JPH11138879A - Substrate for thermal head - Google Patents
Substrate for thermal headInfo
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- JPH11138879A JPH11138879A JP31919397A JP31919397A JPH11138879A JP H11138879 A JPH11138879 A JP H11138879A JP 31919397 A JP31919397 A JP 31919397A JP 31919397 A JP31919397 A JP 31919397A JP H11138879 A JPH11138879 A JP H11138879A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、感熱記録装置や感
熱転写記録装置に使用されるサーマルヘッドに関し、よ
り具体的にはサーマルヘッド用基板に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thermal head used in a thermal recording apparatus or a thermal transfer recording apparatus, and more particularly, to a thermal head substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のサーマルヘッド用基板に関しては
以下に示す刊行物が開示されている。図3に示すのは、
特開平2−200452号に開示されたサーマルヘッド
用金属基板で、図3(A)は斜視図で、図3(B)は同
図(A)のB−B断面側面図である。これらの図におい
て、金属基板1′の上面にグレーズガラス層2、下面に
部分グレーズガラス層2″があり、 部分グレーズガラス
層2″は切欠き部12で分割され、 切欠き部12に対応
する金属基板1′の上面にグレーズガラス層2、さらに
その上に図示しない発熱抵抗体が位置される。図4に示
すように、切欠き部12に熱伝導性パテ15が充填さ
れ、このパテ15からヒートシンク16を経て放熱され
るので、熱による基板1′の「うねり」や「反り」が改
善される。図5(A)に示すのは、 特開平2−2582
70号の金属基板サーマルヘッドの正面図で、基板20
Aを湾曲させて、コントロールIC28が、フィルム2
3とインク24から成るインクリボン25、及び用紙2
6の直進を妨げないようにしたものであり、 21Aは放
熱フィン、27はプラテンローラである。図5(B)は
基板20Aが屈曲された例を示す。なお、図6は湾曲さ
れた基板20Aを含むサーマルヘッドの組立体を示すも
ので、 21は放熱フィン、 20Aはサーマルヘッド、2
8はコントロールICで、29は取付ねじである。2. Description of the Related Art The following publications are disclosed with respect to conventional thermal head substrates. As shown in FIG.
FIG. 3A is a perspective view, and FIG. 3B is a cross-sectional side view taken along line BB of FIG. In these figures, there is a glaze glass layer 2 on the upper surface of a metal substrate 1 ′ and a partial glaze glass layer 2 ″ on the lower surface. The partial glaze glass layer 2 ″ is divided by a notch 12, and corresponds to the notch 12. The glaze glass layer 2 is disposed on the upper surface of the metal substrate 1 ', and a heating resistor (not shown) is disposed thereon. As shown in FIG. 4, the notch 12 is filled with a thermally conductive putty 15 and heat is radiated from the putty 15 through a heat sink 16, so that "undulation" and "warpage" of the substrate 1 'due to heat are improved. You. FIG.
70 is a front view of a metal substrate thermal head of No.
A is curved, and the control IC 28
3 and ink 24 and paper 2
6A so as not to hinder the straight traveling of the vehicle, 21A is a radiation fin, and 27 is a platen roller. FIG. 5B shows an example in which the substrate 20A is bent. FIG. 6 shows an assembly of a thermal head including a curved substrate 20A, 21 is a radiation fin, 20A is a thermal head, and 2A is a thermal head.
8 is a control IC, and 29 is a mounting screw.
【0003】図7及び図8に示すのは、本願出願人が特
願平8−353312号として出願中のサーマルヘッド
の、それぞれの正面図と上面図で金属基板31の一方の
端部31bを曲げ加工して折返した部分34と、曲げ加
工されない方の平坦部分の上下の面に、ガラスなどのグ
レーズ層32aと32bとを装着し、折り曲げ返された
部分36より先方の平担部31bと、曲げ加工されない
方の平坦部31aとを、ヒートシンク33に接着または
取付ねじで取り付けて、 ばね性を有する構造とすること
によりインクリボンとの接触の均一性を改善してプリン
ト濃度むらを解消するものである。図9に示すのは、本
願出願人が特願平9−186021号として出願中のサ
ーマルヘッド用絶縁金属基板50の斜視図で、クロム1
0〜30重量%、アルミニウム0.1〜6重量%を含む
鉄合金からなる金属基板51の表面に形成された共通電
極となる突起52と、この金属基板の表面に形成された
アルミ酸化物に富む酸化被膜と、この酸化被膜上に形成
された結晶性ガラスペースト54a、54b(図10で
は54b1、54b2)と、この結晶性ガラスペースト上
に形成されたグレーズガラスペースト54c1、54c2
(図10参照)とを具備する鉄合金製基板51は、前記
の結晶性ガラス及びグレーズガラスの熱膨張率が基板5
1の熱膨張率より小さいので、 「反り」及び溶融時に生
ずる発泡等の表面欠陥を解消することができる。FIGS. 7 and 8 show one end 31b of a metal substrate 31 in a front view and a top view, respectively, of a thermal head filed by the present applicant as Japanese Patent Application No. 8-35312. Glazed layers 32a and 32b of glass or the like are attached to the upper and lower surfaces of the bent portion 34 and the flat portion that is not bent, and the flat portion 31b ahead of the bent portion 36 is attached. The flat portion 31a, which is not bent, is attached to the heat sink 33 with an adhesive or a mounting screw to form a structure having spring properties, thereby improving the uniformity of contact with the ink ribbon and eliminating print density unevenness. Things. FIG. 9 is a perspective view of a thermal head insulating metal substrate 50 filed by the applicant of the present invention as Japanese Patent Application No. 9-186021, which shows a chrome 1
A protrusion 52 serving as a common electrode formed on the surface of a metal substrate 51 made of an iron alloy containing 0 to 30% by weight and 0.1 to 6% by weight of aluminum, and an aluminum oxide formed on the surface of the metal substrate. a rich oxide film, crystalline glass paste 54a formed on the oxide film, 54b (FIG. 10, 54b 1, 54b 2) and, glaze glass paste 54c 1 formed on the crystalline glass paste, 54c 2
(See FIG. 10), the substrate 51 made of an iron alloy having a thermal expansion coefficient of the crystalline glass and the glaze glass
Since the coefficient of thermal expansion is smaller than 1, it is possible to eliminate surface defects such as "warpage" and foaming generated during melting.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】金属基板の特徴である
ベンディング加工を考える場合、発熱抵抗体部やIC搭
載部には、 できるだけ曲げストレスが加わらない構造が
望ましい。これは、引っ張り、または圧縮による曲げ歪
みにより発熱体の抵抗値が変動したり、耐パルス寿命を
縮める可能性や、接着したICに剥がれが生じたり、誤
動作する可能性があるためである。前記の図3の構造で
は、金属板の厚さは一様であるが、グレーズガラス層に
切欠き部12があり、このような切欠き部は剛性が弱
く、曲げ加工に対して集中的に変形し、しかも位置が発
熱抵抗体の直下にありベンディングには適しない。前記
図5、図6では曲げ変形は一様になるが、変形は発熱抵
抗体部とIC搭載部にも一様に起こり、好ましくない。
前記図7、図8と図9、図10の構造は改良されている
が、ベンディング加工を施すと同様な欠点が残る。そこ
で、発熱抵抗体部とIC搭載部にかかる変形と、ストレ
スを緩和させるサーマルヘッド構造を提供することが本
発明の課題である。In consideration of the bending process, which is a feature of the metal substrate, it is desirable that the heating resistor portion and the IC mounting portion have a structure in which bending stress is not applied as much as possible. This is because there is a possibility that the resistance value of the heating element fluctuates due to bending strain caused by pulling or compression, the pulse life can be shortened, the bonded IC is peeled off, or a malfunction occurs. In the structure of FIG. 3 described above, the thickness of the metal plate is uniform, but there is a notch 12 in the glaze glass layer, and such a notch has low rigidity and is concentrated on bending. It is deformed, and its position is directly below the heating resistor, which is not suitable for bending. 5 and 6, the bending deformation is uniform, but the deformation also occurs uniformly in the heating resistor portion and the IC mounting portion, which is not preferable.
Although the structures shown in FIGS. 7 and 8 and FIGS. 9 and 10 have been improved, similar disadvantages remain when bending is performed. Therefore, it is an object of the present invention to provide a thermal head structure that reduces deformation and stress applied to the heat generating resistor portion and the IC mounting portion.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明によるサーマルヘ
ッド用基板は、昇華やTAカラープリンタに用いられて
曲げ歪みを発生させたくない部位、例えば発熱抵抗体
部、IC搭載部などの板厚を厚くし、曲げ歪みが問題に
なり難い部位の板厚を薄くする構造によって上記の課題
を解決した。SUMMARY OF THE INVENTION A substrate for a thermal head according to the present invention is used for a sublimation or a TA color printer in which bending distortion is not required, for example, a thickness of a heating resistor portion, an IC mounting portion, and the like. The above problem has been solved by a structure in which the thickness is increased and the thickness of the portion where bending distortion is unlikely to be a problem is reduced.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】図1は、本発明によるサーマルヘ
ッド用基板の第1の実施の形態を示し、図1(A)は曲
げ加工前の正面図、同図(B)は曲げ加工後の正面図
で、10a、10b、10cは、それぞれ発熱抵抗体
部、配線部、IC搭載部である。ステンレスなどの金属
板1の配線部10bを薄肉にする加工は、圧延、切削、
研磨及びエッチングなどの一般的方法が適用される。符
号2、3はグレーズガラス層、4は部分グレーズガラ
ス、5はコントロールICである。FIG. 1 shows a first embodiment of a substrate for a thermal head according to the present invention. FIG. 1 (A) is a front view before bending, and FIG. 1 (B) is after bending. In the front view, 10a, 10b, and 10c denote a heating resistor unit, a wiring unit, and an IC mounting unit, respectively. The process of thinning the wiring portion 10b of the metal plate 1 such as stainless steel is performed by rolling, cutting,
General methods such as polishing and etching are applied. Reference numerals 2 and 3 denote a glaze glass layer, 4 denotes a partial glaze glass, and 5 denotes a control IC.
【0007】図2(A)〜(G)に示す第2〜第8の実
施の形態について説明する。第2の実施の形態を示す図
2(A)では、 金属基板1aの図で下側の片面と、その
下側のグレーズガラス層3とを変形加工し、第3の実施
の形態を示す図2の(B)では、これと反対に図で上側
のグレーズガラス層2bと、その下側の金属基板1bと
を変形加工してあり、配線部10bを形成した。第4、
第5及び第6の実施の形態を示す、図2(C)では中間
の金属基板1cは変形加工せず、図2(D)および図2
(E)では、図2(C)と同様金属基板1cは変形加工
せず、配線部10bの下グレーズガラス層3cの配線部
10bのみを変形加工し、図2の(E)では、下のグレ
ーズガラス層3と金属基板1cとは変形加工をせずに、
図で上の金属基板2cの配線部10bのみを変形加工し
た。第7の実施の形態を示す図2(F)では、第3の実
施の形態を示す図2(B)の配線部10bの図で下面の
グレーズガラス層3の配線部10bを除去して3fとし
た。第8の実施の形態を示す図2(G)では、中央に共
通電極突起52g、及び結晶性ガラスペースト54
g1、54g2、左右両端にコントロールICである5a
と5bとを備えたダブルラインサーマルヘッドとしたも
ので、図中の1gは金属基板で、2gと3gはグレーズ
ガラス層である。Next, second to eighth embodiments shown in FIGS. 2A to 2G will be described. FIG. 2A showing the second embodiment is a diagram showing a third embodiment in which a lower surface of a metal substrate 1a and a lower glaze glass layer 3 are deformed in the drawing of the metal substrate 1a. In (B) of FIG. 2, on the contrary, the upper glaze glass layer 2b in the figure and the metal substrate 1b under the glaze glass layer 2b are deformed to form the wiring portion 10b. Fourth,
In FIG. 2 (C) showing the fifth and sixth embodiments, the intermediate metal substrate 1c is not deformed, and
2 (E), the metal substrate 1c is not deformed as in FIG. 2 (C), and only the wiring portion 10b of the lower glaze glass layer 3c of the wiring portion 10b is deformed. In FIG. The glaze glass layer 3 and the metal substrate 1c are not deformed,
Only the wiring portion 10b of the upper metal substrate 2c in the figure was deformed. In FIG. 2F showing the seventh embodiment, the wiring portion 10b of the glaze glass layer 3 on the lower surface in the view of the wiring portion 10b of FIG. And In FIG. 2G showing the eighth embodiment, a common electrode projection 52g and a crystalline glass paste 54 are provided at the center.
g 1 , 54g 2 , control IC 5a at both left and right ends
In the figure, 1 g is a metal substrate, and 2 g and 3 g are glaze glass layers.
【0008】[0008]
【発明の効果】本発明のサーマルヘッド用基板は、上記
のように発熱抵抗体部とIC搭載部の金属基板の板厚を
他の部分より厚くすることにより曲げ剛性を強くした。
従って、図1(A)を曲げると、図1(B)に示す形状
変形が得られる。すなわち発熱抵抗体部10aとIC搭
載部10cは変形せず、個別電極配線部10bのみが変
形して抵抗体品質の高信頼化、コントロールIC接着の
安定化が比較的容易に、しかも安価に得られる。According to the thermal head substrate of the present invention, the bending rigidity is increased by making the thickness of the metal substrate of the heating resistor portion and the IC mounting portion larger than the other portions as described above.
Therefore, when FIG. 1A is bent, the shape deformation shown in FIG. 1B is obtained. That is, the heating resistor portion 10a and the IC mounting portion 10c are not deformed, and only the individual electrode wiring portion 10b is deformed, so that the quality of the resistor can be made highly reliable and the control IC bonding can be relatively easily and inexpensively obtained. Can be
【図1】同図(A)は本発明のサーマルヘッド用基板の
第1の実施の形態を示す曲げ加工前の正面図で、同図
(B)は曲げ加工後の正面図である。FIG. 1A is a front view of a thermal head substrate according to a first embodiment of the present invention before bending, and FIG. 1B is a front view after bending.
【図2】同図(A)〜(G)はそれぞれ本発明のサーマ
ルヘッド用基板の第2〜第8の実施の形態を示す正面図
である。FIGS. 2A to 2G are front views showing second to eighth embodiments of the thermal head substrate of the present invention, respectively.
【図3】同図(A)は特開平2−200452号に開示
されたサーマルヘッド用金属基板の斜視図であり、同図
(B)は同図(A)のB−B断面側面図である。FIG. 3A is a perspective view of a metal substrate for a thermal head disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-200552, and FIG. 3B is a cross-sectional side view taken along the line BB of FIG. is there.
【図4】図3の基板の切欠き部に熱伝導性パテが充填さ
れてヒートシンクと組合わされた組立体の正面図であ
る。FIG. 4 is a front view of an assembly in which a cutout portion of the substrate of FIG. 3 is filled with a heat conductive putty and combined with a heat sink.
【図5】特開平2−258270号に開示されたサーマ
ルヘッド用金属基板の正面図であり、同図(A)は湾曲
したもの、(B)は屈曲したものである。FIG. 5 is a front view of a metal substrate for a thermal head disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-258270, wherein FIG. 5 (A) is a curved one and FIG. 5 (B) is a bent one.
【図6】図5(A)に示すサーマルヘッドの斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view of the thermal head shown in FIG.
【図7】本願出願人が出願中のサーマルヘッドの正面図
である。FIG. 7 is a front view of a thermal head filed by the present applicant.
【図8】図7のサーマルヘッドの上面図である。FIG. 8 is a top view of the thermal head of FIG. 7;
【図9】本願出願人が出願中のサーマルヘッド用絶縁金
属基板の斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of a thermal head insulating metal substrate filed by the present applicant.
【図10】図9に示すサーマルヘッド用絶縁金属基板の
部分変形図である。FIG. 10 is a partially modified view of the thermal head insulating metal substrate shown in FIG. 9;
1、1a、1b、1c、1g:金属基板 2、2a、2b、2c、2g、3、3c、3f、3g:
グレーズガラス層 4:部分グレーズガラス層 5:コントロールIC 10a:発熱抵抗体部 10b:配線部 10c:IC搭載部 52g:共通電極突起 54g1、54g2:結晶性ガラスペースト1, 1a, 1b, 1c, 1g: Metal substrate 2, 2a, 2b, 2c, 2g, 3, 3c, 3f, 3g:
Glaze glass layer 4: the partial glaze glass layer 5: Control IC 10a: heating resistor portion 10b: wiring portion 10c: IC mounting portion 52 g: common electrode projections 54g 1, 54g 2: crystalline glass paste
Claims (4)
レス鋼などの金属体から成るサーマルヘッド用基板とし
て、湾曲または折り曲げた形で、 サーマルヘッドとして
使用することを特徴とする金属板をベースとするサーマ
ルヘッド用基板。1. A metal plate which is used as a thermal head in a curved or bent form as a substrate for a thermal head made of a metal body such as an iron alloy containing Cr and Al or stainless steel. Thermal head substrate.
レス鋼などの金属体から成るサーマルヘッド用基板とし
て、発熱抵抗体部、IC搭載部などの曲げ歪みを発生さ
せたくない部位の板厚を大きく、曲げ歪みが問題となり
にくい部位の板厚を小さくなるように板厚調整を行って
加工されたサーマルヘッド用基板。2. A thermal head substrate made of a metal body such as an iron alloy containing Cr and Al or stainless steel, wherein a thickness of a portion where bending distortion is not required such as a heating resistor portion and an IC mounting portion is set. A thermal head substrate that has been processed by adjusting its thickness so that the thickness of the part that is large and where bending distortion is not a problem is reduced.
厚さ、グレーズガラス層厚さ、あるいはこれらの双方で
行うことを特徴とするサーマルヘッド用基板。3. The thermal head substrate according to claim 2, wherein the thickness adjustment is performed with a metal plate thickness, a glaze glass layer thickness, or both.
は、 板厚程度以上あれば曲げ加工可能であり、また湾曲
箇所は1枚の基板中複数箇所にあっても支障とならない
ことを特徴とするサーマルヘッド用基板。4. The width of the curved portion for adjusting the thickness of the sheet according to claim 2 can be bent as long as it is not less than the thickness of the sheet. A substrate for a thermal head, wherein the substrate is not required.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31919397A JPH11138879A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Substrate for thermal head |
TW90212227U TW566346U (en) | 1997-11-06 | 1998-05-01 | Thermal print head and substrate therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31919397A JPH11138879A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Substrate for thermal head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11138879A true JPH11138879A (en) | 1999-05-25 |
Family
ID=18107459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31919397A Pending JPH11138879A (en) | 1997-11-06 | 1997-11-06 | Substrate for thermal head |
Country Status (2)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11138879A (en) |
TW (1) | TW566346U (en) |
Cited By (1)
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---|---|---|---|---|
EP1176023A1 (en) | 2000-07-25 | 2002-01-30 | Seiko Instruments Inc. | Thermal head |
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TWI678289B (en) * | 2018-12-07 | 2019-12-01 | 謙華科技股份有限公司 | Manufacturing method of thermal head |
-
1997
- 1997-11-06 JP JP31919397A patent/JPH11138879A/en active Pending
-
1998
- 1998-05-01 TW TW90212227U patent/TW566346U/en not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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TW566346U (en) | 2003-12-11 |
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