JPH11158186A - Reduction of viscosity of dimethylaluminum hydride - Google Patents

Reduction of viscosity of dimethylaluminum hydride

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JPH11158186A
JPH11158186A JP10224426A JP22442698A JPH11158186A JP H11158186 A JPH11158186 A JP H11158186A JP 10224426 A JP10224426 A JP 10224426A JP 22442698 A JP22442698 A JP 22442698A JP H11158186 A JPH11158186 A JP H11158186A
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dmah
viscosity
tertiary
aryl
alkyl
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Jiu Ri
時雨 李
Shoken Ri
正賢 李
Shoko In
鐘皓 尹
Junen Boku
準遠 朴
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POHANG ENG COLLEGE
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POHANG ENG COLLEGE
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the viscosity of the subject compound useful as a precursor, etc., for the chemical vapor deposition of an aluminum thin film by adding a specific amount of an additive such as a tertiary amine, an aromatic amine or a tertiary phosphine to dimethylaluminum hydride. SOLUTION: An additive selected from the group consisting of a tertiary amine having the formula NR<1> R<2> R<3> (R<1> to R<3> are each a 1-10C alkyl, a 1-10C aryl or a 1-10C arylalkyl or, together with N, forms one or more heterocyclic structures) (e.g. trihexylamine), an aromatic amine (e.g. 3-benzylpyridine) and a tertiary phosphine having the formula PR<4> R<5> R<6> (R<4> to R<6> are each a 1-10C alkyl, a 1-10C aryl or a 1-10C arylalkyl) (e.g. tribenzylphosphine) in an amount of 0.1-10 mol.% based on dimethylaluminum hydride(DMAH) is added thereto to thereby afford the objective dimethylaluminum hydride useful as a precursor, etc., for the chemical vapor deposition of an aluminum thin film used as an interconnector of a semiconductor and having a reduced viscosity for improving the productivity.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、少量の第三級アミ
ン、芳香族アミンまたは第三級ホスフィンを加えること
によってアルミニウム薄膜の化学蒸着に前駆体として有
用な水素化ジメチルアルミニウム(DMAH)の粘度を
下げる方法に関する。
The present invention relates to the viscosity of dimethylaluminum hydride (DMAH) useful as a precursor for chemical vapor deposition of aluminum thin films by adding small amounts of tertiary amines, aromatic amines or tertiary phosphines. On how to lower.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体のインターコネクターとして用い
られるアルミニウム薄膜は、通常、スパッタリングまた
は蒸発によって得られる気体アルミニウム原子を物理蒸
着(PVD)法に従って基板・基材表面上に蒸着する。
しかし、PVD方法は、ステップカバー(step coverag
e)特性がよくないため製造されたインターコネクター
は非伝導性および電流密度の増加による溶融分離(fusi
ng away)などの問題を有する。
2. Description of the Related Art In an aluminum thin film used as an interconnector of a semiconductor, gaseous aluminum atoms obtained by sputtering or evaporation are usually deposited on a substrate / substrate surface by physical vapor deposition (PVD).
However, the PVD method has a step cover (step coverag).
e) Interconnectors manufactured due to poor properties are not conductive and increase the current density due to melt separation (fusi
ng away).

【0003】このような問題を解決するために、気体ア
ルミニウム化合物、一般的に有機アルミニウム前駆体化
合物を予め加熱した基板表面上に移送し、そこで化合物
を調節された速度で分解してアルミニウム薄膜を形成す
る化学蒸着(CVD)法が試みられてきた。
In order to solve such a problem, a gaseous aluminum compound, generally an organoaluminum precursor compound, is transferred onto a preheated substrate surface, where the compound is decomposed at a controlled rate to form an aluminum thin film. Forming chemical vapor deposition (CVD) methods have been attempted.

【0004】このようなCVD方法においては、前駆体
化合物は、バブラー型前駆体移送システムまたは直接液
体注入型移送システムを用いて気化される。このような
システムにおいては、前駆体化合物の気化速度が相当部
分粘度によって制御されるため、半導体の大量生産の際
に生産性を向上させるためには低粘度の前駆体が好まし
い。
In such a CVD method, the precursor compound is vaporized using a bubbler type precursor transfer system or a direct liquid injection type transfer system. In such a system, since the vaporization rate of the precursor compound is controlled by the considerable partial viscosity, a low-viscosity precursor is preferable in order to improve productivity in mass production of semiconductors.

【0005】水素化ジメチルアルミニウム(DMAH)
は室温で2.2torrの蒸気圧を有する安定な液体で
あって、アルミニウム薄膜のCVDに有用な有機金属前
駆体化合物中の一つである。しかし、DMAHは室温で
粘度が6,400cp(センチポアズ)と非常に高いと
いう問題がある。このような高い粘度は、DMAHが液
体状態において三量体またはその以上のオリゴマーを形
成することに起因し、このためバブラー型前駆体移送シ
ステムまたは直接液体注入型前駆体移送システムにおい
てDMAHを気化するのが非常に難しくなる。このよう
な理由によって、DMAHを用いてアルミニウム薄膜を
蒸着するCVD方法はまだ大量生産システムに適用され
ていないのが実情である。
[0005] Dimethylaluminum hydride (DMAH)
Is a stable liquid having a vapor pressure of 2.2 torr at room temperature, and is one of organometallic precursor compounds useful for CVD of aluminum thin films. However, DMAH has a problem that its viscosity at room temperature is as high as 6,400 cp (centipoise). Such high viscosities are due to the formation of trimers or higher oligomers in the liquid state by DMAH, and thus vaporize DMAH in bubbler-type or direct liquid-injection type precursor transfer systems. It becomes very difficult. For this reason, the CVD method of depositing an aluminum thin film using DMAH has not been applied to a mass production system.

【0006】DMAHの気化を向上させるために改良さ
れたバブリング装置を用いることによって前述の問題を
解決することが試みられたが(米国特許第5,552,
181号)、この装置は複雑かつ高価である。
Attempts have been made to solve the aforementioned problems by using an improved bubbling device to improve the vaporization of DMAH (US Pat. No. 5,552,552).
181), which is complex and expensive.

【0007】また、低粘度の有機金属前駆体化合物とし
てジメチルエチルアミン−アランのようなトリアルキル
アミン−アラン付加物を用いる方法が試みられたが(米
国特許第5,545,591号)、このようなトリアル
キルアミンとアランの1:1化学量論的複合体は、不安
定なので取扱いにくい上、その製造が難しい。
Further, a method of using a trialkylamine-alane adduct such as dimethylethylamine-alane as a low-viscosity organometallic precursor compound has been attempted (US Pat. No. 5,545,591). A simple 1: 1 stoichiometric complex of a trialkylamine and an alane is unstable and therefore difficult to handle and difficult to produce.

【0008】本発明者らは、DMAH粘度を低下するこ
とによってアルミニウム薄膜の製造のための効率のよい
CVD方法を開発するために研究した結果、DMAH粘
度が少量の特定添加剤を加えることによって著しく減少
することを発見して本発明を完成した。
The present inventors have studied to develop an efficient CVD method for the production of aluminum thin films by lowering the DMAH viscosity and have found that the DMAH viscosity can be significantly reduced by adding a small amount of a specific additive. The inventors of the present invention have found that the amount is reduced, and completed the present invention.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、水素化ジメチルアルミニウム(DMAH)の粘
度低下方法を提供することである。
Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for reducing the viscosity of dimethyl aluminum hydride (DMAH).

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の一態様によっ
て、本発明では第三級アミン、芳香族アミンおよび第三
級ホスフィンからなる群から選ばれた添加剤をDMAH
に対して0.1ないし10モル%の量で加えることを含
むDMAHの粘度低下方法が提供される。
According to one aspect of the present invention, an additive selected from the group consisting of tertiary amines, aromatic amines and tertiary phosphines is provided in the present invention by DMAH.
A method for reducing the viscosity of DMAH is provided which comprises adding in an amount of 0.1 to 10 mol% with respect to

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。本発明によるDMAHの粘度を下げるために使用
され得る添加剤は第三級アミン、芳香族アミンまたは第
三級ホスフィンである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail. Additives which can be used to reduce the viscosity of the DMAH according to the invention are tertiary amines, aromatic amines or tertiary phosphines.

【0012】本発明に使用され得る第三級アミンは、一
つ以上の第三級アミノ基を有する化合物であり、各第三
級アミノ基の窒素原子は、適切な炭化水素置換基を有す
ることができるが、これらは、1価のアルキル、アリー
ル、アリールアルキル基および、二つ以上の第三級アミ
ノ基を有する場合における2価または3価の架橋基(br
idging group)などである。好ましくは、NR1 2
3 の化学式を有する一官能性第三級アミンであり、ここ
で、R1 、R2 およびR3 は各々独立に、C1-10アルキ
ル、アリールまたはアリールアルキル基であるか、また
は窒素原子とともに一つ以上のヘテロ環構造を形成す
る。さらに好ましくは、NR1 2 3の式におけるR
1 、R2 およびR3 の少なくとも一つ以上がC6-10アル
キル基またはアリール基であるところの立体体積が大き
い第三級アミンであり、たとえば、N−エチル−N−メ
チルアニリンまたはトリヘキシルアミンである。DMA
Hの粘度をバブラーで使用できる程度に低めるために
は、本発明の第三級アミンをDMAHに対して0.1な
いし10モル%、好ましくは、0.1ないし3モル%の
量で用い得る。
The tertiary amine that can be used in the present invention is a compound having one or more tertiary amino groups, and the nitrogen atom of each tertiary amino group has an appropriate hydrocarbon substituent. These are a monovalent alkyl, aryl, arylalkyl group and a divalent or trivalent bridging group having two or more tertiary amino groups (br
idging group). Preferably, NR 1 R 2 R
A monofunctional tertiary amine having the formula 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a C 1-10 alkyl, aryl or arylalkyl group, or together with a nitrogen atom Form one or more heterocyclic structures. More preferably, R in the formula of NR 1 R 2 R 3
A tertiary amine having a large steric volume wherein at least one or more of 1 , R 2 and R 3 is a C 6-10 alkyl group or an aryl group, such as N-ethyl-N-methylaniline or trihexylamine It is. DMA
In order to reduce the viscosity of H to such an extent that it can be used in a bubbler, the tertiary amine of the present invention may be used in an amount of 0.1 to 10 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%, based on DMAH. .

【0013】本発明に使用され得る芳香族アミンは、一
つ以上の環窒素原子を有する芳香族ヘテロ環化合物であ
る。芳香族アミンの代表的な例としては、ピリジン、ピ
リミジン、ピラジン、ピリダジン、トリアジン、キノリ
ン、イソキノリンおよびこれらの置換された化合物であ
り、当該置換基はC1-10アルキル、アリールまたはアリ
ールアルキル基である。好ましい芳香族アミンとして
は、3−ベンジルピリジンなどの置換されたピリジンで
ある。芳香族アミンはDMAHに対して0.1ないし1
0モル%、好ましくは0.1ないし3モル%の量で用い
得る。
The aromatic amine that can be used in the present invention is an aromatic heterocyclic compound having one or more ring nitrogen atoms. Representative examples of aromatic amines, pyridine, pyrimidine, pyrazine, pyridazine, triazine, quinoline, isoquinoline and compounds of these substituted, the substituent is a C 1-10 alkyl, aryl or arylalkyl group is there. Preferred aromatic amines are substituted pyridines such as 3-benzylpyridine. The aromatic amine is 0.1 to 1 with respect to DMAH.
It can be used in an amount of 0 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%.

【0014】本発明に使用され得る第三級ホスフィン
は、PR4 5 6 の化学式を有する化合物であり、こ
こで、R4 、R5 およびR6 は、各々独立に、C1-10
ルキル、アリールまたはアリールアルキル基である。好
ましくは、少なくとも一つ以上のアリールまたはアリー
ルアルキル基を有するホスフィンであり、さらに好まし
くは、トリベンジルホスフィンなどのトリアリールアル
キルホスフィンである。第三級ホスフィンはDMAHに
対して0.1ないし10モル%、好ましくは0.1ない
し3モル%の量で用い得る。
Tertiary phosphines which can be used in the present invention are compounds having the formula PR 4 R 5 R 6 , wherein R 4 , R 5 and R 6 are each independently C 1-10 It is an alkyl, aryl or arylalkyl group. Preferably, it is a phosphine having at least one or more aryl or arylalkyl groups, and more preferably, a triarylalkylphosphine such as tribenzylphosphine. Tertiary phosphines can be used in amounts of 0.1 to 10 mol%, preferably 0.1 to 3 mol%, based on DMAH.

【0015】本発明による添加剤を含むDMAHは著し
く低い粘度を有する。たとえば、0.37モル%のトリ
ベンジルホスフィンを含むDMAHは0.6cpの粘度
を有することが観察されるが、これは純粋なDMAHに
比べて10,000倍低下したものである。
DMAH containing the additives according to the invention has a significantly lower viscosity. For example, DMAH containing 0.37 mol% of tribenzylphosphine is observed to have a viscosity of 0.6 cp, a 10,000-fold reduction over pure DMAH.

【0016】本発明の低粘度DMAHを用いることによ
ってDMAHの気化が容易になるため、通常のバブラー
型前駆体移送システムまたは直接液体注入型前駆体移送
システムを用いるアルミニウム薄膜CVDにおいて本発
明の添加剤を含むDMAHを前駆体として有用できる。
Since the use of the low-viscosity DMAH of the present invention facilitates the vaporization of DMAH, the additive of the present invention can be used in aluminum thin film CVD using a conventional bubbler type precursor transfer system or a direct liquid injection type precursor transfer system. Can be useful as a precursor.

【0017】本発明の添加剤を含むDMAHを、20な
いし100℃、好ましくは20ないし30℃の温度で
2.2ないし30torrの蒸気圧で効率的に気化した
後、通常の蒸着方法に従って50ないし400℃範囲の
温度および9.8×10-4ないし9.8×10torr
の圧力で基板上に蒸着してアルミニウム薄膜を得る。
DMAH containing the additive of the present invention is efficiently vaporized at a temperature of from 20 to 100 ° C., preferably from 20 to 30 ° C., at a vapor pressure of from 2.2 to 30 torr. Temperatures in the 400 ° C. range and 9.8 × 10 -4 to 9.8 × 10 torr
The aluminum thin film is obtained by vapor deposition on the substrate at a pressure of.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明を下記実施例によってさらに詳
細に説明する。ただし、下記実施例は本発明を例示する
のみであり、本発明の範囲を制限しない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples only illustrate the present invention and do not limit the scope of the present invention.

【0019】実施例1 DMAHにN−エチル−N−メチルアニリンを0.3、
0.6、1.6、2.4または3.2モル%の量で加え
た。この溶液の粘度を室温でデジタル粘度計(RVTD
V−1、ブルックフィールド社)を使って測定した。そ
の結果、図1から分かるように、純粋液状DMAHの粘
度が6,400cpであることに比べて3.2モル%の
N−エチル−N−メチルアニリンを含むDMAHの場合
は6cpである。
Example 1 0.3 N-ethyl-N-methylaniline was added to DMAH,
0.6, 1.6, 2.4 or 3.2 mol% were added. The viscosity of this solution was measured at room temperature using a digital viscometer (RVTD).
V-1 (Brookfield). As a result, as can be seen from FIG. 1, the viscosity of pure liquid DMAH is 6,400 cp, while that of DMAH containing 3.2 mol% of N-ethyl-N-methylaniline is 6 cp.

【0020】実施例2 N−エチル−N−メチルアニリンの代りにトリヘキシル
アミンを0.63、1.24、1.85または2.46
モル%の量で用いたことを除いては実施例1の手順を繰
返した。
Example 2 Trihexylamine is replaced by 0.63, 1.24, 1.85 or 2.46 instead of N-ethyl-N-methylaniline.
The procedure of Example 1 was repeated except that it was used in an amount of mol%.

【0021】その結果、図1から分かるように、2.4
6モル%のトリヘキシルアミンを含むDMAHの粘度が
70cpまで低下した。
As a result, as can be seen from FIG.
The viscosity of DMAH containing 6 mol% of trihexylamine dropped to 70 cp.

【0022】実施例3 N−エチル−N−メチルアニリンの代りにトリエチルア
ミンを0.56、1.28、5.49または7.68モ
ル%の量で用いたことを除いては実施例1の手順を繰返
した。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that N-ethyl-N-methylaniline was replaced by triethylamine in an amount of 0.56, 1.28, 5.49 or 7.68 mol%. The procedure was repeated.

【0023】その結果、図1から分かるように7.68
モル%のトリエチルアミンを含むDMAHの粘度が15
0cpまで低下した。
As a result, as can be seen from FIG.
DMAH containing 15 mole% triethylamine has a viscosity of 15
0 cp.

【0024】実施例4 N−エチル−N−メチルアニリンの代りに3−ベンジル
ピリジンを0.47、0.98、1.35または1.9
3モル%の量で用いたことを除いては実施例1の手順を
繰返した。
EXAMPLE 4 Instead of N-ethyl-N-methylaniline, 3-benzylpyridine is replaced with 0.47, 0.98, 1.35 or 1.9.
The procedure of Example 1 was repeated except that it was used in an amount of 3 mol%.

【0025】その結果、図1から分かるように1.93
モル%の3−ベンジルピリジンを含むDMAHの粘度が
10cpまで低下した。
As a result, as can be seen from FIG. 1, 1.93.
The viscosity of DMAH containing mol% of 3-benzylpyridine decreased to 10 cp.

【0026】実施例5 N−エチル−N−メチルアニリンの代りにジエチルフェ
ニルホスフィンを0.88、1.58、2.23または
2.67モル%の量で用いたことを除いては実施例1の
手順を繰返した。
EXAMPLE 5 The procedure of Example 5 was repeated except that diethylphenylphosphine was used in an amount of 0.88, 1.58, 2.23 or 2.67 mol% instead of N-ethyl-N-methylaniline. Step 1 was repeated.

【0027】その結果、図1から分かるように2.67
モル%のジエチルフェニルホスフィンを含むDMAHの
粘度が50cpまで低下した。
As a result, as can be seen from FIG.
The viscosity of DMAH containing mol% diethylphenylphosphine was reduced to 50 cp.

【0028】実施例6 N−エチル−N−メチルアニリンの代りにトリベンジル
ホスフィンを0.08、0.16、0.24または0.
37モル%の量で用いたことを除いては実施例1の手順
を繰返した。
Example 6 Instead of N-ethyl-N-methylaniline, tribenzylphosphine is replaced with 0.08, 0.16, 0.24 or 0.1.
The procedure of Example 1 was repeated except that it was used in an amount of 37 mol%.

【0029】その結果、図1から分かるように0.37
モル%のトリベンジルホスフィンを含むDMAHの粘度
が60cpまで低下した。
As a result, as can be seen from FIG.
The viscosity of DMAH containing mol% tribenzylphosphine was reduced to 60 cp.

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明による少量の添加剤を含むDMA
Hは、著しく低下した粘度を有するため、通常の前駆体
移送システムまたは直接液体注入型前駆体移送システム
を用いるアルミニウム薄膜のCVDに前駆体として有用
できる。
EFFECT OF THE INVENTION DMA containing a small amount of additive according to the present invention
H has a significantly reduced viscosity and can be useful as a precursor for CVD of aluminum thin films using conventional or direct liquid injection type precursor delivery systems.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】N−エチル−N−メチルアニリン、トリヘキシ
ルアミン、トリエチルアミン、3−ベンジルピリジン、
ジエチルフェニルホスフィンおよびトリベンジルホスフ
ィンの添加量によるDMAHの粘度変化を示すグラフ。
FIG. 1. N-ethyl-N-methylaniline, trihexylamine, triethylamine, 3-benzylpyridine,
4 is a graph showing a change in the viscosity of DMAH depending on the amount of diethylphenylphosphine and tribenzylphosphine added.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尹 鐘皓 大韓民国、790−784慶尚北道浦項市南区孝 子洞山31番地浦項工科大学校化学工学科内 (72)発明者 朴 準遠 大韓民国、790−784慶尚北道浦項市南区孝 子洞山31番地浦項工科大学校化学科内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Yun Jong-ho, Republic of Korea, 790-784 Department of Chemical Engineering, Pohang Institute of Technology, 31 Kosyo-dong, Minami-ku, Pohang-si, Gyeongsangbuk-do (72) Inventor Park Jun-Eun, Republic of Korea, 790 −784 31 Pohang Dosan, Minami-ku, Pohang-si, Gyeongsangbuk-do

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第三級アミン、芳香族アミンおよび第三
級ホスフィンからなる群から選ばれた添加剤を水素化ジ
メチルアルミニウム(DMAH)に対して0.1ないし
10モル%の量で加えることを含むDMAHの粘度を下
げる方法。
1. An additive selected from the group consisting of tertiary amines, aromatic amines and tertiary phosphines in an amount of 0.1 to 10 mol% based on dimethylaluminum hydride (DMAH). A method for lowering the viscosity of DMAH, comprising:
【請求項2】 第三級アミンが式NR1 2 3 (ここ
で、R1 、R2 およびR3 は、各々独立に、C1-10アル
キル、アリールまたはアリールアルキル基であるか、ま
たは窒素原子とともに一つ以上のヘテロ環構造を形成す
るものである)を有する化合物である請求項1に記載の
方法。
2. The method of claim 1, wherein the tertiary amine is of the formula NR 1 R 2 R 3 wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently a C 1-10 alkyl, aryl or arylalkyl group; Or one which forms one or more heterocyclic structures with a nitrogen atom).
【請求項3】 R1 、R2 、およびR3の少なくとも一
つ以上がC6-10アルキルまたはアリール基である請求項
2に記載の方法。
3. The method of claim 2 , wherein at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a C 6-10 alkyl or aryl group.
【請求項4】 芳香族アミンが置換されたピリジンであ
って、当該置換基がC1-10アルキル、アリールまたはア
リールアルキル基である請求項1に記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein the aromatic amine is a substituted pyridine, wherein the substituent is a C 1-10 alkyl, aryl or arylalkyl group.
【請求項5】 置換されたピリジンが3−ベンジルピリ
ジンである請求項4に記載の方法。
5. The method according to claim 4, wherein the substituted pyridine is 3-benzylpyridine.
【請求項6】 第三級ホスフィンが式PR4 5
6 (ここで、R4 、R5およびR6 は、各々独立に、C
1-10アルキル、アリールまたはアリールアルキル基であ
る)を有する化合物である請求項1に記載の方法。
6. The tertiary phosphine of the formula PR 4 R 5 R
6 (wherein R 4 , R 5 and R 6 are each independently
The method according to claim 1, wherein the compound has 1-10 alkyl, aryl or arylalkyl group).
【請求項7】 第三級ホスフィンがトリベンジルホスフ
ィンである請求項6に記載の方法。
7. The method according to claim 6, wherein the tertiary phosphine is tribenzylphosphine.
JP10224426A 1997-10-21 1998-08-07 Reduction of viscosity of dimethylaluminum hydride Pending JPH11158186A (en)

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KR1019970053949A KR100233961B1 (en) 1997-10-21 1997-10-21 Method of decreasing viscosity of dimethylaluminum hydride which is useful as precursor in preparation of aluminum thin membrance
KR1019980001386A KR100291147B1 (en) 1998-01-19 1998-01-19 Method of decreasing viscosity of dimethylaluminum hydride
KR1998-1386 1998-04-16
KR1998-13602 1998-04-16
KR1997-53949 1998-04-16
KR1019980013602A KR100298128B1 (en) 1998-04-16 1998-04-16 Method of decreasing viscosity of dimethylaluminum hydride which is useful as precursor in prepration of aluminum thin membrane

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