JPH1082907A - 色フィルタおよびその作成方法 - Google Patents
色フィルタおよびその作成方法Info
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- JPH1082907A JPH1082907A JP7786097A JP7786097A JPH1082907A JP H1082907 A JPH1082907 A JP H1082907A JP 7786097 A JP7786097 A JP 7786097A JP 7786097 A JP7786097 A JP 7786097A JP H1082907 A JPH1082907 A JP H1082907A
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-
- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
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- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
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- H—ELECTRICITY
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- H01L27/144—Devices controlled by radiation
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 色フィルタの色配列パターンを作成する方法
において、解像度および位置合せ精度を良好にし、従来
技術よりも容易に低コストで色フィルタを作成する。 【解決手段】 液体透明材料15に凹パターンを有するロ
ーラ18でエンボスすることにより、基体14上に透明隆起
パターン10を形成する。この隆起パターンのセルの凹部
は幅および長さを有している。この凹部内に複数の着色
インクを付着させて色フィルタを形成する。
において、解像度および位置合せ精度を良好にし、従来
技術よりも容易に低コストで色フィルタを作成する。 【解決手段】 液体透明材料15に凹パターンを有するロ
ーラ18でエンボスすることにより、基体14上に透明隆起
パターン10を形成する。この隆起パターンのセルの凹部
は幅および長さを有している。この凹部内に複数の着色
インクを付着させて色フィルタを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフラットパネルディ
スプレー用の色フィルタおよびその製造方法に関するも
のである。
スプレー用の色フィルタおよびその製造方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示（ＬＣＤ）パネル、特にカラー
ＬＣＤパネルが、フラットスクリーンテレビ、プロジェ
クションテレビシステムおよびカムコーダ（camcorder
）のビューファインダに使用されており、将来はこの
ようなパネルにより多くの用途が予測されている。
ＬＣＤパネルが、フラットスクリーンテレビ、プロジェ
クションテレビシステムおよびカムコーダ（camcorder
）のビューファインダに使用されており、将来はこの
ようなパネルにより多くの用途が予測されている。
【０００３】アクティブマトリックス（active matrix
）液晶表示装置の製造はいくつかの工程からなる。最
初の工程において、前面ガラスパネルを作成する。これ
には、ガラスのような適切な基体上に色フィルタ要素を
付着させる工程が含まれている。色フィルタの形成には
典型的に、黒マトリックスパターンと、黒マトリックス
により輪郭が形成された空間内に三原色（一般的に、
赤、緑および青か、または黄、マゼンタおよびシアンの
いずれか）のドットまたはセルのパターンとを付着させ
る工程が含まれる。黒マトリックスを形成するプリント
された線は典型的に、幅が約15−25ミクロンであり、厚
さが約0.5 −２ミクロンである。赤、緑および青のカラ
ーセルは典型的に、幅が約70−100 ミクロンであり、長
さが200 −300 ミクロンである。カラーセルは典型的
に、約10ミクロン厚未満、好ましくは約５ミクロン厚未
満のフィルム状にプリントされ、均一に施され、黒マト
リックスにより形成されたパターン内に正確に合わせら
れなければならない。前面ガラス基体は典型的に、色フ
ィルタ要素の上に、平面化層（planarizing layer ）、
透明導電層、およびポリイミドアライメント層を付着さ
せることにより完成する。この透明導電層は典型的に、
インジウムスズ酸化物（indium tin oxide：ＩＴＯ）で
あるが、他の材料を使用しても差支えない。
）液晶表示装置の製造はいくつかの工程からなる。最
初の工程において、前面ガラスパネルを作成する。これ
には、ガラスのような適切な基体上に色フィルタ要素を
付着させる工程が含まれている。色フィルタの形成には
典型的に、黒マトリックスパターンと、黒マトリックス
により輪郭が形成された空間内に三原色（一般的に、
赤、緑および青か、または黄、マゼンタおよびシアンの
いずれか）のドットまたはセルのパターンとを付着させ
る工程が含まれる。黒マトリックスを形成するプリント
された線は典型的に、幅が約15−25ミクロンであり、厚
さが約0.5 −２ミクロンである。赤、緑および青のカラ
ーセルは典型的に、幅が約70−100 ミクロンであり、長
さが200 −300 ミクロンである。カラーセルは典型的
に、約10ミクロン厚未満、好ましくは約５ミクロン厚未
満のフィルム状にプリントされ、均一に施され、黒マト
リックスにより形成されたパターン内に正確に合わせら
れなければならない。前面ガラス基体は典型的に、色フ
ィルタ要素の上に、平面化層（planarizing layer ）、
透明導電層、およびポリイミドアライメント層を付着さ
せることにより完成する。この透明導電層は典型的に、
インジウムスズ酸化物（indium tin oxide：ＩＴＯ）で
あるが、他の材料を使用しても差支えない。
【０００４】２番目の工程において、別の（背面）ガラ
スパネルを薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）またはダイオー
ド、並びに金属相互接続線の形成に使用する。各々のト
ランジスタは、表示パネルにおける個々の色ピクセルの
オンオフスイッチとして機能する。３番目の最後の工程
は、２つのパネルの間に液晶材料を挿入して、液晶パネ
ルを形成する工程を含む、２つのパネルの組立てであ
る。
スパネルを薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）またはダイオー
ド、並びに金属相互接続線の形成に使用する。各々のト
ランジスタは、表示パネルにおける個々の色ピクセルの
オンオフスイッチとして機能する。３番目の最後の工程
は、２つのパネルの間に液晶材料を挿入して、液晶パネ
ルを形成する工程を含む、２つのパネルの組立てであ
る。
【０００５】色フィルタの赤、緑および青の色ピクセル
ドット（色セルとも称する）の製造における難題の１つ
は、異なる着色インクが互いに混ざらないようにするこ
とである。以前は、この問題は、最初にガラス基体上に
黒マトリックスパターンを（写真平版により）形成し、
次いで、この黒マトリックスパターン内に各色を付着さ
せることにより解決していた。
ドット（色セルとも称する）の製造における難題の１つ
は、異なる着色インクが互いに混ざらないようにするこ
とである。以前は、この問題は、最初にガラス基体上に
黒マトリックスパターンを（写真平版により）形成し、
次いで、この黒マトリックスパターン内に各色を付着さ
せることにより解決していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】解像度および位置合せ
精度が良好であり、従来技術の色フィルタアレイよりも
容易に低コストで得られる色フィルタを製造する代替方
法を提供することが望まれている。また、既存の方法よ
りも工程が少ない方法を用いて、これらの上述した特性
を達成することも望まれている。
精度が良好であり、従来技術の色フィルタアレイよりも
容易に低コストで得られる色フィルタを製造する代替方
法を提供することが望まれている。また、既存の方法よ
りも工程が少ない方法を用いて、これらの上述した特性
を達成することも望まれている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明において、色フィ
ルタの基体上に透明隆起パターンを形成して、色フィル
タを構成する個々の着色インクパターンを透明隆起パタ
ーンにより形成された凹部内に付着させる。好ましく
は、この隆起パターンは、機械的な形成技術を用いて形
成する。しかしながら、写真平版のような他の技術を用
いても差支えない。機械的形成技術は、形成中に材料の
一部を化学的に除去する、写真平版および他の化学的形
成技術とは対照的に、凹版印刷技術のような技術によ
り、隆起パターンを機械的に形成することを意味する。
隆起パターンは好ましくは、所望の黒マトリックスパタ
ーンに対応する。次いで、好ましくは、隆起パターンに
より形成された空間よりも小さい凸版ピンまたは他のイ
ンク印写ピンを用いて、隆起パターン内に着色インクを
付着させ、それによって、異なる色のインクがにじんだ
り混ざったりせずに、容易に隆起パターン内にインクを
付着させる。
ルタの基体上に透明隆起パターンを形成して、色フィル
タを構成する個々の着色インクパターンを透明隆起パタ
ーンにより形成された凹部内に付着させる。好ましく
は、この隆起パターンは、機械的な形成技術を用いて形
成する。しかしながら、写真平版のような他の技術を用
いても差支えない。機械的形成技術は、形成中に材料の
一部を化学的に除去する、写真平版および他の化学的形
成技術とは対照的に、凹版印刷技術のような技術によ
り、隆起パターンを機械的に形成することを意味する。
隆起パターンは好ましくは、所望の黒マトリックスパタ
ーンに対応する。次いで、好ましくは、隆起パターンに
より形成された空間よりも小さい凸版ピンまたは他のイ
ンク印写ピンを用いて、隆起パターン内に着色インクを
付着させ、それによって、異なる色のインクがにじんだ
り混ざったりせずに、容易に隆起パターン内にインクを
付着させる。
【０００８】ある実施の形態において、液体透明材料
が、凹版ロールまたはプレートのような凹版印写表面の
凹部内に付着している。好ましくは、凹版印写表面の凹
部パターンは、所望の黒マトリックスパターンに対応す
る。好ましくは、基体に付着させる前または最中に、透
明インクを硬化させ（例えば、キュアーにより）、凹版
凹部パターンの形状を正確に複製する。凹版印刷プレー
トおよびグラビア印刷プレートにおけるインクには典型
的に、窪んだ凹版パターン内のインクの表面が印刷プレ
ート表面より下に湾曲している、負のメニスカスがあ
る。このため、必要であれば、接着剤を用いて、透明材
料を除去して、この材料を基体に付着させてもよい。そ
のような場合には、接着剤は、透明材料または基体のい
ずれに施しても差支えない。あるいは、例えばインクジ
ェットまたは他の印写ピンを用いて凹版パターンの凹部
を過剰に満たすことにより、正のメニスカスを形成して
も差支えない。好ましくは、透明材料は、基体と接触す
るときには液体であり、液体透明材料は、基体と接触し
ている間にキュアーするかまたは他の方法により硬化
し、それによって、凹版パターンの凹部からこの材料を
除去する。
が、凹版ロールまたはプレートのような凹版印写表面の
凹部内に付着している。好ましくは、凹版印写表面の凹
部パターンは、所望の黒マトリックスパターンに対応す
る。好ましくは、基体に付着させる前または最中に、透
明インクを硬化させ（例えば、キュアーにより）、凹版
凹部パターンの形状を正確に複製する。凹版印刷プレー
トおよびグラビア印刷プレートにおけるインクには典型
的に、窪んだ凹版パターン内のインクの表面が印刷プレ
ート表面より下に湾曲している、負のメニスカスがあ
る。このため、必要であれば、接着剤を用いて、透明材
料を除去して、この材料を基体に付着させてもよい。そ
のような場合には、接着剤は、透明材料または基体のい
ずれに施しても差支えない。あるいは、例えばインクジ
ェットまたは他の印写ピンを用いて凹版パターンの凹部
を過剰に満たすことにより、正のメニスカスを形成して
も差支えない。好ましくは、透明材料は、基体と接触す
るときには液体であり、液体透明材料は、基体と接触し
ている間にキュアーするかまたは他の方法により硬化
し、それによって、凹版パターンの凹部からこの材料を
除去する。
【０００９】別の実施の形態において、透明液体材料が
基体上に付着しており、透明材料がエンボスパターンと
接触している。同様に、エンボスパターンをロールまた
はプレート上に設けても差支えない。好ましくは、液体
材料が凹版パターンと接触している間にキュアーまたは
硬化し、そのために、透明材料が凹版パターンの形状を
維持する。好ましくは、ロールまたはプレート上のエン
ボスパターンは、透明材料が、ローラプレートによりエ
ンボスされた後に、表示装置に利用される黒マトリック
スパターンに対応する隆起パターンとなって残るよう
に、所望の黒マトリックスパターンに対応する。
基体上に付着しており、透明材料がエンボスパターンと
接触している。同様に、エンボスパターンをロールまた
はプレート上に設けても差支えない。好ましくは、液体
材料が凹版パターンと接触している間にキュアーまたは
硬化し、そのために、透明材料が凹版パターンの形状を
維持する。好ましくは、ロールまたはプレート上のエン
ボスパターンは、透明材料が、ローラプレートによりエ
ンボスされた後に、表示装置に利用される黒マトリック
スパターンに対応する隆起パターンとなって残るよう
に、所望の黒マトリックスパターンに対応する。
【００１０】隆起パターンが形成された後に、色フィル
タパターンを構成する着色インクを、隆起パターンによ
り形成されたセル内に付着させる。好ましくはインクプ
リント方法を用いて、凹部内に赤、緑および青の色セル
を付着させる。透明隆起パターンは好ましくは、約１−
10ミクロン厚、より好ましくは、約２−６ミクロン厚、
そして、最も好ましくは、約３−４ミクロン厚（ガラス
基体上で）である。好ましくは、着色インクは、黒マト
リックスパターンにより形成されるセルの寸法よりも小
さい寸法を有するインク印写ピンを用いてセル中に付着
させる。
タパターンを構成する着色インクを、隆起パターンによ
り形成されたセル内に付着させる。好ましくはインクプ
リント方法を用いて、凹部内に赤、緑および青の色セル
を付着させる。透明隆起パターンは好ましくは、約１−
10ミクロン厚、より好ましくは、約２−６ミクロン厚、
そして、最も好ましくは、約３−４ミクロン厚（ガラス
基体上で）である。好ましくは、着色インクは、黒マト
リックスパターンにより形成されるセルの寸法よりも小
さい寸法を有するインク印写ピンを用いてセル中に付着
させる。
【００１１】液体透明材料の例としては、ポリイミド、
メラミン、エポキシド、アクリル、ビニルエステル、ポ
リウレタン、ポリエステル、アクリレートまたはメタク
リレート（acrylated or methacrylated）アクリル、エ
ステル、ウレタン、および従来の色フィルタ部材の平面
化層として有用な他の材料、並びにそれらの組合せが挙
げられる。好ましくは、透明材料は、キュアーしてもよ
いように、放射線硬化性材料から形成する。透明材料の
好ましい材料は、放射線硬化性エポキシアクリレートの
ような、放射線硬化性アクリレート材料である。
メラミン、エポキシド、アクリル、ビニルエステル、ポ
リウレタン、ポリエステル、アクリレートまたはメタク
リレート（acrylated or methacrylated）アクリル、エ
ステル、ウレタン、および従来の色フィルタ部材の平面
化層として有用な他の材料、並びにそれらの組合せが挙
げられる。好ましくは、透明材料は、キュアーしてもよ
いように、放射線硬化性材料から形成する。透明材料の
好ましい材料は、放射線硬化性エポキシアクリレートの
ような、放射線硬化性アクリレート材料である。
【００１２】本発明の方法により、正方形の縁が良好に
規定された非常に精密な透明隆起パターンを形成するこ
とができる。これらの透明隆起パターンにより、色フィ
ルタの色ピクセルを形成するのに用いる材料を容易に隔
てられる。
規定された非常に精密な透明隆起パターンを形成するこ
とができる。これらの透明隆起パターンにより、色フィ
ルタの色ピクセルを形成するのに用いる材料を容易に隔
てられる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明において、図１に示されて
いるように、基体14上には透明または半透明の隆起パタ
ーン10が形成されており、この隆起パターン10により形
成された凹部11内に個々の着色インクパターンが付着せ
しめられて、色フィルタパターンが形成されている。好
ましくは、隆起パターン10は、機械的形成技術を用いて
形成されている。機械的形成技術は、形成中に材料の一
部が化学的に除去される、写真平版および他の化学的形
成技術とは対照的に、エンボス技術または凹版印刷技術
のような技術により、隆起パターンが機械的に形成され
ることを意味する。しかしながら、本発明は機械的形成
技術に限定されるものではなく、ある実施の形態におい
ては、写真平版を含む他の技術を用いて、隆起パターン
を形成しても差支えない。
いるように、基体14上には透明または半透明の隆起パタ
ーン10が形成されており、この隆起パターン10により形
成された凹部11内に個々の着色インクパターンが付着せ
しめられて、色フィルタパターンが形成されている。好
ましくは、隆起パターン10は、機械的形成技術を用いて
形成されている。機械的形成技術は、形成中に材料の一
部が化学的に除去される、写真平版および他の化学的形
成技術とは対照的に、エンボス技術または凹版印刷技術
のような技術により、隆起パターンが機械的に形成され
ることを意味する。しかしながら、本発明は機械的形成
技術に限定されるものではなく、ある実施の形態におい
ては、写真平版を含む他の技術を用いて、隆起パターン
を形成しても差支えない。
【００１４】様々な技術を用いて隆起パターン10を形成
することができる。例えば、図２に示した実施の形態に
おいては、ガラスのような適切な基体14上に液体透明材
料15を付着させる。次いで、エンボス手段により透明材
料15にエンボスして、基体14上に隆起パターンを形成す
る。図２において、透明材料15が変形可能な状態にある
間に、パターンの付いた凹版ローラ18（その上にはイン
クがのっていない）を透明材料15に接触させる。パター
ンの付いたローラ18にはその上に、所望の黒マトリック
スパターンに対応する凹部パターン20がある。その結
果、パターンの付いた凹版ローラ18（あるいは、凹版プ
レートであっても差支えない）が、変形可能な透明材料
15と接触してエンボスして、隆起パターン10を形成す
る。好ましい実施の形態において、隆起パターン10は、
表示装置に利用される所望の黒マトリックスパターンに
対応する。透明材料15は、ローラ18との接触により得ら
れるエンボスされたパターンを維持するほど十分に硬化
させる。これは、熱可塑性材料を用いて、ローラ18と接
触する点で透明材料を冷却して、インクを硬化させるこ
とにより行なっても差支えない。あるいは、そしてより
好ましくは、放射線硬化性樹脂を用いて、基体14を通し
て紫外線24からの放射線を放出して、エンボス操作中に
透明材料15を硬化させる。
することができる。例えば、図２に示した実施の形態に
おいては、ガラスのような適切な基体14上に液体透明材
料15を付着させる。次いで、エンボス手段により透明材
料15にエンボスして、基体14上に隆起パターンを形成す
る。図２において、透明材料15が変形可能な状態にある
間に、パターンの付いた凹版ローラ18（その上にはイン
クがのっていない）を透明材料15に接触させる。パター
ンの付いたローラ18にはその上に、所望の黒マトリック
スパターンに対応する凹部パターン20がある。その結
果、パターンの付いた凹版ローラ18（あるいは、凹版プ
レートであっても差支えない）が、変形可能な透明材料
15と接触してエンボスして、隆起パターン10を形成す
る。好ましい実施の形態において、隆起パターン10は、
表示装置に利用される所望の黒マトリックスパターンに
対応する。透明材料15は、ローラ18との接触により得ら
れるエンボスされたパターンを維持するほど十分に硬化
させる。これは、熱可塑性材料を用いて、ローラ18と接
触する点で透明材料を冷却して、インクを硬化させるこ
とにより行なっても差支えない。あるいは、そしてより
好ましくは、放射線硬化性樹脂を用いて、基体14を通し
て紫外線24からの放射線を放出して、エンボス操作中に
透明材料15を硬化させる。
【００１５】図３に示した別の実施の形態においては、
透明材料15が、ローラ式コーティング機22から凹版ロー
ル18の凹部20内に付着されている。あるいは、スロット
コーティング技術を用いて透明材料15を施してもよい。
透明材料15を、凹版ロール18の凹部パターン内に付着さ
せた後に、凹部パターン20の形状が透明材料15により維
持され、この透明材料15が基体14に転写されるように十
分にキュアまたは他の方法で硬化させる。好ましい実施
の形態において、透明材料15に、放射線硬化性インクを
用い、このインクを、基体14への転写前または転写と同
時に放射線によりこのインクをキュアにより硬化させ
る。最も好ましくは、透明材料15は、黒のマトリックス
パターンと接触させる前には液体であり、黒マトリック
スパターンを透明材料15に転写させる最中にキュアされ
る。そのようなキュアは、紫外線硬化性材料を用いて透
明材料15を形成し、例えば、透明材料15の付着中に紫外
線24により放射線を透明材料15に施すことにより行なっ
ても差支えない。あるいは、紫外線源をロール18の内部
に組み込んで、ロール18を紫外線透過性材料から作成し
て、そこから放射線を放出させても差支えない。利用す
る放射線は必ずしも紫外線でなくてもよく、透明材料15
に用いる光重合開始剤に依存して、可視光線、赤外線、
または他の放射線であっても差支えない。あるいは、透
明材料15を基体14へ付着させる前に紫外線24A によりキ
ュアして、基体14または透明材料15のいずれかに施され
る接着剤を用いることにより、付着工程を実施しても差
支えない。
透明材料15が、ローラ式コーティング機22から凹版ロー
ル18の凹部20内に付着されている。あるいは、スロット
コーティング技術を用いて透明材料15を施してもよい。
透明材料15を、凹版ロール18の凹部パターン内に付着さ
せた後に、凹部パターン20の形状が透明材料15により維
持され、この透明材料15が基体14に転写されるように十
分にキュアまたは他の方法で硬化させる。好ましい実施
の形態において、透明材料15に、放射線硬化性インクを
用い、このインクを、基体14への転写前または転写と同
時に放射線によりこのインクをキュアにより硬化させ
る。最も好ましくは、透明材料15は、黒のマトリックス
パターンと接触させる前には液体であり、黒マトリック
スパターンを透明材料15に転写させる最中にキュアされ
る。そのようなキュアは、紫外線硬化性材料を用いて透
明材料15を形成し、例えば、透明材料15の付着中に紫外
線24により放射線を透明材料15に施すことにより行なっ
ても差支えない。あるいは、紫外線源をロール18の内部
に組み込んで、ロール18を紫外線透過性材料から作成し
て、そこから放射線を放出させても差支えない。利用す
る放射線は必ずしも紫外線でなくてもよく、透明材料15
に用いる光重合開始剤に依存して、可視光線、赤外線、
または他の放射線であっても差支えない。あるいは、透
明材料15を基体14へ付着させる前に紫外線24A によりキ
ュアして、基体14または透明材料15のいずれかに施され
る接着剤を用いることにより、付着工程を実施しても差
支えない。
【００１６】隆起パターン10を形成した後に、図４Ａお
よび４Ｂに示したように、凸版インク印写パターンを用
いて、隆起パターン10により形成された凹部11内に様々
な着色インクパターンを付着させる。凸版インク印写パ
ターンは、図４Ａに示したようにパターンロール上に、
または、図４Ｂに示したようにパターンプレート上に供
給しても差支えない。図４Ａおよび４Ｂにおいて、パタ
ーンロール50およびパターンプレート50A はそれぞれ、
複数の凸版インク印写ピン51を備えている。しかしなが
ら、本発明は凸版印写ピンを使用することに限定される
ものではなく、他の印写ピン（例えば、インクジェッ
ト）を利用しても差支えない。印写ピン51は着色インク
36を担持し、隆起パターン10により形成された凹部11内
にこのインクを付着させる。このような実例から分かる
ように、インクは好ましくは、付着後にもまだ流体であ
り、黒マトリックスパターンの表面上でいくぶん延びて
もよい。
よび４Ｂに示したように、凸版インク印写パターンを用
いて、隆起パターン10により形成された凹部11内に様々
な着色インクパターンを付着させる。凸版インク印写パ
ターンは、図４Ａに示したようにパターンロール上に、
または、図４Ｂに示したようにパターンプレート上に供
給しても差支えない。図４Ａおよび４Ｂにおいて、パタ
ーンロール50およびパターンプレート50A はそれぞれ、
複数の凸版インク印写ピン51を備えている。しかしなが
ら、本発明は凸版印写ピンを使用することに限定される
ものではなく、他の印写ピン（例えば、インクジェッ
ト）を利用しても差支えない。印写ピン51は着色インク
36を担持し、隆起パターン10により形成された凹部11内
にこのインクを付着させる。このような実例から分かる
ように、インクは好ましくは、付着後にもまだ流体であ
り、黒マトリックスパターンの表面上でいくぶん延びて
もよい。
【００１７】図４Ｃは、図４Ａに示した工程の上面図で
あり、黒マトリックスパターン46と、黒マトリックスパ
ターン46により形成されたセル内に位置してその内部に
着色インク36を付着させる凸版インク印写ピン51とを示
している。
あり、黒マトリックスパターン46と、黒マトリックスパ
ターン46により形成されたセル内に位置してその内部に
着色インク36を付着させる凸版インク印写ピン51とを示
している。
【００１８】好ましくは、黒マトリックスパターンに形
成されるセルサイズよりも小さいサイズを有するインク
印写ピンを用いて、着色インクをセル内に付着させる。
例えば、約50ミクロン×約175 ミクロンの寸法を有する
セルにおいて、凸版インク印写ピンは、幅Ｗが20−40ミ
クロンの間にあり、長さＬが140 −160 ミクロンの間に
ある寸法を有するべきである。より好ましくは、ピンの
サイズは、幅が25−35ミクロンの間にあり、長さが145
−155 ミクロンの間にある。最も好ましくは、ピンは、
約30ミクロンの幅および約150 ミクロンの長さを有す
る。このように、ピンの幅Ｗは、好ましくは、黒マトリ
ックスセルの幅よりも小さい10−30ミクロンであり、よ
り好ましくは、セル幅よりも小さい15−25ミクロンであ
り、最も好ましくは、セル幅よりも小さい約20ミクロン
であり、一方、ピンの長さＬは、セル長さよりも短い約
15−35ミクロンであるべきであり、より好ましくは、セ
ル長さよりも短い約20−30ミクロンであり、最も好まし
くは、セル長さよりも短い約25ミクロンである。凸版ピ
ンの高さも重要であり、インクを凸版ピンに施すインク
付けロール上のインクの厚さに密接に関連している。例
えば、凸版ピンを用いて、約50ミクロン×約175 ミクロ
ンの寸法を有する黒マトリックスセル内に着色インクを
付着させるある工程において、幅が約30ミクロンであ
り、長さが約150ミクロンであるピンを用いる場合、イ
ンク付けロール上へのインク付け厚さは、約24ミクロン
であるべきである。インク付けロール上のインクの厚さ
よりも高さが大きい凸版ピンを有することが望ましいの
で、そのような実施の形態における印写ピンの高さは、
少なくとも30ミクロン、より好ましくは35ミクロン、最
も好ましくは約40ミクロンであるべきである。好ましく
は、印写ピンの上部がインクで濡れており、一方で、印
写ピンの側面はインクであまりまたはまったく濡れてい
ないように、ピンを構成する。
成されるセルサイズよりも小さいサイズを有するインク
印写ピンを用いて、着色インクをセル内に付着させる。
例えば、約50ミクロン×約175 ミクロンの寸法を有する
セルにおいて、凸版インク印写ピンは、幅Ｗが20−40ミ
クロンの間にあり、長さＬが140 −160 ミクロンの間に
ある寸法を有するべきである。より好ましくは、ピンの
サイズは、幅が25−35ミクロンの間にあり、長さが145
−155 ミクロンの間にある。最も好ましくは、ピンは、
約30ミクロンの幅および約150 ミクロンの長さを有す
る。このように、ピンの幅Ｗは、好ましくは、黒マトリ
ックスセルの幅よりも小さい10−30ミクロンであり、よ
り好ましくは、セル幅よりも小さい15−25ミクロンであ
り、最も好ましくは、セル幅よりも小さい約20ミクロン
であり、一方、ピンの長さＬは、セル長さよりも短い約
15−35ミクロンであるべきであり、より好ましくは、セ
ル長さよりも短い約20−30ミクロンであり、最も好まし
くは、セル長さよりも短い約25ミクロンである。凸版ピ
ンの高さも重要であり、インクを凸版ピンに施すインク
付けロール上のインクの厚さに密接に関連している。例
えば、凸版ピンを用いて、約50ミクロン×約175 ミクロ
ンの寸法を有する黒マトリックスセル内に着色インクを
付着させるある工程において、幅が約30ミクロンであ
り、長さが約150ミクロンであるピンを用いる場合、イ
ンク付けロール上へのインク付け厚さは、約24ミクロン
であるべきである。インク付けロール上のインクの厚さ
よりも高さが大きい凸版ピンを有することが望ましいの
で、そのような実施の形態における印写ピンの高さは、
少なくとも30ミクロン、より好ましくは35ミクロン、最
も好ましくは約40ミクロンであるべきである。好ましく
は、印写ピンの上部がインクで濡れており、一方で、印
写ピンの側面はインクであまりまたはまったく濡れてい
ないように、ピンを構成する。
【００１９】ある実施の形態において、印写ピンは多孔
性印写ピンであり、インクが多孔性印写ピンに押し込め
られる。例えば、印写プレートまたはロールは、多孔性
印写板の後ろにピクセルインクを含有するリザーバ、お
よび印写ピンのプリント表面にインクを施すように、印
写プレートの多孔性印写ピンに選択的に押し込められた
ピクセルインクからなっていても差支えない。
性印写ピンであり、インクが多孔性印写ピンに押し込め
られる。例えば、印写プレートまたはロールは、多孔性
印写板の後ろにピクセルインクを含有するリザーバ、お
よび印写ピンのプリント表面にインクを施すように、印
写プレートの多孔性印写ピンに選択的に押し込められた
ピクセルインクからなっていても差支えない。
【００２０】所望であれば、着色ピクセルインク36およ
び隆起パターン10を、図５に示したように、平面化層ま
たは保護層40により被覆しても差支えない。これらの構
成部材の形成後、従来の被覆技術を用いて、保護層でイ
ンク36および透明な隆起パターン10の上を被覆しても差
支えない。
び隆起パターン10を、図５に示したように、平面化層ま
たは保護層40により被覆しても差支えない。これらの構
成部材の形成後、従来の被覆技術を用いて、保護層でイ
ンク36および透明な隆起パターン10の上を被覆しても差
支えない。
【００２１】隆起パターンの上に色フィルタパターンを
形成することにより、異なる着色インクを容易に分離す
る。このことは、例えば、黒マトリックスパターンを色
フィルタパターンと分離することが望ましい場合に、有
用である。例えば、そのような場合において、着色イン
クを一方の構成部材上に施して、黒マトリックスパター
ンを別の基体、例えば、他の（ＴＦＴ）ガラス基体に施
しても差支えない。所望であれば、黒マトリックスパタ
ーンを薄膜トランジスタの上部に付着させても差支えな
い。黒マトリックスパターンがＴＦＴ基体上に付着して
いる用途に関しては、様々な赤、緑、および青のカラー
セルを黒マトリックスパターンと隔てて整合させるため
に、透明材料15上に隆起パターン10を形成することが非
常に望ましいと考えられている。それまでに黒マトリッ
クスパターン46を隆起パターン10と整合するように配置
すると、形成された液晶表示装置を見下げるときに、カ
ラーセルが黒マトリックスパターン内にあるように見え
る。
形成することにより、異なる着色インクを容易に分離す
る。このことは、例えば、黒マトリックスパターンを色
フィルタパターンと分離することが望ましい場合に、有
用である。例えば、そのような場合において、着色イン
クを一方の構成部材上に施して、黒マトリックスパター
ンを別の基体、例えば、他の（ＴＦＴ）ガラス基体に施
しても差支えない。所望であれば、黒マトリックスパタ
ーンを薄膜トランジスタの上部に付着させても差支えな
い。黒マトリックスパターンがＴＦＴ基体上に付着して
いる用途に関しては、様々な赤、緑、および青のカラー
セルを黒マトリックスパターンと隔てて整合させるため
に、透明材料15上に隆起パターン10を形成することが非
常に望ましいと考えられている。それまでに黒マトリッ
クスパターン46を隆起パターン10と整合するように配置
すると、形成された液晶表示装置を見下げるときに、カ
ラーセルが黒マトリックスパターン内にあるように見え
る。
【００２２】図５に示した実施の形態において、本発明
による隆起パターン10が第１のガラス基体14上に設けら
れている。隆起パターン10は色ピクセルインク36を互い
に隔てている。好ましくは、平面化層40を色ピクセルの
上に付着させる。そのような平面化層40は、従来の技
術、例えば、ロールコーティング、スロットオリフィス
コーティング等を用いて付着させることができる。ＩＴ
Ｏ電極42が平面化層40の上に付着されている。第２のガ
ラス基体14a 上において、黒マトリックスパターン46が
薄膜トランジスタパターン44上に設けられている。図示
した実施の形態において、黒マトリックスパターン46は
隆起パターン10の幅よりも大きい幅を有する格子線から
なり、それによって、表示装置が完成したときに、消費
者の視野から隆起パターン10を隠している。しかしなが
ら、他の相対的なサイズを用いても差支えない。図５の
液晶表示装置は、２つのガラス基体14および14a の間の
液晶材料48を挟むことにより完成する。
による隆起パターン10が第１のガラス基体14上に設けら
れている。隆起パターン10は色ピクセルインク36を互い
に隔てている。好ましくは、平面化層40を色ピクセルの
上に付着させる。そのような平面化層40は、従来の技
術、例えば、ロールコーティング、スロットオリフィス
コーティング等を用いて付着させることができる。ＩＴ
Ｏ電極42が平面化層40の上に付着されている。第２のガ
ラス基体14a 上において、黒マトリックスパターン46が
薄膜トランジスタパターン44上に設けられている。図示
した実施の形態において、黒マトリックスパターン46は
隆起パターン10の幅よりも大きい幅を有する格子線から
なり、それによって、表示装置が完成したときに、消費
者の視野から隆起パターン10を隠している。しかしなが
ら、他の相対的なサイズを用いても差支えない。図５の
液晶表示装置は、２つのガラス基体14および14a の間の
液晶材料48を挟むことにより完成する。
【００２３】透明隆起パターン10は、例えば、ポリイミ
ド、エポキシド、メラミン、アクリル、ビニルエステ
ル、ポリウレタン、ポリエステル、およびアクリレート
またはメタクリレートアクリル、エステル、ウレタン、
またはエポキシド、並びに、従来の色フィルタ装置に平
面化層として有用な他の材料からなる群より選択される
材料から形成してもよい。隆起パターン10の好ましい材
料は、放射線硬化性アクリレートのような放射線硬化性
材料である。隆起パターン10に特に好ましい材料は、以
下の組成（重量部）を有する放射線硬化性アクリレート
である。
ド、エポキシド、メラミン、アクリル、ビニルエステ
ル、ポリウレタン、ポリエステル、およびアクリレート
またはメタクリレートアクリル、エステル、ウレタン、
またはエポキシド、並びに、従来の色フィルタ装置に平
面化層として有用な他の材料からなる群より選択される
材料から形成してもよい。隆起パターン10の好ましい材
料は、放射線硬化性アクリレートのような放射線硬化性
材料である。隆起パターン10に特に好ましい材料は、以
下の組成（重量部）を有する放射線硬化性アクリレート
である。
【００２４】 表Ｉ ジペンタエリトリットペンタアクリレート ５０ ネオペンチルグリコールジアセテート ２５ イソボルニルアクリレート ２５ セルロースアセテートブチレート樹脂 １０ シリコーンポリアクリレートまたエポキシシリコーン ５ シリコーンポリアクリレートは、着色ピクセルインクに
関して、非湿潤剤として機能すると考えられている。こ
れは、望ましい効果であると考えられる。液体透明材料
15は好ましくは、典型的に10ミクロン未満の薄膜として
付着される。好ましくは、透明材料は、硬化が容易な放
射線硬化性材料から形成される。
関して、非湿潤剤として機能すると考えられている。こ
れは、望ましい効果であると考えられる。液体透明材料
15は好ましくは、典型的に10ミクロン未満の薄膜として
付着される。好ましくは、透明材料は、硬化が容易な放
射線硬化性材料から形成される。
【００２５】好ましくは、本発明の方法を実施するのに
使用するいかなる装置もその側方（すなわち、ロールを
垂直に搭載している）に搭載されている。装置を垂直に
搭載することにより、水平に取り除かねばならない従来
の水平に配置されたローラとは対立するものとして、ロ
ールを印刷装置から垂直に（ロールに対する、軸方向に
おいて）取り除いてもよい。
使用するいかなる装置もその側方（すなわち、ロールを
垂直に搭載している）に搭載されている。装置を垂直に
搭載することにより、水平に取り除かねばならない従来
の水平に配置されたローラとは対立するものとして、ロ
ールを印刷装置から垂直に（ロールに対する、軸方向に
おいて）取り除いてもよい。
【００２６】インク（黒マトリックスおよび／または色
インク）を硬化する実施の形態において、インクを好ま
しくは、放射線硬化性となるように配合する。硬化性
は、インクが架橋することを意味する。放射線硬化性
は、適切な放射線に暴露されたときに、インクが架橋す
ることを意味する。これは、インクが未硬化（未架橋）
状態においてホットメルト熱可塑性特性を有するか、ま
たは溶剤を含むか否かにかかわらない。
インク）を硬化する実施の形態において、インクを好ま
しくは、放射線硬化性となるように配合する。硬化性
は、インクが架橋することを意味する。放射線硬化性
は、適切な放射線に暴露されたときに、インクが架橋す
ることを意味する。これは、インクが未硬化（未架橋）
状態においてホットメルト熱可塑性特性を有するか、ま
たは溶剤を含むか否かにかかわらない。
【図１】本発明の方法を用いて形成した隆起パターンの
斜視図
斜視図
【図２】本発明による隆起パターンの形成を説明する概
略図
略図
【図３】本発明による隆起パターンの形成を説明する別
の概略図
の概略図
【図４Ａ】本発明による隆起パターンの凹部に印写ロー
ルからの着色インクの付着を説明する概略図
ルからの着色インクの付着を説明する概略図
【図４Ｂ】本発明による隆起パターンの凹部に印写板か
らの着色インクの付着を説明する概略図
らの着色インクの付着を説明する概略図
【図４Ｃ】図４Ａおよび４Ｂに示した印写ロールまたは
板から隆起パターン中にインクを付着させる印写ピンの
拡大部分上面図
板から隆起パターン中にインクを付着させる印写ピンの
拡大部分上面図
【図５】本発明により形成された隆起パターンを採用し
た液晶表示装置の断面図
た液晶表示装置の断面図
10 隆起パターン 11 凹部 14 基体 15 液体透明材料 18 凹版ローラ 20 凹パターン 22 ローラ式コーティング機 24 紫外線 36 着色インク 40 平面化層 42 ＩＴＯ電極 44 薄膜トランジスタパターン 46 黒マトリックスパターン 48 液晶材料 50 パターンロール 51 印写ピン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ロナルド エドガー ジョンソン アメリカ合衆国 ペンシルヴァニア州 16946 ティオガ サウス メイン スト リート （番地なし)
Claims (13)
- 【請求項１】 色フィルタの色配列パターンを作成する
方法であって、 基体上に透明隆起パターンを形成し、該隆起パターンの
セルの凹部が幅および長さを有し、 該凹部内に複数の着色インクを付着させて前記色フィル
タを形成する各工程からなることを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記形成工程が、前記隆起パターンを、
機械的に形成する工程か、または写真平版方法を用いて
形成する工程からなることを特徴とする請求項１記載の
方法。 - 【請求項３】 前記付着工程が、前記凹部の幅および長
さより狭い幅および短い長さを有する印写ピンを用いて
前記着色インクを付着させる工程からなるか、または前
記付着工程が、前記セルの凹部の幅よりも狭い約10−30
ミクロンの間の幅および前記セルの凹部の長さよりも短
い約15−35ミクロンの間の長さを有する凸版印写ピンを
用いて前記着色インクを付着させる工程からなることを
特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 前記形成工程における前記隆起パターン
が寸法的に、所望の黒マトリックスパターンに対応する
ことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項５】 前記形成工程が、前記隆起パターンをガ
ラス基体上に印刷する工程からなることを特徴とする請
求項２記載の方法。 - 【請求項６】 前記印刷工程が、 凹んだ印写パターン中に透明インクを付着させ、 該凹んだパターンからの前記インクを前記基体に転写し
て、前記透明隆起パターンを形成する各工程からなるこ
とを特徴とする請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 前記転写工程の前に、前記ガラスかまた
は前記透明インクのいずれかに接着剤を施すことを特徴
とする請求項６記載の方法。 - 【請求項８】 前記形成工程が、形成用材料を基体に付
着させ、該成形用材料にエンボスする各工程からなるこ
とを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項９】 前記エンボス工程が、前記成形用材料を
凹んだパターンロールまたはパターンプレートと接触さ
せる工程からなることを特徴とする請求項８記載の方
法。 - 【請求項１０】 前記付着工程が、前記透明インクを転
写させる工程の前に、該透明インクを少なくとも部分的
に硬化させる工程からなるか、または前記透明インク
が、前記転写工程中に硬化されるか、または前記付着工
程が、前記接触工程の最中に前記透明インクを硬化させ
る工程からなることを特徴とする請求項６記載の方法。 - 【請求項１１】 前記着色インクを保護層または平面化
層で覆う工程を含むことを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項１２】 複数の色を隔てる隆起パターンを備え
た第１の基体、および黒マトリックスパターン、前記隆
起パターンと接触していない黒マトリックスパターン、
第２の基体上の黒マトリックスパターン、および薄膜ト
ランジスタと接触している黒マトリックスパターンから
なる群より選択される黒マトリックスパターンからなる
ことを特徴とする色フィルタ。 - 【請求項１３】 前記黒マトリックスパターンおよび前
記隆起パターンの各々が格子構造を構成し、該黒マトリ
ックスパターンの格子が、該隆起パターンの格子よりも
広いことを特徴とする請求項１２記載の色フィルタ。
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|---|---|---|---|
| US62343096A | 1996-03-28 | 1996-03-28 | |
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|---|---|---|---|---|
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| KR100649722B1 (ko) * | 2000-04-21 | 2006-11-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 일렉트로루미네센스 표시소자의 패터닝장치 및 이를이용한 패터닝방법 |
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010011655A (ko) * | 1999-07-29 | 2001-02-15 | 김우연 | 평판형 표시장치의 도광판 및 그 제조방법 |
| KR100649722B1 (ko) * | 2000-04-21 | 2006-11-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 일렉트로루미네센스 표시소자의 패터닝장치 및 이를이용한 패터닝방법 |
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