JPH11149767A - Dram, integrated circuit including the same and test method therefor - Google Patents

Dram, integrated circuit including the same and test method therefor

Info

Publication number
JPH11149767A
JPH11149767A JP9315613A JP31561397A JPH11149767A JP H11149767 A JPH11149767 A JP H11149767A JP 9315613 A JP9315613 A JP 9315613A JP 31561397 A JP31561397 A JP 31561397A JP H11149767 A JPH11149767 A JP H11149767A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
dram
input
test
burn
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9315613A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3707919B2 (en
Inventor
Yoshihiko Sumimoto
善彦 住本
Kiyoto Ota
清人 大田
Tomonori Fujimoto
知則 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP31561397A priority Critical patent/JP3707919B2/en
Publication of JPH11149767A publication Critical patent/JPH11149767A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3707919B2 publication Critical patent/JP3707919B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To facilitate control at the time of continuous read/write in page mode by reading/writing a data with a signal where the first input has a first logical level every time when the clock input is changed and the column address is synchronized with a clock when the second input has a predetermined logical level. SOLUTION: When a clock input is changed from L level to H level, both first and second inputs have L level and if/write enable signal has H or L level, a data in a memory cell selected by a row address or column address is read out or a data is written in a selected memory cell. When both first and second inputs are set at L level and the column address is provided in synchronism with the clock input, the data can be read out/written in continuously in page mode every time when the clock input is changed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はDRAM(ダイナミ
ック・ランダムアクセスメモリ)とマイクロコンピュー
タ又はASIC(特定用途向け集積回路)等のロジック
回路をワンチップ化した集積回路、及び、そのバーンイ
ンテスト方法に関する。
The present invention relates to an integrated circuit in which a logic circuit such as a DRAM (Dynamic Random Access Memory) and a microcomputer or an ASIC (Application Specific Integrated Circuit) is integrated into one chip, and a burn-in test method therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の一般的なDRAMのシステム構成
を図10に示す。この図において、外部からアドレス端
子Adに入力されたアドレス信号は、行アドレスバッフ
ァ102及び列アドレスバッファ103を介して行選択
回路(行デコーダ)104及び列選択回路(列デコー
ダ)105に与えられる。行アドレス信号及び列アドレ
ス信号により選択されたメモリセルアレイ106中のメ
モリセルに対して、データの書き込み又は読み出しが行
われる。センスアンプ107は、制御信号入力Dinに
応答してメモリセルアレイ106中のメモリセルの微小
データ信号を増幅して出力Doutに出力するセンスア
ンプである。
2. Description of the Related Art FIG. 10 shows a system configuration of a conventional general DRAM. In this figure, an address signal externally input to an address terminal Ad is supplied to a row selection circuit (row decoder) 104 and a column selection circuit (column decoder) 105 via a row address buffer 102 and a column address buffer 103. Data is written or read from or to a memory cell in the memory cell array 106 selected by the row address signal and the column address signal. The sense amplifier 107 is a sense amplifier that amplifies a small data signal of a memory cell in the memory cell array 106 in response to a control signal input Din and outputs the amplified signal to an output Dout.

【0003】図11は上記のような従来のDRAMのE
DO(Extended Data Out)方式のページモード読み出し
動作のタイミングチャートである。時刻hにおいて行ア
ドレス制御信号がH(高)レベルからL(低)レベルに
変化し、アドレスAdライン上の行アドレスROW1が
取り込まれることにより1行分のメモリセルが選択され
る。次に時刻iにおいて列アドレス制御信号がHレベル
からLレベルに変化し、アドレスAdライン上の列アド
レスCOL1が取り込まれることにより列アドレスが選
択される。行アドレスROW1及び列アドレスCOL1
によって選択されたメモリセルのデータD1が出力Do
utに出力される。
FIG. 11 shows the conventional DRAM of the above-described type.
6 is a timing chart of a page mode read operation of a DO (Extended Data Out) method. At time h, the row address control signal changes from H (high) level to L (low) level, and the row address ROW1 on the address Ad line is taken in, thereby selecting one row of memory cells. Next, at time i, the column address control signal changes from the H level to the L level, and the column address COL1 on the address Ad line is fetched to select the column address. Row address ROW1 and column address COL1
The data D1 of the memory cell selected by the
output to ut.

【0004】次に時刻jにおいて、列アドレス制御信号
が再びHレベルからLレベルに変化すると、アドレスA
dライン上の列アドレスCOL2が取り込まれる。この
時、行アドレスROW1は変化していないので、行アド
レスROW1及び列アドレスCOL2で選択されたメモ
リセルのデータD2が出力される。この際、時刻jで出
力Doutに出力されていたデータD1が閉じられハイ
・インピーダンス状態になり、その後、新たに選択され
たメモリセルのデータD2が出力される。同様にして、
同一の行アドレスROW1で列アドレスCOL3、CO
L4が時刻k、時刻mで順次取り込まれ、それに対応し
て選択されたメモリセルのデータD3、D4が順次出力
される。
Next, at time j, when the column address control signal changes from H level to L level again, address A
The column address COL2 on the d-line is fetched. At this time, since the row address ROW1 has not changed, the data D2 of the memory cell selected by the row address ROW1 and the column address COL2 is output. At this time, the data D1 output to the output Dout at the time j is closed to be in a high impedance state, and thereafter, the data D2 of the newly selected memory cell is output. Similarly,
Column addresses COL3, CO at the same row address ROW1
L4 is sequentially fetched at time k and time m, and the data D3 and D4 of the selected memory cell are sequentially output correspondingly.

【0005】上記のように、アドレスAdを行アドレス
と列アドレスとに兼用し、行アドレス制御信号と列アド
レス制御信号とを用いて行アドレスと列アドレスとを時
分割で与えるアドレス多重化方式が一般的である。この
方式によれば、DRAMの大容量化に伴って増加するア
ドレス端子の数を半減することができる。
As described above, there is an address multiplexing system in which the address Ad is used as a row address and a column address, and a row address and a column address are provided in a time-division manner using a row address control signal and a column address control signal. General. According to this method, the number of address terminals, which increases with an increase in the capacity of the DRAM, can be halved.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の構成では、ページモードでデータの読み出
し又は書き込みを行う際、列アドレスを変えるたびに列
アドレス制御信号をHレベルからLレベルにを変化させ
なければならず、DRAMの入力信号は非同期であるた
め、DRAM内部の動作タイミング信号の生成が難しい
という問題があった。また、従来の構成では、行アドレ
スと列アドレスとを共通のアドレス入力に多重化して入
力しているため、アドレスの制御が難しい。行アドレス
と列アドレスを多重化して出力するための回路がロジッ
ク部に必要となり、消費電力が増加するという問題もあ
る。
However, in the conventional configuration as described above, when data is read or written in the page mode, the column address control signal is changed from H level to L level every time the column address is changed. Since the input signal of the DRAM must be changed, it is difficult to generate an operation timing signal inside the DRAM because the input signal of the DRAM is asynchronous. Further, in the conventional configuration, since the row address and the column address are multiplexed and input to a common address input, it is difficult to control the address. A circuit for multiplexing and outputting the row address and the column address is required in the logic unit, and there is a problem that power consumption increases.

【0007】そこで、本発明の目的はDRAMの外部入
力をクロック入力に同期させることにより、DRAMの
ページモードでの読み出し又は書き込みを連続して行う
場合のDRAMの制御を容易にすることにある。
It is an object of the present invention to synchronize the external input of the DRAM with the clock input, thereby facilitating the control of the DRAM when reading or writing in the DRAM page mode is performed continuously.

【0008】また、DRAMとロジック部がワンチップ
化された集積回路において、ロジック部がDRAMのア
ドレスを制御する通常動作時と、外部からDRAMのア
ドレスを直接制御するテスト時とのアドレス制御方法を
切り換えることにより、集積回路内部のアドレス制御を
容易にして回路を簡素化すると共に消費電力を低減する
ことも本発明の目的である。
In an integrated circuit in which a DRAM and a logic section are integrated into one chip, an address control method for a normal operation in which the logic section controls the DRAM address and a test method for directly controlling the DRAM address from outside are described. It is also an object of the present invention to facilitate the address control inside the integrated circuit by switching, thereby simplifying the circuit and reducing power consumption.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路は、ク
ロック入力、行アドレスを制御する第1の入力、列アド
レスを制御する第2の入力、行アドレス及び列アドレス
で読み出し又は書き込み対象のメモリセルが特定される
メモリセルアレイ、及びメモリセルアレイの列線に出力
されたメモリセルのデータを増幅するセンスアンプを備
え、第1の入力をクロック入力に同期させた信号が変化
して第1の論理レベルになるに伴って、行アドレスをク
ロック入力に同期させた信号により選択された行線に接
続されたメモリセルのデータをセンスアンプで増幅し、
引き続いて、クロック入力が変化するたびに、第1の入
力が第1の論理レベルであり、かつ、第2の入力が所定
の論理レベルであれば、列アドレスをクロックに同期さ
せた信号により選択された列線に接続されたセンスアン
プにより、データの読み出し又は書き込みを行うことを
特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An integrated circuit according to the present invention comprises a clock input, a first input for controlling a row address, a second input for controlling a column address, and a read or write target for a row address and a column address. A memory cell array in which a memory cell is specified, and a sense amplifier for amplifying data of the memory cell output to a column line of the memory cell array, wherein a signal whose first input is synchronized with a clock input changes to generate a first signal As the logic level is reached, the data of the memory cell connected to the selected row line is amplified by a sense amplifier by a signal in which the row address is synchronized with the clock input,
Subsequently, each time the clock input changes, if the first input is at the first logic level and the second input is at the predetermined logic level, the column address is selected by a signal synchronized with the clock. Data is read or written by a sense amplifier connected to the selected column line.

【0010】上記のような構成によれば、DRAMのペ
ージモードでの読み出し又は書き込みを連続して行う場
合、クロック入力にクロックを与え、例えば、行アドレ
ス制御信号である第1の入力をLレベル、列アドレス制
御信号である第2の入力をLレベルに設定し、列アドレ
スをクロック入力に同期させて与えれば、クロック入力
が変化するたびに連続してデータの読み出し又は書き込
みを行うことができる。第1及び第2の入力の論理レベ
ルが上記の条件を満たさなくなれば、DRAMの読み出
し又は書き込みは終了する。このようにして、DRAM
の制御を容易にすることができる。また、行アドレス制
御信号である第1の入力、列アドレス制御信号である第
2の入力、行アドレス、列アドレス、入力データ、/ラ
イトイネーブル信号がクロック入力に同期化されるた
め、メモリセルの読み出し、書き込みの制御タイミング
信号の立ち上がり、立ち下がりのタイミングをクロック
入力のみで生成し、タイミング生成回路を簡単な回路構
成で実現することができる。
According to the above-described configuration, when reading or writing is continuously performed in the page mode of the DRAM, a clock is applied to the clock input and, for example, the first input which is a row address control signal is set to the L level. If the second input which is a column address control signal is set to L level and the column address is given in synchronization with the clock input, data can be read or written continuously every time the clock input changes. . When the logic levels of the first and second inputs do not satisfy the above condition, the reading or writing of the DRAM ends. Thus, the DRAM
Can be easily controlled. Further, the first input which is a row address control signal, the second input which is a column address control signal, the row address, the column address, the input data, and the / write enable signal are synchronized with the clock input. The rising and falling timings of the read and write control timing signals are generated only by clock input, and the timing generation circuit can be realized with a simple circuit configuration.

【0011】また、本発明による集積回路は、行アドレ
ス及び列アドレスを有するDRAMとロジック部とを含
み、通常動作時はロジック部がDRAMに行アドレス及
び列アドレスを与え、DRAMのテスト時は行アドレス
及び列アドレスを多重化した信号が外部から与えられる
ことを特徴とする。これにより、集積回路内部でのアド
レス制御を容易にし、ロジック部での回路の簡素化と消
費電力の低減を実現しながら、内蔵DRAMのテストの
ために必要な外部入力端子の増加を抑えることができ
る。
An integrated circuit according to the present invention includes a DRAM having a row address and a column address, and a logic section. The logic section supplies a row address and a column address to the DRAM during a normal operation, and a row address during a DRAM test. A signal obtained by multiplexing an address and a column address is externally supplied. This facilitates address control inside the integrated circuit, simplifies the circuit in the logic section and reduces power consumption, while suppressing the increase in external input terminals required for testing the built-in DRAM. it can.

【0012】好ましくは、外部入力端子からのアドレス
信号とロジック部からのアドレス信号とのいずれか一方
を選択してDRAMに与える信号選択回路を備え、通常
動作時はロジック部から出力された行アドレス及び列ア
ドレスの信号を信号選択回路が同時に選択してDRAM
に与え、DRAMのテスト時は外部入力端子から入力さ
れる行アドレス及び列アドレスが時分割多重された信号
を信号選択回路が選択してDRAMに与え、DRAM内
の判別回路が時分割多重された信号を行アドレスと列ア
ドレスに分離する。これにより、テスト時の外部端子数
を低減することができる。
Preferably, there is provided a signal selection circuit for selecting one of an address signal from an external input terminal and an address signal from a logic section and applying the selected signal to the DRAM, and a row address output from the logic section during normal operation. And a signal of a column address are simultaneously selected by a signal selection circuit to provide a DRAM.
In the test of the DRAM, a signal in which the row address and the column address input from the external input terminal are time-division multiplexed is selected by the signal selection circuit and supplied to the DRAM, and the determination circuit in the DRAM is time-division multiplexed. Separate signals into row and column addresses. Thereby, the number of external terminals at the time of a test can be reduced.

【0013】本発明による集積回路の別の構成は、DR
AMと、ロジック部と、DRAMのバーンインテストを
行うためのテストパターン発生回路と、テストパターン
発生回路が発生する信号に基づいてDRAMのバーンイ
ンテストを行うモード又はロジック部のバーンインテス
トを行うモードを選択するための外部入力端子とを備え
ていることを特徴とする。この構成によれば、DRAM
のバーンインテスト時に必要な外部信号はDRAM用ク
ロック信号とバーンイン切り替え信号だけでよくなる。
Another configuration of the integrated circuit according to the present invention is the DR
AM, a logic section, a test pattern generation circuit for performing a burn-in test of the DRAM, and a mode for performing a burn-in test of the DRAM or a mode for performing a burn-in test of the logic section based on a signal generated by the test pattern generation circuit. And an external input terminal. According to this configuration, the DRAM
The only external signals required during the burn-in test are a DRAM clock signal and a burn-in switching signal.

【0014】好ましくは、DRAMとロジック部とテス
トパターン発生回路とによって兼用される複数の外部端
子と、外部端子の信号選択回路とを備え、通常常動作時
は外部端子をロジック部が使用し、DRAMの動作テス
ト時は外部端子をDRAMが使用し、テストパターン発
生回路によるDRAMのバーンインテスト時には外部端
子をテストパターン発生回路とロジック部が使用するよ
うに、信号選択回路が外部端子の接続先を切り替える。
半導体の微細化技術の進歩に伴って内蔵するDRAMの
容量及びビット幅が大きくなり、DRAMのテストを行
うための兼用端子が多くなったとしても、ロジック部の
バーンインテストを行うための外部端子として兼用端子
を使用することができるので、DRAMのバーンインテ
ストと並列にロジック部のバーンインテストを行うこと
ができる。これにより、バーンインテスト時間を短縮す
ることができる。
Preferably, the semiconductor device includes a plurality of external terminals shared by a DRAM, a logic unit, and a test pattern generation circuit, and a signal selection circuit for the external terminals. The signal selection circuit sets the connection destination of the external terminal so that the external terminal is used by the DRAM during the operation test of the DRAM and the external terminal is used by the test pattern generation circuit and the logic unit during the burn-in test of the DRAM by the test pattern generation circuit. Switch.
Even if the capacity and bit width of the built-in DRAM increase with the advancement of semiconductor miniaturization technology and the number of dual-purpose terminals for testing the DRAM increases, it can be used as an external terminal for performing a burn-in test of the logic part. Since the dual-purpose terminal can be used, the burn-in test of the logic unit can be performed in parallel with the burn-in test of the DRAM. Thus, the burn-in test time can be reduced.

【0015】また、本発明による集積回路のバーンイン
テスト方法は、DRAMと、ロジック部と、DRAMの
バーンインテストを行うためのテストパターン発生回路
とを内蔵した集積回路の所定の外部入力信号を第1の論
理レベルに設定することにより、テストパターン発生回
路が発生する信号に基づいてDRAMの書き込み及び読
み出しを行い、メモリセルにストレスを印加することに
よってDRAMのバーンインテストを行い、外部入力信
号を第2の論理レベルに設定することにより、ロジック
部のバーンインテストを行うことを特徴とする。
Further, the burn-in test method for an integrated circuit according to the present invention is characterized in that a predetermined external input signal of an integrated circuit including a DRAM, a logic unit, and a test pattern generation circuit for performing a burn-in test of the DRAM is firstly inputted. , The DRAM is written and read based on the signal generated by the test pattern generating circuit, and a burn-in test of the DRAM is performed by applying stress to the memory cell, and the external input signal is set to the second level. The burn-in test of the logic section is performed by setting the logic level to

【0016】好ましくは、ロジック部のバーンインテス
トにおいて、内蔵DRAMに予め書き込んだテストパタ
ーンに基づいてテストを行う。外部からテストパターン
を与えてテストする場合に比べ、高速動作が可能であ
り、テスト時間の短縮を実現することができる。
Preferably, in the burn-in test of the logic section, a test is performed based on a test pattern previously written in the built-in DRAM. High-speed operation is possible and test time can be shortened, as compared with the case where a test is applied from outside to perform a test.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態につい
て、図面を参照しながら説明する。 (実施形態1)図1に、本発明の実施形態1に係る集積
回路の構成を示す。集積回路200は、DRAM1と、
DRAM1のバーンインテスト時のテスト信号を発生す
るバーンインパターン発生回路11と、マイクロコンピ
ュータ又はロジック回路からなるロジック部12等をワ
ンチップに集積化したものである。13は論理積(AN
D)回路であり、14、16はインバータ回路であり、
15は論理和(NOR)回路である。34は信号選択回
路であり、ロジック部12の入力信号を制御すると共
に、DRAM1への入力信号を切り替える。17〜2
1、115は1入力反転の2入力AND回路であり、2
2〜33、113、114はセレクタであり、116は
トライステートバッファである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. 1 shows a configuration of an integrated circuit according to Embodiment 1 of the present invention. The integrated circuit 200 includes a DRAM 1
A burn-in pattern generation circuit 11 for generating a test signal at the time of a burn-in test of the DRAM 1 and a logic unit 12 composed of a microcomputer or a logic circuit are integrated on one chip. 13 is a logical product (AN
D) circuits, 14 and 16 are inverter circuits,
Reference numeral 15 denotes a logical sum (NOR) circuit. Reference numeral 34 denotes a signal selection circuit that controls an input signal of the logic unit 12 and switches an input signal to the DRAM 1. 17-2
Reference numerals 1 and 115 denote 1-input inverted 2-input AND circuits.
2 to 33, 113 and 114 are selectors, and 116 is a tri-state buffer.

【0018】図2に、集積回路200に含まれるDRA
M1のシステム構成を示す。図2において、2はDRA
M1の動作を制御する制御回路であり、3は行アドレス
を選択する行選択回路、4は列アドレスを選択する列選
択回路、5はメモリセルアレイ、6はメモリセルアレイ
からの微小信号を増幅するセンスアンプ、7はメインア
ンプである。
FIG. 2 shows the DRA included in the integrated circuit 200.
1 shows a system configuration of M1. In FIG. 2, 2 is DRA
A control circuit for controlling the operation of M1; 3 a row selection circuit for selecting a row address; 4 a column selection circuit for selecting a column address; 5 a memory cell array; 6 a sense for amplifying a small signal from the memory cell array; An amplifier 7 is a main amplifier.

【0019】図3に、DRAM1の制御回路を示す。図
3において、41〜43、48、49、64、67、7
1、77、81、85はインバータ回路であり、44、
47、52はD型フリップフロップ回路(DFF)であ
り、45はANDとNORの複合回路である。50は行
アドレスをラッチする行アドレスラッチであり、51、
62、65、68、69、72、78、83、84、1
11はAND回路であり、53は列アドレスをラッチす
る列アドレスラッチである。54〜60、75、76、
80、82、86は遅延回路であり、61はOR回路で
あり、63はイネーブル端子付きのDFFであり、6
6、70、79はセットリセット回路であり、73、7
4はバッファであり、89はDRAMのタイミング信号
をつくるタイミング発生回路であり、118は行アドレ
スと列アドレスを判別して分離する判別回路である。
FIG. 3 shows a control circuit of the DRAM 1. 3, 41 to 43, 48, 49, 64, 67, 7
1, 77, 81 and 85 are inverter circuits;
47 and 52 are D-type flip-flop circuits (DFF), and 45 is a composite circuit of AND and NOR. 50 is a row address latch for latching a row address;
62, 65, 68, 69, 72, 78, 83, 84, 1
Numeral 11 denotes an AND circuit, and numeral 53 denotes a column address latch for latching a column address. 54-60, 75, 76,
80, 82 and 86 are delay circuits, 61 is an OR circuit, 63 is a DFF with an enable terminal, and 6
6, 70 and 79 are set reset circuits;
Reference numeral 4 denotes a buffer; 89, a timing generation circuit for generating a timing signal for the DRAM; 118, a discrimination circuit for discriminating and separating a row address and a column address.

【0020】図4はDRAM1のメモリセルアレイ5と
その周辺の回路構成を示している。図4において、WL
0〜WLNは行線であり、YL0〜YLMは列線であ
り、M00〜MNMはメモリセルである。T00〜T2
Mはプリチャージ回路、S0〜SMはセンスアンプ、T
G00〜TGM1はデータ線選択ゲート、93はメイン
アンプである。94、95はデータラッチ用のDFFで
あり、96、97はトライステートバッファであり、9
8はトライステートインバータ回路であり、112はイ
ネーブル端子付きのDFFである。
FIG. 4 shows a memory cell array 5 of the DRAM 1 and its peripheral circuit configuration. In FIG. 4, WL
0 to WLN are row lines, YL0 to YLM are column lines, and M00 to MNM are memory cells. T00-T2
M is a precharge circuit, S0 to SM are sense amplifiers, T
G00 to TGM1 are data line selection gates, and 93 is a main amplifier. 94 and 95 are DFFs for data latch, 96 and 97 are tri-state buffers, and 9
8 is a tristate inverter circuit, and 112 is a DFF with an enable terminal.

【0021】以上のように構成された集積回路につい
て、まず通常動作時の信号選択回路の動作を説明する。
図1において、通常動作時はテスト信号がLレベルに設
定される。したがって、集積回路200内部の切り替え
信号1とバーンインテスト信号は共にLレベルに固定さ
れ、切り替え信号2はHレベルに固定される。その結
果、ロジック部12には信号選択回路34の1入力反転
2入力AND回路17〜21及び115を介して、外部
入力端子1〜5の信号及び外部入出力端子からトライス
テートバッファ116を通った信号が入力される。な
お、外部入力端子5とその回路は複数ビット分設けられ
ている。外部入出力端子とその回路も複数ビット分設け
られている。
First, the operation of the signal selection circuit in the normal operation of the integrated circuit configured as described above will be described.
In FIG. 1, the test signal is set to L level during normal operation. Therefore, both the switching signal 1 and the burn-in test signal inside the integrated circuit 200 are fixed at L level, and the switching signal 2 is fixed at H level. As a result, the logic unit 12 passes the tri-state buffer 116 from the signals of the external input terminals 1 to 5 and the external input / output terminals via the one-input inversion two-input AND circuits 17 to 21 and 115 of the signal selection circuit 34. A signal is input. Note that the external input terminal 5 and its circuit are provided for a plurality of bits. External input / output terminals and their circuits are also provided for a plurality of bits.

【0022】また、信号選択回路34のセレクタ28〜
32及び114がテスト信号によってA入力すなわちロ
ジック部12から出力された信号を選択してDRAM1
に与える。DRAM1の入力としてロジック部12の出
力信号が選択されるので、第1の入力はロジック部12
からの出力信号である行アドレス制御信号1が選択さ
れ、第2の入力はロジック部12からの出力信号である
列アドレス制御信号1が選択され、/ライトイネーブル
信号はロジック部12からの出力信号である/ライトイ
ネーブル信号1が選択され、行アドレスはロジック部1
2からの出力信号である第1の行アドレスが選択され、
列アドレスはロジック部12からの出力信号である第1
の列アドレスが選択され、データ入力はロジック部12
からの出力信号であるデータ入出力が選択されることに
なる。なお、信号名の頭に付された「/」は負論理を意
味している。DRAM1のクロック入力については、信
号選択回路34のセレクタ25でA入力が選択され、セ
レクタ33でA入力が選択されるので、ロジック部12
の出力であるクロック1が選択される。
The selectors 28 to 28 of the signal selection circuit 34
32 and 114 select the A input, that is, the signal output from the logic unit 12 by the test signal, and
Give to. Since the output signal of the logic unit 12 is selected as the input of the DRAM 1, the first input is
, A row address control signal 1 which is an output signal from the logic unit 12 is selected, a second input is a column address control signal 1 which is an output signal from the logic unit 12, and a / write enable signal is an output signal from the logic unit 12. / Write enable signal 1 is selected, and the row address is
2 is selected as the first row address, which is the output signal from
The column address is a first signal which is an output signal from the logic unit 12.
Is selected, and the data input is performed by the logic unit 12
Will be selected as the data input / output which is the output signal from. Note that “/” added to the head of the signal name means negative logic. As for the clock input of the DRAM 1, the A input is selected by the selector 25 of the signal selection circuit 34 and the A input is selected by the selector 33.
Is output.

【0023】次に、通常動作時のDRAMの動作につい
て図6及び7のタイミングチャートを参照しながら説明
する。まず、DRAM1のページモードでの読み出し動
作のタイミングが図6に示されている。時刻t0におい
て、行アドレス制御信号である第1の入力を図3のDF
F44によりクロックに同期させた信号RASLがLレ
ベルであるので、図4のPチャンネル(Pch)トラン
ジスタT00〜T0M、T10〜T1M、T20〜T2
Mがオンになり、ビット線0〜M、/ビット線0〜Mが
1/2Vddにプリチャージされ、イコライズされる。
Next, the operation of the DRAM during normal operation will be described with reference to the timing charts of FIGS. First, the timing of a read operation in the page mode of the DRAM 1 is shown in FIG. At time t0, the first input which is the row address control signal is
Since the signal RASL synchronized with the clock by F44 is at L level, the P-channel (Pch) transistors T00 to T0M, T10 to T1M, T20 to T2 in FIG.
M is turned on, and bit lines 0 to M and / bit lines 0 to M are precharged to 1/2 Vdd and equalized.

【0024】時刻t1において、第1の入力をクロック
に同期させた信号RASLがLレベルからHレベルに立
ち上がると、図4のPchトランジスタT00〜T0
M、T10〜T1M、T20〜T2Mがオフになり、ビ
ット線0〜M、/ビット線0〜Mのプリチャージ、イコ
ライズが停止される。図3の行アドレスラッチ50は、
行アドレスをクロック入力によりラッチし、行アドレス
3を出力する。図4において、RASLがHレベルなの
で、行アドレス3により選択された行線WLnがHレベ
ルになる。図3において、遅延回路1(54)の出力で
あるセンスアンプイネーブルが時刻t1から遅延時間D
LY1後にHレベルになるに伴って、センスアンプS0
〜SMが能動状態になり、行線WLnに接続されたメモ
リセルのデータがビット線0〜Mに読み出され、センス
アンプS0〜SMで差動増幅される。
At time t1, when the signal RASL whose first input is synchronized with the clock rises from L level to H level, the Pch transistors T00 to T0 of FIG.
M, T10 to T1M and T20 to T2M are turned off, and precharge and equalization of the bit lines 0 to M and / bit lines 0 to M are stopped. The row address latch 50 in FIG.
The row address is latched by the clock input, and the row address 3 is output. In FIG. 4, since RASL is at the H level, the row line WLn selected by the row address 3 goes to the H level. In FIG. 3, the sense amplifier enable, which is the output of the delay circuit 1 (54), changes the delay time D from the time t1.
As the level becomes high after LY1, the sense amplifier S0
To the active state, data of the memory cell connected to the row line WLn is read out to the bit lines 0 to M, and differentially amplified by the sense amplifiers S0 to SM.

【0025】時刻t2において、第1の入力と共に第2
の入力(列アドレス制御信号)がLレベルであるため、
図3のインバータ41、42の出力が共にHレベルにな
り、ANDゲート51の出力がHレベルになる。その結
果、列アドレスラッチ53がイネーブルになり、クロッ
クの立ち上がりで列アドレスがラッチされ、DFF52
の出力である列フラグがHレベルになる。
At time t2, the second input is performed together with the first input.
Input (column address control signal) is at L level,
The outputs of the inverters 41 and 42 in FIG. 3 both go high, and the output of the AND gate 51 goes high. As a result, the column address latch 53 is enabled, the column address is latched at the rising edge of the clock, and the DFF 52
Becomes an H level.

【0026】図3の破線で囲まれたタイミング発生回路
89の動作を説明する。時刻t2以前は列フラグがLレ
ベルであり、ANDゲート65の出力がLレベルである
ため、セットリセット回路66の出力はLレベルとな
る。したがって、データ線プリチャージ信号/DPRS
がLレベルになり、Pchトランジスタ90、91、9
2がオンになり、データ線、/データ線共にVddにプ
リチャージされ、イコライズされる。
The operation of the timing generation circuit 89 surrounded by a broken line in FIG. 3 will be described. Before time t2, the column flag is at L level and the output of AND gate 65 is at L level, so that the output of set / reset circuit 66 is at L level. Therefore, data line precharge signal / DPRS
Becomes L level, and Pch transistors 90, 91, 9
2 is turned on, and both the data line and the / data line are precharged to Vdd and equalized.

【0027】クロック入力が遅延回路2(55)で遅延
時間DLY2だけ遅延し、この信号が遅延回路3(5
6)とインバータ64に入力される。列フラグがHレベ
ルであるのでANDゲート65からワンショットパルス
が出力され、セットリセット回路66がセットされる。
時刻t2から遅延時間DLY2だけ遅れたタイミングで
/DPRSが立ち上がり、データ線のプリチャージ及び
イコライズが解除され、同時に列選択イネーブル信号Y
LENが立ち上がる。図4において、列アドレス3で選
択された列信号であるYLmを列選択回路4がHレベル
にするので、NchトランジスタTGm0、TGm1が
オンになる。その結果、センスアンプSmの出力がデー
タ線及び/データ線に与えられる。
The clock input is delayed by the delay circuit 2 (55) by the delay time DLY2, and this signal is delayed by the delay circuit 3 (5).
6) is input to the inverter 64. Since the column flag is at the H level, a one-shot pulse is output from the AND gate 65, and the set / reset circuit 66 is set.
The / DPRS rises at a timing delayed by the delay time DLY2 from the time t2, the precharge and equalization of the data line are released, and at the same time, the column selection enable signal Y
LEN stands up. In FIG. 4, the column selection circuit 4 sets the column signal YLm selected by the column address 3 to H level, so that the Nch transistors TGm0 and TGm1 are turned on. As a result, the output of the sense amplifier Sm is provided to the data line and / or the data line.

【0028】図3のタイミング発生回路89において、
CLKD1を遅延回路4(57)で遅延時間DLY4だ
け遅らせた信号CLKD2が、遅延回路3(56)とイ
ンバータ67とに入力される。列フラグがHレベルであ
るのでANDゲート65からCLKD2の立ち上がりに
同期したワンショットパルスが出力され、セットリセッ
ト回路70がセットされる。YLENの立ち上がりから
遅延時間DLY4だけ遅れたタイミングでメインアンプ
イネーブル信号MAENがLレベルからHレベルに立ち
上がり、メインアンプ93が動作を開始する。この結
果、データ線及び/データ線の差動信号電圧が増幅され
出力される。
In the timing generation circuit 89 of FIG.
A signal CLKD2 obtained by delaying CLKD1 by the delay time DLY4 by the delay circuit 4 (57) is input to the delay circuit 3 (56) and the inverter 67. Since the column flag is at the H level, a one-shot pulse synchronized with the rise of CLKD2 is output from the AND gate 65, and the set / reset circuit 70 is set. At a timing delayed by the delay time DLY4 from the rise of YLEN, the main amplifier enable signal MAEN rises from L level to H level, and the main amplifier 93 starts operating. As a result, the differential signal voltage of the data line and / or the data line is amplified and output.

【0029】図3のタイミング発生回路89において、
CLKD2を遅延回路5(58)で遅延時間DLY5だ
け遅らせた信号CLKD3が遅延回路3(76)とイン
バータ77とに入力される。列フラグがHレベルである
ので、ANDゲート78からCLKD2の立ち上がりに
同期したワンショットパルスが出力され、セットリセッ
ト回路79がセットされる。MAEN信号の立ち上がり
から遅延時間DLY5だけ遅れたタイミングでデータラ
ッチクロック1(以下、DCK1と略記する)がLレベ
ルからHレベルに立ち上がり、CLKD3を遅延回路7
(80)で遅延時間DLY7だけ遅らせた信号CLKD
4が遅延回路3(82)とインバータ81に入力され
る。列フラグがHレベルであるので、ANDゲート83
からCLKD4の立ち上がりに同期したワンショットパ
ルスが出力され、セットリセット回路79がリセットさ
れ、DCK1はHレベルからLレベルになる。
In the timing generation circuit 89 of FIG.
A signal CLKD3 obtained by delaying CLKD2 by delay circuit 5 (58) by delay time DLY5 is input to delay circuit 3 (76) and inverter 77. Since the column flag is at the H level, a one-shot pulse synchronized with the rise of CLKD2 is output from the AND gate 78, and the set / reset circuit 79 is set. The data latch clock 1 (hereinafter abbreviated as DCK1) rises from the L level to the H level at a timing delayed by the delay time DLY5 from the rise of the MAEN signal, and the CLKD3 is delayed by the delay circuit 7
The signal CLKD delayed by the delay time DLY7 in (80)
4 is input to the delay circuit 3 (82) and the inverter 81. Since the column flag is at the H level, the AND gate 83
, A one-shot pulse synchronized with the rise of CLKD4 is output, the set / reset circuit 79 is reset, and DCK1 changes from H level to L level.

【0030】DCK1の立ち上がりでDFF94は、メ
インアンプ93の出力をラッチする。CLKD3を遅延
回路6(59)で遅延時間DLY6だけ遅らせた信号C
LKD5が遅延回路3(56)とインバータ71に入力
され、CLKD5の立ち上がりに同期したワンショット
パルスが出力される。セットリセット回路66、70が
リセットされ、MAEN、YLEN、/PRSがHレベ
ルからLレベルに立ち下がり、メインアンプ7が動作を
停止する。次のデータの読み出しに備えてデータ線及び
/データ線がプリチャージされ、列信号YL0〜YLM
がすべてLレベルになり、NchトランジスタTG00
〜TGM0、TG01〜TGM1がすべてオフになる。
At the rise of DCK1, the DFF 94 latches the output of the main amplifier 93. A signal C obtained by delaying CLKD3 by the delay time DLY6 by the delay circuit 6 (59)
LKD5 is input to the delay circuit 3 (56) and the inverter 71, and a one-shot pulse synchronized with the rise of CLKD5 is output. The set reset circuits 66 and 70 are reset, MAEN, YLEN, and / PRS fall from H level to L level, and the main amplifier 7 stops operating. The data lines and / or data lines are precharged in preparation for reading of the next data, and the column signals YL0 to YLM are read.
Are all at L level, and Nch transistor TG00
To TGM0 and TG01 to TGM1 are all turned off.

【0031】時刻t3において、図3における列フラグ
がHレベル、第1及び第2の入力が共にLレベル、そし
て/ライトイネーブル信号3がHレベルであるので、A
ND−NOR複合ゲート45の出力がHレベルになる。
インバータ48の出力がLレベル、ORゲート61及び
ANDゲート62の出力が共にがHレベルであるので、
時刻t3においてDFF63がHレベルになると、デー
タ出力イネーブル信号(以下、DOENと略記する)が
LレベルからHレベルに変化する。
At time t3, the column flag in FIG. 3 is at the H level, the first and second inputs are both at the L level, and the / write enable signal 3 is at the H level.
The output of the ND-NOR composite gate 45 becomes H level.
Since the output of the inverter 48 is at L level and the outputs of the OR gate 61 and the AND gate 62 are both at H level,
When the DFF 63 goes high at time t3, the data output enable signal (hereinafter abbreviated as DOEN) changes from low to high.

【0032】図3のタイミング発生回路89において、
クロック入力を遅延回路8で遅延時間DLY8だけ遅ら
せた信号がANDゲート84に入力される。DOENが
Hレベルであるため、図6のタイミングチャートに示す
ように、時刻t3のクロックの立ち上がりから時間DL
Y8だけ遅れたタイミングでデータラッチクロック2
(以下、DCK2と略記する)がLレベルからHレベル
に変化する。このタイミングで図4におけるDFF94
の出力信号をDFF95がラッチする。
In the timing generation circuit 89 of FIG.
A signal obtained by delaying the clock input by the delay circuit 8 by the delay time DLY8 is input to the AND gate 84. Since DOEN is at the H level, as shown in the timing chart of FIG.
Data latch clock 2 at timing delayed by Y8
(Hereinafter, abbreviated as DCK2) changes from the L level to the H level. At this timing, the DFF 94 in FIG.
Is latched by the DFF 95.

【0033】この時、DOENがHレベルであるのでD
FF95の出力はトライステートバッファ96を通る。
この結果、図6のタイミングチャートに示すようにデー
タD1がデータ入出力から出力される。データD1に対
応する列アドレスCOL1が時刻t2でクロック入力に
よってラッチされてから、2クロック後の時刻t4にお
けるクロックの立ち上がりで、ロジック部12がデータ
D1を取り込む。これで列アドレスCOL1に対応する
メモリセルのデータの読み出しが完了する。
At this time, since DOEN is at H level, D
The output of the FF 95 passes through the tri-state buffer 96.
As a result, data D1 is output from the data input / output as shown in the timing chart of FIG. After the column address COL1 corresponding to the data D1 is latched by the clock input at the time t2, the logic unit 12 captures the data D1 at the rise of the clock at the time t4 two clocks later. This completes the reading of data from the memory cell corresponding to the column address COL1.

【0034】時刻t3、t4、t5においても、時刻t
2の場合と同じようにクロック入力の立ち上がりで第1
及び第2の入力が共にLレベルであり、/ライトイネー
ブル信号がHレベルである。したがって、前述したよう
にクロックの立ち上がりで列アドレスをラッチし、ラッ
チした列アドレス3で選択されたメモリセルのデータを
図6のタイミングチャートに示したように順番にデータ
入出力に読み出す。時刻t7において、第1の入力及び
第2の入力が共にHレベルであり、AND・NOR複合
ゲート45の出力がLレベルになるため、DFF63が
Lレベルになり、DOENがLレベルになり、入出力デ
ータの出力がハイインピーダンスになる。
At times t3, t4 and t5, time t
As in the case of 2, the first
And the second input are both at L level, and the / write enable signal is at H level. Therefore, as described above, the column address is latched at the rising edge of the clock, and the data of the memory cell selected by the latched column address 3 is sequentially read out to the data input / output as shown in the timing chart of FIG. At time t7, the first input and the second input are both at the H level, and the output of the AND / NOR composite gate 45 is at the L level. Therefore, the DFF 63 is at the L level, and the DOEN is at the L level. The output of the output data becomes high impedance.

【0035】つぎに、DRAM1のページモードでの書
き込み動作について、図7のタイミングチャートを用い
て説明する。時刻t0及びt1における動作は前述のペ
ージモードでの読み出し動作と同じである。つまり、時
刻t0において、行アドレス制御信号である第1の入力
を図3のDFF44によりクロックに同期させた信号R
ASLがLレベルであるため、1/2Vddにプリチャ
ージされ、イコライズされる。
Next, a write operation in the page mode of the DRAM 1 will be described with reference to a timing chart of FIG. The operation at times t0 and t1 is the same as the read operation in the page mode described above. That is, at time t0, the signal R obtained by synchronizing the first input, which is the row address control signal, with the clock by the DFF 44 in FIG.
Since ASL is at L level, it is precharged to 1/2 Vdd and equalized.

【0036】時刻t1において、第1の入力をクロック
に同期させた信号RASLがHレベルになるため、ビッ
ト線0〜M、/ビット線0〜Mのプリチャージ及びイコ
ライズが停止され、行アドレスラッチ50は行アドレス
をクロック入力によりラッチして行アドレス3を出力す
る。RASLがHレベルなので、行アドレス3により選
択された行線WLnがHレベルになり、図3において、
遅延回路1(54)の出力であるセンスアンプイネーブ
ルが時刻t1より時間DLY1後にHレベルになる。そ
の結果、センスアンプS0〜SMが活性化され、WLn
に接続されたメモリセルのデータが、ビット線0〜Mに
読み出されてセンスアンプS0〜SMで差動増幅され
る。
At time t1, the signal RASL whose first input is synchronized with the clock goes high, so that the precharging and equalizing of the bit lines 0 to M and / bit lines 0 to M are stopped, and the row address latch 50 latches the row address by the clock input and outputs the row address 3. Since RASL is at the H level, the row line WLn selected by the row address 3 goes to the H level, and in FIG.
The sense amplifier enable, which is the output of delay circuit 1 (54), goes high after time DLY1 from time t1. As a result, the sense amplifiers S0 to SM are activated and WLn
Is read out to the bit lines 0 to M and differentially amplified by the sense amplifiers S0 to SM.

【0037】時刻t2において、第1の入力と共に第2
の入力(列アドレス制御信号)がLレベルであるので、
図3のインバータ41、42の出力がHレベルになり、
ANDゲート51がHレベルになり、列アドレスラッチ
53がイネーブルになる。時刻t2において、クロック
の立ち上がりで列アドレスがラッチされ、DFF52の
出力である列フラグがHレベルになる。同時に、インバ
ータ43の出力がDFF47においてクロックの立ち上
がりでラッチされ、/ライトイネーブル信号がLレベル
であるので、DFF47の出力であるライトフラグはH
レベルになり、インバータ85の出力であるリードフラ
グはLレベルになる。インバータ43の出力がHレベル
でANDゲート51の出力がHレベルであるため、AN
Dゲート111の出力、つまりライトデータラッチイネ
ーブル信号がHレベルになる。その結果、クロックの立
ち上がりで入力データがラッチされる。/ライトイネー
ブル信号3がLレベルであるため、AND・NOR複合
ゲート45の出力がLレベルになり、インバータ48の
出力がHレベルになり、ORゲート61の出力がHレベ
ルになる。ANDゲート62の出力がLレベルであるた
め、クロックの立ち上がりでDFF63の出力、すなわ
ちDOENがLレベルになる。
At time t2, the second input is performed together with the first input.
Is low (column address control signal),
The outputs of the inverters 41 and 42 in FIG.
The AND gate 51 goes high, and the column address latch 53 is enabled. At time t2, the column address is latched at the rising edge of the clock, and the column flag output from the DFF 52 goes high. At the same time, the output of the inverter 43 is latched at the rising edge of the clock in the DFF 47 and the / write enable signal is at the L level, so that the write flag output from the DFF 47 is at the H level
Level, and the read flag output from the inverter 85 becomes L level. Since the output of the inverter 43 is at the H level and the output of the AND gate 51 is at the H level,
The output of the D gate 111, that is, the write data latch enable signal goes high. As a result, the input data is latched at the rising edge of the clock. Since the / write enable signal 3 is at L level, the output of the AND / NOR composite gate 45 becomes L level, the output of the inverter 48 becomes H level, and the output of the OR gate 61 becomes H level. Since the output of the AND gate 62 is at L level, the output of the DFF 63, that is, DOEN, becomes L level at the rise of the clock.

【0038】タイミング発生回路89の動作を説明す
る。クロック入力が、遅延回路2(55)で時間DLY
2だけ遅れた信号が遅延回路3(56)とインバータ6
4に入力される。列フラグがHレベルであるのでAND
ゲート65からワンショットパルスが出力され、セット
リセット回路66がセットされる。時刻t2から遅延時
間DLY2だけ遅れたタイミングで/DPRSが立ち上
がると、データ線のプリチャージ及びイコライズが解除
され、同時に列選択イネーブル信号YLENが立ち上が
る。
The operation of the timing generation circuit 89 will be described. The clock input is the time DLY by the delay circuit 2 (55).
The signal delayed by two is the delay circuit 3 (56) and the inverter 6
4 is input. Since the column flag is at H level, AND
A one-shot pulse is output from gate 65, and set / reset circuit 66 is set. When / DPRS rises at a timing delayed by the delay time DLY2 from time t2, the precharge and equalization of the data line are released, and the column selection enable signal YLEN rises at the same time.

【0039】列選択回路4が列アドレス3で選択された
列信号であるYLmがHレベルになると、Nchトラン
ジスタTGm0、TGm1がオンになり、センスアンプ
Smの出力がデータ線及び/データ線に与えられる。同
時に、ライトフラグがHレベルであるので、ANDゲー
ト69からセットリセット回路66の出力が出力され、
ライト入力イネーブル信号が時刻t2から遅延時間DL
Y2だけ遅れたタイミングでLレベルからHレベルに立
ち上がる。
When YLm, which is the column signal selected by the column address 3 by the column selection circuit 4, goes high, the Nch transistors TGm0 and TGm1 turn on, and the output of the sense amplifier Sm is applied to the data line and / data line. Can be At the same time, since the write flag is at the H level, the output of the set / reset circuit 66 is output from the AND gate 69,
The write input enable signal is delayed for a delay time DL from time t2.
It rises from the L level to the H level at a timing delayed by Y2.

【0040】ライト入力イネーブル信号がHレベルにな
ると、図4において、トライステートバッファ97及び
トライステートインバータ98がイネーブルになり、D
FF112の出力であるデータ入力をラッチした信号の
情報電圧でビット線m及び/ビット線mが強制的に書き
換えられ、メモリセルMnmにこの情報電圧が書き込ま
れる。リードフラグがLレベルであるので、タイミング
発生回路89においてANDゲート78及びANDゲー
ト68がLレベルになり、セットリセット回路79及び
セットリセット回路70はセットされない。したがっ
て、ライト動作時はDCK1及びMAENはLOWレベ
ルに固定され、メインアンプ93は動作を停止する。
When the write input enable signal goes high, the tri-state buffer 97 and tri-state inverter 98 are enabled in FIG.
The bit line m and / or the bit line m are forcibly rewritten with the information voltage of the signal obtained by latching the data input which is the output of the FF 112, and this information voltage is written to the memory cell Mnm. Since the read flag is at the L level, the AND gate 78 and the AND gate 68 in the timing generation circuit 89 go to the L level, and the set reset circuit 79 and the set reset circuit 70 are not set. Therefore, during the write operation, DCK1 and MAEN are fixed at the LOW level, and the main amplifier 93 stops operating.

【0041】また、DOENがLレベルであるため、A
NDゲート84がLレベルになり、DCK2はLレベル
に固定される。また、CLKD3を遅延回路6(59)
で遅延時間DLY6だけ遅らせた信号CLKD5が遅延
回路3(56)とインバータ71に入力され、CLKD
5の立ち上がりに同期したワンショットパルスが出力さ
れる。セットリセット回路66、70がリセットされ、
YLEN、/PRSがHレベルからLレベルに立ち下が
り、次のデータの読み出しに備えてデータ線及び/デー
タ線がプリチャージされ、列信号YL0〜YLMがすべ
てLレベルになり、NchトランジスタTG00〜TG
M0、TG01〜TGM1がすべてオフになる。
Since DOEN is at L level, A
The ND gate 84 goes low, and DCK2 is fixed at the low level. Further, CLKD3 is supplied to delay circuit 6 (59).
, The signal CLKD5 delayed by the delay time DLY6 is input to the delay circuit 3 (56) and the inverter 71,
A one-shot pulse synchronized with the rise of 5 is output. The set reset circuits 66 and 70 are reset,
YLEN and / PRS fall from the H level to the L level, the data lines and / data lines are precharged in preparation for the next data read, all the column signals YL0 to YLM go to the L level, and the Nch transistors TG00 to TG
M0 and TG01 to TGM1 are all turned off.

【0042】時刻t3、t4、t5においても時刻t2
のときと同じようにクロック入力の立ち上がりにおい
て、第1及び第2の入力が共にLレベルであり、/ライ
トイネーブル信号がLレベルであるから、前述したよう
にクロックの立ち上がりで列アドレスをラッチして、ラ
ッチした列アドレス3で選択されたメモリセルにクロッ
クの立ち上がりでラッチした入力データを書き込む。
At times t3, t4 and t5, time t2
Similarly, at the rising edge of the clock input, the first and second inputs are both at the L level and the write enable signal is at the L level. Therefore, as described above, the column address is latched at the rising edge of the clock. Then, the input data latched at the rising edge of the clock is written to the memory cell selected by the latched column address 3.

【0043】以上説明したように、クロック入力がLレ
ベルからHレベルに変化したときに、行アドレス制御信
号(第1の入力)及び列アドレス制御信号(第2の入
力)が共にLレベルであり、/ライトイネーブル信号が
Hレベルであれば、行アドレス及び列アドレスで選択さ
れたメモリセルのデータが読み出される。また、クロッ
ク入力がLレベルからHレベルに変化したときに、行ア
ドレス制御信号及び列アドレス制御信号が共にLレベル
であり、/ライトイネーブル信号がLレベルであれば、
行アドレス及び列アドレスで選択されたメモリセルにデ
ータが書き込まれる。このようなDRAMの回路構成と
したことにより、DRAMのページモードでの読み出し
又は書き込みを連続して行う場合、行アドレス制御信号
及び列アドレス制御信号を共にLレベルに設定し、列ア
ドレスをクロック信号に同期させて与えれば、クロック
信号が変化する度にデータの読み出し又は書き込みが連
続して実行される。したがって、前述した従来の一般的
なDRAMに比べて制御が容易になる。
As described above, when the clock input changes from L level to H level, both the row address control signal (first input) and the column address control signal (second input) are at L level. , / Write enable signal is at H level, the data of the memory cell selected by the row address and the column address is read. When the clock input changes from L level to H level, if both the row address control signal and the column address control signal are at L level and the / write enable signal is at L level,
Data is written to the memory cell selected by the row address and the column address. With such a DRAM circuit configuration, when reading or writing is continuously performed in the page mode of the DRAM, both the row address control signal and the column address control signal are set to L level, and the column address is set to the clock signal. , Data is read or written continuously each time the clock signal changes. Therefore, control becomes easier as compared with the conventional general DRAM described above.

【0044】また、行アドレス制御信号(第1の入
力)、列アドレス制御信号(第2の入力)、行アドレ
ス、列アドレス、入力データ、及び/ライトイネーブル
信号をクロック入力に同期させ、タイミング発生回路
(図3の89)がメモリセルの読み出し及び書き込みの
制御タイミング信号の立ち上がり及び立ち下がりのタイ
ミングをクロック入力のみから生成している。したがっ
て、タイミング生成回路を簡単な回路構成で実現するこ
とができる。また信号選択回路(図1の34)の働きに
より、ロジック部12がDRAM1にアクセスする場合
は、行アドレスと列アドレスを各別の出力ポートから同
時に与えることができるため、アドレス制御を容易にす
ることができる。つまり、ロジック部で行アドレスと列
アドレスを多重化して出力する回路が不要になり、回路
の簡素化と消費電力の低減が実現される。
The row address control signal (first input), column address control signal (second input), row address, column address, input data, and / or write enable signal are synchronized with clock input to generate timing. The circuit (89 in FIG. 3) generates the rising and falling timings of the read and write control timing signals of the memory cell only from the clock input. Therefore, the timing generation circuit can be realized with a simple circuit configuration. When the logic section 12 accesses the DRAM 1 by the operation of the signal selection circuit (34 in FIG. 1), the row address and the column address can be given simultaneously from the respective output ports, thereby facilitating the address control. be able to. In other words, a circuit for multiplexing and outputting a row address and a column address in the logic unit is not required, thereby simplifying the circuit and reducing power consumption.

【0045】つぎに、上記のようなDRAM1を含む集
積回路200のテスト時における信号選択回路34の動
作について説明する。図1において、テスト時は外部か
ら与えるテスト信号がHレベル、テストモード信号がL
レベルに設定されるので、集積回路200の内部の切り
替え信号1はHレベルに固定され、バーンインテスト信
号と切り替え信号2はLレベルに固定される。したがっ
て、信号選択回路34のセレクタ22〜24、26、2
7、113でA入力が選択されるので、外部入力端子1
〜3、5の信号及び外部入出力端子からトライステート
バッファ116を通った信号が選択される。また、セレ
クタ28〜32、114はB入力、すなわち、セレクタ
22〜24、26、27、113の出力信号を選択す
る。
Next, the operation of the signal selection circuit 34 when testing the integrated circuit 200 including the DRAM 1 as described above will be described. In FIG. 1, during a test, an externally applied test signal is at H level, and a test mode signal is at L level.
Therefore, the switching signal 1 inside the integrated circuit 200 is fixed at the H level, and the burn-in test signal and the switching signal 2 are fixed at the L level. Therefore, the selectors 22 to 24, 26, 2 of the signal selection circuit 34
Since the A input is selected at 7, 113, the external input terminal 1
The signals passing through the tri-state buffer 116 are selected from the signals # 3 to # 5 and the external input / output terminal. The selectors 28 to 32 and 114 select the B input, that is, the output signals of the selectors 22 to 24, 26, 27 and 113.

【0046】この結果、DRAM1には外部入力端子1
〜3、5、及び外部入出力端子の信号が入力される。つ
まり、第1の入力として外部入力端子1が選択され、第
2の入力として外部入力端子2が選択される。また、/
ライトイネーブル信号として外部入力端子3が選択さ
れ、行アドレス及び列アドレスとして外部入力端子5が
選択され、データ入力として外部入出力端子が選択され
る。また、セレクタ25がB入力を選択し、セレクタ3
3がA入力を選択するので、クロック入力として外部入
力端子4の信号が選択される。この時ロジック部の入力
は、1入力反転2入力AND回路17〜21によりLレ
ベルに固定され、ロジック部は動作しない。
As a result, the DRAM 1 has the external input terminal 1
, 3, 5 and external input / output terminals. That is, the external input terminal 1 is selected as the first input, and the external input terminal 2 is selected as the second input. Also,/
The external input terminal 3 is selected as a write enable signal, the external input terminal 5 is selected as a row address and a column address, and the external input / output terminal is selected as a data input. Further, the selector 25 selects the B input, and the selector 3
Since 3 selects the A input, the signal of the external input terminal 4 is selected as the clock input. At this time, the input of the logic unit is fixed at the L level by the one-input inverted two-input AND circuits 17 to 21, and the logic unit does not operate.

【0047】DRAMのアドレス入力として、行アドレ
ス及び列アドレスは共に外部入力端子5から入力され
る。つまり、内蔵DRAM1のテストのために集積回路
200の外部端子数が増加するのを抑えるために、行ア
ドレスと列アドレスを多重化した信号を外部入力端子5
から与える。図3の制御回路図及び図8のテスト時の読
み出し動作タイミングチャートを用いてDRAMのテス
ト時の動作、及び行アドレスと列アドレスを分離する判
別回路の動作を説明する。
As the address input of the DRAM, both the row address and the column address are input from the external input terminal 5. That is, in order to suppress an increase in the number of external terminals of the integrated circuit 200 for testing the built-in DRAM 1, a signal obtained by multiplexing a row address and a column address is output to the external input terminal 5.
Give from. The operation of the DRAM during the test and the operation of the discrimination circuit for separating the row address and the column address will be described with reference to the control circuit diagram of FIG. 3 and the read operation timing chart at the time of test of FIG.

【0048】上述のように、テスト時は外部からの入力
でDRAMの制御を行う。つまり、外部入力端子4から
入力されたクロック入力、外部入力端子1から入力され
た第1の入力、外部入力端子2から入力された第2の入
力、外部入力端子3から入力された/ライトイネーブル
信号、外部入力端子5から入力された行アドレスと列ア
ドレスを多重化した信号、さらに外部入出力端子から入
力されたデータ入力がDRAMに入力される。
As described above, during the test, the DRAM is controlled by an external input. That is, a clock input input from the external input terminal 4, a first input input from the external input terminal 1, a second input input from the external input terminal 2, and a write enable input from the external input terminal 3. A signal, a signal obtained by multiplexing a row address and a column address input from the external input terminal 5, and a data input input from the external input / output terminal are input to the DRAM.

【0049】図8に示すように、クロック入力、第1及
び第2の入力、/ライトイネーブル信号、そして行アド
レスと列アドレスを多重化した信号が入力されたとき、
行アドレスラッチイネーブルは、図3の判別回路におい
て第1の入力をインバータ回路41で反転した信号をD
FF44でラッチし、さらにインバータ回路49で反転
した信号であるから、時刻t1から少し遅れてHレベル
からLレベルに変化し、同様に時刻t7から少し遅れて
LレベルからHレベルに変化する。図3の行アドレスラ
ッチ50は行アドレスラッチイネーブルがHレベルのと
きにクロック入力の立ち上がりでデータを取り込むの
で、時刻t1で行アドレスのデータROW1を取り込
む。また、行アドレスラッチイネーブルがLレベルのと
きはデータをホールドするので、行アドレス3は時刻t
1からt8までROW1を出力し、行アドレスのみの信
号となる。
As shown in FIG. 8, when a clock input, first and second inputs, a / write enable signal, and a signal obtained by multiplexing a row address and a column address are input,
In the row address latch enable, the signal obtained by inverting the first input in the discrimination circuit of FIG.
Since the signal is latched by the FF 44 and further inverted by the inverter circuit 49, it changes from the H level to the L level a little after the time t1, and similarly changes from the L level to the H level a little after the time t7. Since the row address latch 50 in FIG. 3 takes in data at the rising edge of the clock input when the row address latch enable is at the H level, it takes in the row address data ROW1 at time t1. When the row address latch enable is at the L level, data is held.
ROW1 is output from 1 to t8, and becomes a signal of only the row address.

【0050】列アドレスラッチイネーブルは、図3の判
別回路118において第1の入力をインバータ回路41
で反転した信号と、第2の入力をインバータ回路42で
反転した信号を入力とするAND回路51の出力信号で
あるので、時刻t1の後に第2の入力がHレベルからL
レベルに変化した後、LレベルからHレベルに変化し、
同様に時刻t6の後に第1の入力がLレベルからHレベ
ルに変化した後、HレベルからLレベルに変化する。
The column address latch enable is such that the first input in the determination circuit 118 of FIG.
, And the output signal of the AND circuit 51 which receives the signal obtained by inverting the second input by the inverter circuit 42, the second input is changed from the H level to the L level after the time t1.
After changing to L level, it changes from L level to H level,
Similarly, after the time t6, the first input changes from the L level to the H level, and then changes from the H level to the L level.

【0051】列アドレスラッチ53は列アドレスラッチ
イネーブルがHレベルのときにクロック入力の立ち上が
りでデータを取り込むので、時刻t2で列アドレスのデ
ータCOL1を取り込み、時刻t3で列アドレスのデー
タCOL2を取り込み、時刻t4で列アドレスのデータ
COL3を取り込み、時刻t5で列アドレスのデータC
OL4を取り込み、時刻t6で列アドレスのデータCO
L5を取り込む。従って、列アドレス3は時刻t2から
時刻t7までCOL1〜COL5を出力し、列アドレス
のみの信号となる。このように、行アドレスと列アドレ
スを多重化した外部入力端子5の信号を判別回路118
で行アドレスと列アドレスに分離する。その後の動作は
通常動作時と同様に行アドレス3と列アドレス3で指定
したメモリセルのデータを読み出し、外部入出力端子に
出力する。書き込み動作時も同様に判別回路118で行
アドレスと列アドレスを分離し、メモリセルを指定して
データを書き込む。
Since the column address latch 53 takes in data at the rising edge of the clock input when the column address latch enable is at the H level, it takes in the column address data COL1 at time t2, and takes in the column address data COL2 at time t3. At time t4, the column address data COL3 is fetched, and at time t5, the column address data C
OL4 is taken in, and at time t6, the column address data CO
Import L5. Therefore, the column address 3 outputs COL1 to COL5 from time t2 to time t7, and becomes a signal of only the column address. As described above, the signal of the external input terminal 5 obtained by multiplexing the row address and the column address is determined by the determination circuit 118.
Separates into a row address and a column address. In the subsequent operation, data in the memory cell specified by the row address 3 and the column address 3 is read out and output to the external input / output terminal as in the normal operation. At the time of a write operation, similarly, a row address and a column address are separated by the determination circuit 118, and data is written by specifying a memory cell.

【0052】以上説明したようにDRAMテスト時に
は、行アドレスと列アドレスを多重化した信号を外部か
ら与え、判別回路118で行アドレスと列アドレスを分
離することにより、内蔵DRAMのテストのために集積
回路の外部端子数が増加するのを抑えている。
As described above, at the time of the DRAM test, a signal obtained by multiplexing the row address and the column address is externally supplied, and the discrimination circuit 118 separates the row address and the column address. The increase in the number of external terminals of the circuit is suppressed.

【0053】(実施形態2)図5に、本発明の実施形態
2に係る集積回路のバーンインテスト装置300のシス
テム構成を示す。図中、46はバーンインテスト信号発
生器であり、ロジック部(マイクロコンピュータ又はロ
ジック回路)のバーンインテスト用パターン信号とDR
AM用クロック信号及びバーンイン切り替え信号を発生
する。k00〜kmnは複数の集積回路を同時にテスト
するための複数のソケットであり、バーンインテスト用
のバーンインボード100に搭載されている。
(Embodiment 2) FIG. 5 shows a system configuration of a burn-in test apparatus 300 for an integrated circuit according to Embodiment 2 of the present invention. In the figure, reference numeral 46 denotes a burn-in test signal generator, which outputs a burn-in test pattern signal and a DR of a logic section (microcomputer or logic circuit).
An AM clock signal and a burn-in switching signal are generated. k00 to kmn are a plurality of sockets for simultaneously testing a plurality of integrated circuits, and are mounted on a burn-in board 100 for a burn-in test.

【0054】以下、バーンインテスト装置300を用い
て集積回路のバーンインテストを行う方法について説明
する。集積回路200のテストモード信号(図1参照)
がバインボード100上でHレベルに固定され、バーン
インテスト信号発生器46がバーンイン切替信号をLレ
ベルにすると、集積回路200のセレクタ28〜32
(図1)はA入力を選択して出力するため、ロジック部
12の信号によりDRAM1が制御されるモードに設定
される。バーンインテスト信号発生器46はバーンイン
ボード100上のk00〜kmnのソケットにロジック
部のバーンイン用テストパターン信号を与え、DRAM
用クロック信号を停止して、集積回路200のロジック
部のバーンインテストをDRAMを使用して行う。ロジ
ック部のバーンインテストが終了すると、バーンインテ
スト信号発生器46は、バーンイン切替信号をHレベル
にして、ロジック部用テストパターン信号発生器を停止
し、DRAM用クロック信号をソケットk00〜kmn
に印加する。集積回路200は、テストモード信号がH
レベルに固定されており、バーンイン切り替え信号がH
レベルであるので、ANDゲート13の出力がHレベル
になり、バーンインテスト信号がHレベルになる。その
結果、バーンインパターン発生回路11が動作を開始
し、NORゲート15の出力である切り替え信号1がL
レベルになり、兼用端子である外部入力端子1〜5の信
号が論理ゲート17〜21を介してロジック部12に入
力される。
Hereinafter, a method for performing a burn-in test on an integrated circuit using the burn-in test apparatus 300 will be described. Test mode signal of integrated circuit 200 (see FIG. 1)
Is fixed at the H level on the bind board 100, and when the burn-in test signal generator 46 sets the burn-in switching signal to the L level, the selectors 28 to 32 of the integrated circuit 200
1 is set to a mode in which the DRAM 1 is controlled by a signal of the logic unit 12 to select and output the A input. The burn-in test signal generator 46 supplies a burn-in test pattern signal of the logic section to sockets k00 to kmn on the burn-in board 100,
The clock signal for use is stopped, and a burn-in test of the logic section of the integrated circuit 200 is performed using a DRAM. When the burn-in test of the logic section is completed, the burn-in test signal generator 46 sets the burn-in switching signal to the H level, stops the logic section test pattern signal generator, and outputs the DRAM clock signal to the sockets k00 to kmn.
Is applied. The integrated circuit 200 has the test mode signal H
Level and the burn-in switching signal is H
Therefore, the output of the AND gate 13 goes high, and the burn-in test signal goes high. As a result, the burn-in pattern generation circuit 11 starts operating, and the switching signal 1 output from the NOR gate 15 becomes low.
Level, and the signals of the external input terminals 1 to 5 which are dual-purpose terminals are input to the logic unit 12 via the logic gates 17 to 21.

【0055】この時、インバータ16の出力である切り
替え信号2がHレベルになるため、セレクタ22〜27
はB入力を選択し、セレクタ28〜32はB入力を選択
する。したがって、DRAM1の第1の入力、第2の入
力、/ライトイネーブル信号、クロック入力、行アドレ
ス、列アドレス、入力データとして、バーンインパター
ン発生回路11の出力信号が与えられる。バーンインパ
ターン発生回路11は、図9のタイミングチャートに示
すように、外部入力端子4から入力されたクロックを分
周して得られるクロック2をDRAMに与え、行アドレ
ス制御信号2、列アドレス制御信号2、ライトイネーブ
ル制御信号2、行アドレス2、列アドレス2、バーンイ
ン入力データを生成する。
At this time, since the switching signal 2 output from the inverter 16 becomes H level, the selectors 22 to 27
Selects the B input, and the selectors 28 to 32 select the B input. Therefore, an output signal of the burn-in pattern generation circuit 11 is provided as a first input, a second input, a write enable signal, a clock input, a row address, a column address, and input data of the DRAM 1. As shown in the timing chart of FIG. 9, the burn-in pattern generation circuit 11 supplies the DRAM 2 with the clock 2 obtained by dividing the clock input from the external input terminal 4, and supplies the row address control signal 2, the column address control signal 2. Write enable control signal 2, row address 2, column address 2, and burn-in input data are generated.

【0056】最初のライトサイクルで行アドレス2及び
列アドレス2で指定したアドレスにバーンイン入力デー
タ(図9ではデータA)が書き込まれ、次のリードサイ
クルで同じアドレスのデータAが読み出される。リード
サイクルが終了すると、列アドレスは変化せずに行アド
レスがインクリメントされ、同じように書き込みと読み
出しを行う。アドレスをインクリメントしながら全アド
レス空間の書き込みと読み出しを繰り返し行い、メモリ
セルにストレスを印加することによってDRAMのバー
ンインテストが行われる。
In the first write cycle, burn-in input data (data A in FIG. 9) is written to the address specified by row address 2 and column address 2, and data A of the same address is read in the next read cycle. When the read cycle ends, the row address is incremented without changing the column address, and writing and reading are performed in the same manner. Writing and reading of the entire address space are repeated while incrementing the address, and a burn-in test of the DRAM is performed by applying stress to the memory cells.

【0057】以上説明したように、本発明のDRAM内
蔵集積回路はDRAMテスト用のバーンインパターン発
生回路を備えているので、DRAMのバーンインテスト
時に必要な外部信号はDRAM用クロック信号とバーン
イン切り替え信号の2本だけでよい。したがって、ロジ
ック部のバーンイン時とDRAMのバーンイン時とでバ
ーンインボードの仕様をほとんど変える必要が無く、同
一のバーンインボードを用いてロジック部とDRAMの
バーンインテストを行うことができる。しかも、バーン
イン切り替え信号を用いて、外部からソフトウェアでロ
ジック部のバーンインとDRAMのバーンインとのモー
ド切替を行うことができるので、テストが効率的にな
る。
As described above, since the integrated circuit with a built-in DRAM of the present invention is provided with the burn-in pattern generating circuit for the DRAM test, the external signals necessary for the burn-in test of the DRAM are the clock signal for the DRAM and the burn-in switching signal. Only two are required. Therefore, there is almost no need to change the specifications of the burn-in board between the burn-in of the logic section and the burn-in of the DRAM, and the burn-in test of the logic section and the DRAM can be performed using the same burn-in board. In addition, the mode can be switched between the burn-in of the logic unit and the burn-in of the DRAM by software from outside using the burn-in switching signal, so that the test becomes efficient.

【0058】また、バーンイン切り替え信号をLレベル
に設定してロジック部がDRAMを制御するモードにす
れば、ロジック部のバーンインテストをDRAMを使用
して行うことができるので、外部とDRAMとの間でや
りとりする信号が不要になる。ロジック単体でバーンイ
ンテストを行う場合に比べてテストピンを削減すること
ができると共に、集積回路に与えるテストパターンを外
部で作る必要が無くなる。さらに、内部回路又は外部か
ら予めDRAMにテストパターンデータを書いておいて
ロジック部のテストを行えば、外部からテストパターン
を与える場合に比べて高速で動作させることができるの
でテスト時間が短縮される。
If the burn-in switching signal is set to L level and the logic section is set to the mode in which the DRAM is controlled, the burn-in test of the logic section can be performed by using the DRAM. No need to exchange signals. The number of test pins can be reduced as compared with the case where the burn-in test is performed by the logic alone, and the need to externally create a test pattern to be given to the integrated circuit is eliminated. Furthermore, if the test of the logic portion is performed by writing test pattern data in the DRAM in advance from an internal circuit or an external device, the operation can be performed at a higher speed than in the case where a test pattern is externally provided, so that the test time is reduced. .

【0059】(実施形態3)つぎに、本発明の実施形態
3に係る集積回路のバーンインテストについて説明す
る。図5においてテストモード信号がHレベルに固定さ
れた状態でバーンインテスト信号発生器46からのバー
ンイン切り替え信号をHレベルに設定すると、図1にお
いて集積回路200のANDゲート13の出力がHレベ
ルになりバーンインテスト信号がHレベルになる。ま
た、信号選択回路34において、NORゲート15の出
力である切り替え信号1がLレベルになり、兼用端子で
ある外部入力端子1〜5の信号が論理ゲート17〜21
を通ってロジック部12に入力される。
(Embodiment 3) Next, a burn-in test of an integrated circuit according to Embodiment 3 of the present invention will be described. When the burn-in switching signal from the burn-in test signal generator 46 is set to H level in FIG. 5 with the test mode signal fixed at H level, the output of the AND gate 13 of the integrated circuit 200 becomes H level in FIG. The burn-in test signal goes high. Further, in the signal selection circuit 34, the switching signal 1 which is the output of the NOR gate 15 becomes L level, and the signals of the external input terminals 1 to 5 which are the shared terminals are changed to the logic gates 17 to 21.
And is input to the logic unit 12.

【0060】この時、インバータ16の出力である切り
替え信号2がHレベルになるため、セレクタ22〜27
はB入力を選択し、セレクタ28〜32はB入力を選択
する。この結果、DRAM1の第1の入力、第2の入
力、/ライトイネーブル信号、クロック入力、行アドレ
ス、列アドレス、入力データとして、バーンインパター
ン発生回路11の出力信号が与えられる。バーンインテ
スト信号がHレベルであるので、バーンインパターン発
生回路11は、実施形態2と同様にアドレスをインクリ
メントしながら全アドレス空間の書き込みと読み出しと
を繰り返し行い、メモリセルにストレスを印加すること
によりDRAMのバーンインテストが行われる。同時
に、バーンインテスト信号発生器46は、外部入力端子
1〜5を含む複数本の信号により、バーンインボード上
のソケットK00〜ソケットKmnにロジック部のバー
ンインテストパターンを与える。このようにして、ロジ
ック部12のバーンインテストと同時にDRAMのバー
ンインテストを行う。
At this time, since the switching signal 2 output from the inverter 16 becomes H level, the selectors 22 to 27
Selects the B input, and the selectors 28 to 32 select the B input. As a result, an output signal of the burn-in pattern generation circuit 11 is provided as a first input, a second input, a write enable signal, a clock input, a row address, a column address, and input data of the DRAM 1. Since the burn-in test signal is at the H level, the burn-in pattern generation circuit 11 repeats writing and reading of the entire address space while incrementing the address in the same manner as in the second embodiment, and applies stress to the memory cells to thereby increase the DRAM. Burn-in test is performed. At the same time, the burn-in test signal generator 46 gives a burn-in test pattern of the logic section to the sockets K00 to Kmn on the burn-in board by a plurality of signals including the external input terminals 1 to 5. In this way, the burn-in test of the DRAM is performed simultaneously with the burn-in test of the logic unit 12.

【0061】以上説明したように、本発明の集積回路2
00はDRAM用バーンインパターン発生回路を備えて
いるので、DRAMのバーンインテスト時に必要な外部
信号は、DRAM用クロック信号とバーンイン切り替え
信号だけでよい。そこで、信号選択回路34により外部
入力端子1〜5及び外部入出力端子をロジック部で使用
できるように切り替えることにより、DRAMのバーン
インテストと並列にロジック部のバーンインテストを行
う場合でも、DRAM用クロック信号とバーンイン切り
替え信号とテストモード信号以外のすべての外部端子を
ロジック部のバーンインテストに用いることができる。
このようにして、多くの外部端子が必要なロジック部の
バーンインテストをDRAMのバーンインテストと並列
に行うことができる。
As described above, the integrated circuit 2 of the present invention
Since 00 has a DRAM burn-in pattern generation circuit, only external signals required for a DRAM burn-in test are a DRAM clock signal and a burn-in switching signal. Therefore, by switching the external input terminals 1 to 5 and the external input / output terminal so that they can be used in the logic unit by the signal selection circuit 34, even when the burn-in test of the logic unit is performed in parallel with the burn-in test of the DRAM, the clock for DRAM is All external terminals other than the signal, the burn-in switching signal, and the test mode signal can be used for the burn-in test of the logic unit.
In this way, the burn-in test of the logic section requiring many external terminals can be performed in parallel with the burn-in test of the DRAM.

【0062】半導体の微細化技術の進歩に伴って内蔵す
るDRAMの容量及びビット幅が大きくなり、DRAM
のテスト用の信号本数が多くなり、DRAMのテストを
行うための兼用端子が多くなったとしても、ロジック部
のバーンインテストを行うための外部端子として兼用端
子を使用できるので、DRAMのバーンインテストと並
列にロジック部のバーンインテストを支障無く行うこと
ができる。その結果、バーンイン時のテスト時間を削減
することができる。
With the advance of semiconductor miniaturization technology, the capacity and bit width of a built-in DRAM have increased,
Even if the number of test signals for the DRAM increases and the number of dual-purpose terminals for testing the DRAM increases, the dual-purpose terminals can be used as external terminals for performing the burn-in test of the logic section. The burn-in test of the logic unit can be performed in parallel without any trouble. As a result, the test time at the time of burn-in can be reduced.

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のDRAM
の回路構成によれば、ページモードでの読み出し又は書
き込みを連続して行う場合、行アドレス制御信号をLレ
ベル、列アドレス制御信号をLレベルに設定し、列アド
レスをクロックに同期して与えれば、クロックが変化す
るたびに連続してデータの読み出し又は書き込みが行わ
れる。この結果、DRAMの制御を容易にすることがで
きる。
As described above, the DRAM of the present invention
According to the circuit configuration of (1), when reading or writing is continuously performed in the page mode, the row address control signal is set to L level, the column address control signal is set to L level, and the column address is given in synchronization with the clock. Data reading or writing is performed continuously every time the clock changes. As a result, control of the DRAM can be facilitated.

【0064】また、行アドレス制御信号、列アドレス制
御信号、行アドレス、列アドレス、入力データ、/ライ
トイネーブル信号をクロック入力に同期させるので、メ
モリセルの読み出し及び書き込みの制御タイミング信号
の立ち上がり及び立ち下がりのタイミングをクロック入
力のみから生成するタイミング生成回路を簡単な回路構
成で実現することができる。
Further, since the row address control signal, the column address control signal, the row address, the column address, the input data, and the / write enable signal are synchronized with the clock input, the rising and falling of the control timing signal for reading and writing of the memory cell. A timing generation circuit that generates a falling timing only from a clock input can be realized with a simple circuit configuration.

【0065】また、本発明のDRAM内蔵集積回路によ
れば、集積回路内部でのアドレス制御を容易にし、ロジ
ック部での回路の簡素化と消費電力の低減を実現しなが
ら、内蔵DRAMのテストのために必要な外部入力端子
の増加を抑えることができる。さらに、本発明の集積回
路のバーンインテスト方法によれば、内蔵DRAMを有
効に用いて、テスト時間の短縮を実現することができ
る。
According to the integrated circuit with a built-in DRAM of the present invention, the address control inside the integrated circuit is facilitated, the circuit in the logic section is simplified, and the power consumption is reduced. Therefore, it is possible to suppress an increase in the number of external input terminals required. Further, according to the burn-in test method for an integrated circuit of the present invention, the test time can be reduced by effectively using the built-in DRAM.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施形態1に係る集積回路の構成を示
す回路図
FIG. 1 is a circuit diagram showing a configuration of an integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1の集積回路に内蔵されたDRAMのシステ
ム構成図
FIG. 2 is a system configuration diagram of a DRAM built in the integrated circuit of FIG. 1;

【図3】図1の集積回路における制御回路図FIG. 3 is a control circuit diagram in the integrated circuit of FIG. 1;

【図4】図1の集積回路におけるメモリセルとその周辺
の回路図
FIG. 4 is a circuit diagram of a memory cell and its periphery in the integrated circuit of FIG. 1;

【図5】本発明の実施形態2及び実施形態3に係るバー
ンインテスト装置のシステム構成図
FIG. 5 is a system configuration diagram of a burn-in test apparatus according to Embodiments 2 and 3 of the present invention.

【図6】図1の集積回路の通常動作時におけるDRAM
のページモードでの読み出しタイミングチャート
FIG. 6 shows a DRAM during a normal operation of the integrated circuit of FIG.
Timing chart in page mode

【図7】図1の集積回路の通常動作時におけるDRAM
のページモードでの書き込みタイミングチャート
FIG. 7 is a diagram illustrating a DRAM during a normal operation of the integrated circuit of FIG. 1;
Timing chart in page mode

【図8】図1の集積回路のテスト時におけるDRAMの
読み出しタイミングチャート
8 is a timing chart of a read operation of the DRAM during the test of the integrated circuit of FIG. 1;

【図9】図5のバーンインテスト装置におけるバーンイ
ンパターン発生回路のタイミングチャート
9 is a timing chart of a burn-in pattern generation circuit in the burn-in test device of FIG.

【図10】従来の一般的なDRAMのシステム構成図FIG. 10 is a system configuration diagram of a conventional general DRAM.

【図11】従来のDRAMのEDO方式のページモード
読み出しタイミング図
FIG. 11 is a timing chart of a page mode read operation of the conventional DRAM in the EDO system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 DRAM 2 制御回路 3 行選択回路 4 列選択回路 5 メモリセルアレイ 6 センスアンプ 7 メインアンプ 11 バーンインパターン発生回路 12 ロジック部 34 信号選択回路 46 バーンインテスト信号発生器 50 行アドレスラッチ 53 列アドレスラッチ 89 タイミング発生回路 100 バーンインボード 118 判別回路 200 集積回路 300 バーンインテスト装置 Reference Signs List 1 DRAM 2 control circuit 3 row selection circuit 4 column selection circuit 5 memory cell array 6 sense amplifier 7 main amplifier 11 burn-in pattern generation circuit 12 logic section 34 signal selection circuit 46 burn-in test signal generator 50 row address latch 53 column address latch 89 timing Generation circuit 100 Burn-in board 118 Discrimination circuit 200 Integrated circuit 300 Burn-in test device

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G11C 11/34 371A Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G11C 11/34 371A

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 クロック入力、行アドレスを制御する第
1の入力、列アドレスを制御する第2の入力、行アドレ
ス及び列アドレスで読み出し又は書き込み対象のメモリ
セルが特定されるメモリセルアレイ、及び前記メモリセ
ルアレイの列線に出力されたメモリセルのデータを増幅
するセンスアンプを備え、 前記第1の入力を前記クロック入力に同期させた信号が
変化して第1の論理レベルになるに伴って、前記行アド
レスを前記クロック入力に同期させた信号により選択さ
れた行線に接続されたメモリセルのデータを前記センス
アンプで増幅し、 引き続いて、前記クロック入力が変化するたびに、前記
第1の入力が第1の論理レベルであり、かつ、前記第2
の入力が所定の論理レベルであれば、前記列アドレスを
前記クロックに同期させた信号により選択された列線に
接続されたセンスアンプにより、データの読み出し又は
書き込みを行うことを特徴とするDRAM。
1. A memory cell array in which a memory cell to be read or written is specified by a clock input, a first input for controlling a row address, a second input for controlling a column address, a row address and a column address, and A sense amplifier for amplifying the data of the memory cell output to the column line of the memory cell array, and as a signal synchronized with the first input to the clock input changes to a first logic level, The sense amplifier amplifies data of a memory cell connected to a row line selected by a signal in which the row address is synchronized with the clock input. Subsequently, each time the clock input changes, the first The input is at a first logic level and the second
If the input is a predetermined logical level, data is read or written by a sense amplifier connected to a column line selected by a signal in which the column address is synchronized with the clock.
【請求項2】 行アドレス及び列アドレスを有するDR
AMとロジック部とを含む集積回路であって、通常動作
時は前記ロジック部が前記DRAMに行アドレス及び列
アドレスを与え、前記DRAMのテスト時は前記行アド
レス及び列アドレスを多重化した信号が外部から与えら
れることを特徴とする集積回路。
2. A DR having a row address and a column address.
An integrated circuit including an AM and a logic unit, wherein the logic unit supplies a row address and a column address to the DRAM during a normal operation, and a signal obtained by multiplexing the row address and the column address during a test of the DRAM. An integrated circuit provided externally.
【請求項3】 DRAMとロジック部とを含む集積回路
であって、外部入力端子からのアドレス信号と前記ロジ
ック部からのアドレス信号とのいずれか一方を選択して
前記DRAMに与える信号選択回路を備え、通常動作時
は前記ロジック部から出力された行アドレス及び列アド
レスの信号を前記信号選択回路が同時に選択して前記D
RAMに与え、前記DRAMのテスト時は前記外部入力
端子から入力される行アドレス及び列アドレスが時分割
多重された信号を前記信号選択回路が選択して前記DR
AMに与え、前記DRAM内の判別回路が前記時分割多
重された信号を行アドレスと列アドレスに分離すること
を特徴とする集積回路。
3. An integrated circuit including a DRAM and a logic unit, wherein the signal selection circuit selects one of an address signal from an external input terminal and an address signal from the logic unit and supplies the selected signal to the DRAM. During normal operation, the signal selecting circuit simultaneously selects the row address and column address signals output from the logic unit,
The signal selection circuit selects a signal in which a row address and a column address input from the external input terminal are time-division multiplexed and supplied to the RAM when testing the DRAM.
An integrated circuit provided to an AM, wherein a determination circuit in the DRAM separates the time-division multiplexed signal into a row address and a column address.
【請求項4】 DRAMと、ロジック部と、前記DRA
Mのバーンインテストを行うためのテストパターン発生
回路と、前記テストパターン発生回路が発生する信号に
基づいて前記DRAMのバーンインテストを行うモード
又は前記ロジック部のバーンインテストを行うモードを
選択するための外部入力端子とを備えていることを特徴
とする集積回路。
4. A DRAM, a logic unit, and the DRA
A test pattern generation circuit for performing a burn-in test for M, and an external circuit for selecting a mode for performing a burn-in test for the DRAM or a mode for performing a burn-in test for the logic unit based on a signal generated by the test pattern generation circuit. An integrated circuit, comprising: an input terminal.
【請求項5】 DRAMと、ロジック部と、前記DRA
Mのバーンインテストを行うためのテストパターン発生
回路とを含む集積回路であって、前記DRAMと前記ロ
ジック部と前記テストパターン発生回路とによって兼用
される複数の外部端子と、前記外部端子の信号選択回路
とを備え、通常常動作時は前記外部端子をロジック部が
使用し、前記DRAMの動作テスト時は前記外部端子を
DRAMが使用し、前記テストパターン発生回路による
前記DRAMのバーンインテスト時には前記外部端子を
前記テストパターン発生回路とロジック部が使用するよ
うに、前記信号選択回路が前記外部端子の接続先を切り
替えることを特徴とする集積回路。
5. A DRAM, a logic unit, and the DRA
An integrated circuit including a test pattern generating circuit for performing a burn-in test of M, a plurality of external terminals shared by the DRAM, the logic unit, and the test pattern generating circuit, and a signal selection of the external terminal. A logic unit normally uses the external terminals during normal operation, uses the external terminals during the operation test of the DRAM, and uses the external terminal during a burn-in test of the DRAM by the test pattern generation circuit. An integrated circuit, wherein the signal selection circuit switches a connection destination of the external terminal so that a terminal is used by the test pattern generation circuit and a logic unit.
【請求項6】 DRAMと、ロジック部と、前記DRA
Mのバーンインテストを行うためのテストパターン発生
回路とを内蔵した集積回路のバーンインテスト方法であ
って、所定の外部入力信号を第1の論理レベルに設定す
ることにより、前記テストパターン発生回路が発生する
信号に基づいて前記DRAMの書き込み及び読み出しを
行い、メモリセルにストレスを印加することによって前
記DRAMのバーンインテストを行い、前記外部入力信
号を第2の論理レベルに設定することにより、前記ロジ
ック部のバーンインテストを行うことを特徴とする集積
回路のバーンインテスト方法。
6. A DRAM, a logic unit, and the DRA
A burn-in test method for an integrated circuit including a test pattern generation circuit for performing a burn-in test of M. The test pattern generation circuit generates a test pattern by setting a predetermined external input signal to a first logic level. The read / write operation of the DRAM is performed based on a signal to be performed, a burn-in test of the DRAM is performed by applying a stress to a memory cell, and the external input signal is set to a second logic level. A burn-in test for an integrated circuit.
【請求項7】 前記ロジック部のバーンインテストにお
いて、前記ロジック部が前記DRAMにアクセスするこ
とを特徴とする請求項5記載の集積回路のバーンインテ
スト方法。
7. The integrated circuit burn-in test method according to claim 5, wherein in said burn-in test of said logic unit, said logic unit accesses said DRAM.
JP31561397A 1997-11-17 1997-11-17 Integrated circuit including DRAM Expired - Fee Related JP3707919B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31561397A JP3707919B2 (en) 1997-11-17 1997-11-17 Integrated circuit including DRAM

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31561397A JP3707919B2 (en) 1997-11-17 1997-11-17 Integrated circuit including DRAM

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11149767A true JPH11149767A (en) 1999-06-02
JP3707919B2 JP3707919B2 (en) 2005-10-19

Family

ID=18067480

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31561397A Expired - Fee Related JP3707919B2 (en) 1997-11-17 1997-11-17 Integrated circuit including DRAM

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3707919B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006214839A (en) * 2005-02-03 2006-08-17 Fujitsu Ltd Apparatus and method for generating test pattern for device with built-in memory
JP2009043381A (en) * 2007-08-10 2009-02-26 Fujitsu Microelectronics Ltd Semiconductor memory, method and system for testing semiconductor memory
CN102750975A (en) * 2005-09-30 2012-10-24 莫塞德技术公司 Daisy chain cascading devices

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006214839A (en) * 2005-02-03 2006-08-17 Fujitsu Ltd Apparatus and method for generating test pattern for device with built-in memory
CN102750975A (en) * 2005-09-30 2012-10-24 莫塞德技术公司 Daisy chain cascading devices
CN102750975B (en) * 2005-09-30 2015-09-09 考文森智财管理公司 Daisy chain cascading devices
JP2009043381A (en) * 2007-08-10 2009-02-26 Fujitsu Microelectronics Ltd Semiconductor memory, method and system for testing semiconductor memory

Also Published As

Publication number Publication date
JP3707919B2 (en) 2005-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3013714B2 (en) Semiconductor storage device
KR100915554B1 (en) A semiconductor memory
JPH11195296A (en) Semiconductor memory
JPH11191292A (en) Semiconductor memory and its burst address counter
EP0704849B1 (en) Semiconductor memory device with synchronous dram whose speed grade is not limited
JP3180317B2 (en) Semiconductor storage device
JP3177094B2 (en) Semiconductor storage device
JP3907785B2 (en) Semiconductor memory device
US6388937B2 (en) Semiconductor memory device
JP3078934B2 (en) Synchronous random access memory
JP3351643B2 (en) Semiconductor memory device and method of manufacturing the same
JP2001344994A (en) Synchronous semiconductor memory
JP2999869B2 (en) Memory access method
JP3380828B2 (en) Semiconductor memory device
KR20000005822A (en) Semiconductor integrated circuit memory and bus control method
JP3707919B2 (en) Integrated circuit including DRAM
JPH1186557A (en) Synchronous storage device and data reading method therefor
JPH04212776A (en) Test circuit of semiconductor memory device
JPH0770213B2 (en) Semiconductor memory device
JPH08273368A (en) Semiconductor memory
JPH09180443A (en) Semiconductor memory circuit
JPH08147972A (en) Synchronous memory device
JP2003196985A (en) Semiconductor memory, bit-write method or byte-write method for semiconductor memory
JPH0787035B2 (en) Semiconductor storage device
JP3654013B2 (en) Semiconductor device and test method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040609

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20040728

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050727

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050802

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080812

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090812

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090812

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100812

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110812

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120812

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees