JPH1092201A - Light emitting device, light emitting device driving method, and light emitting device array - Google Patents

Light emitting device, light emitting device driving method, and light emitting device array

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JPH1092201A
JPH1092201A JP24536296A JP24536296A JPH1092201A JP H1092201 A JPH1092201 A JP H1092201A JP 24536296 A JP24536296 A JP 24536296A JP 24536296 A JP24536296 A JP 24536296A JP H1092201 A JPH1092201 A JP H1092201A
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JP
Japan
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light
comb
electrode
light emitting
substrate
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Application number
JP24536296A
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Japanese (ja)
Inventor
Yutaka Majima
豊 真島
Toshiro Hiraoka
俊郎 平岡
Shuji Hayase
修二 早瀬
Kenji Sano
健二 佐野
Kouji Asakawa
鋼児 浅川
Norio Takami
則雄 高見
Tetsuo Komatsu
哲郎 小松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication of JPH1092201A publication Critical patent/JPH1092201A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make possible application of an electrochemical light emitting component (ELC) to a display and provide a light emitting device with its superior characteristics, a driving method of the light emitting device, and a light emitting device array. SOLUTION: A light emitting device 17 of the present invention is comprises a substrate 11, a pair of comb-shaped electrodes 12a and 12b provided on the substrate 11, and a luminescent layer 15 provided into contact with the comb- shaped electrodes 12a and 12b and including a luminescent substance and an electrolyte. The number N of element electrodes 13a and 13b constituting the pair of the comb-shaped electrodes 12a and 12b, a resistance value R(ohm) on both ends in a longitudinal direction of the element electrodes 13a and 13b, and a luminescent area S(cm<2> ) thereof meets a condition of inequality R/N<100/S.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電気化学的に発光
層にキャリアが注入されて発光する発光素子、発光素子
の駆動方法、および発光素子アレイに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light emitting device that emits light by electrochemically injecting carriers into a light emitting layer, a driving method of the light emitting device, and a light emitting device array.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL素子は、自発光型の発光素子で
あり、原理的に発光色を自由に変えることができる。こ
のフルカラー表示が可能であること、および軽量で薄く
大面積の発光面を形成することが可能であることから、
ディスプレイへの応用が期待されている。
2. Description of the Related Art An organic EL device is a self-luminous type light emitting device, and can freely change the emission color in principle. Because this full-color display is possible and it is possible to form a light-weight, thin, and large-area light-emitting surface,
It is expected to be applied to displays.

【0003】この有機EL素子として従来から知られて
いる注入型EL素子では、キャリア(電子およびホー
ル)は、電極から有機発光層あるいは有機電荷輸送層
に、トンネル過程やショットキー過程によって注入され
る。しかし、その注入効率は不十分であり、十分な輝度
を得ることは難しかった。この電荷の注入効率を向上さ
せるためには、電極材料として仕事関数が小さいCa、
Mg又はLiといった耐久性の低い金属を用いたり、高
電圧で駆動すれば良いが、このような方法では、電極−
有機発光層界面のミクロ的な剥離や、電極の酸化により
ダークスポットが形成されるなど、素子の劣化が速く進
行するため、非実用的なものであった。
In the injection type EL device conventionally known as the organic EL device, carriers (electrons and holes) are injected from an electrode into an organic light emitting layer or an organic charge transport layer by a tunnel process or a Schottky process. . However, the injection efficiency was insufficient, and it was difficult to obtain sufficient luminance. In order to improve the charge injection efficiency, a work function of Ca having a small work function as an electrode material,
It is only necessary to use a metal with low durability such as Mg or Li, or to drive at a high voltage.
The deterioration of the element progresses rapidly, such as microscopic peeling of the interface of the organic light emitting layer and formation of a dark spot due to oxidation of the electrode, which is impractical.

【0004】このような注入型EL素子の欠点を解決す
るものとして、ヒーガー(Heeger)らにより電気
化学発光素子(以下ECL素子という)が考案された。
このECL素子は、従来の注入型EL素子の有機発光層
と有機電荷輸送層のかわりに有機発光材料と電解質等と
の混合物とからなる発光層を用い、これを一対の電極間
にそれらの対向面と接するように配置したものである。
このECL素子に適当な電圧を印加すると、電解質が電
離し、電極と発光層との界面に電気二重層が形成され
る。その結果、電極と発光層との界面に高い電界がかか
り、かつ注入電荷が電極近傍のイオンによって補償され
るため、電荷の注入が極めて容易に起こるようになる。
そのため、電極材料に白金などの耐久性の高い金属を用
いることができるようになり、高い素子寿命と、比較的
低い電圧での十分な輝度とを得ることができるようにな
った。
An electrochemiluminescent device (hereinafter, referred to as an ECL device) has been devised by Heeger et al. As a solution to such a drawback of the injection type EL device.
This ECL element uses a light-emitting layer composed of a mixture of an organic light-emitting material and an electrolyte, etc., instead of the organic light-emitting layer and the organic charge transport layer of the conventional injection-type EL element, and this is disposed between a pair of electrodes. It is arranged so as to be in contact with the surface.
When an appropriate voltage is applied to this ECL element, the electrolyte is ionized, and an electric double layer is formed at the interface between the electrode and the light emitting layer. As a result, a high electric field is applied to the interface between the electrode and the light emitting layer, and the injected charges are compensated by the ions near the electrodes, so that the injection of the charges can occur very easily.
Therefore, a highly durable metal such as platinum can be used as an electrode material, and a long element life and sufficient luminance at a relatively low voltage can be obtained.

【0005】しかし、ECL素子は、未だ研究の段階に
とどまっており、その実用化、特にディスプレイ等への
応用には、以下に示すように多くの課題が残されてい
る。
[0005] However, the ECL element is still in the research stage, and many problems remain as described below for its practical use, particularly for application to displays and the like.

【0006】ECL素子の発光は、上述のように電極近
傍に電気二重層が形成され、アノードとカソードからそ
れぞれ電子とホールが発光層に注入、蓄積されるまでフ
ォーミングしたのち、電子とホールのそれぞれが対極に
向かってホッピングし、再結合領域で再結合することに
より起こる。この電気二重層が形成されると、発光層中
に電界がかかりにくくなるため、発光層に注入された電
子とホールは熱拡散によって移動せざるを得ない。した
がって、電子とホールが再結合領域で再結合するために
は、発光層中に電子とホールの濃度傾斜が形成されなけ
ればならない。しかし、電子とホールの濃度傾斜が十分
に形成されるためには、それぞれが電気的に補償されて
いる必要がある。すなわち、電子とホールの濃度傾斜に
対応してイオンの濃度傾斜が形成される必要がある。し
かし、このイオンの濃度傾斜の形成も、電子とホールの
拡散と同様に、イオンの拡散速度に律速されるため非常
に時間がかかる。さらに、一旦形成されたイオンの濃度
傾斜も電圧印加を停止すると、時間とともにイオンが発
光層内で均一に分散し、最終的には濃度傾斜が無くなっ
てしまう。このため、電圧印加から発光が開始されるま
でに数分程度の立ち上げ時間を必要とし、ディスプレイ
として用いるには非実用的なものであった。
The light emission of the ECL element is formed by forming an electric double layer near the electrodes as described above, forming electrons and holes from the anode and the cathode until the electrons and holes are injected and accumulated in the light emitting layer, and then forming the electrons and holes respectively. Hopping towards the opposite pole and recombining in the recombination region. When the electric double layer is formed, an electric field is less likely to be applied to the light emitting layer, so that electrons and holes injected into the light emitting layer have to move due to thermal diffusion. Therefore, in order for electrons and holes to recombine in the recombination region, a concentration gradient of electrons and holes must be formed in the light emitting layer. However, in order for the concentration gradient of electrons and holes to be sufficiently formed, they must be electrically compensated. That is, it is necessary to form an ion concentration gradient corresponding to the electron and hole concentration gradients. However, the formation of the ion concentration gradient is very time-consuming because it is limited by the ion diffusion speed, as in the diffusion of electrons and holes. Further, once the application of the voltage is stopped for the concentration gradient of the formed ions, the ions are uniformly dispersed in the light emitting layer with the lapse of time, and the concentration gradient eventually disappears. For this reason, a startup time of about several minutes is required from the application of the voltage to the start of light emission, which is impractical for use as a display.

【0007】また、このECL素子は、点灯された状態
から電圧の印加を止めて、すぐに再び電圧を印加したと
きの、再電圧印加から発光するまでの応答速度が、数ミ
リセカンドと遅く、ディスプレイとしての応用の範囲を
狭めていた。
[0007] Further, in this ECL element, when the application of the voltage is stopped from the lighting state and the voltage is immediately applied again, the response speed from the re-application of the voltage to the light emission is as low as several milliseconds. The range of application as a display was narrowed.

【0008】更に、このECL素子は電流駆動素子であ
るため、電極に櫛形電極を用いた場合は、櫛形電極の抵
抗により生ずる電圧降下の影響が大きく、輝度ムラ、印
加電圧の上昇、消費電力の増加を招いてしまう。また、
従来のECL素子で実現されている素子寿命では未だ不
十分であり、広く実用化されるためにはさらに素子寿命
を改善することが望まれている。
Further, since the ECL element is a current driving element, when a comb-shaped electrode is used as an electrode, the effect of the voltage drop caused by the resistance of the comb-shaped electrode is large, and the unevenness of the luminance, the increase of the applied voltage, and the power consumption are reduced. Invites an increase. Also,
The element life realized by the conventional ECL element is still insufficient, and it is desired to further improve the element life for widespread practical use.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】・本発明の目的は、立
ち上げ時間が短く、かつ応答速度が速い発光素子を提供
することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a light emitting device having a short rise time and a high response speed.

【0010】・本発明の他の目的は、応答速度が速く、
輝度が向上され、印加電圧の上昇がなく、素子寿命が長
い発光素子を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a high response speed,
It is an object of the present invention to provide a light-emitting element with improved luminance, no increase in applied voltage, and a long element life.

【0011】・本発明のさらに他の目的は、応答速度を
速くすることが可能な発光素子の駆動方法を提供するこ
とにある。
It is still another object of the present invention to provide a method for driving a light emitting element which can increase the response speed.

【0012】・本発明のさらにまた他の目的は、ディス
プレイへの適用を可能とする発光素子アレイを提供する
ことにある。
It is still another object of the present invention to provide a light emitting element array which can be applied to a display.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明(請求項1)は、一対の電極と、これら一対
の電極の間に設けられ、発光性物質および電解質を含む
発光層とを具備し、前記電解質がそれぞれ200以上の
分子量の陽イオンおよび陰イオンからなる塩類であるこ
とを特徴とする発光素子を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention (claim 1) provides a pair of electrodes and a light emitting layer provided between the pair of electrodes and containing a light emitting substance and an electrolyte. Wherein the electrolyte is a salt composed of a cation and an anion each having a molecular weight of 200 or more.

【0014】本発明(請求項2)は、前記発光素子(請
求項1)において、電解質がマトリックスと塩類との複
合体からなる固体電解質であることを特徴とする。
The present invention (Claim 2) is characterized in that in the light emitting device (Claim 1), the electrolyte is a solid electrolyte comprising a complex of a matrix and a salt.

【0015】本発明(請求項3)は、基板と、前記基板
上に設けられた一対の櫛形電極と、前記櫛形電極に接し
て設けられ、発光性物質および電解質を含む発光層とを
具備し、前記一対の櫛形電極を構成する素電極の本数N
(本)、前記素電極の長手方向の両端における抵抗値R
(オーム)、および発光面積S(cm2 )が、不等式R
/N<100/Sを満たす関係にあることを特徴とする
発光素子を提供する。
The present invention (Claim 3) comprises a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a luminescent substance and an electrolyte. , The number N of elementary electrodes constituting the pair of comb electrodes
(Book), resistance value R at both ends in the longitudinal direction of the elementary electrode
(Ohms) and the luminescent area S (cm 2 ) are inequality R
A light-emitting element characterized by satisfying a relationship of / N <100 / S is provided.

【0016】本発明(請求項4)は、基板と、前記基板
上に設けられた一対の櫛形電極と、前記櫛形電極に接し
て設けられ、発光性物質および電解質を含む発光層とを
具備し、前記櫛形電極を構成する素電極の前記基板面に
対して垂直な方向の厚さが0.5μm以上であることを
特徴とする発光素子を提供する。
The present invention (claim 4) comprises a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a luminescent substance and an electrolyte. And a light-emitting element, characterized in that the thickness of the element electrode constituting the comb-shaped electrode in the direction perpendicular to the substrate surface is 0.5 μm or more.

【0017】本発明(請求項5)は、基板と、前記基板
上に設けられた一対の櫛形電極と、前記櫛形電極に接し
て設けられ、発光性物質および電解質を含む発光層とを
具備し、前記櫛形電極を構成する素電極の表面が電気伝
導性多孔質であることを特徴とする発光素子を提供す
る。
The present invention (claim 5) comprises a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a luminescent substance and an electrolyte. And a light-emitting element characterized in that the surface of the elementary electrode constituting the comb-shaped electrode is electrically conductive and porous.

【0018】本発明(請求項6)は、基板と、前記基板
上に設けられた一対の櫛形電極と、前記櫛形電極に接し
て設けられ、発光性物質および電解質を含む発光層とを
具備する発光素子の駆動方法において、非発光時に駆動
電圧に対し単位時間当り平均10〜90%の電圧を駆動
電圧の印加方向と同方向に前記一対の櫛形電極に印加す
ることを特徴とする発光素子駆動方法を提供する。
The present invention (claim 6) comprises a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a light-emitting substance and an electrolyte. In the driving method of the light emitting element, an average voltage of 10 to 90% per unit time with respect to the driving voltage is applied to the pair of comb-shaped electrodes in the same direction as the driving voltage when the light is not emitted. Provide a way.

【0019】本発明(請求項7)は、基板と前記基板上
に設けられた一対の櫛形電極と前記櫛形電極に接して設
けられ発光性物質および電解質を含む発光層とを具備す
る発光素子、電流制御用トランジスタ、およびキャパシ
タからなる単位画素をマトリックス状に配列したアクテ
ィブマトリックス型の発光素子アレイにおいて、N行、
M列の電流制御用トランジスタのソース電極とキャパシ
タの一方の電極とがN行の走査電極線に接続され、前記
単位画素の発光素子の一方の櫛形電極が前記電流制御用
トランジスタのドレイン電極に接続され、前記発光素子
の他方の櫛形電極がM列とは異なる列の信号電極線に接
続されていることを特徴とする発光素子アレイを提供す
る。
The present invention (claim 7) provides a light emitting device comprising: a substrate; a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate; and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a luminescent substance and an electrolyte. In an active matrix type light emitting element array in which unit pixels composed of current control transistors and capacitors are arranged in a matrix, N rows,
A source electrode of a current control transistor in M columns and one electrode of a capacitor are connected to N rows of scan electrode lines, and one comb electrode of a light emitting element of the unit pixel is connected to a drain electrode of the current control transistor. The other comb-shaped electrode of the light-emitting element is connected to a signal electrode line in a column different from the M column.

【0020】本発明(請求項8)は、基板と前記基板上
に設けられた一対の櫛形電極と前記櫛形電極に接して設
けられ発光性物質および電解質を含む発光層とを具備す
る発光素子、電流制御用トランジスタ、およびキャパシ
タからなる単位画素をマトリックス状に配列したアクテ
ィブマトリックス型の発光素子アレイにおいて、N行、
M列の単位画素の電流制御用トランジスタのドレイン電
極に前記単位画素の発光素子の一方の櫛形電極が接続さ
れ、前記単位画素の発光素子の他方の櫛形電極とN行、
(M+1)列の単位画素の発光素子の他方の櫛形電極と
が相互に接続されていることを特徴とする発光素子アレ
イを提供する。
The present invention (claim 8) provides a light emitting device comprising: a substrate; a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate; and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a luminescent substance and an electrolyte. In an active matrix type light emitting element array in which unit pixels composed of current control transistors and capacitors are arranged in a matrix, N rows,
One of the comb-shaped electrodes of the light-emitting element of the unit pixel is connected to the drain electrode of the current control transistor of the M-column unit pixel, and the other comb-shaped electrode of the light-emitting element of the unit pixel and N rows;
A light-emitting element array is provided in which the other comb-shaped electrodes of the light-emitting elements of the unit pixels in the (M + 1) column are connected to each other.

【0021】本発明(請求項9)は、前記発光素子アレ
イ(請求項8)において、信号電極線方向に隣接する前
記発光素子の他方の櫛形電極同士が相互に接続されてい
ることを特徴とする。
The present invention (claim 9) is characterized in that in the light emitting element array (claim 8), the other comb-shaped electrodes of the light emitting elements adjacent in the signal electrode line direction are connected to each other. I do.

【0022】本発明(請求項10)は、基板と前記基板
上に設けられた一対の櫛形電極と前記櫛形電極に接して
設けられ発光性物質および電解質を含む発光層とを具備
する発光素子、電流制御用トランジスタ、およびキャパ
シタからなる単位画素をマトリックス状に配列した単純
マトリックス型の発光素子アレイにおいて、走査電極線
と信号電極線とが絶縁層を介して同一基板上で交差して
おり、各発光素子と、前記走査電極線および信号電極線
とがコンタクトホールを介して接続されていることを特
徴とする発光素子アレイを提供する。
The present invention (claim 10) provides a light emitting device comprising: a substrate; a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate; and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a luminescent substance and an electrolyte. In a simple matrix type light emitting element array in which unit pixels composed of a current control transistor and a capacitor are arranged in a matrix, scanning electrode lines and signal electrode lines intersect on the same substrate via an insulating layer. A light emitting element array is provided, wherein the light emitting element is connected to the scanning electrode line and the signal electrode line via a contact hole.

【0023】以下、本発明の発光素子について、より詳
細に説明する。
Hereinafter, the light emitting device of the present invention will be described in more detail.

【0024】ECL素子は、発光性物質と電解質等との
混合物からなる発光層を、一対の電極間に挟持したもの
である。
The ECL element has a light emitting layer made of a mixture of a light emitting substance and an electrolyte sandwiched between a pair of electrodes.

【0025】発光層に含まれる発光性物質は、可視光領
域および紫外光領域で蛍光を発する有機発光材料であれ
ば特に制限されないが、ポリパラフェニレン等の芳香族
系共役系高分子、ポリアセチレン等の脂肪族系共役系高
分子、ポリロール、ポリチオフェン等の複素環式共役系
高分子、ポリアニリン等の含ヘテロ原子共役系高分子、
ポリフェニレンビニレン等の複合型共役系高分子、およ
びポリシラン系共役系高分子等が好適に用いられる。
The light-emitting substance contained in the light-emitting layer is not particularly limited as long as it is an organic light-emitting material that emits fluorescence in the visible light region and the ultraviolet light region, but aromatic conjugated polymers such as polyparaphenylene and polyacetylene. Aliphatic conjugated polymers, polycyclic, heterocyclic conjugated polymers such as polythiophene, heteroatom-containing conjugated polymers such as polyaniline,
Composite conjugated polymers such as polyphenylenevinylene, and polysilane-based conjugated polymers are preferably used.

【0026】本発明において用いられる電解質は、陽イ
オンおよび陰イオンを含む塩類であり、陽イオンとして
は、Li+ 、Na+ 、K+ 、Rb+ 、およびCs+ 等の
アルカリ金属イオン、Mg2+、Ca2+、Sr2+、および
Ba2+等のアルカリ土類金属イオン、Eu2+等のランタ
ノイドイオン、R4 + 、R4 + 、R4 As+ 、R3
+ 、およびアセチルコリン等の含有機物イオン、およ
びAg+ 等の貴金属イオン等が用いられる。また、陰イ
オンとしては、Cl- 、Br- 、I- 、ClO4 - 、P
6 - 、AsF6 - 、SbF6 - 、BF- 、CF3 SO
3 - 、ClSO3 - 、FSO3 - 、SO4 2-、N
3 - 、およびF- 等を用いることができる。
The electrolyte used in the present invention is a salt containing a cation and an anion. Examples of the cation include alkali metal ions such as Li + , Na + , K + , Rb + , and Cs + , and Mg 2. + , Ca 2+ , Sr 2+ , alkaline earth metal ions such as Ba 2+ , lanthanoid ions such as Eu 2+ , R 4 N + , R 4 P + , R 4 As + , R 3
Included organic ions such as S + and acetylcholine, and noble metal ions such as Ag + are used. The anions include Cl , Br , I , ClO 4 , P
F 6 , AsF 6 , SbF 6 , BF , CF 3 SO
3 , ClSO 3 , FSO 3 , SO 4 2− , N
O 3 , F − and the like can be used.

【0027】電解質に対する発光性物質の割合は、10
〜90重量%であることが好ましく、さらに好ましくは
20〜80重量%であり、最も好ましくは40〜70重
量%である。
The ratio of the luminescent substance to the electrolyte is 10
It is preferably from 90 to 90% by weight, more preferably from 20 to 80% by weight, and most preferably from 40 to 70% by weight.

【0028】上述した電解質は、電解質を溶解、解離
し、キャリアを生成することができるマトリックスとの
複合体である、いわゆる固体電解質の形で用いることが
できる。この有機あるいは無機のマトリックスは、発光
層に対して10〜90重量%含有することができる。有
機のマトリックスとしては、下記化学式1および2等で
示されるポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシ
ド等のポリエーテル骨格を有する化合物、下記化学式3
および4等で示されるポリエチレンサクシネート、ポリ
−β−プロピオラクトン等のポリエステル骨格を有する
化合物、下記化学式5および6等で示されるポリエチレ
ンイミン等のポリアミン骨格を有する化合物、下記化学
式7等で示されるポリアルキレンスルフィド等のポリス
ルフィド骨格を有する化合物、ポリシロキサン骨格を有
する化合物、およびポリフォスファゼン骨格を有する化
合物等から構成されることが好ましい。
The above-mentioned electrolyte can be used in the form of a so-called solid electrolyte, which is a complex with a matrix capable of dissolving and dissociating the electrolyte and generating carriers. The organic or inorganic matrix can be contained in an amount of 10 to 90% by weight based on the light emitting layer. Examples of the organic matrix include compounds having a polyether skeleton such as polyethylene oxide and polypropylene oxide represented by the following chemical formulas 1 and 2;
And compounds having a polyester skeleton such as polyethylene succinate and poly-β-propiolactone represented by 4 and 4; compounds having a polyamine skeleton such as polyethyleneimine represented by the following chemical formulas 5 and 6; It is preferred to be composed of a compound having a polysulfide skeleton such as a polyalkylene sulfide, a compound having a polysiloxane skeleton, a compound having a polyphosphazene skeleton, and the like.

【0029】[0029]

【化1】 上記ポリエーテルは、以下の化学式8〜20で示される
ような、無定型高分子であってもよい。
Embedded image The polyether may be an amorphous polymer represented by the following chemical formulas 8 to 20.

【0030】[0030]

【化2】 Embedded image

【化3】 また、上記ポリエーテルは、以下の化学反応式1〜5の
反応生成物および化学式21〜23で示されるような、
力学的強度を保持したまま無定型化したポリエーテル架
橋体であってもよい。
Embedded image In addition, the polyether is represented by the following reaction products of Chemical Formulas 1 to 5 and Chemical Formulas 21 to 23,
An amorphous polyether crosslinked product while maintaining the mechanical strength may be used.

【0031】[0031]

【化4】 Embedded image

【化5】 無機マトリックスとしては、金属酸化物および無機ガラ
ス類等を用いることができる。
Embedded image As the inorganic matrix, metal oxides and inorganic glasses can be used.

【0032】電解質を溶液にして用いる場合は、本発明
の発光素子の発光層は、10〜90重量%の溶媒を含む
ことができる。この溶媒の電位窓が発光性物質の酸化お
よび還元電位より狭い場合は、溶媒の酸化または還元が
優先して起こるため、発光が観測されなくなる。したが
って、溶媒の電位窓は、発光材料の酸化および還元電位
よりも広いことが望ましい。また、この溶媒は電解質お
よび発光材料を溶解し、電解質を電離させる必要があ
る。したがって、溶媒の比誘電率εr は、20以上であ
ることが好ましい。溶媒としては、メタノール、エタノ
ール、1−プロパノール、2−プロパノール、テトラヒ
ドロフラン、1,4−ジオキサン、モノグリム(1,2
−ジメトキシエタン)、アセトン、4−メチル−2−ペ
ンタノン、アセチルアセトン、アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アンモニア、エチレンジアミン、ピリジ
ン、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホ
スホロアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、ニトロメタン、ニトロベンゼン、
ジクロロメタン、プロピレンカーボネート、エチレンカ
ーボネート、酢酸、無水酢酸、1,2−ジクロロエタ
ン、ベンゾニトリル等が挙げられる。
When the electrolyte is used in the form of a solution, the light emitting layer of the light emitting device of the present invention may contain 10 to 90% by weight of a solvent. When the potential window of the solvent is narrower than the oxidation and reduction potentials of the luminescent substance, the oxidization or reduction of the solvent occurs preferentially, so that no light emission is observed. Therefore, it is desirable that the potential window of the solvent is wider than the oxidation and reduction potentials of the luminescent material. In addition, this solvent needs to dissolve the electrolyte and the luminescent material and ionize the electrolyte. Therefore, the relative dielectric constant ε r of the solvent is preferably 20 or more. As the solvent, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, monoglyme (1,2
-Dimethoxyethane), acetone, 4-methyl-2-pentanone, acetylacetone, acetonitrile, propionitrile, ammonia, ethylenediamine, pyridine, formamide, N-methylformamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, N- Methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, nitromethane, nitrobenzene,
Examples include dichloromethane, propylene carbonate, ethylene carbonate, acetic acid, acetic anhydride, 1,2-dichloroethane, benzonitrile and the like.

【0033】また発光層は、発光性物質と電解質以外
に、ポリエチレン、ポリアクリロニトリル、およびポリ
プロピレン等の多孔質高分子薄膜を含むことができる。
この多孔質高分子薄膜を用いると、電解質溶液を含浸
し、溶液をゲル状にすることができるため、好適に素子
を封止することができる。
The light emitting layer may include a porous polymer thin film such as polyethylene, polyacrylonitrile, and polypropylene, in addition to the light emitting substance and the electrolyte.
When this porous polymer thin film is used, the element can be suitably sealed because the electrolyte solution can be impregnated and the solution can be made into a gel.

【0034】ところで、前述のように、ECL素子を発
光させるには、発光層中でこれらイオンの濃度傾斜を形
成することが必要であるが、電圧印加を停止すると、一
旦形成されたイオンの濃度傾斜も無くなってしまう。本
発明者らは、陽イオンおよび陰イオンの分子量がそれぞ
れ200以上である電解質を用いた場合、発光層中での
イオンの濃度傾斜を保つことができることを見出した。
As described above, in order to cause the ECL element to emit light, it is necessary to form a concentration gradient of these ions in the light emitting layer. The inclination disappears. The present inventors have found that when an electrolyte having a molecular weight of each of the cation and the anion of 200 or more is used, the concentration gradient of the ions in the light emitting layer can be maintained.

【0035】陽イオンおよび陰イオンそれぞれの分子量
は、好ましくは500以上であり、より好ましくは3,
000以上であり、さらに好ましくは100,000以
上である。上限は特には制限されないが、通常は5,0
00,000以下である。
The molecular weight of each of the cation and the anion is preferably 500 or more, more preferably 3,
000 or more, more preferably 100,000 or more. The upper limit is not particularly limited, but is usually 5,0.
Not more than 00,000.

【0036】なお、本発明における高分子化合物の分子
量は、重量平均分子量を指す。
The molecular weight of the polymer compound in the present invention indicates a weight average molecular weight.

【0037】このような分子量の対イオンを有する電解
質を用いると、イオンの分子量が大きいため、発光層中
でのイオンの拡散速度が遅くなり、一旦イオンの濃度傾
斜を形成すると、電圧印加の停止後も濃度傾斜を保つこ
とができる。このため、電圧を印加してから発光が始ま
るまでの立上がり時間が短くなり、また応答速度も良好
になる。
When an electrolyte having such a counter ion having a molecular weight is used, since the molecular weight of the ion is large, the diffusion speed of the ion in the light emitting layer is slowed down. Thereafter, the concentration gradient can be maintained. Therefore, the rise time from the application of the voltage to the start of light emission is shortened, and the response speed is improved.

【0038】以上のようにして、イオンの濃度傾斜を保
つことができるが、本発明の発光素子で用いているイオ
ンは分子量が200以上と大きく、発光層中での拡散速
度も遅いため、単純に電圧を印加することにより濃度傾
斜を形成することは難しい。したがって、最初から分子
量の大きなイオンを用いるのではなく、それぞれが反応
性の官能基あるいは反応性部位を有し分子量が好ましく
は200以下であるイオン対からなる電解質と発光性物
質とを含む混合物を形成し、電極対に接するように前述
の混合物からなる発光層を形成し、発光層に電圧を印加
したのち、イオンを反応させることにより、発光層中に
イオンの濃度傾斜を形成することができる。
As described above, the concentration gradient of ions can be maintained, but the ions used in the light emitting device of the present invention have a large molecular weight of 200 or more and a low diffusion rate in the light emitting layer. It is difficult to form a concentration gradient by applying a voltage to the substrate. Therefore, instead of using ions having a high molecular weight from the beginning, a mixture containing an electrolyte consisting of an ion pair each having a reactive functional group or a reactive site and preferably having a molecular weight of 200 or less and a luminescent substance is used. Forming, forming a light emitting layer made of the above mixture so as to be in contact with the electrode pair, applying a voltage to the light emitting layer, and then reacting the ions, thereby forming a concentration gradient of ions in the light emitting layer. .

【0039】すなわち、まず、加熱あるいは光照射等に
より、自己重合、発光性物質との結合、マトリックスと
の結合、あるいは発光層中に含まれるその他の物質との
結合反応を起こすことが可能であり、発光層中を電圧の
印加により移動することができるほど十分に小さな分子
量を持った陽イオンと陰イオンとを、発光性物質と混合
する。次に、この混合物に、必要に応じて、さらに有機
または無機のマトリックス、あるいは溶媒や可塑剤等を
添加した後、この混合物を電極対に接するように塗布
し、発光層を形成する。さらに、この電極対または外部
電極により発光層に電圧を印加し、発光層中にイオンの
濃度傾斜を形成する。この濃度傾斜が保たれている間
に、加熱あるいは光照射等の処理を行い、発光層中のイ
オンの反応性部位を活性化させ、イオン同士の自己重
合、発光性物質との結合、マトリックスとの結合、ある
いは発光層中に含まれるその他の物質との結合反応を起
こさせ、イオンの分子量を200以上にする。
That is, first, it is possible to cause self-polymerization, bonding with a luminescent substance, bonding with a matrix, or bonding reaction with other substances contained in the luminescent layer by heating or light irradiation. Then, a cation and an anion having a sufficiently small molecular weight so as to be able to move in the light emitting layer by applying a voltage are mixed with the light emitting substance. Next, if necessary, an organic or inorganic matrix, a solvent, a plasticizer, or the like is further added to the mixture, and the mixture is applied so as to be in contact with the electrode pair to form a light emitting layer. Further, a voltage is applied to the light emitting layer by the electrode pair or the external electrode to form a concentration gradient of ions in the light emitting layer. While this concentration gradient is maintained, treatment such as heating or light irradiation is performed to activate the reactive sites of the ions in the light emitting layer, self-polymerize the ions, bond with the light emitting substance, and react with the matrix. Or a binding reaction with other substances contained in the light emitting layer to cause the ion to have a molecular weight of 200 or more.

【0040】この方法によると、発光層中に容易にイオ
ンの濃度傾斜を形成し、しかもこのイオンの濃度傾斜を
固定化することができ、立ち上げおよび応答性の良好な
素子をつくることができる。ここで用いられるイオンの
分子量は、発光層中を電圧の印加により移動することが
できるのに十分なほど小さい事が望まれるが、300以
下であれば十分であり、好ましくは200以下であり、
更に好ましくは120以下である。また、反応性の官能
基としては、水酸基、シラノール基、アルコキシ基、ア
ルコキシシリル基、ヒドロシリル基、アミノ基、カルボ
ニル基、アルデヒド基、カルボキシル基、シアノ基、ビ
ニル基、およびエポキシ基等が挙げられる。反応性部位
としては、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、
およびエステル結合等が挙げられる。また、この方法で
は、例えば以下の化学式24〜27で示される陽イオン
を反応性部位を有する陽イオンとして用いることができ
る。
According to this method, an ion concentration gradient can be easily formed in the light emitting layer, and the ion concentration gradient can be fixed, so that a device having good startup and response can be manufactured. . The molecular weight of the ions used here is desired to be small enough to be able to move in the light-emitting layer by application of a voltage, but it is sufficient if it is 300 or less, preferably 200 or less.
More preferably, it is 120 or less. In addition, examples of the reactive functional group include a hydroxyl group, a silanol group, an alkoxy group, an alkoxysilyl group, a hydrosilyl group, an amino group, a carbonyl group, an aldehyde group, a carboxyl group, a cyano group, a vinyl group, and an epoxy group. . As the reactive site, a carbon-carbon double bond, a carbon-carbon triple bond,
And an ester bond. In this method, for example, cations represented by the following chemical formulas 24 to 27 can be used as cations having a reactive site.

【0041】[0041]

【化6】 反応性部位を有する陰イオンとしては、例えば以下の化
学式28〜30で表される陰イオンを用いることができ
る。
Embedded image As the anion having a reactive site, for example, anions represented by the following chemical formulas 28 to 30 can be used.

【0042】[0042]

【化7】 この式で、Rはアルキル基をあらわし、R=CH3 、C
2 5 、C3 7 等である。それぞれのRは同じであっ
ても異なっていても良い。
Embedded image In this formula, R represents an alkyl group, R = CH 3 , C
2 H 5 , C 3 H 7 and the like. Each R may be the same or different.

【0043】ECL素子で用いられる電極としては、平
行平板電極および櫛形電極等を挙げることができる。平
行平板電極とは、一対の平板電極を間に発光層を挟持し
て平行に配置したものである。また、櫛形電極とは、一
対の櫛形状の電極を、一方の電極の櫛歯をなす素電極が
他方の電極の素電極間に入り込むように組み合わせて配
置したものである。
The electrodes used in the ECL element include a parallel plate electrode and a comb electrode. A parallel plate electrode is one in which a pair of plate electrodes are arranged in parallel with a light emitting layer interposed therebetween. The term “comb-shaped electrode” refers to an arrangement in which a pair of comb-shaped electrodes are combined and arranged such that the elementary electrodes forming the teeth of one electrode enter between the elementary electrodes of the other electrode.

【0044】平行平板電極を用いた場合、少なくとも一
方の電極が、透明または半透明電極であることが好まし
い。この電極間距離は、その面内で均一であり、0.0
1〜50μmに保たれていることが好ましい。
When parallel plate electrodes are used, it is preferable that at least one of the electrodes is a transparent or translucent electrode. The distance between the electrodes is uniform in the plane, and is 0.0
It is preferable that it is kept at 1 to 50 μm.

【0045】櫛形電極を用いる場合、一対の櫛形電極は
基板上に配置される必要がある。その場合の基板として
は、ガラス、セラミックス、硬質プラスチック、半導体
基板等が挙げられる。透明な基板を用いた場合、基板側
から発光を取り出すことができるので好ましい。
When a comb-shaped electrode is used, a pair of comb-shaped electrodes must be arranged on a substrate. In that case, examples of the substrate include glass, ceramics, hard plastic, and a semiconductor substrate. The use of a transparent substrate is preferable because light emission can be extracted from the substrate side.

【0046】ECL素子は、電流駆動型の発光素子であ
るため、1画素に対して電流制御用トランジスタと、そ
のゲートに電圧を印加するための初段トランジスタの2
つが必要である。さらに、十分な電流を供給するため
に、電圧駆動型のアレイに比べて、太い電極線を必要と
する。したがって、ガラス基板等の透明基板を用いて透
明基板側から発光を取り出す場合は、上記2つのトラン
ジスタと電極線により、開口率が低下する。一方、シリ
コンなどの半導体基板を用いた場合には、半導体基板上
にトランジスタを構築することができ、基板面に対し反
対方向から発光を取り出すことができるので、上記開口
率の低下がなく、好ましい。
Since the ECL element is a current-driven type light emitting element, it has a current control transistor for one pixel and a first-stage transistor for applying a voltage to its gate.
One is needed. Further, in order to supply a sufficient current, a thicker electrode line is required as compared with a voltage-driven array. Therefore, when light is extracted from the transparent substrate side using a transparent substrate such as a glass substrate, the aperture ratio is reduced by the two transistors and the electrode wires. On the other hand, when a semiconductor substrate such as silicon is used, a transistor can be formed on the semiconductor substrate, and light emission can be extracted from a direction opposite to the substrate surface. .

【0047】電極の材料としては、Pt、Au、Pd、
Ag、Hg、Cu、Pb、Sn、Ni、Co、Ti、I
n、Cd、Fe、Ga、Cr、Zn、V、Mn、Ce、
Al、Nd、Mg、Na、Ca、Sr、Ba、K、R
b、Cs、W、およびLi等の金属、これらの金属を含
有する合金、およびカーボン等が挙げられる。
As the material of the electrodes, Pt, Au, Pd,
Ag, Hg, Cu, Pb, Sn, Ni, Co, Ti, I
n, Cd, Fe, Ga, Cr, Zn, V, Mn, Ce,
Al, Nd, Mg, Na, Ca, Sr, Ba, K, R
Examples include metals such as b, Cs, W, and Li, alloys containing these metals, and carbon.

【0048】電極に櫛形電極を用いた場合、その電極の
形状や材質により発光素子の特性が大きく変わる。本発
明者らは、櫛形電極対を構成する素電極の本数をN
(本)、素電極の長手方向の両端における抵抗値をR
(オーム)、および発光面積をS(cm2 )とすると、
R・S/Nが100未満である場合に、特に優れた素子
特性を得ることができることを見出した。このR・S/
Nは、櫛形電極を構成するそれぞれの素電極の長手方向
の抵抗の平均値と、素電極1本当りの発光面積との積に
ほぼ比例している。この値が小さいほど、櫛形電極の抵
抗による電圧降下が生じにくくなるため、輝度ムラ、印
加電圧の上昇、消費電力の増加を生じにくくすることが
でき、さらに応答速度を短くすることができる。したが
って、電圧印加の上昇に起因する素子寿命の低下をも防
ぐことができる。この範囲は、R・S/N<100であ
ることが好ましく、R・S/N<30であることがより
好ましく、さらに好ましくはR・S/N<3である。
When a comb-shaped electrode is used as an electrode, the characteristics of the light-emitting element vary greatly depending on the shape and material of the electrode. The present inventors set the number of element electrodes constituting the comb-shaped electrode pair to N
(Book), the resistance value at both ends in the longitudinal direction of the elementary electrode is R
(Ohms) and the light emitting area is S (cm 2 )
It has been found that when R.S / N is less than 100, particularly excellent device characteristics can be obtained. This R / S /
N is substantially proportional to the product of the average value of the resistance in the longitudinal direction of each element electrode constituting the comb-shaped electrode and the light emitting area per element electrode. As this value is smaller, the voltage drop due to the resistance of the comb-shaped electrode is less likely to occur, so that it is possible to make it difficult to cause uneven brightness, increase in applied voltage, and increase in power consumption, and further reduce the response speed. Therefore, it is possible to prevent the element life from being shortened due to an increase in voltage application. This range is preferably R.S / N <100, more preferably R.S / N <30, and even more preferably R.S / N <3.

【0049】また、対向する櫛形電極の面間隔d(μ
m)と、櫛形電極を構成する素電極の基板に垂直な方向
の高さh(μm)が、h/d>0.1であるときにも、
輝度の向上、印加電圧の低減、応答速度の短縮、および
素子寿命の改善をすることができる。この範囲は、好ま
しくはh/d>1である。これは、以下の理由による。
Further, the surface distance d (μ
m) and the height h (μm) of the element electrode constituting the comb-shaped electrode in the direction perpendicular to the substrate is h / d> 0.1,
It is possible to improve the luminance, reduce the applied voltage, shorten the response speed, and improve the element life. This range is preferably h / d> 1. This is for the following reason.

【0050】隣接する素電極間を結ぶ電気力線では、対
向する素電極面間を素電極面に垂直に結ぶ電気力線が最
も短く、また、ホールおよび電子は発光層中で上記電気
力線に沿ってホッピングにより移動すると考えられる。
したがって、高さhを高くし、面間隔dを短くすると、
多くのホールまたは電子が最短距離を通るようになるた
め、応答速度が短くなり、さらに、発光効率が向上し、
輝度が向上する。
Of the lines of electric force connecting the adjacent element electrodes, the lines of electric force connecting the surfaces of the opposing element electrodes perpendicular to the element electrode surface are the shortest, and the holes and electrons are the same in the light emitting layer. It is thought that it moves by hopping along.
Therefore, if the height h is increased and the surface distance d is reduced,
Since many holes or electrons pass through the shortest distance, the response speed is shortened, the luminous efficiency is improved,
Brightness is improved.

【0051】また、高さhが高くなると基板面積当りの
電極面積が増加し、また、面間隔dが短くなると発光に
必要な電子とホールの蓄積が少なくて済むため、印加電
圧の低減が可能となり、素子寿命が改善される。しか
し、実際には櫛形電極の面間隔dは約5μm程度である
ので、これは高さhを高くすることに等しい。すなわ
ち、高さhが0.5μm以上であれば良く、5μm以上
であればさらに好ましい。素電極の高さがこの範囲にあ
ると、基板面積当たりの電極面積が増大し、電極界面で
の電流密度が低減される。また、素電極の表面積を減ら
すことなく、隣接する素電極の対向する面に垂直な方向
の素電極の幅を短くすることができ、基板面積当たりの
電極利用効率の増大を図ることができる。
When the height h increases, the electrode area per substrate area increases, and when the surface distance d decreases, the accumulation of electrons and holes required for light emission can be reduced, so that the applied voltage can be reduced. And the element life is improved. However, since the interplanar spacing d of the comb electrodes is about 5 μm, this is equivalent to increasing the height h. That is, the height h should be 0.5 μm or more, and more preferably 5 μm or more. When the height of the elementary electrode is in this range, the electrode area per substrate area increases, and the current density at the electrode interface is reduced. Further, the width of the element electrode in the direction perpendicular to the surface facing the adjacent element electrode can be shortened without reducing the surface area of the element electrode, and the electrode use efficiency per substrate area can be increased.

【0052】電極に櫛形電極を用いた場合、素電極は、
その表面が白金黒、ポリアニリン等の電気伝導性多孔質
で覆われていることが好ましい。ECL素子の櫛形電極
の有効面積は、素電極の高さ、幅、電極間隔等により規
定され、ECL素子の発光輝度は素子を流れる電流にほ
ぼ比例し、素子の輝度半減寿命は、素子電流密度の増大
に対して指数関数的に減少する。したがって櫛形電極の
有効面積を増大させることは、素子の寿命特性を向上さ
せることになる。素電極表面が電気伝導性多孔質で覆わ
れていると、電気化学的な反応を行うことができる表面
積が増大されるため、実質的な有効面積が増大するため
好ましい。
When a comb electrode is used as the electrode, the elementary electrode is
It is preferable that the surface is covered with an electrically conductive porous material such as platinum black or polyaniline. The effective area of the comb-shaped electrode of the ECL element is defined by the height, width, electrode spacing, and the like of the element electrodes. The emission luminance of the ECL element is almost proportional to the current flowing through the element. Decreases exponentially with the increase of. Therefore, increasing the effective area of the comb-shaped electrode improves the life characteristics of the element. It is preferable that the surface of the elementary electrode is covered with an electrically conductive porous material, because the surface area capable of performing an electrochemical reaction is increased, and the effective area is substantially increased.

【0053】ECL素子は、電解質として固体電解質を
用いる場合には、発光材料と固体電解質との混合物を上
記溶媒に溶解し、これを、スピンコーティング、キャス
ティング、ディッピング、バーコート、ロールコート等
の方法で櫛形電極および基板上に塗布することにより発
光層が形成される。この発光層を形成した後、溶媒を乾
燥させて除去しても良い。また、電解質として溶液状の
電解質を用いる場合は、キャスティングやディッピング
等の方法により発光層を形成することができる。
When a solid electrolyte is used as the electrolyte, the ECL element is prepared by dissolving a mixture of a luminescent material and a solid electrolyte in the above-mentioned solvent and subjecting the mixture to a method such as spin coating, casting, dipping, bar coating, or roll coating. The light-emitting layer is formed by coating on the comb-shaped electrode and the substrate by using. After forming this light emitting layer, the solvent may be removed by drying. When a solution electrolyte is used as the electrolyte, the light emitting layer can be formed by a method such as casting or dipping.

【0054】一般に、発光層が形成されたECL素子
は、防湿シートで被覆される。この防湿シートとして
は、アルミニウム等の金属箔、またはアルミニウムとポ
リエチレンからなる金属ラミネートフィルム等を用いる
ことができる。防湿シートを用いてECL素子を封止す
る際、ホットメルト型シール材を用いることが好まし
い。このホットメルト型シール材に、シリカ粉末、モレ
キュラーシーブ、ナイロン−6、およびナイロン6,6
などの高吸水性樹脂粉末等の吸湿剤を含有させるとさら
に好ましい。
Generally, the ECL element on which the light emitting layer is formed is covered with a moisture-proof sheet. As the moisture-proof sheet, a metal foil such as aluminum or a metal laminated film made of aluminum and polyethylene can be used. When sealing the ECL element using a moisture-proof sheet, it is preferable to use a hot-melt sealing material. Silica powder, molecular sieve, nylon-6, and nylon 6,6
It is more preferable to include a hygroscopic agent such as a superabsorbent resin powder.

【0055】このようにして得られる本発明のECL素
子は、通常0.5〜10V程度の直流電圧で駆動され、
0.1〜1,000mA/cm2 の電流値を示し、0.
05〜10,000cd/m2 程度の発光輝度を示す。
また、発光色は、発光波長の異なる発光材料を選択する
ことにより、自由に調整することができる。
The thus obtained ECL device of the present invention is usually driven by a DC voltage of about 0.5 to 10 V,
It indicates a current value of 0.1 to 1,000 mA / cm 2 ,
It shows a light emission luminance of about 05 to 10,000 cd / m 2 .
Further, the emission color can be freely adjusted by selecting light-emitting materials having different emission wavelengths.

【0056】ECL素子を駆動する際、非発光時に駆動
電圧に対し単位時間当り平均10〜90%の電圧を印加
することが好ましく、30〜80%の場合はさらに好ま
しい。非発光時に上記の電圧を印加すると、発光時に形
成された発光層中のイオンの濃度傾斜が保たれ、ホール
と電子が供給され再結合領域の空乏化を防ぐことができ
るので、再駆動する際の応答速度を大幅に改善すること
ができる。非発光時に印加する電圧が駆動電圧の10%
以下の場合は、イオンの濃度傾斜を十分に保つことがで
きず、再結合領域が空乏化され、90%を超えると、発
光素子の劣化が生じること、および発光素子アレイとし
て用いられた場合に隣接する発光素子との間のコントラ
ストが低下するため好ましくない。また、印加する電圧
は、駆動時と同方向であれば、必ずしも定電圧である必
要はなく、周期的に変動させても良い。
When the ECL element is driven, it is preferable to apply an average voltage of 10 to 90% per unit time with respect to the driving voltage when light is not emitted, and more preferably 30 to 80%. When the above voltage is applied during non-emission, the concentration gradient of ions in the light-emitting layer formed during emission is maintained, holes and electrons are supplied, and depletion of the recombination region can be prevented. Can greatly improve the response speed. The voltage applied during non-light emission is 10% of the drive voltage
In the following cases, the ion concentration gradient cannot be sufficiently maintained, the recombination region is depleted, and if it exceeds 90%, the light emitting element is deteriorated. It is not preferable because the contrast between the adjacent light emitting elements is reduced. The applied voltage is not necessarily required to be a constant voltage as long as it is in the same direction as that during driving, and may be changed periodically.

【0057】以上説明したECL素子、特に櫛形電極を
用いたECL素子は、マトリックス状に配置して、発光
素子アレイを構成することができる。このようにアレイ
に組み込まれ、ディスプレイに応用された場合に、EC
L素子は従来の注入型EL素子と比べて素子寿命が長い
ため、長時間連続的に駆動するような用途で用いられる
ことが考えられる。この場合、高い耐久性が求められ、
断線や短絡などに起因する欠陥を極力少なくする必要が
あるが、このECL素子は電流駆動型の素子であるた
め、電圧駆動型の素子に比べて回路への負担が大きく、
断線や短絡が生じやすい。さらに、回路自体の抵抗が高
いと、ディスプレイとしての輝度特性を低減させてしま
う。したがって、回路自体の抵抗および配線の交差数を
低減し、輝度特性の向上、および発光素子アレイの駆動
時に生ずる欠陥の発生率を低減することが望まれる。
The ECL elements described above, particularly the ECL elements using comb electrodes, can be arranged in a matrix to form a light emitting element array. When incorporated into an array and applied to a display in this way, the EC
Since the L element has a longer element life than the conventional injection type EL element, it is considered that the L element is used for an application that is driven continuously for a long time. In this case, high durability is required,
It is necessary to minimize defects caused by disconnection or short circuit, but since this ECL element is a current-driven element, the load on the circuit is greater than that of a voltage-driven element.
Disconnection or short circuit is likely to occur. Further, if the resistance of the circuit itself is high, the luminance characteristics of the display are reduced. Accordingly, it is desired to reduce the resistance of the circuit itself and the number of intersections of wirings, improve the luminance characteristics, and reduce the incidence of defects generated when driving the light emitting element array.

【0058】櫛形電極を用いたECL素子を、電流制御
用トランジスタおよびキャパシタとともにマトリックス
状に配置して、アクティブマトリックス型アレイを構成
する場合、電流制御用のトランジスタのドレイン電極に
接続されたECL素子の電極の他端の電極を、この電流
制御用トランジスタのゲート電極に接続された初段トラ
ンジスタが接続された信号電極線とは異なる信号電極線
に接続することが好ましい。
When an ECL element using a comb-shaped electrode is arranged in a matrix along with a current control transistor and a capacitor to form an active matrix type array, an ECL element connected to the drain electrode of the current control transistor is used. It is preferable to connect the other end of the electrode to a signal electrode line different from the signal electrode line to which the first-stage transistor connected to the gate electrode of the current controlling transistor is connected.

【0059】通常のアクティブマトリックス型アレイで
は、ECL素子の一方の電極が、各素子ごとにグラウン
ドに接続される。このグラウンド線は、通常、信号電極
線または走査電極線に対して平行に配置されるが、この
ような配置では、グラウンド線と信号電極線または走査
電極線とが交差する必要がある。また、アレイ中に、信
号電極線と走査電極線の他に、さらにグラウンド線が存
在するため、長い配線の全長が必要である。
In a normal active matrix type array, one electrode of an ECL element is connected to the ground for each element. The ground line is usually arranged parallel to the signal electrode line or the scan electrode line, but such an arrangement requires that the ground line intersect the signal electrode line or the scan electrode line. Further, in the array, in addition to the signal electrode lines and the scanning electrode lines, further ground lines exist, so that the entire length of the long wiring is required.

【0060】それに対して、本発明の発光素子アレイで
は、ECL素子の一方の電極が信号電極線と接続されて
おり、信号電極線がグラウンド線を兼ねているため、ア
レイ中に信号電極線及び走査電極線とは別にグラウンド
線を設ける必要がないので、配線の全長とその交差数を
減少させ、断線や短絡等に起因する欠陥の発生率を減少
させることができる。
On the other hand, in the light emitting element array of the present invention, one electrode of the ECL element is connected to the signal electrode line, and the signal electrode line also serves as the ground line. Since it is not necessary to provide a ground line separately from the scanning electrode line, the total length of the wiring and the number of intersections thereof can be reduced, and the incidence of defects due to disconnection, short circuit, and the like can be reduced.

【0061】このECL素子と信号電極線との間、ある
いはECL素子と電流制御用トランジスタとの間に順方
向ダイオードを挿入すると、非選択画素中の発光素子が
逆バイアスされることによる再結合領域の空乏化を防ぐ
ことができ、応答速度の低下と素子性能の劣化を防ぐこ
とができるため好ましい。
When a forward diode is inserted between the ECL element and the signal electrode line or between the ECL element and the current control transistor, the light-emitting elements in the non-selected pixels are reversely biased, so that a recombination region is formed. This is preferable because it is possible to prevent depletion of the semiconductor element and prevent a reduction in response speed and a deterioration in element performance.

【0062】また、走査電極線方向に隣接する2つの発
光素子の一対の櫛形電極のうち、電流制御用トランジス
タのドレイン電極に接続された電極とは異なる電極同士
をそれぞれ相互に接続しても良い。
Further, among a pair of comb-shaped electrodes of two light emitting elements adjacent in the scanning electrode line direction, electrodes different from the electrode connected to the drain electrode of the current control transistor may be connected to each other. .

【0063】通常のアクティブマトリックス型発光素子
アレイでは、ECL素子の一方の電極が各素子ごとにコ
ンタクトホールを介して別々にグラウンドに接続されて
いる。特に、発光素子アレイが基板側から光を取り出す
タイプの場合は、その開口率を高めるために、グラウン
ド線を細くする必要があり、グラウンド線の抵抗値が高
くなる傾向にあった。
In a normal active matrix type light emitting element array, one electrode of the ECL element is separately connected to the ground via a contact hole for each element. In particular, when the light emitting element array is of a type that extracts light from the substrate side, it is necessary to make the ground line thin in order to increase the aperture ratio, and the resistance value of the ground line tends to increase.

【0064】それに対し、本発明では、ECL素子の一
方の電極が、走査電極線方向に隣接するECL素子の一
方の電極と同一層上で接続されてるため、各素電極を支
持する支持部をグラウンド線として用いることが可能と
なり、また、この支持部の長手方向に垂直な断面積を大
きくすることができる。したがって、ECL素子とグラ
ウンドとを接続する配線の抵抗を減少することが可能と
なり、配線の抵抗に起因する電圧低下、電極劣化を減少
させ、電流密度を増加させることができる。
On the other hand, according to the present invention, since one electrode of the ECL element is connected on the same layer as one electrode of the ECL element adjacent in the scanning electrode line direction, the supporting portion for supporting each element electrode is provided. It can be used as a ground line, and the cross-sectional area perpendicular to the longitudinal direction of the support can be increased. Therefore, it is possible to reduce the resistance of the wiring connecting the ECL element and the ground, and it is possible to reduce the voltage drop and the electrode deterioration due to the resistance of the wiring and increase the current density.

【0065】また、本発明によると、基板側から光を取
り出す構成の場合は、素電極の支持部がグラウンド線と
して機能するため、別個にグラウンド線を設ける必要が
なく、通常の発光素子アレイに比べて開口率の低下が少
なく、基板面全体を発光面とすることができる。
According to the present invention, when light is extracted from the substrate side, the support portion of the element electrode functions as a ground line, so that it is not necessary to provide a separate ground line, so that a normal light emitting element array can be used. Compared with this, the decrease in the aperture ratio is small, and the entire substrate surface can be used as the light emitting surface.

【0066】この発光素子およびこの発光素子の信号電
極線方向に隣接する発光素子の、電流制御用トランジス
タのドレイン電極に接続された電極の他端の電極とをそ
れぞれ相互に接続すると、さらに配線の抵抗に起因する
電圧低下、電極劣化を減少させ、電流密度を増加させる
ことができ、好ましい。
When this light-emitting element and the other light-emitting element adjacent to the light-emitting element in the signal electrode line direction are connected to the other end of the electrode connected to the drain electrode of the current control transistor, the wiring is further reduced. This is preferable because voltage drop and electrode deterioration due to resistance can be reduced and current density can be increased.

【0067】このように接続すると、走査電極線方向だ
けではなく、信号電極線方向にもグラウンド線が配線さ
れるため、グラウンド線のネットワークが形成されるこ
とになり、配線の抵抗がさらに減少する。したがって、
電圧低下が生じにくくなり、高いコントラストを得るこ
とができるため、特に、暗い部分に一部分明るい表示を
行うときに効果がある。
With this connection, the ground lines are wired not only in the scanning electrode line direction but also in the signal electrode line direction, so that a ground line network is formed, and the resistance of the wiring is further reduced. . Therefore,
Since a voltage drop is unlikely to occur and a high contrast can be obtained, it is particularly effective when a part of a dark part is brightly displayed.

【0068】このように接続した場合も、このECL素
子と電流制御用トランジスタとの間に順方向ダイオード
を挿入すると、非選択画素中の発光素子が逆バイアスさ
れることによる再結合領域の空乏化を防ぎ、応答速度の
低下と素子性能の劣化を防ぐことができるため好まし
い。
Even in such a connection, if a forward diode is inserted between the ECL element and the current control transistor, the light-emitting elements in the non-selected pixels are reverse-biased to deplete the recombination region. This is preferable because it is possible to prevent a reduction in response speed and a deterioration in element performance.

【0069】また、このECL素子を単純マトリックス
型アレイに組み込み、ディスプレイを製造する場合、上
述のように回路の抵抗を低減する必要があるため、走査
電極線、および信号電極線は十分な太さであることが必
要であるが、通常の発光素子アレイでは、この太い走査
電極線と信号電極線とのために、発光素子アレイすべて
が発光面とはならない。したがって、発光素子アレイの
発光面積の減少を招いてしまう。また、このように発光
素子アレイすべてが発光面ではないため、通常のアレイ
では、発光素子を作製した後、アレイに組み込み、発光
面側から電気接続をする必要があり、製造プロセスが複
雑になり、製造コストを高める一つの原因となる。この
ような高い製造コストは、このECL素子を用いた発光
素子アレイが、安価な機器に利用されることを妨げ、そ
のディスプレイとしての応用の範囲を狭める原因の一つ
となる可能性がある。したがって、発光素子アレイ中の
発光面積を高め、かつ製造プロセスを簡略化することが
望まれる。
When a display is manufactured by incorporating this ECL element into a simple matrix type array, it is necessary to reduce the resistance of the circuit as described above, so that the scanning electrode lines and signal electrode lines have a sufficient thickness. However, in a normal light emitting element array, not all light emitting element arrays are light emitting surfaces due to the thick scanning electrode lines and signal electrode lines. Therefore, the light emitting area of the light emitting element array is reduced. In addition, since not all light-emitting element arrays are light-emitting surfaces, in a normal array, it is necessary to manufacture light-emitting elements, then incorporate the light-emitting elements into the array, and make electrical connections from the light-emitting surface side, which complicates the manufacturing process. , Which is one cause of increasing the manufacturing cost. Such a high manufacturing cost may prevent the light emitting element array using the ECL element from being used for inexpensive equipment, and may be one of the causes of narrowing the range of application as a display. Therefore, it is desired to increase the light emitting area in the light emitting element array and to simplify the manufacturing process.

【0070】櫛形電極を用いたECL発光素子で、単純
マトリックス型の発光素子アレイを構築する際に、走査
電極線と信号電極線とが、絶縁層を介して同一基板上で
交差しており、各発光素子がコンタクトホールを介して
走査電極線および信号電極線と接続されていると、アレ
イに配線及び櫛形電極等を形成した後に、発光層を形成
することが可能となる。したがって、製造プロセスを簡
略化することができるため、製造コストを下げることが
でき、走査電極と信号電極による発光面積の減少を防ぐ
ことができるため、基板面を有効に使うことができる。
When constructing a simple matrix type light emitting element array using ECL light emitting elements using comb-shaped electrodes, scanning electrode lines and signal electrode lines intersect on the same substrate via an insulating layer. When each light emitting element is connected to the scanning electrode line and the signal electrode line via the contact hole, it is possible to form a light emitting layer after forming a wiring and a comb-shaped electrode in the array. Therefore, the manufacturing process can be simplified, the manufacturing cost can be reduced, and the reduction of the light emitting area by the scanning electrode and the signal electrode can be prevented, so that the substrate surface can be used effectively.

【0071】[0071]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に係る
発光素子の具体的構成について図面を参照しながら詳細
に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a specific structure of a light emitting device according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0072】図1は、本発明の一態様に係る、櫛形電極
を用いた発光素子を概略的に示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a light-emitting element using a comb electrode according to one embodiment of the present invention.

【0073】図1において、参照符号11は絶縁性基板
を示し、この絶縁性基板11上に一対の櫛形電極12
a、12bが所定の間隔で相互に組合されて設置されて
いる。これら基板11と一対の電極12a、12bの上
に、発光層15が設けられており、発光素子17が構成
されている。
In FIG. 1, reference numeral 11 denotes an insulating substrate, and a pair of comb-shaped electrodes 12
a and 12b are installed in combination with each other at predetermined intervals. A light emitting layer 15 is provided on the substrate 11 and the pair of electrodes 12a and 12b, and a light emitting element 17 is configured.

【0074】櫛形電極12a、12bは、互いに平行に
配列された多数の素電極13a、13bと、それぞれの
素電極13a、13bの一端を支持する支持部14a、
14bとから構成される。一方の櫛形電極12aの素電
極13a、他方の櫛形電極12bの素電極13bとは、
それぞれがかみ合うように交互に配列している。櫛形電
極12a、12bの支持部14a、14b間には、電源
16により所定の電圧が印加されるようになっている。
The comb electrodes 12a and 12b are composed of a large number of element electrodes 13a and 13b arranged in parallel with each other, and a support portion 14a for supporting one end of each element electrode 13a and 13b.
14b. The elementary electrode 13a of one comb-shaped electrode 12a and the elementary electrode 13b of the other comb-shaped electrode 12b are:
They are arranged alternately so as to engage each other. A predetermined voltage is applied by a power supply 16 between the support portions 14a and 14b of the comb electrodes 12a and 12b.

【0075】図2は、本発明の他の態様に係る、平行平
板電極を用いた発光素子を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing a light emitting device using parallel plate electrodes according to another embodiment of the present invention.

【0076】図2に示す発光素子25では、一対の平板
電極21、22が、それぞれ平行に対向して配置され、
それらの間に発光層23が挟持されている。平板電極2
1、22間には、電源24により所定の電圧が印加され
るようになっている。
In the light emitting device 25 shown in FIG. 2, a pair of plate electrodes 21 and 22 are arranged to face each other in parallel.
The light emitting layer 23 is sandwiched between them. Plate electrode 2
A predetermined voltage is applied between the first and the second 22 by the power supply 24.

【0077】図3は、電極の他の例を示す斜視図であ
る。この例では、電極31、32が直角の渦巻状に組合
されて配置されており、電極31、32間には電源33
により所定の電圧が印加されるようになっている。
FIG. 3 is a perspective view showing another example of the electrode. In this example, the electrodes 31 and 32 are arranged in a right-angle spiral combination, and a power supply 33 is provided between the electrodes 31 and 32.
, A predetermined voltage is applied.

【0078】以下、本発明の種々の実施例および比較例
を示す。
Hereinafter, various examples and comparative examples of the present invention will be described.

【0079】[0079]

【実施例】【Example】

(実施例1)まず、ガラス基板11上に厚さ10nmの
白金膜をスパッタ法により積層し、次に、白金膜上に所
定のパターンのレジストを形成して、これをマスクとし
て用いて、反応性イオンエッチング(RIE)により白
金膜をエッチングし、一対の櫛形電極を形成した。続い
て、このガラス基板と一対の櫛形電極の上に、以下の化
学式31で示される発光性物質1g、それぞれが以下の
化学式32、化学式30で示される陽イオンおよび陰イ
オンからなる電解質0.1g、以下の化学式33で示さ
れるポリシロキサン0.1g、およびアルミニウムトリ
イソプロポキシド10mgの塩化メチレン溶液をアルゴ
ンガス中で塗布し、電極間に3Vの電圧を印加しながら
5時間放置し、80℃で1時間加熱することにより発光
素子を得た。
(Example 1) First, a platinum film having a thickness of 10 nm is laminated on a glass substrate 11 by a sputtering method. Next, a resist having a predetermined pattern is formed on the platinum film, and a reaction is performed using the resist as a mask. The platinum film was etched by reactive ion etching (RIE) to form a pair of comb electrodes. Subsequently, on this glass substrate and a pair of comb-shaped electrodes, 1 g of a luminescent substance represented by the following chemical formula 31 and 0.1 g of an electrolyte composed of a cation and an anion represented by the following chemical formulas 32 and 30, respectively: A solution of 0.1 g of polysiloxane represented by the following chemical formula 33 and a solution of 10 mg of aluminum triisopropoxide in methylene chloride were applied in argon gas, and left at 80 ° C. for 5 hours while applying a voltage of 3 V between the electrodes. For 1 hour to obtain a light-emitting element.

【0080】[0080]

【化8】 上記のようにして得られた発光素子の櫛形電極の素電極
は、長さ10mm、幅5μm、高さ10nmで、対向す
る面の間隔が15μmとなるように平行に並び、縦横が
それぞれ10mmの列を形成している。また、この一対
の櫛形電極の対向する素電極の面間隔は5μmとなるよ
うに設置された。この発光層中の陽イオンと陰イオン
は、それぞれ分子量が200以上であることが確認され
た。
Embedded image The elementary electrodes of the comb-shaped electrode of the light-emitting element obtained as described above are 10 mm in length, 5 μm in width, and 10 nm in height, and are arranged in parallel so that the distance between opposing surfaces is 15 μm. Form a row. In addition, the pair of comb-shaped electrodes was set so that the surface interval between the opposing element electrodes was 5 μm. It was confirmed that the cation and the anion in this light emitting layer each had a molecular weight of 200 or more.

【0081】(実施例2)ポリシロキサンを50mg用
い、有機マトリックスとしてポリエチレンオキシドを
0.1g用いたこと以外は、実施例1と同様の方法によ
り発光素子を作製した。発光層中の陽イオンと陰イオン
は、それぞれ分子量が200以上であることが確認され
た。
Example 2 A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that 50 mg of polysiloxane was used and 0.1 g of polyethylene oxide was used as an organic matrix. It was confirmed that the cation and the anion in the light emitting layer each had a molecular weight of 200 or more.

【0082】(比較例1)電解質にトリフルオロメタン
スルホニウムリチウム(LiCF3 SO3 )を用いたこ
と以外は実施例1と同様の方法により発光素子を作製し
た。
Comparative Example 1 A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that lithium trifluoromethanesulfonium (LiCF 3 SO 3 ) was used as an electrolyte.

【0083】(比較例2)電解質にトリフルオロメタン
スルホニウムリチウムを用いたこと以外は実施例2と同
様の方法により発光素子を作製した。
Comparative Example 2 A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 2 except that lithium trifluoromethanesulfonium was used as the electrolyte.

【0084】以上のようにして作製した発光素子のそれ
ぞれについて、立ち上げ時間と応答速度を測定した。立
ち上げ時間の測定は、3Vの電圧を印加したときに点灯
までにかかる時間を計測することにより行い、応答速度
の測定は、10mAで定電流駆動した後、櫛形電極同士
を1分間短絡し、またすぐに電圧の印加を開始したとき
に、電圧の再印加から10mAで定電流駆動したときの
輝度の90%に達するまでの時間を計測することにより
行った。その結果を表1に示す。
For each of the light emitting devices manufactured as described above, the rise time and the response speed were measured. The rise time was measured by measuring the time required for lighting when a voltage of 3 V was applied, and the response speed was measured at a constant current of 10 mA, and the comb electrodes were short-circuited for 1 minute. When the application of the voltage was started immediately, the time was measured from the reapplication of the voltage until the luminance reached 90% of the luminance when the device was driven at a constant current of 10 mA. Table 1 shows the results.

【0085】[0085]

【表1】 表1から明らかなように、比較例1、2で示される従来
の発光素子は、電圧の印加から発光までに数分かかるの
に対し、実施例1と2で示される本発明による発光素子
は、電圧の印加とほぼ同時に発光を開始する。また、応
答速度についても、従来の発光素子は数ミリセカンド必
要であるのに対し本発明による発光素子は、その1/1
0程度の時間しか必要としていない。したがって、本発
明によれば、立ち上げ時間を短縮し、応答速度を速くす
ることができる。
[Table 1] As is clear from Table 1, the conventional light-emitting elements shown in Comparative Examples 1 and 2 take several minutes from application of a voltage to light emission, whereas the light-emitting elements according to the present invention shown in Examples 1 and 2 are , The light emission starts almost simultaneously with the application of the voltage. Regarding the response speed, the conventional light emitting device requires several milliseconds, whereas the light emitting device according to the present invention requires 1/1 times the required speed.
Only about 0 times are needed. Therefore, according to the present invention, the start-up time can be reduced and the response speed can be increased.

【0086】なお、実施例1、2では電極に櫛形電極を
用いた場合について説明したが、図2および図3に示さ
れる電極を用いた場合にも同様の効果を得ることができ
る。
In the first and second embodiments, the case where a comb-shaped electrode is used as an electrode has been described. However, similar effects can be obtained when the electrodes shown in FIGS. 2 and 3 are used.

【0087】(実施例3)図4に、本実施例に係る発光
素子に用いた櫛形電極を拡大して示す。
(Embodiment 3) FIG. 4 shows an enlarged view of a comb-shaped electrode used in a light emitting device according to this embodiment.

【0088】図4において、破線で囲まれている面は、
この発光素子の発光面であって、その面積はS(c
2 )で表される。また、素電極の高さ47はh(μ
m)で表され、電極間距離48はd(μm)で表され
る。
In FIG. 4, the surface surrounded by the broken line is
The light-emitting surface of this light-emitting element has an area of S (c
m 2 ). The height 47 of the elementary electrode is h (μ
m), and the inter-electrode distance 48 is represented by d (μm).

【0089】本実施例に係る発光素子は、素電極43
a、43bの長手方向の抵抗をR(オーム)、図4の破
線で囲まれる範囲の中にある素電極43a、43bの本
数をN(本)としたとき、不等式R・S/N<100オ
ーム・cm2 で示される関係にある。
The light emitting device according to this embodiment has
Assuming that the resistance in the longitudinal direction of a and 43b is R (ohm) and the number of elementary electrodes 43a and 43b in the range surrounded by the broken line in FIG. 4 is N (number), the inequality R · S / N <100 The relationship is shown in ohm · cm 2 .

【0090】本実施例に係る発光素子を以下のようにし
て製造した。
The light emitting device according to this example was manufactured as follows.

【0091】まず、ガラス基板上に厚さ10nmの白金
膜をスパッタ法により積層した。次に、白金膜上に所定
のパターンのレジストを形成し、これをマスクとして用
いて反応性イオンエッチング(RIE)により白金膜を
エッチングし、図4に示すように、一対の櫛形電極42
a、42bを形成した。続いて、このガラス基板と櫛形
電極42a、42bの上に、下記化学式34で示される
発光性物質1g、トリフルオロメタンスルホニウムリチ
ウム0.15g、およびポリエチレンオキシド0.85
gの塩化メチレン溶液をアルゴンガス中で塗布し、10
0℃で3時間真空中で乾燥することにより、下記化学式
34で示される発光性物質は、下記化学式35で示され
る発光性物質へと変化し、発光素子を得た。乾燥後の発
光層の厚さは10μmであり、この発光層中に含まれる
水分は10ppmであった。
First, a platinum film having a thickness of 10 nm was laminated on a glass substrate by a sputtering method. Next, a resist having a predetermined pattern is formed on the platinum film, and the platinum film is etched by reactive ion etching (RIE) using the resist as a mask. As shown in FIG.
a and 42b were formed. Subsequently, on this glass substrate and the comb electrodes 42a and 42b, 1 g of a luminescent substance represented by the following chemical formula 34, 0.15 g of lithium trifluoromethanesulfonium, and 0.85 g of polyethylene oxide
g of methylene chloride solution in argon gas
By drying in a vacuum at 0 ° C. for 3 hours, the light-emitting substance represented by the following chemical formula 34 was changed to a light-emitting substance represented by the following chemical formula 35, and a light-emitting element was obtained. The thickness of the light emitting layer after drying was 10 μm, and the moisture contained in the light emitting layer was 10 ppm.

【0092】[0092]

【化9】 このような発光素子において、櫛形電極42a、42b
を構成する素電極43a、43bの寸法は、長さ10m
m、幅5μm、高さ10nmとした。いずれの櫛形電極
も、端部で共通接続される素電極間の間隔は15μmで
あり、従って、素電極43aと素電極43bとが、図に
示すように互い違いに組合された場合、素電極43aと
素電極43bとの間隔は5μmとなる。
Embedded image In such a light emitting element, the comb-shaped electrodes 42a, 42b
Have a length of 10 m
m, width 5 μm, and height 10 nm. In any of the comb-shaped electrodes, the distance between the element electrodes commonly connected at the ends is 15 μm. Therefore, when the element electrodes 43a and 43b are alternately combined as shown in the figure, the element electrodes 43a And the element electrode 43b has an interval of 5 μm.

【0093】なお、櫛形電極42a、42bの寸法は、
10mm×10mmである。
The dimensions of the comb electrodes 42a and 42b are
It is 10 mm × 10 mm.

【0094】また、このときの素電極43a、43bの
抵抗値Rは21,400オーム、素電極43a、43b
の本数Nは1,000本、発光面積Sは1.0cm2
あった。すなわち、R・S/Nは21.4オーム・cm
2 であった。
At this time, the resistance values R of the element electrodes 43a and 43b are 21,400 ohms, and the resistance values R of the element electrodes 43a and 43b are
Was 1,000 and the light emitting area S was 1.0 cm 2 . That is, R · S / N is 21.4 ohm · cm
Was 2 .

【0095】(比較例3)素電極43a、43bの高さ
が1.5nmであること以外は実施例3と同様にして発
光素子を作製した。このときのR・S/Nは140オー
ム・cm2 であった。
Comparative Example 3 A light emitting device was manufactured in the same manner as in Example 3, except that the heights of the element electrodes 43a and 43b were 1.5 nm. The RS / N at this time was 140 ohm · cm 2 .

【0096】(実施例4)一対の櫛形電極42a、42
bを以下に示す方法により作製したこと以外は、実施例
3と同様にして発光素子を作製した。
(Embodiment 4) A pair of comb-shaped electrodes 42a, 42
A light emitting device was produced in the same manner as in Example 3, except that b was produced by the method described below.

【0097】まず、ガラス基板上に、厚さ50nmのチ
タン膜、厚さ150nmのニッケル膜、および厚さ50
nmのパラジウム膜を、順次スパッタ法により積層し
た。次に、この積層された膜に、所定のパターンのレジ
ストを形成し、これをマスクとして用いて金の電気メッ
キ(田中貴金属製メッキ液、厚さ5μm)を行った。レ
ジストを剥離した後、希王水でパラジウム膜とニッケル
膜を剥離し、希弗酸でチタン膜を剥離して図4に示すよ
うに一対の櫛形電極42a、42bを形成した。ここ
で、この櫛形電極42aの素電極43aの高さ47は5
μm、幅は2μm、素電極43aと素電極43bとの電
極間距離は5μmであって、発光面は10mm×10m
mであった。
First, a 50-nm-thick titanium film, a 150-nm-thick nickel film, and a 50-nm-thick
nm palladium films were sequentially laminated by a sputtering method. Next, a resist having a predetermined pattern was formed on the laminated film, and gold was electroplated (plating solution made of Tanaka precious metal, thickness 5 μm) using the resist as a mask. After stripping the resist, the palladium film and the nickel film were stripped with dilute aqua regia and the titanium film was stripped with dilute hydrofluoric acid to form a pair of comb-shaped electrodes 42a and 42b as shown in FIG. Here, the height 47 of the element electrode 43a of the comb-shaped electrode 42a is 5
μm, the width is 2 μm, the distance between the electrodes 43a and 43b is 5 μm, and the light emitting surface is 10 mm × 10 m.
m.

【0098】この櫛形電極42a、42bの素電極43
a、43bの抵抗値Rは24オーム、素電極42a、4
3bの本数Nは1,420本、発光面積Sは1.0cm
2 であった。すなわち、R・S/Nは0.017オーム
・cm2 であった。また、乾燥後の発光素子の発光層の
厚さは10μmで、発光層中に含まれる水分は10pp
mであった。
The element electrodes 43 of the comb electrodes 42a and 42b
a, 43b have a resistance R of 24 ohms and the element electrodes 42a, 4b
The number N of 3b is 1,420, and the emission area S is 1.0 cm.
Was 2 . That is, R · S / N was 0.017 ohm · cm 2 . The thickness of the light-emitting layer of the light-emitting element after drying was 10 μm, and the amount of water contained in the light-emitting layer was 10 pp.
m.

【0099】(参考例1)発光層中の含水率が100p
pmであること以外は実施例4と同様の発光素子を作製
した。
(Reference Example 1) The water content in the light emitting layer was 100 p
A light-emitting device similar to that of Example 4 was produced except that the pm was used.

【0100】(実施例5)実施例4に示されるようにし
て一対の櫛形電極42a、42bを作製した後、これら
一対の櫛形電極42a、42bの表面を親水化処理を施
した多孔質状のポリエチレンで被覆した。これに、下記
化学式36で示される0.2モル/lの発光性物質と、
0.5モル/lのトリフルオロメタンスルホニウムリチ
ウムとを有するプロピレンカーバイト溶液を、アルゴン
ガス中で滴下して、一対の櫛形電極42a、42bとポ
リエチレンをこの溶液で満たした。この溶液を満たした
電極および基板をエチレン酢酸ビニル共重合体シートの
上に置き、溶液を満たしたポリエチレン上に、さらにア
ルミ箔をラミネートしたエチレン酢酸ビニル共重合体シ
ートをのせ、両シートをホットメルト法によりシールし
て発光素子を得た。
(Example 5) After a pair of comb-shaped electrodes 42a and 42b were prepared as shown in Example 4, a porous surface was obtained by hydrophilizing the surfaces of the pair of comb-shaped electrodes 42a and 42b. Coated with polyethylene. 0.2 mol / l of a luminescent substance represented by the following chemical formula 36:
A propylene carbide solution containing 0.5 mol / l lithium trifluoromethanesulfonium was dropped in argon gas to fill the pair of comb electrodes 42a and 42b and polyethylene with this solution. Place the electrode and substrate filled with this solution on the ethylene vinyl acetate copolymer sheet, place the ethylene vinyl acetate copolymer sheet laminated with aluminum foil on the polyethylene filled with the solution, and hot melt both sheets. Sealing was performed by a method to obtain a light emitting device.

【0101】[0101]

【化10】 (参考例2)多孔質ポリエチレンを用いないこと以外
は、実施例5と同様にして発光素子を作製した。
Embedded image (Reference Example 2) A light emitting device was produced in the same manner as in Example 5, except that porous polyethylene was not used.

【0102】(実施例6)一対の櫛形電極42a、42
bを作製した後、塩化白金酸3gをイオン交換水100
mlに溶かし、これに塩酸1滴、および酢酸鉛30mg
を加えたメッキ液を用いて白金黒付けメッキを行ったこ
と以外は、実施例4と同様にして発光素子を作製した。
(Embodiment 6) A pair of comb-shaped electrodes 42a, 42
b), 3 g of chloroplatinic acid was added to 100 parts of ion-exchanged water.
dissolved in 1 ml of hydrochloric acid and 30 mg of lead acetate.
A light-emitting element was manufactured in the same manner as in Example 4, except that plating with platinum was performed using a plating solution to which was added.

【0103】以上のようにして得られた実施例3〜6、
比較例3、および参考例1、2の発光素子について以下
の測定を行った。すなわち、これら発光素子に3Vの直
流電圧を印加して、3分間フォーミングを行った後、1
0mAの定電流駆動を行い、そのときの初期輝度と電圧
を測定した。次に、前述の方法で応答速度を測定し、さ
らに、2mAで定電流駆動したときの輝度半減時間を測
定した。なお、実施例3〜5、参考例1および比較例3
の素子の測定は純アルゴン雰囲気中で行い、実施例6お
よび参考例2の素子の測定は大気中で行った。これらの
測定結果を表2に示す。
Examples 3 to 6 obtained as described above
The following measurements were performed on the light-emitting elements of Comparative Example 3 and Reference Examples 1 and 2. That is, after applying a DC voltage of 3 V to these light emitting elements and performing forming for 3 minutes,
A constant current drive of 0 mA was performed, and the initial luminance and voltage at that time were measured. Next, the response speed was measured by the above-described method, and the luminance half-life time when driving at a constant current of 2 mA was measured. Examples 3 to 5, Reference Example 1 and Comparative Example 3
The device of Example 6 was measured in a pure argon atmosphere, and the devices of Example 6 and Reference Example 2 were measured in the air. Table 2 shows the measurement results.

【0104】[0104]

【表2】 上記表2から次のことが分かる。すなわち、実施例3と
比較例3の発光素子は、それぞれR・S/Nが21.4
オーム・cm2 、140オーム・cm2 であるため、そ
れぞれの特性を比較すると、初期輝度、印加電圧、応答
速度、および輝度半減時間のすべてにおいて、実施例3
の素子のほうが優れた特性を示している。
[Table 2] The following can be seen from Table 2 above. That is, each of the light emitting elements of Example 3 and Comparative Example 3 has an R / S / N of 21.4.
Since the characteristics were ohm · cm 2 and 140 ohm · cm 2 , the characteristics of Example 3 were found in all of the initial luminance, the applied voltage, the response speed, and the luminance half-life time.
The element has better characteristics.

【0105】実施例3と実施例4とは、いずれもR・S
/Nが100オーム・cm2 未満であるが、実施例3の
発光素子では素電極43a、43bの高さ47が10n
mであるのに対し、実施例4の発光素子では5μmとな
っていることにおいて相違する。そのため、実施例3の
素子に比べて、実施例4の素子は全ての特性において優
れている。
In each of the third embodiment and the fourth embodiment, R · S
/ N is less than 100 ohm · cm 2 , but in the light emitting device of Example 3, the height 47 of the element electrodes 43a and 43b is 10n.
m, whereas the light emitting device of Example 4 is 5 μm. For this reason, the element of Example 4 is superior to the element of Example 3 in all characteristics.

【0106】実施例4と実施例5とは、実施例4では電
解質を有機のマトリックスとともに用いて固体電解質と
しているのに対して、実施例5では電解質をプロピレン
カーバイト溶液にして多孔質状のポリエチレンに満たし
て用いていることにおいて相違する。そのため、両者の
特性を比較すると、輝度と素子寿命では実施例4の素子
が勝り、印加電圧と応答速度では実施例5の素子が優れ
ている。また、実施例4と比較例3の素子を比較する
と、全ての特性において、実施例5の素子のほうが優れ
ている。
In the fourth embodiment and the fifth embodiment, the solid electrolyte is prepared by using the electrolyte together with the organic matrix in the fourth embodiment, while the propylene carbide solution is used as the electrolyte in the fifth embodiment. They differ in that they are filled with polyethylene. Therefore, comparing the characteristics of the two, the element of Example 4 is superior in luminance and element life, and the element of Example 5 is superior in applied voltage and response speed. Further, comparing the devices of Example 4 and Comparative Example 3, the device of Example 5 is superior in all characteristics.

【0107】実施例4と実施例6とは、実施例6では素
電極45に白金黒処理を施している点で実施例4と異な
っているが、そのため、全ての特性において実施例6の
素子のほうが優れてる。
Embodiment 4 and Embodiment 6 are different from Embodiment 4 in that the elementary electrode 45 is subjected to platinum black treatment in Embodiment 6, and therefore, the element of Embodiment 6 in all characteristics. Is better.

【0108】以上のように、R・S/Nが100オーム
・cm2 未満、素電極43a、43bの高さ47が5μ
m以上、素電極43a、43bが電気伝導性多孔質であ
る場合のいずれにおいても、輝度の向上、印加電圧の低
減、応答速度の短縮、および素子寿命の改善を実現でき
ることがわかる。
As described above, the R / S / N is less than 100 ohm · cm 2 , and the height 47 of the element electrodes 43a and 43b is 5 μm.
m or more, it can be seen that in any of the cases where the element electrodes 43a and 43b are electrically conductive and porous, it is possible to improve the luminance, reduce the applied voltage, shorten the response speed, and improve the element life.

【0109】なお、実施例4と参考例1の素子とでは、
発光層中の含水率のみが異なっている。それぞれの特性
を比較すると、参考例1の素子は、実施例4の素子より
も寿命特性が大きく劣っている。これは、水分子やOH
- イオンの酸化と水素イオンや水分子の還元反応が、発
光素子の駆動電圧よりも低い1.3V程度の印加電圧で
進行してしまうこと、水分子により電解質のイオンが不
活性化すること、イオン化した発光性物質のラジカルが
水分子によりクエンチされること等により発光効率が低
下したためと考えられる。すなわち、発光層中の含水率
が低い方が発光効率の低下が生じにくく、寿命特性が良
好になる。この含水率は100ppm以下であることが
好ましく、特に20ppm以下である場合はさらに好ま
しい。
Note that the device of Example 4 and the device of Reference Example 1
Only the water content in the light emitting layer is different. Comparing the respective characteristics, the element of Reference Example 1 is much inferior in the life characteristic to the element of Example 4. This is a water molecule or OH
- reduction of the oxide with hydrogen ions or water molecules ions, it would proceed at a lower 1.3V approximately of the applied voltage than the driving voltage of the light-emitting element, the ion inactivation of the electrolyte by the water molecules, It is considered that the luminous efficiency was reduced due to quenching of the ionized radicals of the luminescent substance by water molecules. That is, the lower the water content in the light emitting layer, the lower the luminous efficiency is likely to occur, and the better the life characteristics. The water content is preferably 100 ppm or less, particularly preferably 20 ppm or less.

【0110】また、実施例5と参考例2とでは、参考例
2の素子では多孔質ポリエチレンを用いていないことの
みが異なっている。それぞれの特性を比較すると、参考
例2の素子は、輝度と素子寿命とが大きく劣っている。
これは、溶液状の電解質を用いた素子で、多孔質ポリエ
チレンを用いると、電解質が溶解された混合物溶液が多
孔質ポリエチレンに含浸され、ゲル状になるため封止が
容易になるが、これを用いないと、溶液が漏れてしまう
ためである。
Further, the difference between Example 5 and Reference Example 2 is that the element of Reference Example 2 does not use porous polyethylene. Comparing the respective characteristics, the device of Reference Example 2 is significantly inferior in luminance and device life.
This is an element using a solution-like electrolyte.If porous polyethylene is used, the mixture solution in which the electrolyte is dissolved is impregnated into the porous polyethylene and becomes a gel, which facilitates sealing. If not used, the solution will leak.

【0111】また、実施例5の発光素子は、多孔質ポリ
エチレンを用いていない実施例4の発光素子と同等の輝
度特性を示している。これは、多孔質ポリエチレンはイ
オンの移動や電子およびホールのホッピングを妨げにく
いためである。さらに、実施例5の発光素子は大気中で
特性を測定されているのにもかかわらず、アルゴン中で
測定された実施例4の発光素子と同等の寿命特性を示し
ている。これは、実施例5に示された発光素子の封止法
により、実用上十分な性能をもつ発光素子を得ることが
できることを示している。
The light emitting device of Example 5 has the same luminance characteristics as the light emitting device of Example 4 using no porous polyethylene. This is because porous polyethylene is unlikely to hinder the movement of ions and the hopping of electrons and holes. Further, the light emitting device of Example 5 shows the same life characteristics as the light emitting device of Example 4 measured in argon, although the characteristics are measured in the atmosphere. This indicates that a light-emitting element having practically sufficient performance can be obtained by the light-emitting element sealing method described in Example 5.

【0112】実施例5の素子と同様に、実施例3、4お
よび6の素子を、エチレン酢酸ビニル共重合体シートで
覆って封止し、大気中で特性測定したところ、アルゴン
ガス中で得られたのと同様な輝度半減寿命が得られた。
Similarly to the device of Example 5, the devices of Examples 3, 4 and 6 were covered with an ethylene-vinyl acetate copolymer sheet and sealed, and the characteristics were measured in the air. The same luminance half life as obtained was obtained.

【0113】(実施例7)実施例5の発光素子に非発光
時に駆動時の0.05%の定電流を印加したときの応答
速度を測定した。すなわち、実施例5の発光素子に10
mAの定電流を印加し、そのときの初期輝度を測定した
後、5μAの定電流を流した。その後、再び10mAの
定電流を流し、電流を10mAに増加させてから輝度が
初期輝度の90%に達するまでの時間を測定した。その
結果、応答速度は50マイクロセカンドであった。
(Example 7) The response speed when a constant current of 0.05% during driving was applied to the light emitting device of Example 5 during non-emission was measured. That is, the light emitting device of Example 5 has 10
After applying a constant current of mA and measuring the initial luminance at that time, a constant current of 5 μA was passed. Thereafter, a constant current of 10 mA was passed again, and the time from when the current was increased to 10 mA to when the luminance reached 90% of the initial luminance was measured. As a result, the response speed was 50 microseconds.

【0114】実施例7で得られた応答速度と、通常の駆
動方法により駆動した実施例5の発光素子の応答速度と
を比較すると、実施例5に示した方法では1000マイ
クロセカンドであったのに対し、実施例7の方法では5
0マイクロセカンドとなり、大幅に改善されている。従
って、非発光時に駆動電圧に対し単位時間当たり平均1
0〜90%の定電圧をECL素子に印加することによ
り、応答速度を速くすることができる。
When the response speed obtained in Example 7 was compared with the response speed of the light emitting device of Example 5 driven by a normal driving method, it was 1000 microseconds in the method shown in Example 5. On the other hand, in the method of the seventh embodiment, 5
0 microseconds, which is a significant improvement. Therefore, when the light is not emitted, the driving voltage averages 1 unit time per unit time.
By applying a constant voltage of 0 to 90% to the ECL element, the response speed can be increased.

【0115】(実施例8)図5に、本実施例に係るアク
ティブマトリックス型の発光素子アレイの回路図を示
す。
(Embodiment 8) FIG. 5 is a circuit diagram of an active matrix type light emitting element array according to this embodiment.

【0116】図5に示すように、この発光素子アレイ
は、櫛形電極および電解質を含む発光層からなるECL
素子を、電流制御用トランジスタおよびキャパシタとと
もにマトリックス状に配置し、接続したものである。電
流制御用トランジスタ51のソース電極とキャパシタ5
2の一方の電極は走査電極線57に接続されている。こ
の電流制御用トランジスタ51のドレイン電極には、櫛
形電極を用いたECL素子53が接続され、その他端は
信号電極線56に接続されている。さらに、キャパシタ
52の他方の電極と電流制御用トランジスタ51のゲー
ト電極は、初段トランジスタ54のドレイン電極に接続
されており、この初段トランジスタ54のソース電極は
信号電極線55に接続され、またゲート電極は走査電極
線58に接続されている。
As shown in FIG. 5, this light-emitting element array has an ECL comprising a comb-shaped electrode and a light-emitting layer containing an electrolyte.
The elements are arranged and connected together with a current controlling transistor and a capacitor in a matrix. Source electrode of current control transistor 51 and capacitor 5
One of the two electrodes is connected to the scanning electrode line 57. An ECL element 53 using a comb-shaped electrode is connected to a drain electrode of the current control transistor 51, and the other end is connected to a signal electrode line 56. Further, the other electrode of the capacitor 52 and the gate electrode of the current control transistor 51 are connected to the drain electrode of the first-stage transistor 54, the source electrode of which is connected to the signal electrode line 55, Are connected to the scanning electrode lines 58.

【0117】このような発光素子アレイの接続構成によ
ると、配線の全長および交差数を減少させることがで
き、それによって断線および短絡などに起因する欠陥の
発生率を減少させることが可能である。その結果、ディ
スプレイの品質の向上が可能である。
According to such a connection configuration of the light emitting element array, it is possible to reduce the total length and the number of intersections of the wiring, thereby reducing the incidence of defects due to disconnection, short circuit, and the like. As a result, the quality of the display can be improved.

【0118】図6に、図5の回路構成に基づく発光素子
アレイの実態配置図を示す。
FIG. 6 shows an actual layout of a light emitting element array based on the circuit configuration of FIG.

【0119】この図で、電流制御用トランジスタ51の
ゲート電極は、走査電極線57と絶縁層を介して重なる
ように配置されている。この、ゲート電極、絶縁層、及
び走査電極線57の配置により、これらは容量成分を有
するため、ゲート電極の電圧を保持するキャパシタ52
を兼ねている。
In this figure, the gate electrode of the current control transistor 51 is arranged so as to overlap the scan electrode line 57 via an insulating layer. Due to the arrangement of the gate electrode, the insulating layer, and the scan electrode line 57, since these have a capacitance component, the capacitor 52 that holds the voltage of the gate electrode
Also serves as.

【0120】図13に、通常の発光素子アレイの実態配
置図を示す。
FIG. 13 shows an actual layout of a normal light emitting element array.

【0121】従来は、図13に示すように、キャパシタ
132と電流制御用トランジスタ131とは異なる場所
に配置されており、キャパシタ132は発光部の一部を
塞いでいる。
Conventionally, as shown in FIG. 13, the capacitor 132 and the current controlling transistor 131 are arranged at different places, and the capacitor 132 blocks a part of the light emitting portion.

【0122】それに対し、図5に示す本実施例の発光素
子アレイでは、電流制御用トランジスタ51のゲート電
極等がキャパシタを兼ねているため、開口率の低下が少
なく、また、キャパシタの容量を大きくすることができ
る。
On the other hand, in the light emitting element array of this embodiment shown in FIG. 5, since the gate electrode and the like of the current control transistor 51 also serve as a capacitor, a decrease in the aperture ratio is small and the capacitance of the capacitor is increased. can do.

【0123】(実施例9)図7に、本実施例に係るアク
ティブマトリックス型の発光素子アレイの回路図を示
す。
(Embodiment 9) FIG. 7 is a circuit diagram of an active matrix type light emitting element array according to this embodiment.

【0124】図7に示すように、ECL素子63の一方
の電極が電極線69に接続されていること以外は、図5
のECL素子と同様に接続構成されている。
As shown in FIG. 7, except that one electrode of the ECL element 63 is connected to the electrode line 69.
In the same manner as the ECL element.

【0125】図8に、本実施例の発光素子アレイの概略
図を示す。
FIG. 8 is a schematic view of a light emitting element array according to this embodiment.

【0126】図8で、電流制御用のトランジスタ61の
ドレイン電極と、ECL素子63(図示せず)の一方の
櫛形電極とは、コンタクトホール60を介して接続され
ている。また、ECL素子63の他方の櫛形電極は、走
査電極線方向に隣接するECL素子の他方の櫛形電極と
電極線69を介して接続されている。
In FIG. 8, the drain electrode of the current control transistor 61 and one of the comb electrodes of the ECL element 63 (not shown) are connected via the contact hole 60. The other comb-shaped electrode of the ECL element 63 is connected to the other comb-shaped electrode of the adjacent ECL element in the scanning electrode line direction via an electrode line 69.

【0127】本実施例の発光素子アレイは、以下のよう
にして作製された。
The light emitting element array of this example was manufactured as follows.

【0128】まず、Si基板上に回路を形成し、この回
路上に厚さ10μmの感光性ポリイミド膜の絶縁層を形
成した。ポリイミド膜にコンタクトホール60を設け、
さらに、電流制御用トランジスタ61のドレイン電極と
ECL素子63の一方の電極とが接続できるように、コ
ンタクトホール60を電気メッキにより金で埋めた。次
に、実施例4に記載した方法により、ポリイミド膜上に
櫛形電極および電極線69を形成し、これに発光層を塗
布して発光素子アレイを得た。
First, a circuit was formed on a Si substrate, and a 10 μm thick insulating layer of a photosensitive polyimide film was formed on the circuit. A contact hole 60 is provided in the polyimide film,
Further, the contact hole 60 was filled with gold by electroplating so that the drain electrode of the current control transistor 61 and one electrode of the ECL element 63 could be connected. Next, a comb-shaped electrode and an electrode wire 69 were formed on the polyimide film by the method described in Example 4, and a light-emitting layer was applied to this to obtain a light-emitting element array.

【0129】この発光素子アレイでは、ECL素子63
の電極が、電極線69を介して隣接するECL素子の電
極と接続されているため、配線の抵抗に起因する電圧低
下、電極劣化を低下させ、電流密度を高めることができ
る。
In this light emitting element array, the ECL element 63
Is connected to the electrode of the adjacent ECL element via the electrode line 69, it is possible to reduce the voltage drop and the electrode deterioration due to the resistance of the wiring and increase the current density.

【0130】また図9に、ECL素子を取り付けた状態
の本実施例の発光素子アレイの実態配置図を示す。
FIG. 9 is a diagram showing the actual arrangement of the light emitting element array of this embodiment with the ECL element attached.

【0131】この図で、ECL素子の一方の櫛形電極
は、電極線69方向に隣接するもの同士で接続されてい
る。また、ECL素子と電流制御用トランジスタのドレ
イン電極とがコンタクトホールを介して接続されている
ため、図6に示す発光素子アレイに比べて発光面を広く
することができる。
In this figure, one comb-shaped electrode of the ECL element is connected between adjacent ones in the electrode line 69 direction. Further, since the ECL element and the drain electrode of the current controlling transistor are connected via the contact hole, the light emitting surface can be made wider than the light emitting element array shown in FIG.

【0132】(実施例10)図10に、本実施例の発光
素子アレイの実態配置図を示す。
(Embodiment 10) FIG. 10 shows an actual layout of a light emitting element array of this embodiment.

【0133】この図に示されるように、隣接する電極線
69同士は、電極線70で接続されており、電極線69
と電極線70とで発光素子アレイに電極線のネットワー
クを形成している。
As shown in this figure, adjacent electrode lines 69 are connected by an electrode line 70,
And the electrode lines 70 form a network of electrode lines in the light emitting element array.

【0134】この発光素子アレイは以下のようにして作
製された。
This light emitting element array was manufactured as follows.

【0135】まず、Si基板上に回路を形成し、この回
路上に厚さ10μmの感光性ポリイミド膜の絶縁層を形
成した。ポリイミド膜にコンタクトホール60を設け、
さらに、電流制御用トランジスタ61のドレイン電極と
ECL素子63の一方の電極とが接続できるように、コ
ンタクトホール60を電気メッキにより金で埋めた。次
に、実施例4に記載した方法により、ポリイミド膜上に
櫛形電極、電極線69および電極線70を形成し、これ
に発光層を塗布して発光素子アレイを得た。
First, a circuit was formed on a Si substrate, and a 10 μm thick insulating layer of a photosensitive polyimide film was formed on the circuit. A contact hole 60 is provided in the polyimide film,
Further, the contact hole 60 was filled with gold by electroplating so that the drain electrode of the current control transistor 61 and one electrode of the ECL element 63 could be connected. Next, a comb-shaped electrode, an electrode line 69, and an electrode line 70 were formed on the polyimide film by the method described in Example 4, and a light-emitting layer was applied thereto to obtain a light-emitting element array.

【0136】この発光素子アレイでは、隣接する電極線
69同士が電極線70により接続されているため、実施
例9と比較して、さらに、配線の抵抗に起因する電圧低
下、電極劣化を低下させ、電流密度を高めることができ
る。
In this light emitting element array, since the adjacent electrode lines 69 are connected to each other by the electrode lines 70, the voltage drop and the electrode deterioration caused by the wiring resistance are further reduced as compared with the ninth embodiment. Thus, the current density can be increased.

【0137】(実施例11)図11に、本実施例の発光
素子アレイの概略図を示す。また、図12に、図11の
発光素子アレイの一画素についての拡大図を示す。これ
らの図に示されるように、1画素当たり2個のコンタク
トホールが設けられている。
(Embodiment 11) FIG. 11 is a schematic diagram of a light emitting element array of this embodiment. FIG. 12 is an enlarged view of one pixel of the light emitting element array in FIG. As shown in these figures, two contact holes are provided per pixel.

【0138】この発光素子アレイは、以下のようにして
作製された。
This light emitting element array was manufactured as follows.

【0139】まず、平行に並ぶ電極線のパターンが形成
された導電性の版に、電界メッキ法で銅の配線層を形成
し、この配線層の上に電着法で絶縁層を形成した。次
に、これらの層をガラス基板に転写して、第1の電極線
を形成した。続いて、以上の操作を再度繰り返して、第
1の電極線と交差するように第2の電極線を形成した。
これら第1、および第2の電極線は、一方が信号電極線
85、86として用いられ、他方が走査電極線87、8
8として用いられる。この電極線上に、厚さ10μmの
ポリイミドの膜を形成した。このポリイミドの膜に、1
画素当たり2個のコンタクトホール89、90を設け、
これを電気メッキにより金で埋め、信号電極線85およ
び走査電極線87を櫛形電極対84と接続可能にした。
さらに、実施例4に記載した方法で、櫛形電極対84を
形成することにより、この櫛形電極の支持部81をコン
タクトホール89を介して走査電極87に接続し、支持
部82をコンタクトホール90を介して信号電極85に
接続した。これに発光層を塗布して単純マトリックス駆
動の発光素子アレイを得た。
First, a copper wiring layer was formed by electroplating on a conductive plate having a pattern of electrode lines arranged in parallel, and an insulating layer was formed on the wiring layer by electrodeposition. Next, these layers were transferred to a glass substrate to form first electrode lines. Subsequently, the above operation was repeated again to form a second electrode line so as to intersect with the first electrode line.
One of the first and second electrode lines is used as the signal electrode lines 85 and 86, and the other is the scanning electrode lines 87 and 8
Used as 8. On this electrode wire, a polyimide film having a thickness of 10 μm was formed. 1
Two contact holes 89, 90 are provided for each pixel,
This was filled with gold by electroplating so that the signal electrode line 85 and the scanning electrode line 87 could be connected to the comb-shaped electrode pair 84.
Further, by forming the comb-shaped electrode pair 84 by the method described in the fourth embodiment, the supporting portion 81 of the comb-shaped electrode is connected to the scanning electrode 87 via the contact hole 89, and the supporting portion 82 is formed in the contact hole 90. Connected to the signal electrode 85 via A light emitting layer was applied to this to obtain a light emitting element array driven by a simple matrix.

【0140】以上のようにして得られる単純マトリック
ス駆動の発光素子アレイは、走査電極線と信号電極線と
が同一基板上で交差しており、電極線と櫛形電極とがコ
ンタクトホールを介して接続されているため、安価で、
走査電極、信号電極による発光面の減少がなく、基板面
を有効に使うことが可能である。
In the light-emitting element array driven by simple matrix obtained as described above, the scanning electrode lines and the signal electrode lines intersect on the same substrate, and the electrode lines and the comb-shaped electrodes are connected via the contact holes. Is cheaper,
The light emitting surface is not reduced by the scanning electrodes and the signal electrodes, and the substrate surface can be used effectively.

【0141】[0141]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
発光層を構成する電解質として、200以上の分子量の
陽イオンおよび陰イオンからなる塩類を用いることによ
り、立ち上げ時間が短く、かつ応答速度が速い発光素子
が得られる。
As described above, according to the present invention,
By using a salt composed of a cation and an anion having a molecular weight of 200 or more as an electrolyte constituting the light-emitting layer, a light-emitting element having a short startup time and a high response speed can be obtained.

【0142】また、電極として所定の構成の櫛形電極を
用いることにより、応答速度が速く、輝度が向上され、
印加電圧の上昇がなく、さらに素子寿命が長い発光素子
が得られる。
Further, by using a comb-shaped electrode having a predetermined configuration as an electrode, the response speed is increased, the luminance is improved, and
A light-emitting element having a long lifetime can be obtained without increasing the applied voltage.

【0143】また、非発光時に駆動電圧に対し単位時間
当り平均10〜90%の電圧を駆動電圧の印加方向と同
方向に印加することにより、応答速度を速くすることが
できる。
By applying an average voltage of 10 to 90% of the drive voltage per unit time in the same direction as the drive voltage during non-emission, the response speed can be increased.

【0144】さらに、複数のECL素子を所定の接続形
態をもってマトリックス状に配置することにより、発光
面積を減少させることなく、回路の抵抗を減少させて電
圧低下を少なくし、輝度低下を防ぐことができる。
Furthermore, by arranging a plurality of ECL elements in a matrix with a predetermined connection form, it is possible to reduce the voltage drop by reducing the resistance of the circuit without reducing the light emitting area, thereby preventing the luminance drop. it can.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一態様に係る発光素子を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view illustrating a light-emitting element according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一態様に係る発光素子を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view illustrating a light-emitting element according to one embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一態様に係る発光素子に用いられる電
極の例を示す斜視図。
FIG. 3 is a perspective view illustrating an example of an electrode used for a light-emitting element according to one embodiment of the present invention.

【図4】本発明の一態様に係る発光素子に用いられる櫛
形電極の斜視図。
FIG. 4 is a perspective view of a comb electrode used for a light-emitting element according to one embodiment of the present invention.

【図5】本発明の一態様に係る発光素子アレイの回路構
成図。
FIG. 5 is a circuit diagram of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図6】本発明の一態様に係る発光素子アレイの実態配
置図。
FIG. 6 is an actual layout view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図7】本発明の一態様に係る発光素子アレイの回路構
成図。
FIG. 7 is a circuit diagram of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図8】本発明の一態様に係る発光素子アレイの概略
図。
FIG. 8 is a schematic view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図9】本発明の一態様に係る発光素子アレイの実態配
置図。
FIG. 9 is an actual layout view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図10】本発明の一態様に係る発光素子アレイの実態
配置図。
FIG. 10 is an actual layout view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図11】本発明の一態様に係る発光素子アレイの概略
図。
FIG. 11 is a schematic view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図12】本発明の一態様に係る発光素子アレイの概略
図。
FIG. 12 is a schematic view of a light-emitting element array according to one embodiment of the present invention.

【図13】通常の発光素子アレイの実態配置図。FIG. 13 is an actual layout diagram of a normal light emitting element array.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 …基板 12a…櫛形電極 12b…櫛形電極 13a…素電極 13b…素電極 14a…支持部 14b…支持部 15 …発光層 16 …電源 17 …発光素子 21 …平板電極 22 …平板電極 23 …発光層 24 …電源 25 …発光素子 31 …電極 32 …電極 33 …電源 42a…櫛形電極 42b…櫛形電極 43a…素電極 43b…素電極 44a…支持部 44b…支持部 46 …電源 47 …高さ 48 …距離 51 …電流制御用トランジスタ 52 …キャパシタ 53 …発光素子 54 …初段トランジスタ 55 …信号電極線 56 …信号電極線 57 …走査電極線 58 …走査電極線 60 …コンタクトホール 61 …電流制御用トランジスタ 62 …キャパシタ 63 …発光素子 64 …初段トランジスタ 65 …信号電極線 66 …信号電極線 67 …走査電極線 68 …走査電極線 69 …電極線 70 …電極線 81 …支持部 82 …支持部 83 …素電極 84 …櫛形電極 85 …信号電極線 86 …信号電極線 87 …走査電極線 88 …走査電極線 89 …コンタクトホール 90 …コンタクトホール 131 …電流制御用トランジスタ 132 …キャパシタ 133 …発光素子 134 …初段トランジスタ 135 …信号電極線 136 …信号電極線 137 …走査電極線 138 …走査電極線 139 …グラウンド線 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Substrate 12a ... Comb electrode 12b ... Comb electrode 13a ... Element electrode 13b ... Element electrode 14a ... Support part 14b ... Support part 15 ... Light emitting layer 16 ... Power supply 17 ... Light emitting element 21 ... Flat electrode 22 ... Flat electrode 23 ... Light emitting layer 24 ... power supply 25 ... light emitting element 31 ... electrode 32 ... electrode 33 ... power supply 42a ... comb electrode 42b ... comb electrode 43a ... element electrode 43b ... element electrode 44a ... support part 44b ... support part 46 ... power supply 47 ... height 48 ... distance 51: Current control transistor 52: Capacitor 53: Light emitting element 54: First stage transistor 55: Signal electrode line 56: Signal electrode line 57: Scan electrode line 58: Scan electrode line 60: Contact hole 61: Current control transistor 62: Capacitor 63: Light-emitting element 64: First-stage transistor 65: Signal electrode line 66: Signal Polar line 67 ... Scan electrode line 68 ... Scan electrode line 69 ... Electrode line 70 ... Electrode line 81 ... Support part 82 ... Support part 83 ... Element electrode 84 ... Comb electrode 85 ... Signal electrode line 86 ... Signal electrode line 87 ... Scan electrode Line 88 Scanning electrode line 89 Contact hole 90 Contact hole 131 Current control transistor 132 Capacitor 133 Light emitting element 134 First transistor 135 Signal electrode line 136 Signal electrode line 137 Scanning electrode line 138 Scanning electrode Line 139… Ground line

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐野 健二 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 浅川 鋼児 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 高見 則雄 神奈川県川崎市幸区堀川町72番地 株式会 社東芝川崎事業所内 (72)発明者 小松 哲郎 神奈川県横浜市磯子区新磯子町33番地 株 式会社東芝生産技術研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Kenji Sano 1st, Komukai Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Inside the Toshiba R & D Center Co., Ltd. No. 1, Toshiba-cho, Toshiba R & D Center (72) Inventor Norio Takami 72, Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki, Kanagawa 33 Isogocho Inside Toshiba Production Technology Research Institute

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の電極と、これら一対の電極の間に
設けられ、発光性物質および電解質を含む発光層とを具
備し、前記電解質がそれぞれ200以上の分子量の陽イ
オンおよび陰イオンからなる塩類であることを特徴とす
る発光素子。
1. A semiconductor device comprising: a pair of electrodes; and a light-emitting layer provided between the pair of electrodes and including a light-emitting substance and an electrolyte, each of the electrolytes comprising a cation and an anion having a molecular weight of 200 or more. A light-emitting element, which is a salt.
【請求項2】 前記電解質がマトリックスと塩類との複
合体からなる固体電解質であることを特徴とする請求項
1に記載の発光素子。
2. The light emitting device according to claim 1, wherein the electrolyte is a solid electrolyte comprising a complex of a matrix and a salt.
【請求項3】 基板と、前記基板上に設けられた一対の
櫛形電極と、前記櫛形電極に接して設けられ、発光性物
質および電解質を含む発光層とを具備し、前記一対の櫛
形電極を構成する素電極の本数N(本)、前記素電極の
長手方向の両端における抵抗値R(オーム)、および発
光面積S(cm2 )が、不等式 R/N<100/S を満たす関係にあることを特徴とする発光素子。
3. A substrate comprising: a substrate; a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate; and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a light-emitting substance and an electrolyte. The number N (pieces) of elementary electrodes, the resistance value R (ohm) at both ends in the longitudinal direction of the elementary electrodes, and the light emitting area S (cm 2 ) satisfy the inequality R / N <100 / S. A light-emitting element, comprising:
【請求項4】 基板と、前記基板上に設けられた一対の
櫛形電極と、前記櫛形電極に接して設けられ、発光性物
質および電解質を含む発光層とを具備し、前記櫛形電極
を構成する素電極の前記基板面に対して垂直な方向の厚
さが0.5μm以上であることを特徴とする発光素子。
4. A comb-shaped electrode comprising a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a luminescent substance and an electrolyte. A light emitting element, wherein a thickness of the elementary electrode in a direction perpendicular to the substrate surface is 0.5 μm or more.
【請求項5】 基板と、前記基板上に設けられた一対の
櫛形電極と、前記櫛形電極に接して設けられ、発光性物
質および電解質を含む発光層とを具備し、前記櫛形電極
を構成する素電極の表面が電気伝導性多孔質であること
を特徴とする発光素子。
5. A comb-shaped electrode comprising a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a light-emitting substance and an electrolyte. A light emitting device, wherein the surface of the elementary electrode is electrically conductive and porous.
【請求項6】 基板と、前記基板上に設けられた一対の
櫛形電極と、前記櫛形電極に接して設けられ、発光性物
質および電解質を含む発光層とを具備する発光素子の駆
動方法において、非発光時に駆動電圧に対し単位時間当
り平均10〜90%の電圧を駆動電圧の印加方向と同方
向に前記一対の櫛形電極に印加することを特徴とする発
光素子駆動方法。
6. A method for driving a light-emitting element including a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and including a light-emitting substance and an electrolyte, A method for driving a light emitting device, comprising applying an average voltage of 10 to 90% per unit time with respect to a drive voltage to the pair of comb electrodes in a non-emission state in the same direction as the drive voltage application direction.
【請求項7】 基板と前記基板上に設けられた一対の櫛
形電極と前記櫛形電極に接して設けられ発光性物質およ
び電解質を含む発光層とを具備する発光素子、電流制御
用トランジスタ、およびキャパシタからなる単位画素を
マトリックス状に配列したアクティブマトリックス型の
発光素子アレイにおいて、N行、M列の電流制御用トラ
ンジスタのソース電極とキャパシタの一方の電極とがN
行の走査電極線に接続され、前記単位画素の発光素子の
一方の櫛形電極が前記電流制御用トランジスタのドレイ
ン電極に接続され、前記発光素子の他方の櫛形電極がM
列とは異なる列の信号電極線に接続されていることを特
徴とする発光素子アレイ。
7. A light-emitting element, a current-controlling transistor, and a capacitor each including a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a light-emitting substance and an electrolyte. In the active matrix type light emitting element array in which the unit pixels composed of are arranged in a matrix, the source electrode of the current control transistor in N rows and M columns and one electrode of the capacitor are N
One of the light emitting elements of the unit pixel is connected to the drain electrode of the current control transistor, and the other of the light emitting elements is connected to the scanning electrode line of the row.
A light-emitting element array which is connected to signal electrode lines in a column different from the column.
【請求項8】 基板と前記基板上に設けられた一対の櫛
形電極と前記櫛形電極に接して設けられ発光性物質およ
び電解質を含む発光層とを具備する発光素子、電流制御
用トランジスタ、およびキャパシタからなる単位画素を
マトリックス状に配列したアクティブマトリックス型の
発光素子アレイにおいて、N行、M列の単位画素の電流
制御用トランジスタのドレイン電極に前記単位画素の発
光素子の一方の櫛形電極が接続され、前記単位画素の発
光素子の他方の櫛形電極とN行、(M+1)列の単位画
素の発光素子の他方の櫛形電極とが相互に接続されてい
ることを特徴とする発光素子アレイ。
8. A light-emitting element, a current-controlling transistor, and a capacitor comprising a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrode and containing a light-emitting substance and an electrolyte. In the active matrix type light emitting element array in which the unit pixels composed of are arranged in a matrix, one comb-shaped electrode of the light emitting element of the unit pixel is connected to the drain electrode of the current control transistor of the unit pixel of N rows and M columns. A light emitting element array, wherein the other comb-shaped electrode of the light-emitting element of the unit pixel and the other comb-shaped electrode of the light-emitting element of the unit pixel in N rows and (M + 1) columns are connected to each other.
【請求項9】 信号電極線方向に隣接する前記発光素子
の他方の櫛形電極同士が相互に接続されていることを特
徴とする請求項8に記載の発光素子アレイ。
9. The light emitting element array according to claim 8, wherein the other comb-shaped electrodes of the light emitting elements adjacent to each other in the signal electrode line direction are connected to each other.
【請求項10】 基板と前記基板上に設けられた一対の
櫛形電極と前記櫛形電極に接して設けられ発光性物質お
よび電解質を含む発光層とを具備する発光素子、電流制
御用トランジスタ、およびキャパシタからなる単位画素
をマトリックス状に配列した単純マトリックス型の発光
素子アレイにおいて、走査電極線と信号電極線とが絶縁
層を介して同一基板上で交差しており、各発光素子と、
前記走査電極線および信号電極線とがコンタクトホール
を介して接続されていることを特徴とする発光素子アレ
イ。
10. A light-emitting element, a current-controlling transistor, and a capacitor comprising a substrate, a pair of comb-shaped electrodes provided on the substrate, and a light-emitting layer provided in contact with the comb-shaped electrodes and containing a light-emitting substance and an electrolyte. In a simple matrix type light emitting element array in which unit pixels consisting of are arranged in a matrix, scanning electrode lines and signal electrode lines intersect on the same substrate via an insulating layer, and each light emitting element,
The scanning electrode line and the signal electrode line are connected via a contact hole.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002032035A (en) * 2000-05-12 2002-01-31 Semiconductor Energy Lab Co Ltd El display device and its inspecting method
US8111251B2 (en) 2000-05-12 2012-02-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electro luminescence display device and method of testing the same
JP2016129132A (en) * 2015-12-09 2016-07-14 ルナレック・エイビーLunaLEC AB Light emission electrochemical cell and system, use thereof, and method for their operation

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