JPH11111944A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH11111944A
JPH11111944A JP9266217A JP26621797A JPH11111944A JP H11111944 A JPH11111944 A JP H11111944A JP 9266217 A JP9266217 A JP 9266217A JP 26621797 A JP26621797 A JP 26621797A JP H11111944 A JPH11111944 A JP H11111944A
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JP
Japan
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sub
array
memory
word line
integrated circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP9266217A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroki Fujisawa
宏樹 藤澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accelerate operating speed without increasing the division number of a sub word line, in a hierarchical word line structure. SOLUTION: A sub array S1 for which a memory array of 8 Mbits is divided by the memory capacity of a 128 Mbit unit is provided on a right side with the center part of a memory array 2 as a boundary, and a sub array S2 for which the memory array of 8 Mbits is divided by the memory capacity of a 64 Kbit unit is provided on the left side. The sub array S2 of the 128 Kbit unit on the left side of the memory array 2 realizes acceleration since the wiring length of the sub word line is shortened, and the sub array S1 positioned on the right side of the memory array 2 substantially reduces the number of sub word drivers SWDs. Also, since the sub array S1 is close to a main word driver MWD, a problem will not occur in the delay of access time, and the area of a semiconductor chip CH is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置に関し、特に、DRAM(Dynamic Ramd
om Access Memory)における階層形ワ
ード線(DWD:Divided Word Driv
er)構造の半導体チップの省面積化に適用して有効な
技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and, more particularly, to a DRAM (Dynamic Ramd).
Om Access Memory (DWD: Divided Word Drive)
er) The present invention relates to a technique which is effective when applied to the area saving of a semiconductor chip having a structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、た
とえば、大容量のDRAM(Dynamic Ramd
om Access Memory)などにおける階層
形ワード線(DWD:Divided Word Dr
iver)構成は、1本のワード線を行方向に複数のサ
ブワード線に分割し、複数行のワード線が1組の相補の
関係にあるようなメインワード線によって制御する階層
構造が用いられる。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventors, for example, a large-capacity DRAM (Dynamic Ramd) has been proposed.
om Access Memory) or the like, and a hierarchical word line (DWD: Divided Word Dr)
The iv) configuration employs a hierarchical structure in which one word line is divided into a plurality of sub-word lines in the row direction, and the plurality of word lines are controlled by a set of main word lines having a complementary relationship.

【0003】なお、この種の半導体集積回路装置につい
て詳しく述べてある例としては、株式会社培風館、19
94年11月5日発行「アドバンスト エレクトロニク
スI−9 超LSIメモリ」伊藤清男(著)、P142
〜P176があり、この文献には、DRAMにおける読
み出し系回路の回路構成などが記載されている。
As an example describing this type of semiconductor integrated circuit device in detail, see, for example, Baifukan Co., Ltd., 19
Published on November 5, 1994, "Advanced Electronics I-9 Ultra LSI Memory" Kiyoo Ito (Author), P142
This document describes the circuit configuration of a readout circuit in a DRAM.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な階層形ワード線構造の半導体集積回路装置では、次の
ような問題点があることが本発明者により見い出され
た。
However, the present inventor has found that the semiconductor integrated circuit device having the hierarchical word line structure as described above has the following problems.

【0005】すなわち、動作の高速化を行うためには、
サブワード線の配線長を短くし、かつ分割数を多くしな
ければならず、これに伴い、サブワード線を駆動するサ
ブワードドライバも増加してしまい、半導体集積回路装
置の高集積化の妨げとなっているという問題がある。
That is, in order to increase the operation speed,
It is necessary to shorten the wiring length of the sub-word line and increase the number of divisions, and accordingly, the number of sub-word drivers for driving the sub-word line also increases, which hinders high integration of the semiconductor integrated circuit device. There is a problem that there is.

【0006】本発明の目的は、階層形ワード線構造にお
けるサブワード線の分割数を増やすことなく、動作速度
を高速化することのできる半導体集積回路装置を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of increasing the operation speed without increasing the number of sub word lines divided in a hierarchical word line structure.

【0007】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
[0007] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0009】すなわち、本発明の半導体集積回路装置
は、メモリアレイが、それぞれの領域毎に異なるメモリ
容量に分割化された複数のサブアレイから構成される少
なくとも2つのサブアレイ領域よりなり、当該サブアレ
イ領域におけるサブアレイのメモリ容量が、メモリアレ
イのメインワード線を駆動するメインワードドライバか
ら遠ざかるにつれて小さくなるものである。
That is, in the semiconductor integrated circuit device of the present invention, the memory array includes at least two sub-array regions each including a plurality of sub-arrays divided into different memory capacities for each region. The memory capacity of the sub-array decreases as the distance from the main word driver that drives the main word line of the memory array decreases.

【0010】それにより、メインワードドライバに近い
サブアレイ領域は、信号遅延が生じることなくサブワー
ドドライバ数を減少させることができ、メインワードド
ライバから遠いサブアレイ領域は、サブワード線の配線
長を短くできるので、高速アクセスを行うことができ
る。
Thus, the number of sub-word drivers can be reduced in the sub-array region near the main word driver without signal delay, and the wiring length of the sub-word line can be reduced in the sub-array region far from the main word driver. High-speed access can be performed.

【0011】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記サブアレイ領域が2つの領域よりなり、それぞれの該
サブアレイ領域に形成された複数のサブアレイのメモリ
容量が同一よりなるものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the sub-array region includes two regions, and a plurality of sub-arrays formed in each of the sub-array regions have the same memory capacity.

【0012】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
前記サブアレイ領域が3つの領域よりなり、それぞれの
サブアレイ領域に形成された複数のサブアレイのメモリ
容量が同一よりなるものである。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention,
The sub-array region includes three regions, and a plurality of sub-arrays formed in each sub-array region have the same memory capacity.

【0013】それらにより、それぞれの領域のメモリ容
量の合計が同じであるので、メモリアレイの制御を容易
に行うことができる。
Accordingly, since the sum of the memory capacities of the respective areas is the same, the control of the memory array can be easily performed.

【0014】以上のことにより、半導体チップを省面積
化できるので、半導体集積回路装置をより小型化でき、
かつ半導体集積回路装置の動作を高速化することができ
る。
As described above, since the area of the semiconductor chip can be reduced, the size of the semiconductor integrated circuit device can be further reduced.
In addition, the operation of the semiconductor integrated circuit device can be speeded up.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0016】図1は、本発明の一実施の形態による階層
形ワード線構造のメモリにおける半導体チップのレイア
ウトの説明図、図2は、本発明の一実施の形態による階
層形ワード線構造のメモリにおける回路図、図3は、本
発明の一実施の形態による階層形ワード線構造のメモリ
におけるメモリのデータ読み出し動作のタイミングチャ
ート、図4は、本発明の一実施の形態による階層形ワー
ド線構造のメモリにおけるメモリのリフレッシュ動作時
のタイミングチャートである。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a layout of a semiconductor chip in a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention. FIG. 3 is a timing chart of a data read operation of a memory in a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention. 5 is a timing chart at the time of a memory refresh operation in the memory of FIG.

【0017】本実施の形態において、64MビットDR
AMである階層形ワード線構造のメモリ(半導体集積回
路装置)1のレイアウト構成は、図1に示すように、た
とえば、単結晶シリコンなどの半導体ウエハ上に半導体
素子が形成された半導体チップCHの長辺方向の中央部
に周辺回路SCが形成されている。
In this embodiment, a 64 Mbit DR
As shown in FIG. 1, the layout configuration of a memory (semiconductor integrated circuit device) 1 having a hierarchical word line structure, which is an AM, is a semiconductor chip CH having semiconductor elements formed on a semiconductor wafer such as single crystal silicon. A peripheral circuit SC is formed at the center in the long side direction.

【0018】また、この周辺回路SCは、列方向のビッ
ト線を選択する列デコーダ、行、列方向のアドレス信号
が入力され、それぞれの内部アドレス信号を発生させて
出力するアドレスバッファ、入力データを所定のタイミ
ングにより取り込むデータ入力バッファ、出力データを
所定のタイミングによって出力するデータ出力バッファ
およびワード線電位に用いられる昇圧電源電圧を生成す
る昇圧電源回路などから構成されている。
The peripheral circuit SC has a column decoder for selecting a bit line in a column direction, an address buffer for receiving an address signal in a row and a column direction, generating and outputting an internal address signal, and an input buffer. It comprises a data input buffer that takes in at a predetermined timing, a data output buffer that outputs output data at a predetermined timing, and a boosting power supply circuit that generates a boosting power supply voltage used for the word line potential.

【0019】また、メモリ1は、その周辺回路SCの上
段および下段がメモリセルアレイ領域となっており、2
進情報の1ビットを記憶するメモリセルがマトリクス構
造に2次元配置されたメモリアレイ2が設けられてい
る。
In the memory 1, the upper and lower stages of the peripheral circuit SC are memory cell array regions,
A memory array 2 is provided in which memory cells for storing one bit of binary information are two-dimensionally arranged in a matrix structure.

【0020】さらに、メモリアレイ2は、16Mビット
毎に4分割されており、半導体チップCHの上段の長手
方向に2つのメモリアレイ2が位置しており、半導体チ
ップCHの下段の長手方向にも同様に、2つのメモリア
レイ2が位置するように設けられている。
Further, the memory array 2 is divided into four every 16M bits, and two memory arrays 2 are located in the upper longitudinal direction of the semiconductor chip CH, and also in the lower longitudinal direction of the semiconductor chip CH. Similarly, two memory arrays 2 are provided so as to be located.

【0021】また、それぞれのメモリアレイ2には、メ
モリアレイ2におけるメインワード線を駆動するメイン
ワードドライバMWDが設けられており、これらメイン
ワードドライバMWDは、前述した上段と下段のメモリ
セルアレイ領域における中央部、すなわち、2つのメモ
リアレイ2の間に位置するように形成されている。
Each memory array 2 is provided with a main word driver MWD for driving a main word line in the memory array 2. These main word drivers MWD are provided in the above-mentioned upper and lower memory cell array regions. It is formed so as to be located at the center, that is, between the two memory arrays 2.

【0022】さらに、メモリアレイ2は、同じく図1に
示すように、16Mビットのメモリアレイ2において、
メインワードドライバMWDの近傍、すなわち、メモリ
アレイ2の中央部を境として右側には、8Mビットのメ
モリアレイを128Kビット単位のメモリ容量で分割し
たサブアレイS1が設けられている。
Further, as shown in FIG. 1, the memory array 2 is a memory array 2 of 16 Mbits.
In the vicinity of the main word driver MWD, that is, on the right side of the center of the memory array 2, there is provided a subarray S <b> 1 obtained by dividing an 8 Mbit memory array by a memory capacity of 128 Kbit units.

【0023】一方、メインワードドライバMWDから遠
い位置、すなわち、同じくメモリアレイ2の中央部を境
として左側には、8Mビットのメモリアレイを64Kビ
ット単位のメモリ容量で分割したサブアレイS2が設け
られるように構成されている。
On the other hand, at a position far from the main word driver MWD, that is, on the left side of the center of the memory array 2, a sub-array S2 obtained by dividing an 8-Mbit memory array by a memory capacity of 64K bits is provided. Is configured.

【0024】よって、サブアレイS1は、256ワード
×512ビット構成となり、この構成によって8Mビッ
トとするには半導体チップCHの長辺方向に各4個ず
つ、短辺方向に各16個ずつのサブアレイS1が設けら
れ、これらのサブアレイS1が位置している領域がサブ
アレイ領域となっている。
Therefore, the sub-array S1 has a configuration of 256 words.times.512 bits. In order to obtain 8M bits by this configuration, four sub-arrays S1 in the long side direction and 16 sub-arrays in the short side direction of the semiconductor chip CH are used. Are provided, and the area where these sub-arrays S1 are located is a sub-array area.

【0025】また、サブアレイS2は、256ワード×
256ビット構成となり、この構成によって8Mビット
とするには半導体チップCHの長辺方向に各8個ずつ、
短辺方向に各16個ずつのサブアレイS2が設けられる
ことになり、同様に、これらのサブアレイS2が位置し
ている領域がサブアレイ領域となっている。
The sub-array S2 has 256 words ×
A 256-bit configuration is used. In order to obtain 8 Mbits by this configuration, eight semiconductor chips CH are arranged in the long side direction.
16 sub-arrays S2 are provided in the short side direction, and similarly, the area where these sub-arrays S2 are located is the sub-array area.

【0026】次に、サブアレイS1,S2の両側端部に
は、行方向に複数に分割されたサブワード線を駆動する
サブワードドライバSWDが位置しており、サブアレイ
S1,S2の上下部には、セル信号を読み出し増幅を行
うセンスアンプSAが位置して設けられている。
Next, a sub-word driver SWD for driving a plurality of sub-word lines divided in the row direction is located at both side ends of the sub-arrays S1 and S2. A sense amplifier SA for reading and amplifying a signal is provided at a position.

【0027】そして、それぞれのメモリアレイ2は、該
メモリアレイ2の中央部を境として右側にサブアレイS
1が位置するように、左側にサブアレイS2が位置する
ことにより、メインワード線の信号遅延が大きくなるメ
モリアレイ2の遠端部はサブアレイS2のサブワード線
の配線長を短くできるので、高速化を実現することがで
きる。
Each memory array 2 has a sub-array S on the right side with respect to the center of the memory array 2.
1 is located so that the sub-array S2 is located on the left side, so that the signal length of the main word line becomes longer, so that the far end of the memory array 2 can shorten the wiring length of the sub-word line of the sub-array S2, thereby increasing the speed. Can be realized.

【0028】また、メモリアレイ2の右側をサブアレイ
S1によって構成できるので、すべてをサブアレイS2
により構成するよりも大幅にサブワードドライバSWD
の個数を低減でき、かつサブアレイS1がメインワード
ドライバMWDに近いことによってアクセス時間の遅延
に問題が生じることのなく半導体チップCHを省面積化
することができる。
Since the right side of the memory array 2 can be constituted by the sub-array S1, all of the sub-array S2
Sub-word driver SWD significantly
And the sub-array S1 is close to the main word driver MWD, so that the area of the semiconductor chip CH can be reduced without causing a problem in access time delay.

【0029】次に、階層形ワード線構造のメモリ1の回
路図を図2に示す。ここで、図2は、前述した256ワ
ード×512ビット構成のサブアレイS1と256ワー
ド×256ビット構成のサブアレイS2の各1マットず
つのみおよびその周辺回路を示している。
Next, a circuit diagram of the memory 1 having a hierarchical word line structure is shown in FIG. Here, FIG. 2 shows only one mat each of the above-described sub-array S1 having a configuration of 256 words × 512 bits and the sub-array S2 having a configuration of 256 words × 256 bits, and peripheral circuits thereof.

【0030】まず、図2において、メモリ1は、メイン
ワード線MWLを駆動するメインワードドライバMWD
ならびにメインワード線MWLと電気的に接続されたサ
ブワード線SWLを駆動するサブワードドライバSWD
が設けられている。また、サブワードドライバSWD
は、プリデコード信号である選択駆動線FX,FXBと
も電気的に接続が行われている。
First, in FIG. 2, a memory 1 includes a main word driver MWD for driving a main word line MWL.
Sub-word driver SWD driving sub-word line SWL electrically connected to main word line MWL
Is provided. Also, the sub word driver SWD
Are also electrically connected to the selection drive lines FX and FXB, which are predecode signals.

【0031】そして、選択されたメインワード線MWL
と選択駆動線FX,FXBとの交点のサブワードドライ
バSWDが活性化され、そのサブワードドライバSWD
におけるサブワード線SWLが立ち上がることになる。
また、その他のサブワードドライバSWDは非活性であ
り、非選択のサブワード線SWLはグランド電位Vss
に固定されている。
Then, the selected main word line MWL
Sub-word driver SWD at the point of intersection between the sub-word driver SWD and the selected drive line FX, FXB is activated.
Will rise.
The other sub-word drivers SWD are inactive, and the unselected sub-word lines SWL are connected to the ground potential Vss.
It is fixed to.

【0032】ここで、メインワード線MWLの遠端部、
すなわち、メインワードドライバMWDから最も遠い位
置のサブアレイS2(図1)のサブワードドライバSW
Dが最も遅く選択されることになるが、サブアレイS2
においては、サブワード線SWLの配線長が短いので信
号伝達、すなわち、信号の立ち上がりタイミングを高速
化することができる。
Here, the far end of the main word line MWL,
That is, the sub-word driver SW of the sub-array S2 (FIG. 1) located farthest from the main word driver MWD.
D will be selected the latest, but the sub-array S2
In (2), since the wiring length of the sub-word line SWL is short, the signal transmission, that is, the rising timing of the signal can be accelerated.

【0033】これに対し、メインワードドライバMWD
の近傍に位置するサブワードドライバSWD、すなわ
ち、サブアレイS1に設けられているサブワードドライ
バSWDは、選択タイミングが速いのでサブワード線S
WLの配線長が長くてもアクセスを高速に行うことがで
きる。
On the other hand, the main word driver MWD
, Ie, the sub-word driver SWD provided in the sub-array S1 has a fast selection timing, so that the sub-word line SW
Access can be performed at high speed even if the wiring length of the WL is long.

【0034】次に、メモリ1における読み出し動作時の
タイミングチャートを図3に示す。
Next, FIG. 3 shows a timing chart at the time of the read operation in the memory 1.

【0035】まず、図3のタイミングチャートにおい
て、上方から下方にかけてメインワード線MWL、選択
駆動線FX,FXB、サブワード線SWL、センスアン
プSAP,SAN、ビット線BLの信号タイミングを示
している。ここでは、たとえば、ワード線電圧を昇圧レ
ベルVchとしている。
First, in the timing chart of FIG. 3, the signal timings of the main word line MWL, the selection drive lines FX and FXB, the sub word line SWL, the sense amplifiers SAP and SAN, and the bit line BL are shown from top to bottom. Here, for example, the word line voltage is set to the boosted level Vch.

【0036】図3において、サブワード線SWLのタイ
ミングは、メインワード線MWLならびに選択駆動線F
X,FXBのタイミングによって決まっており、ビット
線BLに信号が出力されてからセンスアンプSAP,S
ANを活性化し、増幅を行う。
In FIG. 3, the timing of the sub word line SWL is determined by the main word line MWL and the selection drive line F.
X and FXB, and are determined by the sense amplifiers SAP and SAP after a signal is output to the bit line BL.
Activate the AN and perform amplification.

【0037】また、メインワードドライバMWD遠端部
に位置するサブアレイS2におけるサブワード線SWL
(点線により示す)は、メインワード線MWLの配線長
が長いので立ち上がりタイミングがメインワードドライ
バMWD近端部に位置するサブアレイS1のサブワード
線SWL(実線により示す)よりも遅くなる。
The sub-word line SWL in the sub-array S2 located at the far end of the main word driver MWD
Since the main word line MWL has a long wiring length (shown by a dotted line), its rising timing is later than that of the sub-word line SWL (shown by a solid line) of the sub-array S1 located near the main word driver MWD.

【0038】しかし、サブアレイS2のサブワード線S
WLにおいては、前述したように256ワード×256
ビット構成であるのでサブワード線SWLの配線長が短
く、信号の立ち下がり時間も短いことになる。一方、2
56ワード×512ビット構成であるサブアレイS1に
おけるサブワード線SWLは、配線長が長いので信号の
立ち下がり時間も長くなってしまい、最終的にはサブア
レイS1のサブワード線SWLとサブアレイS2のサブ
ワード線SWLとの信号タイミングを同一にすることが
できる。
However, the sub-word line S of the sub-array S2
In WL, as described above, 256 words × 256
Because of the bit configuration, the wiring length of the sub-word line SWL is short, and the fall time of the signal is short. Meanwhile, 2
The sub-word line SWL in the sub-array S1 having a configuration of 56 words × 512 bits has a long wiring length, so the fall time of the signal is also long, and finally the sub-word line SWL of the sub-array S1 and the sub-word line SWL of the sub-array S2 are At the same timing.

【0039】次に、メモリ1におけるリフレッシュ動作
時のタイミングチャートを図4に示す。
Next, FIG. 4 shows a timing chart at the time of the refresh operation in the memory 1.

【0040】また、同様に図4のタイミングチャートに
おいても上方から下方にかけて、メインワード線MW
L、選択駆動線FX,FXB、サブワード線SWL、セ
ンスアンプSAP,SAN、ビット線BLの信号タイミ
ングを示している。
Similarly, in the timing chart of FIG. 4, the main word line MW
L, signal drive timings of select drive lines FX and FXB, sub-word lines SWL, sense amplifiers SAP and SAN, and bit lines BL.

【0041】図4において、この場合でも、読み出し動
作と同様にサブワード線SWLを活性化することによっ
てメモリセルのリフレッシュが可能である。また、メモ
リ1においては、リフレッシュ動作をメインワード線単
位で行うこととした。図4からアレイ分割単位が2種類
であってもリフレッシュ動作の影響はなく、アレイ分割
が1種類の場合と同様に制御を行うことができる。
In FIG. 4, even in this case, the memory cell can be refreshed by activating the sub-word line SWL as in the read operation. Further, in the memory 1, the refresh operation is performed for each main word line. As shown in FIG. 4, even if the array division unit is two types, the refresh operation is not affected, and control can be performed in the same manner as in the case of one array division.

【0042】それにより、本実施の形態によれば、メモ
リアレイ2の中央部を境として左側に64Kビット単位
で分割してサブワード線SWLの配線長を短くしたサブ
アレイS2によりアクセス時間を高速化し、メインワー
ドドライバMWDに近いことによりアクセス時間に問題
がない、メモリアレイ2の中央部を境として右側に12
8Kビット単位で分割したサブアレイS1によってサブ
ワードドライバの数を低減でき、半導体チップCHを省
面積化することができる。
Thus, according to the present embodiment, the access time is shortened by the sub-array S2 in which the wiring length of the sub-word line SWL is shortened by dividing the memory array 2 to the left with respect to the central portion thereof in units of 64 K bits and shortening the wiring length. There is no problem in the access time because it is close to the main word driver MWD.
The number of sub-word drivers can be reduced by the sub-array S1 divided in units of 8K bits, and the area of the semiconductor chip CH can be reduced.

【0043】また、本実施の形態においては、異なるメ
モリ容量のサブアレイS1,S2からなる2つのサブア
レイ領域について記載したが、サブアレイ領域は、異な
るメモリ容量のサブアレイが形成される3つ以上の領域
を設けてもよい。
Further, in the present embodiment, two sub-array regions including sub-arrays S1 and S2 having different memory capacities have been described. However, the sub-array region includes three or more regions where sub-arrays having different memory capacities are formed. It may be provided.

【0044】たとえば、図5に示すように、64Mビッ
トDRAMである階層形ワード線構造のメモリ1におい
て、メモリ容量が256KビットからなるサブアレイS
M1のサブアレイ領域、メモリ容量が128Kビットか
らなるサブアレイSM2のサブアレイ領域ならびにメモ
リ容量が64KビットからなるサブアレイSM3のサブ
アレイ領域の3つの領域に分割することによってもアク
セス時間を高速化し、かつ半導体チップCHを省面積化
することができる。
For example, as shown in FIG. 5, in a memory 1 having a hierarchical word line structure which is a 64-Mbit DRAM, a sub-array S having a memory capacity of 256 K bits is provided.
The access time can be shortened by dividing the sub-array area into M1, a sub-array area of a sub-array SM2 having a memory capacity of 128 Kbits, and a sub-array area of a sub-array SM3 having a memory capacity of 64 Kbits, and the semiconductor chip CH Can be reduced in area.

【0045】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the invention. However, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0046】[0046]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0047】(1)本発明によれば、メインワードドラ
イバに近いサブアレイ領域は信号遅延が生じることなく
サブワードドライバ数を減少させることができ、メイン
ワードドライバから遠いサブアレイ領域はサブワード線
の配線長を短くできるので、高速アクセスを行うことが
できる。
(1) According to the present invention, the number of sub-word drivers can be reduced in the sub-array area near the main word driver without signal delay, and the wiring length of the sub-word line in the sub-array area far from the main word driver can be reduced. Since it can be shortened, high-speed access can be performed.

【0048】(2)また、本発明では、それぞれの領域
のメモリ容量の合計を同一にすることにより、メモリア
レイの制御を容易に行うことができる。
(2) In the present invention, the memory array can be easily controlled by making the sum of the memory capacities of the respective regions the same.

【0049】(3)さらに、本発明においては、上記
(1)、(2)により、半導体チップを省面積化できる
ので、製品となる半導体集積回路装置をより小型化で
き、かつ半導体集積回路装置の動作を高速化することが
できる。
(3) Further, according to the present invention, since the area of the semiconductor chip can be reduced by the above (1) and (2), the size of the semiconductor integrated circuit device as a product can be further reduced and the semiconductor integrated circuit device can be reduced. Operation can be speeded up.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による階層形ワード線構
造のメモリにおける半導体チップのレイアウトの説明図
である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a layout of a semiconductor chip in a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention;

【図2】本発明の一実施の形態による階層形ワード線構
造のメモリにおける回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention;

【図3】本発明の一実施の形態による階層形ワード線構
造のメモリにおけるメモリのデータ読み出し動作のタイ
ミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart of a data read operation of the memory in the memory having the hierarchical word line structure according to the embodiment of the present invention;

【図4】本発明の一実施の形態による階層形ワード線構
造のメモリにおけるメモリのリフレッシュ動作時のタイ
ミングチャートである。
FIG. 4 is a timing chart at the time of a memory refresh operation in a memory having a hierarchical word line structure according to an embodiment of the present invention;

【図5】(a)〜(b)は、本発明の他の実施の形態に
よる階層形ワード線構造のメモリにおける半導体チップ
のレイアウトの説明図である。
FIGS. 5A and 5B are explanatory diagrams of a layout of a semiconductor chip in a memory having a hierarchical word line structure according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】 1 メモリ(半導体集積回路装置) 2 メモリアレイ CH 半導体チップ SC 周辺回路 MWD メインワードドライバ SWD サブワードドライバ S1,S2 サブアレイ SA センスアンプ MWL メインワード線 SWL サブワード線 FX,FXB 選択駆動線 SM1〜SM3 サブアレイ[Description of Signs] 1 Memory (Semiconductor Integrated Circuit Device) 2 Memory Array CH Semiconductor Chip SC Peripheral Circuit MWD Main Word Driver SWD Subword Driver S1, S2 Subarray SA Sense Amplifier MWL Main Word Line SWL Subword Line FX, FXB Selection Drive Line SM1 ~ SM3 subarray

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワード線を多分割化した階層形ワード線
構成により構成された半導体集積回路装置であって、メ
モリアレイが、それぞれの領域毎に異なるメモリ容量に
分割化された複数のサブアレイから構成される少なくと
も2つのサブアレイ領域よりなり、前記サブアレイ領域
における前記サブアレイのメモリ容量が、前記メモリア
レイのメインワード線を駆動するメインワードドライバ
から遠ざかるにつれて小さくなることを特徴とする半導
体集積回路装置。
1. A semiconductor integrated circuit device having a hierarchical word line configuration in which word lines are divided into multiple parts, wherein a memory array is composed of a plurality of sub-arrays divided into different memory capacities for respective areas. A semiconductor integrated circuit device, comprising at least two sub-array regions, wherein a memory capacity of the sub-array in the sub-array region decreases as the distance from a main word driver for driving a main word line of the memory array decreases.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記サブアレイ領域が2つの領域よりなり、それ
ぞれの前記サブアレイ領域に形成された前記複数のサブ
アレイのメモリ容量が同一であることを特徴とする半導
体集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said sub-array region comprises two regions, and said plurality of sub-arrays formed in each of said sub-array regions have the same memory capacity. Semiconductor integrated circuit device.
【請求項3】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記サブアレイ領域が3つの領域よりなり、それ
ぞれの前記サブアレイ領域に形成された前記複数のサブ
アレイのメモリ容量が同一であることを特徴とする半導
体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said sub-array region includes three regions, and said plurality of sub-arrays formed in each of said sub-array regions have the same memory capacity. Semiconductor integrated circuit device.
JP9266217A 1997-09-30 1997-09-30 Semiconductor integrated circuit device Pending JPH11111944A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010192052A (en) * 2009-02-19 2010-09-02 Hitachi Ulsi Systems Co Ltd Semiconductor device
US9053759B2 (en) 2011-11-25 2015-06-09 Ps4 Luxco S.A.R.L. Semiconductor device having plural selection lines

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