JPH11134730A - Magneto-optical recording medium and reproducing method of the same - Google Patents

Magneto-optical recording medium and reproducing method of the same

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JPH11134730A
JPH11134730A JP5472898A JP5472898A JPH11134730A JP H11134730 A JPH11134730 A JP H11134730A JP 5472898 A JP5472898 A JP 5472898A JP 5472898 A JP5472898 A JP 5472898A JP H11134730 A JPH11134730 A JP H11134730A
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magneto
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optical recording
magnetic
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明 高橋
Michinobu Saegusa
理伸 三枝
Naoyasu Iketani
直泰 池谷
Takeshi Mori
豪 森
Junsaku Nakajima
淳策 中嶋
Yoshiteru Murakami
善照 村上
Junji Hirokane
順司 広兼
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a sufficient reproducing signal even when reproducing is performed based on a small recording bit diameter and a small recording bit interval by arranging a magnetic mask layer between a reproducing layer and a recording layer composed of a vertical magnetizing film magnetically connected with the reproducing layer for suppressing magnetic connection between the recording layer and the reproducing layer at a room temperature to be away from the reproducing layer. SOLUTION: An intrasurface magnetizing layer 3 is formed as a magnetic mask layer adjacent to a recording layer 4, magnetization from a part 11 not heated over a critical temperature in the recording layer 4 is masked by the intrasurface magnetizing layer 3. In other words, by the intrasurface layer 3, the influence of the magnetization of the part 11 of the recording layer 4 on a reproducing layer 1 is prevented. Thus, the mask of only a part over the critical temperature is eliminated and, even when a magnetic area existing in the reproducing layer 1 is larger in size than a recording magnetic area, information regarding only a desired magnetic area heated over the critical temperature in the recording layer 4 is reproduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録再生装
置に適用される光磁気ディスク、光磁気テープ、光磁気
カード等の光磁気記録媒体、及び、その再生方法に関す
るものである。
The present invention relates to a magneto-optical recording medium such as a magneto-optical disk, a magneto-optical tape, a magneto-optical card, etc., applied to a magneto-optical recording and reproducing apparatus, and a reproducing method therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、書き換え可能な光記録媒体と
して、光磁気記録媒体が実用化されている。このような
光磁気記録媒体では、光磁気記録媒体上に集光された半
導体レーザから出射される光ビームのビーム径に対し
て、記録用磁区である記録ビット径及び記録ビット間隔
が小さくなってくると、再生特性が劣化してくるという
欠点が生じている。
2. Description of the Related Art Conventionally, magneto-optical recording media have been put to practical use as rewritable optical recording media. In such a magneto-optical recording medium, the recording bit diameter and the recording bit interval, which are the magnetic domains for recording, are smaller than the beam diameter of the light beam emitted from the semiconductor laser focused on the magneto-optical recording medium. When this happens, there is a disadvantage that the reproduction characteristics deteriorate.

【0003】このような欠点は、目的とする記録ビット
上に集光された光ビームのビーム径内に隣接する記録ビ
ットが入るために、個々の記録ビットを分離して再生す
ることができなくなることが原因である。
[0003] Such a drawback is that, since adjacent recording bits fall within the beam diameter of the light beam condensed on the target recording bits, individual recording bits cannot be separated and reproduced. That is the cause.

【0004】上記の欠点を解消するために、特開平6−
150418号公報において、室温において面内磁化状
態であり、温度上昇と共に垂直磁化状態となる再生層と
記録層との間に非磁性中間層を設け、再生層と記録層と
が静磁結合した構造の光磁気記録媒体が提案されてい
る。
In order to solve the above-mentioned disadvantage, Japanese Patent Laid-Open No.
No. 150418, a structure in which a non-magnetic intermediate layer is provided between a reproducing layer and a recording layer which are in an in-plane magnetization state at room temperature and become perpendicular magnetization with a rise in temperature, and the reproduction layer and the recording layer are magnetostatically coupled. Has been proposed.

【0005】これにより、面内磁化状態にある部分の記
録磁区情報がマスクされ、集光された光ビームのビーム
径内に隣接する記録ビットが入る場合においても、個々
の記録ビットを分離して再生することが可能となること
が示されている(第1従来例)。
[0005] Thereby, the recording magnetic domain information of the portion in the in-plane magnetization state is masked, and even when adjacent recording bits fall within the beam diameter of the focused light beam, the individual recording bits are separated. It is shown that reproduction becomes possible (first conventional example).

【0006】また、Appl.Phys.Lett.6
9(27)p4257〜4259、“Magnetic
domain expansion readout
for amplification of an
ultra high density magnet
o−optical recording signa
l”には、記録層と再生層の間に非磁性の中間層を挟ん
だ同様の構成において、記録層から発生する磁界によ
り、再生層に、記録層の磁区よりも大きな磁区を形成し
ながら転写して再生する磁区拡大方式が示されている
(第2従来例)。
Further, Appl. Phys. Lett. 6
9 (27) p4257-4259, "Magnetic
domain expansion readout
for amplification of an
ultra high density magnet
o-optical recording signa
l ″ has a similar configuration in which a nonmagnetic intermediate layer is interposed between the recording layer and the reproducing layer, and a magnetic field generated from the recording layer forms a magnetic domain larger than the magnetic domain of the recording layer in the reproducing layer. A magnetic domain enlarging system for transferring and reproducing is shown (second conventional example).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
第1従来例では、さらに小さい記録ビット径及びさらに
小さい記録ビット間隔で記録再生を行った場合、再生信
号強度が低下し、十分な再生信号が得られなくなるとい
う問題のあることが確認された。
However, in the above-mentioned first conventional example, when recording / reproducing is performed with a smaller recording bit diameter and a smaller recording bit interval, the reproduction signal intensity decreases, and a sufficient reproduction signal cannot be obtained. It was confirmed that there was a problem that it could not be obtained.

【0008】また第2従来例も、記録密度が高くなり、
再生磁区の下に、数多くのビットが存在する場合は、記
録層の複数のビットからの磁界を再生層が受けることに
なり、真に再生すべきビットからの磁界を正しく再生層
が受けることができなくなってしまう問題点があった。
The second conventional example also has a high recording density,
If there are many bits under the reproducing magnetic domain, the reproducing layer receives the magnetic field from the multiple bits of the recording layer, and the reproducing layer can correctly receive the magnetic field from the bit to be truly reproduced. There was a problem that could not be done.

【0009】本発明は、上記従来の問題点を解決するた
めになされたものであり、その目的は、小さい記録ビッ
ト径及びさらに小さい記録ビット間隔で記録再生を行っ
た場合においても、十分な再生信号を得ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to achieve a sufficient reproduction even when recording and reproduction are performed with a small recording bit diameter and a smaller recording bit interval. To get the signal.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、以下の構成を有する。
The present invention has the following arrangement to achieve the above object.

【0011】請求項1の光磁気記録媒体は、少なくとも
信号再生領域が垂直磁化状態となる再生層と、該再生層
に磁気的に結合する垂直磁化膜からなる記録層と、を有
する光磁気記録媒体において、前記再生層から離れて配
され、少なくとも室温において前記記録層と前記再生層
との磁気結合を抑制する磁気マスク層を有していること
を特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 1 includes a reproducing layer in which at least a signal reproducing region is in a perpendicular magnetization state, and a recording layer made of a perpendicular magnetic film magnetically coupled to the reproducing layer. The medium is characterized by having a magnetic mask layer disposed at a distance from the reproducing layer and for suppressing magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer at least at room temperature.

【0012】請求項2の光磁気記録媒体は、少なくとも
信号再生領域が垂直磁化状態となる再生層と、該再生層
に磁気的に結合する垂直磁化膜からなる記録層と、を有
し、光ビーム照射により前記記録層の記録磁区よりも大
きな磁区を前記再生層に形成する光磁気記録媒体におい
て、前記再生層から離れて配され、少なくとも室温にお
いて前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁
気マスク層を有していることを特徴とする。
According to another aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium comprising: a reproducing layer in which at least a signal reproducing region is in a perpendicular magnetization state; and a recording layer made of a perpendicular magnetic film magnetically coupled to the reproducing layer. In a magneto-optical recording medium in which a magnetic domain larger than the recording magnetic domain of the recording layer is formed in the reproducing layer by beam irradiation, the magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer is arranged at least at room temperature at a distance from the reproducing layer. It has a magnetic mask layer to suppress.

【0013】請求項3の光磁気記録媒体は、請求項1ま
たは請求項2に記載の光磁気記録媒体において、前記磁
気マスク層は、高温において磁化が減少する面内磁化層
からなることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the first or second aspect, the magnetic mask layer comprises an in-plane magnetic layer whose magnetization decreases at a high temperature. And

【0014】請求項4の光磁気記録媒体は、請求項3に
記載の光磁気記録媒体において、室温において、前記磁
気マスク層の磁化が前記記録層の磁化よりも大きいこと
を特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the third aspect, at room temperature, the magnetization of the magnetic mask layer is larger than the magnetization of the recording layer.

【0015】請求項5の光磁気記録媒体は、請求項3ま
たは請求項4に記載の光磁気記録媒体において、前記磁
気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュリー温
度より低いことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the third or fourth aspect, the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer. I do.

【0016】請求項6の光磁気記録媒体は、請求項3乃
至請求項5のいずれかに記載の光磁気記録媒体におい
て、前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリ
ー温度より低いことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to any one of the third to fifth aspects, the Curie temperature of the recording layer is lower than the Curie temperature of the reproducing layer. Features.

【0017】請求項7の光磁気記録媒体は、請求項3乃
至請求項6のいずれかに記載の光磁気記録媒体におい
て、基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間
層、前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成
されてなることを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the magneto-optical recording medium according to any one of the third to sixth aspects, wherein a transparent dielectric layer, the reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer, The magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed.

【0018】請求項8の光磁気記録媒体は、請求項7に
記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層の膜
厚が、2nm以上40nm以下であることを特徴とす
る。
According to an eighth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the seventh aspect, the thickness of the magnetic mask layer is 2 nm or more and 40 nm or less.

【0019】請求項9の光磁気記録媒体は、請求項7ま
たは請求項8に記載の光磁気記録媒体において、前記磁
気マスク層がGdFe合金、GdFeAl合金、GdF
eTi合金、GdFeTa合金、GdFePt合金、G
dFeAu合金、GdFeCu合金、GdFeAlTi
合金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金からなる
ことを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the magneto-optical recording medium according to the seventh or eighth aspect, the magnetic mask layer is made of a GdFe alloy, a GdFeAl alloy, a GdF
eTi alloy, GdFeTa alloy, GdFePt alloy, G
dFeAu alloy, GdFeCu alloy, GdFeAlTi
Alloy or a GdFeAlTa alloy.

【0020】請求項10の光磁気記録媒体は、請求項7
乃至請求項9のいずれかに記載の光磁気記録媒体におい
て、前記磁気マスク層が、(Gd0.11Fe0.89XAl
1-Xなる組成式で表され、X(atom比)が0.30以
上1.00以下であることを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium.
10. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer is made of (Gd 0.11 Fe 0.89 ) X Al.
It is represented by a composition formula of 1-X , wherein X (atom ratio) is 0.30 or more and 1.00 or less.

【0021】請求項11の光磁気記録媒体は、請求項7
乃至請求項10のいずれかに記載の光磁気記録媒体にお
いて、前記磁気マスク層のキュリー温度が60℃以上2
20℃以下であることを特徴とする。
[0021] The magneto-optical recording medium of claim 11 is claim 7.
11. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is 60 ° C. or higher.
It is characterized by being at most 20 ° C.

【0022】請求項12の光磁気記録媒体は、請求項1
または請求項2に記載の光磁気記録媒体において、前記
磁気マスク層は、少なくとも室温において前記記録層と
はトータル磁化の向きが反対方向を向く磁性層からなる
ことを特徴とする。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium.
Alternatively, in the magneto-optical recording medium according to claim 2, the magnetic mask layer is formed of a magnetic layer whose total magnetization direction is opposite to that of the recording layer at least at room temperature.

【0023】請求項13の光磁気記録媒体は、請求項1
2に記載の光磁気記録媒体において、前記記録層は、室
温からキュリー温度まで遷移金属リッチの希土類遷移金
属合金膜からなり、前記磁気マスク層は、少なくとも室
温で希土類金属リッチであり、前記磁気マスク層の遷移
金属副格子磁化の方向が前記記録層の遷移金属副格子磁
化の方向に従うように形成された希土類遷移金属合金か
らなる垂直磁化膜であることを特徴とする。
According to a thirteenth aspect of the present invention, there is provided the magneto-optical recording medium according to the first aspect.
3. The magneto-optical recording medium according to 2, wherein the recording layer is made of a transition metal-rich rare earth transition metal alloy film from room temperature to a Curie temperature, and the magnetic mask layer is at least room temperature at a rare earth metal rich. A perpendicular magnetization film made of a rare earth transition metal alloy formed such that the direction of the transition metal sublattice magnetization of the layer follows the direction of the transition metal sublattice magnetization of the recording layer.

【0024】請求項14の光磁気記録媒体は、請求項1
2または請求項13に記載の光磁気記録媒体において、
前記磁気マスク層は、高温において磁化が減少する磁性
膜からなることを特徴とする。
According to a fourteenth aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium.
2 or the magneto-optical recording medium according to claim 13,
The magnetic mask layer is made of a magnetic film whose magnetization decreases at a high temperature.

【0025】請求項15の光磁気記録媒体は、請求項1
2乃至請求項14のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層の室温におけるトータル磁化
が、前記記録層の室温におけるトータル磁化と略同一で
あることを特徴とする。
According to a fifteenth aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium.
15. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein a total magnetization of the magnetic mask layer at room temperature is substantially the same as a total magnetization of the recording layer at room temperature.

【0026】請求項16の光磁気記録媒体は、請求項1
2乃至請求項15のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録
層のキュリー温度より低いことを特徴とする。
[0026] The magneto-optical recording medium of claim 16 is claim 1.
16. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer.

【0027】請求項17の光磁気記録媒体は、請求項1
2乃至請求項16のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層の補償温度が、前記記録層の
キュリー温度よりも低いことを特徴とする。
[0027] The magneto-optical recording medium of claim 17 is claim 1.
17. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein a compensation temperature of the magnetic mask layer is lower than a Curie temperature of the recording layer.

【0028】請求項18の光磁気記録媒体は、請求項1
2乃至請求項17のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性
中間層、前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次
形成されてなることを特徴とする。
[0028] The magneto-optical recording medium of claim 18 is claim 1.
18. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein a transparent dielectric layer, the reproducing layer, the non-magnetic intermediate layer, the magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed on the substrate. It is characterized by becoming.

【0029】請求項19の光磁気記録媒体は、請求項1
8に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層
の膜厚が、10nm以上60nm以下であることを特徴
とする。
[0029] The magneto-optical recording medium of claim 19 is claim 1.
8. The magneto-optical recording medium according to 8, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 10 nm or more and 60 nm or less.

【0030】請求項20の光磁気記録媒体は、請求項1
2乃至請求項17のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性
中間層、前記記録層、前記磁気マスク層、保護層が順次
形成されてなることを特徴とする。
According to a twentieth aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical recording medium.
18. The magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein a transparent dielectric layer, the reproducing layer, the non-magnetic intermediate layer, the recording layer, the magnetic mask layer, and the protective layer are sequentially formed on the substrate. It is characterized by becoming.

【0031】請求項21の光磁気記録媒体は、請求項2
0に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層
の膜厚が、10nm以上80nm以下であることを特徴
とする。
The magneto-optical recording medium of claim 21 is claim 2
0, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 10 nm or more and 80 nm or less.

【0032】請求項22の光磁気記録媒体は、請求項1
8乃至請求項21のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層がGdDyFe合金、TbF
e合金、DyFe合金、GdFe合金、GdTbFe合
金、DyFeCo合金、TbFeCo合金のいずれかを
含む合金からなることを特徴とする。
[0032] The magneto-optical recording medium of claim 22 is claim 1.
22. The magneto-optical recording medium according to claim 8, wherein the magnetic mask layer is made of a GdDyFe alloy, TbF
e alloy, DyFe alloy, GdFe alloy, GdTbFe alloy, DyFeCo alloy, and TbFeCo alloy.

【0033】請求項23の光磁気記録媒体は、請求項1
8乃至請求項22のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層のキュリー温度が、80℃以
上220℃以下であることを特徴とする。
[0033] The magneto-optical recording medium of claim 23 is claim 1.
23. The magneto-optical recording medium according to claim 8, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is 80 ° C. or more and 220 ° C. or less.

【0034】請求項24の光磁気記録媒体は、請求項1
8乃至請求項23のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層の補償温度が、80℃以上2
20℃以下あることを特徴とする。
According to a twenty-fourth aspect of the present invention, there is provided the magneto-optical recording medium according to the first aspect.
24. The magneto-optical recording medium according to claim 8, wherein the compensation temperature of the magnetic mask layer is 80 ° C. or higher.
It is characterized by having a temperature of 20 ° C. or less.

【0035】請求項25の光磁気記録媒体は、請求項1
または請求項2に記載の光磁気記録媒体において、前記
磁気マスク層は、室温において面内磁化状態であり所定
温度以上で垂直磁化状態となる磁性膜であることを特徴
とする。
According to a twenty-fifth aspect of the present invention, there is provided the magneto-optical recording medium according to the first aspect.
Alternatively, in the magneto-optical recording medium according to claim 2, the magnetic mask layer is a magnetic film having an in-plane magnetization state at room temperature and a perpendicular magnetization state at a predetermined temperature or higher.

【0036】請求項26の光磁気記録媒体は、請求項2
5に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層
のキュリー温度が、前記記録層のキュリー温度より低い
ことを特徴とする。
[0036] The magneto-optical recording medium of claim 26 is claim 2.
5. The magneto-optical recording medium according to 5, wherein a Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than a Curie temperature of the recording layer.

【0037】請求項27の光磁気記録媒体は、請求項2
5または請求項26に記載の光磁気記録媒体において、
前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリー温
度より低いことを特徴とする。
[0037] The magneto-optical recording medium of claim 27 is claim 2.
5 or the magneto-optical recording medium according to claim 26,
The Curie temperature of the recording layer is lower than the Curie temperature of the reproducing layer.

【0038】請求項28の光磁気記録媒体は、請求項2
5乃至請求項27のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性
中間層、前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次
形成されてなることを特徴とする。
[0038] The magneto-optical recording medium of claim 28 is claim 2.
28. The magneto-optical recording medium according to claim 5, wherein a transparent dielectric layer, the reproducing layer, the non-magnetic intermediate layer, the magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed on the substrate. It is characterized by becoming.

【0039】請求項29の光磁気記録媒体は、請求項2
8に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層
の膜厚が、2nm以上40nm以下であることを特徴と
する。
The magneto-optical recording medium according to claim 29 is claim 2
9. The magneto-optical recording medium according to 8, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 2 nm or more and 40 nm or less.

【0040】請求項30の光磁気記録媒体は、請求項2
8または請求項29に記載の光磁気記録媒体において、
前記磁気マスク層は、GdFeCo、GdNdFe、G
dNdFeCo、GdTbFe、GdTbFeCo、G
dDyFeCo、GdDyFe、GdFeのいずれかの
合金からなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 30 is claim 2
8 or the magneto-optical recording medium according to claim 29,
The magnetic mask layer includes GdFeCo, GdNdFe, G
dNdFeCo, GdTbFe, GdTbFeCo, G
It is characterized by being made of any alloy of dDyFeCo, GdDyFe and GdFe.

【0041】請求項31の光磁気記録媒体は、請求項2
8乃至請求項30のいずれかに記載の光磁気記録媒体に
おいて、前記磁気マスク層が、GdX(Fe0.80Co
0.201-Xなる組成式で表され、X(atom比)が0.
10以上0.35以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 31 is claim 2
31. The magneto-optical recording medium according to claim 8, wherein the magnetic mask layer is formed of Gd x (Fe 0.80 Co
0.20 ) It is represented by a composition formula of 1-X , wherein X (atom ratio) is 0.1.
It is characterized by being 10 or more and 0.35 or less.

【0042】請求項32の光磁気記録媒体は、請求項
7,請求項18,請求項20または請求項28に記載の
光磁気記録媒体において、前記再生層の膜厚が、10n
m以上80nm以下であることを特徴とする。
A magneto-optical recording medium according to claim 32 is the magneto-optical recording medium according to claim 7, 18, 20, or 28, wherein the thickness of the reproducing layer is 10n.
m or more and 80 nm or less.

【0043】請求項33の光磁気記録媒体は、請求項
7,請求項18,請求項20または請求項28に記載の
光磁気記録媒体において、前記非磁性中間層の膜厚が、
1nm以上80nm以下であることを特徴とする。
A magneto-optical recording medium according to claim 33 is the magneto-optical recording medium according to claim 7, 18, 20, or 28, wherein the thickness of the non-magnetic intermediate layer is:
The thickness is 1 nm or more and 80 nm or less.

【0044】請求項34の光磁気記録媒体は、請求項
7,請求項18,請求項20または請求項28に記載の
光磁気記録媒体において、前記非磁性中間層の前記記録
層側に、反射層が前記非磁性中間層に隣接して形成され
ていることを特徴とする。
A magneto-optical recording medium according to claim 34 is the magneto-optical recording medium according to claim 7, 18, 20, or 28, wherein the non-magnetic intermediate layer has a reflection on the recording layer side. A layer is formed adjacent to the non-magnetic intermediate layer.

【0045】請求項35の光磁気記録媒体は、請求項3
4に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAl
からなり、その膜厚が2nm以上40nm以下であるこ
とを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 35 is claim 3
5. The magneto-optical recording medium according to 4, wherein the reflective layer is made of Al.
And a film thickness of 2 nm or more and 40 nm or less.

【0046】請求項36の光磁気記録媒体は、請求項3
4に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAl
と磁性金属との合金からなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 36 is claim 3.
5. The magneto-optical recording medium according to 4, wherein the reflective layer is made of Al.
And a magnetic metal.

【0047】請求項37の光磁気記録媒体は、請求項3
6に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層が、A
1-XFeXなる組成式で表され、X(atom比)が
0.02以上0.50以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 37 is claim 3.
6. The magneto-optical recording medium according to 6, wherein the reflective layer is
It is represented by a composition formula of l 1-x Fe x , wherein X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less.

【0048】請求項38の光磁気記録媒体は、請求項3
6に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層が、A
1-XNiXなる組成式で表され、X(atom比)が
0.02以上0.50以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 38 is claim 3
6. The magneto-optical recording medium according to 6, wherein the reflective layer is
It is represented by a composition formula of l 1 -X Ni X , wherein X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less.

【0049】請求項39の光磁気記録媒体は、請求項3
4に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAl
と非磁性金属との合金からなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 39 is claim 3
5. The magneto-optical recording medium according to 4, wherein the reflective layer is made of Al.
And a nonmagnetic metal alloy.

【0050】請求項40の光磁気記録媒体は、請求項3
9に記載の光磁気記録媒体において、前記非磁性金属が
Ti、Ta、Pt、Au、Cu、Siのいずれかの元素
であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 40 is claim 3.
9. The magneto-optical recording medium according to 9, wherein the non-magnetic metal is any one of Ti, Ta, Pt, Au, Cu, and Si.

【0051】請求項41の光磁気記録媒体は、請求項3
9に記載の光磁気記録媒体において、前記非磁性金属が
Al1-XTiXなる組成式で表され、X(atom比)が
0.02以上0.98以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of claim 41 is claim 3
9. The magneto-optical recording medium according to 9, wherein the nonmagnetic metal is represented by a composition formula of Al 1-x Ti x , and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.98 or less.

【0052】請求項42の光磁気記録媒体は、請求項
7,請求項18,請求項20または請求項28に記載の
光磁気記録媒体において、前記保護層に対して前記基板
の反対側に、放熱層が形成されていることを特徴とす
る。
A magneto-optical recording medium according to claim 42 is the magneto-optical recording medium according to claim 7, 18, 20, or 28, wherein: The heat radiation layer is formed.

【0053】請求項43の光磁気記録媒体は、請求項1
乃至請求項42のいずれかに記載の光磁気記録媒体にお
いて、前記再生層は、室温で面内磁化状態であり、高温
で垂直磁化状態となることを特徴とする。
[0053] The magneto-optical recording medium of claim 43 is claim 1.
43. The magneto-optical recording medium according to claim 42, wherein the reproducing layer has an in-plane magnetization state at room temperature and a perpendicular magnetization state at high temperature.

【0054】請求項44の光磁気記録媒体は、請求項
1,請求項2,請求項3,請求項12または請求項25
に記載の光磁気記録媒体において、前記再生層は、Co
とPtを交互に積層した多層膜からなることを特徴とす
る。
[0054] The magneto-optical recording medium of claim 44 is claim 1, claim 2, claim 3, claim 12 or claim 25.
In the magneto-optical recording medium described in the above, the reproducing layer is made of Co
And Pt are alternately laminated.

【0055】請求項45の光磁気記録媒体の再生方法
は、請求項1乃至請求項44に記載の光磁気記録媒体か
ら情報を再生する再生方法であって、信号再生時に、前
記光磁気記録媒体に光ビームをパルス状に照射すること
を特徴とする。
A method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 45 is a reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to any one of claims 1 to 44, wherein the magneto-optical recording medium is reproduced when a signal is reproduced. Is irradiated with a light beam in a pulse shape.

【0056】請求項46の光磁気記録媒体の再生方法
は、請求項3または請求項14に記載の光磁気記録媒体
から情報を再生する再生方法であって、再生時に前記光
磁気記録媒体に光ビームを照射して、前記磁気マスク層
をそのキュリー温度近傍以上に加熱することを特徴とす
る。
A reproducing method of a magneto-optical recording medium according to claim 46 is a reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 3 or 14, wherein the reproducing method includes the steps of: The method is characterized in that the magnetic mask layer is heated to a temperature close to its Curie temperature by irradiating a beam.

【0057】請求項47の光磁気記録媒体の再生方法
は、請求項25に記載の光磁気記録媒体から情報を再生
する再生方法であって、再生時に前記光磁気記録媒体に
光ビームを照射して、前記磁気マスク層を前記所定温度
以上に加熱することを特徴とする。
A reproducing method for a magneto-optical recording medium according to claim 47 is a reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein the magneto-optical recording medium is irradiated with a light beam during reproduction. And heating the magnetic mask layer to the predetermined temperature or higher.

【0058】請求項48の光磁気記録媒体は、請求項1
乃至請求項7のいずれかに記載の光磁気記録媒体におい
て、前記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなる
ものである。
The magneto-optical recording medium of claim 48 is the first invention.
8. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer.

【0059】請求項49の光磁気記録媒体は、請求項2
5乃至請求項28に記載の光磁気記録媒体において、前
記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなるもので
ある。
The magneto-optical recording medium of claim 49 is claim 2
The magneto-optical recording medium according to any one of claims 5 to 28, wherein the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer.

【0060】請求項50の光磁気記録媒体は、請求項4
8または請求項49に記載の光磁気記録媒体において、
前記磁気マスク層と前記記録層との間に非磁性中間層が
形成されており、該非磁性中間層の膜厚が、2nm以上
80nm以下であるものである。
[0060] The magneto-optical recording medium of claim 50 is claim 4.
The magneto-optical recording medium according to claim 8 or 49,
A non-magnetic intermediate layer is formed between the magnetic mask layer and the recording layer, and the thickness of the non-magnetic intermediate layer is 2 nm or more and 80 nm or less.

【0061】[0061]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(実施の形態1)以下、本発明の実施の形態1を図面を
用いて詳細に説明する。
(Embodiment 1) Hereinafter, Embodiment 1 of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0062】図1に本発明の光磁気ディスクの再生原理
を、図16に従来の光磁気ディスクの再生原理を説明す
る光磁気記録媒体の断面図を示す。
FIG. 1 is a sectional view of a magneto-optical recording medium illustrating the principle of reproduction of the magneto-optical disk of the present invention, and FIG. 16 is a cross-sectional view illustrating the principle of reproduction of a conventional magneto-optical disk.

【0063】まず、従来の超解像再生動作について説明
する。従来の再生方式は図16に示すように、記録層4
から発生する磁界を、再生層1で受け、再生層1の磁区
に転写するものである。このため、少なくとも温度上昇
した時点では垂直磁化状態となる希土類金属と遷移金属
との合金からなる再生層1と、室温に補償温度を有する
希土類金属と遷移金属との合金からなる記録層4との間
に非磁性中間層2が形成され、再生層1と記録層4とが
静磁結合した構成である。
First, a conventional super-resolution reproducing operation will be described. In the conventional reproducing method, as shown in FIG.
Is reproduced by the reproducing layer 1 and transferred to a magnetic domain of the reproducing layer 1. For this reason, at least when the temperature rises, the reproducing layer 1 made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal, which is in a perpendicular magnetization state, and the recording layer 4 made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal having a compensation temperature at room temperature. A non-magnetic intermediate layer 2 is formed therebetween, and the reproducing layer 1 and the recording layer 4 are magnetostatically coupled.

【0064】ここで、光ビーム5が再生層側から集光照
射されると、媒体には光ビーム5の強度分布に対応した
ガウシアン分布状の温度分布が形成される。この温度分
布の形成に伴い、記録層4の磁化が増大して記録層4か
ら発生する磁界が増大して、その磁界により再生層1の
磁化方向が決定される、すなわち、再生層1に記録層4
の磁化が転写される。この転写された部分の情報が再生
されることにより、超解像再生動作が実現する。
Here, when the light beam 5 is condensed and irradiated from the reproducing layer side, a Gaussian distribution temperature distribution corresponding to the intensity distribution of the light beam 5 is formed on the medium. With the formation of this temperature distribution, the magnetization of the recording layer 4 increases and the magnetic field generated from the recording layer 4 increases, and the magnetization direction of the reproducing layer 1 is determined by the magnetic field. Layer 4
Is transferred. By reproducing the information of the transferred portion, a super-resolution reproducing operation is realized.

【0065】この再生方法において、図2(a)に示す
ように、再生層1において存在する磁区の大きさを、例
えば再生用レーザーとして波長680nmのものを使用
する場合にはそのビームスポットサイズの1μm程度の
大きさに設定して、記録層4の磁区の大きさよりも大き
くすれば、再生時において再生層1から発生する信号が
増大することになる。
In this reproducing method, as shown in FIG. 2A, the size of the magnetic domain existing in the reproducing layer 1 is adjusted to the beam spot size when a laser having a wavelength of 680 nm is used as a reproducing laser. If the size is set to about 1 μm and larger than the size of the magnetic domain of the recording layer 4, the signal generated from the reproducing layer 1 at the time of reproducing increases.

【0066】しかしながら、再生層1における磁化の方
向は記録層4からの磁界により決定されるものであり、
記録層4に高密度に情報が記録された場合には、以下に
示すように、記録層4からの磁化転写が良好に行えなく
なる。すなわち、図2(a)のように全面消去状態で孤
立ビット100が形成された状態では再生層1における
垂直磁化の方向がその孤立ビット100からの磁界の影
響のみを受けるため有効に機能するが、高密度に記録し
た場合、図2(b)に示すように隣接記録ビット101
の影響が出てくる。隣接ビット101の磁化方向は記録
ビット100の逆方向を向いているため、本来再生すべ
き磁化が弱まり、磁気転写及び磁気拡大が著しく困難に
なる。このため、目的とする範囲の情報が正しく再生で
きず、外部の浮遊磁界等の影響を受けやすくなる。
However, the direction of magnetization in the reproducing layer 1 is determined by the magnetic field from the recording layer 4.
When information is recorded on the recording layer 4 at a high density, the magnetization transfer from the recording layer 4 cannot be performed well as described below. That is, in the state where the isolated bits 100 are formed in the entire erase state as shown in FIG. 2A, the direction of the perpendicular magnetization in the reproducing layer 1 is effectively affected by only the influence of the magnetic field from the isolated bits 100. When recording is performed at a high density, the adjacent recording bit 101 is recorded as shown in FIG.
The effect comes out. Since the magnetization direction of the adjacent bit 101 is opposite to that of the recording bit 100, the magnetization to be originally reproduced is weakened, and magnetic transfer and magnetic expansion become extremely difficult. For this reason, information in a target range cannot be correctly reproduced, and the information is easily affected by an external floating magnetic field or the like.

【0067】一方、図1に示す本発明の磁区拡大光磁気
記録媒体においては、記録層4に隣接して、面内磁化層
3(請求項における磁気マスク層)が形成されており、
面内磁化層3により記録層4の内の所定温度(以下、臨
界温度と記す)以上に加熱されていないの部分11から
の磁化をマスクする。すなわち、面内磁化層3により、
記録層4の上記部分11の磁化が再生層1に影響を与え
ることを防止する(部分11から発生する磁束の再生層
1への漏洩を抑制する)。要するに、記録層4と再生層
1との磁気結合力を抑制する。
On the other hand, in the magnetic domain enlarged magneto-optical recording medium of the present invention shown in FIG. 1, an in-plane magnetic layer 3 (a magnetic mask layer in the claims) is formed adjacent to the recording layer 4.
The in-plane magnetization layer 3 masks the magnetization from the portion 11 of the recording layer 4 that is not heated to a predetermined temperature (hereinafter, referred to as a critical temperature) or higher. That is, by the in-plane magnetization layer 3,
This prevents the magnetization of the portion 11 of the recording layer 4 from affecting the reproducing layer 1 (suppresses leakage of the magnetic flux generated from the portion 11 to the reproducing layer 1). In short, the magnetic coupling force between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 is suppressed.

【0068】このように、磁気マスクを実現することに
より、臨界温度以上の部分のみのマスクをはずすことが
可能となり、図1に示すように再生層1において存在す
る磁区の大きさが記録磁区の大きさよりも大きい場合に
おいても、記録層4において臨界温度以上に加熱された
所望の記録磁区のみの情報を再生することが可能とな
る。
As described above, by realizing the magnetic mask, it is possible to remove the mask only at a portion higher than the critical temperature, and as shown in FIG. 1, the size of the magnetic domain existing in the reproducing layer 1 is smaller than that of the recording magnetic domain. Even in the case where the size is larger than the size, it is possible to reproduce only information of a desired recording magnetic domain heated to a critical temperature or higher in the recording layer 4.

【0069】ここで、面内磁化層3は、上記臨界温度以
上に加熱された部分における記録層4と再生層1の静磁
結合を有効に働かせるため、臨界温度以上の温度におい
て、磁化を持たないか、あるいは、磁化の大きさが臨界
温度以下の温度における磁化の大きさに比較して小さい
ことが望ましく、また、面内磁化層3のキュリー温度は
記録層4のキュリー温度よりも低いことが望ましい。さ
らに、室温において記録層4からの磁束が再生層1に影
響を与えることを抑制するため、室温において面内磁化
層3の磁化の大きさは記録層4の磁化の大きさよりも大
きいことが望ましい。
Here, the in-plane magnetic layer 3 has magnetization at a temperature higher than the critical temperature in order to effectively work the magnetostatic coupling between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 in a portion heated above the critical temperature. It is preferable that the magnetization is not present or the magnetization is smaller than the magnetization at a temperature lower than the critical temperature, and the Curie temperature of the in-plane magnetic layer 3 is lower than the Curie temperature of the recording layer 4. Is desirable. Further, in order to suppress the magnetic flux from the recording layer 4 from affecting the reproducing layer 1 at room temperature, it is desirable that the magnitude of the magnetization of the in-plane magnetization layer 3 be larger than the magnitude of the magnetization of the recording layer 4 at room temperature. .

【0070】また、再生層1は、レーザービームで再生
される際、磁区の大きさが大きい方が信号量が増え、ノ
イズの原因が少なくなるため、好ましい。また、記録層
4からの磁界に応じて、磁壁が動く必要があり、保磁力
の小さい特性が有利である。
When the reproducing layer 1 is reproduced with a laser beam, it is preferable that the size of the magnetic domain is large because the signal amount increases and the cause of noise is reduced. In addition, the domain wall needs to move according to the magnetic field from the recording layer 4, and a characteristic having a small coercive force is advantageous.

【0071】また、この光磁気記録媒体から情報を再生
する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去していく
ことが、スムーズな再生動作につながるため、再生用の
レーザービームをパルス発光させれば、レーザーが消光
している間に磁区を消滅させるとともに、レーザーが発
光している間に媒体温度を上昇させて、再生層に記録層
の記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生
信号品質をより高品質とすることができる。
When information is reproduced from this magneto-optical recording medium, once the magnetic domains formed in the reproducing layer 1 are erased, which leads to a smooth reproducing operation, the reproducing laser beam is pulsed. When light is emitted, the magnetic domains are extinguished while the laser is extinguished, and the medium temperature is raised while the laser is emitting, and the recording magnetic domains of the recording layer are transferred to the reproducing layer for signal reproduction. And the quality of the reproduced signal can be made higher.

【0072】本発明の実施の形態1について図3に基づ
いて、より具体的に説明すれば以下の通りである。な
お、以下では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを
適用した場合について説明する。
The first embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to FIG. Hereinafter, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0073】本実施の形態に係る光磁気ディスクは、図
3に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、
非磁性中間層2、面内磁化層3、記録層4、保護層8、
オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク
本体を有している。
As shown in FIG. 3, the magneto-optical disk according to this embodiment has a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1,
Non-magnetic intermediate layer 2, in-plane magnetization layer 3, recording layer 4, protective layer 8,
The overcoat layer 9 has a disk body laminated in this order.

【0074】このような光磁気ディスクでは、その記録
方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半
導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズによ
り再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られてい
る光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっ
ている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化に
より、反射光の偏光面の回転の向きが回転する現象で、
磁化の向きで回転方向が変わる現象である。
In such a magneto-optical disk, a Curie temperature recording method is used as a recording method, and a light beam 5 emitted from a semiconductor laser is focused on the reproducing layer 1 by an objective lens, which is known as a polar Kerr effect. Information is recorded and reproduced by the magneto-optical effect. The polar Kerr effect is a phenomenon in which the direction of rotation of the polarization plane of reflected light is rotated by magnetization perpendicular to the incident surface.
This is a phenomenon in which the direction of rotation changes depending on the direction of magnetization.

【0075】基板6は、例えばポリカーボネート等の透
明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The substrate 6 is made of, for example, a transparent substrate such as polycarbonate and is formed in a disk shape.

【0076】透明誘電体層7は、AlN、SiN、Al
SiN、TiO2等の屈折率の大きな材料で構成される
ことが望ましく、その膜厚は、入射するレーザ光に対し
て、良好な干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大
すべく設定される必要があり、再生光の波長をλ、透明
誘電体層7の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の
膜厚は(λ/4n)程度に設定される。例えば、レーザ
光の波長を680nmとした場合、透明誘電体層7の膜
厚を30nm〜100nm程度に設定すれば良い。
The transparent dielectric layer 7 is made of AlN, SiN, Al
It is desirable to use a material having a large refractive index such as SiN or TiO 2 , and the film thickness is set so as to realize a good interference effect on the incident laser light and to increase the Kerr rotation angle of the medium. When the wavelength of the reproduction light is λ and the refractive index of the transparent dielectric layer 7 is n, the thickness of the transparent dielectric layer 7 is set to about (λ / 4n). For example, when the wavelength of the laser light is 680 nm, the thickness of the transparent dielectric layer 7 may be set to about 30 nm to 100 nm.

【0077】再生層1は、希土類遷移金属合金からなる
磁性膜であり、その磁気特性が、室温において面内磁化
状態であり、温度上昇にともない垂直磁化状態となるよ
うに組成調整されている。
The reproducing layer 1 is a magnetic film made of a rare earth transition metal alloy, and its composition is adjusted so that its magnetic properties are in an in-plane magnetization state at room temperature and become a perpendicular magnetization state as the temperature rises.

【0078】非磁性中間層2は、AlN、SiN、Al
SiN等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等
の非磁性金属合金の1層、または上記誘電体と上記金属
の2層からなり、再生層1と記録層4とが静磁結合すべ
く、そのトータル膜厚が1〜80nmに設定されてい
る。
The nonmagnetic intermediate layer 2 is made of AlN, SiN, Al
The reproducing layer 1 and the recording layer 4 are composed of one layer of a dielectric such as SiN, one layer of a nonmagnetic metal alloy such as Al, Ti, and Ta, or two layers of the dielectric and the metal. The total film thickness is set to 1 to 80 nm for coupling.

【0079】面内磁化層3は、希土類遷移金属合金、ま
たは、希土類金属、または、遷移金属を主成分とする磁
性膜であり、膜面に水平な方向に磁化を有する膜であ
る。図1において説明したように、面内磁化層3は、臨
界温度以下の温度で記録層4の垂直磁化から発生する磁
界を面内磁化でマスクし、再生層1への磁界の漏洩を防
ぐ。臨界温度以上においては、磁化のマスク効果を失
い、記録層4から発生する磁束が再生層へ透過しやすく
なるように、組成調整されている。
The in-plane magnetic layer 3 is a magnetic film mainly composed of a rare earth transition metal alloy or a rare earth metal or a transition metal, and has a magnetization in a direction parallel to the film surface. As described in FIG. 1, the in-plane magnetic layer 3 masks the magnetic field generated from the perpendicular magnetization of the recording layer 4 at the temperature equal to or lower than the critical temperature by the in-plane magnetization, thereby preventing the leakage of the magnetic field to the reproducing layer 1. Above the critical temperature, the composition is adjusted so that the mask effect of magnetization is lost and the magnetic flux generated from the recording layer 4 is easily transmitted to the reproducing layer.

【0080】記録層4は、希土類遷移金属合金からなる
垂直磁化膜からなり、その膜厚が、20〜80nmの範
囲に設定されている。
The recording layer 4 is composed of a perpendicular magnetization film made of a rare earth transition metal alloy, and its thickness is set in the range of 20 to 80 nm.

【0081】保護層8は、AlN、SiN、AlSi
N、SiC等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の
非磁性金属合金からなり、再生層1や記録層4に用いる
希土類遷移金属合金の酸化を防止する目的で形成される
ものであり、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定
されている。
The protective layer 8 is made of AlN, SiN, AlSi
It is made of a dielectric material such as N or SiC or a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti or Ta, and is formed for the purpose of preventing the rare earth transition metal alloy used for the reproducing layer 1 and the recording layer 4 from being oxidized. And its film thickness is set in the range of 5 nm to 60 nm.

【0082】オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂ま
たは熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線
を照射するか、または、加熱するかによって形成され
る。
The overcoat layer 9 is formed by applying an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin by spin coating, and irradiating ultraviolet rays or heating.

【0083】以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例
について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて
説明する。
Hereinafter, a specific example of the magneto-optical disk having the above-described configuration will be described with respect to (1) a forming method and (2) recording / reproducing characteristics.

【0084】(1)形成方法 まず、Alターゲットと、GdFeCo合金ターゲット
と、GdFeAl合金ターゲットと、GdDyFeCo
合金ターゲットとをそれぞれ備えたスパッタ装置内に、
プリグルーブ及びプリピットを有しディスク状に形成さ
れたポリカーボネート製の基板6を基板ホルダーに配置
する。スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排
気した後、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alタ
ーゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torr
の条件で、基板6にAlNからなる透明誘電体層7を膜
厚80nmで形成した。
(1) Formation Method First, an Al target, a GdFeCo alloy target, a GdFeAl alloy target, and a GdDyFeCo
In the sputtering device equipped with each alloy target,
A polycarbonate substrate 6 having a pregroove and prepits and formed in a disk shape is placed on a substrate holder. After the inside of the sputtering apparatus was evacuated to 1 × 10 −6 Torr, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and the gas pressure was 4 × 10 −3 Torr.
Under the conditions described above, a transparent dielectric layer 7 made of AlN was formed on the substrate 6 to a thickness of 80 nm.

【0085】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧
4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、G
0.30(Fe0.80Co0.200.70からなる再生層1を膜
厚20nmで形成した。その再生層1は、室温において
面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態と
なる特性を有し、その補償温度が300℃、そのキュリ
ー温度が320℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
Electric power is supplied to the GdFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and G
A reproducing layer 1 made of d 0.30 (Fe 0.80 Co 0.20 ) 0.70 was formed with a thickness of 20 nm. The reproducing layer 1 had a property of being in an in-plane magnetization state at room temperature, and having a property of being a perpendicular magnetization state at a temperature of 120 ° C., its compensation temperature was 300 ° C., and its Curie temperature was 320 ° C.

【0086】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、再生層1上にAlNからなる非磁
性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, power is supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a nonmagnetic intermediate layer 2 of AlN was formed on the reproducing layer 1 to a thickness of 20 nm.

【0087】次に、GdFeAl合金ターゲットに電力
を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁
性中間層2上に、(Gd0.11Fe0.890.75Al0.25
らなる面内磁化層3を膜厚30nmで形成した。その面
内磁化層3は、キュリー温度が120℃であり、室温か
らキュリー温度まで、膜面に平行な方向に磁化を有する
面内磁化層であった。
Next, an electric power is supplied to the GdFeAl alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and an in-plane magnetic layer made of (Gd 0.11 Fe 0.89 ) 0.75 Al 0.25 is formed on the nonmagnetic intermediate layer 2. 3 was formed with a thickness of 30 nm. The in-plane magnetic layer 3 had a Curie temperature of 120 ° C. and had magnetization in a direction parallel to the film surface from room temperature to the Curie temperature.

【0088】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdDyFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガ
ス圧4×10-3Torrとし、上記面内磁化層3上に、
(Gd0.50Dy0.500.23(Fe0.80Co0.200.77
らなる記録層4を膜厚40nmで形成した。その記録層
4は、25℃に補償温度を有し、キュリー温度が275
℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
Electric power is supplied to the GdDyFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and on the in-plane magnetization layer 3,
A recording layer 4 of (Gd 0.50 Dy 0.50 ) 0.23 (Fe 0.80 Co 0.20 ) 0.77 was formed with a thickness of 40 nm. The recording layer 4 has a compensation temperature of 25 ° C. and a Curie temperature of 275.
° C.

【0089】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護
層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, power is supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a protective layer 8 of AlN was formed on the recording layer 4 to a thickness of 20 nm.

【0090】次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂
をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射すること
によりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied on the protective layer 8 by spin coating, and irradiated with ultraviolet rays to form an overcoat layer 9.

【0091】(2)記録再生特性 上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)の
マーク長依存性を図4に示す。なお、ここでは上記した
本実施の形態の光磁気記録媒体を実施例1として示して
いる。
(2) Recording / Reproducing Characteristics FIG. 4 shows the mark length dependence of the CNR (signal to noise ratio) of the above disk measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Here, the above-described magneto-optical recording medium of the present embodiment is shown as Example 1.

【0092】また、比較のため、面内磁化層3の存在し
ない構成の光磁気ディスクのCNRのマーク長依存性も
比較例1として同図に記載する。なお面内磁化層の存在
しない光磁気ディスクの媒体は、本実施の形態の媒体構
成において、面内磁化層3を取り除いた構成である。ま
た、ここで示すCNRのマーク長依存性は、マーク長に
対応する長さの記録磁区をマーク長の2倍の長さの記録
磁区ピッチで連続形成した時の信号対雑音比を表すもの
である。
For comparison, the mark length dependence of the CNR of a magneto-optical disk having no in-plane magnetic layer 3 is also shown in FIG. The medium of the magneto-optical disk having no in-plane magnetic layer has a configuration in which the in-plane magnetic layer 3 is removed from the medium configuration of the present embodiment. The mark length dependency of the CNR shown here indicates a signal-to-noise ratio when a recording magnetic domain having a length corresponding to the mark length is continuously formed at a recording magnetic domain pitch twice as long as the mark length. is there.

【0093】マーク長0.3μmの両者のCNRを比較
すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対し
て、実施例1の場合41.5dBと7.5dBのCNR増
加が観測されている。これは、面内磁化層3により、記
録層4に対する磁化マスクが効き、再生分解能が上がっ
たことによるものである。
When the CNRs of both the marks having a mark length of 0.3 μm are compared, the CNRs of Comparative Example 1 are 34.0 dB, whereas the CNRs of Example 1 are 41.5 dB and 7.5 dB, respectively. ing. This is due to the fact that the magnetization mask for the recording layer 4 was effective by the in-plane magnetization layer 3 and the reproduction resolution was improved.

【0094】次に、表1は、実施例1における再生層1
と面内磁化層3の膜厚を変えて、0.3μmでのCNR
を測定した結果を示すものである。
Next, Table 1 shows the reproduction layer 1 in Example 1.
And the thickness of the in-plane magnetic layer 3 were changed, and the CNR at 0.3 μm was changed.
3 shows the results of the measurement.

【0095】[0095]

【表1】 [Table 1]

【0096】表1において、面内磁化層膜厚0nmは、
面内磁化層3を形成していない比較例1の結果を示して
いる。面内磁化層3の膜厚を2nmと極めて薄くした場
合においても、面内磁化マスクの強化が実現することに
より、CNRが1dB上昇する。面内磁化層3の膜厚と
しては、30nmまで面内磁化マスクの強化が実現する
ことにより、CNRが上昇して行くが、それ以上厚くす
るとCNRは低下する。これは、記録層と再生層の間が
離れてしまうこと。面内磁化マスクが強化され過ぎ、磁
気的なアパーチャーが開きにくくなっている影響を受け
て、再生層の完全な垂直磁化状態が得られなくなること
によるものであると考えられる。以上のことより、比較
例1よりも高いCNRの得られる面内磁化層3の膜厚
は、2〜40nmの範囲であることが分かる。
In Table 1, the in-plane magnetic layer thickness of 0 nm corresponds to
The result of Comparative Example 1 in which the in-plane magnetization layer 3 is not formed is shown. Even when the thickness of the in-plane magnetic layer 3 is extremely thin, such as 2 nm, the strengthening of the in-plane magnetic mask increases the CNR by 1 dB. As the thickness of the in-plane magnetic layer 3 is increased up to 30 nm, the strengthening of the in-plane magnetic mask increases the CNR. However, if the thickness is further increased, the CNR decreases. This means that the recording layer and the reproduction layer are separated. This is considered to be due to the fact that the in-plane magnetization mask was excessively strengthened and the magnetic aperture became difficult to open, so that a perfect perpendicular magnetization state of the reproducing layer could not be obtained. From the above, it is understood that the film thickness of the in-plane magnetic layer 3 in which the CNR is higher than that of Comparative Example 1 is in the range of 2 to 40 nm.

【0097】また、再生層1の膜厚を8nmにすると、
再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低
くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を120nm
にすると、再生層1に発生する磁壁エネルギーが増加
し、温度上昇した部分において完全な垂直磁化状態が得
られなくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなって
しまう。表1から、比較例1よりも高いCNRの得られ
る再生層1の膜厚は、10〜80nmの範囲であること
が分かる。
When the thickness of the reproducing layer 1 is set to 8 nm,
The reproduced signal becomes smaller, and its CNR becomes lower than that of Comparative Example 1. Further, the thickness of the reproducing layer 1 is set to 120 nm.
In this case, the domain wall energy generated in the reproducing layer 1 increases, and a complete perpendicular magnetization state cannot be obtained in a portion where the temperature is increased, and its CNR becomes lower than that in Comparative Example 1. From Table 1, it can be seen that the thickness of the reproducing layer 1 having a higher CNR than that of Comparative Example 1 is in the range of 10 to 80 nm.

【0098】次に、表2は、実施例1における非磁性中
間層2の膜厚を変えて、0.3μmでのCNR、及び、
消去に必要な磁界(消去磁界)を測定した結果を示すも
のである。
Next, Table 2 shows that the CNR at 0.3 μm and the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 in Example 1 were changed and
It shows the result of measuring the magnetic field required for erasing (erasing magnetic field).

【0099】[0099]

【表2】 [Table 2]

【0100】表2から、非磁性中間層2の膜厚が0.5
nmの場合、CNRが著しく低下していることがわか
る。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄すぎるため、良
好な静磁結合状態が得られなかったことによるものと考
えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nmの時、最大の
CNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が大きくなるに
つれて、静磁結合力が小さくなるとともにCNRが低下
していくことがわかる。上記比較例1よりも高いCNR
を得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜80nm
の範囲に設定する必要のあることがであることが分か
る。
As shown in Table 2, the thickness of the non-magnetic intermediate layer 2 was 0.5
In the case of nm, it can be seen that the CNR is significantly reduced. This is presumably because the nonmagnetic intermediate layer 2 was too thin to obtain a good magnetostatic coupling state. When the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is 1 nm, the maximum CNR is obtained, and as the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 increases, the magnetostatic coupling force decreases and the CNR decreases. . CNR higher than Comparative Example 1
In order to obtain, the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is 1 to 80 nm.
It is understood that it is necessary to set in the range of.

【0101】さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くする
ことにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さ
くなることにより、消去磁界が小さくなることがわか
る。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にする
ためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とするこ
とが更に望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2, the magnetostatic coupling force between the reproducing layer 1 and the recording layer 4 is reduced, and the erasing magnetic field is reduced. In order to keep the erasing magnetic field within a practical range of 31 kA / m or less, it is more desirable that the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 be 4 nm or more.

【0102】(実施の形態2)本実施の形態では、上記
した実施の形態1で示した光磁気ディスクの具体例にお
いて、面内磁化層3として異なる組成のものを用いた例
について説明する。
(Embodiment 2) In this embodiment, an example will be described in which the in-plane magnetic layer 3 having a different composition is used in the specific example of the magneto-optical disk shown in Embodiment 1 described above.

【0103】実施の形態1においては、面内磁化層3と
してキュリー温度が120℃の(Gd0.11Fe0.89
0.75Al0.25を用いた場合の記録再生特性を示したが、
本実施の形態においては、面内磁化層3のAl含有率を
変えて記録再生特性を調査した結果を記述する。
In the first embodiment, the in-plane magnetic layer 3 has a Curie temperature of 120 ° C. (Gd 0.11 Fe 0.89 ).
The recording and reproduction characteristics when 0.75 Al 0.25 was used were shown.
In the present embodiment, the results of investigating the recording / reproducing characteristics by changing the Al content of the in-plane magnetic layer 3 will be described.

【0104】表3は、面内磁化層3を膜厚30nmの
(Gd0.11Fe0.89XAl1-Xとして、X(atom
比)の値を変えて、面内磁化層3のキュリー温度T
C2と、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピック
アップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音
比)とを測定した結果を示すものである。
Table 3 shows that the in-plane magnetic layer 3 is (Gd 0.11 Fe 0.89 ) X Al 1-X having a film thickness of 30 nm, and X (atom)
Ratio), the Curie temperature T of the in-plane magnetic layer 3 is changed.
It shows the result of measuring C2 and the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm.

【0105】[0105]

【表3】 [Table 3]

【0106】表3において、面内磁化層3を形成してい
ない比較例1において得られたCNR(34.0dB)
よりも高いCNRが得られるのは、0.30<X<1.0
0の範囲であることがわかる。本実施の形態において用
いた再生層1は、実施の形態1と同じものであり、12
0℃の温度で垂直磁化状態となる。すなわち、面内磁化
層3は、120℃以下の温度において、記録層の磁界を
面内磁化マスクすることができればよく、面内磁化層3
のキュリー温度の最適値は、略120℃ということにな
る。しかし、本実施の形態に示すように、面内磁化層3
のキュリー温度が、60℃以上、220℃以下におい
て、比較例1よりも高いCNRが得られており、面内磁
化層のキュリー温度を60℃以上220℃以下とするこ
とにより、磁化マスクを形成することが可能となる。
In Table 3, the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the in-plane magnetic layer 3 was not formed.
Higher CNR is obtained when 0.30 <X <1.0
It can be seen that the range is 0. The reproducing layer 1 used in the present embodiment is the same as that of the first embodiment,
At a temperature of 0 ° C., the state becomes a perpendicular magnetization state. In other words, the in-plane magnetic layer 3 only needs to be able to mask the magnetic field of the recording layer at the temperature of 120 ° C. or less.
The optimal value of the Curie temperature is about 120 ° C. However, as shown in the present embodiment, the in-plane magnetization layer 3
When the Curie temperature is 60 ° C. or more and 220 ° C. or less, a higher CNR than that of Comparative Example 1 is obtained. It is possible to do.

【0107】また、本実施の形態においては、面内磁化
層3として、GdFeAlを用いた結果について記述し
ているが、上記キュリー温度範囲(60℃〜220℃)
で面内磁化であることを満足すればよく、他に、NdF
e、NdFeAl、DyFe、DyFeAlからなる面
内磁化層3を用いることが可能である。
Further, in the present embodiment, the result using GdFeAl as the in-plane magnetization layer 3 is described, but the Curie temperature range (60 ° C. to 220 ° C.) is used.
Suffices to satisfy the in-plane magnetization.
It is possible to use the in-plane magnetization layer 3 made of e, NdFeAl, DyFe, DyFeAl.

【0108】(実施の形態3)本実施の形態は、実施の
形態1の具体例において、面内磁化層3として他の材料
のものを用いた場合の例について説明する。
(Embodiment 3) In the present embodiment, an example in which another material is used as the in-plane magnetization layer 3 in the specific example of Embodiment 1 will be described.

【0109】実施の形態1においては、キュリー温度が
120℃の(Gd0.11Fe0.890.75Al0.25を用いた
場合の記録再生特性を示したが、本実施の形態において
は、面内磁化層3として、Al以外の金属元素を用いた
結果について記述する。
In the first embodiment, the recording / reproducing characteristics when (Gd 0.11 Fe 0.89 ) 0.75 Al 0.25 having a Curie temperature of 120 ° C. is used. In the present embodiment, the in-plane magnetic layer 3 is used. Will be described as a result of using a metal element other than Al.

【0110】表4は、面内磁化層3に膜厚20nmの
(Gd0.11Fe0.890.750.25を用いた時の面内磁化
層3のキュリー温度TC2と、波長680nmの半導体レ
ーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでの
CNR(信号対雑音比)とを測定した結果を示すもので
ある。ここで、Zとしては、Ti、Ta、Pt、Au、
Cu、Al0.5Ti0.5、Al0.5Ta0.5を用いた。
Table 4 shows the Curie temperature T C2 of the in-plane magnetic layer 3 when (Gd 0.11 Fe 0.89 ) 0.75 Z 0.25 with a film thickness of 20 nm was used for the in-plane magnetic layer 3 and the semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. 4 shows the result of measuring the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by the optical pickup. Here, as Z, Ti, Ta, Pt, Au,
Cu, Al 0.5 Ti 0.5 , and Al 0.5 Ta 0.5 were used.

【0111】[0111]

【表4】 [Table 4]

【0112】表4より、Zとして、Ti、Ta、Pt、
Au、Cu、Al0.5Ti0.5、Al0.5Ta0.5を用いた
すべての場合において、比較例1よりも高いCNRが得
られていることがわかる。実施の形態2において記述し
たように、面内磁化層3のキュリー温度が60℃〜22
0℃の範囲にあればよく、他に、NdFeTi、NdF
eTa、DyFeTi、DyFeTaからなる面内磁化
層を用いることが可能である。
From Table 4, as Z, Ti, Ta, Pt,
It can be seen that in all cases using Au, Cu, Al 0.5 Ti 0.5 , and Al 0.5 Ta 0.5 , a higher CNR than that of Comparative Example 1 was obtained. As described in the second embodiment, the Curie temperature of in-plane magnetic layer 3 is 60 ° C. to 22 ° C.
The temperature may be in the range of 0 ° C., NdFeTi, NdF
It is possible to use an in-plane magnetization layer made of eTa, DyFeTi, and DyFeTa.

【0113】(実施の形態4)本発明の実施の形態4に
ついて図5に基づいて説明すれば以下の通りである。本
実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスク
を適用した場合について説明する。但し、実施の形態1
〜3と同一部分については説明を省略する。
(Embodiment 4) Embodiment 4 of the present invention is described below with reference to FIG. In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described. However, Embodiment 1
Descriptions of the same parts as those of Nos. 1 to 3 are omitted.

【0114】本実施の形態4に係る光磁気ディスクは、
図5に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層
1、非磁性中間層2、反射層10、面内磁化層3、記録
層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積
層されたディスク本体を有している。
The magneto-optical disk according to the fourth embodiment is
As shown in FIG. 5, the substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the non-magnetic intermediate layer 2, the reflective layer 10, the in-plane magnetic layer 3, the recording layer 4, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 It has disk bodies stacked in this order.

【0115】実施の形態1においては、面内磁化層3の
膜厚が10nmより小さくなった場合、再生層1と非磁
性中間層2とを透過した光ビーム5が記録層4により反
射され、再生信号に記録層4の情報が混入することにな
る。
In the first embodiment, when the thickness of the in-plane magnetic layer 3 is smaller than 10 nm, the light beam 5 transmitted through the reproducing layer 1 and the non-magnetic intermediate layer 2 is reflected by the recording layer 4, The information of the recording layer 4 is mixed in the reproduction signal.

【0116】本実施の形態4の光磁気ディスクは、実施
の形態1に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性中間
層2と面内磁化層3との間に、反射層10が形成された
構成を有している。このようにすることにより、再生層
1を透過した光ビーム5は反射層10により反射され、
再生信号に記録層4の不要な情報が混入することを防ぐ
ことが可能となる。
The magneto-optical disk according to the fourth embodiment is the same as the magneto-optical disk according to the first embodiment except that the reflection layer 10 is formed between the nonmagnetic intermediate layer 2 and the in-plane magnetic layer 3. have. By doing so, the light beam 5 transmitted through the reproduction layer 1 is reflected by the reflection layer 10, and
It is possible to prevent unnecessary information of the recording layer 4 from being mixed into the reproduction signal.

【0117】以下、本実施の形態の光磁気ディスクの具
体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分
けて説明する。
Hereinafter, a specific example of the magneto-optical disk according to the present embodiment will be described with respect to (1) a forming method and (2) recording / reproducing characteristics.

【0118】(1)形成方法 本実施の形態の光磁気ディスクは、実施の形態1の光磁
気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と面内
磁化層3との間に、Alからなる反射層10を形成して
おり、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間
層2、面内磁化層3、記録層4、保護層8、オーバーコ
ート層9は、実施の形態1と同様にして、再生層1の膜
厚を17.5nmとし、面内磁化層3の膜厚を7.5nm
として形成した。
(1) Forming Method The magneto-optical disk of this embodiment is the same as the method of forming a magneto-optical disk of Embodiment 1 except that the non-magnetic intermediate layer 2 and the in-plane magnetic layer 3 are made of Al. A reflective layer 10 is formed, and a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a non-magnetic intermediate layer 2, an in-plane magnetic layer 3, a recording layer 4, a protective layer 8, and an overcoat layer 9 As in the first embodiment, the thickness of the reproducing layer 1 is set to 17.5 nm, and the thickness of the in-plane magnetic layer 3 is set to 7.5 nm.
Formed.

【0119】ここで、Al反射層10は、非磁性中間層
2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6
orrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、A
lターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3To
rrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射
層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the non-magnetic intermediate layer 2, the Al reflective layer 10 is again exposed to 1 × 10 −6 T in the sputtering apparatus.
after evacuating to orr and introducing argon gas, A
l Supply power to the target and set the gas pressure to 4 × 10 -3 To
rr, a reflective layer 10 made of Al was formed on the nonmagnetic intermediate layer 2 with a thickness of 2 to 80 nm.

【0120】(2)記録再生特性 表5は、本実施の形態の光磁気ディスクにおける反射層
10の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを
用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR
(信号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / reproducing characteristics Table 5 shows that the thickness of the reflective layer 10 in the magneto-optical disk of the present embodiment was changed, and 0.3 μm was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. CNR
(Signal-to-noise ratio).

【0121】[0121]

【表5】 [Table 5]

【0122】表5において、反射層膜厚0nmは、反射
層10を形成していない比較例2の結果を示している。
反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合におい
ても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見られ、C
NRが1.0dB上昇する。反射層10の膜厚を厚くす
ることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜厚20
nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚増加に
伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより顕著に
なるためである。該膜厚30nm以上でCNRが低下し
ているが、記録層4と再生層1との距離が大きくなるこ
とにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなることによ
るものである。以上のことより、比較例2よりも高いC
NRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜50nm
の範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 5, the thickness of the reflective layer of 0 nm indicates the result of Comparative Example 2 in which the reflective layer 10 was not formed.
Even when the thickness of the reflective layer 10 is extremely thin, such as 2 nm, the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 can be seen.
The NR increases by 1.0 dB. By increasing the thickness of the reflective layer 10, the CNR gradually increases, and the thickness 20
The CNR becomes maximum at nm. This is because the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 becomes more remarkable as the thickness of the reflective layer increases. Although the CNR is reduced when the film thickness is 30 nm or more, the magnetostatic coupling force acting between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 becomes weaker as the distance between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 increases. From the above, C higher than Comparative Example 2 was obtained.
In order to obtain NR, the thickness of the reflective layer 10 is set to 2 to 50 nm.
It is understood that it is necessary to set within the range.

【0123】(実施の形態5)本実施の形態では、実施
の形態4の具体例における反射層10として異なる材料
のものを使用した場合について説明する。
(Embodiment 5) In this embodiment, a case where a different material is used as the reflective layer 10 in the specific example of Embodiment 4 will be described.

【0124】実施の形態4では、Alを用いた再生特性
について記述しているが、本実施の形態においては、そ
の記録特性を改善すべく、反射層10として、AlとA
l以外の金属との合金を用いた結果について記述する。
In the fourth embodiment, the reproduction characteristics using Al are described. However, in the present embodiment, in order to improve the recording characteristics, Al and A are used as the reflection layer 10.
The results using alloys with metals other than 1 will be described.

【0125】表6は、反射層10を膜厚20nmのAl
1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波長
680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測
定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁
界の大きさを示している。
Table 6 shows that the reflective layer 10 is made of Al having a thickness of 20 nm.
By changing the value of X (atom ratio) as 1-X Fe X , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm were measured. Is shown.

【0126】[0126]

【表6】 [Table 6]

【0127】表6より、Fe含有量が多くなるにしたが
って、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれ
て、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCN
Rも比較例2よりも大きく、反射層10を形成した効果
が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlから
なる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消
去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.5
0以下に設定することにより、消去磁界を小さくするこ
とが可能であった。
From Table 6, it can be seen that as the Fe content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases.
R is also larger than that of Comparative Example 2, and the effect of forming the reflective layer 10 can be seen. On the other hand, as for the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02 or more and 0.5 or more.
By setting the value to 0 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0128】次に、表7は、反射層10を膜厚20nm
のAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変え
て、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックア
ップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)
と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 7 shows that the reflective layer 10 was formed to a thickness of 20 nm.
The CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the value of X (atom ratio) as Al 1 -X Ni X of
And the magnitude of the erasing magnetic field.

【0129】[0129]

【表7】 [Table 7]

【0130】表7より、Feを含有した場合と同様に、
Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消
去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 7, it can be seen that, as with Fe,
By setting X to be 0.02 or more and 0.50 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0131】Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、D
y、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させるこ
とにより、消去磁界を小さくすることが可能である。
In addition to Fe and Ni, Co, Gd, Tb, D
By similarly including magnetic metals such as y and Nd in Al, the erasing magnetic field can be reduced.

【0132】(実施の形態6)本実施の形態では、実施
の形態4の具体例における反射層10として更に異なる
材料のものを用いた場合について説明する。
(Embodiment 6) In this embodiment, a case where a different material is used as the reflection layer 10 in the specific example of Embodiment 4 will be described.

【0133】実施の形態5においては、反射層10とし
て、Alに磁性金属元素を含有させた結果について記述
しているが、本実施の形態においては、Alに非磁性金
属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述す
る。
In the fifth embodiment, the result in which a magnetic metal element is contained in Al as the reflection layer 10 is described. However, in the present embodiment, the case where a non-magnetic metal element is contained in Al is described. This section describes the improvement of recording characteristics.

【0134】表8は、反射層10を膜厚20nmのAl
1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長
680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測
定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁
界の大きさを示している。
Table 8 shows that the reflective layer 10 was made of Al having a thickness of 20 nm.
By changing the value of X (atom ratio) as 1-X Ti X , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm were measured. Is shown.

【0135】[0135]

【表8】 [Table 8]

【0136】表8より、Ti含有量が多くなるにしたが
って、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれ
て、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCN
Rも比較例2よりも大きく、反射層10を形成した効果
が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlから
なる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消
去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.9
8以下に設定することにより、消去磁界を小さくするこ
とが可能であった。
From Table 8, it can be seen that as the Ti content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases.
R is also larger than that of Comparative Example 2, and the effect of forming the reflective layer 10 can be seen. On the other hand, when looking at the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02 or more and 0.9 or more.
By setting it to 8 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0137】次に、表9は、反射層10として、Ti以
外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減効
果について示すものであり、反射層10をAl0.50.5
として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合におけ
る、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックア
ップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)
と消去磁界の大きさを示している。
[0137] Next, Table 9, as the reflective layer 10, which shows the erasing magnetic field reduction effect when the content of the non-magnetic elements other than Ti to Al, the reflective layer 10 Al 0.5 Z 0.5
When Z is a non-magnetic metal other than Ti, the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm.
And the magnitude of the erasing magnetic field.

【0138】[0138]

【表9】 [Table 9]

【0139】表9より、Zとして非磁性金属であるT
a、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、い
ずれのCNRも比較例2よりも大きく、反射層10を形
成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、Al
にTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を小さくす
ることが可能であった。
From Table 9, it is found that Z is a nonmagnetic metal T
In the case where a, Pt, Au, Cu, and Si were used, all of the CNRs were larger than those in Comparative Example 2, and the effect of forming the reflective layer 10 was observed. On the other hand, looking at the erasing magnetic field,
It was possible to reduce the erasing magnetic field in the same manner as in the case where Ti was contained in the steel.

【0140】尚、以上の実施の形態1〜6では再生層1
として室温で面内磁化状態であり高温状態で垂直磁化状
態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再生領
域(再生時に所定温度(再生温度)以上に加熱された領
域)で垂直磁化状態となるものであれば使用することが
できる。
In the first to sixth embodiments, the reproducing layer 1
Although a magnetic layer that is in an in-plane magnetization state at room temperature and becomes a perpendicular magnetization state at a high temperature state is used, at least a signal reproduction region (a region heated to a predetermined temperature (reproduction temperature) or more during reproduction) has a perpendicular magnetization state. Can be used.

【0141】また、実施の形態1〜6では面内磁化層3
を使用しているが、この層の代わりに室温で面内磁化
状態であり高温で垂直磁化状態となる磁性層(実施の形
態11〜15参照)や、遷移金属副格子磁化の方向が
記録層4と同じ方向を向き、しかも遷移金属副格子磁化
と希土類金属副格子磁化の総和が記録層4と逆方向を向
く垂直磁化層(実施の形態7〜10参照)を使用するこ
とができる。さらに、実施の形態1〜6の面内磁化層3
や上記の磁性層は記録層4に隣接している必要はな
く、記録層4に静磁結合しているものであってもよい
(実施の形態16,17参照)。
In the first to sixth embodiments, the in-plane magnetization layer 3
However, instead of this layer, a magnetic layer (see Embodiments 11 to 15) which is in an in-plane magnetization state at room temperature and becomes a perpendicular magnetization state at high temperature instead of this layer, and the direction of the transition metal sublattice magnetization is a recording layer A perpendicular magnetic layer (see Embodiments 7 to 10) which faces in the same direction as that of the recording layer 4 and in which the sum of the transition metal sublattice magnetization and the rare earth metal sublattice magnetization is in the opposite direction to the recording layer 4 can be used. Further, the in-plane magnetization layer 3 of the first to sixth embodiments
The magnetic layer does not need to be adjacent to the recording layer 4 and may be magnetostatically coupled to the recording layer 4 (see Embodiments 16 and 17).

【0142】(実施の形態7)以下、本実施の形態を図
面を用いて詳細に説明する。
Embodiment 7 Hereinafter, this embodiment will be described in detail with reference to the drawings.

【0143】図6に本実施の形態の磁区拡大再生動作原
理を示す。
FIG. 6 shows the principle of the magnetic domain expansion reproduction operation of this embodiment.

【0144】本光磁気記録媒体では低温領域において記
録層から発生する磁界をそれと反対方向の磁界によって
打ち消す。例えば、図6に示す磁区拡大再生光磁気記録
媒体においては、記録層4に隣接して、希土類金属と遷
移金属との合金からなる遮断層3’(請求項における磁
気マスク層)が形成され交換結合している。遮断層3’
は室温で希土類金属副格子モーメントが遷移金属副格子
モーメントより大きく(希土類金属リッチ)、記録層4は
室温からキュリー温度まで遷移金属副格子モーメントが
希土類金属副格子モーメントより大きく(遷移金属リッ
チ)している。
In the present magneto-optical recording medium, the magnetic field generated from the recording layer in the low temperature region is canceled by the magnetic field in the opposite direction. For example, in the magnetic domain expansion reproduction magneto-optical recording medium shown in FIG. 6, a blocking layer 3 '(magnetic mask layer in the claims) made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal is formed adjacent to the recording layer 4 and exchanged. Are combined. Blocking layer 3 '
At room temperature, the rare earth metal sublattice moment is larger than the transition metal sublattice moment (rare earth metal rich), and the recording layer 4 has a transition metal sublattice moment larger than the rare earth metal sublattice moment from room temperature to the Curie temperature (transition metal rich). ing.

【0145】このような構成の本光磁気記録媒体では、
室温において、記録層4と遮断層3’とが交換結合して
おり、遷移金属副格子モーメントの向きが揃うため室温
では遮断層3’のトータルの磁化の向き(希土類金属副
格子モーメントの向き)と記録層4のトータルの磁化の
向き(遷移金属副格子モーメントの向き)は逆方向にな
る。本実施の形態の光磁気記録媒体において、再生層1
に影響を与える磁界の向きは、記録層4と遮断層3’を
合わせた全体の磁化の向きで決定される。したがって、
上記のような遮断層3’を用いれば、少なくとも室温に
おいて、記録層4からの磁界を遮断層3’の磁界により
減少させることができる。要するに、記録層4と再生層
1との磁気結合を抑制することができる。
In the present magneto-optical recording medium having such a configuration,
At room temperature, the recording layer 4 and the blocking layer 3 'are exchange-coupled and the transition metal sublattice moments are aligned, so that at room temperature, the total magnetization direction of the blocking layer 3' (the direction of the rare earth metal sublattice moment). And the total magnetization direction of the recording layer 4 (the direction of the transition metal sublattice moment) is opposite. In the magneto-optical recording medium of the present embodiment, the reproducing layer 1
The direction of the magnetic field that affects the magnetic field is determined by the overall magnetization direction of the recording layer 4 and the blocking layer 3 ′. Therefore,
By using the above-described blocking layer 3 ', the magnetic field from the recording layer 4 can be reduced by the magnetic field of the blocking layer 3' at least at room temperature. In short, the magnetic coupling between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 can be suppressed.

【0146】さらに、室温近傍の低温領域において、遮
断層3’のトータル磁化と記録層4のトータル磁化の大
きさを略同一としてバランスさせれば、再生層1へと漏
洩する磁束をほぼ0とすることができ、望ましい。
Further, in a low-temperature region near room temperature, if the magnitude of the total magnetization of the blocking layer 3 ′ and the magnitude of the total magnetization of the recording layer 4 are substantially the same and balanced, the magnetic flux leaking to the reproducing layer 1 becomes almost zero. Can be desirable.

【0147】一方、室温から温度上昇していくと、遮断
層3’は希土類金属副格子モーメントと遷移金属副格子
モーメントの大きさの差が小さくなりトータルの磁化が
減少するのに対し、記録層4は一旦希土類金属副格子モ
ーメントと遷移金属副格子モーメントの大きさの差が大
きくなりトータルの磁化が増大する。したがって、再生
時の加熱により、記録層4と遮断層3’との間のトータ
ル磁化のバランスが取れなくなり、記録層4から発生し
た磁界によって再生層1が影響を受けることとなる。こ
れにより、再生層1に記録層4の磁化が転写される。
On the other hand, when the temperature rises from room temperature, the difference in the magnitude of the rare earth metal sublattice moment and the transition metal sublattice moment decreases in the blocking layer 3 ', and the total magnetization decreases. In No. 4, once the difference between the magnitude of the rare earth metal sublattice moment and the transition metal sublattice moment becomes large, the total magnetization increases. Therefore, due to heating during reproduction, the balance of the total magnetization between the recording layer 4 and the blocking layer 3 ′ cannot be maintained, and the reproduction layer 1 is affected by the magnetic field generated from the recording layer 4. Thereby, the magnetization of the recording layer 4 is transferred to the reproducing layer 1.

【0148】以上のように、本実施の形態の光磁気記録
媒体では、再生時において、記録層4の低温部分の磁化
が遮断層3’によりマスクされ、高温部分(光ビームス
ポットの中央部分)の記録層4からの磁束のみが漏洩
し、記録信号を再生層1に転写する。このため、記録ビ
ットの間隔が狭くなり再生層1の拡大された磁区の領域
内に隣接記録ビットが入ってきた場合にも、その隣接記
録ビットからは磁界が発生しないため、再生層1の磁化
方向は中央の高温に加熱された部分の記録ビットのみに
より決定されるため、良好な再生特性を得ることができ
る。
As described above, in the magneto-optical recording medium of the present embodiment, during reproduction, the magnetization of the low-temperature portion of the recording layer 4 is masked by the blocking layer 3 ', and the high-temperature portion (the central portion of the light beam spot) Only the magnetic flux from the recording layer 4 leaks, and the recording signal is transferred to the reproducing layer 1. For this reason, even when the interval between the recording bits is reduced and an adjacent recording bit enters the enlarged magnetic domain region of the reproducing layer 1, no magnetic field is generated from the adjacent recording bit. Since the direction is determined only by the recording bits of the central portion heated to a high temperature, good reproduction characteristics can be obtained.

【0149】また、この光磁気記録媒体から情報を再生
する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去しておく
ことがスムーズな再生動作につながるため、再生用のレ
ーザービームをパルス発光させれば、レーザーが消光し
ている間に磁区を消滅させるとともに、レーザーが発光
している間に媒体温度を上昇させて、再生層に記録層の
記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生信
号品質を高品質とすることができる。
When information is reproduced from this magneto-optical recording medium, once the magnetic domains formed in the reproducing layer 1 are erased, which leads to a smooth reproducing operation, the laser beam for reproduction is pulse-emitted. If this is done, the magnetic domains can be extinguished while the laser is quenched, and the medium temperature can be raised while the laser is emitting to transfer the recording magnetic domains of the recording layer to the reproducing layer for signal reproduction. As a result, the quality of the reproduced signal can be improved.

【0150】以下に、本実施の形態の具体例について図
7に基づいて説明する。ここでは、光磁気記録媒体とし
て光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
A specific example of the present embodiment will be described below with reference to FIG. Here, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0151】本実施の形態に係る光磁気ディスクは、図
7に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、
非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オ
ーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本
体を有している。
As shown in FIG. 7, the magneto-optical disk according to the present embodiment has a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1,
The non-magnetic intermediate layer 2, the shielding layer 3 ', the recording layer 4, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 have a disk body laminated in this order.

【0152】このような光磁気ディスクでは、その記録
方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半
導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズによ
り再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られてい
る光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっ
ている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化の
向きにより、反射光の偏光面の回転の向きが逆方向にな
る現象である。
In such a magneto-optical disk, a Curie temperature recording method is used as a recording method, and a light beam 5 emitted from a semiconductor laser is focused on the reproducing layer 1 by an objective lens, which is known as a polar Kerr effect. Information is recorded and reproduced by the magneto-optical effect. The polar Kerr effect is a phenomenon in which the direction of rotation of the plane of polarization of reflected light is reversed according to the direction of magnetization perpendicular to the incident surface.

【0153】基板6は、例えばポリカーボネート等の透
明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The substrate 6 is made of, for example, a transparent substrate such as polycarbonate and is formed in a disk shape.

【0154】透明誘電体層7は、AlN、SiN、Al
SiN等の酸素を含まない材料で構成されることが望ま
しく、その膜厚は、入射するレーザ光に対して、良好な
干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大すべく設定
される必要があり、再生光の波長をλ、透明誘電体層7
の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の膜厚は(λ
/4n)程度に設定される。例えば、レーザ光の波長を
680nmとした場合、透明誘電体層7の膜厚を30n
m〜100nm程度に設定すれば良い。
The transparent dielectric layer 7 is made of AlN, SiN, Al
It is desirable to be made of a material that does not contain oxygen such as SiN, and its film thickness needs to be set so as to realize a good interference effect on incident laser light and to increase the Kerr rotation angle of the medium. The wavelength of the reproduction light is λ, the transparent dielectric layer 7
Is n, the thickness of the transparent dielectric layer 7 is (λ
/ 4n). For example, when the wavelength of the laser light is 680 nm, the thickness of the transparent dielectric layer 7 is 30 n.
It may be set to about m to 100 nm.

【0155】再生層1は、希土類遷移金属合金、また
は、希土類金属、または、遷移金属を主成分とする磁性
膜であり、その磁気特性が、再生温度近傍において保磁
力が小さくなるように組成調整されている。
The reproducing layer 1 is a magnetic film containing a rare earth transition metal alloy or a rare earth metal or a transition metal as a main component, and its magnetic properties are adjusted so that the coercive force becomes small near the reproducing temperature. Have been.

【0156】非磁性中間層2は、AlN、SiN、Al
SiN等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁
性金属合金からなり、再生層1と遮断層3’及び記録層
4とが静磁結合すべく、その膜厚が1〜80nmに設定
されている。
The non-magnetic intermediate layer 2 is made of AlN, SiN, Al
It is made of a dielectric material such as SiN or a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti, Ta or the like, and has a thickness of 1 to 80 nm so that the reproducing layer 1 and the blocking layer 3 ′ and the recording layer 4 are magnetostatically coupled. Is set.

【0157】遮断層3’は、希土類遷移金属合金からな
る磁性膜である。図6において説明したように、遮断層
3’は、室温で希土類金属副格子モーメントが遷移金属
副格子モーメントより大きく、室温で記録層4から発生
する磁界がマスクされるよう組成調整されている。ま
た、室温からキュリー温度まで常に遷移金属副格子モー
メントの方向は後述する記録層4の遷移金属副格子モー
メントの方向に従う。つまり、記録層4の遷移金属副格
子モーメントの方向によって決められるように、組成調
整されている。
The blocking layer 3 'is a magnetic film made of a rare earth transition metal alloy. As described with reference to FIG. 6, the composition of the blocking layer 3 ′ is adjusted so that the rare earth metal sublattice moment is larger than the transition metal sublattice moment at room temperature, and the magnetic field generated from the recording layer 4 is masked at room temperature. The direction of the transition metal sublattice moment from room temperature to the Curie temperature always follows the direction of the transition metal sublattice moment of the recording layer 4 described later. That is, the composition is adjusted so as to be determined by the direction of the transition metal sublattice moment of the recording layer 4.

【0158】記録層4は、希土類遷移金属合金からなる
垂直磁化膜からなり、室温からキュリー温度まで遷移金
属副格子モーメントが希土類金属副格子モーメントより
大きく、その膜厚が20〜80nmの範囲に設定されて
いる。また、記録磁区の面積は、再生時において再生層
1に存在する磁区の面積よりも小さく設定されている。
The recording layer 4 is made of a perpendicular magnetization film made of a rare earth transition metal alloy, and has a transition metal sublattice moment larger than the rare earth metal sublattice moment from room temperature to the Curie temperature, and its film thickness is set in the range of 20 to 80 nm. Have been. The area of the recording magnetic domain is set smaller than the area of the magnetic domain existing in the reproducing layer 1 during reproduction.

【0159】保護層8は、AlN、SiN、AlSiN
等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属
合金からなり、再生層1や記録層4に用いる希土類遷移
金属合金の酸化を防止する目的で形成されるものであ
り、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定されてい
る。
The protection layer 8 is made of AlN, SiN, AlSiN
And the like, or a nonmagnetic metal alloy such as Al, Ti, Ta, etc., formed for the purpose of preventing oxidation of the rare earth transition metal alloy used for the reproducing layer 1 and the recording layer 4. The thickness is set in the range of 5 nm to 60 nm.

【0160】オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂ま
たは熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線
を照射するか、または、加熱するかによって形成され
る。
The overcoat layer 9 is formed by applying an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin by spin coating, and irradiating ultraviolet rays or heating.

【0161】以下、本実施の形態の具体例について
(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性
の順に説明する。
Hereinafter, a specific example of the present embodiment will be described in the order of (1) a method of forming a magneto-optical disk, and (2) recording / reproducing characteristics.

【0162】(1)光磁気ディスクの形成方法 上記構成の光磁気ディスクの形成方法について説明す
る。
(1) Method for Forming a Magneto-Optical Disk A method for forming a magneto-optical disk having the above configuration will be described.

【0163】まず、Alターゲットと、GdFeCo合
金ターゲットと、GdDyFe合金ターゲットと、Gd
DyFeCo合金ターゲットとをそれぞれ備えたスパッ
タ装置内に、プリグルーブ及びプリピットを有しディス
ク状に形成されたポリカーボネート製の基板6を基板ホ
ルダーに配置する。スパッタ装置内を1×10-6Tor
rまで真空排気した後、アルゴンと窒素の混合ガスを導
入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×1
-3Torrの条件で、基板6にAlNからなる透明誘
電体層7を膜厚80nmで形成した。
First, an Al target, a GdFeCo alloy target, a GdDyFe alloy target, and a Gd
In a sputtering apparatus provided with a DyFeCo alloy target, a disc-shaped polycarbonate substrate 6 having pregrooves and prepits is placed on a substrate holder. 1 × 10 -6 Torr in the sputtering equipment
After evacuation to r, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 1
Under a condition of 0 -3 Torr, a transparent dielectric layer 7 of AlN was formed on the substrate 6 to a thickness of 80 nm.

【0164】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧
4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、G
0.30(Fe0.80Co0.200.70からなる再生層1を膜
厚40nmで形成した。その再生層1は、室温において
面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態と
なる特性を有し、その補償温度が300℃、そのキュリ
ー温度が320℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
Electric power is supplied to the GdFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and G
A reproducing layer 1 made of d 0.30 (Fe 0.80 Co 0.20 ) 0.70 was formed with a thickness of 40 nm. The reproducing layer 1 had a property of being in an in-plane magnetization state at room temperature, and having a property of being a perpendicular magnetization state at a temperature of 120 ° C., its compensation temperature was 300 ° C., and its Curie temperature was 320 ° C.

【0165】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、上記再生層1上にAlNからなる
非磁性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a nonmagnetic intermediate layer 2 of AlN was formed on the reproducing layer 1 to a thickness of 20 nm.

【0166】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdDyFe合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧
4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2に、(G
0.50Dy0.500.28Fe0.72からなる遮断層3’を膜
厚30nmで形成した。その遮断層3’は、キュリー温
度が140℃であり、室温からキュリー温度まで希土類
金属リッチの垂直磁化膜であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
Electric power is supplied to the GdDyFe alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and (G
d 0.50 Dy 0.50 ) 0.28 Fe 0.72 was formed to have a thickness of 30 nm. The blocking layer 3 'was a rare earth metal-rich perpendicular magnetization film having a Curie temperature of 140 ° C. and a room temperature to a Curie temperature.

【0167】次に、GdDyFeCo合金ターゲットに
電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記
遮断層3’上に、(Gd0.50Dy0.500.23(Fe0.80
Co0.200.77からなる記録層4を膜厚40nmで形成
した。その記録層4は、キュリー温度が275℃であっ
た。
Next, power is supplied to the GdDyFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and (Gd 0.50 Dy 0.50 ) 0.23 (Fe 0.80
A recording layer 4 of Co 0.20 ) 0.77 was formed with a thickness of 40 nm. The Curie temperature of the recording layer 4 was 275 ° C.

【0168】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護
層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a protective layer 8 of AlN was formed on the recording layer 4 to a thickness of 20 nm.

【0169】次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂
をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射すること
によりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied on the protective layer 8 by spin coating, and irradiated with ultraviolet rays to form an overcoat layer 9.

【0170】(2)記録再生特性 上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)の
マーク長依存性を図8に示す。
(2) Recording / Reproducing Characteristics FIG. 8 shows the mark length dependence of the CNR (signal to noise ratio) of the above disk measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm.

【0171】比較のため、遮断層3’の存在しない構成
の磁区拡大再生光磁気ディスクのCNRのマーク長依存
性も比較例1として同図に記載する。上記した光磁気デ
ィスクについての結果を実施例2として記載する。な
お、遮断層の存在しない光磁気ディスクの媒体は、本実
施の形態に記載の媒体構成において、遮断層3’を取り
除いた構成である。また、ここで示すCNRのマーク長
依存性は、マーク長に対応する長さの記録磁区をマーク
長の2倍の長さの記録磁区ピッチで連続形成した時の信
号対雑音比を表すものである。
For comparison, the mark length dependence of the CNR of a magnetic domain expanded reproduction magneto-optical disk having a configuration without the blocking layer 3 'is also shown in FIG. The results for the above-described magneto-optical disk will be described as Example 2. The medium of the magneto-optical disk having no blocking layer has the same configuration as that of the medium described in the present embodiment except that the blocking layer 3 'is removed. The mark length dependency of the CNR shown here indicates a signal-to-noise ratio when a recording magnetic domain having a length corresponding to the mark length is continuously formed at a recording magnetic domain pitch twice as long as the mark length. is there.

【0172】マーク長0.3μmの両者のCNRを比較
すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対し
て、本実施例2の場合41.5dBと7.5dBのCNR
増加が観測されている。これは、遮断層3’により、隣
接ビットがマスクされ、再生分解能が上がったことによ
るものである。
When the CNRs of both the mark lengths of 0.3 μm are compared, the CNR of the comparative example 1 is 34.0 dB, whereas the CNR of the present embodiment 2 is 41.5 dB and 7.5 dB.
An increase has been observed. This is due to the fact that adjacent bits are masked by the blocking layer 3 ′ and the reproduction resolution is increased.

【0173】以下に、実施例2における各層の条件を変
化させた場合における記録再生特性を示す。
The recording / reproducing characteristics when the conditions of each layer in Example 2 are changed are shown below.

【0174】(a)再生層1と遮断層3’の膜厚 次に、表10は、実施例2における再生層1と遮断層
3’の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した
結果を示すものである。
(A) Film thickness of reproducing layer 1 and blocking layer 3 'Next, Table 10 shows that the CNR at 0.3 μm was changed by changing the film thickness of the reproducing layer 1 and the blocking layer 3' in Example 2. It shows the result of the measurement.

【0175】[0175]

【表10】 [Table 10]

【0176】表10において、遮断層膜厚0nmは、遮
断層3’を形成していない比較例1の結果を示してい
る。遮断層3’の膜厚としては、10nm以上でマスク
効果が現れCNRが上昇して行くが、60nm以上にな
るとCNRは低下する。これは、高温部での漏洩磁界が
低下し、記録層4からの磁区転写が起こりにくくなるた
めと考えられる。以上のことより、比較例1よりも高い
CNRの得られる遮断層3’の膜厚は、10〜60nm
の範囲であることが分かる。
In Table 10, the thickness of the blocking layer of 0 nm indicates the result of Comparative Example 1 in which the blocking layer 3 'was not formed. When the film thickness of the blocking layer 3 'is 10 nm or more, a mask effect appears and the CNR increases, but when the film thickness exceeds 60 nm, the CNR decreases. It is considered that this is because the leakage magnetic field in the high-temperature portion decreases, and the magnetic domain transfer from the recording layer 4 hardly occurs. As described above, the film thickness of the barrier layer 3 ′ that can obtain a higher CNR than that of Comparative Example 1 is 10 to 60 nm.
It turns out that it is the range of.

【0177】また、再生層1の膜厚を8nmにすると、
再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低
くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を100nm
にすると、磁区の拡大転写が困難となり、そのCNRは
比較例1よりも低くなってしまう。以上のことより、比
較例1よりも高いCNRの得られる再生層1の膜厚は、
10〜80nmの範囲であることが分かる。
When the thickness of the reproducing layer 1 is set to 8 nm,
The reproduced signal becomes smaller, and its CNR becomes lower than that of Comparative Example 1. Further, the thickness of the reproducing layer 1 is set to 100 nm.
In this case, magnetic domain expansion transfer becomes difficult, and the CNR thereof is lower than that of Comparative Example 1. From the above, the thickness of the reproducing layer 1 from which the CNR is higher than that of the comparative example 1 is:
It turns out that it is the range of 10-80 nm.

【0178】(b)非磁性中間層2の膜厚 次に、表11は、実施例2における非磁性中間層2の膜
厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示
すものである。
(B) Film thickness of nonmagnetic intermediate layer 2 Next, Table 11 shows the results of measuring the CNR at 0.3 μm by changing the film thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 in Example 2. It is.

【0179】[0179]

【表11】 [Table 11]

【0180】表11からわかるように、非磁性中間層2
の膜厚が0.5nmの場合、CNRが著しく低下してい
ることがわかる。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄す
ぎるため、良好な静磁結合状態が得られなかったことに
よるものと考えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nm
の時、最大のCNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が
大きくなるにつれて、静磁結合力が小さくなるとともに
CNRが低下していくことがわかる。比較例1よりも高
いCNRの得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜
80nmの範囲に設定する必要のあることが分かる。
As can be seen from Table 11, the non-magnetic intermediate layer 2
It can be seen that when the film thickness is 0.5 nm, the CNR is significantly reduced. This is presumably because the nonmagnetic intermediate layer 2 was too thin to obtain a good magnetostatic coupling state. The thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is 1 nm
In this case, the maximum CNR is obtained, and as the film thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 increases, the magnetostatic coupling force decreases and the CNR decreases. In order to obtain a higher CNR than that of Comparative Example 1, the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is set to 1 to
It can be seen that it is necessary to set the range to 80 nm.

【0181】さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くする
ことにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さ
くなることにより、消去磁界が小さくなることがわか
る。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にする
ためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とするこ
とが望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the thickness of the non-magnetic intermediate layer 2, the magnetostatic coupling force between the reproducing layer 1 and the recording layer 4 is reduced, and the erasing magnetic field is reduced. In order to keep the erasing magnetic field within a practical range of 31 kA / m or less, it is desirable that the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 be 4 nm or more.

【0182】(c)遮断層3’のキュリー温度 上記においては、遮断層3’としてキュリー温度が14
0℃の(Gd0.50Dy0.500.28Fe0.72を用いた場合
の記録再生特性を示したが、次に、遮断層3’のGd含
有率を変えて記録再生特性を調査した結果を記述する。
(C) Curie temperature of the barrier layer 3 'In the above, the Curie temperature of the barrier layer 3' is 14
The recording / reproducing characteristics when (Gd 0.50 Dy 0.50 ) 0.28 Fe 0.72 at 0 ° C. is used are described. Next, the results of investigating the recording / reproducing characteristics by changing the Gd content of the blocking layer 3 ′ will be described.

【0183】表12は、遮断層3’を膜厚30nmの
(GdXDy1-X0.28Fe0.72として、X(atom
比)の値を変えて、遮断層3’のキュリー温度TC3と、
波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップ
で測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを
測定した結果を示すものである。
Table 12 shows that, when the barrier layer 3 'is (Gd x Dy 1 -x ) 0.28 Fe 0.72 having a thickness of 30 nm, X (atom)
Ratio), the Curie temperature T C3 of the barrier layer 3 ′,
It shows the result of measuring the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm.

【0184】[0184]

【表12】 [Table 12]

【0185】表12において、遮断層3’を形成してい
ない比較例1において得られたCNR(34.0dB)
よりも高いCNRが得られるのは、0.20≦X≦1.0
0の範囲であることがわかる。
In Table 12, the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the blocking layer 3 'was not formed.
CNR higher than 0.20 ≦ X ≦ 1.0
It can be seen that the range is 0.

【0186】上記表12において用いた記録層4は、1
40℃の温度(再生時における加熱温度)で磁化の大き
さが最大となる。すなわち、遮断層3’は、140℃以
下の温度において、記録層からの漏洩磁界をマスクでき
ればよく、遮断層3’のキュリー温度の最適値は、約1
40℃(再生時における加熱温度近傍)ということにな
る。しかしながら、表12に示した通り、遮断層3’の
キュリー温度が、80℃以上、220℃以下において、
比較例1よりも高いCNRが得られており、遮断層3’
のキュリー温度を80℃以上220℃以下とすることに
より、低温でのマスク効果を得ることが可能となる。
The recording layer 4 used in Table 12 was 1
At a temperature of 40 ° C. (heating temperature during reproduction), the magnitude of magnetization becomes maximum. That is, it is sufficient that the blocking layer 3 ′ can mask the leakage magnetic field from the recording layer at a temperature of 140 ° C. or less, and the optimal value of the Curie temperature of the blocking layer 3 ′ is about 1
40 ° C. (near the heating temperature during regeneration). However, as shown in Table 12, when the Curie temperature of the barrier layer 3 ′ is 80 ° C. or more and 220 ° C. or less,
A CNR higher than that of Comparative Example 1 was obtained, and the barrier layer 3 ′ was obtained.
By setting the Curie temperature of not less than 80 ° C. and not more than 220 ° C., it is possible to obtain a low-temperature mask effect.

【0187】また、ここでは、遮断層3’として、Gd
DyFeを用いた結果について記述しているが、上記キ
ュリー温度範囲(80℃〜220℃)を満足すればよ
く、他に、GdDyFe合金、TbFe合金、DyFe
合金、GdFe合金、GdTbFe合金、DyFeCo
合金、TbFeCo合金のいずれかを含む合金からなる
垂直磁化膜を用いることが可能である。
In this case, Gd is used as the barrier layer 3 '.
Although the results using DyFe are described, it is only necessary to satisfy the Curie temperature range (80 ° C. to 220 ° C.). In addition, a GdDyFe alloy, a TbFe alloy, a DyFe
Alloy, GdFe alloy, GdTbFe alloy, DyFeCo
It is possible to use a perpendicular magnetization film made of an alloy containing either an alloy or a TbFeCo alloy.

【0188】(d)遮断層3’の補償温度 また、以上では遮断層3’としてキュリー温度が80℃
〜220℃のものが望ましいことについて説明したが、
補償温度が80℃〜220℃であっても同様に本実施の
形態の効果(室温における記録層4からの磁界の遮断)
を得ることができる。以下に、この具体例を説明する。
(D) Compensation temperature of blocking layer 3 'In the above, the Curie temperature of the blocking layer 3' is 80 ° C.
Although it was explained that a temperature of ~ 220 ° C is desirable,
Even when the compensation temperature is 80 ° C. to 220 ° C., the effect of the present embodiment is similarly obtained (interruption of the magnetic field from the recording layer 4 at room temperature).
Can be obtained. Hereinafter, this specific example will be described.

【0189】遮断層3’として膜厚30nmの(Gd
0.8Dy0.20.26Fe0.74を用いて、波長680nmの
半導体レーザを用いた光ピックアップで0.3nmでの
CNR(信号対雑音比)を測定した。なお、遮断層3’
は補償温度が140℃、キュリー温度が200℃であっ
た。
As a barrier layer 3 ', a (Gd
Using 0.8 Dy 0.2 ) 0.26 Fe 0.74 , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 nm was measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. In addition, the blocking layer 3 ′
Has a compensation temperature of 140 ° C. and a Curie temperature of 200 ° C.

【0190】この場合CNRは41.5dBとなり、上
記の実施例2の場合と略同一の特性が得られた。すなわ
ち、遮断層3’が補償温度を持つ場合も、記録層4から
の漏洩磁界のマスク効果を得ることができる。補償温度
は記録層の磁化が最大となる140℃(再生時における
加熱温度近傍)に設定することが望ましいが、それ以外
でも補償温度が80℃〜220℃以下の温度範囲であれ
ば、マスク効果を得ることが可能である。なお、補償温
度が80℃〜220℃であれば、GdDyFe以外に
も、GdDyFe合金、TbFe合金、DyFe合金、
GdFe合金、GdTbFe合金、DyFeCo合金,
TbFeCo合金のいずれかを含む合金からなる垂直磁
化膜を用いることができる。
In this case, the CNR was 41.5 dB, and almost the same characteristics as in the case of the second embodiment were obtained. That is, even when the blocking layer 3 ′ has a compensation temperature, a masking effect of the leakage magnetic field from the recording layer 4 can be obtained. The compensation temperature is desirably set to 140 ° C. (near the heating temperature at the time of reproduction) at which the magnetization of the recording layer is maximized, but otherwise, if the compensation temperature is in the temperature range of 80 ° C. to 220 ° C. or less, the mask effect It is possible to obtain If the compensation temperature is 80 ° C. to 220 ° C., in addition to GdDyFe, a GdDyFe alloy, a TbFe alloy, a DyFe alloy,
GdFe alloy, GdTbFe alloy, DyFeCo alloy,
A perpendicular magnetization film made of an alloy containing any of the TbFeCo alloys can be used.

【0191】(実施の形態8)本発明の実施の形態8に
ついて図9に基づいて説明すれば以下の通りである。本
実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスク
を適用した場合について説明する。
(Embodiment 8) Embodiment 8 of the present invention is described below with reference to FIG. In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0192】本実施の形態8に係る光磁気ディスクは、
図9に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層
1、非磁性中間層2、記録層4、遮断層3’、保護層
8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディ
スク本体を有している。
The magneto-optical disk according to the eighth embodiment includes:
As shown in FIG. 9, a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a nonmagnetic intermediate layer 2, a recording layer 4, a blocking layer 3 ', a protective layer 8, and an overcoat layer 9 are laminated in this order. Disk body.

【0193】本実施の形態8の光磁気ディスクは、実施
の形態7に記載の光磁気ディスクにおいて、遮断層3’
と記録層4の形成順序が逆になった構成を有している。
The magneto-optical disk of the eighth embodiment is the same as the magneto-optical disk of the seventh embodiment, except that the shielding layer 3 '
And the recording layer 4 is formed in a reverse order.

【0194】以下に、本実施の形態の具体例について
(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性
の順に説明する。
Hereinafter, specific examples of the present embodiment will be described in the order of (1) a method of forming a magneto-optical disk, and (2) recording / reproducing characteristics.

【0195】(1)光磁気ディスクの形成方法 本実施の形態の光磁気ディスクは、実施の形態7記載の
光磁気ディスクの形成方法において、遮断層3’と記録
層4の形成順序を逆にすることにより形成され、基板
6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、保護
層8、オーバーコート層9は、実施例2と同様にして形
成した。
(1) Method of Forming Magneto-Optical Disk The magneto-optical disk of the present embodiment differs from the method of forming a magneto-optical disk of Embodiment 7 in that the order of forming the blocking layer 3 'and the recording layer 4 is reversed. The substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the nonmagnetic intermediate layer 2, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 were formed in the same manner as in Example 2.

【0196】(2)記録再生特性 表13は、本実施の形態における再生層1と遮断層3’
の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信
号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / Reproducing Characteristics Table 13 shows the reproducing layer 1 and the blocking layer 3 'in the present embodiment.
3 shows the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the film thickness of the semiconductor laser.

【0197】[0197]

【表13】 [Table 13]

【0198】表13において、遮断層膜厚0nmは、遮
断層3’を形成していない比較例1の結果を示してい
る。また、実施の形態7で示した実施例2における記録
層4と遮断層3’を単純に入れ替えたものを実施例3と
して記している。
In Table 13, the thickness of the blocking layer of 0 nm indicates the result of Comparative Example 1 in which the blocking layer 3 'was not formed. Further, a third embodiment is described in which the recording layer 4 and the blocking layer 3 ′ in the second embodiment described in the seventh embodiment are simply replaced.

【0199】遮断層3’の膜厚としては、10nm以上
でマスク効果が現れCNRが上昇して行くが、100n
m以上になるとCNRは低下する。これは、マスクの効
果が低下し隣接記録信号の影響を受けるためと考えられ
る。以上のことより、比較例1よりも高いCNRの得ら
れる遮断層3’の膜厚は、10〜80nmの範囲である
ことが分かる。
When the thickness of the blocking layer 3 'is 10 nm or more, a mask effect appears and the CNR increases.
When it exceeds m, the CNR decreases. This is presumably because the effect of the mask is reduced and is affected by adjacent recording signals. From the above, it can be seen that the film thickness of the blocking layer 3 ′ from which the CNR is higher than that of Comparative Example 1 is in the range of 10 to 80 nm.

【0200】また、実施の形態7の場合に比較して、光
ビーム5の入射の反対側に遮断層が存在するため、マス
クの効果が弱くなり相対的にCNRが低くなるが、比較
例1より高いCNRを実現するために必要な遮断層3’
の膜厚範囲は広くなる。
Further, as compared with the case of the seventh embodiment, since the blocking layer exists on the side opposite to the incidence of the light beam 5, the effect of the mask is weakened and the CNR is relatively reduced. The barrier layer 3 'required to realize a higher CNR
Has a wide range of film thickness.

【0201】尚、(a)再生層1の膜厚、(b)非磁性
中間層2の膜厚、(c)遮断層3’のキュリー温度、
(d)遮断層3’の補償温度については、実施の形態7
に示したものと同様の結果が得られた。
Incidentally, (a) the thickness of the reproducing layer 1, (b) the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2, (c) the Curie temperature of the blocking layer 3 ',
(D) Embodiment 7 Regarding Compensation Temperature of Blocking Layer 3 ′
And the same results as those shown in FIG.

【0202】(実施の形態9)本発明の実施の形態9に
ついて図10に基づいて説明すれば以下の通りである。
本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディス
クを適用した場合について説明する。
(Embodiment 9) Embodiment 9 of the present invention will be described below with reference to FIG.
In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0203】本実施の形態9に係る光磁気ディスクは、
図10に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層
1、非磁性中間層2、反射層10、遮断層3’、記録層
4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層
されたディスク本体を有している。
The magneto-optical disk according to the ninth embodiment is
As shown in FIG. 10, the substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the nonmagnetic intermediate layer 2, the reflective layer 10, the blocking layer 3 ', the recording layer 4, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 are It has disk bodies stacked in sequence.

【0204】実施の形態7及び実施の形態8において
は、再生層1の膜厚が40nmより小さくなった場合、
再生層1を透過した光ビーム5が遮断層3’もしくは記
録層4により反射され、再生信号に記録層4の隣接記録
ビット信号の情報が混入することになり、再生信号特性
が低下してしまうという結果になる。
In Embodiments 7 and 8, when the thickness of the reproducing layer 1 is smaller than 40 nm,
The light beam 5 transmitted through the reproducing layer 1 is reflected by the blocking layer 3 'or the recording layer 4, and the information of the recording bit signal adjacent to the recording layer 4 is mixed into the reproduction signal, so that the reproduction signal characteristics deteriorate. Is the result.

【0205】本実施の形態9の光磁気ディスクは、実施
の形態7に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性中間
層2と遮断層3’との間に、反射層10が形成された構
成を有している。このようにすることにより、再生層1
の膜厚が40nm以下と薄くなった場合においても、再
生層1を透過した光ビーム5は反射層10により反射さ
れ、再生信号に記録層4の隣接記録ビット信号の情報が
混入することを防ぐことが可能となり、再生層1による
磁区拡大再生をより完全なものとすることができる。
The magneto-optical disk according to the ninth embodiment has the same configuration as the magneto-optical disk according to the seventh embodiment except that a reflection layer 10 is formed between the nonmagnetic intermediate layer 2 and the blocking layer 3 '. Have. By doing so, the reproduction layer 1
The light beam 5 transmitted through the reproducing layer 1 is reflected by the reflecting layer 10 even when the film thickness of the recording layer becomes as thin as 40 nm or less, thereby preventing the information of the adjacent recording bit signal of the recording layer 4 from being mixed into the reproduced signal. Thus, magnetic domain expansion reproduction by the reproduction layer 1 can be more complete.

【0206】以下に、本実施の形態の光磁気ディスクの
具体例について、(1)光磁気ディスクの形成方法、
(2)記録再生特性に分けて説明する。
Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described.
(2) The recording and reproducing characteristics will be described separately.

【0207】(1)光磁気ディスクの形成方法 本実施の形態の光磁気ディスクは、実施の形態7記載の
光磁気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と
遮断層3’との間に、Alからなる反射層10を形成し
ており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中
間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコ
ート層9は、実施例2と同様にして、再生層1の膜厚を
25nmとして形成した。
(1) Method of Forming Magneto-Optical Disk The magneto-optical disk of the present embodiment differs from the method of forming a magneto-optical disk of Embodiment 7 in that the non-magnetic intermediate layer 2 and the blocking layer 3 ' , Al, a reflective layer 10, a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a nonmagnetic intermediate layer 2, a blocking layer 3 ′, a recording layer 4, a protective layer 8, and an overcoat layer 9. In the same manner as in Example 2, the reproducing layer 1 was formed with a thickness of 25 nm.

【0208】ここで、Al反射層10は、非磁性中間層
2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6
orrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、A
lターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3To
rrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射
層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the nonmagnetic intermediate layer 2, the Al reflecting layer 10 was again exposed to 1 × 10 −6 T in the sputtering apparatus.
after evacuating to orr and introducing argon gas, A
l Supply power to the target and set the gas pressure to 4 × 10 -3 To
rr, a reflective layer 10 made of Al was formed on the nonmagnetic intermediate layer 2 with a thickness of 2 to 80 nm.

【0209】(2)記録再生特性 表14は、上記した本実施の形態の反射層10の膜厚を
変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピッ
クアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音
比)を示すものである。
(2) Recording / Reproducing Characteristics Table 14 shows that the CNR (at 0.3 μm) measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm by changing the thickness of the reflective layer 10 of the present embodiment. (Signal-to-noise ratio).

【0210】[0210]

【表14】 [Table 14]

【0211】表14において、反射層膜厚0nmは、反
射層10を形成していない比較例3の結果を示してい
る。反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合に
おいても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見ら
れ、CNRが0.5dB上昇する。反射層10の膜厚を
厚くすることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜
厚20nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚
増加に伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより
顕著になるためである。該膜厚20nm以上でCNRが
低下しているが、記録層4と再生層1との距離が大きく
なることにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなるこ
とによるものである。以上のことより、比較例3よりも
高いCNRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜4
0nmの範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 14, the thickness of the reflective layer of 0 nm indicates the result of Comparative Example 3 in which the reflective layer 10 was not formed. Even when the thickness of the reflective layer 10 is extremely thin, such as 2 nm, the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 is seen, and the CNR increases by 0.5 dB. By increasing the thickness of the reflective layer 10, the CNR gradually increases, and the CNR becomes maximum at the thickness of 20 nm. This is because the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 becomes more remarkable as the thickness of the reflective layer increases. Although the CNR is reduced at the film thickness of 20 nm or more, the magnetostatic coupling force acting between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 is weakened by increasing the distance between them. From the above, in order to obtain a higher CNR than that of Comparative Example 3, the thickness of the reflective layer 10 is set to 2 to 4
It can be seen that it is necessary to set within the range of 0 nm.

【0212】尚、以上においては、反射層10として、
Alを用いた再生特性について記述しているが、反射層
10としては、AlとAl以外の金属との合金を用いて
もよい。
In the above description, the reflection layer 10 is
Although the reproduction characteristics using Al are described, an alloy of Al and a metal other than Al may be used as the reflective layer 10.

【0213】表15は、反射層10を膜厚20nmのA
1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波
長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで
測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去
磁界の大きさを示している。
Table 15 shows that the reflective layer 10 was formed of a 20 nm thick A
By changing the value of X (atom ratio) as l 1-x Fe x , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Is shown.

【0214】[0214]

【表15】 [Table 15]

【0215】表15より、Fe含有量が多くなるにした
がって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつ
れて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのC
NRも前述の比較例3よりも大きく、反射層10を形成
した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋な
Alからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと
大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02
以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小
さくすることが可能であった。
From Table 15, it can be seen that as the Fe content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases.
The NR is also larger than that of Comparative Example 3 described above, and the effect of forming the reflective layer 10 is seen. On the other hand, as for the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02.
By setting the value to 0.50 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0216】次に、表16は、反射層10を膜厚20n
mのAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変え
て、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックア
ップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)
と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 16 shows that the reflective layer 10 was formed to a film thickness of 20 n.
The CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the value of X (atom ratio) as Al 1-x Ni x of m
And the magnitude of the erasing magnetic field.

【0217】[0219]

【表16】 [Table 16]

【0218】表16より、Feを含有した場合と同様
に、Xを0.02以上0.50以下に設定することによ
り、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 16, it was found that the erasing magnetic field could be reduced by setting X to be 0.02 or more and 0.50 or less as in the case where Fe was contained.

【0219】Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、D
y、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させるこ
とにより、消去磁界を小さくすることが可能である。
In addition to Fe and Ni, Co, Gd, Tb, D
By similarly including magnetic metals such as y and Nd in Al, the erasing magnetic field can be reduced.

【0220】次に、反射層10として、Alに非磁性金
属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述す
る。
Next, a description will be given of an improvement in recording characteristics when a non-magnetic metal element is contained in Al as the reflective layer 10.

【0221】表17は、反射層10を膜厚20nmのA
1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波
長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで
測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去
磁界の大きさを示している。
Table 17 shows that the reflective layer 10 was made of A having a thickness of 20 nm.
By changing the value of X (atom ratio) as l 1-x Ti X , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field were measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Is shown.

【0222】[0222]

【表17】 [Table 17]

【0223】表17より、Ti含有量が多くなるにした
がって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつ
れて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのC
NRも比較例3よりも大きく、反射層10を形成した効
果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlか
らなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな
消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.
98以下に設定することにより、消去磁界を小さくする
ことが可能であった。
From Table 17, it can be seen that as the Ti content increases, that is, as X becomes greater than 0.10, the CNR gradually decreases.
The NR is also larger than that of Comparative Example 3, and the effect of forming the reflective layer 10 can be seen. On the other hand, when looking at the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02 or more and 0.2 to 0.2.
By setting it to 98 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0224】次に、表18は、反射層10として、Ti
以外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減
効果について示すものであり、反射層10をAl0.5
0.5として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合に
おける、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピッ
クアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音
比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 18 shows that the reflective layer 10 is made of Ti
The non-magnetic elements other than are those showing the erasing magnetic field reduction effect when the content of the Al, a reflective layer 10 Al 0.5 Z
When 0.5 is used as the Z value, the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm when Z is a nonmagnetic metal other than Ti are shown. ing.

【0225】[0225]

【表18】 [Table 18]

【0226】表18より、Zとして非磁性金属であるT
a、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、い
ずれのCNRも前述の比較例3よりも大きく、反射層1
0を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見る
と、AlにTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を
小さくすることが可能であった。
From Table 18, it is found that Z is a nonmagnetic metal T
When a, Pt, Au, Cu, and Si were used, all of the CNRs were larger than those of Comparative Example 3 described above, and the reflection layer 1
The effect of forming 0 is seen. On the other hand, as for the erasing magnetic field, it was possible to reduce the erasing magnetic field as in the case where Ti was contained in Al.

【0227】なお、ここでは、実施の形態7に記載の光
磁気ディスクに反射層を適用した場合について記した
が、実施の形態8に適用しても同様の結果が得られるこ
とは言うまでもない。
Although the case where the reflection layer is applied to the magneto-optical disk described in the seventh embodiment has been described here, it goes without saying that the same result can be obtained by applying the eighth embodiment to the magneto-optical disk.

【0228】尚、(a)再生層,遮断層の膜厚、(c)
遮断層3’のキュリー温度、(d)遮断層3’の補償温
度については、実施の形態7,8に示したものと同様の
結果が得られた。
Incidentally, (a) the thicknesses of the reproducing layer and the blocking layer, and (c)
With respect to the Curie temperature of the blocking layer 3 'and (d) the compensation temperature of the blocking layer 3', the same results as those shown in the seventh and eighth embodiments were obtained.

【0229】(実施の形態10)本発明の実施の形態1
0について図11に基づいて説明すれば以下の通りであ
る。本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気デ
ィスクを適用した場合について説明する。
(Embodiment 10) Embodiment 1 of the present invention
0 will be described below with reference to FIG. In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0230】本実施の形態10に係る光磁気ディスク
は、図11に示すように、基板6、透明誘電体層7、再
生層1、非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護
層8、放熱層110、オーバーコート層9が、この順に
て積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 11, the magneto-optical disk according to the tenth embodiment includes a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a non-magnetic intermediate layer 2, a blocking layer 3 ', a recording layer 4, The protective layer 8, the heat radiation layer 110, and the overcoat layer 9 have a disk body laminated in this order.

【0231】本実施の形態10の光磁気ディスクは、実
施の形態7に記載の光磁気ディスクにおいて、保護層8
とオーバーコート層9との間に放熱層110を形成した
構成を有している。
The magneto-optical disk of the tenth embodiment is the same as the magneto-optical disk of the seventh embodiment except that
The heat radiation layer 110 is formed between the heat dissipation layer 110 and the overcoat layer 9.

【0232】以下に、本実施の形態の具体例について
(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性
を説明する。
The following describes (1) a method for forming a magneto-optical disk and (2) recording / reproducing characteristics for a specific example of the present embodiment.

【0233】(1)光磁気ディスクの形成方法 本実施の形態の光磁気ディスクは、実施例2記載の光磁
気ディスクの形成方法において、保護層8とオーバーコ
ート層9との間に、Alからなる放熱層110を形成し
ており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中
間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコ
ート層9は、実施の形態7に記載した方法と同様にし
て、保護層8の膜厚を5nmとして形成した。
(1) Method of Forming Magneto-Optical Disk The magneto-optical disk of this embodiment is the same as the method of forming a magneto-optical disk described in Example 2 except that Al is formed between the protective layer 8 and the overcoat layer 9. The substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the non-magnetic intermediate layer 2, the blocking layer 3 ', the recording layer 4, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 are formed as follows. Similarly to the method described in Embodiment 7, the protective layer 8 was formed with a thickness of 5 nm.

【0234】ここで、Alの放熱層110は、記録層4
を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6To
rrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、Al
ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Tor
rとし、上記記録層4上に、Alからなる放熱層110
を膜厚20nmで形成した。
Here, the heat dissipation layer 110 of Al is
Is formed, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6 To.
After evacuating to rr, argon gas was introduced and Al
Power is supplied to the target and the gas pressure is 4 × 10 −3 Torr
and a heat radiation layer 110 made of Al on the recording layer 4.
Was formed with a film thickness of 20 nm.

【0235】(2)記録再生特性 波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップ
で0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を測定した結
果、CNRは42.5dBとなり実施例2の場合と比べ
さらに1dB良くなった。
(2) Recording / reproducing characteristics The CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. As a result, the CNR was 42.5 dB, as compared with the case of the second embodiment. Further, it was improved by 1 dB.

【0236】本実施の形態のように、熱伝導率の高いA
lからなる放熱層110があれば、横方向への熱の広が
りを放熱層側つまり層の厚さ方向へ逃がすことができ、
横方向への熱の広がりを低減させることができる。した
がって、光ビーム内の温度分布がより急峻となり、遮断
層による再生層における記録層からの磁界のマスク効果
を強調することが可能となり、再生特性をさらに向上す
ることができる。
As in this embodiment, A having a high thermal conductivity
If there is a heat dissipation layer 110 made of l, the spread of heat in the lateral direction can be released in the heat dissipation layer side, that is, in the thickness direction of the layer,
The spread of heat in the lateral direction can be reduced. Therefore, the temperature distribution in the light beam becomes steeper, and the effect of masking the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer by the blocking layer can be enhanced, and the reproducing characteristics can be further improved.

【0237】放熱層110の材料であるAlは、再生層
2、記録層4に用いられる希土類遷移金属合金膜よりも
その熱伝導率が高く、放熱層に適した材料である。ま
た、非常に安価な材料でもある。
Al, which is a material of the heat radiation layer 110, has a higher thermal conductivity than the rare earth transition metal alloy film used for the reproducing layer 2 and the recording layer 4, and is a material suitable for the heat radiation layer. It is also a very cheap material.

【0238】放熱層110の材料としては、上記例のA
l以外にAu、Ag、Cu、SUS、Ta、Cr等の再
生層、記録層より熱伝導率が大きい材料であればよい。
The material of the heat radiation layer 110 is the same as that of the above-described example.
In addition to l, any material having a higher thermal conductivity than the reproducing layer and the recording layer, such as Au, Ag, Cu, SUS, Ta, and Cr, may be used.

【0239】Auを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔
食性に優れているので、長期信頼性を向上させることが
できる。
When Au is used, it has excellent oxidation resistance, moisture resistance, and pitting resistance, so that long-term reliability can be improved.

【0240】Agを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔
食性に優れているので、長期信頼性を向上させることが
できる。
When Ag is used, it has excellent oxidation resistance, moisture resistance, and pitting corrosion resistance, so that long-term reliability can be improved.

【0241】Cuを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔
食性に優れているので、長期信頼性を向上させることが
できる。
When Cu is used, it has excellent oxidation resistance, moisture resistance, and pitting resistance, so that long-term reliability can be improved.

【0242】また、SUSまたはTaまたはCrを用い
れば、これらの材料は極めて耐酸化性、耐湿性、耐孔食
性に優れているので、より長期信頼性に優れた光磁気デ
ィスクを提供することができる。
If SUS, Ta, or Cr is used, these materials are extremely excellent in oxidation resistance, moisture resistance, and pitting resistance, so that it is possible to provide a magneto-optical disk with more excellent long-term reliability. it can.

【0243】尚、本実施の形態では、放熱層10の膜厚
を20nmとしたが、厚くするほど放熱効果は高くな
り、加えて、長期信頼性も向上する。しかしながら、光
磁気ディスクの記録感度にも影響を及ぼすため、材料の
熱伝導率、比熱に応じた膜厚の設定が必要であり、5〜
200nmの範囲が良い。とりわけ、10〜100nm
が好適である。熱伝導率が比較的高く、耐食性に優れた
材料であれば、膜厚は10〜100nm程度と薄くて済
み、膜形成に要する時間も短縮することができる。
Although the thickness of the heat radiation layer 10 is set to 20 nm in this embodiment, the heat radiation effect increases as the thickness increases, and the long-term reliability also increases. However, since it also affects the recording sensitivity of the magneto-optical disk, it is necessary to set the film thickness in accordance with the thermal conductivity and specific heat of the material.
A range of 200 nm is good. In particular, 10-100 nm
Is preferred. If the material has relatively high thermal conductivity and excellent corrosion resistance, the film thickness can be as thin as about 10 to 100 nm, and the time required for film formation can be shortened.

【0244】なお、ここでは、実施の形態7に記載の光
磁気ディスクに放射層を適用した場合について記した
が、実施の形態1〜6,8,9及び後述する実施の形態
11〜15に適用しても同様の結果が得られることは言
うまでもない。
Although the case where the radiation layer is applied to the magneto-optical disk described in the seventh embodiment has been described here, the first to sixth, eighth, and ninth embodiments and the later-described embodiments 11 to 15 will be described. It goes without saying that a similar result can be obtained by applying the same.

【0245】尚、実施の形態10における(a)再生層
1、遮断層3’の膜厚、(b)非磁性中間層2の膜厚、
(c)遮断層3’のキュリー温度、(d)遮断層3’の
補償温度、(e)反射層の膜厚、材料については、実施
の形態7〜9に示したものと同様の結果が得られた。
In the tenth embodiment, (a) the thickness of the reproducing layer 1 and the blocking layer 3 ′, (b) the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2,
Regarding (c) the Curie temperature of the blocking layer 3 ′, (d) the compensation temperature of the blocking layer 3 ′, (e) the thickness of the reflective layer, and the material, the same results as those described in Embodiments 7 to 9 were obtained. Obtained.

【0246】また、上記した実施の形態7〜10では、
再生層として室温で面内磁化状態であり、高温で垂直磁
化状態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再
生領域(再生時に所定温度以上に加熱された領域)で垂
直磁化状態となるものであれば使用することができる。
In Embodiments 7 to 10 described above,
A magnetic layer that has an in-plane magnetization state at room temperature and a perpendicular magnetization state at a high temperature is used as a reproduction layer, but has a perpendicular magnetization state at least in a signal reproduction region (a region heated to a predetermined temperature or higher during reproduction). Can be used.

【0247】(実施の形態11)以下、本発明の実施の
形態11を図面を用いて詳細に説明する。
Embodiment 11 Hereinafter, Embodiment 11 of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0248】図12に本実施の形態の磁区拡大再生原理
を示す。
FIG. 12 shows the principle of magnetic domain expansion reproduction of this embodiment.

【0249】本実施の形態の光磁気記録媒体において
は、再生層1と記録層4の間に再生層1と静磁結合する
転写層3”(請求項における磁気マスク層)が設けられ
ている。転写層3”は室温で面内磁化を示し、所定温度
以上で垂直磁化を示すようになっている。そして転写層
3”により記録層4内の上記所定温度(以下、臨界温度
と記す)以上に加熱されていない部分11からの磁化を
マスクする。すなわち、転写層3”により、記録層4の
上記部分11からの磁化が再生層1に伝わることを防止
する。
In the magneto-optical recording medium of the present embodiment, a transfer layer 3 ″ (magnetic mask layer in the claims) that is magnetostatically coupled to the reproduction layer 1 is provided between the reproduction layer 1 and the recording layer 4. The transfer layer 3 ″ exhibits in-plane magnetization at room temperature and perpendicular magnetization at a predetermined temperature or higher. Then, the transfer layer 3 "masks the magnetization of the portion 11 of the recording layer 4 that is not heated to a temperature equal to or higher than the predetermined temperature (hereinafter, referred to as a critical temperature). The transmission of the magnetization from the portion 11 to the reproducing layer 1 is prevented.

【0250】一方、臨界温度以上の部分では転写層3”
は垂直磁化を示すのでマスクをはずすことが可能とな
り、目的とする記録層4の臨界温度以上の範囲のみの情
報を再生することが可能となる。
On the other hand, in the portion above the critical temperature, the transfer layer 3 ″
Indicates perpendicular magnetization, so that it is possible to remove the mask, and it is possible to reproduce information only in the range above the target critical temperature of the recording layer 4.

【0251】従って、再生時における転写層3”の加熱
温度を、転写層3”により記録層4内の1つの記録ビッ
トからの磁束のみを漏洩させ、他の記録ビットからの磁
束をマスクするように設定すれば、記録ビットの間隔が
狭くなっても、隣接ビット11の影響が抑えられ、1つ
の記録ビットの情報のみを再生層1に転写することが可
能となり、良好な再生特性を得ることができる。
Therefore, the heating temperature of the transfer layer 3 ″ during reproduction is set such that only the magnetic flux from one recording bit in the recording layer 4 is leaked by the transfer layer 3 ″ and the magnetic flux from the other recording bits is masked. Is set, the effect of the adjacent bits 11 is suppressed even if the interval between the recording bits is narrowed, so that only information of one recording bit can be transferred to the reproducing layer 1, and good reproduction characteristics can be obtained. Can be.

【0252】ここで、転写層3”は、上記臨界温度以上
の範囲における記録層4と再生層1の静磁結合を有効に
働かせるため、臨界温度以上の温度にキュリー温度があ
る必要がある。さらに、記録層4のキュリー温度より低
く設定することにより記録時に磁気的な影響を与えるこ
とがないため安定した記録が行える。
Here, the transfer layer 3 ″ needs to have a Curie temperature above the critical temperature in order to effectively work the magnetostatic coupling between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 in the range above the critical temperature. Further, by setting the temperature lower than the Curie temperature of the recording layer 4, there is no magnetic influence at the time of recording, so that stable recording can be performed.

【0253】また再生層1は、レーザービームで再生さ
れる際、磁区の大きさが大きい方が信号量が増え、ノイ
ズの原因が少なくなるため、好ましい。また記録層4か
らの磁界に応じて、磁壁が動く必要があり、保持力の小
さい特性が有利である。
When the reproducing layer 1 is reproduced by a laser beam, it is preferable that the size of the magnetic domain is large because the signal amount increases and the cause of noise is reduced. In addition, the domain wall needs to move in accordance with the magnetic field from the recording layer 4, and a characteristic having a small coercive force is advantageous.

【0254】また、この光磁気記録媒体から情報を再生
する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去していく
ことが、スムーズな再生動作につながるため、再生用の
レーザービームをパルス発光させることが望ましい。こ
のようにすれば、レーザーが消光している間に磁区を消
滅させるとともに、レーザーが発光している間に媒体温
度を上昇させて、再生層1に記録層4の記録磁区を転写
させ信号再生を行うことができ、再生信号品質をより高
品質とすることができる。
When information is reproduced from the magneto-optical recording medium, once the magnetic domains formed in the reproducing layer 1 are erased, which leads to a smooth reproducing operation, the reproducing laser beam is pulsed. It is desirable to emit light. In this way, the magnetic domains are extinguished while the laser is extinguished, and the medium temperature is increased while the laser is emitting light, so that the recording magnetic domains of the recording layer 4 are transferred to the reproducing layer 1 and the signal is reproduced. Can be performed, and the quality of the reproduced signal can be made higher.

【0255】以下に、本実施の形態の具体例について図
13に基づいて説明する。ここでは、光磁気記録媒体と
して光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
A specific example of the present embodiment will be described below with reference to FIG. Here, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0256】本実施の形態に係る光磁気ディスクは、図
13に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層
1、非磁性中間層2、転写層3”、記録層4、保護層
8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディ
スク本体を有している。
As shown in FIG. 13, the magneto-optical disk according to this embodiment has a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a non-magnetic intermediate layer 2, a transfer layer 3 ″, a recording layer 4, a protective layer The layer 8 and the overcoat layer 9 have a disk body laminated in this order.

【0257】このような光磁気ディスクでは、その記録
方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半
導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズによ
り再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られてい
る光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっ
ている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化に
より、反射光の偏光面の回転の向きが回転する現象で、
磁化の向きで回転方向が変わる現象である。
In such a magneto-optical disk, a Curie temperature recording method is used as a recording method, and a light beam 5 emitted from a semiconductor laser is focused on the reproducing layer 1 by an objective lens, and is known as a polar Kerr effect. Information is recorded and reproduced by the magneto-optical effect. The polar Kerr effect is a phenomenon in which the direction of rotation of the polarization plane of reflected light is rotated by magnetization perpendicular to the incident surface.
This is a phenomenon in which the direction of rotation changes depending on the direction of magnetization.

【0258】基板6は、例えばポリカーボネート等の透
明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The substrate 6 is made of a transparent base material such as polycarbonate, and is formed in a disk shape.

【0259】透明誘電体層7は、AlN、SiN、Al
SiN、TiO2等の屈折率の大きな材料で構成される
ことが望ましく、その膜厚は、入射するレーザ光に対し
て、良好な干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大
すべく設定される必要があり、再生光の波長をλ、透明
誘電体層7の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の
膜厚は(λ/4n)程度に設定される。例えば、レーザ
光の波長を680nmとした場合、透明誘電体層7の膜
厚を30nm〜100nm程度に設定すれば良い。
The transparent dielectric layer 7 is made of AlN, SiN, Al
It is desirable to use a material having a large refractive index such as SiN or TiO 2 , and the film thickness is set so as to realize a good interference effect on the incident laser light and to increase the Kerr rotation angle of the medium. When the wavelength of the reproduction light is λ and the refractive index of the transparent dielectric layer 7 is n, the thickness of the transparent dielectric layer 7 is set to about (λ / 4n). For example, when the wavelength of the laser light is 680 nm, the thickness of the transparent dielectric layer 7 may be set to about 30 nm to 100 nm.

【0260】再生層1は、希土類遷移金属合金からなる
磁性膜であり、その磁気特性が、室温において面内磁化
状態であり、温度上昇にともない補償組成に近づき、ト
ータルの磁化が小さくなり、反磁界の効果が弱くなっ
て、垂直磁化状態となるように組成調整されている。
The reproducing layer 1 is a magnetic film made of a rare earth transition metal alloy, and its magnetic properties are in an in-plane magnetization state at room temperature, approach a compensation composition as the temperature rises, and the total magnetization becomes smaller. The composition is adjusted so that the effect of the magnetic field is weakened and a perpendicular magnetization state is obtained.

【0261】非磁性中間層2は、AlN、SiN、Al
SiN等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等
の非磁性金属合金の1層、または誘電体と金属の2層か
らなり、再生層1と記録層4とが静磁結合すべく設定さ
れている。
The non-magnetic intermediate layer 2 is made of AlN, SiN, Al
It consists of one layer of a dielectric such as SiN, one layer of a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti, Ta, or two layers of a dielectric and a metal, and the reproducing layer 1 and the recording layer 4 are magnetostatically coupled. It is set to be.

【0262】転写層3”は、希土類遷移金属合金、また
は、希土類金属、または、遷移金属を主成分とす磁性膜
であり、室温では面内磁化を示し、所定温度(臨界温
度)以上で垂直磁化を示す特性を持つ。図12において
説明したように、転写層3”は、臨界温度以下の温度で
記録層4の垂直磁化から発生する磁界を面内磁化でマス
クし、再生層1への磁界を防ぐ。臨界温度以上において
は、垂直磁化を示すためマスク効果を失い、記録層4か
ら発生する磁界が再生層へ透過しやすくなるように、組
成調整されている。
The transfer layer 3 ″ is a rare earth transition metal alloy or a magnetic film containing a rare earth metal or a transition metal as a main component, exhibits in-plane magnetization at room temperature, and exhibits perpendicularity at a predetermined temperature (critical temperature) or higher. As shown in FIG. 12, the transfer layer 3 ″ masks the magnetic field generated from the perpendicular magnetization of the recording layer 4 with the in-plane magnetization at a temperature equal to or lower than the critical temperature, so that the transfer layer 3 ″ Prevent magnetic fields. At a temperature higher than the critical temperature, the composition is adjusted so that the mask effect is lost due to the perpendicular magnetization, and the magnetic field generated from the recording layer 4 is easily transmitted to the reproducing layer.

【0263】記録層4は、希土類遷移金属合金からなる
垂直磁化膜からなり、その膜厚が、20〜80nmの範
囲に設定されている。
The recording layer 4 is made of a perpendicular magnetization film made of a rare earth transition metal alloy, and its thickness is set in the range of 20 to 80 nm.

【0264】保護層8は、AlN、SiN、AlSi
N、SiC等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の
非磁性金属合金からなり、再生層1や記録層4に用いる
希土類遷移金属合金の酸化を防止する目的で形成される
ものであり、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定
されている。
The protection layer 8 is made of AlN, SiN, AlSi
It is made of a dielectric material such as N or SiC or a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti or Ta, and is formed for the purpose of preventing the rare earth transition metal alloy used for the reproducing layer 1 and the recording layer 4 from being oxidized. And its film thickness is set in the range of 5 nm to 60 nm.

【0265】オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂ま
たは熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線
を照射するか、または、加熱するかによって形成され
る。
The overcoat layer 9 is formed by applying an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin by spin coating, and irradiating ultraviolet rays or heating.

【0266】以下、本実施の形態の光磁気ディスクの具
体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分
けて説明する。
Hereinafter, a specific example of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described with respect to (1) a forming method and (2) recording / reproducing characteristics.

【0267】(1)形成方法 上記構成の光磁気ディスクの形成方法について説明す
る。
(1) Forming Method A method of forming a magneto-optical disk having the above configuration will be described.

【0268】まず、Alターゲットと、再生層1と転写
層3”に対応する2種類のGdFeCo合金ターゲット
と、GdDyFeCo合金ターゲットとをそれぞれ備え
たスパッタ装置内に、プリグルーブ及びプリピットを有
しディスク状に形成されたポリカーボネート製の基板6
を基板ホルダーに配置する。スパッタ装置内を1×10
-6Torrまで真空排気した後、アルゴンと窒素の混合
ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス
圧4×10-3Torrの条件で、基板6にAlNからな
る透明誘電体層7を膜厚80nmで形成した。
First, in a sputtering apparatus provided with an Al target, two types of GdFeCo alloy targets corresponding to the reproducing layer 1 and the transfer layer 3 ″, and a GdDyFeCo alloy target, a disc-shaped disk having pre-grooves and pre-pits was provided. Polycarbonate substrate 6 formed on
Is placed on the substrate holder. 1 × 10 inside the sputtering equipment
After evacuation to -6 Torr, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a transparent dielectric layer made of AlN was formed on the substrate 6 under the conditions of a gas pressure of 4 × 10 -3 Torr. 7 was formed with a thickness of 80 nm.

【0269】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧
4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、G
0.30(Fe0.80Co0.200.70からなる再生層1を膜
厚40nmで形成した。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
Electric power is supplied to the GdFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and G
A reproducing layer 1 made of d 0.30 (Fe 0.80 Co 0.20 ) 0.70 was formed with a thickness of 40 nm.

【0270】その再生層1は、室温において面内磁化状
態であり、120℃の温度で垂直磁化状態となる特性を
有し、その補償温度が300℃、そのキュリー温度が3
20℃であった。
The reproducing layer 1 has a property of being in an in-plane magnetization state at room temperature, and having a property of being in a perpendicular magnetization state at a temperature of 120 ° C. The compensation temperature is 300 ° C., and the Curie temperature is 3
20 ° C.

【0271】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、再生層1上にAlNからなる非磁
性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a nonmagnetic intermediate layer 2 of AlN was formed on the reproducing layer 1 to a thickness of 20 nm.

【0272】次に、GdFeCo合金ターゲットに電力
を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁
性中間層2上に、Gd0.30(Fe0.85Co0.150.70
らなる転写層3”を膜厚20nmで形成した。その転写
層3”は、室温において面内磁化状態であり、120℃
の温度で垂直磁化状態となる特性を有し、そのキュリー
温度が250℃であった。
Next, power is supplied to the GdFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and the transfer layer 3 ″ made of Gd 0.30 (Fe 0.85 Co 0.15 ) 0.70 is formed on the nonmagnetic intermediate layer 2. The transfer layer 3 ″ is in an in-plane magnetization state at room temperature and has a thickness of 120 ° C.
, And had a Curie temperature of 250 ° C.

【0273】次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6
Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、
GdDyFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガ
ス圧4×10-3Torrとし、上記転写層3”上に、
(Gd0.50Dy0.500.23(Fe0.80Co0.200.77
らなる記録層4を膜厚40nmで形成した。その記録層
4は、25℃に補償温度を有し、キュリー温度が275
℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again set to 1 × 10 −6.
After evacuating to Torr, introducing argon gas,
A power is supplied to the GdDyFeCo alloy target, the gas pressure is set to 4 × 10 −3 Torr, and on the transfer layer 3 ″,
A recording layer 4 of (Gd 0.50 Dy 0.50 ) 0.23 (Fe 0.80 Co 0.20 ) 0.77 was formed with a thickness of 40 nm. The recording layer 4 has a compensation temperature of 25 ° C. and a Curie temperature of 275.
° C.

【0274】次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入
し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10
-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護
層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and a gas pressure of 4 × 10
Under the condition of -3 Torr, a protective layer 8 of AlN was formed on the recording layer 4 to a thickness of 20 nm.

【0275】次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂
をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射すること
によりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied on the protective layer 8 by spin coating, and irradiated with ultraviolet rays to form an overcoat layer 9.

【0276】(2)記録再生特性 上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)の
マーク長依存性を図14に示す。この図において、上記
した本実施の形態の光磁気ディスクを実施例4として記
している。
(2) Recording / Reproducing Characteristics FIG. 14 shows the mark length dependence of the CNR (signal to noise ratio) of the above disk measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. In this figure, the above-described magneto-optical disk of the present embodiment is shown as Example 4.

【0277】また、比較のため、転写層3”の存在しな
い構成の光磁気ディスクのCNRのマーク長依存性も比
較例1として同図に記載する。なお、転写層3”の存在
しない光磁気ディスクの媒体は、本実施例記載の媒体構
成において、転写層3”を取り除いた構成である。ま
た、ここで示すCNRのマーク長依存性は、マーク長に
対応する長さの記録磁区をマーク長の2倍の長さの記録
磁区ピッチで連続形成した時の信号対雑音比を表すもの
である。
For comparison, the mark length dependence of the CNR of a magneto-optical disk having a structure without the transfer layer 3 ″ is also shown in FIG. The disk medium has a configuration in which the transfer layer 3 ″ is removed from the medium configuration described in the present embodiment. The mark length dependency of the CNR indicates that a recording magnetic domain having a length corresponding to the mark length is marked. It shows the signal-to-noise ratio when the recording magnetic domain pitch is twice as long as the recording magnetic domain pitch.

【0278】マーク長0.3μmの両者のCNRを比較
すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対し
て、本実施例4の場合41.0dBと7.0dBのCNR
増加が観測されている。これは、転写層3”により、記
録層4に対する磁化マスクが効き、再生分解能が上がっ
たことによるものである。
Comparing the CNRs of both of the mark lengths of 0.3 μm, the CNR of Comparative Example 1 is 34.0 dB, whereas the CNR of Example 4 is 41.0 dB and 7.0 dB.
An increase has been observed. This is due to the fact that the transfer layer 3 ″ makes the magnetization mask for the recording layer 4 effective and the reproduction resolution is increased.

【0279】次に、表19は、上記実施例4における再
生層1と転写層3”の膜厚を変えて、0.3μmでのC
NRを測定した結果を示すものである。
Next, Table 19 shows that the film thickness of the reproducing layer 1 and the transfer layer 3 ″ in Example 4 was changed and the C at 0.3 μm was changed.
It shows the result of measuring NR.

【0280】[0280]

【表19】 [Table 19]

【0281】表19において、転写層膜厚0nmは、転
写層3”を形成していない比較例1の結果を示してい
る。転写層3”の膜厚を2nmと極めて薄くした場合に
おいても、面内磁化マスクの強化が実現することによ
り、CNRが1.5dB上昇する。転写層3”の膜厚と
しては、30nmまで面内磁化マスクの強化が実現する
ことにより、CNRが上昇して行くが、それ以上厚くす
るとCNRは低下する。これは、記録層と再生層の間が
離れてしまうことと、面内磁化マスクが強化され過ぎ、
磁気的なアパーチャーが開きにくくなっている影響を受
けて、再生層の完全な垂直磁化状態が得られなくなるこ
とによるものであると考えられる。ここで、表19よ
り、比較例1よりも高いCNRの得られる転写層3”の
膜厚は、2〜40nmの範囲であることが分かる。
In Table 19, the transfer layer thickness of 0 nm shows the result of Comparative Example 1 in which the transfer layer 3 ″ was not formed. Even when the thickness of the transfer layer 3 ″ was extremely thin, 2 nm. By realizing the strengthening of the in-plane magnetization mask, the CNR increases by 1.5 dB. As for the thickness of the transfer layer 3 ″, the CNR increases by realizing the strengthening of the in-plane magnetization mask up to 30 nm, but the CNR decreases when the thickness is further increased. And the in-plane magnetization mask is strengthened too much,
It is considered that this is due to the fact that the magnetic aperture becomes difficult to open, so that a perfect perpendicular magnetization state of the reproducing layer cannot be obtained. Here, from Table 19, it can be seen that the film thickness of the transfer layer 3 ″ in which the CNR is higher than that of Comparative Example 1 is in the range of 2 to 40 nm.

【0282】また、再生層1の膜厚を8nmにすると、
再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低
くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を120nm
にすると、再生層1に発生する磁壁エネルギーが増加
し、温度上昇した部分において完全な垂直磁化状態が得
られなくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなって
しまう。表19より、比較例1よりも高いCNRの得ら
れる再生層1の膜厚は、10〜80nmの範囲であるこ
とが分かる。
When the thickness of the reproducing layer 1 is set to 8 nm,
The reproduced signal becomes smaller, and its CNR becomes lower than that of Comparative Example 1. Further, the thickness of the reproducing layer 1 is set to 120 nm.
In this case, the domain wall energy generated in the reproducing layer 1 increases, and a complete perpendicular magnetization state cannot be obtained in a portion where the temperature is increased, and its CNR becomes lower than that in Comparative Example 1. From Table 19, it can be seen that the thickness of the reproducing layer 1 having a higher CNR than that of Comparative Example 1 is in the range of 10 to 80 nm.

【0283】次に、表20は、実施例4における非磁性
中間層2の膜厚を変えて、0.3μmでのCNR、及
び、消去に必要な磁界(消去磁界)を測定した結果を示
すものである。
Next, Table 20 shows the results of measuring the CNR at 0.3 μm and the magnetic field necessary for erasing (erasing magnetic field) by changing the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 in Example 4. Things.

【0284】[0284]

【表20】 [Table 20]

【0285】表20からわかるように、非磁性中間層2
の膜厚が0.5nmの場合、CNRが著しく低下してい
ることがわかる。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄す
ぎるため、良好な静磁結合状態が得られなかったことに
よるものと考えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nm
の時、最大のCNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が
大きくなるにつれて、静磁結合力が小さくなるとともに
CNRが低下していくことがわかる。比較例1よりも高
いCNRの得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜
80nmの範囲に設定する必要のあることがであること
が分かる。
As can be seen from Table 20, the nonmagnetic intermediate layer 2
It can be seen that when the film thickness is 0.5 nm, the CNR is significantly reduced. This is presumably because the nonmagnetic intermediate layer 2 was too thin to obtain a good magnetostatic coupling state. The thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is 1 nm
In this case, the maximum CNR is obtained, and as the film thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 increases, the magnetostatic coupling force decreases and the CNR decreases. In order to obtain a higher CNR than that of Comparative Example 1, the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 is set to 1 to
It can be seen that it is necessary to set the range to 80 nm.

【0286】さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くする
ことにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さ
くなることにより、消去磁界が小さくなることがわか
る。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にする
ためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とするこ
とが望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the thickness of the non-magnetic intermediate layer 2, the magnetostatic coupling force between the reproducing layer 1 and the recording layer 4 is reduced, and the erasing magnetic field is reduced. In order to keep the erasing magnetic field within a practical range of 31 kA / m or less, it is desirable that the thickness of the nonmagnetic intermediate layer 2 be 4 nm or more.

【0287】(実施の形態12)本実施の形態では、上
記した実施の形態11で示した光磁気ディスクの具体例
において、転写層3”として異なる組成のものを用いた
例について説明する。
(Embodiment 12) In this embodiment, an example in which a transfer layer 3 "having a different composition is used in the specific example of the magneto-optical disk shown in Embodiment 11 will be described.

【0288】実施の形態11においては、転写層3”と
して面内磁化から垂直磁化へ移行する温度(以下T
transとする。)が120℃のGd0.30(Fe0.85Co
0.150.70を用いた場合の記録再生特性を示したが、本
実施の形態においては、転写層3”の組成を変えて記録
再生特性を調査した結果を記述する。
In the eleventh embodiment, the temperature at which the transfer layer 3 ″ shifts from in-plane magnetization to perpendicular magnetization (hereinafter referred to as T
trans ) Is 120 ° C and Gd 0.30 (Fe 0.85 Co
0.15 ) The recording / reproducing characteristics when 0.70 is used are shown. In the present embodiment, the result of investigating the recording / reproducing characteristics by changing the composition of the transfer layer 3 ″ will be described.

【0289】表21は、転写層3”を膜厚30nmのG
X(Fe0.80Co0.201-Xとして、X(atom比)
の値を変えて、転写層3”のTtransと、波長680n
mの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した
0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを測定した結
果を示すものである。
Table 21 shows that the transfer layer 3 ″ was formed of a 30 nm-thick G layer.
As x (Fe 0.80 Co 0.20 ) 1-X , X (atom ratio)
By changing the value, the T trans of the transfer layer 3 ", the wavelength 680n
5 shows the result of measurement of the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a m semiconductor laser.

【0290】[0290]

【表21】 [Table 21]

【0291】表21において、転写層3”を形成してい
ない比較例1において得られたCNR(34.0dB)
よりも高いCNRが得られるのは、0.22≦X≦0.
35の範囲であることがわかる。本実施の形態において
用いた再生層1は、実施例4と同じものであり、120
℃の温度で垂直磁化状態となる。すなわち、転写層3”
は、120℃以下の温度において、再生層1の面内磁化
マスクを強調することができればよい。ただし、あまり
transが低すぎるとマスク効果が薄れるため好ましく
はX≧0.22である。また、Ttransが高すぎるとあ
る程度は再生層1に転写できるが、あまりにも高すぎる
と十分に再生層1に記録情報を転写できなくなる。従っ
て、転写層3”は再生層1が垂直磁化膜になる温度より
高温で垂直磁化になるとマスク状態が維持されままにな
る。したがって、再生温度で垂直磁化になっていること
が望ましい。
In Table 21, the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the transfer layer 3 ″ was not formed.
CNR higher than 0.22 ≦ X ≦ 0.2.
It can be seen that the range is 35. The reproducing layer 1 used in the present embodiment is the same as that of the fourth embodiment.
At the temperature of ° C., the state becomes perpendicular magnetization. That is, the transfer layer 3 ″
It suffices if the in-plane magnetization mask of the reproducing layer 1 can be emphasized at a temperature of 120 ° C. or lower. However, if T trans is too low, the mask effect is weakened, so that X ≧ 0.22 is preferable. Further, if T trans is too high, transfer to the reproducing layer 1 can be performed to some extent, but if T trans is too high, recorded information cannot be sufficiently transferred to the reproducing layer 1. Therefore, when the transfer layer 3 ″ becomes perpendicularly magnetized at a temperature higher than the temperature at which the reproducing layer 1 becomes a perpendicular magnetization film, the mask state is maintained. Therefore, it is desirable that the transfer layer 3 ″ be perpendicularly magnetized at the reproducing temperature.

【0292】また、実施の形態11及び12において、
転写層3”としては、Ttransが上記の条件を満たせれ
ばよいが、キュリー温度を記録層のキュリー温度以下に
設定することにより、記録時に磁気的な影響を与えなく
なるので安定した記録が行える。また、実施の形態11
及び12ではGdFeCoを用いた結果について記述し
ているが、Ttransが上記の条件を満たせればよく、他
に、GdNdFe、GdNdFeCo、GdTbFe、
GdTbFeCo、GdDyFeCo,GdDyFe、
GdFe等からなる転写層3”を用いることが可能であ
る。
Further, in Embodiments 11 and 12,
As for the transfer layer 3 ″, it is sufficient that T trans satisfies the above condition, but by setting the Curie temperature to be equal to or lower than the Curie temperature of the recording layer, magnetic influence is not exerted at the time of recording, so that stable recording can be performed. Embodiment 11
And 12 describe the results using GdFeCo, but it is sufficient that T trans satisfies the above conditions, and in addition, GdNdFe, GdNdFeCo, GdTbFe,
GdTbFeCo, GdDyFeCo, GdDyFe,
It is possible to use a transfer layer 3 ″ made of GdFe or the like.

【0293】尚、再生層1,転写層の膜厚、非磁性中間
層2の膜厚については実施の形態11と同様の結果が得
られた。
The thickness of the reproducing layer 1 and the transfer layer and the thickness of the non-magnetic intermediate layer 2 were similar to those of the eleventh embodiment.

【0294】(実施の形態13)本発明の実施の形態1
3について図15に基づいて説明すれば以下の通りであ
る。本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気デ
ィスクを適用した場合について説明する。但し、実施の
形態11〜13と同一部分については説明を省略する。
(Embodiment 13) Embodiment 1 of the present invention
3 will be described below with reference to FIG. In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described. However, the description of the same parts as those in Embodiments 11 to 13 will be omitted.

【0295】本実施の形態13に係る光磁気ディスク
は、図15に示すように、基板6、透明誘電体層7、再
生層1、非磁性中間層2、反射層10、転写層3”、記
録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて
積層されたディスク本体を有している。
The magneto-optical disk according to the thirteenth embodiment has a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a non-magnetic intermediate layer 2, a reflective layer 10, a transfer layer 3 ″, as shown in FIG. The recording layer 4, the protective layer 8, and the overcoat layer 9 have a disk body laminated in this order.

【0296】実施の形態11においては、転写層3”の
膜厚が10nmより小さくなった場合、再生層1と非磁
性中間層2とを透過した光ビーム5が記録層4により反
射され、再生信号に記録層4の情報が混入することにな
り、再生層1と転写層3”の面内磁化によるマスクの効
果が低下してしまうという結果になる。
In the eleventh embodiment, when the film thickness of the transfer layer 3 ″ is smaller than 10 nm, the light beam 5 transmitted through the reproducing layer 1 and the non-magnetic intermediate layer 2 is reflected by the recording layer 4 and reproduced. Since the information of the recording layer 4 is mixed with the signal, the effect of the mask due to the in-plane magnetization of the reproduction layer 1 and the transfer layer 3 ″ is reduced.

【0297】本実施の形態13の光磁気ディスクは、実
施の形態11に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性
中間層3と転写層3”との間に、反射層10が形成され
た構成を有している。このようにすることにより、再生
層1を透過した光ビーム5は反射層10により反射さ
れ、再生信号に記録層4の情報が混入することを防ぐこ
とが可能となる。
The magneto-optical disk of the thirteenth embodiment has the same structure as that of the magneto-optical disk of the eleventh embodiment except that the reflection layer 10 is formed between the nonmagnetic intermediate layer 3 and the transfer layer 3 ″. This makes it possible to prevent the light beam 5 transmitted through the reproduction layer 1 from being reflected by the reflection layer 10 and mixing information of the recording layer 4 into a reproduction signal.

【0298】以下、本実施の形態の光磁気ディスクの具
体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分
けて説明する。
Hereinafter, a specific example of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described with respect to (1) the forming method and (2) the recording / reproducing characteristics.

【0299】(1)形成方法 本実施の形態の光磁気ディスクは、実施の形態11の光
磁気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と転
写層3”との間に、Alからなる反射層10を形成して
おり、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間
層2、転写層3”、記録層4、保護層8、オーバーコー
ト層9は、実施例4と同様にして、再生層1の膜厚を2
5nmとし、転写層3”の膜厚を20nmとして形成し
た。
(1) Forming Method The magneto-optical disk of the present embodiment is the same as the magneto-optical disk forming method of Embodiment 11, except that the reflection layer made of Al is provided between the nonmagnetic intermediate layer 2 and the transfer layer 3 ″. Layer 10, a substrate 6, a transparent dielectric layer 7, a reproducing layer 1, a non-magnetic intermediate layer 2, a transfer layer 3 ″, a recording layer 4, a protective layer 8, and an overcoat layer 9 were formed as in Example 4. Similarly, the thickness of the reproducing layer 1 is set to 2
The transfer layer 3 ″ was formed to have a thickness of 20 nm.

【0300】ここで、Al反射層10は、非磁性中間層
2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6
orrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、A
lターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3To
rrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射
層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the nonmagnetic intermediate layer 2, the Al reflecting layer 10 was again exposed to 1 × 10 −6 T in the sputtering apparatus.
after evacuating to orr and introducing argon gas, A
l Supply power to the target and set the gas pressure to 4 × 10 -3 To
rr, a reflective layer 10 made of Al was formed on the nonmagnetic intermediate layer 2 with a thickness of 2 to 80 nm.

【0301】(2)記録再生特性 表22は、実施例3における反射層10の膜厚を変え
て、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックア
ップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)
を示すものである。
(2) Recording / Reproducing Characteristics Table 22 shows the CNR (signal to noise) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the thickness of the reflective layer 10 in Example 3. ratio)
It shows.

【0302】[0302]

【表22】 [Table 22]

【0303】表22において、反射層膜厚0nmは、反
射層10を形成していない比較例4の結果を示してい
る。反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合に
おいても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見ら
れ、CNRが1.0dB上昇する。反射層10の膜厚を
厚くすることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜
厚20nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚
増加に伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより
顕著になるためである。該膜厚30nm以上でCNRが
低下しているが、記録層4と再生層1との距離が大きく
なることにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなるこ
とによるものである。以上のことより、比較例4よりも
高いCNRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜5
0nmの範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 22, the thickness of the reflective layer of 0 nm indicates the result of Comparative Example 4 in which the reflective layer 10 was not formed. Even when the thickness of the reflective layer 10 is extremely thin, such as 2 nm, the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 is observed, and the CNR increases by 1.0 dB. By increasing the thickness of the reflective layer 10, the CNR gradually increases, and the CNR becomes maximum at the thickness of 20 nm. This is because the effect of blocking information reproduction from the recording layer 4 becomes more remarkable as the thickness of the reflective layer increases. Although the CNR is reduced when the film thickness is 30 nm or more, the magnetostatic coupling force acting between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 becomes weaker as the distance between the recording layer 4 and the reproducing layer 1 increases. From the above, in order to obtain a higher CNR than that of Comparative Example 4, the thickness of the reflective layer 10 is set to 2 to 5
It can be seen that it is necessary to set within the range of 0 nm.

【0304】(実施の形態14)実施の形態13におい
ては、反射層10として、Alを用いた再生特性につい
て記述しているが、本実施の形態においては、その記録
特性を改善すべく、反射層10として、AlとAl以外
の金属との合金を用いた結果について記述する。
(Embodiment 14) In Embodiment 13, the reproduction characteristics using Al as the reflection layer 10 are described. In this embodiment, however, the reflection characteristics are improved in order to improve the recording characteristics. The result of using an alloy of Al and a metal other than Al as the layer 10 will be described.

【0305】表23は、反射層10を膜厚20nmのA
1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波
長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで
測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去
磁界の大きさを示している。
Table 23 shows that the reflective layer 10 was made of A having a thickness of 20 nm.
By changing the value of X (atom ratio) as l 1-x Fe x , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Is shown.

【0306】[0306]

【表23】 [Table 23]

【0307】表23より、Fe含有量が多くなるにした
がって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつ
れて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのC
NRも比較例4よりも大きく、反射層10を形成した効
果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlか
らなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな
消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.
50以下に設定することにより、消去磁界を小さくする
ことが可能であった。
From Table 23, it can be seen that as the Fe content increases, that is, as X becomes greater than 0.10, the CNR gradually decreases.
The NR is also larger than that of Comparative Example 4, and the effect of forming the reflective layer 10 can be seen. On the other hand, when looking at the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02 or more and 0.2 to 0.2.
By setting it to 50 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0308】次に、表24は、反射層10を膜厚20n
mのAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変え
て、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックア
ップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)
と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 24 shows that the reflective layer 10 was formed to a thickness of 20 n.
The CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the value of X (atom ratio) as Al 1-x Ni x of m
And the magnitude of the erasing magnetic field.

【0309】[0309]

【表24】 [Table 24]

【0310】表24より、Feを含有した場合と同様
に、Xを0.02以上0.50以下に設定することによ
り、消去磁界を小さくすることが可能であった。
[0310] From Table 24, it is possible to reduce the erasing magnetic field by setting X to be 0.02 or more and 0.50 or less, as in the case where Fe is contained.

【0311】Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、D
y、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させるこ
とにより、消去磁界を小さくすることが可能である。
In addition to Fe and Ni, Co, Gd, Tb, D
By similarly including magnetic metals such as y and Nd in Al, the erasing magnetic field can be reduced.

【0312】(実施の形態15)本実施の形態では、実
施の形態13の具体例における反射層10として更に異
なる材料のものを用いた場合について説明する。
(Embodiment 15) In this embodiment, a case where a different material is used as the reflection layer 10 in the specific example of Embodiment 13 will be described.

【0313】実施の形態14においては、反射層10と
して、Alに磁性金属元素を含有させた結果について記
述しているが、本実施の形態においては、Alに非磁性
金属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述
する。
[0313] In the fourteenth embodiment, the result in which a magnetic metal element is contained in Al as the reflection layer 10 is described. However, in the present embodiment, the case where a nonmagnetic metal element is contained in Al is described. This section describes the improvement of recording characteristics.

【0314】表25は、反射層10を膜厚20nmのA
1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波
長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで
測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去
磁界の大きさを示している。
Table 25 shows that the reflective layer 10 was formed of a 20 nm thick A
By changing the value of X (atom ratio) as l 1-x Ti X , the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field were measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Is shown.

【0315】[0315]

【表25】 [Table 25]

【0316】表25より、Ti含有量が多くなるにした
がって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつ
れて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのC
NRも比較例4よりも大きく、反射層10を形成した効
果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlか
らなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな
消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.
98以下に設定することにより、消去磁界を小さくする
ことが可能であった。
As can be seen from Table 25, as the Ti content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases.
The NR is larger than that of Comparative Example 4, and the effect of forming the reflective layer 10 can be seen. On the other hand, when looking at the erasing magnetic field, when the reflective layer 10 made of pure Al is used, a large erasing magnetic field of 50 kA / m is required, whereas X is set to 0.02 or more and 0.2 to 0.2.
By setting it to 98 or less, it was possible to reduce the erasing magnetic field.

【0317】次に、表26は、反射層10として、Ti
以外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減
効果について示すものであり、反射層10をAl0.5
0.5として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合に
おける、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピッ
クアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音
比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 26 shows that the reflective layer 10 is made of Ti
The non-magnetic elements other than are those showing the erasing magnetic field reduction effect when the content of the Al, a reflective layer 10 Al 0.5 Z
When 0.5 is used as the Z value, the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm and the magnitude of the erasing magnetic field measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm when Z is a nonmagnetic metal other than Ti are shown. ing.

【0318】[0318]

【表26】 [Table 26]

【0319】表26より、Zとして非磁性金属であるT
a、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、い
ずれのCNRも比較例4よりも大きく、反射層10を形
成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、Al
にTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を小さくす
ることが可能であった。
From Table 26, it is found that Z is a nonmagnetic metal T
In the case where a, Pt, Au, Cu, and Si were used, all of the CNRs were larger than Comparative Example 4, and the effect of forming the reflective layer 10 was observed. On the other hand, looking at the erasing magnetic field,
It was possible to reduce the erasing magnetic field in the same manner as in the case where Ti was contained in the steel.

【0320】尚、実施の形態13〜15においても、再
生層1,転写層の膜厚、非磁性中間層2の膜厚について
は実施の形態11,12と同様の結果が得られた。
In the thirteenth to fifteenth embodiments, the same results as in the eleventh and twelfth embodiments were obtained with respect to the thicknesses of the reproducing layer 1 and the transfer layer, and the thickness of the non-magnetic intermediate layer 2.

【0321】以上の実施の形態11〜15では再生層1
として室温で面内磁化状態であり高温状態で垂直磁化状
態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再生領
域(再生時に所定温度(再生温度)以上に加熱された領
域)で垂直磁化状態となるものであれば使用することが
できる。
In the above embodiments 11 to 15, the reproducing layer 1
Although a magnetic layer that is in an in-plane magnetization state at room temperature and becomes a perpendicular magnetization state at a high temperature state is used, at least a signal reproduction region (a region heated to a predetermined temperature (reproduction temperature) or more during reproduction) has a perpendicular magnetization state. Can be used.

【0322】また、実施の形態11〜15では転写層
3”は記録層4に隣接していたが、記録層4に静磁結合
しているものであってもよい(実施の形態17参照)。
転写層3”と記録層4の間に非磁性中間層を設けること
により、マスク効果を高めることができる。
In Embodiments 11 to 15, the transfer layer 3 ″ is adjacent to the recording layer 4, but may be magnetostatically coupled to the recording layer 4 (see Embodiment 17). .
By providing a non-magnetic intermediate layer between the transfer layer 3 ″ and the recording layer 4, the mask effect can be enhanced.

【0323】また、以上説明した実施の形態1〜15に
おいて、記録層4と保護層5の間に記録補助層を設けて
も良い。例えば、記録補助層を垂直磁化を示し記録層よ
りキュリー温度が高く、記録層より低磁界で磁化反転す
る材料を用いる。この場合、まず記録時に記録補助層の
磁化を反転させ、交換結合力により記録層の磁化を反転
させることでより低磁界で記録可能となる。
In the first to fifteenth embodiments described above, a recording auxiliary layer may be provided between the recording layer 4 and the protective layer 5. For example, a material that exhibits perpendicular magnetization in the recording auxiliary layer, has a higher Curie temperature than the recording layer, and reverses magnetization at a lower magnetic field than the recording layer is used. In this case, the recording can be performed with a lower magnetic field by first reversing the magnetization of the recording auxiliary layer during recording and reversing the magnetization of the recording layer by the exchange coupling force.

【0324】また、実施の形態1〜15において、再生
層1としてCoとPtの積層膜を使用してもよい。例え
ば、0.4nmのCo層と0.9nmのPt層を交互に
合計30層積層したものが使用できる(合計膜厚は1
9.5nmであり、キュリー温度は300℃)。このよ
うに、CoとPtの積層膜を用いれば、短波長光を使用
する際にカー回転角を大きくすることができ、さらに再
生信号品質を向上することができる。
In the first to fifteenth embodiments, a laminated film of Co and Pt may be used as the reproducing layer 1. For example, a layer in which a total of 30 layers of a 0.4 nm Co layer and a 0.9 nm Pt layer are alternately laminated can be used (total film thickness is 1 layer).
9.5 nm, Curie temperature 300 ° C). As described above, when the laminated film of Co and Pt is used, the Kerr rotation angle can be increased when short-wavelength light is used, and the reproduction signal quality can be further improved.

【0325】(実施の形態16)本発明の実施の形態に
ついて図17に基づいて説明すれば以下の通りである。
本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディス
クを適用した場合について説明する。
(Embodiment 16) An embodiment of the present invention is described below with reference to FIG.
In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0326】図17に示すように、基板6、透明誘電体
層7、再生層1、第1非磁性中間層20、面内磁化層
3、第2非磁性中間層30、記録層4、保護層7、オー
バーコート層8が、この順にて積層されたディスク本体
を有している。第2非磁性中間層30以外の各層の基本
的な特性は上述した実施の形態1〜6で述べたものと同
一である。
As shown in FIG. 17, the substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the first non-magnetic intermediate layer 20, the in-plane magnetic layer 3, the second non-magnetic intermediate layer 30, the recording layer 4, the protective layer The layer 7 and the overcoat layer 8 have a disk body laminated in this order. The basic characteristics of each layer other than the second nonmagnetic intermediate layer 30 are the same as those described in the first to sixth embodiments.

【0327】また、第2非磁性中間層30は、AlN、
SiN、AlSiN、SiO2等の誘電体の1層、また
は、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、また
は上記誘電体と上記金属の2層以上の組み合わせからな
り、面内磁化層3と記録層4とが静磁結合するように設
定されている。
The second non-magnetic intermediate layer 30 is made of AlN,
It consists of one layer of a dielectric such as SiN, AlSiN, SiO 2 , one layer of a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti, Ta, or a combination of two or more layers of the above-mentioned dielectric and the above-mentioned metal. The layer 3 and the recording layer 4 are set to be magnetostatically coupled.

【0328】以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例
について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて
説明する。
Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk having the above-described configuration will be described with respect to (1) a forming method and (2) recording / reproducing characteristics.

【0329】(1)形成方法 形成方法は、これまでに上述した形成方法と略同一であ
り、異なる箇所のみを記載する。透明誘電体層7、再生
層1、第1非磁性中間層20、面内磁化層3の形成方法
はこれまでの実施の形態と同一である。第2非磁性中間
層30の形成方法は次の通りである。
(1) Forming Method The forming method is substantially the same as the above-described forming method, and only different points will be described. The method of forming the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the first non-magnetic intermediate layer 20, and the in-plane magnetic layer 3 is the same as in the previous embodiments. The method of forming the second non-magnetic intermediate layer 30 is as follows.

【0330】面内磁化層3を形成後、再度、スパッタ装
置内を1×10-6Torrまで排気し、アルゴンと窒素
の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給し
て、ガス圧4×10-3Torrの条件で、面内磁化層3
上にAlNからなる第2非磁性中間層30を形成した。
After the in-plane magnetization layer 3 was formed, the inside of the sputtering apparatus was again evacuated to 1 × 10 -6 Torr, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, power was supplied to the Al target, and the gas pressure was changed to 4 × 10 −6 Torr. Under the condition of × 10 -3 Torr, the in-plane magnetization layer 3
A second non-magnetic intermediate layer 30 made of AlN was formed thereon.

【0331】続けて、再度、スパッタ装置内を1×10
-6Torrまで真空排気した後、上述した実施の形態と
同様に、第2非磁性中間層30上に記録層4、AlNか
らなる保護層7を形成した。
Subsequently, the inside of the sputtering apparatus was again set to 1 × 10
After evacuating to -6 Torr, the recording layer 4 and the protective layer 7 made of AlN were formed on the second nonmagnetic intermediate layer 30 in the same manner as in the above-described embodiment.

【0332】次に、上記保護層7上に、紫外線硬化樹脂
をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射すること
によりオーバーコート層8を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied on the protective layer 7 by spin coating, and irradiated with ultraviolet rays to form an overcoat layer 8.

【0333】(2)記録再生特性 上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定した。表27は、第2非磁性中
間層30の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定
した結果を示すものである。
(2) Recording / reproducing characteristics The disk was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Table 27 shows the result of measuring the CNR at 0.3 μm by changing the thickness of the second nonmagnetic intermediate layer 30.

【0334】[0334]

【表27】 [Table 27]

【0335】表27において、第2非磁性中間層30の
膜厚0nmは、第2非磁性中間層20を形成していない
場合の結果を示している。ここから分かるように、第2
非磁性中間層20を膜厚80nmまで設けることによ
り、高いCNRが得られている。
In Table 27, the thickness of the second non-magnetic intermediate layer 30 of 0 nm indicates the result when the second non-magnetic intermediate layer 20 was not formed. As you can see here, the second
By providing the nonmagnetic intermediate layer 20 up to a thickness of 80 nm, a high CNR is obtained.

【0336】これについて以下に説明する。第2非磁性
中間層30を設けない場合、面内磁化層3の磁化は、記
録層4からの交換結合力により、磁化が垂直方向に向き
やすい状態になっている。再生時に温度上昇した場合、
面内磁化層3の磁化が小さくなると、記録層4からの交
換結合力により、面内磁化層3の磁化は垂直方向に向
く。このため、所定温度以下のマスク層として働く領域
でも、記録層4からの磁化が再生層1に漏洩されてしま
う。
This will be described below. When the second non-magnetic intermediate layer 30 is not provided, the magnetization of the in-plane magnetization layer 3 is in a state where the magnetization is easily oriented in the vertical direction due to the exchange coupling force from the recording layer 4. If the temperature rises during regeneration,
When the magnetization of the in-plane magnetic layer 3 decreases, the magnetization of the in-plane magnetic layer 3 is oriented in the perpendicular direction due to the exchange coupling force from the recording layer 4. Therefore, the magnetization from the recording layer 4 is leaked to the reproducing layer 1 even in a region which functions as a mask layer at a predetermined temperature or lower.

【0337】これに対して、第2非磁性中間層30を設
けた場合、面内磁化層3と記録層4は交換結合すること
はない。従って、再生時に温度上昇しても、所定温度以
下の領域では面内磁化層3の磁化は面内方向を向いたま
まである。このため、所定温度以下の領域でマスク効果
をさらに得ることができる。
On the other hand, when the second non-magnetic intermediate layer 30 is provided, the in-plane magnetic layer 3 and the recording layer 4 do not undergo exchange coupling. Therefore, even if the temperature rises during reproduction, the magnetization of the in-plane magnetic layer 3 remains in the in-plane direction in a region below the predetermined temperature. For this reason, a mask effect can be further obtained in a region below a predetermined temperature.

【0338】ただし、第2非磁性中間層30の膜厚をあ
まり厚くしすぎると再生層1との静磁結合力が弱くな
り、記録層4の情報が再生層1に転写されなくなってし
まう。従って、第2非磁性中間層30の膜厚としては、
2nm以上80nm以下が望ましい。
However, if the thickness of the second non-magnetic intermediate layer 30 is too large, the magnetostatic coupling force with the reproducing layer 1 will be weak, and the information on the recording layer 4 will not be transferred to the reproducing layer 1. Therefore, the thickness of the second nonmagnetic intermediate layer 30 is
The thickness is preferably 2 nm or more and 80 nm or less.

【0339】また、第2非磁性中間層30としては、面
内磁化層3と記録層4の交換結合力を遮断するものであ
れば何でも良いが、透明誘電体層7または第1非磁性中
間層20のいずれか或いは両方と同一にすれば(例えば
本実施の形態のようにAlNに統一すれば)、製造工程
が簡単にできる。
As the second non-magnetic intermediate layer 30, any material may be used as long as it can block the exchange coupling force between the in-plane magnetic layer 3 and the recording layer 4, but the transparent dielectric layer 7 or the first non-magnetic intermediate layer can be used. If one or both of the layers 20 is the same (for example, if it is unified to AlN as in the present embodiment), the manufacturing process can be simplified.

【0340】(実施の形態17)本発明の実施の形態に
ついて図17に基づいて説明すれば以下の通りである。
本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディス
クを適用した場合について説明する。
(Embodiment 17) The embodiment of the present invention is described below with reference to FIG.
In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.

【0341】図17に示すように、基板6、透明誘電体
層7、再生層1、第1非磁性中間層20、転写層3”、
第2非磁性中間層30、記録層4、保護層7、オーバー
コート層8が、この順にて積層されたディスク本体を有
している。
As shown in FIG. 17, the substrate 6, the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the first non-magnetic intermediate layer 20, the transfer layer 3 ″,
The second non-magnetic intermediate layer 30, the recording layer 4, the protective layer 7, and the overcoat layer 8 have a disk body laminated in this order.

【0342】第2非磁性中間層以外の各層の基本的な特
性は上述した実施の形態11〜15で述べたものと同一
である。
The basic characteristics of each layer other than the second nonmagnetic intermediate layer are the same as those described in the above-described embodiments 11 to 15.

【0343】また、第2非磁性中間層30は、AlN、
SiN、AlSiN、SiO2等の誘電体の1層、また
は、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、また
は上記誘電体と上記金属の2層以上の組み合わせからな
り、転写層3”と記録層4とが静磁結合するように設定
されている。
The second non-magnetic intermediate layer 30 is made of AlN,
The transfer layer 3 is made of one layer of a dielectric such as SiN, AlSiN, SiO 2 , one layer of a non-magnetic metal alloy such as Al, Ti, Ta, or a combination of two or more layers of the above dielectric and the above metal. And the recording layer 4 are set to be magnetostatically coupled.

【0344】以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例
について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて
説明する。
Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk having the above configuration will be described with respect to (1) a forming method and (2) recording / reproducing characteristics.

【0345】(1)形成方法 形成方法は、上述した形成方法と略同一であり、異なる
所のみを記載する。透明誘電体層7、再生層1、第1非
磁性中間層20、転写層3”の形成方法はこれまでの実
施の形態と同一である。第2非磁性中間層30の形成方
法は次の通りである。
(1) Forming method The forming method is substantially the same as the above-described forming method, and only different points will be described. The method of forming the transparent dielectric layer 7, the reproducing layer 1, the first non-magnetic intermediate layer 20, and the transfer layer 3 ″ is the same as that of the previous embodiment. The method of forming the second non-magnetic intermediate layer 30 is as follows. It is on the street.

【0346】転写層3”を形成後、再度、スパッタ装置
内を1×10-6Torrまで排気し、アルゴンと窒素の
混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、
ガス圧4×10-3Torrの条件で、転写層3”上にA
lNからなる第2非磁性中間層30を形成した。
After the transfer layer 3 ″ was formed, the inside of the sputtering apparatus was again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, a mixed gas of argon and nitrogen was introduced, and power was supplied to the Al target.
Under the condition of a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr, A
A second non-magnetic intermediate layer 30 of 1N was formed.

【0347】続けて、再度、スパッタ装置内を1×10
-6Torrまで真空排気した後、上述した実施の形態と
同様に、第2非磁性中間層30上に記録層4、AlNか
らなる保護層7を形成した。次に、上記保護層7上に、
紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線
を照射することによりオーバーコート層8を形成した。
Subsequently, the inside of the sputtering apparatus was again set to 1 × 10
After evacuating to -6 Torr, the recording layer 4 and the protective layer 7 made of AlN were formed on the second nonmagnetic intermediate layer 30 in the same manner as in the above-described embodiment. Next, on the protective layer 7,
The overcoat layer 8 was formed by applying an ultraviolet curable resin by spin coating and irradiating ultraviolet rays.

【0348】(2)記録再生特性 上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用い
た光ピックアップで測定した。表28は、第2非磁性中
間層30の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定
した結果を示すものである。
(2) Recording / Reproducing Characteristics The disc was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Table 28 shows the result of measuring the CNR at 0.3 μm by changing the thickness of the second nonmagnetic intermediate layer 30.

【0349】[0349]

【表28】 [Table 28]

【0350】表28において、第2非磁性中間層30の
膜厚0nmは、第2非磁性中間層30を形成していない
場合の結果を示している。この表から分かるように、第
2非磁性中間層30を膜厚80nmまで設けることによ
り、高いCNRが得られている。
In Table 28, the thickness of the second non-magnetic intermediate layer 30 of 0 nm shows the result when the second non-magnetic intermediate layer 30 was not formed. As can be seen from this table, a high CNR is obtained by providing the second non-magnetic intermediate layer 30 to a thickness of 80 nm.

【0351】これについて以下に説明する。第2非磁性
中間層30を設けない場合、転写層3”の磁化は、記録
層4からの交換結合力により、磁化が垂直方向に向きや
すい状態になっている。再生時に温度上昇した場合、転
写層3”の磁化が小さくなると、記録層4からの交換結
合力により、転写層3”の磁化は垂直方向に向く。この
ため、所定温度以下のマスク層として働く領域でも、記
録層4からの磁化が再生層1に漏洩されてしまう。
This will be described below. When the second non-magnetic intermediate layer 30 is not provided, the magnetization of the transfer layer 3 ″ tends to be oriented in the vertical direction due to the exchange coupling force from the recording layer 4. When the magnetization of the transfer layer 3 ″ decreases, the magnetization of the transfer layer 3 ″ is oriented in the vertical direction due to the exchange coupling force from the recording layer 4. Is leaked to the reproducing layer 1.

【0352】これに対して、第2非磁性中間層30を設
けた場合、転写層3”と記録層4は交換結合することは
ない。従って、再生時に温度上昇しても転写層3”の磁
化は面内方向を向いたままであり、所定温度以上で垂直
磁化へ移行する。このため、所定温度以下の領域でマス
ク効果をさらに得ることができる。
On the other hand, when the second nonmagnetic intermediate layer 30 is provided, the transfer layer 3 "and the recording layer 4 are not exchange-coupled. Therefore, even if the temperature rises during reproduction, the transfer layer 3" The magnetization remains in the in-plane direction, and shifts to perpendicular magnetization at a predetermined temperature or higher. For this reason, a mask effect can be further obtained in a region below a predetermined temperature.

【0353】ただし、第2非磁性中間層30の膜厚をあ
まり厚くしすぎると再生層1との静磁結合力が弱くな
り、記録層4の情報が再生層1に転写されなくなってし
まう。従って、第2非磁性中間層30の膜厚としては、
2nm以上80nm以下が望ましい。
However, if the thickness of the second non-magnetic intermediate layer 30 is too large, the magnetostatic coupling force with the reproducing layer 1 will be weak, and the information on the recording layer 4 will not be transferred to the reproducing layer 1. Therefore, the thickness of the second nonmagnetic intermediate layer 30 is
The thickness is preferably 2 nm or more and 80 nm or less.

【0354】また、第2非磁性中間層30としては、転
写層3”と記録層4の交換結合力を遮断するものであれ
ば、何でも良いが、透明誘電体層7または第1非磁性中
間層20のいずれか或いは両方と同一にすれば(例えば
本実施の形態のようにAlNに統一すれば)、製造工程
が簡単にできる。
As the second non-magnetic intermediate layer 30, any material may be used as long as it can block the exchange coupling force between the transfer layer 3 ″ and the recording layer 4, but the transparent dielectric layer 7 or the first non-magnetic intermediate layer 30 can be used. If one or both of the layers 20 is the same (for example, if it is unified to AlN as in the present embodiment), the manufacturing process can be simplified.

【0355】[0355]

【発明の効果】【The invention's effect】

(1)本発明の光磁気記録媒体では、少なくとも室温に
おいて再生層に記録層からの漏洩磁束が伝わることを抑
制できるため、再生時に隣接する記録磁区の磁化の影響
を排除して、所望の記録磁区からの情報のみを取り出す
ことが可能となり、記録密度の増大が実現できる。これ
により小さいビット径及び小さい記録ビット間隔での記
録再生が可能となる。
(1) In the magneto-optical recording medium of the present invention, since the leakage magnetic flux from the recording layer can be suppressed from being transmitted to the reproducing layer at least at room temperature, the influence of the magnetization of the adjacent recording magnetic domain at the time of reproduction is eliminated, and the desired recording is performed. Only information from the magnetic domains can be extracted, and an increase in recording density can be realized. This enables recording and reproduction with a smaller bit diameter and a smaller recording bit interval.

【0356】(2)また、記録層の記録磁区よりも大き
な磁区を再生層に形成することにより、(1)の効果に
加えて、再生信号量を増大することができ信号品質を向
上できる。
(2) By forming a magnetic domain larger than the recording magnetic domain of the recording layer in the reproducing layer, in addition to the effect of (1), the reproduction signal amount can be increased and the signal quality can be improved.

【0357】(3)さらに、面内磁化層を磁化マスクに
用いると、面内磁化層により、室温では記録層から発生
する磁界を吸収して再生層における記録層からの磁界を
遮断できる。一方、再生用のレーザービームを照射によ
り加熱された場合には、面内磁化層の磁化が減少するた
め、上記磁界の遮断効果がなくなり、その加熱領域にお
いて記録層からの磁束が再生層に漏れて、再生層を記録
情報に応じた垂直磁化にすることができる。ここでは、
加熱された微小領域からのみの情報が再生層に伝わるこ
とになるため、小さい記録ビット長及び小さい記録ビッ
ト間隔で記録再生を行った場合においても、十分な再生
信号を得ることができる。
(3) Further, when the in-plane magnetic layer is used as a magnetization mask, the in-plane magnetic layer can absorb the magnetic field generated from the recording layer at room temperature and cut off the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer. On the other hand, when the laser beam for reproduction is heated by irradiation, the magnetization of the in-plane magnetic layer decreases, so that the above-mentioned magnetic field blocking effect is lost, and the magnetic flux from the recording layer leaks to the reproduction layer in the heated region. Thus, the reproducing layer can be made to have perpendicular magnetization according to the recorded information. here,
Since information only from the heated minute area is transmitted to the reproduction layer, a sufficient reproduction signal can be obtained even when recording and reproduction are performed with a small recording bit length and a small recording bit interval.

【0358】(4)また、上記面内磁化層の室温におけ
る磁化を記録層の室温における磁化よりも大きくしてお
けば、上記磁界の遮断効果を確実に行うことができる。
(4) If the magnetization of the in-plane magnetization layer at room temperature is made larger than the magnetization of the recording layer at room temperature, the above-mentioned magnetic field blocking effect can be ensured.

【0359】(5)さらに、再生時の加熱により、面内
磁化層はキュリー温度以上となり磁化が消失し、記録層
はその時点において記録された情報を保持するためキュ
リー温度以下としておくことが望ましい、すなわち、記
録層のキュリー温度を面内磁化層のキュリー温度よりも
低く設定しておくことが望ましい。
(5) Further, by heating during reproduction, the in-plane magnetic layer becomes higher than the Curie temperature and the magnetization disappears, and the recording layer is preferably kept at the Curie temperature or lower in order to retain information recorded at that time. That is, it is desirable to set the Curie temperature of the recording layer lower than the Curie temperature of the in-plane magnetic layer.

【0360】(6)また、再生層は、再生特性が求めら
れるため、記録層よりもキュリー温度が高い方が有利で
ある。
(6) Since the reproducing layer is required to have reproducing characteristics, it is advantageous that the Curie temperature is higher than that of the recording layer.

【0361】(7)基板上に、透明誘電体層、再生層、
非磁性中間層、面内磁化層、記録層、保護層を順次形成
すれば、記録層に小さく記録されたビット情報の1部
を、面内磁化層による磁化マスクで選択し、再生層の磁
区で大きく拡大して再生でき、高密度記録においても、
十分大きな信号強度が得られる。また、非磁性中間層に
より再生層と面内磁化層との交換結合を完全に遮断し、
再生層と記録層との間に良好な静磁結合を実現すること
が可能となる。
(7) A transparent dielectric layer, a reproducing layer,
If a non-magnetic intermediate layer, an in-plane magnetic layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially formed, a part of the bit information recorded in the recording layer is selected by a magnetic mask using the in-plane magnetic layer, and the magnetic domain of the reproducing layer is selected. Can be reproduced in large scale, and even in high-density recording,
A sufficiently large signal strength can be obtained. Further, the exchange coupling between the reproducing layer and the in-plane magnetic layer is completely cut off by the non-magnetic intermediate layer,
Good magnetostatic coupling between the reproducing layer and the recording layer can be realized.

【0362】(8)上記(7)において面内磁化層の膜
厚を2nm以上40nm以下とすれば、面内磁化層によ
る記録層のマスク効果が良好な状態に設定される。ま
た、安定した磁区拡大再生が可能となる。
(8) If the thickness of the in-plane magnetic layer is set to 2 nm or more and 40 nm or less in (7), the mask effect of the recording layer by the in-plane magnetic layer is set to a favorable state. In addition, stable magnetic domain expansion reproduction can be performed.

【0363】(9)上記(7),(8)において、磁気
マスク層をGdFe合金、GdFeAl合金、GdFe
Ti合金、GdFeTa合金、GdFePt合金、Gd
FeAu合金、GdFeCu合金、GdFeAlTi合
金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金とすれば、
再生層の安定した磁区形成が可能となり、記録層から出
てくる磁界に対し、正しく反応することができ、良好な
磁区拡大再生を実現することが可能となる。
(9) In the above (7) and (8), the magnetic mask layer is made of a GdFe alloy, a GdFeAl alloy, a GdFe alloy.
Ti alloy, GdFeTa alloy, GdFePt alloy, Gd
FeAu alloy, GdFeCu alloy, GdFeAlTi alloy, or GdFeAlTa alloy,
It is possible to stably form a magnetic domain in the reproducing layer, to correctly react to a magnetic field coming out of the recording layer, and to realize a good magnetic domain expansion reproduction.

【0364】(10)上記(7),(8)において、磁
気マスク層を(Gd0.11Fe0.89 XAl1-Xとし、X
(atom比)を0.30以上1.00以下とすれば、磁
気マスク層(面内磁化層)の磁気特性が最適化されるこ
とにより、記録層と面内磁化層との間の良好な交換結合
状態を実現することができ、良好な磁区拡大再生を実現
できる。
(10) In (7) and (8) above,
(Gd0.11Fe0.89) XAl1-XAnd X
If the (atom ratio) is 0.30 or more and 1.00 or less, magnetic
That the magnetic properties of the magnetic mask layer (in-plane magnetic layer) are optimized.
Good exchange coupling between the recording layer and the in-plane magnetization layer
State can be realized, and good magnetic domain expansion reproduction can be realized.
it can.

【0365】(11)上記(7)〜(10)において、
磁気マスク層のキュリー温度を60℃以上220℃以下
とすれば、磁気マスク層のキュリー温度が最適化される
ことにより、磁気マスク層のキュリー温度以下の温度で
は、記録層の磁化を面内磁化で再生層から遮断し(磁気
マスクし)、磁気マスク層のキュリー温度以上の温度
で、記録層と再生層との間の静磁結合を良好に保ち、安
定な磁区拡大再生を実現することが可能となる。
(11) In the above (7) to (10),
If the Curie temperature of the magnetic mask layer is 60 ° C. or more and 220 ° C. or less, the Curie temperature of the magnetic mask layer is optimized. The magnetic layer is shielded from the reproducing layer by (magnetic mask), and at a temperature equal to or higher than the Curie temperature of the magnetic mask layer, the magnetostatic coupling between the recording layer and the reproducing layer is kept good, and stable magnetic domain expansion reproduction can be realized. It becomes possible.

【0366】(12)磁気マスク層としてトータル磁化
が記録層とは逆方向のものを用いれば、記録層から発生
し再生層に影響を与える磁界を減じることができるた
め、再生層は光ビームスポットの中央部に存在する記録
ビットのみの影響により磁化方向が決められることとな
り、微小記録ビット間隔、微小記録ビット幅での再生が
可能となる。
(12) If a magnetic mask layer whose total magnetization is in the opposite direction to that of the recording layer is used, the magnetic field generated from the recording layer and affecting the reproducing layer can be reduced. The magnetization direction is determined by the influence of only the recording bits existing in the central portion of, and reproduction can be performed with a minute recording bit interval and a minute recording bit width.

【0367】(13)上記(12)において、遷移金属
リッチの記録層に隣接した希土類金属リッチの磁気マス
ク層により、情報の再生時に、低温領域の記録層から発
生する磁界を減じれば、再生層は光ビームスポットの中
央部に存在する記録ビットのみの影響により磁化方向が
決められることとなり、微小記録ビット間隔、微小記録
ビット幅での再生が可能となる。
(13) In the above (12), if the magnetic field generated from the recording layer in the low-temperature region at the time of information reproduction is reduced by the rare earth metal-rich magnetic mask layer adjacent to the transition metal-rich recording layer, the reproduction can be performed. The magnetization direction of the layer is determined only by the recording bit existing at the center of the light beam spot, and reproduction can be performed at a minute recording bit interval and a minute recording bit width.

【0368】(14)上記(12),(13)におい
て、磁気マスク層が情報再生時の加熱により磁化が減少
するものであれば、低温領域では記録層から再生層へと
磁束が漏洩することを抑制でき、一方、高温領域では記
録層からの磁束を再生層へと漏洩させることができ、記
録層における単一の記録ビットからの情報により再生層
の磁化方向を確実に決めることが可能となり、再生信号
品質を向上させることができる。
(14) In the above (12) and (13), if the magnetic mask layer is one whose magnetization is reduced by heating at the time of reproducing information, magnetic flux leaks from the recording layer to the reproducing layer in a low temperature region. On the other hand, in the high temperature region, the magnetic flux from the recording layer can leak to the reproducing layer, and the magnetization direction of the reproducing layer can be reliably determined by information from a single recording bit in the recording layer. Thus, the quality of the reproduced signal can be improved.

【0369】(15)上記(12)〜(14)におい
て、磁気マスク層の室温における磁化を記録層の室温に
おける磁化と略同一とすることにより、低温領域におい
て記録層からの磁界が再生層に作用しないようにするこ
とができ、更に、再生信号品質を向上させることができ
る。
(15) In the above (12) to (14), by making the magnetization of the magnetic mask layer at room temperature substantially the same as the magnetization of the recording layer at room temperature, a magnetic field from the recording layer in the low temperature region is applied to the reproducing layer. It can be made not to act, and the reproduction signal quality can be improved.

【0370】(16)上記(12)〜(15)におい
て、磁気マスク層のキュリー温度を記録層のキュリー温
度より低ければ、再生時に磁気マスク層をキュリー温度
近傍まで加熱しその磁化を減少させ、記録層はその時点
において記録された情報を保持するようにすることが可
能となる。
(16) In the above (12) to (15), if the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer, the magnetic mask layer is heated to near the Curie temperature during reproduction to reduce its magnetization. The recording layer can hold the information recorded at that time.

【0371】(17)上記(12)〜(16)におい
て、磁気マスク層の補償温度を記録層のキュリー温度よ
り低くすれば、再生時に遮断層を補償温度近傍まで加熱
しその磁化を減少させ、記録層はその時点において記録
された情報を保持するようにすることが可能となる。
(17) In the above (12) to (16), if the compensation temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer, the interruption layer is heated to near the compensation temperature during reproduction to reduce its magnetization. The recording layer can hold the information recorded at that time.

【0372】(18)上記(12)〜(17)におい
て、光磁気ディスク基板上に、透明誘電体層、再生層、
非磁性中間層、磁気マスク層、記録層、保護層を順次形
成した構成とすることで、記録層に小さく記録されたビ
ット情報の一部のみを遮断層による磁化マスクで選択
し、再生層に大きな拡大磁区を形成して安定な再生動作
を行う事が可能となる。また、非磁性中間層により、再
生層と磁気マスク層及び記録層との交換結合を完全に遮
断し、再生層と磁気マスク層及び記録層との間に良好な
静磁結合を実現することが可能となる。
(18) In the above items (12) to (17), a transparent dielectric layer, a reproducing layer,
By adopting a structure in which a non-magnetic intermediate layer, a magnetic mask layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially formed, only a part of the bit information recorded in the recording layer in a small size is selected with a magnetization mask by a blocking layer, and the reproducing layer is A stable reproducing operation can be performed by forming a large enlarged magnetic domain. Further, the non-magnetic intermediate layer completely shuts off exchange coupling between the reproducing layer, the magnetic mask layer, and the recording layer, and realizes good magnetostatic coupling between the reproducing layer, the magnetic mask layer, and the recording layer. It becomes possible.

【0373】(19)上記(18)において、磁気マス
ク層の膜厚を10nm以上60nm以下とすることによ
り、遮断層による再生層における記録層からの磁界のマ
スク効果を強調することが可能であるとともに、再生層
膜厚が最適化されることにより、良好な再生信号を得る
ことが可能となる。
(19) In the above (18), by setting the thickness of the magnetic mask layer to 10 nm or more and 60 nm or less, it is possible to emphasize the effect of the shielding layer on the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer. In addition, by optimizing the thickness of the reproducing layer, it becomes possible to obtain a good reproducing signal.

【0374】(20)上記(12)〜(17)におい
て、基板上に、透明誘電体層、再生層、非磁性中間層、
記録層、遮断層、保護層が順次形成された構成とするこ
とで、記録層に小さく記録されたビット情報の一部のみ
を磁気マスク層による磁化マスクで選択し、再生層に大
きな拡大磁区を形成して安定な再生動作を行うことが可
能となる。また、非磁性中間層により、再生層と磁気マ
スク層及び記録層との交換結合を完全に遮断し、再生層
と磁気マスク層及び記録層との間に良好な静磁結合を実
現することが可能となる。さらに、信号再生領域におけ
る記録層から再生層への磁区転写が起こりやすくなると
ともに、遮断層の膜厚の選択範囲を広くすることができ
る。
(20) In the above (12) to (17), a transparent dielectric layer, a reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
With the configuration in which the recording layer, the blocking layer, and the protective layer are sequentially formed, only a part of the bit information recorded small in the recording layer is selected with the magnetic mask by the magnetic mask layer, and the enlarged magnetic domain is formed in the reproducing layer. Thus, a stable reproducing operation can be performed. Further, the non-magnetic intermediate layer completely shuts off exchange coupling between the reproducing layer, the magnetic mask layer, and the recording layer, and realizes good magnetostatic coupling between the reproducing layer, the magnetic mask layer, and the recording layer. It becomes possible. Further, the magnetic domain transfer from the recording layer to the reproducing layer in the signal reproducing region is easily caused, and the selection range of the thickness of the blocking layer can be widened.

【0375】(21)上記(20)において、磁気マス
ク層の膜厚を10nm以上80nm以下とすることによ
り、磁気マスク層による再生層における記録層からの磁
界のマスク効果を強調することが可能であり、良好な再
生信号を得ることができる。
(21) In the above (20), by setting the thickness of the magnetic mask layer to 10 nm or more and 80 nm or less, it is possible to emphasize the effect of the magnetic mask layer on the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer. Yes, a good reproduced signal can be obtained.

【0376】(22)上記(18)〜(21)におい
て、磁気マスク層がGdDyFe合金、TbFe合金、
DyFe合金、GdFe合金、GdTbFe合金、Dy
FeCo合金、TbFeCo合金のいずれかを含む合金
からなる構成とすれば、磁気マスク層による再生層にお
ける記録層からの磁界のマスク効果を強調することが可
能となり、良好な再生信号を得ることができる。
(22) In the above (18) to (21), the magnetic mask layer is made of a GdDyFe alloy, a TbFe alloy,
DyFe alloy, GdFe alloy, GdTbFe alloy, Dy
With a configuration made of an alloy containing either the FeCo alloy or the TbFeCo alloy, the magnetic mask layer can enhance the effect of masking the magnetic field from the recording layer in the reproduction layer, and a good reproduction signal can be obtained. .

【0377】(23)磁気マスク層のキュリー温度を8
0℃〜220℃とすれば、低温領域では遮断層による再
生層における記録層からの磁界のマスク効果を強調する
ことが可能となり、高温(再生温度近傍)では記録層か
らの磁界を再生層に漏洩させることができ、良好な再生
信号を得ることができる。
(23) The Curie temperature of the magnetic mask layer is set to 8
When the temperature is set to 0 ° C. to 220 ° C., it is possible to enhance the mask effect of the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer by the blocking layer in a low temperature region, and to apply the magnetic field from the recording layer to the reproducing layer in a high temperature (near the reproducing temperature). Leakage can be obtained, and a good reproduced signal can be obtained.

【0378】(24)上記(18)〜(23)におい
て、磁気マスク層の補償温度を80℃〜220℃とすれ
ば、低温領域では磁気マスク層による再生層における記
録層からの磁界のマスク効果を強調することが可能とな
り、高温(再生温度近傍)では記録層からの磁界を再生
層に漏洩させることができ、良好な再生信号を得ること
ができる。
(24) In the above (18) to (23), if the compensation temperature of the magnetic mask layer is set to 80 ° C. to 220 ° C., the effect of the magnetic mask layer to mask the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer in the low temperature region. Can be emphasized, and at a high temperature (near the reproduction temperature), the magnetic field from the recording layer can be leaked to the reproduction layer, and a good reproduction signal can be obtained.

【0379】(25)また、磁気マスク層として、室温
で面内磁化を示し所定温度以上で垂直磁化を示す磁性層
を用いているため、この磁気マスク層により、室温では
記録層から発生する磁界を吸収して再生層における記録
層からの磁界を遮断できる。また、再生用のレーザービ
ーム照射により加熱された部分は補償組成近傍となり垂
直磁化を示すため、上記磁界遮断効果がなくなり、その
加熱領域において記録層からの磁束が再生層に漏れて、
再生層を記録情報に応じた垂直磁化にすることができ
る。ここでは、加熱された微小領域からのみの情報が再
生層に伝わることになるため、小さい記録ビット長及び
小さい記録ビット間隔で記録再生を行った場合において
も、十分な再生信号を得ることができる。
(25) Since a magnetic layer that exhibits in-plane magnetization at room temperature and exhibits perpendicular magnetization at a predetermined temperature or higher at room temperature is used as the magnetic mask layer, the magnetic mask layer causes a magnetic field generated from the recording layer at room temperature. To absorb the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer. In addition, since the portion heated by the laser beam irradiation for reproduction becomes near the compensation composition and exhibits perpendicular magnetization, the magnetic field blocking effect is lost, and the magnetic flux from the recording layer leaks to the reproduction layer in the heated region,
The reproduction layer can be made to have perpendicular magnetization according to the recorded information. Here, since information only from the heated minute area is transmitted to the reproduction layer, a sufficient reproduction signal can be obtained even when recording and reproduction are performed with a small recording bit length and a small recording bit interval. .

【0380】(26)上記(25)において、磁気マス
ク層のキュリー温度を記録層のキュリー温度以下にする
ことにより、情報の記録時に磁気マスク層が記録層へ影
響を及ぼすことがなく、確実に記録が行える。
(26) In the above (25), by setting the Curie temperature of the magnetic mask layer to be equal to or lower than the Curie temperature of the recording layer, the magnetic mask layer does not affect the recording layer at the time of recording information, so that it is ensured. Can record.

【0381】(27)上記(25),(26)におい
て、再生層は、再生特性が求められるため、記録層より
もキュリー温度が高い方が有利である。
(27) In the above (25) and (26), since the reproducing layer is required to have reproducing characteristics, it is advantageous that the Curie temperature is higher than that of the recording layer.

【0382】(28)上記(25)〜(27)におい
て、基板上に、透明誘電体層、再生層、非磁性中間層、
磁気マスク層、記録層、保護層を順次形成すれば、記録
層に小さく記録されたビット情報の1部を、磁気マスク
層による磁化マスクで選択し、再生層の磁区で大きく拡
大して再生でき、高密度記録においても、十分大きな信
号強度が得られる。また、非磁性中間層により再生層と
磁気マスク層との交換結合を完全に遮断し、再生層及び
磁気マスク層と記録層との間に良好な静磁結合を実現す
ることが可能となる。
(28) In the above (25) to (27), a transparent dielectric layer, a reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
If a magnetic mask layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially formed, a portion of bit information recorded in a small size on the recording layer can be selected by using a magnetic mask formed by the magnetic mask layer, and can be greatly enlarged and reproduced by the magnetic domain of the reproducing layer. Even in high-density recording, a sufficiently large signal intensity can be obtained. Further, the exchange coupling between the reproducing layer and the magnetic mask layer is completely cut off by the non-magnetic intermediate layer, and good magnetostatic coupling between the reproducing layer and the magnetic mask layer and the recording layer can be realized.

【0383】(29)上記(28)において、磁気マス
ク層の膜厚を2nm以上40nm以下とすれば、面内磁
化層による記録層のマスク効果が良好な状態に設定され
る。また、安定した磁区拡大再生が可能となる。
(29) In the above (28), when the thickness of the magnetic mask layer is 2 nm or more and 40 nm or less, the effect of masking the recording layer by the in-plane magnetic layer is set to a favorable state. In addition, stable magnetic domain expansion reproduction can be performed.

【0384】(30)上記(28),(29)におい
て、磁気マスク層をGdFeCo、GdNdFe、Gd
NdFeCo、GdTbFe、GdTbFeCo、Gd
DyFeCo、GdDyFe、GdFeのいずれかの合
金とすれば、再生層の安定した磁区が可能となり、記録
層から出てくる磁界に対し、正しく反応することがで
き、良好な磁区拡大再生を実現することが可能となる。
(30) In the above (28) and (29), the magnetic mask layer is made of GdFeCo, GdNdFe, Gd
NdFeCo, GdTbFe, GdTbFeCo, Gd
If any alloy of DyFeCo, GdDyFe, and GdFe is used, stable magnetic domains of the reproducing layer can be achieved, and the magnetic layer coming out of the recording layer can correctly react to the magnetic field, and excellent magnetic domain expansion reproduction can be realized. Becomes possible.

【0385】(31)上記(28),(29)におい
て、磁気マスク層をGdX(Fe0.80Co0.201-X
し、X(atom比)を0.10以上0.35以下とす
れば、磁気マスク層の磁気特性が最適化されることによ
り、記録層と磁気マスク層との間の良好な交換結合状態
を実現することができ、良好な磁区拡大再生を実現でき
る。
(31) In the above (28) and (29), if the magnetic mask layer is Gd x (Fe 0.80 Co 0.20 ) 1-X and X (atom ratio) is 0.10 or more and 0.35 or less, By optimizing the magnetic characteristics of the magnetic mask layer, a good exchange coupling state between the recording layer and the magnetic mask layer can be realized, and good magnetic domain expansion reproduction can be realized.

【0386】(32)上記(7),(18),(2
0),(28)において、再生層の膜厚が10nm以上
80nm以下であれば、再生層における磁区を安定させ
ることが可能となるとともに、光の干渉効果が大きくな
り良好な再生信号を得ることが可能となる。
(32) The above (7), (18), (2)
In (0) and (28), when the thickness of the reproducing layer is 10 nm or more and 80 nm or less, it is possible to stabilize the magnetic domain in the reproducing layer, and to obtain a good reproducing signal by increasing the light interference effect. Becomes possible.

【0387】(33)上記非磁性中間層の膜厚を1nm
以上80nm以下とすれば、非磁性中間層膜厚が最適化
されることにより、良好な静磁結合状態が実現され、磁
気的超解像再生を実現できるとともに、光学的な干渉効
果も大きくなる。
(33) The thickness of the non-magnetic intermediate layer is 1 nm
When the thickness is 80 nm or less, a favorable magnetostatic coupling state is realized by optimizing the thickness of the non-magnetic intermediate layer, magnetic super-resolution reproduction can be realized, and the optical interference effect also increases. .

【0388】(34)上記(7),(18),(2
0),(28)において、非磁性中間層の記録層側に隣
接して反射層を形成しておけば、再生層の膜厚が薄くな
り、再生層を透過した再生用の光ビームが反射層により
反射され、信号再生にとって不要な記録層からの情報再
生を、光学的に完全に遮断することが可能となり、信号
再生特性が改善される。
(34) The above (7), (18), (2)
In (0) and (28), if a reflection layer is formed adjacent to the nonmagnetic intermediate layer on the recording layer side, the thickness of the reproduction layer becomes thin, and the light beam for reproduction transmitted through the reproduction layer is reflected. Information reproduction from the recording layer, which is reflected by the layer and is unnecessary for signal reproduction, can be optically completely blocked, and the signal reproduction characteristics are improved.

【0389】(35)上記(34)において、反射層を
Alとして、その膜厚を2nm以上40nm以下とすれ
ば、Alからなる反射層膜厚が最適化されることによ
り、再生用の光ビームが反射層により反射され、磁気的
超解像再生信号再生特性が改善されるとともに、再生層
と記録層との間に働く静磁結合力を良好な状態に維持す
ることが可能となる。
(35) In the above (34), if the reflection layer is made of Al and the film thickness is set to 2 nm or more and 40 nm or less, the thickness of the reflection layer made of Al is optimized, so that the light beam for reproduction is Is reflected by the reflection layer, the magnetic super-resolution reproduction signal reproduction characteristics are improved, and the magnetostatic coupling force acting between the reproduction layer and the recording layer can be maintained in a good state.

【0390】(36)上記(34)において、反射層を
Alと磁性金属との合金とすれば、反射層合金は、Al
に比べて熱伝導率が低いため、レーザービームによる加
熱時の媒体温度分布が急峻になり、良好な磁気増幅再生
を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成
される記録層の磁気特性が改善され、より小さな消去磁
界で消去可能な光磁気記録媒体を提供することが可能と
なる。
(36) In the above (34), if the reflection layer is made of an alloy of Al and a magnetic metal, the reflection layer alloy is made of Al
Because the thermal conductivity is lower than that of the recording layer, the temperature distribution of the medium during heating by the laser beam becomes sharper, which makes it possible to realize good magnetic amplification and reproduction, and the magnetic properties of the recording layer formed on the reflective layer. Characteristics can be improved, and a magneto-optical recording medium that can be erased with a smaller erasing magnetic field can be provided.

【0391】(37)上記(36)において、反射層を
Al1-XFeXとして、X(atom比)を0.02以上
0.50以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現する
ことが可能となるとともに、反射層上に形成される記録
層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で消去
可能な光磁気ディスクを提供することが可能となる。
(37) In the above (36), if the reflection layer is made of Al 1-x Fe x and X (atom ratio) is set to 0.02 or more and 0.50 or less, excellent magnetic amplification reproduction can be realized. And the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized, so that a magneto-optical disk erasable with a smaller erasing magnetic field can be provided.

【0392】(38)上記(36)において、反射層を
Al1-XNiXとして、X(atom比)を0.02以上
0.50以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現する
ことが可能となるとともに、反射層上に形成される記録
層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で消去
可能な光磁気記録媒体を提供することが可能となる。
(38) In the above (36), if the reflection layer is made of Al 1-x Ni x and X (atom ratio) is set to 0.02 or more and 0.50 or less, excellent magnetic amplification reproduction can be realized. And the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized, and a magneto-optical recording medium erasable with a smaller erasing magnetic field can be provided.

【0393】(39)上記(34)において、反射層を
Alと非磁性金属との合金すれば、良好な磁気増幅再生
を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成
される記録層の磁気特性が改善され、より小さな消去磁
界で消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能と
なる。
(39) In the above (34), if the reflective layer is made of an alloy of Al and a non-magnetic metal, good magnetic amplification reproduction can be realized, and the recording layer formed on the reflective layer can be realized. Has improved magnetic characteristics, and it is possible to provide a magneto-optical disk erasable with a smaller erasing magnetic field.

【0394】(40)上記(39)において、非磁性金
属をTi、Ta、Pt、Au、Cu、Siのいずれかの
元素とすれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可
能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気
特性が改善され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁
気ディスクを提供することが可能となる。
(40) In the above (39), if the non-magnetic metal is any one of Ti, Ta, Pt, Au, Cu, and Si, excellent magnetic amplification reproduction can be realized. In addition, the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are improved, and a magneto-optical disk erasable with a smaller erasing magnetic field can be provided.

【0395】(41)上記(39)において、非磁性金
属をAl1-XTiXとして、X(atom比)が0.02
以上0.98以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現
することが可能となるとともに、反射層上に形成される
記録層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で
消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能とな
る。
(41) In the above (39), when the nonmagnetic metal is Al 1-x Ti x , X (atom ratio) is 0.02.
When the ratio is not less than 0.98, good magnetic amplification and reproduction can be realized, and the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized. It is possible to provide a magnetic disk.

【0396】(42)上記(7),(18),(2
0),(28)において、前記保護層に対して前記基板
の反対側に放熱層を形成しておけば、光磁気記録媒体に
照射される光ビーム内の温度分布がより急峻となり、磁
気マスク層による再生層における記録層からの磁界のマ
スク効果を強調することが可能となり、再生特性がさら
に向上する。
(42) The above (7), (18), (2)
In (0) and (28), if a heat radiation layer is formed on the opposite side of the substrate with respect to the protective layer, the temperature distribution in the light beam irradiated on the magneto-optical recording medium becomes steeper, and the magnetic mask The effect of masking the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer can be enhanced, and the reproducing characteristics are further improved.

【0397】(43)上記(1)〜(42)において、
再生層が室温で面内磁化状態であれば、余計な信号を再
生しなくてもよく、有利である。再生層に生成された磁
区の外側は、すべてノイズ成分となる可能性があるが、
このように室温で面内磁化を示す再生層を用いれば、記
録層から転写された磁区のみが垂直磁化となり、垂直領
域のみの信号再生が可能となる。
(43) In the above (1) to (42),
If the reproducing layer is in the in-plane magnetization state at room temperature, it is advantageous that unnecessary signals need not be reproduced. Everything outside the magnetic domain generated in the reproducing layer may be a noise component,
By using the reproducing layer exhibiting the in-plane magnetization at room temperature, only the magnetic domains transferred from the recording layer become perpendicular magnetization, and the signal can be reproduced only in the vertical region.

【0398】(44)上記(1),(2),(3),
(12),(25)において、再生層をCoとPtの多
層膜とすれば、短波長レーザを用いたときにおいても良
好なC/N比を得ることが可能となる。
(44) The above (1), (2), (3),
In (12) and (25), if the reproducing layer is a multilayer film of Co and Pt, a good C / N ratio can be obtained even when a short wavelength laser is used.

【0399】(45)上記(1)〜(44)の光磁気記
録媒体から情報を再生する際、再生層に作られた磁区を
一旦消去していくことがスムーズな再生動作につながる
ため、再生用のレーザビームをパルス発光させれば、レ
ーザが消光している間に磁区を消滅させるとともに、レ
ーザが発光している間に媒体温度を上昇させて、再生層
に記録層の記録磁区を転写させ信号再生を行うことがで
き、再生信号品質をより高品質とすることができる。
(45) When information is reproduced from the magneto-optical recording medium of the above (1) to (44), erasing the magnetic domains formed in the reproducing layer once leads to a smooth reproducing operation. When the laser beam for pulse emission is used, the magnetic domains are extinguished while the laser is extinguished, and the medium temperature is increased while the laser is emitting to transfer the recording magnetic domains of the recording layer to the reproducing layer. Signal reproduction, and the reproduction signal quality can be made higher.

【0400】(46)上記(3)または(14)の光磁
気記録媒体から情報を再生する際、磁気マスク層をキュ
リー温度以上に加熱すれば、磁気マスク層の磁化を消失
させることができ、再生時における記録層から再生層へ
の磁化の転写を円滑に行うことが可能となる。
(46) When reproducing information from the magneto-optical recording medium of the above (3) or (14), if the magnetic mask layer is heated above the Curie temperature, the magnetization of the magnetic mask layer can be eliminated. It is possible to smoothly transfer the magnetization from the recording layer to the reproduction layer during reproduction.

【0401】(47)上記(25)の光磁気記録媒体か
ら情報を再生する際、磁気マスク層が垂直磁化状態とな
る温度以上に加熱すれば、再生時における記録層から再
生層への磁化の転写を円滑に行うことが可能となる。
(47) When reproducing information from the magneto-optical recording medium of the above (25), if the magnetic mask layer is heated to a temperature higher than the temperature at which the magnetic mask layer becomes perpendicularly magnetized, the magnetization from the recording layer to the reproducing layer during reproduction is increased. Transfer can be performed smoothly.

【0402】(48)上記(1)〜(7)において、磁
気マスク層を記録層と静磁結合するものとすれば、磁気
マスク層と記録層との交換結合を遮断できるので、より
高いマスク効果を得ることができ、さらに良好な信号強
度が得られる。
(48) In the above (1) to (7), if the magnetic mask layer is to be magnetostatically coupled to the recording layer, the exchange coupling between the magnetic mask layer and the recording layer can be cut off. The effect can be obtained, and further excellent signal strength can be obtained.

【0403】(49)上記(25)〜(28)におい
て、磁気マスク層を記録層と静磁結合するものとすれ
ば、磁気マスク層と記録層との交換結合を遮断できるの
で、より高いマスク効果を得ることができ、さらに良好
な信号強度が得られる。
(49) In the above (25) to (28), if the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer, the exchange coupling between the magnetic mask layer and the recording layer can be cut off, so that a higher mask The effect can be obtained, and further excellent signal strength can be obtained.

【0404】(50)上記(48)〜(49)におい
て、磁気マスク層と記録層との間に膜厚が2〜80nm
の非磁性中間層を配すれば、上記(48),(49)の
効果を適切に得ることができる。
(50) In the above (48) to (49), the film thickness between the magnetic mask layer and the recording layer is 2 to 80 nm.
If the non-magnetic intermediate layer is disposed, the effects (48) and (49) can be obtained appropriately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1〜6に係る光磁気ディス
クの再生原理を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining the principle of reproducing a magneto-optical disk according to Embodiments 1 to 6 of the present invention.

【図2】従来の光磁気ディスクを説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a conventional magneto-optical disk.

【図3】本発明の実施の形態1に係る光磁気ディスクの
膜構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a film configuration of the magneto-optical disk according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態1に係る光磁気ディスクの
記録再生特性を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing recording / reproducing characteristics of the magneto-optical disk according to the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態4に係る光磁気ディスクの
膜構成を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to a fourth embodiment of the present invention.

【図6】本発明の実施の形態7〜10に係る光磁気ディ
スクの再生原理を説明する図である。
FIG. 6 is a diagram for explaining a principle of reproducing a magneto-optical disk according to the seventh to tenth embodiments of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態7に係る光磁気ディスクの
膜構成を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to a seventh embodiment of the present invention.

【図8】本発明の実施の形態7に係る光磁気ディスクの
記録再生特性を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing recording / reproducing characteristics of a magneto-optical disk according to a seventh embodiment of the present invention.

【図9】本発明の実施の形態8に係る光磁気ディスクの
膜構成を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to an eighth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態9に係る光磁気ディスク
の膜構成を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to a ninth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態10に係る光磁気ディス
クの膜構成を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to a tenth embodiment of the present invention.

【図12】本発明の実施の形態11〜15に係る光磁気
ディスクの再生原理を説明する図である。
FIG. 12 is a diagram illustrating a principle of reproducing a magneto-optical disk according to Embodiments 11 to 15 of the present invention.

【図13】本発明の実施の形態11に係る光磁気ディス
クの膜構成を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to Embodiment 11 of the present invention.

【図14】本発明の実施の形態11に係る光磁気ディス
クの記録再生特性を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing recording / reproducing characteristics of a magneto-optical disk according to Embodiment 11 of the present invention.

【図15】本発明の実施の形態13に係る光磁気ディス
クの膜構成を示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to Embodiment 13 of the present invention.

【図16】従来の超解像記録媒体の再生原理を説明する
図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating the principle of reproduction of a conventional super-resolution recording medium.

【図17】本発明の実施の形態16,17に係る光磁気
ディスクの膜構成を示す図である。
FIG. 17 is a diagram showing a film configuration of a magneto-optical disk according to Embodiments 16 and 17 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 再生層 2 非磁性中間層 3 面内磁化層 3’ 遮断層 3” 転写層 4 記録層 5 光ビーム 6 基板 7 透明誘電体層 8 保護層 9 オーバーコート層 10 反射層 20 第1非磁性中間層 30 第2非磁性中間層 110 放熱層 REFERENCE SIGNS LIST 1 reproducing layer 2 non-magnetic intermediate layer 3 in-plane magnetic layer 3 ′ shielding layer 3 ″ transfer layer 4 recording layer 5 light beam 6 substrate 7 transparent dielectric layer 8 protective layer 9 overcoat layer 10 reflective layer 20 first non-magnetic intermediate Layer 30 Second non-magnetic intermediate layer 110 Heat dissipation layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平9−232227 (32)優先日 平9(1997)8月28日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 森 豪 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 中嶋 淳策 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 村上 善照 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 広兼 順司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 9-232227 (32) Priority date Hei 9 (1997) August 28 (33) Priority claim country Japan (JP) (72) Inventor Go Mori, 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka, Osaka, Japan (72) Inventor Junsaku Nakajima 22-22 Nagaikecho, Abeno-ku, Osaka, Osaka, Japan Sharp Corporation (72) Inventor, Yoshiteru Murakami (22) Inventor Junji Hirokane 22-22 Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Japan

Claims (50)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも信号再生領域が垂直磁化状態
となる再生層と、該再生層に磁気的に結合する垂直磁化
膜からなる記録層と、を有する光磁気記録媒体におい
て、 前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において
前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マ
スク層を有していることを特徴とする光磁気記録媒体。
1. A magneto-optical recording medium having at least a reproducing layer in which a signal reproducing region is in a perpendicular magnetization state and a recording layer made of a perpendicular magnetic film magnetically coupled to the reproducing layer. And a magnetic mask layer for suppressing magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer at least at room temperature.
【請求項2】 少なくとも信号再生領域が垂直磁化状態
となる再生層と、該再生層に磁気的に結合する垂直磁化
膜からなる記録層と、を有し、光ビーム照射により前記
記録層の記録磁区よりも大きな磁区を前記再生層に形成
する光磁気記録媒体において、 前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において
前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マ
スク層を有していることを特徴とする光磁気記録媒体。
2. A recording medium comprising: a reproducing layer in which at least a signal reproducing region is in a perpendicular magnetization state; and a recording layer made of a perpendicular magnetization film magnetically coupled to the reproducing layer. A magneto-optical recording medium in which a magnetic domain larger than a magnetic domain is formed in the reproducing layer, further comprising a magnetic mask layer disposed apart from the reproducing layer and suppressing magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer at least at room temperature. A magneto-optical recording medium, comprising:
【請求項3】 請求項1または請求項2に記載の光磁気
記録媒体において、前記磁気マスク層は、高温において
磁化が減少する面内磁化層からなることを特徴とする光
磁気記録媒体。
3. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer comprises an in-plane magnetic layer whose magnetization decreases at a high temperature.
【請求項4】 請求項3に記載の光磁気記録媒体におい
て、 室温において、前記磁気マスク層の磁化が前記記録層の
磁化よりも大きいことを特徴とする光磁気記録媒体。
4. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein at room temperature, the magnetization of the magnetic mask layer is larger than the magnetization of the recording layer.
【請求項5】 請求項3または請求項4に記載の光磁気
記録媒体において、 前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュ
リー温度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
5. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer.
【請求項6】 請求項3乃至請求項5のいずれかに記載
の光磁気記録媒体において、 前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリー温
度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
6. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein a Curie temperature of the recording layer is lower than a Curie temperature of the reproducing layer.
【請求項7】 請求項3乃至請求項6のいずれかに記載
の光磁気記録媒体において、 基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、
前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成され
てなることを特徴とする光磁気記録媒体。
7. The magneto-optical recording medium according to claim 3, wherein a transparent dielectric layer, said reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
A magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed.
【請求項8】 請求項7に記載の光磁気記録媒体におい
て、 前記磁気マスク層の膜厚が、2nm以上40nm以下で
あることを特徴とする光磁気記録媒体。
8. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 2 nm or more and 40 nm or less.
【請求項9】 請求項7または請求項8に記載の光磁気
記録媒体において、 前記磁気マスク層がGdFe合金、GdFeAl合金、
GdFeTi合金、GdFeTa合金、GdFePt合
金、GdFeAu合金、GdFeCu合金、GdFeA
lTi合金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金か
らなることを特徴とする光磁気記録媒体。
9. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the magnetic mask layer is made of a GdFe alloy, a GdFeAl alloy,
GdFeTi alloy, GdFeTa alloy, GdFePt alloy, GdFeAu alloy, GdFeCu alloy, GdFeA
A magneto-optical recording medium comprising one of an alloy of 1Ti and a alloy of GdFeAlTa.
【請求項10】 請求項7乃至請求項9のいずれかに記
載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層が、(Gd0.11Fe0.89XAl1-X
る組成式で表され、X(atom比)が0.30以上1.
00以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
10. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the magnetic mask layer is represented by a composition formula of (Gd 0.11 Fe 0.89 ) X Al 1 -X , and X ( atom ratio) is 0.30 or more and 1.
A magneto-optical recording medium having a diameter of 00 or less.
【請求項11】 請求項7乃至請求項10のいずれかに
記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層のキュリー温度が60℃以上220℃
以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
11. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is 60 ° C. or more and 220 ° C.
A magneto-optical recording medium characterized by the following.
【請求項12】 請求項1または請求項2に記載の光磁
気記録媒体において、 前記磁気マスク層は、少なくとも室温において前記記録
層とはトータル磁化の向きが反対方向を向く磁性層から
なることを特徴とする光磁気記録媒体。
12. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer is formed of a magnetic layer whose total magnetization direction is opposite to that of the recording layer at least at room temperature. Characteristic magneto-optical recording medium.
【請求項13】 請求項12に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記記録層は、室温からキュリー温度まで遷移金属リッ
チの希土類遷移金属合金膜からなり、 前記磁気マスク層は、少なくとも室温で希土類金属リッ
チであり、前記磁気マスク層の遷移金属副格子磁化の方
向が前記記録層の遷移金属副格子磁化の方向に従うよう
に形成された希土類遷移金属合金からなる垂直磁化膜で
あることを特徴とする光磁気記録媒体。
13. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein the recording layer is made of a transition metal-rich rare earth transition metal alloy film from room temperature to the Curie temperature, and the magnetic mask layer is made of a rare earth metal at least at room temperature. The magnetic mask layer is a perpendicular magnetization film made of a rare earth transition metal alloy formed such that the direction of the transition metal sublattice magnetization of the magnetic mask layer follows the direction of the transition metal sublattice magnetization of the recording layer. Magneto-optical recording medium.
【請求項14】 請求項12または請求項13に記載の
光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層は、高温において磁化が減少する磁性
膜からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
14. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein the magnetic mask layer is made of a magnetic film whose magnetization decreases at a high temperature.
【請求項15】 請求項12乃至請求項14のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層の室温におけるトータル磁化が、前記
記録層の室温におけるトータル磁化と略同一であること
を特徴とする光磁気記録媒体。
15. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein a total magnetization of the magnetic mask layer at room temperature is substantially the same as a total magnetization of the recording layer at room temperature. Characteristic magneto-optical recording medium.
【請求項16】 請求項12乃至請求項15のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュ
リー温度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
16. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer. .
【請求項17】 請求項12乃至請求項16のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層の補償温度が、前記記録層のキュリー
温度よりも低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
17. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein a compensation temperature of the magnetic mask layer is lower than a Curie temperature of the recording layer. Medium.
【請求項18】 請求項12乃至請求項17のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、
前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成され
てなることを特徴とする光磁気記録媒体。
18. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein a transparent dielectric layer, said reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
A magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed.
【請求項19】 請求項18に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記磁気マスク層の膜厚が、10nm以上60nm以下
であることを特徴とする光磁気記録媒体。
19. The magneto-optical recording medium according to claim 18, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 10 nm or more and 60 nm or less.
【請求項20】 請求項12乃至請求項17のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、
前記記録層、前記磁気マスク層、保護層が順次形成され
てなることを特徴とする光磁気記録媒体。
20. The magneto-optical recording medium according to claim 12, wherein a transparent dielectric layer, said reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
A magneto-optical recording medium, comprising: the recording layer, the magnetic mask layer, and the protective layer sequentially formed.
【請求項21】 請求項20に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記磁気マスク層の膜厚が、10nm以上80nm以下
であることを特徴とする光磁気記録媒体。
21. The magneto-optical recording medium according to claim 20, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 10 nm or more and 80 nm or less.
【請求項22】 請求項18乃至請求項21のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層は、GdDyFe合金、TbFe合
金、DyFe合金、GdFe合金、GdTbFe合金、
DyFeCo合金、TbFeCo合金のいずれかを含む
合金からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
22. The magneto-optical recording medium according to claim 18, wherein the magnetic mask layer comprises a GdDyFe alloy, a TbFe alloy, a DyFe alloy, a GdFe alloy, a GdTbFe alloy,
A magneto-optical recording medium comprising an alloy containing either a DyFeCo alloy or a TbFeCo alloy.
【請求項23】 請求項18乃至請求項22のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層のキュリー温度が、80℃以上220
℃以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
23. The magneto-optical recording medium according to claim 18, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is 80 ° C. or higher and 220 ° C. or higher.
A magneto-optical recording medium having a temperature of at most ℃.
【請求項24】 請求項18乃至請求項23のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層の補償温度が、80℃以上220℃以
下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
24. The magneto-optical recording medium according to claim 18, wherein the compensation temperature of the magnetic mask layer is 80 ° C. or more and 220 ° C. or less. .
【請求項25】 請求項1または請求項2に記載の光磁
気記録媒体において、 前記磁気マスク層は、室温において面内磁化状態であり
所定温度以上で垂直磁化状態となる磁性膜であることを
特徴とする光磁気記録媒体。
25. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer is a magnetic film having an in-plane magnetization state at room temperature and a perpendicular magnetization state at a predetermined temperature or higher. Characteristic magneto-optical recording medium.
【請求項26】 請求項25に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュ
リー温度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
26. The magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein the Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than the Curie temperature of the recording layer.
【請求項27】 請求項25または請求項26に記載の
光磁気記録媒体において、 前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリー温
度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。
27. The magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein the Curie temperature of the recording layer is lower than the Curie temperature of the reproducing layer.
【請求項28】 請求項25乃至請求項27のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、
前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成され
てなることを特徴とする光磁気記録媒体。
28. The magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein a transparent dielectric layer, the reproducing layer, a non-magnetic intermediate layer,
A magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer, the recording layer, and the protective layer are sequentially formed.
【請求項29】 請求項28に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記磁気マスク層の膜厚が、2nm以上40nm以下で
あることを特徴とする光磁気記録媒体。
29. The magneto-optical recording medium according to claim 28, wherein the thickness of the magnetic mask layer is 2 nm or more and 40 nm or less.
【請求項30】 請求項28または請求項29に記載の
光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層は、GdFeCo、GdNdFe、G
dNdFeCo、GdTbFe、GdTbFeCo、G
dDyFeCo、GdDyFe、GdFeのいずれかの
合金からなることを特徴とする光磁気記録媒体。
30. The magneto-optical recording medium according to claim 28, wherein the magnetic mask layer is made of GdFeCo, GdNdFe, G
dNdFeCo, GdTbFe, GdTbFeCo, G
A magneto-optical recording medium comprising an alloy of dDyFeCo, GdDyFe, and GdFe.
【請求項31】 請求項28乃至請求項30のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層が、GdX(Fe0.80Co0.201-X
る組成式で表され、X(atom比)が0.10以上0.
35以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
31. The magneto-optical recording medium according to claim 28, wherein the magnetic mask layer is represented by a composition formula of Gd x (Fe 0.80 Co 0.20 ) 1-X , wherein X ( atom ratio) is 0.10 or more and 0.1.
A magneto-optical recording medium having a diameter of 35 or less.
【請求項32】 請求項7,請求項18,請求項20ま
たは請求項28に記載の光磁気記録媒体において、 前記再生層の膜厚が、10nm以上80nm以下である
ことを特徴とする光磁気記録媒体。
32. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the thickness of the reproduction layer is 10 nm or more and 80 nm or less. recoding media.
【請求項33】 請求項7,請求項18,請求項20ま
たは請求項28に記載の光磁気記録媒体において、 前記非磁性中間層の膜厚が、1nm以上80nm以下で
あることを特徴とする光磁気記録媒体。
33. The magneto-optical recording medium according to claim 7, wherein the non-magnetic intermediate layer has a thickness of 1 nm or more and 80 nm or less. Magneto-optical recording medium.
【請求項34】 請求項7,請求項18,請求項20ま
たは請求項28に記載の光磁気記録媒体において、 前記非磁性中間層の前記記録層側に、反射層が前記非磁
性中間層に隣接して形成されていることを特徴とする光
磁気記録媒体。
34. The magneto-optical recording medium according to claim 7, 18 or 20, wherein a reflective layer is provided on the non-magnetic intermediate layer on the recording layer side of the non-magnetic intermediate layer. A magneto-optical recording medium formed adjacently.
【請求項35】 請求項34に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記反射層がAlからなり、その膜厚が2nm以上40
nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。
35. The magneto-optical recording medium according to claim 34, wherein the reflection layer is made of Al and has a thickness of 2 nm or more and 40 nm or more.
nm or less.
【請求項36】 請求項34に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記反射層がAlと磁性金属との合金からなることを特
徴とする光磁気記録媒体。
36. The magneto-optical recording medium according to claim 34, wherein the reflection layer is made of an alloy of Al and a magnetic metal.
【請求項37】 請求項36に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記反射層が、Al1-XFeXなる組成式で表され、X
(atom比)が0.02以上0.50以下であることを
特徴とする光磁気記録媒体。
37. The magneto-optical recording medium according to claim 36, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1-x Fe x ,
A magneto-optical recording medium having an (atom ratio) of 0.02 or more and 0.50 or less.
【請求項38】 請求項36に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記反射層が、Al1-XNiXなる組成式で表され、X
(atom比)が0.02以上0.50以下であることを
特徴とする光磁気記録媒体。
38. The magneto-optical recording medium according to claim 36, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1 -X Ni X ,
A magneto-optical recording medium having an (atom ratio) of 0.02 or more and 0.50 or less.
【請求項39】 請求項34に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記反射層がAlと非磁性金属との合金からなることを
特徴とする光磁気記録媒体。
39. The magneto-optical recording medium according to claim 34, wherein the reflection layer is made of an alloy of Al and a non-magnetic metal.
【請求項40】 請求項39に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記非磁性金属がTi、Ta、Pt、Au、Cu、Si
のいずれかの元素であることを特徴とする光磁気記録媒
体。
40. The magneto-optical recording medium according to claim 39, wherein the non-magnetic metal is Ti, Ta, Pt, Au, Cu, Si.
A magneto-optical recording medium, characterized by being any one of the above elements.
【請求項41】 請求項39に記載の光磁気記録媒体に
おいて、 前記非磁性金属がAl1-XTiXなる組成式で表され、X
(atom比)が0.02以上0.98以下であることを
特徴とする光磁気記録媒体。
41. The magneto-optical recording medium according to claim 39, wherein the non-magnetic metal is represented by a composition formula of Al 1 -X Ti X ,
A magneto-optical recording medium having an (atom ratio) of 0.02 or more and 0.98 or less.
【請求項42】 請求項7,請求項18,請求項20ま
たは請求項28に記載の光磁気記録媒体において、 前記保護層に対して前記基板の反対側に、放熱層が形成
されていることを特徴とする光磁気記録媒体。
42. The magneto-optical recording medium according to claim 7, 18 or 20, wherein a heat radiation layer is formed on a side opposite to the substrate with respect to the protective layer. A magneto-optical recording medium characterized by the following.
【請求項43】 請求項1乃至請求項42のいずれかに
記載の光磁気記録媒体において、 前記再生層は、室温で面内磁化状態であり、高温で垂直
磁化状態となることを特徴とする光磁気記録媒体。
43. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing layer has an in-plane magnetization state at room temperature and a perpendicular magnetization state at high temperature. Magneto-optical recording medium.
【請求項44】 請求項1,請求項2,請求項3,請求
項12または請求項25に記載の光磁気記録媒体におい
て、 前記再生層は、CoとPtを交互に積層した多層膜から
なることを特徴とする光磁気記録媒体。
44. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing layer comprises a multilayer film in which Co and Pt are alternately laminated. A magneto-optical recording medium characterized by the above-mentioned.
【請求項45】 請求項1乃至請求項44のいずれかに
記載の光磁気記録媒体から情報を再生する再生方法であ
って、 信号再生時に、前記光磁気記録媒体に光ビームをパルス
状に照射することを特徴とする光磁気記録媒体の再生方
法。
45. A reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein a light beam is radiated to the magneto-optical recording medium in a pulsed manner during signal reproduction. A method for reproducing a magneto-optical recording medium.
【請求項46】 請求項3または請求項14に記載の光
磁気記録媒体から情報を再生する再生方法であって、 再生時に前記光磁気記録媒体に光ビームを照射して、前
記磁気マスク層をそのキュリー温度近傍以上に加熱する
ことを特徴とする光磁気記録媒体の再生方法。
46. A reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 3 or 14, wherein the reproducing method comprises irradiating the magneto-optical recording medium with a light beam at the time of reproducing, thereby reproducing the magnetic mask layer. A method for reproducing a magneto-optical recording medium, comprising heating the medium to a temperature near the Curie temperature or higher.
【請求項47】 請求項25に記載の光磁気記録媒体か
ら情報を再生する再生方法であって、 再生時に前記光磁気記録媒体に光ビームを照射して、前
記磁気マスク層を前記所定温度以上に加熱することを特
徴とする光磁気記録媒体の再生方法。
47. A reproducing method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein the reproducing is performed by irradiating the magneto-optical recording medium with a light beam so that the magnetic mask layer is at or above the predetermined temperature. A method for reproducing a magneto-optical recording medium, comprising:
【請求項48】 請求項1乃至請求項7のいずれかに記
載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなること
を特徴とする光磁気記録媒体。
48. The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer.
【請求項49】 請求項25乃至請求項28のいずれか
に記載の光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなること
を特徴とする光磁気記録媒体。
49. The magneto-optical recording medium according to claim 25, wherein the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer.
【請求項50】 請求項48または請求項49に記載の
光磁気記録媒体において、 前記磁気マスク層と前記記録層との間に非磁性中間層が
形成されており、 該非磁性中間層の膜厚が、2nm以上80nm以下であ
ることを特徴とする光磁気記録媒体。
50. The magneto-optical recording medium according to claim 48, wherein a non-magnetic intermediate layer is formed between the magnetic mask layer and the recording layer, and the film thickness of the non-magnetic intermediate layer Is 2 nm or more and 80 nm or less.
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