JPH11118866A - Tape carrier package semiconductor device, method of disconnection test therefor, and liquid crystal panel display device using the same - Google Patents

Tape carrier package semiconductor device, method of disconnection test therefor, and liquid crystal panel display device using the same

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JPH11118866A
JPH11118866A JP9282319A JP28231997A JPH11118866A JP H11118866 A JPH11118866 A JP H11118866A JP 9282319 A JP9282319 A JP 9282319A JP 28231997 A JP28231997 A JP 28231997A JP H11118866 A JPH11118866 A JP H11118866A
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健司 豊沢
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a practical disconnection test method for a flex TCP(tape carrier package) semiconductor device. SOLUTION: A TEG(test-element group) 1 is fabricated by providing a slit 3 in a polyimide base 2, forming a copper wiring pattern 4 across the top of the slit 3, and covering the copper wiring pattern 4 located near the top of the slit 3 with a solder resist 6. After the TEGs 1... are mounted on a liquid- crystal panel 11 and a PWB(printed wiring board) 12 by use of an ACF (anisotropic, conductive adhesive) 13, the TEGs 1... are curved so that the liquid crystal panel 11 and the PWB 12 face each other, thus fabricating several samples for a disconnection test. Next, the samples for the disconnection test are put in a temperature cycle vessel and exposed to a temperature environment in which 85 deg.C and -30 deg.C are repeated by 30 minutes each. The number of cycles at which the copper wiring patterns 4... on the samples for the disconnection test start to disconnect is counted. The TEG 1 formed to resist disconnection within 200 cycles is thus shown to be suitable for an actual TCP semiconductor device.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、適正な柔軟性を有
するソルダレジストを使用したTCP半導体装置及びそ
の配線パターンの断線試験方法、並びにそのTCP半導
体装置を用いた液晶パネル表示装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TCP semiconductor device using a solder resist having appropriate flexibility, a method of testing a disconnection of a wiring pattern thereof, and a liquid crystal panel display device using the TCP semiconductor device. .

【0002】[0002]

【従来の技術】柔軟な折り曲げ性を有するTCP(Tape
Carrier Package)半導体装置をフレックスTCP半導
体装置と呼ぶ。フレックスTCP半導体装置は、特に額
縁サイズの小さい液晶パネルのドライバ半導体のパッケ
ージとして使用されている。
2. Description of the Related Art Flexible folding TCP (Tape)
Carrier Package) semiconductor devices are called flex TCP semiconductor devices. The flex TCP semiconductor device is used particularly as a package of a driver semiconductor of a liquid crystal panel having a small frame size.

【0003】液晶パネルは年々大型化される傾向にあ
り、現在はノートPC(Personal Computer )用に13
インチを越えるものも生産されている。従って、大型液
晶パネル用のフレックスTCP半導体装置の開発が望ま
れている。
[0003] Liquid crystal panels tend to become larger year by year, and are currently used for notebook PCs (Personal Computers).
Some products exceed inches. Therefore, development of a flex TCP semiconductor device for a large liquid crystal panel is desired.

【0004】図7(a)に、現行技術でのフレックスT
CP半導体装置101の平面構造、同図(b)にそのA
−A’線断面図をそれぞれ示す。
FIG. 7A shows a flex T according to the current technology.
The planar structure of the CP semiconductor device 101, FIG.
The sectional view taken along line -A 'is shown.

【0005】フレックスTCP半導体装置101は、フ
ィルム状のポリイミド基材102を用いて作製したテー
プキャリア103にドライバICチップ104を電気的
に接合した構成である。
[0005] The flex TCP semiconductor device 101 has a configuration in which a driver IC chip 104 is electrically connected to a tape carrier 103 manufactured using a polyimide substrate 102 in the form of a film.

【0006】テープキャリア103は、スリット105
・105と、インナーリード106…、入力側アウター
リード107…、出力側アウターリード108…及びテ
ストパッド109を形成する銅配線パターンと、上記ス
リット105・105及び銅配線パターンを絶縁被覆す
るエポキシ系ソルダレジスト110…、ポリイミド系ソ
ルダレジスト111・111、ポリイミド系ソルダレジ
スト112・112と、ポリイミド基材102の引出し
・位置合わせに使用されるスプロケットホール113…
とから構成される。
The tape carrier 103 has a slit 105
105, inner leads 106, input outer leads 107, output outer leads 108, and copper wiring patterns for forming the test pads 109, and epoxy solder for insulating the slits 105, 105 and the copper wiring patterns. Resist 110, polyimide solder resists 111, 111, polyimide solder resists 112, 112, and sprocket holes 113 used for pulling out and aligning the polyimide base material 102.
It is composed of

【0007】特に、銅配線パターン上には、ヤング率が
380±80kgf/mm2 の硬いエポキシ系ソルダレ
ジスト110…と、ヤング率が50±20kgf/mm
2 の柔軟性を有するポリイミド系ソルダレジスト111
・111との2種類のソルダレジストを使用する。エポ
キシ系ソルダレジスト110…は、ヤング率が大きいこ
とを利用してポリイミド系ソルダレジスト111・11
1のブリード(印刷後に溶剤成分を主体にソルダレジス
トが流れ出したもの)の発生を阻止する役割と、後述す
るテープキャリア103作製時のスズメッキ形成工程に
おいて、ポリイミド系ソルダレジスト111・111の
エッジが剥がれることを防止する役割とを持つ。これに
より、ポリイミド系ソルダレジスト111・111のパ
ターニング精度を向上させる。
In particular, a hard epoxy solder resist 110 having a Young's modulus of 380 ± 80 kgf / mm 2 and a Young's modulus of 50 ± 20 kgf / mm 2 are formed on the copper wiring pattern.
Polyimide solder resist 111 having flexibility of 2
Use two types of solder resists 111 and 111. The epoxy solder resists 110 and 11 are made of polyimide solder resists 111 and 11 by utilizing a large Young's modulus.
(1) The role of preventing the occurrence of bleed (the solder resist mainly flowing out of the solvent component after printing), and the edge of the polyimide-based solder resist (111) peels off during the tin plating forming step when the tape carrier 103 is manufactured as described later. It has a role to prevent that. Thereby, the patterning accuracy of the polyimide solder resists 111 is improved.

【0008】また、スリット105・105の下面(銅
配線パターンが形成されている面の裏側)には、ポリイ
ミド系ソルダレジスト112・112が形成される。
On the lower surface of the slits 105 (on the back side of the surface on which the copper wiring pattern is formed), polyimide solder resists 112 are formed.

【0009】一方、ドライバICチップ104は、Au
バンプ114…を介してインナーリード106…に電気
的に接続されており、その接続点の周辺は樹脂115に
よって封止されている。
On the other hand, the driver IC chip 104
The bumps 114 are electrically connected to the inner leads 106. The periphery of the connection point is sealed with a resin 115.

【0010】次に、図8を用いて、上記の構造のフレッ
クスTCP半導体装置101におけるテープキャリア1
03の作製プロセスを説明する。
Next, referring to FIG. 8, the tape carrier 1 in the flex TCP semiconductor device 101 having the above structure will be described.
03 will be described.

【0011】まず、ポリイミド基材102(ユーピレッ
クス;宇部興産の商標)の表面に接着剤を塗布し(工程
1)、デバイスホール、スリット105・105、スプ
ロケットホール113…等を形成すべく上記ポリイミド
基材102を金型で打ち抜く(工程2)。
First, an adhesive is applied to the surface of a polyimide substrate 102 (UPIREX; trademark of Ube Industries) (Step 1), and the above polyimide substrate is formed to form device holes, slits 105, sprocket holes 113, and the like. The material 102 is punched out with a mold (step 2).

【0012】次に、18μm、25μm、35μm厚の
銅箔のうち、いずれかをポリイミド基材102にラミネ
ートする(工程3)。スリット105・105には、ま
ず、後に銅配線パターンが形成される面に対して反対側
からポリイミド系ソルダレジスト112・112を形成
する(工程4)。そして、エッチングマスクとしてのフ
ォトレジストを銅箔表面に塗布し(工程5)、露光によ
って目的のパターンを焼き付け(工程6)て現像する
(工程7)。デバイスホールにもエッチングマスクとし
てのフォトレジストを形成し(工程8)た後、銅箔エッ
チング液に浸漬して所望の銅配線パターンを形成する
(工程9)。このようにして銅配線パターンを形成した
後、全てのフォトレジストを有機溶剤あるいはドライエ
ッチングによって剥離する(工程10)。
Next, one of 18 μm, 25 μm, and 35 μm thick copper foil is laminated on the polyimide substrate 102 (step 3). First, polyimide-based solder resists 112 are formed in the slits 105 from the side opposite to the surface on which a copper wiring pattern is to be formed later (Step 4). Then, a photoresist as an etching mask is applied to the surface of the copper foil (Step 5), and a desired pattern is baked by exposure (Step 6) and developed (Step 7). After forming a photoresist as an etching mask also in the device hole (Step 8), it is immersed in a copper foil etchant to form a desired copper wiring pattern (Step 9). After forming the copper wiring pattern in this manner, all the photoresists are removed by an organic solvent or dry etching (step 10).

【0013】次に、ポリイミド基材102の銅配線パタ
ーンを形成した面上において、後で形成するポリイミド
系ソルダレジスト111・111を両側から挟む位置
に、25μm厚程度のエポキシ系ソルダレジスト110
…を印刷して形成する(工程11)。その後、折り曲げ
部であるスリット105・105を覆うように25μm
厚程度のポリイミド系ソルダレジスト111・111を
印刷して形成する(工程12)。
Next, on the surface of the polyimide base material 102 on which the copper wiring pattern is formed, an epoxy solder resist 110 having a thickness of about 25 μm is placed between the polyimide solder resists 111 to be formed later from both sides.
Are formed by printing (step 11). Then, 25 μm so as to cover the slits 105, 105
A thick polyimide solder resist 111 is formed by printing (step 12).

【0014】次いで、露出している銅箔表面に、無電解
メッキ法により0.2μm〜0.6μm厚程度のスズメ
ッキを形成し、スズメッキ後はホイスカが発生しないよ
うにキュア(熱処理)を施す(工程13)。
Next, tin plating having a thickness of about 0.2 μm to 0.6 μm is formed on the exposed copper foil surface by an electroless plating method, and after tin plating, curing (heat treatment) is performed so that whiskers do not occur ( Step 13).

【0015】最後に、以上の工程により作製されたテー
プキャリア103を出荷する(工程14)。
Finally, the tape carrier 103 manufactured by the above steps is shipped (step 14).

【0016】また、従来のフレックスTCP半導体装置
として、図7とは異なる構造のものがある。これは、ヤ
ング率が200±50kgf/mm2 の硬い1種類のエ
ポキシ系ソルダレジストのみを銅配線パターンに形成す
るものである。このフレックスTCP半導体装置は、上
記のようにヤング率が大きいソルダレジストを使用して
いるため、図7の構造のフレックスTCP半導体装置1
01と比較して、実装時の折り曲げに対する柔軟性に劣
る。
Further, there is a conventional flex TCP semiconductor device having a structure different from that of FIG. In this method, only one kind of hard epoxy epoxy resist having a Young's modulus of 200 ± 50 kgf / mm 2 is formed on a copper wiring pattern. Since this flex TCP semiconductor device uses a solder resist having a large Young's modulus as described above, the flex TCP semiconductor device 1 having the structure shown in FIG.
Compared with 01, it is inferior in bending flexibility at the time of mounting.

【0017】次に、図10(a)を用いてフレックスT
CP半導体装置101…の液晶パネル201及びPWB
(Printed Wiring Board)基板202への実装方法につ
いて説明する。一般に、フレックスTCP半導体装置の
TFT液晶への実装に際しては、解像度にもよるが、例
えば12.1インチサイズで1024ドット×768ド
ットの液晶パネルの場合、13個程度のフレックスTC
P半導体装置をドライバとして片側パネルの額縁のソー
ス側に設ける。
Next, referring to FIG.
The liquid crystal panel 201 and the PWB of the CP semiconductor device 101 ...
(Printed Wiring Board) A method of mounting on the substrate 202 will be described. In general, when mounting a flex TCP semiconductor device on a TFT liquid crystal, depending on the resolution, for example, in the case of a liquid crystal panel of 1024 dots × 768 dots with a size of 12.1 inches, about 13 flex TCs are used.
The P semiconductor device is provided as a driver on the source side of the frame of one side panel.

【0018】まず、液晶パネル201に、異方性・導電
性接着剤であるACF(Anisotropic Conductive Film
)を仮圧着する。ACFは、1.2mmから3mm程
度までの種類の幅があり、液晶パネルの額縁のサイズに
合わせて適宜選択される。従って、例えば、額縁の幅が
狭ければ、ACFも幅の狭いものを選択する。ACFを
仮圧着するには、ACFを液晶パネルに貼り付けたま
ま、90℃に加熱したツールを2秒程度押し当てる。こ
のとき、ACFは熱によって反応して硬化するが、後に
本圧着することができるようにするため、完全には硬化
させない。
First, an anisotropic conductive film ACF (Anisotropic Conductive Film)
) Is temporarily crimped. The ACF has a width of about 1.2 mm to about 3 mm, and is appropriately selected according to the size of the frame of the liquid crystal panel. Therefore, for example, if the width of the frame is small, a narrow ACF is selected. To temporarily press-fit the ACF, a tool heated to 90 ° C. is pressed for about 2 seconds while the ACF is stuck to the liquid crystal panel. At this time, the ACF reacts and is cured by heat, but is not completely cured so that the final pressure bonding can be performed later.

【0019】ACFの仮圧着が終了した時点で、ACF
に付着させていたスペーサを剥がし、そこにフレックス
TCP半導体装置101…の出力側アウターリード10
8…を仮圧着する。このとき、フレックスTCP半導体
装置101…と液晶パネル201とを、それぞれに形成
されたアライメントマークを用いて位置合わせする。
At the time when the ACF temporary crimping is completed, the ACF
Is peeled off, and the output-side outer leads 10 of the flex TCP semiconductor device 101 are removed therefrom.
8 are temporarily pressed. At this time, the flex TCP semiconductor device 101 and the liquid crystal panel 201 are aligned using the alignment marks formed respectively.

【0020】フレックスTCP半導体装置101…は、
この仮圧着前に、リール状につながった状態にあるた
め、金型で打ち抜いて個片にしておく。そして、仮圧着
時には、100℃に加熱したツールを10kgf/cm
2 の荷重で3秒押し当てるが、ACFを完全には硬化さ
せない。
The flex TCP semiconductor devices 101 ...
Before this temporary crimping, since they are connected in a reel shape, they are punched out with a die to form individual pieces. Then, at the time of temporary compression bonding, the tool heated to 100 ° C. is set to 10 kgf / cm.
Press for 3 seconds with a load of 2 , but do not completely cure the ACF.

【0021】フレックスTCP半導体装置101…の仮
圧着後に本圧着を行う。本圧着は、全てのフレックスT
CP半導体装置101…に一括して、200℃に加熱し
たツールを35kgf/cm2 の荷重で20秒押し当て
て実施する。
After the temporary press-fit of the flex TCP semiconductor devices 101, the final press-fit is performed. Full crimp is for all Flex T
A tool heated to 200 ° C. is pressed against the CP semiconductor devices 101... At a load of 35 kgf / cm 2 for 20 seconds.

【0022】液晶パネル201にフレックスTCP半導
体装置101…を実装すると、今度はフレックスTCP
半導体装置101…の入力側アウターリード107…を
PWB基板202に実装する。PWB基板202への実
装方法として、ハンダ付けによる方法とACFによる方
法とがある。ACFによる実装方法では、PWB基板2
02をアライメントし、全てのフレックスTCP半導体
装置101…を一括して実装する。このとき、PWB基
板202と、液晶パネル201を構成するガラス基板と
の熱膨張係数の違いによって、フレックスTCP半導体
装置101…に熱応力が集中する。
When the flex TCP semiconductor devices 101 are mounted on the liquid crystal panel 201, the flex TCP
The input-side outer leads 107 of the semiconductor devices 101 are mounted on the PWB board 202. As a mounting method on the PWB substrate 202, there are a method by soldering and a method by ACF. In the mounting method using the ACF, the PWB substrate 2
02 are aligned, and all the flex TCP semiconductor devices 101 are mounted collectively. At this time, thermal stress concentrates on the flex TCP semiconductor devices 101 due to a difference in thermal expansion coefficient between the PWB substrate 202 and the glass substrate constituting the liquid crystal panel 201.

【0023】フレックスTCP半導体装置101…は、
このような熱応力が加わった状態で、PWB基板202
が液晶パネル201の裏側へ配置されるべく折り曲げら
れるため、さらにフレックスTCP半導体装置101…
の銅配線パターンに応力が集中する。この熱応力は、特
に液晶パネル201が大型になるにつれて大きくなる。
The flex TCP semiconductor devices 101 ...
In a state where such thermal stress is applied, the PWB substrate 202
Are bent to be arranged on the back side of the liquid crystal panel 201, so that the flex TCP semiconductor devices 101.
Stress concentrates on the copper wiring pattern. This thermal stress increases particularly as the size of the liquid crystal panel 201 increases.

【0024】また、図9に示すようなスリットのないス
トレート型のTCP半導体装置121を、図10(b)
に示すように折り曲げないで実装する方法がある。但
し、この方法では、フレックスTCP半導体装置101
の場合のように液晶パネル201の額縁サイズを小さく
することができない。従って、ノートPCのような決め
られた大きさの機器内に少しでも大きな液晶パネルを搭
載しようとする場合に不利となる。
Further, a straight type TCP semiconductor device 121 having no slit as shown in FIG.
There is a method of mounting without bending as shown in (1). However, in this method, the flex TCP semiconductor device 101
The frame size of the liquid crystal panel 201 cannot be reduced as in the case of (1). Therefore, it is disadvantageous when a large liquid crystal panel is to be mounted in a device having a predetermined size such as a notebook PC.

【0025】次に、フレックスTCP半導体装置101
の銅配線パターンの断線試験方法について図11(a)
(b)を用いて説明する。従来は、図11(a)に示す
ようなテスト用パターンであるTEG(Test Element G
roup)131を作製し、同図(b)に示すMIT(Mass
achusetts Institute of Technology )試験方法で上記
TEG131を折り曲げ、銅配線パターン132の断線
を試験していた。
Next, the flex TCP semiconductor device 101
FIG. 11 (a) shows a method of disconnection test of copper wiring pattern
This will be described with reference to FIG. Conventionally, a TEG (Test Element G) which is a test pattern as shown in FIG.
roup) 131, and the MIT (Mass) shown in FIG.
The TEG 131 was bent by a test method of achusetts Institute of Technology), and the disconnection of the copper wiring pattern 132 was tested.

【0026】この試験方法では、例えば、両端を治具1
35・135で挟んだTEG131に100gの錘を載
せ、1mm幅のスリット133の部分を折り曲げ半径
0.3mm〜0.4mmで90°から0°に折り曲げ、
さらに180°に戻して折り曲げる。0°から180°
に折り曲げたらそれを一回の折り曲げとカウントし、ス
リット133上に形成された銅配線パターン132が断
線するまで繰り返し、断線に到る折り曲げ回数を求め
る。断線するまでの折り曲げ回数が多い程、折り曲げに
対する耐性が良好であると判定する。上記耐性はTEG
131に使用するソルダレジスト134によって変化
し、これまでは、このMIT試験方法で20回以上断線
しないようなソルダレジスト134を使用していた。
In this test method, for example, both ends of the jig 1
A weight of 100 g is placed on the TEG 131 sandwiched between 35 and 135, and a portion of the slit 133 having a width of 1 mm is bent from 90 ° to 0 ° at a bending radius of 0.3 mm to 0.4 mm,
Return to 180 ° and bend. 0 ° to 180 °
If the copper wiring pattern 132 formed on the slit 133 is disconnected, the number of times of the bending is calculated. It is determined that the greater the number of times of bending before disconnection, the better the resistance to bending. The above resistance is TEG
The solder resist 134 changes depending on the solder resist 134 used in the 131, and the solder resist 134 that does not break more than 20 times in this MIT test method has been used.

【0027】[0027]

【発明が解決しようとする課題】ところが、図7に示す
ような2種類のソルダレジストを使用するフレックスT
CP半導体装置101では、最初に形成するエポキシ系
ソルダレジスト110…のパターニング精度が±0.2
mmであり、その後に形成するポリイミド系ソルダレジ
スト111・111のパターニング精度が±0.3mm
である。従って、2種類のソルダレジストが接触する部
分のパターニング精度は±0.5mmと悪かった。
However, a flex T using two types of solder resists as shown in FIG.
In the CP semiconductor device 101, the patterning accuracy of the epoxy solder resists 110 formed first is ± 0.2.
mm, and the patterning accuracy of the polyimide-based solder resist 111 formed thereafter is ± 0.3 mm.
It is. Therefore, the patterning accuracy of the portion where the two types of solder resists contact was poor at ± 0.5 mm.

【0028】また、フレックスTCP半導体装置101
では、硬いエポキシ系ソルダレジスト110…を使用す
るため、フレックスTCP半導体装置101自身が硬く
なり、柔軟性を損なうことになる。その上、フレックス
TCP半導体装置101上に硬いソルダレジストを形成
すると、フレックスTCP半導体装置101に反りが発
生するため、フレックスTCP半導体装置101をアセ
ンブリ工程で順調に搬送することができなかった。この
反りは、特にフレックスTCP半導体装置101の幅が
48mm以上のときに発生しやすい。
The flex TCP semiconductor device 101
In this case, since the hard epoxy-based solder resists 110 are used, the flex TCP semiconductor device 101 itself becomes hard and loses flexibility. In addition, when a hard solder resist is formed on the flex TCP semiconductor device 101, the flex TCP semiconductor device 101 is warped, so that the flex TCP semiconductor device 101 cannot be smoothly transported in the assembly process. This warpage tends to occur particularly when the width of the flex TCP semiconductor device 101 is 48 mm or more.

【0029】さらに、フレックスTCP半導体装置10
1では、2種類のソルダレジストを形成するため、テー
プキャリア103の作製工程が複雑になって歩留りが低
下すると共に、ソルダレジスト工程を2回繰り返すこと
で、テープキャリア103の作製に要する時間が長くな
っていた。従って、テープキャリア103の作製コスト
が高くなっていた。
Further, the flex TCP semiconductor device 10
In No. 1, since two types of solder resists are formed, the production process of the tape carrier 103 becomes complicated and the yield decreases, and the time required for the production of the tape carrier 103 is increased by repeating the solder resist process twice. Had become. Therefore, the manufacturing cost of the tape carrier 103 has been high.

【0030】ソルダレジストとしてポリイミド系ソルダ
レジストのみをフレックスTCP半導体装置上に形成す
ると、フレックスTCP半導体装置の反りと、テープキ
ャリアの作製コストが高くなることとを解決することが
できる。しかし、ポリイミド系ソルダレジストはチクソ
性が低いため、図12に示すように、パターンエッジ1
41にブリード142が発生してしまう。チクソ性と
は、攪拌によって粘度が低下し、放置すると粘度が増大
する性質の尺度である。例えばソルダレジストのチクソ
性が高いと、印刷時には粘度が低いためパターニング精
度が良く、印刷後には粘度が増大するためブリードが発
生しにくくなる。
When only a polyimide-based solder resist is formed on the flex TCP semiconductor device as the solder resist, it is possible to solve the warpage of the flex TCP semiconductor device and the increase in the manufacturing cost of the tape carrier. However, since the polyimide-based solder resist has low thixotropy, as shown in FIG.
Bleed 142 occurs in 41. The thixotropy is a measure of the property that the viscosity decreases upon stirring and increases upon standing. For example, when the thixotropy of the solder resist is high, the patterning accuracy is good because the viscosity is low during printing, and the viscosity increases after printing, so that bleeding is less likely to occur.

【0031】従って、チクソ性が低いとソルダレジスト
143のパターンエッジ141が正確に印刷されず、テ
ープキャリアの作製に支障を来す。さらには、テープキ
ャリアのデバイスホール内のインナーリード144…へ
ソルダレジスト143が流れ出し、ILB(Inner Lead
Bonding )工程でボンディングすることができないと
いう不都合も生じる。
Therefore, if the thixotropy is low, the pattern edge 141 of the solder resist 143 is not accurately printed, which hinders the manufacture of the tape carrier. Further, the solder resist 143 flows out to inner leads 144... In the device hole of the tape carrier, and ILB (Inner Lead)
There is also a disadvantage that bonding cannot be performed in the bonding step.

【0032】また、ソルダレジストとしてポリイミド系
ソルダレジストのみを用いたフレックスTCP半導体装
置のインナーリードを樹脂封止する工程において、ポリ
イミド系ソルダレジストはエポキシ系の液状樹脂に対す
る密着性が低く、フレックスTCP半導体装置を作製す
ることが困難である。
In the step of sealing the inner lead of a flex TCP semiconductor device using only a polyimide solder resist as a solder resist, the polyimide solder resist has low adhesion to an epoxy liquid resin, and the flex TCP semiconductor It is difficult to fabricate the device.

【0033】以上の問題点に加え、フレックスTCP半
導体装置101の銅配線パターンの断線を試験するMI
T試験方法にも問題点がある。すなわち、MIT試験で
は、断線箇所は図11(b)に示すようにスリット13
3のエッジ付近であるが、フレックスTCP半導体装置
101…を液晶パネル201及びPWB基板202に実
装した後、折り曲げることによって発生する断線箇所と
は異なる。実装して折り曲げた場合に発生する断線箇所
は、図13に示すように、液晶パネル201とフレック
スTCP半導体装置101…とが接合する部分のエッジ
付近である。
In addition to the above problems, the MI for testing the disconnection of the copper wiring pattern of the flex TCP semiconductor device 101
The T test method also has problems. That is, in the MIT test, the disconnection point is the slit 13 as shown in FIG.
3 is different from the disconnection caused by bending after mounting the flex TCP semiconductor devices 101 on the liquid crystal panel 201 and the PWB substrate 202. As shown in FIG. 13, a disconnection occurring when mounting and bending is near an edge of a portion where the liquid crystal panel 201 and the flex TCP semiconductor device 101 are joined.

【0034】また、大型液晶パネルになる程、液晶パネ
ル201とPWB基板202との熱膨張係数の差によっ
て起こるフレックスTCP半導体装置101…への応力
が増大し、銅配線パターンにこの応力が集中して断線し
やすくなる。例えば、断線不良は、10.4インチ液晶
パネルを用いる際にはほとんど発生しないが、11.3
インチ以上の大型の液晶パネルを用いる際には顕在化し
てくる。
As the size of the liquid crystal panel increases, the stress on the flex TCP semiconductor devices 101 caused by the difference in the thermal expansion coefficient between the liquid crystal panel 201 and the PWB substrate 202 increases, and this stress concentrates on the copper wiring pattern. Disconnection is easy. For example, a disconnection failure hardly occurs when a 10.4-inch liquid crystal panel is used, but 11.3 inches.
This becomes apparent when a large liquid crystal panel of inches or more is used.

【0035】つまり、MIT試験では、スリット133
における断線不良を検出することはできても、フレック
スTCP半導体装置101…の実装時の折り曲げ耐性を
適正に評価することはできない。従って、例えば、1種
類のエポキシ系ソルダレジストを使用するフレックスT
CP半導体装置の方が、2種類のソルダレジストを使用
するフレックスTCP半導体装置よりMIT試験では良
好な結果が得られているにも係わらず、実際に液晶パネ
ルに実装すると1種類のエポキシ系ソルダレジストを使
用したものの方が断線しやすいといったようなことが起
こる。
That is, in the MIT test, the slit 133
Can be detected, but the bending resistance at the time of mounting the flex TCP semiconductor devices 101 cannot be properly evaluated. Therefore, for example, Flex T using one type of epoxy solder resist
Although the CP semiconductor device obtained better results in the MIT test than the flex TCP semiconductor device using two types of solder resists, one type of epoxy solder resist was actually mounted on the liquid crystal panel. For example, it is easier to use a cable that uses a cable.

【0036】このように、従来の断線試験方法では、大
型液晶パネルに最適なフレックスTCP半導体装置の製
造方法を決定することができない。また、フレックスT
CP半導体装置を液晶パネルに実装して評価していたの
では、通常液晶パネル実装工程で発生する断線不良はP
PMオーダーで低く、短時間で合理的に評価することが
できない。従って、断線不良が顕在化すると予想される
15インチ以上の大型液晶パネル表示装置を、高い歩留
りで製造する方法を簡便に求めることができない。
As described above, according to the conventional disconnection test method, it is impossible to determine a method of manufacturing a flex TCP semiconductor device which is optimal for a large liquid crystal panel. Also, Flex T
When the CP semiconductor device was mounted on the liquid crystal panel and evaluated, the disconnection defect that normally occurs in the liquid crystal panel mounting process is P
It is low in PM order and cannot be reasonably evaluated in a short time. Therefore, it is not possible to easily obtain a method for manufacturing a large-sized liquid crystal panel display device having a size of 15 inches or more at which a disconnection defect is expected to become apparent at a high yield.

【0037】本発明は上記従来の問題点に鑑みなされた
ものであって、その目的は、フレックスTCP半導体装
置の実用的な断線試験方法、その断線試験方法に基づい
て求めたフレックスTCP半導体装置の最適な構造、及
びそのフレックスTCP半導体装置を用いた大型液晶パ
ネル表示装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has as its object to provide a practical disconnection test method for a flex TCP semiconductor device and a flex TCP semiconductor device obtained based on the disconnection test method. An object of the present invention is to provide an optimal structure and a large-sized liquid crystal panel display device using the flex TCP semiconductor device.

【0038】[0038]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の断
線試験方法は、上記課題を解決するために、絶縁テープ
に金属配線パターン及び上記金属配線パターンを絶縁被
覆する絶縁保護膜が設けられたテープキャリアと、液晶
パネルを駆動する駆動用半導体素子とを有するテープキ
ャリアパッケージ半導体装置の上記テープキャリアと同
等の構造の試験用テープキャリアを断線試験する断線試
験方法において、上記試験用テープキャリアの一端は液
晶パネルに接続されると共に他端は液晶パネル駆動用の
信号を出力する回路基板に接続され、上記液晶パネルと
上記回路基板とが対向するように上記試験用テープキャ
リアを湾曲させた状態で、一定の周期で変化する温度環
境に曝して上記試験用テープキャリアの金属配線パター
ンが断線する周期数を求めることを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, in order to solve the above-mentioned problems, a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern are provided on an insulating tape. In a disconnection test method for conducting a disconnection test on a test tape carrier having a structure equivalent to that of the tape carrier of a tape carrier package semiconductor device having a tape carrier and a driving semiconductor element for driving a liquid crystal panel, One end is connected to the liquid crystal panel and the other end is connected to a circuit board that outputs a signal for driving the liquid crystal panel, and the test tape carrier is curved so that the liquid crystal panel and the circuit board face each other. The period at which the metal wiring pattern of the test tape carrier is disconnected by exposure to a temperature environment that changes at a constant cycle. It is characterized by determining the.

【0039】上記の発明では、テープキャリアパッケー
ジ半導体装置を構成するテープキャリアの金属配線パタ
ーンの断線試験方法として、テープキャリアと同等の構
造の試験用テープキャリアを作製し、これを液晶パネル
と回路基板とが対向するように湾曲させた状態で、一定
の周期で変化する温度環境に曝して断線する周期数を求
めるという手法をとる。
In the above invention, a test tape carrier having the same structure as that of the tape carrier is manufactured as a method for testing the disconnection of the metal wiring pattern of the tape carrier constituting the tape carrier package semiconductor device, and the test tape carrier is mounted on a liquid crystal panel and a circuit board. In a state in which the two are bent so as to face each other, a method is employed in which the number of periods of disconnection is determined by exposing to a temperature environment that changes at a constant period.

【0040】試験用テープキャリアを上記のように湾曲
させることにより、テープキャリアパッケージ半導体装
置を実際に液晶パネルに実装した状態に近づけることが
できる。この状態で、試験用テープキャリアを一定の周
期で変化する温度環境に曝すと、断線する箇所が液晶パ
ネル実装工程で発生する断線箇所と一致すると共に、断
線不良発生が加速される。
By bending the test tape carrier as described above, it is possible to approximate a state where the tape carrier package semiconductor device is actually mounted on the liquid crystal panel. In this state, when the test tape carrier is exposed to a temperature environment that changes at a constant cycle, the location of the disconnection coincides with the location of the disconnection occurring in the liquid crystal panel mounting process, and the occurrence of disconnection failure is accelerated.

【0041】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置の液晶パネル実装工程で発生する断線不良を、上記
の断線試験を行うことで短時間で確実に確認することが
できる。
Therefore, a disconnection defect occurring in the liquid crystal panel mounting step of the tape carrier package semiconductor device can be reliably confirmed in a short time by performing the above disconnection test.

【0042】請求項2に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、絶縁
テープに金属配線パターン及び上記金属配線パターンを
絶縁被覆する絶縁保護膜が設けられたテープキャリア
と、液晶パネルを駆動する駆動用半導体素子とを有する
と共に、一端が上記液晶パネルに接続され、他端が液晶
パネル駆動用の信号を出力する回路基板に接続されるテ
ープキャリアパッケージ半導体装置において、上記絶縁
保護膜が、請求項1に記載の断線試験方法によって、上
記試験用金属配線パターンが所定の周期数以下で断線し
ないと特定された材料からなることを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device comprising: a tape carrier having an insulating tape provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern; A semiconductor device for driving a liquid crystal panel, a tape carrier package semiconductor device having one end connected to the liquid crystal panel and the other end connected to a circuit board for outputting a signal for driving the liquid crystal panel. The insulating protective film is made of a material specified by the disconnection test method according to claim 1 to be such that the test metal wiring pattern is not disconnected within a predetermined cycle number or less.

【0043】上記の発明によれば、テープキャリアに形
成される絶縁保護膜は、請求項1に記載の断線試験方法
によって、試験用金属配線パターンが所定の周期数以下
で断線しないと特定された材料からなる。
According to the above invention, the insulating protection film formed on the tape carrier is specified by the disconnection test method according to claim 1 to be such that the test metal wiring pattern is not disconnected within a predetermined cycle number or less. Made of material.

【0044】これにより、テープキャリアパッケージ半
導体装置を液晶パネルに実装しても、金属配線パターン
は断線しにくいものとなる。
As a result, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, the metal wiring pattern is hardly broken.

【0045】請求項3に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項2に記載のテープキャリアパッケージ半導体装置にお
いて、上記絶縁保護膜が、85℃と−30℃とを30分
ずつ繰り返す周期を有する請求項1に記載の断線試験方
法によって上記試験用金属配線パターンが200周期以
下で断線しないと特定された1種類のソルダレジストで
あることを特徴としている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to the second aspect, wherein the insulating protective film is formed at a temperature of 85 ° C and -30 ° C. 2. The method according to claim 1, wherein the test metal wiring pattern is one kind of solder resist that has been specified not to be disconnected in 200 cycles or less by a disconnection test method having a cycle of repeating the process every 30 minutes.

【0046】上記の発明によれば、絶縁テープ上に形成
された絶縁保護膜は、1種類のソルダレジストである。
このソルダレジストは、85℃と−30℃とを30分ず
つ、すなわち60分の周期を持つ温度環境に曝される断
線試験によって、金属配線パターンが200周期数以下
で断線しないような柔軟性を有する。
According to the above invention, the insulating protective film formed on the insulating tape is one type of solder resist.
This solder resist has a flexibility such that a metal wiring pattern is not disconnected in a period of 200 cycles or less by a disconnection test exposed to a temperature environment having a cycle of 85 ° C. and −30 ° C. for 30 minutes, that is, a cycle of 60 minutes. Have.

【0047】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置を液晶パネルに実装しても金属配線パターンは断線
しにくい。さらには、テープキャリアパッケージ半導体
装置に反りが発生しにくくなると共に、絶縁保護膜の形
成を1回の工程で終了させるため、テープキャリアの製
造コストを低く抑えることができる。
Therefore, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, the metal wiring pattern is hardly broken. Further, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the formation of the insulating protective film is completed in one step, so that the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0048】請求項4に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項3に記載のテープキャリアパッケージ半導体装置にお
いて、上記ソルダレジストのヤング率が5kgf/mm
2 〜70kgf/mm2 の範囲にあることを特徴として
いる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to the third aspect, wherein the solder resist has a Young's modulus of 5 kgf / mm.
It is characterized by being in the range of 2 to 70 kgf / mm 2 .

【0049】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあれば、ソルダ
レジストは非常に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 -70 kgf / mm 2 , the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0050】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置を液晶パネルに実装しても金属配線パターンは非常
に断線しにくい。さらには、テープキャリアパッケージ
半導体装置に反りが発生しにくくなると共に、テープキ
ャリアの製造コストを低く抑えることができる。
Therefore, even if the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, the metal wiring pattern is very unlikely to break. Further, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0051】請求項5に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項4に記載のテープキャリアパッケージ半導体装置にお
いて、上記ソルダレジストの厚みが5μm〜45μmの
範囲にあることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to the fourth aspect, wherein the thickness of the solder resist is in a range of 5 μm to 45 μm. It is characterized by having.

【0052】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあり、厚みが5
μm〜45μmの範囲内にあれば、ソルダレジストは非
常に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 to 70 kgf / mm 2 and a thickness of 5
When the thickness is in the range of μm to 45 μm, the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0053】請求項6に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項3ないし5のいずれかに記載のテープキャリアパッケ
ージ半導体装置において、上記ソルダレジストが、その
粘度を決定するフィラーを10wt%〜40wt%の範
囲で含有することを特徴としている。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to any one of the third to fifth aspects, wherein the solder resist has a viscosity Is contained in the range of 10 wt% to 40 wt%.

【0054】上記の発明によれば、ソルダレジストは、
フィラーを10wt%〜40wt%の範囲で含有してお
り、印刷時に粘度が低いものとなる。
According to the above invention, the solder resist is
Since the filler is contained in the range of 10 wt% to 40 wt%, the viscosity becomes low at the time of printing.

【0055】従って、ソルダレジストのチクソ性が高ま
り、印刷時にソルダレジストのエッジにブリードが発生
しにくく、パターニング精度が向上する。
Accordingly, the thixotropy of the solder resist is enhanced, bleeding is hardly generated at the edge of the solder resist during printing, and the patterning accuracy is improved.

【0056】請求項7に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項3ないし6のいずれかに記載のテープキャリアパッケ
ージ半導体装置において、上記ソルダレジストは、ゴム
系、ポリイミド系、エポキシ系、シリコーン系、あるい
はウレタン系のうちいずれかの材料からなることを特徴
としている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to any one of the third to sixth aspects, wherein the solder resist is made of a rubber-based material. , Polyimide, epoxy, silicone, or urethane.

【0057】上記の発明によれば、ソルダレジストは、
ゴム系、ポリイミド系、エポキシ系、シリコーン系、あ
るいはウレタン系のうちいずれかの材料からなる柔軟性
の高い絶縁保護膜となる。
According to the above invention, the solder resist is
A highly flexible insulating protective film made of any one of rubber, polyimide, epoxy, silicone, and urethane materials.

【0058】請求項8に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、上記課題を解決するために、請求
項3ないし7のいずれかに記載のテープキャリアパッケ
ージ半導体装置において、上記テープキャリアと上記駆
動用半導体素子とが電気的に接続された部分の周囲は、
絶縁性を有する液状樹脂によって上記液状樹脂の端部が
上記ソルダレジストの上面と70°以下の角度をなすよ
うに覆われることを特徴としている。
According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to any one of the third to seventh aspects, wherein the tape carrier and the drive Around the part electrically connected to the semiconductor element,
The end of the liquid resin is covered with an insulating liquid resin so as to form an angle of 70 ° or less with the upper surface of the solder resist.

【0059】上記の発明によれば、テープキャリアと上
記駆動用半導体素子とが電気的に接続された部分の周囲
は、絶縁性を有する液状樹脂によって覆われる。この状
態で、液状樹脂は端部が上記ソルダレジストの上面と7
0°以下の角度をなすように形成される。
According to the above invention, the periphery of the portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected is covered with the insulating liquid resin. In this state, the edge of the liquid resin is in contact with the upper surface of the solder resist.
It is formed so as to form an angle of 0 ° or less.

【0060】これにより、液状樹脂とソルダレジストと
の密着性が高まり、テープキャリアパッケージ半導体装
置を歩留り良く製造することができる。
As a result, the adhesion between the liquid resin and the solder resist is enhanced, and the tape carrier package semiconductor device can be manufactured with a high yield.

【0061】請求項9に係る発明の液晶パネル表示装置
は、上記課題を解決するために、絶縁テープに金属配線
パターン及び上記金属配線パターンを絶縁被覆する絶縁
保護膜が設けられたテープキャリアと、液晶パネルを駆
動する駆動用半導体素子とを有すると共に、一端が上記
液晶パネルに接続され、他端が液晶パネル駆動用の信号
を出力する回路基板に接続されるテープキャリアパッケ
ージ半導体装置を備える液晶パネル表示装置において、
上記絶縁保護膜が、請求項1に記載の断線試験方法によ
って、上記試験用金属配線パターンが所定の周期数以下
で断線しないと特定された材料からなることを特徴とし
ている。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal panel display device comprising: a tape carrier having an insulating tape provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern; A liquid crystal panel having a semiconductor device for driving the liquid crystal panel, a tape carrier package semiconductor device having one end connected to the liquid crystal panel and the other end connected to a circuit board for outputting a signal for driving the liquid crystal panel; In the display device,
The insulating protective film is made of a material specified by the disconnection test method according to claim 1 to be such that the test metal wiring pattern is not disconnected within a predetermined cycle number or less.

【0062】上記の発明によれば、テープキャリアに形
成される絶縁保護膜は、請求項1に記載の断線試験方法
によって、試験用金属配線パターンが所定の周期数以下
で断線しないと特定された材料からなる。
According to the above invention, the insulation protection film formed on the tape carrier is specified by the disconnection test method according to claim 1 as not disconnecting the test metal wiring pattern at a predetermined cycle number or less. Made of material.

【0063】これにより、テープキャリアパッケージ半
導体装置を大型の液晶パネルに実装しても、金属配線パ
ターンは断線しにくいものとなり、歩留り良く大型の液
晶パネル表示装置を提供することができる。
As a result, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a large-sized liquid crystal panel, the metal wiring pattern is hardly broken, and a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with good yield.

【0064】請求項10に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項9に記載の液
晶パネル表示装置において、上記絶縁保護膜が、85℃
と−30℃とを30分ずつ繰り返す周期を有する請求項
1に記載の断線試験方法によって上記試験用金属配線パ
ターンが200周期以下で断線しないと特定された1種
類のソルダレジストであることを特徴としている。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal panel display device according to the ninth aspect, wherein the insulating protective film is formed at a temperature of 85 ° C.
And -30 [deg.] C. each being repeated for 30 minutes. The method according to claim 1, wherein the test metal wiring pattern is one kind of solder resist identified as not breaking in 200 cycles or less. And

【0065】上記の発明によれば、絶縁テープ上に形成
された絶縁保護膜は、1種類のソルダレジストである。
このソルダレジストは、85℃と−30℃とを30分ず
つ、すなわち60分の周期を持つ温度環境に曝される断
線試験によって、金属配線パターンが200周期数以下
で断線しないような柔軟性を有する。
According to the above invention, the insulating protective film formed on the insulating tape is one type of solder resist.
This solder resist has a flexibility such that a metal wiring pattern is not disconnected in a period of 200 cycles or less by a disconnection test exposed to a temperature environment having a cycle of 85 ° C. and −30 ° C. for 30 minutes, that is, a cycle of 60 minutes. Have.

【0066】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置を大型の液晶パネルに実装しても金属配線パターン
は断線しにくい。さらには、テープキャリアパッケージ
半導体装置に反りが発生しにくくなると共に、絶縁保護
膜の形成を1回の工程で終了させるため、テープキャリ
アの製造コストを低く抑えることができる。
Therefore, even if the tape carrier package semiconductor device is mounted on a large liquid crystal panel, the metal wiring pattern is not easily broken. Further, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the formation of the insulating protective film is completed in one step, so that the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0067】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができる。
As a result, a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with a good yield.

【0068】請求項11に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項10に記載の
液晶パネル表示装置において、上記ソルダレジストのヤ
ング率が5kgf/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲
にあることを特徴としている。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal panel display device according to the tenth aspect, wherein the solder resist has a Young's modulus of 5 kgf / mm 2 to 70 kgf / mm. mm 2 .

【0069】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあれば、ソルダ
レジストは非常に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 -70 kgf / mm 2 , the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0070】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置を液晶パネルに実装しても金属配線パターンは非常
に断線しにくい。さらには、テープキャリアパッケージ
半導体装置に反りが発生しにくくなると共に、テープキ
ャリアの製造コストを低く抑えることができる。
Therefore, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, the metal wiring pattern is very unlikely to break. Further, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0071】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができる。
As a result, a large-sized liquid crystal panel display device with good yield can be provided.

【0072】請求項12に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項11に記載の
液晶パネル表示装置において、上記ソルダレジストの厚
みが5μm〜45μmの範囲にあることを特徴としてい
る。
According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal panel display device according to the eleventh aspect, wherein the thickness of the solder resist is in a range of 5 μm to 45 μm. It is characterized by.

【0073】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあり、厚みが5
μm〜45μmの範囲にあれば、ソルダレジストは非常
に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 to 70 kgf / mm 2 and a thickness of 5
If it is in the range of μm to 45 μm, the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0074】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置を液晶パネルに実装しても金属配線パターンは非常
に断線しにくい。さらには、TCP半導体装置に反りが
発生しにくくなると共に、テープキャリアの製造コスト
を低く抑えることができる。
Therefore, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, the metal wiring pattern is very unlikely to break. Furthermore, the TCP semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0075】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができる。
As a result, a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with a good yield.

【0076】請求項13に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項10ないし1
2のいずれかに記載の液晶パネル表示装置において、上
記ソルダレジストが、その粘度を決定するフィラーを1
0wt%〜40wt%の範囲で含有することを特徴とし
ている。
A liquid crystal panel display device according to a thirteenth aspect of the present invention provides a liquid crystal panel display device according to the tenth to the tenth aspects.
2. In the liquid crystal panel display device according to any one of the above items 2, the solder resist has a filler for determining the viscosity
It is characterized in that it is contained in the range of 0 wt% to 40 wt%.

【0077】上記の発明によれば、ソルダレジストは、
フィラーを10wt%〜40wt%の範囲で含有してお
り、印刷時に粘度が低いものとなる。
According to the above invention, the solder resist is
Since the filler is contained in the range of 10 wt% to 40 wt%, the viscosity becomes low at the time of printing.

【0078】従って、ソルダレジストのチクソ性が高ま
り、印刷時にソルダレジストのエッジにブリードが発生
しにくく、パターニング精度が向上する。
Accordingly, the thixotropy of the solder resist is enhanced, and bleeding is hardly generated at the edge of the solder resist during printing, and the patterning accuracy is improved.

【0079】この結果、歩留り良く液晶パネル表示装置
を提供することができる。
As a result, it is possible to provide a liquid crystal panel display device with good yield.

【0080】請求項14に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項10ないし1
3に記載の液晶パネル表示装置において、上記ソルダレ
ジストが、ゴム系、ポリイミド系、エポキシ系、シリコ
ーン系、あるいはウレタン系のうちいずれかの材料から
なることを特徴としている。
In order to solve the above-mentioned problems, the liquid crystal panel display device of the invention according to claim 14 is provided.
3. The liquid crystal panel display device according to item 3, wherein the solder resist is made of any one of rubber, polyimide, epoxy, silicone, and urethane materials.

【0081】上記の発明によれば、ソルダレジストは、
ゴム系、ポリイミド系、エポキシ系、シリコーン系、あ
るいはウレタン系のうちいずれかの材料からなる柔軟性
の高い絶縁保護膜となる。
According to the above invention, the solder resist
A highly flexible insulating protective film made of any one of rubber, polyimide, epoxy, silicone, and urethane materials.

【0082】従って、テープキャリアパッケージ半導体
装置の金属配線パターンが断線しにくくなり、歩留り良
く大型の液晶パネル表示装置を提供することができる。
Accordingly, the metal wiring pattern of the tape carrier package semiconductor device is hardly broken, and a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with good yield.

【0083】請求項15に係る発明の液晶パネル表示装
置は、上記課題を解決するために、請求項10ないし1
4のいずれかに記載の液晶パネル表示装置において、上
記テープキャリアと上記駆動用半導体素子とが電気的に
接続された部分の周囲は、絶縁性を有する液状樹脂によ
って上記液状樹脂の端部が上記ソルダレジストの上面と
70°以下の角度をなすように覆われることを特徴とし
ている。
The liquid crystal panel display device of the invention according to claim 15 is for solving the above-mentioned problems.
4. In the liquid crystal panel display device according to any one of (4), the periphery of a portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected is configured such that an end portion of the liquid resin is made of an insulating liquid resin. It is characterized in that it is covered so as to form an angle of 70 ° or less with the upper surface of the solder resist.

【0084】上記の発明によれば、テープキャリアと上
記駆動用半導体素子とが電気的に接続された部分の周囲
は、絶縁性を有する液状樹脂によって覆われる。この状
態で、液状樹脂は端部が上記ソルダレジストの上面と7
0°以下の角度をなすように形成される。
According to the above invention, the periphery of the portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected is covered with the insulating liquid resin. In this state, the edge of the liquid resin is in contact with the upper surface of the solder resist.
It is formed so as to form an angle of 0 ° or less.

【0085】これにより、液状樹脂とソルダレジストと
の密着性が高まり、テープキャリアパッケージ半導体装
置を歩留り良く製造することができる。従って、歩留り
良く液晶パネル表示装置を提供することができる。
As a result, the adhesion between the liquid resin and the solder resist is enhanced, and a tape carrier package semiconductor device can be manufactured with a high yield. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal panel display device with good yield.

【0086】[0086]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

〔実施の形態1〕本発明の断線試験方法の実施の一形態
について図1に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。
[Embodiment 1] An embodiment of a disconnection test method of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0087】図1(a)に、本実施の形態の断線試験方
法に用いられるテープキャリアとしてのTEG1を示
す。TEG1は、実際に実装されるTCP半導体装置の
代わりに断線試験用に用いるテストパターンである。T
EG1は、絶縁テープとしてのポリイミド基材2、スリ
ット3、金属配線パターンとしての銅配線パターン4、
電極パッド5・5、及び絶縁保護膜としてのソルダレジ
スト6から構成される。
FIG. 1A shows a TEG 1 as a tape carrier used in the disconnection test method of the present embodiment. TEG1 is a test pattern used for a disconnection test instead of a TCP semiconductor device actually mounted. T
EG1 includes a polyimide substrate 2 as an insulating tape, a slit 3, a copper wiring pattern 4 as a metal wiring pattern,
It is composed of electrode pads 5.5 and a solder resist 6 as an insulating protective film.

【0088】また、スリット3の裏側には同図(c)に
示すように、ポリイミド系ソルダレジスト7が塗布され
ている。
On the back side of the slit 3, a polyimide solder resist 7 is applied as shown in FIG.

【0089】上記TEG1の主要部の寸法は図1(a)
に示すとおりであるが、これに限定されるものではな
く、TEG1の実デバイスに相当するTCP半導体装置
の寸法に応じて適宜変更される。但し、TEG1を形成
するにあたり、銅配線パターン4に使用される銅箔の種
類・厚み、ポリイミド基材2と銅箔とを接着する接着剤
の種類・厚み、ソルダレジスト6の種類・厚み、スリッ
ト3の寸法等は、実際に使用されるTCP半導体装置と
等しくした。特に、銅箔には電解銅箔を使用し、厚みは
1/2オンス、配線パターン幅は35μm、配線パター
ンピッチは70μmである。また、接着剤には東レ
(株)の#7100(商品名)を使用した。
The dimensions of the main part of the TEG 1 are shown in FIG.
However, the present invention is not limited to this, and is appropriately changed according to the size of the TCP semiconductor device corresponding to the actual device of the TEG1. However, when forming the TEG 1, the type and thickness of the copper foil used for the copper wiring pattern 4, the type and thickness of the adhesive for bonding the polyimide substrate 2 and the copper foil, the type and thickness of the solder resist 6, and the slit The dimensions and the like of No. 3 were made equal to the TCP semiconductor device actually used. In particular, an electrolytic copper foil is used for the copper foil, the thickness is オ ン oz, the wiring pattern width is 35 μm, and the wiring pattern pitch is 70 μm. The adhesive used was # 7100 (trade name) manufactured by Toray Industries, Inc.

【0090】電極パッド5・5は、銅配線パターン4が
断線すると、これをすぐに確認できるようにするために
設けてある。断線不良を確認するには、断線試験の後に
オープンチェッカを電極パッド5・5に接触させるだけ
でよい。
The electrode pads 5 are provided so that when the copper wiring pattern 4 is broken, it can be immediately confirmed. In order to confirm the disconnection defect, it is only necessary to bring the open checker into contact with the electrode pads 5 after the disconnection test.

【0091】なお、工程を簡略化する目的で、TEG1
へのドライバICチップのアセンブリを省略してある。
Note that, for the purpose of simplifying the process, TEG1
The assembly of the driver IC chip is omitted.

【0092】次に、図1(b)(c)に示すように上記
の構成のTEG1…を液晶パネル11と回路基板として
のPWB基板12とに接合して折り曲げる。接合工程は
以下のようになる。
Next, as shown in FIGS. 1 (b) and 1 (c), the TEG1... Having the above structure is bonded to the liquid crystal panel 11 and the PWB substrate 12 as a circuit board and bent. The joining process is as follows.

【0093】まず、液晶パネル11にACF13を仮圧
着する。この仮圧着では、90℃に加熱したツールを1
0kgf/cm2 の荷重をかけて2秒間、ACF13に
押し当てる。その後、ACF13に付着しているスペー
サを剥がし、TEG1…をアライメントして仮圧着す
る。この仮圧着は、上述の仮圧着と同様の条件で行う。
First, the ACF 13 is temporarily press-bonded to the liquid crystal panel 11. In this temporary crimping, a tool heated to 90 ° C.
A load of 0 kgf / cm 2 is applied to the ACF 13 for 2 seconds. Then, the spacers adhering to the ACF 13 are peeled off, and TEG1. This temporary compression is performed under the same conditions as the above-described temporary compression.

【0094】次いで、200℃に加熱したツールを35
kgf/cm2 の荷重をかけて20秒間TEG1…に押
し当て、TEG1…と液晶パネル11とを本圧着する。
Next, the tool heated to 200 ° C.
A load of kgf / cm 2 is applied to TEG1 for 20 seconds, and TEG1.

【0095】液晶パネル11は13.8インチ大で厚み
が1.1mmのガラスを用いて作製されている。また、
圧着装置は全て市販されているものである。
The liquid crystal panel 11 is made of glass having a size of 13.8 inches and a thickness of 1.1 mm. Also,
All crimping devices are commercially available.

【0096】次に、PWB基板12にACF13を接合
する。このとき、液晶パネル11と同様の条件でACF
13を仮圧着し、その後、ACF13のスペーサを剥が
してTEG1…とPWB基板12とをアライメントし、
全てのTEG1…を一括して本圧着する。PWB基板1
2の厚みは0.5mmである。
Next, the ACF 13 is joined to the PWB substrate 12. At this time, the ACF is performed under the same conditions as the liquid crystal panel 11.
, And the spacers of the ACF 13 are peeled off to align the TEG 1 with the PWB substrate 12.
All the TEGs 1... PWB substrate 1
2 has a thickness of 0.5 mm.

【0097】TEG1…を液晶パネル11とPWB基板
12とに接合した後、液晶パネル11とPWB基板12
とが所定の間隔で対向するようにTEG1…を湾曲さ
せ、断線試験用のサンプルを数個作製する。このサンプ
ルを側面から見た図が図1(c)である。
After joining TEG1 to the liquid crystal panel 11 and the PWB substrate 12, the liquid crystal panel 11 and the PWB substrate 12
Are curved so that they face each other at a predetermined interval, and several samples for a disconnection test are produced. FIG. 1C shows the sample as viewed from the side.

【0098】上記のように湾曲させた状態で、温度サイ
クル槽に入れて銅配線パターン4の断線試験を行う。温
度サイクル槽を、85℃と−30℃との2通りの温度を
30分ずつ繰り返すように設定し、1時間で1サイクル
(周期)とカウントする。様々なソルダレジストの場合
についてサンプルを作製してこの断線試験方法を適用
し、それぞれのサンプルにおいて断線が発生するサイク
ル数を求めた結果の一例を表1に示す。
In the state where the copper wiring pattern 4 is bent as described above, the copper wiring pattern 4 is subjected to a disconnection test in a temperature cycle bath. The temperature cycle bath is set so that two temperatures of 85 ° C. and −30 ° C. are repeated for 30 minutes, and one cycle (cycle) is counted in one hour. Table 1 shows an example of the results obtained by preparing samples for various solder resists and applying this disconnection test method, and calculating the number of cycles at which disconnection occurs in each sample.

【0099】[0099]

【表1】 [Table 1]

【0100】試験を行ったサンプルは、ヤング率が20
0kgf/mm2 のエポキシ系ソルダレジストを形成し
たTEG(サンプル1)、ヤング率が50kgf/mm
2 のポリイミド系ソルダレジストの両端にヤング率が3
80kgf/mm2 のエポキシ系ソルダレジストを形成
したTEG(サンプル2)、ヤング率が15kgf/m
2 のポリイミド系ソルダレジストを形成したTEG
(サンプル3)、ヤング率が33kgf/mm2 のウレ
タン系ソルダレジストを形成したTEG(サンプル
4)、及びヤング率が200kgf/mm2 のエポキシ
系ソルダレジストを形成したTCP半導体装置(サンプ
ル5)である。
The sample tested had a Young's modulus of 20.
TEG (Sample 1) on which an epoxy solder resist of 0 kgf / mm 2 was formed, Young's modulus was 50 kgf / mm 2
Young's modulus at both ends of polyimide solder resist of 2 is 3
TEG (sample 2) on which an epoxy solder resist of 80 kgf / mm 2 was formed, Young's modulus was 15 kgf / m
TEG forming a polyimide solder resist m 2
(Sample 3), TEG having a Young's modulus to form urethane solder resist of 33 kgf / mm 2 (Sample 4), and a TCP semiconductor device having a Young's modulus to form an epoxy solder resist of 200 kgf / mm 2 (Sample 5) is there.

【0101】なお、サンプル5は、サンプル1ないし4
のTEGと異なり、実際に液晶パネル表示装置に使用さ
れるTCP半導体装置である。また、ソルダレジストの
厚みは全て25μmに統一してある。
Note that Sample 5 is Samples 1 to 4
Is a TCP semiconductor device actually used for a liquid crystal panel display device. The thickness of the solder resist is all unified to 25 μm.

【0102】表1において、断線に到る温度サイクル数
の欄中に示されている分数は、分母が試験を行ったサン
プル数を、分子がそのうち断線が発生したサンプル数を
表す。まず、全ての断線箇所は、実デバイスであるTC
P半導体装置の場合と一致した。また、サンプル1が2
0サイクルで断線するのに対して、サンプル5が500
サイクルで断線することから、本実施の形態の断線試験
方法の加速係数は25倍であることが分かる。従って、
この断線試験方法によれば、実デバイスの断線モードを
短時間で再現することができる。
In Table 1, the fractions shown in the column of the number of temperature cycles leading to disconnection indicate the number of samples tested by the denominator, and the numerator indicates the number of samples in which the disconnection occurred. First, all disconnection points are the actual device TC
This coincided with the case of the P semiconductor device. Sample 1 is 2
Sample 5 is 500
From the disconnection in the cycle, it can be seen that the acceleration coefficient of the disconnection test method of the present embodiment is 25 times. Therefore,
According to this disconnection test method, the disconnection mode of the actual device can be reproduced in a short time.

【0103】一方、実用的な耐断線性として、200サ
イクル以内で断線が発生しないことが必要であるが、表
1よりサンプル3・4がこの条件を満たしていることが
分かる。さらに、ヤング率の小さいソルダレジストを使
用する方が断線しにくい結果となっている。なお、サン
プル2では、試験中にブリードが発生し、パターニング
精度が悪化することが判明した。従って、上記の耐断線
性を確保しながらブリードが発生しないようなソルダレ
ジストを使用する必要がある。
On the other hand, as practical disconnection resistance, it is necessary that no disconnection occurs within 200 cycles. Table 1 shows that Samples 3 and 4 satisfy this condition. Furthermore, the use of a solder resist having a small Young's modulus results in less disconnection. In sample 2, bleeding occurred during the test, and it was found that patterning accuracy deteriorated. Therefore, it is necessary to use a solder resist that does not cause bleed while maintaining the above-described disconnection resistance.

【0104】そこで、このようなソルダレジストの条件
を求めるため、チクソ性を決定するフィラー量を変えた
サンプルを作製して、断線試験を行った。この結果、フ
ィラー量が10wt%〜40wt%のソルダレジストを
使用すれば、200サイクル以上でも上記の耐断線性と
ブリードの阻止とが両立することが分かった。
Therefore, in order to determine the conditions for such a solder resist, samples were prepared in which the amount of the filler for determining the thixotropic property was changed, and a disconnection test was performed. As a result, it was found that when a solder resist having a filler amount of 10 wt% to 40 wt% was used, the above-described disconnection resistance and prevention of bleed were compatible even at 200 cycles or more.

【0105】フィラー量が10wt%より少ないソルダ
レジストでは、断線試験において500サイクル以上で
大きなブリードが発生し、フィラー量が40wt%より
多いソルダレジストではヤング率が大きくなり、ソルダ
レジストの柔軟性が低下して200サイクル以内で断線
してしまう。フィラー量が10wt%〜40wt%のソ
ルダレジストのヤング率は5kgf/mm2 〜70kg
f/mm2 であった。
In a solder resist having a filler content of less than 10 wt%, large bleeding occurs in 500 cycles or more in a disconnection test, and in a solder resist having a filler content of more than 40 wt%, the Young's modulus increases and the flexibility of the solder resist decreases. The wire breaks within 200 cycles. The Young's modulus of a solder resist having a filler amount of 10 wt% to 40 wt% is 5 kgf / mm 2 to 70 kg.
f / mm 2 .

【0106】なお、ヤング率を5kgf/mm2 〜70
kgf/mm2 の範囲に設定するには、ソルダレジスト
内の重合成分からなる主材料のヤング率を1kgf/m
2以下にするのが効果的である。
The Young's modulus was 5 kgf / mm 2 -70.
In order to set it in the range of kgf / mm 2 , the Young's modulus of the main material composed of the polymerization component in the solder resist is set to 1 kgf / m 2.
It is effective to set it to m 2 or less.

【0107】以上の断線試験結果より、ヤング率が5k
gf/mm2 〜70kgf/mm2の範囲内にあり、フ
ィラー量が10wt%〜40wt%の範囲内にあるソル
ダレジストを使用すれば、実用に耐え得るTCP半導体
装置を製造できる効果のあることが分かった。
From the results of the above disconnection test, the Young's modulus was 5 k.
The use of a solder resist having a gf / mm 2 to 70 kgf / mm 2 and a filler amount within a range of 10 wt% to 40 wt% has an effect of producing a TCP semiconductor device that can withstand practical use. Do you get it.

【0108】また、ヤング率とフィラー量を上記範囲内
に設定すれば、ゴム系・ポリイミド系・エポキシ系・シ
リコーン系・ウレタン系ソルダレジストのうちいずれか
を1種類だけ使用することで上記の効果が得られる。さ
らに、上記の断線試験においては形成する絶縁保護膜の
厚みを25μmとしたが、これに限らず、5μm〜45
μmの範囲内であれば同等の効果が得られることも分か
った。
If the Young's modulus and the amount of the filler are set within the above ranges, the above effects can be obtained by using only one of rubber type, polyimide type, epoxy type, silicone type and urethane type solder resists. Is obtained. Furthermore, in the above-described disconnection test, the thickness of the insulating protective film to be formed was set to 25 μm, but is not limited thereto.
It was also found that the same effect can be obtained within the range of μm.

【0109】次に、本実施の形態の断線試験方法に対す
る比較例として、表2にMIT試験方法による耐断線性
の試験結果を示す。
Next, as a comparative example to the disconnection test method of the present embodiment, Table 2 shows the results of the disconnection resistance test by the MIT test method.

【0110】[0110]

【表2】 [Table 2]

【0111】試験を行ったサンプルは、ヤング率が20
0kgf/mm2 のエポキシ系ソルダレジストを形成し
たTEG(サンプル1’)、ヤング率が50kgf/m
2のポリイミド系ソルダレジストの両端にヤング率が
380kgf/mm2 のエポキシ系ソルダレジストを形
成したTEG(サンプル2’)、ヤング率が15kgf
/mm2 のポリイミド系ソルダレジストを形成したTE
G(サンプル3’)、及びヤング率が33kgf/mm
2 のウレタン系ソルダレジストを形成したTEG(サン
プル4’)である。サンプルは各々10個ずつ作製し、
これらのサンプルに対して断線に到る折り曲げ回数の平
均値を求めた。
The sample subjected to the test had a Young's modulus of 20.
TEG (Sample 1 ') on which an epoxy solder resist of 0 kgf / mm 2 was formed, Young's modulus was 50 kgf / m 2
TEG (Sample 2 ') in which an epoxy solder resist having a Young's modulus of 380 kgf / mm 2 was formed at both ends of a polyimide solder resist having an m 2 of 15 kgf.
/ Mm 2 polyimide solder resist formed TE
G (sample 3 ') and Young's modulus are 33kgf / mm
This is a TEG (sample 4 ') on which a urethane solder resist of No. 2 is formed. Each sample is made 10 pieces,
For these samples, the average value of the number of bendings leading to disconnection was determined.

【0112】各TEGは、本実施の形態の断線試験方法
におけるTEG1と形状が異なっているが、ソルダレジ
ストの種類はサンプル1’ないし4’がそれぞれサンプ
ル1ないし4に相当する。
Although each TEG has a different shape from TEG1 in the disconnection test method of the present embodiment, samples 1 'to 4' correspond to samples 1 to 4 as solder resist types, respectively.

【0113】このMIT試験方法では、断線箇所がスリ
ット上に設けられている銅配線パターンに限られ、実デ
バイスとしてのTCP半導体装置の断線箇所に一致しな
い結果となった。また、サンプル1’はサンプル2’よ
りも耐断線性が高い結果となっており、本実施の形態の
断線試験方法においてサンプル2がサンプル1より高い
耐断線性を示すことと逆の結果である。
In this MIT test method, the disconnection was limited to the copper wiring pattern provided on the slit, and did not match the disconnection of the TCP semiconductor device as an actual device. Moreover, the result of sample 1 'has higher disconnection resistance than sample 2', which is the opposite result to that of sample 2 showing higher disconnection resistance than sample 1 in the disconnection test method of the present embodiment. .

【0114】このことは、折り曲げてもソルダレジスト
に亀裂が入ったり割れたりしないサンプル1’がサンプ
ル2’よりもMIT試験の結果が良好であるにも係わら
ず、これらに用いるソルダレジストを実際にTCP半導
体装置に適用して液晶パネル及びPWB基板に実装する
と、サンプル1’のソルダレジストを適用したものの方
がサンプル2’のソルダレジストを適用したものより断
線しやすいという事実に一致する。
This means that although the sample 1 'in which the solder resist is not cracked or broken even when bent, has a better MIT test result than the sample 2', the solder resist used for them is actually When the present invention is applied to a TCP semiconductor device and mounted on a liquid crystal panel or a PWB substrate, this is consistent with the fact that the sample 1 'using the solder resist is easier to disconnect than the sample 2' using the solder resist.

【0115】このように、MIT試験方法では、実デバ
イスにおける断線モードを再現することができない。
As described above, the MIT test method cannot reproduce the disconnection mode in the actual device.

【0116】〔実施の形態2〕本発明のテープキャリア
パッケージ半導体装置の実施の一形態について図2ない
し図5を用いて説明すれば、以下の通りである。なお、
説明の便宜上、前記の実施の形態1の図面に示した構成
要素と同一の機能を有する構成要素については、同一の
符号を付し、その説明を省略する。
[Embodiment 2] An embodiment of a tape carrier package semiconductor device according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In addition,
For convenience of description, components having the same functions as those shown in the drawings of the first embodiment are given the same reference numerals, and descriptions thereof will be omitted.

【0117】本実施の形態におけるTCP半導体装置
(テープキャリアパッケージ半導体装置)はフレックス
TCP半導体装置である。図2(a)に、フレックスT
CP半導体装置21の平面構造、同図(b)にそのC−
C’線断面図をそれぞれ示す。
The TCP semiconductor device (tape carrier package semiconductor device) in the present embodiment is a flex TCP semiconductor device. FIG. 2A shows a flex T
The planar structure of the CP semiconductor device 21 is shown in FIG.
The sectional views along the line C ′ are shown.

【0118】フレックスTCP半導体装置21は、絶縁
テープとしてのポリイミド基材22を用いて作製したテ
ープキャリア23に駆動用半導体素子としてのドライバ
ICチップ24を電気的に接合した構成である。
The flex TCP semiconductor device 21 has a configuration in which a driver IC chip 24 as a driving semiconductor element is electrically connected to a tape carrier 23 manufactured using a polyimide substrate 22 as an insulating tape.

【0119】テープキャリア23は、スリット25・2
5と、インナーリード26…、入力側アウターリード2
7…、出力側アウターリード28…、及びテストパッド
29からなる金属配線パターンとしての銅配線パターン
と、スリット25・25及び上記銅配線パターンを絶縁
被覆する絶縁保護膜としてのポリイミド系ソルダレジス
ト30及びポリイミド系ソルダレジスト31・31と、
ポリイミド基材22の送り出し・位置合わせに用いられ
るスプロケットホール32…とから構成される。
The tape carrier 23 has slits 25.2
5, inner lead 26, input outer lead 2
7, a copper wiring pattern as a metal wiring pattern composed of the output side outer leads 28 and the test pad 29, a polyimide solder resist 30 as a slit 25, and the insulating protection film for insulatingly covering the copper wiring pattern. Polyimide solder resists 31
And sprocket holes 32 used for feeding and positioning the polyimide substrate 22.

【0120】また、ドライバICチップ24は、Auバ
ンプ33…を介してインナーリード26…と電気的に接
続されると共に、この接続部周辺が樹脂34によって封
止されている。
The driver IC chip 24 is electrically connected to the inner leads 26 via the Au bumps 33, and the periphery of the connection is sealed with a resin 34.

【0121】次に、図3を用いて、上記の構造のフレッ
クスTCP半導体装置21におけるテープキャリア23
の作製プロセスを説明する。
Next, referring to FIG. 3, the tape carrier 23 in the flex TCP semiconductor device 21 having the above structure will be described.
Will be described.

【0122】まず、ポリイミド基材22(ユーピレック
ス;宇部興産の商標)の表面に接着剤を塗布し(工程
1)、デバイスホール、スリット25・25、スプロケ
ットホール32…を形成すべくポリイミド基材22を金
型で打ち抜く(工程2)。
First, an adhesive is applied to the surface of the polyimide substrate 22 (UPILEX; trademark of Ube Industries) (Step 1), and the polyimide substrate 22 is formed to form device holes, slits 25, sprocket holes 32,. Is punched out with a mold (step 2).

【0123】次に、18μm、25μm、35μm厚の
銅箔のうち、いずれかをポリイミド基材22にラミネー
トする(工程3)。スリット25・25には、まず、後
に銅配線パターンが形成される面に対して反対側からポ
リイミド系ソルダレジスト31・31を形成する(工程
4)。
Next, one of 18 μm, 25 μm, and 35 μm thick copper foil is laminated on the polyimide substrate 22 (Step 3). First, polyimide-based solder resists 31 are formed in the slits 25 from the opposite side to the surface on which a copper wiring pattern is to be formed later (Step 4).

【0124】そして、エッチングマスクとしてのフォト
レジストを銅箔表面に塗布し(工程5)、露光によって
目的のパターンを焼き付け(工程6)て現像する(工程
7)。デバイスホールにもエッチングマスクとしてのフ
ォトレジストを形成し(工程8)た後、銅箔エッチング
液に浸漬して所望の銅配線パターンを形成する(工程
9)。このようにして銅配線パターンを形成した後、全
てのフォトレジストを有機溶剤あるいはドライエッチン
グによって剥離する(工程10)。
Then, a photoresist as an etching mask is applied to the surface of the copper foil (Step 5), and a desired pattern is baked by exposure (Step 6) and developed (Step 7). After forming a photoresist as an etching mask also in the device hole (Step 8), it is immersed in a copper foil etchant to form a desired copper wiring pattern (Step 9). After forming the copper wiring pattern in this manner, all the photoresists are removed by an organic solvent or dry etching (step 10).

【0125】次に、ポリイミド基材22の銅配線パター
ンを形成した面上において、折り曲げ部であるスリット
25・25を覆うように、フィラー量が30wt%、ヤ
ング率が15kgf/mm2 で25μm厚のポリイミド
系ソルダレジスト30を印刷し、2時間程度キュアを行
う(工程11)。
Next, on the surface of the polyimide substrate 22 on which the copper wiring pattern was formed, the filler amount was 30 wt%, the Young's modulus was 15 kgf / mm 2 , and the thickness was 25 μm so as to cover the slits 25. Is printed and cured for about 2 hours (step 11).

【0126】この工程11においては、フィラー量が1
0wt%〜40wt%の範囲にあり、ヤング率が5kg
f/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあるソルダレ
ジストを1種類だけ使用するため、実施の形態1の断線
試験結果より、銅配線パターンが断線しにくくなると共
に、図4に示すようにブリードの発生がなくパターニン
グ精度を±0.2mmに向上させることができる。ま
た、フレックスTCP半導体装置21の反りを1mm以
下に抑制し、後のアセンブリ工程でフレックスTCP半
導体装置21を順調に搬送することができる。
In this step 11, the amount of filler is 1
It is in the range of 0 wt% to 40 wt% and the Young's modulus is 5 kg
Since only one type of solder resist in the range of f / mm 2 to 70 kgf / mm 2 is used, the results of the disconnection test of the first embodiment make it difficult for the copper wiring pattern to be disconnected and, as shown in FIG. The patterning accuracy can be improved to ± 0.2 mm without generation of the pattern. Further, the warp of the flex TCP semiconductor device 21 can be suppressed to 1 mm or less, and the flex TCP semiconductor device 21 can be smoothly transported in a later assembly process.

【0127】さらに、ソルダレジストを1回だけ形成す
るため、ソルダレジストを2回形成する場合と比較して
テープキャリア23の作製日数を1日短縮することがで
き、QTAT(Quick Turn Around Time)に大きく貢献
できるようになる。その上、テープキャリア23の作製
コストを10%〜20%低く抑えることができる。
Furthermore, since the solder resist is formed only once, the number of days required to manufacture the tape carrier 23 can be reduced by one day as compared with the case where the solder resist is formed twice, and the QTAT (Quick Turn Around Time) can be reduced. You will be able to make a significant contribution. In addition, the manufacturing cost of the tape carrier 23 can be reduced by 10% to 20%.

【0128】次いで、露出している銅箔表面に、無電解
メッキ法により0.2μm〜0.6μm厚のスズメッキ
を形成し、スズメッキ後はホイスカが発生しないように
キュアを施す(工程12)。
Next, a tin plating having a thickness of 0.2 μm to 0.6 μm is formed on the exposed copper foil surface by an electroless plating method, and after tin plating, curing is performed so that whiskers do not occur (step 12).

【0129】次に、以上の工程により作製されたテープ
キャリア23のインナーリード26…にドライバICチ
ップ24をAuバンプ33…を介して接合する(工程1
3)。そして、この接合部の周辺を樹脂34で封止し
(工程14)、フレックスTCP半導体装置21が完成
する。
Next, the driver IC chip 24 is bonded via the Au bumps 33 to the inner leads 26 of the tape carrier 23 manufactured by the above steps (step 1).
3). Then, the periphery of this joint is sealed with a resin 34 (Step 14), and the flex TCP semiconductor device 21 is completed.

【0130】樹脂封止を行う工程14において、樹脂3
4はポリイミド系ソルダレジスト30のエッジ部分を覆
うように形成される。このとき、樹脂34とポリイミド
系ソルダレジスト30との密着性が問題になる。液状樹
脂の溶剤成分を変化させてこの密着性との相関を調べた
ところ、レベリング剤としてシリコーン等を混入させ、
溶剤成分を10wt%以下としたときに、図5に示すよ
うに液状樹脂がポリイミド系ソルダレジストに接触する
接触角が70°以下となって、密着性が良好になること
が分かった。しかも、このように溶剤成分を低減して
も、樹脂を所望の位置に流し込むことができる。
In the step 14 of sealing the resin, the resin 3
4 is formed so as to cover the edge portion of the polyimide solder resist 30. At this time, the adhesion between the resin 34 and the polyimide solder resist 30 becomes a problem. When examining the correlation with this adhesiveness by changing the solvent component of the liquid resin, mixing silicone etc. as a leveling agent,
When the solvent component was 10 wt% or less, the contact angle at which the liquid resin came into contact with the polyimide-based solder resist was 70 ° or less, as shown in FIG. Moreover, even if the solvent component is reduced in this way, the resin can be poured into a desired position.

【0131】また、絶縁保護膜に、ゴムあるいはエポキ
シ系・シリコーン系・ウレタン系ソルダレジストのいず
れを使用しても、液状樹脂の接触角が70°以下のとき
に密着性が良好であった。
In addition, regardless of whether rubber or an epoxy-based, silicone-based, or urethane-based solder resist was used for the insulating protective film, the adhesion was good when the contact angle of the liquid resin was 70 ° or less.

【0132】従って、工程14において、ポリイミド系
ソルダレジスト30への接触角が70°以下となるよう
に樹脂34を形成することで、フレックスTCP半導体
装置21の製造歩留りが大きく向上する。
Therefore, in step 14, by forming the resin 34 so that the contact angle with the polyimide-based solder resist 30 is 70 ° or less, the manufacturing yield of the flex TCP semiconductor device 21 is greatly improved.

【0133】〔実施の形態3〕本発明の液晶パネル表示
装置の実施の一形態について図6を用いて説明すれば、
以下の通りである。なお、説明の便宜上、前記の実施の
形態1及び2の図面に示した構成要素と同一の機能を有
する構成要素については、同一の符号を付し、その説明
を省略する。
[Embodiment 3] An embodiment of a liquid crystal panel display device of the present invention will be described with reference to FIG.
It is as follows. For convenience of description, components having the same functions as those shown in the drawings of Embodiments 1 and 2 are given the same reference numerals, and descriptions thereof are omitted.

【0134】図6に示すように、本実施の形態における
液晶パネル表示装置51は、実施の形態1で述べたフレ
ックスTCP半導体装置21…、液晶パネル52、PW
B基板53、バックライト54、及びベゼル55から構
成される。
As shown in FIG. 6, a liquid crystal panel display device 51 according to the present embodiment includes a flex TCP semiconductor device 21...
It comprises a B board 53, a backlight 54, and a bezel 55.

【0135】以下に、液晶パネル表示装置51を製造す
る手順について説明する。
The procedure for manufacturing the liquid crystal panel display device 51 will be described below.

【0136】まず、液晶パネル52に、ACFを仮圧着
する。ACFは、1.2mmから3mm程度までの種類
の幅があり、液晶パネル52の額縁のサイズに合わせて
適宜選択される。従って、例えば、額縁の幅が狭けれ
ば、ACFも幅の狭いものを選択する。ACFを仮圧着
するには、ACFを液晶パネル52に貼り付けたまま、
90℃に加熱したツールを2秒程度押し当てる。このと
き、ACFは熱によって反応して硬化するが、後に本圧
着することができるようにするため、完全には硬化させ
ない。
First, the ACF is temporarily bonded to the liquid crystal panel 52 by pressure bonding. The ACF has a width of about 1.2 mm to about 3 mm, and is appropriately selected according to the size of the frame of the liquid crystal panel 52. Therefore, for example, if the width of the frame is small, a narrow ACF is selected. To temporarily compress the ACF, leave the ACF attached to the liquid crystal panel 52,
Press the tool heated to 90 ° C for about 2 seconds. At this time, the ACF reacts and is cured by heat, but is not completely cured so that the final pressure bonding can be performed later.

【0137】ACFの仮圧着が終了した時点で、ACF
に付着していたスペーサを剥がし、そこにフレックスT
CP半導体装置21…の出力側アウターリード28…を
仮圧着する。このとき、フレックスTCP半導体装置2
1…と液晶パネル52とを、それぞれに形成されたアラ
イメントマークを用いて位置合わせする。フレックスT
CP半導体装置21…は、この仮圧着前に、リール状に
つながった状態にあるため、金型で打ち抜いて個片にし
ておく。そして、仮圧着時には、100℃に加熱したツ
ールを10kgf/cm2 の荷重で3秒押し当てるが、
ACFを完全には硬化させない。
When the temporary compression bonding of the ACF is completed, the ACF
Peel off the spacer attached to the flex T
The output outer leads 28 of the CP semiconductor devices 21 are temporarily press-bonded. At this time, the flex TCP semiconductor device 2
1 and the liquid crystal panel 52 are aligned with each other using the alignment marks formed thereon. Flex T
Since the CP semiconductor devices 21 are in a state of being connected in a reel shape before the temporary crimping, they are punched out with a die to form individual pieces. Then, at the time of temporary compression bonding, a tool heated to 100 ° C. is pressed with a load of 10 kgf / cm 2 for 3 seconds.
Does not completely cure the ACF.

【0138】フレックスTCP半導体装置21…の仮圧
着が終了すると次に本圧着を行う。
When the temporary press-bonding of the flex TCP semiconductor devices 21 is completed, the main press-bonding is performed next.

【0139】本圧着は、全てのフレックスTCP半導体
装置21…に一括して、200℃に加熱したツールを3
5kgf/cm2 の荷重で20秒押し当てて実施する。
In the final press bonding, a tool heated to 200 ° C. is collectively applied to all the flex TCP semiconductor devices 21.
This is carried out by pressing with a load of 5 kgf / cm 2 for 20 seconds.

【0140】液晶パネル52にフレックスTCP半導体
装置21…を実装すると、今度はフレックスTCP半導
体装置21…の入力側アウターリード27…を回路基板
としてのPWB基板53に実装する。PWB基板53へ
の実装方法として、ハンダ付けによる方法とACFによ
る方法とがある。ACFによる実装方法では、PWB基
板53をアライメントし、全てのフレックスTCP半導
体装置21…を一括して実装する。
When the flex TCP semiconductor devices 21 are mounted on the liquid crystal panel 52, the input outer leads 27 of the flex TCP semiconductor devices 21 are mounted on a PWB board 53 as a circuit board. As a mounting method on the PWB board 53, there are a method by soldering and a method by ACF. In the mounting method using the ACF, the PWB substrate 53 is aligned, and all the flex TCP semiconductor devices 21 are mounted collectively.

【0141】その後、液晶パネル52の裏側に光源とな
るバックライト54を実装し、フレックスTCP半導体
装置21…、液晶パネル52、PWB基板53、及びバ
ックライト54からなるユニット全体をベゼル55で覆
う。
Thereafter, a backlight 54 serving as a light source is mounted on the back side of the liquid crystal panel 52, and the entire unit including the flex TCP semiconductor device 21, the liquid crystal panel 52, the PWB substrate 53, and the backlight 54 is covered with a bezel 55.

【0142】以上のようにして液晶パネル表示装置51
が製造される。この液晶パネル表示装置51には、前述
したように、耐断線性が高く、製造歩留りの良いフレッ
クスTCP半導体装置21…を使用している。従って、
15インチ以上の大型液晶パネル表示装置を歩留り良く
低コストで製造することができる。
As described above, the liquid crystal panel display device 51
Is manufactured. As described above, the liquid crystal panel display device 51 uses the flex TCP semiconductor devices 21 having high disconnection resistance and good production yield. Therefore,
A large-sized liquid crystal panel display device having a size of 15 inches or more can be manufactured with good yield at low cost.

【0143】[0143]

【発明の効果】請求項1に係る発明の断線試験方法は、
以上のように、絶縁テープに金属配線パターン及び上記
金属配線パターンを絶縁被覆する絶縁保護膜が設けられ
たテープキャリアと、液晶パネルを駆動する駆動用半導
体素子とを有するテープキャリアパッケージ半導体装置
の上記テープキャリアと同等の構造の試験用テープキャ
リアを断線試験する断線試験方法において、上記試験用
テープキャリアの一端は液晶パネルに接続されると共に
他端は液晶パネル駆動用の信号を出力する回路基板に接
続され、上記液晶パネルと上記回路基板とが対向するよ
うに上記試験用テープキャリアを湾曲させた状態で、一
定の周期で変化する温度環境に曝して上記試験用テープ
キャリアの試験用金属配線パターンが断線する周期数を
求めるものである。
The disconnection test method according to the first aspect of the present invention
As described above, the tape carrier package semiconductor device including the tape carrier in which the insulating tape is provided with the metal wiring pattern and the insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern, and the driving semiconductor element for driving the liquid crystal panel In the disconnection test method for performing a disconnection test on a test tape carrier having a structure equivalent to that of a tape carrier, one end of the test tape carrier is connected to a liquid crystal panel and the other end is connected to a circuit board that outputs a signal for driving the liquid crystal panel. In a state where the test tape carrier is curved so that the liquid crystal panel and the circuit board are opposed to each other, the test tape carrier is exposed to a temperature environment that changes at a constant cycle, and the test metal wiring pattern of the test tape carrier is exposed. Is used to determine the number of periods in which the line breaks.

【0144】それゆえ、テープキャリアを上記のように
湾曲させることにより、テープキャリアと駆動用半導体
素子とから構成されるテープキャリアパッケージ半導体
装置を、実際に液晶パネルに実装した状態に近づけるこ
とができる。この状態で、テープキャリアを一定の周期
で変化する温度環境に曝すと、断線する箇所が液晶パネ
ル実装工程で発生する断線箇所と一致すると共に、断線
不良発生が加速される。
Therefore, by bending the tape carrier as described above, the tape carrier package semiconductor device composed of the tape carrier and the driving semiconductor element can be brought close to the state actually mounted on the liquid crystal panel. . In this state, when the tape carrier is exposed to a temperature environment that changes at a constant cycle, the location of the disconnection coincides with the location of the disconnection occurring in the liquid crystal panel mounting process, and the occurrence of disconnection failure is accelerated.

【0145】この結果、液晶パネル実装工程で発生する
断線不良を、上記の断線試験を行うことで短時間で確実
に確認することができるという効果を奏する。
As a result, there is an effect that the disconnection defect occurring in the liquid crystal panel mounting step can be surely confirmed in a short time by performing the disconnection test.

【0146】請求項2に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、絶縁テープに金属
配線パターン及び上記金属配線パターンを絶縁被覆する
絶縁保護膜が設けられたテープキャリアと、液晶パネル
を駆動する駆動用半導体素子とを有すると共に、一端が
上記液晶パネルに接続され、他端が液晶パネル駆動用の
信号を出力する回路基板に接続されるテープキャリアパ
ッケージ半導体装置において、上記絶縁保護膜が、請求
項1に記載の断線試験方法によって、上記試験用金属配
線パターンが所定の周期数以下で断線しないと特定され
た材料からなる構成である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device comprising: a tape carrier in which an insulating tape is provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern; A semiconductor device for driving the liquid crystal panel, one end of which is connected to the liquid crystal panel, and the other end of which is connected to a circuit board for outputting a signal for driving the liquid crystal panel. However, according to the disconnection test method of the first aspect, the test metal wiring pattern is made of a material specified not to be disconnected within a predetermined cycle number or less.

【0147】それゆえ、湾曲したテープキャリアが、一
定の周期で変化する温度環境に曝されても、その金属配
線パターンは所定の周期数以上断線しない。
Therefore, even if the curved tape carrier is exposed to a temperature environment that changes at a constant cycle, the metal wiring pattern does not break more than a predetermined number of cycles.

【0148】この結果、テープキャリアパッケージ半導
体装置を液晶パネルに実装しても、金属配線パターンが
断線しにくくなるという効果を奏する。
As a result, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a liquid crystal panel, there is an effect that the metal wiring pattern is hardly disconnected.

【0149】請求項3に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項2に記載の
テープキャリアパッケージ半導体装置において、上記絶
縁保護膜が、85℃と−30℃とを30分ずつ繰り返す
周期を有する請求項1に記載の断線試験方法によって上
記試験用金属配線パターンが200周期以下で断線しな
いと特定された1種類のソルダレジストである構成であ
る。
According to the tape carrier package semiconductor device of the third aspect of the present invention, as described above, in the tape carrier package semiconductor device according to the second aspect, the insulating protective film has a temperature of 85 ° C. and −30 ° C. 2. The test metal wiring pattern according to claim 1, which has a cycle that repeats every minute, wherein the test metal wiring pattern is one kind of solder resist that has been specified not to be broken in 200 cycles or less.

【0150】それゆえ、請求項2に係る発明の効果に加
えて、テープキャリアパッケージ半導体装置に反りが発
生しにくくなると共に、テープキャリアの製造コストを
低く抑えることができるという効果を奏する。
Therefore, in addition to the effect of the second aspect of the invention, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0151】請求項4に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項3に記載の
テープキャリアパッケージ半導体装置において、上記ソ
ルダレジストのヤング率が5kgf/mm2 〜70kg
f/mm2 の範囲にある構成である。
As described above, in the tape carrier package semiconductor device according to the fourth aspect of the present invention, the Young's modulus of the solder resist is 5 kgf / mm 2 to 70 kg in the tape carrier package semiconductor device according to the third aspect.
f / mm 2 .

【0152】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあれば、ソルダ
レジストは非常に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 -70 kgf / mm 2 , the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0153】それゆえ、テープキャリアパッケージ半導
体装置に反りが発生しにくくなると共に、テープキャリ
アの製造コストを低く抑えることができるという効果を
奏する。
Therefore, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the production cost of the tape carrier can be reduced.

【0154】請求項5に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項4に記載の
テープキャリアパッケージ半導体装置において、上記ソ
ルダレジストの厚みが5μm〜45μmの範囲にある構
成である。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a tape carrier package semiconductor device according to the fourth aspect, wherein the thickness of the solder resist is in a range of 5 μm to 45 μm. is there.

【0155】上記の発明によれば、ヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあり、厚みが5
μm〜45μmの範囲内にあれば、ソルダレジストは非
常に柔軟な絶縁保護膜として機能する。
According to the above invention, the Young's modulus is 5 kgf
/ Mm 2 to 70 kgf / mm 2 and a thickness of 5
When the thickness is in the range of μm to 45 μm, the solder resist functions as a very flexible insulating protective film.

【0156】それゆえ、テープキャリアパッケージ半導
体装置に反りが発生しにくくなると共に、テープキャリ
アの製造コストを低く抑えることができるという効果を
奏する。
Therefore, the tape carrier package semiconductor device is less likely to be warped, and the production cost of the tape carrier can be reduced.

【0157】請求項6に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項3ないし5
のいずれかに記載のテープキャリアパッケージ半導体装
置において、上記ソルダレジストが、その粘度を決定す
るフィラーを10wt%〜40wt%の範囲で含有する
ことを特徴としている。
As described above, the tape carrier package semiconductor device according to the sixth aspect of the present invention has the following features.
In the tape carrier package semiconductor device according to any one of the above, the solder resist contains a filler for determining the viscosity in a range of 10 wt% to 40 wt%.

【0158】それゆえ、ソルダレジストのチクソ性が高
まり、印刷時にソルダレジストのエッジにブリードが発
生しにくく、パターニング精度が向上するという効果を
奏する。
Therefore, the thixotropy of the solder resist is enhanced, bleeding is hardly generated at the edge of the solder resist at the time of printing, and the patterning accuracy is improved.

【0159】請求項7に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項3ないし6
のいずれかに記載のテープキャリアパッケージ半導体装
置において、上記ソルダレジストは、ゴム系、ポリイミ
ド系、エポキシ系、シリコーン系、あるいはウレタン系
のうちいずれかの材料からなる構成である。
The tape carrier package semiconductor device of the invention according to claim 7 is as described above.
In the tape carrier package semiconductor device according to any one of the above, the solder resist is made of any one of a rubber-based, polyimide-based, epoxy-based, silicone-based, or urethane-based material.

【0160】それゆえ、ソルダレジストが柔軟性の高い
絶縁保護膜として機能するという効果を奏する。
Therefore, there is an effect that the solder resist functions as a highly flexible insulating protective film.

【0161】請求項8に係る発明のテープキャリアパッ
ケージ半導体装置は、以上のように、請求項3ないし7
のいずれかに記載のテープキャリアパッケージ半導体装
置において、上記テープキャリアと上記駆動用半導体素
子とが電気的に接続された部分の周囲は、絶縁性を有す
る液状樹脂によって上記液状樹脂の端部が上記ソルダレ
ジストの上面と70°以下の角度をなすように覆われる
構成である。
The tape carrier package semiconductor device of the invention according to claim 8 is as described above.
In the tape carrier package semiconductor device according to any one of the above, the periphery of a portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected, the end of the liquid resin is made of an insulating liquid resin. In this configuration, the upper surface of the solder resist is covered at an angle of 70 ° or less.

【0162】それゆえ、液状樹脂とソルダレジストとの
密着性が高まり、テープキャリアパッケージ半導体装置
を歩留り良く製造することができるという効果を奏す
る。
Therefore, the adhesiveness between the liquid resin and the solder resist is enhanced, and the tape carrier package semiconductor device can be manufactured with high yield.

【0163】請求項9に係る発明の液晶パネル表示装置
は、以上のように、絶縁テープに金属配線パターン及び
上記金属配線パターンを絶縁被覆する絶縁保護膜が設け
られたテープキャリアと、液晶パネルを駆動する駆動用
半導体素子とを有すると共に、一端が上記液晶パネルに
接続され、他端が液晶パネル駆動用の信号を出力する回
路基板に接続されるテープキャリアパッケージ半導体装
置を備える液晶パネル表示装置において、上記絶縁保護
膜が、請求項1に記載の断線試験方法によって、上記試
験用金属配線パターンが所定の周期数以下で断線しない
と特定された材料からなる構成である。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a liquid crystal panel display device comprising: a tape carrier in which an insulating tape is provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern; A liquid crystal panel display device comprising a semiconductor device for driving, a tape carrier package semiconductor device having one end connected to the liquid crystal panel and the other end connected to a circuit board for outputting a signal for driving the liquid crystal panel. The insulating protective film is made of a material specified by the disconnection test method according to claim 1 to be such that the test metal wiring pattern is not disconnected within a predetermined cycle number or less.

【0164】それゆえ、テープキャリアパッケージ半導
体装置を大型の液晶パネルに実装しても、金属配線パタ
ーンは断線しにくいものとなり、高い歩留りで低コスト
の大型の液晶パネル表示装置を提供することができると
いう効果を奏する。
Therefore, even when the tape carrier package semiconductor device is mounted on a large-sized liquid crystal panel, the metal wiring pattern is hardly broken, and a large-sized liquid crystal panel display device with high yield and low cost can be provided. This has the effect.

【0165】請求項10に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項9に記載の液晶パネル表示
装置において、上記絶縁保護膜が、85℃と−30℃と
を30分ずつ繰り返す周期を有する請求項1に記載の断
線試験方法によって上記試験用金属配線パターンが20
0周期以下で断線しないと特定された1種類のソルダレ
ジストである構成である。
According to a tenth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal panel display device according to the ninth aspect, the insulating protective film is set at 85 ° C. and −30 ° C. for 30 minutes. 2. The test metal wiring pattern according to claim 1, wherein the test metal wiring pattern has 20 cycles.
This is a configuration in which one type of solder resist is specified not to be disconnected in 0 cycles or less.

【0166】それゆえ、テープキャリアパッケージ半導
体装置に反りが発生しにくくなると共に、テープキャリ
アの製造コストを低く抑えることができる。
Therefore, the tape carrier package semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0167】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができるという効果を奏する。
As a result, there is an effect that a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with good yield.

【0168】請求項11に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項10に記載の液晶パネル表
示装置において、上記ソルダレジストのヤング率が5k
gf/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にある構成で
ある。
As described above, in the liquid crystal panel display device according to the eleventh aspect, in the liquid crystal panel display device according to the tenth aspect, the solder resist has a Young's modulus of 5 k.
The configuration is in the range of gf / mm 2 to 70 kgf / mm 2 .

【0169】それゆえ、TCP半導体装置に反りが発生
しにくくなると共に、テープキャリアの製造コストを低
く抑えることができる。
Therefore, the TCP semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0170】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができるという効果を奏する。
As a result, it is possible to provide a large-sized liquid crystal panel display device with good yield.

【0171】請求項12に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項11に記載の液晶パネル表
示装置において、上記ソルダレジストの厚みが5μm〜
45μmの範囲にある構成である。
According to a twelfth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal panel display of the eleventh aspect, the solder resist has a thickness of 5 μm or less.
The configuration is in the range of 45 μm.

【0172】それゆえ、TCP半導体装置に反りが発生
しにくくなると共に、テープキャリアの製造コストを低
く抑えることができる。
Therefore, the TCP semiconductor device is less likely to warp, and the manufacturing cost of the tape carrier can be reduced.

【0173】この結果、歩留り良く大型の液晶パネル表
示装置を提供することができるという効果を奏する。
As a result, there is an effect that a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with good yield.

【0174】請求項13に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項10ないし12のいずれか
に記載の液晶パネル表示装置において、上記ソルダレジ
ストは、その粘度を決定するフィラーを10wt%〜4
0wt%の範囲で含有する構成である。
According to a thirteenth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal panel display according to any one of the tenth to twelfth aspects, the solder resist includes a filler for determining its viscosity. 10wt% -4
The composition is contained in the range of 0 wt%.

【0175】それゆえ、ソルダレジストのチクソ性が高
まり、印刷時にソルダレジストのエッジにブリードが発
生しにくく、パターニング精度が向上する。
Therefore, the thixotropy of the solder resist is enhanced, bleeding is hardly generated at the edge of the solder resist during printing, and the patterning accuracy is improved.

【0176】この結果、歩留り良く液晶パネル表示装置
を提供することができるという効果を奏する。
As a result, it is possible to provide a liquid crystal panel display device with good yield.

【0177】請求項14に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項10ないし13のいずれか
に記載の液晶パネル表示装置において、上記ソルダレジ
ストは、ゴム系、ポリイミド系、エポキシ系、シリコー
ン系、あるいはウレタン系のうちいずれかの材料からな
る構成である。
As described above, in the liquid crystal panel display device according to the fourteenth aspect, in the liquid crystal panel display device according to any one of the tenth to thirteenth aspects, the solder resist is made of rubber, polyimide, epoxy, This is a configuration made of any one of a material based on a silicone, a silicone, or a urethane.

【0178】それゆえ、テープキャリアパッケージ半導
体装置の金属配線パターンが断線しにくくなり、歩留り
良く大型の液晶パネル表示装置を提供することができる
という効果を奏する。
Therefore, the metal wiring pattern of the tape carrier package semiconductor device is hardly broken, and a large-sized liquid crystal panel display device can be provided with good yield.

【0179】請求項15に係る発明の液晶パネル表示装
置は、以上のように、請求項10ないし14のいずれか
に記載の液晶パネル表示装置において、上記テープキャ
リアと上記駆動用半導体素子とが電気的に接続された部
分の周囲は、絶縁性を有する液状樹脂によって上記液状
樹脂の端部が上記ソルダレジストの上面と70°以下の
角度をなすように覆われる構成である。
According to a fifteenth aspect of the present invention, as described above, in the liquid crystal panel display according to any one of the tenth to fourteenth aspects, the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected. The periphery of the electrically connected portion is covered with a liquid resin having an insulating property so that the end of the liquid resin forms an angle of 70 ° or less with the upper surface of the solder resist.

【0180】それゆえ、液状樹脂とソルダレジストとの
密着性が高まり、テープキャリアパッケージ半導体装置
を歩留り良く製造することができる。従って、歩留り良
く液晶パネル表示装置を提供することができるという効
果を奏する。
Therefore, the adhesion between the liquid resin and the solder resist is enhanced, and the tape carrier package semiconductor device can be manufactured with a high yield. Therefore, there is an effect that a liquid crystal panel display device can be provided with a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)、(b)及び(c)は、本発明の実施の
一形態における断線試験方法を説明する説明図である。
FIGS. 1A, 1B, and 1C are explanatory diagrams illustrating a disconnection test method according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の一形態におけるテープキャリア
パッケージ半導体装置の構造を示し、(a)は平面図、
(b)は(a)のC−C’線断面図である。
FIGS. 2A and 2B show the structure of a tape carrier package semiconductor device according to an embodiment of the present invention, wherein FIG.
(B) is a sectional view taken along line CC ′ of (a).

【図3】図2のテープキャリアパッケージ半導体装置を
製造する工程を説明するフロー図である。
FIG. 3 is a flowchart illustrating a process of manufacturing the tape carrier package semiconductor device of FIG. 2;

【図4】図2のテープキャリアパッケージ半導体装置に
おいてブリードが発生しないことを説明する説明図であ
る。
FIG. 4 is an explanatory view illustrating that bleed does not occur in the tape carrier package semiconductor device of FIG. 2;

【図5】図2のテープキャリアパッケージ半導体装置に
おいて液状樹脂とソルダレジストとの密着性を説明する
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining the adhesion between a liquid resin and a solder resist in the tape carrier package semiconductor device of FIG. 2;

【図6】本発明の実施の一形態における液晶パネル表示
装置の構造を示す構造図である。
FIG. 6 is a structural diagram showing a structure of a liquid crystal panel display device according to an embodiment of the present invention.

【図7】従来のテープキャリアパッケージ半導体装置の
構造を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のA−
A’線断面図である。
7A and 7B show the structure of a conventional tape carrier package semiconductor device, wherein FIG. 7A is a plan view, and FIG.
FIG. 3 is a sectional view taken along line A ′.

【図8】図7のテープキャリアパッケージ半導体装置の
テープキャリアを作製する工程を説明するフロー図であ
る。
FIG. 8 is a flowchart illustrating a step of manufacturing a tape carrier of the tape carrier package semiconductor device of FIG. 7;

【図9】従来のテープキャリアパッケージ半導体装置の
構造を示し、(a)は平面図、(b)は(a)のB−
B’線断面図である。
9A and 9B show the structure of a conventional tape carrier package semiconductor device, wherein FIG. 9A is a plan view, and FIG.
It is a sectional view taken on the line B '.

【図10】(a)は図7のテープキャリアパッケージ半
導体装置の実装時の状態、(b)は図9のテープキャリ
アパッケージ半導体装置の実装時の状態をそれぞれ説明
する説明図である。
10A is an explanatory diagram illustrating a state when the tape carrier package semiconductor device of FIG. 7 is mounted, and FIG. 10B is an explanatory diagram illustrating a state when the tape carrier package semiconductor device of FIG. 9 is mounted.

【図11】(a)及び(b)は、従来の断線試験方法を
説明する説明図である。
FIGS. 11A and 11B are explanatory diagrams illustrating a conventional disconnection test method.

【図12】従来のテープキャリアパッケージ半導体装置
においてブリードが発生することを説明する説明図であ
る。
FIG. 12 is an explanatory diagram for explaining occurrence of bleed in a conventional tape carrier package semiconductor device.

【図13】図7のテープキャリアパッケージ半導体装置
の実装時における断線発生箇所を説明する説明図であ
る。
FIG. 13 is an explanatory diagram illustrating a disconnection occurrence position when the tape carrier package semiconductor device of FIG. 7 is mounted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 TEG(テープキャリア) 2 ポリイミド基材(絶縁テープ) 4 銅配線パターン(金属配線パターン) 6 ソルダレジスト(絶縁保護膜) 11 液晶パネル 12 PWB基板(回路基板) 21 フレックスTCP半導体装置(テープキャ
リアパッケージ半導体装置) 22 ポリイミド基材(絶縁テープ) 23 テープキャリア 24 ドライバICチップ(駆動用半導体素子) 26 インナーリード(金属配線パターン) 27 入力側アウターリード(金属配線パター
ン) 28 出力側アウターリード(金属配線パター
ン) 29 テストパッド(金属配線パターン) 34 樹脂(液状樹脂) 51 液晶パネル表示装置 52 液晶パネル 53 PWB基板(回路基板)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 TEG (tape carrier) 2 Polyimide base material (insulating tape) 4 Copper wiring pattern (metal wiring pattern) 6 Solder resist (insulating protective film) 11 Liquid crystal panel 12 PWB substrate (circuit board) 21 Flex TCP semiconductor device (tape carrier package) 22) Polyimide base material (insulating tape) 23 Tape carrier 24 Driver IC chip (driving semiconductor element) 26 Inner lead (metal wiring pattern) 27 Input outer lead (metal wiring pattern) 28 Output outer lead (metal wiring) Pattern) 29 test pad (metal wiring pattern) 34 resin (liquid resin) 51 liquid crystal panel display device 52 liquid crystal panel 53 PWB substrate (circuit substrate)

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】絶縁テープに金属配線パターン及び上記金
属配線パターンを絶縁被覆する絶縁保護膜が設けられた
テープキャリアと、液晶パネルを駆動する駆動用半導体
素子とを有するテープキャリアパッケージ半導体装置の
上記テープキャリアと同等の構造の試験用テープキャリ
アを断線試験する断線試験方法において、 上記試験用テープキャリアの一端は液晶パネルに接続さ
れると共に他端は液晶パネル駆動用の信号を出力する回
路基板に接続され、上記液晶パネルと上記回路基板とが
対向するように上記試験用テープキャリアを湾曲させた
状態で、一定の周期で変化する温度環境に曝して上記試
験用テープキャリアの試験用金属配線パターンが断線す
る周期数を求めることを特徴とする断線試験方法。
1. A tape carrier package semiconductor device comprising: a tape carrier having an insulating tape provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern; and a driving semiconductor element for driving a liquid crystal panel. In a disconnection test method for performing a disconnection test on a test tape carrier having a structure equivalent to a tape carrier, one end of the test tape carrier is connected to a liquid crystal panel and the other end is connected to a circuit board that outputs a signal for driving the liquid crystal panel. In a state where the test tape carrier is curved so that the liquid crystal panel and the circuit board are opposed to each other, the test tape carrier is exposed to a temperature environment which changes at a constant cycle, and the test metal wiring pattern of the test tape carrier is exposed. A disconnection test method, wherein the number of cycles at which a disconnection occurs is obtained.
【請求項2】絶縁テープに金属配線パターン及び上記金
属配線パターンを絶縁被覆する絶縁保護膜が設けられた
テープキャリアと、液晶パネルを駆動する駆動用半導体
素子とを有すると共に、一端が上記液晶パネルに接続さ
れ、他端が液晶パネル駆動用の信号を出力する回路基板
に接続されるテープキャリアパッケージ半導体装置にお
いて、 上記絶縁保護膜が、請求項1に記載の断線試験方法によ
って、上記試験用金属配線パターンが所定の周期数以下
で断線しないと特定された材料からなることを特徴とす
るテープキャリアパッケージ半導体装置。
2. A tape carrier having an insulating tape provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern, and a driving semiconductor element for driving a liquid crystal panel, and one end of the liquid crystal panel. 2. A tape carrier package semiconductor device connected to a circuit board that outputs a signal for driving a liquid crystal panel, the other end of which is connected to a circuit board that outputs a signal for driving a liquid crystal panel. A tape carrier package semiconductor device, characterized in that the wiring pattern is made of a material specified not to be disconnected within a predetermined number of cycles or less.
【請求項3】上記絶縁保護膜が、85℃と−30℃とを
30分ずつ繰り返す周期を有する請求項1に記載の断線
試験方法によって上記試験用金属配線パターンが200
周期以下で断線しないと特定された1種類のソルダレジ
ストであることを特徴とする請求項2に記載のテープキ
ャリアパッケージ半導体装置。
3. The disconnection test method according to claim 1, wherein the insulating protective film has a cycle of repeating 85 ° C. and −30 ° C. for 30 minutes each.
3. The tape carrier package semiconductor device according to claim 2, wherein one kind of solder resist specified not to be disconnected in a cycle or less is used.
【請求項4】上記ソルダレジストのヤング率が5kgf
/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあることを特徴
とする請求項3に記載のテープキャリアパッケージ半導
体装置。
4. A solder resist having a Young's modulus of 5 kgf.
/ Mm 2 tape carrier package semiconductor device according to claim 3, characterized in that the range of ~70Kgf / mm 2.
【請求項5】上記ソルダレジストの厚みが5μm〜45
μmの範囲にあることを特徴とする請求項4に記載のテ
ープキャリアパッケージ半導体装置。
5. A solder resist having a thickness of 5 μm to 45 μm.
The tape carrier package semiconductor device according to claim 4, wherein the length is in a range of μm.
【請求項6】上記ソルダレジストが、その粘度を決定す
るフィラーを10wt%〜40wt%の範囲で含有する
ことを特徴とする請求項3ないし5のいずれかに記載の
テープキャリアパッケージ半導体装置。
6. The tape carrier package semiconductor device according to claim 3, wherein said solder resist contains a filler for determining its viscosity in a range of 10 wt% to 40 wt%.
【請求項7】上記ソルダレジストが、ゴム系、ポリイミ
ド系、エポキシ系、シリコーン系、あるいはウレタン系
のうちいずれかの材料からなることを特徴とする請求項
3ないし6のいずれかに記載のテープキャリアパッケー
ジ半導体装置。
7. The tape according to claim 3, wherein the solder resist is made of any one of rubber, polyimide, epoxy, silicone, and urethane. Carrier package semiconductor device.
【請求項8】上記テープキャリアと上記駆動用半導体素
子とが電気的に接続された部分の周囲は、絶縁性を有す
る液状樹脂によって上記液状樹脂の端部が上記ソルダレ
ジストの上面と70°以下の角度をなすように覆われる
ことを特徴とする請求項3ないし7のいずれかに記載の
テープキャリアパッケージ半導体装置。
8. The periphery of a portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected is formed by a liquid resin having an insulating property such that an end of the liquid resin is not more than 70 ° with respect to the upper surface of the solder resist. 8. The tape carrier package semiconductor device according to claim 3, wherein the tape carrier package semiconductor device is covered so as to form an angle.
【請求項9】絶縁テープに金属配線パターン及び上記金
属配線パターンを絶縁被覆する絶縁保護膜が設けられた
テープキャリアと、液晶パネルを駆動する駆動用半導体
素子とを有すると共に、一端が上記液晶パネルに接続さ
れ、他端が液晶パネル駆動用の信号を出力する回路基板
に接続されるテープキャリアパッケージ半導体装置を備
える液晶パネル表示装置において、 上記絶縁保護膜が、請求項1に記載の断線試験方法によ
って、上記試験用金属配線パターンが所定の周期数以下
で断線しないと特定された材料からなることを特徴とす
る液晶パネル表示装置。
9. A tape carrier having an insulating tape provided with a metal wiring pattern and an insulating protective film for insulatingly covering the metal wiring pattern, a driving semiconductor element for driving a liquid crystal panel, and one end of the liquid crystal panel. 2. The disconnection test method according to claim 1, wherein the liquid crystal panel display device includes a tape carrier package semiconductor device connected to a circuit board that outputs a signal for driving the liquid crystal panel. A liquid crystal panel display device characterized in that the test metal wiring pattern is made of a material specified not to be disconnected within a predetermined number of cycles or less.
【請求項10】上記絶縁保護膜が、85℃と−30℃と
を30分ずつ繰り返す周期を有する請求項1に記載の断
線試験方法によって上記試験用金属配線パターンが20
0周期以下で断線しないと特定された1種類のソルダレ
ジストであることを特徴とする請求項9に記載の液晶パ
ネル表示装置。
10. The disconnection test method according to claim 1, wherein the insulating protective film has a cycle of repeating 85 ° C. and −30 ° C. for 30 minutes each.
The liquid crystal panel display device according to claim 9, wherein the liquid crystal panel display device is one type of solder resist that is specified not to be disconnected in 0 cycles or less.
【請求項11】上記ソルダレジストのヤング率が5kg
f/mm2 〜70kgf/mm2 の範囲にあることを特
徴とする請求項10に記載の液晶パネル表示装置。
11. The solder resist has a Young's modulus of 5 kg.
The liquid crystal panel display device according to claim 10, characterized in that the range of f / mm 2 ~70kgf / mm 2 .
【請求項12】上記ソルダレジストの厚みが5μm〜4
5μmの範囲にあることを特徴とする請求項11に記載
の液晶パネル表示装置。
12. A solder resist having a thickness of 5 μm to 4 μm.
The liquid crystal panel display device according to claim 11, wherein the distance is in a range of 5 µm.
【請求項13】上記ソルダレジストが、その粘度を決定
するフィラーを10wt%〜40wt%の範囲で含有す
ることを特徴とする請求項10ないし12のいずれかに
記載の液晶パネル表示装置。
13. The liquid crystal panel display device according to claim 10, wherein said solder resist contains a filler for determining its viscosity in a range of 10 wt% to 40 wt%.
【請求項14】上記ソルダレジストが、ゴム系、ポリイ
ミド系、エポキシ系、シリコーン系、あるいはウレタン
系のうちいずれかの材料からなることを特徴とする請求
項10ないし13のいずれかに記載の液晶パネル表示装
置。
14. The liquid crystal according to claim 10, wherein the solder resist is made of any one of rubber, polyimide, epoxy, silicone, and urethane. Panel display device.
【請求項15】上記テープキャリアと上記駆動用半導体
素子とが電気的に接続された部分の周囲は、絶縁性を有
する液状樹脂によって上記液状樹脂の端部が上記ソルダ
レジストの上面と70°以下の角度をなすように覆われ
ることを特徴とする請求項10ないし14のいずれかに
記載の液晶パネル表示装置。
15. An end portion of the liquid resin around the portion where the tape carrier and the driving semiconductor element are electrically connected to each other by an insulating liquid resin so that an end of the liquid resin is 70 ° or less with respect to the upper surface of the solder resist. The liquid crystal panel display device according to any one of claims 10 to 14, wherein the liquid crystal panel display device is covered so as to form an angle.
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JP2008233358A (en) * 2007-03-19 2008-10-02 Hitachi Displays Ltd Liquid crystal display device
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