JPH11126370A - Optical record medium - Google Patents

Optical record medium

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JPH11126370A
JPH11126370A JP9309704A JP30970497A JPH11126370A JP H11126370 A JPH11126370 A JP H11126370A JP 9309704 A JP9309704 A JP 9309704A JP 30970497 A JP30970497 A JP 30970497A JP H11126370 A JPH11126370 A JP H11126370A
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JP
Japan
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layer
information recording
substrate
reflective layer
recording surface
Prior art date
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Application number
JP9309704A
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Japanese (ja)
Inventor
Takanobu Higuchi
隆信 樋口
Tomoharu Jinno
智施 神野
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Pioneer Corp
Original Assignee
Pioneer Electronic Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH11126370A publication Critical patent/JPH11126370A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize accurate reproducing without depending on wavelengths of reproducing laser light by constituting a first reflecting layer of two layers of a metal layer and a dielectric layer. SOLUTION: The first reflecting layer 3 has a two-layer structure comprising a metal layer 4a formed on a first information recording surface 2 of a first substrate 1 and a dielectric layer 3b on the metal layer 3a. The metal layer 3a consists of, for example, Al, Au, Cu, Ni, Pt, Zn and Ag. As for the material of the dielectric layer 3b, a material having high refractive index than that of polycarbonate used for the first substrate 1 is preferably used, and for example, nitrides such as SiNx and AlNx and metal sulfides such as ZnS and CeS are used. Further, a protective film comprising SiO2 or the like as a protective film for the metal layer 3a is formed between the first substrate 1 and the metal layer 3a to prevent corrosion due to water permeating through the first substrate 1 or due to the reaction with residual monomers in the first substrate 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光により情
報の再生を行う情報記録面を複数有した光記録媒体に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium having a plurality of information recording surfaces for reproducing information by laser light.

【0002】[0002]

【従来の技術】情報記録面を複数有する光記録媒体が実
用化されつつある。このような記録媒体としては主に光
ディスクが用いられ、例えばDVD(ディジタルバーサ
タイルディスク)においては、情報記録面が1つではな
く、2又は4つ有するものもある。
2. Description of the Related Art Optical recording media having a plurality of information recording surfaces are being put to practical use. An optical disc is mainly used as such a recording medium. For example, a DVD (digital versatile disc) has not one but two or four information recording surfaces.

【0003】図8はDVDにおける2つの情報記録面を
有したディスク(以下、2層ディスクとする)の1例を
示す図である。第1の基板1は透光性を有する材料で形
成され第1の情報記録面2を有している。その第1の情
報記録面2上には金(Au)などの金属からなる中間反
射層である第1の反射層3が形成されている。第2の基
板7には第2の情報記録面6が設けられ、第2の情報記
録面6上にはアルミニウム(Al)などの金属からなる
第2の反射層5が形成されている。また、第1の基板1
及び第2の基板7はそれぞれの情報記録面を向かいあわ
せた状態でアクリル系紫外線硬化樹脂などの光硬化樹脂
により貼合わせられている。この光硬化樹脂によりスペ
ーサ層4が形成される。各情報記録面は、情報を担う波
長650nmに対応した大きさのピットが形成された各
基板表面のことである。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a disc having two information recording surfaces in a DVD (hereinafter, referred to as a double-layer disc). The first substrate 1 is formed of a light-transmitting material and has a first information recording surface 2. On the first information recording surface 2, a first reflection layer 3, which is an intermediate reflection layer made of a metal such as gold (Au), is formed. A second information recording surface 6 is provided on the second substrate 7, and a second reflective layer 5 made of a metal such as aluminum (Al) is formed on the second information recording surface 6. Also, the first substrate 1
The second substrate 7 is bonded with a photocurable resin such as an acrylic ultraviolet curable resin in a state where the respective information recording surfaces face each other. The spacer layer 4 is formed from the photocurable resin. Each information recording surface is a substrate surface on which pits having a size corresponding to a wavelength of 650 nm carrying information are formed.

【0004】このような2層ディスクを再生するに当た
って、まず再生すべき情報記録面を選択する。第1の情
報記録面2の場合は、650nmの波長を有する赤色レ
ーザ光を第1の情報記録面2上に集光させ、第1の反射
層3からの反射光の強度変化を検出することにより記録
情報を再生する。第2の情報記録面6の場合は、上記の
レーザ光を、第1の基板1、第1の反射層3、スペーサ
層4を透過させて第2の情報記録面6上に集光させ、ス
ペーサ層4、第1の反射層3、第1の基板を透過してき
た第2の反射層5からの反射光の強度変化を検出するこ
とにより記録情報を再生する。
In reproducing such a dual-layer disc, first, an information recording surface to be reproduced is selected. In the case of the first information recording surface 2, red laser light having a wavelength of 650 nm is focused on the first information recording surface 2, and a change in the intensity of light reflected from the first reflection layer 3 is detected. To reproduce the recorded information. In the case of the second information recording surface 6, the laser light is transmitted through the first substrate 1, the first reflection layer 3, and the spacer layer 4, and is focused on the second information recording surface 6, The recorded information is reproduced by detecting a change in the intensity of light reflected from the spacer layer 4, the first reflective layer 3, and the second reflective layer 5 transmitted through the first substrate.

【0005】このように、図8に示す2層ディスクは、
第1の基板1側から入射するレーザ光により第1及び第
2の情報記録面の記録情報を選択的に、かつ連続的に再
生することができる。この2層ディスクの場合、第2の
基板7側からレーザ光を入射させる必要がなく、第2の
基板7を透光性を有する材料で形成する必要はない。ま
た、第2の情報記録面6の記録情報を読み取るために、
第1の反射層3はレーザ光をある程度透過させるもので
なければならい。よって、第1の反射層3は、ある程度
の反射率及び透過率を有する材料で構成され、一般的に
は、約15nmの金(Au)薄膜が利用されている。
Thus, the two-layer disc shown in FIG.
The recorded information on the first and second information recording surfaces can be selectively and continuously reproduced by the laser light incident from the first substrate 1 side. In the case of this two-layer disc, there is no need to make laser light incident from the second substrate 7 side, and it is not necessary to form the second substrate 7 with a light-transmitting material. In order to read recorded information on the second information recording surface 6,
The first reflective layer 3 must be capable of transmitting laser light to some extent. Therefore, the first reflection layer 3 is made of a material having a certain degree of reflectance and transmittance, and generally uses a gold (Au) thin film of about 15 nm.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】近年、440nm付近
の青色レーザ光を用いることによりピットサイズやトラ
ックピッチを小さくし、更なる高密度記録を行う次世代
のDVDも検討されている。この次世代のDVDにおい
ても2層ディスクは当然考えられている。ところで、金
(Au)薄膜は青色レーザ光に対する反射率が小さく、
また、透過率も小さいという光学特性を有する。青色レ
ーザ光に対応した2層ディスクの第1の反射層を金(A
u)薄膜としてしまうと、第1の反射層からの反射光を
充分得ることができず第1の情報記録面の記録情報を再
生することができない。また、第1の反射層を透過する
透過光量も小さくなることから、第2の情報記録面から
の反射光も充分得ることができず第2情報記録面の記録
情報も再生できない。よって、再生に必要な反射光量を
得るために、2層ディスクの第1の反射層として、青色
レーザ光に対してもある程度の反射率及び透過率を有す
るものが望まれている。
In recent years, next-generation DVDs in which the pit size and track pitch are reduced by using a blue laser beam near 440 nm to perform higher-density recording have been studied. In this next-generation DVD, a two-layer disc is naturally considered. By the way, the gold (Au) thin film has a small reflectance for blue laser light,
In addition, it has an optical characteristic that transmittance is small. The first reflective layer of the two-layer disc corresponding to the blue laser light is formed of gold (A
u) If the film is formed as a thin film, the reflected light from the first reflective layer cannot be sufficiently obtained, and the information recorded on the first information recording surface cannot be reproduced. Further, since the amount of transmitted light passing through the first reflective layer is also small, the reflected light from the second information recording surface cannot be sufficiently obtained, and the recorded information on the second information recording surface cannot be reproduced. Therefore, in order to obtain the amount of reflected light required for reproduction, it is desired that the first reflective layer of the two-layer disc has a certain degree of reflectance and transmittance for blue laser light.

【0007】また、波長650nmの赤色レーザ光に対
応した2層ディスク(以下、既存の2層ディスク)を青
色レーザ光で再生することが検討されている。これは既
存の2層ディスクと次世代の2層ディスクとの互換性を
持たせるためである。このためには、既存の2層ディス
クの第1の反射層は赤色レーザ光及び青色レーザ光の双
方に対してある程度の反射率及び透過率を有するものに
する必要がある。
[0007] Further, reproduction of a two-layer disc (hereinafter, an existing two-layer disc) corresponding to a red laser beam having a wavelength of 650 nm using a blue laser beam is being studied. This is to make the existing two-layer disc compatible with the next-generation two-layer disc. For this purpose, it is necessary that the first reflective layer of the existing two-layer disc has a certain degree of reflectance and transmittance for both red laser light and blue laser light.

【0008】本発明は上述した点に鑑みなされたもので
あって、波長依存性のない反射層を用いることにより、
再生に用いるレーザ光の波長によらず各情報記録面の記
録情報を確実に再生できるようにした光記録媒体を提供
することにある。
[0008] The present invention has been made in view of the above points, and by using a reflection layer having no wavelength dependence,
An object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of reliably reproducing recorded information on each information recording surface regardless of the wavelength of a laser beam used for reproduction.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
少なくとも、第1の情報記録面と、第1の情報記録面に
形成された第1の反射層と、第2の情報記録面と、第2
の情報記録面上に形成された第2の反射層とを備えた光
記録媒体であって、第1の反射層は、金属層と誘電体層
の2層からなることを特徴とする。請求項1記載の発明
の作用によれば、第1の反射層を、金属層と誘電体層の
2層構造としたので、波長依存性のない反射層とするこ
とができる。
According to the first aspect of the present invention,
At least a first information recording surface, a first reflective layer formed on the first information recording surface, a second information recording surface, and a second information recording surface.
An optical recording medium comprising: a second reflective layer formed on the information recording surface of (1), wherein the first reflective layer comprises a metal layer and a dielectric layer. According to the operation of the first aspect of the present invention, since the first reflective layer has a two-layer structure of the metal layer and the dielectric layer, it can be a wavelength-independent reflective layer.

【0010】請求項2記載の発明は、少なくとも、第1
の情報記録面と、第1の情報記録面に形成された第1の
反射層と、第2の情報記録面と、第2の情報記録面上に
形成された第2の反射層とを備えた光記録媒体であっ
て、第1の反射層は、金属層が誘電体層で挟まれた3層
からなることを特徴とする。請求項2記載の発明の作用
によれば、第1の反射層を、金属層を誘電体層で挟んだ
3層構造にすることにより、波長依存性のない反射層と
することができる。
[0010] The second aspect of the present invention provides at least the first aspect.
, An information recording surface, a first reflective layer formed on the first information recording surface, a second information recording surface, and a second reflective layer formed on the second information recording surface. An optical recording medium according to claim 1, wherein the first reflection layer comprises three layers in which a metal layer is sandwiched between dielectric layers. According to the operation of the second aspect of the invention, the first reflective layer has a three-layer structure in which the metal layer is sandwiched between the dielectric layers, so that the reflective layer has no wavelength dependency.

【0011】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の光記録媒体において、第1の情報記録面は、透光性
を有する第1の基板上に形成されており、誘電体層に用
いられる誘電体の屈折率は、前記第1の基板の屈折率よ
り大きいことを特徴とする。請求項3記載の発明の作用
によれば、誘電体層を第1の基板より高い屈折率をもつ
材料としたので、誘電体層を薄くできる。
According to a third aspect of the present invention, in the optical recording medium according to the first or second aspect, the first information recording surface is formed on a first substrate having a light-transmitting property. The refractive index of the dielectric used for the first substrate is larger than the refractive index of the first substrate. According to the operation of the third aspect of the present invention, the dielectric layer is made of a material having a higher refractive index than the first substrate, so that the dielectric layer can be made thin.

【0012】請求項4記載の発明は、請求項1、2又は
3記載の光記録媒体において、金属層は銀単体あるいは
銀を主成分とする金属で形成されたことを特徴とする。
請求項4記載の発明の作用によれば、金属層に銀単体あ
るいは銀を主成分とする金属を用いることにより、第1
及び第2の反射層における反射率を25〜45%の間と
することができる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical recording medium according to the first, second or third aspect, the metal layer is formed of silver alone or a metal containing silver as a main component.
According to the operation of the invention described in claim 4, the first layer is formed by using silver alone or a metal containing silver as a main component for the metal layer.
And the reflectance of the second reflective layer can be between 25% and 45%.

【0013】請求項5記載の発明は、請求項1ないし4
のいずれか1に記載の光記録媒体において、誘電体層は
窒化珪素で形成されたことを特徴とする。請求項5記載
の発明の作用によれば、誘電体層の形成する際に副反応
の少ない窒素ガスを用いることができる。
[0013] The invention according to claim 5 is the invention according to claims 1 to 4.
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the dielectric layer is formed of silicon nitride. According to the operation of the fifth aspect, when forming the dielectric layer, it is possible to use a nitrogen gas with less side reaction.

【0014】請求項6記載の発明は、請求項1ないし5
のいずれか1に記載の光記録媒体において、第2の反射
層はアルミニウムを主成分とする金属で形成されたこと
を特徴とする。請求項6記載の作用によれば、第2の反
射層にアルミニウムを用いたので、反射効率を上げるこ
とができる。
The invention according to claim 6 is the first to fifth aspects.
The optical recording medium according to any one of the above, wherein the second reflective layer is formed of a metal containing aluminum as a main component. According to the function described in claim 6, since aluminum is used for the second reflection layer, the reflection efficiency can be increased.

【0015】請求項7記載の発明は、請求項1ないし6
のいずれか1に記載の光記録媒体において、第2の情報
記録面は第2の基板上に形成されており、第1及び第2
の基板は、第1の反射層と第2の反射層との間に設けら
れた光硬化樹脂により貼合わせられていることを特徴と
する。請求項7記載の作用によれば、第1の基板側から
レーザ光を照射し、第1及び第2の情報記録面の記録情
報を選択的かつ連続的に再生できる。
The invention according to claim 7 is the first to sixth aspects of the present invention.
In the optical recording medium according to any one of the above, the second information recording surface is formed on the second substrate, and the first and second information recording surfaces are formed on the second substrate.
Is characterized in that the substrate is bonded by a photocurable resin provided between the first reflection layer and the second reflection layer. According to the operation described in claim 7, the laser light is irradiated from the first substrate side, and the recorded information on the first and second information recording surfaces can be selectively and continuously reproduced.

【0016】請求項8記載の発明は、請求項1ないし7
のいずれか1に記載の光記録媒体において、該光記録媒
体の再生に用いられるレーザ光の波長によらず、前記第
1及び第2の反射層の反射率が25〜45%の間となる
ことを特徴とする。請求項8記載の作用によれば、再生
に用いられるレーザ光の波長によらず記録情報の再生に
必要な反射光量を得ることができ、仕様と異なる波長を
有するレーザ光を用いても各情報記録面の記録情報の再
生を確実に行うことができる。
[0016] The invention according to claim 8 is the invention according to claims 1 to 7.
In the optical recording medium according to any one of the above, the reflectance of the first and second reflective layers is between 25% and 45% regardless of the wavelength of the laser beam used for reproducing the optical recording medium. It is characterized by the following. According to the operation described in claim 8, it is possible to obtain the amount of reflected light necessary for reproducing the recorded information regardless of the wavelength of the laser light used for reproduction. The recorded information on the recording surface can be reliably reproduced.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。 (第1の実施形態)図1を参照しながら、本発明による
光記録媒体の第1の実施形態を説明する。図1は、第1
の実施形態の2層ディスクの構成を示す図である。図1
において、第1の情報記録面2を有する第1の基板1
と、第1の情報記録面2上に形成された第1の反射層3
と、第2の情報記録面6を有する第2の基板7と、第2
の情報記録面6上に形成された第2の反射層5を備えて
いる。また、第1の反射層3と第2の反射層5との間に
設けられた光硬化樹脂により第1の基板1と第2の基板
7が貼合わされている。この光硬化樹脂によりスペーサ
層4が形成される。
Embodiments of the present invention will be described below. (First Embodiment) A first embodiment of an optical recording medium according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 shows the first
It is a figure showing the composition of the double-layer disc of an embodiment. FIG.
, A first substrate 1 having a first information recording surface 2
And a first reflective layer 3 formed on the first information recording surface 2
A second substrate 7 having a second information recording surface 6;
The second reflection layer 5 formed on the information recording surface 6 of the first embodiment. Further, the first substrate 1 and the second substrate 7 are bonded by a photocurable resin provided between the first reflection layer 3 and the second reflection layer 5. The spacer layer 4 is formed from the photocurable resin.

【0018】第1及び第2の情報記録面は、再生用のレ
ーザ光の波長に応じたサイズの情報を担持するピットが
複数形成され基板1及び7の表面である。基板1及び7
が円盤状の場合、同心円または螺旋状にピットが配列し
ておりトラックを形成している。DVDの場合、第1の
基板1及び第2の基板7の厚さは約0.6mmでありポ
リカーボネート(屈折率:約1.6)などの透明樹脂で
構成されている。スペーサ層4はアクリル系紫外線硬化
樹脂(屈折率:約1.5)などの光硬化樹脂であり、約
40μmの厚さとなっている。第2の反射層5はアルミ
ニウムを主成分とする金属から形成され、その厚さは約
50nmである。
The first and second information recording surfaces are the surfaces of the substrates 1 and 7 on which a plurality of pits carrying information of a size corresponding to the wavelength of the laser beam for reproduction are formed. Substrates 1 and 7
Are disc-shaped, pits are arranged concentrically or spirally to form a track. In the case of a DVD, the thickness of the first substrate 1 and the second substrate 7 is about 0.6 mm, and is made of a transparent resin such as polycarbonate (refractive index: about 1.6). The spacer layer 4 is a photocurable resin such as an acrylic ultraviolet curable resin (refractive index: about 1.5) and has a thickness of about 40 μm. The second reflection layer 5 is formed of a metal containing aluminum as a main component, and has a thickness of about 50 nm.

【0019】次に第1の反射層3の構造を説明する。第
1の反射層3は、第1の基板1の第1の情報記録面2上
に形成された金属層3aと、該金属層3a上に形成され
た誘電体層3bの2層構造となっている。金属層3aの
材料は、例えば、アルミニウム(Al)、金(Au)、
銅(Cu)、ニッケル(Ni)、白金(Pt)、亜鉛
(Zn)、銀(Ag)等があげられ、特に各反射層での
反射率の下限を25%以上に設定する場合には、銀(A
g)を用いることが望ましい。また、上記各金属を主た
る成分として酸化又は腐食を防止するための他の元素を
光学特性が著しく変化しない範囲で添加した合金あるい
は、金属混合物を用いてもよい。
Next, the structure of the first reflection layer 3 will be described. The first reflective layer 3 has a two-layer structure of a metal layer 3a formed on the first information recording surface 2 of the first substrate 1 and a dielectric layer 3b formed on the metal layer 3a. ing. The material of the metal layer 3a is, for example, aluminum (Al), gold (Au),
Examples thereof include copper (Cu), nickel (Ni), platinum (Pt), zinc (Zn), and silver (Ag). Particularly, when the lower limit of the reflectance in each reflective layer is set to 25% or more, Silver (A
It is desirable to use g). Further, an alloy or a metal mixture in which other elements for preventing oxidation or corrosion are added as a main component of each of the above metals to such an extent that the optical characteristics are not significantly changed may be used.

【0020】誘電体層3bの誘電体材料は、SiNx
(窒化珪素:一般式Si3 4 )、AlNx(窒化アル
ミニウム) 等の窒化物、あるいは、ZnS、CeS等
の金属硫化物、あるいは、TiO2 、In2 3 、Zr
2 、ZnO、Bi2 3 、CeO2 、Eu2 3 、H
fO2 、La2 3 、Nd2 5 、MoO3 、Mg
O、Pr6 11、Sm2 3 、Sb2 3 、Sc
2 3 、SnO3 、SrTiO3 、Ta2 5 、Y2
3 等の金属酸化物、あるいは、PbF2 等の金属フッ化
物等、あるいは、ITO(In2 3 +SnO2 (5
%))があげられる。さらに、上記した誘電体材料を複
数種類混合した混合物であってもよい。
The dielectric material of the dielectric layer 3b is SiNx
(Silicon nitride: general formula Si 3 N 4 ), nitride such as AlNx (aluminum nitride), metal sulfide such as ZnS, CeS, or TiO 2 , In 2 O 3 , Zr
O 2 , ZnO, Bi 2 O 3 , CeO 2 , Eu 2 O 3 , H
fO 2 , La 2 O 3 , Nd 2 O 5 , MoO 3 , Mg
O, Pr 6 O 11, Sm 2 O 3, Sb 2 O 3, Sc
2 O 3 , SnO 3 , SrTiO 3 , Ta 2 O 5 , Y 2 O
3 or a metal fluoride such as PbF 2 , or ITO (In 2 O 3 + SnO 2 (5
%)). Further, a mixture of a plurality of the above-described dielectric materials may be used.

【0021】誘電体層3bに用いられる誘電体材料は、
第1の基板1に用いられるポリカーボネート(屈折率
1.6)に比べ高い屈折率を有するものが望ましい。誘
電体層3bに用いられる材料の屈折率が大きいほど誘電
体層の厚さを薄くすることができるので、生産時間の短
縮、誘電体材料の使用量の減少などのメリットが生じ
る。特にZnS(屈折率:2.2)、SiNx(屈折
率:2.0)などは安価な材料であることから、本発明
に用いる誘電体材料として好適である。
The dielectric material used for the dielectric layer 3b is
A material having a higher refractive index than the polycarbonate (refractive index 1.6) used for the first substrate 1 is desirable. Since the thickness of the dielectric layer can be reduced as the refractive index of the material used for the dielectric layer 3b is increased, advantages such as a reduction in production time and a reduction in the amount of the dielectric material used are brought about. Particularly, ZnS (refractive index: 2.2), SiNx (refractive index: 2.0), and the like are inexpensive materials, and thus are suitable as the dielectric material used in the present invention.

【0022】なお、第1の反射層を形成する誘電体層に
用いる誘電体の屈折率が大きいほどよいということは、
第1の実施形態に限らず以下に説明する第2、第3の実
施形態においても同様である。
It should be noted that the larger the refractive index of the dielectric used for the dielectric layer forming the first reflection layer, the better.
The same applies to not only the first embodiment but also the second and third embodiments described below.

【0023】さらに、第1の基板1と金属層3aの間
に、金属層3aの保護膜としてSiO2 などから構成さ
れる保護膜(厚さ:50nm)を形成してもよい。この
保護膜は、第1の基板1を透過してくる水分や第1の基
板1中に含まれる残留モノマーとの反応により、金属層
3aの金属が酸化または腐蝕するのを防止するためのも
のである。保護膜をSiO2 で形成した場合、SiO2
の屈折率は約1.5であり第1の基板1のポリカーボネ
ート(屈折率:1.6)とほぼ同一である。このためS
iO2 からなる保護膜は第1の基板1と一体とみなせ
る。よって、SiO2 からなる保護膜は、金属層3aと
誘電体層3bからなる第1の反射層3の反射率や透過率
に何の影響も与えない。また、保護膜の材料はSiO2
だけでなく第1の基板1と同程度の屈折率を持つ他の誘
電体を用いてもよい。
Further, a protective film (thickness: 50 nm) made of SiO 2 or the like may be formed as a protective film for the metal layer 3a between the first substrate 1 and the metal layer 3a. This protective film is for preventing the metal of the metal layer 3a from being oxidized or corroded by the reaction with the moisture permeating the first substrate 1 and the residual monomer contained in the first substrate 1. It is. If the protective film is formed by SiO 2, SiO 2
Has a refractive index of about 1.5, which is almost the same as that of the polycarbonate of the first substrate 1 (refractive index: 1.6). Therefore S
The protective film made of iO 2 can be regarded as integral with the first substrate 1. Therefore, the protective film made of SiO 2 has no effect on the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3 made of the metal layer 3a and the dielectric layer 3b. The material of the protective film is SiO 2
Not only that, other dielectrics having the same refractive index as the first substrate 1 may be used.

【0024】次に、第1の反射層3の光学特性(反射率
及び透過率)について説明する。図2は金属層3a、誘
電体層3bをそれぞれAu、ZnSとした場合、図3は
金属層3a、誘電体層3bをそれぞれAg、ZnSとし
た場合における第1の反射層3の光学特性を示す図であ
る。
Next, the optical characteristics (reflectance and transmittance) of the first reflection layer 3 will be described. FIG. 2 shows the optical characteristics of the first reflective layer 3 when the metal layer 3a and the dielectric layer 3b are made of Au and ZnS, respectively. FIG. 3 shows the optical characteristics of the first reflective layer 3 when the metal layer 3a and the dielectric layer 3b are made of Ag and ZnS, respectively. FIG.

【0025】・Au/ZnSの場合 図2(a)は誘電体層3bに用いるZnSの層厚を45
nmとした場合の金属層3aのAuの層厚と第1の反射
層3の反射率及び透過率との関係を示した図である。図
中18、19は、再生に用いるレーザ光の波長を650
nmとした場合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示して
いる。20、21は再生に用いるレーザ光の波長を43
0nmとした場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線であ
る。
In the case of Au / ZnS FIG. 2A shows that the thickness of ZnS used for the dielectric layer 3b is 45
FIG. 6 is a diagram showing a relationship between the Au layer thickness of the metal layer 3a and the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3 when the thickness is set to nm. In the figure, reference numerals 18 and 19 indicate that the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650.
The reflectance R and the transmittance T in the case of nm are shown. Reference numerals 20 and 21 denote 43 wavelengths of the laser beam used for reproduction.
It is a curve which shows the reflectance R and the transmittance | permeability T at 0 nm.

【0026】図2(b)は金属層3aに用いるAuの層
厚を10nmとした場合の誘電体層3bのZnSの層厚
と第1の反射層3の反射率及び透過率との関係を示した
図である。図中22、23は、再生に用いるレーザ光の
波長を650nmとした場合の反射率Rと透過率Tをそ
れぞれ示している。24、25は再生に用いるレーザ光
の波長を430nmとした場合の反射率Rと透過率Tを
示す曲線である。
FIG. 2B shows the relationship between the ZnS layer thickness of the dielectric layer 3b and the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3 when the thickness of Au used for the metal layer 3a is 10 nm. FIG. In the drawing, reference numerals 22 and 23 indicate the reflectance R and the transmittance T, respectively, when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm. 24 and 25 are curves showing the reflectance R and the transmittance T when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 430 nm.

【0027】図2(a)から、Auの層厚の範囲が8〜
10nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1の反
射層3での反射率Rが20%を越え、かつ透過率Tが5
0%を以上となることが分かる。よって、第1の反射層
3の反射率R、透過率Tが最適となるAuからなる金属
層3aの層厚の最適な範囲は8〜10nmである。
From FIG. 2A, the range of the Au layer thickness is from 8 to
At 10 nm, the reflectance R of the first reflective layer 3 exceeds 20% and the transmittance T is 5 regardless of the wavelength of the laser beam.
It turns out that it becomes 0% or more. Therefore, the optimal range of the thickness of the metal layer 3a made of Au in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflective layer 3 are optimal is 8 to 10 nm.

【0028】また、図2(b)から、ZnSの層厚が5
0〜70nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1
の反射層3での反射率Rが20%を越え、かつ透過率T
が50%を以上となることが分かる。よって、第1の反
射層3の反射率R、透過率Tが最適となるZnSからな
る誘電体層3bの層厚の最適な範囲は50〜70nmで
ある。
FIG. 2B shows that the ZnS layer has a thickness of 5 mm.
When the wavelength is from 0 to 70 nm, the first
The reflectance R of the reflective layer 3 exceeds 20% and the transmittance T
Is more than 50%. Therefore, the optimum range of the thickness of the dielectric layer 3b made of ZnS in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflection layer 3 are optimum is 50 to 70 nm.

【0029】よって、Auからなる金属層3aの層厚を
8〜10nm、ZnSからなる誘電体層3bの層厚を5
0〜70nmとし、第2の反射層5にアルミニウムなど
の高反射率(アルミニウムで形成された第2の反射層5
の反射率は約70%である。)の材料を用いれば、第1
の反射層3及び第2の反射層5の反射率(記録媒体に入
射する光量を100とした場合の、各反射層で反射して
くる情報再生に用いることのできる反射光量の割合。以
下、同様)を20〜45%の間とすることができる。
Therefore, the thickness of the metal layer 3a made of Au is 8 to 10 nm, and the thickness of the dielectric layer 3b made of ZnS is 5 nm.
The second reflective layer 5 has a high reflectivity such as aluminum (the second reflective layer 5 made of aluminum).
Has a reflectance of about 70%. ), The first material
Of the reflective layer 3 and the second reflective layer 5 (the ratio of the amount of reflected light that can be used for reproducing information reflected by each reflective layer, where the amount of light incident on the recording medium is 100. The same) between 20 and 45%.

【0030】・Ag/ZnSの場合 図3(a)は誘電体層3bに用いるZnSの層厚を45
nmとした場合の金属層3aのAgの層厚と第1の反射
層3の反射率及び透過率との関係を示した図である。図
中10、11は、再生に用いるレーザ光の波長を650
nmとした場合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示して
いる。12、13は再生に用いるレーザ光の波長を45
0nmとした場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線であ
る。
In the case of Ag / ZnS FIG. 3A shows that the thickness of ZnS used for the dielectric layer 3b is 45
FIG. 5 is a diagram showing a relationship between the Ag layer thickness of the metal layer 3a and the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3 when the thickness is set to nm. In the figure, reference numerals 10 and 11 indicate that the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650.
The reflectance R and the transmittance T in the case of nm are shown. Reference numerals 12 and 13 indicate that the wavelength of the laser beam used for reproduction is 45.
It is a curve which shows the reflectance R and the transmittance | permeability T at 0 nm.

【0031】図3(b)は金属層3aに用いるAgの層
厚を12nmとした場合の誘電体層3bのZnSの層厚
と第1の反射層3の反射率及び透過率との関係を示した
図である。図中14、15は、再生に用いるレーザ光の
波長を650nmとした場合の反射率Rと透過率Tをそ
れぞれ示している。16、17は再生に用いるレーザ光
の波長を450nmとした場合の反射率Rと透過率Tを
示す曲線である。
FIG. 3B shows the relationship between the ZnS layer thickness of the dielectric layer 3b and the reflectivity and transmittance of the first reflective layer 3 when the Ag layer thickness used for the metal layer 3a is 12 nm. FIG. 14 and 15 show the reflectance R and the transmittance T, respectively, when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm. Reference numerals 16 and 17 are curves showing the reflectance R and the transmittance T when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 450 nm.

【0032】図3(a)から、Agの層厚の範囲が12
〜14nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1の
反射層3での反射率Rが25%を越え、かつ透過率Tが
60%を以上となることが分かる。よって、第1の反射
層3の反射率R、透過率Tが最適となるAgからなる金
属層3aの層厚の最適な範囲は12〜14nmである。
FIG. 3A shows that the range of the Ag layer thickness is 12
It can be seen that the reflectivity R of the first reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T exceeds 60%, irrespective of the wavelength of the laser light, when the wavelength is up to 14 nm. Therefore, the optimal range of the thickness of the metal layer 3a made of Ag, at which the reflectance R and the transmittance T of the first reflective layer 3 are optimal, is 12 to 14 nm.

【0033】また、図3(b)から、ZnSの層厚が4
5〜60nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1
の反射層3での反射率Rが25%を越え、かつ透過率T
が60%を以上となることが分かる。よって、第1の反
射層3の反射率R、透過率Tが最適となるZnSからな
る誘電体層3bの層厚の最適な範囲は45〜60nmで
ある。
FIG. 3B shows that the ZnS layer thickness is 4 mm.
When the wavelength is 5 to 60 nm, regardless of the wavelength of the laser beam, the first
The reflectance R of the reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T
Is more than 60%. Therefore, the optimal range of the thickness of the dielectric layer 3b made of ZnS in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflective layer 3 are optimal is 45 to 60 nm.

【0034】よって、ZnSからなる誘電体層3bの層
厚を45〜60nm、Agからなる金属層3aの層厚を
12〜14nmとし、第2の反射層5にアルミニウムな
どの高反射率の材料を用いれば、第1の反射層3及び第
2の反射層5のそれぞれの反射率を25〜45%とする
ことができる。
Therefore, the thickness of the dielectric layer 3b made of ZnS is set to 45 to 60 nm, the thickness of the metal layer 3a made of Ag is set to 12 to 14 nm, and the second reflective layer 5 is made of a material having high reflectivity such as aluminum. Is used, the reflectance of each of the first reflective layer 3 and the second reflective layer 5 can be 25 to 45%.

【0035】(第2の実施形態)次に、図4を参照しな
がら、本発明による光記録媒体の第2の実施形態を説明
する。なお、第1の反射層3の構成以外は第1の実施形
態と同様である。図4は第2の実施形態の2層ディスク
の構成を詳細に示した図である。図4において、第1の
反射層3は、第1の基板1の情報記録面(即ち、第1の
情報記録面2)上に形成された誘電体層3cと、該誘電
体層3c上に形成された金属層3dの2層から構成され
ている。誘電体層3cの材料としては第1の実施形態で
列挙した材料を用いることができる。金属層3dの材料
は第1の実施形態で列挙した材料でもよいが、第2の実
施形態において第1の反射層3及び第2の反射層5の反
射率を25〜45%の間にできる金属層3dの材料は銀
(Ag)のみである。このことは本願発明者の実験によ
り確認された。
(Second Embodiment) Next, an optical recording medium according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Except for the configuration of the first reflection layer 3, the configuration is the same as that of the first embodiment. FIG. 4 is a diagram showing the configuration of the dual-layer disc of the second embodiment in detail. In FIG. 4, the first reflective layer 3 includes a dielectric layer 3c formed on the information recording surface of the first substrate 1 (that is, the first information recording surface 2) and a dielectric layer 3c formed on the dielectric layer 3c. It is composed of two layers of the formed metal layer 3d. The materials listed in the first embodiment can be used as the material of the dielectric layer 3c. The material of the metal layer 3d may be the material listed in the first embodiment, but in the second embodiment, the reflectance of the first reflective layer 3 and the second reflective layer 5 can be set to 25 to 45%. The material of the metal layer 3d is only silver (Ag). This was confirmed by the experiment of the present inventor.

【0036】また、金属層3dとスペーサ層3との間
に、金属層3dの保護膜としてSiO2 などから構成さ
れる薄膜(厚さ:50nm)を形成してもよい。この保
護膜は、金属層3dが酸化または腐蝕を防止するための
ものである。保護膜をSiO2 で形成した場合、SiO
2 の屈折率は1.5でありスペーサ層を構成しているア
クリル系紫外線硬化樹脂(屈折率:1.5)とほぼ同一
である。このためSiO2 からなる保護膜はスペーサ層
3と一体とみなせる。よって、SiO2 からなる保護膜
は、金属層3dと誘電体層3cからなる第1の反射層3
の反射率や透過率に何の影響も与えない。また、保護膜
の材料はSiO2 だけでなくスペーサ層4と同程度の屈
折率を持つ誘電体を用いてもよい。
A thin film (thickness: 50 nm) made of SiO 2 or the like may be formed between the metal layer 3d and the spacer layer 3 as a protective film for the metal layer 3d. This protective film is for preventing the metal layer 3d from oxidizing or corroding. When the protective film is formed of SiO 2 ,
The refractive index of 2 is 1.5, which is almost the same as that of the acrylic ultraviolet curing resin (refractive index: 1.5) constituting the spacer layer. Therefore, the protective film made of SiO 2 can be regarded as integral with the spacer layer 3. Therefore, the protective film made of SiO 2 is the first reflective layer 3 made of the metal layer 3d and the dielectric layer 3c.
Has no effect on the reflectance or transmittance of the light. Further, as the material of the protective film, not only SiO 2 but also a dielectric having a refractive index similar to that of the spacer layer 4 may be used.

【0037】次に、第1の反射層3の光学特性(反射率
及び透過率)について説明する。図5は誘電体層3c、
金属層3dをそれぞれSiNx、Agとした場合におけ
る第1の反射層3の光学特性を示す図である。
Next, the optical characteristics (reflectance and transmittance) of the first reflection layer 3 will be described. FIG. 5 shows the dielectric layer 3c,
FIG. 4 is a diagram illustrating optical characteristics of a first reflective layer 3 when a metal layer 3d is made of SiNx and Ag, respectively.

【0038】・SiNx/Agの場合 図5(a)は誘電体層3cに用いるSiNxの層厚を6
0nmとした場合の金属層3dのAgの層厚と第1の反
射層3の反射率及び透過率との関係を示した図である。
図中39、40は、再生に用いるレーザ光の波長を65
0nmとした場合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示し
ている。41、42は再生に用いるレーザ光の波長を4
30nmとした場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線で
ある。
In the case of SiNx / Ag FIG. 5A shows that the thickness of the SiNx used for the dielectric layer 3c is 6
FIG. 9 is a diagram illustrating a relationship between the Ag layer thickness of the metal layer 3d and the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3 when the thickness is 0 nm.
In the figure, reference numerals 39 and 40 denote wavelengths of laser light used for reproduction of 65.
The reflectance R and the transmittance T in the case of 0 nm are shown. Reference numerals 41 and 42 denote the wavelength of the laser beam used for reproduction as 4
It is a curve which shows the reflectance R and the transmittance | permeability T at 30 nm.

【0039】図5(b)は金属層3dに用いるAgの層
厚を11.5nmとした場合の誘電体層3cのSiNx
の層厚と第1の反射層3の反射率及び透過率との関係を
示した図である。図中43、44は、再生に用いるレー
ザ光の波長を650nmとした場合の反射率Rと透過率
Tをそれぞれ示している。45、46は再生に用いるレ
ーザ光の波長を430nmとした場合の反射率Rと透過
率Tを示す曲線である。
FIG. 5B shows the SiNx of the dielectric layer 3c when the thickness of Ag used for the metal layer 3d is 11.5 nm.
FIG. 3 is a diagram showing a relationship between the layer thickness of the first reflective layer 3 and the reflectance and transmittance of the first reflective layer 3. In the drawing, 43 and 44 indicate the reflectance R and the transmittance T, respectively, when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm. 45 and 46 are curves showing the reflectance R and the transmittance T when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 430 nm.

【0040】図5(a)から、Agの層厚の範囲が10
〜12nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1の
反射層3での反射率Rが25%を越え、かつ透過率Tが
60%を以上となることが分かる。よって、第1の反射
層3の反射率R、透過率Tが最適となるAgからなる金
属層3dの層厚の最適な範囲は10〜12nmである。
FIG. 5A shows that the range of the Ag layer thickness is 10
It can be seen that the reflectivity R at the first reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T exceeds 60%, irrespective of the wavelength of the laser light, when the wavelength is 12 nm. Therefore, the optimal range of the thickness of the metal layer 3d made of Ag, in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflective layer 3 are optimal, is 10 to 12 nm.

【0041】また、図5(b)から、SiNxの層厚が
53〜64nmのときに、レーザ光の波長によらず、第
1の反射層3での反射率Rが25%を越え、かつ透過率
Tが60%を以上となることが分かる。よって、第1の
反射層3の反射率R、透過率Tが最適となるSiNxか
らなる誘電体層3cの層厚の最適な範囲は53〜64n
mである。
FIG. 5B shows that when the layer thickness of SiNx is 53 to 64 nm, the reflectance R of the first reflective layer 3 exceeds 25% regardless of the wavelength of the laser beam, and It can be seen that the transmittance T is 60% or more. Therefore, the optimum range of the thickness of the dielectric layer 3c made of SiNx at which the reflectance R and the transmittance T of the first reflection layer 3 are optimal is 53 to 64 n.
m.

【0042】よって、Agからなる金属層3dの層厚を
10〜12nm、SiNxからなる誘電体層3cの層厚
を53〜64nmとし、第2の反射層5にアルミニウム
などの高反射率の材料を用いれば、第1の反射層3及び
第2の反射層5の反射率を25〜45%の間とすること
ができる。
Accordingly, the thickness of the metal layer 3d made of Ag is set to 10 to 12 nm, the thickness of the dielectric layer 3c made of SiNx is set to 53 to 64 nm, and the second reflection layer 5 is made of a material having high reflectivity such as aluminum. Is used, the reflectance of the first reflective layer 3 and the second reflective layer 5 can be set to be between 25% and 45%.

【0043】(第3の実施形態)次に、図6を参照しな
がら、本発明による光記録媒体の第3の実施形態を説明
する。なお、第1の反射層3の構造以外は第1の実施形
態と同様である。図6は第3の実施形態の2層ディスク
の構成を示した図である。図6において、第1の反射層
3は、第1の基板1の情報記録面(即ち、第1の情報記
録面2)上に形成された誘電体層3eと、該誘電体層3
e上に形成された金属層3fと、該金属層3f上に形成
された誘電体層3gの3層から構成されている。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the optical recording medium according to the present invention will be described with reference to FIG. Except for the structure of the first reflection layer 3, the configuration is the same as that of the first embodiment. FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a double-layer disc according to the third embodiment. In FIG. 6, a first reflective layer 3 includes a dielectric layer 3e formed on an information recording surface of the first substrate 1 (that is, the first information recording surface 2), and a dielectric layer 3e.
e, and a metal layer 3f formed on the metal layer 3f and a dielectric layer 3g formed on the metal layer 3f.

【0044】誘電体層3e及び3gの材料としては第1
の実施形態で列挙した材料を用いることができる。金属
層3fの材料は第1の実施形態で列挙した材料でもよい
が、第2の実施形態において第1の反射層3及び第2の
反射層5の反射率を25〜45%の間にできる金属層3
fの材料は銀(Ag)のみである。このことは本願発明
者の実験により確認された。
As the material of the dielectric layers 3e and 3g,
The materials listed in the embodiment can be used. Although the material of the metal layer 3f may be the material listed in the first embodiment, the second embodiment can set the reflectance of the first reflective layer 3 and the second reflective layer 5 to 25 to 45%. Metal layer 3
The material of f is only silver (Ag). This was confirmed by the experiment of the present inventor.

【0045】次に、第1の反射層3の光学特性(反射率
及び透過率)について説明する。図7は第1の反射層3
の誘電体層3eとしてSiNx、金属層3fとしてA
g、誘電体層3gとしてSiNxを用いた場合である。
Next, the optical characteristics (reflectance and transmittance) of the first reflection layer 3 will be described. FIG. 7 shows the first reflection layer 3
SiNx as the dielectric layer 3e and A as the metal layer 3f
g, the case where SiNx is used as the dielectric layer 3g.

【0046】図7(a)は、誘電体層3eに用いるSi
Nx(第1の基板1側の誘電体層)の層厚を60nm、
誘電体層3gに用いるSiNx(スペーサ層4側の誘電
体層)の層厚を45nmとした場合の、金属層3fに用
いるAgの層厚と第1の反射層3の光学特性(反射率及
び透過率)との関係を示した図である。図中27、28
は、再生に用いるレーザ光の波長を650nmとした場
合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示している。29、
30は再生に用いるレーザ光の波長を442nmとした
場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線である。
FIG. 7 (a) shows the Si used for the dielectric layer 3e.
The thickness of Nx (the dielectric layer on the first substrate 1 side) is 60 nm,
When the thickness of the SiNx (dielectric layer on the side of the spacer layer 4) used for the dielectric layer 3g is 45 nm, the Ag thickness used for the metal layer 3f and the optical characteristics (reflectance and FIG. 27, 28 in the figure
Indicates the reflectance R and the transmittance T when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm. 29,
Reference numeral 30 denotes a curve showing the reflectance R and the transmittance T when the wavelength of the laser beam used for reproduction is 442 nm.

【0047】図7(b)は、金属層3fに用いるAgの
層厚を11.5nm、誘電体層3gに用いるSiNx
(スペーサ層4側の誘電体層)の層厚を45nmとした
場合の、誘電体層3eに用いるSiNx(第1の基板1
側の誘電体層)の層厚と第1の反射層3の光学特性(反
射率及び透過率)との関係を示した図である。図中3
1、32は、再生に用いるレーザ光の波長を650nm
とした場合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示してい
る。33、34は再生に用いるレーザ光の波長を442
nmとした場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線であ
る。
FIG. 7B shows that the thickness of Ag used for the metal layer 3f is 11.5 nm and the thickness of SiNx used for the dielectric layer 3g is
When the layer thickness of the (dielectric layer on the spacer layer 4 side) is 45 nm, SiNx (the first substrate 1) used for the dielectric layer 3e is used.
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a layer thickness of a first dielectric layer and optical characteristics (reflectance and transmittance) of a first reflection layer 3. 3 in the figure
Reference numerals 1 and 32 indicate that the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm.
Respectively, the reflectance R and the transmittance T are shown. Reference numerals 33 and 34 denote 442 wavelengths of laser light used for reproduction.
It is a curve which shows the reflectance R and the transmittance | permeability T when it is set to nm.

【0048】図7(c)は、金属層3fに用いるAgの
層厚を11.5nm、誘電体層3eに用いるSiNx
(第1の基板1側の誘電体層)の層厚を60nmとした
場合の、誘電体層3gに用いるSiNx(スペーサ層4
側の誘電体層)の層厚と第1の反射層3の光学特性(反
射率及び透過率)との関係を示した図である。図中3
5、36は、再生に用いるレーザ光の波長を650nm
とした場合の反射率Rと透過率Tをそれぞれ示してい
る。37、38は再生に用いるレーザ光の波長を442
nmとした場合の反射率Rと透過率Tを示す曲線であ
る。
FIG. 7C shows that the thickness of Ag used for the metal layer 3f is 11.5 nm and the thickness of SiNx used for the dielectric layer 3e is
When the thickness of the (dielectric layer on the first substrate 1 side) is 60 nm, SiNx (spacer layer 4) used for the dielectric layer 3g is used.
FIG. 4 is a diagram showing a relationship between a layer thickness of a first dielectric layer and optical characteristics (reflectance and transmittance) of a first reflection layer 3. 3 in the figure
Reference numerals 5 and 36 indicate that the wavelength of the laser beam used for reproduction is 650 nm.
Respectively, the reflectance R and the transmittance T are shown. Reference numerals 37 and 38 denote 442 wavelengths of laser light used for reproduction.
It is a curve which shows the reflectance R and the transmittance | permeability T when it is set to nm.

【0049】図7(a)より、Agの層厚の範囲が14
〜16nmのときに、レーザ光の波長によらず、第1の
反射層3での反射率Rが25%を越え、かつ透過率Tが
60%を以上となることが分かる。よって第1の反射層
3の反射率R、透過率Tが最適となるAgからなる金属
層3fの層厚の最適な範囲は14〜16nmである。
As shown in FIG. 7A, the range of the Ag layer thickness is 14
It can be seen that the reflectivity R of the first reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T exceeds 60%, regardless of the wavelength of the laser light, when the wavelength is 16 nm. Therefore, the optimal range of the layer thickness of the metal layer 3f made of Ag at which the reflectance R and the transmittance T of the first reflective layer 3 are optimal is 14 to 16 nm.

【0050】図7(b)より、第1の基板1側のSiN
xの層厚の範囲が59〜78nmのときに、レーザ光の
波長によらず、第1の反射層3での反射率Rが25%を
越え、かつ透過率Tが60%を以上となることが分か
る。よって第1の反射層3の反射率R、透過率Tが最適
となるSiNxからなる第1の基板1側の誘電体層3e
の層厚の最適な範囲は59〜78nmである。
As shown in FIG. 7B, the SiN on the first substrate 1 side
When the range of the layer thickness of x is 59 to 78 nm, the reflectance R of the first reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T exceeds 60% regardless of the wavelength of the laser light. You can see that. Therefore, the dielectric layer 3e on the first substrate 1 side made of SiNx, in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflection layer 3 are optimized.
The optimum range of the layer thickness is 59 to 78 nm.

【0051】図7(c)より、スペーサ層4側のSiN
xの層厚の範囲が44〜64nmのときに、レーザ光の
波長によらず、第1の反射層3での反射率Rが25%を
越え、かつ透過率Tが60%を以上となることが分か
る。よって第1の反射層3の反射率R、透過率Tが最適
となるSiNxからなるスペーサ層4側の誘電体層3e
の層厚の最適な範囲は44〜64nmである。
FIG. 7C shows that the SiN on the spacer layer 4 side
When the range of the layer thickness of x is 44 to 64 nm, the reflectance R of the first reflective layer 3 exceeds 25% and the transmittance T exceeds 60% regardless of the wavelength of the laser beam. You can see that. Therefore, the dielectric layer 3e on the side of the spacer layer 4 made of SiNx in which the reflectance R and the transmittance T of the first reflection layer 3 are optimized.
The optimum range of the layer thickness is 44 to 64 nm.

【0052】したがって、SiNxからなる第1の基板
1側の誘電体層3eの層厚を59〜78nm、Agから
なる金属層3fの層厚を14〜16nm、SiNxから
なるスペーサ層4側の誘電体層3gの層厚を44〜64
nmとし、第2の反射層5にアルミニウムなどの高反射
率の材料を用いれば、第1の反射層3及び第2の反射層
5の反射率を25〜45%の間とすることができる。
Therefore, the dielectric layer 3e made of SiNx on the first substrate 1 side has a thickness of 59 to 78 nm, the metal layer 3f made of Ag has a layer thickness of 14 to 16 nm, and the dielectric layer 3 made of SiNx has a dielectric layer thickness of 14 to 16 nm. The layer thickness of the body layer 3g is 44 to 64
nm, and if a material having a high reflectivity such as aluminum is used for the second reflective layer 5, the reflectivities of the first reflective layer 3 and the second reflective layer 5 can be between 25% and 45%. .

【0053】上記した各実施形態それぞれにおいて、第
1の反射層3を構成する誘電体層の材料としてSiNx
を用いることにより、2層ディスクを製造する工程での
利点も存在する。一般に、SiNxは窒素ガス雰囲気中
でSiをスパッタする反応性スパッタリング法によって
作成する。窒素ガスを用いた反応性スパッタリング法は
成膜速度が速い。しかも窒素ガスは反応性に乏しいた
め、所望の反応以外の副反応がなくスパッタリング装置
を汚すことがない。このためスパッタリング装置の性能
維持が容易であり、メンテナンスを行う回数も減ること
から、2層ディスクの大量生産に適している。
In each of the above embodiments, the material of the dielectric layer constituting the first reflection layer 3 is SiNx
There is also an advantage in the process of manufacturing a two-layer disc by using. Generally, SiNx is formed by a reactive sputtering method in which Si is sputtered in a nitrogen gas atmosphere. The reactive sputtering method using nitrogen gas has a high deposition rate. In addition, since the nitrogen gas has poor reactivity, there is no side reaction other than the desired reaction and the sputtering apparatus is not contaminated. Therefore, the performance of the sputtering apparatus can be easily maintained, and the number of maintenance operations can be reduced, which is suitable for mass production of a two-layer disc.

【0054】さらに、上記した各実施形態それぞれにお
いて、第1の反射層3を構成する金属層として、特に銀
(Ag)を用いることにより、他の金属を用いた場合に
比べて第1及び第2の反射層の反射率を向上させること
ができる。
Further, in each of the above-described embodiments, the use of silver (Ag) as the metal layer constituting the first reflective layer 3 makes it possible to use the first and second metal layers in comparison with the case where other metals are used. 2 can improve the reflectance of the reflective layer.

【0055】さらに、650nmの波長を有するレーザ
光だけでなく、350から850nmの波長を有するレ
ーザ光で第1及び第2の反射層の反射率を25〜45%
との間にできることも本願発明者により確認されてい
る。
Further, the reflectance of the first and second reflective layers is 25 to 45% with the laser light having a wavelength of 350 to 850 nm as well as the laser light having a wavelength of 650 nm.
It has been confirmed by the present inventor that what can be done between them.

【0056】上述した各実施形態の第1の反射層を赤色
レーザ光に対応した既存の2層ディスクに用いれば、青
色レーザ光でも各情報記録面の記録情報を再生すること
ができる。よって、赤色レーザ光と青色レーザ光とでの
互換性を達成できる。なお、各実施形態の第1の反射層
を青色レーザに対応した2層ディスクに用いてもよいこ
とはいうまでもない。
If the first reflective layer of each of the above-described embodiments is used for an existing two-layer disc corresponding to red laser light, it is possible to reproduce recorded information on each information recording surface even with blue laser light. Therefore, compatibility between the red laser light and the blue laser light can be achieved. Needless to say, the first reflective layer of each embodiment may be used for a two-layer disc corresponding to a blue laser.

【0057】ところで、誘電体層だけを用いて波長依存
性のない反射層を作成することもできるが、各波長ごと
に誘電体多層膜が必要になるため、反射層全体の厚さが
1000nm以上になり製造工程が複雑になる。しか
し、本発明の金属層と誘電体層とで構成される反射層を
用いることにより、誘電体多層膜からなる反射層に比べ
て、少ない工程で波長依存性のない反射層を得ることが
できる。
By the way, a reflective layer having no wavelength dependency can be formed by using only the dielectric layer. However, since a dielectric multilayer film is required for each wavelength, the total thickness of the reflective layer is 1000 nm or more. And the manufacturing process becomes complicated. However, by using the reflective layer composed of the metal layer and the dielectric layer of the present invention, it is possible to obtain a reflective layer having no wavelength dependence in a small number of steps as compared with a reflective layer composed of a dielectric multilayer film. .

【0058】また、上述した各実施形態の第1の反射層
は、2層ディスクの反射層に限らず、2層ディスクを張
り合わせた構造の4層ディスクに適用してもよい。さら
に、第1の情報記録面がピットにより形成されたいわゆ
るROMタイプのものであり、第2の情報記録面が相変
化を利用した記録層であるような2層ディスクに、上述
の各実施形態の第1の反射層を適用してもよい。
The first reflective layer in each of the above-described embodiments is not limited to the reflective layer of a two-layer disk, but may be applied to a four-layer disk having a structure in which two-layer disks are laminated. Each of the above-described embodiments is applied to a two-layer disc in which the first information recording surface is a so-called ROM type in which pits are formed and the second information recording surface is a recording layer using a phase change. May be applied.

【0059】[0059]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、第1の反
射層を、金属層と誘電体層の2層構造としたので、波長
依存性のない反射層を得ることができる。請求項2記載
の発明によれば、第1の反射層を、金属層を誘電体層で
挟んだ3層構成にすることにより、波長依存性のない反
射層を得ることができる。請求項3記載の発明によれ
ば、誘電体層を第1の基板より大きい屈折率をもつ誘電
体材料で構成したので、誘電体層を薄くできる。請求項
4記載の発明によれば、金属層に銀単体あるいは銀を主
成分とする金属を用いることにより、第1及び第2の反
射層における反射率を25〜45%の間とすることがで
きる。請求項5記載の発明によれば、反射層製造時にお
ける誘電体層の形成の際に副反応の少ない窒素ガスを用
いることができ、製造効率を上げることができる。請求
項6記載の発明によれば、第2の反射層にアルミニウム
を用いたので、反射効率を上げることができる。請求項
7記載の発明によれば、第1の基板側からレーザ光を照
射することにより、第1、第2の情報記録面の記録情報
を選択的に再生できる。請求項8記載の発明によれば、
再生に用いられるレーザ光の波長によらず記録情報の再
生に必要な反射光量を得ることができ、仕様と異なる波
長を有するレーザ光を用いても各情報記録面の記録情報
の再生を行うことができる。
According to the first aspect of the present invention, since the first reflective layer has a two-layer structure of a metal layer and a dielectric layer, a reflective layer having no wavelength dependency can be obtained. According to the second aspect of the invention, the first reflective layer has a three-layer structure in which the metal layer is sandwiched between the dielectric layers, so that a reflective layer having no wavelength dependency can be obtained. According to the third aspect of the present invention, since the dielectric layer is made of a dielectric material having a refractive index higher than that of the first substrate, the thickness of the dielectric layer can be reduced. According to the fourth aspect of the present invention, the reflectance of the first and second reflective layers can be set to 25 to 45% by using silver alone or a metal containing silver as a main component for the metal layer. it can. According to the fifth aspect of the present invention, it is possible to use a nitrogen gas with less side reaction when forming the dielectric layer at the time of manufacturing the reflective layer, and it is possible to increase the manufacturing efficiency. According to the sixth aspect of the present invention, since aluminum is used for the second reflective layer, the reflection efficiency can be improved. According to the seventh aspect of the present invention, by irradiating the laser light from the first substrate side, the recorded information on the first and second information recording surfaces can be selectively reproduced. According to the invention described in claim 8,
It is possible to obtain the amount of reflected light necessary for reproducing recorded information regardless of the wavelength of the laser light used for reproduction, and to reproduce the recorded information on each information recording surface even when using laser light having a wavelength different from the specification. Can be.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】第1の反射層をAu/ZnSとしたときの光学
特性を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing optical characteristics when a first reflective layer is made of Au / ZnS.

【図3】第1の反射層をSiNx/Agとしたときの光
学特性を示す図である
FIG. 3 is a diagram showing optical characteristics when a first reflective layer is made of SiNx / Ag.

【図4】本発明の第2の実施形態を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図5】第1の反射層をSiNx/Agとしたときの光
学特性を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing optical characteristics when the first reflection layer is made of SiNx / Ag.

【図6】本発明の第3の実施形態を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a third embodiment of the present invention.

【図7】第1の反射層をSiNx/Ag/SiNxとし
たときの光学特性を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing optical characteristics when the first reflection layer is made of SiNx / Ag / SiNx.

【図8】2層ディスクの再生の様子を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a state of reproduction of a two-layer disc.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・第1の基板 2・・・・・第1の情報記録面 3・・・・・第1の反射層 3a・・・・金属層 3b・・・・誘電体層 3c・・・・誘電体層 3d・・・・金属層 3e・・・・誘電体層 3f・・・・金属層 3g・・・・誘電体層 4・・・・・スペーサ層 5・・・・・第2の反射層 6・・・・・第2の情報記録面 7・・・・・第2の基板 1 First substrate 2 First information recording surface 3 First reflective layer 3a Metal layer 3b Dielectric layer 3c ... dielectric layer 3d ... metal layer 3e ... dielectric layer 3f ... metal layer 3g ... dielectric layer 4 ... spacer layer 5 ... Second reflective layer 6 Second information recording surface 7 Second substrate

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、第1の情報記録面と、前記
第1の情報記録面に形成された第1の反射層と、第2の
情報記録面と、前記第2の情報記録面上に形成された第
2の反射層とを備えた光記録媒体であって、 前記第1の反射層は、金属層と誘電体層の2層からなる
ことを特徴とする光記録媒体。
At least a first information recording surface, a first reflective layer formed on the first information recording surface, a second information recording surface, and a second information recording surface. An optical recording medium comprising: a second reflective layer formed; wherein the first reflective layer comprises two layers, a metal layer and a dielectric layer.
【請求項2】 少なくとも、第1の情報記録面と、前記
第1の情報記録面に形成された第1の反射層と、第2の
情報記録面と、前記第2の情報記録面上に形成された第
2の反射層とを備えた光記録媒体であって、 前記第1の反射層は、金属層が誘電体層で挟まれた3層
からなることを特徴とする光記録媒体。
2. At least a first information recording surface, a first reflective layer formed on the first information recording surface, a second information recording surface, and a second information recording surface. An optical recording medium comprising: a second reflective layer formed thereon, wherein the first reflective layer comprises three layers in which a metal layer is sandwiched between dielectric layers.
【請求項3】 請求項1又は2記載の光記録媒体におい
て、 前記第1の情報記録面は、透光性を有する第1の基板上
に形成されており、 前記誘電体層に用いられる誘電体の屈折率は、前記第1
の基板の屈折率より大きいことを特徴とする光記録媒
体。
3. The optical recording medium according to claim 1, wherein the first information recording surface is formed on a first substrate having a light-transmitting property, and a dielectric used for the dielectric layer. The refractive index of the body is the first
An optical recording medium having a refractive index higher than that of the substrate.
【請求項4】 請求項1、2又は3記載の光記録媒体に
おいて、 前記金属層は銀単体あるいは銀を主成分とする金属で形
成されたことを特徴とする光記録媒体。
4. The optical recording medium according to claim 1, wherein the metal layer is formed of silver alone or a metal containing silver as a main component.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれか1に記載の
光記録媒体において、 前記誘電体層は窒化珪素で形成されたことを特徴とする
光記録媒体。
5. The optical recording medium according to claim 1, wherein said dielectric layer is formed of silicon nitride.
【請求項6】 請求項1ないし5のいずれか1に記載の
光記録媒体において、 前記第2の反射層はアルミニウムを主成分とする金属で
形成されたことを特徴とする光記録媒体。
6. The optical recording medium according to claim 1, wherein the second reflection layer is formed of a metal containing aluminum as a main component.
【請求項7】 請求項1ないし6のいずれか1に記載の
光記録媒体において、 前記第2の情報記録面は前記第2の基板上に形成されて
おり、 前記第1及び第2の基板は、前記第1の反射層と第2の
反射層との間に設けられた光硬化樹脂により貼合わせら
れていることを特徴とする光記録媒体。
7. The optical recording medium according to claim 1, wherein the second information recording surface is formed on the second substrate, and wherein the first and second substrates are provided. An optical recording medium characterized in that the optical recording medium is bonded with a photo-curing resin provided between the first reflection layer and the second reflection layer.
【請求項8】 請求項1ないし7のいずれか1に記載の
光記録媒体において、 該光記録媒体の再生に用いられるレーザ光の波長によら
ず、前記第1及び第2の反射層の反射率が25〜45%
の間となることを特徴とする光記録媒体。
8. The optical recording medium according to claim 1, wherein the reflection of the first and second reflection layers is independent of the wavelength of a laser beam used for reproducing the optical recording medium. 25-45%
An optical recording medium characterized by being between.
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