JPH1084123A - Solar cell module and manufacture thereof - Google Patents
Solar cell module and manufacture thereofInfo
- Publication number
- JPH1084123A JPH1084123A JP8237836A JP23783696A JPH1084123A JP H1084123 A JPH1084123 A JP H1084123A JP 8237836 A JP8237836 A JP 8237836A JP 23783696 A JP23783696 A JP 23783696A JP H1084123 A JPH1084123 A JP H1084123A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- solar cell
- film
- cell module
- thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上にPN接合
を有する薄膜を形成した太陽電池モジュールに関する。[0001] The present invention relates to a solar cell module in which a thin film having a PN junction is formed on a substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来の薄膜太陽電池モジュールの製造方
法では、例えば図10に示すように、まず透光性のガラ
ス基板1または高分子基板上に薄膜太陽電池Sの表側の
電極層である表面電極2を形成する。そして、薄膜太陽
電池Sを複数直列接続するために表面電極2をレーザー
加工等で分割して複数に分離する(A状態)。2. Description of the Related Art In a conventional method of manufacturing a thin-film solar cell module, first, as shown in FIG. 10, a surface, which is an electrode layer on the front side of a thin-film solar cell S, is placed on a translucent glass substrate 1 or a polymer substrate. The electrode 2 is formed. Then, in order to connect a plurality of thin film solar cells S in series, the surface electrode 2 is divided into a plurality of pieces by laser processing or the like (state A).
【0003】次に、その表面電極2上に太陽、蛍光灯等
の光の照射により起電力を発生する光電変換素子である
PN接合の半導体層3を形成する。そして、この半導体
層3に、次に形成する裏面電極4と表面電極2とを接続
するための開口部3aを設けておく(B状態)。Next, a semiconductor layer 3 of a PN junction, which is a photoelectric conversion element that generates an electromotive force by irradiation of light from the sun, a fluorescent lamp, or the like, is formed on the surface electrode 2. The semiconductor layer 3 is provided with an opening 3a for connecting a back electrode 4 and a front electrode 2 to be formed next (state B).
【0004】その後、半導体層3上に薄膜太陽電池Sの
裏側の電極層である裏面電極4を形成する(C状態)。
そして、この裏面電極4を複数の分離した表面電極2に
対応するようにエッチング処理により分割する。このエ
ッチング処理では、まず裏面電極4上面にスクリーン印
刷等でエッチング時のマスクとなるレジスト5を塗布
し、分割に応じたパターンを形成する。そして、エッチ
ング処理により裏面電極4の不必要な部分を除去する
(D状態)。このエッチング処理が終了すると、レジス
ト5を除去することにより、まず薄膜太陽電池Sが形成
される(E状態)。なお、エッチング処理時に使用され
るレジスト5としては、太陽インキ製造(株)製M−8
5Kや(株)アサヒ化学研究所製MR−500B等が用
いられている。Thereafter, a back electrode 4 which is an electrode layer on the back side of the thin film solar cell S is formed on the semiconductor layer 3 (state C).
Then, the back electrode 4 is divided by an etching process so as to correspond to the plurality of separated front electrodes 2. In this etching process, first, a resist 5 serving as a mask at the time of etching is applied to the upper surface of the back electrode 4 by screen printing or the like, and a pattern corresponding to the division is formed. Then, unnecessary portions of the back electrode 4 are removed by etching (D state). When this etching process is completed, the thin film solar cell S is first formed by removing the resist 5 (E state). The resist 5 used at the time of the etching treatment is M-8 manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
5K and MR-500B manufactured by Asahi Chemical Laboratory Co., Ltd. are used.
【0005】そして、上記薄膜太陽電池Sの裏面電極4
上にこれを機械的衝撃等から保護する保護部材である保
護フィルム6を接合し、薄膜太陽電池モジュールを製造
する。このとき、一般的には裏面電極4上に接着性フィ
ルム7を載置し、さらにその上に保護フィルム6を載置
して接着性フィルム7を薄膜太陽電池Sと保護フィルム
6との間に挟み込み、ラミネーター(真空脱泡と加熱プ
レスとを行う装置)でそれらを接合する(F状態)。The back electrode 4 of the thin film solar cell S
A protective film 6, which is a protective member for protecting this from a mechanical shock or the like, is bonded thereon to manufacture a thin-film solar cell module. At this time, generally, the adhesive film 7 is placed on the back electrode 4, and the protective film 6 is further placed thereon, and the adhesive film 7 is placed between the thin film solar cell S and the protective film 6. They are sandwiched and joined by a laminator (a device for performing vacuum defoaming and hot pressing) (F state).
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記製
造方法では、裏面電極4のエッチング処理時に塗布した
レジスト5を一旦剥離して除去しなければならない。ま
た、接着性フィルム7を薄膜太陽電池Sの裏面電極4上
の正確な位置に配置して固定し、その上に保護フィルム
6を正確な位置に配置して固定し、ラミネーターで1枚
から多くて数枚のバッチ処理をする必要があり、製造工
程が多くなり複雑になっていた。However, in the above manufacturing method, the resist 5 applied during the etching process of the back electrode 4 must be once peeled and removed. In addition, the adhesive film 7 is arranged and fixed at an accurate position on the back electrode 4 of the thin-film solar cell S, and the protective film 6 is arranged and fixed thereon at an accurate position. Therefore, it is necessary to perform batch processing of several sheets, and the number of manufacturing steps is increased and complicated.
【0007】製造工程を簡略化する方法として、圧着ロ
ーラーを使用し、薄膜太陽電池Sの裏面電極4上に保護
フィルム6を接合する方法も提案されているが、薄膜太
陽電池S、保護フィルム6、接着性フィルム7の3種類
を圧着ローラーに正確に投入する必要があり、機構が複
雑となり実用的ではない。As a method of simplifying the manufacturing process, a method of bonding a protective film 6 on the back electrode 4 of the thin-film solar cell S using a pressure roller has been proposed. In addition, it is necessary to accurately feed the three types of adhesive films 7 into the pressure roller, and the mechanism becomes complicated, which is not practical.
【0008】また、膜厚の厚い接着性フィルム7を使用
するため、薄膜太陽電池Sの薄さによる特徴を活かしき
れないことになる。Further, since the thick adhesive film 7 is used, the characteristics of the thin film solar cell S due to its thinness cannot be fully utilized.
【0009】そこで本発明は、上記に鑑み、製造工程の
簡略化およびコストの低減を図り得る太陽電池モジュー
ルおよびその製造方法の提供を目的とする。In view of the above, it is an object of the present invention to provide a solar cell module and a method for manufacturing the same, which can simplify the manufacturing process and reduce the cost.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明による課題解決手
段は、太陽電池の電極層がエッチング処理され、この電
極層にこれを保護するための保護部材が接合された太陽
電池モジュールにおいて、エッチング処理時に接着性を
有するレジストが使用され、このレジストにより電極層
と保護部材とが接合されたものである。したがって、従
来のレジストを剥離する工程、接着性フィルムを配置し
固定する工程が不要となり、製造工程を簡略化できる。
さらに、接着性フィルムが不必要となり、コストの低減
が図れる。The object of the present invention is to provide a solar cell module in which an electrode layer of a solar cell is etched and a protective member for protecting the electrode layer is joined to the electrode layer. Sometimes, a resist having adhesiveness is used, and the electrode layer and the protective member are joined by this resist. Therefore, the conventional process of removing the resist and the process of arranging and fixing the adhesive film become unnecessary, and the manufacturing process can be simplified.
Furthermore, an adhesive film becomes unnecessary, and cost can be reduced.
【0011】そして、レジストが熱可塑性あるいは熱硬
化性を有するものであると、加熱することで接着性が得
られ、これを接着剤として電極層と保護部材とを接合す
ることが可能となる。また、レジストが感圧接着性を有
するものであっても、加圧することで接着性が得られ、
これを接着剤として電極層と保護部材とを接合すること
が可能となる。したがって、レジストにより電極層と保
護部材とを接合する簡単な工程によって太陽電池モジュ
ールを製造することができる。If the resist has thermoplasticity or thermosetting properties, adhesiveness can be obtained by heating, and the adhesive can be used as an adhesive to bond the electrode layer and the protective member. In addition, even if the resist has pressure-sensitive adhesive properties, adhesiveness can be obtained by applying pressure,
Using this as an adhesive, the electrode layer and the protective member can be joined. Therefore, the solar cell module can be manufactured by a simple process of joining the electrode layer and the protective member with the resist.
【0012】[0012]
(第一の実施形態)本発明の薄膜太陽電池モジュール
は、基本的には図10に示した従来のものと同様であ
り、薄膜太陽電池Sの裏面電極4がエッチング処理さ
れ、裏面電極4にこれを保護するための保護フィルム6
が接合されているが、エッチング処理時に接着性を有す
る熱可塑性あるいは熱硬化性のレジスト5が使用され、
接着性フィルム7で裏面電極4と保護フィルム6とを接
合するのではなく、レジスト5により裏面電極4と保護
フィルム6とを貼り合わせている。(First Embodiment) The thin-film solar cell module of the present invention is basically the same as the conventional one shown in FIG. Protective film 6 for protecting this
Are bonded, but a thermoplastic or thermosetting resist 5 having adhesiveness during the etching process is used,
Instead of bonding the back electrode 4 and the protective film 6 with the adhesive film 7, the back electrode 4 and the protective film 6 are bonded together by the resist 5.
【0013】以下、図1,2に基づいて本実施形態の薄
膜太陽電池モジュールの製造方法について詳細に説明す
る。なお、図10に示す従来の薄膜太陽電池モジュール
と同じ部材には同符号を付す。Hereinafter, a method for manufacturing the thin-film solar cell module of the present embodiment will be described in detail with reference to FIGS. The same members as those of the conventional thin-film solar cell module shown in FIG.
【0014】まず、ガラス基板1等の透光性絶縁基板上
にスパッタリング法等によりSnO2で表面電極2を形
成し(ST1)、この表面電極2をレーザー加工等で平
行に切断して複数に分離して分割する(ST2、A状
態)。なお、透光性絶縁基板は、PET、PC、PE
S、フッ素樹脂等の透光性の高分子材料、アルミナ等の
セラミック材料等からなる基板でもよい。また、表面電
極2は、ITO、ZnOやこれらの複合膜で形成しても
よい。First, a surface electrode 2 is formed of SnO 2 on a light-transmitting insulating substrate such as a glass substrate 1 by a sputtering method or the like (ST1), and the surface electrode 2 is cut in parallel by laser processing or the like into a plurality of pieces. Separate and divide (ST2, state A). The translucent insulating substrate is made of PET, PC, PE
A substrate made of a translucent polymer material such as S or fluororesin or a ceramic material such as alumina may be used. The surface electrode 2 may be formed of ITO, ZnO, or a composite film thereof.
【0015】次に、プラズマCVD法によりシラン、ゲ
ルマン、メタン、ジボラン、ホスフィン、水素等の分解
生成物の堆積反応でアモルファスシリコンの半導体層3
を形成する(ST3)。この半導体層3は、p層、i
層、n層が積層されてなり、入射してきた光を電気エネ
ルギーに変換する光電変換素子である。なお、半導体層
3の形成は、蒸着法、スパッタリング法等でもよい。Next, an amorphous silicon semiconductor layer 3 is formed by a deposition reaction of decomposition products such as silane, germane, methane, diborane, phosphine, and hydrogen by a plasma CVD method.
Is formed (ST3). This semiconductor layer 3 is composed of a p layer, i
This is a photoelectric conversion element that is formed by stacking layers and n layers and converts incident light into electric energy. Note that the semiconductor layer 3 may be formed by an evaporation method, a sputtering method, or the like.
【0016】その後、半導体層3をレーザー加工等の加
工方法により表面電極2の分離部2aと平行に切断し、
表面電極2と次に形成する裏面電極4とを電気的に接続
するための開口部3aを設ける(ST4、B状態)。After that, the semiconductor layer 3 is cut in parallel with the separation part 2a of the surface electrode 2 by a processing method such as laser processing.
An opening 3a for electrically connecting the front surface electrode 2 and the back surface electrode 4 to be formed next is provided (ST4, state B).
【0017】次に、半導体層3上に裏面電極4としてZ
nO/Ag積層膜をスパッタリング法により形成する
(ST5、C状態)。裏面電極4は、ZnO、ITO、
SnO2等の透明導電膜、Ag、Al、Ni、Ti、C
等の金属電極およびそれらの複合膜で形成してもよい。Next, Z is formed on the semiconductor layer 3 as a back electrode 4.
An nO / Ag laminated film is formed by a sputtering method (ST5, state C). The back electrode 4 is made of ZnO, ITO,
Transparent conductive film such as SnO 2 , Ag, Al, Ni, Ti, C
And the like and a composite film thereof.
【0018】そして、この裏面電極4を表面電極2に対
応して分割した所定の形状にするため、エッチング処理
を施す。このエッチング処理時に裏面電極4の食刻しな
い部分のみをマスキングするためのレジスト5は、熱硬
化性を有する熱反応接着剤、例えばエポキシ樹脂を主成
分とした熱反応接着剤であるスリーボンド化工(株)製
スリーボンド1570を使用する。そして、このレジス
ト5を裏面電極4の上面にスクリーン印刷により塗布し
て乾燥し、エッチングマスクを形成する(ST6)。こ
のとき、レジスト5にスリーボンド1570を使用した
場合、100〜160℃の温度で1〜2分間の乾燥す
る。なお、レジスト5は、熱可塑性を有し、加熱により
接着性を有するものでもよい。さらに、レジスト5によ
るエッチングマスクの形成は、スクリーン印刷以外にス
ピンコーターやロールコーターによってレジスト5を塗
布した後、フォトリソグラフィプロセスやレーザー加工
で所定の形状に加工してもよい。Then, in order to form the back electrode 4 into a predetermined shape divided corresponding to the front electrode 2, an etching process is performed. The resist 5 for masking only the non-etched portion of the back electrode 4 at the time of this etching treatment is a heat-reactive adhesive having a thermosetting property, for example, Three Bond Chemical Co., Ltd. which is a heat-reactive adhesive mainly composed of an epoxy resin. ) Three Bond 1570 is used. Then, the resist 5 is applied on the upper surface of the back electrode 4 by screen printing and dried to form an etching mask (ST6). At this time, when ThreeBond 1570 is used for the resist 5, the resist 5 is dried at a temperature of 100 to 160 ° C. for 1 to 2 minutes. In addition, the resist 5 may have thermoplasticity and may have adhesiveness by heating. Further, the formation of the etching mask using the resist 5 may be performed by applying a resist 5 using a spin coater or a roll coater other than screen printing, and then processing the resist 5 into a predetermined shape by a photolithography process or laser processing.
【0019】そして、裏面電極4にマスキングを施した
後、これを硝酸溶液等でエッチング処理する(ST
7)。こうして、まず薄膜太陽電池Sが形成される(D
状態)。なお、エッチング液として塩酸、硫酸等の酸や
塩化第二鉄系または塩化第二銅系の混合液、アンモニア
と過酸化水素水の混合液等を使用してもよい。なお、こ
こまでの工程は、従来と同様である。After the back electrode 4 is masked, it is etched with a nitric acid solution or the like (ST).
7). Thus, first, the thin-film solar cell S is formed (D
Status). Note that an acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, a mixed solution of ferric chloride or cupric chloride, a mixed solution of ammonia and hydrogen peroxide water, or the like may be used as the etching solution. The steps up to here are the same as those in the related art.
【0020】上記薄膜太陽電池Sが形成されると、レジ
スト5を剥離することなく、次に裏面電極4を保護する
ための保護部材としての保護フィルム6を裏面電極4の
上面に載置し(ST8)、それをワークXとして加熱手
段に搬送して接合する。保護フィルム6としては、フッ
素樹脂、PETおよび/またはポリイミド等の高分子フ
ィルムあるいは高分子フィルムとAl等の金属薄フィル
ム等の複合膜からなるフィルムを使用する。なお、保護
フィルム6は、その材質が後述する工程でのレジスト5
に加える熱により変形等をしないものであればよく、フ
ィルム状のものでなく厚みのあるものでもよい。When the thin-film solar cell S is formed, a protective film 6 as a protective member for protecting the back electrode 4 is placed on the upper surface of the back electrode 4 without peeling the resist 5 (see FIG. 1). ST8) It is transported as a work X to the heating means and joined. As the protective film 6, a film made of a polymer film such as a fluororesin, PET and / or polyimide, or a composite film such as a polymer film and a thin metal film such as Al is used. The protective film 6 is formed of a resist 5 in a process described later.
Any material may be used as long as it does not deform due to the heat applied to the film, and may be a thick material instead of a film-like material.
【0021】加熱手段は、図3に示すように、レジスト
5を加熱するためのヒーター10と、ワークXを両側か
ら加圧するための加圧ローラー11と、ワークXを搬送
するための搬送コンベア12と、カバー13とからな
る。As shown in FIG. 3, the heating means includes a heater 10 for heating the resist 5, a pressing roller 11 for pressing the work X from both sides, and a transfer conveyor 12 for transferring the work X. And a cover 13.
【0022】ヒーター10は、赤外線ランプヒーター、
ハロゲンランプヒーターあるいはシーズヒーター等であ
る。加圧ローラー11として、上下に配された上加圧ロ
ーラー11a、下加圧ローラー11bがワークXの搬送
方向に前後に2組並設され、それぞれ回転自在に支持さ
れ、モーター等の駆動手段で回転駆動される。上下加圧
ローラー11a,11bは、耐熱性と弾力性がある樹脂
等で形成され、軸方向の長さはワークX以上の幅とさ
れ、その上下の間隔はワークXの厚みより狭くなってい
る。The heater 10 includes an infrared lamp heater,
It is a halogen lamp heater or a sheath heater. As the pressing roller 11, two sets of upper pressing roller 11a and lower pressing roller 11b arranged vertically are arranged in front and rear in the conveying direction of the work X, respectively, are rotatably supported, and are driven by driving means such as a motor. It is driven to rotate. The upper and lower pressure rollers 11a and 11b are formed of a resin or the like having heat resistance and elasticity. The length of the upper and lower pressure rollers 11a and 11b in the axial direction is equal to or larger than the width of the work X. .
【0023】そして、ワークXが上下加圧ローラー11
a,11bに挟まれたとき、両加圧ローラー11a,1
1bの弾力によりワークXに上下から圧力が加えられ
る。ここで、加圧ローラー11の軸をばね等によりワー
クX方向に付勢する構成とすると、加圧ローラー11は
弾力性を有しないものでもよい。Then, the work X is applied to the upper and lower pressure rollers 11.
a, 11b, both pressure rollers 11a, 1
Pressure is applied to the work X from above and below by the elasticity of 1b. Here, when the shaft of the pressure roller 11 is configured to be urged in the work X direction by a spring or the like, the pressure roller 11 may not have elasticity.
【0024】搬送コンベア12は、金属製あるいは樹脂
製のローラーコンベアからなり、モーター等の駆動手段
により回転駆動される。また、ベルトコンベアでもよ
く、自動的に搬送コンベア12の上に載置したワークX
を加圧ローラー11へ搬送する。The transport conveyor 12 comprises a roller conveyor made of metal or resin, and is driven to rotate by driving means such as a motor. Alternatively, a belt conveyor may be used, and the work X automatically placed on the conveyor 12 may be used.
To the pressure roller 11.
【0025】なお、加熱手段は、図4に示すように、下
加圧ローラー11bの代わりに加圧台11cを設けたも
のでもよい。また、この加圧台11cの上面がワークX
との摩擦抵抗が少なくなるように表面処理するとワーク
Xの搬送がスムーズになって効率がよい。さらに、図5
に示すように、上加圧ローラ11aをヒーター14を内
蔵したヒートローラーとし、ヒーター10をなくしても
よい。また、加圧ローラー11の前に輻射にてワークX
を加熱できるヒータを設けてもよい。As shown in FIG. 4, the heating means may be provided with a pressure table 11c instead of the lower pressure roller 11b. The upper surface of the press table 11c is
If the surface treatment is performed so as to reduce the frictional resistance of the workpiece X, the transfer of the work X becomes smooth and the efficiency is improved. Further, FIG.
As shown in (1), the upper pressure roller 11a may be a heat roller having a built-in heater 14, and the heater 10 may be omitted. In addition, the work X is radiated in front of the pressure roller 11.
May be provided.
【0026】上記構成の加熱手段にワークXを投入する
ため、そのワークXを搬送コンベア12に載置すると、
ワークXは加圧ローラー11に搬送され、ワークXが上
下加圧ローラー11a,11bに挟まれながら加圧ロー
ラー11の回転により自動的に下流側に搬送される。こ
のとき、レジスト5がヒーター10により加熱され柔軟
になる(ST9)。また、レジスト5を介して裏面電極
4と保護フィルム6とが両側から加圧されることにより
圧着される。そして、レジスト5が冷却すると再度固化
して、薄膜太陽電池Sに保護フィルム6が接合される
(ST10,G状態)。なお、図1中、Yは、エッチン
グ処理によって形成された空間である。なお、レジスト
5の材料によりキュアが必要なものには、この後キュア
を行う必要がある。例えば、スリーボンド1570で
は、3時間のキュアが必要である。こうして、薄膜太陽
電池モジュールが形成される。In order to load the work X into the heating means having the above structure, the work X is placed on the conveyor 12
The work X is conveyed to the pressure roller 11, and the work X is automatically conveyed to the downstream side by the rotation of the pressure roller 11 while being sandwiched between the upper and lower pressure rollers 11a and 11b. At this time, the resist 5 is heated by the heater 10 and becomes flexible (ST9). The back electrode 4 and the protective film 6 are pressed from both sides via the resist 5 to be pressed. Then, when the resist 5 cools, it solidifies again, and the protective film 6 is bonded to the thin-film solar cell S (ST10, G state). In FIG. 1, Y is a space formed by the etching process. If the material of the resist 5 needs to be cured, it needs to be cured thereafter. For example, Three Bond 1570 requires three hours of cure. Thus, a thin-film solar cell module is formed.
【0027】このように、エッチング処理時に接着性を
有するレジスト5を使用し、このレジスト5により保護
フィルム6を接合することにより、従来のようにレジス
ト5を剥離する工程や接着性フィルム7を配置し固定す
る工程が不要となる。そのため、製造工程が簡略化でき
る。さらに、接着性フィルム7が不必要となるのでコス
トの低減を図ることができる。As described above, by using the resist 5 having adhesiveness at the time of the etching process and bonding the protective film 6 with the resist 5, the step of removing the resist 5 and the arrangement of the adhesive film 7 as in the related art are performed. No fixing step is required. Therefore, the manufacturing process can be simplified. Further, since the adhesive film 7 becomes unnecessary, the cost can be reduced.
【0028】また、レジスト5を熱可塑性あるいは熱硬
化性を有するものにすることにより、レジスト5を加熱
するだけで接着性を得ることができる。そのため、その
レジスト5を用いて裏面電極4をエッチング処理し、加
熱手段によってレジスト5を加熱し、レジスト5により
保護フィルム6を接合する簡単な製造方法で太陽電池モ
ジュールを製造できる。By making the resist 5 thermoplastic or thermosetting, adhesiveness can be obtained only by heating the resist 5. Therefore, the solar cell module can be manufactured by a simple manufacturing method in which the back electrode 4 is etched using the resist 5, the resist 5 is heated by a heating unit, and the protective film 6 is joined by the resist 5.
【0029】また、ワークXとして薄膜太陽電池Sと保
護フィルム6だけを加熱手段に投入すればよく、従来に
比べて接着性フィルムの分だけ種類が減り、その機構が
簡単となり、連続処理が容易になる。Further, only the thin film solar cell S and the protective film 6 need to be supplied to the heating means as the work X, and the number of types is reduced by the amount of the adhesive film as compared with the conventional case, the mechanism is simplified, and continuous processing is facilitated. become.
【0030】(第二の実施形態)第一の実施形態では、
レジスト5に熱可塑性あるいは熱硬化性を有する熱反応
接着剤を使用したが、本実施形態では、感圧接着性を有
するレジスト5を用いて裏面電極4をエッチング処理
し、加圧手段によってレジスト5を加圧し、レジスト5
により保護フィルム6を接合している。(Second Embodiment) In the first embodiment,
Although a thermoplastic or thermosetting heat-reactive adhesive is used for the resist 5, in this embodiment, the back electrode 4 is etched using the pressure-sensitive adhesive 5, and the resist 5 is pressed by pressing means. To resist 5
Protective film 6 is joined.
【0031】以下、図6に基づいて本実施形態の薄膜太
陽電池モジュールの製造工程について詳細に説明する。Hereinafter, the manufacturing process of the thin-film solar cell module of the present embodiment will be described in detail with reference to FIG.
【0032】まず、第一の実施形態同様に、ガラス基板
1上に表面電極2を形成し(ST10)、レーザー加工
で平行に切断して複数に分離して分割する(ST1
1)。そして、表面電極2の上に半導体層3を形成し
(ST12)、レーザー加工により開口部3aを設ける
(ST13)。First, as in the first embodiment, a surface electrode 2 is formed on a glass substrate 1 (ST10), cut in parallel by laser processing and divided into a plurality of pieces (ST1).
1). Then, the semiconductor layer 3 is formed on the surface electrode 2 (ST12), and an opening 3a is provided by laser processing (ST13).
【0033】次に、半導体層3の上に裏面電極4を形成
する(ST14)。そして、この裏面電極4を表面電極
2に対応して分割した所定の形状にするため、エッチン
グ処理を施す。このエッチング処理時に裏面電極4の食
刻しない部分のみをマスキングするためのレジスト5
は、感圧接着剤、例えばスリーボンド化工(株)製のス
リーボンド1546、1548、1549を使用する。
そして、このレジスト5をスクリーン印刷により塗布し
て乾燥し、エッチングマスクを形成する(ST15)。Next, the back electrode 4 is formed on the semiconductor layer 3 (ST14). Then, in order to form the back electrode 4 into a predetermined shape divided corresponding to the front electrode 2, an etching process is performed. A resist 5 for masking only the portion of the back electrode 4 that is not etched during this etching process.
Uses a pressure-sensitive adhesive, for example, ThreeBond 1546, 1548, 1549 manufactured by ThreeBond Kako Co., Ltd.
Then, the resist 5 is applied by screen printing and dried to form an etching mask (ST15).
【0034】このとき、上記感圧接着性を有するレジス
ト5では100℃で2分乾燥する。なお、このレジスト
5として、塗布・乾燥にて膜形成でき、加圧により接着
性をもつものであればよい。さらに、レジスト5は、ス
ピンコーターやロールコーターによって塗布した後、フ
ォトリソグラフィプロセスやレーザー加工で所定の形状
に加工してもよい。At this time, the resist 5 having the pressure-sensitive adhesive property is dried at 100 ° C. for 2 minutes. The resist 5 may be any as long as it can be formed into a film by coating and drying and has adhesiveness under pressure. Further, after the resist 5 is applied by a spin coater or a roll coater, the resist 5 may be processed into a predetermined shape by a photolithography process or laser processing.
【0035】そして、裏面電極4にマスキングを施した
後、これを第一の実施形態同様に硝酸溶液等でエッチン
グ処理する(ST16)。こうして、まず薄膜太陽電池
Sが形成される。After the back electrode 4 is masked, it is etched with a nitric acid solution or the like as in the first embodiment (ST16). Thus, first, the thin-film solar cell S is formed.
【0036】上記薄膜太陽電池Sが形成されると、次に
裏面電極4を保護するための保護部材としての保護フィ
ルム6を裏面電極4の上面に載置し(ST17)、それ
をワークXとして加圧手段に搬送して接合する。保護フ
ィルム6としては、フッ素樹脂、PETおよび/または
ポリイミド等の高分子フィルム、あるいはこの高分子フ
ィルムとAl等の金属薄フィルム等の複合膜からなるフ
ィルムを使用する。When the thin-film solar cell S is formed, a protective film 6 as a protective member for protecting the back electrode 4 is placed on the upper surface of the back electrode 4 (ST17). It is conveyed to the pressing means and joined. As the protective film 6, a film made of a polymer film such as a fluororesin, PET and / or polyimide, or a composite film of the polymer film and a thin metal film such as Al is used.
【0037】加圧手段は、図7に示すように、加熱手段
からヒーター10を除いたもので、ワークXを両側から
加圧するための加圧ローラー11と、ワークXを搬送す
る搬送コンベア12と、カバー13とからなる。また、
図8に示すように、下加圧ローラー11bの代わりに加
圧台11cとしてもよい。さらに、上下加圧ローラー1
1a,11bのそれぞれの軸をばね等により互いに近接
する方向に付勢する構成とすると、加圧ローラー11は
弾力性を有しないものでもよい。また、レジスト5に使
用する材質の感圧接着性に応じた圧力に調節できる調節
機構を設けると、無駄な圧力を加えることがなくなり効
率がよくなる。As shown in FIG. 7, the pressurizing means is obtained by removing the heater 10 from the heating means, and includes a pressurizing roller 11 for pressurizing the work X from both sides, and a conveying conveyor 12 for conveying the work X. , And a cover 13. Also,
As shown in FIG. 8, a pressure table 11c may be used instead of the lower pressure roller 11b. Further, the upper and lower pressure rollers 1
When the respective shafts of 1a and 11b are configured to be biased in a direction approaching each other by a spring or the like, the pressing roller 11 may not have elasticity. Further, if an adjusting mechanism capable of adjusting the pressure according to the pressure-sensitive adhesiveness of the material used for the resist 5 is provided, unnecessary pressure is not applied and the efficiency is improved.
【0038】上記構成の加圧手段にワークXを投入する
ため、そのワークXを搬送コンベア12に載置すると、
ワークXは、加圧ローラー11に搬送され、ワークXが
上下加圧ローラー11a,11bに挟まれると、加圧ロ
ーラー11の回転により自動的に下流側に搬送される。
このとき、レジスト5が薄膜太陽電池Sおよび保護フィ
ルム6を介して加圧ローラー11により加圧され、接着
性を得る。そして、加圧手段からワークXが抜け出す
と、加圧ローラー11からの圧力がなくなり、薄膜太陽
電池Sに保護フィルム6が貼り合わされる。To load the work X into the pressurizing means having the above configuration, the work X is placed on the conveyor 12
The work X is conveyed to the pressure roller 11, and when the work X is sandwiched between the upper and lower pressure rollers 11a and 11b, the work X is automatically conveyed to the downstream side by the rotation of the pressure roller 11.
At this time, the resist 5 is pressed by the pressing roller 11 via the thin-film solar cell S and the protective film 6 to obtain adhesiveness. Then, when the work X comes off from the pressing means, the pressure from the pressing roller 11 disappears, and the protective film 6 is bonded to the thin-film solar cell S.
【0039】このように、本実施形態でも第一の実施形
態同様の効果を奏することができる。また、レジスト5
を感圧接着性を有するものにすると、第一実施形態のよ
うにレジスト5のキュア時間が必要なくなり、短時間で
裏面電極4と保護フィルム6との接合が可能となる。そ
のため、製造時間を短縮することができ、さらに製造コ
ストを低減できる。As described above, the present embodiment can provide the same effects as those of the first embodiment. Also, resist 5
Has pressure-sensitive adhesiveness, the curing time of the resist 5 is not required as in the first embodiment, and the bonding between the back electrode 4 and the protective film 6 can be performed in a short time. Therefore, the manufacturing time can be reduced, and the manufacturing cost can be further reduced.
【0040】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではなく、本発明の範囲内で上記実施形態に多く
の修正および変更を加え得ることは勿論である。例え
ば、本実施形態ではアモルファスシリコン薄膜太陽電池
モジュールの製造方法について述べたが、薄膜多結晶シ
リコン太陽電池でもCuInSe2等の化合物系太陽電
池でもガラスや高分子材料等の基板上に薄膜を形成する
ものであれば、本発明の方法で同様に薄膜太陽電池モジ
ュールを製造することができる。It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and it goes without saying that many modifications and changes can be made to the above-described embodiment within the scope of the present invention. For example, in this embodiment, a method of manufacturing an amorphous silicon thin film solar cell module has been described. However, a thin film is formed on a substrate made of glass, a polymer material, or the like in a thin film polycrystalline silicon solar cell or a compound solar cell such as CuInSe 2. If it is, a thin film solar cell module can be similarly manufactured by the method of the present invention.
【0041】また、図9に示したような基板20に裏面
電極21が形成され、その上に半導体層22が形成さ
れ、さらにその上に表面電極23が形成された薄膜太陽
電池の表面電極23を保護するために透光性保護フィル
ム6が接合された薄膜太陽電池モジュールにも適用でき
る。A back electrode 21 is formed on a substrate 20 as shown in FIG. 9, a semiconductor layer 22 is formed thereon, and a surface electrode 23 is further formed thereon. The present invention can also be applied to a thin-film solar cell module to which a light-transmitting protective film 6 is bonded to protect the solar cell module.
【0042】[0042]
【発明の効果】以上の説明から明らかな通り、本発明に
よると、太陽電池の電極層がエッチング処理され、この
電極層にこれを保護するための保護部材が接合された太
陽電池モジュールにおいて、エッチング処理時に接着性
を有するレジストが使用され、このレジストにより電極
層と保護部材とが接合されているので、エッチング処理
に使用したレジストをそのまま利用して保護部材を接合
することができ、簡単な製造工程で太陽電池モジュール
を製造するこができる。したがって、レジストを剥離す
る工程、接着性フィルムを配置し固定する工程が不要と
なり、製造工程を簡略化できる。さらに、接着性フィル
ムが不必要となり、コストの低減を図れる。As is apparent from the above description, according to the present invention, in the solar cell module in which the electrode layer of the solar cell is etched and a protective member for protecting the electrode layer is joined to the electrode layer. Since a resist having adhesiveness is used during the processing, and the electrode layer and the protective member are joined by this resist, the protective member can be joined using the resist used in the etching process as it is, thereby simplifying manufacturing. A solar cell module can be manufactured in the process. Therefore, the step of removing the resist and the step of arranging and fixing the adhesive film become unnecessary, and the manufacturing process can be simplified. Furthermore, an adhesive film becomes unnecessary, and cost can be reduced.
【0043】そして、レジストが熱可塑性あるいは熱硬
化性を有するものであると、加熱することで接着性が得
られ、これを接着剤として保護部材を接合することが可
能となる。また、レジストが感圧接着性を有するもので
あっても、加圧することで接着性が得られ、これを接着
剤として保護部材を接合することが可能となる。If the resist has thermoplasticity or thermosetting properties, the adhesiveness can be obtained by heating, and the protective member can be joined by using the adhesive as an adhesive. Even if the resist has pressure-sensitive adhesiveness, the adhesiveness can be obtained by pressing, and the protective member can be joined using the adhesive as an adhesive.
【0044】また、厚い接着性フィルムを使用する必要
がなくなり、薄いレジストが積層されているので、太陽
電池モジュールの薄型化を達成できる。Further, since it is not necessary to use a thick adhesive film and a thin resist is laminated, a thin solar cell module can be achieved.
【図1】本発明の第一の実施形態の薄膜太陽電池モジュ
ールの製造工程ごとの断面図FIG. 1 is a sectional view of a thin-film solar cell module according to a first embodiment of the present invention for each manufacturing process.
【図2】同じく製造工程を示すフロー図FIG. 2 is a flowchart showing the same manufacturing process.
【図3】加熱手段の簡略構成図FIG. 3 is a simplified configuration diagram of a heating unit.
【図4】他の加熱手段の簡略構成図FIG. 4 is a simplified configuration diagram of another heating means.
【図5】他の加熱手段の簡略構成図FIG. 5 is a simplified configuration diagram of another heating means.
【図6】第二の実施形態の薄膜太陽電池モジュールの製
造工程を示すフロー図FIG. 6 is a flowchart showing a manufacturing process of the thin-film solar cell module according to the second embodiment.
【図7】加圧手段の簡略構成図FIG. 7 is a simplified configuration diagram of a pressing unit.
【図8】他の加圧手段の簡略構成図FIG. 8 is a simplified configuration diagram of another pressing means.
【図9】他の薄膜太陽電池モジュールの製造工程ごとの
断面図FIG. 9 is a sectional view of another thin-film solar cell module for each manufacturing process.
【図10】従来の太陽電池モジュールの製造工程ごとの
断面図FIG. 10 is a cross-sectional view for each manufacturing process of a conventional solar cell module.
1 ガラス基板 2 表面電極 3 半導体層 4 裏面電極 5 レジスト 6 保護フィルム 10 ヒーター 11 加圧ローラー 12 搬送コンベア 13 カバー S 薄膜太陽電池 X ワーク DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate 2 Front electrode 3 Semiconductor layer 4 Back electrode 5 Resist 6 Protective film 10 Heater 11 Pressure roller 12 Conveyor 13 Cover S Thin-film solar cell X Work
Claims (5)
れ、該電極層にこれを保護するための保護部材が接合さ
れた太陽電池モジュールにおいて、前記エッチング処理
時に接着性を有するレジストが使用され、該レジストに
より前記電極層と前記保護部材とが接合されたことを特
徴とする太陽電池モジュール。In a solar cell module in which an electrode layer of a solar cell is etched and a protective member for protecting the electrode layer is bonded to the electrode layer, a resist having adhesiveness is used during the etching. A solar cell module, wherein the electrode layer and the protective member are joined by a resist.
化性を有することを特徴とする請求項1記載の太陽電池
モジュール。2. The solar cell module according to claim 1, wherein the resist has a thermoplastic property or a thermosetting property.
とを特徴とする請求項1記載の太陽電池モジュール。3. The solar cell module according to claim 1, wherein the resist has a pressure-sensitive adhesive property.
ストを用いて前記電極層をエッチング処理し、加熱手段
によって前記レジストを加熱し、該レジストにより前記
電極層と前記保護部材とを接合することを特徴とする請
求項1記載の太陽電池モジュールの製造方法。4. An etching process for the electrode layer using a thermoplastic or thermosetting resist, heating the resist by heating means, and joining the electrode layer and the protective member with the resist. The method for manufacturing a solar cell module according to claim 1, wherein:
記電極層をエッチング処理し、加圧手段によって前記レ
ジストを加圧し、該レジストにより前記電極層と前記保
護部材とを接合することを特徴とする請求項1記載の太
陽電池モジュールの製造方法。5. The method according to claim 1, wherein the electrode layer is etched using a resist having a pressure-sensitive adhesive property, the resist is pressed by a pressing unit, and the electrode layer and the protective member are joined by the resist. The method for manufacturing a solar cell module according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23783696A JP3316390B2 (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Solar cell module and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23783696A JP3316390B2 (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Solar cell module and method of manufacturing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1084123A true JPH1084123A (en) | 1998-03-31 |
JP3316390B2 JP3316390B2 (en) | 2002-08-19 |
Family
ID=17021140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23783696A Expired - Fee Related JP3316390B2 (en) | 1996-09-09 | 1996-09-09 | Solar cell module and method of manufacturing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3316390B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011119696A (en) * | 2009-10-30 | 2011-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Organic thin-film solar cell and method for manufacturing same |
KR101193809B1 (en) | 2011-09-15 | 2012-10-23 | (재)한국나노기술원 | Compound semiconductor solar cell and a method for manufacturing for the same |
US9570640B2 (en) | 2013-11-19 | 2017-02-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing solar cell module, and solar cell module |
-
1996
- 1996-09-09 JP JP23783696A patent/JP3316390B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011119696A (en) * | 2009-10-30 | 2011-06-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Organic thin-film solar cell and method for manufacturing same |
KR101193809B1 (en) | 2011-09-15 | 2012-10-23 | (재)한국나노기술원 | Compound semiconductor solar cell and a method for manufacturing for the same |
US9570640B2 (en) | 2013-11-19 | 2017-02-14 | Seiko Epson Corporation | Method of manufacturing solar cell module, and solar cell module |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3316390B2 (en) | 2002-08-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2234181B1 (en) | Manufacture method for a photovoltaic module | |
EP2634818B1 (en) | Method for producing solar cell module | |
WO2012033059A1 (en) | Process for manufacture of solar battery module, solar battery cell connection device, and solar battery module | |
WO2013035667A1 (en) | Solar cell module manufacturing method, solar cell module, and tab wire connection method | |
KR101441264B1 (en) | Solar cell module, method for producing solar cell module, solar cell, and method for connecting tab wire | |
WO2012043494A1 (en) | Solar cell module and method for producing solar cell module | |
US20080264465A1 (en) | Modular Sub-Assembly of Semiconductor Strips | |
JP3316390B2 (en) | Solar cell module and method of manufacturing the same | |
JPH05315630A (en) | Manufacture of flexible thin film solar cell | |
JP2011061151A (en) | Back protective sheet for solar cell, method of manufacturing the same, and solar cell module | |
CN112768389A (en) | Film pasting device, battery string film pasting equipment and battery string film pasting method | |
JP3829973B2 (en) | Thin film solar cell module manufacturing method and manufacturing apparatus | |
WO2012026340A1 (en) | Process for production of solar cell module | |
JPH0970886A (en) | Apparatus for producing solar cell module | |
JP2001060706A (en) | Method for manufacture of solar cell module | |
JPH11274533A (en) | Manufacture of solar cell, solar cell manufactured thereby and manufacture of semiconductor element | |
WO2017043518A1 (en) | Solar battery module manufacturing method, solar battery module, and solar battery cell connecting method | |
JP3551787B2 (en) | Solar cell module and method of manufacturing the same | |
JP4085304B2 (en) | Manufacturing method of solar cell module | |
JP4765447B2 (en) | Thin film solar cell module manufacturing method and manufacturing apparatus | |
JP2001036118A (en) | Solar cell module and manufacture thereof | |
JP2750085B2 (en) | Method for producing current collecting electrode of photovoltaic element | |
JP4304855B2 (en) | Manufacturing method and manufacturing apparatus for composite metal tape | |
TW200847229A (en) | Flexible electronic device and process for the same | |
JP4086218B2 (en) | Method for forming patterned thin film layer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090607 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100607 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100607 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110607 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |