルまたはC1-5 アシルであり;且つ、
nは1〜3の整数であり、且つ、qが1〜6の整数であ
るときに、可撓性鎖はCH2 CH2 CH2 CH2 Oであ
り、または、qが3〜10の整数であるときに、可撓性
鎖はCH2 CH2 Oである。)の一般構造を有すること
を特徴とする化合物。
1. A flexible epoxy compound, comprising: 0.1
Has a total chlorine content of less than 10% by weight, and Wherein R ′ is H, C 1-18 alkyl, C 1-5 alkoxy or aryl or alkylaryl, C 1-5 perfluoroalkyl or C 1-5 acyl;
When n is an integer of 1 to 3 and q is an integer of 1 to 6, the flexible chain is CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O, or q is an integer of 3 to 10. When the flexible chain is CH 2 CH 2 O. A compound having the general structure of (1).
【請求項2】 0.1重量%未満の合計塩素含有分を有
し、且つ、 【化2】 (式中、R’はH、C1-18アルキル、C1-5 アルコキシ
若しくはアリール若しくはアルキルアリール、C1-5
ルフルオロアルキルまたはC1-5 アシルであり;且つ、
nは1〜3の整数であり、且つ、pは6〜16の整数で
ある。)の構造式を有することを特徴とする、可撓性エ
ポキシ化合物。
2. It has a total chlorine content of less than 0.1% by weight, and Wherein R ′ is H, C 1-18 alkyl, C 1-5 alkoxy or aryl or alkylaryl, C 1-5 perfluoroalkyl or C 1-5 acyl;
n is an integer of 1 to 3, and p is an integer of 6 to 16. A flexible epoxy compound having the structural formula (1).
【請求項3】 0.1重量%未満の合計塩素含有分を有
し、且つ、 【化3】 (式中、R’はH、C1-18アルキル、C1-5 アルコキシ
若しくはアリール若しくはアルキルアリール、C1-5
ルフルオロアルキルまたはC1-5 アシルであり;且つ、
nは1〜3の整数であり、且つ、rが1〜10の整数で
あるときに、可撓性鎖はCH2 CH2 CH2 CH2 Oで
あり、またはrが3〜10の整数であるときに、可撓性
鎖はCH2 CH2 Oであり、または、rが10〜20の
整数であるときに、可撓性鎖はCH2 である。)の構造
式を有することを特徴とする、可撓性エポキシ化合物。
3. It has a total chlorine content of less than 0.1% by weight, and Wherein R ′ is H, C 1-18 alkyl, C 1-5 alkoxy or aryl or alkylaryl, C 1-5 perfluoroalkyl or C 1-5 acyl;
When n is an integer of 1 to 3 and r is an integer of 1 to 10, the flexible chain is CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 O, or r is an integer of 3 to 10. in some case, a flexible chain is CH 2 CH 2 O, or, when r is an integer of 10 to 20, the flexible chain is CH 2. A flexible epoxy compound having the structural formula (1).
【請求項4】 【化4】 の構造を有する請求項1記載の可撓性エポキシ化合物。(4) The flexible epoxy compound according to claim 1, which has a structure of the following. 【請求項5】 【化5】 の構造を有する請求項1記載の可撓性エポキシ化合物。(5) The flexible epoxy compound according to claim 1, which has a structure of the following. 【請求項6】 【化6】 の構造を有する請求項2記載の可撓性エポキシ化合物。(6) 3. The flexible epoxy compound according to claim 2, having the structure: 【請求項7】 【化7】 の構造を有する請求項3記載の可撓性エポキシ化合物。(7) 4. The flexible epoxy compound according to claim 3, having the structure: 【請求項8】 【化8】 の構造を有する請求項3記載の可撓性エポキシ化合物。(8) 4. The flexible epoxy compound according to claim 3, having the structure: 【請求項9】 請求項1記載の可撓性エポキシを含む、
マイクロエレクトロニクス用途における使用のための接
着剤。
9. A flexible epoxy comprising the flexible epoxy of claim 1.
Adhesive for use in microelectronics applications.
【請求項10】 請求項2記載の可撓性エポキシを含
む、マイクロエレクトロニクス用途における使用のため
の接着剤。
10. An adhesive for use in microelectronics applications, comprising the flexible epoxy of claim 2.
【請求項11】 請求項3記載の可撓性エポキシを含
む、マイクロエレクトロニクス用途における使用のため
の接着剤。
11. An adhesive for use in microelectronics applications, comprising the flexible epoxy of claim 3.
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