JPH11135894A - 半導体光増幅装置 - Google Patents

半導体光増幅装置

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JPH11135894A
JPH11135894A JP10245687A JP24568798A JPH11135894A JP H11135894 A JPH11135894 A JP H11135894A JP 10245687 A JP10245687 A JP 10245687A JP 24568798 A JP24568798 A JP 24568798A JP H11135894 A JPH11135894 A JP H11135894A
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output
coupler
ports
power
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JP10245687A
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Beatrice Dagens
ベアトリス・ダジヤン
Christopher Janz
クリストフアー・ジヤン
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Alcatel CIT SA
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光信号の伝送用、また「全光学式」切り換え
装置の作製用に適用され、どのような半導体増幅技術ま
たは構造にも適合しつつ利得を悪化させることなく飽和
しきい値をきわめて顕著に高くすることができる半導体
光増幅装置を提供する。 【解決手段】 本装置は、一つの入力ポート(X)およ
びq個の出力ポート(B1−B4)を具備する入力カプ
ラ(Kx)と、q個の入力ポート(C1−C4)および
一つの出力ポート(Y)を具備する出力カプラ(Ky)
とを含み、入力カプラ(Kx)のq個の出力ポート(B
1−B4)は、同じ増幅特性のq個の半導体光増幅器
(A1−A4)を介して出力カプラ(Ky)のq個の入
力ポート(C1−C4)に接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光増幅器の分野に位
置し、より詳細には半導体光増幅器に関する。
【0002】
【従来の技術】光増幅器は、光信号の伝送用として、ま
た「全光学式」切換装置の作製用として広く使われてい
る。
【0003】光増幅器の基本的な特性は、入力部で受信
する光パワーに対する出力部に供給する光学的パワーの
比として規定される利得である。光パワーが低い場合、
利得は一定であり増幅器は線形状態で作動する。一方、
印加されるパワーのあるレベルからは、パワーが増加す
るに従い利得の値は減少する。このように、増幅器の別
の特性は、増幅器が飽和していない時(非飽和利得)
の、増幅器の利得の半分に等しい値の利得を有する出力
パワーとして規定される出力しきい値のパワーである。
【0004】飽和現象は半導体光増幅器の場合、特に顕
著である。また、線形動作および高いパワーが必要なア
プリケーションの場合、増幅器の飽和パワーはできる限
り高いことが望ましい。
【0005】この問題に対する一つの解決方法は、部品
の寸法設定を最適化することおよび部品を構成する半導
体層の組成を最適化すること、あるいは多重量子井戸な
どの複雑な活性構造を採用することである。例えば活性
層の導波部分を拡大することによりパワー密度を下げ、
これによりしきい値を高くすることができる。しかしな
がらこの解決方法は、通常、増幅器の導波において単モ
ード構造を残しておこうとすることによる制約を受け
る。
【0006】別の解決方法は、例えば、1995年2月
22日公開の欧州特許出願EP−A−639876号に
記述されているような、安定利得増幅器を使用すること
である。この解決方法により確かに増幅器の線形動作範
囲を拡げることは可能であるが、それは部分的であり有
効利得を犠牲にする。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記した方法
の制約を解消することを目的とする。この目的のため、
本発明は、どのような半導体増幅技術または構造にも適
合しつつ、利得を悪化させることなく飽和しきい値をき
わめて顕著に高くすることができる解決方法を提供す
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】より詳細には本発明は、 − 少なくとも一つの第一入力ポートおよび少なくとも
q個の第一出力ポートを具備する入力カプラであって、
前記第一入力ポートに印加される入力光波を、前記q個
の第一出力ポート上に各々焦点が合わせられ前記入力光
波のパワーに比例する光パワーを有するq個の二次光波
に変換することができる入力カプラと、 − 少なくともq個の第二入力ポートおよび少なくとも
一つの第二出力ポートを具備する出力カプラであって、
前記q個の第二入力ポートに各々印加される前記q個の
二次光波を、前記第二出力ポート上に焦点が合わせられ
前記入力光波と同じモード特性を有する出力光波に変換
することができる出力カプラと を含むこと、および、入力カプラの前記q個の第一出力
ポートが、同じ増幅特性の光増幅器を介して出力カプラ
の前記q個の第二入力ポートに接続されることを特徴と
する半導体光増幅装置を対象とする。
【0009】こうすることにより、本発明による装置で
は、同じ非飽和利得の従来の増幅器と比べ、原則として
q倍高い飽和パワーに到達することができる。
【0010】装置の小型性を確保する好ましい実施形態
によれば、入力および/または出力カプラは多重モード
ウェーブガイドで構成される。
【0011】別の実施態様によれば、本装置は、例えば
リン化インジウムの基板上など、集積部品の形態で製造
される。集積された実施方法は、損失が最小になり、増
幅器のウェーブガイドの光学的特性および電気的特性の
均一性が確保されるという利点を有する。
【0012】さらに多重モードウェーブガイドの小型性
により、「全活性」と呼ばれる単純な集積された実施方
法、すなわち構成部品全体にわたり導波部分の垂直構造
が同一である実施方法が可能になる。その場合、入力お
よび出力カプラは、その透明性を確保するためにバイア
スをかけられ、従って増幅器として動作するが、多重モ
ードウェーブガイドの長さが十分に短いので、出力カプ
ラの出力ポートのレベルにおける飽和現象を制限するこ
とができる。
【0013】本発明の別の態様によれば、本装置は、安
定利得増幅器として動作するのに適する。このために、
本装置は、利得安定化光振動を維持することができる空
洞共振器を形成するために、入力カプラの入力ポートお
よび出力カプラの出力ポートに各々結合された二つの波
長選択反射器を含む。
【0014】本発明の他の態様および利点は、図面を参
照して行う以下の説明において明らかになろう。
【0015】
【発明の実施の形態】図1は、半導体光増幅器の既知の
構造の例の導波活性層のレベルにおける縦断面を示す図
である。この構造は本発明の実施に使用することができ
る。増幅器はIII−V族元素の基板上に作製すること
ができる。非限定的実施形態として、リン化インジウム
InPを材料とする基板および埋込導波構造を選択し
た。
【0016】3.17に等しい屈折率を有するInP基
板1はn型ドープされ、この基板上に、 − 3.32に等しい屈折率および1.18μmに等し
い固有波長(「ギャップ」の波長)を有するように組成
が選択された、非ドープInGaAsP四元系下部封じ
込め層2と、 − 3.51に等しい屈折率および1.55μmに等し
い固有波長を有するように組成が選択された、非ドープ
四元系活性層3と、 − 3.32に等しい屈折率および1.18μmに等し
い固有波長を有するように組成が選択された、非ドープ
InGaAsP四元系上部封じ込め層4と、 − p型ドープリン化インジウム層5と、 − 高濃度p型ドープInGaAs三元系接触層6と を連続して形成した。
【0017】埋込活性ウェーブガイドは、例えば1.2
μmの幅を有するので、光通信における通常の波長に関
して単モード動作を確保することができる。
【0018】上側電極EPおよび下側電極ENにより、
ポンピング電流Iを構造内に垂直に注入することができ
る。
【0019】増幅器は、パワー変調された入力波Exを
その面のうちの一つで受信するようになっており、反対
側の面から増幅出力波Eyを供給する。通常、入力面お
よび出力面は、複数の増幅器を含む半導体チップの劈開
により作製され、次に反射防止処理が施される。
【0020】図2に半導体光増幅器の利得の特性の概略
を示す。入力波Exおよび出力波Eyの光パワーをそれ
ぞれPxおよびPyと呼ぶ時、利得G=Py/Pxは、
出力側の光パワーPyに応じて、図示する曲線のように
変化する。Pyの値が小さい場合、利得Gは「非飽和利
得」と呼ばれるほぼ一定の値G0を有する。入力パワー
Pxを増加させると、出力パワーPyは増加するが、あ
る値以上になると飽和現象が現われ、利得は一様に減少
する。実際には、利得が非飽和利得G0の半分に等しい
飽和出力パワーPysを規定する。従って、増幅器の線
形動作を得るためには、出力パワーPyが常にこの飽和
パワーPysよりも低い状態にあることが望ましい。
【0021】図3に、本発明による装置の第一実施形態
を示す。装置は、一つの入力ポートXおよび複数の出力
ポートB1−B4を具備する入力カプラKxを含む。図
示例によれば四つの出力ポートがあるが、通常の場合、
任意の数qのポートをもつことができる。装置はまた、
q個の入力ポートC1−C4および一つの出力ポートY
を具備する出力カプラKyを含む。出力ポートB1−B
4は、同じ増幅特性のq個の半導体光増幅器A1−A4
を介して入力ポートC1−C4に接続される。
【0022】入力ポートXに印加される入力光波Ex
を、q個の出力ポートB1−B4上に各々焦点が合わせ
られたq個の二次光波に変換するために入力カプラKx
が設けられている。各二次光波は入力光波Exのパワー
Pxに比例する光パワーを有する。最初の概算では、損
失を無視した場合、このパワーはPx/qである。
【0023】逆変換を行うために出力カプラKyが設け
られている。
【0024】可能な実施方法は、図3に概略を示すよう
に、例えば、縦続に配置したカプラ「Y]を基にした同
一構造の「1対q」および「q対1」カプラを使用する
ことから成る。
【0025】従って、結合損を無視すると、利得Gの各
増幅器A1−A4は二次光波からパワーPx/qを受け
取り、出力カプラKyのq個の入力ポートC1−C4の
うちの一つにパワー(G・Px/q)を供給する。出力
カプラはその出力ポートYに、パワー(G・Px)を送
出する。
【0026】飽和の問題に関し本装置が有利であること
を示すために、図2を用いて、本装置の動作を、基準と
なる従来型の半導体増幅器の動作と比較することにす
る。本発明による装置および基準の増幅器が同じ技術お
よび同じ導波構造を使用し、同じ非飽和利得G0を有す
るよう寸法設定されていると仮定する。従ってこれによ
り、各増幅器A1−A4は基準の増幅器と同一であると
仮定することになる。
【0027】基準の増幅器(図2)の飽和出力しきい値
Pysより低い出力パワーPy1に相当する入力パワー
Px1を二つの場合において印加すると、本発明の場合
には、各増幅器の入力パワーはPx1/qになり、従っ
てその出力パワーは基準の増幅器のパワーのq分の1で
ある。その結果、本発明により、基準の増幅器の場合よ
りもq倍高いパワーに対して線形状態にとどまっている
ことが可能である。
【0028】図3の実施形態では、入力カプラおよび出
力カプラは、幾つかの欠点を有するYカプラを使用す
る。例えばカプラの損失を制限しようとする場合、カプ
ラを構成するウェーブガイドは大きい曲率を有さなけれ
ばならない。その結果、例えば100μm程度の各カプ
ラの最小長さを強制することになる。実際には、このよ
うな長さにより、前出の「全活性」実施が不可能にな
る。
【0029】別の制約は、波が通過する種々の光路間に
おいて不均衡を生じさせないようにするために、カプラ
のウェーブガイドがきわめて正確に図面に従わなければ
ならないことである。
【0030】損失を少ないままにしつつカプラの所要空
間の問題を解決するためのより有利な変形形態は、多重
モードウェーブガイドを使用してこれらのカプラを作製
することから成る。この種類のカプラは「多重モード干
渉カプラ」(multimode interference coupler)または
「ビームスプリッタ」と呼ばれる。これについての詳細
な記述は、例えば論文「Novel 1-to-N way integrated
optical beam splitters using symmetric mode mixing
in GaAs/AlGaAs multimode waveguides」、J.M. Heato
n et al, Applied Physics Letters、61巻、第15
号、1992年10月12日、に記載されている。
【0031】図4は、入力カプラKxおよび出力カプラ
Kyとして多重モードカプラを使用する増幅装置の上面
の略図である。
【0032】図示するように、多重モードKxの入力部
Xに印加される入力波Exは、多重モード波E2に変換
され、多重モード波は、カプラを適切に寸法設定するこ
とにより、出力ポートのレベルにおいて光パワーの最大
値を有する。これらの最大値は増幅ウェーブガイドA1
−A4内で導波および増幅され、次に、出力多重モード
カプラKyの入力ポートに各々印加される。すると、増
幅された多重モード波E3が入力ポートで形成され、次
にこの波は、カプラKx内での入力波Exの変換とは逆
の変換をうける。すると、カプラKyの出力ポートYは
出力波Eyを送出する。
【0033】次に、図示例として、q=4の場合の図1
による全活性構造をもつ多重モードカプラを使用する特
別な実施形態を示す。
【0034】カプラKx、Kyの入力部および出力部に
結合されているウェーブガイドは全て単モードであり、
同一の幅w=1.2μmを有する。このような状態で
は、 − 多重モードウェーブガイドの長さ:L=54.75
μm − 多重モードウェーブガイドの幅:V=9.6μm − 各増幅ウェーブガイドの長さ:D=270.5μm − 増幅ウェーブガイド間の間隔:e=1.2μm − 多重モードウェーブガイドの側縁と両端の増幅ウェ
ーブガイドの外縁との間隔:e’=0.6μm となる。
【0035】図5は、比較として、前記のように寸法設
定した図4の増幅装置、および、同じ技術で同じ非飽和
利得の従来の増幅器についてシミュレーションにより計
算した利得G1およびG2の曲線を示す図である。利得
G1およびG2はデシベルで表わしてあり、出力パワー
は、dBm(ミリワットで表わす光パワーの常用対数の
10倍)で表わしてある。
【0036】これらのシミュレーション曲線は、本発明
による装置の飽和パワーPs1と基準の増幅器の飽和パ
ワーPs2との間におよそ6dBの差が歴然とあること
を示している。
【0037】半導体増幅器の動作の別の重要な側面はノ
イズである。例えば、低パワー用として半導体増幅器を
使用すると、この増幅器の出力部におけるSN比が悪化
することが知られている。これは、ノイズの大部分が、
入力の光パワーが低下すると増加する増幅自然放出(am
plified spontaneous emission「ASE」)から生じる
ことによるものである。
【0038】本発明による装置の場合、所与の入力パワ
ーPxについて、各増幅器A1−A4は、基準の増幅器
のq分の1のパワーを受ける。従って各増幅器はSN比
が悪化した出力信号を送出する。しかしながら、出力波
は、増幅器からの波の強め合う干渉から生じるので、出
力信号のパワーは、損失を除けば、各増幅器の出力パワ
ーのq倍であることに留意されたい。一方、種々の増幅
器により発生するノイズはコヒーレントではなく、出力
多重モードウェーブガイド内でノイズが結合するため、
結果として、増幅器のノイズのパワーの合計よりも低い
ノイズのパワーが生じる。さらに、各増幅器をその飽和
しきい値の近傍での線形状態で作動させるために十分な
パワーレベルに本装置が使われる場合には、基準の増幅
器と比べ、SN比の向上を得ることができる。
【0039】図6は、本発明による安定利得増幅装置を
示す図である。基本的な増幅構造は前記のものと同じで
あるが、入力ポートXおよび出力ポートYに各々結合さ
れた二つの反射器RxおよびRyが追加されている。反
射器RxおよびRyは、例えば、利得安定化振動に割り
当てられた波長であって増幅すべき波の波長とは異なる
波長を反射するように寸法設定されたブラッグ格子であ
る。また、本来の意味の増幅構造はこのような振動を持
続させるように寸法設定される。
【0040】本発明による安定利得増幅装置の動作原理
は、前に引用した欧州特許出願EP−A−639876
号において記述されている安定利得増幅器についての場
合と同じである。
【0041】記述してきた本発明の実施形態は全て、完
全に対称的な配置を使用しているため、寸法設定および
製造が簡単である。ただし本発明は、例えば増幅器の数
よりも多い出力ポート数を有する入力カプラをもつ非対
称配置を使用することも可能であることに留意すべきで
ある。したがってこの場合、出力カプラは、入力波と同
じモード特性の出力波を再構成するように寸法設定する
ことが望ましい。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体光増幅器の垂直構造の例を示す図であ
る。
【図2】半導体光増幅器の利得の特性を示す図である。
【図3】本発明による装置の第一実施形態を示す図であ
る。
【図4】本発明による装置の第二実施形態を示す図であ
る。
【図5】本発明による装置および通常の半導体増幅器の
利得の曲線を示す図である。
【図6】本発明による安定利得増幅装置を示す図であ
る。
【符号の説明】
1 InP基板 2 四元系下部封じ込め層 3 四元系活性層 4 四元系上部封じ込め層 5 pドープリン化インジウム層 6 三元系接触層 A1−A4 半導体光増幅器 B1−B4、Y 出力ポート C1−C4、X 入力ポート D 各増幅ウェーブガイドの長さ E2 二次光波 E3 増幅された多重モード波 e 増幅ウェーブガイド間の間隔 e’ 多重モードウェーブガイドの側縁と両端の増幅ウ
ェーブガイドの外縁との間隔 EN 下側電極 Ex 入力波 EP 上側電極 Ey 出力波 G 利得 G0 非飽和利得 G1 本発明による増幅装置についてシミュレーション
により計算した利得 G2 同じ技術で同じ非飽和利得の従来の増幅器につい
てシミュレーションにより計算した利得 I ポンピング電流 Kx 入力カプラ Ky 出力カプラ L 多重モードウェーブガイドの長さ Ps1 本発明による装置の飽和パワー Ps2 基準の増幅器の飽和パワー Px 入力波の光パワー Py 出力波の光パワー Pys 飽和出力パワー Rx、Ry 反射器 V 多重モードウェーブガイド w ウェーブガイドの幅

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも一つの第一入力ポート(X)
    および少なくともq個の第一出力ポート(B1−B4)
    を具備する入力カプラ(Kx)であって、前記第一入力
    ポート(X)に印加される入力光波(Ex)を、前記q
    個の第一出力ポート(B1−B4)上に各々焦点が合わ
    せられ前記入力光波(Ex)のパワーに比例する光パワ
    ーを有するq個の二次光波(E2)に変換することがで
    きる入力カプラ(Kx)と、 少なくともq個の第二入力ポート(C1−C4)および
    少なくとも一つの第二出力ポート(Y)を具備する出力
    カプラ(Ky)であって、前記q個の第二入力ポート
    (C1−C4)に各々印加される前記q個の二次光波
    (E2)を、前記第二出力ポート(Y)上に焦点が合わ
    せられ前記入力光波(Ex)と同じモード特性を有する
    出力光波(Ey)に変換することができる出力カプラ
    (Ky)とを含むこと、および、入力カプラ(Kx)の
    前記q個の第一出力ポート(B1−B4)が、同じ増幅
    特性のq個の光増幅器(A1−A4)を介して出力カプ
    ラ(Ky)の前記q個の第二入力ポート(C1−C4)
    に接続されることを特徴とする半導体光増幅装置。
  2. 【請求項2】 前記入力カプラおよび/または出力カプ
    ラ(Kx、Ky)が多重モードウェーブガイドで構成さ
    れることを特徴とする請求項1に記載の装置。
  3. 【請求項3】 集積構成部品の形態で作製されることを
    特徴とする請求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 リン化インジウムの基板上に集積される
    ことを特徴とする請求項3に記載の装置。
  5. 【請求項5】 前記入力カプラおよび出力カプラ(K
    x、Ky)が、光増幅器(A1−A4)の垂直構造と同
    一の垂直構造を有することを特徴とする請求項2から4
    のいずれか一項に記載の装置。
  6. 【請求項6】 光増幅器(A1−A4)が同一の構造を
    有することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項
    に記載の装置。
  7. 【請求項7】 空洞共振器を形成し利得安定化光振動を
    維持するために、第一入力ポート(X)および第二出力
    ポート(Y)に各々結合された二つの波長選択反射器
    (Rx、Ry)を含むことを特徴とする請求項1から6
    のいずれか一項に記載の装置。
JP10245687A 1997-09-01 1998-08-31 半導体光増幅装置 Pending JPH11135894A (ja)

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FR9710843 1997-09-01
FR9710843A FR2767974B1 (fr) 1997-09-01 1997-09-01 Dispositif semi-conducteur d'amplification optique

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ID=9510635

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JP10245687A Pending JPH11135894A (ja) 1997-09-01 1998-08-31 半導体光増幅装置

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US (1) US6128425A (ja)
EP (1) EP0899838A1 (ja)
JP (1) JPH11135894A (ja)
CA (1) CA2243611A1 (ja)
FR (1) FR2767974B1 (ja)

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