JPH11142285A - Micro-lens inspecting device - Google Patents

Micro-lens inspecting device

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JPH11142285A
JPH11142285A JP9304632A JP30463297A JPH11142285A JP H11142285 A JPH11142285 A JP H11142285A JP 9304632 A JP9304632 A JP 9304632A JP 30463297 A JP30463297 A JP 30463297A JP H11142285 A JPH11142285 A JP H11142285A
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JP
Japan
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microlens
light
inspection
parallel light
slit
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Application number
JP9304632A
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Japanese (ja)
Inventor
Masato Matsui
正人 松井
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a micro-lens inspecting device in which the inspection of micro-lenses is improved. SOLUTION: A parallel light incidence means 11 makes parallel light L2 incident on a micro-lens 12. An inspection processing means 14 captures transmitted light L3 transmitted through the micro-lens 12, discriminates only a specific part with a significant difference from other parts of the micro-lens from the measured values of the transmitted light L3, and determines it as failure.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマイクロレンズの検
査装置に関し、特にマイクロレンズ形成の検査の向上を
図ったマイクロレンズ検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microlens inspection apparatus, and more particularly to a microlens inspection apparatus for improving the inspection of microlens formation.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、液晶表示装置(LCD)は、従来
にも増して、高輝度化と高解像度化(高精細化)が求め
られている。とりわけ、透過型LCDは、プロジェクタ
用途への需要が高まっている。その流れの中でプロジェ
クタは小型化、軽量化が要求されており、これらを満足
するための小型高輝度高精細LCDがますます必要とさ
れている。
2. Description of the Related Art At present, a liquid crystal display (LCD) is required to have higher luminance and higher resolution (higher definition) than ever before. In particular, demand for transmissive LCDs for projector applications is increasing. In this trend, projectors are required to be reduced in size and weight, and small, high-brightness, high-definition LCDs are more and more required to satisfy these requirements.

【0003】従来のLCDは、TFT基板の対向側に平
面ガラス、またはガラスと同様の透明材料を使用してい
た。このガラスはどこも材質が均一で屈折率も厚みも均
一であった。
Conventional LCDs use flat glass or a transparent material similar to glass on the opposite side of the TFT substrate. This glass had a uniform material, a uniform refractive index and a uniform thickness everywhere.

【0004】一方、近年では小型高輝度高精細LCDを
実現するために、従来のガラスのような均一な透明平面
基板を使うのではなく、対向側基板として屈折率が異な
る複数の材料を使用して所定の箇所に光を集光させる、
いわゆるマイクロレンズ(マイクロレンズ基板)を使用
する方法が実用化されている。
On the other hand, in recent years, in order to realize a small-sized, high-brightness, high-definition LCD, a plurality of materials having different refractive indexes are used as opposed substrates instead of using a uniform transparent flat substrate such as conventional glass. To condense the light to a predetermined location,
A method using a so-called microlens (microlens substrate) has been put to practical use.

【0005】図9はマイクロレンズ基板の断面を示す図
である。マイクロレンズ基板100は、例えば石英で作
られたAのマイクロレンズ基板上に、例えば樹脂を充填
する等してBの形状のようなマイクロレンズを形成す
る。そして、例えば石英等によってマイクロレンズを保
護するためのカバーグラスC等でもって構成する。
FIG. 9 is a diagram showing a cross section of a microlens substrate. The microlens substrate 100 forms a microlens having a shape of B on a microlens substrate of A made of, for example, quartz by filling a resin, for example. Then, for example, a cover glass C for protecting the microlens with quartz or the like is used.

【0006】それぞれの材料A、B、Cは、LCDの構
成部品として最適な屈折率や硬度寸法形状となってい
る。一般に、Aの屈折率をn、Bの屈折率をn1、Cの
屈折率をn2、とすれば、n≠n1であり、n2はn、
n1に対し任意である。
Each of the materials A, B, and C has an optimum refractive index and hardness dimension shape as a component of the LCD. In general, if the refractive index of A is n, the refractive index of B is n1, and the refractive index of C is n2, then n ≠ n1, and n2 is n,
It is arbitrary for n1.

【0007】図10はマイクロレンズ基板100がLC
Dに使われた時の断面略図である。LCD200の断面
構造は、上部から順に、偏光板201、マイクロレンズ
基板100、ITO(Indium Tin Oxide)202、液晶2
03、ITO204、TFT205、TFT基板20
6、偏光板207から構成されている。
FIG. 10 shows that the microlens substrate 100 is LC
It is a section schematic diagram when used for D. The sectional structure of the LCD 200 is, in order from the top, a polarizing plate 201, a microlens substrate 100, an ITO (Indium Tin Oxide) 202, a liquid crystal 2
03, ITO204, TFT205, TFT substrate 20
6. It is composed of a polarizing plate 207.

【0008】このようなマイクロレンズを用いて、入射
光を所望の場所へ誘導する際には、マイクロレンズとマ
イクロレンズ基板の屈折率差を利用する。そして、入射
光をTFTの開口部へ誘導し、LCDの高輝度化を実現
する。
When guiding incident light to a desired location using such a microlens, a difference in the refractive index between the microlens and the microlens substrate is used. Then, the incident light is guided to the opening of the TFT, thereby realizing high brightness of the LCD.

【0009】ところが、このマイクロレンズが所定の寸
法通りに形成されないと入射光を所定の箇所へ誘導でき
ないので、LCDの高輝度化が図れなくなる。また、入
射光が所定以外の箇所に誘導されることにより、LCD
の画質低下を引き起こす。
However, if the microlens is not formed to a predetermined size, the incident light cannot be guided to a predetermined location, so that it is impossible to achieve high brightness of the LCD. In addition, since the incident light is guided to a location other than the predetermined location,
Causes the image quality to deteriorate.

【0010】図11はマイクロレンズ欠陥を示す図であ
る。(A)はマイクロレンズの異形、(B)はマイクロ
レンズの樹脂未充填、(C)は異物混入を示している。
(A)のマイクロレンズ101は、マイクロレンズが正
しい形状に形成されなかった異常である。(B)のマイ
クロレンズ102は、マイクロレンズ基板(図9のA)
に樹脂(図9のB)が十分に充填されず隙間ができた異
常である。(C)のマイクロレンズ103は、マイクロ
レンズを形成する樹脂内に異物が混入した場合の不良で
ある。
FIG. 11 is a diagram showing microlens defects. (A) shows the irregular shape of the microlens, (B) shows that the microlens is not filled with resin, and (C) shows that the foreign matter is mixed.
The microlens 101 shown in (A) is an abnormality in which the microlens was not formed in a correct shape. The microlens 102 in FIG. 9B is a microlens substrate (A in FIG. 9).
Is not sufficiently filled with the resin (B in FIG. 9) to form a gap. The microlens 103 shown in FIG. 3C is defective when a foreign substance is mixed in the resin forming the microlens.

【0011】したがって、このようにマイクロレンズが
正しく形成されることの検査及びその検査精度は大変重
要な事項となる。図12は従来のマイクロレンズの検査
方法を示す図である。
Therefore, the inspection of the correct formation of the microlenses and the inspection accuracy are very important matters. FIG. 12 is a diagram showing a conventional microlens inspection method.

【0012】従来は、光源Dに相対して位置する検査者
1が手またはそれに代わるもので被検査のマイクロレン
ズ100を保持し、手等でマイクロレンズ100を微妙
に動かしながらマイクロレンズ100の表面を注視しつ
つ、光源Dからのマイクロレンズ100での反射光でも
って、マイクロレンズ100の欠陥・不良を探し、検査
していた。
Conventionally, the inspector 1 positioned opposite to the light source D holds the microlens 100 to be inspected with his / her hand or a substitute thereof, and moves the microlens 100 delicately by hand or the like, and While looking closely, the defect and defect of the microlens 100 were searched for and inspected using the reflected light from the microlens 100 from the light source D.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の検査方法では、マイクロレンズ欠陥や異物等によ
る反射光の見え方の違いを利用した人間の目視検査であ
るため、見逃し等が多く、このため生産性の低さ、ある
いは検査者1の肉体的疲労や視力異常等の健康面での問
題があった。
However, in the conventional inspection method as described above, since a human visual inspection using a difference in the appearance of reflected light due to a microlens defect or a foreign matter is often missed. Therefore, there have been problems in terms of health, such as low productivity or physical fatigue of the examiner 1 and abnormal visual acuity.

【0014】また、不良が発生した場合でもその不良を
定量的に評価できず、マイクロレンズ歩留向上や生産管
理の面でも効率が悪いといった問題があった。本発明は
このような点に鑑みてなされたものであり、マイクロレ
ンズ形成の検査の向上を図ったマイクロレンズ検査装置
を提供することを目的とする。
Further, even when a defect occurs, the defect cannot be quantitatively evaluated, and there has been a problem that the efficiency is low in terms of improvement in microlens yield and production management. The present invention has been made in view of such a point, and an object of the present invention is to provide a microlens inspection apparatus which improves the inspection of microlens formation.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、マイクロレンズ形成の検査の向上を図っ
たマイクロレンズ検査装置において、マイクロレンズに
平行光を入射する平行光入射手段と、前記マイクロレン
ズを透過した透過光を取り込んで、前記透過光の測定値
から前記マイクロレンズの特定の箇所だけ、他よりも有
意差をもつ前記箇所を選別し、不良と判断する検査処理
手段と、を有することを特徴とするマイクロレンズ検査
装置が提供される。
According to the present invention, there is provided a microlens inspection apparatus for improving the inspection of microlens formation in order to solve the above-mentioned problems. Incorporating the transmitted light transmitted through the microlens, only a specific portion of the microlens from the measured value of the transmitted light, selecting the portion having a significant difference than the other, inspection processing means to determine a defect, A microlens inspection apparatus characterized by having:

【0016】ここで、平行光入射手段は、マイクロレン
ズに平行光を入射する。検査処理手段は、マイクロレン
ズを透過した透過光を取り込んで、透過光の測定値から
マイクロレンズの特定の箇所だけ、他よりも有意差をも
つ箇所を選別し、不良と判断する。
Here, the parallel light incident means makes parallel light incident on the microlens. The inspection processing means takes in the transmitted light transmitted through the microlens, selects only a specific portion of the microlens from the measured value of the transmitted light, and a portion having a significant difference from the others, and determines the failure.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は本発明のマイクロレンズ検
査装置の原理図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a principle diagram of the microlens inspection apparatus of the present invention.

【0018】平行光入射手段11は、マイクロレンズ1
2に平行光L2を入射する。なお、平行光入射手段11
は、光源11aと、レンズ系11bと、から構成され
る。レンズ系11bは、光源11aからの拡散光L1を
平行光L2に変換する。
The parallel light incident means 11 is a micro lens 1
2, the parallel light L2 is incident. The parallel light incident means 11
Is composed of a light source 11a and a lens system 11b. The lens system 11b converts the diffused light L1 from the light source 11a into a parallel light L2.

【0019】検査処理手段14は、マイクロレンズ1
2、スリット13を透過した透過光L3を取り込んで、
透過光L3の測定値からマイクロレンズ12の特定の箇
所だけ他よりも有意差をもつ箇所を選別し、不良と判断
する。
The inspection processing means 14 includes the micro lens 1
2. By taking in the transmitted light L3 transmitted through the slit 13,
From the measured value of the transmitted light L3, only a specific portion of the microlens 12 having a significant difference from the others is selected and determined to be defective.

【0020】なお、検査処理手段14は、透過光L3を
取り込むCCD14aあるいは他の代替手段と、取り込
んだ画像の検査処理を行うパソコン等の情報処理装置1
4bと、から構成される。 また、スリット13は必ず
しも必要ない場合もあるが、測定精度の向上のために、
または入射光の平行度の不足を補うために使用される。
The inspection processing means 14 includes a CCD 14a for capturing the transmitted light L3 or another alternative means, and an information processing apparatus 1 such as a personal computer for performing inspection processing of the captured image.
4b. Further, the slit 13 may not always be necessary, but in order to improve the measurement accuracy,
Alternatively, it is used to compensate for the lack of parallelism of incident light.

【0021】次に図1にもとづいて動作を説明する。図
2は本発明のマイクロレンズ検査装置10の動作手順を
示すフローチャートである。 〔S1〕光源11aから出射された拡散光L1は、レン
ズ系11bを通過するうちに平行光L2となる。 〔S2〕マイクロレンズ12に平行光L2が入射され
る。なお、マイクロレンズ12は、平行光L2に対して
可動であるが、基本的には直交に位置する。 〔S3〕平行光L2は、マイクロレンズ12を透過した
後、スリット13を通り、検査処理手段14のCCD1
4aに入る。 〔S4〕CCD14aで取り込まれた画像は、情報処理
装置14bにより、透過光L3の測定値を求め、マイク
ロレンズ12の特定の箇所だけ他よりも有意差をもつ箇
所を選別し、不良と判断する。
Next, the operation will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a flowchart showing the operation procedure of the microlens inspection apparatus 10 of the present invention. [S1] The diffused light L1 emitted from the light source 11a becomes parallel light L2 while passing through the lens system 11b. [S2] The parallel light L2 is incident on the micro lens 12. Note that the micro lens 12 is movable with respect to the parallel light L2, but is basically positioned orthogonally. [S3] After passing through the microlens 12, the parallel light L2 passes through the slit 13 and passes through the CCD 1 of the inspection processing means 14.
Enter 4a. [S4] In the image captured by the CCD 14a, a measurement value of the transmitted light L3 is obtained by the information processing device 14b, and only a specific portion of the microlens 12 having a significant difference from the others is selected and determined to be defective. .

【0022】次にマイクロレンズ12への平行光L2の
入射関係について説明する。図3は平行光L2に対して
マイクロレンズ12を傾斜させている図である。マイク
ロレンズ12は、平行光L2に対し直交して配置、また
は図のように平行光L2に対し傾斜して配置する。
Next, the incident relationship of the parallel light L2 to the micro lens 12 will be described. FIG. 3 is a diagram in which the micro lens 12 is inclined with respect to the parallel light L2. The microlenses 12 are arranged orthogonal to the parallel light L2, or are inclined with respect to the parallel light L2 as shown in the figure.

【0023】このように平行光L2をマイクロレンズ1
2に直交して入射させたり、必要によって平行光L2に
対してマイクロレンズ12を傾けたりして、光を入射す
る。ただし、スリット13は基本的には固定である。
As described above, the parallel light L2 is transmitted to the micro lens 1
2, and the light is incident by tilting the microlens 12 with respect to the parallel light L2 if necessary. However, the slit 13 is basically fixed.

【0024】このようにマイクロレンズ12に平行光L
2のような規則性を持った光を入射し、マイクロレンズ
12を通過してくる光を定量的に測定する。そして、マ
イクロレンズ12の傾き加減で透過光L3の測定値が、
特定の箇所だけ他よりも有意差を持つ場合に、その箇所
を不良であると判断する。
As described above, the parallel light L
Light having regularity as shown in FIG. 2 is incident, and light passing through the microlens 12 is quantitatively measured. Then, the measured value of the transmitted light L3 is obtained by adjusting the inclination of the micro lens 12,
If only a specific portion has a significant difference than others, that portion is determined to be defective.

【0025】以上説明したように、本発明のマイクロレ
ンズ検査装置10は、マイクロレンズ12上の表面の反
射光ではなく、透過光L3を利用するものとした。ま
た、入射光を平行光L2として、透過光L3を定量的に
測り、そのレベルによりマイクロレンズ12の不良有無
や不良箇所の特定を行う構成とした。
As described above, the microlens inspection apparatus 10 of the present invention uses transmitted light L3 instead of reflected light on the surface of the microlens 12. In addition, the transmitted light L3 is quantitatively measured using the incident light as the parallel light L2, and the presence or absence of a defect of the microlens 12 and the defective portion are specified based on the level.

【0026】これにより、人間の目視検査に頼らず、定
量的に検査できるため、検査効率及び精度の向上を図る
ことが可能になる。次にスリット13について図4〜図
6を用いて説明する。図4は丸形形状のスリットを示す
図である。スリット13aは、丸形形状で丸い部分13
a−1に光が通る。
[0026] As a result, the inspection can be performed quantitatively without relying on the visual inspection by a human, so that the inspection efficiency and accuracy can be improved. Next, the slit 13 will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a view showing a round slit. The slit 13a has a round portion 13 with a round shape.
Light passes through a-1.

【0027】図5は正方行列型のスリットを示す図であ
る。スリット13bは、正方行列型で四角形部分13b
−1に光が通る。図6はデルタ型のスリットを示す図で
ある。スリット13cは、デルタ型で四角形部分13c
−1に光が通る。
FIG. 5 is a view showing a square matrix type slit. The slit 13b has a square matrix type and a rectangular portion 13b.
Light passes through -1. FIG. 6 is a view showing a delta type slit. The slit 13c is a delta-shaped square portion 13c.
Light passes through -1.

【0028】このようにマイクロレンズ12の種類によ
り、またはマイクロレンズ12の使われ方により、ある
いは測定の精度により上述のあるいは別形状のものを含
めて最適なスリット13を使用する。
As described above, depending on the type of the microlens 12, the manner in which the microlens 12 is used, or the accuracy of the measurement, the optimum slit 13 including the above-mentioned or another shape is used.

【0029】次に透過光L3について説明する。図7は
スリット13を用いずにマイクロレンズ12の1個分の
みに光を入射させた場合の透過光L3の様子を示す図で
ある。
Next, the transmitted light L3 will be described. FIG. 7 is a diagram illustrating a state of transmitted light L3 when light is incident on only one microlens 12 without using the slit 13.

【0030】検査方法として、マイクロレンズ12の1
個分毎に光を順次入射し、透過光L3を測定していけ
ば、マイクロレンズ12に欠陥がある場合は測定値が変
化する(測定値が大きくなる、または小さくなる)の
で、欠陥箇所を検出でき、検査、選別できる。
As an inspection method, one of the microlenses 12
If light is sequentially incident on each individual part and the transmitted light L3 is measured, if the microlens 12 has a defect, the measured value changes (the measured value increases or decreases). It can be detected, inspected and sorted.

【0031】図8はスリット13に四角形のデルタ型の
ものを使用した場合の例を示す図である。この場合はマ
イクロレンズ12全体に平行光L2を入射した。スリッ
ト13の開口部の回りは、遮光されるので、マイクロレ
ンズ12が異形等により、通常よりも多くの光を集光し
た場合は、微妙な差でも明瞭に検出できる。
FIG. 8 is a diagram showing an example in which a square delta type slit is used for the slit 13. In this case, the parallel light L2 was incident on the entire microlens 12. Since the area around the opening of the slit 13 is shielded from light, if the microlens 12 condenses more light than usual due to an irregular shape or the like, even a slight difference can be clearly detected.

【0032】すなわち、通常の集光レベルは灰色に、マ
イクロレンズ12の異形で通常よりも多くの光を集光し
た箇所だけが大変明るく見えることになる。これら透過
光L3をパソコン等の情報処理装置14bで処理するこ
とにより、マイクロレンズ12の検査を自動的に定量的
に、漏れなく効率的に検査、選別でき不良箇所も特定で
きるので、製造工程への品質改善にも寄与することにな
る。
That is, the ordinary light-gathering level is gray, and only the portion where more light is gathered than usual due to the irregular shape of the microlens 12 looks very bright. By processing the transmitted light L3 by the information processing device 14b such as a personal computer, the inspection of the microlens 12 can be automatically and quantitatively and efficiently inspected and selected without omission, and a defective portion can be specified. It will also contribute to the improvement of the quality.

【0033】以上説明したように、本発明のマイクロレ
ンズ検査装置10では、マイクロレンズ12に平行光L
2を入射し透過光L3を取り込んで、その透過光L3の
測定値にもとづいて不良箇所を検査処理手段14で判断
する構成とした。
As described above, in the microlens inspection apparatus 10 of the present invention, the parallel light L
2, the transmitted light L3 is taken in, and the inspection processing means 14 determines a defective portion based on the measured value of the transmitted light L3.

【0034】これにより、人間の目による検査でないた
め、欠陥不良の定量化が可能になり、検査精度の向上及
び品質向上を図ることができる。また、人間の目による
検査でないため、見逃し等の検査漏れがなくなるので、
再検査等が不必要になり、検査時間を短縮することが可
能になる。
As a result, since the inspection is not performed by human eyes, defect defects can be quantified, and the inspection accuracy and quality can be improved. In addition, since the inspection is not performed by human eyes, there is no inspection omission such as oversight,
Re-examination becomes unnecessary, and the inspection time can be shortened.

【0035】さらに、機械による検査のため健康面での
問題がなくなる。また、コンピュータ管理が可能とな
り、生産管理面での管理費用が低減できる。さらにま
た、不良箇所の特定により、工程へのフィードバックが
正確になり歩留向上を図ることが可能になる。
In addition, there is no health problem due to the mechanical inspection. Further, computer management becomes possible, and management costs in production management can be reduced. Furthermore, by specifying the defective portion, the feedback to the process becomes accurate, and the yield can be improved.

【0036】なお、上記の説明では、光源11aからレ
ンズ系11bを用いて平行光L2を生成したが、レーザ
光を平行光として使用してもよい。また、レンズ系11
bとマイクロレンズ12との間にスリット等の光学的治
具等をさらに配置してもよい。
In the above description, the parallel light L2 is generated from the light source 11a using the lens system 11b, but a laser beam may be used as the parallel light. Also, the lens system 11
An optical jig such as a slit may be further arranged between b and the micro lens 12.

【0037】さらに、スリット13を固定としたが、検
査の必要によってスリット13やCCD14aも3次元
的に可動しても構わない。
Further, although the slit 13 is fixed, the slit 13 and the CCD 14a may be three-dimensionally movable as required for inspection.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマイクロ
レンズ検査装置は、マイクロレンズに平行光を入射し透
過光を取り込んで、その透過光の測定値にもとづいて不
良箇所を検査処理手段で判断する構成とした。これによ
り、人間の目視検査に頼らず、定量的に検査できるた
め、検査効率の向上を図ることが可能になる。
As described above, according to the microlens inspection apparatus of the present invention, parallel light is made incident on the microlens, the transmitted light is taken in, and the defective portion is inspected by the inspection processing means based on the measured value of the transmitted light. It was configured to judge. As a result, the inspection can be performed quantitatively without relying on the visual inspection of a human, so that the inspection efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のマイクロレンズ検査装置の原理図であ
る。
FIG. 1 is a principle diagram of a microlens inspection apparatus according to the present invention.

【図2】本発明のマイクロレンズ検査装置の動作手順を
示すフローチャートである。
FIG. 2 is a flowchart showing an operation procedure of the microlens inspection apparatus of the present invention.

【図3】平行光に対してマイクロレンズを傾斜させてい
る図である。
FIG. 3 is a diagram in which a micro lens is inclined with respect to parallel light.

【図4】丸形形状のスリットを示す図である。FIG. 4 is a view showing a round slit.

【図5】正方行列型のスリットを示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a square matrix type slit.

【図6】デルタ型のスリットを示す図である。FIG. 6 is a view showing a delta type slit.

【図7】スリットを用いずにマイクロレンズの1個分の
みに光を入射させた場合の透過光の様子を示す図であ
る。
FIG. 7 is a diagram showing a state of transmitted light when light is incident on only one microlens without using a slit.

【図8】スリットに四角形のデルタ型のものを使用した
場合の例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example in which a square delta type slit is used.

【図9】マイクロレンズ基板の断面を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a cross section of a microlens substrate.

【図10】マイクロレンズ基板がLCDに使われた時の
断面略図である。
FIG. 10 is a schematic sectional view when a microlens substrate is used for an LCD.

【図11】マイクロレンズ欠陥を示す図である。(A)
はマイクロレンズの異形、(B)はマイクロレンズの樹
脂未充填、(C)は異物混入を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing microlens defects. (A)
FIG. 7B is a diagram showing a deformed microlens, FIG. 7B is a diagram showing the microlens not filled with resin, and FIG.

【図12】従来のマイクロレンズの検査方法を示す図で
ある。
FIG. 12 is a view showing a conventional microlens inspection method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10……マイクロレンズ検査装置、11a……光源、1
1b……レンズ系、12……マイクロレンズ、13……
スリット、14……検査処理手段、14a……CCD、
14b……情報処理装置、L1……拡散光、L2……平
行光、L3……透過光。
10 microlens inspection device, 11a light source, 1
1b: lens system, 12: micro lens, 13:
Slit, 14 ... inspection processing means, 14a ... CCD,
14b: information processing device, L1: diffused light, L2: parallel light, L3: transmitted light.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 マイクロレンズ形成の検査の向上を図っ
たマイクロレンズ検査装置において、 マイクロレンズに平行光を入射する平行光入射手段と、 前記マイクロレンズを透過した透過光を取り込んで、前
記透過光の測定値を求め、前記測定値から前記マイクロ
レンズの特定の箇所だけ他よりも有意差をもつ前記箇所
を選別し、不良と判断する検査処理手段と、 を有することを特徴とするマイクロレンズ検査装置。
1. A microlens inspection apparatus for improving inspection of microlens formation, comprising: a parallel light incident means for inputting parallel light to a microlens; and transmitting light transmitted through the microlens to obtain the transmitted light. Inspection processing means for determining a measured value of, and selecting only a specific portion of the microlens having a significant difference from the others from the measured value, and determining that the defective portion is defective. apparatus.
【請求項2】 前記マイクロレンズは、前記平行光に対
し直交して配置、または前記平行光に対し傾斜して配置
することを特徴とする請求項1記載のマイクロレンズ検
査装置。
2. The microlens inspection apparatus according to claim 1, wherein the microlenses are arranged orthogonally to the parallel light or inclined with respect to the parallel light.
【請求項3】 前記マイクロレンズと、前記検査処理手
段と、の間にスリットをさらに有することを特徴とする
請求項1記載のマイクロレンズ検査装置。
3. The microlens inspection apparatus according to claim 1, further comprising a slit between the microlens and the inspection processing means.
【請求項4】 前記平行光入射手段は、光源と、前記光
源からの拡散光を前記平行光にするレンズ系と、から構
成されることを特徴とする請求項1記載のマイクロレン
ズ検査装置。
4. The microlens inspection apparatus according to claim 1, wherein said parallel light incident means comprises a light source and a lens system for converting diffused light from said light source into said parallel light.
【請求項5】 前記平行光入射手段は、前記平行光とし
てレーザ光を前記マイクロレンズに入射することを特徴
とする請求項1記載のマイクロレンズ検査装置。
5. The microlens inspection apparatus according to claim 1, wherein said parallel light incidence means enters laser light as said parallel light into said microlens.
JP9304632A 1997-11-06 1997-11-06 Micro-lens inspecting device Pending JPH11142285A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100748344B1 (en) * 2001-11-29 2007-08-09 매그나칩 반도체 유한회사 Test pattern of image sensor, manufacturing the same and test method
JP2011033473A (en) * 2009-07-31 2011-02-17 Sharp Corp Eccentricity measuring device, method of measuring eccentricity, optical element, optical element array and optical element unit
CN103217872A (en) * 2013-04-19 2013-07-24 中国科学院上海光学精密机械研究所 Detection device and detection method of micro-lens array for photoetching machine

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