JPH11138423A - Slurry liquid with monocrystalline polyhedron alumina contained in it - Google Patents

Slurry liquid with monocrystalline polyhedron alumina contained in it

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JPH11138423A
JPH11138423A JP32394397A JP32394397A JPH11138423A JP H11138423 A JPH11138423 A JP H11138423A JP 32394397 A JP32394397 A JP 32394397A JP 32394397 A JP32394397 A JP 32394397A JP H11138423 A JPH11138423 A JP H11138423A
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JP
Japan
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slurry liquid
alumina
magnetic hard
monocrystalline
abrasive
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JP32394397A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Horie
祐二 堀江
Atsushi Watanabe
淳 渡辺
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Nihon Micro Coating Co Ltd
Original Assignee
Nihon Micro Coating Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slurry liquid which contains monocrystalline polyhedron alumina as spherical polishing material abrasive grain, is capable of obtaining the fine center-line average roughness (Ra) of a magnetic hard disc substrate and capable of texture working without causing problems including head heat. SOLUTION: Slurry liquid contains monocrystalline polyhedron alumina as spherical polishing material abrasive grain. The monocrystalline polyhedron alumina which has an average grain size of 0.1-5 μm, preferably 0.1-3 μm, is contained 0.1-5 wt.% in the slurry liquid, preferably 0.1-3 wt.%. The slurry liquid preferably contains 1-20 wt.% surface active agent. In texture working using the slurry liquid, a polishing tape is pushed against the surface of a magnetic hard disc substrate via a rubber roller while dropping the slurry liquid, into which monocrystallien polyhedron alumina and water-soluble liquid with a surface active agent contained in it are mixing stirred, and the polishing tape is moved in opposition to the rotating direction while rotating the magnetic hard disc itself.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ハードディス
ク基板表面の精密加工に使用するためのスラリー液に関
し、特に、単結晶多面体アルミナを含み、微細な中心線
平均粗さ(Ra)と高い研削力とを同時に得ることので
きるスラリー液、およびそのスラリー液を使用して表面
をテクスチャー加工された磁気ハードディスク基板を製
造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a slurry for use in precision processing of a magnetic hard disk substrate surface, and more particularly to a slurry containing single-crystal polyhedral alumina, having a fine center line average roughness (Ra) and a high grinding power. And a method for producing a magnetic hard disk substrate whose surface is textured using the slurry liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、エレクトロニクス産業を中心とす
る、いわゆる先端ハイテク産業の発展により、磁気ディ
スクの高容量化が進み、磁気ハードディスク基板表面の
加工の精密さや微細な仕上げに対する要求が高まってい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of the so-called high-tech industry centered on the electronics industry, the capacity of magnetic disks has been increased, and the demand for precise processing and fine finishing of the magnetic hard disk substrate surface has been increasing.

【0003】しかし、非常に微細化が進んだ磁気ディス
ク上で磁気ヘッドを停止すると、ディスクに吸着した水
分や潤滑剤などにより、磁気ヘッドが磁気ディスクに吸
着してしまうという問題が起こる。
However, when the magnetic head is stopped on a very fine magnetic disk, there arises a problem that the magnetic head is attracted to the magnetic disk due to moisture, lubricant or the like adsorbed on the disk.

【0004】このため、磁気ディスクの吸着を防ぐと共
に、磁気ディスクの磁性膜の磁気異方性を円周方向に付
与するために、磁気ディスクの基板表面に、基板の円周
方向に同心円状の微細な凹凸を形成するテクスチャー加
工が行われている。テクスチャー加工は、白色溶融アル
ミナ(WA)などの研磨材砥粒を液中に分散させた加工
液(スラリー液)を用いたり、ポリエステルなどの裏当
て部材上に研磨材砥粒を塗布した研磨テープを用いたり
して行われる。
[0004] Therefore, in order to prevent the magnetic disk from being attracted and to impart the magnetic anisotropy of the magnetic film of the magnetic disk in the circumferential direction, the magnetic disk is concentrically formed on the substrate surface in the circumferential direction of the substrate. Texture processing for forming fine irregularities is performed. For texture processing, use a processing liquid (slurry liquid) in which abrasive grains such as white fused alumina (WA) are dispersed in a liquid, or a polishing tape in which abrasive grains are applied to a backing member such as polyester Is performed.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来より使用されてい
る研磨材砥粒は、研磨材を粉砕して生成される。例えば
アルミナ砥粒は、電融アルミナを粉砕した粒子である。
Conventionally used abrasive grains are produced by grinding an abrasive. For example, the alumina abrasive grains are particles obtained by pulverizing electrofused alumina.

【0006】しかし、研磨材砥粒を粉砕する際に、破片
のサイズ、形状または割れ口などの割れ方を調節するこ
とは困難であるため、単に粉砕された砥粒は均一にはな
らず、サイズ、形状などの点でばらつきがある。大きな
砥粒を含むスラリー液でテクスチャー加工を行うと、こ
の大きな砥粒が基板表面を必要以上に深く削ってしまっ
てその削り跡が基板表面に盛り上がり、突起物が形成さ
れてしまうという問題がある。
However, since it is difficult to control the size, shape, or cracking of the shards when crushing the abrasive grains, the crushed abrasive grains are not uniform. There are variations in size and shape. When texture processing is performed with a slurry liquid containing large abrasive grains, there is a problem that the large abrasive grains cut the substrate surface more deeply than necessary, and the shaved traces are raised on the substrate surface, and a projection is formed. .

【0007】また、粉砕された割れ口は不規則に角があ
り、非常に鋭くとがった部分を有するものもある。角の
あるアルミナ砥粒でテクスチャー加工を行っても、やは
り、先述のように磁気ハードディスク基板表面が必要以
上に深く削れてしまったり、突起物が形成されてしまっ
たりする。また、テクスチャー加工を行っているときに
鋭くとがった部分が折れてしまうと、その部分が磁気ハ
ードディスク基板表面に突き刺さって突起物となってし
まったり、折れた拍子に同心円方向からそれて、同心円
状の溝以外の傷が形成されてしまう恐れもある。
[0007] Some pulverized cracks have irregular corners and some have very sharp and sharp points. Even when texture processing is performed using alumina abrasive grains having corners, the surface of the magnetic hard disk substrate is still shaved more than necessary and projections are formed as described above. Also, if a sharp pointed part breaks during texture processing, that part will pierce the magnetic hard disk substrate surface and become a protrusion, or it will deviate from the concentric direction to the broken beat, concentrically There is a possibility that scratches other than the above-mentioned groove may be formed.

【0008】さらに、砥粒自体が基板表面に食い込んで
突起物となってしまうこともある。
Further, the abrasive grains themselves may cut into the surface of the substrate and become projections.

【0009】磁気ディスクの記録密度が高くなると、記
録再生時の信号感度を大きくするために、磁気ディスク
上の磁気ヘッドの高さを低くして、磁気ヘッドと磁気デ
ィスクとの間の距離を小さくする必要があるが、この突
起物があると、磁気ヘッドの高さを下げた場合に、この
突起物に磁気ヘッドが衝突してしまう(ヘッドヒッ
ト)。しかし、突起物を生じないように、テクスチャー
加工を軽く行っただけでは、磁気ディスクの平滑性が高
すぎて、先述のようにヘッド吸着が起きてしまう。
When the recording density of the magnetic disk increases, the height of the magnetic head on the magnetic disk is reduced and the distance between the magnetic head and the magnetic disk is reduced in order to increase the signal sensitivity during recording and reproduction. However, if the protrusion is present, the magnetic head collides with the protrusion when the height of the magnetic head is lowered (head hit). However, if the texture processing is performed only lightly so as not to cause protrusions, the smoothness of the magnetic disk is too high and the head is attracted as described above.

【0010】さらに、中心線平均粗さを小さくするため
には、小さな砥粒を用いる必要があるが、小さな砥粒で
は研削力が不十分なため、まず大きな砥粒を用いて粗く
研削を行い、次に小さな砥粒を用いて仕上げをするとい
う2つの工程が必要となっている。
[0010] Furthermore, in order to reduce the center line average roughness, it is necessary to use small abrasive grains. However, since the grinding power is insufficient with small abrasive grains, coarse grinding is first performed using large abrasive grains. Then, two steps of finishing using the next smaller abrasive grains are required.

【0011】このため、ヘッドヒットなどの問題を引き
起こすことなく微細な中心線平均粗さを得ることがで
き、さらに高い研削力も有する研磨材砥粒を含むスラリ
ー液が必要とされている。
[0011] Therefore, there is a need for a slurry liquid containing abrasive abrasive grains that can obtain a fine center line average roughness without causing a problem such as a head hit and have a high grinding force.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明のスラリー液は、
球状研磨材砥粒である単結晶多面体アルミナを含む。単
結晶多面体アルミナは、磁気ハードディスク基板表面に
接触する部分がどこも球面であり、実質的に均一であ
る。
The slurry of the present invention comprises:
Includes single crystal polyhedral alumina which is a spherical abrasive grain. The single-crystal polyhedral alumina has a spherical surface everywhere in contact with the surface of the magnetic hard disk substrate and is substantially uniform.

【0013】また、単に粉砕された研磨材砥粒と異な
り、角や鋭くとがった部分がないため、磁気ハードディ
スク基板表面を深く研磨してしまったり、食い込んだり
することがない。このため、ヘッドヒットの原因となる
突起物や、エラーの原因となる傷が形成されることがな
い。研磨材砥粒自体が磁気ハードディスク基板表面に食
い込み、突起物となってしまうという恐れもない。
Further, unlike the crushed abrasive grains, there is no corner or sharp point, so that the surface of the magnetic hard disk substrate is not deeply polished or bitten. For this reason, a protrusion that causes a head hit and a scratch that causes an error are not formed. There is no fear that the abrasive grains themselves will bite into the surface of the magnetic hard disk substrate and become projections.

【0014】このため研削力の高い、粒度の大きな粒子
を使用しても、均一で微細な中心線平均粗さを得ること
ができ、仕上げのために改めて粒度の小さい粒子を用い
る必要はない。
Therefore, even if particles having a high grinding force and a large particle size are used, a uniform and fine center line average roughness can be obtained, and it is not necessary to use again a small particle size for finishing.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明のスラリー液は、球状研磨
材砥粒である単結晶多面体アルミナを含む。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The slurry liquid of the present invention contains single-crystal polyhedral alumina which is a spherical abrasive grain.

【0016】本発明に使用するのに適した単結晶多面体
アルミナには、例えば、ショーライトシリーズ、または
アルフィットシリーズ(共に昭和電工株式会社より入手
可能)がある。
The single-crystal polyhedral alumina suitable for use in the present invention is, for example, the Showlight series or Alfit series (both available from Showa Denko KK).

【0017】単結晶多面体アルミナの平均粒径は0.1〜
5μm、好適には0.1〜3μmであり、スラリー液中の
濃度は0.1〜5重量%、好適には0.1〜2重量%である。
The average particle size of the single-crystal polyhedral alumina is 0.1 to
The concentration is 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm, and the concentration in the slurry liquid is 0.1 to 5% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight.

【0018】スラリー液は、好適には1〜20重量%の界
面活性剤が含まれた水溶液である。これは、界面活性剤
が砥粒を均一に分散させ、砥粒が沈降するのを防ぐ働き
をするからである。界面活性剤は周知のものを使用する
ことができるが、好適にはポリアルキレングリコールで
ある。
The slurry liquid is preferably an aqueous solution containing 1 to 20% by weight of a surfactant. This is because the surfactant acts to uniformly disperse the abrasive grains and prevent the abrasive grains from settling. Although a well-known surfactant can be used, it is preferably a polyalkylene glycol.

【0019】本発明のスラリー液は、単結晶多面体アル
ミナを界面活性剤中に分散させ、混合撹拌することによ
り製造される。
The slurry liquid of the present invention is produced by dispersing single-crystal polyhedral alumina in a surfactant and mixing and stirring.

【0020】図1は、本発明のスラリー液を用いてテク
スチャー加工を行っているところを示した図である。
FIG. 1 is a view showing that a texture processing is performed using the slurry liquid of the present invention.

【0021】回転する磁気ハードディスク基板11の表面
に、ノズル12より本発明のスラリー液10を滴下しつつ、
ゴムローラ13を介して研磨テープ14を磁気ハードディス
ク基板11の表面に押しつけ、磁気ハードディスク基板11
の回転方向と逆の方向にテープ14を走行して、テクスチ
ャー加工を行う。
While the slurry liquid 10 of the present invention is dropped from the nozzle 12 on the surface of the rotating magnetic hard disk substrate 11,
The polishing tape 14 is pressed against the surface of the magnetic hard disk substrate 11 via the rubber roller 13 so that the magnetic hard disk substrate 11
The tape 14 is run in the direction opposite to the rotation direction of the tape to perform texture processing.

【0022】単結晶多面体アルミナを含む本発明のスラ
リー液を使用することにより、均一な研磨材砥粒で研磨
したのと同じ効果を得ることができ、従来のテクスチャ
ー加工よりも微細な中心線平均粗さを達成することがで
きる。
By using the slurry liquid of the present invention containing single-crystal polyhedral alumina, the same effect as polishing with uniform abrasive grains can be obtained, and a center line average finer than that of the conventional texture processing can be obtained. Roughness can be achieved.

【0023】また、角や鋭くとがった部分がないため、
研磨材砥粒により磁気ハードディスク基板表面を深く研
磨してしまって突起物を形成したり、研磨材砥粒自体が
食い込んで突起物となったりすることがなく、ヘッドヒ
ットやエラーが起こることがなくなる。
Also, since there are no corners or sharp points,
Abrasive abrasive grains do not polish the magnetic hard disk substrate surface deeply to form protrusions, and abrasive abrasive grains themselves do not bite into protrusions, so head hits and errors do not occur .

【0024】さらに、高い研削力のある大きな研磨粒子
を用いても、微細な中心線平均粗さを得ることができる
ため、粗い研削と微細な中心線平均粗さを得るための仕
上げの研磨とを同時に行うことができ、効率的である。
Further, even if large abrasive particles having a high grinding force are used, fine center line average roughness can be obtained, so that rough grinding and finish polishing for obtaining fine center line average roughness are required. Can be performed simultaneously and is efficient.

【0025】さらに、本発明のスラリー液は、従来のス
ラリー液と同様に、水で容易に洗浄することができるた
め、研磨の終わった後の処理も簡単である。
Further, since the slurry liquid of the present invention can be easily washed with water, similarly to the conventional slurry liquid, the treatment after polishing is simple.

【0026】図2は、従来の研磨材砥粒であるダイヤモ
ンドと粉砕アルミナと、本発明の球状研磨材砥粒である
単結晶多面体アルミナとをそれぞれ含んだ3種類のスラ
リー液を用いてテクスチャー加工を行った後の中心線平
均粗さ(Ra、単位(Å)),中心線山高さ(Rp、単
位(Å)),および中心線谷低さ(Rv、単位(Å))
を計測してグラフに示したものである。研磨材砥粒はど
れも粒度8000であり、平均粒径は約1μmである。
FIG. 2 shows texture processing using three types of slurry liquids each containing diamond and ground alumina, which are conventional abrasive grains, and single-crystal polyhedral alumina, which is a spherical abrasive grain of the present invention. Center line average roughness (Ra, unit (Å)), center line peak height (Rp, unit (Å)), and center line trough height (Rv, unit (Å))
Is measured and shown in a graph. All of the abrasive grains have a particle size of 8000 and an average particle size of about 1 μm.

【0027】具体的なテクスチャー加工方法を、図1を
用いて説明する。
A specific texture processing method will be described with reference to FIG.

【0028】研磨材砥粒と界面活性剤としてのポリアル
キレングリコール・脂肪酸エステルを含む水溶性の液と
を混合撹拌したスラリー液10を滴下しつつ、ゴムローラ
13を介して研磨テープ14を磁気ハードディスク基板表面
11に対して1〜1.2kgfの力で押しつけ、磁気ハードディ
スク11自体を回転させながら、その回転方向と逆の方向
に研磨テープ14を走行させ、15秒間のテクスチャー加工
を行い、触針式粗さ計(TENCOR P-1)を用いてRa、R
pおよびRvを計測した。研磨材砥粒はスラリー液の1
重量%、界面活性剤としてのポリアルキレングリコール
・脂肪酸エステルはスラリー液の5重量%の割合でそれ
ぞれ含まれた。
A rubber roller is added while dropping a slurry liquid 10 obtained by mixing and stirring abrasive grains and a water-soluble liquid containing a polyalkylene glycol / fatty acid ester as a surfactant.
13 polish the polishing tape 14 through the magnetic hard disk substrate surface
While pressing the magnetic hard disk 11 itself against the 11 with a force of 1 to 1.2 kgf, running the polishing tape 14 in the direction opposite to the rotation direction, performing texture processing for 15 seconds, stylus type roughness Ra, R using a total (TENCOR P-1)
p and Rv were measured. Abrasive abrasive is one of slurry liquid
% Of the polyalkylene glycol / fatty acid ester as a surfactant was contained at a ratio of 5% by weight of the slurry liquid.

【0029】表1は、図2の数値を示したものである。
スクラッチは、目視により計測を行い、その数を示し
た。
Table 1 shows the numerical values of FIG.
The number of scratches was visually measured and the number was shown.

【0030】図2および表1より、本発明の単結晶多面
体アルミナを含むスラリー液によりテクスチャー加工を
行うと、Ra、RpおよびRvは、従来のものよりも明
らかに小さくなっていることがわかる。また、スクラッ
チの数も、従来のものよりも明らかに少ない。
From FIG. 2 and Table 1, it can be seen that Ra, Rp and Rv are clearly smaller than those of the prior art when texture processing is performed with the slurry containing the single-crystal polyhedral alumina of the present invention. Also, the number of scratches is clearly smaller than the conventional one.

【0031】[0031]

【表1】 表1 Ra Rp Rv スクラッチ ブランク 22Å 90Å 133Å 10カ所 FP504 22Å 90Å 127Å 8カ所 FP404 13Å 51Å 78Å 3カ所 図3は単に粉砕された研磨材である白色溶融アルミナ
(WA)の研磨粒子で、粒度6000、平均粒径2μm
のものの電子顕微鏡写真であり、(a)は5000倍、
(b)は10000倍、および(c)は20000倍に
拡大されたものである。
Table 1 Ra Rp Rv Scratch blank 22Å 90Å 133Å 10 places FP504 22Å 90Å 127Å 8 places FP404 13Å 51Å 78Å 3 places FIG. Particle size 6000, average particle size 2 μm
5 is an electron micrograph of the above, (a) is 5000 times,
(B) is magnified 10,000 times and (c) is magnified 20,000 times.

【0032】図4も、単に粉砕された研磨材である白色
溶融アルミナ(WA)の研磨粒子で、粒度8000、平
均粒径1μmのものの電子顕微鏡写真であり、図3と同
様に、(a)は5000倍、(b)は10000倍、お
よび(c)は20000倍に拡大されたものである。
FIG. 4 is also an electron micrograph of abrasive particles of white fused alumina (WA), which is simply a crushed abrasive, having a particle size of 8000 and an average particle size of 1 μm. 5,000 times, (b) 10,000 times, and (c) 20,000 times.

【0033】図3〜4の電子顕微鏡写真より、粉砕され
た研磨材粒子は、破片のサイズ、形状または割れ口など
の割れ方が不規則であり、角があって、鋭くとがった部
分も多いことが分かる。
According to the electron micrographs shown in FIGS. 3 and 4, the crushed abrasive particles are irregular in size, shape or cracks such as broken pieces, and have many corners and sharply pointed portions. You can see that.

【0034】図5は、本発明の単結晶多面体アルミナの
研磨粒子で、粒度6000、平均粒径2μmのものの電
子顕微鏡写真である。図3と同様に、(a)は5000
倍、(b)は10000倍、および(c)は20000
倍に拡大されたものである。
FIG. 5 is an electron micrograph of a single-crystal polyhedral alumina abrasive particle of the present invention having a particle size of 6000 and an average particle size of 2 μm. As in FIG. 3, (a) is 5000
Times, (b) is 10000 times, and (c) is 20000 times.
It was enlarged twice.

【0035】図6もまた、本発明の単結晶多面体アルミ
ナの研磨粒子で、粒度8000、平均粒径1μmのもの
の電子顕微鏡写真である。図3と同様に、(a)は50
00倍、(b)は10000倍、および(c)は200
00倍に拡大されたものである。
FIG. 6 is also an electron micrograph of single-crystal polyhedral alumina abrasive particles of the present invention having a particle size of 8000 and an average particle size of 1 μm. As in FIG. 3, FIG.
00 times, (b) 10000 times, and (c) 200 times
It is enlarged by a factor of 00.

【0036】図5〜6の電子顕微鏡写真より、本発明の
単結晶多面体アルミナは、サイズや形状が非常に均一で
あることが分かる。
The electron micrographs of FIGS. 5 and 6 show that the single-crystal polyhedral alumina of the present invention is very uniform in size and shape.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明のスラリー液を用いてテクスチ
ャー加工を行っているところを示した図である。
FIG. 1 is a view showing that a texture processing is performed using a slurry liquid of the present invention.

【図2】図2は、ダイヤモンド、粉砕アルミナまたは単
結晶多面体アルミナを含むスラリー液を用いてテクスチ
ャー加工を行った後の磁気ハードディスク基板表面の中
心線平均粗さ(Ra、単位(Å)),中心線山高さ(R
p、単位(Å)),および中心線谷低さ(Rv、単位
(Å))を示したものである。
FIG. 2 is a diagram showing the center line average roughness (Ra, unit (Å)) of the surface of a magnetic hard disk substrate after texture processing using a slurry liquid containing diamond, pulverized alumina, or single-crystal polyhedral alumina; Center line mountain height (R
p, unit (Å)), and center line trough height (Rv, unit (Å)).

【図3】図3は、粉砕された研磨材砥粒である白色溶融
アルミナ(WA)の研磨粒子で、粒度6000、平均粒
径2μmのものの電子顕微鏡写真であり、(a)は50
00倍、(b)は10000倍、および(c)は200
00倍に拡大されたものである。
FIG. 3 is an electron micrograph of crushed abrasive particles of white fused alumina (WA) as abrasive particles having a particle size of 6000 and an average particle size of 2 μm.
00 times, (b) 10000 times, and (c) 200 times
It is enlarged by a factor of 00.

【図4】図4は、粉砕された研磨材砥粒である白色溶融
アルミナ(WA)の研磨粒子で、粒度8000、平均粒
径1μmのものの電子顕微鏡写真であり、(a)は50
00倍、(b)は10000倍、および(c)は200
00倍に拡大されたものである。
FIG. 4 is an electron micrograph of white fused alumina (WA) abrasive particles, which are pulverized abrasive particles, having a particle size of 8000 and an average particle size of 1 μm, and (a) shows a value of 50.
00 times, (b) 10000 times, and (c) 200 times
It is enlarged by a factor of 00.

【図5】図5は、本発明の球状研磨材砥粒である単結晶
多面体アルミナの研磨粒子で、粒度6000、平均粒径
2μmのものの電子顕微鏡写真であり、(a)は500
0倍、(b)は10000倍、および(c)は2000
0倍に拡大されたものである。
FIG. 5 is an electron micrograph of single-crystal polyhedral alumina abrasive particles, which are spherical abrasive particles of the present invention, having a particle size of 6000 and an average particle size of 2 μm.
0x, (b) 10000x, and (c) 2000x
It is enlarged to 0 times.

【図6】図6は、本発明の球状研磨材砥粒である単結晶
多面体アルミナの研磨粒子で、粒度8000、平均粒径
1μmのものの電子顕微鏡写真であり、(a)は500
0倍、(b)は10000倍、および(c)は2000
0倍に拡大されたものである。
FIG. 6 is an electron micrograph of single-crystal polyhedral alumina abrasive particles, which are spherical abrasive particles of the present invention, having a particle size of 8000 and an average particle size of 1 μm.
0x, (b) 10000x, and (c) 2000x
It is enlarged to 0 times.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…スラリー液 11…磁気ハードディスク基板 12…ノズル 13…ゴムローラ 14…研磨テープ 10 ... Slurry liquid 11 ... Magnetic hard disk substrate 12 ... Nozzle 13 ... Rubber roller 14 ... Abrasive tape

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】テクスチャ加工を行うためのスラリー液で
あって、 球状研磨材を含み、 該球状研磨材は、単結晶多面体アルミナである、ところ
のスラリー液。
1. A slurry liquid for performing texturing, comprising a spherical abrasive, wherein the spherical abrasive is a single-crystal polyhedral alumina.
【請求項2】請求項1に記載のスラリー液であって、 前記単結晶多面体アルミナは、平均粒径が0.1〜5μm
である、ところのスラリー液。
2. The slurry liquid according to claim 1, wherein the single-crystal polyhedral alumina has an average particle size of 0.1 to 5 μm.
Where the slurry liquid.
【請求項3】請求項1に記載のスラリー液であって、 当該スラリー液の0.1〜5重量%の前記単結晶多面体ア
ルミナを含む、ところのスラリー液。
3. The slurry liquid according to claim 1, comprising 0.1 to 5% by weight of the single crystal polyhedral alumina of the slurry liquid.
【請求項4】単結晶多面体アルミナを含むスラリー液を
使用して表面をテクスチャー加工された磁気ハードディ
スク基板を製造する方法であって、 単結晶多面体アルミナを含む当該スラリー液を滴下しつ
つ研磨テープを磁気ハードディスク基板表面に押しつ
け、磁気ハードディスク基板自体を回転させる、ところ
の方法。
4. A method for producing a magnetic hard disk substrate having a textured surface using a slurry liquid containing single-crystal polyhedral alumina, wherein a polishing tape is dropped while dropping the slurry liquid containing single-crystal polyhedral alumina. The method of pressing against the surface of the magnetic hard disk substrate and rotating the magnetic hard disk substrate itself.
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