JPH11160721A - Substrate joining device and seal agent applying nozzle - Google Patents

Substrate joining device and seal agent applying nozzle

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JPH11160721A
JPH11160721A JP32920897A JP32920897A JPH11160721A JP H11160721 A JPH11160721 A JP H11160721A JP 32920897 A JP32920897 A JP 32920897A JP 32920897 A JP32920897 A JP 32920897A JP H11160721 A JPH11160721 A JP H11160721A
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JP
Japan
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substrate
unit
stage
cell
sealant
Prior art date
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Application number
JP32920897A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Chokai
正樹 鳥海
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve productivity when substrates are joined by arranging a substrate positioning part, a substrate pressurizing part and an ultraviolet irradiation part on a stage formed in a disklike shape at a prescribed distance along the peripheral direction of the stage. SOLUTION: First of all, a cell C is received from a substrate transfer part 30. Then, a rotation drive mechanism 22 is operated, and the rotary stage 21 is rotated by 90 deg. in the direction of the arrow R, and the cell C is moved to the substrate positioning part 40. After the cell C is adjusted so that a deviation value enters without the allowable range, the rotary stage 21 is rotated, and the cell C is moved to the substrate pressurizing part 50. Pressurization by atmospheric pressure is performed sufficiently, and after a prescribed time elapses, the rotary stage 21 is rotated, and the cell C is moved to the ultraviolet irradiation part. In the ultraviolet irradiation part, after a seal agent is irradiated by ultraviolet rays, the rotary stage 21 is rotated, and the cell C is moved to the substrate transfer part 30. Then, the cell C is transferred to a next process injecting a liquid crystal into the cell C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネルのセル
等に用いられる2枚の基板をシール剤を介して僅かな間
隔をもって接合する基板接合装置及びシール剤を基板上
に塗布するためのシール剤塗布用ノズルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate bonding apparatus for bonding two substrates used for cells of a liquid crystal panel or the like at a small interval via a sealant, and a seal for applying the sealant to the substrate. The present invention relates to an agent application nozzle.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置の液晶表示素子は、電極が
形成されたガラス、プラスチック等の基板に形成した電
極板を電極面を相対向して配置し、電極板をシール剤を
介して重ね合わせてシールしてセルを製造し、このセル
内部に電気光学的液体である液晶を封入したものであ
る。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display element of a liquid crystal display device, an electrode plate formed on a substrate made of glass, plastic or the like on which electrodes are formed is disposed with the electrode surfaces facing each other, and the electrode plates are stacked with a sealant interposed therebetween. A cell is manufactured by sealing together, and a liquid crystal, which is an electro-optical liquid, is sealed inside the cell.

【0003】このようなセルCは一般に図7に示すよう
な構造となっている。すなわち、カラーフィルタ基板F
とアレイ基板Aとがシール剤Sにより接合されている。
カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとの間には、スペ
ーサTが配置されており、両基板F,Aの間隔を一定距
離に規定している。また、カラーフィルタ基板Fとアレ
イ基板Aにはそれぞれ透明電極(不図示)が形成されて
いる。そして、このセルCの両基板F,Aの間隙内に液
晶が流し込まれることになる。
Such a cell C generally has a structure as shown in FIG. That is, the color filter substrate F
And the array substrate A are joined by the sealant S.
A spacer T is arranged between the color filter substrate F and the array substrate A, and defines a constant distance between the two substrates F and A. Further, a transparent electrode (not shown) is formed on each of the color filter substrate F and the array substrate A. Then, the liquid crystal is poured into the gap between the two substrates F and A of the cell C.

【0004】従来、このようなセルCを製造する場合に
は、大きく分けて次のような3つの工程が行われる。す
なわち、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとを位置
合わせするアライメント工程と、両基板F,Aを加圧し
て両基板F,Aの間隔をスペーサTで規制されるまで近
接させる加圧工程、シール剤Sを硬化させる硬化工程で
ある。
Conventionally, when manufacturing such a cell C, the following three steps are roughly performed. That is, an alignment step of aligning the color filter substrate F and the array substrate A, a pressing step of pressing both substrates F, A to bring the substrates F, A closer together until regulated by the spacer T, and a sealing step. This is a curing step of curing the agent S.

【0005】また、シール剤Sには、熱硬化型のものと
紫外線硬化型のものがある。シール剤Sとして熱硬化型
のものを使用したときは、加圧・接合工程を先に行い、
その後、アライメント工程を行う。そして、加圧治具を
使い加圧した状態で加熱硬化を行う。
[0005] The sealant S includes a thermosetting type and an ultraviolet curable type. When a thermosetting type is used as the sealant S, the pressing and joining steps are performed first,
After that, an alignment step is performed. Then, heat curing is performed in a state where the pressure is applied using a pressing jig.

【0006】一方、シール剤Sとして、紫外線硬化型を
使用したときのアライメント工程では、一旦仮止め剤に
よってカラーフィルタ基板Fをアレイ基板A上に仮止め
し、図7に示すようなセルCが構成された状態となった
段階でアライメント工程を終了する。
On the other hand, in the alignment step when an ultraviolet curing type is used as the sealant S, the color filter substrate F is temporarily fixed on the array substrate A with a temporary fixing agent, and the cell C as shown in FIG. The alignment process is completed at the stage when the configuration is completed.

【0007】さらに、セルCを加圧接合工程を行う加圧
接合装置(不図示)に搬送する。加圧接合装置では、カ
ラーフィルタ基板Fの背面側を所定荷重Pで加圧するこ
とによりカラーフィルタ基板Fをアレイ基板A側に近接
させる。このとき、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板
Aとの間にはスペーサTが配置されているためスペーサ
Tの分の間隔が確保される。この状態でカラーフィルタ
基板Fとアレイ基板A全体に紫外線を照射し、シール剤
Sを硬化させ、接合を終了する。
Further, the cell C is transferred to a pressure bonding apparatus (not shown) for performing a pressure bonding step. In the pressure bonding apparatus, the color filter substrate F is brought close to the array substrate A by pressing the rear surface of the color filter substrate F with a predetermined load P. At this time, since the spacer T is disposed between the color filter substrate F and the array substrate A, an interval corresponding to the spacer T is secured. In this state, the entirety of the color filter substrate F and the array substrate A is irradiated with ultraviolet rays to cure the sealant S, and the joining is completed.

【0008】また、仮止め工程を省き、かつ、アライメ
ント工程による位置合わせ精度を保つために上記各工程
を、単一の装置で行う、すなわちアレイ基板Aをマウン
トし、そのままアライメント、加圧、紫外線照射を行う
ようにしたものもあった。
Further, in order to omit the temporary fixing step and to maintain the alignment accuracy in the alignment step, the above steps are performed by a single apparatus, that is, the array substrate A is mounted, and alignment, pressurization, ultraviolet light In some cases, irradiation was performed.

【0009】一方、上述した基板接合装置にアレイ基板
Aとカラーフィルタ基板Fとを積層したものを供給する
前工程においては、アレイ基板Aにシール剤Sを塗布す
るシール剤塗布工程がある。
On the other hand, in a pre-process of supplying a laminate of the array substrate A and the color filter substrate F to the above-described substrate bonding apparatus, there is a sealant applying step of applying a sealant S to the array substrate A.

【0010】このシール剤塗布工程では、例えば図8に
示すような金属材製の容器1が用いられている。容器1
の底部には、ノズル2が一体成形されている。このよう
な容器1とノズル2とが一体化されたものでは、シール
剤Sを交換するたびに容器1の洗浄が必要であり、その
たびにシール剤Sの脱泡(空気抜き)を行うため大変効
率が悪いという問題があった。
In this sealing agent application step, for example, a container 1 made of a metal material as shown in FIG. 8 is used. Container 1
The nozzle 2 is integrally formed at the bottom of the nozzle. In such a case where the container 1 and the nozzle 2 are integrated, it is necessary to clean the container 1 every time the sealant S is replaced, and each time the sealant S is defoamed (air vented), it is very difficult. There was a problem of inefficiency.

【0011】このため、図9の(a)に示すように、使
い捨ての容器3とノズル4とが脱着可能となったものも
用いられている。容器3は、シール剤注入口3aと、ノ
ズル接続部3bと、このノズル接続部3b内に設けられ
た流路3cと、この流路3cの開口部である吐出口3d
とを備えている。ノズル4は、ノズル本体4aと、この
ノズル本体4a内に設けられた流路4bと、上述したノ
ズル接続口3bにネジ止めされるネジ止め部4cを備え
ている。
For this reason, as shown in FIG. 9A, a disposable container 3 and a nozzle 4 in which the nozzle 4 is detachable are also used. The container 3 includes a sealant injection port 3a, a nozzle connection 3b, a flow path 3c provided in the nozzle connection 3b, and a discharge port 3d which is an opening of the flow path 3c.
And The nozzle 4 includes a nozzle body 4a, a flow path 4b provided in the nozzle body 4a, and a screwing portion 4c screwed to the nozzle connection port 3b.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の基
板接合方法にあっては次のような問題があった。すなわ
ち、シール剤Sとして熱硬化型のものを用いた場合に
は、接合工程において、150℃前後の恒温炉中に8時
間程度入れる必要があり生産効率が低い上に、恒温炉中
では基板間ギャップを形成させるために加圧を必要とす
るため、加熱・熱膨張による影響とは別に加圧による重
ね合わせ精度の低下も発生している。
However, the conventional substrate bonding method as described above has the following problems. That is, when a thermosetting sealant is used as the sealant S, it is necessary to put it in a constant-temperature oven at about 150 ° C. for about 8 hours in the joining step, so that the production efficiency is low. Since pressurization is required to form the gap, apart from the influence of heating and thermal expansion, the overlay accuracy is also reduced by pressurization.

【0013】一方、シール剤Sとして紫外線硬化型のも
のを用いた場合には、アライメント工程を行うアライメ
ント装置と、加圧接合工程を行う加圧接合装置とが異な
る装置であるため、上述したように仮止め工程や搬送工
程が必要となり、基板効率及び生産効率が低くなるとい
う問題があった。
On the other hand, when an ultraviolet curing type sealant is used as the sealant S, the alignment apparatus for performing the alignment step and the pressure bonding apparatus for performing the pressure bonding step are different apparatuses. However, there is a problem that a temporary fixing step and a transporting step are required, and the substrate efficiency and the production efficiency are lowered.

【0014】また、単一の装置でアライメント、加圧、
硬化を行う装置では、一旦装置にマウントした基板は、
接合が終了するまで装置から外さないため、最も時間の
かかる加圧工程を行っている間はアライメント装置や紫
外線照射装置を用いることができず、高価なアライメン
ト装置の使用効率が低下するという問題があった。
Further, alignment, pressurization,
In the curing device, the substrate once mounted on the device
Since the device is not removed from the device until the joining is completed, the alignment device and the ultraviolet irradiation device cannot be used during the pressing process that takes the longest time, and the use efficiency of the expensive alignment device is reduced. there were.

【0015】さらに、アライメント工程で基板のアライ
メントを行った状態で、そのまま加圧接合工程を行う装
置があるが、最も時間のかかる加圧工程があるため。こ
の加圧を行っている間は他の作業、すなわち位置合わせ
及び紫外線照射等の工程を行うことができないため、生
産効率が低下するという問題があった。
Further, there is an apparatus in which the pressure bonding step is performed as it is in a state where the alignment of the substrate is performed in the alignment step, but the pressing step requires the longest time. During this pressurization, other operations, ie, steps such as alignment and irradiation of ultraviolet rays, cannot be performed, so that there is a problem that production efficiency is reduced.

【0016】一方、図9に示すように容器3とノズル4
とが脱着可能となったものをシール剤Sの塗布に用いる
と、次のような問題があった。ノズル接続口3bの先端
5とノズル4の流路4bとの間に段差が生じ、隙間6が
生じる。この隙間6内の空気は塗布中のシール剤S中に
混じり、シール切れを発生させる虞がある。シール切れ
が発生すると、後工程で行われる液晶注入時にその部分
から液晶が漏れる虞がある。その結果、不良品が発生
し、生産効率が低下するという問題があった。
On the other hand, as shown in FIG.
The use of a material that can be attached and detached for applying the sealant S has the following problems. A step is generated between the tip 5 of the nozzle connection port 3b and the flow path 4b of the nozzle 4, and a gap 6 is generated. The air in the gap 6 may be mixed into the sealant S being applied and cause the seal to break. When the seal breaks, there is a possibility that the liquid crystal will leak from that part when the liquid crystal is injected in a later step. As a result, there is a problem that defective products are generated and production efficiency is reduced.

【0017】そこで本発明は、カラーフィルタ基板とア
レイ基板等の2枚の基板を所定間隔をもって接合する際
に、生産効率を向上させることができる基板接合装置を
提供することを目的としている。また、本発明は、基板
接合の際に塗布されるシール剤内に空気が混入しないシ
ール剤塗布用ノズルを提供し、生産効率を向上させるこ
とを目的としている。
It is an object of the present invention to provide a substrate bonding apparatus capable of improving production efficiency when two substrates such as a color filter substrate and an array substrate are bonded at a predetermined interval. Another object of the present invention is to provide a sealant application nozzle in which air is not mixed into a sealant applied at the time of joining substrates, and to improve production efficiency.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載された発明は、相対向
する第1基板と第2基板とをこれら基板の間隙に配置さ
れたスペーサにより所定間隔を維持した状態で紫外線硬
化型のシール剤を介して重ね合わせ上記シール剤を硬化
して接合する基板接合装置において、円板状に形成され
上記第1基板を固定する固定部を複数有するステージ
と、このステージをその軸心線回りに所定方向に回転駆
動する駆動部と、上記固定部に上記第1基板と上記第2
基板とを積層して供給する基板供給部と、この基板供給
部と上記ステージの周方向に沿って所定距離離間して配
置され、上記固定部に固定された上記第1基板に対し上
記第2基板を位置合わせする基板位置合わせ部と、この
基板位置合わせ部の上記ステージの周方向に沿って配置
され、上記第1基板と上記第2基板との加圧を行う基板
加圧部と、この基板加圧部と上記ステージの周方向に沿
って所定距離離間して配置され、上記シール剤に紫外線
を照射する紫外線照射部とを備えるようにした。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, according to the first aspect of the present invention, a first substrate and a second substrate facing each other are arranged in a gap between these substrates. In a substrate bonding apparatus for superposing and curing the above-mentioned sealant via an ultraviolet-curable sealant while maintaining a predetermined distance by the spacer, a fixing part formed in a disc shape and fixing the first substrate is provided. A plurality of stages, a drive unit for driving the stage to rotate in a predetermined direction about the axis thereof, the first substrate and the second
A substrate supply unit configured to supply a stack of substrates, and a second supply unit that is disposed at a predetermined distance from the substrate supply unit in a circumferential direction of the stage and is fixed to the fixed unit; A substrate positioning unit that positions the substrate, a substrate pressing unit that is disposed along a circumferential direction of the stage of the substrate positioning unit, and presses the first substrate and the second substrate; An ultraviolet light irradiating unit is provided which is arranged at a predetermined distance from the substrate pressing unit along the circumferential direction of the stage and irradiates the sealing agent with ultraviolet light.

【0019】請求項2に記載された発明は、請求項1に
記載された発明において、上記基板加圧部は、上記第1
基板と上記第2基板とで形成される間隙内を減圧するこ
とにより上記第1基板及び上記第2基板を大気圧により
加圧する減圧部を具備する。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the substrate pressing section includes the first pressure section.
A decompression unit is provided for depressurizing a gap formed between the substrate and the second substrate to pressurize the first substrate and the second substrate with atmospheric pressure.

【0020】請求項3に記載された発明は、請求項2に
記載された発明において、上記減圧部は、上記第1基板
周囲と上記第2基板の上記第1基板側の面との間を閉塞
し閉塞空間を形成する閉塞手段と、上記閉塞空間内を減
圧する減圧手段とを具備する。
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the decompression unit is provided between the periphery of the first substrate and a surface of the second substrate on the first substrate side. The apparatus includes closing means for closing to form a closed space, and pressure reducing means for reducing the pressure in the closed space.

【0021】請求項4に記載された発明は、シール剤が
収容された容器の吐出口に脱着自在に取付けられるシー
ル剤塗布用ノズルにおいて、上記容器に取り付けられる
ノズル本体と、このノズル本体内に設けられ、上記吐出
口にその一端側の開口部が対向配置されるとともに、そ
の開口部内径が上記吐出口の内径と略同一となるように
形成された流路とを備えるようにした。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a sealant applying nozzle detachably attached to a discharge port of a container containing a sealant, wherein the nozzle body is attached to the container, and the nozzle body is provided inside the nozzle body. The discharge port is provided with an opening at one end thereof opposed to the discharge port, and a flow path formed so that the inside diameter of the opening is substantially the same as the inside diameter of the discharge port.

【0022】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。すなわち、請求項1に記載された発明では、固
定部に固定された第1基板及び第2基板はステージの回
転に伴ってその固定が保たれた状態で、位置合わせ部、
基板加圧部、紫外線照射部とを順次移送されてゆくの
で、各部における工程が終了したら次の工程に移行する
ことができる。このため、時間のかかる基板加圧部にお
ける加圧工程の終了を待つことなく、位置合わせ部にお
ける位置合わせ工程や紫外線照射部における紫外線照射
工程を行うことができるので、各装置の使用効率を向上
させることができる。
As a result of taking the above-described measures, the following operation occurs. That is, according to the first aspect of the present invention, the first substrate and the second substrate fixed to the fixing unit are kept in a fixed state with the rotation of the stage.
Since the substrate pressurizing unit and the ultraviolet irradiation unit are sequentially transferred, the process can be shifted to the next process after the process in each unit is completed. For this reason, it is possible to perform the positioning step in the positioning section and the ultraviolet irradiation step in the ultraviolet irradiation section without waiting for the time-consuming completion of the pressing step in the substrate pressing section, thereby improving the use efficiency of each device. Can be done.

【0023】請求項2に記載された発明では、基板加圧
部は、第1基板と第2基板との間隙内を減圧することに
より第1基板及び第2基板を大気圧により加圧する減圧
部を具備するようにしたので、大気圧による荷重が基板
に均一にかかり、第1基板と第2基板との間隙を一定に
保つことが可能となる。
According to the second aspect of the present invention, the substrate pressing unit reduces the pressure in the gap between the first substrate and the second substrate, thereby pressing the first substrate and the second substrate with the atmospheric pressure. Is provided, the load due to the atmospheric pressure is uniformly applied to the substrate, and the gap between the first substrate and the second substrate can be kept constant.

【0024】請求項3に記載された発明では、減圧部
は、第1基板周囲と第2基板の第1基板側の面との間を
閉塞し閉塞空間を形成する閉塞手段と、閉塞空間内を減
圧する減圧手段とを具備するようにしたので、第1基板
及び第2基板に付着した異物が基板を傷付けることを防
止できる。
According to the third aspect of the present invention, the pressure reducing section closes the space between the periphery of the first substrate and the surface of the second substrate on the first substrate to form a closed space; Is provided with a pressure reducing means for reducing the pressure on the substrate. Therefore, it is possible to prevent foreign substances adhering to the first substrate and the second substrate from damaging the substrates.

【0025】請求項4に記載された発明では、容器に取
り付けられるノズル本体と、このノズル本体内に設けら
れ、吐出口にその一端側の開口部が対向配置されるとと
もに、その開口部が吐出口の領域に含まれるように形成
された流路とを備えているので、吐出口と流路の開口部
との近傍に段差が形成されず、空気が滞留することはな
い。このため、シール剤に空気が混じることを防止する
ことができる。
According to the fourth aspect of the present invention, the nozzle body attached to the container, the opening provided at the nozzle body, one end of the discharge port is opposed to the nozzle, and the opening is formed by the discharge port. Since the flow path is formed so as to be included in the area of the outlet, no step is formed near the discharge port and the opening of the flow path, and air does not stay. For this reason, it is possible to prevent air from being mixed into the sealant.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】図1の(a),(b)は本発明の
実施の形態に係る基板接合装置10を示す概略図、図2
〜図4はこの基板接合装置10の要部を示す図、図5は
シール剤塗布装置に組込まれたシール剤塗布用ノズル2
00の要部を示す縦断面図である。図1〜図4中矢印Z
方向は鉛直方向を示している。
1A and 1B are schematic views showing a substrate bonding apparatus 10 according to an embodiment of the present invention, and FIG.
4 to 4 show the main parts of the substrate bonding apparatus 10, and FIG. 5 shows the sealant applying nozzle 2 incorporated in the sealant applying apparatus.
It is a longitudinal cross-sectional view which shows the principal part of 00. Arrow Z in FIGS.
The direction indicates the vertical direction.

【0027】基板接合装置10は、カラーフィルタ基板
F(第1基板)をトランジスタ等が予め組み込まれたア
レイ基板A(第2基板)に紫外線硬化性のシール剤Sを
介して接合することによって液晶表示素子用のセルCを
製造するための装置である。
The substrate joining apparatus 10 joins a color filter substrate F (first substrate) to an array substrate A (second substrate) in which transistors and the like are pre-installed via an ultraviolet-curable sealant S, thereby forming a liquid crystal. This is an apparatus for manufacturing a cell C for a display element.

【0028】図1に示すように基板接合装置10は、ス
テージ装置20と、このステージ装置20の各位置に設
けられた基板受け渡し部30、基板位置合わせ部40、
基板加圧部50、紫外線照射部60とを備えている。な
お、図1中100は前工程を行うシール剤塗布装置(不
図示)から基板受け渡し部30へセルCを搬送するとと
もに、基板受け渡し部30からセルCを後工程へ搬送す
る搬送ロボットを示している。
As shown in FIG. 1, the substrate bonding apparatus 10 includes a stage device 20, a substrate transfer section 30 provided at each position of the stage apparatus 20, a substrate positioning section 40,
A substrate pressing unit 50 and an ultraviolet irradiation unit 60 are provided. In FIG. 1, reference numeral 100 denotes a transfer robot that transfers cells C from a sealant application device (not shown) that performs a pre-process to the substrate transfer unit 30 and transfers the cells C from the substrate transfer unit 30 to a post-process. I have.

【0029】ステージ装置20は、その軸心線を鉛直に
配置した円環状の回転ステージ21と、この回転ステー
ジ21を間欠的に回転駆動する回転駆動機構22とを備
えている。回転ステージ21には、周方向に沿って90
度毎に設けられセルCを保持する4つの基板保持部70
が設けられている。
The stage device 20 includes an annular rotary stage 21 whose axis is vertically arranged, and a rotary drive mechanism 22 for intermittently rotating the rotary stage 21. The rotating stage 21 has 90
Four substrate holding units 70 provided each time and holding a cell C
Is provided.

【0030】基板保持部70は、図2に示すように回転
ステージ21に嵌め込まれ紫外線を透過する石英板71
と、この石英板71に対向配置された上部カバー72
と、この上部カバー72を回転ステージ21に対して上
下方向に案内するためのガイド73と、このガイド73
に沿って上部カバー72を上下動させるエアシリンダ7
4とを備えている。
As shown in FIG. 2, the substrate holding portion 70 is a quartz plate 71 fitted on the rotary stage 21 and transmitting ultraviolet light.
And an upper cover 72 opposed to the quartz plate 71.
A guide 73 for vertically guiding the upper cover 72 with respect to the rotary stage 21;
Cylinder 7 for moving upper cover 72 up and down along
4 is provided.

【0031】石英板71にはバキューム孔71aと、後
述するリフトピン32を通過させる貫通孔71bが設け
られている。上部カバー72は、矩形枠状の本体72a
と、この本体72aの下面に設けられた弾性リング72
bと、本体72aの開口部の内側に設けられた弾性シー
ト72cと、本体72aに設けられた真空吸引孔72d
とを備えている。
The quartz plate 71 is provided with a vacuum hole 71a and a through hole 71b through which a lift pin 32 described later passes. The upper cover 72 includes a rectangular frame-shaped main body 72a.
And an elastic ring 72 provided on the lower surface of the main body 72a.
b, an elastic sheet 72c provided inside the opening of the main body 72a, and a vacuum suction hole 72d provided in the main body 72a.
And

【0032】基板受け渡し部30は、床面上に配置さ
れ、図1の(a)中矢印Z方向に沿って作動するエアシ
リンダ31と、このエアシリンダ31の上端に設けられ
た4本のリフトピン32とを備えている。
The substrate transfer section 30 is disposed on the floor surface and operates along an arrow Z direction in FIG. 1A, and four lift pins provided at the upper end of the air cylinder 31. 32.

【0033】基板位置合わせ部40は、床面上に配置さ
れた架台41と、この架台41に設けられ図3中矢印Z
方向に作動するエアシリンダ42と、このエアシリンダ
42の下端に取り付けられX方向、Y方向、Z方向回り
のθ方向の位置決めを行うXYθステージ43と、この
XYθステージ43の下面に板ばね44を介して図3中
矢印Z方向に沿って上下動自在に支持された微動Z軸4
5と、この微動Z軸45の下端に取り付けられたバキュ
ームチャック46と、このバキュームチャック46と回
転ステージ21を挟んで配置された一対の顕微鏡機構4
7と、回転ステージ21を図3中上下方向から挟むよう
に構成されたクランプ48とを備えている。なお、図3
中矢印Xは紙面に垂直な方向、矢印Yは矢印Xに直交す
る水平方向を示している。
The board positioning unit 40 includes a pedestal 41 disposed on the floor surface, and an
An XYθ stage 43 attached to the lower end of the air cylinder 42 for positioning in the θ direction around the X, Y, and Z directions; and a leaf spring 44 on the lower surface of the XYθ stage 43. Fine Z-axis 4 which is supported so as to be vertically movable along arrow Z direction in FIG.
5, a vacuum chuck 46 attached to the lower end of the fine movement Z-axis 45, and a pair of microscope mechanisms 4 arranged with the vacuum chuck 46 and the rotary stage 21 interposed therebetween.
7 and a clamp 48 configured to sandwich the rotary stage 21 from above and below in FIG. Note that FIG.
The middle arrow X indicates a direction perpendicular to the paper surface, and the arrow Y indicates a horizontal direction orthogonal to the arrow X.

【0034】顕微鏡機構47は、架台41に取り付けら
れ、XYZ方向の位置決めを行うXYZステージ47a
と、このXYZステージ47aに支持された顕微鏡47
bとを備えている。
The microscope mechanism 47 is attached to the gantry 41 and performs an XYZ stage 47a for positioning in the XYZ directions.
And a microscope 47 supported by the XYZ stage 47a
b.

【0035】紫外線照射部60は、ランプハウス61
と、このランプハウス61内に配置された紫外線ランプ
62と、この紫外線ランプ62の上部に配置されたコー
ルドミラー63と、このコールドミラー63の上方に配
置されたフィルタ64と、ランプハウス61内に紫外線
ランプ62を冷却するための冷却水を導入する導入口6
5と、冷却水を排出するための排出口66とを備えてい
る。なお、コールドミラー63とフィルタ64はセルC
の温度上昇を避けるために赤外線等の余分な光を遮光す
る機能を有している。
The UV irradiator 60 includes a lamp house 61
And an ultraviolet lamp 62 disposed in the lamp house 61; a cold mirror 63 disposed above the ultraviolet lamp 62; a filter 64 disposed above the cold mirror 63; Inlet 6 for introducing cooling water for cooling ultraviolet lamp 62
5 and an outlet 66 for discharging the cooling water. The cold mirror 63 and the filter 64 are connected to the cell C
It has a function of blocking extra light such as infrared rays in order to avoid a temperature rise.

【0036】シール剤塗布装置(不図示)に設けられて
いるシール剤塗布用ノズル200は、図5に示すよう
に、ノズル本体201と、このノズル本体201内に設
けられた流路202と、ノズル接続口3bにネジ止めさ
れるネジ止め部203とを備えている。流路202の容
器3側の開口部202aは容器3の吐出口3dに対向配
置されている。また、流路202の下端は吐出口202
bが形成されている。
As shown in FIG. 5, a sealant application nozzle 200 provided in a sealant application device (not shown) includes a nozzle body 201, a flow path 202 provided in the nozzle body 201, And a screwing portion 203 which is screwed to the nozzle connection port 3b. The opening 202 a of the flow path 202 on the container 3 side is arranged to face the discharge port 3 d of the container 3. The lower end of the flow path 202 is
b is formed.

【0037】流路202の容器3側の開口部202aの
内径は容器3の流路3cの吐出口3dの内径とほぼ同一
となるように形成されている。このように構成されたシ
ール剤塗布用ノズル200を備えたシール剤塗布装置
(不図示)では、次のようにしてシール剤Sの塗布が行
われる。すなわち、容器3側から圧力をかけてシール剤
Sを吐出口3dから吐出する。吐出されたシール剤Sは
シール剤塗布用ノズル200内の流路202内に流入す
る。このとき、容器3の吐出口3dの内径と流路202
の開口部202aの内径とはほぼ同一なので、段差がな
く、空気が溜まる余地がないように形成されている。こ
のため、空気がシール剤Sに混じることなく、吐出口2
02bから吐出される。このため、シール剤切れが発生
せず、良好な塗布を行うことができる。
The inner diameter of the opening 202a on the container 3 side of the flow path 202 is formed to be substantially the same as the inner diameter of the discharge port 3d of the flow path 3c of the container 3. In the sealant applying device (not shown) having the sealant applying nozzle 200 configured as described above, the sealant S is applied as follows. That is, the sealant S is discharged from the discharge port 3d by applying pressure from the container 3 side. The discharged sealant S flows into the flow path 202 in the sealant application nozzle 200. At this time, the inner diameter of the discharge port 3d of the container 3 and the flow path 202
Is substantially the same as the inner diameter of the opening 202a, so that there is no step and there is no room for air to accumulate. Therefore, the air is not mixed with the sealant S, and the discharge port 2
02b. For this reason, a good application can be performed without running out of the sealant.

【0038】このように構成された基板接合装置10は
次のようにしてカラーフィルタ基板Fと、アレイ基板A
との接合を行う。なお、基板接合を行う工程は大きく分
けて基板受け渡し部30における受け取り工程、基板位
置合わせ部40における位置合わせ工程、基板加圧部5
0における加圧工程、紫外線照射部60における紫外線
照射工程、基板受け渡し部30における受け渡し工程と
からなっている。
The substrate bonding apparatus 10 having the above-described structure can be used as a color filter substrate F and an array substrate A as follows.
And bonding. The steps of performing the substrate bonding are roughly divided into a receiving step in the substrate transfer section 30, a positioning step in the substrate positioning section 40, and the substrate pressing section 5.
0, a UV irradiation step in the UV irradiation section 60, and a delivery step in the substrate delivery section 30.

【0039】最初に図2に示すようにリフトピン32を
上昇させておく。そして、アレイ基板Aとカラーフィル
タ基板Fとを紫外線硬化樹脂のシール剤Sをシール剤塗
布用ノズル200を用いて環状に塗布した後仮止めした
状態のセルCをリフトピン32上に載置する。次にエア
シリンダ31を作動させてゆっくりとリフトピン32を
下降させ、セルCを石英板71上に載置する。そして、
バキュームチャック71aを作動させてセルCを石英板
71上に固定する。
First, as shown in FIG. 2, the lift pins 32 are raised. Then, the array substrate A and the color filter substrate F are applied with a sealant S of an ultraviolet curable resin in a ring shape using the sealant application nozzle 200, and then the temporarily fixed cells C are placed on the lift pins 32. Next, the air cylinder 31 is operated to slowly lower the lift pins 32, and the cell C is placed on the quartz plate 71. And
The cell C is fixed on the quartz plate 71 by operating the vacuum chuck 71a.

【0040】次にエアシリンダ74を作動させて上部カ
バー72を下降させ、弾性シート72cをセルC上面の
外周部に密着させるとともに、弾性リング72bを石英
板71上に密着させる。これによりセルC内は密閉した
空間Gとなる。
Next, the air cylinder 74 is operated to lower the upper cover 72 so that the elastic sheet 72c is brought into close contact with the outer peripheral portion of the upper surface of the cell C, and the elastic ring 72b is brought into close contact with the quartz plate 71. Thereby, the space inside the cell C becomes a closed space G.

【0041】次に回転駆動機構22を作動させて回転ス
テージ21を図1中矢印R方向に90度回転させて、セ
ルCを基板位置合わせ部40に移動させる。そして、回
転ステージ21をクランプ48で挟み固定する。
Next, the rotary drive mechanism 22 is operated to rotate the rotary stage 21 by 90 degrees in the direction of arrow R in FIG. 1 to move the cell C to the substrate positioning unit 40. Then, the rotary stage 21 is clamped and fixed by the clamp 48.

【0042】次にエアシリンダ42によりバキュームチ
ャック46を下降させアレイ基板Aの上面を吸着保持す
る。なお、このときバキュームチャック46の下面とア
レイ基板Aの上面の平面のずれは板ばね44により吸収
され、片当たりを防止する。そして、XYステージ47
aにより顕微鏡47bを所定の位置に移動させ、アレイ
基板Aとフィルタ基板Fに設けられたアライメントマー
クのずれ量を検出する。このずれ量に基づいてXYθス
テージ43を作動させ、ずれ量が誤差許容範囲内に収ま
るように調整する。
Next, the vacuum chuck 46 is lowered by the air cylinder 42 to hold the upper surface of the array substrate A by suction. At this time, a deviation between the plane of the lower surface of the vacuum chuck 46 and the upper surface of the array substrate A is absorbed by the leaf spring 44, thereby preventing one-sided contact. And the XY stage 47
The microscope 47b is moved to a predetermined position by a, and the amount of displacement between the alignment marks provided on the array substrate A and the filter substrate F is detected. The XYθ stage 43 is operated on the basis of the deviation amount, and is adjusted so that the deviation amount falls within the allowable error range.

【0043】次に真空吸引孔72dより減圧を行う。こ
のため、空間G内が減圧され、カラーフィルタ基板Fと
アレイ基板Aとがカラーフィルタ基板Fの上面側から大
気圧により加圧される。この加圧によりシール剤Sが押
しつけられカラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとの隙
間がスペーサTにより規制されるまで狭まる。
Next, the pressure is reduced through the vacuum suction hole 72d. Therefore, the pressure in the space G is reduced, and the color filter substrate F and the array substrate A are pressurized by the atmospheric pressure from the upper surface side of the color filter substrate F. Due to this pressurization, the sealant S is pressed, and the gap between the color filter substrate F and the array substrate A is reduced until it is regulated by the spacer T.

【0044】このとき、再度顕微鏡48bによりアライ
メントマークのずれ量を検出し、許容範囲から逸脱して
いる場合には、空間G内を一旦大気圧に戻し、XYθス
テージ43により調整を行い再度減圧を行う。空間Gを
減圧した状態でアライメントマークのずれ量が許容範囲
内であればその状態を維持する。
At this time, the deviation amount of the alignment mark is detected again by the microscope 48b, and if the deviation is out of the allowable range, the space G is once returned to the atmospheric pressure, adjusted by the XYθ stage 43, and decompressed again. Do. If the displacement amount of the alignment mark is within the allowable range while the space G is depressurized, the state is maintained.

【0045】次にクランプ48を解除し、回転ステージ
21を回転させ、セルCを基板加圧部50に移動する。
基板加圧部50では、セルCの状態をそのまま維持す
る。これにより大気圧による加圧が十分に行われ、スペ
ーサTが所定の径(例えば5〜6μm)になるまで押し
潰される。所定時間経過後、回転ステージ21を回転さ
せ、紫外線照射部60に移動する。
Next, the clamp 48 is released, the rotary stage 21 is rotated, and the cell C is moved to the substrate pressing section 50.
In the substrate pressing unit 50, the state of the cell C is maintained as it is. Thereby, pressurization by the atmospheric pressure is sufficiently performed, and the spacer T is crushed until it reaches a predetermined diameter (for example, 5 to 6 μm). After a lapse of a predetermined time, the rotation stage 21 is rotated and moved to the ultraviolet irradiation unit 60.

【0046】容器に取り付けられるノズル本体と、この
ノズル本体内に設けられ、吐出口にその一端側の開口部
が対向配置されるとともに、その開口部が吐出口の領域
に含まれるように形成された流路とを備えているので、
吐出口と流路の開口部との近傍に段差が形成されず、空
気が滞留することはない。このため、シール剤に空気が
混じることを防止することができる。
A nozzle body attached to the container, an opening provided on the nozzle body, one end of which is opposed to the discharge port, and formed so that the opening is included in the area of the discharge port. And the flow path
No step is formed in the vicinity of the discharge port and the opening of the flow path, so that air does not stay. For this reason, it is possible to prevent air from being mixed into the sealant.

【0047】紫外線照射部60では、石英板71の下方
から紫外線ランプ62を点灯し、シール剤Sに紫外線を
照射し、その照射エネルギが例えば3000〜5000
J/cm2 に達した時点で紫外線照射工程は終了する。
これにより、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板Aとが
接合したセルCが完成する。
In the ultraviolet irradiating section 60, an ultraviolet lamp 62 is turned on from below the quartz plate 71 to irradiate the sealing agent S with ultraviolet rays.
The UV irradiation step is completed when J / cm 2 is reached.
Thus, a cell C in which the color filter substrate F and the array substrate A are joined is completed.

【0048】次に回転ステージ21を回転させ、セルC
を基板受け渡し部30へ移動する。そして、空間G内を
大気圧に戻し、エアシリンダ74を上昇させて上部プレ
ート72を上昇させ、セルCから離間させる。また、エ
アチャック71aによる吸引を解除する。そして、エア
シリンダ31を作動させ、リフトピン32を上昇させ
る。そして、搬送ロボット100によりセルC内に液晶
を注入する次工程へ搬送する。
Next, the rotary stage 21 is rotated, and the cells C
Is moved to the substrate transfer section 30. Then, the space G is returned to the atmospheric pressure, the air cylinder 74 is raised, the upper plate 72 is raised, and the space C is separated from the cell C. Further, the suction by the air chuck 71a is released. Then, the air cylinder 31 is operated, and the lift pin 32 is raised. Then, the liquid is transferred to the next step of injecting the liquid crystal into the cell C by the transfer robot 100.

【0049】上述したように本実施の形態に係る基板接
合装置10によれば、カラーフィルタ基板Fをアレイ基
板A上に位置決めした状態のまま押圧し、その状態でシ
ール剤Sを硬化するようにしているので、位置ずれが発
生せず、位置決めが保たれたまま接合を行うことができ
る。このため、高精度のセルCを製造することができ
る。
As described above, according to the substrate bonding apparatus 10 of the present embodiment, the color filter substrate F is pressed while being positioned on the array substrate A, and the sealant S is cured in that state. Therefore, no displacement occurs and joining can be performed with the positioning maintained. Therefore, a highly accurate cell C can be manufactured.

【0050】基板固定部70に固定されたカラーフィル
タ基板F及びアレイ基板Aは回転ステージ21の回転に
伴ってその固定が保たれた状態で、基板位置合わせ部4
0、基板加圧部50、紫外線照射部60とを順次移送さ
れてゆくので、各部における工程が終了したら次の工程
に移行することができる。このため、時間のかかる基板
加圧部50における加圧工程の終了を待つことなく、基
板位置合わせ部40における位置合わせ工程や紫外線照
射部60における紫外線照射工程を行うことができるの
で、各装置の使用効率を向上させることができる。
The color filter substrate F and the array substrate A fixed to the substrate fixing part 70 are kept in a fixed state with the rotation of the rotary stage 21 while the substrate positioning part 4
0, the substrate pressing unit 50, and the ultraviolet irradiation unit 60 are sequentially transferred, so that when the process in each unit is completed, the process can proceed to the next process. Therefore, the positioning step in the substrate positioning section 40 and the ultraviolet irradiation step in the ultraviolet irradiation section 60 can be performed without waiting for the time-consuming completion of the pressing step in the substrate pressing section 50. Usage efficiency can be improved.

【0051】さらに、加圧工程における加圧は大気圧に
よりアレイ基板Aの上面からカラーフィルタ基板Fに対
してかかる。このため、カラーフィルタ基板Fと石英板
71との間にはカラーフィルタ基板F及びアレイ基板A
の自重程度しかかからない。したがって、カラーフィル
タ基板Fと石英板71との間にごみ等が挟まれていた場
合であってもごみ等によってカラーフィルタ基板Fが傷
付き難くなり歩留まりを向上させることができる。
Further, the pressure in the pressing step is applied to the color filter substrate F from the upper surface of the array substrate A by the atmospheric pressure. Therefore, between the color filter substrate F and the quartz plate 71, the color filter substrate F and the array substrate A
It takes only about its own weight. Therefore, even when dust or the like is interposed between the color filter substrate F and the quartz plate 71, the color filter substrate F is hardly damaged by the dust or the like, and the yield can be improved.

【0052】また、カラーフィルタ基板Fとアレイ基板
Aとの間を減圧して大気圧による加圧を行うようにして
いるので、各基板に大気圧による荷重が均一にかかる。
このため、アレイ基板Aをバキュームチャック46で直
接加圧する場合に発生するアレイ基板Aとバキュームチ
ャック46との平面度の違いからくる加圧むらを防止す
ることができる。したがって、高精度の製品を生産する
ことができる。
Further, since the pressure between the color filter substrate F and the array substrate A is reduced and the pressure is increased by the atmospheric pressure, the load by the atmospheric pressure is uniformly applied to each substrate.
For this reason, it is possible to prevent pressure unevenness caused by a difference in flatness between the array substrate A and the vacuum chuck 46, which occurs when the array substrate A is directly pressed by the vacuum chuck 46. Therefore, a highly accurate product can be produced.

【0053】図6は上述した基板接合装置10の変形例
に係る基板接合装置10Aを示す図である。本基板接合
装置10Aが基板接合装置10と異なる点は、回転ステ
ージ21は60度ずつ回転し、基板加圧部50が3箇所
設けられている点にある。すなわち、大気圧による加圧
を3箇所の基板加圧部50で行うことになる。したがっ
て、基板受け渡し部30、基板位置決め部40及び紫外
線照射部60におけるセルCの滞留時間を短縮しても十
分に加圧時間をとることができる。このため、基板接合
装置10Aのスループットを向上させることができる。
なお、必要な加圧時間に応じて基板加圧部50を適宜増
減してもよい。
FIG. 6 is a view showing a substrate bonding apparatus 10A according to a modification of the above-described substrate bonding apparatus 10. As shown in FIG. The substrate bonding apparatus 10A is different from the substrate bonding apparatus 10 in that the rotary stage 21 rotates by 60 degrees and three substrate pressing portions 50 are provided. That is, pressurization by the atmospheric pressure is performed at the three substrate pressurizing units 50. Therefore, even if the residence time of the cell C in the substrate transfer part 30, the substrate positioning part 40, and the ultraviolet irradiation part 60 is shortened, a sufficient pressurizing time can be obtained. For this reason, the throughput of the substrate bonding apparatus 10A can be improved.
It should be noted that the substrate pressing unit 50 may be appropriately increased or decreased according to the required pressing time.

【0054】なお、本発明は上述した実施の形態に限定
されるものではない。すなわち実施の形態では、カラー
フィルタ基板Fとアレイ基板Aとを接合することにより
液晶表示装置用のセルCを製造する場合について説明し
ているが、これらのものに限られない。このほか、本発
明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるの
は勿論である。
The present invention is not limited to the above embodiment. That is, in the embodiment, the case where the cell C for the liquid crystal display device is manufactured by joining the color filter substrate F and the array substrate A is described, but the present invention is not limited thereto. In addition, it goes without saying that various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0055】[0055]

【発明の効果】本発明によれば、液晶表示装置の生産効
率を向上させることができる。
According to the present invention, the production efficiency of a liquid crystal display device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態に係る基板接合装置の概
略構成を示す図であって、(a)は上面図、(b)は
(a)におけるα−α線で切断し矢印方向に見た断面
図。
FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of a substrate bonding apparatus according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1 (a) is a top view, and FIG. 1 (b) is cut along α-α line in FIG. FIG.

【図2】同基板接合装置に組込まれた基板受け渡し部及
び基板保持機構を示す図であって、(a)は上面図、
(b)は(a)におけるβ−β線で切断し矢印方向に見
た断面図、(c)は(a)におけるγ−γ線で切断し矢
印方向に見た断面図。
FIG. 2 is a view showing a substrate transfer unit and a substrate holding mechanism incorporated in the substrate bonding apparatus, wherein (a) is a top view,
(B) is a sectional view taken along the line β-β in (a) and viewed in the direction of the arrow, and (c) is a sectional view taken along the line γ-γ in (a) and viewed in the direction of the arrow.

【図3】同基板接合装置に組込まれた基板位置決め部を
示す縦断面図。
FIG. 3 is a vertical sectional view showing a substrate positioning unit incorporated in the substrate bonding apparatus.

【図4】同基板接合装置に組込まれた紫外線照射部を示
す縦断面図。
FIG. 4 is a vertical sectional view showing an ultraviolet irradiation unit incorporated in the substrate bonding apparatus.

【図5】シール剤塗布装置に組込まれたシール剤塗布用
ノズルの要部を示す縦断面図。
FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a main part of a sealant application nozzle incorporated in the sealant application device.

【図6】同基板接合装置の変形例を示す図。FIG. 6 is a view showing a modification of the substrate bonding apparatus.

【図7】液晶セルの構造を示す斜視図。FIG. 7 is a perspective view showing the structure of a liquid crystal cell.

【図8】従来のシール剤塗布用ノズルの一例を示す縦断
面図。
FIG. 8 is a longitudinal sectional view showing an example of a conventional nozzle for applying a sealant.

【図9】従来のシール剤塗布用ノズルの別の例を示す縦
断面図。
FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing another example of a conventional sealing agent applying nozzle.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…基板接合装置 21…回転ステージ 30…基板受け渡し部 40…基板位置合わせ部 50…基板加圧部 60…紫外線照射部 200…シール剤塗布用ノズル DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Substrate bonding apparatus 21 ... Rotation stage 30 ... Substrate transfer part 40 ... Substrate positioning part 50 ... Substrate pressing part 60 ... Ultraviolet irradiation part 200 ... Sealant application nozzle

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】相対向する第1基板と第2基板とをこれら
基板の間隙に配置されたスペーサにより所定間隔を維持
した状態で紫外線硬化型のシール剤を介して重ね合わせ
上記シール剤を硬化して接合する基板接合装置におい
て、 円板状に形成され上記第1基板を固定する固定部を複数
有するステージと、 このステージをその軸心線回りに所定方向に回転駆動す
る駆動部と、 上記固定部に上記第1基板と上記第2基板とを積層して
供給する基板供給部と、 この基板供給部と上記ステージの周方向に沿って所定距
離離間して配置され、上記固定部に固定された上記第1
基板に対し上記第2基板を位置合わせする基板位置合わ
せ部と、 この基板位置合わせ部の上記ステージの周方向に沿って
配置され、上記第1基板と上記第2基板との加圧を行う
基板加圧部と、 この基板加圧部と上記ステージの周方向に沿って所定距
離離間して配置され、上記シール剤に紫外線を照射する
紫外線照射部とを備えていることを特徴とする基板接合
装置。
1. A method according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate facing each other are overlapped with each other via a UV-curable sealant while maintaining a predetermined distance by a spacer disposed in a gap between the substrates. A substrate bonding apparatus for bonding the first substrate, the stage having a plurality of fixing parts for fixing the first substrate, a driving part for rotating the stage in a predetermined direction about an axis thereof, A substrate supply unit for laminating the first substrate and the second substrate on the fixed unit and supplying the stacked substrate and the substrate supply unit and the substrate supply unit disposed at a predetermined distance along a circumferential direction of the stage and fixed to the fixed unit The above-mentioned first
A substrate positioning unit for positioning the second substrate with respect to the substrate; and a substrate disposed along a circumferential direction of the stage of the substrate positioning unit and configured to press the first substrate and the second substrate. A substrate pressing unit comprising: a pressing unit; and an ultraviolet irradiating unit that is arranged at a predetermined distance from the substrate pressing unit and along the circumferential direction of the stage and irradiates the sealing agent with ultraviolet light. apparatus.
【請求項2】上記基板加圧部は、上記第1基板と上記第
2基板とで形成される間隙内を減圧することにより上記
第1基板及び上記第2基板を大気圧により加圧する減圧
部を具備することを特徴とする請求項1に記載の基板接
合装置。
2. The depressurizing section pressurizes the first and second substrates with atmospheric pressure by depressurizing a gap formed between the first substrate and the second substrate. The substrate bonding apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項3】上記減圧部は、上記第1基板周囲と上記第
2基板の上記第1基板側の面との間を閉塞し閉塞空間を
形成する閉塞手段と、上記閉塞空間内を減圧する減圧手
段とを具備することを特徴とする請求項2に記載の基板
接合装置。
3. A decompression unit for closing a space between the periphery of the first substrate and a surface of the second substrate on the first substrate side to form a closed space, and reducing the pressure in the closed space. The substrate bonding apparatus according to claim 2, further comprising a pressure reducing unit.
【請求項4】シール剤が収容された容器の吐出口に脱着
自在に取付けられるシール剤塗布用ノズルにおいて、 上記容器に取り付けられるノズル本体と、 このノズル本体内に設けられ、上記吐出口にその一端側
の開口部が対向配置されるとともに、その開口部内径が
上記吐出口の内径と略同一となるように形成された流路
とを備えていることを特徴とするシール剤塗布用ノズ
ル。
4. A sealing agent applying nozzle detachably attached to a discharge port of a container containing a sealing agent, a nozzle body attached to the container, a nozzle body provided in the nozzle body, and A sealant application nozzle, comprising: a flow passage formed such that an opening at one end is opposed to the opening, and an inner diameter of the opening is substantially equal to an inner diameter of the discharge port.
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