JPH11121533A - Bonding tool and its manufacturing method - Google Patents

Bonding tool and its manufacturing method

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JPH11121533A
JPH11121533A JP9287291A JP28729197A JPH11121533A JP H11121533 A JPH11121533 A JP H11121533A JP 9287291 A JP9287291 A JP 9287291A JP 28729197 A JP28729197 A JP 28729197A JP H11121533 A JPH11121533 A JP H11121533A
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JP
Japan
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stress relaxation
bonding
relaxation layer
bonding tool
flatness
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP9287291A
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Japanese (ja)
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Shoichi Ikeda
正一 池田
Takao Inoue
隆夫 井上
Masatoshi Nishikawa
正寿 西川
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SHINKO KOBELCO TOOL KK
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
SHINKO KOBELCO TOOL KK
Kobe Steel Ltd
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Publication date
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    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/2612Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
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    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3511Warping

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a bonding tool, which is capable of reducing the degree of flatness on a bonding acting face at a use temperature and execute uniform bonding works, and a useful method for manufacturing such a bonding tool. SOLUTION: A stress relaxation layer 2, composed of a soft metal and a top end material 1 composed of a hard metal, is laminated on a shank material 4 composed of a metal material, and insertion materials 3a, 3b reside between the top end material 1 and the soft metal and between the soft metal and a shank material 4, respectively, and they are heated and molten to thereby joint each other. At manufacturing of a bonding tool as described, after being bonded so that a margin of the stress mitigation layer 2 is wider by 0.5 mm or more than a margin of the top end material 1, processings are performed so that the degree of flatness at a room temperature on a bonding acting face of the top end material 1 is set within to 1 μm, whereby changes in the degree of flatness between 500 deg.C and 600 deg.C on the bonding acting face of the top end material 1 is 1 μm or less, and also a change in the degree of flatness between a room temperature and 600 deg.C is 3 μm or less, and the degree of flatness on the bonding acting face at an arbitrary temperature between 500 deg.C and 600 deg.C is 1 μm or less. A bonding tool with such properties can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属材料からなる
シャンク材上に、軟質金属からなる応力緩和層、および
硬質材料からなる先端材を積層したボンディングツール
に関するものである。尚本発明のボンディングツール
は、例えば高温環境下で使用されるTAB(Tape Autom
ated Bonding) 用のボンディングツールとして好適に利
用できるものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding tool in which a stress relaxing layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material. In addition, the bonding tool of the present invention is, for example, TAB (Tape Automated) used in a high temperature environment.
ated Bonding).

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体チップ上の電極とフィルムパッケ
ージのリードとを電気的に接続する方法の1つとして、
上記TAB方式が知られている。このTAB方式は、耐
熱樹脂テープの表面にリードパターンを形成し、半導体
チップの電極パッドと前記リードパターンが形成された
フィルムキャリアテープのリードとを位置合わせして接
合する方法であり、半導体チップの多ピン化や薄型化の
点でワイヤボンディング方式に比べて優れていると言わ
れている。
2. Description of the Related Art One of the methods for electrically connecting electrodes on a semiconductor chip and leads of a film package is as follows.
The above TAB method is known. The TAB method is a method in which a lead pattern is formed on the surface of a heat-resistant resin tape, and the electrode pads of the semiconductor chip and the leads of the film carrier tape on which the lead pattern is formed are aligned and joined. It is said to be superior to the wire bonding method in terms of increasing the number of pins and reducing the thickness.

【0003】TAB方式におけるボンディング手順は、
次の様に行われる。まず加熱ステージ上に半導体チップ
が載置されて、半導体チップのバンプとフィルムキャリ
アテープのインナーリードとが位置合わせされる。そし
てこの状態で500〜600℃に加熱されたボンディン
グツールが、インナーリードを半導体チップのバンプに
押付けることにより、両者が接合される。
[0003] The bonding procedure in the TAB method is as follows.
It is performed as follows. First, the semiconductor chip is placed on the heating stage, and the bumps of the semiconductor chip are aligned with the inner leads of the film carrier tape. Then, in this state, the bonding tool heated to 500 to 600 ° C. presses the inner leads against the bumps of the semiconductor chip to join the two.

【0004】近年、半導体チップは大きいもので16m
m角を超えるものがあり、そのほぼ全周囲に亘って形成
されたバンプに対して全てのインナーリードを均一に接
合する為に、ボンディングツールはその表面(ボンディ
ング作用面)が平坦であることが要求される。例えば、
ボンディングツールの使用温度が500〜600℃のと
きには、ボンディング作用面の平坦度は理想的には、1
μm以下であることが必要であるとされている。
[0004] In recent years, semiconductor chips are as large as 16 m.
In some cases, the bonding tool must have a flat surface (bonding surface) in order to uniformly bond all the inner leads to the bumps formed over almost the entire periphery of the bonding tool. Required. For example,
When the use temperature of the bonding tool is 500 to 600 ° C., the flatness of the bonding working surface is ideally 1
It is required that the thickness be less than μm.

【0005】ボンディングツールは、ツールの基体をな
して装置の所定の位置に取り付ける為のシャンク材と、
ボンディング動作を行うための先端表面(前記ボンディ
ング作用面)を有する先端材とから構成される。通常、
ボンディングツールの先端材としては、セラミックス等
の硬質材料が、シャンク材としては金属材料が用いられ
る。
[0005] The bonding tool comprises a shank material to be attached to a predetermined position of the apparatus, forming a base of the tool;
And a tip material having a tip surface (the bonding action surface) for performing a bonding operation. Normal,
A hard material such as ceramics is used as the tip material of the bonding tool, and a metal material is used as the shank material.

【0006】しかしながら、先端材であるセラミックス
等の硬質材料と、シャンク材としての金属材料を直接に
接合した接合体をボンディングツールの素材として用い
た場合には、両者の線膨張係数の違いによって熱変形が
発生し、常温でボンディング面の平坦度が要求特性を満
足していても、高温の使用温度において要求特性が満足
できないことがある。その結果、半導体チップのバンプ
に対して十分に加圧・加熱されないインナーリードが生
じることになって、ボンディング不良が発生することに
なる。
However, when a joined body in which a hard material such as a ceramic material as a tip material is directly joined to a metal material as a shank material is used as a material for a bonding tool, a difference in thermal expansion coefficient between the two causes a difference. Even when deformation occurs and the flatness of the bonding surface satisfies the required characteristics at room temperature, the required characteristics may not be satisfied at a high use temperature. As a result, inner leads that are not sufficiently pressurized and heated with respect to the bumps of the semiconductor chip are generated, and a bonding failure occurs.

【0007】使用温度におけるボンディング作用面の平
坦度を1μm以下にする手段として、使用温度の雰囲気
において平坦研磨を行う方法が知られている。しかしな
がら、ボンディングツールの使用温度は現状では500
〜600℃の温度範囲ではあるが、1つの温度に固定さ
れるものではなく、ボンディングするバンプの状態によ
って500〜600℃の温度内で適宜選択されるもので
ある。こうしたことから、ボンディングツールの平坦研
磨温度を限定できないのが実情である。その結果、或る
温度においては平坦研磨されたボンディングツールが、
その研磨温度以外の温度で使用されたときには、ボンデ
ィング作用面の平坦度が悪くなり、ボンディング不良を
生じる場合がある。しかも使用温度で研磨する方法は、
使用温度が500〜600℃であることを考えると、必
然的に作業性が低下することは避けられない。
[0007] As a means for reducing the flatness of the bonding surface at the operating temperature to 1 µm or less, a method of performing flat polishing in an atmosphere at the operating temperature is known. However, the operating temperature of the bonding tool is 500 at present.
Although it is in a temperature range of -600 ° C, it is not fixed to one temperature, but is appropriately selected from a temperature of 500-600 ° C depending on the state of the bump to be bonded. Under these circumstances, the flat polishing temperature of the bonding tool cannot be limited. As a result, a bonding tool that has been polished flat at a certain temperature,
When used at a temperature other than the polishing temperature, the flatness of the bonding operation surface is deteriorated, and bonding failure may occur. Moreover, the method of polishing at the operating temperature is
Considering that the use temperature is 500 to 600 ° C., it is inevitable that workability is necessarily reduced.

【0008】こうしたことから、平坦研磨は常温で行う
のが最も好ましいと言えるが、先端材として用いられる
セラミックス等の硬質材に比べて、シャンク材として用
いられる金属材料の線膨張係数が大きいので、ボンディ
ング作用面は、常温と使用温度では大きく変化すること
になる。通常、この変形は、図1(a)に示す様に(図
中の矢印は線膨張係数の大小を示す)、下部にあるシャ
ンク材4から先端材1が引っ張られて、ボンディング面
が凹状となるのが一般的である。こうしたことから、上
記の様な変形を見越して、図1(b)に示す様に常温に
おける平坦研磨を凸状としておき、変形した状段階でボ
ンディング作用面ができるだけ平坦となる様にしている
のが実情である。
From the above, it can be said that flat polishing is most preferably performed at room temperature. However, the metal material used as a shank material has a larger linear expansion coefficient than a hard material such as ceramics used as a tip material. The bonding surface greatly changes between the room temperature and the use temperature. Normally, as shown in FIG. 1 (a) (arrows in the figure indicate the magnitude of the linear expansion coefficient), the tip material 1 is pulled from the shank material 4 at the lower part, and the bonding surface becomes concave. It is general. For this reason, in anticipation of the above-mentioned deformation, flat polishing at normal temperature is made convex as shown in FIG. 1B, and the bonding surface is made as flat as possible in the deformed state. Is the actual situation.

【0009】しかしながら、最も理想的なのは、温度に
よって平坦度が変化しないことであり、このようなボン
ディングツールが実現できれば、ボンディングツールの
使用可能な温度範囲が広がることが期待できる。またそ
の結果として、多種類のバンプ/リードに対してボンデ
ィングが可能となり、ボンディングツールとしてより広
範囲で適用可能となることが予想される。
However, the most ideal is that the flatness does not change with temperature. If such a bonding tool can be realized, it can be expected that the usable temperature range of the bonding tool will be widened. As a result, it is expected that bonding can be performed to various types of bumps / leads, and that the bonding tool can be applied to a wider range.

【0010】尚平坦度とは、ボンディング作用面の凹凸
の最大値であり、例えば図2(a)〜(d)においては
(図中、仮想の平坦面の基準を破線で示す)、夫々X1
〜X 4 を指している。また平坦度の変化とは、平坦度を
測定した位置によらず、ある2点の温度において平坦度
がどれだけ変化したかを示すものであり、例えば前記図
2(a)から図2(b)に変化したとすると、その平坦
度変化はX1 とX2 の差(X1 −X2 :但し、X1 >X
2 ),となり、図(b)から図2(d)に変化(即ち、
凸状から凹状に変化)したとする、その平坦度変化はX
2 とX4 の和(X2 +X4 )となる。
[0010] The flatness means the unevenness of the bonding surface.
Is the maximum value, for example, in FIGS.
(In the figure, the reference of the virtual flat surface is indicated by a broken line.)1 
~ X Four Pointing to. The change in flatness refers to the flatness
Flatness at two temperatures regardless of measured position
Shows how much has changed, for example,
2 (a) is changed to FIG. 2 (b).
The degree change is X1 And XTwo Difference (X1 -XTwo : However, X1 > X
Two ), And changes from FIG. 2 (b) to FIG. 2 (d) (ie,
Change from convex to concave), the flatness change is X
Two And XFour The sum of (XTwo + XFour ).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ボンディング作用面の
使用温度における平坦度を確保する為には、常温での平
坦度を良くすると共に、常温から使用温度に温度変化さ
せたときの平坦度変化を小さくする必要がある。そして
常温での平坦度としては2μm以下、その変化量として
は、前述の凸型から凹型への変化をも考慮して、3μm
以下であることが要求される。こうした熱歪を小さくす
る為の技術として、セラミックスと金属材料の間に両者
の中間的な線膨張係数を有する材料を介在させたり、両
者間に軟質金属を介在させたりする技術も提案されてい
る。
In order to ensure the flatness of the bonding surface at the operating temperature, the flatness at normal temperature is improved, and the flatness change when the temperature is changed from normal temperature to the operating temperature. Need to be smaller. The flatness at room temperature is 2 μm or less, and the change amount is 3 μm in consideration of the above-mentioned change from the convex type to the concave type.
It is required that: As a technique for reducing such thermal strain, a technique of interposing a material having a coefficient of linear expansion intermediate between the ceramic and the metal material or a soft metal between the two has been proposed. .

【0012】例えば特開平5−67651号には、セラ
ミックスと金属材料の間に、Au等の軟質金属を応力緩
和層として2層形成したボンディングツールについて提
案されている。そしてこの技術においては、応力緩和層
を2層形成した場合には平坦度変化は小さいが、応力緩
和層が1層の場合には平坦度変化が大きくなることが示
されている。そしてこの技術実施例では、常温平坦度
(研磨後の平坦度):0.9μm、高温平坦度(使用温
度での平坦度):2.7μmのものが示されており、研
磨後で凸型、使用温度で凹状になることがあることをも
考慮すると、平坦度変化は最小で1.9μm、最大で
3.6μmとなっており、要求される3μm以下の平坦
度変化を満足できない場合があることが予想される。ま
たこの技術においては、応力緩和層が1層の場合には、
いずれも使用温度(600℃)においての平坦度1μm
以下を満足できていない。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-67651 proposes a bonding tool in which a soft metal such as Au is formed as two stress relaxation layers between a ceramic and a metal material. In this technology, it is shown that the flatness change is small when two stress relaxation layers are formed, but the flatness change is large when only one stress relaxation layer is formed. In this technical example, the flatness at room temperature (flatness after polishing): 0.9 μm and the flatness at high temperature (flatness at operating temperature): 2.7 μm are shown. In consideration of the fact that the flatness may be concave at the operating temperature, the flatness change is 1.9 μm at the minimum and 3.6 μm at the maximum, and there are cases where the required flatness change of 3 μm or less cannot be satisfied. It is expected that there is. In this technique, when the stress relaxation layer is one layer,
Both have a flatness of 1 μm at the operating temperature (600 ° C)
Not satisfied with:

【0013】本発明は上記の様な事情に着目してなされ
たものであって、その目的は、使用温度におけるボンデ
ィング作用面の平坦度をできるだけ小さくして均一なボ
ンディング作業を実行することのできるボンディングツ
ール、およびこの様なボンディングツールを製造する為
の有用な方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to perform a uniform bonding operation by minimizing the flatness of a bonding working surface at a use temperature as much as possible. It is to provide a bonding tool and a useful method for manufacturing such a bonding tool.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決すること
のできた本発明のボンディングツールとは、金属材料か
らなるシャンク材上に軟質金属からなる応力緩和層およ
び硬質材料からなる先端材が積層され、先端材と軟質金
属の間、並びに軟質金属とシャンク材の間に、夫々イン
サート材を介在して接合されたボンディングツールにお
いて、先端材のボンディング作用面における500℃⇔
600℃の間の平坦度変化が1μm以下であると共に、
常温⇔600℃の間の平坦度変化が3μm以下であり、
且つ500〜600℃間の任意の温度におけるボンディ
ング面の平坦度が1μm以下である点に要旨を有するも
のである。尚、常温⇔600℃の間の平坦度変化は、好
ましくは2μm以下であることが望まれる。またボンデ
ィングツールは、全体が均熱に保たれているわけではな
いため、温度測定位置によって異なる温度が得られるこ
とがあり、そこで本発明で用いている温度はシャンク材
の接合面から3〜15mmの位置で測定される温度であ
り、通常のボンディングツールにおいてもこの位置にお
いて測定されている。
A bonding tool according to the present invention which can solve the above-mentioned problems is characterized in that a stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material. In a bonding tool joined between an end material and a soft metal and between a soft metal and a shank material with an insert material interposed therebetween, the bonding tool has a temperature of 500 ° C.
The change in flatness during 600 ° C. is 1 μm or less,
The flatness change between normal temperature and 600 ° C. is 3 μm or less,
The point is that the flatness of the bonding surface at an arbitrary temperature between 500 and 600 ° C. is 1 μm or less. The change in flatness between normal temperature and 600 ° C. is preferably 2 μm or less. Further, since the bonding tool is not always kept at a uniform temperature, different temperatures may be obtained depending on the temperature measurement position. Therefore, the temperature used in the present invention is 3 to 15 mm from the joint surface of the shank material. Is measured at this position, and is also measured at this position in a normal bonding tool.

【0015】上記本発明のボンディングツールは、前記
応力緩和層の周縁が前記先端材の周縁よりも0.5mm
以上幅広くなるように構成したものが基本的な構成とし
て挙げられる。
In the bonding tool according to the present invention, the peripheral edge of the stress relaxation layer is 0.5 mm more than the peripheral edge of the tip member.
What is configured to be wider as described above is a basic configuration.

【0016】また本発明のボンディングツールのより具
体的な構成として、(A) 応力緩和層としてAuが用いら
れ、この応力緩和層と先端が、AuとNiの質量比(A
u/Ni)が2.2〜32.3である接合層によって接
合されたボンディングツールや、(B) 応力緩和層として
AgまたはCuを用いられ、この応力緩和層と先端材
が、AgとCuの質量比(Au/Cu)が0.4〜9
9.0である接合層によって接合されたボンディングツ
ール、等が挙げられる。
Further, as a more specific configuration of the bonding tool of the present invention, (A) Au is used as a stress relaxation layer, and the stress relaxation layer and the tip are provided with a mass ratio of Au to Ni (A
(B) Ag or Cu is used as a stress relaxation layer, and the stress relaxation layer and the tip material are made of Ag and Cu. Has a mass ratio (Au / Cu) of 0.4 to 9
A bonding tool bonded by a bonding layer of 9.0, and the like.

【0017】一方、上記課題を解決することのできた本
発明の製造方法とは、金属材料からなるシャンク材上に
軟質金属からなる応力緩和層、および硬質材料からなる
先端材が積層され、先端材と応力緩和層の間、並びに応
力緩和層とシャンク材の間に、夫々インサート材を介在
させて加熱溶融することによって接合されるボンディン
グツールの製造方法において、前記応力緩和層の周縁が
前記先端材の周縁よりも0.5mm以上幅広くなるよう
にして接合した後、前記先端材のボンディング面におけ
る常温での平坦度が2μm以下となる様に加工する点に
要旨を有するものである。尚常温での平坦度は、好まし
くは1μm以下とするのが良い。
On the other hand, the manufacturing method of the present invention which can solve the above-mentioned problem is that a stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material. And a stress relief layer, and between the stress relief layer and the shank material, the bonding tool is joined by heating and melting with an insert material interposed therebetween, wherein the peripheral edge of the stress relief layer is the tip material. The point is that the bonding is performed so that the flatness of the bonding surface of the tip material at room temperature becomes 2 μm or less after joining by making the width 0.5 mm or more wider than the peripheral edge. The flatness at room temperature is preferably 1 μm or less.

【0018】また本発明方法における具体的な構成とし
ては、(a) 応力緩和層としてAuを用い、AuまたはN
iを主成分として含有するインサート材を、先端材と応
力緩和層の間に介在させた状態で、該インサート材をそ
の液相線以上の温度で1032℃以下の温度に加熱溶融
することによって先端材と応力緩和層を接合する方法
や、(b) 応力緩和層としてAgまたはCuを用い、Ag
またはCuを主成分として含有するインサート材を、先
端材と応力緩和層の間に介在させた状態で、該インサー
ト材をその液相線温度以上950℃以下の温度に加熱溶
融することによって先端材と応力緩和層を接合する方
法、等が挙げられる。
Further, the specific structure of the method of the present invention is as follows: (a) Au or N
In a state where an insert material containing i as a main component is interposed between the tip material and the stress relaxation layer, the insert material is heated and melted to a temperature of 1032 ° C. or less at a temperature not lower than its liquidus line. (B) Ag or Cu is used as the stress relaxation layer,
Alternatively, while an insert material containing Cu as a main component is interposed between the tip material and the stress relaxation layer, the insert material is heated and melted to a temperature not lower than its liquidus temperature and not more than 950 ° C. And a method of joining the stress relaxation layer to the substrate.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明は上記の如く構成される
が、要するに、金属材料からなるシャンク材上に軟質金
属からなる応力緩和層、および硬質材料からなる先端材
が積層され、先端材と応力緩和層の間、並びに応力緩和
層とシャンク材の間に、夫々インサート材を介在させて
加熱溶融することによって接合されるボンディングツー
ルの製造方法において、応力緩和層の周縁が先端材の周
縁よりも0.5mm以上幅広くなる様にして接合した
後、前記先端材のボンディング作用面における常温での
平坦度が1μm以下となる様に加工すれば、先端材とシ
ャンク材の間における熱変形差に対する応力緩和層によ
る緩和作用が有効に発揮され、下記(1) 〜(3) の特性を
満足するボンディングツールが得られることを見出し、
本発明を完成した。 (1) 先端材のボンディング作用面における500℃⇔6
00℃の間の平坦度変化が1μm以下である。 (2) 常温⇔600℃の間の平坦度変化が3μm以下であ
る。 (3) 500〜600℃間の任意の温度におけるボンディ
ング面の平坦度が1μm以下である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention is constructed as described above. In short, a stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material. In a method of manufacturing a bonding tool in which an insert material is interposed between a stress relaxation layer and between a stress relaxation layer and a shank material to be joined by heating and melting, the periphery of the stress relaxation layer is larger than the periphery of the tip material. Also, if the flatness at normal temperature on the bonding surface of the tip material at room temperature is 1 μm or less, the thermal deformation difference between the tip material and the shank material is reduced. It was found that the relaxation effect of the stress relaxation layer was effectively exhibited, and a bonding tool satisfying the following characteristics (1) to (3) was obtained.
The present invention has been completed. (1) 500 ℃ ⇔6 on the bonding surface of the tip material
The change in flatness during 00 ° C. is 1 μm or less. (2) The change in flatness between normal temperature and 600 ° C. is 3 μm or less. (3) The flatness of the bonding surface at any temperature between 500 and 600 ° C. is 1 μm or less.

【0020】本発明が完成された経緯を説明しつつ、本
発明の作用について説明する。ボンディングツールの製
造方法としては、金属材料からなるシャンク材上に軟質
金属からなる応力緩和層、および硬質材料からなる先端
材が積層し、先端材と応力緩和層の間、並びに応力緩和
層とシャンク材の間に、夫々インサート材を介在させて
加熱溶融することによって接合する方法が、接合強度の
観点から好ましいと言える。こうしたボンディングツー
ルにおける応力緩和層の役割は、前述した様に、セラミ
ックス等の硬質材料からなる先端材と金属材料からなる
シャンク材の熱変形差を緩和することである。即ち、軟
質金属は容易に塑性変形するので、その変形によって先
端材とシャンク材の熱変形差を吸収することが可能にな
るのである。従って、逆に軟質金属の変形を阻害する硬
質材料が先端材とシャンク材の間に存在する場合には、
軟質金属が十分に変形することができず、先端材とシャ
ンク材の間の熱変形差を十分に緩和できないことにな
る。
The operation of the present invention will be described while explaining how the present invention was completed. As a method of manufacturing a bonding tool, a stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material, and the stress relaxation layer and the shank are formed between the tip material and the stress relaxation layer. From the viewpoint of bonding strength, it can be said that a method of bonding by interposing an insert material between the materials and melting them by heating is preferable. As described above, the role of the stress relaxation layer in such a bonding tool is to reduce the thermal deformation difference between the tip material made of a hard material such as ceramics and the shank material made of a metal material. That is, since the soft metal is easily plastically deformed, the deformation makes it possible to absorb the difference in thermal deformation between the tip material and the shank material. Therefore, if a hard material that inhibits deformation of the soft metal exists between the tip material and the shank material,
The soft metal cannot be sufficiently deformed, and the difference in thermal deformation between the tip material and the shank material cannot be sufficiently reduced.

【0021】本発明者らは、こうした観点から応力緩和
層を1層形成した場合における緩和作用が不十分である
原因について検討したところ、次の様な知見が得られ
た。先端材と応力緩和層の間や応力緩和層とシャンク材
の間を、インサート材で接合する場合には、図3に示す
様に、溶融したインサート材が両先面から溢れ出て結合
した状態で応力緩和層の周囲を取り囲んでフィレット5
が形成される。そして、インサート材は融点を降下させ
る為に通常2種類以上の元素からなる合金であることが
一般的であり、応力緩和層よりも硬度が高い。その結
果、前記フィレット5は応力緩和層の周囲を拘束して軟
質金属が変形することを阻害することになる。特に、ボ
ンディングツールの様な微小な変形が問題となる場合に
は、軟質金属が先端材とシャンク材の熱変形差を吸収で
きない場合がある。
The present inventors have studied the cause of the insufficient relaxation effect when one stress relaxation layer is formed from such a viewpoint, and obtained the following findings. When joining between the tip material and the stress relieving layer or between the stress relieving layer and the shank material with the insert material, as shown in FIG. 3, the molten insert material overflows from both ends and is joined. Fillet 5 around the stress relaxation layer with
Is formed. The insert material is generally an alloy composed of two or more elements to lower the melting point, and has a higher hardness than the stress relaxation layer. As a result, the fillet 5 restrains the periphery of the stress relieving layer and hinders deformation of the soft metal. In particular, when minute deformation such as a bonding tool poses a problem, the soft metal may not be able to absorb the thermal deformation difference between the tip material and the shank material.

【0022】本発明者らはこうした知見に基づき、上記
した不都合な事態を回避するという観点から検討したと
ころ、応力緩和層の周縁が先端材の周縁よりも0.5m
m以上幅広くなる様にして製造すれば、先端材と応力緩
和層の間および応力緩和層とシャンク材の間から溢れ出
るインサート材を分離することができ、その結果として
応力緩和層の周囲に前記した様なフィレット5が形成さ
れず、応力緩和層である軟質金属の変形が阻害されなく
なり、前記(1) 〜(3) に示した様な平坦度特性が得られ
ることを見出し、本発明を完成した。
Based on these findings, the present inventors have studied from the viewpoint of avoiding the above-mentioned inconvenience, and found that the periphery of the stress relaxation layer is 0.5 m longer than the periphery of the tip material.
m or more, the insert material overflowing between the tip material and the stress relieving layer and between the stress relieving layer and the shank material can be separated. It was found that the fillet 5 as described above was not formed, the deformation of the soft metal as the stress relaxation layer was not hindered, and the flatness characteristics as shown in the above (1) to (3) were obtained. completed.

【0023】本発明の構成を図面を用いて、更に詳細に
説明する。図4は、本発明のボンディングツールの先端
部付近の一構成例を示す概略説明図であり、図中1は先
端材(硬質材料)、2は応力緩和層(軟質金属)、3
a,3bは接合層(インサート材)、4はシャンク材を
夫々示す。またボンディングツールの要部(先端材1お
よび応力緩和層2付近)の平面図を図5に示す。尚、半
導体チップの形状の点から、接合面は長方形の場合が多
いので、図4、5では接合面が長方形のものを示した
が、本発明のボンディングツールの接合面の形状が長方
形に限定されるものではない。
The configuration of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic explanatory view showing one configuration example near the tip of the bonding tool of the present invention. In the drawing, 1 is a tip material (hard material), 2 is a stress relaxation layer (soft metal), 3
Reference numerals a and 3b denote joining layers (insert materials), and reference numeral 4 denotes a shank material. FIG. 5 is a plan view of a main part of the bonding tool (in the vicinity of the tip member 1 and the stress relaxation layer 2). Since the bonding surface is often rectangular in view of the shape of the semiconductor chip, the bonding surface is rectangular in FIGS. 4 and 5, but the bonding surface of the bonding tool of the present invention is limited to a rectangular shape. It is not something to be done.

【0024】本発明のボンディングツールは、応力緩和
層2の周縁が先端材1の周縁よりも0.5mm以上幅広
くなる様にして製造することを最大の特徴とするもので
ある。即ち、図5のd1およびd2で示した距離が0.
5mm以上となる様にしたものであり、このd1および
d2のいずれもが0.5mm未満となるとボンディング
面の平坦度変化を抑制することができなくなる。但し、
図5に示した様に接合面が長方形の場合には、平坦度変
化が大きいのは長辺側(L1は長辺側の長さを示す)で
あるので、短辺側(L2は短辺側の長さを示す)の前記
距離d2が0.5mm未満となっても、長辺側の距離d
1が0.5mm以上あれば本発明の目的を達成すること
ができる。
The greatest feature of the bonding tool of the present invention is that it is manufactured such that the peripheral edge of the stress relaxation layer 2 is at least 0.5 mm wider than the peripheral edge of the tip 1. That is, the distance indicated by d1 and d2 in FIG.
The thickness is set to 5 mm or more. If both d1 and d2 are less than 0.5 mm, it is impossible to suppress the change in flatness of the bonding surface. However,
As shown in FIG. 5, when the joining surface is rectangular, the change in flatness is large on the long side (L1 indicates the length of the long side), so the short side (L2 is the short side) The distance d2 on the long side, even if the distance d2 is less than 0.5 mm.
If 1 is 0.5 mm or more, the object of the present invention can be achieved.

【0025】図6は、本発明のボンディングツールの先
端部付近の他の構成例を示す概略説明図であり、このボ
ンディングツールにおいてはシャンク材4の表面に、複
数(この図では6)の位置決め突起7が設けられてお
り、接合時における先端材1および応力緩和層2の位置
ずれを防止する様に構成されたものである。即ち、シャ
ンク材4上に応力緩和層2および先端材1を積層する状
態を図7に示すが、応力緩和層2には前記位置決め突起
7に対応する位置に切欠き8が形成されており、この切
欠き8に位置決め突起7が嵌り込む様にして、シャンク
材4上に応力緩和層2が積層されると共に、位置決め突
起7の間に嵌り込む様にして先端材1が応力緩和層2上
に積層される。尚、図6、7に示したボンディングツー
ルにおける他の基本的な構成は、前記図4、5に示した
ボンディングツールに類似しており、対応する部分には
同一の参照符号が付してある。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing another example of the structure near the tip of the bonding tool of the present invention. In this bonding tool, a plurality of (6 in this figure) positioning is performed on the surface of the shank material 4. Protrusions 7 are provided to prevent displacement of the tip 1 and the stress relieving layer 2 during joining. That is, FIG. 7 shows a state in which the stress relaxation layer 2 and the tip material 1 are laminated on the shank material 4. The notch 8 is formed in the stress relaxation layer 2 at a position corresponding to the positioning projection 7. The stress relief layer 2 is laminated on the shank material 4 so that the positioning projection 7 fits into the notch 8, and the tip material 1 is placed on the stress relief layer 2 so as to fit between the positioning projections 7. Laminated. Other basic configurations of the bonding tool shown in FIGS. 6 and 7 are similar to those of the bonding tool shown in FIGS. 4 and 5, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals. .

【0026】図6、7に示したボンディングツールの要
部(先端材1および応力緩和層2付近)の平面図を図8
に示す。このボンディングツールにおいては応力緩和層
2の前記切欠き8の部分では、距離d1およびd2を
0.5mm以上にできない。本発明の趣旨からすれば、
こうした切欠き8の部分はできるだけ小さい方が好まし
いが、切欠き8の部分を除いた部分における距離d1お
よびd2が0.5mm以上となっていれば、ボンディン
グ面の平坦度変化にそれほど影響を及ぼさない。
FIG. 8 is a plan view of a main part (in the vicinity of the tip 1 and the stress relaxation layer 2) of the bonding tool shown in FIGS.
Shown in In this bonding tool, the distances d1 and d2 cannot be set to 0.5 mm or more in the notch 8 of the stress relaxation layer 2. From the point of the invention,
It is preferable that the notch 8 is as small as possible. However, if the distances d1 and d2 in the portion excluding the notch 8 are 0.5 mm or more, the change in flatness of the bonding surface is not significantly affected. Absent.

【0027】前記図5、8に示した距離d1およびd2
の上限については、特に限定するものではないが、コス
トや接合後の加工性等の考慮すれば、シャンク材の接合
面と同じ大きさ以下となる様にすることが好ましい。
The distances d1 and d2 shown in FIGS.
The upper limit is not particularly limited, but is preferably equal to or smaller than the size of the joining surface of the shank material in consideration of cost, workability after joining, and the like.

【0028】上記の様に、応力緩和層の周縁が先端材の
周縁よりも0.5mm以上幅広くなるように構成するこ
とによって、応力緩和層の周囲にフィレットが形成され
ることが防止され、応力緩和層を構成する軟質金属が変
形することを阻害する要因が解消されるので、応力緩和
層による先端材とシャンク材の間の熱変形差を十分に緩
和することができる。応力緩和層によるこうした効果を
考えると、応力緩和層の周縁が前記先端材の周縁よりも
0.5mm以上幅広せずに接合時に応力緩和層の周囲に
前記図3に示した様なフィレット5を形成させ、接合後
にこのフィレット5を加工除去することも考えられる
が、そうしてもインサート材の溶融時に応力緩和層の一
部(周辺部)が溶解したときに、前記図3に示した様に
先端材の周縁よりも内側に入り込んで硬質層が形成され
るので、この硬質層を効果的に加工除去できないという
問題が生じる。但し、図9に示すように、応力緩和層の
周縁が先端材の周縁よりも0.5mm以上幅広くなるよ
うに構成して接合した後に、切削加工やワイヤカット等
の手段によって応力緩和層の一部と共にその周囲のフィ
レット部分を除去する様にすれば、フィレット部分は簡
単に除去できるので、こうした構成も本発明の技術的範
囲に含まれるものである。
As described above, by forming the periphery of the stress relaxation layer to be 0.5 mm or more wider than the periphery of the tip material, a fillet is prevented from being formed around the stress relaxation layer, and the stress is reduced. Since the factor that hinders the deformation of the soft metal constituting the relaxation layer is eliminated, the difference in thermal deformation between the tip material and the shank material due to the stress relaxation layer can be sufficiently reduced. Considering such an effect of the stress relaxation layer, the fillet 5 as shown in FIG. 3 is formed around the stress relaxation layer at the time of joining without the peripheral edge of the stress relief layer being wider than the peripheral edge of the tip material by 0.5 mm or more. It is conceivable that the fillet 5 is formed and removed after processing after the joining. However, if a part (peripheral portion) of the stress relaxation layer is dissolved when the insert material is melted, as shown in FIG. Since the hard layer is formed inside the peripheral edge of the tip material, the hard layer cannot be effectively processed and removed. However, as shown in FIG. 9, after joining by forming the periphery of the stress relieving layer to be 0.5 mm or more wider than the peripheral edge of the tip material, the stress relieving layer may be cut by means such as cutting or wire cutting. The fillet portion can be easily removed by removing the fillet portion around the portion along with the portion, and such a configuration is also included in the technical scope of the present invention.

【0029】次に、本発明で応力緩和層として用いる軟
質金属について説明する。前述した様に、応力緩和層は
塑性変形によって先端材とシャンク材との線膨張係数の
違いによる熱変形差を緩和するために両者間に介在され
るものである。こうしたことから応力緩和層として用い
られる軟質金属は、柔らかくて容易に塑性変形を生じる
ものがであれば全て使用可能であり、具体的な要求特性
としてはビッカース硬度で120以下の軟質金属である
ことが好ましく、より好ましくはビッカース硬度で10
0以下の軟質金属である。こうした性質を考えると、軟
質金属は不可避不純物を除いて純金属であることが好ま
しく、例えばAu,Ag,Cu,Ni,Pd等が非限定
的に挙げられる。しかしながら、本発明で用いる軟質金
属は必ずしも純金属である必要はなく、各種合金元素を
添加した合金でも適用可能であり、こうした合金を非限
定的に例示すると、Au合金,Ag合金,Cu合金,P
d合金、等が挙げられる。
Next, the soft metal used as the stress relaxation layer in the present invention will be described. As described above, the stress relaxation layer is interposed between the tip material and the shank material to reduce the difference in thermal deformation due to the difference in the coefficient of linear expansion between the tip material and the shank material. For this reason, any soft metal that is used as the stress relaxation layer can be used as long as it is soft and easily causes plastic deformation.Specific required characteristics are soft metals having a Vickers hardness of 120 or less. And more preferably 10 in Vickers hardness.
It is a soft metal of 0 or less. Considering these properties, the soft metal is preferably a pure metal except for inevitable impurities, and examples thereof include, but are not limited to, Au, Ag, Cu, Ni, and Pd. However, the soft metal used in the present invention does not necessarily need to be a pure metal, and can be applied to alloys to which various alloying elements are added. Examples of such alloys include, but are not limited to, Au alloy, Ag alloy, Cu alloy, P
d alloy and the like.

【0030】応力緩和層の厚さとしては、接合後におい
て0.15〜5.0mm程度であることが好ましい。こ
の厚さが0.15mm未満であると、先端材とシャンク
材間の熱変形差を十分に緩和することができなくなり、
ボンディング面の平坦度変化が大きくなる。逆に、厚さ
が5.0mmを超えると、軟質金属の線膨張係数がボン
ディング面の平坦度変化に与える影響が大きくなり、ボ
ンディング面の平坦度変化が大きくなる。
The thickness of the stress relaxation layer is preferably about 0.15 to 5.0 mm after joining. If the thickness is less than 0.15 mm, the thermal deformation difference between the tip material and the shank material cannot be sufficiently reduced, and
The change in flatness of the bonding surface increases. Conversely, when the thickness exceeds 5.0 mm, the influence of the linear expansion coefficient of the soft metal on the flatness change of the bonding surface increases, and the flatness change of the bonding surface increases.

【0031】本発明で先端材として用いる硬質材料は、
通常用いられているものが全て使用可能である。こうし
た硬質材料を非限定的に例示すると、SiCを主成分と
する焼結体、Si34 をを主成分とする焼結体、金属
Si、超硬合金等が挙げられる。またインサート材の溶
融凝固によってセラミックス等の硬質材料を接合する場
合には、インサート材との濡れ性向上、若しくは硬質材
料とインサート材との反応防止の為に、硬質材料の接合
面にメタライズ等の被覆コーティングが施されることが
あるが、本発明のボンディングツールにおいても硬質材
料にこうした被覆コーティングを施しても良いことは勿
論である。こうした被覆コーティング層として、代表的
なものを非限定的に例示すると、Cr,Ti,Pt,A
u,TiC,TiN,ダイヤモンド、等が挙げられる。
またこの被覆コーティングは単層に限らず、複層形成し
ても良い。
The hard material used as the tip material in the present invention is:
All commonly used ones can be used. Examples of such hard materials include, but are not limited to, a sintered body mainly composed of SiC, a sintered body mainly composed of Si 3 N 4 , metal Si, a cemented carbide and the like. When joining a hard material such as ceramics by fusion and solidification of the insert material, metallizing the joint surface of the hard material to improve the wettability with the insert material or to prevent the reaction between the hard material and the insert material. Although a coating may be applied, it is a matter of course that the hard tool may be provided with such a coating even in the bonding tool of the present invention. Typical examples of such a coating layer include, but are not limited to, Cr, Ti, Pt, and A.
u, TiC, TiN, diamond and the like.
This coating is not limited to a single layer, and may be formed in multiple layers.

【0032】ところでバンプとインナーリードを接合す
る接合材としてはSnが用いられるのが一般的であり、
ボンディングツールによるボンディング作業時には、接
合材としてのSnがボンディング作用面に付着すること
がある。従って、ボンディング作用面にはSnが付着し
ないことが要求される。またボンディング作用面には、
耐摩耗性に優れていることも重要である。こうしたこと
から先端材のボンディング面には、各種のコーティング
が行われることがある。本発明のボンディングツールに
おいても、こうしたコーティングを施しても良く、こう
したコーティング層の種類としては気相合成ダイヤモン
ド,cBN,AlTiN等が挙げられる。
Incidentally, Sn is generally used as a bonding material for bonding the bump and the inner lead.
During the bonding operation using a bonding tool, Sn as a bonding material may adhere to the bonding surface. Therefore, it is required that Sn does not adhere to the bonding surface. Also, on the bonding action surface,
It is also important to have excellent wear resistance. For this reason, various types of coating may be applied to the bonding surface of the tip material. Such a coating may also be applied to the bonding tool of the present invention, and examples of such a coating layer include vapor-phase synthetic diamond, cBN, and AlTiN.

【0033】本発明でシャンク材として用いる金属材料
としては、先端材として用いられるセラミックスの線膨
張係数が近いことから、通常はコバール合金(Fe−2
9質量%Ni−17質量%Co合金)が代表的なものと
して挙げられる。しかしながら、本発明でシャンク材と
して用いる金属材料は、上記コバール合金に限らず、例
えばS25C,S35C,S45C,インバー合金,ハ
ステロイ,インコネル,インコロイ,パーマロイ,ステ
ンレス鋼,Mo,W,W−Cu合金,W−Ni合金,超
硬合金、等も用いることができる。
The metal material used as the shank material in the present invention is usually a Kovar alloy (Fe-2) because the linear expansion coefficient of the ceramic used as the tip material is close.
9 mass% Ni-17 mass% Co alloy) as a typical example. However, the metal material used as the shank material in the present invention is not limited to the above-mentioned Kovar alloy. W-Ni alloy, cemented carbide, etc. can also be used.

【0034】本発明において、先端材と応力緩和層の
間、および応力緩和層とシャン材の間を接合する為に用
いるインサート材は特に限定されるものではなく、通常
使用されているものが全て使用される。こうしたインサ
ート材として代表的なものを非限定的に例示すると、A
g−28%Cu合金,Ag−30%Cu−10%Sn合
金,Au−18%Ni合金,Au−20%Cu合金、A
g−28%Cu−2%Ti合金,Au−22%Ni−6
%Cr合金,Au−15.5%Ni−0.75Mo−
1.75%V合金,Au−3.0%Ni−0.6%Ti
合金(以上、いずれも「質量%」の意味)、等が挙げら
れる。尚インサート材は異材混入を避ける為に、先端材
と応力緩和層の間、および応力緩和層とシャンク材の間
で使用する両インサート材を同組成のものとするのが一
般的であるが、本発明では同組成のものでも異なる組成
のものでも使用可能である。
In the present invention, the insert material used for joining between the tip material and the stress relieving layer and between the stress relieving layer and the shank material is not particularly limited. used. Non-limiting examples of typical insert materials include A
g-28% Cu alloy, Ag-30% Cu-10% Sn alloy, Au-18% Ni alloy, Au-20% Cu alloy, A
g-28% Cu-2% Ti alloy, Au-22% Ni-6
% Cr alloy, Au-15.5% Ni-0.75Mo-
1.75% V alloy, Au-3.0% Ni-0.6% Ti
Alloy (all of which means "% by mass"). In addition, as for the insert material, in order to avoid mixing different materials, it is general that both insert materials used between the tip material and the stress relaxation layer and between the stress relaxation layer and the shank material have the same composition. In the present invention, those having the same composition or different compositions can be used.

【0035】本発明では、上記の様なインサート材を、
先端材と応力緩和層の間、および応力緩和層とシャンク
材の間に介在させた状態で、インサート材を加熱溶融す
ることによって接合するものであるが、このときの加熱
溶融温度(即ち、接合温度)は、インサート材の液相線
温度温度以上とする必要がある。一方、接合強度だけを
考慮すると、接合温度はできるだけ高温であることが好
ましいのであるが、あまり高過ぎるとインサート材の溶
融時に応力緩和層が溶解量が多くなり好ましくない。こ
うした観点から接合温度の上限は、応力緩和層としてA
uを用い、インサート材としてAuまたはNiを主成分
として含有する合金を用いる場合には、1032℃であ
り、応力緩和層としてAgまたはCuを用い、インサー
ト材としてAgまたはCuを主成分として含有する合金
を用いる場合には、950℃となる。
In the present invention, the insert material as described above is used
The insert material is joined by heating and melting the insert material in a state interposed between the tip material and the stress relieving layer and between the stress relieving layer and the shank material. Temperature) must be equal to or higher than the liquidus temperature of the insert material. On the other hand, considering only the joining strength, the joining temperature is preferably as high as possible. However, if the joining temperature is too high, the amount of the stress relaxation layer dissolved when the insert material is melted is not preferable. From this point of view, the upper limit of the joining temperature is set as A for the stress relaxation layer.
When u is used and an alloy containing Au or Ni as a main component is used as an insert material, the temperature is 1032 ° C., Ag or Cu is used as a stress relaxation layer, and Ag or Cu is mainly used as an insert material. When an alloy is used, the temperature is 950 ° C.

【0036】また上述した接合温度で接合した場合に
は、接合後における先端材と応力緩和層の間における接
合層は、接合温度によって規定された組成になる。例え
ば応力緩和層としてAu、インサート材としてAuおよ
びNiを含有した合金を使用した場合には、このインサ
ート材中には加熱時にAuが溶解していき、溶融状態に
あるインサート材の液相線温度が接合温度に達した時点
でインサート材は凝固する。そしてこのときの接合温度
は、前述した如く1032℃以下であることから、接合
層の液相線温度は1032℃以下となる。そしてAu−
Ni二元系において、1032℃未満の液相線温度にな
る組成はその状態図によって、AuとNiの重量比(A
u/Ni)で2.2〜32.3であるから、先端材と応
力緩和層の間の組成は、他の成分を除く前記質量比(A
u/Ni)で2.2〜32.3の範囲となる。一方、応
力緩和層としてAgまたはAu、インサート材として少
なくともAuおよびNiを含有した合金を使用した場合
には、先端材と応力緩和層の間の組成は、他の成分を除
く前記質量比(Ag/Cu)で0.4〜99.0の範囲
となる。
When bonding is performed at the above-described bonding temperature, the bonding layer between the tip member and the stress relaxation layer after bonding has a composition defined by the bonding temperature. For example, when an alloy containing Au is used as the stress relaxation layer and Au and Ni are used as the insert material, Au melts in the insert material when heated, and the liquidus temperature of the insert material in a molten state is increased. When the temperature reaches the joining temperature, the insert material solidifies. Since the bonding temperature at this time is 1032 ° C. or lower as described above, the liquidus temperature of the bonding layer is 1032 ° C. or lower. And Au-
In the Ni binary system, the composition at which the liquidus temperature is lower than 1032 ° C. is determined by the phase diagram according to the weight ratio of Au to Ni (A
u / Ni) of 2.2 to 32.3, the composition between the tip material and the stress relaxation layer is determined by the mass ratio (A) excluding other components.
u / Ni) is in the range of 2.2 to 32.3. On the other hand, when an alloy containing at least Au and Ni is used as the stress relieving layer and at least Au and Ni are used as the insert material, the composition between the tip material and the stress relieving layer depends on the mass ratio (Ag) excluding other components. / Cu) is in the range of 0.4 to 99.0.

【0037】[0037]

【実施例】次に実施例を挙げて本発明の構成および作用
効果をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記
実施例によって制限を受けるものではなく、前後記の趣
旨に適合し得る範囲で変更を加えて実施することも勿論
可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含
まれる。
EXAMPLES Next, the structure and operation and effect of the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples, and can be adapted to the spirit of the preceding and following examples. Of course, the present invention can be implemented with modifications within the scope, and all of them are included in the technical scope of the present invention.

【0038】実施例1 図10は、本発明のボンディングツールの一例を示す模
式図である。このボンディングツールにおいては、先端
材1としてSiC、応力緩和層2として無酸素銅(厚
み:0.5mm)、インサート材3a,3bとしてAg
−28.0質量%Cu−2.0質量%Ti合金(液相線
温度:780℃)、シャンク材4としてコバール合金を
夫々用いた。尚先端材1のボンディング面には、被覆コ
ーティング膜1aとして、気層合成ダイヤモンド膜(膜
厚:60μm)を合成した。
Embodiment 1 FIG. 10 is a schematic view showing an example of a bonding tool according to the present invention. In this bonding tool, SiC is used as the tip material 1, oxygen-free copper (thickness: 0.5 mm) is used as the stress relaxation layer 2, and Ag is used as the insert materials 3a and 3b.
A −28.0 mass% Cu-2.0 mass% Ti alloy (liquidus temperature: 780 ° C.) and a Kovar alloy were used as the shank material 4. An air layer synthetic diamond film (thickness: 60 μm) was synthesized on the bonding surface of the tip material 1 as a coating film 1a.

【0039】上記のボンディングツールを次の手順で作
成した。まず接合に先立ち、先端材1のボンディング作
用面側に被覆コーティング膜1aを形成した。次に、シ
ャンク材4上に、インサート材3b、応力緩和層2、イ
ンサート材3aおよび先端材を順次積層した。そしてA
rガス雰囲気中において、820℃に加熱し、前記イン
サート材3a,3bを溶融させて接合を実施した。この
接合に際して、図10に示した短辺側寸法(短辺長さ:
L1、距離:d1)および長辺側寸法(長辺長さ:L
2、距離:d2)を種々変化させた。
The above bonding tool was prepared in the following procedure. First, prior to joining, a coating film 1a was formed on the bonding material side of the tip material 1. Next, the insert material 3b, the stress relaxation layer 2, the insert material 3a, and the tip material were sequentially laminated on the shank material 4. And A
In an r gas atmosphere, the insert materials 3a and 3b were heated to 820 ° C. to fuse and perform the joining. At the time of this joining, the short side dimension (short side length:
L1, distance: d1) and long side dimension (long side length: L)
2. The distance: d2) was variously changed.

【0040】得られたボンディングツールについて、常
温において平坦研磨を行った後、常温と600℃でボン
ディング面の平坦度変化を測定した。その結果を、下記
表1に示す。
The obtained bonding tool was polished flat at room temperature, and then the change in flatness of the bonding surface was measured at room temperature and 600 ° C. The results are shown in Table 1 below.

【0041】[0041]

【表1】 [Table 1]

【0042】表1の結果から次の様に考察できる。まず
d1,d2が0.5mmよりも大きい場合には、下記
(1) 〜(3) のいずれの特性をも満足するボンディングツ
ールが得られ、好適に使用することができた。 (1) 熱先端材のボンディング作用面における500℃⇔
600℃の間の平坦度変化が1μm以下である。 (2) 常温⇔600℃の間の平坦度変化が3μm以下であ
る。 (3) 500〜600℃間の任意の温度における該ボンデ
ィング面の平坦度が1μm以下である。
The following can be considered from the results in Table 1. First, when d1 and d2 are larger than 0.5 mm,
A bonding tool satisfying any of the characteristics (1) to (3) was obtained and could be suitably used. (1) 500 ° C on the bonding surface of the hot tip material
The change in flatness during 600 ° C. is 1 μm or less. (2) The change in flatness between normal temperature and 600 ° C. is 3 μm or less. (3) The flatness of the bonding surface at an arbitrary temperature between 500 ° C. and 600 ° C. is 1 μm or less.

【0043】これに対して、d1が0.5mm未満の場
合、およびL1が5.0mm以上で且つd2が0.5m
m未満の場合には、常温⇔600℃におけるボンディン
グ面の平坦度変化が3μmを超えて大きくなるか、また
は500℃⇔600℃の平坦度変化が1μmを超えて大
きく、ボンディングツールとして使用可能な温度範囲が
限定される。尚L1が3.5mmの場合には、d2が
0.5mm未満でも平坦度変化が2μm以下と小さく、
ボンディングツールとして好適に使用することができ
た。
On the other hand, when d1 is less than 0.5 mm, L1 is not less than 5.0 mm and d2 is 0.5 m
If it is less than m, the change in flatness of the bonding surface at room temperature @ 600 ° C is larger than 3 µm, or the change in flatness at 500 ° C @ 600 ° C is larger than 1 µm, and it can be used as a bonding tool. The temperature range is limited. When L1 is 3.5 mm, the change in flatness is as small as 2 μm or less even when d2 is less than 0.5 mm,
It could be suitably used as a bonding tool.

【0044】実施例2 図11は、本発明のボンディングツールの他の例を示す
模式図である。このボンディングツールにおいては、先
端材1としてSiC、応力緩和層2としてAu(純度:
99.9%、厚み:0.5mm)、インサート材3a,
3bとしてAu−15.5質量%Ni−0.75質量%
Mo−1.75質量%V合金(液相線温度:960
℃)、シャンク材4としてコバール合金を夫々用いた。
尚先端材1には、ボンディング作用面側に被覆コーティ
ング膜1aとして気層合成ダイヤモンド膜(膜厚:60
μm)を、接合面側に被覆コーティング膜1bとして気
層合成ダイヤモンド膜(膜厚:20μm)を合成してい
る。
Embodiment 2 FIG. 11 is a schematic view showing another example of the bonding tool of the present invention. In this bonding tool, SiC is used as the tip material 1 and Au (purity:
99.9%, thickness: 0.5 mm), insert material 3a,
Au-15.5% by mass Ni-0.75% by mass as 3b
Mo-1.75 mass% V alloy (liquidus temperature: 960
° C), and a Kovar alloy was used as the shank material 4.
The tip material 1 has an air-synthetic diamond film (thickness: 60) as a coating film 1a on the bonding surface.
μm), and a gas-phase synthetic diamond film (film thickness: 20 μm) is synthesized on the bonding surface side as a coating film 1b.

【0045】上記のボンディングツールを次の手順で作
成した。まず接合に先立ち、先端材1のボンディング面
に被覆コーティング膜1a、接合面側に被覆コーティン
グ膜1bを夫々形成した。次に、シャンク材4上に、イ
ンサート材3b、応力緩和層2、インサート材3aおよ
び先端材を順次積層した。そして真空中において、98
0℃に加熱し、前記インサート材3a,3bを溶融させ
て接合を実施した。この接合に際して、図11に示した
短辺側寸法(短辺長さ:L1、距離:d1)および長辺
側寸法(長辺長さ:L2、距離:d2)を種々変化させ
た。
The above bonding tool was prepared in the following procedure. Prior to joining, a coating coating film 1a was formed on the bonding surface of the tip material 1, and a coating coating film 1b was formed on the bonding surface side. Next, the insert material 3b, the stress relaxation layer 2, the insert material 3a, and the tip material were sequentially laminated on the shank material 4. And in a vacuum, 98
Heating was performed to 0 ° C., and the insert materials 3a and 3b were melted and joined. In this joining, the short side dimension (short side length: L1, distance: d1) and long side dimension (long side length: L2, distance: d2) shown in FIG. 11 were variously changed.

【0046】得られたボンディングツールについて、常
温において平坦研磨を行った後、常温と600℃でボン
ディング面の平坦度変化を測定した。その結果を、下記
表2に示す。
The obtained bonding tool was polished flat at room temperature, and then the change in flatness of the bonding surface was measured at room temperature and 600 ° C. The results are shown in Table 2 below.

【0047】[0047]

【表2】 [Table 2]

【0048】表2の結果から次の様に考察できる。まず
d1,d2が0.5mmよりも大きい場合には、上記
(1) 〜(3) のいずれの特性をも満足するボンディングツ
ールが得られ、好適に使用することができた。
The following can be considered from the results in Table 2. First, when d1 and d2 are larger than 0.5 mm,
A bonding tool satisfying any of the characteristics (1) to (3) was obtained and could be suitably used.

【0049】これに対して、d1が0.5mm未満の場
合、およびL1が5.0mm以上で且つd2が0.5m
m未満の場合には、常温⇔600℃におけるボンディン
グ作用面の平坦度変化が3μmを超えて大きくなるか、
または500℃⇔600℃における平坦度変化が1μm
を超えて大きく、ボンディングツールとして使用可能な
温度範囲が限定される。尚L1が3.0mmの場合に
は、d2が0.5mm未満でも平坦度変化が2μm以下
と小さく、ボンディングツールとして好適に使用するこ
とができた。
On the other hand, when d1 is less than 0.5 mm, L1 is 5.0 mm or more and d2 is 0.5 m
If it is less than m, the change in flatness of the bonding surface at room temperature of about 600 ° C. becomes larger than 3 μm, or
Or the change in flatness at 500 ° C.⇔600 ° C. is 1 μm
And the temperature range that can be used as a bonding tool is limited. When L1 was 3.0 mm, even when d2 was less than 0.5 mm, the change in flatness was as small as 2 μm or less, so that it could be suitably used as a bonding tool.

【0050】実施例3 前記図11に示した基本的構成のボンディングツールに
おいて、先端材1としてSiC、応力緩和層2としてA
u(純度:99.9%)、インサート材3a,3bとし
てAu−22.0質量%Ni−6.0質量%Cr合金
(液層線温度:1000℃)、シャンク材4としてコバ
ール合金と夫々用いた。尚先端材1には、上記ボンディ
ング面側に被覆コーティング膜1aとして気層合成ダイ
ヤモンド膜(膜厚:60μm)を、接合面側に被覆コー
ティング膜1bとして気層合成ダイヤモンド膜(膜厚:
20μm)を合成した。
Embodiment 3 In the bonding tool having the basic structure shown in FIG. 11, SiC is used as the tip material 1 and A is used as the stress relaxation layer 2.
u (purity: 99.9%), Au-22.0% by mass Ni-6.0% by mass Cr alloy (liquid layer temperature: 1000 ° C.) as the insert materials 3a and 3b, and Kovar alloy as the shank material 4. Using. The tip material 1 has a gas-phase synthetic diamond film (film thickness: 60 μm) as the coating film 1a on the bonding surface side, and a gas-phase synthetic diamond film (film thickness: 60 μm) as the coating film 1b on the bonding surface side.
20 μm).

【0051】上記のボンディングツールを次の手順で作
成した。まず接合に先立ち、先端材1のボンディング作
用面側に被覆コーティング膜1a、接合面側に被覆コー
ティング膜1bを夫々形成した。次に、シャンク材4上
に、インサート材3b、応力緩和層2、インサート材3
aおよび先端材1を順次積層した。そして真空中におい
て、1020℃に加熱し、前記インサート材3a,3b
を溶融させて接合を実施した。この接合に際して、L
1:3.0mm、L2:15mm、d1:1.0mm、
d2:1.0mmとして、接合前の応力緩和層2の厚さ
を種々変化させた。
The above bonding tool was prepared in the following procedure. First, prior to joining, a coating film 1a was formed on the bonding surface of the tip 1 and a coating film 1b was formed on the bonding surface. Next, on the shank material 4, the insert material 3b, the stress relaxation layer 2, the insert material 3
a and the tip material 1 were sequentially laminated. Then, the material is heated to 1020 ° C. in a vacuum, and the insert materials 3a and 3b are heated.
Was melted to perform joining. In this joining, L
1: 3.0 mm, L2: 15 mm, d1: 1.0 mm,
Assuming that d2 was 1.0 mm, the thickness of the stress relaxation layer 2 before joining was variously changed.

【0052】得られたボンディングツールについて、常
温において平坦研磨を行った後、常温と600℃でボン
ディング面の平坦度変化を測定した。その結果を、下記
表3に示す。また平坦度変化を測定した後、ボンディン
グツールを切断し、断面観察によって応力緩和層2の厚
さを測定した。接合後に断面観察を行った理由は、イン
サート材の溶融時に応力緩和層2に用いる金属がインサ
ート材に溶解する結果、ボンディングツールの応力緩和
層2の厚さは接合後に減少する為である。測定した応力
緩和層2の厚みを併せて表3に示す。
The obtained bonding tool was polished flat at room temperature, and the change in flatness of the bonding surface was measured at room temperature and 600 ° C. The results are shown in Table 3 below. After measuring the change in flatness, the bonding tool was cut, and the thickness of the stress relaxation layer 2 was measured by cross-section observation. The reason why the cross section was observed after the joining was that the metal used for the stress relieving layer 2 was dissolved in the insert material when the insert material was melted, so that the thickness of the stress relieving layer 2 of the bonding tool was reduced after the joining. Table 3 also shows the measured thickness of the stress relaxation layer 2.

【0053】[0053]

【表3】 [Table 3]

【0054】表3の結果から次の様に考察できる。応力
緩和層2の厚さが0.15mm以上5.0mm未満の場
合には、常温から600℃における平坦度変化が2μm
以下のボンディングツールが得られ、好適に使用するこ
とができた。
The following can be considered from the results in Table 3. When the thickness of the stress relaxation layer 2 is 0.15 mm or more and less than 5.0 mm, the flatness change from room temperature to 600 ° C. is 2 μm.
The following bonding tool was obtained and could be suitably used.

【0055】これに対して、応力緩和層の厚さが0.1
5mm未満の場合、および5.0mmよりも厚い場合に
は、常温⇔600℃におけるボンディング面の平坦度変
化が3μmを超えて大きくなるか、または500℃⇔6
00℃におけ平坦度変化が1μmを超えて大きく、ボン
ディングツールとして使用可能な温度範囲が限定され
た。
On the other hand, when the thickness of the stress relaxation layer is 0.1
When the thickness is less than 5 mm and when the thickness is more than 5.0 mm, the change in flatness of the bonding surface at ordinary temperature of 600 ° C. becomes larger than 3 μm or 500 ° C./6
The change in flatness at 00 ° C. was large exceeding 1 μm, and the temperature range usable as a bonding tool was limited.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明は以上の様に構成されており、使
用温度におけるボンディング作用面の平坦度を小さいし
て均一なボンディング作業を実行することのできるボン
ディングツールが実現できた。
The present invention is configured as described above, and a bonding tool capable of performing a uniform bonding operation by reducing the flatness of the bonding working surface at a use temperature can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ボンディングツールのボンディング面が温度に
よって変化する様子を説明する為の模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining how a bonding surface of a bonding tool changes with temperature.

【図2】ボンディング面の平坦度を説明する為の模式図
である。
FIG. 2 is a schematic diagram for explaining flatness of a bonding surface.

【図3】応力緩和層を1層形成したときにおける緩和作
用が不十分になる原因を説明する為の図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining a cause of insufficient relaxation effect when one stress relaxation layer is formed.

【図4】本発明のボンディングツールの先端部付近の一
構成例を示す概略説明図である。
FIG. 4 is a schematic explanatory view showing an example of a configuration near a tip portion of a bonding tool according to the present invention.

【図5】図4に示したボンディングツールの要部(先端
材1および応力緩和層2付近)を示す平面図である。
5 is a plan view showing a main part (near the tip member 1 and the stress relaxation layer 2) of the bonding tool shown in FIG.

【図6】本発明のボンディングツールの先端部付近の他
の構成例を示す概略説明図である。
FIG. 6 is a schematic explanatory view showing another configuration example near the tip end of the bonding tool of the present invention.

【図7】シャンク材4上に応力緩和層2および先端材1
を積層する状態を説明する図である。
FIG. 7 shows a stress relaxation layer 2 and a tip material 1 on a shank material 4.
It is a figure explaining the state which laminates.

【図8】図6、7に示したボンディングツールの要部
(先端材1および応力緩和層2付近)を示す平面図であ
る。
FIG. 8 is a plan view showing a main part (in the vicinity of the end member 1 and the stress relaxation layer 2) of the bonding tool shown in FIGS.

【図9】本発明の実施の一形態を説明する為の図であ
る。
FIG. 9 is a diagram for explaining an embodiment of the present invention.

【図10】本発明のボンディングツールの一例を示す模
式図である。
FIG. 10 is a schematic view showing an example of a bonding tool according to the present invention.

【図11】本発明のボンディングツールの他の例を示す
模式図である。
FIG. 11 is a schematic view showing another example of the bonding tool of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 先端材(硬質材料) 2 応力緩和層(軟質金属) 3a,3b 接合層(インサート材) 4 シャンク材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Tip material (hard material) 2 Stress relaxation layer (soft metal) 3a, 3b Joining layer (insert material) 4 Shank material

フロントページの続き (72)発明者 西川 正寿 兵庫県明石市魚住町金ヶ崎西大池179−1 神鋼コベルコツール株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Masatoshi Nishikawa 179-1 Kanegasaki Nishi-Oike, Uozumi-cho, Akashi-shi, Hyogo Prefecture Shinko Kobelco Tool Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属材料からなるシャンク材上に軟質金
属からなる応力緩和層、および硬質材料からなる先端材
が積層され、先端材と応力緩和層の間、並びに応力緩和
層とシャンク材の間に、夫々インサート材を介在して接
合されたボンディングツールにおいて、先端材のボンデ
ィング作用面における500℃⇔600℃の間の平坦度
変化が1μm以下であると共に、常温⇔600℃の間の
平坦度変化が3μm以下であり、且つ500〜600℃
間の任意の温度におけるボンディング作用面の平坦度が
1μm以下であることを特徴とするボンディングツー
ル。
1. A stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material, and between the tip material and the stress relaxation layer, and between the stress relaxation layer and the shank material. In a bonding tool joined with an insert material interposed therebetween, the flatness change between 500 ° C. and 600 ° C. on the bonding working surface of the tip material is 1 μm or less and the flatness between normal temperature and 600 ° C. The change is 3 μm or less, and 500 to 600 ° C.
A bonding tool characterized in that the flatness of the bonding action surface at an arbitrary temperature therebetween is 1 μm or less.
【請求項2】 前記応力緩和層の周縁が前記先端材の周
縁よりも0.5mm以上幅広くなるように構成したもの
である請求項1に記載のボンディングツール。
2. The bonding tool according to claim 1, wherein a peripheral edge of the stress relaxation layer is wider than a peripheral edge of the tip member by 0.5 mm or more.
【請求項3】 応力緩和層としてAuが用いられ、この
応力緩和層と先端材が、AuとNiの質量比(Au/N
i)が2.2〜32.3である接合層によって接合され
たものである請求項1または2に記載のボンディングツ
ール。
3. A stress relaxation layer made of Au, wherein the stress relaxation layer and the tip material have a mass ratio of Au to Ni (Au / N).
The bonding tool according to claim 1, wherein the bonding tool is bonded by a bonding layer in which i) is 2.2 to 32.3.
【請求項4】 応力緩和層としてAgまたはCuが用い
られ、この応力緩和層を先端材が、AgとCuの質量比
(Au/Cu)が0.4〜99.0である接合層によっ
て接合されたものである請求項1または2に記載のボン
ディングツール。
4. Ag or Cu is used as a stress relieving layer, and the stress relieving layer is joined with a tip material by a joining layer having a mass ratio of Ag to Cu (Au / Cu) of 0.4 to 99.0. The bonding tool according to claim 1, wherein the bonding tool is used.
【請求項5】 金属材料からなるシャンク材上に軟質金
属からなる応力緩和層、および硬質材料からなる先端材
が積層され、先端材と応力緩和層の間、並びに応力緩和
層とシャンク材の間に、夫々インサート材を介在させて
加熱溶融することによって接合されるボンディングツー
ルの製造方法において、前記応力緩和層の周縁が前記先
端材の周縁よりも0.5mm以上幅広くなる様にして接
合した後、前記先端材のボンディング作用面における常
温での平坦度が2μm以下となる様に加工することを特
徴とするボンディングツールの製造方法。
5. A stress relaxation layer made of a soft metal and a tip material made of a hard material are laminated on a shank material made of a metal material, and between the tip material and the stress relaxation layer and between the stress relaxation layer and the shank material. In a method of manufacturing a bonding tool, which is joined by heating and melting with an insert material interposed therebetween, the joining is performed such that the periphery of the stress relaxation layer is at least 0.5 mm wider than the periphery of the tip material. A method of manufacturing the bonding tool, wherein the flatness of the tip material at the bonding operation surface at room temperature is 2 μm or less.
【請求項6】 応力緩和層としてAuを用い、Auまた
はNiを主成分として含有するインサート材を、先端材
と応力緩和層の間に介在させた状態で、該インサート材
をその液相線温度以上1032℃以下の温度に加熱溶融
することによって先端材と応力緩和層を接合する請求項
5に記載のボンディングツールの製造方法。
6. A method according to claim 1, wherein the stress relaxation layer is made of Au, and an insert material containing Au or Ni as a main component is interposed between the tip material and the stress relaxation layer. The method for manufacturing a bonding tool according to claim 5, wherein the tip material and the stress relaxation layer are joined by heating and melting to a temperature of 1032 ° C or less.
【請求項7】 応力緩和層としてAgまたはCuを用
い、AgまたはCuを主成分含有するインサート材を、
先端材と応力緩和層の間に介在させた状態で、該インサ
ート材をその液相線温度以上950℃以下の温度に加熱
溶融することによって先端材と応力緩和層を接合する請
求項5に記載のボンディングツールの製造方法。
7. An insert material containing Ag or Cu as a main component using Ag or Cu as a stress relaxation layer,
6. The tip material and the stress relaxation layer are joined by heating and melting the insert material to a temperature not lower than its liquidus temperature and not more than 950 ° C. while being interposed between the tip material and the stress relaxation layer. Method of manufacturing a bonding tool.
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