JPH11107160A - Transparent electroconductive fiber, transparent material for shielding electromagnetic wave and their production - Google Patents

Transparent electroconductive fiber, transparent material for shielding electromagnetic wave and their production

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JPH11107160A
JPH11107160A JP9267064A JP26706497A JPH11107160A JP H11107160 A JPH11107160 A JP H11107160A JP 9267064 A JP9267064 A JP 9267064A JP 26706497 A JP26706497 A JP 26706497A JP H11107160 A JPH11107160 A JP H11107160A
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JP
Japan
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transparent
metal oxide
transparent conductive
fiber
thin film
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JP9267064A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Nakatani
康弘 中谷
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a transparent electroconductive fiber having a high electroconductivity and excellent transparency, to provide a production method thereof, and to obtain a transparent material for shielding electromagnetic waves and to provide a method for producing the transparent material for shielding the electromagnetic waves. SOLUTION: This transparent electroconductive fiber is the one obtained by coating the surface of a glass fiber with a metal oxide thin membrane, and the metal oxide thin membrane has >=70% total light transmittance and >=10<-1> Ωcm specific resistance. The transparent material for shielding electromagnetic waves is obtained by allowing a resin having >=70% total light transmittance to include the transparent electroconductive fibers in the interior thereof and/or on the surface thereof so that the transparent electroconductive fibers may electrically keep contact with each other, and has >=60% total light transmittance. A production method thereof is also proposed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、高い導電性を有し
透明性に優れた透明導電性繊維及びその製造方法、並び
に、これを利用する透明性電磁波遮蔽材及びその製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent conductive fiber having high conductivity and excellent transparency, a method for producing the same, and a transparent electromagnetic wave shielding material utilizing the same and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】導電性繊維は、樹脂成形品等に導電性を
付与するための充填材として樹脂に添加されて、電子部
品等のほこり付着防止、静電障害防止、電磁波遮蔽等の
目的に使用されている。このような導電性繊維として
は、従来から、炭素繊維、金属繊維等の無機繊維;繊維
の表面を金属で被覆した繊維等が用いられているが、い
ずれも不透明なものであり、透明性を必要とする箇所に
おいては使用することができないものであった。
2. Description of the Related Art Conductive fibers are added to a resin as a filler for imparting conductivity to a resin molded product or the like, and are used for the purpose of preventing dust from adhering to electronic parts, preventing electrostatic interference, shielding electromagnetic waves, and the like. in use. Conventionally, as such conductive fibers, inorganic fibers such as carbon fibers and metal fibers; fibers in which the surface of the fibers is coated with a metal, and the like are used. It could not be used where needed.

【0003】導電性を有する透明な繊維として、ガラス
繊維が考えられ、ガラス繊維の透明性を損ねないように
導電性を付与するには、アルカリ金属を添加し、イオン
導電により導電性を付与することが行われているが、充
分な導電性を獲得するまでには至っていない。
Glass fibers are conceivable as transparent fibers having conductivity. To impart conductivity so as not to impair the transparency of glass fibers, an alkali metal is added and conductivity is imparted by ionic conductivity. However, this has not yet been achieved to obtain sufficient conductivity.

【0004】ところで、近年、OA機器及びその他電子
機器の発達により、電子機器のノイズや誤動作防止、電
磁波の人体に対する影響を防止するため、電磁波遮蔽効
果を有し且つ透明である材料が望まれている。これら
は、各種ディスプレイのフィルター、電子機器のシール
ド室ののぞき窓等の用途に供されるものである。
In recent years, with the development of OA equipment and other electronic equipment, in order to prevent noise and malfunction of electronic equipment and to prevent the influence of electromagnetic waves on the human body, a material having an electromagnetic wave shielding effect and being transparent is desired. I have. These are provided for use as filters for various displays, viewing windows for shielded rooms of electronic equipment, and the like.

【0005】従来、このような透視可能な電磁波遮蔽材
としては、導電性金属酸化物又は金属を透明材料にコー
トしたもの、導電性合成繊維網、ステンレス等の金網等
が用いられてきたが、いずれも強度や電磁波遮蔽効果が
充分でなかった。
Heretofore, as such a visible electromagnetic wave shielding material, a conductive metal oxide or a metal coated with a transparent material, a conductive synthetic fiber net, a wire net made of stainless steel, and the like have been used. None of them had sufficient strength or electromagnetic wave shielding effect.

【0006】特公平2−60496号公報には、金属メ
ッキ合成繊維紗をアクリル樹脂成形体内に埋設させて透
視性電磁波遮蔽材とする技術が開示されている。しか
し、金属メッキ合成繊維紗それ自身は透明ではないた
め、繊維を細くしても光を透過させるには限界があり、
これを通して見た表示装置の視認性は低く、ディスプレ
イや計器類の電磁波遮蔽用としては好適なものではなか
った。
Japanese Patent Publication No. 2-60496 discloses a technique in which a metal-plated synthetic fiber gauze is buried in an acrylic resin molded body to form a transparent electromagnetic wave shielding material. However, since metal-plated synthetic fiber gauze itself is not transparent, there is a limit in transmitting light even if the fiber is made thin.
The visibility of the display device seen through this was low, and it was not suitable for shielding electromagnetic waves of displays and instruments.

【0007】一方、透明性に優れた電磁波遮蔽材とし
て、蒸着、スパッタ等により透明導電性の金属酸化物層
を設けたガラス板、透明性樹脂シート、透明性樹脂フィ
ルム等が存在する。しかしながら、透明導電性の金属酸
化物層を設けたガラス板は、重量が重く、種々の形に成
形がしにくく、更に破損する危険性があることから、取
り扱い性、安全性等の点でも難点があった。
On the other hand, as an electromagnetic wave shielding material having excellent transparency, there are a glass plate, a transparent resin sheet, a transparent resin film, etc. provided with a transparent conductive metal oxide layer by vapor deposition, sputtering or the like. However, the glass plate provided with the transparent conductive metal oxide layer is heavy in weight, is difficult to be formed into various shapes, and has a risk of being damaged. was there.

【0008】また、透明性樹脂はガラスに比して軽く、
成形しやすく、破損しにくいが、蒸着、スパッタ等で透
明導電性の金属酸化物層を透明性樹脂上に直接設けた場
合、透明性樹脂と金属酸化物層との熱膨張の差により、
金属酸化物層にクラックが入り、層が不連続になり、電
磁波遮蔽効果が得られない欠点があった。更に、スパッ
タや蒸着は真空プロセスであり、生産性が悪く、高価な
設備を要するという欠点がある。
Further, the transparent resin is lighter than glass,
It is easy to mold and hard to break, but when a transparent conductive metal oxide layer is provided directly on the transparent resin by vapor deposition, sputtering, etc., due to the difference in thermal expansion between the transparent resin and the metal oxide layer,
Cracks are formed in the metal oxide layer, the layer becomes discontinuous, and there is a defect that an electromagnetic wave shielding effect cannot be obtained. Furthermore, sputtering and vapor deposition are disadvantageous in that they are vacuum processes, have low productivity, and require expensive equipment.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記に鑑
み、高い導電性を有し透明性に優れた透明導電性繊維及
びその製造方法、並びに、これを利用した透明性電磁波
遮蔽材及びその製造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, it is an object of the present invention to provide a transparent conductive fiber having high conductivity and excellent transparency, a method for producing the same, a transparent electromagnetic wave shielding material using the same, and a transparent electromagnetic wave shielding material using the same. It is intended to provide a manufacturing method.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明(本
発明1)は、ガラス繊維の表面を、金属酸化物薄膜で被
覆してなる透明導電性繊維であって、上記金属酸化物薄
膜は、全光線透過率が70%以上であり、比抵抗が10
-1Ωcm以下であるものであることを特徴とする透明導
電性繊維である。以下に本発明を詳述する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a transparent conductive fiber comprising a glass fiber surface coated with a metal oxide thin film. Has a total light transmittance of 70% or more and a specific resistance of 10
-1 Ωcm or less, which is a transparent conductive fiber. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0011】本発明1の透明導電性繊維は、ガラス繊維
の表面を、金属酸化物薄膜で被覆してなる。上記ガラス
繊維としては、公知のものを用いることができ、金属酸
化物薄膜で被覆されるのに適した材料が好ましく用いら
れる。このようなものとしては、例えば、アルカリ分の
少ないEガラス等が挙げられ、光を散乱させる泡や異物
の混入のないものが好ましく用いられる。
The transparent conductive fiber of the present invention 1 is obtained by coating the surface of a glass fiber with a metal oxide thin film. As the glass fiber, known materials can be used, and a material suitable for being coated with the metal oxide thin film is preferably used. As such a material, for example, E glass or the like having a small alkali content is used, and a material which does not contain light scattering bubbles or foreign matter is preferably used.

【0012】また、金属酸化物薄膜へのアルカリ金属イ
オンの拡散を防止するために、公知の方法によりガラス
繊維上にSiO2 等の皮膜をあらかじめ設けておいても
よい。上記ガラス繊維の径は、1〜100μmが好まし
く、短繊維でも長繊維でもよい。
Further, in order to prevent the diffusion of alkali metal ions into the metal oxide thin film, a coating such as SiO 2 may be previously provided on the glass fiber by a known method. The glass fiber preferably has a diameter of 1 to 100 μm, and may be a short fiber or a long fiber.

【0013】本発明1で用いられる金属酸化物薄膜は、
全光線透過率が70%以上であり、比抵抗が10-1Ωc
m以下である。上記全光線透過率が70%未満である
と、得られる透明導電性繊維の透明性が損なわれるの
で、上記範囲に限定される。上記比抵抗が10-1Ωcm
を超えると、得られる透明導電性繊維の電磁波遮蔽効果
が損なわれるので、上記範囲に限定される。
The metal oxide thin film used in the present invention 1 is
The total light transmittance is 70% or more, and the specific resistance is 10 -1 Ωc.
m or less. When the total light transmittance is less than 70%, the transparency of the obtained transparent conductive fiber is impaired, so that the above range is limited. The specific resistance is 10 -1 Ωcm
If it exceeds, the electromagnetic wave shielding effect of the obtained transparent conductive fiber is impaired, so that it is limited to the above range.

【0014】上記金属酸化物薄膜としては、全光線透過
率が70%以上であり、比抵抗が10-1Ωcm以下であ
るものであれば特に限定されず、例えば、酸化インジウ
ムに錫を添加したITO、酸化錫にアンチモンを添加し
たATO、酸化亜鉛にアルミニウムを添加したAZO等
からなるものが挙げられる。上記金属酸化物薄膜の膜厚
は、100〜5000Åが好ましい。100Å未満であ
ると導電性が充分でなくなり、5000Åを超えるとク
ラックが入りやすくなる。
The metal oxide thin film is not particularly limited as long as it has a total light transmittance of 70% or more and a specific resistance of 10 -1 Ωcm or less. For example, tin is added to indium oxide. Examples include ITO, ATO in which antimony is added to tin oxide, and AZO in which aluminum is added to zinc oxide. The thickness of the metal oxide thin film is preferably from 100 to 5000 °. If it is less than 100 °, the conductivity is not sufficient, and if it exceeds 5000 °, cracks tend to occur.

【0015】本発明1の透明導電性繊維の製造方法とし
ては、種々の方法を採用することができるが、例えば、
ガラス繊維にスパッタ法により透明導電性金属酸化物薄
膜を設けることにより作製できる。上記スパッタ法にお
いては、金属酸化物のターゲットを原料とし、ガラス繊
維をチャンバーにセットし減圧下で成膜する。その際、
ガラス繊維に均一な薄膜を作製するためには、スパッタ
装置のチャンバー内で、ガラス繊維を回転させながら成
膜するのが好ましい。スパッタの方式としては、公知の
方式が使用されてよく、また、プラズマやレーザー等を
使用したCVD法による成膜法等も用いることができ
る。
Various methods can be adopted as the method for producing the transparent conductive fiber of the present invention 1.
It can be manufactured by providing a transparent conductive metal oxide thin film on a glass fiber by a sputtering method. In the above sputtering method, a glass fiber is set in a chamber using a metal oxide target as a raw material, and a film is formed under reduced pressure. that time,
In order to form a uniform thin film on the glass fiber, it is preferable to form the film while rotating the glass fiber in a chamber of a sputtering apparatus. As a sputtering method, a known method may be used, and a film forming method by a CVD method using plasma, laser, or the like may also be used.

【0016】請求項2記載の発明は、本発明1の透明導
電性繊維を製造する方法であって、ガラス繊維の表面
に、金属酸化物前駆体の溶液を塗布し、その後処理する
ことにより金属酸化物薄膜を形成させることを特徴とす
る透明導電性繊維の製造方法である。この方法は、高価
な設備を必要とせず、生産性に優れている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for producing the transparent conductive fiber according to the first aspect of the present invention, wherein a solution of a metal oxide precursor is applied to the surface of a glass fiber, and the solution is then treated. A method for producing a transparent conductive fiber, comprising forming an oxide thin film. This method does not require expensive equipment and is excellent in productivity.

【0017】上記方法においては、まず、金属酸化物の
前駆体である化合物(金属酸化物前駆体)を溶解した溶
液をコーティング溶液とし、このコーティング溶液をガ
ラス繊維の表面に塗布する。
In the above method, first, a solution in which a compound (metal oxide precursor) which is a precursor of a metal oxide is dissolved is used as a coating solution, and this coating solution is applied to the surface of the glass fiber.

【0018】上記コーティング溶液は、それぞれ対応す
る金属元素の可溶性化合物から調製できる。例えば、酸
化インジウムに錫を添加したITO、酸化錫にアンチモ
ンを添加したATO、酸化亜鉛にアルミニウムを添加し
たAZOの各薄膜を得るために、それぞれ対応する金属
のアルコキシド、塩化物、硝酸塩、有機酸塩、錯体等の
溶液を上記コーティング溶液とする。これらのコーティ
ング溶液により、ITO膜、ATO膜、AZO膜等から
なる金属酸化物薄膜を得ることができる。
The above-mentioned coating solutions can be prepared from soluble compounds of the respective metal elements. For example, in order to obtain thin films of ITO in which tin is added to indium oxide, ATO in which antimony is added to tin oxide, and AZO in which zinc is added to aluminum, alkoxides, chlorides, nitrates, and organic acids of the corresponding metals are respectively provided. A solution of a salt, a complex, or the like is used as the coating solution. With these coating solutions, a metal oxide thin film composed of an ITO film, an ATO film, an AZO film, or the like can be obtained.

【0019】上記ITO膜を得るためのコーティング溶
液は、インジウムアルコキシド、塩化インジウム、硝酸
インジウム、有機酸インジウム、インジウム錯体からな
る群より選択される少なくとも1種と、錫アルコキシ
ド、塩化錫、有機酸錫、錫錯体からなる群より選択され
る少なくとも1種とを、アルコールや水等の溶媒に溶か
して調製することができる。
The coating solution for obtaining the above-mentioned ITO film comprises at least one selected from the group consisting of indium alkoxide, indium chloride, indium nitrate, indium organic acid and indium complex, and tin alkoxide, tin chloride and tin organic acid. And at least one selected from the group consisting of tin complexes in a solvent such as alcohol or water.

【0020】上記インジウムアルコキシドとしては特に
限定されず、例えば、インジウムトリメトキシド、イン
ジウムトリエトキシド、インジウムトリn−プロポキシ
ド、インジウムトリi−プロポキシド、インジウムトリ
n−ブトキシド、インジウムsec−ブトキシド、イン
ジウムt−ブトキシド等が挙げられる。上記塩化インジ
ウムとしては特に限定されず、水和物であっても、無水
物であってもよい。
The indium alkoxide is not particularly restricted but includes, for example, indium trimethoxide, indium triethoxide, indium tri-n-propoxide, indium tri-i-propoxide, indium tri-n-butoxide, indium sec-butoxide, Indium t-butoxide and the like can be mentioned. The indium chloride is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride.

【0021】上記硝酸インジウムとしては特に限定され
ず、水和物であっても、無水物であってもよい。上記有
機酸インジウムとしては特に限定されず、例えば、酢酸
インジウム、2−エチルヘキサン酸インジウム等が挙げ
られる。上記インジウム錯体としては特に限定されず、
例えば、トリアセチルアセトンインジウム等が挙げられ
る。
The indium nitrate is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride. The organic acid indium is not particularly limited, and includes, for example, indium acetate, indium 2-ethylhexanoate, and the like. The indium complex is not particularly limited,
For example, triacetylacetone indium and the like can be mentioned.

【0022】上記錫アルコキシドとしては特に限定され
ず、例えば、錫テトラメトキシド、錫テトラエトキシ
ド、錫テトラn−プロポキシド、錫テトラi−プロポキ
シド、錫テトラn−ブトキシド、錫テトラsec−ブト
キシド、錫テトラt−ブトキシド等が挙げられる。上記
塩化錫としては特に限定されず、例えば、塩化第一錫、
塩化第二錫、及び、それぞれの水和物、無水物等が挙げ
られる。また、塩化ブチル錫のような有機官能基を有す
る塩化物でもよい。
The above-mentioned tin alkoxide is not particularly restricted but includes, for example, tin tetramethoxide, tin tetraethoxide, tin tetra n-propoxide, tin tetra i-propoxide, tin tetra n-butoxide, tin tetra sec-butoxide. , Tin tetra-t-butoxide and the like. The tin chloride is not particularly limited, for example, stannous chloride,
Stannous chloride, and hydrates and anhydrides thereof, and the like can be mentioned. Further, a chloride having an organic functional group such as butyltin chloride may be used.

【0023】上記有機酸錫としては特に限定されず、例
えば、シュウ酸錫、2−エチルヘキサン酸錫、二酢酸ジ
n−ブチル錫、二ラウリル酸ジn−ブチル錫等が挙げら
れる。上記錫錯体としては特に限定されず、例えば、ジ
アセチルアセトンジブチル錫等が挙げられる。
The organic acid tin is not particularly limited, and examples thereof include tin oxalate, tin 2-ethylhexanoate, di-n-butyltin diacetate, and di-n-butyltin dilaurate. The tin complex is not particularly limited, and examples thereof include diacetylacetone dibutyltin.

【0024】上記ATO膜を得るためのコーティング溶
液は、錫アルコキシド、塩化錫、硝酸錫、有機酸錫、錫
錯体からなる群より選択される少なくとも1種と、アン
チモンアルコキシド、塩化アンチモン、アンチモン錯体
からなる群より選択される少なくとも1種とを、アルコ
ールや水等の溶媒に溶かして調製することができる。
The coating solution for obtaining the above-mentioned ATO film comprises at least one selected from the group consisting of tin alkoxide, tin chloride, tin nitrate, organic acid tin, and tin complex, and antimony alkoxide, antimony chloride, and antimony complex. It can be prepared by dissolving at least one selected from the group consisting of a solvent such as alcohol and water.

【0025】上記錫アルコキシド、塩化錫、硝酸錫、有
機酸錫、錫錯体としては、上述のものと同様のものが挙
げられる。上記アンチモンアルコキシドとしては特に限
定されず、例えば、アンチモンペンタメトキシド、アン
チモンペンタエトキシド、アンチモンペンタn−プロポ
キシド、アンチモンペンタi−プロポキシド、アンチモ
ンペンタn−ブトキシド、アンチモンペンタsec−ブ
トキシド、アンチモンペンタt−ブトキシド等が挙げら
れる。上記塩化アンチモンとしては特に限定されず、例
えば、三塩化アンチモン、五塩化アンチモン等が挙げら
れる。上記アンチモン錯体としては特に限定されず、例
えば、ジアセチルアセトンアンチモン等が挙げられる。
The above-mentioned tin alkoxide, tin chloride, tin nitrate, organic acid tin, and tin complex include those similar to those described above. The above-mentioned antimony alkoxide is not particularly limited. t-butoxide and the like. The antimony chloride is not particularly limited, and examples thereof include antimony trichloride and antimony pentachloride. The antimony complex is not particularly limited, and examples include diacetylacetone antimony.

【0026】上記AZO膜を得るためのコーティング溶
液は、亜鉛アルコキシド、塩化亜鉛、硝酸亜鉛、有機酸
亜鉛、亜鉛錯体からなる群より選択される少なくとも1
種と、アルミニウムアルコキシド、塩化アルミニウム、
硝酸アルミニウム、有機酸アルミニウム、アルミニウム
錯体からなる群より選択される少なくとも1種とを、ア
ルコールや水等の溶媒に溶かして調製することができ
る。
The coating solution for obtaining the AZO film is at least one selected from the group consisting of zinc alkoxide, zinc chloride, zinc nitrate, zinc organic acid, and zinc complex.
Species and aluminum alkoxide, aluminum chloride,
It can be prepared by dissolving at least one selected from the group consisting of aluminum nitrate, organic acid aluminum, and aluminum complex in a solvent such as alcohol or water.

【0027】上記亜鉛アルコキシドとしては特に限定さ
れず、例えば、亜鉛ジメトキシド、亜鉛ジエトキシド、
亜鉛ジn−プロポキシド、亜鉛ジi−プロポキシド、亜
鉛ジn−ブトキシド、亜鉛ジsec−ブトキシド、亜鉛
ジt−ブトキシド等が挙げられる。上記塩化亜鉛として
は特に限定されず、水和物であっても、無水物であって
もよい。
The zinc alkoxide is not particularly restricted but includes, for example, zinc dimethoxide, zinc diethoxide,
Examples thereof include zinc di-n-propoxide, zinc di-i-propoxide, zinc di-n-butoxide, zinc disec-butoxide, and zinc di-t-butoxide. The zinc chloride is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride.

【0028】上記硝酸亜鉛としては特に限定されず、水
和物であっても、無水物であってもよい。上記有機酸亜
鉛としては特に限定されず、例えば、酢酸亜鉛、シュウ
酸亜鉛、べンジル酸亜鉛、2−エチルヘキサン酸亜鉛等
が挙げられる。上記亜鉛錯体としては特に限定されず、
例えば、ジアセチルアセトン錫等が挙げられる。
The zinc nitrate is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride. The organic zinc acid is not particularly limited, and examples thereof include zinc acetate, zinc oxalate, zinc benzylate, zinc 2-ethylhexanoate, and the like. The zinc complex is not particularly limited,
Examples include tin diacetylacetone.

【0029】上記アルミニウムアルコキシドとしては特
に限定されず、例えば、アルミニウムトリメトキシド、
アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリn−プ
ロポキシド、アルミニウムトリi−プロポキシド、アル
ミニウムトリn−ブトキシド、アルミニウムsec−ブ
トキシド、アルミニウムt−ブトキシド等が挙げられ
る。上記塩化アルミニウムとしては特に限定されず、水
和物であっても、無水物であってもよい。
The aluminum alkoxide is not particularly restricted but includes, for example, aluminum trimethoxide,
Examples include aluminum triethoxide, aluminum tri-n-propoxide, aluminum tri-i-propoxide, aluminum tri-n-butoxide, aluminum sec-butoxide, and aluminum t-butoxide. The aluminum chloride is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride.

【0030】上記硝酸アルミニウムとしては特に限定さ
れず、水和物であっても、無水物であってもよい。上記
有機酸アルミニウムとしては特に限定されず、例えば、
ラウリル酸アルミニウム等が挙げられる。上記アルミニ
ウム錯体としては特に限定されず、例えば、トリアセチ
ルアセトンアルミニウム等が挙げられる。
The aluminum nitrate is not particularly limited, and may be a hydrate or an anhydride. The organic acid aluminum is not particularly limited, for example,
Aluminum laurate and the like can be mentioned. The aluminum complex is not particularly restricted but includes, for example, aluminum triacetylacetone.

【0031】上記コーティング溶液は、必要に応じて、
酸等で加水分解をしたり、コーティングし易いように公
知の結合剤が添加されてよい。また、膜が結晶化し易い
ように種結晶を添加してもよいが、その際は、膜の透過
率を損なわないようにするために種結晶の粒径や添加量
に注意する必要がある。上記コーティング溶液の調製に
は、必要に応じて、攪拌、加熱、環流、冷却等の操作を
行う。
The above-mentioned coating solution is optionally used,
A known binder may be added for hydrolysis with an acid or the like or for easy coating. In addition, a seed crystal may be added so that the film is easily crystallized. In that case, however, it is necessary to pay attention to the particle size and the amount of the seed crystal so as not to impair the transmittance of the film. In preparing the coating solution, operations such as stirring, heating, reflux, and cooling are performed as necessary.

【0032】上記コーティング溶液をガラス繊維に塗布
する方法としては特に限定されず、公知の方法が用いら
れてよい。例えば、刷毛等で塗ってもよいし、スプレー
してもよい。簡単な方法としては、ガラス繊維をコーテ
ィング溶液中に連続的にくぐらせる方法がある。
The method for applying the coating solution to the glass fiber is not particularly limited, and a known method may be used. For example, you may apply with a brush etc. and may spray. As a simple method, there is a method in which glass fibers are continuously passed through a coating solution.

【0033】上記透明導電性繊維の製造方法において
は、上記のようにしてガラス繊維の表面に上記コーティ
ング溶液を塗布した後、処理することにより金属酸化物
薄膜を形成させる。上記処理とは、乾燥、熱処理等の、
金属酸化物前駆体被膜を得るための処理、その後に行う
加熱及び/又は光照射等の、金属酸化物前駆体を金属酸
化物に変化させて透明で導電性のある金属酸化物薄膜を
得るための処理等を含むものである。
In the above method for producing a transparent conductive fiber, the coating solution is applied to the surface of the glass fiber as described above, and then processed to form a metal oxide thin film. The above treatments include drying, heat treatment, etc.
To obtain a transparent and conductive metal oxide thin film by converting the metal oxide precursor into a metal oxide, such as a treatment for obtaining a metal oxide precursor coating and subsequent heating and / or light irradiation. And the like.

【0034】上記方法において用いられるガラス繊維
は、連続して塗布する場合には、処理効率の点から長繊
維が好ましく、必要に応じて、コーティング溶液が塗布
しやすいように、洗浄、アルカリ処理等の前処理がされ
てよい。
When the glass fibers used in the above method are applied continuously, long fibers are preferred from the viewpoint of processing efficiency, and if necessary, washing, alkali treatment, etc., so that the coating solution can be easily applied. May be pre-processed.

【0035】上記乾燥の方法としては特に限定されず、
公知の方法が用いられてよく、例えば、自然乾燥でもよ
いし、必要に応じて、熱、風、熱風、熱線等を利用して
もよい。
The drying method is not particularly limited.
A known method may be used. For example, air drying may be used, or heat, wind, hot air, hot wire, or the like may be used as needed.

【0036】上記加熱の方法としては特に限定されず、
公知の加熱、焼成方法が使用されてよく、例えば、オー
ブンやマッフル炉等を用いた方法、抵抗発熱体や遠赤外
線ヒーター等による直接的な加熱方法、マイクロ波等に
よる加熱方法等が挙げられる。
The heating method is not particularly limited.
Known heating and firing methods may be used, and examples include a method using an oven or a muffle furnace, a direct heating method using a resistance heating element or a far-infrared heater, a heating method using a microwave, or the like.

【0037】上記光照射に用いられる光源としては特に
限定されず、例えば、炭酸ガス、YAG、エキシマ等の
レーザー;低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ等の水銀ラ
ンプ;メタルハライドランプ等の紫外線ランプ;エキシ
マランプ等の真空紫外線ランプ等が挙げられる。
The light source used for the light irradiation is not particularly limited, and examples thereof include lasers such as carbon dioxide, YAG, and excimer; mercury lamps such as low-pressure mercury lamps and high-pressure mercury lamps; ultraviolet lamps such as metal halide lamps; And the like.

【0038】上記加熱及び上記光照射の操作は、双方を
同時に又は順に行ってもよいし、それぞれ単独で行って
もよい。また、コーティング溶液塗布後、乾燥しないま
ま光照射を行ってもよい。
The operations of the heating and the light irradiation may be performed simultaneously or sequentially, or may be performed independently. After the coating solution is applied, light irradiation may be performed without drying.

【0039】上記加熱及び上記光照射のプロセスは、必
要に応じて、その雰囲気を空気中;窒素やアルゴン等の
不活性なガス雰囲気;減圧雰囲気等で行ってよい。ま
た、必要に応じて、アニーリング等を行ってよい。
The above-mentioned heating and light irradiation processes may be carried out in an atmosphere of air; an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon; Further, annealing or the like may be performed as necessary.

【0040】上記加熱及び上記光照射の条件は、金属酸
化物及び金属酸化物前駆体の種類等により適宜選択され
る。ガラス繊維にかかる温度は、レーザー光を照射する
場合のように局所的に加熱させる場合を除いて、オーブ
ン等を使用した場合、500℃以下が好ましい。
The conditions of the heating and the light irradiation are appropriately selected depending on the type of the metal oxide and the metal oxide precursor. The temperature applied to the glass fiber is preferably 500 ° C. or less when an oven or the like is used, except for the case where the glass fiber is locally heated such as when irradiating a laser beam.

【0041】これらの処理を連続的に行うには、例え
ば、図1に示すように、ガラス繊維を連続的に送りなが
ら、コーティング溶液中をくぐらせ、熱風で乾燥し、光
を照射しながら加熱し、窒素雰囲気のアニール炉を通
し、冷却し巻き取ることにより本発明の透明導電性繊維
を得る方法等が挙げられる。
In order to carry out these treatments continuously, for example, as shown in FIG. 1, the glass fibers are continuously fed, passed through the coating solution, dried with hot air, and heated while irradiating light. Then, a method of obtaining the transparent conductive fiber of the present invention by passing through an annealing furnace in a nitrogen atmosphere, and cooling and winding the same is cited.

【0042】請求項3記載の発明(本発明2)は、全光
線透過率が70%以上である樹脂成形体の内部及び/又
は表面に、複数の透明導電性繊維を電気的に接触するよ
うに設けてなり、全光線透過率が60%以上である透明
性電磁波遮蔽材であって、上記透明導電性繊維は、ガラ
ス繊維の表面を、金属酸化物薄膜で被覆してなるもので
あり、上記金属酸化物薄膜は、全光線透過率が70%以
上であり、比抵抗が10-1Ωcm以下であるものである
ことを特徴とする透明性電磁波遮蔽材である。
According to a third aspect of the present invention (invention 2), a plurality of transparent conductive fibers are brought into electrical contact with the inside and / or the surface of a resin molded product having a total light transmittance of 70% or more. A transparent electromagnetic wave shielding material having a total light transmittance of 60% or more, wherein the transparent conductive fiber is formed by coating the surface of a glass fiber with a metal oxide thin film, The metal oxide thin film is a transparent electromagnetic wave shielding material characterized in that the total light transmittance is 70% or more and the specific resistance is 10 -1 Ωcm or less.

【0043】本発明2で用いられる樹脂成形体は、全光
線透過率が70%以上の透明樹脂成形体である。全光線
透過率が70%未満であると、得られる透明性電磁波遮
蔽材の全光線透過率を60%以上とするのが困難となる
ため、上記範囲に限定される。
The resin molded article used in the present invention 2 is a transparent resin molded article having a total light transmittance of 70% or more. When the total light transmittance is less than 70%, it is difficult to make the total light transmittance of the obtained transparent electromagnetic wave shielding material equal to or more than 60%, so that the above range is limited.

【0044】上記透明樹脂成形体としては、全光線透過
率が70%以上のものであれば特に限定されず、例え
ば、塩化ビニル系樹脂成形体、アクリル系樹脂成形体、
ポリカーボネート系樹脂成形体等が挙げられる。
The transparent resin molded article is not particularly limited as long as it has a total light transmittance of 70% or more. For example, a vinyl chloride resin molded article, an acrylic resin molded article,
Polycarbonate-based resin molded articles and the like can be mentioned.

【0045】本発明2で用いられる透明導電性繊維は、
ガラス繊維の表面を、金属酸化物薄膜で被覆してなるも
のであり、上記金属酸化物薄膜は、全光線透過率が70
%以上であり、比抵抗が10-1Ωcm以下であるもので
ある。上記金属酸化物薄膜の全光線透過率が70%未満
であると、得られる電磁波遮蔽材の全光線透過率を60
%以上とするのが困難となるため、上記範囲に限定され
る。
The transparent conductive fiber used in the present invention 2 comprises:
The surface of the glass fiber is coated with a metal oxide thin film, and the metal oxide thin film has a total light transmittance of 70%.
% Or more, and the specific resistance is 10 -1 Ωcm or less. When the total light transmittance of the metal oxide thin film is less than 70%, the total light transmittance of the obtained electromagnetic wave shielding material is 60%.
% Or more, it is difficult to set the ratio to not less than the above range.

【0046】上記金属酸化物薄膜の比抵抗が10-1Ωc
mを超えると、電磁波遮蔽性能が得られないため、上記
範囲に限定される。上記透明導電性繊維としては、本発
明1の透明導電性繊維の説明の項において説明したもの
を用いることができる。
The specific resistance of the metal oxide thin film is 10 -1 Ωc.
When m exceeds m, the electromagnetic wave shielding performance cannot be obtained, so that it is limited to the above range. As the transparent conductive fiber, those described in the section of the description of the transparent conductive fiber of the first aspect of the present invention can be used.

【0047】本発明2の透明性電磁波遮蔽材は、透明樹
脂成形体の内部及び/又は表面に、複数の透明導電性繊
維を電気的に接触するように設けてなる。上記透明樹脂
成形体の内部及び/又は表面とは、上記透明樹脂成形体
の内部のみであってもよいし、表面のみであってもよい
し、内部と表面の両方であってもよい。
The transparent electromagnetic wave shielding material of the second aspect of the present invention is provided on the inside and / or the surface of the transparent resin molded body so as to electrically contact a plurality of transparent conductive fibers. The inside and / or the surface of the transparent resin molded body may be only the inside of the transparent resin molded body, may be only the surface, or may be both the inside and the surface.

【0048】上記複数の透明導電性繊維を、上記透明樹
脂成形体の内部及び/又は表面に電気的に接触するよう
に設けるには、上記透明導電性繊維を並行に並べてもよ
いし、交差させて並べてもよい。設ける透明導電性繊維
の量が少なすぎると充分な電磁波遮蔽効果が得られなく
なる。また、上記透明導電性繊維を織布にして用いても
よい。
In order to provide the plurality of transparent conductive fibers so as to be in electrical contact with the inside and / or the surface of the transparent resin molded body, the transparent conductive fibers may be arranged in parallel or crossed. May be arranged. If the amount of the transparent conductive fibers provided is too small, a sufficient electromagnetic wave shielding effect cannot be obtained. Further, the transparent conductive fiber may be used as a woven fabric.

【0049】上記複数の透明導電性繊維又はその織布を
上記透明樹脂成形体の内部及び/又は表面に設ける方法
としては特に限定されず、上記透明樹脂成形体の平板等
に挟み込み、プレス成形する方法;粘着剤等により上記
透明樹脂成形体表面に貼る付ける方法;上記透明導電性
織布を型の中にあらかじめ設置して注型成形、射出成
形、多層押出成形等の成形を行う方法等が挙げられる。
上記透明樹脂成形体と上記透明導電性繊維又はその織布
とをこのように一体化することにより、部材としての強
度を上げることができる。
The method of providing the plurality of transparent conductive fibers or the woven fabric thereof inside and / or on the surface of the transparent resin molded body is not particularly limited, and the transparent conductive fiber is sandwiched between flat plates of the transparent resin molded body and press-molded. Method: A method of sticking to the surface of the transparent resin molded article with an adhesive or the like; a method of previously setting the transparent conductive woven fabric in a mold and performing molding such as cast molding, injection molding, and multilayer extrusion molding. No.
By integrating the transparent resin molded body and the transparent conductive fiber or its woven fabric in this manner, the strength as a member can be increased.

【0050】本発明2の透明性電磁波遮蔽材の全光線透
過率は、60%以上である。全光線透過率が60%未満
であると、透過してくる光量が少なく、これを通して見
る画像の視認性が良くないため、上記範囲に限定され
る。
The total light transmittance of the transparent electromagnetic wave shielding material of the present invention 2 is 60% or more. If the total light transmittance is less than 60%, the amount of transmitted light is small, and the visibility of an image viewed therethrough is not good.

【0051】本発明2の透明性電磁波遮蔽材は、上記透
明導電性繊維を上記透明樹脂成形体上に直接設けた場合
に比べて耐久性に優れており、外部から力が加わっても
電気的接触を確保し、電磁波遮蔽性能が保たれる。ま
た、上記透明導電性繊維は、ガラス繊維を基材として金
属酸化物薄膜で被覆しているので、熱膨張の差が小さく
クラックが入りにくく、クラックが入ったとしても連続
膜のように面を横断して走ることがなく、部材全体から
見たときの導電性が保たれる。
The transparent electromagnetic wave shielding material of the present invention 2 is superior in durability as compared with the case where the above-mentioned transparent conductive fiber is directly provided on the above-mentioned transparent resin molded article, and is electrically conductive even when an external force is applied. Contact is ensured, and electromagnetic wave shielding performance is maintained. In addition, since the transparent conductive fiber is coated with a metal oxide thin film using glass fiber as a base material, the difference in thermal expansion is small and cracks are unlikely to occur, and even if cracks are formed, the surface is like a continuous film. It does not run across, maintaining conductivity when viewed from the entire member.

【0052】上記透明導電性繊維は、繊維自身が透明で
あるため全光線透過率が70%以上である上記透明樹脂
成形体と一体化してもその透明性を損なうことはない。
Since the transparent conductive fiber itself is transparent, the transparency is not impaired even when integrated with the transparent resin molding having a total light transmittance of 70% or more.

【0053】上記透明性電磁波遮蔽材は、使用する際に
導電性のガラス繊維部が電気的に接地されるのが好まし
い。
When the transparent electromagnetic wave shielding material is used, the conductive glass fiber portion is preferably electrically grounded.

【0054】本発明2の透明性電磁波遮蔽材の製造方法
としては特に限定されず、例えば、ガラス繊維にスパッ
タ法等により透明導電性金属酸化物薄膜を設けることに
より透明導電性繊維を製造し、複数の透明導電性の繊維
を透明樹脂成形体の内部及び/又は表面に設ける方法等
が挙げられる。
The method for producing the transparent electromagnetic wave shielding material of the present invention 2 is not particularly limited. For example, a transparent conductive fiber is produced by providing a transparent conductive metal oxide thin film on a glass fiber by sputtering or the like. A method in which a plurality of transparent conductive fibers are provided inside and / or on the surface of a transparent resin molded article is exemplified.

【0055】請求項4記載の発明は、本発明2の透明性
電磁波遮蔽材を製造する方法であって、透明導電性繊維
を製造するにあたって、ガラス繊維の表面に、コーティ
ング溶液を塗布し、その後処理することにより金属酸化
物薄膜を形成させ、複数の透明導電性繊維を電気的に接
触するように設けるにあたって、前記透明導電性繊維の
織布を用いる透明性電磁波遮蔽材の製造方法である。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for producing the transparent electromagnetic wave shielding material according to the second aspect of the present invention. In producing a transparent conductive fiber, a coating solution is applied to the surface of the glass fiber, This is a method for producing a transparent electromagnetic wave shielding material using a woven fabric of the transparent conductive fiber when forming a metal oxide thin film by treatment and providing a plurality of transparent conductive fibers in electrical contact.

【0056】上記方法において、透明導電性繊維を製造
するには、まず、ガラス繊維の表面にコーティング溶液
を塗布する。その後、必要に応じて、乾燥、熱処理等を
行い、金属酸化物前駆体被膜を得、更に、加熱及び/又
は光照射等の処理を行い、透明で導電性のある金属酸化
物薄膜を得る。
In the above method, in order to produce a transparent conductive fiber, first, a coating solution is applied to the surface of the glass fiber. Thereafter, if necessary, drying, heat treatment, and the like are performed to obtain a metal oxide precursor coating, and further, treatment such as heating and / or light irradiation is performed to obtain a transparent and conductive metal oxide thin film.

【0057】上記方法においては、複数の透明導電性繊
維を電気的に接触するように設けるために、上記透明導
電性繊維を織布にして用いる。このことにより、電気的
接触を確実にすることができ、また、織布の織り方によ
って透明樹脂成形体の内部及び/又は表面に設けられる
複数の透明導電性繊維の密度を制御することができる。
In the above method, in order to provide a plurality of transparent conductive fibers so as to be in electrical contact with each other, the transparent conductive fibers are used as a woven fabric. Thus, electrical contact can be ensured, and the density of the plurality of transparent conductive fibers provided inside and / or on the surface of the transparent resin molded body can be controlled by weaving the woven fabric. .

【0058】上記透明導電性織布は、ガラス繊維にコー
ティング溶液を塗布して透明導電性繊維を作製し、その
後、織布にしてもよいし、コーティング溶液をガラス繊
維の織布に塗布して透明導電性織布を作製してもよい。
これらの処理を連続的に行うには、例えば、図1及び図
2に示すように ガラス繊維又は織布を連続的に送りな
がら、コーティング溶液中をくぐらせ、熱風で乾燥し、
光を照射しながら加熱し、窒素雰囲気のアニール炉を通
し、冷却し巻き取ることにより本発明の透明導電性繊維
を得る方法等が挙げられる。
The transparent conductive woven fabric may be prepared by applying a coating solution to glass fiber to produce a transparent conductive fiber and then forming the woven fabric, or by applying the coating solution to a glass fiber woven fabric. A transparent conductive woven fabric may be produced.
In order to carry out these treatments continuously, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, while continuously feeding glass fiber or woven fabric, it is passed through a coating solution, dried with hot air,
A method of obtaining the transparent conductive fiber of the present invention by heating while irradiating light, passing through an annealing furnace in a nitrogen atmosphere, cooling, and winding the same is exemplified.

【0059】処理効率の点からは、ガラス繊維の織布に
金属酸化物薄膜を形成させる処理をした方がよいが、織
布の繊維と繊維との隙間が狭い場合には、コーティング
液が溜まり、処理後に透明性が悪くなる可能性があるた
め、ガラス繊維に金属酸化物薄膜を形成させた後に、織
布にする方がより好ましい。
From the viewpoint of processing efficiency, it is better to perform a process of forming a metal oxide thin film on a woven fabric of glass fiber. However, when the gap between the fibers of the woven fabric is narrow, the coating liquid is accumulated. Since the transparency may be deteriorated after the treatment, it is more preferable to form a woven fabric after forming the metal oxide thin film on the glass fiber.

【0060】上記ガラス繊維を織布にする方法として
は、織機等による公知の方法が用いられ、例えば、平
織、あや織等の織り方が挙げられる。なかでも、メッシ
ュ状、ネット状に織られ、繊維と繊維とがつくる隙間の
面積の全面積に対する割合である開孔率が50%以上で
あるものが好ましい。
As a method for converting the above glass fibers into a woven fabric, a known method using a loom or the like is used, and examples thereof include plain weave and twill weave. Among them, those which are woven in a mesh shape or a net shape and have a pore ratio of 50% or more, which is a ratio of the area of the gap formed by the fibers to the total area, are preferable.

【0061】[0061]

【実施例】以下に本発明の実施例を掲げて更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0062】実施例1 Eガラスの長繊維を、図3のように治具にセットし、ス
パッタ装置のチャンバー内にセットした。ガラス繊維を
回転させながら3mm/分の速度で送りながらITO
(酸化錫が5%ドープされた酸化インジウム)をターゲ
ットとして13.56MHzの高周波を投入し、チャン
バー内圧力5×10-3Torrでスパッタし、ガラス繊
維の表面にITO薄膜が形成された導電性繊維を作製し
た。ITO薄膜の膜厚、薄膜の全光線透過率、比抵抗を
下記の方法により測定し、表1に示した。
Example 1 A long fiber of E glass was set in a jig as shown in FIG. 3 and set in a chamber of a sputtering apparatus. ITO while sending glass fiber at a speed of 3 mm / min while rotating
(Indium oxide doped with 5% of tin oxide) as a target, a high frequency of 13.56 MHz is supplied, and sputtering is performed at a pressure of 5 × 10 −3 Torr in the chamber, and a conductive film having an ITO thin film formed on the surface of glass fiber is formed. A fiber was made. The thickness of the ITO thin film, the total light transmittance of the thin film, and the specific resistance were measured by the following methods, and are shown in Table 1.

【0063】得られた導電性繊維を長さ1mmに切断
し、短繊維とした。メタクリルアクリル酸メチル100
重量部に対し、0.1重量部のベンゾイルパーオキサイ
ドを添加し、上記導電性繊維を15重量部添加し、混合
した。これにベンゾイルパーオキサイドを0.8重量部
添加し、注型して厚さ2mmの板状の樹脂成形体試料を
作製した。この樹脂成形体試料の全光線透過率を下記の
方法により測定し、結果を表1に示した。
The obtained conductive fiber was cut into a length of 1 mm to obtain a short fiber. Methyl methacrylate 100
With respect to parts by weight, 0.1 parts by weight of benzoyl peroxide was added, and 15 parts by weight of the conductive fiber was added and mixed. To this was added 0.8 parts by weight of benzoyl peroxide, and the mixture was cast to prepare a plate-shaped resin molded article sample having a thickness of 2 mm. The total light transmittance of this resin molded product sample was measured by the following method, and the results are shown in Table 1.

【0064】(金属酸化物薄膜の膜厚測定)得られた導
電性繊維の断面をSEM観察し、膜厚を測定した。 (薄膜の全光線透過率)ガラス板上に実施例でガラス繊
維上に被覆した金属酸化物薄膜と同じ金属酸化物薄膜を
同じ膜厚で作製し、ASTM D−1003の方法で全
光線透過率を測定した。あらかじめ測定しておいたガラ
ス板の全光線透過率を100%とし、測定値を換算した
ものを膜の全光線透過率とした。 (薄膜の比抵抗)全光線透過率を測定した試料を用い
て、4探針法で抵抗値を測定した。抵抗値を膜断面積で
除して比抵抗とした。 (全光線透過率)樹脂成形体試料の全光線透過率をAS
TM D−1003の方法で測定した。
(Measurement of Film Thickness of Metal Oxide Thin Film) The cross section of the obtained conductive fiber was observed by SEM to measure the film thickness. (Total light transmittance of thin film) A metal oxide thin film having the same thickness as the metal oxide thin film coated on the glass fiber in the example was prepared on a glass plate, and the total light transmittance was determined by the method of ASTM D-1003. Was measured. The total light transmittance of the glass plate, which was measured in advance, was defined as 100%, and the measured value was converted to the total light transmittance of the film. (Specific Resistance of Thin Film) A resistance value was measured by a four-probe method using a sample whose total light transmittance was measured. The resistance was divided by the film cross-sectional area to obtain a specific resistance. (Total light transmittance) The total light transmittance of the resin molded product sample was determined by AS
It was measured by the method of TM D-1003.

【0065】実施例2 イソプロピルアルコール65重量部にアセチルアセトン
10重量部を加え攪拌し、インジウムトリn−ブトキシ
ド8.0重量部、錫テトラn−ブトキシド0.7重量部
を加えた。さらに、0.1N塩酸2.5重量部をイソプ
ロピルアルコール13.8重量部に混合したものを添加
し、室温で攪拌し、コーティング溶液とした。
Example 2 To 65 parts by weight of isopropyl alcohol, 10 parts by weight of acetylacetone were added and stirred, and 8.0 parts by weight of indium tri-n-butoxide and 0.7 parts by weight of tin tetra-n-butoxide were added. Further, a mixture of 2.5 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid and 13.8 parts by weight of isopropyl alcohol was added, and the mixture was stirred at room temperature to obtain a coating solution.

【0066】上記コーティング溶液にEガラスからなる
外径0.1mmガラス繊維を浸し引き上げ、100℃に
設定されたオーブンで30分乾燥し、窒素雰囲気中で9
0Wの低圧水銀灯を照射しながら450℃に加熱し、2
時間焼成、更に、低圧水銀灯の照射や、250℃窒素雰
囲気中で1時間アニールし、ガラス繊維の表面にITO
薄膜が形成された導電性繊維を作製した。得られたIT
O薄膜の膜厚、全光線透過率、比抵抗を実施例1と同様
にして測定し、結果を表1に示した。実施例1と同様に
得られた導電性繊維を樹脂に添加し、樹脂成形体試料を
作製した。樹脂成形体試料の全光線透過率を実施例1と
同様にして測定し、結果を表1に示した。
Glass fiber made of E glass having an outer diameter of 0.1 mm was dipped in the coating solution, pulled up, dried in an oven set at 100 ° C. for 30 minutes, and dried in a nitrogen atmosphere for 9 minutes.
Heat to 450 ° C while irradiating with a 0 W low pressure mercury lamp,
Time firing, irradiation with a low-pressure mercury lamp, annealing in a nitrogen atmosphere at 250 ° C for 1 hour, and ITO on the glass fiber surface
A conductive fiber on which a thin film was formed was produced. IT obtained
The thickness, total light transmittance, and specific resistance of the O thin film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. The conductive fiber obtained in the same manner as in Example 1 was added to the resin to prepare a resin molded product sample. The total light transmittance of the resin molded product sample was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

【0067】実施例3 イソプロピルアルコール65重量部にアセチルアセトン
10重量部を加え攪拌し、錫テトラn−ブトキシド7.
2重量部、アンチモンペンタn−ブトキシド1.5重量
部を加えた。更に、0.1N塩酸2.3重量部をイソプ
ロピルアルコール14.0重量部に混合したものを添加
し、室温で攪拌しコーティング溶液とした。上記コーテ
ィング溶液を実施例2と同様に処理し、ガラス繊維の表
面にATO薄膜が形成された導電性繊維を作製した。得
られたATO薄膜の膜厚、全光線透過率、比抵抗を実施
例1と同様にして測定し、結果を表1に示した。実施例
1と同様に、得られた導電性繊維を樹脂に添加し、樹脂
成形体試料を作製した。樹脂成形体試料の全光線透過率
を表1に示した。
Example 3 10 parts by weight of acetylacetone was added to 65 parts by weight of isopropyl alcohol, and the mixture was stirred to obtain tin tetra n-butoxide.
2 parts by weight and 1.5 parts by weight of antimony penta n-butoxide were added. Further, a mixture obtained by mixing 2.3 parts by weight of 0.1N hydrochloric acid with 14.0 parts by weight of isopropyl alcohol was added and stirred at room temperature to obtain a coating solution. The above coating solution was treated in the same manner as in Example 2 to produce a conductive fiber having an ATO thin film formed on the surface of a glass fiber. The thickness, total light transmittance and specific resistance of the obtained ATO thin film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, the obtained conductive fiber was added to the resin to prepare a resin molded article sample. Table 1 shows the total light transmittance of the resin molded product sample.

【0068】実施例4 図4に示したような装置で金属酸化物皮膜を有するガラ
ス繊維を作製した。Eガラスからなる径30μmのガラ
ス繊維を実施例2で調製したコーティング溶液の中をく
ぐらせ、温風式の乾燥炉で乾燥し、炭酸ガスレーザーを
エネルギー密度0.3W/mm2 で照射し、冷却しなが
ら巻き取り、ガラス繊維の表面にITO薄膜が形成され
た導電性繊維を作製した。得られたITO薄膜の膜厚、
全光線透過率、比抵抗を実施例1と同様にして測定し、
結果を表1に示した。実施例1と同様に、得られた導電
性繊維を樹脂に添加し、樹脂成形体試料を作製した。樹
脂成形体試料の全光線透過率を表1に示した。
Example 4 A glass fiber having a metal oxide film was produced using an apparatus as shown in FIG. A glass fiber having a diameter of 30 μm made of E glass was passed through the coating solution prepared in Example 2, dried in a hot-air drying oven, and irradiated with a carbon dioxide gas laser at an energy density of 0.3 W / mm 2 . Winding was performed while cooling, to prepare a conductive fiber having an ITO thin film formed on the surface of a glass fiber. Thickness of the obtained ITO thin film,
The total light transmittance and the specific resistance were measured in the same manner as in Example 1,
The results are shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, the obtained conductive fiber was added to the resin to prepare a resin molded article sample. Table 1 shows the total light transmittance of the resin molded product sample.

【0069】実施例5 図5に示したような装置で金属酸化物皮膜を有するガラ
ス繊維を作製した。Eガラスからなる径30μmのガラ
ス繊維を実施例2で調製したコーティング溶液の中をく
ぐらせ、温風式の乾燥炉で乾燥し、Xe2 エキシマラン
プを照射しながら250℃に加熱する加熱炉中を通し、
冷却しながら巻き取り、ガラス繊維の表面にITO薄膜
が形成された導電性繊維を作製した。得られたITO薄
膜の膜厚、全光線透過率、比抵抗を実施例1と同様にし
て測定し、結果を表1に示した。実施例1と同様に、得
られた導電性繊維を樹脂に添加し、樹脂成形体試料を作
製した。樹脂成形体試料の全光線透過率を表1に示し
た。
Example 5 A glass fiber having a metal oxide film was produced using an apparatus as shown in FIG. A glass fiber having a diameter of 30 μm made of E glass is passed through the coating solution prepared in Example 2, dried in a hot-air drying furnace, and heated to 250 ° C. while irradiating with a Xe 2 excimer lamp. Through
Winding was performed while cooling, to prepare a conductive fiber having an ITO thin film formed on the surface of a glass fiber. The thickness, total light transmittance and specific resistance of the obtained ITO thin film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, the obtained conductive fiber was added to the resin to prepare a resin molded article sample. Table 1 shows the total light transmittance of the resin molded product sample.

【0070】比較例1 径45μmのポリエステル繊維にNiを無電解メッキし
た繊維を作製した。このもののNi薄膜の膜厚、全光線
透過率、比抵抗を実施例1と同様にして測定し、結果を
表1に示した。実施例1と同様に、得られた繊維を樹脂
に添加し、樹脂成形体試料を作製した。樹脂成形体試料
の全光線透過率を表1に示した。
Comparative Example 1 A polyester fiber having a diameter of 45 μm was electrolessly plated with Ni to produce a fiber. The thickness, total light transmittance and specific resistance of the Ni thin film were measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. In the same manner as in Example 1, the obtained fiber was added to the resin to prepare a resin molded article sample. Table 1 shows the total light transmittance of the resin molded product sample.

【0071】比較例2 ガラスにアルカリ成分が添加されたソーダ石灰ガラスで
ガラス繊維を作製した。ガラス自身の比抵抗は、2.0
×108 Ωcmであった。実施例1と同様に、得られた
ガラス繊維を樹脂に添加し、樹脂成形体試料を作製し
た。樹脂成形体試料の全光線透過率を表1に示した。
Comparative Example 2 Glass fibers were produced from soda-lime glass in which an alkali component was added to glass. The specific resistance of the glass itself is 2.0
× 10 8 Ωcm. In the same manner as in Example 1, the obtained glass fiber was added to the resin to prepare a resin molded product sample. Table 1 shows the total light transmittance of the resin molded product sample.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】実施例6 Eガラスからなる外径0.1mmのガラス繊維を密度3
0本/inch(縦、横それぞれ)に平織したガラスク
ロスに実施例1と同様にしてITO薄膜を膜厚が500
Åになるように設けた。得られた導電性織布を厚さ2m
mの透明塩化ビニルに挟み込み、160℃、100kg
/cm2 で気泡が入り込まないようにプレスした。得ら
れた試料の電磁波遮蔽性能を下記の方法により測定し、
全光線透過率を実施例1と同様にして測定し、結果を表
2に示した。
Example 6 A glass fiber made of E glass having an outer diameter of 0.1 mm and a density of 3 was used.
In the same manner as in Example 1, an ITO thin film was formed on a glass cloth plain woven into 0 pieces / inch (vertically and horizontally).
Å was provided. The obtained conductive woven fabric is 2 m thick.
m, transparent vinyl chloride, 160 ° C, 100kg
/ Cm 2 so as to prevent air bubbles from entering. The electromagnetic shielding performance of the obtained sample was measured by the following method,
The total light transmittance was measured in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0074】(電磁波遮蔽性能)シールドボックスに試
料を電気的に接地して固定し、アドバンテスト法により
100MHzと1GHzの電磁波(電界)シールド効果
を測定した。
(Electromagnetic Wave Shielding Performance) The sample was electrically grounded and fixed in a shield box, and the electromagnetic wave (electric field) shielding effect of 100 MHz and 1 GHz was measured by the Advantest method.

【0075】実施例7 Eガラスからなる外径0.1mmのガラス繊維を密度3
0本/inch(縦、横それぞれ)に平織したガラスク
ロスに実施例2と同様にしてITO薄膜を被覆し、導電
性織布を作製した。得られた導電性織布を厚さ2mmの
透明塩化ビニルに挟み込み、160℃、100kg/c
2 で気泡が入り込まないようにプレスした。得られた
試料の電磁波遮蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Example 7 A glass fiber made of E glass having an outer diameter of 0.1 mm and a density of 3 was used.
In the same manner as in Example 2, an ITO thin film was coated on a glass cloth plain-woven at 0 pieces / inch (length and width) to prepare a conductive woven fabric. The obtained conductive woven fabric is sandwiched between transparent vinyl chloride having a thickness of 2 mm, and is heated at 160 ° C. and 100 kg / c.
It was pressed so that air bubbles did not enter at m 2 . Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0076】実施例8 Eガラスからなる外径0.1mmのガラス繊維を密度3
0本/inch(縦、横それぞれ)に平織したガラスク
ロスに実施例3と同様にしてATO薄膜を被覆し、導電
性織布を作製した。得られた導電性織布を厚さ2mmの
アクリル板に流動性のアクリル酸オリゴマーを主成分と
する感光性樹脂とともに挟み込み、気泡が入らないよう
に軽く圧着し、160W/cmの高圧水銀灯で50mm
の距離から3分間紫外線を照射した。得られた試料の電
磁波遮蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Example 8 A glass fiber made of E glass having an outer diameter of 0.1 mm and a density of 3 was used.
In the same manner as in Example 3, an ATO thin film was coated on a glass cloth plain-woven at 0 pieces / inch (length and width) to prepare a conductive woven fabric. The obtained conductive woven fabric is sandwiched between acrylic resin having a thickness of 2 mm and a photosensitive resin containing a liquid acrylic acid oligomer as a main component, lightly pressed so as not to cause air bubbles, and 50 mm with a high-pressure mercury lamp of 160 W / cm.
UV light was irradiated from the distance of 3 minutes. Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0077】実施例9 実施例4で得られた導電性繊維を、密度30本/inc
h(縦、横それぞれ)になるように平織し、導電性織布
を作製した。得られた導電性織布を実施例8と同様の方
法でアクリル板に挟み込み試料を作製した。得られた試
料の電磁波遮蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Example 9 The conductive fibers obtained in Example 4 were treated at a density of 30 fibers / inc.
h (vertical and horizontal) to prepare a conductive woven fabric. The obtained conductive woven fabric was sandwiched between acrylic plates in the same manner as in Example 8 to produce a sample. Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0078】実施例10 実施例5で得られた導電性繊維を、密度30本/inc
h(縦、横それぞれ)になるように平織し、導電性織布
を作製した。得られた導電性織布をアクリル系粘着剤に
てアクリル板上に貼り付けて試料を作製した。得られた
試料の電磁波遮蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Example 10 The conductive fibers obtained in Example 5 were subjected to a density of 30 fibers / inc.
h (vertical and horizontal) to prepare a conductive woven fabric. The obtained conductive woven fabric was stuck on an acrylic plate with an acrylic adhesive to prepare a sample. Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0079】比較例3 比較例1で用いた導電性繊維から金属含有率13.3重
量%、135メッシュの織布を作製し、塩化ビニル板に
挟み込み実施例6と同様にプレスした。得られた試料の
電磁波遮蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Comparative Example 3 A woven cloth having a metal content of 13.3% by weight and 135 mesh was prepared from the conductive fibers used in Comparative Example 1, and was sandwiched between vinyl chloride plates and pressed in the same manner as in Example 6. Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0080】比較例4 ポリカーボネート樹脂からなる平板上にスパッタにより
ITO薄膜500Åを直接作製した。顕微鏡で表面を観
察するとクラックが見られた。得られた試料の電磁波遮
蔽性能、全光線透過率を表2に示した。
Comparative Example 4 An ITO thin film 500Å was directly formed on a flat plate made of a polycarbonate resin by sputtering. Observation of the surface with a microscope revealed cracks. Table 2 shows the electromagnetic wave shielding performance and the total light transmittance of the obtained samples.

【0081】[0081]

【表2】 [Table 2]

【0082】[0082]

【発明の効果】本発明1の透明導電性繊維は、上述の構
成からなるので、透明樹脂の充填材として使用され、透
明樹脂からなるフィルム、シート、プレート、各種成型
品等の透明性を損なうことなく導電性を付与でき、ま
た、ほこり付着防止、静電障害防止、電磁波遮蔽等の機
能を付与できる。更に、繊維の方向を一方向に配向させ
ることができれは、異方導電性を付与することもでき
る。また、請求項2に記載の本発明1の透明導電性繊維
の製造方法は、上述の構成からなるので、本発明1の透
明導電性繊維を良好に製造することができる。本発明2
の透明性電磁波遮蔽材は、上述の構成からなるので、透
明樹脂成形体と複数の透明導電性繊維とが一体化されて
いる。いずれも透明な材料で構成されているため、透明
性に優れ、全光線透過率が60%以上である。更に、金
属酸化物薄膜の比抵抗が10-1Ωcm以下であることか
ら、電磁波を効率よく遮断できる部材となっている。ま
た、請求項4に記載の本発明2の透明性電磁波遮蔽材の
製造方法は、上述の構成からなるので、本発明2の透明
性電磁波遮蔽材を良好に製造することができる。
Since the transparent conductive fiber of the present invention has the above-mentioned structure, it is used as a filler for a transparent resin, and impairs the transparency of films, sheets, plates, various molded articles, etc. made of the transparent resin. It is possible to provide conductivity without causing any problem, and to provide functions such as prevention of dust adhesion, prevention of electrostatic interference, and shielding of electromagnetic waves. Furthermore, if the direction of the fiber can be oriented in one direction, anisotropic conductivity can be imparted. Further, since the method for producing a transparent conductive fiber of the first aspect of the present invention described in claim 2 has the above-described configuration, the transparent conductive fiber of the first aspect of the present invention can be favorably produced. Invention 2
Since the transparent electromagnetic wave shielding material has the above-described configuration, the transparent resin molded body and the plurality of transparent conductive fibers are integrated. Since both are made of a transparent material, they have excellent transparency and a total light transmittance of 60% or more. Furthermore, since the metal oxide thin film has a specific resistance of 10 -1 Ωcm or less, it is a member that can efficiently block electromagnetic waves. In addition, since the method for manufacturing a transparent electromagnetic wave shielding material according to the second aspect of the present invention has the above-described configuration, the transparent electromagnetic wave shielding material according to the second aspect of the present invention can be favorably manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の透明導電性繊維の製造工程の一例を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a production process of a transparent conductive fiber of the present invention.

【図2】本発明の透明導電性繊維の製造工程の他の一例
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing another example of the process for producing the transparent conductive fiber of the present invention.

【図3】実施例1の透明導電性繊維の製造工程を示す図
である。
FIG. 3 is a view showing a process of manufacturing a transparent conductive fiber of Example 1.

【図4】実施例4の透明導電性繊維の製造工程を示す図
である。
FIG. 4 is a view showing a process for producing a transparent conductive fiber of Example 4.

【図5】実施例5の透明導電性繊維の製造工程を示す図
である。
FIG. 5 is a view showing a process for producing a transparent conductive fiber of Example 5.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ガラス繊維の表面を、金属酸化物薄膜で
被覆してなる透明導電性繊維であって、前記金属酸化物
薄膜は、全光線透過率が70%以上であり、比抵抗が1
-1Ωcm以下であるものであることを特徴とする透明
導電性繊維。
1. A transparent conductive fiber obtained by coating the surface of a glass fiber with a metal oxide thin film, wherein the metal oxide thin film has a total light transmittance of 70% or more and a specific resistance of 1%.
A transparent conductive fiber having a density of 0 -1 Ωcm or less.
【請求項2】 請求項1記載の透明導電性繊維を製造す
る方法であって、ガラス繊維の表面に、金属酸化物前駆
体の溶液を塗布し、その後処理することにより金属酸化
物薄膜を形成させることを特徴とする透明導電性繊維の
製造方法。
2. The method for producing a transparent conductive fiber according to claim 1, wherein a solution of a metal oxide precursor is applied to the surface of the glass fiber, and the solution is thereafter processed to form a metal oxide thin film. A method for producing a transparent conductive fiber.
【請求項3】 全光線透過率が70%以上である樹脂成
形体の内部及び/又は表面に、複数の透明導電性繊維を
電気的に接触するように設けてなり、全光線透過率が6
0%以上である透明性電磁波遮蔽材であって、前記透明
導電性繊維は、ガラス繊維の表面を、金属酸化物薄膜で
被覆してなるものであり、前記金属酸化物薄膜は、全光
線透過率が70%以上であり、比抵抗が10-1Ωcm以
下であるものであることを特徴とする透明性電磁波遮蔽
材。
3. A plurality of transparent conductive fibers are provided inside and / or on a surface of a resin molded product having a total light transmittance of 70% or more so as to be in electrical contact with each other.
0% or more of a transparent electromagnetic wave shielding material, wherein the transparent conductive fiber is formed by coating a surface of a glass fiber with a metal oxide thin film, and the metal oxide thin film has a total light transmission property. A transparent electromagnetic wave shielding material having a ratio of 70% or more and a specific resistance of 10 -1 Ωcm or less.
【請求項4】 請求項3記載の透明性電磁波遮蔽材を製
造する方法であって、透明導電性繊維を製造するにあた
って、ガラス繊維の表面に、金属酸化物前駆体の溶液を
塗布し、その後処理することにより金属酸化物薄膜を形
成させ、複数の透明導電性繊維を電気的に接触するよう
に設けるにあたって、前記透明導電性繊維の織布を用い
ることを特徴とする透明性電磁波遮蔽材の製造方法。
4. The method for producing a transparent electromagnetic wave shielding material according to claim 3, wherein a solution of a metal oxide precursor is applied to a surface of the glass fiber when producing the transparent conductive fiber. Forming a metal oxide thin film by the treatment, and providing a plurality of transparent conductive fibers so as to be in electrical contact with each other, the transparent electromagnetic wave shielding material characterized by using a woven fabric of the transparent conductive fibers Production method.
JP9267064A 1997-09-30 1997-09-30 Transparent electroconductive fiber, transparent material for shielding electromagnetic wave and their production Withdrawn JPH11107160A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001021699A1 (en) * 1999-09-23 2001-03-29 General Electric Company Thermoplastic article having a metallic flake appearance
US20200043636A1 (en) * 2009-12-09 2020-02-06 Holland Electronics, Llc Guarded coaxial cable assembly

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