JPH11133558A - Developing solution for sliver halide photographic sensitive material and processing method therefor - Google Patents

Developing solution for sliver halide photographic sensitive material and processing method therefor

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JPH11133558A
JPH11133558A JP29288197A JP29288197A JPH11133558A JP H11133558 A JPH11133558 A JP H11133558A JP 29288197 A JP29288197 A JP 29288197A JP 29288197 A JP29288197 A JP 29288197A JP H11133558 A JPH11133558 A JP H11133558A
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JP
Japan
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group
atom
acid
mol
aryl
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Application number
JP29288197A
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Japanese (ja)
Inventor
Senzo Sasaoka
扇三 笹岡
Hirotomo Sasaki
博友 佐々木
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an ascorbic acid type developing solution reduced in change of photographic performance improved by incorporating a specified aminophenol derivative and 3-pyrazolidones having hydrophilic groups as auxiliary developing agents. SOLUTION: This developing solution does not contain substantially any of hydroxybenzenes but contained the ascorbic acid and/or its derivatives and further, as the auxiliary developing agents exhibiting superadditivity, the 3- pyrazolidones having hydrophilic groups and the aminophenol derivative represented by the formula in which each of R1 -R4 is, independently, an H atom or a substituent; and each of R5 and R6 is, independently, alkyl or aryl or aralkyl or heterocyclic group. It is preferred that the pyrazolidones are 1-aryl-4,4-disubstituted-3-pyraxolidones having hydrophilic groups.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料の現像液に関するものである。さらに具体的に
は、写真製版の分野で用いられる、超硬調で且つ処理に
よる性能変化の少ないハロゲン化銀写真感光材料(以
下、感光材料または感材ともいう)の現像液および現像
処理方法に関するものである。
The present invention relates to a developer for a silver halide photographic light-sensitive material. More specifically, the present invention relates to a developer and a developing method for a silver halide photographic light-sensitive material (hereinafter, also referred to as a light-sensitive material or a light-sensitive material) which is used in the field of photoengraving and which has ultra-high contrast and little change in performance due to processing. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に感光材料の現像処理において、現
像液には多くの場合、コスト、写真性能の安定性の点か
ら現像主薬としてバイドロキノンが用いられてきた。し
かし、ハイドロキノンはアレルギー性であることから、
素材の安全性上好ましからざるものであった。このよう
な理由から、ハイドロキノン代替としてアスコルビン酸
を用いた現像液が、例えば特開平6−19069号公
報、特開平7−114153号公報、特開平7−175
176号公報などに開示されている。
2. Description of the Related Art In general, in developing processing of a photosensitive material, in many cases, as a developing solution, bydroquinone has been used as a developing agent in view of cost and stability of photographic performance. However, because hydroquinone is allergic,
It was unfavorable in terms of material safety. For these reasons, developers using ascorbic acid as a substitute for hydroquinone are disclosed in, for example, JP-A-6-19069, JP-A-7-114153, and JP-A-7-175.
176 publication.

【0003】一方、写真処理廃液はそのまま下水道に放
出することは出来ず、廃液を回収し焼却処理する必要が
ある。このため、自動現像機を用いて処理する際の補充
量を減少させることが望まれていたが、現像液の補充量
を少なくすると、写真性能の安定性が損なわれる問題が
あった。また、アスコルビン酸またはその誘導体を用い
た現像液は、空気酸化を受けやすく、酸化されると酸を
生成して現像液のpHが低下してしまう。現像液のpH
低下により造核剤の活性が低下し、コントラストおよび
Dmaxの低下を引き起こし写真性能が不安定となる。
従って、アスコルビン酸またはその誘導体を用いた現像
液は、補充量を低減することが困難であった。
On the other hand, photographic processing waste liquid cannot be discharged to the sewer as it is, and it is necessary to collect the waste liquid and incinerate it. For this reason, it has been desired to reduce the replenishment amount when processing using an automatic developing machine. However, if the replenishment amount of the developer is reduced, there is a problem that the stability of photographic performance is impaired. Further, a developing solution using ascorbic acid or a derivative thereof is susceptible to air oxidation, and when oxidized, generates an acid to lower the pH of the developing solution. Developer pH
Due to the decrease, the activity of the nucleating agent is reduced, causing a decrease in contrast and Dmax, resulting in unstable photographic performance.
Therefore, it has been difficult to reduce the replenishment amount of the developer using ascorbic acid or a derivative thereof.

【0004】また、親水性基を有する3−ピラゾリドン
類を補助現像主薬として使用することが、特開平9−1
20121号公報に記載されている。しかし、親水性基
の導入により現像速度が遅くなるという欠点があった。
Further, use of 3-pyrazolidones having a hydrophilic group as an auxiliary developing agent has been disclosed in
20121. However, there was a disadvantage that the development speed was reduced by the introduction of the hydrophilic group.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、写真
性能の変化が少ない、改善されたアスコルビン酸系現像
液および改善された現像処理方法を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide an improved ascorbic acid-based developer and an improved development processing method with little change in photographic performance.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記ハ
ロゲン化銀写真感光材料用現像液および現像処理方法が
提供されて、上記目的が達成される。 (1) 実質的にジヒドロキシべンゼン類を含有せず、
現像主薬としてアスコルビン酸及び/又はその誘導体を
含有し、そして、超加成性を発現する補助現像主薬とし
て下記一般式(A)で表されるアミノフエノール誘導体
と、親水性基を有する3−ピラゾリドン類とを含有する
ことを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用現像液。
According to the present invention, the following objects of the present invention are attained by providing the following developer and processing method for a silver halide photographic material. (1) It does not substantially contain dihydroxybenzenes,
An aminophenol derivative represented by the following general formula (A) as an auxiliary developing agent which contains ascorbic acid and / or a derivative thereof as a developing agent and exhibits superadditivity, and 3-pyrazolidone having a hydrophilic group And a developer for a silver halide photographic light-sensitive material.

【0007】[0007]

【化3】 Embedded image

【0008】(式中、R1、R2、R3およびR4は、同一
または異なって、水素原子または置換基を表し、R5
よびR6は、同一または異なって、アルキル基、アリー
ル基、アラルキル基またはヘテロ環基を表す。) (2) 3−ピラゾリドン類が、親水性基を有する1−
アリール−4,4−ジ置換−3−ピラゾリドン類である
ことを特徴とする上記(1)記載の現像液。 (3)さらに下記一般式(G)で表される銀汚れ防止剤
を含むことを特徴とする上記(1)または(2)記載の
現像液。
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent, and R 5 and R 6 are the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group , An aralkyl group or a heterocyclic group.) (2) 3-pyrazolidones having a hydrophilic group
The developer according to the above (1), which is an aryl-4,4-disubstituted-3-pyrazolidone. (3) The developer according to the above (1) or (2), further comprising a silver stain inhibitor represented by the following general formula (G).

【0009】[0009]

【化4】 Embedded image

【0010】(式中、DおよびEは、同一または異なっ
て、−CH=で示される基、−CR0=で示される基、
または窒素原子を表し、ここで上記R0は、置換基を表
し、L1、L2およびL3は、同一または異なって、水素
原子、ハロゲン原子、または炭素原子、窒素原子、酸素
原子、硫黄原子、およびリン原子のいずれかの原子で環
に結合する置換基を表す。但し、L1、L2、L3および
0の少なくとも1つは、一SM基(Mはアルカリ金属
原子、水素原子、アンモニウム基)を表す。なお、Eと
Dのいずれかが窒素原子であり、他方が−CH=で示さ
れる基または−CR0=で示される基であるときは、E
が窒素原子であり、しかもL2およびL3はヒドロキシル
基であることはない。)
(Wherein D and E are the same or different and each is a group represented by -CH =, a group represented by -CR 0 =,
Or a nitrogen atom, wherein R 0 represents a substituent, and L 1 , L 2 and L 3 are the same or different and are each a hydrogen atom, a halogen atom, or a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom; Represents a substituent bonded to the ring at any one of an atom and a phosphorus atom. However, at least one of L 1 , L 2 , L 3 and R 0 represents one SM group (M is an alkali metal atom, a hydrogen atom, an ammonium group). Incidentally, any nitrogen atom of the E and D, when the other is a group represented a group represented by or -CR 0 = at -CH = is, E
Is a nitrogen atom, and L 2 and L 3 are not hydroxyl groups. )

【0011】(4)現像液中の炭酸水素塩濃度が0.1
モル/リットル以上、炭酸水素塩と炭酸塩の合計濃度が
0.5モル/リットル以上であり、かつpHが9.0〜
10.5であることを特徴とする上記(1)〜(3)の
いずれかに記載の現像液。 (5)ヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感
光材料を、上記(1)〜(4)のいずれかに記載のハロ
ゲン化銀写真感光材料用現像液で処理することを特徴と
する現像処理方法。
(4) The bicarbonate concentration in the developer is 0.1
Mol / l or more, the total concentration of bicarbonate and carbonate is 0.5 mol / l or more, and the pH is 9.0 to 9.0 mol / l.
The developer according to any one of the above (1) to (3), wherein the developer is 10.5. (5) A developing method comprising treating a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine derivative with the developer for a silver halide photographic light-sensitive material according to any one of the above (1) to (4). .

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】まず、本発明に使用する現像主薬
について説明する。本発明に用いるアルコルビン酸誘導
体の現像主薬としては下記一般式(1) で表わされる化合
物が好ましい。 一般式(1)
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, a developing agent used in the present invention will be described. As the developing agent of the ascorbic acid derivative used in the present invention, a compound represented by the following general formula (1) is preferable. General formula (1)

【0013】[0013]

【化5】 Embedded image

【0014】(式中、R1 およびR2 は、同一または異
なって、ヒドロキシル基、アミノ基、アシルアミノ基、
アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、メルカプト基、
またはアルキルチオ基を表し、Xは、炭素原子、酸素原
子および窒素原子から選択される少なくとも1種の原子
を含み、且つR1 およびR2 が置換している二つのビニ
ル炭素とカルボニル炭素と共同で5〜6員環を形成する
2価の有機基を表す。)
(Wherein R 1 and R 2 are the same or different and each is a hydroxyl group, an amino group, an acylamino group,
Alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkoxycarbonylamino group, mercapto group,
Or X represents an alkylthio group, X contains at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a nitrogen atom, and is formed by two vinyl and carbonyl carbons substituted by R 1 and R 2 together with a carbonyl carbon. Represents a divalent organic group forming a 5- to 6-membered ring. )

【0015】以下、上記一般式(1) について詳しく説
明する。式中、R1 、R2 は、それぞれ独立に、ヒドロ
キシル基、アミノ基(置換基として炭素数1〜10のア
ルキル基、例えばメチル基、エチル基、n−ブチル基、
ヒドロキシエチル基などを置換基として有するものを含
む。)、アシルアミノ基、(アセチルアミノ基、ベンゾ
イルアミノ基など)、アルキルスルホニルアミノ基、
(メタンスルホニルアミノ基など)、アリールスルホニ
ルアミノ基(ベンゼンスルホニルアミノ基、p−トルエ
ンスルホニルアミノ基など)、アルコキシカルボニルア
ミノ基(メトキシカルボニルアミノ基など)、メルカプ
ト基、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基な
ど)を表す。上記基のうち好ましい基として、ヒドロキ
シル基、アミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリ
ールスルホニルアミノ基を挙げることができる。
Hereinafter, the general formula (1) will be described in detail. In the formula, R 1 and R 2 are each independently a hydroxyl group, an amino group (an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as a substituent, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group,
Includes those having a hydroxyethyl group or the like as a substituent. ), Acylamino group, (acetylamino group, benzoylamino group, etc.), alkylsulfonylamino group,
(Methanesulfonylamino group, etc.), arylsulfonylamino group (benzenesulfonylamino group, p-toluenesulfonylamino group, etc.), alkoxycarbonylamino group (methoxycarbonylamino group, etc.), mercapto group, alkylthio group (methylthio group, ethylthio group Etc.). Among the above groups, preferred groups include a hydroxyl group, an amino group, an alkylsulfonylamino group, and an arylsulfonylamino group.

【0016】Xは、炭素原子、酸素原子および窒素原子
から選択される少なくとも1種の原子を含み、且つR1
およびR2 が置換している二つのビニル炭素とカルボニ
ル炭素と共同で5〜6員環を形成する2価の有機基を表
す。Xは、例えば−O−、−C(R3)(R4)−、−C(R5)
=、−C(=O)−、−N(R6)−、−N=、を組み
合わせて構成することができる。ここで、R3 、R4
5 、R6 は、水素原子、炭素数1〜10の置換されて
いてもよいアルキル基(置換基としてヒドロキシル基、
カルボキシル基、スルホ基を挙げることができる)、炭
素数6〜15の置換されていてもよいアリール基(置換基
としてアルキル基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カ
ルボキシル基、スルホ基を挙げることができる)、ヒド
ロキシル基、カルボキシル基を表す。さらに上記5〜6
員環は、飽和あるいは不飽和の縮合環であってもよい。
この5〜6員環の例として、ジヒドロフラノン環、ジヒ
ドロピロン環、ピラノン環、シクロペンテノン環、シク
ロヘキセノン環、ピロリノン環、ピラゾリノン環、ピリ
ドン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシル環などが挙
げられ、好ましい5〜6員環の例として、ジヒドロフラ
ノン環、シクロペンテノン環、シクロヘキセノン環、ピ
ラゾリノン環、アザシクロヘキセノン環、ウラシル環を
挙げることができる。
[0016] X includes at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom and a nitrogen atom, and R 1
And it represents a divalent organic group R 2 forms a 5- or 6-membered ring in cooperation with the two vinyl carbons and the carbonyl carbon is substituted. X is, for example -O -, - C (R 3 ) (R 4) -, - C (R 5)
=, - C (= O) -, - N (R 6) -, - N =, it can be constructed by combining. Where R 3 , R 4 ,
R 5 and R 6 each represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted (a hydroxyl group,
A carboxyl group and a sulfo group) and an optionally substituted aryl group having 6 to 15 carbon atoms (an alkyl group, a halogen atom, a hydroxyl group, a carboxyl group and a sulfo group can be mentioned as substituents) , A hydroxyl group and a carboxyl group. Furthermore, the above 5-6
The membered ring may be a saturated or unsaturated condensed ring.
Examples of the 5- to 6-membered ring include a dihydrofuranone ring, a dihydropyrone ring, a pyranone ring, a cyclopentenone ring, a cyclohexenone ring, a pyrrolinone ring, a pyrazolinone ring, a pyridone ring, an azacyclohexenone ring, and a uracil ring. Preferred examples of the 5- or 6-membered ring include a dihydrofuranone ring, a cyclopentenone ring, a cyclohexenone ring, a pyrazolinone ring, an azacyclohexenone ring and a uracil ring.

【0017】一般式(1)で表される具体的化合物例を
以下に示す。
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) are shown below.

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】[0019]

【化7】 Embedded image

【0020】[0020]

【化8】 Embedded image

【0021】[0021]

【化9】 Embedded image

【0022】[0022]

【化10】 Embedded image

【0023】本発明に使用するアスコルビン酸類は、エ
ンジオール型(Endiol) 、エナミノール型(Enaminol)、
エンジアミン型(Endiamin)、チオールエノール型(Thiol
-Enol)およびエナミン−チオール型(Enamin-Thiol)が化
合物として一般に知られている。これらの化合物の例は
米国特許第2,688,549号明細書、特開昭62−
237443号公報などに記載されている。これらのア
スコルビン酸類の合成法もよく知られており、例えば野
村次男と大村浩久共著「レダクトンの化学」(内田老鶴
圃新社1969年)に記載されている。本発明に用いら
れるアスコルビン酸類はリチウム塩、ナトリウム塩、カ
リウム塩などのアルカリ金属塩の形でも使用できる。
The ascorbic acids used in the present invention include an endiol type (Endiol), an enaminol type (Enaminol),
Endiamin type, Thiol enol type (Thiol
-Enol) and the enamine-thiol form (Enamin-Thiol) are commonly known as compounds. Examples of these compounds are described in U.S. Pat. No. 2,688,549;
No. 237443. Methods for synthesizing these ascorbic acids are also well known, and are described, for example, in Tsukio Nomura and Hirohisa Omura, "Reducton Chemistry" (Uchida Lao Tsuruhoshinsha 1969). The ascorbic acids used in the present invention can be used in the form of an alkali metal salt such as a lithium salt, a sodium salt and a potassium salt.

【0024】本発明に用いられる超加成性を示す補助現
像主薬のアミノフェノール誘導体としては、下記一般式
(A)で表されるp−アミノフェノール類が好ましい。 一般式(A)
As the aminophenol derivative of the auxiliary developing agent having super additivity used in the present invention, p-aminophenols represented by the following formula (A) are preferred. General formula (A)

【0025】[0025]

【化11】 Embedded image

【0026】(一般式(A)中、R1、R2、R3、R
4は、同一または異なって、各々水素原子または置換基
を表す。R5、R6は、同一または異なって、各々アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基またはヘテロ環基を表
す。)
(In the general formula (A), R 1 , R 2 , R 3 , R
4 is the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. R 5 and R 6 are the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group. )

【0027】一般式(A)で表されるp−アミノフェノ
ール類について詳細に説明する。式中、R1、R2、R3
およびR4は、同一または異なって、各々水素原子また
は置換基を表す。この置換基の例としては、アルキル
基、アリール基、アラルキル基、ヘテロ環基、ハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ
ル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アル
キルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、
スルファモイルアミノ基、ウレイド基、アシル基、オキ
シカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スル
フィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基(塩を
含む)、スルホ基(塩を含む)を挙げることができる。
これらは、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アミノ
基、アルキルアミノ基、アンモニオ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレ
イド基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキ
シル基(塩を含む)、スルホ基(塩を含む)またはその
他酸素原子、窒素原子、硫黄原子もしくは炭素原子で形
成される置換基で置換されていてもよい。
The p-aminophenol represented by the general formula (A) will be described in detail. Wherein R 1 , R 2 , R 3
And R 4 are the same or different and each represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a mercapto group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an acyloxy group. Group, amino group, alkylamino group, carbonamido group, sulfonamido group,
Examples include a sulfamoylamino group, a ureido group, an acyl group, an oxycarbonyl group, a carbamoyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group (including salts), and a sulfo group (including salts).
These are an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group,
Aryl group, halogen atom, cyano group, nitro group, hydroxyl group, alkoxy group, alkylthio group, amino group, alkylamino group, ammonio group, carbonamide group, sulfonamide group, sulfamoylamino group, ureido group, carbamoyl group , A sulfamoyl group, a carboxyl group (including a salt), a sulfo group (including a salt), or other substituents formed by an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom or a carbon atom.

【0028】さらに詳しくR1、R2、R3およびR4で表
される置換基の好ましい例を示す。アルキル基としては
炭素数1〜10の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基
であり、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、t−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、
ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロ
キシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、2−メ
トキシエチルなどを挙げることができる。
More preferred examples of the substituents represented by R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are shown below. The alkyl group is a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, cyclopentyl, cyclohexyl,
Examples include hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 3-hydroxypropyl, 2,3-dihydroxypropyl, 2-methoxyethyl and the like.

【0029】アリール基としては炭素数6〜10のアリ
ール基で、例えば、フェニル、ナフチル、p−メトキシ
フェニルなどである。アラルキル基としては炭素数7〜
10のアラルキル基で、例えば、ベンジルなどである。
へテロ環基としては炭素原子、窒素原子、酸素原子、あ
るいは硫黄原子から構成される5〜6員環の飽和または
不飽和のヘテロ環基であり、環を構成するヘテロ元素の
種類は1つでも複数であってもよく、例えば、2−フリ
ル、2−ピロリル、2−イミダゾリル、1−ピラゾリ
ル、2−ピリジル、2−ピリミジル、2−チエニルなど
である。ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩
素原子である。アルコキシ基としては炭素数1〜10、
好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基で例えば、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、2−ヒ
ドロキシエトキシ、3−ヒドロキシプロポキシ、2−メ
トキシエトキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ、2,3
−ジヒドロキシプロポキシ、2−ヒドロキシプロポキ
シ、2−メタンスルホニルエトキシなどを挙げることが
できる。アリールオキシ基としては炭素数6〜10のア
リールオキシ基で例えば、フェノキシ、p−カルボキシ
フェノキシ、o−スルホフェノキシなどを挙げることが
できる。アルキルチオ基としては炭素数1〜10、好ま
しくは炭素数1〜6のアルキルチオ基で例えば、メチル
チオ、エチルチオなどである。アリールチオ基としては
炭素数6〜10のアリールチオ基で例えば、フェニルチ
オ、4−メトキシフェニルチオなどを挙げることができ
る。アシルオキシ基としては炭素数1〜10、好ましく
は炭素数1〜6のアシルオキシ基で例えば、アセトキ
シ、プロパノイルオキシなどを挙げることができる。
The aryl group is an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl and p-methoxyphenyl. The aralkyl group has 7 to 7 carbon atoms.
And 10 aralkyl groups such as benzyl.
The heterocyclic group is a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic group composed of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom, and the type of the hetero element constituting the ring is one. However, there may be more than one such as 2-furyl, 2-pyrrolyl, 2-imidazolyl, 1-pyrazolyl, 2-pyridyl, 2-pyrimidyl, 2-thienyl and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom. The alkoxy group has 1 to 10 carbon atoms,
Preferably an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, 2-hydroxyethoxy, 3-hydroxypropoxy, 2-methoxyethoxy, hydroxyethoxyethoxy, 2,3
-Dihydroxypropoxy, 2-hydroxypropoxy, 2-methanesulfonylethoxy and the like. The aryloxy group is an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms, and examples thereof include phenoxy, p-carboxyphenoxy, and o-sulfophenoxy. The alkylthio group is an alkylthio group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methylthio and ethylthio. The arylthio group is an arylthio group having 6 to 10 carbon atoms, such as phenylthio and 4-methoxyphenylthio. The acyloxy group is an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetoxy and propanoyloxy.

【0030】アルキルアミノ基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のアルキルアミノ基で例え
ば、メチルアミノ、ジエチルアミノ、2−ヒドロキシエ
チルアミノなどである。カルボンアミド基としては炭素
数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のカルボンアミド
基で例えば、アセトアミド、プロピオンアミドである。
スルホンアミド基としては炭素数1〜10、好ましくは
炭素数1〜6のスルホンアミド基で例えば、メタンスル
ホンアミドである。スルファモイルアミノ基としては炭
素数0〜10、好ましくは炭素数0〜6のスルファモイ
ルアミノ基で例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジ
メチルスルファモイルアミノである。ウレイド基として
は炭索数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のウレイド
基で例えば、ウレイド、メチルウレイド、N,N−ジメ
チルウレイドである。アシル基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のアシル基で例えばアセチ
ル、ベンゾイルなどである。オキシカルボニル基として
は炭素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のオキシカ
ルボニル基で例えば、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニルである。カルバモイル基としては炭素数1〜1
0、好ましくは炭素数1〜6のカルバモイル基で例え
ば、カルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N
−エチルカルバモイルである。スルホニル基としては炭
素数1〜10、好ましくは炭素数1〜6のスルホニル基
で例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニルであ
る。スルフィニル基としては炭素数1〜10、好ましく
は炭素数1〜6のスルフィニル基で例えば、メタンスル
フィニルである。スルファモイル基としては炭素数0〜
10、好ましくは炭素数0〜6のスルファモイル基で例
えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイルであ
る。
The alkylamino group has 1 to 1 carbon atoms.
0, preferably an alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms, such as methylamino, diethylamino and 2-hydroxyethylamino. The carbonamido group is a carbonamido group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetamido and propionamido.
The sulfonamide group has 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and is, for example, methanesulfonamide. The sulfamoylamino group is a sulfamoylamino group having 0 to 10 carbon atoms, preferably 0 to 6 carbon atoms, such as methylsulfamoylamino and dimethylsulfamoylamino. The ureido group is a ureido group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, and examples thereof include ureido, methylureide, and N, N-dimethylureide. The acyl group has 1 to 1 carbon atoms.
An acyl group having 0, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as acetyl and benzoyl. The oxycarbonyl group is an oxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl. The carbamoyl group has 1 to 1 carbon atoms.
0, preferably a carbamoyl group having 1 to 6 carbon atoms such as carbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N
-Ethylcarbamoyl. The sulfonyl group is a sulfonyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methanesulfonyl and ethanesulfonyl. The sulfinyl group is a sulfinyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, such as methanesulfinyl. The sulfamoyl group has 0 to 0 carbon atoms.
10, preferably a sulfamoyl group having 0 to 6 carbon atoms, such as sulfamoyl and dimethylsulfamoyl.

【0031】R5、R6は、同一または異なって、各々ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、またはヘテロ環
基を表す。その詳細は、R1、R2、R3およびR4にて説
明したものと同じである。但し、R5、R6がアルキル基
であるとき、連結して窒素原子と共同で5〜6員環を形
成してもよく、この場合例えば、ピロリジン環、ピペリ
ジン環、ピペラジン環、モルホリン環を挙げることが出
来る。また、R5、R6の少なくとも一方がアルキル基で
かつR3、R4の少なくとも一方がアルキル基またはアル
コキシ基である場合、これらが連結して窒素原子および
ベンゼン環と共同で縮合複素環を形成してもよく、形成
されるべンゼン環と縮合した5〜6員環としては例えば
インドール、インドリン、ジヒドロキノリン、テトラヒ
ドロキノリン、ベンゾオキサジンを挙げることができ
る。一般式(A)で表される化合物は二量体となってビ
ス型構造を形成してもよい。
R 5 and R 6 are the same or different and each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group, or a heterocyclic group. The details are the same as those described for R 1 , R 2 , R 3 and R 4 . However, when R 5 and R 6 are an alkyl group, they may be linked to form a 5- to 6-membered ring together with a nitrogen atom. In this case, for example, a pyrrolidine ring, a piperidine ring, a piperazine ring, a morpholine ring Can be mentioned. When at least one of R 5 and R 6 is an alkyl group and at least one of R 3 and R 4 is an alkyl group or an alkoxy group, these are linked to form a condensed heterocyclic ring together with a nitrogen atom and a benzene ring. The 5- or 6-membered ring condensed with the benzene ring to be formed may be, for example, indole, indoline, dihydroquinoline, tetrahydroquinoline, benzoxazine. The compound represented by the general formula (A) may be a dimer to form a bis-type structure.

【0032】一般式(A)で表される化合物の中でも、
以下の一般式(B)で表される化合物が好ましい。 一般式(B)
Among the compounds represented by the general formula (A),
Compounds represented by the following general formula (B) are preferred. General formula (B)

【0033】[0033]

【化12】 Embedded image

【0034】(式中、R11、R22は、同一または異なっ
て、各々水素原子または置換基を表す。R55、R66は、
同一または異なって、各々アルキル基、アリール基、ア
ラルキル基またはへテロ環基を表す。)
(Wherein, R 11 and R 22 are the same or different and each represents a hydrogen atom or a substituent. R 55 and R 66 are
The same or different, each represents an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or a heterocyclic group. )

【0035】一般式(B)中のR11、R22およびR55
66について以下にその好ましい組み合わせについて述
べる。R11、R22が、水素原子、アルキル基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、
カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイル
アミノ基、またはウレイド基であり、R55、R66がアル
キル基である組み合わせが好ましい。ここで、アルキル
基、アルコキシ基、アルキルアミノ基は、他の置換基に
よって置換されたものも含む。この組み合わせにおい
て、R55、R66は、無置換のアルキル基または親水性基
で置換されたアルキル基であることがより好ましい。こ
こで、親水性基として、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アンモニオ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミ
ノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル
基、カルボキシル基(塩を含む)、スルホ基(塩を含
む)などを挙げることができる。
R 11 , R 22 and R 55 in the general formula (B)
For R 66 described for the preferred combinations below. R 11 and R 22 represent a hydrogen atom, an alkyl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group,
Preferred is a combination of a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, or a ureido group, wherein R 55 and R 66 are alkyl groups. Here, the alkyl group, the alkoxy group, and the alkylamino group include those substituted with another substituent. In this combination, R 55 and R 66 are more preferably an unsubstituted alkyl group or an alkyl group substituted with a hydrophilic group. Here, as the hydrophilic group, a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an ammonium group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, a ureido group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, a carboxyl group ( And sulfo groups (including salts).

【0036】さらに好ましい化合物としては、一般式
(B)において、R11が水素原子であり、R22はアルキ
ル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基であり、R
55、R66がアルキル基である化合物である。ここで、ア
ルキル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホン
アミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基は、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、スルホンアミ
ド基、もしくはウレイド基によって置換されたものも含
む。
More preferably, in the formula (B), R 11 is a hydrogen atom, and R 22 is an alkyl group, an alkoxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, a ureido group. Yes, R
55 and R 66 are compounds wherein the alkyl group is an alkyl group. Here, an alkyl group, an alkoxy group, a carbonamide group, a sulfonamide group, a sulfamoylamino group, and a ureido group are a hydroxyl group, an alkoxy group, an amino group, an alkylamino group, an ammonium group, a carbonamide group, and a sulfonamide group. Or those substituted by a ureido group.

【0037】さらにより好ましい化合物としては、一般
式(B)において、R11が水素原子であり、R22は炭素
数1〜3のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、
炭素数1〜3のカルボンアミド基、炭素数1〜3のスル
ホンアミド基、炭素数1〜3のウレイド基であり、
55、R66が炭素数1〜3の無置換アルキル基である化
合物である。ここでR22で表されるアルキル基、アルコ
キシ基はヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボンアミ
ド基、スルホンアミド基によって置換されたものも含
む。
As still more preferred compounds, in the general formula (B), R 11 is a hydrogen atom, R 22 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms,
A carbonamide group having 1 to 3 carbon atoms, a sulfonamide group having 1 to 3 carbon atoms, a ureido group having 1 to 3 carbon atoms,
A compound in which R 55 and R 66 are an unsubstituted alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Wherein the alkyl group, alkoxy group represented by R 22 includes those substituted hydroxyl group, an alkoxy group, a carbonamido group, the sulfonamido group.

【0038】最も好ましい化合物としては、一般式
(B)において、R11が水素原子であり、R22は炭素数
1〜3のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭
素数1〜3のカルボンアミド基、炭素数1〜3のスルホ
ンアミド基、炭素数1〜3のウレイド基であり、R55
66がメチル基である化合物である。ここでR22で表さ
れるアルキル基、アルコキシ基はヒドロキシル基、アル
コキシ基によって置換されたものも含む。
As the most preferred compound, in the general formula (B), R 11 is a hydrogen atom, and R 22 is an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and 1 to 3 carbon atoms. A sulfonamide group having 1 to 3 carbon atoms, a ureido group having 1 to 3 carbon atoms, and R 55 ,
A compound in which R 66 is a methyl group. Here, the alkyl group and the alkoxy group represented by R 22 include those substituted by a hydroxyl group or an alkoxy group.

【0039】本発明の一般式(A)で表される具体的化
合物の例として、下記表1〜表9にリストした化合物が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。一般
式(A)で示される化合物は、遊離アニリンとしては不
安定である場合があるため、一般には無機酸、有機酸と
の塩として製造、保存し、処理液に添加したあと初めて
遊離アミンとなるようにすることが好ましい。一般式
(A)の化合物を造塩する無機、有機の酸としては例え
ば塩酸、臭化水素酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、
メタンスルホン酸、ナフタレン−1,5−ジスルホン酸
などが挙げられるが、硫酸、ナフタレン−1,5−ジス
ルホン酸の塩とすることが好ましい。
Examples of the specific compounds represented by the general formula (A) of the present invention include the compounds listed in the following Tables 1 to 9, but are not limited thereto. Since the compound represented by the general formula (A) may be unstable as a free aniline, it is generally produced and stored as a salt with an inorganic acid or an organic acid, and is added with a free amine only after being added to the treatment solution. Preferably. Examples of the inorganic and organic acids that form the salt of the compound of the general formula (A) include hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid,
Methanesulfonic acid, naphthalene-1,5-disulfonic acid and the like can be mentioned, and a salt of sulfuric acid or naphthalene-1,5-disulfonic acid is preferable.

【0040】[0040]

【表1】 [Table 1]

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【表3】 [Table 3]

【0043】[0043]

【表4】 [Table 4]

【0044】[0044]

【表5】 [Table 5]

【0045】[0045]

【表6】 [Table 6]

【0046】[0046]

【表7】 [Table 7]

【0047】[0047]

【表8】 [Table 8]

【0048】[0048]

【表9】 [Table 9]

【0049】一般式(A)で表される化合物は、例えば
Photographic Science and Engineering, 10, 306(196
6)などの一般的合成法に準じて、また、特願平8−70
908号に記載の合成例に準じて容易に合成可能であ
る。
The compound represented by the general formula (A) is, for example,
Photographic Science and Engineering, 10, 306 (196
According to a general synthesis method such as 6), Japanese Patent Application No. 8-70
No. 908, the compound can be easily synthesized.

【0050】次に、本発明に使用される親水性基を有す
る3−ピラゾリドン類について説明する。本発明に用い
られる、親水性基を有する3−ピラゾリドン類は、以下
の親水性基、即ち、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキ
シル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、アミノ
基、アンモニオ基、スルフィノ基、ホスホノ基を有す
る、3−ピラゾリドンであり、これら親水性基の他に、
任意の置換基を有していてもよい。なかでも、本発明に
おける好ましい3−ピラゾリドン類は、親水性基を有す
る1−アリールー3−ピラゾリドン類であり、下記一般
式(P)で表される。 一般式(P)
Next, the 3-pyrazolidones having a hydrophilic group used in the present invention will be described. The 3-pyrazolidones having a hydrophilic group used in the present invention include the following hydrophilic groups: carboxy group, sulfo group, hydroxyl group, sulfonamide group, sulfamoyl group, amino group, ammonium group, sulfino group, 3-pyrazolidone having a phosphono group, and in addition to these hydrophilic groups,
It may have an optional substituent. Among them, preferred 3-pyrazolidones in the present invention are 1-aryl-3-pyrazolidones having a hydrophilic group, and are represented by the following general formula (P). General formula (P)

【0051】[0051]

【化13】 Embedded image

【0052】一般式(P)において、R1、R2、R3
およびR4は、同一または異なって、水素原子または
(A)m−(L)n−B−(So1)pを表し、R5は、置換
または無置換のアリール基を表す。ここで、AおよびB
は、同一または異なって、アルキレン基またはアリーレ
ン基を表し、Lは、次の2価の基、即ち、−O−、−S
−、−NR6 −、−OC(O)−、−C(O)O−、−
OC(O)O−、−C(O)−、−OC(O)NR
7−、−NR8C(O)−、−C(O)NR9−、−NR1
0S02−、−S02NR11−、−NR12S02NR13−を
表し、So1は、次の親水性基、即ち、−CO2H、−
SO3H、−OH、−NHSO214、−SO2NH
15、−NR1617、−N+(R183、−SO2H、−
PO(OH)2を表し、m,n,pは、0から3の整数
を表す。なお、R6、R7、R8、R9、R10、R11
12、R13、R14、R15、R16、R17、およびR18は、
水素原子、脂肪族炭化水素基、またはアリール基を表
す。また、R1、R2、R3、R4、およびR5のうち少な
くとも1つは、Sol基を有する。また、R1、R2
3、R4、R5の各基が互いに結合し、環を形成しても
よい。
In the general formula (P), R 1 , R 2 , R 3 ,
And R 4 are the same or different and are each a hydrogen atom or
(A) represents m- (L) nB- (So1) p, and R 5 represents a substituted or unsubstituted aryl group. Where A and B
Are the same or different and each represents an alkylene group or an arylene group, and L is the following divalent group: —O—, —S
-, - NR 6 -, - OC (O) -, - C (O) O -, -
OC (O) O-, -C (O)-, -OC (O) NR
7 -, - NR 8 C ( O) -, - C (O) NR 9 -, - NR 1
0 S0 2 -, - S0 2 NR 11 -, - NR 12 S0 2 NR 13 - represents, So1, the following hydrophilic groups, i.e., -CO 2 H, -
SO 3 H, -OH, -NHSO 2 R 14, -SO 2 NH
R 15, -NR 16 R 17, -N + (R 18) 3, -SO 2 H, -
Represents PO (OH) 2 , and m, n, and p represent integers from 0 to 3. Note that R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 ,
R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , and R 18 are
Represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group, or an aryl group. Further, at least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 has a Sol group. R 1 , R 2 ,
R 3 , R 4 and R 5 may be bonded to each other to form a ring.

【0053】さらに詳細に一般式(P)の化合物につい
て説明する。一般式(P)において、A,Bで表される
アルキレン基は、炭素数1〜10のものが好ましく、例
えば、メチレン、エチレン、−CH2CH(CH3)−、−
(CH2)3−、−(CH2)4−などが挙げられ、アリーレン
基としては炭素数6から12のものが好ましく、例え
ば、O−フェニレン基、p−フェニレン基、m−フェニ
レン基などが挙げられる。R6、R7、R8、R9、R10
11、R12、R13、R14、R15、R16、R17、およびR
18で表される脂肪族炭化水素基としては、炭素数1〜1
0のアルキル基(例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、トプロピル、t−ブチル、sec−ブチル、n−オ
クチル、シクロプロピル、シクロペンチル)、炭素数1
〜10のアルケニル基(例えば、ビニル、アリル、2−
ブテニル、3−ペンテニル)、炭素数1〜10のアルギ
ニル基(例えば、プロパルギル、3−ペンチニル)、炭素
数1〜10のアラルキル基(例えば、ベンジル、フェネ
チル)が挙げられ、R6、R7、R8、R9、R10、R11
12、R13、R14、R15、R16、R17、およびR18で表
されるアリール基としては、炭素数6〜14のアリール
基(例えば、フェニル、ナフチル、4−メチルフェニ
ル)が挙げられる。
The compound of the formula (P) will be described in more detail. In formula (P), A, alkylene group represented by of B, preferably has 1 to 10 carbon atoms, e.g., methylene, ethylene, -CH 2 CH (CH 3) -, -
(CH 2 ) 3 —, — (CH 2 ) 4 — and the like, and the arylene group preferably has 6 to 12 carbon atoms, for example, an O-phenylene group, a p-phenylene group, an m-phenylene group, and the like. Is mentioned. R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 ,
R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , and R
As the aliphatic hydrocarbon group represented by 18 , C 1 to C 1
0 alkyl group (for example, methyl, ethyl, n-propyl, topropyl, t-butyl, sec-butyl, n-octyl, cyclopropyl, cyclopentyl), carbon number 1
Alkenyl groups such as vinyl, allyl, 2-
Butenyl, 3-pentenyl), an arginyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, propargyl, 3-pentynyl), an aralkyl group having 1 to 10 carbon atoms (eg, benzyl, phenethyl), and R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 ,
As the aryl group represented by R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , and R 18 , an aryl group having 6 to 14 carbon atoms (eg, phenyl, naphthyl, 4-methylphenyl) Is mentioned.

【0054】また、A、B、およびR6、R7、R8
9、Rl0、R11、R12、R13、R14、R15、R16、R
17、R18の各基は、置換基を有していてもよく、置換基
としては以下のものが挙げられる。即ち、ハロゲン原子
(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルキ
ル基(例えば、メチル、エチル、i−プロピル、t−ブ
チル、n−オクチル、シクロプロピル、シクロヘキシ
ル)、アルケニル基(例えば、アリル、2−ブテニル、
3−ペンテニル)、アルキニル基(例えば、プロパルギ
ル、3−ペンチニル)、アラルキル基(例えば、ベンジ
ル、フェネチル)、アリール基(例えば、フェニル、ナフ
チル、4−メチルフェニル)、ヘテロ環基(例えば、ピリ
ジル、フリル、イミダゾリル、ピペリジル、モルホリ
ノ)、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ、ブト
キシ)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ、2−ナ
フチルオキシ)、アミノ基(例えば、無置換アミノ、ジメ
チルアミノ、エチルアミノ、アニリノ)、ウレイド基(例
えば、無置換ウレイド、N−メチルウレイド、N−フェ
ニルウレイド)、ウレタン基(例えば、メトキシカルボニ
ルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ)、スルホニル
基(例えば、メシル、トシル)、スルフィニル基(例え
ば、メチルスルフィニル、フェニルスルフィニル)、ア
ルキルオキジカルボニル基(例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル)、アリールオキシカルボニル
基(例えば、フェノキシカルボニル)、アシル基(例え
ば、アセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル)、
アシルオキシ基(例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキ
シ)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、エチルチ
オ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ)、シアノ
基、メルカプト基、カルボキシル基、ホスホノ基、ニト
ロ基、スルフィノ基、アンモニオ基(例えば、トリメチ
ルアンモニオ基)、シリル基(例えば、トリメチルシリ
ル)などである。これらの基はさらに置換されていても
よい、また、置換基が2つ以上あるときは、同一または
異なっていてもよい。
A, B, and R 6 , R 7 , R 8 ,
R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R
Each of the groups 17 and R 18 may have a substituent, and examples of the substituent include the following. That is, a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group (eg, methyl, ethyl, i-propyl, t-butyl, n-octyl, cyclopropyl, cyclohexyl), an alkenyl group (eg, allyl) , 2-butenyl,
3-pentenyl), alkynyl group (e.g., propargyl, 3-pentynyl), aralkyl group (e.g., benzyl, phenethyl), aryl group (e.g., phenyl, naphthyl, 4-methylphenyl), heterocyclic group (e.g., pyridyl, Furyl, imidazolyl, piperidyl, morpholino), alkoxy group (e.g., methoxy, ethoxy, butoxy), aryloxy group (e.g., phenoxy, 2-naphthyloxy), amino group (e.g., unsubstituted amino, dimethylamino, ethylamino, Anilino), a ureido group (e.g., unsubstituted ureido, N-methylureide, N-phenylureido), a urethane group (e.g., methoxycarbonylamino, phenoxycarbonylamino), a sulfonyl group (e.g., mesyl, tosyl), a sulfinyl group ( For example, methylsulfinyl, phenyl Rufiniru) alkyl Oki dicarbonyl group (e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl), an aryloxycarbonyl group (e.g., phenoxycarbonyl), an acyl group (e.g., acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl),
Acyloxy group (e.g., acetoxy, benzoyloxy), alkylthio group (e.g., methylthio, ethylthio), arylthio group (e.g., phenylthio), cyano group, mercapto group, carboxyl group, phosphono group, nitro group, sulfino group, ammonium group ( For example, a trimethylammonio group), a silyl group (eg, trimethylsilyl) and the like. These groups may be further substituted, and when there are two or more substituents, they may be the same or different.

【0055】本発明においてより好ましく用いられる、
一般式(P)で表される化合物は、1−アリール−4,4
−ジ置換−3−ピラゾリドン化合物であり、しかも一般
式(P)において、R1およびR2が(A)m−(L)n−B−
(So1)pであり、R3およびR4が水素原子または(A)
m−(L)n−B−(So1)pであり、R5が置換または
無置換のアリール基である化合物である。さらにより好
ましく用いられる、一般式(P)で表される化合物は、一
般式(P)において、R1、R2が(A)m−(L)n−B−
(So1)pであり、R3およびR4が水素原子または(A)
m−(L)n−B−(So1)pであり、R5が置換または
無置換のアリール基であり、So1基が−CO2H、−
SO3H、−OHのものである。
[0055] More preferably used in the present invention,
The compound represented by the general formula (P) is 1-aryl-4,4
A di-substituted-3-pyrazolidone compound, and in the general formula (P), R 1 and R 2 are (A) m- (L) n-B-
(So1) p, and R 3 and R 4 are a hydrogen atom or (A)
m- (L) nB- (So1) p, wherein R 5 is a substituted or unsubstituted aryl group. The compound represented by the general formula (P), which is more preferably used, is a compound represented by the general formula (P) wherein R 1 and R 2 are (A) m- (L) nB-
(So1) p, and R 3 and R 4 are a hydrogen atom or (A)
m- (L) n-B- ( So1) is p, R 5 is a substituted or unsubstituted aryl group, So1 group is -CO 2 H, -
SO 3 H, -OH.

【0056】以下に本発明の化合物の具体例を示すが、
本発明の化合物はこれに限定されるものではない。
Specific examples of the compound of the present invention are shown below.
The compound of the present invention is not limited to this.

【0057】[0057]

【化14】 Embedded image

【0058】[0058]

【化15】 Embedded image

【0059】[0059]

【化16】 Embedded image

【0060】[0060]

【化17】 Embedded image

【0061】[0061]

【化18】 Embedded image

【0062】本発明の現像液において、アスコルビン酸
系現像主薬は、現像液1リットル当たり0.01〜0.
5モル、好ましくは0.05〜0.3モルに相当する量
で用いられる。補助現像主薬であるアミノフェノール誘
導体および親水性基を有する3−ピラゾリドン類の使用
量は、いずれも現像液1リットル当たり0.005〜
0.2モルに相当する量で用いるのが好ましい。
In the developing solution of the present invention, the ascorbic acid-based developing agent is used in an amount of 0.01 to 0.1 per liter of the developing solution.
It is used in an amount corresponding to 5 mol, preferably 0.05 to 0.3 mol. The amount of each of the aminophenol derivative and the 3-pyrazolidone having a hydrophilic group, which are auxiliary developing agents, is 0.005 to 1 liter per developer.
Preferably, it is used in an amount corresponding to 0.2 mol.

【0063】本発明の現像液には、pH調整の目的で、
炭酸塩および/または炭酸水素塩を添加することが好ま
しい。炭酸塩としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
が好ましい。炭酸水素塩としては、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウムが好ましい。炭酸塩は、現像液1
リットル当たり0.5モル以下、特に0.1〜0.5モ
ルに相当する量で用い、炭酸水素塩は、現像液1リット
ル当たり0.1〜1.5モルに相当する量で用いること
が好ましい。本発明の現像液には、炭酸塩および/また
は炭酸水素塩を上記量添加して、pHを9.0〜10.
5の範囲に調整することが、処理ランニングにおける写
真性能の安定性の点で好ましい。
The developer of the present invention contains, for the purpose of pH adjustment,
Preference is given to adding carbonates and / or bicarbonates. As the carbonate, sodium carbonate and potassium carbonate are preferable. As the hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate are preferable. Carbonate is the developer 1
It is used in an amount corresponding to 0.5 mol or less, particularly 0.1 to 0.5 mol per liter, and the bicarbonate is used in an amount corresponding to 0.1 to 1.5 mol per liter of the developing solution. preferable. To the developer of the present invention, a carbonate and / or bicarbonate is added in the above-mentioned amount to adjust the pH to 9.0 to 10.3.
Adjustment within the range of 5 is preferable in terms of stability of photographic performance in processing running.

【0064】本発明の現像液には、上記のアスコルビン
酸系現像主薬、補助現像主薬、炭酸塩、炭酸水素塩の他
に、ハロゲン化銀写真感光材料の現像液に通常用いられ
る添加剤を含有することができる。かかる添加剤として
は、アルカリ剤(水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム)、炭酸塩もしくは炭酸水素塩以外のpHバッファー
剤(例えば、ホウ酸、第3燐酸塩、糖類、オキシム類な
ど)、保恒剤、キレート剤などがある。
The developing solution of the present invention contains, in addition to the above-mentioned ascorbic acid-based developing agent, auxiliary developing agent, carbonate and bicarbonate, additives which are usually used in developing solutions for silver halide photographic light-sensitive materials. can do. Such additives include alkaline agents (sodium hydroxide, potassium hydroxide), pH buffering agents other than carbonates or bicarbonates (eg, boric acid, tertiary phosphates, sugars, oximes, etc.), preservatives And chelating agents.

【0065】保恒剤としては亜硫酸ナトリウム、亜硫酸
カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜
硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデ
ヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩はあまり
に多量添加すると現像液中の銀汚れの原因になるので現
像液1リットル当たり0.01〜0.2モルに相当する
量で用いられるのが好ましい。
The preservatives include sodium sulfite, potassium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite, potassium metabisulfite, formaldehyde sodium bisulfite and the like. If the sulfite is added in an excessively large amount, it causes silver staining in the developing solution. Therefore, it is preferably used in an amount corresponding to 0.01 to 0.2 mol per liter of the developing solution.

【0066】その他の添加剤としては、臭化ナトリウ
ム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコー
ル、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、ジエタノ
ールアミン、トリエタノールアミンなどのアルカノール
アミン、イミダゾールまたはその誘導体などの現像促進
剤、ヘテロ環メルカプト化合物(たとえば3-(5-メルカ
プトテトラゾール-1-イル)ベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾールなど)、
特開昭62−212651号公報に記載の化合物を物理
現像ムラ防止剤として添加することもできる。
Other additives include development inhibitors such as sodium bromide and potassium bromide, organic solvents such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and dimethylformamide, and alkanolamines such as diethanolamine and triethanolamine. , A development accelerator such as imidazole or a derivative thereof, a heterocyclic mercapto compound (eg, sodium 3- (5-mercaptotetrazol-1-yl) benzenesulfonate, 1-phenyl-5-mercaptotetrazole, etc.),
The compounds described in JP-A-62-212651 can also be added as physical development unevenness preventing agents.

【0067】また、メルカプト系化合物、インダゾール
系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダ
ゾール系化合物を、カブリ防止剤または黒ポツ(pepper
fog)防止剤として含んでも良い。具体的には、5-ニト
ロインダゾール、5-p-ニトロベンゾイルアミノインダ
ゾール、1-メチル-5-ニトロインダゾール、6-ニトロイ
ンダゾール、3-メチル-5-ニトロインダゾール、5-ニト
ロベンゾイミダゾール、2-イソプロピル-5-ニトロベン
ゾイミダゾール、5-ニトロベンゾトリアゾール、4-
((2-メルカプト-1、3、4-チアジアゾール-2-イル)チ
オ)ブタンスルホン酸ナトリウム、5-アミノ-1、3、4-
チアジアゾール-2-チオール、メチルベンゾトリアゾー
ル、5-メチルベンゾトリアゾール、2-メルカプトベンゾ
トリアゾールなどを挙げることができる。これらの添加
剤の量は、通常現像液1リットルあたり0.01〜10ミリモ
ルであり、より好ましくは0.1〜2ミリモルである。
Further, a mercapto compound, an indazole compound, a benzotriazole compound, and a benzimidazole compound are added to an antifoggant or black pot (pepper).
fog) may be included as an inhibitor. Specifically, 5-nitroindazole, 5-p-nitrobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-nitroindazole, 6-nitroindazole, 3-methyl-5-nitroindazole, 5-nitrobenzimidazole, Isopropyl-5-nitrobenzimidazole, 5-nitrobenzotriazole, 4-
Sodium ((2-mercapto-1,3,4-thiadiazol-2-yl) thio) butanesulfonate, 5-amino-1,3,4-
Examples thereof include thiadiazole-2-thiol, methylbenzotriazole, 5-methylbenzotriazole, and 2-mercaptobenzotriazole. The amount of these additives is usually 0.01 to 10 mmol, more preferably 0.1 to 2 mmol, per liter of the developer.

【0068】本発明の現像液には各種の有機、無機のキ
レート剤を単独または併用で用いることができる。無機
キレート剤としてはたとえば、テトラポリリン酸ナトリ
ウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用いることが
できる。一方、有機キレート剤としては、主に有機カル
ボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミ
ノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を用いるこ
とができる。有機カルボン酸としてはたとえば、アクリ
ル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グ
ルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエライン酸、
セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカルボン
酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン
酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げることがで
きる。
Various kinds of organic and inorganic chelating agents can be used alone or in combination in the developer of the present invention. As the inorganic chelating agent, for example, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate and the like can be used. On the other hand, as organic chelating agents, mainly organic carboxylic acids, aminopolycarboxylic acids, organic phosphonic acids, aminophosphonic acids and organic phosphonocarboxylic acids can be used. Examples of the organic carboxylic acid include acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, gluconic acid, adipic acid, pimelic acid, acyelinic acid,
Sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, maleic acid, itaconic acid, malic acid, citric acid, tartaric acid and the like can be mentioned.

【0069】アミノポリカルボン酸としてはたとえば、
イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン
酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エ
チレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、
1、2-ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン
五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1、3-ジアミ
ノ-2-プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミ
ン四酢酸、その他特開昭52-25632号公報、同55-67747号
公報、同57-102624号公報、および特公昭53-40900号公
報に記載の化合物を挙げることができる。
Examples of the aminopolycarboxylic acid include, for example,
Iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotripropionic acid, ethylenediaminemonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid,
1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, triethylenetetraminehexaacetic acid, 1,3-diamino-2-propanoltetraacetic acid, glycol ether diaminetetraacetic acid, and other JP-A Nos. 52-25632 and 55- Compounds described in JP-A-67747, JP-A-57-102624, and JP-B-53-40900 can be exemplified.

【0070】有機ホスホン酸としては、たとえば米国特
許3214454明細書、同3794591明細書および西独特許公開
2227369明細書などに記載のヒドロキシアルキリデン−
ジホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー第181
巻,Item 18170(1979年5月号)などに記載の化合物が
挙げられる。アミノホスホン酸としては、たとえばアミ
ノトリス(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテ
トラメチレンホスホン酸、アミノトリメチレンホスホン
酸などが挙げられるが、その他上記リサーチ・ディスク
ロージャー18170、特開昭57-208554号公報、同54-61125
号公報、同55-29883号公報、同56-97347号公報などに記
載の化合物を挙げることができる。
Examples of the organic phosphonic acid include, for example, US Pat. Nos. 3,214,454 and 3,974,591 and West German Patent Publication.
2227369 Hydroxyalkylidene- described in the specification and the like
Diphosphonic acid or Research Disclosure No. 181
Vol., Item 18170 (May 1979). Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, aminotrimethylenephosphonic acid, and the like. In addition, Research Disclosure 18170, JP-A-57-208554, and JP-A-57-208554. -61125
And the compounds described in JP-A-55-29883 and JP-A-56-97347.

【0071】有機ホスホノカルボン酸としては、たとえ
ば特開昭52-102726号公報、同53-42730号公報、同54-12
1127号公報、同55-4024号公報、同55-4025号公報、同55
-126241号公報、同55-65955号公報、同55-65956号公報
および前述のリサーチ・ディスクロージャー18170など
に記載の化合物を挙げることができる。
Examples of the organic phosphonocarboxylic acid include, for example, JP-A Nos. 52-102726, 53-42730, and 54-12.
No. 1127, No. 55-4024, No. 55-4025, No. 55
Compounds described in JP-A-126241, JP-A-55-65955, JP-A-55-65956 and the aforementioned Research Disclosure 18170 can be exemplified.

【0072】これらの有機および/または無機のキレー
ト剤は、前述のものに限定されるものではない。また、
アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良
い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1リ
ットルあたり好ましくは、1x10-4〜1x10-1モル、よ
り好ましくは1x10-3〜1x10-2モルである。
These organic and / or inorganic chelating agents are not limited to those described above. Also,
It may be used in the form of an alkali metal salt or ammonium salt. The addition amount of these chelating agents is preferably 1 × 10 -4 to 1 × 10 -1 mol, more preferably 1 × 10 -3 to 1 × 10 -2 mol per liter of the developer.

【0073】さらに、現像液もしくは固体現像剤に銀汚
れ防止剤として、下記一般式(G)で表される化合物が
好ましく使用される。 一般式(G)
Further, a compound represented by the following general formula (G) is preferably used as a silver stain preventive in a developer or a solid developer. General formula (G)

【0074】[0074]

【化19】 Embedded image

【0075】(一般式(G)中、DおよびEは、同一ま
たは異なって、−CH=で示される基、−CR0=で示
される基、または窒素原子を表し、ここで上記R0は、
置換基を表し、L1、L2およびL3は、同一または異な
って、水素原子、ハロゲン原子、または炭素原子、窒素
原子、酸素原子、硫黄原子、およびリン原子のいずれか
の原子で環に結合する置換基を表す。但し、L1、L2
3およびR0の少なくとも1つは、一SM基(Mはアル
カリ金属原子、水素原子、アンモニウム基)を表す。な
お、EとDのいずれかが窒素原子であり、他方が−CH
=で示される基または−CR0=で示される基であると
きは、Eが窒素原子であり、しかもL2およびL3はヒド
ロキシル基であることはない。)
(In the general formula (G), D and E are the same or different and each represents a group represented by -CH =, a group represented by -CR 0 =, or a nitrogen atom, wherein R 0 is ,
L 1 , L 2 and L 3 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, or any one of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom; Represents a substituent to be bonded. However, L 1 , L 2 ,
At least one of L 3 and R 0 represents one SM group (M is an alkali metal atom, a hydrogen atom, an ammonium group). One of E and D is a nitrogen atom, and the other is -CH
When = is a group or a group represented by -CR 0 = indicated in, E is a nitrogen atom, moreover L 2 and L 3 are not a hydroxyl group. )

【0076】つぎに、一般式(G)の化合物について詳
細に説明する。L1、L2、L3で表される任意の置換基
およびR0で表される置換基としては、具体的には、ハ
ロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、または
沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキ
ル基、活性メチン基などを含む)、アルケニル基、アル
キニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原
子を含むヘテロ環基(たとえばピリジニオ基)、アシル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、ス
ルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スル
ファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリ
ル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル
基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基も
しくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオ
キシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボ
ニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキ
シ基、アミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ
環)アミノ基、ヒドロキシアミノ基,N−置換の飽和も
しくは不飽和の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、ス
ルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド
基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニル
アミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド
基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアン
モニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくは
アリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、
アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト
基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)チオ基、
(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキル
またはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその
塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スル
ホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドも
しくはリン酸エステル構造を含む基、などがあげられ
る。これらの置換基は、さらに上記の置換基で置換され
ていてもよい。なお、Eが窒素原子で、Dが−CH=も
しくは−CR0=で示される基であるとき、L2およびL
3がヒドロキシ基であることはない。
Next, the compound represented by formula (G) will be described in detail. Specific examples of the substituent represented by L 1 , L 2 , L 3 and the substituent represented by R 0 include a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom), Alkyl groups (including aralkyl groups, cycloalkyl groups, active methine groups, etc.), alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, heterocyclic groups, heterocyclic groups containing quaternized nitrogen atoms (eg, pyridinio groups), acyl Group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or a salt thereof, sulfonylcarbamoyl group, acylcarbamoyl group, sulfamoylcarbamoyl group, carbazoyl group, oxalyl group, oxamoyl group, cyano group, thiocarbamoyl group, Hydroxy group, alkoxy group (repeating ethyleneoxy or propyleneoxy unit) Repeating groups), aryloxy groups, heterocyclic oxy groups, acyloxy groups, (alkoxy or aryloxy) carbonyloxy groups, carbamoyloxy groups, sulfonyloxy groups, amino groups, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino Group, hydroxyamino group, N-substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, imide group, (alkoxy or aryloxy) carbonylamino group, sulfamoyl An amino group, a semicarbazide group, a thiosemicarbazide group, a hydrazino group, a quaternary ammonium group, an oxamoylamino group, an (alkyl or aryl) sulfonyluureido group, an acylureido group,
Acylsulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl, aryl or heterocycle) thio group,
(Alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group or salt thereof, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, sulfonylsulfamoyl group or salt thereof, including phosphoric acid amide or phosphate ester structure Groups, and the like. These substituents may be further substituted with the above substituents. When E is a nitrogen atom and D is a group represented by -CH = or -CR 0 =, L 2 and L 2
3 is not a hydroxy group.

【0077】L1、L2、L3で表される任意の置換基お
よびR0で表される置換基としてより好ましくは、炭素
数0〜15の置換基で、クロル原子、アルキル基、アリ
ール基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、シア
ノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ
基、アミノ基、(アルキル、アリールまたはへテロ環)
アミノ基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしく
は不飽和の含窒素へテロ環基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモ
イルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル、
アリール、またはへテロ環)チオ基、スルホ基またはそ
の塩、スルファモイル基であり、さらに好ましくは、ア
ルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、カルポキシ基またはその塩、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミ
ノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ環)アミノ
基、ヒドロキシアミノ基、N−置換の飽和もしくは不飽
和の含窒素へテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルア
ミノ基、メルカプト基、(アルキル、アリール、または
ヘテロ環)チオ基、スルホ基またはその塩であり、最も
好ましくはアミノ基、アルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、アルキルチオ基、アルールチオ基、メルカ
プト基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはそ
の塩である。一般式(G)に於いてL1、L2、L3およ
びR0は、互いに結合して炭化水素環、ヘテロ環、芳香
環が縮合した縮合環を形成していてもよい。
The substituents represented by L 1 , L 2 and L 3 and the substituents represented by R 0 are more preferably a substituent having 0 to 15 carbon atoms, such as a chloro atom, an alkyl group or an aryl group. Group, heterocyclic group, acyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, cyano group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or hetero ring)
Amino group, hydroxyamino group, N-substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, nitro group, mercapto group, (alkyl ,
Aryl or heterocyclic) thio group, sulfo group or salt thereof, and sulfamoyl group, more preferably alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, carboxy group or salt thereof, alkoxy group , Aryloxy group, acyloxy group, amino group, (alkyl, aryl or heterocycle) amino group, hydroxyamino group, N-substituted saturated or unsaturated nitrogen-containing heterocyclic group, acylamino group, sulfonamide group, ureido Group, thioureido group, sulfamoylamino group, mercapto group, (alkyl, aryl or heterocycle) thio group, sulfo group or a salt thereof, and most preferably amino group, alkyl group, aryl group, alkoxy group, aryl Oxy group, alkylamino group, arylamino group, alkyl Thio, a Aruruchio group, a mercapto group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof. In the general formula (G), L 1 , L 2 , L 3 and R 0 may combine with each other to form a condensed ring in which a hydrocarbon ring, a hetero ring or an aromatic ring is condensed.

【0078】一般式(G)に於いてMはアルカリ金属原
子、水素原子、アンモニウム基を表す。ここにアルカリ
金属原子とは具体的に、Na,K,Li,Mg,Caな
どであり、これらは−S-の対カチオンとして存在す
る。Mとして好ましくは、水素原子、アンモニウム基、
Na+、またはK+であり、特に好ましくは水素原子であ
る。一般式(G)の化合物のうち、次の一般式(G
A)、(GB)で表される化合物が好ましい。
In the general formula (G), M represents an alkali metal atom, a hydrogen atom, or an ammonium group. Here specifically the alkali metal atom, Na, and a K, Li, Mg, Ca, etc., -S - present as a counter cation. M is preferably a hydrogen atom, an ammonium group,
Na + or K + , particularly preferably a hydrogen atom. Among the compounds of the general formula (G), the following general formula (G
Compounds represented by A) and (GB) are preferred.

【0079】[0079]

【化20】 Embedded image

【0080】つぎに一般式(GA)について詳細に説明
する。R1〜R4は水素原子、ハロゲン原子、または炭素
原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、りん原子で環に
結合する任意の置換基を表すが、これは一般式(G)の
1、L2、L3と同義の基であり、その好ましい範囲も
また同じである。但し、R1およびR3がヒドロキシ基を
表すことはない。R1〜R4は、同じでも異なっていても
よいが、これらのうち少なくとも一つは−SM基であ
る。Mは水素原子、アルカリ金属原子、アンモニウム基
を表す。
Next, the general formula (GA) will be described in detail. R 1 to R 4 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an arbitrary substituent bonded to the ring by a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom, which is represented by L 1 in the general formula (G). , L 2 and L 3 are the same as defined above, and the preferred range is also the same. However, R 1 and R 3 do not represent a hydroxy group. R 1 to R 4 may be the same or different, but at least one of them is a —SM group. M represents a hydrogen atom, an alkali metal atom, or an ammonium group.

【0081】一般式(GA)に於いてR1〜R4の少なく
とも1つは−SM基であるが、より好ましくはR1〜R4
の少なくとも2つが−SM基である。R1〜R4の少なく
とも2つが−SM基である場合、好ましくはR4とR1
もしくはR4とR3が−SM基である。
In the general formula (GA), at least one of R 1 to R 4 is a —SM group, and more preferably, R 1 to R 4
At least two are -SM groups. When at least two of R 1 to R 4 are a —SM group, preferably R 4 and R 1 ,
Or R 4 and R 3 is an -SM group.

【0082】本発明においては、一般式(GA)で表さ
れる化合物のうち、下記一般式(GA−1)〜(GA−
3)で表される化合物が特に好ましい。
In the present invention, among the compounds represented by the general formula (GA), the following general formulas (GA-1) to (GA-
The compound represented by 3) is particularly preferred.

【0083】[0083]

【化21】 Embedded image

【0084】一般式(GA−1)において、R10はメル
カプト基、水素原子、または任意の置換基を表し、Xは
水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基をあらわ
す。一般式(GA−2)においてY1は水溶性基もしく
は水溶性基で置換された置換基を表し、R20は水素原子
または任意の置換基を表す。一般式(GA−3)におい
てY2は水溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基
を表し、R30は水素原子または任意の置換基を表す。但
し、R10およびY1がヒドロキシ基を表すことはない。
In the general formula (GA-1), R 10 represents a mercapto group, a hydrogen atom, or an arbitrary substituent, and X represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group. In Formula (GA-2), Y 1 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 20 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. In Formula (GA-3), Y 2 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 30 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. However, R 10 and Y 1 do not represent a hydroxy group.

【0085】つぎに、一般式(GA−1)〜(GA−
3)で表される化合物について詳しく説明する。一般式
(GA−1)において、R10はメルカプト基、水素原子
または任意の置換基をあらわす。ここで任意の置換基と
は、一般式(GA)のR1〜R4について説明したものと
同じものがあげられる。R10として好ましくは、メルカ
プト基、水素原子、または炭素数0〜15の以下の置換
基から選ばれる基である。すなわち、アミノ基、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基
などがあげられる。一般式(GA−1)においてXは水
溶性基もしくは水溶性基で置換された置換基をあらわ
す。ここに水溶性基とはスルホン酸もしくはカルボン酸
およびそれらの塩、アンモニオ基のような塩、またはア
ルカリ性の現像液によって一部もしくは完全に解離しう
る解離性基を含む基のことで、具体的にはスルホ基(ま
たはその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スル
ホンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルス
ルファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含
む置換基を表す。なお本発明において活性メチン基と
は、2つの電子吸引性基で置換されたメチル基のこと
で、具体的にはジシアノメチル、α−シアノ−α−エト
キシカルボニルメチル、α−アセチル−α−エトキシカ
ルボニルメチルなどの基があげられる。一般式(GA−
1)のXで表される置換基とは、上述した水溶性基また
は上述の水溶性基で置換された置換基であり、その置換
基としては、炭素数0〜15の置換基で、アルキル基、
アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルキ
ル、アリールまたはへテロ環)アミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、
イミド基、スルファモイルアミノ基、(アルキル、アリ
ールまたはへテロ環)チオ基、(アルキル、アリール)
スルホニル基、スルファモイル基、アミノ基などがあげ
られ、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基(特にア
ミノ基で置換されたメチル基)、アリール基、アリール
オキシ基、アミノ基、(アルキル、アリール、またはヘ
テロ環)アミノ基、(アルキル、アリールまたはヘテロ
環)チオ基などの基である。
Next, the general formulas (GA-1) to (GA-
The compound represented by 3) will be described in detail. In General Formula (GA-1), R 10 represents a mercapto group, a hydrogen atom, or an arbitrary substituent. Here, the optional substituents are the same as those described for R 1 to R 4 in the general formula (GA). R 10 is preferably a mercapto group, a hydrogen atom, or a group selected from the following substituents having 0 to 15 carbon atoms. That is, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group,
Acylamino group, sulfonamide group, alkylthio group,
An arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group and the like can be mentioned. In the general formula (GA-1), X represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group. Here, the water-soluble group is a sulfonic acid or a carboxylic acid and a salt thereof, a salt such as an ammonio group, or a group containing a dissociable group which can be partially or completely dissociated by an alkaline developer. Include a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, a mercapto group, an amino group, an ammonium group, a sulfonamide group, an acylsulfamoyl group, a sulfonylsulfamoyl group, an active methine group, Or a substituent containing these groups. In the present invention, the active methine group refers to a methyl group substituted with two electron-withdrawing groups, and specifically, dicyanomethyl, α-cyano-α-ethoxycarbonylmethyl, α-acetyl-α-ethoxy And groups such as carbonylmethyl. General formula (GA-
The substituent represented by X in 1) is the above-mentioned water-soluble group or a substituent substituted with the above-mentioned water-soluble group, and the substituent is a substituent having 0 to 15 carbon atoms, Group,
Aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group, (alkyl, aryl or heterocyclic) amino group, acylamino group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group,
Imide group, sulfamoylamino group, (alkyl, aryl or hetero ring) thio group, (alkyl, aryl)
Examples thereof include a sulfonyl group, a sulfamoyl group, and an amino group, preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (particularly, a methyl group substituted with an amino group), an aryl group, an aryloxy group, an amino group, (alkyl, aryl, Or a heterocycle) amino group or an (alkyl, aryl or heterocycle) thio group.

【0086】一般式(GA−1)で表される化合物の中
で、さらに好ましいものは下記一般式(GA−1−a)
で表される化合物である。
Among the compounds represented by the general formula (GA-1), more preferred compounds are those represented by the following general formula (GA-1-a)
It is a compound represented by these.

【0087】[0087]

【化22】 Embedded image

【0088】式中R11は一般式(GA−1)のR10と同
義であり、好ましい範囲も同じである。R12、R13はそ
れぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子、アルキ
ル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、
12およびR13の少なくとも一方は、少なくとも1つの
水溶性基を有する。ここに水溶性基とは、スルホ基(ま
たはその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロ
キシ基、メルカプト基、アミノ基、アンモニオ基、スル
ホンアミド基、アシルスルファモイル基、スルホニルス
ルファモイル基、活性メチン基、またはこれらの基を含
む置換基を表し、好ましくはスルホ基(またはその
塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、
アミノ基などの基があげられる。R12およびR13は、好
ましくはアルキル基またはアリール基であり、R12およ
びR13がアルキル基であるとき、アルキル基としては炭
素数1〜4の置換もしくは無置換のアルキル基が好まし
く、その置換基としては水溶性基、特にスルホ基(また
はその塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキ
シ基、またはアミノ基が好ましい。R12およびR13がア
リール基であるとき、アリール基としては炭素数が6〜
10の置換もしくは無置換のフェニル基が好ましく、そ
の置換基としては水溶性基、特にスルホ基(またはその
塩)、カルボキシ基(またはその塩)、ヒドロキシ基、
またはアミノ基が好ましい。R12およびR13がアルキル
基またはアリール基を表すとき、これらは互いに結合し
て環状構造を形成していてもよい。また環状構造により
飽和のへテロ環を形成してもよい。
In the formula, R 11 has the same meaning as R 10 in formula (GA-1), and the preferred range is also the same. R 12 and R 13 may be the same or different and each represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group. However,
At least one of R 12 and R 13 has at least one water-soluble group. Here, the water-soluble group includes a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, a mercapto group, an amino group, an ammonium group, a sulfonamide group, an acylsulfamoyl group, and a sulfonylsulfamoyl group. Group, active methine group, or a substituent containing these groups, preferably a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group,
And groups such as amino groups. R 12 and R 13 are preferably an alkyl group or an aryl group. When R 12 and R 13 are an alkyl group, the alkyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. As the substituent, a water-soluble group, particularly a sulfo group (or a salt thereof), a carboxy group (or a salt thereof), a hydroxy group, or an amino group is preferable. When R 12 and R 13 are an aryl group, the aryl group has from 6 to 6 carbon atoms.
Preferred are 10 substituted or unsubstituted phenyl groups, which are water-soluble groups, particularly sulfo groups (or salts thereof), carboxy groups (or salts thereof), hydroxy groups,
Or an amino group is preferred. When R 12 and R 13 represent an alkyl group or an aryl group, they may combine with each other to form a cyclic structure. Further, a saturated hetero ring may be formed by a cyclic structure.

【0089】一般式(GA−2)においてY1は水溶性
基もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、一般式
(GA−1)のXと同義である。一般式(GA−2)に
おいてY1で表される水溶性基もしくは水溶性基で置換
された置換基としてさらに好ましくは、活性メチン基、
または水溶性基で置換された以下の基、即ちアミノ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、アルキル基、アリール基である。Y1
してさらに好ましくは、活性メチン基、または水溶性基
で置換された(アルキル、アリール、もしくはヘテロ
環)アミノ基であり、ここに水溶性基としてはヒドロキ
シ基、カルボキシ基またはその塩、スルホ基またはその
塩が特に好ましい。Y1として特に好ましくは、ヒドロ
キシ基、カルボキシ基(またはその塩)、またはスルホ
基(またはその塩)で置換された(アルキル、アリー
ル、もしくはヘテロ環)アミノ基であり、−N(R01
(R02)基で表される。ここにR01、R02は、それぞれ
一般式(GA−1−a)のR12、R13と同義の基であ
り、その好ましい範囲もまた同じである。
In formula (GA-2), Y 1 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and has the same meaning as X in formula (GA-1). In the general formula (GA-2), the water-soluble group represented by Y 1 or a substituent substituted by a water-soluble group is more preferably an active methine group,
Or the following groups substituted with a water-soluble group, namely, an amino group,
An alkoxy group, an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkyl group, and an aryl group. More preferably, Y 1 is an active methine group or an amino group substituted with a water-soluble group (alkyl, aryl, or heterocycle), wherein the water-soluble group is a hydroxy group, a carboxy group or a salt thereof, or a sulfo group. Groups or salts thereof are particularly preferred. Particularly preferred as Y 1 is a (alkyl, aryl, or heterocyclic) amino group substituted with a hydroxy group, a carboxy group (or a salt thereof), or a sulfo group (or a salt thereof), and —N (R 01 )
(R 02 ). Here, R 01 and R 02 are groups having the same meanings as R 12 and R 13 in formula (GA-1-a), respectively, and the preferred ranges are also the same.

【0090】一般式(GA−2)においてR20は水素原
子または任意の置換基をあらわすが、ここで任意の置換
基とは、一般式(GA)のR1〜R4について説明したも
のと同じものがあげられる。R20として好ましくは、水
素原子または炭素数0〜15の以下の置換基から選ばれ
る基である。すなわち、ヒドロキシ基、アミノ基、アル
キル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミ
ノ基、ヒドロキシルアミノ基などがあげられる。R20
して最も好ましくは水素原子である。
In the general formula (GA-2), R 20 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent, and the optional substituent is the same as those described for R 1 to R 4 in the general formula (GA). The same is given. R 20 is preferably a hydrogen atom or a group selected from the following substituents having 0 to 15 carbon atoms. That is, examples include a hydroxy group, an amino group, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acylamino group, a sulfonamide group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylamino group, an arylamino group, and a hydroxylamino group. Most preferably, R 20 is a hydrogen atom.

【0091】一般式(GA−3)においてY2は水溶性
基もしくは水溶性基で置換された置換基を表し、R30
水素原子または任意の置換基をあらわす。一般式(GA
−3)におけるY2、R30はそれぞれ一般式(GA−
2)のY1、一般式(GA−2)のR20と同義の基であ
り、その好ましい範囲もまた同じである。
In formula (GA-3), Y 2 represents a water-soluble group or a substituent substituted with a water-soluble group, and R 30 represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent. General formula (GA
-3), Y 2 and R 30 are each represented by the general formula (GA-
Y 1 of 2), an R 20 group having the same meaning as in formula (GA-2), the preferred range thereof is also the same.

【0092】つぎに、一般式(GB)について詳細に説
明する。一般式(GB)におけるR5〜R7は、一般式
(GA)のR1〜R4と同義であり、その好ましい範囲も
同じである。一般式(GB)で表される化合物のうち一
般式(GB−1)で表される化合物が特に好ましい。
Next, the general formula (GB) will be described in detail. R 5 to R 7 in the general formula (GB) have the same meanings as R 1 to R 4 in the general formula (GA), and their preferred ranges are also the same. Among the compounds represented by the general formula (GB), the compound represented by the general formula (GB-1) is particularly preferable.

【0093】[0093]

【化23】 Embedded image

【0094】[0094]

【化24】 Embedded image

【0095】一般式(GB−1)において、R50は一般
式(B)のR5〜R7と同義であり、より好ましくは一般
式(GA−1)〜(GA−3)のX、Y1、Y2と同義の
親水性基もしくは親水性基で置換された基である。さら
に、一般式(GB−1)の化合物のうち最も好ましくは
一般式(GB−1−a)で表される化合物である。
In the general formula (GB-1), R 50 has the same meaning as R 5 to R 7 in the general formula (B), and more preferably X or R in the general formulas (GA-1) to (GA-3). A hydrophilic group as defined for Y 1 and Y 2 or a group substituted with a hydrophilic group. Further, among the compounds of the general formula (GB-1), the compound represented by the general formula (GB-1-a) is most preferred.

【0096】[0096]

【化25】 Embedded image

【0097】一般式(GB−1−a)においてR51、R
52は一般式(GA−1−a)のR12、R13と同義の基で
あり、その好ましい範囲もまた同じである。
In the general formula (GB-1-a), R 51 and R
52 is a group having the same meaning as R 12 and R 13 in formula (GA-1-a), and the preferred range is also the same.

【0098】以下に、本発明の一般式(G)で表される
化合物の具体例を挙げるが、言うまでもなく本発明はこ
れらに限定されるものではない。
The following are specific examples of the compound represented by formula (G) of the present invention, but needless to say, the present invention is not limited thereto.

【0099】[0099]

【化26】 Embedded image

【0100】[0100]

【化27】 Embedded image

【0101】[0101]

【化28】 Embedded image

【0102】[0102]

【化29】 Embedded image

【0103】一般式(G)の化合物の添加量は、使用液
1Lにつき0.01〜10ミリモル、好ましくは0.1
〜5ミリモルである。
The amount of the compound represented by the general formula (G) is 0.01 to 10 mmol, preferably 0.1 to 1 mmol per 1 L of the working solution.
55 mmol.

【0104】本発明は上記の必須成分やその他の添加剤
を含む固形現像剤も包含する。本発明における固形現像
剤の形態は、粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コンパ
クター、ブリケット、板状、棒状、ペースト状などのい
ずれでもよい。これらの固形剤は、接触して互いに反応
する成分を分離するために、水溶性のコーティング剤や
フィルムで被覆しても良いし、複数の層構成にして互い
に反応する成分を分離しても良く、これらを併用しても
良い。
The present invention also includes a solid developer containing the above essential components and other additives. The form of the solid developer in the present invention may be any of powder, granule, granule, lump, tablet, compactor, briquette, plate, rod, paste and the like. These solid agents may be coated with a water-soluble coating agent or film to separate components that react with each other upon contact, or may separate components that react with each other in a multilayer structure. These may be used in combination.

【0105】被覆剤、造粒助剤には公知のものが使用で
きるが、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコー
ル、ポリスチレンスルホン酸、ビニル系化合物が好まし
い。この他、特開平5-45805号公報カラム2の48行〜カラ
ム3の13行目の記載が参考にできる。
Known coating agents and granulating assistants can be used, but polyvinylpyrrolidone, polyethylene glycol, polystyrenesulfonic acid, and vinyl compounds are preferred. In addition, the description of JP-A-5-45805, column 2, line 48 to column 3, line 13 can be referred to.

【0106】複数の層構成にする場合は、接触しても反
応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成
にして錠剤やブリケットなどに加工しても良いし、公知
の形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。こ
れらの方法は、たとえば特開昭61-259921号公報、同4-1
6841号公報、同4-78848号公報、同5-93991号公報などに
示されている。
In the case of forming a plurality of layers, components that do not react even if they come into contact with each other may be sandwiched between components that react with each other, and processed into tablets or briquettes. It may be packaged in a similar layer configuration. These methods are described in, for example, JP-A-61-259921,
These are disclosed in JP-A-6841, JP-A-4-78848, and JP-A-5-93991.

【0107】固形現像剤の嵩密度は、0.5〜6.0g/cm
3が好ましく、特に錠剤は1.0〜5.0g/cm3が好まし
く、顆粒は0.5〜1.5g/cm3が好ましい。
The bulk density of the solid developer is 0.5 to 6.0 g / cm
3 are preferred, particularly tablets preferably 1.0 to 5.0 g / cm 3, the granules is preferably 0.5 to 1.5 g / cm 3.

【0108】本発明における固形現像剤の製法は、公知
のいずれの方法を用いることができる。たとえば、特開
昭61-259921号公報、特開平4-15641号公報、特開平4-16
841号公報、同4-32837号公報、同4-78848号公報、同5-9
3991号公報、特開平4-85533号公報、同4-85534号公報、
同4-85535号公報、同5-134362号公報、同5-197070号公
報、同5-204098号公報、同5-224361号公報、同6-138604
号公報、同6-138605号公報、同8-286329号公報などを参
考にすることができる。
As the method for producing the solid developer in the present invention, any known method can be used. For example, JP-A-61-259921, JP-A-4-15641, JP-A-4-16
No. 841, No. 4-32837, No. 4-78848, No. 5-9
No. 3991, JP-A-4-85533, JP-A-4-85534,
No. 4-85535, No. 5-134362, No. 5-197070, No. 5-04098, No. 5-224361, No. 6-138604
JP-A-6-138605 and JP-A-8-286329 can be referred to.

【0109】より具体的には、転動造粒法、押し出し造
粒法、圧縮造粒法、解砕造粒法、撹拌造粒法、スプレー
ドライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラー
コンパクティング法などを用いることができる。
More specifically, tumbling granulation, extrusion granulation, compression granulation, crushing granulation, stirring granulation, spray drying, melt coagulation, briquetting, roller A compacting method or the like can be used.

【0110】本発明における固形現像剤は、表面状態
(平滑、多孔質など)や部分的に厚みを変えたり、中空
状のドーナツ型にしたりして溶解性を調節することもで
きる。さらに、複数の造粒物に異なった溶解性を与えた
り、溶解性の異なる素材の溶解度を合わせるために、複
数の形状をとることも可能である。また、表面と内部で
組成の異なる多層の造粒物でも良い。
The solubility of the solid developer in the present invention can be adjusted by changing the surface state (smooth, porous, etc.) or partly the thickness, or forming a hollow donut. Further, a plurality of granules can be formed in a plurality of shapes in order to impart different solubilities to the plurality of granules or match the solubilities of materials having different solubilities. Also, multilayer granulated materials having different compositions on the surface and inside may be used.

【0111】固形現像剤の包材は、酸素および水分透過
性の低い材質が好ましく、包材の形状は袋状、筒状、箱
状などの公知のものが使用できる。また、特開平6-2425
85号公報ないし同6-242588号公報、同6-247432号公報、
同6-247448号公報、同7-5664号公報、同7-5666号公報な
いし同7-5669号公報に開示されているような折り畳み可
能な形状にすることも、廃包材の保管スペース削減のた
めには好ましい。これらの包材は、現像剤の取り出し口
にスクリューキャップや、プルトップ、アルミシールを
つけたり、包材をヒートシールしてもよいが、このほか
の公知のものを使用しても良く、特に限定はしない。さ
らに環境保全上、廃包材をリサイクルまたはリユースす
ることが好ましい。
The packaging material for the solid developer is preferably a material having low oxygen and moisture permeability, and the packaging material may be a known one such as a bag, a tube, or a box. Also, JP-A-6-2425
No. 85 to No. 6-242588, No. 6-247432,
No. 6-247448, No. 7-5664, No. 7-5666 or No. 7-5669. Is preferred for For these packaging materials, a screw cap, a pull-top, or an aluminum seal may be attached to the developer outlet, or the packaging material may be heat-sealed, but other known materials may be used. do not do. Further, in terms of environmental conservation, it is preferable to recycle or reuse the waste packaging material.

【0112】固形現像剤の溶解および補充の方法として
は特に限定はなく、公知の方法を使用することができ
る。これらの方法としてはたとえば、撹拌機能を有する
溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、溶解部分と完
成液をストックする部分とを有する溶解装置で溶解し、
ストック部から補充する方法、特開平5-119454号公報、
同6-19102号公報、同7-261357号公報に記載されている
ような自動現像機の循環系に処理剤を投入して溶解・補
充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で感光材料の
処理に応じて処理剤を投入し溶解する方法などがある
が、このほかの公知のいずれの方法を用いることもでき
る。また処理剤の投入は、人手で行っても良いし、開封
機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開封、自動投
入してもよく、作業環境の点からは後者が好ましい。具
体的には取り出し口を突き破る方法、はがす方法、切り
取る方法、押し切る方法や、特開平6-19102号公報、同6
-95331号公報に記載の方法などがある。なお、上記の固
体現像剤の形態、製造方法、包装材、溶解補充方法など
は、固体定着剤およびこれを用いて定着液を調製する場
合にも参考にできる。
The method for dissolving and replenishing the solid developer is not particularly limited, and a known method can be used. As these methods, for example, a method of dissolving and replenishing a fixed amount with a dissolving device having a stirring function, dissolving with a dissolving device having a dissolving portion and a portion for storing a completed solution,
How to replenish from the stock department, JP-A-5-119454,
No. 6-19102, No. 7-261357 A method of introducing and dissolving and replenishing a processing agent into a circulating system of an automatic developing machine as described in JP-A-7-261357, a photosensitive material in an automatic developing machine with a built-in dissolution tank. There is a method of adding and dissolving the treating agent in accordance with the above treatment, but any other known method can be used. The treatment agent may be charged manually, or may be automatically opened and supplied automatically by a dissolving device or an automatic developing machine having an opening mechanism. The latter is preferred from the viewpoint of working environment. Specifically, a method of piercing the outlet, a peeling method, a cutting method, a pushing method, and a method disclosed in JP-A-6-19102,
-95331, and the like. The above-described form of the solid developer, the production method, the packaging material, the dissolution replenishment method, and the like can be referred to when a solid fixing agent and a fixing solution are prepared using the same.

【0113】現像液の補充量は、感光材料1m2につき
300ミリリットル以下であり、30〜250ミリリッ
トルが好ましい。現像補充液は、現像開始液と同一の組
成および/または濃度を有していても良いし、開始液と
異なる組成および/または濃度を有していても良い。
The replenishing amount of the developing solution is 300 ml or less, preferably 30 to 250 ml, per 1 m 2 of the light-sensitive material. The development replenisher may have the same composition and / or concentration as the development start solution, or may have a different composition and / or concentration than the start solution.

【0114】現像が終了したハロゲン化銀写真感光材料
は、次いで定着処理、水洗ないしは安定化処理され、乾
燥される。定着液の定着剤としては、チオ硫酸アンモニ
ウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウムアンモ
ニウムが使用できる。定着剤の使用量は適宜かえること
ができるが、一般には約0.7〜約3.0モル/リットルであ
る。
After completion of the development, the silver halide photographic light-sensitive material is subjected to a fixing treatment, a washing or stabilizing treatment, and dried. As a fixing agent for the fixing solution, ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate, and sodium ammonium thiosulfate can be used. The amount of the fixing agent to be used can be varied as appropriate, but is generally from about 0.7 to about 3.0 mol / l.

【0115】定着液は、硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んでも良く、水溶性
アルミニウム塩が好ましい。それにはたとえば塩化アル
ミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬、硫酸アルミニ
ウムアンモニウム、硝酸アルミニウム、乳酸アルミニウ
ムなどがある。これらは使用液におけるアルミニウムイ
オン濃度として、0.01〜0.15モル/リットルで含まれる
ことが好ましい。なお、定着液を濃縮液または固形剤と
して保存する場合、硬膜剤などを別パートとした複数の
パーツで構成しても良いし、すべての成分を含む一剤型
の構成としても良い。
The fixing solution may contain a water-soluble aluminum salt or a water-soluble chromium salt acting as a hardener, and a water-soluble aluminum salt is preferred. Examples thereof include aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum, aluminum ammonium sulfate, aluminum nitrate, and aluminum lactate. These are preferably contained at 0.01 to 0.15 mol / l as the aluminum ion concentration in the working solution. When the fixing solution is stored as a concentrated solution or a solid agent, the fixing solution may be composed of a plurality of parts including a hardening agent or the like as a separate part, or may be a one-part composition including all components.

【0116】定着液には所望により保恒剤(たとえば亜
硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.015モル
/リットル以上、好ましくは0.02モル/リットル〜0.3
モル/リットル)、pH緩衝剤(たとえば酢酸、酢酸ナ
トリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン
酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1モル/リットル〜1
モル/リットル、好ましくは0.2モル/リットル〜0.7モ
ル/リットル)、アルミニウム安定化能や硬水軟化能の
ある化合物(たとえばグルコン酸、イミノジ酢酸、5-ス
ルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、リンゴ酸、酒石
酸、クエン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、
安息香酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビン酸、グ
ルタル酸、アスパラギン酸、グリシン、システイン、エ
チレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸やこれらの誘導
体およびこれらの塩、糖類、ほう酸などを0.001モル/
リットル〜0.5モル/リットル、好ましくは0.005モル/
リットル〜0.3モル/リットル)を含むことができる。
The fixing solution may contain a preservative (for example, a sulfite, a bisulfite, a metabisulfite, or the like) in an amount of 0.015 mol / L or more, preferably 0.02 mol / L to 0.3%.
Mol / l), pH buffer (eg, acetic acid, sodium acetate, sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate, phosphoric acid, succinic acid, adipic acid, etc.) in an amount of 0.1 mol / l to 1
Mol / l, preferably 0.2 mol / l to 0.7 mol / l), compounds having an aluminum stabilizing ability or a water softening ability (for example, gluconic acid, iminodiacetic acid, 5-sulfosalicylic acid, glucoheptanoic acid, malic acid, tartaric acid, Citric acid, oxalic acid, maleic acid, glycolic acid,
Benzoic acid, salicylic acid, tyrone, ascorbic acid, glutaric acid, aspartic acid, glycine, cysteine, ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid and their derivatives and their salts, sugars, boric acid, etc. 0.001 mol /
Liter to 0.5 mol / liter, preferably 0.005 mol / liter
Liter to 0.3 mole / liter).

【0117】このほか、特開昭62-78551号公報に記載の
化合物、pH調整剤(たとえば水酸化ナトリウム、アンモ
ニア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進剤な
ども含むことができる。界面活性剤としては、たとえば
硫酸化物スルフォン酸化物などのアニオン界面活性剤、
ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57-6840号公報記載
の両性界面活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用する
こともできる。湿潤剤としては、アルカノールアミン、
アルキレングリコールなどがある。定着促進剤として
は、特開平6-308681号公報に記載のアルキルおよびアリ
ル置換されたチオスルホン酸およびその塩や、特公昭45
-35754号公報、同58-122535号公報、同58-122536号公報
記載のチオ尿素誘導体、分子内に3重結合を有するアル
コール、米国特許4126459明細書記載のチオエーテル化
合物、特開昭64-4739号公報、特開平1-4739号公報、同1
-159645号公報および同3-101728号公報に記載のメルカ
プト化合物、同4-170539号公報に記載のメソイオン化合
物、チオシアン酸塩を含むことができる。
In addition, compounds described in JP-A-62-78551, pH adjusters (eg, sodium hydroxide, ammonia, sulfuric acid, etc.), surfactants, wetting agents, fixing accelerators and the like can also be contained. . Examples of the surfactant include an anionic surfactant such as a sulfated sulfone oxide.
Examples include polyethylene surfactants and amphoteric surfactants described in JP-A-57-6840, and known antifoaming agents can also be used. As the wetting agent, alkanolamine,
Examples include alkylene glycol. Examples of the fixing accelerator include alkyl- and allyl-substituted thiosulfonic acids and salts thereof described in JP-A-6-308681,
-35754, 58-122535, thiourea derivatives described in 58-122536, alcohols having a triple bond in the molecule, thioether compounds described in U.S. Patent 4,216,459, JP-A-64-4739 JP, JP-A 1-44739, Id.
And mercapto compounds described in JP-A-159645 and JP-A-3-110728, mesoionic compounds described in JP-A-4-170539, and thiocyanate.

【0118】本発明における定着液のpHは、4.0以
上、好ましくは4.5〜6.0を有する。定着液は処理により
現像液が混入してpHが上昇するが、この場合、硬膜定
着液では6.0以下好ましくは5.7以下であり、無硬膜定着
液においては7.0以下好ましくは6.7以下である。
The fixing solution of the present invention has a pH of 4.0 or more, preferably 4.5 to 6.0. The pH of the fixer is increased by mixing with the developer due to the treatment. In this case, the pH is 6.0 or less, preferably 5.7 or less for the hardened fixer, and 7.0 or less, preferably 6.7 or less for the non-hardened fixer.

【0119】定着液の補充量は、感光材料1m2につき50
0ミリリットル以下であり、390ミリリットル以下が好ま
しく、320〜60ミリリットルがより好ましい。補充液
は、開始液と同一の組成および/または濃度を有してい
ても良いし、開始液と異なる組成および/または濃度を
有していても良い。
The replenishment rate of the fixing solution is 50 per m 2 of the photosensitive material.
0 ml or less, preferably 390 ml or less, more preferably 320 to 60 ml. The replenisher may have the same composition and / or concentration as the starting solution, or may have a different composition and / or concentration than the starting solution.

【0120】定着液は電解銀回収などの公知の定着液再
生方法により再生使用することができる。再生装置とし
ては、たとえばフジハント社製Reclaim R-60などがあ
る。また、活性炭などの吸着フィルターを使用して、色
素などを除去することも好ましい。
The fixer can be recycled by a known fixer regenerating method such as recovery of electrolytic silver. As a reproducing apparatus, for example, there is a Reclaim R-60 manufactured by Fuji Hunt. It is also preferable to remove dyes and the like by using an adsorption filter made of activated carbon or the like.

【0121】本発明における現像および定着処理剤が液
剤の場合、たとえば特開昭61-73147号公報に記載された
ような、酸素透過性の低い包材で保管する事が好まし
い。さらにこれらの液が濃縮液の場合、所定の濃度にな
るように、濃縮液1部に対して水0.2〜3部の割合で希釈
して使用される。
When the developing and fixing agent in the present invention is a liquid agent, it is preferable to store it in a packaging material having low oxygen permeability as described in, for example, JP-A-61-73147. Further, when these liquids are concentrated liquids, they are used after being diluted at a ratio of 0.2 to 3 parts of water to 1 part of the concentrated liquid so as to have a predetermined concentration.

【0122】現像、定着処理が済んだ感光材料は、つい
で水洗または安定化処理される(以下特に断らない限
り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する
液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水
は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液で
もよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1m2
たり約17リットル〜約8リットルであるが、それ以下の
補充量で行うこともできる。特に3リットル以下の補充
量(0も含む。すなわち、ため水水洗)では、節水処理
が可能となるのみならず、自動現像機設置の配管を不要
とすることもできる。水洗を低補充量で行う場合は、特
開昭63-18350、同62-287252などに記載のスクイズロー
ラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けることが
より好ましい。また、少量水洗時に問題となる公害負荷
低減や、水垢防止のために種々の酸化剤(たとえばオゾ
ン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハロゲ
ン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩など)添
加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
The photosensitive material which has been subjected to the development and fixing processing is then washed or stabilized (hereinafter, unless otherwise specified, this is referred to as washing including the stabilization processing, and the liquid used for these is water or washing water. .) Water used for washing may be tap water, ion-exchanged water, distilled water, or a stabilizing liquid. The replenishment amount is generally about 17 liters to about 8 liters per 1 m 2 of the light-sensitive material, but the replenishment amount can be smaller. In particular, when the replenishment amount is 3 liters or less (including 0, that is, washing with water), not only water saving can be performed, but also piping for installing an automatic developing machine can be eliminated. When washing with a small amount of water is performed, it is more preferable to provide a squeezing roller and a crossover roller washing tank described in JP-A-63-18350 and JP-A-62-287252. Also, various oxidizing agents (eg, ozone, hydrogen peroxide, sodium hypochlorite, active halogen, chlorine dioxide, sodium carbonate hydrogen peroxide, etc.) to reduce pollution load and prevent water scale, which are problems when washing with a small amount of water. You may combine addition and filter filtration.

【0123】水洗の補充量を少なくする方法として、古
くより多段向流方式(たとえば2段、3段など)が知られ
ており、水洗補充量は感光材料1m2あたり200〜50ミリ
リットルが好ましい。この効果は、独立多段方式(向流
にせず、多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)で
も同様に得られる。
As a method of reducing the replenishing amount of washing, a multi-stage countercurrent method (for example, two-stage or three-stage) has been known for a long time, and the replenishing amount of washing is preferably 200 to 50 ml per 1 m 2 of the photosensitive material. This effect can be similarly obtained by an independent multi-stage system (a method in which a new liquid is individually replenished in a multi-stage washing tank without using countercurrent).

【0124】さらに、本発明の方法で水洗工程に水垢防
止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のも
のを使用することができ、特に限定はしないが、防ばい
剤(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方
法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁
場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方
法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これ
らの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされて
も良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良
いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良
い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充
しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止
手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好まし
い。防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用
できる。前述の酸化剤の他たとえばグルタルアルデヒ
ド、アミノポリカルボン酸などのキレート剤、カチオン
性界面活性剤、メルカプトピリジンオキシド(たとえば
2-メルカプトピリジン-N-オキシドなど)などがあり、
単独使用でも複数の併用でも良い。通電する方法として
は、特開平3-224685号公報、同3-224687号公報、同4-16
280、同4-18980号公報などに記載の方法が使用できる。
Further, in the method of the present invention, a scale preventing means may be provided in the washing step. Known means can be used as the scale preventive means, and is not particularly limited, but a method of adding a sunscreen (a so-called scale preventive agent), a method of energizing, a method of irradiating ultraviolet rays or infrared rays or far infrared rays, There are a method of applying a magnetic field, a method of sonication, a method of applying heat, and a method of emptying the tank when not in use. These scale prevention means may be performed according to the processing of the photosensitive material, may be performed at regular intervals irrespective of the state of use, or may be performed only during a period during which processing is not performed, such as at night. It may be applied to washing water in advance and replenished. Further, it is also preferable to perform different scale prevention means every certain period in order to suppress the generation of resistant bacteria. The protective agent is not particularly limited, and known agents can be used. In addition to the oxidizing agents described above, chelating agents such as glutaraldehyde and aminopolycarboxylic acid, cationic surfactants, mercaptopyridine oxide (for example,
2-mercaptopyridine-N-oxide, etc.)
They may be used alone or in combination. As a method of energizing, JP-A-3-224685, JP-A-3-224687, JP-A-4-16
280 and 4-18980 can be used.

【0125】このほか、水泡ムラ防止や汚れ転写防止の
ために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても
良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止
に、特開昭63-163456に記載の色素吸着剤を水洗系に設
置しても良い。
In addition, a known water-soluble surfactant or defoaming agent may be added to prevent unevenness of water bubbles and transfer of dirt. Further, a dye adsorbent described in JP-A-63-163456 may be provided in a washing system to prevent contamination by a dye eluted from the light-sensitive material.

【0126】水洗工程からのオーバーフロー液の一部ま
たは全部は、特開昭60-235133に記載されているよう
に、定着能を有する処理液に混合利用することもでき
る。また微生物処理(たとえば硫黄酸化菌、活性汚泥処
理や微生物を活性炭やセラミックなどの多孔質担体に担
持させたフィルターによる処理など)や、通電や酸化剤
による酸化処理をして、生物化学的酸素要求量(BO
D)、化学的酸素要求量(COD)、沃素消費量などを低減
してから排水したり、銀と親和性のあるポリマーを用い
たフィルターやトリメルカプトトリアジンなどの難溶性
銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降させてフィ
ルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下させるこ
とも、自然環境保全の観点から好ましい。
A part or all of the overflow solution from the washing step can be mixed with a processing solution having a fixing ability as described in JP-A-60-235133. In addition, microbial treatment (for example, sulfur oxidizing bacteria, activated sludge treatment, treatment with a filter in which microorganisms are supported on a porous carrier such as activated carbon or ceramics), or oxidation treatment with an electric current or an oxidizing agent is performed to obtain a biochemical oxygen demand. Amount (BO
D) Compounds that reduce the chemical oxygen demand (COD), iodine consumption, etc. before draining, or filters that use silver-compatible polymers or compounds that form poorly soluble silver complexes such as trimercaptotriazine It is also preferable from the viewpoint of preserving the natural environment that the silver concentration in the wastewater is reduced by, for example, adding silver to precipitate silver and filtering the mixture with a filter.

【0127】また、水洗処理に続いて安定化処理する場
合もあり、その例として特開平2-201357号公報、同2-13
2435号公報、同1-102553号公報、特開昭46-44446号公報
に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴として
使用しても良い。この安定浴にも必要に応じてアンモニ
ウム化合物、Bi,Alなどの金属化合物、蛍光増白剤、各
種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防ばい
剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加えることもで
きる。
In some cases, a stabilization treatment may be performed after the water washing treatment. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
A bath containing a compound described in JP-A Nos. 2435, 1-102553 and 46-44446 may be used as the final bath of the photosensitive material. If necessary, this stabilizing bath also contains ammonium compounds, metal compounds such as Bi and Al, fluorescent brighteners, various chelating agents, film pH regulators, hardeners, bactericides, deterrents, alkanolamines and surfactants. Agents can also be added.

【0128】水洗、安定化浴に添加する防ばい剤などの
添加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様
に固形剤とすることもできる。
Additives such as deterrents and stabilizing agents to be added to the water washing and stabilizing baths can be solid agents as in the above-mentioned developing and fixing agents.

【0129】本発明に使用する現像液、定着液、水洗
水、安定化液の廃液は焼却処分することが好ましい。ま
た、これらの廃液はたとえば特公平7-83867、US5439560
などに記載されているような濃縮装置で濃縮液化または
固化させてから処分することも可能である。
It is preferable that the waste liquid of the developing solution, fixing solution, washing water and stabilizing solution used in the present invention is incinerated. In addition, these waste liquids are, for example, Japanese Patent Publication No. 7-83867, US5439560
It is also possible to dispose after concentrating or liquefying or solidifying with a concentrating device as described in, for example.

【0130】処理剤の補充量を低減する場合には、処理
槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止す
ることが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機につい
ては米国特許3025779明細書、同3545971明細書などに記
載されており、本明細書においては単にローラー搬送型
自動現像機として言及する。この自現機は現像、定着、
水洗および乾燥の四工程からなっており、本発明の方法
も、他の工程(たとえば停止工程)を除外しないが、こ
の四工程を踏襲するのが最も好ましい。さらに、現像定
着間および/または定着水洗間にリンス浴を設けても良
い。
In order to reduce the replenishment amount of the processing agent, it is preferable to reduce the opening area of the processing tank to prevent evaporation of the liquid and oxidation of the air. The roller transport type automatic developing machine is described in U.S. Pat. Nos. 3,025,779 and 3,554,971 and the like, and in this specification, it is simply referred to as a roller transport type automatic developing machine. This automatic machine develops, fixes,
The method comprises four steps of washing and drying, and the method of the present invention does not exclude other steps (for example, a stopping step), but most preferably follows these four steps. Further, a rinsing bath may be provided between development and fixing and / or between fixing and washing with water.

【0131】本発明の現像処理では、dry to dryで25
〜90秒が好ましく、現像および定着時間が各々30秒
以下、好ましくは6〜20秒、各液の温度は25〜50℃が
好ましく、30〜40℃が好ましい。水洗の温度および時間
は0〜50℃で40秒以下が好ましい。現像、定着および水
洗された感光材料は水洗水を絞りきる、すなわちスクイ
ズローラーを経て乾燥しても良い。乾燥は約40〜約100
℃で行われ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜かえら
れる。乾燥方法は公知のいずれの方法も用いることがで
き特に限定はないが、温風乾燥や、特開平4-15534号公
報、同5-2256号公報、同5-289294号公報に開示されてい
るようなヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥など
があり、複数の方法を併用しても良い。
In the development processing of the present invention, 25 to 25 dry to dry
To 90 seconds, and the development and fixing times are each 30 seconds or less, preferably 6 to 20 seconds. The temperature of each liquid is preferably 25 to 50 ° C, and more preferably 30 to 40 ° C. The temperature and time of water washing are preferably 0 to 50 ° C. and 40 seconds or less. The developed, fixed and washed photosensitive material may be dried by squeezing washing water, that is, passing through a squeeze roller. Drying is about 40 to about 100
C., and the drying time varies depending on the surrounding conditions. Any known drying method can be used, and there is no particular limitation.Hot air drying and JP-A-4-15534, JP-A-5-256256, and JP-A-5-289294 are disclosed. Such methods include heat roller drying and drying with far infrared rays, and a plurality of methods may be used in combination.

【0132】本発明においては、ジヒドロキシベンゼン
類が実質的に含有しないものであり、実質的に含有しな
いとは、全く含有しないか、もしくは、アレルギー作用
や現像効果を発現しない程度に含有するものを言うが、
本発明においては全く含有しないものが好ましい。
In the present invention, the term "substantially free of dihydroxybenzenes" means that substantially no dihydroxybenzenes are contained, or the term "substantially free of dihydroxybenzenes" means that no dihydroxybenzenes are contained at all or to such an extent that no allergic action or developing effect is exhibited. Say,
In the present invention, those not containing at all are preferable.

【0133】次に、ヒドラジンを含有する感材について
説明する。本発明の感材に含有されるヒドラジン誘導体
は、下記一般式(I)によって表わされる。 一般式(I)
Next, a photosensitive material containing hydrazine will be described. The hydrazine derivative contained in the light-sensitive material of the present invention is represented by the following general formula (I). General formula (I)

【0134】[0134]

【化30】 Embedded image

【0135】式中、R1 は脂肪族基または芳香基族を表
わし、R2 は水素原子、アルキル基、アリール基、不飽
和ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミ
ノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−CO−基、
−SO2 −基、−SO−基、
In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group. G 1 represents a —CO— group,
A —SO 2 — group, a —SO— group,

【0136】[0136]

【化31】 Embedded image

【0137】−CO−CO−基、チオカルボニル基、ま
たはイミノメチレン基を表わし、A1、A2 はともに水
素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無
置換のアリールスルホニル基、または置換もしくは無置
換のアシル基を表わす。R3 は、R2 に定義した基と同
じ範囲内より選ばれ、R2 と異なってもよい。
A represents a —CO—CO— group, a thiocarbonyl group, or an iminomethylene group; A 1 and A 2 are each a hydrogen atom, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group; Or an unsubstituted arylsulfonyl group or a substituted or unsubstituted acyl group. R 3 is selected from the same range as radical as defined R 2, may be different from R 2.

【0138】一般式(I)において、R1 で表わされる
脂肪族基は、好ましくは炭素数1〜30のものであっ
て、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアル
キル基である。ここで分岐アルキル基はその中に1つま
たはそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ環を形
成するように環化されていてもよい。また、このアルキ
ル基は置換基を有していてもよい。一般式(I)におい
て、R1 で表わされる芳香族基は単環または2環のアリ
ール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで、不飽和
ヘテロ環基は単環または2環のアリール基と縮環してヘ
テロアリール基を形成してもよい。例えばベンゼン環、
ナフタレン環、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾー
ル環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベ
ンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール
環などがあるが、なかでもベンゼン環を含むものが好ま
しい。R1 として特に好ましいものはアリール基であ
る。
In the general formula (I), the aliphatic group represented by R 1 preferably has 1 to 30 carbon atoms, particularly a straight-chain, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms. is there. Here, the branched alkyl group may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Further, this alkyl group may have a substituent. In the general formula (I), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. For example, a benzene ring,
There are a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring and the like, and among them, those containing a benzene ring are preferable. Particularly preferred as R 1 is an aryl group.

【0139】R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ていてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル
基、、アルケニル基、アルキニル基、、アリール基、複
素環を含む基、ピリジニウム基、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アルキル
またはアリールスルホニルオキシ基、アミノ基、カルボ
ンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレ
イド基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ウ
レタン基、ヒドラジド構造を持つ基、4級アンモニウム
構造を持つ基、アルキルまたはアリールチオ基、アルキ
ルまたはアリールスルホニル基、アルキルまたはアリー
ルスルフィニル基、カルボキシル基、スルホ基、アシル
基、アルコキシまたはアリーロキシカルボニル基、カル
バモイル基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ
基、リン酸アミド基、ジアシルアミノ基、イミド基、ア
シルウレア構造を持つ基、セレン原子またはテルル原子
を含む基、3級スルホニウム構造または4級スルホニウ
ム構造を持つ基などが挙げられ、好ましい置換基として
は直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素
数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキ
ル部分の炭素数が1〜3の単環または2環のもの)、ア
ルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、置換
アミノ基(好ましくは炭素数1〜20のアルキル基で置
換されたアミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素
数2〜30を持つもの)、スルホンアミド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましく
は炭素数1〜30を持つもの)、リン酸アミド基(好ま
しくは炭素数1〜30のもの)などである。
The aliphatic group or aromatic group for R 1 may be substituted. Representative examples of the substituent include an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a group containing a heterocyclic ring, and a pyridinium. Group, hydroxyl group, alkoxy group, aryloxy group, acyloxy group, alkyl or arylsulfonyloxy group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, urethane group, hydrazide structure A group having a quaternary ammonium structure, an alkyl or arylthio group, an alkyl or aryl sulfonyl group, an alkyl or aryl sulfinyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an acyl group, an alkoxy or aryloxycarbonyl group, a carbamoyl group, An amoyl group, a halogen atom, a cyano group, a phosphoric amide group, a diacylamino group, an imide group, a group having an acylurea structure, a group containing a selenium atom or tellurium atom, a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure, Examples of the preferred substituent include a straight-chain, branched or cyclic alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms) and an aralkyl group (preferably a monocyclic or bicyclic alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in the alkyl moiety). A) an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), a substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms), an acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms). Having), a sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), a ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), phosphorus An acid amide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms);

【0140】一般式(I)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。不飽和ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒素、
酸素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物で、例
えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、
テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニウム基、キノリ
ニウム基、キノリニル基などがある。ピリジル基または
ピリジニウム基が特に好ましい。アルコキシ基としては
炭素数1〜8のアルコキシ基のものが好ましく、アリー
ルオキシ基としては単環のものが好ましく、アミノ基と
しては無置換アミノ基、および炭素数1〜10のアルキ
ルアミノ基、アリールアミノ基が好ましい。R2 は置換
されていても良く、好ましい置換基としてはR1 の置換
基として例示したものがあてはまる。
In formula (I), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group. It contains a ring. At least one nitrogen as an unsaturated heterocyclic group,
5- and 6-membered compounds containing oxygen and sulfur atoms, for example, imidazolyl, pyrazolyl, triazolyl,
Examples include a tetrazolyl group, a pyridyl group, a pyridinium group, a quinolinium group, and a quinolinyl group. Pyridyl or pyridinium groups are particularly preferred. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the aryloxy group is preferably a monocyclic one, and the amino group is an unsubstituted amino group, an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, or an aryl group. Amino groups are preferred. R 2 may be substituted, and preferred examples of the substituent include those exemplified as the substituent of R 1 .

【0141】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、G1 が−CO−基の場合には、水素原子、アルキル
基(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基、3−メタンスルホンアミドプロピ
ル基、フェニルスルホニルメチル基など)、アラルキル
基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリー
ル基(例えば、フェニル基、3,5−ジクロロフェニル
基、o−メタンスルホンアミドフェニル基、4−メタン
スルホニルフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル
基など)などであ。また、G1 が−SO2 −基の場合に
は、R2 はアルキル基(例えば、メチル基など)、アラ
ルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、
アリール基(例えば、フェニル基など)または置換アミ
ノ基(例えば、ジメチルアミノ基など)などが好まし
い。G1 が−COCO−基の場合にはアルコキシ基、ア
リーロキシ基、アミノ基が好ましい。一般式(I)のG
としては−CO−基、−COCO−基が好ましく、−C
O−基が最も好ましい。又、R2 はG1 −R2 の部分を
残余分子から分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む
環式構造を生成させる環化反応を生起するようなもので
あってもよく、その例としては、例えば特開昭63−2
9751号などに記載のものが挙げられる。
Among the groups represented by R 2 , when G 1 is a —CO— group, a hydrogen atom, an alkyl group (for example, methyl, trifluoromethyl, 3-hydroxypropyl, 3 A methanesulfonamidopropyl group, a phenylsulfonylmethyl group, an aralkyl group (eg, an o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, a phenyl group, a 3,5-dichlorophenyl group, an o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc.). When G 1 is a —SO 2 — group, R 2 is an alkyl group (eg, a methyl group), an aralkyl group (eg, an o-hydroxybenzyl group),
An aryl group (eg, a phenyl group) or a substituted amino group (eg, a dimethylamino group) is preferable. When G 1 is a —COCO— group, an alkoxy group, an aryloxy group and an amino group are preferred. G of the general formula (I)
Is preferably a -CO- group or a -COCO- group,
The O- group is most preferred. R 2 may also be such as to cause a cyclization reaction that cleaves the G 1 -R 2 moiety from the residual molecule to form a cyclic structure containing atoms of the -G 1 -R 2 moiety. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-2
No. 9751 and the like.

【0142】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、またはハメットの置換基定数の和が
-0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、またはハメットの置換基定数の和が−0.5以上
となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖ま
たは分岐状、または環状の無置換および置換脂肪族アシ
ル基(置換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル
基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カ
ルボキシル基、スルホン酸基が挙げられる))である。
1 、A2 としては水素原子が最も好ましい。
A 1 and A 2 each represent a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group, or a sum of the Hammett's substituent constants).
A phenylsulfonyl group substituted so as to be -0.5 or more), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group or a Hammett substituent such that the sum of the substituent constants becomes -0.5 or more). A benzoyl group, or a straight-chain, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic acid; Groups))).
A 1 and A 2 are most preferably hydrogen atoms.

【0143】一般式(I)のR1 、R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR1 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR1 の置換基として例示したものがあては
まる。
The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (I) may be further substituted, and preferred examples include those exemplified as the substituent of R 1 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent, ...
, Etc. may be substituted multiple times, and preferred examples also include those exemplified as the substituent of R 1 .

【0144】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
カプラーなどの不動性写真用添加剤において常用されて
いるバラスト基またはポリマーが組み込まれているもの
でもよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真
性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どの中から選ぶことができる。またポリマーとしては、
例えば特開平1−100530号公報に記載のものが挙
げられる。
R 1 or R 2 in the formula (I) may have a ballast group or a polymer commonly used in immobile photographic additives such as couplers incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inactive to photographic properties, such as an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a phenyl group, an alkylphenyl group, a phenoxy group, and an alkylphenoxy group. You can choose from. As a polymer,
For example, those described in JP-A-1-100530 can be mentioned.

【0145】一般式(I)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオ
アミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの
米国特許第4,385,108号明細書、同4,45
9,347号明細書、特開昭59−195233号公
報、同59−200231号公報、同59−20104
5号公報、同59−201046号公報、同59−20
1047号公報、同59−201048号公報、同59
−201049号公報、特開昭61−170733号公
報、同61−270744号公報、同62−948号公
報、同63−234244号公報、同63−23424
5号公報、同63−234246号公報に記載された基
があげられる。
R 1 or R 2 in the formula (I) may have a group in which a group for enhancing the adsorption to the surface of the silver halide grain is incorporated. Examples of such an adsorbing group include U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,45, such as alkylthio, arylthio, thiourea, heterocyclic thioamide, mercapto heterocyclic, and triazole groups.
9,347, JP-A-59-195233, JP-A-59-200231, and JP-A-59-20104.
No. 5, No. 59-201046, No. 59-20
Nos. 1047, 59-201048, 59
JP-201049-A, JP-A-61-170733, JP-A-61-270744, JP-A-62-948, JP-A-63-234244, and 63-234424
No. 5, JP-A-63-234246.

【0146】本発明において好ましいヒドラジン誘導体
は、R1 がスルホンアミド基、アシルアミノ基またはウ
レイド基を介してバラスト基、ハロゲン化銀粒子表面に
対する吸着を促進する基、4級アンモニウム構造を持つ
基またはアルキルチオ基を有するフェニル基であり、G
が−CO−基であり、R2 が水素原子、置換アルキル基ま
たは置換アリール基(置換基としては電子吸引性基また
は2位へのヒドロキシメチル基が好ましい)であるヒド
ラジン誘導体である。なお、上記のR1 およびR2 の各
選択枝のあらゆる組合せが可能であり、好ましい。
In the present invention, preferred hydrazine derivatives are those wherein R 1 is a ballast group via a sulfonamide group, an acylamino group or a ureide group, a group which promotes adsorption to the surface of silver halide grains, a group having a quaternary ammonium structure or an alkylthio group. A phenyl group having a group
Is a —CO— group, and R 2 is a hydrogen atom, a substituted alkyl group or a substituted aryl group (an electron-withdrawing group or a hydroxymethyl group at the 2-position is preferable as the substituent). It should be noted that any combination of the above-mentioned options of R 1 and R 2 is possible and preferable.

【0147】また、本発明において、ヒドラジン基の近
傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内
水素結合を形成するノニオン性基を有することを特徴と
するヒドラジン誘導体が特に好ましく用いられる。
In the present invention, a hydrazine derivative characterized by having an anionic group or a nonionic group forming an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine near the hydrazine group is particularly preferably used.

【0148】具体的には、アニオン性基としてはカルボ
ン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン酸
およびそれらの塩が挙げられる。ここでヒドラジン基の
近傍とは、ヒドラジンのアニオン性基に近い窒素原子と
アニオン性基の間に、炭素原子、窒素原子、酸素原子お
よび硫黄原子の少なくとも一種から選ばれる原子2〜5
個で形成される結合鎖が介在することを意味する。近傍
としてより好ましくは炭素原子と窒素原子の少なくとも
一種から選ばれる原子2〜5個で形成される結合鎖が介
在する場合であり、さらに好ましくは炭素原子2〜3個
で形成される結合鎖が介在する場合である。ヒドラジン
水素と分子内水素結合を形成するノニオン性基としては
孤立電子対が5ないし7員環でヒドラジン水素と水素結
合を形成する基であり、酸素原子、窒素原子、硫黄原子
またはリン原子の少なくとも一つを有する基である。ノ
ニオン性基としてはアルコキシ基、アミノ基、アルキル
チオ基、カルボニル基、カルバモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、アシルオキシ
基、アシルアミノ基が挙げられる。これらのうちアニオ
ン性基が好ましく、さらにカルボン酸およびその塩が最
も好ましい。本発明で用いられるヒドラジン誘導体とし
て好ましいものは以下に一般式(2)ないし(4)で示
されるものである。 一般式(2)
More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid and salts thereof. Here, the vicinity of the hydrazine group means an atom selected from at least one of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom between a nitrogen atom and an anionic group near the anionic group of hydrazine.
It means that a binding chain formed by the individual is interposed. More preferably, a bond chain formed by 2 to 5 atoms selected from at least one of a carbon atom and a nitrogen atom is present as the vicinity, and a bond chain formed by 2 to 3 carbon atoms is more preferable. It is the case of intervening. The nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with hydrazine hydrogen is a group in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring, and has at least an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, or a phosphorus atom. A group having one. Examples of the nonionic group include an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group, and an acylamino group. Of these, anionic groups are preferred, and carboxylic acids and salts thereof are most preferred. Preferred hydrazine derivatives used in the present invention are those represented by the following general formulas (2) to (4). General formula (2)

【0149】[0149]

【化32】 Embedded image

【0150】式中、R1 はアルキル基、アリール基また
はヘテロ環基を表し、L1 は電子吸引基を有する2価の
連結基を表し、Y1 はアニオン性基またはヒドラジンの
水素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を表
す。 一般式(3)
In the formula, R 1 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 1 represents a divalent linking group having an electron-withdrawing group, and Y 1 represents a hydrogen atom of an anionic group or hydrazine. Represents a nonionic group forming an internal hydrogen bond. General formula (3)

【0151】[0151]

【化33】 Embedded image

【0152】式中、R2 はアルキル基、アリール基また
はヘテロ環基を表し、L2 は2価の連結基を表し、Y2
はアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水
素結合を形成するノニオン性基を表す。 一般式(4)
[0152] In the formula, R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, L 2 represents a divalent linking group, Y 2
Represents an anionic group or a nonionic group which forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. General formula (4)

【0153】[0153]

【化34】 Embedded image

【0154】式中、X3 はベンゼン環に置換可能な基を
表し、R3 はアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基またはアミ
ノ基を表し、Y3 はアニオン性基またはヒドラジンの水
素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を表
す。m3 は0から4の整数であり、n3 は1または2で
ある。n3 が1のとき、R3 は電子吸引性基を有する。
In the formula, X 3 represents a group that can be substituted on a benzene ring, R 3 represents an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group or an amino group, and Y 3 represents an anion. Represents a nonionic group that forms an intramolecular hydrogen bond with a hydrogen atom of hydrazine. m 3 is an integer from 0 to 4, and n 3 is 1 or 2. When n 3 is 1, R 3 has an electron-withdrawing group.

【0155】一般式(2)ないし(4)のヒドラジン誘
導体に関しさらに詳細に説明する。R1 、R2 のアルキ
ル基としては炭素数1〜16、好ましくは炭素数1〜1
2の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例え
ばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、t−ブチ
ル、アリル、プロパルギル、2−ブテニル、2−ヒドロ
キシエチル、ベンジル、ベンズヒドリル、トリチル、4
−メチルベンジル、2−メトキシエチル、シクロペンチ
ル、2−アセトアミドエチルである。
The hydrazine derivatives of the general formulas (2) to (4) will be described in more detail. The alkyl group of R 1 and R 2 has 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 1 carbon atom.
2 linear, branched or cyclic alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, t-butyl, allyl, propargyl, 2-butenyl, 2-hydroxyethyl, benzyl, benzhydryl, trityl,
-Methylbenzyl, 2-methoxyethyl, cyclopentyl, 2-acetamidoethyl.

【0156】アリール基としては炭素数6〜24、好ま
しくは炭素数6〜12のアリール基で例えば、フェニ
ル、ナフチル、p−アルコキシフェニル、p−スルホン
アミドフェニル、p−ウレイドフェニル、p−アミドフ
ェニルである。ヘテロ環基としては炭素数1〜5の酸素
原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を1個以上含む5員
または6員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環
を構成するヘテロ原子の数および元素の種類は1つでも
複数であっても良く、例えば、2−フリル、2−チエニ
ル、4−ピリジルである。
The aryl group is an aryl group having 6 to 24 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms, for example, phenyl, naphthyl, p-alkoxyphenyl, p-sulfonamidophenyl, p-ureidophenyl, p-amidophenyl It is. The heterocyclic group is a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic ring containing at least one oxygen atom, nitrogen atom or sulfur atom having 1 to 5 carbon atoms, and the number of heteroatoms constituting the ring. And the kind of element may be one or plural, for example, 2-furyl, 2-thienyl, 4-pyridyl.

【0157】R1 、R2 として好ましくはアリール基、
芳香族ヘテロ環基またはアリール置換メチル基であり、
さらに好ましくはアリール基(例えばフェニル、ナフチ
ル)である。R1 、R2 は置換基で置換されていてもよ
く、置換基としては例えばアルキル基、アラルキル基、
アルコキシ基、アルキルまたはアリール置換アミノ基、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイ
ル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
スルホニル基、スルフィニル基、ヒドロキシル基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、リン
サンアミド基である。これらの基はさらに置換されてい
てもよい。これらのうちスルホンアミド基、ウレイド
基、アミド基、アルコキシ基、ウレタン基が好ましく、
スルホンアミド基、ウレイド基がさらに好ましい。これ
らの基は可能なときは互いに連結して環を形成してもよ
い。
R 1 and R 2 are preferably an aryl group,
An aromatic heterocyclic group or an aryl-substituted methyl group,
More preferably, it is an aryl group (for example, phenyl, naphthyl). R 1 and R 2 may be substituted with a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an aralkyl group,
An alkoxy group, an alkyl or aryl substituted amino group,
Amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group,
A sulfonyl group, a sulfinyl group, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a carboxyl group, and a phosphoramide group. These groups may be further substituted. Of these, a sulfonamide group, a ureido group, an amide group, an alkoxy group, and a urethane group are preferable,
Sulfonamide groups and ureido groups are more preferred. When possible, these groups may be linked to each other to form a ring.

【0158】R3 のアルキル基、アリール基、ヘテロ環
基はR1 で述べたものが挙げられる。アルケニル基とし
ては炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例え
ばビニル、2−スチリルである。アルキニル基としては
炭素数2〜18好ましくは2〜10のもので、例えばエ
チニル、フェニルエチニルである。アルコキシ基として
は炭素数1ないし16、好ましくは炭素数1ないし10
の直鎖、分岐鎖または環状のアルコキシ基であり、例え
ばメトキシ、イソプロポキシ、ベンジルオキシである。
アミノ基としては炭素数0〜16、好ましくは炭素数1
〜10のもので、エチルアミノ、ベンジルアミノ、フェ
ニルアミノである。n3 =1のときR3 としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基が好ましい。n3
2のときR3 としてはアミノ基、アルコキシ基が好まし
い。
[0158] alkyl groups R 3, aryl group, heterocyclic group include those described in R 1. The alkenyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as vinyl and 2-styryl. The alkynyl group has 2 to 18 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, such as ethynyl and phenylethynyl. The alkoxy group has 1 to 16 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms.
Linear, branched or cyclic alkoxy group such as methoxy, isopropoxy and benzyloxy.
The amino group has 0 to 16 carbon atoms, preferably 1 carbon atom.
And ethylamino, benzylamino and phenylamino. When n 3 = 1, R 3 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. n 3 =
In the case of 2, R 3 is preferably an amino group or an alkoxy group.

【0159】R3 の有する電子吸引性基としては、ハメ
ットのσm の値が0.2以上のもの、好ましくは0.3
以上のもので、例えばハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素)、シアノ基、スルホニル基(メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル)、スルフィニル基(メタンスルフィ
ニル)、アシル基(アセチル、ベンゾイル)、オキシカ
ルボニル基(メトキシカルボニル)、カルバモイル基
(N−メチルカルバモイル)、スルファモイル基(メチ
ルスルファモイル)、ハロゲン置換アルキル基(トリフ
ルオロメチル)、ヘテロ環基(2−ベンズオキサゾリ
ル、ピロロ)、4級オニウム基(トリフェニルホスホニ
ウム、トリアルキルアンモニウム、ピリジニウム)が挙
げられる。電子吸引基を有するR3 としては、例えばト
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、ペンタフルオロ
エチル、シアノメチル、メタンスルホニルメチル、アセ
チルエチル、トリフルオロメチルエチニル、エトキシカ
ルボニルメチルが挙げられる。
As the electron-withdrawing group possessed by R 3 , those having a Hammett σ m value of 0.2 or more, preferably 0.3
As described above, for example, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine), a cyano group, a sulfonyl group (methanesulfonyl, benzenesulfonyl), a sulfinyl group (methanesulfinyl), an acyl group (acetyl, benzoyl), an oxycarbonyl group (methoxycarbonyl) ), Carbamoyl group (N-methylcarbamoyl), sulfamoyl group (methylsulfamoyl), halogen-substituted alkyl group (trifluoromethyl), heterocyclic group (2-benzoxazolyl, pyrrolo), quaternary onium group (tri Phenylphosphonium, trialkylammonium, pyridinium). Examples of R 3 having an electron withdrawing group include trifluoromethyl, difluoromethyl, pentafluoroethyl, cyanomethyl, methanesulfonylmethyl, acetylethyl, trifluoromethylethynyl, and ethoxycarbonylmethyl.

【0160】L1 、L2 は2価の連結基を表し、アルキ
レン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン
基、二価のヘテロ環基およびそれらを−O−、−S−、
−NH−、−CO−、−SO2 −などの単独または組み
合わせからなる基で連結したものである。L1 、L2
1 の置換基として述べた基で置換されていてもよい。
アルキレン基としては、例えばメチレン、エチレン、ト
リメチレン、プロピレン、2−ブテン−1,4−イル、
2−ブチン−1,4−イルである。アルケニレン基とし
ては、例えばビニレンである。アルキニレン基としては
エチニレンである。アリーレン基としては、例えばフェ
ニレンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラ
ン−1,4−ジイルである。L1 としてはアルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基が
好ましく、アルキレン基がより好ましい。さらに鎖長が
炭素数2〜3のアルキレン基が最も好ましい。L2 とし
てはアルキレン基、アリーレン基、−NH−アルキレン
−、−O−アルキレン−、−NH−アリーレン−が好ま
しく、−NH−アルキレン−、−O−アルキレン−がよ
り好ましい。
L 1 and L 2 each represent a divalent linking group, and include an alkylene group, alkenylene group, alkynylene group, arylene group, divalent heterocyclic group, and those represented by —O—, —S—,
-NH -, - CO -, - SO 2 - is the concatenation alone or in composed of a combination groups such as. L 1 and L 2 may be substituted with the groups described as substituents for R 1 .
Examples of the alkylene group include methylene, ethylene, trimethylene, propylene, 2-buten-1,4-yl,
2-butyn-1,4-yl. The alkenylene group is, for example, vinylene. The alkynylene group is ethynylene. The arylene group is, for example, phenylene. The divalent heterocyclic group is, for example, furan-1,4-diyl. L 1 is preferably an alkylene group, an alkenylene group, an alkynylene group, or an arylene group, and more preferably an alkylene group. Further, an alkylene group having a chain length of 2 to 3 carbon atoms is most preferable. L The 2 alkylene group, an arylene group, -NH- alkylene -, - O-alkylene -, - NH- arylene - are preferred, -NH- alkylene -, - O-alkylene - is more preferable.

【0161】L1 の有する電子吸引性基としては、R3
の有する電子吸引性基として述べたものが挙げられる。
1 として例えばテトラフルオロエチレン、フルオロメ
チレン、ヘキサフルオロトリメチレン、パーフルオロフ
ェニレン、ジフルオロビニレン、シアノメチレン、メタ
ンスルホニルエチレンが挙げられる。
The electron-withdrawing group of L 1 includes R 3
Examples of the electron-withdrawing group included in are described.
Examples of L 1 include tetrafluoroethylene, fluoromethylene, hexafluorotrimethylene, perfluorophenylene, difluorovinylene, cyanomethylene, and methanesulfonylethylene.

【0162】Y1 ないしY3 としてはすでに述べたもの
であり、アニオン性基または孤立電子対が5ないし7員
環でヒドラジン水素と水素結合を形成するノニオン性基
である。さらに具体的には、アニオン性基としてはカル
ボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、リン酸、ホスホン
酸およびそれらの塩が挙げられる。塩としてはアルカリ
金属イオン(ナトリウム、カリウム)、アルカリ土類金
属イオン(カルシウム、マグネシウム)、アンモニウム
(アンモニウム、トリエチルアンモニウム、テトラブチ
ルアンモニウム、ピリジニウム)、ホスホニウム(テト
ラフェニルホスホニウム)が挙げられる。ノニオン性基
としては酸素原子、窒素原子、硫黄原子またはリン原子
の少なくとも一つを有する基で、アルコキシ基、アミノ
基、アルキルチオ基、カルボニル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基、ウレタン基、ウレイド基、ア
シルオキシ基、アシルアミノ基が挙げられる。Y1 ない
しY3 としてはアニオン性基が好ましく、カルボン酸お
よびその塩がさらに好ましい。
Y 1 to Y 3 are as described above, and are anionic groups or nonionic groups in which a lone electron pair forms a hydrogen bond with hydrazine hydrogen in a 5- to 7-membered ring. More specifically, examples of the anionic group include carboxylic acid, sulfonic acid, sulfinic acid, phosphoric acid, phosphonic acid, and salts thereof. Examples of the salt include alkali metal ions (sodium and potassium), alkaline earth metal ions (calcium and magnesium), ammonium (ammonium, triethylammonium, tetrabutylammonium, pyridinium) and phosphonium (tetraphenylphosphonium). As the nonionic group, an oxygen atom, a nitrogen atom, a group having at least one of a sulfur atom and a phosphorus atom, an alkoxy group, an amino group, an alkylthio group, a carbonyl group, a carbamoyl group,
Examples include an alkoxycarbonyl group, a urethane group, a ureido group, an acyloxy group, and an acylamino group. Y 1 to Y 3 are preferably anionic groups, and more preferably carboxylic acids and salts thereof.

【0163】X3 のベンゼン環に置換可能な基およびそ
の好ましいものは、一般式(1)のR1 が有する置換基
として述べたものが挙げられる。m3 が2以上のときそ
れぞれは同じでも異なっていてもよい。
Examples of the group capable of substituting on the benzene ring of X 3 and preferable ones include those described as the substituent of R 1 in the general formula (1). When m 3 is 2 or more, they may be the same or different.

【0164】R1 ないしR3 、またはX3 は写真用カプ
ラーで用いられる耐拡散基を有してもよいし、ハロゲン
化銀への吸着促進基を有してもよい。耐拡散基としては
炭素数8以上30以下のもので、炭素数12以上25以
下のものが好ましい。ハロゲン化銀への吸着促進基とし
ては、好ましくはチオアミド類(例えばチオウレタン、
チオウレイド、チオアミド)、メルカプト類(例えば5
−メルカプトテトラゾール、3−メルカプト−1,2,
4−トリアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−オキサジア
ゾールなどのヘテロ環メルカプト、アルキルメルカプ
ト、アリールメルカプト)およびイミノ銀を生成する5
ないし6員の含窒素ヘテロ環(例えばベンゾトリアゾー
ル)である。ハロゲン化銀吸着促進基を有するものとし
ては、吸着基が保護されており現像処理時に保護基が除
去されてハロゲン化銀への吸着性が高まる構造のものも
含まれる。
R 1 to R 3 or X 3 may have a diffusion-resistant group used in photographic couplers or may have a group promoting adsorption to silver halide. The diffusion-resistant group has 8 to 30 carbon atoms, and preferably has 12 to 25 carbon atoms. As the adsorption-promoting group for silver halide, thioamides (eg, thiourethane,
Thioureido, thioamide), mercaptos (for example, 5
-Mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,2,2
Heterocyclic mercapto such as 4-triazole, 2-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, alkyl mercapto, aryl mercapto) and imino silver 5
And a 6-membered nitrogen-containing heterocycle (eg, benzotriazole). Examples of those having a silver halide adsorption promoting group include those having a structure in which the adsorptive group is protected and the protective group is removed at the time of development to increase the adsorptivity to silver halide.

【0165】一般式(2)ないし(4)において、それ
ぞれ二つの化合物の水素原子が除去されたラジカルどう
しが結合してビス型を形成してもよい。一般式(2)な
いし(4)において、一般式(2)および(3)が好ま
しく、一般式(2)がより好ましい。さらに一般式
(2)ないし(4)において以下に示す一般式(5)な
いし(7)がより好ましく、一般式(5)が最も好まし
い。 一般式(5)
In the general formulas (2) to (4), the radicals of each of the two compounds from which the hydrogen atoms have been removed may be bonded to each other to form a bis-type. In the general formulas (2) to (4), the general formulas (2) and (3) are preferable, and the general formula (2) is more preferable. Further, in the general formulas (2) to (4), the following general formulas (5) to (7) are more preferable, and the general formula (5) is most preferable. General formula (5)

【0166】[0166]

【化35】 Embedded image

【0167】(式中、R4 、X4 、m4 はそれぞれ一般
式(4)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L4 、Y4
は一般式(2)のL1 、Y1 と同義である。) 一般式(5)
(Wherein R 4 , X 4 and m 4 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in formula (4), respectively, and L 4 , Y 4
Has the same meaning as L 1 and Y 1 in the general formula (2). ) General formula (5)

【0168】[0168]

【化36】 Embedded image

【0169】(式中、R5 、X5 、m5 はそれぞれ一般
式(4)のR3 、X3 、m3 と同義であり、L5 、Y5
は一般式(3)のL2 、Y2 と同義である。) 一般式(7)
(Wherein R 5 , X 5 and m 5 have the same meanings as R 3 , X 3 and m 3 in formula (4), respectively, and L 5 , Y 5
Has the same meaning as L 2 and Y 2 in the general formula (3). ) General formula (7)

【0170】[0170]

【化37】 Embedded image

【0171】(式中、R61、R62、X6 、m6 、n6
Yは一般式(4)のR3 、R3 、X3、m3 、n3 、Y
3 と同義である。)
(Wherein, R 61 , R 62 , X 6 , m 6 , n 6 ,
Y is R 3 , R 3 , X 3 , m 3 , n 3 , Y in the general formula (4)
Synonymous with 3 . )

【0172】以下に本発明で用いられるヒドラジン誘導
体の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。
The following are specific examples of the hydrazine derivative used in the present invention, but the present invention is not limited to these.

【0173】[0173]

【化38】 Embedded image

【0174】[0174]

【化39】 Embedded image

【0175】[0175]

【化40】 Embedded image

【0176】[0176]

【化41】 Embedded image

【0177】[0177]

【化42】 Embedded image

【0178】[0178]

【化43】 Embedded image

【0179】[0179]

【化44】 Embedded image

【0180】[0180]

【化45】 Embedded image

【0181】[0181]

【化46】 Embedded image

【0182】[0182]

【化47】 Embedded image

【0183】[0183]

【化48】 Embedded image

【0184】[0184]

【化49】 Embedded image

【0185】[0185]

【化50】 Embedded image

【0186】[0186]

【化51】 Embedded image

【0187】[0187]

【化52】 Embedded image

【0188】[0188]

【化53】 Embedded image

【0189】[0189]

【化54】 Embedded image

【0190】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号明細書、同4,269,929号明細書、同4,2
76,364号明細書、同4,278,748号明細
書、同4,385,108号明細書、同4,459,3
47号明細書、同4,478,928号明細書、同4,
560,638号明細書、同4,686,167号明細
書、同4,912,016号明細書 同4,988,6
04号明細書、同4,994,365号明細書、同5,
041,355号明細書、同5,104,769号明細
書、英国特許第2,011,391B号明細書、欧州特
許第217,310号明細書、同301,799号明細
書、同356,898号明細書、特開昭60−1797
34号公報、同61−170733号公報、同61−2
70744号公報、同62−178246号公報、同6
2−270948号公報、同63−29751号公報、
同63−32538号公報、同63−104047号公
報、同63−121838号公報、同63−12933
7号公報、同63−223744号公報、同63−23
4244号公報、同63−234245号公報、同63
−234246号公報、同63−294552号公報、
同63−306438号公報、同64−10233号公
報、特開平1−90439号公報、同1−100530
号公報、同1−105941号公報、同1−10594
3号公報、同1−276128号公報、同1−2807
47号公報、同1−283548号公報、同1−283
549号公報、同1−285940号公報、同2−25
41号公報、同2−77057号公報、同2−1395
38号公報、同2−196234号公報、同2−196
235号公報、同2−198440号公報、同2−19
8441、同2−198442号公報、同2−2200
42号公報、同2−221953号公報、同2−221
954号公報、同2−285342号公報、同2−28
5343号公報、同2−289843号公報、同2−3
02750号公報、同2−304550号公報、同3−
37642号公報、同3−54549号公報、同3−1
25134号公報、同3−184039号公報、同3−
240036号公報、同3−240037号公報、同3
−259240号公報、同3−280038号公報、同
3−282536号公報、同4−51143号公報、同
4−56842号公報、同4−84134号公報、同2
−230233号公報、同4−96053号公報、同4
−216544号公報、同5−45761号公報、同5
−45762号公報、同5−45763号公報、同5−
45764号公報、同5−45765号公報、同6−2
89524号公報に記載されたものを用いることができ
る。
The hydrazine derivatives used in the present invention include, in addition to the above, RESEARCHDISCLOSURE Item 2
No. 3516 (November 1983, P. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,20.
No. 7, No. 4,269,929, No. 4,2
Nos. 76,364, 4,278,748, 4,385,108, 4,459,3
Nos. 47, 4,478, 928, 4,
560,638, 4,686,167 and 4,912,016, 4,988,6
No. 04, No. 4,994, 365, No. 5,
041,355, 5,104,769, UK Patent No. 2,011,391B, European Patent Nos. 217,310, 301,799, 356. No. 898, JP-A-60-1797
No. 34, No. 61-170733, No. 61-2
Nos. 70744, 62-178246, 6
Nos. 2-270948 and 63-29751,
JP-A-63-32538, JP-A-63-104047, JP-A-63-121838, JP-A-63-12933.
No. 7, No. 63-223744, No. 63-23
Nos. 4244 and 63-234245 and 63
-234246, 63-294552,
JP-A-63-306438, JP-A-64-10233, JP-A-1-90439, JP-A-1-100530
Gazette, JP-A-1-105941 and JP-A-1-10594
No. 3, No. 1-276128, No. 1-2807
Nos. 47, 1-283548 and 1-283
No. 549, No. 1-285940, No. 2-25
No. 41, 2-77057, and 2-1395
No. 38, 2-196234 and 2-196
No. 235, No. 2-198440, No. 2-19
No. 8441, No. 2-198442, and No. 2-2200
No. 42, No. 2-219553, No. 2-221
954, JP-A-2-285342, JP-A-2-28
No. 5343, No. 2-289843, No. 2-3
JP-A Nos. 02750, 2-304550 and 3-
Nos. 37642, 3-54549 and 3-1
No. 25134, No. 3-184039, No. 3-
No. 240036, No. 3-240037, No. 3
JP-A-259240, JP-A-3-280038, JP-A-3-282536, JP-A-4-51143, JP-A-4-56842, JP-A-4-84134 and JP-A-2
JP-A-230233, JP-A-4-96053, JP-A-4-96053
Nos. 216544, 5-45761, 5
Nos. 455762 and 5-45763, 5-
No. 45765, No. 5-45765, No. 6-2
Those described in JP 89524 can be used.

【0191】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。
In the present invention, the hydrazine derivative is preferably added in an amount of 1 × 10 -6 mol to 5 × 10 -2 mol, more preferably 1 × 1 -6 mol, per mol of silver halide.
The range of 0 -5 mol to 2 × 10 -2 mol is a preferable addition amount.

【0192】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混
和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既に良く知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、ヒドラ
ジン誘導体の粉末を水の中にボ−ルミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。また、特開平2−948号公報に記載されている様
にポリマー微粒子中に含有させて用いることもできる。
The hydrazine derivative of the present invention can be prepared by using a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methylethylketone), dimethylformamide, dimethylsulfoxide, methylcellosolve. It can be used by dissolving it in, for example. In addition, by an already well-known emulsification dispersion method, dissolution is performed using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. An object can be prepared and used. Alternatively, a powder of a hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves by a method known as a solid dispersion method and used. Further, as described in JP-A-2-948, it can be used by being contained in polymer fine particles.

【0193】本発明のハロゲン化銀乳剤層およびその他
の親水性コロイド層のバインダーとしてはゼラチンを用
いるが、それ以外の親水性コロイドを併用することもで
きる。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子
とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼインなどの蛋
白質;ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、セルロース硫酸エステル類などの如きセル
ロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖
誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール
部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポ
リビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾールなどの単
一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質
を用いることができる。ゼラチンとしては石灰処理ゼラ
チンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン
加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができ
る。本発明において、バインダーとしてのゼラチン塗布
量は、ハロゲン化銀乳剤層を有する側の全親水性コロイ
ド層のゼラチン量が3g/m2以下で、かつ、ハロゲン
化銀乳剤層を有する側の全親水性コロイド層およびその
反対側の面の全親水性コロイド層の全ゼラチン量が6g
/m2以下であり、好ましくは2.0〜6.0g/m2
ある。
Gelatin is used as a binder for the silver halide emulsion layer and other hydrophilic colloid layers of the present invention, but other hydrophilic colloids may be used in combination. For example, gelatin derivatives, graft polymers of gelatin and other polymers, proteins such as albumin and casein; cellulose derivatives such as hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose and cellulose sulfates; sugar derivatives such as sodium alginate and starch derivatives; polyvinyl alcohol Use of various kinds of synthetic hydrophilic high-molecular substances such as mono- or copolymers such as polyvinyl alcohol partial acetal, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyvinylimidazole and polyvinylpyrazole Can be. As gelatin, in addition to lime-processed gelatin, acid-processed gelatin may be used, and gelatin hydrolyzate and gelatin enzyme hydrolyzate can also be used. In the present invention, the coating amount of gelatin as a binder is such that the total hydrophilic colloid layer on the side having the silver halide emulsion layer has a gelatin amount of 3 g / m 2 or less and the total hydrophilic colloid layer on the side having the silver halide emulsion layer is not more than 3 g / m 2. The total amount of gelatin in the hydrophilic colloid layer and the entire hydrophilic colloid layer on the opposite side is 6 g.
/ M 2 or less, and preferably 2.0 to 6.0 g / m 2 .

【0194】本発明の感光材料の支持体としては、セル
ローストリアセテート、セルロースジアセテート、ニト
ロセルロース、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレ
ート、特開平07−28188号公報記載のポリエチレ
ンナフタレート、特開平3−131843号公報記載の
シンジオタクチックポリスチレン、ポリエチレン被覆紙
などが用いられる。
Examples of the support for the light-sensitive material of the present invention include cellulose triacetate, cellulose diacetate, nitrocellulose, polystyrene, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate described in JP-A-07-28188, and JP-A-3-131842. Syndiotactic polystyrene, polyethylene coated paper, etc. are used.

【0195】本発明の感光材料に用いられる各種添加剤
などに関しては、特に制限は無く、例えば下記に示す該
当箇所に記載されたものを好ましく用いることができ
る。 項 目 該 当 箇 所 1)ハロゲン化銀乳剤と 特開平2−97937号公報第20頁右下欄12行 その製法 目から同第21頁左下欄14行目および特開平2− 12236号公報第7頁右上欄19行目から同第8 頁左下欄12行目、特開平4−330430号、特 開平5−11389号。 2)分光増感色素 特開平2−55349号公報第7頁左上欄8行目か ら同第8頁右下欄8行目、同2−39042号公報 第7頁右下欄8行目から第13頁右下欄5行目。特 開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目か ら同右下欄4行目、同2−103536号公報第1 6頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目、 さらに特開平1−112235号、同2−1245 60号、同3−7928号、特開平5−11389 号、特開平4−330434号各公報。 3)造核促進剤 特開平2−103536号公報第9頁右上欄13行 目から同第16頁左上欄10行目の一般式(II−m) ないし(II−p)および化合物例II−1ないしII− 22、特開平1−179939号公報に記載の化合 物。
There are no particular restrictions on the various additives and the like used in the light-sensitive material of the present invention. For example, those described in the corresponding places shown below can be preferably used. Item 1) The silver halide emulsion and the lower right column, page 20, page 20 of JP-A-2-97937, from its production method to the line 14 of the lower left column, page 21 of JP-A-2-97937 and JP-A-2-12236. From page 19, upper right column, line 19 to page 8, lower left column, line 12, JP-A-4-330430 and JP-A-5-11389. 2) Spectral sensitizing dyes JP-A-2-55349, page 7, upper left column, line 8 to page 8, lower right column, line 8; JP-A-2-39042, page 7, lower right column, line 8, Page 13, lower right column, 5th line. JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to lower right column, JP-A-2-103536, page 16 lower right column, line 3 to page 17, lower left column, line 20 And JP-A-1-112235, JP-A-2-124560, JP-A-3-7928, JP-A-5-11389, and JP-A-4-330434. 3) Nucleation accelerator JP-A-2-103536, page 9, upper right column, line 13 to page 16, upper left column, line 10; general formulas (II-m) to (II-p) and compound examples II- 1 to II-22, compounds described in JP-A-1-179939.

【0196】 4)界面活性剤 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か ら同右下欄7行目。 5)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第18頁右下欄6行 目から同第19頁左上欄1行目、および同2−55 349号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁 左上欄8行目。 6)カブリ防止剤 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19 行目から同第18頁右上欄4行目および同右下欄1 行目から5行目、さらに特開平1−237538号 公報に記載のチオスルフィン酸化合物。 7)ポリヒドロキシ 特開平2−55349号公報第11頁左上欄9頁か ベンゼン類 ら同右下欄17行目。 8) 滑り剤、可塑剤 特開平2−103536号公報第19頁右上欄6行 目から同第19頁右上欄15行目。 9) 硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行 目から同17行目。4) Surfactant From page 9, upper right column, line 7 to lower right column, line 7 of JP-A-2-12236. 5) Compound having an acid group JP-A-2-103536, page 18, lower right column, line 6 to page 19, upper left column, line 1, and JP-A-2-55349, page 8, lower right column, line 13 From the eye on page 11, line 8 in the upper left column. 6) Antifoggants JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 19 to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, lines 1 to 5, furthermore, JP-A-1-237538 Thiosulfinic acid compounds described in the gazette. 7) Polyhydroxyl JP-A-2-55349, page 11, upper left column, page 9 or benzenes, right lower column, line 17; 8) Slip agent, plasticizer From page 6, upper right column, line 6 to page 19, upper right column, line 15 of JP-A-2-103536. 9) Hardener JP-A-2-103536, page 18, line 5 to line 17, upper right column.

【0197】 10) 染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行 目から同18行目、同2−39042号公報第4頁 右上欄1行目から第6頁右上欄5行目、同2−29 4638号公報および特開平5−11382号公報 に記載の固体染料。 11) テトラゾリウム化合 特開平2−39143号公報第4頁左下欄8行目か 物 ら第6頁左下欄6行目、特開平3−123346号 公報第3頁右上欄19行目から第5頁左上欄20行 目。10) Dyes JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 1 to line 18, JP-A-2-39042, page 4, upper right column, line 1 to page 6, upper right column, line 5 And solid dyes described in JP-A-2-294638 and JP-A-5-11382. 11) Tetrazolium compound JP-A-2-39143, page 4, lower left column, line 8 to page 6, lower left column, line 6, JP-A-3-123346, page 3, upper right column, line 19 to page 5 Line 20 in the upper left column.

【0198】 12) 黒ポツ防止剤 米国特許第4956257号明細書および特開平1 −118832号公報に記載の化合物。 13) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表 される化合物(特に化合物例1ないし50)、同3 −174143号公報第3頁ないし第20頁に記載 の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、化 合物例1ないし75、さらに特開平5−25723 9号、特開平4−278939号に記載の化合物。 14) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報の一般式(II)の化 合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。 15) コロイド状シリカ 特開平4−214551号公報段落番号〔000 5〕記載の化合物。12) Black spot inhibitors Compounds described in US Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-18832. 13) Redox compound The compound represented by formula (I) of JP-A-2-301743 (especially, compound examples 1 to 50), and the compound represented by the general formula (3) of JP-A-3-174143, pp. 3 to 20: (R-1), (R-2), (R-3), Compound Examples 1 to 75, and compounds described in JP-A-5-257239 and JP-A-4-278939. 14) Monomethine compounds Compounds of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (especially compound examples II-1 to II-26). 15) Colloidal silica A compound described in paragraph [0005] of JP-A-4-214551.

【0199】 16) マット剤 特開平2−103536号公報19頁左上欄15行 目から右上欄6行目。 特開平3−109542号公報2頁左下欄8行目か ら3頁右上欄4行目。 特開平4−127142号公報3頁右上欄7行目 から5頁右下欄4行目。 特開平6−118542号段落番号〔0005〕か ら〔0026〕。 17) 帯電防止 米国特許4,999,276号明細書記載の導電性 化合物およびフッ素系界面活性剤。16) Matting agent From page 15, upper left column, line 15 to upper right column, line 6 of JP-A-2-103536. JP-A-3-109542, page 2, lower left column, line 8 to page 3, upper right column, line 4. JP-A-4-127142, page 3, upper right column, line 7 to page 5, lower right column, line 4. JP-A-6-118542, paragraph numbers [0005] to [0026]. 17) Antistatic A conductive compound and a fluorinated surfactant described in US Pat. No. 4,999,276.

【0200】[0200]

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれにより限定されるものではない。 (実施例1)下記処方の現像液を調製した。補助現像主
液のp−アミノフェノール誘導体の比較化合物として
は、メトール(N−メチル−p−アミノフェノール.1/2
硫酸塩)WO使用した。また、3−ピラゾリドン類の比較
化合物としては、ジメゾンS(1−フェノール−4−め
ちる−4−ヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン)を使
用した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. Example 1 A developer having the following formulation was prepared. As a comparative compound of the p-aminophenol derivative of the auxiliary developing solution, metol (N-methyl-p-aminophenol.1 / 2) was used.
Sulfate) WO was used. In addition, as a comparative compound of 3-pyrazolidones, dimezone S (1-phenol-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone) was used.

【0201】 (現像液処方) 亜硫酸ナトリウム 10g 炭酸水素カリウム 0.4 モル 炭酸カリウム 0.15モル 炭酸ナトリウム・1水塩 0.25モル エリソルビン酸ナトリウム・1水塩 45g ジエチレントリアミン・五酢酸 2g 臭化カリウム 2g トリメルカプトトリアジン 0.1g p−アミノフェノール誘導体(表10記載) 0.01モル 3−ピラゾリドン類(表10記載) 0.01モル 以上の成分を水に溶解して1リットルとした。また、p
Hが9.7となるように、硫酸または水酸化ナトリウム
で調整した。
(Developer solution formulation) Sodium sulfite 10 g Potassium hydrogen carbonate 0.4 mol Potassium carbonate 0.15 mol Sodium carbonate monohydrate 0.25 mol Sodium erythorbate monohydrate 45 g Diethylene triamine pentaacetic acid 2 g Potassium bromide 2 g Trimercaptotriazine 0.1 g p-Aminophenol derivative (described in Table 10) 0.01 mol 3-pyrazolidones (described in Table 10) 0.01 mol The above components were dissolved in water to make 1 liter. Also, p
It adjusted with sulfuric acid or sodium hydroxide so that H might be 9.7.

【0202】さらに、処理疲労による写真性能をシュミ
レーションする目的で、上記現像液のpHを0.4下げ
て、pH9.3とした液を調製し、pHが9.7と9.3
の2種類の液で性能を評価した。
Further, in order to simulate the photographic performance due to processing fatigue, the pH of the above developer was reduced by 0.4 to prepare a solution having a pH of 9.3, and the pH was adjusted to 9.7 and 9.3.
The performance was evaluated with two kinds of liquids.

【0203】定着液は、下記処方の物を用いた。 (定着液処方) チオ硫酸アンモニウム 359.1 g エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 0.09 g チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8 g 亜硫酸ナトリウム 64.8 g NaOH 37.2 g 氷酢酸 87.3 g 酒石酸 8.76 g グルコン酸ナトリウム 6.6 g 硫酸アルミニウム 25.3 g 水を加えて、3リットルとし、硫酸または水酸化ナトリ
ウムでpHを4.85に調整した。なお、定着液は、実施例
1〜4共通に、上記処方のものを使用した。
The fixing solution used had the following formulation. (Formulation of fixing solution) Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 0.09 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g Water To 3 liters, and the pH was adjusted to 4.85 with sulfuric acid or sodium hydroxide. The fixing solution used had the above formulation in Examples 1 to 4.

【0204】<ハロゲン化銀写真感光材料の作成> 乳剤調製 以下の方法で乳剤Aを調製した。 〔乳剤A〕硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリ
ウムと銀1モルあたり3.5×10-7モルに相当するK
3 IrCl6 と2.0×10-7モルに相当するK2 Rh
(H2 O)Cl5 を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリ
ウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェ
ット法により添加し、平均粒子サイズ0.25μm、塩
化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を調製した。
<Preparation of silver halide photographic light-sensitive material> Emulsion preparation Emulsion A was prepared by the following method. [Emulsion A] An aqueous solution of silver nitrate, potassium bromide, sodium chloride and K corresponding to 3.5 × 10 -7 mol per mol of silver.
3 IrCl 6 and K 2 Rh equivalent to 2.0 × 10 -7 mol
A halogen salt aqueous solution containing (H 2 O) Cl 5 , sodium chloride, and a gelatin aqueous solution containing 1,3-dimethyl-2-imidazolidinthione were added by stirring by a double jet method to give an average particle size of 0.25 μm. Silver chlorobromide grains having a silver chloride content of 70 mol% were prepared.

【0205】その後、常法に従ってフロキュレーション
法により水洗し、銀1モルあたりゼラチン40gを加
え、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナト
リウム7mgとベンゼンスルフィン酸2mgを加えた
後、pH6.0、pAg7.5に調整し、銀1モル当た
り2mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩化金酸
を加えて60℃で最適感度になるように化学増感した。
その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−
1,3,3,a,7−テトラザインデン150mgを加
え、さらに防腐剤として化合物(a)100mgを加え
た。得られた粒子はそれぞれ平均粒子サイズ0.25μ
m、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀立方体粒子であ
った。(変動係数10%)
Thereafter, the resultant was washed with water by a flocculation method according to a conventional method, 40 g of gelatin was added per 1 mol of silver, and 7 mg of sodium benzenethiosulfonate and 2 mg of benzenesulfinic acid were added per 1 mol of silver. The pAg was adjusted to 7.5, and 2 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added per mole of silver, followed by chemical sensitization at 60 ° C. for optimum sensitivity.
Thereafter, 4-hydroxy-6-methyl-
150 mg of 1,3,3, a, 7-tetrazaindene was added, and 100 mg of compound (a) was further added as a preservative. Each of the obtained particles has an average particle size of 0.25 μm.
m, silver chlorobromide cubic grains having a silver chloride content of 70 mol%. (Coefficient of variation 10%)

【0206】[0206]

【化55】 Embedded image

【0207】塗布試料の作成 塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りを有するポリエチレ
ンテレフタレートフィルム支持体上に、支持体側から、
順次、UL層、EM層、PC層、OC層の層構成になる
よう塗布し、試料を作成した。以下に各層の調製法およ
び塗布量を示す。
Preparation of Coated Sample A polyethylene terephthalate film support having an undercoat of a moisture-proof layer containing vinylidene chloride was placed on a support from the support side.
Samples were prepared by applying the layers sequentially to form a UL layer, an EM layer, a PC layer, and an OC layer. The preparation method and application amount of each layer are shown below.

【0208】(UL層)ゼラチン0.5g/m2になる
ように塗布した。
(UL layer) Gelatin was coated so as to be 0.5 g / m 2 .

【0209】(EM層)上記乳剤Aに、増感色素として
下記化合物(S−1)を銀1モルあたり5×10-4
ル、(S−2)を5×10-4モル加え、さらに銀1モル
あたり3×10-4モルの下記(b)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(c)で示されるメルカプ
ト化合物、4×10-4モルの(d)で示されるトリアジ
ン化合物、2×10-3モルの5−クロル−8−ヒドロキ
シキノリン、下記化合物(e)を5×10-4モル、造核
促進剤として下記化合物(A)を4×10-4モルを添加
した。さらに、ハイドロキノン100mg、N−オレイ
ル−N−メチルタウリンナトリウム塩を30mg/m2
塗布されるように添加した。次に化合物例I−55に示
すヒドラジン誘導体を0.8×10-5モル/m2
(f)で示されるポリマーラテックスを200mg/m
2、平均粒径0.02μmのコロイダルシリカ(日産化
学〔株〕製スノーテックスC)を200mg/m2、さ
らに硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセ
トアミド)エタンを200mg/m2を加えた。溶液の
pHは酢酸を用いて5.65に調製した。それらを塗布
銀量2.5g/m2、ゼラチン0.8g/m2になるよう
に塗布した。
[0209] in (EM layer) above emulsions A, the following compound as a sensitizing dye (S-1) per mole of silver 5 × 10 -4 mol, the 5 × 10 -4 mol was added (S-2), further 3 × 10 −4 mol of mercapto compound represented by the following (b) per mol of silver, 4 × 10 −4 mol of mercapto compound represented by (c), and 4 × 10 −4 mol of (d) Triazine compound, 2 × 10 -3 mol of 5-chloro-8-hydroxyquinoline, 5 × 10 -4 mol of the following compound (e), and 4 × 10 -4 mol of the following compound (A) as a nucleation promoting agent Was added. Further, 100 mg of hydroquinone and 30 mg / m 2 of N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt were added.
Added as applied. Next, the hydrazine derivative shown in Compound Example I-55 was added at 0.8 × 10 −5 mol / m 2 ,
200 mg / m of the polymer latex represented by (f)
2, an average particle size of colloidal silica (Nissan Chemical [lines] Ltd. SNOWTEX C) a 200 mg / m 2 of 0.02 [mu] m, further 1,2-bis hardener (vinylsulfonyl acetamide) ethane 200 mg / m 2 added. The pH of the solution was adjusted to 5.65 using acetic acid. They were coated so that the coated silver amount was 2.5 g / m 2 and the gelatin was 0.8 g / m 2 .

【0210】[0210]

【化56】 Embedded image

【0211】(PC層)ゼラチン水溶液に下記界面活性
剤(g)を5mg/m2、1,5−ジヒドロキシ−2−
ベンズアルドキシムを10mg/m2塗布されるように
添加し、ゼラチン0.5g/m2になるように塗布し
た。
(PC layer) The following surfactant (g) was added to an aqueous gelatin solution at a concentration of 5 mg / m 2 and 1,5-dihydroxy-2-
Benzaldoxime was added so as to be coated at 10 mg / m 2 , and gelatin was coated at 0.5 g / m 2 .

【0212】(OC層)ゼラチン0.5g/m2、平均
粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2 マット剤4
0mg/m2、コロイダルシリカ(日産化学〔株〕製ス
ノーテックスC)0.1g/m2、ポリアクリルアミド
100mg/m2と滑り剤(h)20mg/m2および塗
布助剤として下記構造式(i)で示されるフッ素界面活
性剤5mg/m2とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム100mg/m2を塗布した。
(OC layer) An amorphous SiO 2 matting agent having a gelatin of 0.5 g / m 2 and an average particle size of about 3.5 μm 4
0 mg / m 2, colloidal silica (Nissan Chemical [lines] Ltd. Snowtex C) 0.1g / m 2, polyacrylamides 100 mg / m 2 and a sliding agent (h) 20mg / m 2 and the following structural formula as a coating aid ( 5 mg / m 2 of the fluorine surfactant shown in i) and 100 mg / m 2 of sodium dodecylbenzenesulfonate were applied.

【0213】[0213]

【化57】 Embedded image

【0214】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層およびバック層を同時塗布した。 〈導電層〉 SnO2/Sb (9/1重量比、平均粒径0.25μ) 250 mg/m2 ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 100 〃 化合物−(a) 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 20 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 20 〃 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム塩 20 〃 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量30ppm ) 2.6 g/m2 染料 染料〔a〕、染料〔b〕、染料〔c〕の混合物 染料〔a〕 70 mg/m2 染料〔b〕 70 〃 染料〔c〕 90 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 80 〃 ジベンジル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 20 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 110 〃 酢酸ナトリウム 40 〃 パーフルオロオクタンスルホン酸リチウム塩 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5 μm) 30 〃
Then, a conductive layer and a back layer shown below were simultaneously coated on the opposite side of the support. <Conductive layer> SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25 μ) 250 mg / m 2 gelatin (Ca ++ content 3000 ppm) 100 {compound- (a) 7} sodium dodecylbenzenesulfonate Salt 20〃Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium salt 20〃Polystyrene sulfonate sodium salt 20〃 <Back layer> Gelatin (Ca ++ content 30 ppm) 2.6 g / m 2 Dye Dye [a], Dye [b], Mixture of dye [c] Dye [a] 70 mg / m 2 Dye [b] 70 〃 Dye [c] 90 〃 sodium dodecylbenzenesulfonate 80 〃 dibenzyl-α-sulfosuccinate sodium salt 20 〃 1,2- Bis (vinylsulfonylacetamide) ethane 110 ナ ト リ ウ ム sodium acetate 40 リ チ ウ ム lithium perfluorooctanesulfonate 5 微粒子 fine particles of polymethyl methacrylate (average particle size 4.5 μm) 30 〃

【0215】[0215]

【化58】 Embedded image

【0216】(写真性能の評価)試料を480nmにピ
ークを持つ干渉フィルターを介し、ステップウェッジを
通して発光時間10-5secのキセノンフラッシュ光で
露光し、前記組成の現像液を用いて富士写真フイルム
(株)製FG−680AG自動現像機にて駆動ギアーを
高速のものに交換し、35℃で15秒間現像した後、定
着、水洗、乾燥処理を行った。
(Evaluation of Photographic Performance) A sample was exposed to xenon flash light having an emission time of 10 -5 sec through a step wedge through an interference filter having a peak at 480 nm, and a Fuji Photo Film ( The drive gear was changed to a high-speed one using an FG-680AG automatic developing machine manufactured by KK-KK, developed at 35 ° C. for 15 seconds, and then fixed, washed with water and dried.

【0217】感度は、特性曲線のfog +濃度=1.5を
与える露光量から求めた。画像のコントラストを示す指
標(ガンマ)としては、特性曲線のfog+濃度0.3
の点からfog+濃度3.0の点を直線で結び、この直
線の傾きをガンマ値として表した。すなわち、ガンマ=
(3.0−0.3)/〔log(濃度3.0を与える露
光量)−log(濃度0.3を与える露光量)〕であ
り、ガンマ値は大きいほど硬調な写真特性であることを
示している。グラフィックアーツ用感材としては、ガン
マは10以上であることが好ましく、15以上であるこ
とがさらに好ましい。
The sensitivity was determined from the exposure amount giving fog + density = 1.5 in the characteristic curve. The index (gamma) indicating the contrast of the image is fog + density 0.3 of the characteristic curve.
And a point of fog + density 3.0 was connected by a straight line, and the slope of this straight line was represented as a gamma value. That is, gamma =
(3.0-0.3) / [log (exposure to give a density of 3.0) -log (exposure to give a density of 0.3)], and the higher the gamma value, the harder the photographic characteristics. Is shown. As a graphic arts photosensitive material, gamma is preferably 10 or more, and more preferably 15 or more.

【0218】評価結果を表10に示す。表10に示され
た結果から、本発明の、p−アミノフェノールと3−ピ
ラゾリドン化合物を組み合わせた水準は、標準現像液
(pH=9.7)および処理疲労によるpH低下を想定
した低pH液(pH=9.3)のいずれにおいても、高
感度、高ガンマ(高コントラスト)であることが明らか
である。
The evaluation results are shown in Table 10. From the results shown in Table 10, the level of the combination of the p-aminophenol and the 3-pyrazolidone compound of the present invention is lower than that of the standard developing solution (pH = 9.7) and the low pH solution assuming a decrease in pH due to processing fatigue. (PH = 9.3), it is clear that high sensitivity and high gamma (high contrast) are obtained.

【0219】[0219]

【表10】 [Table 10]

【0220】(実施例2)実施例1と同様の支持体の一
方の側に実施例1の導電層および下記組成のバック層を
同時塗布した。
(Example 2) On one side of the same support as in Example 1, the conductive layer of Example 1 and a back layer having the following composition were simultaneously applied.

【0221】 <バック層> ゼラチン(Ca++含有量3000ppm ) 2.0 g/m2 化合物− 3 mg/m2 化合物− 40 〃 化合物− 40 〃 化合物− 155 〃 化合物− 150 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 7 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 30 〃 1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタン 140 〃 硫酸ナトリウム 180 〃 化合物− 5 〃 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.7 μm) 10 〃<Back Layer> Gelatin (Ca ++ content: 3000 ppm) 2.0 g / m 2 compound-3 mg / m 2 compound-40 compound 40 compound 155 compound Compound 150 sodium dodecylbenzenesulfonate 7 〃 sodium dihexyl-α-sulfosuccinate 30 〃 1,2-bis (vinylsulfonylacetamido) ethane 140 ナ ト リ ウ ム sodium sulfate 180 化合物 compound-5 微粒子 fine particles of polymethyl methacrylate (average particle size 4.7 μm) 10 〃

【0222】[0222]

【化59】 Embedded image

【0223】[0223]

【化60】 Embedded image

【0224】ついで、支持体の反対側の面に下記組成の
乳剤第1層および第2層、保護層下層および上層を同時
塗布した。 <乳剤層第1層>40℃に保った4−ヒドロキシ−6−
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン(銀1モ
ル当り5×10-3モル)を含有するゼラチン水溶液中に
硝酸銀水溶液と銀1モル当り2×10-5モルの(NH4)2Rh
(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に7分で添
加し、その間の電位を95mVにコントロールすること
により、芯部の粒子0.12μmを調製した。その後、
硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-4モルの(N
H4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液を同時に1
4分間で添加しその間の電位を95mVにコントロール
することによって平均粒子サイズ0.15μmの塩化銀
立方体粒子を調製した。この乳剤にヒドラジン誘導体I
−37を0.5×10-5モル/m2、4−ヒドロキシ−
6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデンを3
0mg/m2、下記の化合物−、−を各々40mg
/m2、10mg/m2、添加し硬膜剤として、1,1−
ビス(ビニルスルホニル)メタンを乳剤層を有する側の
ゼラチン1g当り55mg加え、銀量1.6g/m2
ゼラチンを0.6g/m2になる様に塗布した。
Next, the first and second emulsion layers and the lower and upper protective layers having the following compositions were simultaneously coated on the opposite side of the support. <Emulsion layer first layer> 4-hydroxy-6 kept at 40 ° C
In an aqueous gelatin solution containing methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene (5 × 10 −3 mol per mol of silver), an aqueous solution of silver nitrate and 2 × 10 −5 mol of (NH 4 ) per mol of silver were used. 2 Rh
A sodium chloride aqueous solution containing (H 2 O) Cl 5 was simultaneously added in 7 minutes, and the potential during that time was controlled at 95 mV, thereby preparing 0.12 μm of core particles. afterwards,
1.2 × 10 −4 mol of (N) per mol of silver nitrate aqueous solution and silver
H 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 containing sodium chloride aqueous solution
Silver chloride cubic grains having an average grain size of 0.15 μm were prepared by adding for 4 minutes and controlling the potential during the addition to 95 mV. The hydrazine derivative I
-37 is 0.5 × 10 −5 mol / m 2 , 4-hydroxy-
6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene is converted to 3
0 mg / m 2 , 40 mg each of the following compounds
/ M 2 , 10 mg / m 2 , and 1,1-
Bis (vinylsulfonyl) methane was added in an amount of 55 mg / g of gelatin on the side having the emulsion layer, and a silver amount of 1.6 g / m 2 ,
Gelatin was applied to 0.6 g / m 2 .

【0225】[0225]

【化61】 Embedded image

【0226】<乳剤層第2層>40℃に保った5,6−
シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3a,7−
テトラザインデン(銀1モル当り5×10-3モル)を含
有するゼラチン水溶液中に硝酸銀水溶液と銀1モル当り
4×10-5モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を同時に3分半で添加し、その間の電位を95
mVにコントロールすることにより、芯部の粒子0.0
8μmを調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当
り1.2×10-4モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナ
トリウム水溶液を同時に7分間で添加しその間の電位を
95mVにコントロールすることによって平均粒子サイ
ズ0.10μmの塩化銀立方体粒子を調製した。この乳
剤を用いる以外は上記乳剤層第1層と同様の乳剤層を銀
量1.0g/m2ゼラチンを0.4g/m2になる様に塗
布した。
<Emulsion Layer Second Layer>
Cyclopentane-4-hydroxy-1,3,3a, 7-
An aqueous silver nitrate solution and 4 × 10 −5 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 per mol of silver were added to an aqueous gelatin solution containing tetrazaindene (5 × 10 −3 mol per mol of silver). Sodium chloride aqueous solution at the same time in three and a half minutes.
By controlling to mV, the particle of the core part 0.0
8 μm was prepared. Thereafter, an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of sodium chloride containing 1.2 × 10 −4 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 per mol of silver were simultaneously added over 7 minutes, and the potential between them was controlled at 95 mV. Thus, silver chloride cubic grains having an average grain size of 0.10 μm were prepared. This except that an emulsion was coated so as to become an emulsion layer the same as the emulsion layer first layer of silver amount 1.0 g / m 2 gelatin 0.4 g / m 2.

【0227】 <保護層下層> ゼラチン 0.60 g/m2 ポリマーラテックス化合物例P−4 0.50 〃 1−ヒドロキシ−2−ベンズアルドオキシム 15 mg/m2 化合物− 80 〃 化合物−(10) 10 〃 <保護層上層> ゼラチン 0.40 g/m2 不定形マット剤(SiO2 、平均粒径4.4 μm) 30 mg/m2 流動パラフィン(ゼラチン分散物) 50 〃 N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル グリシンポタジウム 5 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 *固体分散染料A 80 〃 *固体分散染料B 40 〃 〔*固体分散染料A、Bの微粒子分散物の調製方法〕 本発明での調製方法は、特開昭63−197943号公
報に記載の方法に準じた。すなわち、水(434ミリリ
ットル)および Triton X−200R界面活性剤(TX
−200R)(53g)(Rohm & Haas社から販売)の
6.7%溶液とを、1.5リットルネジ蓋ビンに入れ
た。これに、染料の20gと酸化ジルコニウム(ZrO
2 )のビーズ(800ミリリットル)(2mm径)を添加
し、このビンの蓋をしっかりしめて、ミル内に置き、内
容物を4日間粉砕した。内容物を12.5%のゼラチン
水溶液(160g)に添加し、ロールミルに10分間置
いて泡を減少させた。得られた混合物をろ過して、Zr
2 ビーズを除去した。このままでは、平均粒径は約
0.3μmであるけれども、まだ粗粒子を含んでいるの
で、この後遠心分離法によって分級し、最大粒子サイズ
が1μm以下になるようにした。
<Lower Layer of Protective Layer> Gelatin 0.60 g / m 2 Polymer Latex Compound Example P-4 0.50 {1-hydroxy-2-benzaldoxime 15 mg / m 2 Compound-80 {Compound- (10) 10} <Protection Upper layer> Gelatin 0.40 g / m 2 Amorphous matting agent (SiO 2 , average particle size 4.4 μm) 30 mg / m 2 Liquid paraffin (gelatin dispersion) 50 ° N-perfluorooctanesulfonyl-N-propyl glycine potadium 5 ナ ト リ ウ ム Sodium dodecylbenzenesulfonate 10 〃 * Solid disperse dye A 80 〃 * Solid disperse dye B 40 〃 [* Method for preparing fine particle dispersion of solid disperse dyes A and B] 63-197943. That is, water (434 ml) and Triton X-200R surfactant (TX
-200R) (53 g) (sold by Rohm & Haas) and a 6.7% solution were placed in a 1.5 liter screw cap bottle. 20 g of the dye and zirconium oxide (ZrO)
2 ) Beads (800 ml) (2 mm diameter) were added, the bottle was tightly closed, placed in a mill and the contents were ground for 4 days. The contents were added to a 12.5% aqueous gelatin solution (160 g) and placed on a roll mill for 10 minutes to reduce foam. The resulting mixture is filtered and Zr
O 2 beads were removed. In this state, the average particle size is about 0.3 μm, but still contains coarse particles. Therefore, the particles were classified by centrifugation to make the maximum particle size 1 μm or less.

【0228】[0228]

【化62】 Embedded image

【0229】得られた試料を用いて、実施例1と同様に
写真性能を評価した。現像液は、実施例1のものに対し
てp−アミノフェノール誘導体と3-ピラゾリドン類を
表11記載のものに変えて使用した。定着液は、実施例
1と同じものを使用した。試料は、富士写真フィルム
(株)製、名室プリンターFPA−800FX(フレネ
ルレンズ使用)で光学ウエッジを通して露光し、自動現
像機として、富士写真フィルム(株)製AP560を用
い、35℃、20秒の現像条件で処理した。結果を表1
1に示す。
The photographic performance was evaluated in the same manner as in Example 1 using the obtained sample. The developing solution was the same as that used in Example 1 except that the p-aminophenol derivative and 3-pyrazolidones were changed to those shown in Table 11. The same fixing solution as in Example 1 was used. The sample is Fuji Photo Film
Exposure was performed through an optical wedge with a name room printer FPA-800FX (using Fresnel lens) manufactured by Co., Ltd., and processing was performed at 35 ° C. for 20 seconds using an automatic developing machine AP560 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. . Table 1 shows the results
It is shown in FIG.

【0230】[0230]

【表11】 [Table 11]

【0231】表11に示される結果から明らかなよう
に、本発明の現像液の水準は、高感度、高コントラスト
であり、pHの低下した低活性現像液でも好ましい性能
を維持していることが分かる。
As is clear from the results shown in Table 11, the level of the developing solution of the present invention is high in sensitivity and high in contrast, and the preferable performance is maintained even in a low-activity developing solution having a lowered pH. I understand.

【0232】(実施例3)実施例1の乳剤Aを下記の乳
剤Bに替え、EM層の増感色素を下記の化合物(S−
3)に替えて銀1モル当り2.1×10-4モル添加する
こと以外は、実施例1と同様にして試料を作成した。 〔乳剤B〕銀1モル当たり1mgの下記構造式のセレン
増感剤、1mgのチオ硫酸ナトリウムおよび4mgの塩
化金酸を加えて60℃で最適感度になるように化学増感
すること以外は実施例1の乳剤Aと同様に調整した。
(Example 3) Emulsion A in Example 1 was replaced with Emulsion B shown below, and the sensitizing dye for the EM layer was changed from the following compound (S-
A sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that 2.1 × 10 -4 mol per mol of silver was added instead of 3). [Emulsion B] Performed except that 1 mg of a selenium sensitizer of the following structural formula per mole of silver, 1 mg of sodium thiosulfate and 4 mg of chloroauric acid were added and chemically sensitized at 60 ° C. to obtain an optimum sensitivity. The preparation was carried out in the same manner as in Emulsion A of Example 1.

【0233】[0233]

【化63】 Embedded image

【0234】この様にして得られた試料について実施例
1と同様の評価をおこなった。但し、写真性能の評価
は、633nmにピークを持つ干渉フィルターに替え
て、発光時間10-6secのキセノンフラッシュ光で露
光し、現像処理は実施例1の現像液処方の化合物を表1
2記載のものに替えて使用した。結果を表12に示す。
The samples thus obtained were evaluated in the same manner as in Example 1. However, the evaluation of the photographic performance was performed by exposing with a xenon flash light having an emission time of 10 −6 sec instead of the interference filter having a peak at 633 nm.
Used in place of those described in 2. Table 12 shows the results.

【0235】[0235]

【表12】 [Table 12]

【0236】表12に示される結果から明らかなよう
に、本発明の現像液の水準は、高感度、高コントラスト
であり、pHの低下した低活性現像液でも優れた性能を
維持していることが分かる。
As is evident from the results shown in Table 12, the level of the developing solution of the present invention is high in sensitivity and high in contrast, and excellent performance is maintained even in a low-activity developing solution having a lowered pH. I understand.

【0237】(実施例4)実施例3のEM層の増感色素
を下記化合物(S−4)に替え、銀1モル当り5.4×
10-5モル添加し、安定剤を4,4′−ビス−(4,6
−ジナフトキシ−ピリミジン−2−イルアミノ)−スチ
ルベンジスルホン酸ジナトリウム塩350mg/Ag1
モル、2,5−ジメチル−3−アリル−ベンゾチアゾー
ルヨード塩450mg/Ag1モルに替えて添加し、バ
ック層は下記組成のバック層およびバック保護層に替え
て、その他は実施例3と同様にして、試料を作成した。
Example 4 The sensitizing dye in the EM layer of Example 3 was replaced with the following compound (S-4), and 5.4 × / mol of silver was used.
10 -5 mol was added, and the stabilizer was 4,4'-bis- (4,6
-Dinaphthoxy-pyrimidin-2-ylamino) -stilbene disulfonic acid disodium salt 350 mg / Ag1
Mole, 2,5-dimethyl-3-allyl-benzothiazole iodide salt 450 mg / Ag 1 mole, and the back layer was replaced with the back layer and the back protective layer having the following compositions, and the other conditions were the same as in Example 3. Thus, a sample was prepared.

【0238】[0238]

【化64】 Embedded image

【0239】 <バック層> ゼラチン 2.0 g/m2 化合物−(1) 3 mg/m2 染料−a 35 〃 染料−b 95 〃 染料−c 70 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 25 〃 ドデシルベンゼンスルフォン酸ナトリウム 35 〃 酢酸 10 〃 1,3−ジビニルスルホニル−2−プロパノール 130 〃 <バック保護層> ゼラチン 0.8 g/m2 化合物−(1) 1 mg/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μm) 35 〃 ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 7 〃 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃 化合物−(2) 2 〃 酢酸ナトリウム 30 〃<Back Layer> Gelatin 2.0 g / m 2 Compound- (1) 3 mg / m 2 Dye-a 35 染料 Dye-b 95 染料 Dye-c 70 〃 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 25 〃 Dodecylbenzene Sodium sulfonate 35 {acetic acid 10} 1,3-divinylsulfonyl-2-propanol 130 {back protective layer> gelatin 0.8 g / m 2 compound- (1) 1 mg / m 2 polymethyl methacrylate fine particles (average particle size 3 .4 μm) 35 ナ ト リ ウ ム sodium dihexyl-α-sulfosuccinate 7 ナ ト リ ウ ム sodium dodecylbenzenesulfonate 10 化合物 compound-(2) 2 ナ ト リ ウ ム sodium acetate 30

【0240】[0240]

【化65】 Embedded image

【0241】この様にして得られた試料を、実施例3と
同じ現像液を用いて評価をおこなった。但し、写真性能
の評価は780nmにピークを持つ干渉フィルターに替え
て、おこなった。その結果、実施例3と同様に、低pH
現像液でも、極めて高感度で、硬調な写真特性のレーザ
ースキャナー感材を得ることができた。
The sample thus obtained was evaluated using the same developer as in Example 3. However, the evaluation of the photographic performance was performed in place of an interference filter having a peak at 780 nm. As a result, as in Example 3, low pH
Even with a developing solution, a laser scanner photosensitive material having extremely high sensitivity and high contrast was obtained.

【0242】[0242]

【発明の効果】上記の通り、本発明によれば、ハイドロ
キノンを用いないアスコルビン酸系現像液において、写
真性能の変化が少なく、改善された現像液、および改善
された硬調画像の形成方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, in an ascorbic acid-based developer not using hydroquinone, a change in photographic performance is small, an improved developer, and an improved method of forming a high contrast image are provided. can do.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 実質的にジヒドロキシべンゼン類を含有
せず、現像主薬としてアスコルビン酸及び/又はその誘
導体を含有し、さらに、超加成性を発現する補助現像主
薬として下記一般式(A)で表されるアミノフエノール
誘導体と、親水性基を有する3−ピラゾリドン類とを含
有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用現
像液。 【化1】 (式中、R1、R2、R3およびR4は、同一または異なっ
て、水素原子または置換基を表し、R5およびR6は、同
一または異なって、アルキル基、アリール基、アラルキ
ル基またはヘテロ環基を表す。)
1. An auxiliary developing agent which does not substantially contain dihydroxybenzenes, contains ascorbic acid and / or a derivative thereof as a developing agent, and exhibits superadditivity. A developer for a silver halide photographic light-sensitive material, comprising an aminophenol derivative represented by the formula: and a 3-pyrazolidone having a hydrophilic group. Embedded image (Wherein, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and represent a hydrogen atom or a substituent, and R 5 and R 6 are the same or different and represent an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group Or a heterocyclic group.)
【請求項2】 3−ピラゾリドン類が、親水性基を有す
る1−アリール−4,4−ジ置換−3−ピラゾリドン類
であることを特徴とする請求項1記載の現像液。
2. The developer according to claim 1, wherein the 3-pyrazolidones are 1-aryl-4,4-disubstituted-3-pyrazolidones having a hydrophilic group.
【請求項3】 さらに下記一般式(G)で表される銀汚
れ防止剤を含むことを特徴とする請求項1または2記載
の現像液。 【化2】 (式中、DおよびEは、同一または異なって、−CH=
で示される基、−CR0=で示される基、または窒素原
子を表し、ここで上記R0は、置換基を表し、L1、L2
およびL3は、同一または異なって、水素原子、ハロゲ
ン原子、または炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原
子、およびリン原子のいずれかの原子で環に結合する置
換基を表す。但し、L1、L2、L3およびR0の少なくと
も1つは、一SM基(Mはアルカリ金属原子、水素原
子、アンモニウム基)を表す。なお、EとDのいずれか
が窒素原子であり、他方が−CH=で示される基または
−CR0=で示される基であるときは、Eが窒素原子で
あり、しかもL2およびL3はヒドロキシル基であること
はない。)
3. The developing solution according to claim 1, further comprising a silver stain inhibitor represented by the following general formula (G). Embedded image (Wherein D and E are the same or different and -CH =
Represents a group represented by —CR 0 、, or a nitrogen atom, wherein R 0 represents a substituent, and L 1 and L 2
And L 3 are the same or different and represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a substituent bonded to the ring at any one of a carbon atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, and a phosphorus atom. However, at least one of L 1 , L 2 , L 3 and R 0 represents one SM group (M is an alkali metal atom, a hydrogen atom, an ammonium group). Incidentally, any nitrogen atom of the E and D, when the other is a group represented a group represented by or -CR 0 = by -CH =, E is a nitrogen atom, moreover L 2 and L 3 Is not a hydroxyl group. )
【請求項4】 現像液中の炭酸水素塩濃度が0.1モル
/リットル以上、炭酸水素塩と炭酸塩の合計濃度が0.
5モル/リットル以上であり、かつpHが9.0〜1
0.5であることを特徴とする請求項1〜3記載の現像
液。
4. The developer has a bicarbonate concentration of 0.1 mol / liter or more and a total concentration of bicarbonate and carbonate of 0.1 mol / liter or more.
5 mol / l or more and pH 9.0 to 1
The developer according to claim 1, wherein the developer is 0.5.
【請求項5】 ヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化
銀写真感光材料を、請求項1〜4のいずれかに記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料用現像液で処理することを特徴
とする現像処理方法。
5. A developing method comprising treating a silver halide photographic material containing a hydrazine derivative with the developer for a silver halide photographic material according to claim 1.
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