JPH11143069A - Master plate for printed wiring - Google Patents

Master plate for printed wiring

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Publication number
JPH11143069A
JPH11143069A JP30721697A JP30721697A JPH11143069A JP H11143069 A JPH11143069 A JP H11143069A JP 30721697 A JP30721697 A JP 30721697A JP 30721697 A JP30721697 A JP 30721697A JP H11143069 A JPH11143069 A JP H11143069A
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JP
Japan
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group
substituted
alkyl
atom
ring
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP30721697A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shunichi Kondo
俊一 近藤
Yoshihiro Takagi
良博 高木
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Fujifilm Holdings Corp
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Original Assignee
Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Electronic Materials Co Ltd, Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fujifilm Electronic Materials Co Ltd
Priority to JP30721697A priority Critical patent/JPH11143069A/en
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a master plate for printed wiring having a photopolymerizable layer, which has high sensitivity and high resolution for argon laser light or the like and has excellent physical properties of the film by forming a photopolymerizable layer containing a thermoplastic polymer binder, an ethylene-type unsatd. compd., a specified sensitizing dye and a radical polymn. initiator on a substrate provided with a conductive thin film on an electric insulating plate. SOLUTION: A photopolymerizable layer containing a thermoplastic polymer binder, an ethylene-type unsatd. compd., one kind of sensitizing dye selected from compds. expressed by the formula, and a radical polymn. initiator is formed on a substrate provided with a conductive thin film on an electric insulating plate. In the formula, R<1> to R<6> are each independently hydrogen atoms, halogen atoms, alkyl groups, substd. alkyl groups, aryl groups, substd. aryl groups or the like, X is O, S, NH or nitrogen atoms having substituents, G<1> , G<2> may be same or different and are hydrogen atoms, cyano groups alkoxycarbonyl groups, substd. alkoxycarbonyl groups or the like.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプリント配線板の製
造工程において、電気絶縁性板上に導電体薄膜を設けて
なる基板上に光重合層を設けた時に得られる積層物(本
発明において、「プリント配線用原板」と呼ぶ。)に関
し、更に詳しくはアルゴンレーザー光、FD−YAGレ
ーザー光、ヘリウム−ネオンレーザー光等の可視光線に
て描画可能な高感度で、高い解像力を有し、優れた膜物
性を与える前記プリント配線用原板に関する。
The present invention relates to a laminate obtained when a photopolymerization layer is provided on a substrate having a conductive thin film provided on an electrically insulating plate in a manufacturing process of a printed wiring board (in the present invention, More specifically, it is referred to as an “original sheet for printed wiring”.) More specifically, it has a high sensitivity and a high resolution that can be drawn with visible light such as argon laser light, FD-YAG laser light, and helium-neon laser light, and is excellent. The present invention also relates to the above-mentioned original plate for printed wiring, which gives the film physical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント配線板の製造は、一般に、電気
絶縁性板上に導電体薄膜を設けてなる基板上に、光重合
層を設け、画像露光、現像、エッチングを施して基板上
に所望の回路パターンを形成することが行われる。そし
て、近年の電子工業分野における高密度化の要求に伴
い、前記光重合層に対しては更に高い解像度を有するこ
とが期待されている。また工程の時間短縮のために高い
感度が求められている。更にパソコンなどで設計された
プリント配線板の回路図などのデジタルデータをレーザ
ーを用いて光重合層に直接露光することにより、従来の
フィルム作業工程を省略し、工程の効率化を高める研究
が進んでいる。従来、光重合層を形成する光重合性組成
物において、感度を高める研究が進められ、多くの光重
合開始系が提案されてきた。例えば、米国特許第244
8828号明細書に記載のベンゾインエーテル類、米国
特許第3046127号明細書に記載のアンスラキノン
類、特公昭49−11936号公報に記載のアミノフェ
ニルケトンと活性メチレンまたはアミノ化合物、米国特
許第3682641号明細書に記載のミヒラーズケトン
とベンゾフェノン、特公昭48−38403号公報に記
載のベンゾフェノンと4−N,N−ジエチルアミノベン
ゾフェノン、特公昭48−38403号公報に記載のミ
ヒラーズケトンとロフィン二量体、特開昭56−351
34号公報に記載のロフィン二量体と光重合性エチレン
性不飽和単量体、特開昭59−478339号公報に記
載の4−N,N−ジアルキルアミノベンゾフェノンおよ
び有機ハロゲン化合物の三元系などである。これらの光
重合開始系は感度の向上は見られるものの、感光波長と
して450nm以下であり、アルゴン、FD−YAG、ヘ
リウム−ネオンレーザー等の可視レーザーに対しほとん
ど感度がないため、これらのレーザーにより画像を作成
することは不可能であった。
2. Description of the Related Art In general, a printed wiring board is manufactured by providing a photopolymerization layer on a substrate formed by providing a conductive thin film on an electrically insulating plate, and performing image exposure, development, and etching on the substrate. Is formed. With the recent demand for higher density in the field of electronics industry, it is expected that the photopolymerized layer has a higher resolution. Also, high sensitivity is required to shorten the process time. Furthermore, by directly exposing digital data such as a circuit diagram of a printed wiring board designed by a personal computer to the photopolymerized layer using a laser, research has been carried out to omit the conventional film working process and improve the process efficiency. In. Conventionally, studies have been made on increasing the sensitivity of a photopolymerizable composition for forming a photopolymerizable layer, and many photopolymerization initiation systems have been proposed. For example, US Pat.
No. 8828, benzoin ethers described in U.S. Pat. No. 3,046,127, anthraquinones described in Japanese Patent Publication No. 49-11936, aminophenyl ketone and active methylene or amino compound, U.S. Pat. No. 3,682,641 Michler's ketone and benzophenone described in the specification, benzophenone and 4-N, N-diethylaminobenzophenone described in JP-B-48-38403, Michler's ketone and lophine dimer described in JP-B-48-38403, 56-351
No. 34, a ternary system of a photopolymerizable ethylenically unsaturated monomer and a 4-N, N-dialkylaminobenzophenone and an organic halogen compound described in JP-A-59-478339. And so on. Although these photopolymerization initiation systems show an improvement in sensitivity, they have a photosensitive wavelength of 450 nm or less and have little sensitivity to visible lasers such as argon, FD-YAG, and helium-neon lasers. It was impossible to create.

【0003】また、プリント配線板の作成に使用される
光重合層には膜強度も要求され、特にエッチング液に対
する耐性が要求される。プリント配線板の作成に際し
て、光重合層の光硬化部から露出する金属をエッチング
液で溶かし、この光硬化部の下にある金属のみを残こす
ことにより回路パターンを形成するが、この時光硬化部
のエッチング耐性が低いと、エッチング液により溶出し
て、その下の本来回路を形成すべき金属が消失してしま
う。また、ドライフィルムレジストの形で使用される場
合、その膜強度が不足すると、テンティング法によるス
ルーホール作成時に現象やエッチング工程中に膜が破
れ、その結果プリント配線板の表面と裏面とを導通させ
ているスルーホール内部の銅メッキ部分がエッチング液
により溶解して導通不良を起こすことがある。以上のよ
うに、従来の光重合層は、可視光線に対する感度や解像
力、膜物性に関して充分とは言えない状況にある。
Further, the photopolymerized layer used for producing a printed wiring board is required to have a high film strength, and in particular, a resistance to an etching solution. When making a printed wiring board, the metal exposed from the photocured portion of the photopolymerized layer is dissolved with an etchant, and a circuit pattern is formed by leaving only the metal under the photocured portion. If the etching resistance is low, the metal is eluted by the etchant, and the underlying metal that should form a circuit disappears. In addition, when used in the form of a dry film resist, if the film strength is insufficient, the film breaks during the etching process and the phenomenon during the creation of through holes by the tenting method, resulting in conduction between the front and back surfaces of the printed wiring board. In some cases, the copper plating portion inside the through-hole is melted by the etchant to cause conduction failure. As described above, the conventional photopolymerizable layer is in a state where the sensitivity to visible light, the resolving power, and the film properties are not sufficient.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、アルゴン、FD−YAG、ヘリウム−ネオンレーザ
ー等の可視光線に対し高感度で、高い解像力を有し、か
つ優れた膜物性を与える光重合層を備えるプリント配線
用原板を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a light having high sensitivity to visible light such as argon, FD-YAG, helium-neon laser, etc., high resolving power and excellent film properties. An object of the present invention is to provide a printed wiring board having a polymerized layer.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは種々検討を
重ねた結果、ある特定の増感色素を含有する光重合層
が、可視光に対し飛躍的な高感度並びに優れた膜物性を
与えることを発見し、本発明に到達した。即ち、上記の
目的を達成するために、本発明のプリント配線用原板
は、電気絶縁性板上に導電体薄膜を設けた基板上に熱可
塑性高分子結合剤、エチレン性不飽和化合物、下記A群
から選択される少なくとも1種の増感色素及びラジカル
重合開始剤を含有する光重合層を設けたことを特徴とす
る。 A群: 下記一般式(I)で表される化合物
As a result of various studies, the present inventors have found that a photopolymerization layer containing a specific sensitizing dye has remarkably high sensitivity to visible light and excellent film properties. And found the present invention. That is, in order to achieve the above object, the original plate for printed wiring of the present invention comprises a thermoplastic polymer binder, an ethylenically unsaturated compound, A photopolymerization layer containing at least one sensitizing dye selected from the group and a radical polymerization initiator is provided. Group A: a compound represented by the following general formula (I)

【0006】[0006]

【化5】 Embedded image

【0007】(ただし、式中R1 〜R4 は互いに独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ
基、置換アルコキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表
す。またR1 〜R4 はそれが結合する炭素原子と共に非
金属原子からなる環を形成していてもよい。R5 ,R6
は互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ヘ
テロ芳香族基、アシル基、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、カルボキシル基、置換アルケニル基を表す。ま
たR5とR6 は共に非金属原子からなる環を形成してい
てもよい。XはO,S,NH、または置換基を有する窒
素原子を表す。G1 ,G2 は互いに同一でも異なってい
てもよく、各々水素原子、シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基、置換アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、置換アシル基、アリールカルボニル基、置換アリ
ールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、フルオ
ロスルホニル基を表す。ただし、G1 とG2 はそれが結
合する炭素原子と共に非金属原子からなる環を形成して
いてもよい。) 下記一般式(II)で表される化合物
(Wherein R 1 to R 4 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, an amino group, a substituted amino group. the R 1 to R 4 are ring may be the other to form .R 5 consisting of nonmetallic atoms together with the carbon atoms to which it is attached, R 6
Each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a heteroaromatic group, an acyl group, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a carboxyl group, or a substituted alkenyl group. R 5 and R 6 may together form a ring composed of a nonmetallic atom. X represents O, S, NH, or a nitrogen atom having a substituent. G 1 and G 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group, or an aryl group. Carbonyl group, substituted arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group,
Represents an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, or a fluorosulfonyl group. However, G 1 and G 2 may form a ring composed of a non-metallic atom together with the carbon atom to which they are bonded. ) A compound represented by the following general formula (II)

【0008】[0008]

【化6】 Embedded image

【0009】(ただし、式中R7 ,R8 は同一でも異な
っていてもよく、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルコキシカル
ボニル基、アリール基、置換アリール基、アルキニル基
または置換アルキニル基を表す。Aは酸素原子、硫黄原
子、アルキル基またはアリール基により置換された炭素
原子、またはアルキル基2個に置換された炭素原子を表
す。Jは含窒素ヘテロ5員環を形成するのに必要な非金
属原子群を表す。Yはフェニル基、置換フェニル基、無
置換または置換されたヘテロ芳香族環を表す。Z1 は水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置
換アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表し、Z1 とYは互いに結合して環を生
成しても良い。) 下記一般式(III)で表される化合物
(Wherein R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryl group, a substituted aryl group, A represents an alkynyl group or a substituted alkynyl group, A represents a carbon atom substituted by an oxygen atom, a sulfur atom, an alkyl group or an aryl group, or a carbon atom substituted by two alkyl groups, and J represents a nitrogen-containing hetero 5 member. Y represents a phenyl group, a substituted phenyl group, an unsubstituted or substituted heteroaromatic ring, Z 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, Represents an aryl group, a substituted aryl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a substituted amino group, an acyl group, or an alkoxycarbonyl group , Z 1 and Y may combine with each other to form a ring.) A compound represented by the following general formula (III)

【0010】[0010]

【化7】 Embedded image

【0011】(ただし、式中R10〜R13は互いに独立し
て水素原子、炭素数1〜6の非置換または置換アルコキ
シ基、炭素数1〜6の非置換または置換アルケニルオキ
シ基、炭素数1〜6の非置換または置換アルキルチオ
基、各アルキル基の炭素数が1〜4であるジアルキルア
ミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニト
ロ基、または複数環基を表す。R10〜R13の2個または
3個と前記R9 〜R13の置換基が結合されている環構成
炭素原子とが一緒になり各縮合環が5または6員環であ
る縮合環または縮合環系を形成してもよい。R9 は水素
原子、炭素数1〜4の非置換または置換アルキル基また
は炭素数6〜12の非置換または置換アリール基、また
はR14−CO−を表す。ここで、R 14はアルコキシ基、
シクロアルコキシ基、水酸基、アリールオキシ基、アル
ケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコキシカル
ボニルアルコキシ基、アルキルカルボニルアルコキシ
基、あるいは下記(III-a)〜(III-c) で表される置換基
を表す。
(Where RTen~ R13Are independent of each other
Unsubstituted or substituted alkoxy having 1 to 6 carbon atoms
Si group, unsubstituted or substituted alkenyloxy having 1 to 6 carbon atoms
Si group, unsubstituted or substituted alkylthio having 1 to 6 carbon atoms
A dialkyl group having 1 to 4 carbon atoms in each alkyl group
Mino group, hydroxyl group, acyloxy group, halogen atom, nitro
B represents a group or a plurality of ring groups. RTen~ R13Two or
3 pieces and the R9~ R13Ring structure to which the substituent of is attached
Each fused ring is a 5- or 6-membered ring;
Condensed rings or fused ring systems may be formed. R9Is hydrogen
An atom, an unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or
Is an unsubstituted or substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
Is R14Represents -CO-. Where R 14Is an alkoxy group,
Cycloalkoxy group, hydroxyl group, aryloxy group, al
Kenyloxy group, aralkyloxy group, alkoxycal
Bonylalkoxy group, alkylcarbonylalkoxy
Groups or substituents represented by the following (III-a) to (III-c)
Represents

【0012】[0012]

【化8】 Embedded image

【0013】R15〜R18は水素原子、アルキル基、ヒド
ロキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、
アルコキシアルキル基、シクロアルキル基を表し、mは
1〜5であり、nは0〜10である。Q1 はシアノ基、
複素環、または−Z2 −R19を表す。ここでR19は炭素
数1〜10の非置換または置換アルキル基、アルケニル
基、またはアルコキシ基、炭素数6〜12の非置換また
は置換アリール基、炭素数6〜12の非置換または置換
アリールオキシ基、または環を構成する炭素原子および
異原子が5〜15個である非置換または置換複素環基、
または水酸基、アシル基を表す。Z2 はカルボニル基、
スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカル
ボニル基、−(CH=CH)k(kは1または2)を表
す。)
R 15 to R 18 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a hydroxyalkoxyalkyl group,
Represents an alkoxyalkyl group or a cycloalkyl group, m is 1 to 5, and n is 0 to 10. Q 1 is a cyano group,
A heterocyclic or -Z 2 -R 19,. Here, R 19 is an unsubstituted or substituted alkyl group, alkenyl group, or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an unsubstituted or substituted aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. An unsubstituted or substituted heterocyclic group having 5 to 15 carbon atoms and hetero atoms constituting the group or the ring,
Or a hydroxyl group or an acyl group. Z 2 is a carbonyl group,
Represents a sulfonyl group, a sulfinyl group or an arylenedicarbonyl group,-(CH = CH) k (k is 1 or 2). )

【0014】上記した本発明の光重合層が可視光線に対
する高感度並びに優れた膜物性を発現する理由として
は、上記A群に示される増感色素によってエチレン性不
飽和化合物の光重合反応効率が著しく高められることに
よるものと推定される。
The reason why the photopolymerizable layer of the present invention exhibits high sensitivity to visible light and excellent film physical properties is that the photosensitization efficiency of the ethylenically unsaturated compound by the sensitizing dye shown in the above group A is high. It is presumed to be due to a significant increase.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明のプリント配線用原
板に関して詳細に説明する。本発明の光重合層を形成す
る光重合性組成物は、下記に詳述される増感色素(A
群)の少なくとも1種を含む。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a printed wiring board according to the present invention will be described in detail. The photopolymerizable composition for forming the photopolymerizable layer of the present invention comprises a sensitizing dye (A
Group).

【0016】本発明で用いられる増感色素は上記一般式
(I)、一般式(II)または一般式(III)で表される化
合物から選択される。一般式(I)において、R1 〜R
4 のアルキル基としては、メチル、エチル、t−ブチル
等炭素数1〜20個までのものを用いることができる。
また、アリール基としては、フェニル等炭素数1〜10
個までのものを用いることができる。さらに、R1 〜R
4 のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、ブト
キシ等炭素数1〜6個までのものを用いることができ
る。加えて、R1 〜R4 の置換アミノ基としてはメチル
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニル
アミノ、ピペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を
有するアルキルアミノ基、アリールアミノ基を用いるこ
とができる。これらのアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基は、置換
基を有していても良い。また、置換基としては、フッ
素、塩素、臭素等のハロゲン原子、エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基、メトキシ、エトキシ等
のアルコキシ基、フェニルなどのアリール基、シアノ基
等がある。R1 〜R4 がそれと結合させる炭素原子と共
に非金属原子から成る環を形成する場合、環を含む構造
としては下記(A)、(B)、(C)に示すものが挙げ
られる。
The sensitizing dye used in the present invention is selected from the compounds represented by formula (I), formula (II) or formula (III). In the general formula (I), R 1 to R
As the alkyl group 4 , those having 1 to 20 carbon atoms, such as methyl, ethyl and t-butyl, can be used.
Further, as the aryl group, phenyl such as 1 to 10 carbon atoms may be used.
Up to one can be used. Further, R 1 to R
As the alkoxy group ( 4 ), those having 1 to 6 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy and butoxy, can be used. In addition, as the substituted amino group for R 1 to R 4 , an alkylamino group having 1 to 20 carbon atoms such as methylamino, dimethylamino, diethylamino, diphenylamino, piperidino, and morpholino, and an arylamino group can be used. These alkyl group, aryl group, alkoxy group, alkylamino group, and arylamino group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom such as fluorine, chlorine and bromine, an alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group, an alkoxy group such as methoxy and ethoxy, an aryl group such as phenyl, and a cyano group. When R 1 to R 4 form a ring composed of a nonmetallic atom together with a carbon atom bonded thereto, examples of the structure containing a ring include those shown in the following (A), (B) and (C).

【0017】[0017]

【化9】 Embedded image

【0018】また、R5 ,R6 がアシル基の場合、アセ
チル、ベンゾイル等の炭素数1〜10個のアルキル基、
アリール基を有するもの、アルコキシカルボニル基の場
合エトキシカルボニル等炭素数1〜6個のアルキル基を
有するものがあげられる。さらに、置換アルケニル基の
場合スチリル基等炭素数2〜10個のものを、ヘテロ芳
香族基の場合、下記(D)〜(F)に示すものを用いる
ことができる。
When R 5 and R 6 are acyl groups, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms such as acetyl and benzoyl;
Examples thereof include those having an aryl group and those having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as ethoxycarbonyl in the case of an alkoxycarbonyl group. Further, in the case of a substituted alkenyl group, those having 2 to 10 carbon atoms such as a styryl group can be used, and in the case of a heteroaromatic group, those shown in the following (D) to (F) can be used.

【0019】[0019]

【化10】 Embedded image

【0020】また、R5 ,R6 は共にそれと結合させる
炭素原子と共に環を形成していても良い。例としては下
記(G)に示される構造が挙げられる。
Further, both R 5 and R 6 may form a ring together with the carbon atom bonded thereto. Examples include the structure shown in (G) below.

【0021】[0021]

【化11】 Embedded image

【0022】Xが置換基を有する窒素の場合、置換基と
してはR1 〜R6 で挙げたアルキル基、アリール基と同
等のものを用いることができる。G1 ,G2 は互いに同
一でも異なっていてもよく、各々水素原子、シアノ基、
エトキシカルボニル基等の炭素数1〜10個のアルキル
基を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボ
ニル基等炭素数6〜10個のアリール基を有するアリー
ルオキシカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基等
炭素数1〜6個のアシル基、ベンゾイル基等炭素数7〜
11個のアリールカルボニル基、メチルチオ基、エチル
チオ基等炭素数1〜6個のアルキルチオ基、フェニルチ
オ基等炭素数6〜10個のアリールチオ基、フェニルス
ルホニル基等の炭素数6〜10個のアリールスルホニル
基、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素
数1〜6個のアルキルスルホニル基、またはフルオロス
ルホニル基を表わす。これらのアルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリール
カルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アリ
ールスルホニル基、アルキルスルホニル基は置換基を有
していても良く置換基としては、塩素等のハロゲン原
子、炭素数1〜6個のアルキル基を有するアルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、炭素数6〜10個のアリ
ール基、炭素数1〜6個のアルコキシ基、シアノ基が挙
げられる。またアリールオキシカルボニル基、アリール
カルボニル基、アリールチオ基、アリールスルホニル基
の場合上記の置換基の外にメチル基等の炭素数1〜6個
のアルキル基も用いることができる。
When X is a nitrogen having a substituent, the same substituents as the alkyl groups and aryl groups described for R 1 to R 6 can be used. G 1 and G 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a cyano group,
An alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group having an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group, an acetyl group, a propionyl group having 1 to 1 carbon atoms. 7 to 7 carbon atoms such as acyl group and benzoyl group
C1-C6 arylthio groups such as 11-arylcarbonyl group, methylthio group, ethylthio group, etc. C1-C6 alkylthio group, C6-C10 arylthio group such as phenylthio group, and C6-C10 arylsulfonyl such as phenylsulfonyl group Represents an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a group, a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, or a fluorosulfonyl group. These alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group, arylsulfonyl group, and alkylsulfonyl group may have a substituent, and the substituent may be a halogen such as chlorine. Examples include an atom, an alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a carboxyl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a cyano group. In the case of an aryloxycarbonyl group, an arylcarbonyl group, an arylthio group, or an arylsulfonyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group can be used in addition to the above substituents.

【0023】またG1 とG2 はそれが結合する炭素原子
と共に非金属原子から成る環を形成する場合、環として
は通常メロシアニン色素で酸性核として用いられるもの
で以下のものを挙げることができる。 (a) 1,3−ジカルボニル核、例えば1,3−イン
ダンジオン、1,3−シクロヘキサンジオン、5,5−
ジメチル−1,3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジ
オキサン−4,6−ジオンである。 (b) ピラゾリノン核、例えば3−メチル−1−フエ
ニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニル−2−
ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル)
−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンである。 (c) イソオキサゾリノン核、例えば3−フェニル−
2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イ
ソオキサゾリン−5−オン等である。 (d) オキシインドール核、例えば1−アルキル−
2,3−ジヒドロ−2−オキシインドールである。 (e) 2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン
核、例えばバルビツル酸または2−チオバルビツル酸及
びその誘導体である。かかる誘導体としては、1−メチ
ル、1−エチル等の1−アルキル体、1,3−ジエチ
ル、1,3−ジブチル等の1,3−ジアルキル体、1,
3−ジフェニル、1,3−ジ(p−クロロフェニル)、
1,3−ジ(p−エトキシカルボニルフェニル)等の
1,3−ジアリール体、1−エチル−3−フェニル等の
1−アルキル−3−アリール体などが挙げられる。 (f) 2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、例
えばローダニン及びその誘導体である。かかる誘導体と
しては3−エチルローダニン、3−アリルローダニン等
の3−アルキルローダニン、3−フェニルローダニン等
の3−アリールローダニン等が挙げられる。 (g) 2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2
−チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオ
ン)核、例えば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサ
ゾリジンジオンである。 (h) チアナフテノン核、例えば3(2H)−チアナ
フテノンおよび3(2H)−チアナフテノン−1,1−
ジオキサイドである。 (i) 2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、例
えば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオ
ンである。 (j) 2,4−チアゾリジンジオン核、例えば2,4
−チアゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリ
ジンジオン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオ
ンである。 (k) チアゾリジオン核、例えば4−チアゾリジノ
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。 (l) 4−チアゾゾリノン核、例えば2−エチルメル
カプト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェ
ニルアミノ−5−チアゾリン−4−オンである。 (m) 2−イミノ−2−オキソゾリン−4−オン(凝
ヒダントイン)核である。 (n) 2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイ
ン)核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、3−
エチル−2,4−イミダゾリジンジオンである。 (o) 2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2
−チオヒダントイン)核、例えば2−チオ−2,4−イ
ミダゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−
イミダゾリジンジオンである。 (p) 2−イミダゾリン−5−オン核、例として2−
n−プロピル−メルカプト−2−イミダゾリン−5−オ
ンである。 (q) フラン−5−オンである。
When G 1 and G 2 form a ring composed of a nonmetallic atom together with the carbon atom to which they are bonded, the ring is usually a merocyanine dye used as an acidic nucleus and includes the following. . (A) 1,3-dicarbonyl nucleus, for example, 1,3-indandione, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-
Dimethyl-1,3-cyclohexanedione and 1,3-dioxane-4,6-dione. (B) pyrazolinone nucleus, for example 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-
Pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazoyl)
-3-Methyl-2-pyrazolin-5-one. (C) isoxazolinone nucleus, for example 3-phenyl-
2-isoxazolin-5-one, 3-methyl-2-isoxazolin-5-one and the like. (D) oxindole nucleus, for example 1-alkyl-
2,3-dihydro-2-oxindole. (E) 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus, for example barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and its derivatives. Examples of such derivatives include 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl; 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl;
3-diphenyl, 1,3-di (p-chlorophenyl),
Examples thereof include 1,3-diaryl compounds such as 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl) and 1-alkyl-3-aryl compounds such as 1-ethyl-3-phenyl. (F) 2-thio-2,4-thiazolidinedione nuclei such as rhodanine and its derivatives. Such derivatives include 3-alkyl rhodanines such as 3-ethyl rhodanine and 3-allyl rhodanine, and 3-aryl rhodanines such as 3-phenyl rhodanine. (G) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2
-Thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione) nucleus, for example 2-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione. (H) thianaphthenone nucleus, for example, 3 (2H) -thianaphthenone and 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-
Dioxide. (I) 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, for example, 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione. (J) 2,4-thiazolidinedione nucleus, for example, 2,4
-Thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione and 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione. (K) Thiazolidione nucleus, for example, 4-thiazolidinone, 3-ethyl-4-thiazolidinone. (L) 4-thiazozolinone nucleus, for example, 2-ethylmercapto-5-thiazolin-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazolin-4-one. (M) 2-imino-2-oxozolin-4-one (coagulation hydantoin) nucleus. (N) 2,4-imidazolidinedione (hydantoin) nucleus, for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-
Ethyl-2,4-imidazolidinedione. (O) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2
-Thiohydantoin) nuclei such as 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-
It is imidazolidinedione. (P) 2-imidazolin-5-one nucleus, for example 2-
n-propyl-mercapto-2-imidazolin-5-one. (Q) Furan-5-one.

【0024】本発明で用いられる前記一般式(I)で表
される化合物は、一般式(I−a)又は(I−b)で表
される化合物および(I−c)で表される化合物から合
成することができる。
The compound represented by formula (I) used in the present invention includes a compound represented by formula (Ia) or (Ib) and a compound represented by (Ic) Can be synthesized from

【0025】[0025]

【化12】 Embedded image

【0026】(上式でL1 ,L2 はアルキル基、Za -
はアニオンを表わす) 本発明で用いられる一般式(I)で表される化合物の具
体例を下記に示す。
[0026] (L 1, L 2 in the above formula is an alkyl group, Za -
Represents an anion) Specific examples of the compound represented by formula (I) used in the present invention are shown below.

【0027】[0027]

【化13】 Embedded image

【0028】[0028]

【化14】 Embedded image

【0029】[0029]

【化15】 Embedded image

【0030】[0030]

【化16】 Embedded image

【0031】[0031]

【化17】 Embedded image

【0032】[0032]

【化18】 Embedded image

【0033】[0033]

【化19】 Embedded image

【0034】[0034]

【化20】 Embedded image

【0035】次に一般式(II)で表される増感色素につい
て説明する。式(II)において、R7 、R8 は水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アル
ケニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換
アリール基、アルキニル基、置換アルキニル基を表し、
同じでも異なっていても良い。 アルキル基としては炭
素原子数が1から20までの直鎖状、分岐状、および環
状のアルキル基をあげることができ、その具体例として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、
イソプロピル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブ
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチル
ブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2
−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチ
ル基、2−ノルボニル基をあげることができる。これら
の中では、炭素原子数1から12までの直鎖状、炭素原
子数3から12までの分岐状、ならびに炭素原子数5か
ら10までの環状のアルキル基がより好ましい。
Next, the sensitizing dye represented by formula (II) will be described. In the formula (II), R 7 and R 8 are a hydrogen atom,
Alkyl group, substituted alkyl group, alkenyl group, substituted alkenyl group, alkoxycarbonyl group, aryl group, substituted aryl group, alkynyl group, represents a substituted alkynyl group,
They may be the same or different. Examples of the alkyl group include linear, branched, and cyclic alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group. Group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group,
Isopropyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, isopentyl, neopentyl, 1-methylbutyl, isohexyl, 2-ethylhexyl, 2
-Methylhexyl, cyclohexyl, cyclopentyl, and 2-norbornyl groups. Among them, linear alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, branched alkyl groups having 3 to 12 carbon atoms, and cyclic alkyl groups having 5 to 10 carbon atoms are more preferable.

【0036】置換アルキル基の置換基としては、水素を
除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリルーチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、N−アルキルア
ミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、N−アリールア
ミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、N−アルキル−
N−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ基、N−ア
リールカルバモイルオキシ基、N,N−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、N,N−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、N−アルキル−N−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、N−アルキルアシルア
ミノ基、N−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
N′−アルキルウレイド基、N′,N′−ジアルキルウ
レイド基、N′−アリールウレイド基、N′,N′−ジ
アリールウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール
ウレイド基、
As the substituent for the substituted alkyl group, a monovalent nonmetallic atomic group other than hydrogen is used. Preferred examples thereof include a halogen atom (-F, -Br, -Cl, -I), a hydroxyl group, Alkoxy, aryloxy, mercapto, alkylthio, allyl-thio, alkyldithio, aryldithio, amino, N-alkylamino, N, N-dialkylamino, N-arylamino, N, N- Diarylamino group, N-alkyl-
N-arylamino group, acyloxy group, carbamoyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, N, N-dialkylcarbamoyloxy group, N, N-diarylcarbamoyloxy group, N-alkyl-N An arylcarbamoyloxy group, an alkylsulfoxy group, an arylsulfoxy group,
Acylthio group, acylamino group, N-alkylacylamino group, N-arylacylamino group, ureido group,
N'-alkylureido groups, N ', N'-dialkylureido groups, N'-arylureido groups, N', N'-diarylureido groups, N'-alkyl-N'-arylureido groups,

【0037】N−アルキルウレイド基、N−アリールウ
レイド基、N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、
N′−アルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′
−ジアルキル−N−アルキルウレイド基、N′,N′−
ジアルキル−N−アリールウレイド基、N′−アリール
−N−アルキルウレイド基、N′−アリール−N−アリ
ールウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アルキ
ルウレイド基、N′,N′−ジアリール−N−アリール
ウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−N−ア
ルキルウレイド基、N′−アルキル−N′−アリール−
N−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−
N−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アルキル−N
−アリーロキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N
−アルコキシカルボニルアミノ基、N−アリール−N−
アリロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキルカ
ルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N
−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカルバ
モイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、スルフォ基(-SO3H)及びその共役塩基基(以下、
スルホナト基と称す)、アルコキシスルホニル基、アリ
ーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、N−アル
キルスルフィナモイル基、N,N−ジアルキルスルフィ
ナモイル基、N−アリールスルフィナモイル基、N,N
−ジアリールスルフィナモイル基、N−アルキル−N−
アリールスルフィナモイル基、
N-alkylureido, N-arylureido, N'-alkyl-N-alkylureido,
N'-alkyl-N-alkylureido groups, N ', N'
-Dialkyl-N-alkylureido group, N ', N'-
Dialkyl-N-arylureido, N'-aryl-N-alkylureido, N'-aryl-N-arylureido, N ', N'-diaryl-N-alkylureido, N', N'- Diaryl-N-arylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-N-alkylureido group, N'-alkyl-N'-aryl-
N-arylureido group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, N-alkyl-
N-alkoxycarbonylamino group, N-alkyl-N
-Aryloxycarbonylamino group, N-aryl-N
-Alkoxycarbonylamino group, N-aryl-N-
Aryloxycarbonylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group, N, N-dialkylcarbamoyl group, N
- arylcarbamoyl group, N, N- di arylcarbamoyl group, N- alkyl -N- arylcarbamoyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, a sulfo group (-SO 3 H) and its conjugate Base group (hereinafter,
Sulfonato group), alkoxysulfonyl group, aryloxysulfonyl group, sulfinamoyl group, N-alkylsulfinamoyl group, N, N-dialkylsulfinamoyl group, N-arylsulfinamoyl group, N, N
-Diarylsulfinamoyl group, N-alkyl-N-
Arylsulfinamoyl group,

【0038】スルファモイル基、N−アルキルスルファ
モイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−
アリールスルファモイル基、N,N−ジアリールスルフ
ァモイル基、N−アルキル−N−アリールスルファモイ
ル基、ホスフォノ基(−PO3H2)及びその共役塩基基
(以下、ホスフォナト基と称す)、ジアルキルホスフォ
ノ基(-PO3(アルキル)2)、ジアリールホスフォノ基
(-PO3(アリール)2)、アルキルアリールホスフォノ基
(-PO3(アルキル)(アリール))、モノアルキルホス
フォノ基(-PO3H(アルキル))及びその共役塩基基
(以後、アルキルホスフォナト基と称す)、モノアリー
ルホスフォノ基(-PO3H(アリール))及びその共役塩
基基(以後、アリールホスフォナト基と称す)、ホスフ
ォノオキシ基(-OPO3H2)及びその共役塩基基(以後、
ホスフォナトオキシ基と称す)、ジアルキルホスフォノ
オキシ基(-OPO3(アルキル)2)、ジアリールホスフォ
ノオキシ基(-OPO3(アリール)2)、アルキルアリール
ホスフォノオキシ基(-OPO3(アルキル)(アリー
ル))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3H
(アルキル))及びその共役塩基基(以後、アルキルホ
スフォナトオキシ基と称す)、モノアリールホスフォノ
オキシ基(-OPO3H(アリール))及びその共役塩基基
(以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す)、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基等が挙げられる。
Sulfamoyl, N-alkylsulfamoyl, N, N-dialkylsulfamoyl, N-
Arylsulfamoyl group, N, N-diarylsulfamoyl group, N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, phosphono group (—PO 3 H 2 ) and its conjugate base group (hereinafter, referred to as phosphonate group) , dialkyl phosphono group (2 -PO 3 (alkyl)), diaryl phosphono group (-PO 3 (aryl) 2), alkyl aryl phosphono group (-PO 3 (alkyl) (aryl)), monoalkyl phosphono Group (—PO 3 H (alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter referred to as alkylphosphonate group), monoarylphosphono group (—PO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter, arylphosphonate) Phonooxy group (-OPO 3 H 2 ) and its conjugated base group (hereinafter, referred to as “onato group”).
Phosphodiesterase referred to isocyanatomethyl group), dialkyl phosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl) 2), diaryl phosphonooxy group (-OPO 3 (aryl) 2), alkylaryl phosphonooxy group (-OPO 3 (alkyl ) (Aryl)), monoalkylphosphonooxy group (—OPO 3 H
(Alkyl)) and its conjugate base group (hereinafter, referred to as alkylphosphonatooxy group), monoarylphosphonooxy group (—OPO 3 H (aryl)) and its conjugate base group (hereinafter, arylphosphonatooxy group) ), A cyano group, a nitro group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group and the like.

【0039】これらの置換基におけるアルキル基の具体
例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール基
の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチ
ル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチ
ルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニ
ル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、ア
セトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチ
ルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルア
ミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチル
アミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカ
ルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、
フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバ
モイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、ス
ルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェ
ニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げることができ
る。
Specific examples of the alkyl group in these substituents include the above-mentioned alkyl groups, and specific examples of the aryl group include phenyl, biphenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, mesityl, Cumenyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, chloromethylphenyl group, hydroxyphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group, methylthiophenyl group, phenylthiophenyl group, Methylaminophenyl group, dimethylaminophenyl group, acetylaminophenyl group, carboxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxyphenylcarbonyl group,
Examples include a phenoxycarbonylphenyl group, an N-phenylcarbamoylphenyl group, a phenyl group, a cyanophenyl group, a sulfophenyl group, a sulfonatophenyl group, a phosphonophenyl group, and a phosphonatophenyl group.

【0040】また、アルケニル基の例としては、ビニル
基、1−プロペニル基、1−ブチニル基、シンナミル
基、2−クロロ−1−エテニル基、等があげられ、アル
キニル基の例としては、エチニル基、1−プロピニル
基、1−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が
あげられる。アシル基(RCO−)におけるRとしては、
水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げる
ことができる。これら置換基の内、更により好ましいも
のとしてはハロゲン原子(−F、−Br、−Cl、−
I)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、N−アルキルアミノ基、N,N−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、N−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、N−アルキルカルバモイル
基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、N−アリール
カルバモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモ
イル基、スルフォ基、スルホナト基、スルファモイル
基、N−アルキルスルファモイル基、N,N−ジアルキ
ルスルファモイル基、N−アリールスルファモイル基、
N−アルキル−N−アリールスルファモイル基、ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジ
アリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、ア
ルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、ア
リールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォ
ナトオキシ基、アリール基、アルケニル基があげられ
る。
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butynyl group, a cinnamyl group and a 2-chloro-1-ethenyl group. Examples of the alkynyl group include an ethynyl group. Group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, trimethylsilylethynyl group and the like. As R in the acyl group (RCO-),
Examples include hydrogen, and the above-described alkyl and aryl groups. Of these substituents, an even more preferred one is a halogen atom (-F, -Br, -Cl,-
I), an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an N-alkylamino group, N, N-
Dialkylamino group, acyloxy group, N-alkylcarbamoyloxy group, N-arylcarbamoyloxy group, acylamino group, formyl group, acyl group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, N-alkylcarbamoyl group , N, N-dialkylcarbamoyl, N-arylcarbamoyl, N-alkyl-N-arylcarbamoyl, sulfo, sulfonato, sulfamoyl, N-alkylsulfamoyl, N, N-dialkylsulfamoyl A group, an N-arylsulfamoyl group,
An N-alkyl-N-arylsulfamoyl group, a phosphono group, a phosphonate group, a dialkylphosphono group, a diarylphosphono group, a monoalkylphosphono group, an alkylphosphonato group, a monoarylphosphono group, an arylphosphonate group, Examples include a phosphonooxy group, a phosphonatoxy group, an aryl group, and an alkenyl group.

【0041】具体例としては、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、2−クロロエチル基、トリフルオロメチル
基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、ア
リルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオ
メチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル
基、ジエチルアミノプロピル基、モルフォリノプロピル
基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、
N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルア
ミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル
基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カル
ボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリ
ルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボ
ニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチルカル
バモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイルメ
チル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエチル
基、N−メチル−N−(スルフォフェニル)カルバモイ
ルメチル基、スルフォブチル基、スルフォナトブチル
基、スルファモイルブチル基、N−エチルスルファモイ
ルメチル基、N,N−ジプロピルスルファモイルプロピ
ル基、N−トリルスルファモイルプロピル基、N−メチ
ル−N−(ホスフォノフェニル)スルファモイル基、オ
クチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル
基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォ
ノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホス
フォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリ
ルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル
基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネ
チル基、α−メチルベンジル基、1−メチル−1−フェ
ニルエチル基、p−メチルベンジル基、シンナミル基、
アリル基、1−プロペニルメチル基、2−ブテニル基、
2−メチルアリル基、2−メチルプロペニルメチル基、
2−プロピニル基、2−ブチニル基、3−ブチニル基等
を挙げることができる。
Specific examples include chloromethyl, bromomethyl, 2-chloroethyl, trifluoromethyl, methoxymethyl, methoxyethoxyethyl, allyloxymethyl, phenoxymethyl, methylthiomethyl, and tolylthiomethyl. Group, ethylaminoethyl group, diethylaminopropyl group, morpholinopropyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, N-cyclohexylcarbamoyloxyethyl group,
N-phenylcarbamoyloxyethyl group, acetylaminoethyl group, N-methylbenzoylaminopropyl group, 2-oxoethyl group, 2-oxopropyl group, carboxypropyl group, methoxycarbonylethyl group, allyloxycarbonylbutyl group, chlorophenoxycarbonyl Methyl group, carbamoylmethyl group, N-methylcarbamoylethyl group, N, N-dipropylcarbamoylmethyl group, N- (methoxyphenyl) carbamoylethyl group, N-methyl-N- (sulfophenyl) carbamoylmethyl group, sulfobutyl Group, sulfonatobutyl group, sulfamoylbutyl group, N-ethylsulfamoylmethyl group, N, N-dipropylsulfamoylpropyl group, N-tolylsulfamoylpropyl group, N-methyl-N- ( Phosphono Enyl) sulfamoyl, octyl, phosphonobutyl, phosphonatohexyl, diethylphosphonobutyl, diphenylphosphonopropyl, methylphosphonobutyl, methylphosphonatobutyl, tolylphosphonohexyl, tolylphospho Onatohexyl group, phosphonooxypropyl group, phosphonateoxybutyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1-methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group,
Allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group,
2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group,
Examples thereof include a 2-propynyl group, a 2-butynyl group, and a 3-butynyl group.

【0042】アリール基としては1個から3個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と5員不飽和
環が縮合環を形成したものを挙げることができる。また
置換アリール基の置換基としては、前述の置換アルキル
基の置換基を挙げることができる。これらの具体例とし
ては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナ
ントリル基、インデニル基、アセトナフテニル基、フル
オレニル基を挙げることがでぎる。アルケニル基として
は、炭素原子数1〜20までの直鎖状、分岐状および環
状のアルケニル基を挙げることができる。また置換アル
ケニル基の置換基としては、置換アルキル基で述ベた置
換基を挙げることができ、これらの具体例としては、ビ
ニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチ
ル−1−プロペニル基、スチリル基、2−ペンテニル
基、2−シクロヘキシニル基などを挙げることができ
る。アルキニル基としては、炭素数1〜20までの直鎖
状、分岐状のアルキニル基を挙げることができる。
Examples of the aryl group include those in which one to three benzene rings form a condensed ring, and those in which a benzene ring and a 5-membered unsaturated ring form a condensed ring. Examples of the substituent of the substituted aryl group include the substituents of the above-mentioned substituted alkyl group. Specific examples thereof include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, an indenyl group, an acetonaphthenyl group, and a fluorenyl group. Examples of the alkenyl group include linear, branched and cyclic alkenyl groups having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent of the substituted alkenyl group include the substituents described for the substituted alkyl group. Specific examples thereof include a vinyl group, a 1-propenyl group, a 1-butenyl group, and a 1-methyl-1 group. -Propenyl, styryl, 2-pentenyl, 2-cyclohexynyl and the like. Examples of the alkynyl group include a linear or branched alkynyl group having 1 to 20 carbon atoms.

【0043】また置換アルキニル基の置換基としては、
置換アルキル基で述べた置換基を挙げることができ、こ
れらの具体例としては、エチニル、2−フェニルエチニ
ル、1−ブチニル基等を挙げることができる。アルコキ
シカルボニル基としては、炭素原子数1から10までの
直鎖状、分岐状および環状のアルキル基がオキシカルボ
ニル基に結合した残基を挙げることができ、その具体例
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカ
ルボニル基を挙げることができる。以上、R7 ,R8
ついて述べたが、本発明においてはアルキル基、置換ア
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニ
ル基、置換アルキニル基が好適である。
The substituent of the substituted alkynyl group includes
The substituents described for the substituted alkyl group can be mentioned, and specific examples thereof include ethynyl, 2-phenylethynyl, 1-butynyl group and the like. Examples of the alkoxycarbonyl group include a residue in which a linear, branched, or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is bonded to an oxycarbonyl group. Specific examples thereof include a methoxycarbonyl group, Ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group,
Examples thereof include a sec-butoxycarbonyl group and a tert-butoxycarbonyl group. Although R 7 and R 8 have been described above, in the present invention, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, and a substituted alkynyl group are preferred.

【0044】一般式(II)のAは酸素原子、硫黄原子、
アルキル基又はアリール基により置換された炭素原子、
またはアルキル基2個に置換された炭素原子を表す。A
中のアリール基、アルキル基としては、R7 ,R8 にお
いて述べたものを挙げることができる。一般式(II)に
おいてJがA、CおよびNと協働して完成する含窒素五
員環の例としては、以下のものが挙げられる。
A in the general formula (II) represents an oxygen atom, a sulfur atom,
A carbon atom substituted by an alkyl or aryl group,
Or a carbon atom substituted by two alkyl groups. A
Examples of the aryl group and the alkyl group therein include those described for R 7 and R 8 . Examples of the nitrogen-containing five-membered ring completed by J in cooperation with A, C and N in the general formula (II) include the following.

【0045】[0045]

【化21】 Embedded image

【0046】(a−1)〜(a−4)の式中の置換基E
はハメットのρ値が−0.9から+0.5までの範囲に
あるものである。その例としては、水素原子、メチル
基、イソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル
基、トリフルオロメチル基、アセチル基、エトキシカル
ボニル基、カルボキシル基、カルボキシラト基(−CO
- )、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アセチルアミ
ノ基、−PO3H基、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ベンジルオキ
シ基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、メ
チルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、メル
カプト基、アセチルチオ基、チオシアノ基(−SC
N)、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、アミノスル
ホニル基、ジメチルスルホニル基、(−S+ (C
3)2 )、スルホナト基、(−SO2 - )、弗素原子、
塩素原子、臭素原子、沃素原子、ヨージル基、トリメチ
ルシリル基(−Si(CH3)3 )、トリエチルシリル
基、トリメチルスタニル基(−Sn(CH3)3 )を挙げる
ことができる。これらの置換基のうちで好ましいもの
は、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エト
キシ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、塩素原
子、臭素原子である。
The substituent E in the formulas (a-1) to (a-4)
Means that the Hammett ρ value is in the range of -0.9 to +0.5
There is something. Examples include hydrogen, methyl
Group, isopropyl group, tert-butyl group, phenyl
Group, trifluoromethyl group, acetyl group, ethoxycal
Bonyl group, carboxyl group, carboxylate group (-CO
O -), Amino group, methylamino group, dimethylamino
Group, ethylamino group, diethylamino group, acetylamino
No group, -POThreeH group, methoxy group, ethoxy group, propo
Xy, isopropoxy, butoxy, benzyloxy
Groups, phenoxy groups, hydroxy groups, acetoxy groups,
Tylthio, ethylthio, isopropylthio, mel
Capto group, acetylthio group, thiocyano group (-SC
N), a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group,
Methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, aminosulfon
Honyl group, dimethylsulfonyl group, (-S+(C
HThree)Two), A sulfonato group, (—SOTwo -), A fluorine atom,
Chlorine, bromine, iodine, iodyl, trimethyl
Lucyl group (-Si (CHThree)Three), Triethylsilyl
Group, trimethylstannyl group (-Sn (CHThree)Three)
be able to. Preferred among these substituents
Represents a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a methoxy group,
Xyl group, dimethylamino group, diethylamino group, chlorine atom
Child, bromine atom.

【0047】一般式(II)におけるYの例を以下に示
す。置換フェニル基の置換基としては上述のEと同じも
のが挙げられる。多核芳香環としては、ナフチル基、ア
ンスリル基、フェナンスリル基が挙げられ、これらは上
述の置換基Eにより置換されていても良い。ヘテロ芳香
環の例としては2−フリル基、3−フリル基、2−チエ
ニル基、3−チエニル基、2−ピロリル基、3−ピロリ
ル基が挙げられ、これらは上述の置換基Eによって置換
されていても良い。また、一般式(II)におけるZ1
例を以下に述べる。アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基、置換アリール基としては、一般式(II)のR7
とR8 の例として述べたものと同じものを挙げることが
できる。アルキルチオ基、アリールチオ基としては炭素
原子数1〜10までの直鎖状、分岐状、および環状のア
ルキル基、炭素原子数1〜20までのアリール基がチオ
基(イオウ原子)に結合した残基を挙げることができ、
その具体例としてはメチルチオ基、エチルチオ基、プロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、t
ert−ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ
基などを挙げることができる。
Examples of Y in the general formula (II) are shown below. Examples of the substituent of the substituted phenyl group include the same as those described above for E. Examples of the polynuclear aromatic ring include a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group, and these may be substituted with the substituent E described above. Examples of the heteroaromatic ring include a 2-furyl group, a 3-furyl group, a 2-thienyl group, a 3-thienyl group, a 2-pyrrolyl group, and a 3-pyrrolyl group, which are substituted by the substituent E described above. May be. An example of Z 1 in the general formula (II) will be described below. Examples of the alkyl group, substituted alkyl group, aryl group and substituted aryl group include R 7 of the general formula (II)
It includes the same as those as described as examples of R 8. Examples of the alkylthio group and the arylthio group include a linear, branched, and cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a residue in which an aryl group having 1 to 20 carbon atoms is bonded to a thio group (sulfur atom). Can be mentioned,
Specific examples include methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, sec-butylthio, t
Examples thereof include an tert-butylthio group, a phenylthio group, and a naphthylthio group.

【0048】アルコキシル基としては炭素原子数が1か
ら10までの直線状、分岐状および環状のアルキル基が
オキシ基(酸素原子)に結合した残基を挙げることがで
き、その具体例としてはメトキシル基、エトキシル基、
プロポキシル基、ブトキシル基、sec−ブトキシル
基、tert−ブトキシル基を挙げることができる。置
換アミノ基としては炭素数が1から10までの直線状、
分岐状および環状のアルキル基により置換されたアミノ
基を挙げることができ、その具体例としてはジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基を挙げ
ることができる。アシル基としては水素原子、炭素原子
数1から10まで、好ましくは同じく1から6までの直
線状、分岐状または環状のアルキル基、フェニル基また
はナフチル基がカルボニルに結合した残基を挙げること
ができ、その具体例としては、ホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾ
イル基、ナフトイル基を挙げることができる。アルコキ
シカルボニル基としては、炭素原子数1から10までの
直線状、分岐状または環状のアルキル基がオキシカルボ
ニル基に結合した残基を挙げることができ、その具体例
としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカ
ルボニル基を挙げることがでぎる。また、YとZ1 とが
互いに結合して形成する環の例を以下に示す。
Examples of the alkoxyl group include a residue in which a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is bonded to an oxy group (oxygen atom). Group, ethoxyl group,
Examples include a propoxyl group, a butoxyl group, a sec-butoxyl group, and a tert-butoxyl group. As the substituted amino group, a linear group having 1 to 10 carbon atoms,
An amino group substituted by a branched or cyclic alkyl group can be mentioned, and specific examples thereof include a dimethylamino group, a diethylamino group, and a dipropylamino group. Examples of the acyl group include a hydrogen atom, a residue in which a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group or a naphthyl group is bonded to carbonyl. Specific examples thereof include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, a benzoyl group, and a naphthoyl group. Examples of the alkoxycarbonyl group include a residue in which a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is bonded to an oxycarbonyl group. Specific examples thereof include a methoxycarbonyl group and an ethoxy group. Carbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group,
Examples thereof include a sec-butoxycarbonyl group and a tert-butoxycarbonyl group. Examples of a ring formed by combining Y and Z 1 with each other are shown below.

【0049】[0049]

【化22】 Embedded image

【0050】[0050]

【化23】 Embedded image

【0051】一般式(II)で表される化合物群は、「Ru
ll. Soc. Chimie Belges」誌第57巻第364〜372
頁(1948年)抄録:「Chemical Abstracts」誌第4
4巻第60e〜61d欄(1950年))に記載の方法
に従って合成することができる。以下に一般式(II)で
表される化合物の具体例を示す。
The group of compounds represented by the general formula (II) is “Ru
ll. Soc. Chimie Belges, Vol. 57, 364-372
Page (1948) Abstract: Chemical Abstracts, No. 4
The compound can be synthesized according to the method described in Vol. 4, columns 60e to 61d (1950). Specific examples of the compound represented by the general formula (II) are shown below.

【0052】[0052]

【化24】 Embedded image

【0053】[0053]

【化25】 Embedded image

【0054】[0054]

【化26】 Embedded image

【0055】[0055]

【化27】 Embedded image

【0056】[0056]

【化28】 Embedded image

【0057】[0057]

【化29】 Embedded image

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】[0059]

【表2】 [Table 2]

【0060】次に、本発明に使用される一般式(III)で
表される増感色素について述べる。式中R10〜R13は互
いに独立して水素原子、炭素数1〜6の非置換または置
換アルコキシ基、炭素数1〜6の非置換または置換アル
ケニルオキシ基、炭素数1〜6の非置換または置換アル
キルチオ基、各アルキル基の炭素数が1〜4であるジア
ルキルアミノ基、水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原
子、ニトロ基、または複数環基を表す。R10〜R13の2
個または3個と前記R10〜R13の置換基が結合されてい
る環構成炭素原子とが一緒になり各縮合環が5または6
員環である縮合環または縮合環系を形成してもよい。R
9 は水素原子、炭素数1〜4の非置換または置換アルキ
ル基または炭素数6〜12の非置換または置換アリール
基、またはR14−CO−を表す。ここで、R 14はアルコ
キシ基、シクロアルコキシ基、水酸基、アリールオキシ
基、アルケニルオキシ基、アラルキルオキシ基、アルコ
キシカルボニルアルコキシ基、アルキルカルボニルアル
コキシ基、あるいは(III-a)〜(III-c)で表される置換
基(R 15〜R18は水素原子、アルキル基、ヒドロキシア
ルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコキ
シアルキル基、シクロアルキル基を表す。)を表す。Q
1 は−CN、複素環、−Z2 −R19を示し、R19はメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチル、イ
ソブチル、ブチル、アミル、ヘキシル、ヘプチル、オク
チル、ノニル、デシルおよびシクロペンチル、シクロヘ
キシル等のようなシクロアルキルを含む炭素数1〜10
のアルキル;置換アルキル;フェニルのようなアリー
ル;ニトロ、アルコキシ、ハロゲン、カルボアルコキ
シ、アルキル、アリール、カルボキシ、ヒドロキシ、ア
ミノ、ジアルキルアミノまたはトリアルキルアンモニウ
ム等の置換アミノ等で置換された置換アリール;メトキ
シ、エトキシ、ブトキシ等のアルコキシ;フェノキシ等
のアリールオキシ;環構成炭素および異原子の数が約5
〜15の複素環基、例えば式
Next, in the general formula (III) used in the present invention,
The sensitizing dye represented will be described. Where RTen~ R13Are
Independently independently of a hydrogen atom, unsubstituted or substituted C 1 -C 6
Substituted alkoxy group, unsubstituted or substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms
Kenyloxy group, unsubstituted or substituted alkyl having 1 to 6 carbon atoms
Dialkyl having a carbon number of 1 to 4;
Alkylamino group, hydroxyl group, acyloxy group, halogen source
, A nitro group, or a multiple ring group. RTen~ R132
Or three and the RTen~ R13Is attached to
And the condensed ring is 5 or 6
A fused ring or fused ring system that is a membered ring may be formed. R
9Is a hydrogen atom, an unsubstituted or substituted alkyl having 1 to 4 carbon atoms.
Or an unsubstituted or substituted aryl having 6 to 12 carbon atoms
Group, or R14Represents -CO-. Where R 14Is Arco
Xy group, cycloalkoxy group, hydroxyl group, aryloxy
Group, alkenyloxy group, aralkyloxy group, alcohol
Xycarbonylalkoxy group, alkylcarbonylalkyl
Coxy group or substitution represented by (III-a) to (III-c)
Group (R Fifteen~ R18Represents a hydrogen atom, an alkyl group,
Alkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group, alkoxy
Represents a silalkyl group or a cycloalkyl group. ). Q
1Is -CN, heterocyclic, -ZTwo-R19And R19Is meth
, Ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, i
Sobutyl, butyl, amyl, hexyl, heptyl, octane
Tyl, nonyl, decyl and cyclopentyl, cyclohexyl
C1-C10 containing cycloalkyl such as xyl
Alkyl; substituted alkyl; aryl such as phenyl
Nitro, alkoxy, halogen, carboalkoxy
Si, alkyl, aryl, carboxy, hydroxy, a
Mino, dialkylamino or trialkylammonium
Aryl substituted with a substituted amino or the like;
Alkoxy, ethoxy, butoxy, etc .; phenoxy, etc.
Aryloxy having about 5 ring carbon atoms and about 5 hetero atoms
To 15 heterocyclic groups, e.g.

【0061】[0061]

【化30】 Embedded image

【0062】(式中、R41はメチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、n−ブチル、イソブチル、
s−ブチル等を含む炭素数1〜4のアルキルであり、X
-はFSO3 -、Br4 -、p−トルエンスルホネート、ハ
ロゲン(例えば、Cl、Br、I)等を含む陰イオンで
ある)のピリジニウム;ニコチニル;ニコチニウム;フ
リル;2−ベンゾフラニル;2−チアゾリル;2−チエ
ニル等;または式
(Wherein R 41 is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, n-butyl, isobutyl,
alkyl having 1 to 4 carbon atoms including s-butyl and the like;
- the FSO 3 -, Br 4 -, p-toluenesulfonate, halogen (e.g., Cl, Br, I) is an anion, and the like) of pyridinium; nicotinyl; Nikochiniumu; furyl; 2- benzofuranyl; 2-thiazolyl; 2-thienyl or the like; or a formula

【0063】[0063]

【化31】 Embedded image

【0064】(式中R42〜R46は上記の置換基と同様な
基から選ばれる)で表わされる3−置換クマリニル、ア
セチルなどのアシル基であり、Z2 はカルボニル、スル
ホニル、スルフィニルまたはアリーレンジカルボニルか
ら選ばれる結合基である。R19のアリール基としては、
フェニル基、ナフチル基、インデニル基等が挙げられ
る。また、複素環としては下式のような構造を有するも
のを挙げることができる。
(Wherein R 42 to R 46 are selected from the same groups as the above-mentioned substituents), and is an acyl group such as 3-substituted coumarinyl or acetyl, and Z 2 is carbonyl, sulfonyl, sulfinyl or aryl. A bonding group selected from range carbonyl. As the aryl group for R 19 ,
Examples include a phenyl group, a naphthyl group and an indenyl group. Examples of the heterocyclic ring include those having the following structure.

【0065】[0065]

【化32】 Embedded image

【0066】ここで、Mは−CH又は窒素原子、Tは−
CH2−、NH、Sを表し、Wは、1核又は2核の縮合
多環芳香族炭化水素残基もしくは1核又は2核の芳香族
複素環基を表す。具体的には、
Here, M is -CH or a nitrogen atom, and T is-
CH 2 —, NH, and S are represented, and W represents a mononuclear or dinuclear fused polycyclic aromatic hydrocarbon residue or a mononuclear or dinuclear aromatic heterocyclic group. In particular,

【0067】[0067]

【化33】 Embedded image

【0068】等を挙げることができる。式(III)の増感
色素の例としては、以下のものを挙げることができる。 3−ベンゾイル−5,7−ジメトキシクマリン 3−ベンゾイル−7−メトキシクマリン 3−ベンゾイル−6−メトキシクマリン 3−ベンゾイル−8−エトキシクマリン 7−メトキシ−3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン 3−ベンゾイルクマリン 3−(p−ニトロベンゾイル)クマリン 3−ベンゾイルベンゾ〔f〕クマリン 3,3′−カルボニルビス(7−メトキシクマリン) 3−アセチル−7−メトキシクマリン 3−ベンゾイル−6−ブロモクマリン 3,3′−カルボニルビスクマリン 3−ベンゾイル−7−ジメチルアミノクマリン 3,3′−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリ
ン) 3−カルボキシクマリン 3−カルボキシ−7−メトキシクマリン 3−エトキシカルボニル−6−メトキシクマリン 3−エトキシカルボニル−7−メトキシクマリン 3−アセチルベンゾ〔f〕クマリン 3−アセチル−7−メトキシクマリン 3−(1−アダマントイル)−7−メトキシクマリン 3−ベンゾイル−7−ヒドロキシクマリン 3−ベンゾイル−6−ニトロクマリン 3−ベンゾイル−7−アセトクマリン 3−ベンゾイル−7−ジエチルアミノクマリン 7−ジメチルアミノ−3−(4−ヨードベンゾイル)ク
マリン 7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエチルアミノベンゾ
イル)クマリン 7−メトキシ−3−(4−メトキシベンゾイル)クマリ
ン 3−(4−ニトロベンゾイル)ベンゾ〔f〕クマリン 3−(4−エトキシシンナモイル)−7−メトキシクマ
リン 3−(4−ジメチルアミノシンナモイル)クマリン 3−(4−ジフェニルアミノシンナモイル)クマリン 3−〔(3−メチルベンゾチアゾール−2−イリデン)
アセチル〕クマリン 3−〔(1−メチルナフト[1,2−d]チアゾール−
2−イリデン)アセチル〕クマリン 3,3′−カルボニルビス(6−メトキシクマリン) 3,3′−カルボニルビス(7−アセトキシクマリン) 3,3′−カルボニルビス(7−ジメチルアミノクマリ
ン) 3,3′−カルボニルビス−(5,7−ジイソプロポキ
シ)クマリン 3,3′−カルボニルビス−(5,7−ジ−n−プロポ
キシ)クマリン 3,3′−カルボニルビス−(5,7−ジ−n−ブトキ
シ)クマリン 3−シアノ−6−メトキシクマリン 3−シアノ−7−メトキシクマリン 7−メトキシ−3−フェニルスルホニルクマリン 7−メトキシ−3−フェニルスルフィニルクマリン 1,4−ビス(7−ジエチルアミノ−3−クマリルカル
ボニル)ベンゼン 7−ジエチルアミノ−5′,7′−ジメトキシ−3,
3′−カルボニルビスクマリン 7−ジメチルアミノ−3−テノイルクマリン 7−ジエチルアミノ−3−フロイルクマリン 7−ジエチルアミノ−3−テノイルクマリン 3−ベンゾイル−7−(1−ピロリジニル)クマリン 5,7,6′−トリメトキシ−3,3′−カルボニルビ
スクマリン 5,5,7′−トリメトキシ−3,3′−カルボニルビ
スクマリン 7−ジエチルアミノ−6′−メトキシ−3,3′−カル
ボニルビスクマリン 3−ニコチノイル−7−メトキシクマリン 3−(2−ベンゾフラニルカルボニル)−7−メトキシ
クマリン 3−(7−メトキシ−3−クマリノイル)−1−メチル
ピリミジウムフロロサルフェート 3−(5,7−ジエトキシ−3−クマリノイル−1−メ
チルピリミジウムフロロボレート N−(7−メトキシ−3−クマリノイルメチル)ピリジ
ニウムブロミド 9−(7−ジエチルアミノ−3−クマリノイル)−1,
2,4,5−テトラヒドロ−3H,6H,10H〔1〕
ベンゾピラノ[a,9a・l−gh]キノラジン−10
−オン 及び、下記化学式(III-1)〜(III-15)で表される化合物
である。
And the like. Examples of the sensitizing dye of the formula (III) include the following. 3-benzoyl-5,7-dimethoxycoumarin 3-benzoyl-7-methoxycoumarin 3-benzoyl-6-methoxycoumarin 3-benzoyl-8-ethoxycoumarin 7-methoxy-3- (p-nitrobenzoyl) coumarin 3-benzoyl Coumarin 3- (p-nitrobenzoyl) coumarin 3-benzoylbenzo [f] coumarin 3,3'-carbonylbis (7-methoxycoumarin) 3-acetyl-7-methoxycoumarin 3-benzoyl-6-bromocoumarin 3,3 '-Carbonylbiscoumarin 3-benzoyl-7-dimethylaminocoumarin 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin) 3-carboxycoumarin 3-carboxy-7-methoxycoumarin 3-ethoxycarbonyl-6-methoxycoumarin3- Ethoxycal Nyl-7-methoxycoumarin 3-acetylbenzo [f] coumarin 3-acetyl-7-methoxycoumarin 3- (1-adamantoyl) -7-methoxycoumarin 3-benzoyl-7-hydroxycoumarin 3-benzoyl-6-nitro Coumarin 3-benzoyl-7-acetocoumarin 3-benzoyl-7-diethylaminocoumarin 7-dimethylamino-3- (4-iodobenzoyl) coumarin 7-diethylamino-3- (4-diethylaminobenzoyl) coumarin 7-methoxy-3- (4-methoxybenzoyl) coumarin 3- (4-nitrobenzoyl) benzo [f] coumarin 3- (4-ethoxycinnamoyl) -7-methoxycoumarin 3- (4-dimethylaminocinnamoyl) coumarin 3- (4- Diphenylaminocinnamoyl) coumarin 3-[(3-methylbenzothiazole-2-ylidene)
Acetyl] coumarin 3-[(1-methylnaphtho [1,2-d] thiazole-
2-ylidene) acetyl] coumarin 3,3'-carbonylbis (6-methoxycoumarin) 3,3'-carbonylbis (7-acetoxycoumarin) 3,3'-carbonylbis (7-dimethylaminocoumarin) 3,3 '-Carbonylbis- (5,7-diisopropoxy) coumarin 3,3'-carbonylbis- (5,7-di-n-propoxy) coumarin 3,3'-carbonylbis- (5,7-di- n-butoxy) coumarin 3-cyano-6-methoxycoumarin 3-cyano-7-methoxycoumarin 7-methoxy-3-phenylsulfonylcoumarin 7-methoxy-3-phenylsulfinylcoumarin 1,4-bis (7-diethylamino-3 -Coumarylcarbonyl) benzene 7-diethylamino-5 ', 7'-dimethoxy-3,
3'-carbonylbiscoumarin 7-dimethylamino-3-thenoylcoumarin 7-diethylamino-3-furoylcoumarin 7-diethylamino-3-thenoylcoumarin 3-benzoyl-7- (1-pyrrolidinyl) coumarin 5,7, 6'-trimethoxy-3,3'-carbonylbiscoumarin 5,5,7'-trimethoxy-3,3'-carbonylbiscoumarin 7-diethylamino-6'-methoxy-3,3'-carbonylbiscoumarin 3-nicotinoyl -7-methoxycoumarin 3- (2-benzofuranylcarbonyl) -7-methoxycoumarin 3- (7-methoxy-3-coumarinoyl) -1-methylpyrimidium fluorosulfate 3- (5,7-diethoxy-3 -Coumarinoyl-1-methylpyrimidium fluoroborate N- (7-methoxy 3 Kumari hexanoyl methyl) pyridinium bromide 9- (7-diethylamino-3-Kumarinoiru) -1,
2,4,5-tetrahydro-3H, 6H, 10H [1]
Benzopyrano [a, 9a.l-gh] quinolazine-10
And compounds represented by the following chemical formulas (III-1) to (III-15).

【0069】[0069]

【化34】 Embedded image

【0070】[0070]

【化35】 Embedded image

【0071】これらの一般式(I)〜(III)で表した増
感色素は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
これらの増感色素の使用量は、エチレン性不飽和二重結
合を有する化合物100重量部に対し、0.05〜30
重量部、好ましくは、0.1〜20重量部、さらに好ま
しくは0.2〜10重量部である。
The sensitizing dyes represented by formulas (I) to (III) may be used alone or in combination of two or more.
These sensitizing dyes are used in an amount of 0.05 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the compound having an ethylenically unsaturated double bond.
Parts by weight, preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.2 to 10 parts by weight.

【0072】次に、本発明で使用されるラジカル重合開
始剤について説明する。ラジカル重合開始剤は特に制限
されるものではないが、下記(イ)〜(ヌ)に示される
化合物が好ましい。 (イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物 (ロ)下記一般式(IV)で示されるケトン化合物
Next, the radical polymerization initiator used in the present invention will be described. The radical polymerization initiator is not particularly limited, but the compounds shown in the following (a) to (nu) are preferable. (A) Compound having a carbon-halogen bond (b) Ketone compound represented by the following general formula (IV)

【0073】[0073]

【化36】 Embedded image

【0074】(ただしArは下記(VI-a) または(VI-
b) で表される芳香族基であり、またR 20、R21は水素
原子またはアルキル基を表し、またR20、R21は互いに
連結してアルキレン基を表してもよい。
(Where Ar is the following (VI-a) or (VI-a)
b) an aromatic group represented by 20, Rtwenty oneIs hydrogen
Represents an atom or an alkyl group;20, Rtwenty oneAre each other
It may be linked to represent an alkylene group.

【0075】[0075]

【化37】 Embedded image

【0076】上記式中R22〜R26は互いに同一でも異な
っていてもよく、各々水素原子、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、アリール基、置換アリール基、
水酸基、アルコキシ基、−S−R28基、−SO−R
28基、−SO2−R28基を表すが、R22〜R26の少なく
とも一つは−S−R28基、−SO−R28基、−SO2
2 8基であり、R28はアルキル基、アルケニル基を表
す。R27は水素原子、アルキル基またはアシル基を表
し、Y1は水素原子または
In the above formula, R 22 to R 26 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
Hydroxyl group, alkoxy group, -SR 28 group, -SO-R
28 groups represent a -SO 2 -R 28 group, at least one -S-R 28 group of R 22 ~R 26, -SO-R 28 group, -SO 2 -
A R 2 8 group, R 28 represents an alkyl group, an alkenyl group. R 27 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group, and Y 1 represents a hydrogen atom or

【0077】[0077]

【化38】 Embedded image

【0078】を表す。R29は前記R20と、またR30は前
記R21と同義である。) (ハ)下記一般式中(V)で表されるケトオキシム化合
Represents the following. R 29 has the same meaning as R 20, and R 30 has the same meaning as R 21 . (C) a ketoxime compound represented by (V) in the following general formula

【0079】[0079]

【化39】 Embedded image

【0080】(ただし式中R31,R32は同一でも異なっ
ていてもよく、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい
炭化水素基あるいはヘテロ環基を表す。R33,R34は同
一でも異なっていてもよく、置換基、不飽和結合を含ん
でいてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、
置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また
33,R34は互いに結合して環を形成し、−O−,−N
37−,−O−CO−,−NH−CO−,−S−および
/または、−SO2−を環の連結主鎖に含んでいてもよ
い炭素数2〜8のアルキレン基を表す。R37は水素原
子、または置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭化
水素基、あるいは置換カルボニル基を表す。R35,R36
は水素原子、置換基、不飽和結合を含んでいてもよい炭
化水素基、あるいは置換カルボニル基を示す。 (ニ)有機過酸化物 (ホ)下記一般式(VI)で表されるチオ化合物
(Wherein R 31 and R 32 may be the same or different and each represents a substituent or a hydrocarbon group or a heterocyclic group which may contain an unsaturated bond. R 33 and R 34 are the same. Or may be different, a substituent, a hydrocarbon group which may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxy group,
Represents a substituted oxy group, a mercapto group, or a substituted thio group. R 33 and R 34 are bonded to each other to form a ring, and —O— and —N
R 37 —, —O—CO—, —NH—CO—, —S— and / or —SO 2 — represent an alkylene group having 2 to 8 carbon atoms which may be contained in the ring main chain. R 37 represents a hydrogen atom, a substituent, a hydrocarbon group optionally having an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. R 35 , R 36
Represents a hydrogen atom, a substituent, a hydrocarbon group which may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. (D) Organic peroxide (e) Thio compound represented by the following general formula (VI)

【0081】[0081]

【化40】 Embedded image

【0082】(ただし式中R38はアルキル基、アリール
基または置換アリール基を示し、R39は水素原子または
アルキル基を示す。またR38とR39は互いに結合して酸
素、硫黄、窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含んでも
よい5員〜7員環を形成するのに必要な非金属原子群を
表す。) (ヘ)ヘキサアリールビイミダゾール (ト)芳香族オニウム塩 (チ)ケトオキシムエステル (リ)N−フェニルグリシン (ヌ)チタノセン化合物
(Where R 38 represents an alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, R 39 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 38 and R 39 are bonded to each other to form an oxygen, sulfur, or nitrogen atom Represents a group of nonmetallic atoms necessary for forming a 5- to 7-membered ring which may contain a heteroatom selected from the group consisting of: (f) hexaarylbiimidazole (g) aromatic onium salt (h) ketoxime Ester (li) N-phenylglycine (nu) titanocene compound

【0083】上記(イ)炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、下記一般式(VII)〜(XIII) で示される
化合物が好ましい。 一般式(VII)
As the compound (A) having a carbon-halogen bond, compounds represented by the following formulas (VII) to (XIII) are preferable. General formula (VII)

【0084】[0084]

【化41】 Embedded image

【0085】(式中、Xはハロゲン原子を表わす。Y2
は−CX3、−NH2、−NHR47、−NR47、−OR47
を表わす。ここでR47はアルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基を表わす。またR48は−C
3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基、置換アルケニル基を表わす。)で表わされ
る化合物。 一般式(VIII)
(Wherein X represents a halogen atom; Y 2
Is -CX 3, -NH 2, -NHR 47 , -NR 47, -OR 47
Represents Here, R 47 is an alkyl group, a substituted alkyl group,
Represents an aryl group or a substituted aryl group. R 48 is -C
X 3 represents an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or a substituted alkenyl group. ). General formula (VIII)

【0086】[0086]

【化42】 Embedded image

【0087】(ただし、R49は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、ニトロ基又はシアノ基であり、Xはハ
ロゲン原子であり、nは1〜3の整数である。)で表わ
される化合物。
(Where R 49 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a halogen atom, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a nitro group or a cyano group; Is a halogen atom, and n is an integer of 1 to 3.).

【0088】一般式(IX) R50−Z3−CH2-mm−R51 (IX) (ただし、R50は、アリール基又は置換アリール基であ
り、R51は−CO−NR 5253、または、
Formula (IX) R50-ZThree-CH2-mXm-R51 (IX) (However, R50Is an aryl group or a substituted aryl group
R51Is -CO-NR 52R53Or

【0089】[0089]

【化43】 Embedded image

【0090】又はハロゲンであり、Z3 は−CO−、−
CS−又は−SO2 −であり、R52、R53はアルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル
基、アリール基又は置換アリール基であり、R54は一般
式(VII)中のR47と同じであり、mは1又は2であ
る。)で表わされる化合物。 一般式(X)
Or Z 3 is -CO-,-
CS- or -SO 2 - and is, R 52, R 53 is an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an aryl group or a substituted aryl group, R 54 is R in the general formula (VII) Same as 47 , m is 1 or 2. ). General formula (X)

【0091】[0091]

【化44】 Embedded image

【0092】ただし、式中R55は置換されていてもよい
アリール基又は複素環式基であり、R56は炭素原子1〜
3個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケニ
ル基であり、pは1、2又は3である。 一般式(XI)
Wherein R 55 is an optionally substituted aryl group or a heterocyclic group, and R 56 is
A trihaloalkyl or trihaloalkenyl group having three, and p is 1, 2 or 3. General formula (XI)

【0093】[0093]

【化45】 Embedded image

【0094】(ただし、Lは水素原子又は式:CO−
(R57n (CX3)m で表される置換基(nは0〜2で
あり、mは1〜3である)であり、Dは置換又は非置換
のアルキレン基であり、Q2はイオウ、セレン又は酸素
原子、ジアルキルメチレン基、アルケン−1,2−イレ
ン基、1,2−フェニレン基又はN−R58基であり、D
+Q2 は一緒になって3又は4異環を形成し、R58はア
ルキル基、アラルキル基又はアルコキシアルキル基であ
り、R57は炭素環式又は複素環式の芳香族基であり、X
は塩素、臭素又はヨウ素原子であり、q=0及びr=1
であるか又はq=1及びr=1又は2である。)で表わ
される、トリハロゲノメチル基を有するカルボニルメチ
レン複素環式化合物。 一般式(XII)
(Where L is a hydrogen atom or a compound of the formula: CO—
(R 57) n (CX 3 ) substituents represented by m (n is 0 to 2, m is 1 to 3) and, D is a substituted or unsubstituted alkylene group, Q 2 Is a sulfur, selenium or oxygen atom, a dialkylmethylene group, an alkene-1,2-ylene group, a 1,2-phenylene group or an NR 58 group;
+ Q 2 together form a 3 or 4 heterocycle, R 58 is an alkyl, aralkyl or alkoxyalkyl group, R 57 is a carbocyclic or heterocyclic aromatic group, X
Is a chlorine, bromine or iodine atom, q = 0 and r = 1
Or q = 1 and r = 1 or 2. A) a carbonylmethylene heterocyclic compound having a trihalogenomethyl group; General formula (XII)

【0095】[0095]

【化46】 Embedded image

【0096】(ただし、Xはハロゲン原子であり、tは
1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R59
水素原子又はCH3-tt基であり、R60はs価の置換さ
れていてもよい不飽和有機基である)。で表わされる、
4−ハロゲノ−5−(ハロゲノメチル−フェニル)−オ
キサゾール誘導体。 一般式(XIII)
(Where X is a halogen atom, t is an integer of 1 to 3, s is an integer of 1 to 4, R 59 is a hydrogen atom or a CH 3-t Xt group, 60 is an s-valent optionally substituted unsaturated organic group). Represented by
4-halogeno-5- (halogenomethyl-phenyl) -oxazole derivatives. General formula (XIII)

【0097】[0097]

【化47】 Embedded image

【0098】(ただし、Xはハロゲン原子であり、vは
1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R61
水素原子又はCH3-vv基であり、R62はu価の置換さ
れていてもよい不飽和有機基である)。で表わされる、
2−(ハロゲノメチル−フェニル)−4−ハロゲノ−オ
キサゾール誘導体。
(Where X is a halogen atom, v is an integer of 1 to 3, u is an integer of 1 to 4, R 61 is a hydrogen atom or a CH 3-v Xv group, 62 is a u-valent unsaturated organic group which may be substituted). Represented by
2- (halogenomethyl-phenyl) -4-halogeno-oxazole derivatives.

【0099】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、たとえば、若林ら著、Bull. Chem. Soc.
Japan, 42, 2924 (1969)記載の化合物、たとえば、2
−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−
トリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(2′,4′−ジクロルフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン、2,4,6−トリ
ス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−メチル
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−n−ノニル−4,6−ビス(トリクロクメチ
ル)−S−トリアジン、2−(α,α,β−トリクロル
エチル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン等が挙げられる。その他、英国特許第1388
492号明細書記載の化合物、たとえば、2−スチリル
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(トリ
クロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキシ
スチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミ
ノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭
53−133428号公報記載の化合物、たとえば、2
−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス
−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(4−エト
キシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロル
メチル−S−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエ
チル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ
−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチ
ル−S−トリアジン、2−(アセナフト−5−イル)−
4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン等、
独国特許第3337024号明細書記載の化合物、たと
えば下記の化合物を挙げることができる。
Compounds having such a carbon-halogen bond are described, for example, in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc.
Japan, 42 , 2924 (1969).
-Phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-
Triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-
Tolyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (triclomethyl) -S-triazine, 2- (α, α, β-trichloroethyl) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -S-triazine and the like. In addition, British Patent No. 1388
No. 492, for example, 2-styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine , 2- (p-methoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-
Compounds described in JP-A-53-133428, such as triazine and 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine;
-(4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S -Triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (acenaphth-5-yl)-
4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine and the like,
The compounds described in German Patent No. 3337024, for example, the following compounds can be mentioned.

【0100】[0100]

【化48】 Embedded image

【0101】[0101]

【化49】 Embedded image

【0102】また、F.C. Schaefer等によるJ. Org. Che
m.; 29, 1527 (1964)記載の化合物、たとえば2−メチ
ル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリブロムメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−S
−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロ
ムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル
−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げるこ
とができる。更に特開昭62−58241号公報記載の
化合物、たとえば下記の化合物を挙げることができる。
Also, J. Org. Che by FC Schaefer et al.
m .; 29, 1527 (1964), for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S
-Triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-triazine and the like. Further, there may be mentioned the compounds described in JP-A-62-58241, for example, the following compounds.

【0103】[0103]

【化50】 Embedded image

【0104】[0104]

【化51】 Embedded image

【0105】更に特開昭5−281728号公報記載の
化合物、例えば下記の化合物等を挙げることができる。
Further, there may be mentioned the compounds described in JP-A-5-281728, such as the following compounds.

【0106】[0106]

【化52】 Embedded image

【0107】あるいはさらに M.P.Hutt, E.F.Elslager
およびL.M.Werbel著 Journal of Heterocyclic Chemist
ry第7巻(No.3)、第511頁以降(1970年)に
記載されている合成方法に準じて当業者が容易に合成す
ることができる次のような化合物群を挙げることができ
る。
Alternatively, MPHutt, EFElslager
And LMWerbel, Journal of Heterocyclic Chemist
The following compound groups that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described in ry Vol. 7 (No. 3), pp. 511 et seq. (1970) can be mentioned.

【0108】[0108]

【化53】 Embedded image

【0109】[0109]

【化54】 Embedded image

【0110】[0110]

【化55】 Embedded image

【0111】[0111]

【化56】 Embedded image

【0112】[0112]

【化57】 Embedded image

【0113】[0113]

【化58】 Embedded image

【0114】[0114]

【化59】 Embedded image

【0115】[0115]

【化60】 Embedded image

【0116】[0116]

【化61】 Embedded image

【0117】あるいは、ドイツ特許第2641100号
明細書に記載されているような化合物、例えば、4−
(4−メトキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリ
クロルプロペニル)−2−ピロン及び4−(3,4,5
−トリメトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−
2−ピロン、あるいはドイツ特許第3333450号明
細書に記載されている化合物、例えば、
Alternatively, compounds such as those described in DE-A-264 1100, for example 4-
(4-methoxy-styryl) -6- (3,3,3-trichloropropenyl) -2-pyrone and 4- (3,4,5
-Trimethoxy-styryl) -6-trichloromethyl-
2-pyrone or the compounds described in DE 33 33 450, for example,

【0118】[0118]

【化62】 Embedded image

【0119】あるいはドイツ特許第3021590号明
細書に記載の化合物群、
Alternatively, a group of compounds described in German Patent No. 3021590,

【0120】[0120]

【化63】 Embedded image

【0121】あるいはドイツ特許第3021599号明
細書に記載の化合物群例えば、
Alternatively, a group of compounds described in German Patent No. 3021599, for example,

【0122】[0122]

【化64】 Embedded image

【0123】を挙げることができる。The following can be mentioned.

【0124】次に、上記(ロ)の一般式(IV)で示される
ケトン化合物について説明する。式中、R20、R21は水
素原子もしくは炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。
またR20、R21は結合してアルキレン基を表してもよ
い。Arである(IV-a) 及び(VI-b) 中のR22〜R
26は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素
原子数1〜12のアルキル基、炭素原子数3〜12のア
ルケニル基、アリール基、炭素原子数1〜12のアルコ
キシ基、水酸基、−S−R28基、−SO−R28基、−S
2−R28基を表し、R27は水素原子、または炭素原子
数1〜12のアルキル基、または炭素原子数2〜13の
アシル基を示す。これらのアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アシル基は更に炭素原子数1〜6の置換基
で置換されていても良い。Y1 中のR29はR20と、また
30はR21と同義である。具体的な例としては、米国特
許4,318,791号、欧州特許0284561A号
各明細書に記載の下記化合物を挙げることができる。
Next, the ketone compound represented by the general formula (IV) of (b) will be described. In the formula, R 20 and R 21 represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
R 20 and R 21 may combine to represent an alkylene group. R 22 to R in (IV-a) and (VI-b) which are Ar
26 independently of one another are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyl group,- SR- 28 group, -SO-R- 28 group, -S
Represents an O 2 —R 28 group, wherein R 27 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 13 carbon atoms. These alkyl group, aryl group, alkenyl group, and acyl group may be further substituted with a substituent having 1 to 6 carbon atoms. R 29 in Y 1 has the same meaning as R 20, and R 30 has the same meaning as R 21 . Specific examples thereof include the following compounds described in U.S. Pat. No. 4,318,791 and European Patent No. 0284561A.

【0125】[0125]

【化65】 Embedded image

【0126】[0126]

【化66】 Embedded image

【0127】次に、上記(ハ)の一般式(V)で示され
るケトオキシム化合物について説明する。式中、R31
32は同一または異なり、置換基を有していても良く不
飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或いは、ヘテ
ロ環基を表す。R33、R34は同一または異なり、水素原
子、置換基を有していても良く不飽和結合を含んでいて
も良い炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換
オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表す。また、R
33、R34は互いに結合して環を形成し、−O−、−NR
37−、−O−CO−、−S−、及び−SO2−を環の連
結主鎖に含んでいても良い炭素数2から8のアルキレン
基を表す。R37は水素原子、または置換基、不飽和結合
を含んでいてもよい炭化水素基、あるいは置換カルボニ
ル基を表す。R35、R36は水素原子、置換基を有してい
ても良く不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基、或
いは置換カルボニル基を表す。具体的な化合物として、
以下のものを挙げることができるがこれに限定されるも
のではない。
Next, the ketoxime compound represented by the general formula (V) of (c) will be described. Wherein R 31 ,
R 32 is the same or different and represents a hydrocarbon group which may have a substituent and may contain an unsaturated bond, or a heterocyclic group. R 33 and R 34 are the same or different and are a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent or may contain an unsaturated bond, a heterocyclic group, a hydroxyl group, a substituted oxy group, a mercapto group, a substituted Represents a thio group. Also, R
33 and R 34 are bonded to each other to form a ring, -O-, -NR
37 -, - O-CO - , - S-, and -SO 2 - represents an alkylene group having from 2 carbon atoms which may contain a linking backbone of the ring 8. R 37 represents a hydrogen atom, a substituent, a hydrocarbon group optionally having an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. R 35 and R 36 represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group which may have a substituent or may contain an unsaturated bond, or a substituted carbonyl group. As specific compounds,
The following can be mentioned, but not limited thereto.

【0128】[0128]

【化67】 Embedded image

【0129】[0129]

【化68】 Embedded image

【0130】[0130]

【化69】 Embedded image

【0131】[0131]

【化70】 Embedded image

【0132】[0132]

【化71】 Embedded image

【0133】上記(ニ)の有機過酸化物としては、分子
中に酸素−酸素結合を有する化合物を挙げることができ
る。例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シク
ロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサ
ノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイ
ド、1,1−ビス(ターシャリィブチルパーオキシ)−
3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス
(ターシャリィブチルパーオキシ)シクロヘキサン、
2,2−ビス(ターシャリィブチルパーオキシ)ブタ
ン、ターシャリィブチルハイドロパーオキサイド、クメ
ンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハ
イドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサ
イド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロ
パーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジターシャリィブチルパーオ
キサイド、ターシャリィブチルクミルパーオキサイド、
ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリィブチルパ
ーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(ターシャリィブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリィブチ
ルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイ
ド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパーオキ
サイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオ
キサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオ
キサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
Examples of the organic peroxide (d) include compounds having an oxygen-oxygen bond in the molecule. For example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tert-butylperoxy)-
3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-butylperoxy) cyclohexane,
2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiarybutylhydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, paramethane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5-di Hydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide,
Dicumyl peroxide, bis (tert-butylperoxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-
2,5-di (tert-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexyne-3, acetyl peroxide, isobutyl peroxide, octanoyl peroxide, deca Noyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide,

【0134】2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイ
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチ
ル)パーオキシジカーボネート、ターシャリィブチルパ
ーオキシアセテート、ターシャリィブチルパーオキシピ
バレート、ターシャリィブチルパーオキシネオデカノエ
ート、ターシャリィブチルパーオキシオクタノエート、
ターシャリィブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチ
ルヘキサノエート、ターシャリィブチルパーオキシラウ
レート、ターシャリィブチルパーオキシベンゾエート、
ジターシャリィブチルパーオキシイソフタレート、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘ
キサン、ターシャリィブチル過酸化マレイン酸、ターシ
ャリィブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、
3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチルパーオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テ
トラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ヘキシルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,
4′−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)
ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(クミル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブ
チルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ
(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等があ
る。
2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropylperoxydicarbonate, di-2-ethylhexylperoxydicarbonate, di-2-ethoxyethylperoxydicarbonate, dimethoxyisopropylperoxy Carbonate, di (3-methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tertiary butyl peroxypivalate, tertiary butyl peroxypivalate, tertiary butyl peroxy neodecanoate, tertiary butyl peroxyoctano Eat,
Tertiary butyl peroxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tertiary butyl peroxy laurate, tertiary butyl peroxy benzoate,
Ditertiary butyl peroxyisophthalate, 2,
5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, tertiary butyl peroxide maleic acid, tertiary butyl peroxyisopropyl carbonate,
3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4 , 4'-Tetra- (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,
4'-tetra- (t-octylperoxycarbonyl)
Benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3',
4,4'-tetra- (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

【0135】これらの中で、3,3′,4,4′−テト
ラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ−(t−アミルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラ−(t−キシルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オクチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベン
ゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプ
ロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸
化エステル系が好ましい。
Of these, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and 3,3', 4,4'-tetra- (t-amylperoxycarbonyl) Benzophenone, 3,3 ', 4,4'
-Tetra- (t-xylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3',
4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone,
Peroxide esters such as di-t-butyldiperoxyisophthalate are preferred.

【0136】上記(ホ)チオ化合物は、前記一般式(VI)
で示される。一般式(VI)におけるR38、R39のアルキル
基としては炭素原子数1〜4個のものが好ましい。また
38のアリール基としてはフェニル、ナフチルのような
炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換アリール
基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のよう
なハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトキ
シ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたも
のが含まれる。
The above (e) thio compound has the general formula (VI)
Indicated by The alkyl group of R 38 and R 39 in the general formula (VI) is preferably one having 1 to 4 carbon atoms. The aryl group of R 38 is preferably a group having 6 to 10 carbon atoms such as phenyl and naphthyl. As the substituted aryl group, a halogen atom such as a chlorine atom and a methyl group And those substituted with an alkoxy group such as an alkyl group, a methoxy group or an ethoxy group.

【0137】一般式(VI)で示されるチオ化合物の具体例
としては、下表に示すような化合物が挙げられる。
Specific examples of the thio compound represented by the general formula (VI) include the compounds shown in the following table.

【0138】[0138]

【表3】 [Table 3]

【0139】[0139]

【表4】 [Table 4]

【0140】[0140]

【表5】 [Table 5]

【0141】本発明に使用される成分(ヘ)のヘキサア
リールビイミダゾールとしては、2,2′−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニ
ルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−ブロモフェニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−
4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、
2,2′−ビス(o−クロロフェニル)−4,4′,
5,5′−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾ
ール、2,2′−ビス(o,o′−ジクロロフェニル)
−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、2,2′−ビス(o−ニトロフェニル)−4,
4′,5,5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,
2′−ビス(o−メチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
ケトオキシムエステルとしては、3−ベンゾイロキシイ
ミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−
2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−
オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−
アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、
2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1
−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタ
ン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。
The hexaarylbiimidazole of the component (f) used in the present invention includes 2,2'-bis (o-
(Chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2 ' -Bis (o, p-dichlorophenyl)-
4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ',
5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole, 2,2'-bis (o, o'-dichlorophenyl)
-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,
4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,
2'-bis (o-methylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (o-trifluoromethylphenyl) -4,4 ', 5
5'-tetraphenylbiimidazole and the like.
Examples of the ketoxime ester include 3-benzoyloximinobtan-2-one and 3-acetoxyiminobutan-
2-one, 3-propionyloxy iminobutan-2-
On, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-
Acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one,
2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1
-One, 3-p-toluenesulfonyloxyimiminobtan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-
1-phenylpropan-1-one and the like.

【0142】また、上記(ト)芳香族オニウム塩として
は、周期律表の第V、VI及びVII族の元素、具体的には
N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Te、またはIの芳香
族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩
としては、特公昭52−14277号、特公昭52−1
4278号、特公昭52−14279号各公報に示され
ている化合物を挙げることができ、具体的には、以下の
化合物を挙げることができる。
The (g) aromatic onium salts include elements of Groups V, VI and VII of the Periodic Table, specifically N, P, As, Sb, Bi, O, S, Se, Te or I aromatic onium salts are included. Examples of such aromatic onium salts include JP-B-52-14277 and JP-B-52-1.
No. 4278 and JP-B No. 52-14279 can be mentioned, and specifically, the following compounds can be mentioned.

【0143】[0143]

【化72】 Embedded image

【0144】[0144]

【化73】 Embedded image

【0145】[0145]

【化74】 Embedded image

【0146】[0146]

【化75】 Embedded image

【0147】[0147]

【化76】 Embedded image

【0148】[0148]

【化77】 Embedded image

【0149】[0149]

【化78】 Embedded image

【0150】これらの中で好ましいものは、BF4塩、
又はPF4塩の化合物さらに好ましくは芳香族ヨードニ
ウム塩のBF4塩、又はPF4塩である。
Among these, preferred are BF 4 salts,
Or a compound of a PF 4 salt, more preferably a BF 4 salt or a PF 4 salt of an aromatic iodonium salt.

【0151】上記(チ)ケトオキシムエステルとして
は、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−
アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニル
オキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノ
ペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−
オン等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned (T) ketoxime esters include 3-benzoyloximinobtan-2-one,
Acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-
1-phenylpropan-1-one, 3-p-toluenesulfonyloxyimiminobtan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-
ON and the like.

【0152】上記(ヌ)チタノセン化合物は、前記した
増感色素との共存下で光照射した場合、活性ラジカルを
発生し得るチタノセン化合物であれば、例えば、特開昭
59−152396号、特開昭61−151197号公
報に記載されている公知の化合物を適宜選択して用いる
ことができる。更に具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,4,
6−トリフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,6−ジフルオロフェニ−1
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−2,
4−ジフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペン
タフルオロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラフルオ
ロフェニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフェニ−1−イル、
ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−ジフル
オロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニウム等
を挙げることができる。
The (nu) titanocene compound is a titanocene compound capable of generating an active radical when irradiated with light in the presence of the above-mentioned sensitizing dye, and is, for example, disclosed in JP-A-59-152396 and JP-A-59-152396. Known compounds described in JP-A-61-151197 can be appropriately selected and used. More specifically, di-cyclopentadienyl-Ti-di-chloride, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-phenyl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5 , 6-Pentafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2 , 4,
6-trifluorophenyl-1-yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,6-difluorophenyl-1
-Yl, di-cyclopentadienyl-Ti-bis-2,
4-difluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,3,4,5,6-pentafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis -2,3,5,6-tetrafluorophenyl-1-yl, di-methylcyclopentadienyl-Ti-bis-2,4-difluorophenyl-1-yl,
Bis (cyclopentadienyl) -bis (2,6-difluoro-3- (pyr-1-yl) phenyl) titanium and the like can be mentioned.

【0153】これらの(イ)〜(ヌ)のラジカル重合開
始剤は、単独でまたは2種以上併用して用いることがで
きる。使用量はエチレン性不飽和化合物100重量部に
対して0.05〜100重量部、好ましくは1〜80重
量部、更に好ましくは3〜50重量部の範囲が適当であ
る。本発明の光感光性組成物中のこれらの光重合開始系
の含有濃度は通常わずかなものである。また、不適当に
多い場合には有効光線の遮断等好ましくない結果を生じ
る。本発明における光重合開始系の量は、光重合可能な
エチレン性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状
有機高分子重合体との合計に対して0.01重量%から
60重量%の範囲で使用するのが好ましい。より好まし
くは、1重量%から30重量%で良好な結果を得る。
These radical polymerization initiators (a) to (nu) can be used alone or in combination of two or more. The use amount is suitably from 0.05 to 100 parts by weight, preferably from 1 to 80 parts by weight, more preferably from 3 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the ethylenically unsaturated compound. The content of these photopolymerization initiation systems in the photosensitive composition of the present invention is usually low. In addition, when the number is inappropriately large, undesired results such as blocking of the effective light beam occur. The amount of the photopolymerization initiation system in the present invention is from 0.01% by weight to 60% by weight based on the total amount of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular weight polymer added as required. It is preferable to use it in the range. More preferably, 1% to 30% by weight gives good results.

【0154】また、本発明の光重合性組成物において
は、露光部分と未露光部分の色別を行う目的で、有機ハ
ロゲン化合物とロイコ色素を含有させることができる。
有機ハロゲン化物としては前述のラジカル重合開始剤
(イ)炭素−ハロゲン結合を有する化合物が一般に使用
される。この様な焼き出し剤として本発明に用いられる
有機ハロゲン化合物の量は光重合性組成物の固形分に対
し0.001重量%から5重量%の範囲である。さらに
好ましくは、0.005重量%から1重量%である。
Further, the photopolymerizable composition of the present invention may contain an organic halogen compound and a leuco dye for the purpose of distinguishing the color of the exposed portion and the unexposed portion.
As the organic halide, the above-mentioned radical polymerization initiator (a) a compound having a carbon-halogen bond is generally used. The amount of the organic halogen compound used in the present invention as such a printing-out agent is in the range of 0.001% by weight to 5% by weight based on the solid content of the photopolymerizable composition. More preferably, it is 0.005% by weight to 1% by weight.

【0155】本発明に使用しうるロイコ色素の代表的な
ものとしては、次のものが含まれる。トリス(p−ジメ
チルアミノフェニル)メタン、ロイコクリスタルバイオ
レット、トリス(p−ジエチルアミノフェニル)メタ
ン、トリス(p−ジメチルアミノ−o−メチルフェニ
ル)メタン、トリス(p−ジエチルアミノ−o−メチル
フェニル)メタン、ビス(p−ジブチルアミノフェニ
ル)−〔p−(2−シアノエチル)メチルアミノフェニ
ル〕メタン、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−2
−キノリルメタン、トリス(p−ジプロピルアミノフェ
ニル)メタン等のアミノトリアリールメタン類、3,6
−ビス(ジエチルアミノ)−9−フェニルキサンテン、
3−アミノ−6−ジメチルアミノ−2−メチル−9−
(o−クロロフェニル)キサンテン等のアミノキサンテ
ン類、3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9−(o−エ
トキシカルボニルフェニル)チオキサンテン、3,6−
ビス(ジメチルアミノ)チオキサンテン等のアミノチオ
キサンテン類、3,6−ビス(ジエチルアミノ)−9,
10−ジヒドロ−9−フェニルアクリジン、3,6−ビ
ス(ベンジルアミノ)−9,10−ジヒドロ−9−メチ
ルアクリジン等のアミノ−9,10−ジヒドロアクリジ
ン類、3,7−ビス(ジエチルアミノ)フェノキサジン
等のアミノフェノキサジン類、3,7−ビス(エチルア
ミノ)フェノチアジン等のアミノフェノチアジン類、
3,7−ビス(ジエチルアミノ)−5−ヘキシル−5,
10−ジヒドロフェナジン等のアミノジヒドロフェナジ
ン類、ビス(p−ジメチルアミノフェニル)アニリノメ
タン等のアミノフェニルメタン類、4−アミノ−4′−
ジメチルアミノジフェニルアミン、4−アミノ−α,β
−ジシアノヒドロケイ皮酸メチルエステル等のアミノヒ
ドロケイ皮酸類、1−(2−ナフチル)−2−フェニル
ヒドラジン等のヒドラジン類、1,4−ビス(エチルア
ミノ)−2,3−ジヒドロアントラキノン等のアミノ−
2,3−ジヒドロアントラキノン類、N,N−ジエチル
−p−フェネチルアニリン等のフェネチルアニリン類、
10−アセチル−3,7−ビス(ジメチルアミノ)フェ
ノチアジン等の塩基性NH基を含むロイコ色素のアシル
誘導体、トリス(4−ジエチルアミノ−o−トリル)エ
トキシカルボニルメタン等の酸化し得る水素をもってい
ないが、発色化合物に酸化しうるロイコ様化合物、ロイ
コインジゴイド色素、米国特許第3,042,515号
及び同第3,042,517号各明細書に記載されてい
るような発色形に酸化しうるような有機アミン類。この
型の代表的な化合物としては、次のものを挙げることが
できる。4,4′−エチレンジアミン、ジフェニルアミ
ン、N,N−ジメチルアニリン、4,4′−メチレンジ
アミントリフェニルアミン、N−ビニルカルバゾール。
これらのうち特に好ましいものはロイコクリスタルバイ
オレットである。本発明に用いるロイコ色素の量は光重
合性組成物の固形分当り、0.01〜10重量%の範囲
で、更に好ましくは0.05〜5重量%の範囲である。
Representative leuco dyes that can be used in the present invention include the following. Tris (p-dimethylaminophenyl) methane, leuco crystal violet, tris (p-diethylaminophenyl) methane, tris (p-dimethylamino-o-methylphenyl) methane, tris (p-diethylamino-o-methylphenyl) methane, Bis (p-dibutylaminophenyl)-[p- (2-cyanoethyl) methylaminophenyl] methane, bis (p-dimethylaminophenyl) -2
Aminotriarylmethanes such as quinolylmethane and tris (p-dipropylaminophenyl) methane;
-Bis (diethylamino) -9-phenylxanthene,
3-amino-6-dimethylamino-2-methyl-9-
Aminoxanthenes such as (o-chlorophenyl) xanthene, 3,6-bis (diethylamino) -9- (o-ethoxycarbonylphenyl) thioxanthene, 3,6-
Aminothioxanthenes such as bis (dimethylamino) thioxanthene, 3,6-bis (diethylamino) -9,
Amino-9,10-dihydroacridines such as 10-dihydro-9-phenylacridine, 3,6-bis (benzylamino) -9,10-dihydro-9-methylacridine, and 3,7-bis (diethylamino) phenoxy Aminophenoxazines such as sagin; aminophenothiazines such as 3,7-bis (ethylamino) phenothiazine;
3,7-bis (diethylamino) -5-hexyl-5,
Aminodihydrophenazines such as 10-dihydrophenazine; aminophenylmethanes such as bis (p-dimethylaminophenyl) anilinomethane; 4-amino-4'-
Dimethylaminodiphenylamine, 4-amino-α, β
-Aminohydrocinnamic acids such as methyl-dicyanohydrocinnamate, hydrazines such as 1- (2-naphthyl) -2-phenylhydrazine, 1,4-bis (ethylamino) -2,3-dihydroanthraquinone and the like Amino-
Phenethylanilines such as 2,3-dihydroanthraquinones and N, N-diethyl-p-phenethylaniline;
It has no oxidizable hydrogen such as an acyl derivative of a leuco dye containing a basic NH group such as 10-acetyl-3,7-bis (dimethylamino) phenothiazine and tris (4-diethylamino-o-tolyl) ethoxycarbonylmethane. , A leuco-like compound which can be oxidized to a color-forming compound, a leucoin digoid dye, which can be oxidized to a color-forming form as described in U.S. Pat. Nos. 3,042,515 and 3,042,517. Such organic amines. The following may be mentioned as typical compounds of this type. 4,4'-ethylenediamine, diphenylamine, N, N-dimethylaniline, 4,4'-methylenediaminetriphenylamine, N-vinylcarbazole.
Of these, particularly preferred is leuco crystal violet. The amount of the leuco dye used in the present invention is in the range of 0.01 to 10% by weight, more preferably 0.05 to 5% by weight, based on the solid content of the photopolymerizable composition.

【0156】本発明においては、光重合組成物を着色さ
せたり、保存安定性を付与したりする目的に染料を用い
ることができる。好適な染料の例は、ブリリアントグリ
ーン硫酸塩、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンB、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベ
イシックフクシン、フェノールフタレイン、1,3−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドS、チモールフ
タレイン、メチルバイオレット2B、キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニル−イエロー、チモールス
ルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレン
ジ、オレンジN、ジフェニルチオカルバゾン、2,7−
ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴー
レッド、ベンゾプルプリン4B、α−ナフチル−レッ
ド、ナイルブルーA、フェナセタリン、メチルバイオレ
ッド、マラカイトグリーンシュウ酸塩、パラフクシン、
オイルブルー#603〔オリエント化学工業(株)
製〕、ローダミンB、ローダミン6G等である。特に好
ましい染料は、マラカイトグリーンシュウ酸塩である。
In the present invention, a dye can be used for the purpose of coloring the photopolymerizable composition or imparting storage stability. Examples of suitable dyes include brilliant green sulfate, eosin, ethyl violet, erythrosin B, methyl green, crystal violet, basic fuchsin, phenolphthalein, 1,3-diphenyltriazine, alizarin red S, thymol phthalein, methyl violet 2B, quinaldine red, rose bengal, methanyl-yellow, thymol sulfophthalein, xylenol blue, methyl orange, orange N, diphenylthiocarbazone, 2,7-
Dichlorofluorescein, paramethyl red, congo red, benzopurpurine 4B, α-naphthyl-red, nile blue A, phenacetaline, methyl violet, malachite green oxalate, parafuchsin,
Oil Blue # 603 [Orient Chemical Industry Co., Ltd.
Manufactured), rhodamine B, rhodamine 6G and the like. A particularly preferred dye is malachite green oxalate.

【0157】本発明の光重合性組成物には、更に熱重合
禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の具体例
としては、例えば、p−メトキシフェノール、ハイドロ
キノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、
t−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、ク
ロラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、2,6
−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピリジン、ニトロ
ベンゼン、ジニトロベンゼン、p−トルイジン、メチレ
ンブルー、有機銅、サリチル酸メチルなどがある。これ
らの熱重合禁止剤は、多官能モノマーに対して0.00
1〜5重量%の範囲で含有されるのが好ましい。
It is preferable to further add a thermal polymerization inhibitor to the photopolymerizable composition of the present invention. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor include, for example, p-methoxyphenol, hydroquinone, alkyl or aryl-substituted hydroquinone,
t-butylcatechol, pyrogallol, cuprous chloride, chloranil, naphthylamine, β-naphthol, 2,6
-Di-t-butyl-p-cresol, pyridine, nitrobenzene, dinitrobenzene, p-toluidine, methylene blue, organic copper, methyl salicylate and the like. These thermal polymerization inhibitors are used in an amount of 0.00
It is preferably contained in the range of 1 to 5% by weight.

【0158】本発明においては、膜物性をコントロール
するために、可塑剤を添加してもよく、代表例として
は、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、オクチルカプリールフタレート、ジシクロヘ
キシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベ
ンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリー
ルフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリ
コースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレー
ト、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタ
リールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジ
カプリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリ
クレジールフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジ
オクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセ
バケート、ジオクチルセバケート、ジブチルマレートな
どの脂肪酸二塩基酸エステル類、ベンゼンスルホンアミ
ド、p−トルエンスルホンアミド、N−n−ブチルアセ
トアミドなどのアミド類、クエン酸トリエチル、グリセ
リントリアセチルエステル、ラウリル酸ブチルなどがあ
る。
In the present invention, a plasticizer may be added to control the physical properties of the film. Representative examples include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diisobutyl phthalate, dioctyl phthalate, octyl capryl phthalate, Phthalates such as dicyclohexyl phthalate, ditridecyl phthalate, butyl benzyl phthalate, diisodecyl phthalate, diaryl phthalate, dimethyl glycolose phthalate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, triethylene Glycol esters such as glycol dicaprylate, and phosphate esters such as tricresyl phosphate and triphenyl phosphate. , Diisobutyl adipate, dioctyl adipate, dimethyl sebacate, dibutyl sebacate, dioctyl sebacate, fatty acid dibasic acid esters such as dibutyl malate, benzenesulfonamide, p-toluenesulfonamide, N-n-butylacetamide and the like Examples include amides, triethyl citrate, glycerin triacetyl ester, and butyl laurate.

【0159】本発明においては、密着性を向上させるた
めに、公知のいわゆる密着促進剤を用いることができ
る。例えば、特公昭50−9177号、特公昭54−
5,292号、特公昭55−22,481号、特開昭5
1−64,919号、特開昭51−64,920号、特
開昭50−63,087号、特開昭52−2,724
号、特開昭53−702号、特開昭53−124,54
1号、特開昭53−124,594号、特開昭54−1
33,585号、特開昭54−133,586号、特開
昭55−65,947号、特公昭57−46,053
号、特公昭57−46,054号、特開昭56−11,
904号、特公昭57−21,697号、特開昭56−
75,642号、特開昭56−67,844号、特公昭
57−40,500号、特開昭56−99,202号、
特開昭56−100,803号、特開昭57−60,3
27号、特開昭57−62,047号、DAS2,44
8,850号、US4,629,679号、特公昭57
−49,894号、特開昭57−148,392号、特
開昭57−192,946号、特開昭58−100,8
44号、特開昭59−113,432号、特開昭59−
125,725号、特開昭59−125,726号、特
開昭59−125,727号、特開昭59−125,7
28号、特開昭59−152,439号、特開昭59−
154,440号、特開昭59−154,441号、特
開昭59−165,051号、特開昭60−12,54
3号、特開昭60−12,544号、特開昭60−13
5,931号、特開昭60−138,540号、特開昭
60−146,233号、特開昭61−4,038号、
特開昭61−6,644号、特開昭61−6,646
号、特開昭61−166,541号、特開昭61−17
2,139号、特開昭61−186,952号、特開昭
61−190,330号、特開昭61−198,146
号、特開昭61−223,836号、特開昭61−28
2,835号、特開昭61−360,237号、特開昭
62−91,935号、特開昭62−96,939号、
特開昭62−180,354号、特開昭62−180,
355号、特開昭62−180,356号、特開昭62
−180,357号、特開昭62−181,303号、
特開昭62−208,042号、特開昭62−240,
950号、特開昭62−277,405号、特開昭62
−286,035号、特開昭62−290,702号、
特公昭63−13,526号、特開昭63−24,24
3号、特開昭63−57,622号、特開昭63−6
1,241号各公報または明細書に記載の化合物があ
る。具体的には、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾ
ール、ベンズチアゾール、2−メルカプトベンズイミダ
ゾール、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−メル
カプトベンズチアゾール、3−モルホリノメチル−1−
フェニル−トリアゾール−2−チオン、3−モルホリノ
メチル−5−フェニル−オキサジアゾール−2−チオ
ン、5−アミノ−3−モルホリノメチル−チアジアゾー
ル−2−チオン、2−メルカプト−5−メチルチオ−チ
アジアゾールなどがある。特に好ましい化合物としては
3−モルホリノメチル−1−フェニルトリアゾール−2
−チオンが挙げられる。
In the present invention, a known so-called adhesion promoter can be used to improve the adhesion. For example, Japanese Patent Publication No. 50-9177, Japanese Patent Publication No. 54-1979
No. 5,292, JP-B-55-22,481, JP-A-5
1-64,919, JP-A-51-64,920, JP-A-50-63,087, JP-A-52-2,724.
JP-A-53-702 and JP-A-53-12454.
No. 1, JP-A-53-124,594, JP-A-54-1
33,585, JP-A-54-133,586, JP-A-55-65,947, and JP-B-57-46,053.
No., JP-B-57-46,054, JP-A-56-11,
No. 904, JP-B-57-21,697, JP-A-56-
No. 75,642, JP-A-56-67844, JP-B-57-40,500, JP-A-56-99,202,
JP-A-56-100,803, JP-A-57-60,3
No. 27, JP-A-57-62,047, DAS 2, 44
No. 8,850, US Pat. No. 4,629,679, Japanese Patent Publication No. 57
-49,894, JP-A-57-148,392, JP-A-57-192,946, JP-A-58-100,8
No. 44, JP-A-59-113432, JP-A-59-113432
125,725, JP-A-59-125,726, JP-A-59-125,727, JP-A-59-125,727
No. 28, JP-A-59-152,439, JP-A-59-152439
154,440, JP-A-59-154,441, JP-A-59-165,051, JP-A-60-12,54.
No. 3, JP-A-60-12,544, JP-A-60-13
5,931, JP-A-60-138,540, JP-A-60-146,233, JP-A-61-4,038,
JP-A-61-6,644, JP-A-61-6,646
JP-A-61-166,541, JP-A-61-17
No. 2,139, JP-A-61-186,952, JP-A-61-190,330, JP-A-61-198,146.
JP-A-61-223,836 and JP-A-61-28
2,835, JP-A-61-360,237, JP-A-62-91,935, JP-A-62-96,939,
JP-A-62-180,354, JP-A-62-180,
355, JP-A-62-180,356, JP-A-62
-180,357, JP-A-62-181,303,
JP-A-62-208,042, JP-A-62-240,
No. 950, JP-A-62-277,405 and JP-A-62
-286,035, JP-A-62-290,702,
JP-B-63-13,526, JP-A-63-24,24
No. 3, JP-A-63-57,622 and JP-A-63-6
There are compounds described in JP-A Nos. 1,241 and each publication or specification. Specifically, benzimidazole, benzoxazole, benzothiazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 3-morpholinomethyl-1-
Phenyl-triazole-2-thione, 3-morpholinomethyl-5-phenyl-oxadiazole-2-thione, 5-amino-3-morpholinomethyl-thiadiazole-2-thione, 2-mercapto-5-methylthio-thiadiazole and the like There is. Particularly preferred compounds include 3-morpholinomethyl-1-phenyltriazole-2
-Thione.

【0160】本発明の光重合性組成物に含有される、そ
の他の主成分である熱可塑性高分子結合剤並びに非ガス
状エチレン性不飽和化合物は特に制限されるものではな
く、例えば下記に挙げる各化合物を使用することができ
る。前記熱可塑性高分子結合剤は、広範な種類の合成、
半合成、天然の高分子物質の中から次の条件を満足する
ものが用いられる。即ち、エチレン性不飽和化合物、光
重合開始剤、有機ハロゲン化合物、ロイコ色素との相溶
性が塗布液の調製から、塗布、乾燥に至る製造工程およ
び得られる塗布物の保存中に脱混合を起こさない程度に
良いこと、本発明の使用法に応じた性質、例えば、テン
ティング用フォトレジストの形で用られる場合には結合
剤の強度、延伸性、耐摩耗性、耐薬品性などが適当であ
ること、更に、結合剤の分子量、分子間力、硬さ、軟化
温度、結晶性、破壊伸度などが適切なことである。結合
剤の具体例を挙げると塩素化ポリエチレン、塩素化ポリ
プロピレンなどの塩素化ポリオレフィン、ポリメチル
(メタ)アクリレートなどのポリ(メタ)アクリル酸ア
ルキルエステル(アルキル基としては、メチル基、エチ
ル基、ブチル基など)、(メタ)アクリル酸と(メタ)
アクリル酸アルキルエステル(アルキル基は同上)との
共重合物、ポリ(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル
酸アルキルエステル(アルキル基は同上)とアクリロニ
トリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、スチレン、ブタ
ジエン等のモノマーの少くとも一種との共重合物、ポリ
塩化ビニル、塩化ビニルとアクリロニトリルとの共重合
物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンとアクリロニ
トリルとの共重合物、酢酸ビニルと塩化ビニルとの共重
合物、ポリアクリロニトリル、アクリロニトリルとスチ
レンとの共重合物、アクリロニトリルとブタジエン及び
スチレンとの共重合物、スチレンと無水マレイン酸など
の不飽和二塩基酸無水物との共重合物、ポリビニルブチ
ラール、スチレンブタジエンゴム、塩化ゴム、環化ゴ
ム、アセチルセルロースなどのホモポリマー又は共重合
物などがある。共重合物の場合、その成分モノマーの含
有比は広範囲の値をとりうるが、一般には他の共重合モ
ノマーがモル比で5%以上含まれているものが好適であ
る。またこれら以外のポリマーであっても、前記の条件
を満たすものであれば、本発明の結合剤として用いるこ
とが出来る。
The other main components of the thermoplastic polymer binder and the non-gaseous ethylenically unsaturated compound contained in the photopolymerizable composition of the present invention are not particularly limited, and examples thereof include the following. Each compound can be used. The thermoplastic polymer binder is a wide variety of synthetic,
Semi-synthetic or natural polymer substances satisfying the following conditions are used. That is, the compatibility with the ethylenically unsaturated compound, the photopolymerization initiator, the organic halogen compound, and the leuco dye causes demixing during the manufacturing process from preparation of the coating solution to coating and drying, and storage of the obtained coated product. Not so good, properties according to the use of the present invention, for example, when used in the form of a photoresist for tenting, the strength of the binder, stretchability, abrasion resistance, chemical resistance and the like are appropriate. In addition, the molecular weight, intermolecular force, hardness, softening temperature, crystallinity, elongation at break, etc. of the binder are appropriate. Specific examples of the binder include chlorinated polyolefins such as chlorinated polyethylene and chlorinated polypropylene, and poly (meth) acrylic acid alkyl esters such as polymethyl (meth) acrylate (where the alkyl group is a methyl group, an ethyl group, or a butyl group). ), (Meth) acrylic acid and (meth)
Copolymers with acrylic acid alkyl esters (alkyl groups are as described above), poly (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl esters (alkyl groups are as described above) and acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, styrene, butadiene, etc. Copolymers with at least one of the monomers, polyvinyl chloride, copolymers of vinyl chloride and acrylonitrile, polyvinylidene chloride, copolymers of vinylidene chloride and acrylonitrile, copolymers of vinyl acetate and vinyl chloride, Polyacrylonitrile, a copolymer of acrylonitrile and styrene, a copolymer of acrylonitrile and butadiene and styrene, a copolymer of styrene and an unsaturated dibasic acid anhydride such as maleic anhydride, polyvinyl butyral, styrene butadiene rubber, Chloride rubber, cyclized rubber, acetyl cellulose Scan the like homopolymers or copolymers of such. In the case of a copolymer, the content ratio of the component monomers can take a wide range of values, but in general, it is preferable that the content of the other copolymer monomer is 5% or more in a molar ratio. Further, polymers other than these can be used as the binder of the present invention as long as they satisfy the above conditions.

【0161】上記のポリマーの内、本発明の結合剤とし
て特に好適に用いられるものは、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、ポリメチルメタアクリレート、
メチルメタクリレート−アクリロニトリル共重合物(メ
チルメタクリレートのモル含量20〜80%)、塩化ビ
ニル−アクリロニトリル共重合物(塩化ビニルのモル含
量20〜80%)、塩化ビニリデン−アクリロニトリル
共重合物(塩化ビニリデンのモル含量20〜80%)、
スチレン−無水マレイン酸共重合物、特願昭59−11
4736号(結合剤は、メタクリル酸メチル/メタクリ
ル酸/2−エチルヘキシルメタクリレート/ベンジルメ
タクリレート四元共重合体である)、特公昭54−34
327号(結合剤は、例えばメタクリル酸メチル/メタ
クリル酸2−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重
合体である)、特公昭55−38961号(結合剤は例
えばスチレン/マレイン酸モノ−n−ブチルエステル共
重合体である)、特公昭54−25957号(結合剤は
例えばエチレン/メタクリル酸メチル/アクリル酸エチ
ル/メタクリル酸の四元共重体である)、特開昭52−
99810号(結合剤は例えばメタクリル酸ベンジル/
メタクリル酸共重合体である)、特公昭58−1257
7号(結合剤は例えばアクリロニトリル/メタクリル酸
2−エチルヘキシル/メタクリル酸の三元共重合体であ
る)および特公昭55−6210号(結合剤は例えばメ
タクリル酸メチル/アクリル酸エチル/アクリル酸の三
元共重合体とイソプロパノールで一部分エステル化した
スチレン/マレイン酸無水物共重合体の2種である)の
各公報または明細書に記載の結合剤などである。
Of the above-mentioned polymers, those particularly preferably used as the binder of the present invention include chlorinated polyethylene,
Chlorinated polypropylene, polymethyl methacrylate,
Methyl methacrylate-acrylonitrile copolymer (molar content of methyl methacrylate 20-80%), vinyl chloride-acrylonitrile copolymer (molar content of vinyl chloride 20-80%), vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer (mol of vinylidene chloride) Content 20-80%),
Styrene-maleic anhydride copolymer, Japanese Patent Application No. 59-11
No. 4736 (the binder is a quaternary copolymer of methyl methacrylate / methacrylic acid / 2-ethylhexyl methacrylate / benzyl methacrylate), and JP-B-54-34.
No. 327 (the binder is, for example, a terpolymer of methyl methacrylate / 2-ethylhexyl methacrylate / methacrylic acid), and JP-B-55-38961 (the binder is, for example, styrene / mono-n-butyl maleate). JP-B-54-25957 (the binder is, for example, a quaternary copolymer of ethylene / methyl methacrylate / ethyl acrylate / methacrylic acid);
No. 99810 (the binder is, for example, benzyl methacrylate /
A methacrylic acid copolymer), and JP-B-58-1257.
No. 7 (the binder is, for example, a terpolymer of acrylonitrile / 2-ethylhexyl methacrylate / methacrylic acid) and JP-B-55-6210 (the binder is, for example, methyl methacrylate / ethyl acrylate / acrylic acid). And styrene / maleic anhydride copolymer partially esterified with isopropanol) and the binders described in each publication or in the specification.

【0162】これらの結合剤は、単独で結合剤として用
いてもよいが、二種以上の塗布液の調製から、塗布、乾
燥に至る製造工程中および得られる塗布物の保存中に脱
混合を起さない程度に互いに相溶性のあるポリマーを適
当な比で混合して結合剤として用いることが出来る。結
合剤として用いられる高分子物質の分子量は、ポリマー
の種類によって広範な値をとりうるが、一般的には5,
000〜2,000,000、より好ましくは、50,
000〜1,000,000の範囲のものが本発明に好
適に用いられる。結合剤の量は光重合性組成物の固形分
に対して5〜95wt%、好ましくは40〜80wt%であ
る。
These binders may be used alone as a binder, but demixing is carried out during the production process from preparation of two or more coating solutions to coating and drying and storage of the obtained coating material. Polymers compatible with each other to such an extent that they do not occur can be mixed at an appropriate ratio and used as a binder. The molecular weight of the high molecular substance used as the binder can take a wide range of values depending on the type of the polymer.
2,000 to 2,000,000, more preferably 50,
Those having a range of 000 to 1,000,000 are suitably used in the present invention. The amount of the binder is 5 to 95% by weight, preferably 40 to 80% by weight, based on the solid content of the photopolymerizable composition.

【0163】また、本発明に用いられる好適なエチレン
性不飽和化合物は、少なくとも2個の末端不飽和基を有
する、活性光線の照射により、光重合が可能な化合物で
ある(以下、多官能モノマーと略す。)。具体的には、
特公昭35−5,093号公報、特公昭35−14,7
19号公報、特公昭44−28,727号公報等に記載
される下記の化合物である。先ずアクリル酸エステル類
及びメタクリル酸エステル類としては、多価アルコール
のポリアクリレート類及びポリメタクリレート類(ここ
で「ポリ」とはジアクリレート以上を指す。)がある。
上記多価アルコールとしては、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコー
ル、ポリシクロヘキセンオキサイド、ポリスチレンオキ
サイド、ポリオキセタン、ポリテトラヒドロフラン、シ
クロヘキサンジオール、キシリレンジオール、ジ−(β
−ヒドロキシエトキシ)ベンゼン、グリセリン、ジグリ
セリン、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、
ジペンタエリスリトール、ソルビタン、ソルビトール、
ブタンジオール、ブタントリオール、2−ブテン−1,
4−ジオール、2−n−ブチル−2−エチル−プロパン
ジオール、2−ブテン−1,4−ジオール、3−クロル
−1,2−プロパンジオール、1,4−シクロヘキサン
ジメタノール、3−シクロヘキセン−1,1−ジメタノ
ール、デカリンジオール、2,3−ジブロム−2−ブテ
ン−1,4−ジオール、2,2−ジエチル−1,3−プ
ロパンジオール、1,5−ジヒドロキシ−1,2,3,
4−テトラヒドロナフタレン、2,5−ジメチル−2,
5−ヘキサンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プ
ロパンジオール、2,2−ジフェニル−1,3−プロパ
ンジオール、ドデカンジオール、メゾエリスリトール、
2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−エチル−
2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオー
ル、2−エチル−2−メチル−1,3−プロパンジオー
ル、ヘプタンジオール、ヘキサンジオール、3−ヘキセ
ン−2,5−ジオール、ヒドロキシベンジルアルコー
ル、ヒドロキシエチルレゾルシノール、2−メチル−
1,4−ブタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタ
ンジオール、ノナンジオール、オクタンジオール、ペン
タンジオール、1−フェニル−1,2−エタンジオー
ル、プロパンジオール、2,2,4,4−テトラメチル
−1,3−シクロブタンジオール、2,3,5,6−テ
トラメチル−p−キシレン−α,α′−ジオール、1,
1,4,4−テトラフェニル−1,4−ブタンジオー
ル、1,1,4,4−テトラフェニル−2−ブチン−
1,4−ジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサ
ン、1,1′−ビ−2−ナフトール、ジヒドロキシナフ
タレン、1,1′−メチレンジ−2−ナフトール、1,
2,4−ベンゼントリオール、ビフェノール、2,2′
−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス
(ヒドロキシフェニル)メタン、カテコール、4−クロ
ルレゾルシノール、3,4−ジヒドロキシハイドロシン
ナミックアシッド、ハイドロキノン、ヒドロキシベンジ
ルアルコール、メチルハイドロキノン、メチル−2,
4,6−トリヒドロキシベンゾエート、フロログルシノ
ール、ピロガロール、レゾルシノール、グルコース、α
−(1−アミノエチル)−p−ヒドロキシベンジルアル
コール、2−アミノ−2−エチル−1,3−プロパンジ
オール、2−アミノ−2−メチル−1,3−プロパンジ
オール、3−アミノ−1,2−プロパンジオール、N−
(3−アミノプロピル)−ジエタノールアミン、N,
N′−ビス−(2−ヒドロキシエチル)ピペラジン、
2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−2,2′,2″−
ニトリロトリエタノール、2,2−ビス(ヒドロキシメ
チル)プロピオニックアシド、1,3−ビス(ヒドロキ
シメチル)ウレア、1,2−ビス(4−ピリジル)−
1,2−エタンジオール、N−n−ブチルジエタノール
アミン、ジエタノールアミン、N−エチレンジエタノー
ルアミン、3−メルカプト−1,2−プロパンジオー
ル、3−ピペリジノ−1,2−プロパンジオール、2−
(2−ピリジル)−1,3−プロパンジオール、トリエ
タノールアミン、α−(1−アミノエチル)−p−ヒド
ロキシベンジルアルコール、3−アミノ−4−ヒドロキ
シフェニルスルホンなどがある。これらのアクリル酸エ
ステル類、及びメタクリル酸エステル類のうち、最も好
ましいものは、その入手の容易さから、エチレングリコ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラ
エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコー
ルジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリ
レート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テ
トラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコ
ールジアクリレート、ドデカプロピレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、グリセリ
ントリアクリレート、ジグリセリンジメタクリレート、
1,3−プロパンジオールジアクリレート、1,2,4
−ブタントリオールトリメタクリレート、1,4−シク
ロヘキサンジオールジアクリレート、1,5−ペンタン
ジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジア
クリレート、エチレンオキサイド付加したトリメチロー
ルプロパンのトリアクリル酸エステル等である。
The ethylenically unsaturated compound suitable for use in the present invention is a compound having at least two terminal unsaturated groups and capable of being photopolymerized by irradiation with actinic rays (hereinafter referred to as a polyfunctional monomer). Abbreviated.) In particular,
JP-B-35-5,093, JP-B-35-14,7
No. 19, JP-B-44-28,727 and the like. First, as acrylates and methacrylates, there are polyacrylates and polymethacrylates of polyhydric alcohols (here, “poly” refers to diacrylate or higher).
Examples of the polyhydric alcohol include polyethylene glycol, polypropylene glycol, polybutylene glycol, polycyclohexene oxide, polystyrene oxide, polyoxetane, polytetrahydrofuran, cyclohexanediol, xylylene diol, di- (β
-Hydroxyethoxy) benzene, glycerin, diglycerin, neopentyl glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol,
Dipentaerythritol, sorbitan, sorbitol,
Butanediol, butanetriol, 2-butene-1,
4-diol, 2-n-butyl-2-ethyl-propanediol, 2-butene-1,4-diol, 3-chloro-1,2-propanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 3-cyclohexene- 1,1-dimethanol, decalindiol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 1,5-dihydroxy-1,2,3 ,
4-tetrahydronaphthalene, 2,5-dimethyl-2,
5-hexanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,2-diphenyl-1,3-propanediol, dodecanediol, mesoerythritol,
2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-ethyl-
2- (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 2-ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, heptanediol, hexanediol, 3-hexene-2,5-diol, hydroxybenzyl alcohol, hydroxy Ethyl resorcinol, 2-methyl-
1,4-butanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, nonanediol, octanediol, pentanediol, 1-phenyl-1,2-ethanediol, propanediol, 2,2,4,4-tetra Methyl-1,3-cyclobutanediol, 2,3,5,6-tetramethyl-p-xylene-α, α'-diol, 1,
1,4,4-tetraphenyl-1,4-butanediol, 1,1,4,4-tetraphenyl-2-butyne-
1,4-diol, 1,2,6-trihydroxyhexane, 1,1'-bi-2-naphthol, dihydroxynaphthalene, 1,1'-methylenedi-2-naphthol, 1,
2,4-benzenetriol, biphenol, 2,2 '
-Bis (4-hydroxyphenyl) butane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (hydroxyphenyl) methane, catechol, 4-chlororesorcinol, 3,4-dihydroxyhydrocinnamic acid, hydroquinone, hydroxy Benzyl alcohol, methylhydroquinone, methyl-2,
4,6-trihydroxybenzoate, phloroglucinol, pyrogallol, resorcinol, glucose, α
-(1-aminoethyl) -p-hydroxybenzyl alcohol, 2-amino-2-ethyl-1,3-propanediol, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, 3-amino-1, 2-propanediol, N-
(3-aminopropyl) -diethanolamine, N,
N'-bis- (2-hydroxyethyl) piperazine,
2,2-bis (hydroxymethyl) -2,2 ', 2 "-
Nitrilotriethanol, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 1,3-bis (hydroxymethyl) urea, 1,2-bis (4-pyridyl)-
1,2-ethanediol, Nn-butyldiethanolamine, diethanolamine, N-ethylenediethanolamine, 3-mercapto-1,2-propanediol, 3-piperidino-1,2-propanediol, 2-
(2-pyridyl) -1,3-propanediol, triethanolamine, α- (1-aminoethyl) -p-hydroxybenzyl alcohol, 3-amino-4-hydroxyphenyl sulfone, and the like. Of these acrylates and methacrylates, the most preferred are ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, ethylene glycol Dimethacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, dodecapropylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, penta Erythritol tetraacrylate, Pentaery Lithol triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol dimethacrylate,
Dipentaerythritol pentaacrylate, glycerin triacrylate, diglycerin dimethacrylate,
1,3-propanediol diacrylate, 1,2,4
-Butanetriol trimethacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, 1,5-pentanediol diacrylate, neopentylglycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate to which ethylene oxide is added, and the like.

【0164】一方、アクリルアミド類、及びメタクリル
アミド類としては、メチレンビスアクリルアミド、メチ
レンビスメタクリルアミドのほか、エチレンジアミン、
ジアミノプロパン、ジアミノブタン、ペンタメチレンジ
アミン、ヘキサメチレン、ビス(2−アミノプロピル)
アミン、ジエチレントリアミンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン並びに異種原子に
より中断されたポリアミン、環を有するポリアミン(例
えばフェニレンジアミン、キシリレンジアミン、β−
(4−アミノフェニル)エチルアミン、ジアミノベンゾ
イックアシッド、ジアミノトルエン、ジアミノアントラ
キシン、ジアミノフルオレンなど)のポリアクリルアミ
ド及びポリメタクリルアミドがある。
On the other hand, acrylamides and methacrylamides include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, ethylenediamine,
Diaminopropane, diaminobutane, pentamethylenediamine, hexamethylene, bis (2-aminopropyl)
Amines, diethylenetriaminediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, polyamines interrupted by hetero atoms, ring-containing polyamines (for example, phenylenediamine, xylylenediamine, β-
(4-aminophenyl) ethylamine, diaminobenzoic acid, diaminotoluene, diaminoanthraxine, diaminofluorene, etc.) and polyacrylamide and polymethacrylamide.

【0165】アリル化合物としては、例えばフタル酸、
テレフタル酸、セバシン酸、アジピン酸、グルタール
酸、マロン酸、蓚酸等のジカルボン酸のジアリルエステ
ル、例えば、アントラキノンジスルホン酸、ベンゼンジ
スルホン酸、2,5−ジヒドロキシ−p−ベンゼンジス
ルホン酸、ジヒドロキシナフタレンジスルホン酸、ナフ
タレンジスルホン酸などのジスルホン酸のジアリルエス
テル、ジアリルアミドなどがある。
As the allyl compound, for example, phthalic acid,
Diallyl esters of dicarboxylic acids such as terephthalic acid, sebacic acid, adipic acid, glutaric acid, malonic acid, oxalic acid, for example, anthraquinone disulfonic acid, benzenedisulfonic acid, 2,5-dihydroxy-p-benzenedisulfonic acid, dihydroxynaphthalenedisulfonic acid And diallyl esters of disulfonic acids such as naphthalenedisulfonic acid and diallylamide.

【0166】ビニルエーテル化合物としては、前記多価
アルコールのポリビニルエーテルがあり、例えばエチレ
ングリコールジビニルエーテル、1,3,5−トリ−β
−ビニロキシエトキシベンゼン、1,3−ジ−β−ビニ
ロキシエトキシベンゼン、グリセロールトリビニルエー
テルなどがある。
Examples of the vinyl ether compounds include polyvinyl ethers of the above-mentioned polyhydric alcohols, for example, ethylene glycol divinyl ether, 1,3,5-tri-β
-Vinyloxyethoxybenzene, 1,3-di-β-vinyloxyethoxybenzene, glycerol trivinyl ether and the like.

【0167】ビニルエステル類としては、ジビニルサク
シネート、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、
ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼン−1,3−
ジスルホネート、ジビニルブタン−1,4−ジスルホネ
ートなどがある。
As vinyl esters, divinyl succinate, divinyl adipate, divinyl phthalate,
Divinyl terephthalate, divinylbenzene-1,3-
Disulfonate and divinylbutane-1,4-disulfonate.

【0168】スチレン化合物としては、ジビニルベンゼ
ン、p−アリルスチレン、p−イソプロペンスチレンな
どがある。N−β−ヒドロキシエチル−β−(メタクリ
ルアミド)エチルアクリレート、N,N−ビス(β−メ
タクリロキシエチル)アクリルアミド、アリルメタクリ
レートなどの如き、異なった付加重合性不飽和結合を2
個以上有する化合物も、本発明に好適に用いられる。
Examples of the styrene compound include divinylbenzene, p-allylstyrene, p-isopropenestyrene and the like. Different addition polymerizable unsaturated bonds such as N-β-hydroxyethyl-β- (methacrylamido) ethyl acrylate, N, N-bis (β-methacryloxyethyl) acrylamide, allyl methacrylate, etc.
Compounds having more than one compound are also suitably used in the present invention.

【0169】更に、少なくとも二つの水酸基を有するポ
リオール化合物と、やや過剰の少なくとも二つのイソシ
アネート基を有するポリイソシアネート化合物とを反応
させた反応生成物に、少なくとも一つの水酸基と少なく
とも一つのエチレン性不飽和基を有する化合物を反応さ
せて得られる少なくとも二つのエチレン性不飽和基を有
する多官能ウレタン化合物も本発明に好適に用いられ
る。これらの多官能モノマーは単独あるいは二種以上を
併用して用いることができ、光重合性組成物固形分の5
〜90wt%、好ましくは15〜60wt%の範囲で用いら
れる。
Further, a reaction product obtained by reacting a polyol compound having at least two hydroxyl groups with a slightly excess polyisocyanate compound having at least two isocyanate groups is added to at least one hydroxyl group and at least one ethylenically unsaturated compound. A polyfunctional urethane compound having at least two ethylenically unsaturated groups obtained by reacting a compound having a group is also suitably used in the present invention. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
It is used in the range of ~ 90wt%, preferably 15 ~ 60wt%.

【0170】上記の如く調製される本発明の光重合性組
成物は、プリント配線板の作成用のフォトレジストとし
て基板上に設けられる。その際、溶剤に溶解または分散
して塗布液とし、スピナーやホイラー等を用いて基板上
に直接塗布し、乾燥を行って成膜されるか、もしくは前
記塗布液を適当な支持体上に適当な方法で塗布し、乾燥
し、もし必要ならばその上に保護フィルムを重ねて画像
形成材料(ドライフィルムレジスト)として用い、基板
上に付着されるのが一般的である。前記基板としては金
属、例えば、銅、アルミニウム、銀等の薄い層もしくは
箔を、電気絶縁性の板、例えばプラスチックの板やフィ
ルム等の上面又は下面に貼り合わせたもの、更に電気絶
縁性の板を通して開けられた穴、即ちスルーホールの内
壁表面にメッキで付着させたもの、あるいは電気絶縁性
の板上に金属の薄い膜を蒸着またはメッキ等によって設
けたもの等が用いられる。
The photopolymerizable composition of the present invention prepared as described above is provided on a substrate as a photoresist for producing a printed wiring board. At that time, a coating solution is prepared by dissolving or dispersing in a solvent, and is directly applied on a substrate using a spinner or a wheeler and dried to form a film, or the coating solution is applied to an appropriate support. It is generally applied by a suitable method, dried, and if necessary, a protective film is overlaid thereon, used as an image forming material (dry film resist), and adhered to a substrate. As the substrate, a metal, for example, a thin layer or foil of copper, aluminum, silver, or the like, an electrically insulating plate, for example, a substrate obtained by laminating an upper or lower surface of a plastic plate or a film, or a further electrically insulating plate Or a hole formed through a through hole, that is, an inner wall surface of a through-hole, or a thin metal film provided on an electrically insulating plate by vapor deposition or plating.

【0171】塗布液とする時の溶剤としては、例えばメ
タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパ
ノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、n−ヘ
キサノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、
ジイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸
ブチル、酢酸−n−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸
エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエス
テル類、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼ
ンなどの芳香族炭化水素類、四塩化炭素、トリクロロエ
チレン、クロロホルム、1,1,1−トリクロロエタ
ン、塩化メチレン、モノクロロベンゼン、などのハロゲ
ン化炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、1−メトキシ−2−プ
ロパノールなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホオキサイドなどがある。
Examples of the solvent for forming the coating liquid include alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, sec-butanol and n-hexanol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, and the like.
Ketones such as diisobutyl ketone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, n-amyl acetate, methyl formate, ethyl propionate, dimethyl phthalate, and ethyl benzoate; and aromatic carbons such as toluene, xylene, benzene, and ethylbenzene. Hydrogens, carbon tetrachloride, trichloroethylene, chloroform, halogenated hydrocarbons such as 1,1,1-trichloroethane, methylene chloride, monochlorobenzene, etc., tetrahydrofuran, diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, 1 Ethers such as -methoxy-2-propanol, dimethylformamide,
And dimethyl sulfoxide.

【0172】画像形成材料とする時の支持体として用い
られるものは、光の透過性が良好であること及び表面が
均一であることが必要である。具体的には、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三
酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ(メタ)アク
リル酸アルキルエステル、ポリ(メタ)アクリル酸エス
テル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコー
ル、ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポ
リ塩化ビニリデン共重合物、ポリアミド、ポリイミド、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエ
チレン、ポリトリフロロエチレン等の各種のプラスチッ
クフィルムが使用できる。更にこれ等の二種以上からな
る複合材料も使用することができる。この支持体は、一
般的には5〜150μmのもの、好ましくは10〜50
μmのものが使用されるが、上記以外の範囲でも使用す
ることができる。支持体上に設けられる、前記光重合性
組成物の層の厚さは、最終的に形成される画像の所望の
機能を果たすような厚さで設けられるが、一般的には5
〜100μmの範囲であり、好ましくは、10〜80μ
mの範囲である。また、必要に応じて、光重合性組成物
層の上に保護フィルムを設けることができる。かかる保
護フィルムとしては、前記支持体に使用されるものおよ
び、紙、たとえばポリエチレン、ポリプロピレンなどが
ラミネートされた紙などの中から適宜選ぶことができ
る。厚さは5〜100μmが一般的であり10〜50μ
mがより好ましい。その際、光重合性組成物と支持体の
接着力Aと光重合性組成物層と保護フィルムの接着力B
とがA>Bの関係になるようにする必要がある。支持体
/保護フィルムの組み合わせの具体例としては、ポリエ
チレンテレフタレート/ポリプロピレン、ポリエチレン
テレフタレート/ポリエチレン、ポリアミド(ナイロン
6)/ポリエチレン、ポリ塩化ビニル/セロファン、ポ
リイミド/ポリプロピレンなどがある。
The material used as a support when used as an image forming material needs to have good light transmittance and a uniform surface. Specifically, polyethylene terephthalate, polypropylene, polyethylene, cellulose triacetate, cellulose diacetate, alkyl poly (meth) acrylate, poly (meth) acrylate copolymer, polyvinyl chloride, polyvinyl alcohol, polycarbonate, polystyrene , Cellophane, polyvinylidene chloride copolymer, polyamide, polyimide,
Various plastic films such as a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polytetrafluoroethylene, and polytrifluoroethylene can be used. Furthermore, a composite material composed of two or more of these can also be used. This support generally has a thickness of 5 to 150 μm, preferably 10 to 50 μm.
μm is used, but other ranges can be used. The thickness of the layer of the photopolymerizable composition provided on the support is provided so as to perform a desired function of an image finally formed, but is generally 5
100100 μm, preferably 10-80 μm
m. Further, if necessary, a protective film can be provided on the photopolymerizable composition layer. Such a protective film can be appropriately selected from those used for the support and paper, for example, paper on which polyethylene, polypropylene or the like is laminated. The thickness is generally 5 to 100 μm and 10 to 50 μm.
m is more preferred. At this time, the adhesion A between the photopolymerizable composition and the support and the adhesion B between the photopolymerizable composition layer and the protective film B
Need to satisfy the relationship of A> B. Specific examples of the combination of the support and the protective film include polyethylene terephthalate / polypropylene, polyethylene terephthalate / polyethylene, polyamide (nylon 6) / polyethylene, polyvinyl chloride / cellophane, and polyimide / polypropylene.

【0173】上記のように支持体と保護フィルムとを相
互に異種のものから選ぶ方法のほかに、支持体および保
護フィルムの少なくとも一方を表面処理することによ
り、前記のような接着力の関係を満たすことができる。
支持体の表面処理は光重合性組成物層との接着力を高め
るために施されるのが一般的であり、例えば、下塗層の
塗設、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高
周波照射処理、グロー放電照射処理、活性プラズマ照射
処理、レーザー光線照射処理などがある。また、保護フ
ィルムの表面処理は、上記支持体の表面処理とは逆に、
光重合性組成物層との接着力を低めるために施されるの
が一般的であり、例えばポリオルガノシロキサン、弗素
化ポリオレフィン、ポリフルオロエチレンなどを下塗層
として設ける方法がある。塗布後の乾燥は一般的には3
0℃〜150℃、特に50℃〜120℃で1〜30分間
行うのがよい。画像形成材料が保護フィルムを有する場
合には、それぞれを剥がして光重合性組成物層の表面を
露出させ、これを所望の清浄化したプリント配線基板の
表面に加圧して積層する。光重合性組成物層のプリント
配線基板への積層は室温(15〜30℃)或いは加熱下
(30〜180℃)で行うことが出来、特に80〜14
0℃で行うのが好ましい。
In addition to the above-described method of selecting the support and the protective film from mutually different materials, at least one of the support and the protective film is subjected to a surface treatment so that the above-described relationship of the adhesive force is obtained. Can be satisfied.
The surface treatment of the support is generally performed in order to increase the adhesive force with the photopolymerizable composition layer, for example, coating of an undercoat layer, corona discharge treatment, flame treatment, ultraviolet irradiation treatment, There are a high frequency irradiation treatment, a glow discharge irradiation treatment, an active plasma irradiation treatment, a laser beam irradiation treatment and the like. Further, the surface treatment of the protective film, contrary to the surface treatment of the support,
It is generally applied to reduce the adhesive strength with the photopolymerizable composition layer. For example, there is a method in which a polyorganosiloxane, fluorinated polyolefin, polyfluoroethylene, or the like is provided as an undercoat layer. Drying after application is generally 3
It is preferable to carry out at 0 ° C to 150 ° C, particularly at 50 ° C to 120 ° C for 1 to 30 minutes. When the image forming material has a protective film, the protective film is peeled off to expose the surface of the photopolymerizable composition layer, and the photopolymerizable composition layer is laminated on the surface of a desired cleaned printed wiring board by pressing. The lamination of the photopolymerizable composition layer on the printed wiring board can be performed at room temperature (15 to 30 ° C.) or under heating (30 to 180 ° C.).
It is preferably performed at 0 ° C.

【0174】プリント配線板の作成は、公知の方法に従
い行うことができる。即ち、本発明の光重合性組成物を
含有するフォレジストあるいは画像形成材料を上記の如
く基板上に適用して光重合層を形成した後、光重合層を
マスクを通じて回路パターンを露光し、もしくはレーザ
ー光線を走査して回路パターンの潜像を形成する。光源
としては、前記光重合開始系に対して活性な電磁波であ
り、また画像形成材料として用いる時には更に透明支持
体を透過し得るものである。具体的には、可視領域もし
くは紫外〜可視領域の波長の光源、即ち波長が310〜
700nm、より好ましくは350〜500nmの範囲の紫
外−可視光線を発する光源が用いられる。例えば、アル
ゴンレーザー光、FD−YAGレーザー光、ヘリウム−
ネオンレーザー光が直接描画可能なことから好ましい
が、その他にも高圧水銀灯、キセノンランプ、カーボン
アーク灯、ハロゲンランプ、複写用の蛍光管等を用いる
こともできる。画像状の露光後、適当な現像液、例え
ば、有機溶剤、有機溶剤を含有したアルカリ水溶液また
はアルカリ水溶液などで未露光部を溶出し、プリント配
線基板上に光硬化した画像を得る。
The printed wiring board can be prepared according to a known method. That is, after applying a photoresist or an image forming material containing the photopolymerizable composition of the present invention on a substrate as described above to form a photopolymerized layer, the photopolymerized layer is exposed to a circuit pattern through a mask, or A latent image of a circuit pattern is formed by scanning with a laser beam. The light source is an electromagnetic wave that is active with respect to the photopolymerization initiation system, and can further transmit through a transparent support when used as an image forming material. Specifically, a light source having a wavelength in the visible or ultraviolet to visible range, that is, a wavelength of 310 to
A light source that emits ultraviolet-visible light in the range of 700 nm, more preferably 350-500 nm, is used. For example, argon laser light, FD-YAG laser light, helium-
Although neon laser light is preferable because it can directly draw, a high-pressure mercury lamp, a xenon lamp, a carbon arc lamp, a halogen lamp, a fluorescent tube for copying, or the like can also be used. After imagewise exposure, the unexposed portions are eluted with a suitable developing solution, for example, an organic solvent, an alkaline aqueous solution containing an organic solvent, or an alkaline aqueous solution to obtain a photocured image on a printed wiring board.

【0175】画像形成後、塩化銅水溶液、塩化第二鉄水
溶液などの公知のエッチング液を用いて露出した金属を
エッチングしたり、ピロリン酸銅、硫酸銅などの公知の
メッキ液を用いて露出した金属上にメッキをすることが
出来る。本発明の光重合性層は可視光に対する感度が高
いだけでなく、膜物性にも優れ、特に膜の伸縮性が高い
ために、酸性エッチング液に対する耐性が高い。従っ
て、従来のようにエッチング工程において光硬化部分が
溶出してその下の金属の回路パターンが消失するような
ことが無くなり、回路パターンを設計通りに正確に形成
することができる。
After image formation, the exposed metal was etched using a known etching solution such as an aqueous solution of copper chloride or ferric chloride, or exposed using a known plating solution such as copper pyrophosphate or copper sulfate. Can be plated on metal. The photopolymerizable layer of the present invention not only has high sensitivity to visible light but also has excellent film properties, and particularly has high elasticity of the film, and therefore has high resistance to an acidic etching solution. Therefore, unlike the conventional case, the photo-cured portion is not eluted in the etching step and the metal circuit pattern thereunder is not lost, so that the circuit pattern can be accurately formed as designed.

【0176】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細
に説明するが、本発明はこの実施例によって限定される
ものではない。尚、「部」は特に断りのない限り「重量
部」を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. Incidentally, “parts” means “parts by weight” unless otherwise specified.

【0177】(実施例1〜20、比較例1〜5)下記に
示した素材を混合して均一な溶液を調製した(以下、こ
れを母液と称する)。 メタクリル酸メチル/メタクリル酸/2−エチルヘキシル 42.9部 メタクリレート/ベンジルメタクリレート共重合体(モル比 55/28.8/11.7/4.5、重量平均分子量9万) の35重量%溶液(溶媒はメチルエチルケトン/1−メトキ シ−2−プロパノール=2/1(重量比) ポリプロピレングリコールジアクリレート(平均分子量822) 6.5部 テトラエチレングリコールジメタクリレート 1.5部 p−トルエンスルホンアミド 0.5部 マラカイトグリーンシュウ酸塩(1%メタノール溶液) 1.625部 3−モルホリノメチル−1−フェニルトリアゾール−2− チオン 0.01部 フェニルトリブロモメチルスルホン 0.05部 ロイコクリスタルバイオレット 0.20部
(Examples 1 to 20, Comparative Examples 1 to 5) The following materials were mixed to prepare a uniform solution (hereinafter referred to as a mother liquor). 42.9 parts of methyl methacrylate / methacrylic acid / 2-ethylhexyl 35% by weight solution of a methacrylate / benzyl methacrylate copolymer (molar ratio 55 / 28.8 / 11.7 / 4.5, weight average molecular weight 90,000) ( Solvent: methyl ethyl ketone / 1-methoxy-2-propanol = 2/1 (weight ratio) polypropylene glycol diacrylate (average molecular weight: 822) 6.5 parts tetraethylene glycol dimethacrylate 1.5 parts p-toluenesulfonamide 0.5 Part Malachite green oxalate (1% methanol solution) 1.625 parts 3-morpholinomethyl-1-phenyltriazole-2-thione 0.01 part Phenyltribromomethylsulfone 0.05 part Leuco crystal violet 0.20 part

【0178】上記の母液に表Aの実施例1〜20に示し
た量の増感色素、ラジカル重合開始剤をそれぞれ添加し
た。更に撹拌、溶解した後、各々の塗布液を23μmの
ポリエチレンテレフタレート仮支持体に塗布し、100
℃で2分間乾燥して約30μm厚の感光性塗布膜を有す
る画像形成材料を得た。この画像形成材料を清浄化した
銅張積層板(基板)上に105℃でラミネートし、アル
ゴンレーザーで種々の露光量にて、下記パターンをレー
ザー走査にて描画した。 パターンA:ライン巾/スペース巾(L/S)=1/
1、ライン巾=30μm〜100μm(各巾のラインが
5本ずつある) パターンB:L/S=1/3、以下パターンAと同じ 更に感度を評価するために、濃度の段差が0.15であ
る富士ステップガイドPをサンプル上に置き、その上か
ら光量10mJ/cm2のレーザー光にてベタ画像になるよう
に露光した。露光後、15分後、1%炭酸ナトリウム水
溶液(30℃)で40秒間スプレー現像(スプレー圧2
kg/cm2)した後、20℃の水で40秒間水洗した。この
ようにして得られたA、Bのレジストパターンを光学顕
微鏡で観察した。評価は以下の様に行った。
The sensitizing dye and the radical polymerization initiator in the amounts shown in Examples 1 to 20 of Table A were added to the above mother liquor. After further stirring and dissolving, each coating solution was applied to a 23 μm polyethylene terephthalate temporary support, and
After drying at a temperature of 2 ° C. for 2 minutes, an image forming material having a photosensitive coating film having a thickness of about 30 μm was obtained. This image forming material was laminated on a cleaned copper-clad laminate (substrate) at 105 ° C., and the following pattern was drawn by laser scanning at various exposures with an argon laser. Pattern A: line width / space width (L / S) = 1 /
1. Line width = 30 μm to 100 μm (five lines of each width are present) Pattern B: L / S = 1/3, the same as pattern A. In order to further evaluate the sensitivity, the density step is 0.15. Was placed on the sample and exposed from above with a laser beam having a light intensity of 10 mJ / cm 2 so as to form a solid image. 15 minutes after the exposure, spray development (spray pressure 2) with a 1% aqueous solution of sodium carbonate (30 ° C.) for 40 seconds
kg / cm 2 ) and then washed with water at 20 ° C. for 40 seconds. The resist patterns A and B thus obtained were observed with an optical microscope. The evaluation was performed as follows.

【0179】<最高解像度>まずパターンAにて4mJ/c
m2で露光して得られたパターンを観察し、5本のライン
が剥がれたり、現像されない部分が残ったりしていない
最も細いラインの巾(解像度)を記録した。次いで、2
mJ/cm2間隔で露光量を増やしながら露光し、各サンプル
の解像度を同様にして記録した。一般に、低露光量域で
はレジストパターンが剥がれやすいため細いライン巾の
画像が得られない。逆に高露光領域ではライン間に詰ま
りを生じやすく、細い線巾のラインほどその傾向が大き
く、解像度には極小値がある。ここでは、上述の方法で
得られた各露光量の解像度のうち、最も小さな値を最高
解像度とした。
<Highest resolution> First, 4 mJ / c for pattern A
observing the pattern obtained by exposing m 2, and the peeled off five lines were thinnest line width which is not or remain developed no portions (resolution) recorded. Then 2
Exposure was performed while increasing the exposure amount at intervals of mJ / cm 2 , and the resolution of each sample was recorded in the same manner. Generally, in a low exposure amount region, an image having a small line width cannot be obtained because the resist pattern is easily peeled. Conversely, in a high exposure area, clogging is likely to occur between lines, and the tendency is larger for a line having a smaller line width, and the resolution has a minimum value. Here, among the resolutions of the respective exposure amounts obtained by the above-described method, the smallest value is set as the highest resolution.

【0180】<感度>上記の露光により得られたステッ
プガイドパターンにおけるクリア段数を感度とした。す
なわち、段数が大きいほど感度が高い。
<Sensitivity> The number of clear steps in the step guide pattern obtained by the above exposure was defined as sensitivity. That is, the greater the number of stages, the higher the sensitivity.

【0181】<テント膜強度>6mmφのスルーホール
(2000穴)をもつ基板の両面に感光性塗布膜をラミ
ネートした後、最高解像度の得られた露光量でレーザー
にて全面露光し、既述の条件で現像してテント膜を形成
した。これに、塩化銅水溶液をスプレーした(35度B
e、45℃、2.5kg/cm2、4分間)後、水をスプレー
した(18℃、2kg/cm2、3分間)。この操作を更に2
回繰り返した後、破れたテント膜の率を記録した。結果
を表Aに示す。これから明かな様に、本発明の光重合層
は、アルゴンレーザー光に対し高感度を示し、優れた解
像度、テント膜強度を有することがに認められた。
<Tent film strength> After laminating a photosensitive coating film on both sides of a substrate having a through-hole (2000 holes) of 6 mmφ, the entire surface was exposed with a laser at the exposure amount obtained with the highest resolution, and the above-described method was performed. The film was developed under the conditions to form a tent film. To this was sprayed an aqueous solution of copper chloride (35 ° B
e, 45 ° C., 2.5 kg / cm 2 , 4 minutes) and then sprayed with water (18 ° C., 2 kg / cm 2 , 3 minutes). Repeat this operation for 2 more
After repeating the number of times, the percentage of torn tent membrane was recorded. The results are shown in Table A. As is clear from the above, it was confirmed that the photopolymerized layer of the present invention exhibited high sensitivity to argon laser light, and had excellent resolution and tent film strength.

【0182】[0182]

【表6】 [Table 6]

【0183】[0183]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光重合層
は可視光線に対し高感度で、高い解像力を有し、かつ優
れた膜物性を与える。従って、プリント配線板の作成に
おいて、従来のようにエッチング液により光硬化部分が
溶出し、その下の金属の回路パターンが消失するような
ことが無く、回路パターンを設計通りに正確に形成する
ことができる。
As described above, the photopolymerizable layer of the present invention has a high sensitivity to visible light, a high resolving power, and gives excellent film properties. Therefore, when producing a printed wiring board, the photo-cured portion is not eluted by the etchant as in the conventional case, and the metal circuit pattern thereunder does not disappear, and the circuit pattern is accurately formed as designed. Can be.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H05K 3/06 H05K 3/06 H ──────────────────────────────────────────────────の Continued on front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI H05K 3/06 H05K 3/06 H

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気絶縁性板上に導電体薄膜を設けた基
板上に、熱可塑性高分子結合剤、エチレン性不飽和化合
物、下記A群から選択される少なくとも1種の増感色素
及びラジカル重合開始剤を含有する光重合層を設けたこ
とを特徴とするプリント配線用原板。 A群: 下記一般式(I)で表される化合物 【化1】 (ただし、式中R1 〜R4 は互いに独立して水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。またR1
4 はそれが結合する炭素原子と共に非金属原子からな
る環を形成していてもよい。R5 ,R6 は互いに独立し
て水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、置換アリール基、ヘテロ芳香族基、ア
シル基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、カルボキ
シル基、置換アルケニル基を表す。またR5とR6 は共
に非金属原子からなる環を形成していてもよい。Xは
O,S,NH、または置換基を有する窒素原子を表す。
1 ,G2 は互いに同一でも異なっていてもよく、各々
水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換ア
ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、
置換アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシ
ル基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基
を表す。ただし、G1 とG2 はそれが結合する炭素原子
と共に非金属原子からなる環を形成していてもよい。) 下記一般式(II)で表される化合物 【化2】 (ただし、式中R7 ,R8 は同一でも異なっていてもよ
く、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基、アルコキシカルボニル基、ア
リール基、置換アリール基、アルキニル基または置換ア
ルキニル基を表す。Aは酸素原子、硫黄原子、アルキル
基またはアリール基により置換された炭素原子、または
アルキル基2個に置換された炭素原子を表す。Jは含窒
素ヘテロ5員環を形成するのに必要な非金属原子群を表
す。Yはフェニル基、置換フェニル基、無置換または置
換されたヘテロ芳香族環を表す。Z1 は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル
基を表し、Z1 とYは互いに結合して環を生成しても良
い。) 下記一般式(III)で表される化合物 【化3】 (ただし、式中R10〜R13は互いに独立して水素原子、
炭素数1〜6の非置換または置換アルコキシ基、炭素数
1〜6の非置換または置換アルケニルオキシ基、炭素数
1〜6の非置換または置換アルキルチオ基、各アルキル
基の炭素数が1〜4であるジアルキルアミノ基、水酸
基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、または
複数環基を表す。R10〜R13の2個または3個と前記R
10〜R13の置換基が結合されている環構成炭素原子とが
一緒になり各縮合環が5または6員環である縮合環また
は縮合環系を形成してもよい。R9 は水素原子、炭素数
1〜4の非置換または置換アルキル基または炭素数6〜
12の非置換または置換アリール基、またはR14−CO
−を表す。ここで、R 14はアルコキシ基、シクロアルコ
キシ基、水酸基、アリールオキシ基、アルケニルオキシ
基、アラルキルオキシ基、アルコキシカルボニルアルコ
キシ基、アルキルカルボニルアルコキシ基、あるいは下
記(III-a)〜(III-c) で表される置換基を表す。 【化4】 15〜R18は水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキ
ル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、アルコキシア
ルキル基、シクロアルキル基を表し、mは1〜5であ
り、nは0〜10である。Q1 はシアノ基、複素環、ま
たは−Z2 −R19を表す。ここでR19は炭素数1〜10
の非置換または置換アルキル基、アルケニル基、または
アルコキシ基、炭素数6〜12の非置換または置換アリ
ール基、炭素数6〜12の非置換または置換アリールオ
キシ基、または環を構成する炭素原子および異原子が5
〜15個である非置換または置換複素環基、または水酸
基、アシル基を表す。Z2 はカルボニル基、スルホニル
基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基、
−(CH=CH)k(kは1または2)を表す。)
1. A base comprising a conductive thin film provided on an electrically insulating plate.
On the board, a thermoplastic polymer binder, ethylenically unsaturated compound
, At least one sensitizing dye selected from the following group A
And a photopolymerization layer containing a radical polymerization initiator.
And a printed wiring board. Group A: a compound represented by the following general formula (I):(However, R in the formula1~ RFourAre independently a hydrogen atom,
Halogen atom, alkyl group, substituted alkyl group, aryl
Group, substituted aryl group, hydroxyl group, alkoxy group, substituted
Represents a xy group, an amino group, or a substituted amino group. Also R1~
RFourIs a non-metallic atom together with the carbon atom to which it is attached.
May form a ring. RFive, R6Are independent of each other
Hydrogen, halogen, alkyl, substituted alkyl
Group, aryl group, substituted aryl group, heteroaromatic group,
Sil group, cyano group, alkoxycarbonyl group, carboxy
Represents a sil group or a substituted alkenyl group. Also RFiveAnd R6Is
May form a ring composed of a non-metallic atom. X is
O, S, NH, or a nitrogen atom having a substituent.
G1, GTwoMay be the same or different from each other.
Hydrogen atom, cyano group, alkoxycarbonyl group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group,
Substituted aryloxycarbonyl group, acyl group, substituted acyl
Group, arylcarbonyl group, substituted arylcarbonyl
Group, alkylthio group, arylthio group, alkylsulfo
Nil group, arylsulfonyl group, fluorosulfonyl group
Represents Where G1And GTwoIs the carbon atom to which it is attached
May form a ring composed of a non-metallic atom together. ) A compound represented by the following general formula (II):(However, R in the formula7, R8May be the same or different
Hydrogen, alkyl, substituted alkyl, alkenyl
Group, substituted alkenyl group, alkoxycarbonyl group,
Reel, substituted aryl, alkynyl or substituted
Represents a rukinyl group. A is an oxygen atom, a sulfur atom, an alkyl
A carbon atom substituted by a group or an aryl group, or
Represents a carbon atom substituted by two alkyl groups. J is nitrogen-containing
Non-metallic atoms necessary to form a 5-membered heterocyclic ring
You. Y is a phenyl group, a substituted phenyl group, unsubstituted or substituted
Represents a substituted heteroaromatic ring. Z1Is a hydrogen atom, al
Kill group, substituted alkyl group, aryl group, substituted aryl
Group, alkoxy group, alkylthio group, arylthio group,
Substituted amino group, acyl group, or alkoxycarbonyl
Z represents a group1And Y may combine with each other to form a ring
No. ) A compound represented by the following general formula (III):(However, R in the formulaTen~ R13Are independently a hydrogen atom,
An unsubstituted or substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, carbon number
1-6 unsubstituted or substituted alkenyloxy groups, carbon number
1-6 unsubstituted or substituted alkylthio groups, each alkyl
Dialkylamino group having 1 to 4 carbon atoms, hydroxyl
Group, acyloxy group, halogen atom, nitro group, or
Represents a multiple ring group. RTen~ R13Two or three of the above and R
Ten~ R13And the ring-constituting carbon atom to which the substituent of
A fused ring wherein each fused ring is a 5- or 6-membered ring
May form a fused ring system. R9Is hydrogen atom, carbon number
1-4 unsubstituted or substituted alkyl groups or 6-carbon atoms
12 unsubstituted or substituted aryl groups, or R14-CO
Represents-. Where R 14Is an alkoxy group, cycloalkoxy
Xy, hydroxyl, aryloxy, alkenyloxy
Group, aralkyloxy group, alkoxycarbonyl alcohol
A xy group, an alkylcarbonylalkoxy group, or
Represents a substituent represented by any of the following (III-a) to (III-c). Embedded imageRFifteen~ R18Is a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyalkyl
Group, hydroxyalkoxyalkyl group, alkoxyl
Represents an alkyl group or a cycloalkyl group, and m is 1 to 5.
And n is 0 to 10. Q1Is a cyano group, a heterocyclic ring,
Or -ZTwo-R19Represents Where R19Has 1 to 10 carbon atoms
An unsubstituted or substituted alkyl group, alkenyl group, or
Alkoxy group, unsubstituted or substituted ant having 6 to 12 carbon atoms
Unsubstituted or substituted aryloxy having 6 to 12 carbon atoms
5 carbon atoms and hetero atoms constituting the xy group or the ring
Up to 15 unsubstituted or substituted heterocyclic groups, or hydroxyl
Represents an acyl group. ZTwoIs carbonyl group, sulfonyl
Group, sulfinyl group or arylenedicarbonyl group,
-(CH = CH)k(K is 1 or 2). )
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20150029695A (en) 2012-07-20 2015-03-18 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Method for producing photosensitive resin element
KR20160020567A (en) 2013-11-29 2016-02-23 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Photosensitive resin element

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KR20160020567A (en) 2013-11-29 2016-02-23 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Photosensitive resin element
KR20180040739A (en) 2013-11-29 2018-04-20 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Photosensitive resin element

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