JP2007188637A - Magneto-optical recording medium and its reproducing method - Google Patents
Magneto-optical recording medium and its reproducing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007188637A JP2007188637A JP2007107617A JP2007107617A JP2007188637A JP 2007188637 A JP2007188637 A JP 2007188637A JP 2007107617 A JP2007107617 A JP 2007107617A JP 2007107617 A JP2007107617 A JP 2007107617A JP 2007188637 A JP2007188637 A JP 2007188637A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- magneto
- recording medium
- optical recording
- reproducing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、光磁気記録再生装置に適用される光磁気ディスク、光磁気テープ、光磁気カード等の光磁気記録媒体、及び、その再生方法に関するものである。 The present invention relates to a magneto-optical recording medium such as a magneto-optical disk, a magneto-optical tape, and a magneto-optical card applied to a magneto-optical recording / reproducing apparatus, and a reproducing method thereof.
従来から、書き換え可能な光記録媒体として、光磁気記録媒体が実用化されている。このような光磁気記録媒体では、光磁気記録媒体上に集光された半導体レーザから出射される光ビームのビーム径に対して、記録用磁区である記録ビット径及び記録ビット間隔が小さくなってくると、再生特性が劣化してくるという欠点が生じている。 Conventionally, a magneto-optical recording medium has been put to practical use as a rewritable optical recording medium. In such a magneto-optical recording medium, the recording bit diameter and recording bit interval, which are recording magnetic domains, become smaller than the beam diameter of the light beam emitted from the semiconductor laser focused on the magneto-optical recording medium. When this happens, there is a disadvantage that the reproduction characteristics deteriorate.
このような欠点は、目的とする記録ビット上に集光された光ビームのビーム径内に隣接する記録ビットが入るために、個々の記録ビットを分離して再生することができなくなることが原因である。 Such drawbacks are caused by the fact that adjacent recording bits fall within the beam diameter of the light beam focused on the target recording bit, so that individual recording bits cannot be separated and reproduced. It is.
上記の欠点を解消するために、特許文献1において、室温において面内磁化状態であり、温度上昇と共に垂直磁化状態となる再生層と記録層との間に非磁性中間層を設け、再生層と記録層とが静磁結合した構造の光磁気記録媒体が提案されている。
In order to eliminate the above drawbacks, in
これにより、面内磁化状態にある部分の記録磁区情報がマスクされ、集光された光ビームのビーム径内に隣接する記録ビットが入る場合においても、個々の記録ビットを分離して再生することが可能となることが示されている(第1従来例)。 As a result, the recorded magnetic domain information of the portion in the in-plane magnetization state is masked, and even when adjacent recording bits enter the beam diameter of the focused light beam, individual recording bits can be separated and reproduced. (1st conventional example).
また、非特許文献1には、記録層と再生層の間に非磁性の中間層を挟んだ同様の構成において、記録層から発生する磁界により、再生層に、記録層の磁区よりも大きな磁区を形成しながら転写して再生する磁区拡大方式が示されている(第2従来例)。
しかしながら、上述の第1従来例では、さらに小さい記録ビット径及びさらに小さい記録ビット間隔で記録再生を行った場合、再生信号強度が低下し、十分な再生信号が得られなくなるという問題のあることが確認された。 However, in the above-described first conventional example, when recording / reproduction is performed with a smaller recording bit diameter and a smaller recording bit interval, there is a problem that the reproduction signal intensity is lowered and a sufficient reproduction signal cannot be obtained. confirmed.
また第2従来例も、記録密度が高くなり、再生磁区の下に、数多くのビットが存在する場合は、記録層の複数のビットからの磁界を再生層が受けることになり、真に再生すべきビットからの磁界を正しく再生層が受けることができなくなってしまう問題点があった。 Also in the second conventional example, when the recording density is high and there are a large number of bits under the reproducing magnetic domain, the reproducing layer receives magnetic fields from a plurality of bits of the recording layer, and the true reproduction is performed. There is a problem that the reproducing layer cannot correctly receive the magnetic field from the power bit.
本発明は、上記従来の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は、小さい記録ビット径及びさらに小さい記録ビット間隔で記録再生を行った場合においても、十分な再生信号を得ることにある。 The present invention has been made to solve the above-described conventional problems, and an object thereof is to obtain a sufficient reproduction signal even when recording / reproduction is performed with a small recording bit diameter and a smaller recording bit interval. There is.
本発明は、上記目的を達成するため、以下の構成を有する。 In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.
請求項1の光磁気記録媒体は、少なくとも信号再生領域が垂直磁化状態となる再生層と、該再生層に磁気的に結合する垂直磁化膜からなる記録層と、を有する光磁気記録媒体において、前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マスク層を有していることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項2の光磁気記録媒体は、少なくとも信号再生領域が垂直磁化状態となる再生層と、該再生層に磁気的に結合する垂直磁化膜からなる記録層と、を有し、光ビーム照射により前記記録層の記録磁区よりも大きな磁区を前記再生層に形成する光磁気記録媒体において、前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マスク層を有していることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項3の光磁気記録媒体は、請求項1または請求項2に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層は、高温において磁化が減少する面内磁化層からなることを特徴とする。 A magneto-optical recording medium according to a third aspect is the magneto-optical recording medium according to the first or second aspect, wherein the magnetic mask layer comprises an in-plane magnetic layer whose magnetization decreases at a high temperature.
請求項4の光磁気記録媒体は、請求項3に記載の光磁気記録媒体において、室温において、前記磁気マスク層の磁化が前記記録層の磁化よりも大きいことを特徴とする。
A magneto-optical recording medium according to
請求項5の光磁気記録媒体は、請求項3または請求項4に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュリー温度より低いことを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項6の光磁気記録媒体は、請求項3乃至請求項5のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリー温度より低いことを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項7の光磁気記録媒体は、請求項3乃至請求項6のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成されてなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項8の光磁気記録媒体は、請求項7に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層の膜厚が、2nm以上40nm以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項9の光磁気記録媒体は、請求項7または請求項8に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層がGdFe合金、GdFeAl合金、GdFeTi合金、GdFeTa合金、GdFePt合金、GdFeAu合金、GdFeCu合金、GdFeAlTi合金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金からなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項10の光磁気記録媒体は、請求項7乃至請求項9のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層が、(Gd0.11Fe0.89)XAl1-Xなる組成式で表され、X(atom比)が0.30以上1.00以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項11の光磁気記録媒体は、請求項7乃至請求項10のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層のキュリー温度が60℃以上220℃以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項12の光磁気記録媒体は、請求項7に記載の光磁気記録媒体において、前記再生層の膜厚が、10nm以上80nm以下であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 12 is the magneto-optical recording medium according to
請求項13の光磁気記録媒体は、請求項7に記載の光磁気記録媒体において、前記非磁性中間層の膜厚が、1nm以上80nm以下であることを特徴とする。
A magneto-optical recording medium according to claim 13 is the magneto-optical recording medium according to
請求項14の光磁気記録媒体は、請求項7に記載の光磁気記録媒体において、前記非磁性中間層の前記記録層側に、反射層が前記非磁性中間層に隣接して形成されていることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 14 is the magneto-optical recording medium according to
請求項15の光磁気記録媒体は、請求項14に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAlからなり、その膜厚が2nm以上40nm以下であることを特徴とする。 A magneto-optical recording medium according to a fifteenth aspect is the magneto-optical recording medium according to the fourteenth aspect, wherein the reflective layer is made of Al and has a thickness of 2 nm to 40 nm.
請求項16の光磁気記録媒体は、請求項14に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAlと磁性金属との合金からなることを特徴とする。 A magneto-optical recording medium according to claim 16 is the magneto-optical recording medium according to claim 14, wherein the reflective layer is made of an alloy of Al and a magnetic metal.
請求項17の光磁気記録媒体は、請求項16に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層が、Al1-XFeXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.50以下であることを特徴とする。 The magneto-optical recording medium according to claim 17 is the magneto-optical recording medium according to claim 16, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1-X Fe X , and X (atom ratio) is 0.02 or more. It is 0.50 or less.
請求項18の光磁気記録媒体は、請求項16に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層が、Al1-XNiXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.50以下であることを特徴とする。 The magneto-optical recording medium according to claim 18 is the magneto-optical recording medium according to claim 16, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1 -X Ni X and X (atom ratio) is 0.02 or more. It is 0.50 or less.
請求項19の光磁気記録媒体は、請求項14に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAlと非磁性金属との合金からなることを特徴とする。 The magneto-optical recording medium according to claim 19 is the magneto-optical recording medium according to claim 14, wherein the reflective layer is made of an alloy of Al and a nonmagnetic metal.
請求項20の光磁気記録媒体は、請求項19に記載の光磁気記録媒体において、前記非磁性金属がTi、Ta、Pt、Au、Cu、Siのいずれかの元素であることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項21の光磁気記録媒体は、請求項19に記載の光磁気記録媒体において、前記反射層がAl1-XTiXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.98以下であることを特徴とする。 The magneto-optical recording medium according to claim 21 is the magneto-optical recording medium according to claim 19, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1-X Ti X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0. .98 or less.
請求項22の光磁気記録媒体は、請求項7に記載の光磁気記録媒体において、前記保護層に対して前記基板の反対側に、放熱層が形成されていることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 22 is the magneto-optical recording medium according to
請求項23の光磁気記録媒体は、請求項1乃至請求項22のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、前記再生層は、室温で面内磁化状態であり、高温で垂直磁化状態となることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to
請求項24の光磁気記録媒体は、請求項1、請求項2または請求項3に記載の光磁気記録媒体において、前記再生層は、CoとPtを交互に積層した多層膜からなることを特徴とする。
The magneto-optical recording medium according to claim 24 is the magneto-optical recording medium according to
請求項25の光磁気記録媒体の再生方法は、請求項1乃至請求項24のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体から情報を再生する再生方法であって、信号再生時に、前記光磁気記録媒体に光ビームをパルス状に照射することを特徴とする。
A magneto-optical recording medium reproducing method according to claim 25 is the reproducing method for reproducing information from the magneto-optical recording medium according to any one of
請求項26の光磁気記録媒体の再生方法は、請求項3に記載の光磁気記録媒体から情報を再生する再生方法であって、再生時に前記光磁気記録媒体に光ビームを照射して、前記磁気マスク層をそのキュリー温度近傍以上に加熱することを特徴とする。
A magneto-optical recording medium reproducing method according to claim 26 is a reproducing method for reproducing information from the magneto-optical recording medium according to
請求項27の光磁気記録媒体は、請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなるものである。
The magneto-optical recording medium according to claim 27 is the magneto-optical recording medium according to any one of
請求項28の光磁気記録媒体は、請求項27に記載の光磁気記録媒体において、前記磁気マスク層と前記記録層との間に非磁性中間層が形成されており、該非磁性中間層の膜厚が、2nm以上80nm以下であるものである。 A magneto-optical recording medium according to claim 28 is the magneto-optical recording medium according to claim 27, wherein a non-magnetic intermediate layer is formed between the magnetic mask layer and the recording layer, and the film of the non-magnetic intermediate layer The thickness is not less than 2 nm and not more than 80 nm.
(1)本発明の光磁気記録媒体では、少なくとも室温において再生層に記録層からの漏洩磁束が伝わることを抑制できるため、再生時に隣接する記録磁区の磁化の影響を排除して、所望の記録磁区からの情報のみを取り出すことが可能となり、記録密度の増大が実現できる。これにより小さいビット径及び小さい記録ビット間隔での記録再生が可能となる。 (1) In the magneto-optical recording medium of the present invention, it is possible to suppress the leakage magnetic flux from the recording layer to the reproducing layer at least at room temperature. Only the information from the magnetic domain can be extracted, and the recording density can be increased. In addition, recording / reproduction can be performed with a smaller bit diameter and a smaller recording bit interval.
(2)また、記録層の記録磁区よりも大きな磁区を再生層に形成することにより、(1)の効果に加えて、再生信号量を増大することができ信号品質を向上できる。 (2) Also, by forming a magnetic domain larger than the recording magnetic domain of the recording layer in the reproducing layer, in addition to the effect of (1), the amount of reproduced signal can be increased and the signal quality can be improved.
(3)さらに、面内磁化層を磁化マスクに用いると、面内磁化層により、室温では記録層から発生する磁界を吸収して再生層における記録層からの磁界を遮断できる。一方、再生用のレーザービームを照射により加熱された場合には、面内磁化層の磁化が減少するため、上記磁界の遮断効果がなくなり、その加熱領域において記録層からの磁束が再生層に漏れて、再生層を記録情報に応じた垂直磁化にすることができる。ここでは、加熱された微小領域からのみの情報が再生層に伝わることになるため、小さい記録ビット長及び小さい記録ビット間隔で記録再生を行った場合においても、十分な再生信号を得ることができる。 (3) Furthermore, when the in-plane magnetic layer is used as a magnetization mask, the in-plane magnetic layer can absorb the magnetic field generated from the recording layer at room temperature and block the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer. On the other hand, when heated by irradiation with a reproducing laser beam, the magnetization of the in-plane magnetized layer decreases, so that the magnetic field blocking effect is lost, and the magnetic flux from the recording layer leaks to the reproducing layer in the heated region. Thus, the reproducing layer can be perpendicularly magnetized according to the recorded information. Here, since information from only the heated minute region is transmitted to the reproducing layer, a sufficient reproduction signal can be obtained even when recording / reproduction is performed with a small recording bit length and a small recording bit interval. .
(4)また、上記面内磁化層の室温における磁化を記録層の室温における磁化よりも大きくしておけば、上記磁界の遮断効果を確実に行うことができる。 (4) If the magnetization of the in-plane magnetic layer at room temperature is made larger than the magnetization of the recording layer at room temperature, the magnetic field blocking effect can be reliably achieved.
(5)さらに、再生時の加熱により、面内磁化層はキュリー温度以上となり磁化が消失し、記録層はその時点において記録された情報を保持するためキュリー温度以下としておくことが望ましい。すなわち、記録層のキュリー温度を面内磁化層のキュリー温度よりも高く設定しておくことが望ましい。 (5) Further, it is desirable to keep the in-plane magnetic layer at or above the Curie temperature due to heating during reproduction, the magnetization disappears, and the recording layer at or below the Curie temperature in order to retain the information recorded at that time. That is, it is desirable to set the Curie temperature of the recording layer to be higher than the Curie temperature of the in-plane magnetic layer.
(6)また、再生層は、再生特性が求められるため、記録層よりもキュリー温度が高い方が有利である。 (6) Further, since the reproducing layer is required to have reproducing characteristics, it is advantageous that the Curie temperature is higher than that of the recording layer.
(7)基板上に、透明誘電体層、再生層、非磁性中間層、面内磁化層、記録層、保護層を順次形成すれば、記録層に小さく記録されたビット情報の1部を、面内磁化層による磁化マスクで選択し、再生層の磁区で大きく拡大して再生でき、高密度記録においても、十分大きな信号強度が得られる。また、非磁性中間層により再生層と面内磁化層との交換結合を完全に遮断し、再生層と記録層との間に良好な静磁結合を実現することが可能となる。 (7) If a transparent dielectric layer, a reproducing layer, a nonmagnetic intermediate layer, an in-plane magnetic layer, a recording layer, and a protective layer are sequentially formed on the substrate, a part of bit information recorded on the recording layer is It can be selected by a magnetization mask with an in-plane magnetic layer, and can be greatly enlarged and reproduced in the magnetic domain of the reproducing layer, and a sufficiently large signal intensity can be obtained even in high-density recording. In addition, the nonmagnetic intermediate layer completely cuts off the exchange coupling between the reproducing layer and the in-plane magnetized layer, thereby realizing a good magnetostatic coupling between the reproducing layer and the recording layer.
(8)上記(7)において面内磁化層の膜厚を2nm以上40nm以下とすれば、面内磁化層による記録層のマスク効果が良好な状態に設定される。また、安定した磁区拡大再生が可能となる。 (8) If the film thickness of the in-plane magnetic layer is set to 2 nm or more and 40 nm or less in (7) above, the masking effect of the recording layer by the in-plane magnetic layer is set to a good state. Also, stable magnetic domain expansion reproduction is possible.
(9)上記(7),(8)において、磁気マスク層をGdFe合金、GdFeAl合金、GdFeTi合金、GdFeTa合金、GdFePt合金、GdFeAu合金、GdFeCu合金、GdFeAlTi合金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金とすれば、再生層の安定した磁区形成が可能となり、記録層から出てくる磁界に対し、正しく反応することができ、良好な磁区拡大再生を実現することが可能となる。 (9) In the above (7) and (8), the magnetic mask layer is made of any one of GdFe alloy, GdFeAl alloy, GdFeTi alloy, GdFeTa alloy, GdFePt alloy, GdFeAu alloy, GdFeCu alloy, GdFeAlTi alloy and GdFeAlTa alloy. Thus, it is possible to form a stable magnetic domain in the reproducing layer, to react correctly to the magnetic field coming out of the recording layer, and to realize good magnetic domain expansion reproduction.
(10)上記(7),(8)において、磁気マスク層を(Gd0.11Fe0.89)XAl1-Xとし、X(atom比)を0.30以上1.00以下とすれば、磁気マスク層(面内磁化層)の磁気特性が最適化されることにより、記録層と面内磁化層との間の良好な交換結合状態を実現することができ、良好な磁区拡大再生を実現できる。 (10) In the above (7) and (8), when the magnetic mask layer is (Gd 0.11 Fe 0.89 ) X Al 1-X and X (atom ratio) is 0.30 or more and 1.00 or less, the magnetic mask By optimizing the magnetic properties of the layer (in-plane magnetic layer), a good exchange coupling state between the recording layer and the in-plane magnetic layer can be realized, and a good magnetic domain expansion reproduction can be realized.
(11)上記(7)〜(10)において、磁気マスク層のキュリー温度を60℃以上220℃以下とすれば、磁気マスク層のキュリー温度が最適化されることにより、磁気マスク層のキュリー温度以下の温度では、記録層の磁化を面内磁化で再生層から遮断し(磁気マスクし)、磁気マスク層のキュリー温度以上の温度で、記録層と再生層との間の静磁結合を良好に保ち、安定な磁区拡大再生を実現することが可能となる。 (11) In the above (7) to (10), if the Curie temperature of the magnetic mask layer is set to 60 ° C. or higher and 220 ° C. or lower, the Curie temperature of the magnetic mask layer is optimized, whereby the Curie temperature of the magnetic mask layer is optimized. At the following temperatures, the magnetization of the recording layer is shielded from the reproducing layer by in-plane magnetization (magnetically masked), and the magnetostatic coupling between the recording layer and the reproducing layer is good at a temperature equal to or higher than the Curie temperature of the magnetic mask layer. Thus, stable magnetic domain expansion reproduction can be realized.
(12)上記(7)において、再生層の膜厚が10nm以上80nm以下であれば、再生層における磁区を安定させることが可能となるとともに、光の干渉効果が大きくなり良好な再生信号を得ることが可能となる。 (12) In the above (7), if the thickness of the reproducing layer is 10 nm or more and 80 nm or less, the magnetic domain in the reproducing layer can be stabilized and the interference effect of light becomes large, and a good reproduction signal is obtained. It becomes possible.
(13)上記非磁性中間層の膜厚を1nm以上80nm以下とすれば、非磁性中間層膜厚が最適化されることにより、良好な静磁結合状態が実現され、磁気的超解像再生を実現できるとともに、光学的な干渉効果も大きくなる。 (13) If the thickness of the nonmagnetic intermediate layer is set to 1 nm or more and 80 nm or less, the nonmagnetic intermediate layer thickness is optimized, thereby realizing a good magnetostatic coupling state and magnetic super-resolution reproduction. As well as an optical interference effect.
(14)上記(7)において、非磁性中間層の記録層側に隣接して反射層を形成しておけば、再生層の膜厚が薄くなり、再生層を透過した再生用の光ビームが反射層により反射され、信号再生にとって不要な記録層からの情報再生を、光学的に完全に遮断することが可能となり、信号再生特性が改善される。 (14) In (7) above, if a reflective layer is formed adjacent to the recording layer side of the nonmagnetic intermediate layer, the thickness of the reproducing layer is reduced, and the reproducing light beam transmitted through the reproducing layer is reduced. Information reproduction from the recording layer that is reflected by the reflection layer and is unnecessary for signal reproduction can be optically completely blocked, and the signal reproduction characteristics are improved.
(15)上記(14)において、反射層をAlとして、その膜厚を2nm以上40nm以下とすれば、Alからなる反射層膜厚が最適化されることにより、再生用の光ビームが反射層により反射され、磁気的超解像再生信号再生特性が改善されるとともに、再生層と記録層との間に働く静磁結合力を良好な状態に維持することが可能となる。 (15) In the above (14), when the reflective layer is made of Al and the film thickness is made 2 nm to 40 nm, the thickness of the reflective layer made of Al is optimized, so that the reproducing light beam is reflected by the reflective layer. Thus, the magnetic super-resolution reproduction signal reproduction characteristics are improved, and the magnetostatic coupling force acting between the reproduction layer and the recording layer can be maintained in a good state.
(16)上記(14)において、反射層をAlと磁性金属との合金とすれば、反射層合金は、Alに比べて熱伝導率が低いため、レーザービームによる加熱時の媒体温度分布が急峻になり、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が改善され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気記録媒体を提供することが可能となる。 (16) In the above (14), if the reflective layer is made of an alloy of Al and a magnetic metal, the reflective layer alloy has a lower thermal conductivity than Al, so that the medium temperature distribution during heating by the laser beam is steep. It is possible to provide a magneto-optical recording medium capable of realizing good magnetic amplification reproduction, improving the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer, and erasing with a smaller erasing magnetic field. Is possible.
(17)上記(16)において、反射層をAl1-XFeXとして、X(atom比)を0.02以上0.50以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能となる。 (17) In (16) above, if the reflective layer is Al 1-X Fe X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less, it is possible to realize good magnetic amplification reproduction. In addition, the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized, and a magneto-optical disk that can be erased with a smaller erasing magnetic field can be provided.
(18)上記(16)において、反射層をAl1-XNiXとして、X(atom比)を0.02以上0.50以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気記録媒体を提供することが可能となる。 (18) In the above (16), if the reflective layer is Al 1-X Ni X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less, it is possible to realize good magnetic amplification reproduction. In addition, the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized, and a magneto-optical recording medium that can be erased with a smaller erasing magnetic field can be provided.
(19)上記(14)において、反射層をAlと非磁性金属との合金すれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が改善され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能となる。 (19) In the above (14), if the reflective layer is made of an alloy of Al and a nonmagnetic metal, it is possible to realize good magnetic amplification reproduction and magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer. Thus, it becomes possible to provide a magneto-optical disk that can be erased with a smaller erasing magnetic field.
(20)上記(19)において、非磁性金属をTi、Ta、Pt、Au、Cu、Siのいずれかの元素とすれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が改善され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能となる。 (20) In the above (19), if the nonmagnetic metal is any one element of Ti, Ta, Pt, Au, Cu, and Si, it is possible to realize good magnetic amplification reproduction and a reflection layer. The magnetic characteristics of the recording layer formed thereon are improved, and a magneto-optical disk that can be erased with a smaller erasing magnetic field can be provided.
(21)上記(19)において、反射層をAl1-XTiXとして、X(atom比)が0.02以上0.98以下とすれば、良好な磁気増幅再生を実現することが可能となるとともに、反射層上に形成される記録層の磁気特性が最適化され、より小さな消去磁界で消去可能な光磁気ディスクを提供することが可能となる。 (21) In the above (19), if the reflective layer is made of Al 1-X Ti X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.98 or less, it is possible to realize good magnetic amplification reproduction. In addition, the magnetic characteristics of the recording layer formed on the reflective layer are optimized, and a magneto-optical disk that can be erased with a smaller erasing magnetic field can be provided.
(22)上記(7)において、前記保護層に対して前記基板の反対側に放熱層を形成しておけば、光磁気記録媒体に照射される光ビーム内の温度分布がより急峻となり、磁気マスク層による再生層における記録層からの磁界のマスク効果を強調することが可能となり、再生特性がさらに向上する。 (22) In (7) above, if a heat dissipation layer is formed on the opposite side of the substrate with respect to the protective layer, the temperature distribution in the light beam applied to the magneto-optical recording medium becomes steeper and the magnetic The mask effect of the magnetic field from the recording layer in the reproducing layer by the mask layer can be emphasized, and the reproducing characteristics are further improved.
(23)上記(1)〜(22)において、再生層が室温で面内磁化状態であれば、余計な信号を再生しなくてもよく、有利である。再生層に生成された磁区の外側は、すべてノイズ成分となる可能性があるが、このように室温で面内磁化を示す再生層を用いれば、記録層から転写された磁区のみが垂直磁化となり、垂直領域のみの信号再生が可能となる。 (23) In the above (1) to (22), if the reproducing layer is in the in-plane magnetization state at room temperature, it is not necessary to reproduce an extra signal, which is advantageous. The outside of the magnetic domain generated in the reproducing layer may be a noise component, but if a reproducing layer showing in-plane magnetization at room temperature is used, only the magnetic domain transferred from the recording layer becomes perpendicular magnetization. Thus, signal reproduction only in the vertical region is possible.
(24)上記(1),(2),(3)において、再生層をCoとPtの多層膜とすれば、短波長レーザを用いたときにおいても良好なC/N比を得ることが可能となる。 (24) In the above (1), (2) and (3), if the reproducing layer is a multilayer film of Co and Pt, it is possible to obtain a good C / N ratio even when a short wavelength laser is used. It becomes.
(25)上記(1)〜(24)の光磁気記録媒体から情報を再生する際、再生層に作られた磁区を一旦消去していくことがスムーズな再生動作につながるため、再生用のレーザビームをパルス発光させれば、レーザが消光している間に磁区を消滅させるとともに、レーザが発光している間に媒体温度を上昇させて、再生層に記録層の記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生信号品質をより高品質とすることができる。 (25) When information is reproduced from the magneto-optical recording media of (1) to (24) above, erasing the magnetic domains formed in the reproducing layer once leads to a smooth reproducing operation. If the beam is pulsed, the magnetic domain disappears while the laser is extinguished, and the medium temperature is raised while the laser emits light, and the recording magnetic domain of the recording layer is transferred to the reproducing layer to reproduce the signal. The reproduction signal quality can be made higher.
(26)上記(3)の光磁気記録媒体から情報を再生する際、磁気マスク層をキュリー温度以上に加熱すれば、磁気マスク層の磁化を消失させることができ、再生時における記録層から再生層への磁化の転写を円滑に行うことが可能となる。 (26) When reproducing information from the magneto-optical recording medium of (3) above, if the magnetic mask layer is heated to a temperature equal to or higher than the Curie temperature, the magnetization of the magnetic mask layer can be lost, and the information is reproduced from the recording layer at the time of reproduction. It becomes possible to transfer the magnetization to the layer smoothly.
(27)上記(1)〜(7)において、磁気マスク層を記録層と静磁結合するものとすれば、磁気マスク層と記録層との交換結合を遮断できるので、より高いマスク効果を得ることができ、さらに良好な信号強度が得られる。 (27) In the above (1) to (7), if the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer, exchange coupling between the magnetic mask layer and the recording layer can be cut off, thereby obtaining a higher mask effect. And better signal strength can be obtained.
(28)上記(27)において、磁気マスク層と記録層との間に膜厚が2〜80nmの非磁性中間層を配すれば、上記(27)の効果を適切に得ることができる。 (28) In the above (27), if a nonmagnetic intermediate layer having a thickness of 2 to 80 nm is disposed between the magnetic mask layer and the recording layer, the effect of the above (27) can be appropriately obtained.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態1を図面を用いて詳細に説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter,
図1に本発明の光磁気ディスクの再生原理を、図16に従来の光磁気ディスクの再生原理を説明する光磁気記録媒体の断面図を示す。 FIG. 1 shows a reproduction principle of the magneto-optical disk of the present invention, and FIG. 16 shows a sectional view of a magneto-optical recording medium for explaining the reproduction principle of a conventional magneto-optical disk.
まず、従来の超解像再生動作について説明する。従来の再生方式は図16に示すように、記録層4から発生する磁界を、再生層1で受け、再生層1の磁区に転写するものである。このため、少なくとも温度上昇した時点では垂直磁化状態となる希土類金属と遷移金属との合金からなる再生層1と、室温に補償温度を有する希土類金属と遷移金属との合金からなる記録層4との間に非磁性中間層2が形成され、再生層1と記録層4とが静磁結合した構成である。
First, a conventional super-resolution reproduction operation will be described. As shown in FIG. 16, the conventional reproducing system receives a magnetic field generated from the
ここで、光ビーム5が再生層側から集光照射されると、媒体には光ビーム5の強度分布に対応したガウシアン分布状の温度分布が形成される。この温度分布の形成に伴い、記録層4の磁化が増大して記録層4から発生する磁界が増大して、その磁界により再生層1の磁化方向が決定される、すなわち、再生層1に記録層4の磁化が転写される。この転写された部分の情報が再生されることにより、超解像再生動作が実現する。
Here, when the
この再生方法において、図2(a)に示すように、再生層1において存在する磁区の大きさを、例えば再生用レーザーとして波長680nmのものを使用する場合にはそのビームスポットサイズの1μm程度の大きさに設定して、記録層4の磁区の大きさよりも大きくすれば、再生時において再生層1から発生する信号が増大することになる。
In this reproducing method, as shown in FIG. 2A, when the magnetic domain size existing in the reproducing
しかしながら、再生層1における磁化の方向は記録層4からの磁界により決定されるものであり、記録層4に高密度に情報が記録された場合には、以下に示すように、記録層4からの磁化転写が良好に行えなくなる。すなわち、図2(a)のように全面消去状態で孤立ビット100が形成された状態では再生層1における垂直磁化の方向がその孤立ビット100からの磁界の影響のみを受けるため有効に機能するが、高密度に記録した場合、図2(b)に示すように隣接記録ビット101の影響が出てくる。隣接ビット101の磁化方向は記録ビット100の逆方向を向いているため、本来再生すべき磁化が弱まり、磁気転写及び磁気拡大が著しく困難になる。このため、目的とする範囲の情報が正しく再生できず、外部の浮遊磁界等の影響を受けやすくなる。
However, the direction of magnetization in the reproducing
一方、図1に示す本発明の磁区拡大光磁気記録媒体においては、記録層4に隣接して、面内磁化層3(請求項における磁気マスク層)が形成されており、面内磁化層3により記録層4の内の所定温度(以下、臨界温度と記す)以上に加熱されていないの部分11からの磁化をマスクする。すなわち、面内磁化層3により、記録層4の上記部分11の磁化が再生層1に影響を与えることを防止する(部分11から発生する磁束の再生層1への漏洩を抑制する)。要するに、記録層4と再生層1との磁気結合力を抑制する。
On the other hand, in the magnetic domain expansion magneto-optical recording medium of the present invention shown in FIG. 1, an in-plane magnetic layer 3 (a magnetic mask layer in claims) is formed adjacent to the
このように、磁気マスクを実現することにより、臨界温度以上の部分のみのマスクをはずすことが可能となり、図1に示すように再生層1において存在する磁区の大きさが記録磁区の大きさよりも大きい場合においても、記録層4において臨界温度以上に加熱された所望の記録磁区のみの情報を再生することが可能となる。
As described above, by realizing the magnetic mask, it becomes possible to remove only the mask above the critical temperature, and the size of the magnetic domain existing in the reproducing
ここで、面内磁化層3は、上記臨界温度以上に加熱された部分における記録層4と再生層1の静磁結合を有効に働かせるため、臨界温度以上の温度において、磁化を持たないか、あるいは、磁化の大きさが臨界温度以下の温度における磁化の大きさに比較して小さいことが望ましく、また、面内磁化層3のキュリー温度は記録層4のキュリー温度よりも低いことが望ましい。さらに、室温において記録層4からの磁束が再生層1に影響を与えることを抑制するため、室温において面内磁化層3の磁化の大きさは記録層4の磁化の大きさよりも大きいことが望ましい。
Here, the in-plane
また、再生層1は、レーザービームで再生される際、磁区の大きさが大きい方が信号量が増え、ノイズの原因が少なくなるため、好ましい。また、記録層4からの磁界に応じて、磁壁が動く必要があり、保磁力の小さい特性が有利である。
In addition, when the reproducing
また、この光磁気記録媒体から情報を再生する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去していくことが、スムーズな再生動作につながるため、再生用のレーザービームをパルス発光させれば、レーザーが消光している間に磁区を消滅させるとともに、レーザーが発光している間に媒体温度を上昇させて、再生層に記録層の記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生信号品質をより高品質とすることができる。
Further, when information is reproduced from this magneto-optical recording medium, once the magnetic domain created in the reproducing
本発明の実施の形態1について図3に基づいて、より具体的に説明すれば以下の通りである。なお、以下では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。 The first embodiment of the present invention will be described more specifically with reference to FIG. 3 as follows. In the following, a case where a magneto-optical disk is applied as the magneto-optical recording medium will be described.
本実施の形態に係る光磁気ディスクは、図3に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、面内磁化層3、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 3, the magneto-optical disk according to the present embodiment includes a
このような光磁気ディスクでは、その記録方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズにより再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られている光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化により、反射光の偏光面の回転の向きが回転する現象で、磁化の向きで回転方向が変わる現象である。
In such a magneto-optical disk, the Curie temperature recording system is used as the recording system, and the
基板6は、例えばポリカーボネート等の透明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The board |
透明誘電体層7は、AlN、SiN、AlSiN、TiO2等の屈折率の大きな材料で構成されることが望ましく、その膜厚は、入射するレーザ光に対して、良好な干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大すべく設定される必要があり、再生光の波長をλ、透明誘電体層7の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の膜厚は(λ/4n)程度に設定される。例えば、レーザ光の波長を680nmとした場合、透明誘電体層7の膜厚を30nm〜100nm程度に設定すれば良い。
The
再生層1は、希土類遷移金属合金からなる磁性膜であり、その磁気特性が、室温において面内磁化状態であり、温度上昇にともない垂直磁化状態となるように組成調整されている。
The reproducing
非磁性中間層2は、AlN、SiN、AlSiN等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、または上記誘電体と上記金属の2層からなり、再生層1と記録層4とが静磁結合すべく、そのトータル膜厚が1〜80nmに設定されている。
The nonmagnetic
面内磁化層3は、希土類遷移金属合金、または、希土類金属、または、遷移金属を主成分とする磁性膜であり、膜面に水平な方向に磁化を有する膜である。図1において説明したように、面内磁化層3は、臨界温度以下の温度で記録層4の垂直磁化から発生する磁界を面内磁化でマスクし、再生層1への磁界の漏洩を防ぐ。臨界温度以上においては、磁化のマスク効果を失い、記録層4から発生する磁束が再生層へ透過しやすくなるように、組成調整されている。
The in-plane magnetized
記録層4は、希土類遷移金属合金からなる垂直磁化膜からなり、その膜厚が、20〜80nmの範囲に設定されている。
The
保護層8は、AlN、SiN、AlSiN、SiC等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金からなり、再生層1や記録層4に用いる希土類遷移金属合金の酸化を防止する目的で形成されるものであり、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定されている。
The
オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射するか、または、加熱するかによって形成される。
The
以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk having the above-described structure will be described separately for (1) forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)形成方法
まず、Alターゲットと、GdFeCo合金ターゲットと、GdFeAl合金ターゲットと、GdDyFeCo合金ターゲットとをそれぞれ備えたスパッタ装置内に、プリグルーブ及びプリピットを有しディスク状に形成されたポリカーボネート製の基板6を基板ホルダーに配置する。スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、基板6にAlNからなる透明誘電体層7を膜厚80nmで形成した。
(1) Formation method First, a polycarbonate made of a disc having pregrooves and prepits in a sputter apparatus provided with an Al target, a GdFeCo alloy target, a GdFeAl alloy target, and a GdDyFeCo alloy target, respectively. The
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、Gd0.30(Fe0.80Co0.20)0.70からなる再生層1を膜厚20nmで形成した。その再生層1は、室温において面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態となる特性を有し、その補償温度が300℃、そのキュリー温度が320℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdFeCo alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. On the
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、再生層1上にAlNからなる非磁性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the nonmagnetic
次に、GdFeAl合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2上に、(Gd0.11Fe0.89)0.75Al0.25からなる面内磁化層3を膜厚30nmで形成した。その面内磁化層3は、キュリー温度が120℃であり、室温からキュリー温度まで、膜面に平行な方向に磁化を有する面内磁化層であった。
Next, power is supplied to the GdFeAl alloy target so that the gas pressure is 4 × 10 −3 Torr, and the in-plane
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdDyFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記面内磁化層3上に、(Gd0.50Dy0.50)0.23(Fe0.80Co0.20)0.77からなる記録層4を膜厚40nmで形成した。その記録層4は、25℃に補償温度を有し、キュリー温度が275℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdDyFeCo alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. A
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the
次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射することによりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied onto the
(2)記録再生特性
上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)のマーク長依存性を図4に示す。なお、ここでは上記した本実施の形態の光磁気記録媒体を実施例1として示している。
(2) Recording / Reproducing Characteristics FIG. 4 shows the mark length dependence of CNR (signal to noise ratio) measured on the above disk by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Here, the magneto-optical recording medium of the present embodiment described above is shown as Example 1.
また、比較のため、面内磁化層3の存在しない構成の光磁気ディスクのCNRのマーク長依存性も比較例1として同図に記載する。なお面内磁化層の存在しない光磁気ディスクの媒体は、本実施の形態の媒体構成において、面内磁化層3を取り除いた構成である。また、ここで示すCNRのマーク長依存性は、マーク長に対応する長さの記録磁区をマーク長の2倍の長さの記録磁区ピッチで連続形成した時の信号対雑音比を表すものである。
For comparison, the mark length dependency of CNR of a magneto-optical disk having a configuration in which the in-plane
マーク長0.3μmの両者のCNRを比較すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対して、実施例1の場合41.5dBと7.5dBのCNR増加が観測されている。これは、面内磁化層3により、記録層4に対する磁化マスクが効き、再生分解能が上がったことによるものである。
Comparing the CNRs of both marks having a mark length of 0.3 μm, it is 34.0 dB in the case of the comparative example 1, whereas an increase in CNR of 41.5 dB and 7.5 dB is observed in the case of the first example. This is because the in-plane
次に、表1は、実施例1における再生層1と面内磁化層3の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
Next, Table 1 shows the results of measuring the CNR at 0.3 μm by changing the film thicknesses of the reproducing
表1において、面内磁化層膜厚0nmは、面内磁化層3を形成していない比較例1の結果を示している。面内磁化層3の膜厚を2nmと極めて薄くした場合においても、面内磁化マスクの強化が実現することにより、CNRが1dB上昇する。面内磁化層3の膜厚としては、30nmまで面内磁化マスクの強化が実現することにより、CNRが上昇して行くが、それ以上厚くするとCNRは低下する。これは、記録層と再生層の間が離れてしまうこと。面内磁化マスクが強化され過ぎ、磁気的なアパーチャーが開きにくくなっている影響を受けて、再生層の完全な垂直磁化状態が得られなくなることによるものであると考えられる。以上のことより、比較例1よりも高いCNRの得られる面内磁化層3の膜厚は、2〜40nmの範囲であることが分かる。
In Table 1, the in-plane
また、再生層1の膜厚を8nmにすると、再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を120nmにすると、再生層1に発生する磁壁エネルギーが増加し、温度上昇した部分において完全な垂直磁化状態が得られなくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。表1から、比較例1よりも高いCNRの得られる再生層1の膜厚は、10〜80nmの範囲であることが分かる。
Further, when the film thickness of the
次に、表2は、実施例1における非磁性中間層2の膜厚を変えて、0.3μmでのCNR、及び、消去に必要な磁界(消去磁界)を測定した結果を示すものである。
Next, Table 2 shows the results of measuring the CNR at 0.3 μm and the magnetic field necessary for erasing (erasing magnetic field) by changing the film thickness of the nonmagnetic
表2から、非磁性中間層2の膜厚が0.5nmの場合、CNRが著しく低下していることがわかる。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄すぎるため、良好な静磁結合状態が得られなかったことによるものと考えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nmの時、最大のCNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が大きくなるにつれて、静磁結合力が小さくなるとともにCNRが低下していくことがわかる。上記比較例1よりも高いCNRを得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜80nmの範囲に設定する必要のあることが分かる。
From Table 2, it can be seen that when the film thickness of the nonmagnetic
さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くすることにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さくなることにより、消去磁界が小さくなることがわかる。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にするためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とすることが更に望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the film thickness of the nonmagnetic
(実施の形態2)
本実施の形態では、上記した実施の形態1で示した光磁気ディスクの具体例において、面内磁化層3として異なる組成のものを用いた例について説明する。
(Embodiment 2)
In the present embodiment, an example in which the in-plane
実施の形態1においては、面内磁化層3としてキュリー温度が120℃の(Gd0.11Fe0.89)0.75Al0.25を用いた場合の記録再生特性を示したが、本実施の形態においては、面内磁化層3のAl含有率を変えて記録再生特性を調査した結果を記述する。
In the first embodiment, the recording / reproduction characteristics in the case where (Gd 0.11 Fe 0.89 ) 0.75 Al 0.25 having a Curie temperature of 120 ° C. is used as the in-plane
表3は、面内磁化層3を膜厚30nmの(Gd0.11Fe0.89)XAl1-Xとして、X(atom比)の値を変えて、面内磁化層3のキュリー温度TC2と、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを測定した結果を示すものである。
Table 3 shows that the in-plane
表3において、面内磁化層3を形成していない比較例1において得られたCNR(34.0dB)よりも高いCNRが得られるのは、0.30<X<1.00の範囲であることがわかる。本実施の形態において用いた再生層1は、実施の形態1と同じものであり、120℃の温度で垂直磁化状態となる。すなわち、面内磁化層3は、120℃以下の温度において、記録層の磁界を面内磁化マスクすることができればよく、面内磁化層3のキュリー温度の最適値は、略120℃ということになる。しかし、本実施の形態に示すように、面内磁化層3のキュリー温度が、60℃以上、220℃以下において、比較例1よりも高いCNRが得られており、面内磁化層のキュリー温度を60℃以上220℃以下とすることにより、磁化マスクを形成することが可能となる。
In Table 3, a CNR higher than the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the in-plane
また、本実施の形態においては、面内磁化層3として、GdFeAlを用いた結果について記述しているが、上記キュリー温度範囲(60℃〜220℃)で面内磁化であることを満足すればよく、他に、NdFe、NdFeAl、DyFe、DyFeAlからなる面内磁化層3を用いることが可能である。
In this embodiment, the result of using GdFeAl as the in-
(実施の形態3)
本実施の形態は、実施の形態1の具体例において、面内磁化層3として他の材料のものを用いた場合の例について説明する。
(Embodiment 3)
In the present embodiment, an example in which another material is used as the in-plane
実施の形態1においては、キュリー温度が120℃の(Gd0.11Fe0.89)0.75Al0.25を用いた場合の記録再生特性を示したが、本実施の形態においては、面内磁化層3として、Al以外の金属元素を用いた結果について記述する。
In the first embodiment, the recording / reproducing characteristics in the case where (Gd 0.11 Fe 0.89 ) 0.75 Al 0.25 having a Curie temperature of 120 ° C. is used. However, in this embodiment, the in-plane
表4は、面内磁化層3に膜厚20nmの(Gd0.11Fe0.89)0.75Z0.25を用いた時の面内磁化層3のキュリー温度TC2と、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを測定した結果を示すものである。ここで、Zとしては、Ti、Ta、Pt、Au、Cu、Al0.5Ti0.5、Al0.5Ta0.5を用いた。
Table 4 shows an optical pickup using a Curie temperature T C2 of the in-plane
表4より、Zとして、Ti、Ta、Pt、Au、Cu、Al0.5Ti0.5、Al0.5Ta0.5を用いたすべての場合において、比較例1よりも高いCNRが得られていることがわかる。実施の形態2において記述したように、面内磁化層3のキュリー温度が60℃〜220℃の範囲にあればよく、他に、NdFeTi、NdFeTa、DyFeTi、DyFeTaからなる面内磁化層を用いることが可能である。
From Table 4, it is understood that CNR higher than that of Comparative Example 1 is obtained in all cases where Ti, Ta, Pt, Au, Cu, Al 0.5 Ti 0.5 , and Al 0.5 Ta 0.5 are used as Z. As described in the second embodiment, the in-plane
(実施の形態4)
本発明の実施の形態4について図5に基づいて説明すれば以下の通りである。本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。但し、実施の形態1〜3と同一部分については説明を省略する。
(Embodiment 4)
The following describes
本実施の形態4に係る光磁気ディスクは、図5に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、反射層10、面内磁化層3、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 5, the magneto-optical disk according to
実施の形態1においては、面内磁化層3の膜厚が10nmより小さくなった場合、再生層1と非磁性中間層2とを透過した光ビーム5が記録層4により反射され、再生信号に記録層4の情報が混入することになる。
In the first embodiment, when the film thickness of the in-plane
本実施の形態4の光磁気ディスクは、実施の形態1に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性中間層2と面内磁化層3との間に、反射層10が形成された構成を有している。このようにすることにより、再生層1を透過した光ビーム5は反射層10により反射され、再生信号に記録層4の不要な情報が混入することを防ぐことが可能となる。
The magneto-optical disk according to the fourth embodiment has a configuration in which the
以下、本実施の形態の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described by dividing into (1) formation method and (2) recording / reproduction characteristics.
(1)形成方法
本実施の形態の光磁気ディスクは、実施の形態1の光磁気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と面内磁化層3との間に、Alからなる反射層10を形成しており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、面内磁化層3、記録層4、保護層8、オーバーコート層9は、実施の形態1と同様にして、再生層1の膜厚を17.5nmとし、面内磁化層3の膜厚を7.5nmとして形成した。
(1) Formation Method The magneto-optical disk of this embodiment is the same as the magneto-optical disk formation method of
ここで、Al反射層10は、非磁性中間層2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the nonmagnetic
(2)記録再生特性
表5は、本実施の形態の光磁気ディスクにおける反射層10の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / reproducing characteristics Table 5 shows a CNR (signal at 0.3 μm) measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the film thickness of the
表5において、反射層膜厚0nmは、反射層10を形成していない比較例2の結果を示している。反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合においても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見られ、CNRが1.0dB上昇する。反射層10の膜厚を厚くすることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜厚20nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚増加に伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより顕著になるためである。該膜厚30nm以上でCNRが低下しているが、記録層4と再生層1との距離が大きくなることにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなることによるものである。以上のことより、比較例2よりも高いCNRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜50nmの範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 5, the reflective layer thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 2 in which the
(実施の形態5)
本実施の形態では、実施の形態4の具体例における反射層10として異なる材料のものを使用した場合について説明する。
(Embodiment 5)
In the present embodiment, the case where a different material is used as the
実施の形態4では、Alを用いた再生特性について記述しているが、本実施の形態においては、その記録特性を改善すべく、反射層10として、AlとAl以外の金属との合金を用いた結果について記述する。
In the fourth embodiment, reproduction characteristics using Al are described. However, in this embodiment, an alloy of Al and a metal other than Al is used as the
表6は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 6 shows that the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm with the
表6より、Fe含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも比較例2よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 6, the CNR gradually decreases as the Fe content increases, that is, as X increases from 0.10, but both CNRs are larger than those in Comparative Example 2, and the
次に、表7は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 7 shows that the
表7より、Feを含有した場合と同様に、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。 From Table 7, as in the case of containing Fe, it was possible to reduce the erasing magnetic field by setting X to 0.02 or more and 0.50 or less.
Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、Dy、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させることにより、消去磁界を小さくすることが可能である。 In addition to Fe and Ni, a magnetic metal such as Co, Gd, Tb, Dy, and Nd is similarly contained in Al, so that the erasing magnetic field can be reduced.
(実施の形態6)
本実施の形態では、実施の形態4の具体例における反射層10として更に異なる材料のものを用いた場合について説明する。
(Embodiment 6)
In the present embodiment, a case will be described in which a different material is used as the
実施の形態5においては、反射層10として、Alに磁性金属元素を含有させた結果について記述しているが、本実施の形態においては、Alに非磁性金属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述する。
In the fifth embodiment, the result of including a magnetic metal element in Al as the
表8は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 8 shows the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm, with the
表8より、Ti含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも比較例2よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.98以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 8, as the Ti content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases. However, both CNRs are larger than those in Comparative Example 2, and the
次に、表9は、反射層10として、Ti以外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減効果について示すものであり、反射層10をAl0.5Z0.5として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合における、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 9 shows the erasing magnetic field reduction effect when a nonmagnetic element other than Ti is contained in Al as the
表9より、Zとして非磁性金属であるTa、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、いずれのCNRも比較例2よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、AlにTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 9, in the case where Ta, Pt, Au, Cu, and Si, which are nonmagnetic metals, are used as Z, all the CNRs are larger than those in Comparative Example 2, and the effect of forming the
尚、以上の実施の形態1〜6では再生層1として室温で面内磁化状態であり高温状態で垂直磁化状態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再生領域(再生時に所定温度(再生温度)以上に加熱された領域)で垂直磁化状態となるものであれば使用することができる。
In the above first to sixth embodiments, a magnetic layer that is in-plane magnetized at room temperature and perpendicularly magnetized at high temperature is used as the reproducing
また、実施の形態1〜6では面内磁化層3を使用しているが、この層の代わりに(1)室温で面内磁化状態であり高温で垂直磁化状態となる磁性層(参考形態5〜9参照)や、(2)遷移金属副格子磁化の方向が記録層4と同じ方向を向き、しかも遷移金属副格子磁化と希土類金属副格子磁化の総和が記録層4と逆方向を向く垂直磁化層(参考形態1〜4参照)を使用することができる。さらに、実施の形態1〜6の面内磁化層3や上記(1)の磁性層は記録層4に隣接している必要はなく、(3)記録層4に静磁結合しているものであってもよい(実施の形態7及び参考形態10参照)。
In the first to sixth embodiments, the in-plane
(参考形態1)
以下、本参考形態を図面を用いて詳細に説明する。
(Reference form 1)
Hereinafter, this reference embodiment will be described in detail with reference to the drawings.
図6に本参考形態の磁区拡大再生動作原理を示す。 FIG. 6 shows the principle of magnetic domain expansion reproduction operation of this embodiment.
本光磁気記録媒体では低温領域において記録層から発生する磁界をそれと反対方向の磁界によって打ち消す。例えば、図6に示す磁区拡大再生光磁気記録媒体においては、記録層4に隣接して、希土類金属と遷移金属との合金からなる遮断層3’(請求項における磁気マスク層)が形成され交換結合している。遮断層3’は室温で希土類金属副格子モーメントが遷移金属副格子モーメントより大きく(希土類金属リッチ)、記録層4は室温からキュリー温度まで遷移金属副格子モーメントが希土類金属副格子モーメントより大きく(遷移金属リッチ)している。
In the magneto-optical recording medium, the magnetic field generated from the recording layer in the low temperature region is canceled by the magnetic field in the opposite direction. For example, in the magnetic domain expansion reproducing magneto-optical recording medium shown in FIG. 6, a
このような構成の本光磁気記録媒体では、室温において、記録層4と遮断層3’とが交換結合しており、遷移金属副格子モーメントの向きが揃うため室温では遮断層3’のトータルの磁化の向き(希土類金属副格子モーメントの向き)と記録層4のトータルの磁化の向き(遷移金属副格子モーメントの向き)は逆方向になる。本参考形態の光磁気記録媒体において、再生層1に影響を与える磁界の向きは、記録層4と遮断層3’を合わせた全体の磁化の向きで決定される。したがって、上記のような遮断層3’を用いれば、少なくとも室温において、記録層4からの磁界を遮断層3’の磁界により減少させることができる。要するに、記録層4と再生層1との磁気結合を抑制することができる。
In the magneto-optical recording medium having such a configuration, the
さらに、室温近傍の低温領域において、遮断層3’のトータル磁化と記録層4のトータル磁化の大きさを略同一としてバランスさせれば、再生層1へと漏洩する磁束をほぼ0とすることができ、望ましい。
Further, if the total magnetization of the
一方、室温から温度上昇していくと、遮断層3’は希土類金属副格子モーメントと遷移金属副格子モーメントの大きさの差が小さくなりトータルの磁化が減少するのに対し、記録層4は一旦希土類金属副格子モーメントと遷移金属副格子モーメントの大きさの差が大きくなりトータルの磁化が増大する。したがって、再生時の加熱により、記録層4と遮断層3’との間のトータル磁化のバランスが取れなくなり、記録層4から発生した磁界によって再生層1が影響を受けることとなる。これにより、再生層1に記録層4の磁化が転写される。
On the other hand, as the temperature rises from room temperature, the
以上のように、本参考形態の光磁気記録媒体では、再生時において、記録層4の低温部分の磁化が遮断層3’によりマスクされ、高温部分(光ビームスポットの中央部分)の記録層4からの磁束のみが漏洩し、記録信号を再生層1に転写する。このため、記録ビットの間隔が狭くなり再生層1の拡大された磁区の領域内に隣接記録ビットが入ってきた場合にも、その隣接記録ビットからは磁界が発生しないため、再生層1の磁化方向は中央の高温に加熱された部分の記録ビットのみにより決定されるため、良好な再生特性を得ることができる。
As described above, in the magneto-optical recording medium of the present embodiment, during reproduction, the magnetization of the low temperature portion of the
また、この光磁気記録媒体から情報を再生する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去しておくことがスムーズな再生動作につながるため、再生用のレーザービームをパルス発光させれば、レーザーが消光している間に磁区を消滅させるとともに、レーザーが発光している間に媒体温度を上昇させて、再生層に記録層の記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生信号品質を高品質とすることができる。
In addition, when information is reproduced from this magneto-optical recording medium, once the magnetic domain created in the reproducing
以下に、本参考形態の具体例について図7に基づいて説明する。ここでは、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。 Below, the specific example of this reference form is demonstrated based on FIG. Here, a case where a magneto-optical disk is applied as the magneto-optical recording medium will be described.
本参考形態に係る光磁気ディスクは、図7に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 7, the magneto-optical disk according to the present embodiment includes a
このような光磁気ディスクでは、その記録方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズにより再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られている光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化の向きにより、反射光の偏光面の回転の向きが逆方向になる現象である。
In such a magneto-optical disk, the Curie temperature recording system is used as the recording system, and the
基板6は、例えばポリカーボネート等の透明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The board |
透明誘電体層7は、AlN、SiN、AlSiN等の酸素を含まない材料で構成されることが望ましく、その膜厚は、入射するレーザ光に対して、良好な干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大すべく設定される必要があり、再生光の波長をλ、透明誘電体層7の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の膜厚は(λ/4n)程度に設定される。例えば、レーザ光の波長を680nmとした場合、透明誘電体層7の膜厚を30nm〜100nm程度に設定すれば良い。
The
再生層1は、希土類遷移金属合金、または、希土類金属、または、遷移金属を主成分とする磁性膜であり、その磁気特性が、再生温度近傍において保磁力が小さくなるように組成調整されている。
The
非磁性中間層2は、AlN、SiN、AlSiN等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金からなり、再生層1と遮断層3’及び記録層4とが静磁結合すべく、その膜厚が1〜80nmに設定されている。
The nonmagnetic
遮断層3’は、希土類遷移金属合金からなる磁性膜である。図6において説明したように、遮断層3’は、室温で希土類金属副格子モーメントが遷移金属副格子モーメントより大きく、室温で記録層4から発生する磁界がマスクされるよう組成調整されている。また、室温からキュリー温度まで常に遷移金属副格子モーメントの方向は後述する記録層4の遷移金属副格子モーメントの方向に従う。つまり、記録層4の遷移金属副格子モーメントの方向によって決められるように、組成調整されている。
The
記録層4は、希土類遷移金属合金からなる垂直磁化膜からなり、室温からキュリー温度まで遷移金属副格子モーメントが希土類金属副格子モーメントより大きく、その膜厚が20〜80nmの範囲に設定されている。また、記録磁区の面積は、再生時において再生層1に存在する磁区の面積よりも小さく設定されている。
The
保護層8は、AlN、SiN、AlSiN等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金からなり、再生層1や記録層4に用いる希土類遷移金属合金の酸化を防止する目的で形成されるものであり、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定されている。
The
オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射するか、または、加熱するかによって形成される。
The
以下、本参考形態の具体例について(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性の順に説明する。 Hereinafter, specific examples of this embodiment will be described in the order of (1) magneto-optical disk forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)光磁気ディスクの形成方法
上記構成の光磁気ディスクの形成方法について説明する。
(1) Method for Forming Magneto-Optical Disk A method for forming the magneto-optical disk having the above configuration will be described.
まず、Alターゲットと、GdFeCo合金ターゲットと、GdDyFe合金ターゲットと、GdDyFeCo合金ターゲットとをそれぞれ備えたスパッタ装置内に、プリグルーブ及びプリピットを有しディスク状に形成されたポリカーボネート製の基板6を基板ホルダーに配置する。スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、基板6にAlNからなる透明誘電体層7を膜厚80nmで形成した。
First, a
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、Gd0.30(Fe0.80Co0.20)0.70からなる再生層1を膜厚40nmで形成した。その再生層1は、室温において面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態となる特性を有し、その補償温度が300℃、そのキュリー温度が320℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdFeCo alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. On the
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、上記再生層1上にAlNからなる非磁性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the nonmagnetic
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdDyFe合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2に、(Gd0.50Dy0.50)0.28Fe0.72からなる遮断層3’を膜厚30nmで形成した。その遮断層3’は、キュリー温度が140℃であり、室温からキュリー温度まで希土類金属リッチの垂直磁化膜であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdDyFe alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. On the
次に、GdDyFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記遮断層3’上に、(Gd0.50Dy0.50)0.23(Fe0.80Co0.20)0.77からなる記録層4を膜厚40nmで形成した。その記録層4は、キュリー温度が275℃であった。
Next, power is supplied to the GdDyFeCo alloy target so that the gas pressure is 4 × 10 −3 Torr, and the
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the
次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射することによりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied onto the
(2)記録再生特性
上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)のマーク長依存性を図8に示す。
(2) Recording / Reproduction Characteristics FIG. 8 shows the mark length dependence of CNR (signal to noise ratio) measured on the above disk with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm.
比較のため、遮断層3’の存在しない構成の磁区拡大再生光磁気ディスクのCNRのマーク長依存性も比較例1として同図に記載する。上記した光磁気ディスクについての結果を実施例2として記載する。なお、遮断層の存在しない光磁気ディスクの媒体は、本参考形態に記載の媒体構成において、遮断層3’を取り除いた構成である。また、ここで示すCNRのマーク長依存性は、マーク長に対応する長さの記録磁区をマーク長の2倍の長さの記録磁区ピッチで連続形成した時の信号対雑音比を表すものである。
For comparison, the dependency of CNR on the mark length of a magnetic domain expansion reproducing magneto-optical disk having a configuration without the
マーク長0.3μmの両者のCNRを比較すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対して、本実施例2の場合41.5dBと7.5dBのCNR増加が観測されている。これは、遮断層3’により、隣接ビットがマスクされ、再生分解能が上がったことによるものである。 Comparing the CNR of both marks having a mark length of 0.3 μm, it is 34.0 dB in the case of the comparative example 1, whereas an increase in CNR of 41.5 dB and 7.5 dB is observed in the case of the second embodiment. . This is due to the fact that adjacent bits are masked by the blocking layer 3 'and the reproduction resolution is increased.
以下に、実施例2における各層の条件を変化させた場合における記録再生特性を示す。 The recording / reproducing characteristics when the conditions of each layer in Example 2 are changed are shown below.
(a)再生層1と遮断層3’の膜厚次に、表10は、実施例2における再生層1と遮断層3’の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
(A) Film thickness of
表10において、遮断層膜厚0nmは、遮断層3’を形成していない比較例1の結果を示している。遮断層3’の膜厚としては、10nm以上でマスク効果が現れCNRが上昇して行くが、60nm以上になるとCNRは低下する。これは、高温部での漏洩磁界が低下し、記録層4からの磁区転写が起こりにくくなるためと考えられる。以上のことより、比較例1よりも高いCNRの得られる遮断層3’の膜厚は、10〜60nmの範囲であることが分かる。
In Table 10, the blocking layer thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 1 in which the blocking layer 3 'is not formed. As the film thickness of the
また、再生層1の膜厚を8nmにすると、再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を100nmにすると、磁区の拡大転写が困難となり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。以上のことより、比較例1よりも高いCNRの得られる再生層1の膜厚は、10〜80nmの範囲であることが分かる。
Further, when the film thickness of the
(b)非磁性中間層2の膜厚次に、表11は、実施例2における非磁性中間層2の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
(B) Film thickness of nonmagnetic
表11からわかるように、非磁性中間層2の膜厚が0.5nmの場合、CNRが著しく低下していることがわかる。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄すぎるため、良好な静磁結合状態が得られなかったことによるものと考えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nmの時、最大のCNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が大きくなるにつれて、静磁結合力が小さくなるとともにCNRが低下していくことがわかる。比較例1よりも高いCNRの得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜80nmの範囲に設定する必要のあることが分かる。
As can be seen from Table 11, when the film thickness of the nonmagnetic
さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くすることにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さくなることにより、消去磁界が小さくなることがわかる。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にするためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とすることが望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the film thickness of the nonmagnetic
(c)遮断層3’のキュリー温度上記においては、遮断層3’としてキュリー温度が140℃の(Gd0.50Dy0.50)0.28Fe0.72を用いた場合の記録再生特性を示したが、次に、遮断層3’のGd含有率を変えて記録再生特性を調査した結果を記述する。
(C) Curie temperature of blocking
表12は、遮断層3’を膜厚30nmの(GdXDy1-X)0.28Fe0.72として、X(atom比)の値を変えて、遮断層3’のキュリー温度TC3と、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを測定した結果を示すものである。
Table 12 shows that the
表12において、遮断層3’を形成していない比較例1において得られたCNR(34.0dB)よりも高いCNRが得られるのは、0.20≦X≦1.00の範囲であることがわかる。
In Table 12, a CNR higher than the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the
上記表12において用いた記録層4は、140℃の温度(再生時における加熱温度)で磁化の大きさが最大となる。すなわち、遮断層3’は、140℃以下の温度において、記録層からの漏洩磁界をマスクできればよく、遮断層3’のキュリー温度の最適値は、約140℃(再生時における加熱温度近傍)ということになる。しかしながら、表12に示した通り、遮断層3’のキュリー温度が、80℃以上、220℃以下において、比較例1よりも高いCNRが得られており、遮断層3’のキュリー温度を80℃以上220℃以下とすることにより、低温でのマスク効果を得ることが可能となる。
The
また、ここでは、遮断層3’として、GdDyFeを用いた結果について記述しているが、上記キュリー温度範囲(80℃〜220℃)を満足すればよく、他に、GdDyFe合金、TbFe合金、DyFe合金、GdFe合金、GdTbFe合金、DyFeCo合金、TbFeCo合金のいずれかを含む合金からなる垂直磁化膜を用いることが可能である。
In addition, here, the result of using GdDyFe as the
(d)遮断層3’の補償温度また、以上では遮断層3’としてキュリー温度が80℃〜220℃のものが望ましいことについて説明したが、補償温度が80℃〜220℃であっても同様に本参考形態の効果(室温における記録層4からの磁界の遮断)を得ることができる。以下に、この具体例を説明する。
(D) Compensation temperature of blocking
遮断層3’として膜厚30nmの(Gd0.8Dy0.2)0.26Fe0.74を用いて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで0.3nmでのCNR(信号対雑音比)を測定した。なお、遮断層3’は補償温度が140℃、キュリー温度が200℃であった。
CNR (signal to noise ratio) at 0.3 nm was measured with an optical pickup using a semiconductor laser with a wavelength of 680 nm, using (Gd 0.8 Dy 0.2 ) 0.26 Fe 0.74 with a film thickness of 30 nm as the
この場合CNRは41.5dBとなり、上記の実施例2の場合と略同一の特性が得られた。すなわち、遮断層3’が補償温度を持つ場合も、記録層4からの漏洩磁界のマスク効果を得ることができる。補償温度は記録層の磁化が最大となる140℃(再生時における加熱温度近傍)に設定することが望ましいが、それ以外でも補償温度が80℃〜220℃以下の温度範囲であれば、マスク効果を得ることが可能である。なお、補償温度が80℃〜220℃であれば、GdDyFe以外にも、GdDyFe合金、TbFe合金、DyFe合金、GdFe合金、GdTbFe合金、DyFeCo合金,TbFeCo合金のいずれかを含む合金からなる垂直磁化膜を用いることができる。
In this case, the CNR was 41.5 dB, and substantially the same characteristics as in Example 2 were obtained. That is, even when the
(参考形態2)
本発明の参考形態2について図9に基づいて説明すれば以下の通りである。本参考形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
(Reference form 2)
The second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.
本参考形態2に係る光磁気ディスクは、図9に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、記録層4、遮断層3’、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 9, the magneto-optical disk according to the second embodiment has a
本参考形態2の光磁気ディスクは、参考形態1に記載の光磁気ディスクにおいて、遮断層3’と記録層4の形成順序が逆になった構成を有している。
The magneto-optical disk of the second embodiment has a configuration in which the formation order of the
以下に、本参考形態の具体例について(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性の順に説明する。 Hereinafter, specific examples of this embodiment will be described in the order of (1) magneto-optical disk forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)光磁気ディスクの形成方法
本参考形態の光磁気ディスクは、参考形態1記載の光磁気ディスクの形成方法において、遮断層3’と記録層4の形成順序を逆にすることにより形成され、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、保護層8、オーバーコート層9は、実施例2と同様にして形成した。
(1) Magneto-optical disk forming method The magneto-optical disk of the present embodiment is formed by reversing the formation order of the blocking layer 3 'and the
(2)記録再生特性
表13は、本参考形態における再生層1と遮断層3’の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / reproduction characteristics Table 13 shows a CNR (signal at 0.3 μm) measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm with the film thicknesses of the
表13において、遮断層膜厚0nmは、遮断層3’を形成していない比較例1の結果を示している。また、参考形態1で示した実施例2における記録層4と遮断層3’を単純に入れ替えたものを実施例3として記している。
In Table 13, the blocking layer film thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 1 in which the
遮断層3’の膜厚としては、10nm以上でマスク効果が現れCNRが上昇して行くが、100nm以上になるとCNRは低下する。これは、マスクの効果が低下し隣接記録信号の影響を受けるためと考えられる。以上のことより、比較例1よりも高いCNRの得られる遮断層3’の膜厚は、10〜80nmの範囲であることが分かる。
As the film thickness of the
また、参考形態1の場合に比較して、光ビーム5の入射の反対側に遮断層が存在するため、マスクの効果が弱くなり相対的にCNRが低くなるが、比較例1より高いCNRを実現するために必要な遮断層3’の膜厚範囲は広くなる。
Compared to the case of the first embodiment, since the blocking layer is present on the side opposite to the incidence of the
尚、(a)再生層1の膜厚、(b)非磁性中間層2の膜厚、(c)遮断層3’のキュリー温度、(d)遮断層3’の補償温度については、参考形態1に示したものと同様の結果が得られた。
Note that (a) the thickness of the reproducing
(参考形態3)
本発明の参考形態3について図10に基づいて説明すれば以下の通りである。本参考形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
(Reference form 3)
The third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.
本参考形態3に係る光磁気ディスクは、図10に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、反射層10、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 10, the magneto-optical disk according to the third embodiment includes a
参考形態1及び参考形態2においては、再生層1の膜厚が40nmより小さくなった場合、再生層1を透過した光ビーム5が遮断層3’もしくは記録層4により反射され、再生信号に記録層4の隣接記録ビット信号の情報が混入することになり、再生信号特性が低下してしまうという結果になる。
In
本参考形態3の光磁気ディスクは、参考形態1に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性中間層2と遮断層3’との間に、反射層10が形成された構成を有している。このようにすることにより、再生層1の膜厚が40nm以下と薄くなった場合においても、再生層1を透過した光ビーム5は反射層10により反射され、再生信号に記録層4の隣接記録ビット信号の情報が混入することを防ぐことが可能となり、再生層1による磁区拡大再生をより完全なものとすることができる。
The magneto-optical disk according to the third embodiment has a configuration in which the
以下に、本参考形態の光磁気ディスクの具体例について、(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described by dividing into (1) a method of forming the magneto-optical disk and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)光磁気ディスクの形成方法
本参考形態の光磁気ディスクは、参考形態1記載の光磁気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と遮断層3’との間に、Alからなる反射層10を形成しており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコート層9は、実施例2と同様にして、再生層1の膜厚を25nmとして形成した。
(1) Method for Forming Magneto-Optical Disk The magneto-optical disk of the present embodiment is a reflection made of Al between the nonmagnetic
ここで、Al反射層10は、非磁性中間層2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the nonmagnetic
(2)記録再生特性
表14は、上記した本参考形態の反射層10の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / reproduction characteristics Table 14 shows the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the film thickness of the
表14において、反射層膜厚0nmは、反射層10を形成していない比較例3の結果を示している。反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合においても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見られ、CNRが0.5dB上昇する。反射層10の膜厚を厚くすることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜厚20nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚増加に伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより顕著になるためである。該膜厚20nm以上でCNRが低下しているが、記録層4と再生層1との距離が大きくなることにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなることによるものである。以上のことより、比較例3よりも高いCNRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜40nmの範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 14, the reflective layer thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 3 in which the
尚、以上においては、反射層10として、Alを用いた再生特性について記述しているが、反射層10としては、AlとAl以外の金属との合金を用いてもよい。
In the above description, the reproducing characteristics using Al as the
表15は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 15 shows that the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm with the
表15より、Fe含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも前述の比較例3よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 15, as the Fe content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases. However, both CNRs are larger than those in Comparative Example 3 described above. The effect of forming the
次に、表16は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 16 shows that the
表16より、Feを含有した場合と同様に、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。 From Table 16, as in the case of containing Fe, it was possible to reduce the erasing magnetic field by setting X to 0.02 or more and 0.50 or less.
Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、Dy、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させることにより、消去磁界を小さくすることが可能である。 In addition to Fe and Ni, a magnetic metal such as Co, Gd, Tb, Dy, and Nd is similarly contained in Al, so that the erasing magnetic field can be reduced.
次に、反射層10として、Alに非磁性金属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述する。
Next, description will be made on improvement in recording characteristics when a nonmagnetic metal element is contained in Al as the
表17は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 17 shows that the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm, with the
表17より、Ti含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも比較例3よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.98以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 17, as the Ti content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases. However, both CNRs are larger than those in Comparative Example 3, and the
次に、表18は、反射層10として、Ti以外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減効果について示すものであり、反射層10をAl0.5Z0.5として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合における、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 18 shows the erasing magnetic field reduction effect when a nonmagnetic element other than Ti is contained in Al as the
表18より、Zとして非磁性金属であるTa、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、いずれのCNRも前述の比較例3よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、AlにTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 18, in the case where Ta, Pt, Au, Cu, and Si, which are nonmagnetic metals, are used as Z, all the CNRs are larger than those of Comparative Example 3 described above, and the effect of forming the
なお、ここでは、参考形態1に記載の光磁気ディスクに反射層を適用した場合について記したが、参考形態2に適用しても同様の結果が得られることは言うまでもない。
Here, the case where the reflective layer is applied to the magneto-optical disk described in the
尚、(a)再生層,遮断層の膜厚、(c)遮断層3’のキュリー温度、(d)遮断層3’の補償温度については、参考形態1,2に示したものと同様の結果が得られた。
Note that (a) the thickness of the reproducing layer and the blocking layer, (c) the Curie temperature of the
(参考形態4)
本発明の参考形態4について図11に基づいて説明すれば以下の通りである。本参考形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
(Reference form 4)
本参考形態4に係る光磁気ディスクは、図11に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、放熱層110、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 11, the magneto-optical disk according to the fourth embodiment has a
本参考形態4の光磁気ディスクは、参考形態1に記載の光磁気ディスクにおいて、保護層8とオーバーコート層9との間に放熱層110を形成した構成を有している。
The magneto-optical disk of the fourth embodiment has a configuration in which the
以下に、本参考形態の具体例について(1)光磁気ディスクの形成方法、(2)記録再生特性を説明する。 Hereinafter, (1) a magneto-optical disk forming method and (2) recording / reproducing characteristics will be described for a specific example of the present embodiment.
(1)光磁気ディスクの形成方法
本参考形態の光磁気ディスクは、実施例2記載の光磁気ディスクの形成方法において、保護層8とオーバーコート層9との間に、Alからなる放熱層110を形成しており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、遮断層3’、記録層4、保護層8、オーバーコート層9は、参考形態1に記載した方法と同様にして、保護層8の膜厚を5nmとして形成した。
(1) Method for Forming Magneto-Optical Disk The magneto-optical disk of this embodiment is the same as the method for forming a magneto-optical disk described in Example 2, except that the
ここで、Alの放熱層110は、記録層4を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記記録層4上に、Alからなる放熱層110を膜厚20nmで形成した。
Here, after forming the
(2)記録再生特性
波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を測定した結果、CNRは42.5dBとなり実施例2の場合と比べさらに1dB良くなった。
(2) Recording / reproducing characteristics As a result of measuring the CNR (signal to noise ratio) at 0.3 μm with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm, the CNR was 42.5 dB, which is 1 dB better than that in the second embodiment. became.
本参考形態のように、熱伝導率の高いAlからなる放熱層110があれば、横方向への熱の広がりを放熱層側つまり層の厚さ方向へ逃がすことができ、横方向への熱の広がりを低減させることができる。したがって、光ビーム内の温度分布がより急峻となり、遮断層による再生層における記録層からの磁界のマスク効果を強調することが可能となり、再生特性をさらに向上することができる。
If there is a
放熱層110の材料であるAlは、再生層1、記録層4に用いられる希土類遷移金属合金膜よりもその熱伝導率が高く、放熱層に適した材料である。また、非常に安価な材料でもある。
Al, which is a material of the
放熱層110の材料としては、上記例のAl以外にAu、Ag、Cu、SUS、Ta、Cr等の再生層、記録層より熱伝導率が大きい材料であればよい。
As a material of the
Auを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔食性に優れているので、長期信頼性を向上させることができる。 Since Au is excellent in oxidation resistance, moisture resistance and pitting corrosion resistance, long-term reliability can be improved.
Agを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔食性に優れているので、長期信頼性を向上させることができる。 If Ag is used, since it is excellent in oxidation resistance, moisture resistance, and pitting corrosion resistance, long-term reliability can be improved.
Cuを用いれば、耐酸化性、耐湿性、耐孔食性に優れているので、長期信頼性を向上させることができる。 Since Cu is excellent in oxidation resistance, moisture resistance, and pitting corrosion resistance, long-term reliability can be improved.
また、SUSまたはTaまたはCrを用いれば、これらの材料は極めて耐酸化性、耐湿性、耐孔食性に優れているので、より長期信頼性に優れた光磁気ディスクを提供することができる。 If SUS, Ta, or Cr is used, these materials are extremely excellent in oxidation resistance, moisture resistance, and pitting corrosion resistance. Therefore, it is possible to provide a magneto-optical disk having excellent long-term reliability.
尚、本参考形態では、放熱層110の膜厚を20nmとしたが、厚くするほど放熱効果は高くなり、加えて、長期信頼性も向上する。しかしながら、光磁気ディスクの記録感度にも影響を及ぼすため、材料の熱伝導率、比熱に応じた膜厚の設定が必要であり、5〜200nmの範囲が良い。とりわけ、10〜100nmが好適である。熱伝導率が比較的高く、耐食性に優れた材料であれば、膜厚は10〜100nm程度と薄くて済み、膜形成に要する時間も短縮することができる。
In this reference embodiment, the thickness of the
なお、ここでは、参考形態1に記載の光磁気ディスクに放射層を適用した場合について記したが、実施の形態1〜6,参考形態2,3及び後述する参考形態5〜9に適用しても同様の結果が得られることは言うまでもない。
Here, the case where the radiation layer is applied to the magneto-optical disk described in
尚、参考形態4における(a)再生層1、遮断層3’の膜厚、(b)非磁性中間層2の膜厚、(c)遮断層3’のキュリー温度、(d)遮断層3’の補償温度、(e)反射層の膜厚、材料については、参考形態1〜3に示したものと同様の結果が得られた。
In
また、上記した参考形態1〜3では、再生層として室温で面内磁化状態であり、高温で垂直磁化状態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再生領域(再生時に所定温度以上に加熱された領域)で垂直磁化状態となるものであれば使用することができる。
In
(参考形態5)
以下、本発明の参考形態5を図面を用いて詳細に説明する。
(Reference form 5)
Hereinafter,
図12に本参考形態の磁区拡大再生原理を示す。 FIG. 12 shows the principle of magnetic domain expansion reproduction according to this embodiment.
本参考形態の光磁気記録媒体においては、再生層1と記録層4の間に再生層1と静磁結合する転写層3”(請求項における磁気マスク層)が設けられている。転写層3”は室温で面内磁化を示し、所定温度以上で垂直磁化を示すようになっている。そして転写層3”により記録層4内の上記所定温度(以下、臨界温度と記す)以上に加熱されていない部分11からの磁化をマスクする。すなわち、転写層3”により、記録層4の上記部分11からの磁化が再生層1に伝わることを防止する。
In the magneto-optical recording medium of the present embodiment, a
一方、臨界温度以上の部分では転写層3”は垂直磁化を示すのでマスクをはずすことが可能となり、目的とする記録層4の臨界温度以上の範囲のみの情報を再生することが可能となる。
On the other hand, since the
従って、再生時における転写層3”の加熱温度を、転写層3”により記録層4内の1つの記録ビットからの磁束のみを漏洩させ、他の記録ビットからの磁束をマスクするように設定すれば、記録ビットの間隔が狭くなっても、隣接ビット11の影響が抑えられ、1つの記録ビットの情報のみを再生層1に転写することが可能となり、良好な再生特性を得ることができる。
Accordingly, the heating temperature of the
ここで、転写層3”は、上記臨界温度以上の範囲における記録層4と再生層1の静磁結合を有効に働かせるため、臨界温度以上の温度にキュリー温度がある必要がある。さらに、記録層4のキュリー温度より低く設定することにより記録時に磁気的な影響を与えることがないため安定した記録が行える。
Here, the
また再生層1は、レーザービームで再生される際、磁区の大きさが大きい方が信号量が増え、ノイズの原因が少なくなるため、好ましい。また記録層4からの磁界に応じて、磁壁が動く必要があり、保持力の小さい特性が有利である。
In addition, when the reproducing
また、この光磁気記録媒体から情報を再生する際、再生層1に作られた磁区を、一旦消去していくことが、スムーズな再生動作につながるため、再生用のレーザービームをパルス発光させることが望ましい。このようにすれば、レーザーが消光している間に磁区を消滅させるとともに、レーザーが発光している間に媒体温度を上昇させて、再生層1に記録層4の記録磁区を転写させ信号再生を行うことができ、再生信号品質をより高品質とすることができる。
In addition, when information is reproduced from this magneto-optical recording medium, erasing the magnetic domain created in the reproducing
以下に、本参考形態の具体例について図13に基づいて説明する。ここでは、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。 Below, the specific example of this reference form is demonstrated based on FIG. Here, a case where a magneto-optical disk is applied as the magneto-optical recording medium will be described.
本参考形態に係る光磁気ディスクは、図13に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、転写層3”、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 13, the magneto-optical disk according to the present embodiment includes a
このような光磁気ディスクでは、その記録方式としてキュリー温度記録方式が用いられており、半導体レーザから出射される光ビーム5が対物レンズにより再生層1に絞り込まれ、極カー効果として知られている光磁気効果によって情報が記録再生されるようになっている。上記極カー効果とは、入射表面に垂直な磁化により、反射光の偏光面の回転の向きが回転する現象で、磁化の向きで回転方向が変わる現象である。
In such a magneto-optical disk, the Curie temperature recording system is used as the recording system, and the
基板6は、例えばポリカーボネート等の透明な基材からなり、ディスク状に形成される。
The board |
透明誘電体層7は、AlN、SiN、AlSiN、TiO2等の屈折率の大きな材料で構成されることが望ましく、その膜厚は、入射するレーザ光に対して、良好な干渉効果が実現し、媒体のカー回転角が増大すべく設定される必要があり、再生光の波長をλ、透明誘電体層7の屈折率をnとした場合、透明誘電体層7の膜厚は(λ/4n)程度に設定される。例えば、レーザ光の波長を680nmとした場合、透明誘電体層7の膜厚を30nm〜100nm程度に設定すれば良い。
The
再生層1は、希土類遷移金属合金からなる磁性膜であり、その磁気特性が、室温において面内磁化状態であり、温度上昇にともない補償組成に近づき、トータルの磁化が小さくなり、反磁界の効果が弱くなって、垂直磁化状態となるように組成調整されている。
The reproducing
非磁性中間層2は、AlN、SiN、AlSiN等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、または誘電体と金属の2層からなり、再生層1と記録層4とが静磁結合すべく設定されている。
The nonmagnetic
転写層3”は、希土類遷移金属合金、または、希土類金属、または、遷移金属を主成分とす磁性膜であり、室温では面内磁化を示し、所定温度(臨界温度)以上で垂直磁化を示す特性を持つ。図12において説明したように、転写層3”は、臨界温度以下の温度で記録層4の垂直磁化から発生する磁界を面内磁化でマスクし、再生層1への磁界を防ぐ。臨界温度以上においては、垂直磁化を示すためマスク効果を失い、記録層4から発生する磁界が再生層へ透過しやすくなるように、組成調整されている。
The
記録層4は、希土類遷移金属合金からなる垂直磁化膜からなり、その膜厚が、20〜80nmの範囲に設定されている。
The
保護層8は、AlN、SiN、AlSiN、SiC等の誘電体、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金からなり、再生層1や記録層4に用いる希土類遷移金属合金の酸化を防止する目的で形成されるものであり、その膜厚が5nm〜60nmの範囲に設定されている。
The
オーバーコート層9は、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射するか、または、加熱するかによって形成される。
The
以下、本参考形態の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described by dividing into (1) forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)形成方法
上記構成の光磁気ディスクの形成方法について説明する。
(1) Formation Method A formation method of the magneto-optical disk having the above-described configuration will be described.
まず、Alターゲットと、再生層1と転写層3”に対応する2種類のGdFeCo合金ターゲットと、GdDyFeCo合金ターゲットとをそれぞれ備えたスパッタ装置内に、プリグルーブ及びプリピットを有しディスク状に形成されたポリカーボネート製の基板6を基板ホルダーに配置する。スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、基板6にAlNからなる透明誘電体層7を膜厚80nmで形成した。
First, a pre-groove and a pre-pit are formed in a disc shape in a sputtering apparatus equipped with an Al target, two types of GdFeCo alloy targets corresponding to the
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記透明誘電体層7上に、Gd0.30(Fe0.80Co0.20)0.70からなる再生層1を膜厚40nmで形成した。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdFeCo alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. On the
その再生層1は、室温において面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態となる特性を有し、その補償温度が300℃、そのキュリー温度が320℃であった。
The reproducing
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、再生層1上にAlNからなる非磁性中間層2を膜厚20nmで形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the nonmagnetic
次に、GdFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2上に、Gd0.30(Fe0.85Co0.15)0.70からなる転写層3”を膜厚20nmで形成した。その転写層3”は、室温において面内磁化状態であり、120℃の温度で垂直磁化状態となる特性を有し、そのキュリー温度が250℃であった。
Next, electric power is supplied to the GdFeCo alloy target to set the gas pressure to 4 × 10 −3 Torr, and a
次に、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、GdDyFeCo合金ターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記転写層3”上に、(Gd0.50Dy0.50)0.23(Fe0.80Co0.20)0.77からなる記録層4を膜厚40nmで形成した。その記録層4は、25℃に補償温度を有し、キュリー温度が275℃であった。
Next, the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, and then argon gas is introduced to supply power to the GdDyFeCo alloy target to obtain a gas pressure of 4 × 10 −3 Torr. On 3 ″, a
次に、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、記録層4上にAlNからなる保護層8を膜厚20nmとして形成した。
Next, a mixed gas of argon and nitrogen is introduced, electric power is supplied to the Al target, and the
次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射することによりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied onto the
(2)記録再生特性
上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定したCNR(信号対雑音比)のマーク長依存性を図14に示す。この図において、上記した本参考形態の光磁気ディスクを実施例4として記している。
(2) Recording / Reproducing Characteristics FIG. 14 shows the mark length dependence of CNR (signal to noise ratio) measured on the above disk by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. In this figure, the magneto-optical disk of this reference embodiment described above is described as Example 4.
また、比較のため、転写層3”の存在しない構成の光磁気ディスクのCNRのマーク長依存性も比較例1として同図に記載する。なお、転写層3”の存在しない光磁気ディスクの媒体は、本実施例記載の媒体構成において、転写層3”を取り除いた構成である。また、ここで示すCNRのマーク長依存性は、マーク長に対応する長さの記録磁区をマーク長の2倍の長さの記録磁区ピッチで連続形成した時の信号対雑音比を表すものである。
For comparison, the mark length dependency of the CNR of a magneto-optical disk having a structure without the
マーク長0.3μmの両者のCNRを比較すると、比較例1の場合に34.0dBであるのに対して、本実施例4の場合41.0dBと7.0dBのCNR増加が観測されている。これは、転写層3”により、記録層4に対する磁化マスクが効き、再生分解能が上がったことによるものである。
When the CNR of both marks having a mark length of 0.3 μm is compared, it is 34.0 dB in the case of the comparative example 1, whereas an increase in CNR of 41.0 dB and 7.0 dB is observed in the case of the fourth embodiment. . This is because the
次に、表19は、上記実施例4における再生層1と転写層3”の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
Next, Table 19 shows the result of measuring the CNR at 0.3 μm while changing the film thickness of the reproducing
表19において、転写層膜厚0nmは、転写層3”を形成していない比較例1の結果を示している。転写層3”の膜厚を2nmと極めて薄くした場合においても、面内磁化マスクの強化が実現することにより、CNRが1.5dB上昇する。転写層3”の膜厚としては、30nmまで面内磁化マスクの強化が実現することにより、CNRが上昇して行くが、それ以上厚くするとCNRは低下する。これは、記録層と再生層の間が離れてしまうことと、面内磁化マスクが強化され過ぎ、磁気的なアパーチャーが開きにくくなっている影響を受けて、再生層の完全な垂直磁化状態が得られなくなることによるものであると考えられる。ここで、表19より、比較例1よりも高いCNRの得られる転写層3”の膜厚は、2〜40nmの範囲であることが分かる。
In Table 19, the transfer layer thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 1 in which the
また、再生層1の膜厚を8nmにすると、再生信号が小さくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。さらに、再生層1の膜厚を120nmにすると、再生層1に発生する磁壁エネルギーが増加し、温度上昇した部分において完全な垂直磁化状態が得られなくなり、そのCNRは比較例1よりも低くなってしまう。表19より、比較例1よりも高いCNRの得られる再生層1の膜厚は、10〜80nmの範囲であることが分かる。
Further, when the film thickness of the
次に、表20は、実施例4における非磁性中間層2の膜厚を変えて、0.3μmでのCNR、及び、消去に必要な磁界(消去磁界)を測定した結果を示すものである。
Next, Table 20 shows the results of measuring the CNR at 0.3 μm and the magnetic field necessary for erasing (erasing magnetic field) by changing the film thickness of the nonmagnetic
表20からわかるように、非磁性中間層2の膜厚が0.5nmの場合、CNRが著しく低下していることがわかる。これは、非磁性中間層2の膜厚が薄すぎるため、良好な静磁結合状態が得られなかったことによるものと考えられる。非磁性中間層2の膜厚が1nmの時、最大のCNRが得られ、非磁性中間層2の膜厚が大きくなるにつれて、静磁結合力が小さくなるとともにCNRが低下していくことがわかる。比較例1よりも高いCNRの得るためには、非磁性中間層2の膜厚を1〜80nmの範囲に設定する必要のあることが分かる。
As can be seen from Table 20, when the thickness of the nonmagnetic
さらに、非磁性中間層2の膜厚を厚くすることにより、再生層1と記録層4との静磁結合力が小さくなることにより、消去磁界が小さくなることがわかる。消去磁界を実用的な31kA/m以下の範囲にするためには、非磁性中間層2の膜厚を4nm以上とすることが望ましい。
Further, it can be seen that by increasing the film thickness of the nonmagnetic
(参考形態6)
本参考形態では、上記した参考形態5で示した光磁気ディスクの具体例において、転写層3”として異なる組成のものを用いた例について説明する。
(Reference form 6)
In the present embodiment, an example in which the
参考形態6においては、転写層3”として面内磁化から垂直磁化へ移行する温度(以下Ttransとする。)が120℃のGd0.30(Fe0.85Co0.15)0.70を用いた場合の記録再生特性を示したが、本参考形態においては、転写層3”の組成を変えて記録再生特性を調査した結果を記述する。
In
表21は、転写層3”を膜厚30nmのGdX(Fe0.80Co0.20)1-Xとして、X(atom比)の値を変えて、転写層3”のTtransと、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)とを測定した結果を示すものである。
Table 21 shows that the
表21において、転写層3”を形成していない比較例1において得られたCNR(34.0dB)よりも高いCNRが得られるのは、0.22≦X≦0.35の範囲であることがわかる。本参考形態において用いた再生層1は、実施例4と同じものであり、120℃の温度で垂直磁化状態となる。すなわち、転写層3”は、120℃以下の温度において、再生層1の面内磁化マスクを強調することができればよい。ただし、あまりTtransが低すぎるとマスク効果が薄れるため好ましくはX≧0.22である。また、Ttransが高すぎるとある程度は再生層1に転写できるが、あまりにも高すぎると十分に再生層1に記録情報を転写できなくなる。従って、転写層3”は再生層1が垂直磁化膜になる温度より高温で垂直磁化になるとマスク状態が維持されたままになる。したがって、再生温度で垂直磁化になっていることが望ましい。
In Table 21, a CNR higher than the CNR (34.0 dB) obtained in Comparative Example 1 in which the
また、参考形態5及び6において、転写層3”としては、Ttransが上記の条件を満たせればよいが、キュリー温度を記録層のキュリー温度以下に設定することにより、記録時に磁気的な影響を与えなくなるので安定した記録が行える。また、参考形態5,6ではGdFeCoを用いた結果について記述しているが、Ttransが上記の条件を満たせればよく、他に、GdNdFe、GdNdFeCo、GdTbFe、GdTbFeCo、GdDyFeCo,GdDyFe、GdFe等からなる転写層3”を用いることが可能である。
In Reference Embodiments 5 and 6, as the
尚、再生層1、転写層の膜厚、非磁性中間層2の膜厚については参考形態5と同様の結果が得られた。
The same results as in Reference Example 5 were obtained with respect to the thickness of the reproducing
(参考形態7)
本発明の参考形態7について図15に基づいて説明すれば以下の通りである。本参考形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。但し、参考形態5〜6と同一部分については説明を省略する。
(Reference form 7)
本参考形態7に係る光磁気ディスクは、図15に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、反射層10、転写層3”、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 15, the magneto-optical disk according to the seventh embodiment has a
参考形態5においては、転写層3”の膜厚が10nmより小さくなった場合、再生層1と非磁性中間層2とを透過した光ビーム5が記録層4により反射され、再生信号に記録層4の情報が混入することになり、再生層1と転写層3”の面内磁化によるマスクの効果が低下してしまうという結果になる。
In the
本参考形態7の光磁気ディスクは、参考形態5に記載の光磁気ディスクにおいて、非磁性中間層2と転写層3”との間に、反射層10が形成された構成を有している。このようにすることにより、再生層1を透過した光ビーム5は反射層10により反射され、再生信号に記録層4の情報が混入することを防ぐことが可能となる。
The magneto-optical disk of the seventh embodiment has a configuration in which a
以下、本参考形態の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk of the present embodiment will be described by dividing into (1) forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)形成方法
本参考形態の光磁気ディスクは、参考形態5の光磁気ディスクの形成方法において、非磁性中間層2と転写層3”との間に、Alからなる反射層10を形成しており、基板6、透明誘電体層7、再生層1、非磁性中間層2、転写層3”、記録層4、保護層8、オーバーコート層9は、実施例4と同様にして、再生層1の膜厚を25nmとし、転写層3”の膜厚を20nmとして形成した。
(1) Forming Method The magneto-optical disk of this reference embodiment is the same as the magneto-optical disk forming method of
ここで、Al反射層10は、非磁性中間層2を形成した後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、アルゴンガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrとし、上記非磁性中間層2上に、Alからなる反射層10を膜厚2〜80nmで形成した。
Here, after forming the nonmagnetic
(2)記録再生特性
表22は、実施例3における反射層10の膜厚を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)を示すものである。
(2) Recording / reproduction characteristics Table 22 shows the CNR (signal-to-noise ratio) at 0.3 μm measured by an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm while changing the film thickness of the
表22において、反射層膜厚0nmは、反射層10を形成していない比較例4の結果を示している。反射層10の膜厚を2nmと極めて薄くした場合においても、記録層4からの情報再生遮断の効果が見られ、CNRが1.0dB上昇する。反射層10の膜厚を厚くすることにより、CNRは徐々に大きくなり、該膜厚20nmでCNRが極大となる。これは、反射層膜厚増加に伴い、記録層4からの情報再生遮断の効果がより顕著になるためである。該膜厚30nm以上でCNRが低下しているが、記録層4と再生層1との距離が大きくなることにより、両者間に働く静磁結合力が弱くなることによるものである。以上のことより、比較例4よりも高いCNRの得るためには、反射層10の膜厚を2〜50nmの範囲で設定する必要があることがわかる。
In Table 22, the reflective layer thickness of 0 nm indicates the result of Comparative Example 4 in which the
(参考形態8)
参考形態7においては、反射層10として、Alを用いた再生特性について記述しているが、本参考形態においては、その記録特性を改善すべく、反射層10として、AlとAl以外の金属との合金を用いた結果について記述する。
(Reference form 8)
In the
表23は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XFeXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 23 shows that the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm with the
表23より、Fe含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも比較例4よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 23, as the Fe content increases, that is, as X becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases. However, both CNRs are larger than those in Comparative Example 4, and the
次に、表24は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XNiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 24 shows that the
表24より、Feを含有した場合と同様に、Xを0.02以上0.50以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。 From Table 24, it was possible to reduce the erasing magnetic field by setting X to 0.02 or more and 0.50 or less as in the case of containing Fe.
Fe、Ni以外に、Co、Gd、Tb、Dy、Nd等の磁性金属を同様にしてAlに含有させることにより、消去磁界を小さくすることが可能である。 In addition to Fe and Ni, a magnetic metal such as Co, Gd, Tb, Dy, and Nd is similarly contained in Al, so that the erasing magnetic field can be reduced.
(参考形態9)
本参考形態では、参考形態7の具体例における反射層10として更に異なる材料のものを用いた場合について説明する。
(Reference form 9)
In this reference embodiment, a case where a different material is used as the
参考形態8においては、反射層10として、Alに磁性金属元素を含有させた結果について記述しているが、本参考形態においては、Alに非磁性金属元素を含有させた場合の記録特性改善について記述する。
In
表25は、反射層10を膜厚20nmのAl1-XTiXとして、X(atom比)の値を変えて、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Table 25 shows that the CNR at 0.3 μm measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm with the
表25より、Ti含有量が多くなるにしたがって、すなわち、Xが0.10よりも大きくなるにつれて、CNRが徐々に小さくなっているが、いずれのCNRも比較例4よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、純粋なAlからなる反射層10を用いた場合、50kA/mと大きな消去磁界が必要であるのに対して、Xを0.02以上0.98以下に設定することにより、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 25, as the Ti content increases, that is, as C becomes larger than 0.10, the CNR gradually decreases. However, both CNRs are larger than those in Comparative Example 4, and the
次に、表26は、反射層10として、Ti以外の非磁性元素をAlに含有した場合の消去磁界低減効果について示すものであり、反射層10をAl0.5Z0.5として、ZをTi以外の非磁性金属を用いた場合における、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した0.3μmでのCNR(信号対雑音比)と消去磁界の大きさを示している。
Next, Table 26 shows the erasing magnetic field reduction effect when a nonmagnetic element other than Ti is contained in Al as the
表26より、Zとして非磁性金属であるTa、Pt、Au、Cu、Siを用いた場合において、いずれのCNRも比較例4よりも大きく、反射層10を形成した効果が見られる。一方、消去磁界を見ると、AlにTiを含有させた場合と同様に、消去磁界を小さくすることが可能であった。
From Table 26, when Ta, Pt, Au, Cu, and Si, which are nonmagnetic metals, are used as Z, any CNR is larger than that of Comparative Example 4, and the effect of forming the
尚、参考形態7〜9においても、再生層1、転写層の膜厚、非磁性中間層2の膜厚については参考形態5,6と同様の結果が得られた。
In
以上の参考形態5〜9では再生層1として室温で面内磁化状態であり高温状態で垂直磁化状態となる磁性層を用いているが、少なくとも信号再生領域(再生時に所定温度(再生温度)以上に加熱された領域)で垂直磁化状態となるものであれば使用することができる。
In the
また、参考形態5〜9では転写層3”は記録層4に隣接していたが、記録層4に静磁結合しているものであってもよい(参考形態10参照)。転写層3”と記録層4の間に非磁性中間層を設けることにより、マスク効果を高めることができる。
In
また、以上説明した実施の形態1〜6、及び参考形態1〜9において、記録層4と保護層8の間に記録補助層を設けても良い。例えば、記録補助層を垂直磁化を示し記録層よりキュリー温度が高く、記録層より低磁界で磁化反転する材料を用いる。この場合、まず記録時に記録補助層の磁化を反転させ、交換結合力により記録層の磁化を反転させることでより低磁界で記録可能となる。
In
また、実施の形態1〜6、及び参考形態1〜9において、再生層1としてCoとPtの積層膜を使用してもよい。例えば、0.4nmのCo層と0.9nmのPt層を交互に合計30層積層したものが使用できる(合計膜厚は19.5nmであり、キュリー温度は300℃)。このように、CoとPtの積層膜を用いれば、短波長光を使用する際にカー回転角を大きくすることができ、さらに再生信号品質を向上することができる。
In
(実施の形態7)
本発明の実施の形態について図17に基づいて説明すれば以下の通りである。本実施の形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
(Embodiment 7)
The following describes an embodiment of the present invention with reference to FIG. In the present embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as the magneto-optical recording medium will be described.
図17に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、第1非磁性中間層20、面内磁化層3、第2非磁性中間層30、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。第2非磁性中間層30以外の各層の基本的な特性は上述した実施の形態1〜6で述べたものと同一である。
As shown in FIG. 17, the
また、第2非磁性中間層30は、AlN、SiN、AlSiN、SiO2等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、または上記誘電体と上記金属の2層以上の組み合わせからなり、面内磁化層3と記録層4とが静磁結合するように設定されている。
The second nonmagnetic
以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk having the above-described structure will be described separately for (1) forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)形成方法
形成方法は、これまでに上述した形成方法と略同一であり、異なる箇所のみを記載する。透明誘電体層7、再生層1、第1非磁性中間層20、面内磁化層3の形成方法はこれまでの実施の形態と同一である。第2非磁性中間層30の形成方法は次の通りである。
(1) Formation method The formation method is substantially the same as the formation method described above, and only different portions are described. The method of forming the
面内磁化層3を形成後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで排気し、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、面内磁化層3上にAlNからなる第2非磁性中間層30を形成した。
After the in-plane
続けて、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、上述した実施の形態と同様に、第2非磁性中間層30上に記録層4、AlNからなる保護層8を形成した。
Subsequently, after the inside of the sputtering apparatus was again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, the
次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射することによりオーバーコート層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resin was applied onto the
(2)記録再生特性
上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した。表27は、第2非磁性中間層30の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
(2) Recording / reproduction characteristics The above disk was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Table 27 shows the result of measuring the CNR at 0.3 μm while changing the film thickness of the second nonmagnetic
表27において、第2非磁性中間層30の膜厚0nmは、第2非磁性中間層30を形成していない場合の結果を示している。ここから分かるように、第2非磁性中間層30を膜厚80nmまで設けることにより、高いCNRが得られている。
In Table 27, the film thickness of 0 nm of the second nonmagnetic
これについて以下に説明する。第2非磁性中間層30を設けない場合、面内磁化層3の磁化は、記録層4からの交換結合力により、磁化が垂直方向に向きやすい状態になっている。再生時に温度上昇した場合、面内磁化層3の磁化が小さくなると、記録層4からの交換結合力により、面内磁化層3の磁化は垂直方向に向く。このため、所定温度以下のマスク層として働く領域でも、記録層4からの磁化が再生層1に漏洩されてしまう。
This will be described below. When the second nonmagnetic
これに対して、第2非磁性中間層30を設けた場合、面内磁化層3と記録層4は交換結合することはない。従って、再生時に温度上昇しても、所定温度以下の領域では面内磁化層3の磁化は面内方向を向いたままである。このため、所定温度以下の領域でマスク効果をさらに得ることができる。
On the other hand, when the second nonmagnetic
ただし、第2非磁性中間層30の膜厚をあまり厚くしすぎると再生層1との静磁結合力が弱くなり、記録層4の情報が再生層1に転写されなくなってしまう。従って、第2非磁性中間層30の膜厚としては、2nm以上80nm以下が望ましい。
However, if the thickness of the second nonmagnetic
また、第2非磁性中間層30としては、面内磁化層3と記録層4の交換結合力を遮断するものであれば何でも良いが、透明誘電体層7または第1非磁性中間層20のいずれか或いは両方と同一にすれば(例えば本実施の形態のようにAlNに統一すれば)、製造工程が簡単にできる。
The second nonmagnetic
(参考形態10)
本発明の参考形態について図17に基づいて説明すれば以下の通りである。本参考形態では、光磁気記録媒体として光磁気ディスクを適用した場合について説明する。
(Reference form 10)
The reference embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, a case where a magneto-optical disk is applied as a magneto-optical recording medium will be described.
図17に示すように、基板6、透明誘電体層7、再生層1、第1非磁性中間層20、転写層3”、第2非磁性中間層30、記録層4、保護層8、オーバーコート層9が、この順にて積層されたディスク本体を有している。
As shown in FIG. 17, the
第2非磁性中間層以外の各層の基本的な特性は上述した参考形態5〜9で述べたものと同一である。
The basic characteristics of the respective layers other than the second nonmagnetic intermediate layer are the same as those described in the
また、第2非磁性中間層30は、AlN、SiN、AlSiN、SiO2等の誘電体の1層、または、Al、Ti、Ta等の非磁性金属合金の1層、または上記誘電体と上記金属の2層以上の組み合わせからなり、転写層3”と記録層4とが静磁結合するように設定されている。
The second nonmagnetic
以下、上記構成の光磁気ディスクの具体例について(1)形成方法、(2)記録再生特性に分けて説明する。 Hereinafter, specific examples of the magneto-optical disk having the above-described structure will be described separately for (1) forming method and (2) recording / reproducing characteristics.
(1)形成方法
形成方法は、上述した形成方法と略同一であり、異なる所のみを記載する。透明誘電体層7、再生層1、第1非磁性中間層20、転写層3”の形成方法はこれまでの参考形態と同一である。第2非磁性中間層30の形成方法は次の通りである。
(1) Formation method The formation method is substantially the same as the formation method described above, and only different points are described. The formation method of the
転写層3”を形成後、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで排気し、アルゴンと窒素の混合ガスを導入し、Alターゲットに電力を供給して、ガス圧4×10-3Torrの条件で、転写層3”上にAlNからなる第2非磁性中間層30を形成した。
After forming the
続けて、再度、スパッタ装置内を1×10-6Torrまで真空排気した後、上述した参考形態と同様に、第2非磁性中間層30上に記録層4、AlNからなる保護層8を形成した。次に、上記保護層8上に、紫外線硬化樹脂をスピンコートにより塗布して、紫外線を照射することによりオーバーコート層9を形成した。
Subsequently, after the inside of the sputtering apparatus is again evacuated to 1 × 10 −6 Torr, the
(2)記録再生特性
上記ディスクを、波長680nmの半導体レーザを用いた光ピックアップで測定した。表28は、第2非磁性中間層30の膜厚を変えて、0.3μmでのCNRを測定した結果を示すものである。
(2) Recording / reproduction characteristics The above disk was measured with an optical pickup using a semiconductor laser having a wavelength of 680 nm. Table 28 shows the result of measuring the CNR at 0.3 μm while changing the film thickness of the second nonmagnetic
表28において、第2非磁性中間層30の膜厚0nmは、第2非磁性中間層30を形成していない場合の結果を示している。この表から分かるように、第2非磁性中間層30を膜厚80nmまで設けることにより、高いCNRが得られている。
In Table 28, the film thickness of 0 nm of the second nonmagnetic
これについて以下に説明する。第2非磁性中間層30を設けない場合、転写層3”の磁化は、記録層4からの交換結合力により、磁化が垂直方向に向きやすい状態になっている。再生時に温度上昇した場合、転写層3”の磁化が小さくなると、記録層4からの交換結合力により、転写層3”の磁化は垂直方向に向く。このため、所定温度以下のマスク層として働く領域でも、記録層4からの磁化が再生層1に漏洩されてしまう。
This will be described below. When the second nonmagnetic
これに対して、第2非磁性中間層30を設けた場合、転写層3”と記録層4は交換結合することはない。従って、再生時に温度上昇しても転写層3”の磁化は面内方向を向いたままであり、所定温度以上で垂直磁化へ移行する。このため、所定温度以下の領域でマスク効果をさらに得ることができる。
On the other hand, when the second nonmagnetic
ただし、第2非磁性中間層30の膜厚をあまり厚くしすぎると再生層1との静磁結合力が弱くなり、記録層4の情報が再生層1に転写されなくなってしまう。従って、第2非磁性中間層30の膜厚としては、2nm以上80nm以下が望ましい。
However, if the thickness of the second nonmagnetic
また、第2非磁性中間層30としては、転写層3”と記録層4の交換結合力を遮断するものであれば、何でも良いが、透明誘電体層7または第1非磁性中間層20のいずれか或いは両方と同一にすれば(例えば本参考形態のようにAlNに統一すれば)、製造工程が簡単にできる。
The second nonmagnetic
1 再生層
2 非磁性中間層
3 面内磁化層
3’ 遮断層
3” 転写層
4 記録層
5 光ビーム
6 基板
7 透明誘電体層
8 保護層
9 オーバーコート層
10 反射層
20 第1非磁性中間層
30 第2非磁性中間層
110 放熱層
DESCRIPTION OF
Claims (28)
前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マスク層を有していることを特徴とする光磁気記録媒体。 In a magneto-optical recording medium having a reproducing layer in which at least a signal reproducing region is in a perpendicular magnetization state and a recording layer made of a perpendicular magnetization film magnetically coupled to the reproducing layer,
A magneto-optical recording medium comprising: a magnetic mask layer that is disposed away from the reproducing layer and suppresses magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer at least at room temperature.
前記再生層から離れて配され、少なくとも室温において前記記録層と前記再生層との磁気結合を抑制する磁気マスク層を有していることを特徴とする光磁気記録媒体。 A reproducing layer having at least a signal reproducing region in a perpendicular magnetization state, and a recording layer comprising a perpendicular magnetization film magnetically coupled to the reproducing layer, and a magnetic domain larger than the recording magnetic domain of the recording layer by light beam irradiation In the magneto-optical recording medium in which the reproducing layer is formed,
A magneto-optical recording medium comprising: a magnetic mask layer that is disposed away from the reproducing layer and suppresses magnetic coupling between the recording layer and the reproducing layer at least at room temperature.
前記磁気マスク層は、高温において磁化が減少する面内磁化層からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 1 or 2,
The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the magnetic mask layer comprises an in-plane magnetization layer whose magnetization decreases at a high temperature.
室温において、前記磁気マスク層の磁化が前記記録層の磁化よりも大きいことを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 3,
A magneto-optical recording medium, wherein the magnetization of the magnetic mask layer is larger than the magnetization of the recording layer at room temperature.
前記磁気マスク層のキュリー温度が、前記記録層のキュリー温度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。 In the magneto-optical recording medium according to claim 3 or 4,
A magneto-optical recording medium, wherein a Curie temperature of the magnetic mask layer is lower than a Curie temperature of the recording layer.
前記記録層のキュリー温度が、前記再生層のキュリー温度より低いことを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 3 to 5,
The magneto-optical recording medium, wherein the recording layer has a Curie temperature lower than the Curie temperature of the reproducing layer.
基板上に、透明誘電体層、前記再生層、非磁性中間層、前記磁気マスク層、前記記録層、保護層が順次形成されてなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 3 to 6,
A magneto-optical recording medium comprising a substrate, a transparent dielectric layer, the reproducing layer, a nonmagnetic intermediate layer, the magnetic mask layer, the recording layer, and a protective layer formed in this order.
前記磁気マスク層の膜厚が、2nm以上40nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7,
A magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer has a thickness of 2 nm to 40 nm.
前記磁気マスク層がGdFe合金、GdFeAl合金、GdFeTi合金、GdFeTa合金、GdFePt合金、GdFeAu合金、GdFeCu合金、GdFeAlTi合金、GdFeAlTa合金のいずれかの合金からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7 or 8,
The magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer is made of any one of a GdFe alloy, a GdFeAl alloy, a GdFeTi alloy, a GdFeTa alloy, a GdFePt alloy, a GdFeAu alloy, a GdFeCu alloy, a GdFeAlTi alloy, and a GdFeAlTa alloy.
前記磁気マスク層が、(Gd0.11Fe0.89)XAl1-Xなる組成式で表され、X(atom比)が0.30以上1.00以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 7 to 9,
The magneto - optical recording medium, wherein the magnetic mask layer is represented by a composition formula of (Gd 0.11 Fe 0.89 ) X Al 1-X , and X (atom ratio) is 0.30 or more and 1.00 or less.
前記磁気マスク層のキュリー温度が60℃以上220℃以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 7 to 10,
The magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer has a Curie temperature of 60 ° C. or higher and 220 ° C. or lower.
前記再生層の膜厚が、10nm以上80nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7,
A magneto-optical recording medium, wherein the reproducing layer has a thickness of 10 nm to 80 nm.
前記非磁性中間層の膜厚が、1nm以上80nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7,
A magneto-optical recording medium, wherein the non-magnetic intermediate layer has a thickness of 1 nm to 80 nm.
前記非磁性中間層の前記記録層側に、反射層が前記非磁性中間層に隣接して形成されていることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7,
A magneto-optical recording medium, wherein a reflection layer is formed adjacent to the nonmagnetic intermediate layer on the recording layer side of the nonmagnetic intermediate layer.
前記反射層がAlからなり、その膜厚が2nm以上40nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 14,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is made of Al and has a thickness of 2 nm to 40 nm.
前記反射層がAlと磁性金属との合金からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 14,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is made of an alloy of Al and a magnetic metal.
前記反射層が、Al1-XFeXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.50以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 16,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1-X Fe X , and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less.
前記反射層が、Al1-XNiXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.50以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 16,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is expressed by a composition formula of Al 1 -X Ni X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.50 or less.
前記反射層がAlと非磁性金属との合金からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 14,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is made of an alloy of Al and a nonmagnetic metal.
前記反射層がAl1-XTiXなる組成式で表され、X(atom比)が0.02以上0.98以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 19,
The magneto-optical recording medium, wherein the reflective layer is represented by a composition formula of Al 1-X Ti X and X (atom ratio) is 0.02 or more and 0.98 or less.
前記保護層に対して前記基板の反対側に、放熱層が形成されていることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 7,
A magneto-optical recording medium, wherein a heat dissipation layer is formed on the opposite side of the substrate with respect to the protective layer.
前記再生層は、室温で面内磁化状態であり、高温で垂直磁化状態となることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 1 to 22,
The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing layer is in an in-plane magnetization state at room temperature and is in a perpendicular magnetization state at a high temperature.
前記再生層は、CoとPtを交互に積層した多層膜からなることを特徴とする光磁気記録媒体。 In the magneto-optical recording medium according to claim 1, claim 2, or claim 3,
The magneto-optical recording medium according to claim 1, wherein the reproducing layer comprises a multilayer film in which Co and Pt are alternately laminated.
信号再生時に、前記光磁気記録媒体に光ビームをパルス状に照射することを特徴とする光磁気記録媒体の再生方法。 A reproduction method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to any one of claims 1 to 24,
A method for reproducing a magneto-optical recording medium, comprising: irradiating the magneto-optical recording medium with a light beam in a pulsed manner during signal reproduction.
再生時に前記光磁気記録媒体に光ビームを照射して、前記磁気マスク層をそのキュリー温度近傍以上に加熱することを特徴とする光磁気記録媒体の再生方法。 A reproduction method for reproducing information from a magneto-optical recording medium according to claim 3,
A method of reproducing a magneto-optical recording medium, comprising: irradiating the magneto-optical recording medium with a light beam at the time of reproduction to heat the magnetic mask layer to a temperature close to or above its Curie temperature.
前記磁気マスク層は前記記録層に静磁結合してなることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to any one of claims 1 to 7,
The magneto-optical recording medium, wherein the magnetic mask layer is magnetostatically coupled to the recording layer.
前記磁気マスク層と前記記録層との間に非磁性中間層が形成されており、該非磁性中間層の膜厚が、2nm以上80nm以下であることを特徴とする光磁気記録媒体。 The magneto-optical recording medium according to claim 27,
A magneto-optical recording medium, wherein a nonmagnetic intermediate layer is formed between the magnetic mask layer and the recording layer, and the film thickness of the nonmagnetic intermediate layer is 2 nm or more and 80 nm or less.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007107617A JP2007188637A (en) | 1997-03-06 | 2007-04-16 | Magneto-optical recording medium and its reproducing method |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP09051372 | 1997-03-06 | ||
JP6368097 | 1997-03-18 | ||
JP6944697 | 1997-03-24 | ||
JP23222797 | 1997-08-28 | ||
JP2007107617A JP2007188637A (en) | 1997-03-06 | 2007-04-16 | Magneto-optical recording medium and its reproducing method |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05472898A Division JP4027490B2 (en) | 1997-03-06 | 1998-03-06 | Magneto-optical recording medium and reproducing method thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007188637A true JP2007188637A (en) | 2007-07-26 |
Family
ID=38343676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007107617A Withdrawn JP2007188637A (en) | 1997-03-06 | 2007-04-16 | Magneto-optical recording medium and its reproducing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007188637A (en) |
-
2007
- 2007-04-16 JP JP2007107617A patent/JP2007188637A/en not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5889739A (en) | Magnetooptical recording medium and information recording and reproducing methods using the recording medium | |
JP3781823B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method thereof | |
KR100334413B1 (en) | Magneto-optical memory medium and reproducing method thereof | |
JP3474401B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP3492525B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
US5926444A (en) | Magneto-optical recording medium for achieving super resolution reproduction of high resolution recorded information | |
JP3568787B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing apparatus | |
JP3492233B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method thereof | |
JP4027490B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method thereof | |
JP3660072B2 (en) | Magneto-optical recording medium, recording method thereof, and magneto-optical recording apparatus | |
JP3349403B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP3626050B2 (en) | Magneto-optical recording medium and recording method thereof | |
JP3436709B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method thereof | |
JP3476698B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP3995833B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP2007188637A (en) | Magneto-optical recording medium and its reproducing method | |
JP2007188636A (en) | Magneto-optical recording medium and its reproducing method | |
USRE38501E1 (en) | Magnetooptical recording medium and information recording and reproducing methods using the recording medium | |
JPH10293949A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP2001126327A (en) | Magneto-optical recording medium | |
JP3516865B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing apparatus | |
JP3418088B2 (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method of magneto-optical recording medium | |
JPH11191244A (en) | Magneto-optical recording medium and reproducing method therefor | |
JP2002329352A (en) | Magneto-optical recording medium |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070710 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070907 |