JPH107974A - Curable silicone resin composition excellent in stain resistance and coating film produced therefrom - Google Patents

Curable silicone resin composition excellent in stain resistance and coating film produced therefrom

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JPH107974A
JPH107974A JP15676396A JP15676396A JPH107974A JP H107974 A JPH107974 A JP H107974A JP 15676396 A JP15676396 A JP 15676396A JP 15676396 A JP15676396 A JP 15676396A JP H107974 A JPH107974 A JP H107974A
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JP
Japan
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polymerizable unsaturated
unsaturated monomer
radical polymerizable
weight
organosilicon
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Application number
JP15676396A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Goto
宏明 後藤
Takeshi Tomiyama
猛 富山
Kazuhisa Koizumi
一久 小泉
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Kansai Paint Co Ltd
Original Assignee
Kansai Paint Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coating film excellent in stain resistance, processibility, etc. SOLUTION: A curable silicone resin compsn. excellent in stain resistance is prepd. by compounding an organosilicon copolymer formed from a free- radical-polymerizable hydroxylated unsatd. monomer, a free-radical-polymerizable epoxidized unsatd. monomer, a free-radical-polymerizable unsatd. monomer having a hydroxyl and/or a hydrolyzable group bonded directly to a silicon atom, a free-radical-polymerizable unsatd. monomer having a dimethylpolysiloxane main chain, and if necessary a free-radical-polymerizable unsatd. monomer other than foregoing monomers with a metal chelate compd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な耐汚染性に優
れたシリコン系樹脂硬化性組成物及びそれを使用した被
覆フィルムに係わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel silicone resin curable composition having excellent stain resistance and a coated film using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、金属板には防食性や美粧性を付与
する目的で塗装が一般的に施されている。しかしなが
ら、これらの塗装で使用される塗料は、一般的に多くの
有機溶剤を含有するため塗装及び焼付け時に多量の有機
溶剤を発生するため環境や安全性の点から問題がある。
また、塗料を使用しない被覆金属板として金属板に接着
剤を介してポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレン
テレフタレ−ト、ポリ塩化等のプラスチックフィルムを
貼り合わせたラミネ−ト鋼板が知られている。しかしな
がら、これらのラミネ−ト鋼板を、例えば、台所のフ−
ドやフィルタ−の換気装置に適用した際には油分との剥
離性が劣るといった問題点があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, a metal plate is generally coated with a coating for the purpose of imparting corrosion protection and aesthetics. However, paints used in these coatings generally contain many organic solvents and generate a large amount of organic solvents at the time of coating and baking, and thus pose a problem in terms of environment and safety.
Further, as a coated metal plate which does not use a paint, a laminated steel plate in which a plastic film of polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polychlorinated or the like is bonded to a metal plate via an adhesive is known. . However, these laminated steel plates are used, for example, in kitchen hoods.
When applied to a ventilator for filters and filters, there is a problem that the releasability from oil is inferior.

【0003】上記したプラスチックフィルムの表面にテ
トラエトキシシラン低縮合物等のシリコン化合物を塗装
しておくことも考えられるが、このものではシリコン化
合物とプラスチックフィルムとの付着性が十分でないこ
と及び加工性が劣るといった問題点がある。また、シリ
コン樹脂としてポリシロキサン系マクロモノマ−、オキ
シラン基含有ビニルモノマ−、及びアルミニウムキレ−
ト化合物を配合してなる低温硬化性樹脂組成物(特開昭
63−221123号公報参照)を使用したものでは油
汚れなどの耐汚染性を十分に満足させるには至っていな
いのが実情である。
It is conceivable to coat a silicon compound such as a low-condensation product of tetraethoxysilane on the surface of the plastic film described above. However, in this case, the adhesion between the silicon compound and the plastic film is not sufficient, and the processability is poor. Is inferior. Also, polysiloxane macromonomer, oxirane group-containing vinyl monomer, and aluminum resin are used as the silicone resin.
In fact, the use of a low-temperature curable resin composition containing a compound (see JP-A-63-221123) does not sufficiently satisfy the stain resistance such as oil stains. .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は耐汚染性及び
加工性に優れたシリコン系樹脂硬化性組成物及びそれを
使用した被覆フィルムを開発することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to develop a silicone resin curable composition excellent in stain resistance and processability and a coated film using the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記した
問題点を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定の
シリコン系樹脂硬化性組成物が耐汚染性、加工性に優れ
たシリコン系樹脂硬化被膜を形成するものであり、従来
からの問題点を全て解消できることを見出だし、本発明
を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, the specific silicone resin curable composition has excellent stain resistance and workability. The present invention forms a cured film of a silicon-based resin, and has found that all of the conventional problems can be solved. Thus, the present invention has been completed.

【0006】即ち、本発明は、 1.水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−(イ)、
エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−(ロ)、
珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解性基を含
有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)、ジメチル
シロキサン結合を主鎖とするラジカル重合性不飽和モノ
マ−(ニ)及び必要に応じて上記(イ)〜(ニ)以外の
その他のラジカル重合性不飽和モノマ−(ホ)の有機珪
素共重合体(i)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を
含有することを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系
樹脂硬化性組成物(以下、本発明組成物[I]と略
す。)、 2.水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−(イ)、
エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−(ロ)、
珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解性基を含
有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)及び必要に
応じて上記(イ)〜(ニ)以外のその他のラジカル重合
性不飽和モノマ−(ホ)の有機珪素共重合体(ii
i)、ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)、及び
金属キレ−ト化合物(ii)を含有することを特徴とす
る耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化性組成物(以
下、本発明組成物[II]と略す。)、 3.上記した有機珪素共重合体(i)、ジメチルポリシ
ロキサン系化合物(iv)、及び金属キレ−ト化合物
(ii)を含有することを特徴とする耐汚染性に優れた
シリコン系樹脂硬化性組成物(以下、本発明組成物[I
II]と略す。)、 4.上記した有機珪素共重合体(i)、一般式(1)S
i(OR1 4 (式中、R1 は同一もしくは異なってC
1〜4 の炭化水素基を示す)で表される有機珪素化合物
(A)及び/又はその低縮合物0〜90重量%及び一般
式(2)R2 Si(OR1 3 (式中、R1 は上記と同
じ意味を示し、R2 はC1 〜 12の炭化水素基を示す)
で表される有機珪素化合物(B)及び/又はその低縮合
物10〜100重量%の混合物を縮合して得られる有機
珪素縮合物(v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を
含有することを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系
樹脂硬化性組成物(以下、本発明組成物[IV]と略
す。)、 5.上記した有機珪素共重合体(iii)、ジメチルポ
リシロキサン系化合物(iv)、上記した有機珪素縮合
物(v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を含有する
ことを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化
性組成物(以下、本発明組成物[V]と略す。)、 6.上記した有機珪素共重合体(i)、ジメチルポリシ
ロキサン系化合物(iv)、上記した有機珪素縮合物
(v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を含有するこ
とを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化性
組成物(以下、本発明組成物[VI]と略す。)、並び
に 7.ベ−スフィルム層[1]表面に、上記1〜6に記載
のシリコン系樹脂硬化性組成物の硬化被膜[2]を形成
させてなることを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン
系樹脂被覆フィルム(以下、本発明フィルム[VII]
と略す。)に係わる。
That is, the present invention provides: Hydroxyl-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a),
An epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (b),
A radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c), a radically polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d) and, if necessary, It is characterized by containing an organosilicon copolymer (i) of a radically polymerizable unsaturated monomer (e) other than the above (a) to (d) and a metal chelate compound (ii). 1. A silicone resin curable composition excellent in stainability (hereinafter, abbreviated as the composition [I] of the present invention); Hydroxyl-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a),
An epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer (b),
A radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c) and, if necessary, other radically polymerizable unsaturated monomers other than the above (a) to (d) (E) the organosilicon copolymer (ii)
i), a dimethylpolysiloxane-based compound (iv), and a metal chelate compound (ii), and a silicone-based resin curable composition excellent in stain resistance (hereinafter referred to as the composition of the present invention [ II]), 3. A silicone resin curable composition excellent in stain resistance, comprising the above-mentioned organosilicon copolymer (i), dimethylpolysiloxane compound (iv), and metal chelate compound (ii). (Hereinafter, the composition of the present invention [I
II]. ), 4. The above-mentioned organosilicon copolymer (i), general formula (1) S
i (OR 1 ) 4 wherein R 1 is the same or different and
Organosilicon compound (A) and / or in its low condensate 0-90 wt% and the general formula (2) R 2 Si (OR 1) 3 ( Formula represented by showing the 1-4 hydrocarbon group), R 1 represents the same meaning as above, R 2 is a hydrocarbon group of C 1 ~ 12)
And / or a metal chelate compound (ii) containing an organosilicon condensate (v) obtained by condensing a mixture of 10 to 100% by weight of an organosilicon compound (B) and / or a low-condensate thereof represented by 4. a curable silicone resin composition excellent in stain resistance (hereinafter, abbreviated as composition [IV] of the present invention); Stain resistance comprising the above-mentioned organosilicon copolymer (iii), dimethylpolysiloxane-based compound (iv), the above-mentioned organosilicon condensate (v), and metal chelate compound (ii) 5. A silicone resin curable composition (hereinafter, abbreviated as the composition [V] of the present invention) which is excellent in the above. Stain resistance characterized by containing the above-mentioned organosilicon copolymer (i), dimethylpolysiloxane-based compound (iv), the above-mentioned organosilicon condensate (v), and metal chelate compound (ii). 6. A silicon-based resin curable composition (hereinafter, abbreviated as the composition [VI] of the present invention) having excellent characteristics, and A silicone-based resin excellent in stain resistance, comprising a cured film [2] of the silicone-based resin-curable composition described in the above 1 to 6 formed on the surface of the base film layer [1]. Coated film (hereinafter referred to as the present film [VII]
Abbreviated. ).

【0007】本発明組成物[I]〜[VI]で使用する
(i)〜(v)成分について以下に述べる。
The components (i) to (v) used in the compositions [I] to [VI] of the present invention are described below.

【0008】本発明組成物において、加水分解性珪素基
は水や空気中の湿気により加水分解反応して珪素に直接
結合する水酸基を生じる官能基であり、特に、メトキ
シ、エトキシ、プロピオキシなどの低級アルコキシル基
が珪素原子に直接結合した基が硬化性に優れた効果を示
すので好ましい。
In the composition of the present invention, the hydrolyzable silicon group is a functional group that produces a hydroxyl group directly bonded to silicon by a hydrolysis reaction with water or moisture in the air, and is particularly a lower group such as methoxy, ethoxy, propoxy and the like. A group in which an alkoxyl group is directly bonded to a silicon atom is preferable because it has an excellent curability.

【0009】有機珪素共重合体(i ):該共重合体
(i)で使用する水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノ
マ−(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノ
マ−(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水
分解性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−
(ハ)、ジメチルシロキサン結合を主鎖とするラジカル
重合性不飽和モノマ−(ニ)及び必要に応じて上記
(イ)〜(ニ)以外のその他のラジカル重合性不飽和モ
ノマ−(ホ)としては下記のものを挙げることができ
る。
Organosilicon copolymer (i ): a hydroxyl-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a), an epoxy-containing radically polymerizable unsaturated monomer (b), silicon used in the copolymer (i). Radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to
(C) a radical polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d) and, if necessary, other radical polymerizable unsaturated monomers other than the above (a) to (d) (e). The following can be mentioned.

【0010】(イ)水酸基含有ラジカル重合性不飽和モ
ノマー 例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、
2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブ
チル(メタ)アクリレート、及びこれらのものとカプロ
ラクトンとの付加物などの水酸基含有不飽和モノマ−な
ど。
(A) hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate,
And hydroxyl-containing unsaturated monomers such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, and adducts thereof with caprolactone.

【0011】(ロ)エポキシ基含有ラジカル重合性不飽
和モノマ− 例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレ−ト、ア
リルグリシジルエーテルなど。
(B) Epoxy group-containing radically polymerizable unsaturated monomers such as glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, and allyl glycidyl ether.

【0012】(ハ)珪素に直接結合する水酸基及び/又
は加水分解性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ
− 例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラ
ン、γ−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメト
キシシラン、ビニルトリアセトオキシシラン、β−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルトリメトキシシラン、γ
−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシ
ランなど。また、例えば、特開昭62−197423号
公報に記載の1分子中に平均1個の重合性不飽和結合と
末端相当部分に少なくとも2個以上のアルコキシシラン
基及び/又はヒドロキシシラン基とを有し、数平均分子
量が400〜100000のポリシロキサンマクロモノ
マ−使用することができる。
(C) A radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon, for example, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, γ- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetooxysilane, β- (meth) acryloyloxyethyltrimethoxysilane, γ
-(Meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane and the like. Also, for example, one molecule described in JP-A-62-197423 has an average of one polymerizable unsaturated bond and at least two or more alkoxysilane groups and / or hydroxysilane groups in a terminal equivalent portion. A polysiloxane macromonomer having a number average molecular weight of 400 to 100,000 can be used.

【0013】(ニ)ジメチルシロキサン結合を主鎖とす
るラジカル重合性不飽和モノマ− 該不飽和モノマ−としては、分子の片末端にラジカル重
合性不飽和基を有し、かつ分子中にジメチルシロキサン
結合[−Si(CH3 2 O−]単位を2個以上含有す
る不飽和モノマ−である。該ジメチルシロキサン結合の
残基の一方(左)の末端はラジカル重合性不飽和残基に
結合し、もう一方(右)の末端は[−Si(R3 )(R
4 )O−]単位(R3 又はR4 はメチル、エチル、プロ
ピル、ブチルなどのアルキル基、フェニル基、エポキシ
基、又はSH基を示す。ただし、R3 又はR4 はともに
メチル基になるものは含まない。R3 又はR4 において
エポキシ基及びSH基はSiに直接もしくは炭化水素結
合又はエ−テル結合又はこれらの組合せの結合を介して
結合しても構わない。)を介して、もしくは直接に[−
Si(R3 3 ](R3 は上記と同様の意味を示す。R
3 は同一もしくは異なって組合わせることができ
る。)、R1 (R1 は前記と同様の意味を示す。)、又
は水素原子が結合したものを使用することができる。ラ
ジカル重合性不飽和基としては、例えば、CH2 =CH
COOCnH2 n−、CH2 =CCH3 COOCnH2
n−などが包含される(nは1〜5の整数、特に1〜4
整数が好ましい)。
(D) Radical polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain The unsaturated monomer has a radical polymerizable unsaturated group at one end of the molecule and dimethylsiloxane in the molecule. binding [-Si (CH 3) 2 O- ] unsaturated monomer having two or more units - a. One (left) terminal of the residue of the dimethylsiloxane bond is bonded to a radically polymerizable unsaturated residue, and the other (right) terminal is [—Si (R 3 ) (R
4 ) O-] unit (R 3 or R 4 represents an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, butyl, etc., a phenyl group, an epoxy group, or an SH group, provided that both R 3 and R 4 are methyl groups. In R 3 or R 4 , the epoxy group and the SH group may be bonded to Si directly or via a hydrocarbon bond or an ether bond or a combination thereof.) Or directly [-
Si (R 3 ) 3 ] (R 3 has the same meaning as described above.
3 can be the same or different combinations. ), R 1 (R 1 has the same meaning as described above), or those having a hydrogen atom bonded thereto can be used. Examples of the radical polymerizable unsaturated group include, for example, CH 2 CH
COOCnH 2 n-, CH 2 = CCH 3 COOCnH 2
(n is an integer of 1 to 5, especially 1 to 4
Integers are preferred).

【0014】該ラジカル重合性不飽和モノマ−として
は、特にCH2 =CH(又はCH3 )COOC3 6
[Si(CH3 2 O]m−Si(CH3 3 、及びC
2 =CH(又はCH3 )COOC3 6 −[Si(C
3 2 O]m−R1 (以上、mは3〜70の整数を示
す)のものが好ましい。具体的には、例えば、 CH2 =CH(又はCH3 )COOC3 6 −[Si
(CH3 2 O]11−Si(CH3 3 CH2 =CH(又はCH3 )COOC3 6 −[Si
(CH3 2 O]20〜30−Si(CH3 3 CH2 =CH(又はCH3 )COOC3 6 −[Si
(CH3 2 O]65−Si(CH3 3 CH2 =CH(又はCH3 )COOC3 6 −[Si
(CH3 2 O]20〜30−CH3 などを挙げることができる。
As the radical polymerizable unsaturated monomer, CH 2 CHCH (or CH 3 ) COOC 3 H 6-
[Si (CH 3 ) 2 O] m-Si (CH 3 ) 3 and C
H 2 CHCH (or CH 3 ) COOC 3 H 6- [Si (C
H 3) 2 O] m- R 1 ( or more, m is preferably from showing) an integer of 3 to 70. Specifically, for example, CH 2 CHCH (or CH 3 ) COOC 3 H 6- [Si
(CH 3) 2 O] 11 -Si (CH 3) 3 CH 2 = CH ( or CH 3) COOC 3 H 6 - [Si
(CH 3) 2 O] 20~30 -Si (CH 3) 3 CH 2 = CH ( or CH 3) COOC 3 H 6 - [Si
(CH 3) 2 O] 65 -Si (CH 3) 3 CH 2 = CH ( or CH 3) COOC 3 H 6 - [Si
(CH 3) 2 O] and the like 20 to 30 -CH 3.

【0015】(ホ)上記(イ)〜(ニ)以外のその他の
ラジカル重合性不飽和モノマ− 例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)
アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル
(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレー
ト、ラウリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート等の如き(メタ)アクリル酸のC
1-24個のアルキル又はシクロアルキルエステル類、スチ
レン、ビニルトルエン、(メタ)アクリルニトリルな
ど。
(E) Other radically polymerizable unsaturated monomers other than the above (a) to (d), for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth)
C of (meth) acrylic acid such as acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, etc.
1-24 alkyl or cycloalkyl esters, styrene, vinyltoluene, (meth) acrylonitrile and the like.

【0016】有機珪素共重合体(i)は、従来から公知
のラジカル重合方法、例えば、溶液重合方法などにより
製造することができる。
The organosilicon copolymer (i) can be produced by a conventionally known radical polymerization method, for example, a solution polymerization method.

【0017】有機珪素共重合体(i)の平均分子量は約
3000〜80000、特に約8000〜50000の
範囲が好ましい。分子量が約3000を下回ると被膜の
加工性などが低下し、また、約80000を上回ると塗
装や印刷作業性が低下するので好ましくない。
The average molecular weight of the organosilicon copolymer (i) is preferably in the range of about 3000 to 80000, particularly preferably in the range of about 8000 to 50,000. If the molecular weight is less than about 3,000, the workability of the coating film is reduced, and if it is more than about 80,000, the coating and printing workability is undesirably reduced.

【0018】有機珪素共重合体(i ii):該共重合体
(iii)で使用する水酸基含有ラジカル重合性不飽和
モノマ−(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和
モノマ−(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は
加水分解性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−
(ハ)、及び必要に応じて使用するその他のラジカル重
合性不飽和モノマ−(ホ)は上記有機珪素共重合体
(i)と同様のものが包含される。
Organosilicon copolymer (i ii): hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer (a), epoxy group-containing radically polymerizable unsaturated monomer (b) used in the copolymer (iii). Radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group bonded directly to silicon
(C) and other radically polymerizable unsaturated monomers (e) used as needed include those similar to the organosilicon copolymer (i).

【0019】有機珪素共重合体(iii)は、従来から
公知のラジカル重合方法、例えば、溶液重合方法などに
より製造することができる。
The organosilicon copolymer (iii) can be produced by a conventionally known radical polymerization method, for example, a solution polymerization method.

【0020】有機珪素共重合体(iii)の平均分子量
は約3000〜80000、特に約8000〜5000
0の範囲が好ましい。分子量が約3000を下回ると被
膜の加工性などが低下し、また、約80000を上回る
と塗装や印刷作業性が低下するので好ましくない。
The average molecular weight of the organosilicon copolymer (iii) is about 3000 to 80000, especially about 8000 to 5000.
A range of 0 is preferred. If the molecular weight is less than about 3,000, the workability of the coating film is reduced, and if it is more than about 80,000, the coating and printing workability is undesirably reduced.

【0021】有機珪素縮合物(v) 有機珪素化合物
(A)において、一般式(1)で表されるR1 のC
1〜4 の炭化水素基としては、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチルなどのアルキル基がを挙げることができる。
該アルキル基は分岐していても分岐していなくても構わ
ない。また、その低縮合物としては重合度2〜10のも
のが好適である。有機珪素化合物(A)の具体例として
は、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、テトラプロピオキシシランなどを挙げることがで
きる。
Organosilicon condensate (v) : In the organosilicon compound (A), C 1 of R 1 represented by the general formula (1)
Examples of the hydrocarbon groups 1 to 4 include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl.
The alkyl group may be branched or unbranched. As the low condensate, those having a polymerization degree of 2 to 10 are preferable. Specific examples of the organic silicon compound (A) include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and the like.

【0022】有機珪素化合物(B)において、一般式
(2)で表されるR1 は上記のものと同様のものを挙げ
ることができる。また、R2 のC1〜12の炭化水素基と
しては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ヘキシル、オクチルなどのアルキル基(該アルキル基は
分岐していても分岐していなくても構わない)、フェニ
ル、トルイル、キシリルなどのアリ−ル基、シクロヘキ
シル、シクロブチル、シクロペンチルなどのシクロアル
キル基などを挙げることができる。また、その低縮合物
としては重合度2〜10のものが好適である。
In the organosilicon compound (B), R 1 represented by the general formula (2) may be the same as described above. Further, as the C 1-12 hydrocarbon group for R 2 , for example, methyl, ethyl, propyl, butyl,
Alkyl groups such as hexyl and octyl (the alkyl groups may be branched or unbranched), aryl groups such as phenyl, toluyl and xylyl, cycloalkyl groups such as cyclohexyl, cyclobutyl and cyclopentyl; Can be mentioned. As the low condensate, those having a polymerization degree of 2 to 10 are preferable.

【0023】有機珪素化合物(B)の具体例としては、
例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルジメトキシ
エトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニル
トリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなど
を挙げることができる。
Specific examples of the organosilicon compound (B) include:
For example, methyltrimethoxysilane, methyldimethoxyethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and the like can be given.

【0024】有機珪素縮合物(v)は、有機珪素化合物
(A)及び/又はその低縮合物0〜90重量%、好まし
くは20〜80重量%と有機珪素化合物(B)及び/又
はその低縮合物10〜100重量%、好ましくは20〜
80重量%との混合物を縮合して得られるものである。
上記した縮合反応は、例えば、特公昭平4−22953
号公報に記載の方法によっておこなうことができる。有
機珪素縮合物(v)は三次元縮合物であり、少なくとも
縮合度は20以上、かつ分子量は約3000〜2000
00である。
The organosilicon condensate (v) comprises the organosilicon compound (A) and / or its low condensate in an amount of 0 to 90% by weight, preferably 20 to 80% by weight, and the organosilicon compound (B) and / or its low condensate. 10 to 100% by weight, preferably 20 to 100% by weight of condensate
It is obtained by condensing a mixture with 80% by weight.
The above-mentioned condensation reaction is described in, for example, Japanese Patent Publication No. 4-22953.
The method can be performed by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. HEI 10-76, pp. The organosilicon condensate (v) is a three-dimensional condensate, having a degree of condensation of at least 20 and a molecular weight of about 3,000 to 2,000.
00.

【0025】ジメチルポリシロキサ ン系化合物(i
v):ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)は、分
子中にジメチルシロキサン結合[−Si(CH3 2
−]単位を2個以上、好ましくは3〜100個含有し、
その一方(左)分子末端は−OSi(R5 )(R6
(R7 )(R5 、R6 、またはR7 はメチル、エチル、
プロピルなどのC1〜3 の低級アルキル基、フェニル
基、水酸基などを示す。)、また、もう一方(右)分子
末端は−Si(R5)(R6 )(R7 )(R5 、R6
またはR7 は上記と同様の意味を示す。)を表わす。R
5 、R6 、及びR7 の中でも、これらの中の3つの全て
のものがメチル基であるか、もしくは2個メチル基と水
酸基であることが好ましい。上記したジメチルシロキサ
ン結合単位以外に必要に応じて[−Si(R8
(R9 )O−](R8 、またはR9 はメチル、エチル、
プロピルなどのC1〜3 の低級アルキル基、フェニル
基、水酸基などを示す。ただし、R8 、及びR9 がとも
にメチル基のものは含まない。)単位を約1〜50程度
で組合わせることができる。また、ジメチルポリシロキ
サン系化合物(iv)の平均分子量は約310〜800
0、特に約380〜5000が好ましい。平均分子量が
約310を下回るとベ−スフィルム層との付着性が低下
したり効果の持続性が低下する、一方、約8000を上
回ると耐汚染性の効果が少なくなるので好ましくない。
[0025] Dimethyl polysiloxanylalkyl emissions based compound (i
v): The dimethylpolysiloxane compound (iv) has a dimethylsiloxane bond [—Si (CH 3 ) 2 O] in the molecule.
-] Containing 2 or more units, preferably 3 to 100 units,
Meanwhile (left) molecular end -OSi (R 5) (R 6)
(R 7 ) (R 5 , R 6 or R 7 is methyl, ethyl,
It represents a C 1-3 lower alkyl group such as propyl, a phenyl group, a hydroxyl group and the like. ), Also the other (right) molecular end -Si (R 5) (R 6 ) (R 7) (R 5, R 6,
Or, R 7 has the same meaning as described above. ). R
5, R 6, and among R 7, it is preferable for all three of these or a methyl group, or a 2-methyl group and a hydroxyl group. [-Si (R 8 )
(R 9 ) O-] (R 8 or R 9 is methyl, ethyl,
It represents a C 1-3 lower alkyl group such as propyl, a phenyl group, a hydroxyl group and the like. However, those in which both R 8 and R 9 are methyl groups are not included. ) Units can be combined in about 1 to 50. The dimethylpolysiloxane compound (iv) has an average molecular weight of about 310 to 800.
0, especially about 380-5000 is preferred. When the average molecular weight is less than about 310, the adhesion to the base film layer is reduced or the durability of the effect is reduced. On the other hand, when the average molecular weight is more than about 8000, the effect of stain resistance is reduced, which is not preferable.

【0026】ジメチルポリシロキサン(iv)の具体例
としては、例えば、東レ・ダウコ−ニング・シリコ−ン
株式会社製の商品名として、SH200オイル(ジメチ
ルポリシロキサン)、PRX413、BY16−80
1、BY16−817(以上、末端シラノ−ル基含有ジ
メチルポリシロキサン)、SH510、SH550、S
H710、SH556(以上、フエニル変性ジメチルポ
リシロキサン)、SH203、SH230、BX16−
811F(以上、メチル基以外のアルキル基で変性した
ジメチルポリシロキサン)などを挙げることができる。
Specific examples of dimethylpolysiloxane (iv) include, for example, SH200 oil (dimethylpolysiloxane), PRX413, and BY16-80 (trade names, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.).
1, BY16-817 (above, dimethylpolysiloxane having a terminal silanol group), SH510, SH550, S
H710, SH556 (above, phenyl-modified dimethylpolysiloxane), SH203, SH230, BX16-
811F (dimethylpolysiloxane modified with an alkyl group other than a methyl group) and the like.

【0027】金属キレ−ト化合物( ii):金属キレ−
ト化合物(ii)としては、例えば、トリス(エチルア
セトアセテート)アルミニウム、トリス(n−プロピル
アセトアセテート)アルミニウム、トリス(イソプロピ
ルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(n−ブチ
ルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビ
ス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、ジイソプ
ロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス
(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス(プロピ
オニルアセトナト)アルミニウム、ジイソプロポキシプ
ロピオニルアセトナトアルミニウム、アセチルアセトナ
ト・ビス(プロピオニルアセトナト)アルミニウム、モ
ノエチルアセトアセテートビス(アセチルアセトナト)
アルミニウム、アセチルアセトナトアルミニウム・ジse
c-ブチレート、メチルアセトアセテートアルミニウム・
ジtert−ブチレート、ビス(アセチルアセトナト)アル
ミニウム・モノsec-ブチレート、ジ(メチルアセトアセ
テート)アルミニウム・モノtert−ブチレートなどのア
ルミニウムキレ−ト化合物;例えば、ジイソプロポキシ
・ビス(エチルアセトアセテ−ト)チタネート、ジイソ
プロポキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタネート、
ジ−n−ブトキシ・ビス(アセチルアセトナト)チタネ
ートなどのチタニウムキレ−ト化合物;例えば、テトラ
キス(アセチルアセトナト)ジルコニウム、テトラキス
(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テト
ラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどの
ジルコニウムキレ−ト化合物などを挙げることができ
る。
Metal chelate compound ( ii): metal chelate
Examples of the compound (ii) include tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (n-propylacetoacetate) aluminum, tris (isopropylacetoacetate) aluminum, tris (n-butylacetoacetate) aluminum, and isopropoxybis ( Ethyl acetoacetate) aluminum, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, tris (propionylacetonato) aluminum, diisopropoxypropionylacetonatoaluminum, acetylacetonatobis (propionylacetonato) aluminum, Monoethyl acetoacetate bis (acetylacetonate)
Aluminum, acetylacetonato aluminum
c-butyrate, methyl acetoacetate aluminum
Aluminum chelate compounds such as di-tert-butylate, bis (acetylacetonato) aluminum mono-sec-butylate, di (methylacetoacetate) aluminum mono-tert-butylate; for example, diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) G) titanate, diisopropoxy bis (acetylacetonato) titanate,
Titanium chelate compounds such as di-n-butoxybis (acetylacetonato) titanate; for example, tetrakis (acetylacetonato) zirconium, tetrakis (n-propylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium, etc. Zirconium chelate compounds and the like can be mentioned.

【0028】本発明組成物[I]〜[VI]及び本発明
フィルム[VII]について以下に述べる。
The compositions [I] to [VI] of the present invention and the film [VII] of the present invention are described below.

【0029】本発明組成物[I]:本発明組成物[I]
は、有機珪素共重合体(i)、及び金属キレ−ト化合物
(ii)を配合してなるシリコン系樹脂硬化性組成物で
ある。
Composition [I] of the present invention : Composition [I] of the present invention
Is a silicon-based resin curable composition comprising an organosilicon copolymer (i) and a metal chelate compound (ii).

【0030】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素共重合体(i)100重量部に対して金属キレ
−ト化合物(ii)を約0.01〜20重量部、特に約
0.1〜10重量部が好ましい。配合量が約0.01重
量部を下回ると低温硬化性が低下し、一方、約20重量
部を超えるとコストが高くなるとともに加工性が低下す
るので好ましくない。
The mixing ratio of the metal chelate compound (ii) is about 0.01 to 20 parts by weight, especially about 0 to 20 parts by weight of the metal chelate compound (ii) per 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (i). 0.1 to 10 parts by weight is preferred. If the amount is less than about 0.01 part by weight, the low-temperature curability is reduced. On the other hand, if the amount is more than about 20 parts by weight, the cost is increased and the processability is deteriorated.

【0031】本発明組成物[II] 本発明組成物[I
I]は、有機珪素共重合体(iii)、ジメチルポリシ
ロキサン系化合物(iv)、及び金属キレ−ト化合物
(ii)を配合してなるシリコン系樹脂硬化性組成物で
ある。
Composition of the present invention [II] : Composition of the present invention [I]
I] is a silicon-based resin curable composition comprising an organosilicon copolymer (iii), a dimethylpolysiloxane-based compound (iv), and a metal chelate compound (ii).

【0032】ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)
の配合割合は有機珪素共重合体(iii)100重量部
に対して約1〜10重量部、特に約1〜5重量部が好ま
しい。配合割合が約1重量部を下回ると耐汚染性、表面
硬度などが劣り、一方、約10重量部を上回ると表面平
滑性、硬化性、透明性、基材との付着性などが劣るので
好ましくない。
Dimethyl polysiloxane compound (iv)
Is preferably about 1 to 10 parts by weight, particularly preferably about 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (iii). If the compounding ratio is less than about 1 part by weight, the stain resistance and surface hardness are inferior. On the other hand, if it is more than about 10 parts by weight, the surface smoothness, curability, transparency, adhesion to the substrate and the like are inferior. Absent.

【0033】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素共重合体(iii)100重量部に対して金属
キレ−ト化合物(ii)を約0.01〜20重量部、特
に約0.1〜10重量部が好ましい。配合量が約0.0
1重量部を下回ると低温硬化性が低下し、一方、約20
重量部を超えるとコストが高くなるとともに加工性が低
下するので好ましくない。
The compounding ratio of the metal chelate compound (ii) is about 0.01 to 20 parts by weight, especially about 0 to 20 parts by weight of the metal chelate compound (ii) per 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (iii). 0.1 to 10 parts by weight is preferred. About 0.0
If the amount is less than 1 part by weight, the low-temperature curability decreases, while about 20 parts
Exceeding the weight part is not preferred because the cost increases and the processability decreases.

【0034】本発明組成物[III ]:本発明組成物
[III]は有機珪素共重合体(i)、ジメチルポリシ
ロキサン系化合物(iv)、及び金属キレ−ト化合物
(ii)を配合してなるシリコン系樹脂硬化性組成物で
ある。
Composition [III ] of the present invention : The composition [III] of the present invention is prepared by blending an organosilicon copolymer (i), a dimethylpolysiloxane compound (iv), and a metal chelate compound (ii). Silicone-based resin curable composition.

【0035】ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)
の配合割合は有機珪素共重合体(i)100重量部に対
して約1〜10重量部、特に約1〜5重量部が好まし
い。配合割合が約1重量部を下回ると耐汚染性、表面硬
度などが劣り、一方、約10重量部を上回ると表面平滑
性、硬化性、透明性、基材との付着性などが劣るので好
ましくない。
Dimethyl polysiloxane compound (iv)
Is preferably about 1 to 10 parts by weight, particularly preferably about 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (i). If the compounding ratio is less than about 1 part by weight, the stain resistance and surface hardness are inferior. On the other hand, if it is more than about 10 parts by weight, the surface smoothness, curability, transparency, adhesion to the substrate and the like are inferior. Absent.

【0036】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素共重合体(i)100重量部に対して金属キレ
−ト化合物(ii)を約0.01〜20重量部、特に約
0.1〜10重量部が好ましい。配合量が約0.01重
量部を下回ると低温硬化性が低下し、一方、約20重量
部を超えるとコストが高くなるとともに加工性が低下す
るので好ましくない。
The mixing ratio of the metal chelate compound (ii) is about 0.01 to 20 parts by weight, especially about 0 to 20 parts by weight of the metal chelate compound (ii) per 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (i). 0.1 to 10 parts by weight is preferred. If the amount is less than about 0.01 part by weight, the low-temperature curability is reduced. On the other hand, if the amount is more than about 20 parts by weight, the cost is increased and the processability is deteriorated.

【0037】本発明組成物[IV] 本発明組成物[I
V]は有機珪素共重合体(i)、有機珪素縮合物
(v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を配合してな
るシリコン系樹脂硬化性組成物である。
Composition of the present invention [IV] : Composition of the present invention [I]
V] is a silicon-based resin curable composition comprising an organosilicon copolymer (i), an organosilicon condensate (v), and a metal chelate compound (ii).

【0038】有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体
(i)との配合割合は両者の総合計量で、有機珪素縮合
物(v)1〜50重量%、好ましくは1〜30重量%、
有機珪素共重合体(i)50〜99重量%、特に70〜
99重量%が好ましい。有機珪素縮合物(v)が1重量
%未満(有機珪素共重合体(i)が99重量%を上回
る)になると、耐汚染性が低下し、一方、有機珪素縮合
物(v)が50重量%を超える(有機珪素共重合体
(i)が50重量%を下回る)と、加工性が低下するの
で好ましくない。
The mixing ratio of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (i) is 1 to 50% by weight, preferably 1 to 30% by weight, based on the total weight of the two. ,
50 to 99% by weight, especially 70 to 99% by weight of the organosilicon copolymer (i)
99% by weight is preferred. When the amount of the organosilicon condensate (v) is less than 1% by weight (the amount of the organosilicon copolymer (i) exceeds 99% by weight), the stain resistance decreases, while the amount of the organosilicon condensate (v) is 50% by weight. % (The content of the organosilicon copolymer (i) is less than 50% by weight) is not preferred because the processability decreases.

【0039】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体(i)の総合
計量100重量部に対して金属キレ−ト化合物(ii)
を約0.01〜20重量部、特に約0.1〜10重量部
が好ましい。配合量が約0.01重量部を下回ると低温
硬化性が低下し、一方、約20重量部を超えるとコスト
が高くなるとともに加工性が低下するので好ましくな
い。
The mixing ratio of the metal chelate compound (ii) is based on 100 parts by weight of the total amount of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (i).
Is preferably about 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably about 0.1 to 10 parts by weight. If the amount is less than about 0.01 part by weight, the low-temperature curability is reduced. On the other hand, if the amount is more than about 20 parts by weight, the cost is increased and the processability is deteriorated.

【0040】本発明組成物[V]:本発明組成物[V]
は有機珪素縮合物(v)、有機珪素共重合体(ii
i)、ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)、及び
金属キレ−ト化合物(ii)を配合してなるシリコン系
樹脂硬化性組成物である。
Composition of the present invention [V]: Composition of the present invention [V]
Is an organosilicon condensate (v), an organosilicon copolymer (ii)
This is a silicone resin curable composition comprising (i) a dimethylpolysiloxane compound (iv) and a metal chelate compound (ii).

【0041】有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体
(iii)との配合割合は両者の総合計量で、有機珪素
縮合物(v)1〜50重量%、好ましくは1〜30重量
%、有機珪素共重合体(iii)50〜99重量%、特
に70〜99重量%が好ましい。有機珪素縮合物(v)
が1重量%未満(有機珪素共重合体(iii)が99重
量%を上回る)になると、耐汚染性が低下し、一方、有
機珪素縮合物(v)が50重量%を超える(有機珪素共
重合体(iii)が50重量%を下回る)と、加工性が
低下するので好ましくない。
The mixing ratio of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (iii) is 1 to 50% by weight, preferably 1 to 30% by weight, based on the total weight of the two. And the organic silicon copolymer (iii) is preferably 50 to 99% by weight, particularly preferably 70 to 99% by weight. Organic silicon condensate (v)
Is less than 1% by weight (organic silicon copolymer (iii) exceeds 99% by weight), the stain resistance decreases, while the organic silicon condensate (v) exceeds 50% by weight (organic silicon copolymer (v)). If the content of the polymer (iii) is less than 50% by weight), the processability is undesirably reduced.

【0042】ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)
の配合割合は有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体
(iii)との総合計量100重量部に対して約1〜1
0重量部、特に約1〜5重量部が好ましい。配合割合が
約1重量部を下回ると耐汚染性、表面硬度などが劣り、
一方、約10重量部を上回ると表面平滑性、硬化性、透
明性、基材との付着性などが劣るので好ましくない。
Dimethylpolysiloxane compound (iv)
Of the organic silicon condensate (v) and the organic silicon copolymer (iii) in an amount of about 1 to 1 based on a total weight of 100 parts by weight.
0 parts by weight, especially about 1 to 5 parts by weight, is preferred. If the compounding ratio is less than about 1 part by weight, stain resistance, surface hardness, etc. are inferior,
On the other hand, if it exceeds about 10 parts by weight, the surface smoothness, curability, transparency, adhesion to the substrate and the like are inferior, so that it is not preferable.

【0043】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体(iii)の
総合計量100重量部に対して金属キレ−ト化合物(i
i)を約0.01〜20重量部、特に約0.1〜10重
量部が好ましい。配合量が約0.01重量部を下回ると
低温硬化性が低下し、一方、約20重量部を超えるとコ
ストが高くなるとともに加工性が低下するので好ましく
ない。
The mixing ratio of the metal chelate compound (ii) is based on 100 parts by weight of the total amount of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (iii).
i) is preferably about 0.01 to 20 parts by weight, especially about 0.1 to 10 parts by weight. If the amount is less than about 0.01 part by weight, the low-temperature curability is reduced. On the other hand, if the amount is more than about 20 parts by weight, the cost is increased and the processability is deteriorated.

【0044】本発明組成物[VI] 本発明組成物[V
I]は有機珪素縮合物(v)、有機珪素共重合体
(i)、ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)、及
び金属キレ−ト化合物(ii)を配合してなるシリコン
系樹脂硬化性組成物である。
Composition of the present invention [VI] : Composition of the present invention [V
I] is a silicon-based resin curable composition comprising an organosilicon condensate (v), an organosilicon copolymer (i), a dimethylpolysiloxane-based compound (iv), and a metal chelate compound (ii). It is.

【0045】有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体
(i)との配合割合は両者の総合計量で、有機珪素縮合
物(v)1〜50重量%、好ましくは1〜30重量%、
有機珪素共重合体(i)50〜99重量%、特に70〜
99重量%が好ましい。有機珪素縮合物(v)が1重量
%未満(有機珪素共重合体(i)が99重量%を上回
る)になると、耐汚染性が低下し、一方、有機珪素縮合
物(v)が50重量%を超える(有機珪素共重合体
(i)が50重量%を下回る)と、加工性が低下するの
で好ましくない。
The mixing ratio of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (i) is 1 to 50% by weight, preferably 1 to 30% by weight, based on the total weight of the two. ,
50 to 99% by weight, especially 70 to 99% by weight of the organosilicon copolymer (i)
99% by weight is preferred. When the amount of the organosilicon condensate (v) is less than 1% by weight (the amount of the organosilicon copolymer (i) exceeds 99% by weight), the stain resistance decreases, while the amount of the organosilicon condensate (v) is 50% by weight. % (The content of the organosilicon copolymer (i) is less than 50% by weight) is not preferred because the processability decreases.

【0046】ジメチルポリシロキサン系化合物(iv)
の配合割合は有機珪素共重合体(i)100重量部に対
して約1〜10重量部、特に約1〜5重量部が好まし
い。配合割合が約1重量部を下回ると耐汚染性、表面硬
度などが劣り、一方、約10重量部を上回ると表面平滑
性、硬化性、透明性、基材との付着性などが劣るので好
ましくない。
Dimethyl polysiloxane compound (iv)
Is preferably about 1 to 10 parts by weight, particularly preferably about 1 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the organosilicon copolymer (i). If the compounding ratio is less than about 1 part by weight, the stain resistance and surface hardness are inferior. On the other hand, if it is more than about 10 parts by weight, the surface smoothness, curability, transparency, adhesion to the substrate and the like are inferior. Absent.

【0047】金属キレ−ト化合物(ii)の配合割合は
有機珪素縮合物(v)と有機珪素共重合体(i)の総合
計量100重量部に対して金属キレ−ト化合物(ii)
を約0.01〜20重量部、特に約0.1〜10重量部
が好ましい。配合量が約0.01重量部を下回ると低温
硬化性が低下し、一方、約20重量部を超えるとコスト
が高くなるとともに加工性が低下するので好ましくな
い。
The compounding ratio of the metal chelate compound (ii) is 100 parts by weight of the total amount of the organosilicon condensate (v) and the organosilicon copolymer (i).
Is preferably about 0.01 to 20 parts by weight, particularly preferably about 0.1 to 10 parts by weight. If the amount is less than about 0.01 part by weight, the low-temperature curability is reduced. On the other hand, if the amount is more than about 20 parts by weight, the cost is increased and the processability is deteriorated.

【0048】本発明組成物は上記(i)〜(v)成分を
上記した配合割合になるように混合したものを有機溶剤
に溶解もしくは分散したのち、更に必要に応じて着色顔
料、充填剤、添加剤などを混合することにより製造でき
る。
The composition of the present invention is prepared by dissolving or dispersing the above components (i) to (v) in the above-mentioned mixing ratio in an organic solvent, and further adding a coloring pigment, a filler, if necessary. It can be produced by mixing additives and the like.

【0049】本発明組成物は、耐汚染性が必要とされ
る、例えば、金属、ガラス、木、紙、繊維、プラスチッ
ク、及びこれらのものが組合わさったものなどの基材に
塗装、印刷をおこなうことができる。このものが塗装、
印刷される用途としては、例えば、車両、建材(内装、
外装など)、家具、事務用品、家庭用品、システムキッ
チン(フ−ド、換気扇など)、電気製品(冷蔵庫、オ−
ブン、電子レンジなど)、ユニットバス、パ−テ−ショ
ンなどを挙げることができる。
The composition of the present invention can be applied to a substrate which is required to be stain resistant, for example, by coating or printing on a substrate such as metal, glass, wood, paper, fiber, plastic and a combination thereof. Can do it. This is painted,
Examples of applications to be printed are vehicles, building materials (interior,
Exterior, etc.), furniture, office supplies, household items, system kitchens (hoods, ventilation fans, etc.), electrical products (refrigerators,
, Microwave oven, etc.), a unit bath, a partition and the like.

【0050】本発明組成物は製品や部品の基材に直接に
塗装、印刷をおこなっても、もしくは本発明フィルム
[IV]のように被覆フィルムとしたのち、上記した基
材面とベ−スシ−ト層面とを、ラミネ−トしたり、また
は接着(粘着)剤を介して接着(粘着)してもよい。
The composition of the present invention can be applied directly to the substrate of a product or part by coating or printing, or after forming a coating film as in the film [IV] of the present invention, and then contacting the base material with the base material. -The layer may be laminated or adhered (adhered) via an adhesive (adhesive) agent.

【0051】本発明フィルム[VI I]:本発明フィル
ム[VII]はベ−スフィルム層[1]表面に、本発明
組成物[I]〜[VI]に記載のシリコン系樹脂硬化性
組成物を塗装、印刷したのち、乾燥硬化させることによ
り硬化被膜[2]を形成させることにより得られるシリ
コン系樹脂被覆フィルムである。
The film [VI I] of the present invention : The film [VII] of the present invention is formed on the surface of the base film layer [1], and the curable silicone resin composition according to any one of the compositions [I] to [VI] of the present invention. Is coated and printed, and then dried and cured to form a cured film [2].

【0052】ベ−スフィルム層[1]としては、例え
ば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイソブチレ
ン、ポリブタジェン、ポリスチレン、ポリクロロプレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリ
カ−ボネ−ト、セルロ−ス、ポリエチレンテレフタレ−
ト、ポリアセタ−ル、AS樹脂、ABS樹脂、メラミン
樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、弗素樹脂、シリコ
ン樹脂、ポリエステル樹脂等の熱可塑型プラスチックも
しくは架橋型プラスチックフィルム類;アルミニウム、
アルミニウム合金、鉄鋼、合金鋼、ステンレス、銅、
錫、亜鉛、亜鉛メッキ、亜鉛合金、錫メッキ鋼などの金
属フィルム類;天然繊維、合成繊維などの繊維類及びこ
れらのものが組合わさったフィルムを使用することがで
きる。
Examples of the base film layer [1] include polyethylene, polypropylene, polyisobutylene, polybutadiene, polystyrene, polychloroprene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, nylon, polycarbonate, cellulose, Polyethylene terephthalate
G, polyacetal, AS resin, ABS resin, melamine resin, acrylic resin, epoxy resin, fluorine resin, silicone resin, polyester resin, etc. thermoplastic or crosslinked plastic films; aluminum,
Aluminum alloy, steel, alloy steel, stainless steel, copper,
Metal films such as tin, zinc, galvanized, zinc alloy, and tin-plated steel; fibers such as natural fibers and synthetic fibers; and films in which these are combined can be used.

【0053】ベ−スフィルム層[1]表面には、本発明
組成物を塗装、印刷をおこなう前にコロナ放電などによ
る表面処理やプライマ−塗装、着色塗装などの下地塗装
などを必要に応じておこなうことができる。上記した塗
装、印刷の方法は、従来の塗装(例えば、スプレ−、刷
毛、ロ−ラ−など)や印刷(スクリ−ン、グラビアな
ど)などの手段によりおこなうことができる。硬化被膜
[2]の膜厚は、硬化膜厚で約2〜30ミクロン、特に
約2〜20ミクロンの範囲が好適である。また、硬化は
常温でも可能であるが、通常、40〜200℃の加熱範
囲で硬化させることができる。
The surface of the base film layer [1] is coated with the composition of the present invention and subjected to a surface treatment such as corona discharge or a base coat such as a primer coat or a colored coat, if necessary, before printing. Can do it. The above-mentioned coating and printing methods can be performed by means of conventional coating (eg, spray, brush, roller, etc.) and printing (screen, gravure, etc.). The cured film [2] preferably has a cured film thickness of about 2 to 30 microns, particularly about 2 to 20 microns. Curing can be carried out at room temperature, but it can be usually carried out in a heating range of 40 to 200 ° C.

【0054】本発明フィルム[VII]には、ベ−スフ
ィルム層[1]の片面(硬化被膜[2]と反対の面)に
は、本発明組成物を塗装、印刷をおこなう前に、必要に
応じ;天然紙、合成紙などの紙類、及びこれらのものを
組合わせてなるフィルム類などを挙げることができる。
ベ−スフィルム層[1]の膜厚は、通常、約30〜20
00ミクロン、特に約40〜1000ミクロンの範囲が
望ましい。膜厚が、約30ミクロンを下回ると物が接触
した際に剥がれ易くなり、一方、約2000ミクロンを
上回ると熱により剥がれ易くなるので好ましくない。て
接着(粘着)剤層を設けることができる。
In the film [VII] of the present invention, one side of the base film layer [1] (the side opposite to the cured coating [2]) is coated with the composition of the present invention before coating and printing. Papers such as natural paper and synthetic paper, and films obtained by combining these papers.
The thickness of the base film layer [1] is usually about 30 to 20.
00 microns, particularly in the range of about 40-1000 microns. If the film thickness is less than about 30 microns, the object is liable to peel off when it comes into contact with the film, while if it exceeds about 2,000 microns, it is easy to peel off due to heat. To provide an adhesive (tacky) agent layer.

【0055】接着(粘着)剤層を形成する接着(粘着)
剤層としては、感熱又は感圧の接着(粘着)剤層を使用
することができる。接着(粘着)剤層の具体例として
は、例えば、ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル
系、ゴム系、ポリアミド系、酢酸ビニル系、アクリル
系、エチレン酢酸ビニル系、塩化ビニル/酢酸ビニル系
などの未硬化系のものや尿素系、メラミン系、エポキシ
系、フェノ−ル系、アクリル系、ポリエステル系、ウレ
タン系などの硬化系のものを挙げることができる。接着
(粘着)剤層には、例えば、接着(粘着)付与剤、接着
(粘着)調整剤、老化防止剤、安定剤、着色剤などを含
むことができる。接着剤が硬化系の場合には、硬化型と
して湿気硬化、湿気硬化、活性エネルギ−線硬化などい
ずれの方法であっても構わない。接着(粘着)剤層の膜
厚は、約10〜1000ミクロン、特に20〜500ミ
クロンの範囲が好適である。膜厚が約10ミクロン未満
になると貼付けられる基材が粗い場合には剥がれ易くな
り、一方、1000ミクロンを越えると熱により剥がれ
易くなるので好ましくない。
Adhesion (adhesion) for forming an adhesion (adhesion) agent layer
As the agent layer, a heat-sensitive or pressure-sensitive adhesive (tacky) agent layer can be used. Specific examples of the adhesive (tacky) agent layer include, for example, vinyl, polyurethane, polyester, rubber, polyamide, vinyl acetate, acrylic, ethylene vinyl acetate, and vinyl chloride / vinyl acetate. Curing type and curing type such as urea type, melamine type, epoxy type, phenol type, acrylic type, polyester type and urethane type can be mentioned. The adhesion (adhesion) agent layer can contain, for example, an adhesion (adhesion) imparting agent, an adhesion (adhesion) adjusting agent, an antioxidant, a stabilizer, and a coloring agent. When the adhesive is a curing system, any method such as moisture curing, moisture curing, and active energy ray curing may be used as the curing type. The thickness of the adhesive (tacky) agent layer is preferably in the range of about 10 to 1000 microns, particularly 20 to 500 microns. If the film thickness is less than about 10 microns, the substrate to be affixed is likely to be peeled off when the substrate is rough, while if it exceeds 1000 microns, it is easily undesirably peeled off by heat.

【0056】[0056]

【実施例】以下、実施例を掲げて本発明を詳細に説明す
る。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.

【0057】有機珪素共重合体aの 製造例 スチレン35g、グリシジルメタクリレ−ト20g、及
び2−ヒドロキシエチルアクリレ−ト20g、CH2
CCH3 COOC3 6 −[Si(CH3 2O]
20〜30 −Si(CH3 3 5g、下記マクロモノマ−
20gからなるモノマ−混合物を通常のアクリル製造方
法に準じてラジカル共重合反応をおこない数平均分子量
約20000の有機珪素共重合体aを得た。
Production Example of Organosilicon Copolymer a 35 g of styrene, 20 g of glycidyl methacrylate and 20 g of 2-hydroxyethyl acrylate, CH 2 =
CCH 3 COOC 3 H 6- [Si (CH 3 ) 2 O]
20-30 -Si (CH 3 ) 3 5 g, the following macromonomer
A monomer mixture comprising 20 g was subjected to a radical copolymerization reaction according to a usual acrylic production method to obtain an organosilicon copolymer a having a number average molecular weight of about 20,000.

【0058】マクロモノマ− メチルメトキシシラン2720g、γ−メテクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン230g、脱イオン水11
30g、1%ギ酸2g、ハイドロキノン1g、の混合物
を80℃で5時間反応させて数平均分子量2000のポ
リシロキサン系マクロモノマ−を得た。
Macromonomer 2720 g of methylmethoxysilane, 230 g of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, deionized water 11
A mixture of 30 g, 2 g of 1% formic acid and 1 g of hydroquinone was reacted at 80 ° C. for 5 hours to obtain a polysiloxane macromonomer having a number average molecular weight of 2,000.

【0059】有機珪素共重合体bの 製造例 スチレン35g、グリシジルメタクリレ−ト20g、及
び2−ヒドロキシエチルアクリレ−ト20g、CH2
CCH3 COOC3 6 −[Si(CH3 2O]
20〜30 −Si(CH3 3 8g、γ−メタクリロイル
オキシプロピルトリメトキシシラン17gからなるモノ
マ−混合物を通常のアクリル製造方法に準じてラジカル
共重合反応をおこない数平均分子量約18000の有機
珪素共重合体bを得た。
Production Example of Organosilicon Copolymer b 35 g of styrene, 20 g of glycidyl methacrylate and 20 g of 2-hydroxyethyl acrylate, CH 2 =
CCH 3 COOC 3 H 6- [Si (CH 3 ) 2 O]
A monomer mixture consisting of 8 g of 20-30 -Si (CH 3 ) 3 and 17 g of γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane is subjected to a radical copolymerization reaction in accordance with a usual acrylic production method to obtain an organosilicon copolymer having a number average molecular weight of about 18,000. Polymer b was obtained.

【0060】有機珪素共重合体cの 製造例 スチレン35g、グリシジルメタクリレ−ト20g、及
び2−ヒドロキシエチルアクリレ−ト20g、上記マク
ロモノマ−25gからなるモノマ−混合物を通常のアク
リル製造方法に準じてラジカル共重合反応をおこない数
平均分子量約18000の有機珪素共重合体cを得た。
Production Example of Organosilicon Copolymer c A monomer mixture consisting of 35 g of styrene, 20 g of glycidyl methacrylate, 20 g of 2-hydroxyethyl acrylate, and 25 g of the above macromonomer was prepared according to a conventional acrylic production method. By performing a radical copolymerization reaction, an organosilicon copolymer c having a number average molecular weight of about 18,000 was obtained.

【0061】有機珪素縮合物の製造 反応容器にES−40(日本コルコ−ト社製、テトラエ
トキシシラン低縮合物)427g、エチルトリエトキシ
シラン58g、及びエチルアルコ−ル300gを加え、
内容物を攪拌しながら加熱して80℃になったのち0.
2N塩酸142gを添加し80℃で30分間反応させ
た。次いで、この反応物に水酸化カリウム5gを添加し
てPH7以上に上げて80℃で2時間縮合反応をおこな
い、そのごベンゼン200gを添加して不揮発分が30
重量%になるまで脱溶剤をおこない粘度11センチポイ
ズのワニスを得た。
Production Example of Organosilicon Condensate 427 g of ES-40 (manufactured by Nippon Corcot Co., Ltd., low- condensation product of tetraethoxysilane), 58 g of ethyltriethoxysilane and 300 g of ethyl alcohol were added to a reaction vessel.
The contents were heated to 80 ° C. with stirring and then set to 0.
142 g of 2N hydrochloric acid was added and reacted at 80 ° C. for 30 minutes. Next, 5 g of potassium hydroxide was added to the reaction product, the pH was raised to 7 or more, and a condensation reaction was carried out at 80 ° C. for 2 hours.
The solvent was removed until the weight percentage became varnish to obtain a varnish having a viscosity of 11 centipoise.

【0062】シリコン樹脂組成物1 有機珪素共重合体a(固形分)100g、及びアルミニ
ウムトリス(エチルアセトアセテ−ト)2gにトルエン
を添加して分散をおこなってシリコン樹脂組成物1を得
た。
Silicon Resin Composition 1 Silicone resin composition 1 was obtained by adding 100 g of organosilicon copolymer a (solid content) and 2 g of aluminum tris (ethyl acetoacetate) to toluene for dispersion.

【0063】シリコン樹脂組成物2〜11 表1に記載のものを配合してシリコン樹脂組成物2〜1
1を得た。
Silicone resin compositions 2 to 11 Silicone resin compositions 2 to 1
1 was obtained.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】表1において、配合量は固形分(g)を示
す。PRX413は東レ・ダウコ−ニング・シリコ−ン
株式会社製、商品名、OHSi(CH3 2 −(OSi
(CH3 2 50−OSi(CH3 2 OH)、末端シ
ラノ−ル基含有ジメチルポリシロキサンのものである。
また、SH8416は東レ・ダウコ−ニング・シリコ−
ン株式会社製、商品名、アルキル変性シリコンである。
金属キレ−トはアルミニウムトリス(エチルアセトアセ
テ−ト)を使用した。
In Table 1, the amounts are solid contents (g). PRX413 is a product of Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd., trade name, OHSi (CH 3 ) 2- (OSi
(CH 3 ) 2 ) 50 —OSi (CH 3 ) 2 OH), a dimethylpolysiloxane containing a terminal silanol group.
Also, SH8416 is manufactured by Toray Dow Corning Silicone.
The product name is alkyl-modified silicon.
The metal chelate used was aluminum tris (ethyl acetoacetate).

【0066】得られたシリコン樹脂組成物を表2に記載
のフィルム表面(PETはポリエチレンテレフタレ−
ト、PVCはポリ塩化ビニルを示す。)に乾燥膜厚が3
ミクロンになるようにバ−コ−タ−塗装し、160℃で
90秒間乾燥硬化させてシリコン系樹脂硬化被膜層を有
する実施例1〜8及び比較例1〜4のシリコン系樹脂被
覆フィルムを得た。
The obtained silicone resin composition was coated on the film surface shown in Table 2 (PET was polyethylene terephthalate).
And PVC indicates polyvinyl chloride. 3) dry film thickness
Micron-coated with a bar coater, and dried and cured at 160 ° C. for 90 seconds to obtain silicone resin-coated films of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 4 having a cured layer of the silicon-based resin. Was.

【0067】該フィルムの外観、性能試験結果を表2に
示す。
Table 2 shows the appearance and performance test results of the film.

【0068】[0068]

【表2】 [Table 2]

【0069】表2において外観、性能試験は次ぎの方法
でおこなった。
In Table 2, appearance and performance tests were performed by the following methods.

【0070】外観:被膜表面のチヂミ、ツヤボケを目視
で観察し、下記の基準で評価した。○は全く異常が認め
られない、△はチヂミ、ツヤボケが認められる、×はチ
ヂミ、ツヤボケが著しいもの 透明性:被膜の透明性を目視で観察した。
Appearance: The surface of the coating film was visually observed for shrinkage and gloss, and evaluated according to the following criteria. ○: No abnormality was observed at all, Δ: Occurrence of shrinkage and gloss, X: Remarkable occurrence of shrinkage and gloss Transparency: The transparency of the coating film was visually observed.

【0071】光沢:JISK−5400(反射率60度
の鏡面反射率)で測定した。
Gloss: Measured according to JIS K-5400 (mirror reflectance at 60 ° reflectance).

【0072】付着性:JISK−5400(碁盤目カッ
タ−で被膜に1mmマス目を100個作り、その表面に
セロファンテ−プを密着させて、強く引き離したのち、
残ったマス目の数を測定した。)評価は8.5.1
(5)評価点数(10〜0)に基づいておこなった。
Adhesion: JIS K-5400 (100 pieces of 1 mm square were formed on the coating with a grid cutter, and a cellophane tape was closely adhered to the surface and strongly separated.
The number of remaining squares was measured. 8.) Evaluation is 8.5.1.
(5) The evaluation was performed based on the evaluation score (10 to 0).

【0073】耐油塵汚れ性:使用ずみの変色(変質)し
た(テンプラ)油(テンプラ油の変色程度がJISZ−
8721.5三属性による色票系の基準で2.5Y7.
0/12.0のもの)を100ミクロン程度になるよう
に塗布したのち、室温で1時間放置した。
Oil / dust stain resistance: Used discolored (degraded) (tempered) oil (tempering oil discoloration degree is JISZ-
8721.5 2.5Y7.
0 / 12.0) was applied so as to have a thickness of about 100 μm, and then left at room temperature for 1 hour.

【0074】塗布状態;(テンプラ)油の塗布状態を目
視で観察(○は油がハジいて独立した半球状となるも
の、△は連続膜となるがハジくもの、×は均一に濡れて
連続油膜となるもの)した。
Applied state: (Templar) Oil applied state is visually observed (O: oil is repelled to form an independent hemisphere, Δ: continuous film but resilient, X: uniform wet and continuous Oil film).

【0075】油の残り状態;塗布した(テンプラ)油を
布で軽く拭き取った。拭き取り後の被膜表面上の(テン
プラ)油の残り具合を目視で観察(◎は軽く1回で拭き
取れ被膜表面に(テンプラ)油が全く残っていないも
の、○は軽く2〜4回で拭き取れ被膜表面に(テンプ
ラ)油が全く残っていないもの、△は軽く2〜4回拭い
ても、被膜表面に(テンプラ)油が残っているもの、×
は軽く2〜4回拭いても、被膜表面に(テンプラ)油が
多く残っているもの)した。
Oil Remaining State: The applied (templar) oil was lightly wiped off with a cloth. Visual observation of the remaining amount of (templar) oil on the surface of the film after wiping (◎: lightly wiped once with no (templar) oil remaining on the film surface; ○: lightly wiped with 2-4 times film No (Tempura) oil left on the surface, △: Lightly wiped 2 to 4 times, but (Tempura) oil remains on the coating surface, ×
(A lot of (tempura) oil remained on the coating surface even after wiping lightly 2 to 4 times).

【0076】拭き取り後の外観;被膜表面の(テンプ
ラ)油を完全に拭き取ったのち、被膜表面の外観(変色
など)を観察(○は変色などの異常がないもの、△は変
色などの異常が少ないもの、×は変色などの異常が大き
いもの)した。
Appearance after wiping: After completely removing (templar) oil on the surface of the coating, observe the appearance (discoloration, etc.) of the coating surface (O: No abnormalities such as discoloration, Δ: Abnormalities such as discoloration) (Small ones, x: large abnormalities such as discoloration).

【0077】耐油性マ−カ−性:赤、青、黒の3色の油
性マ−カ−で被膜表面に線を書いたのち室温で24時間
放置して試験に供した。試験は布で軽く拭き取りをおこ
なったのち被膜の外観を調べた。◎は軽く1回で拭き取
れマ−カ−あとが残らないもの、○は軽く2〜4回で拭
き取れマ−カ−あとが残らないもの、△は軽く2〜4回
拭いても若干マ−カ−あとが残るもの、×は軽く2〜4
回拭いても著しくマ−カ−あとが残るもの 加工性:フィルム(ベ−スフィルムが重なるように)を
360度折り曲げて被膜のワレ、ハガレなどを観察し
た。○は良好なもの、△は若干ワレ、ハガレが認められ
るもの、×はワレ、ハガレが著しいもの
Oil resistance Marker: A line was drawn on the surface of the film with three colors of oily markers of red, blue and black, and then left for 24 hours at room temperature for testing. In the test, the appearance of the coating was examined after wiping it lightly with a cloth. ◎ is a marker that is wiped lightly once and no residue remains, ○ is a marker that is lightly wiped in 2 to 4 times and no residue remains, and Δ is a marker that is lightly wiped 2 to 4 times and slightly -What remains, x is lightly 2-4
Marker remains significantly after wiping. Workability: The film (so that the base film overlaps) was bent at 360 °, and cracks and peeling of the film were observed. ○: good, △: slight cracking, peeling, ×: cracking, peeling

【0078】[0078]

【発明の効果】本発明組成物は上記した特定の組成物で
あることからこのものによって形成される被膜は、加工
性、耐汚染性、特に、油汚れに対して容易に除去するこ
とができるといった効果を有する。
Since the composition of the present invention is the above-mentioned specific composition, the film formed by this composition can be easily removed from workability and stain resistance, particularly, oil stains. It has such an effect.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解
性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)、
ジメチルシロキサン結合を主鎖とするラジカル重合性不
飽和モノマ−(ニ)及び必要に応じて上記(イ)〜
(ニ)以外のその他のラジカル重合性不飽和モノマ−
(ホ)の有機珪素共重合体(i)、及び金属キレ−ト化
合物(ii)を含有することを特徴とする耐汚染性に優
れたシリコン系樹脂硬化性組成物。
1. A hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c),
Radical polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d) and optionally (a) to (d)
Other radical polymerizable unsaturated monomers other than (d)
A silicone resin curable composition excellent in stain resistance, comprising the organosilicon copolymer (i) of (e) and the metal chelate compound (ii).
【請求項2】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解
性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)及
び必要に応じて上記(イ)〜(ニ)以外のその他のラジ
カル重合性不飽和モノマ−(ホ)の有機珪素共重合体
(iii)、ジメチルポリシロキサン系化合物(i
v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を含有すること
を特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化性組
成物。
2. A hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c) and, if necessary, other radical polymerizable monomers other than the above (a) to (d) Organosilicon copolymer of unsaturated monomer (e) (iii), dimethylpolysiloxane-based compound (i
v) and a metal-chelate compound (ii), which is a silicone-based resin curable composition excellent in stain resistance.
【請求項3】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解
性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)、
ジメチルシロキサン結合を主鎖とするラジカル重合性不
飽和モノマ−(ニ)及び必要に応じて上記(イ)〜
(ニ)以外のその他のラジカル重合性不飽和モノマ−
(ホ)の有機珪素共重合体(i)、ジメチルポリシロキ
サン系化合物(iv)、及び金属キレ−ト化合物(i
i)を含有することを特徴とする耐汚染性に優れたシリ
コン系樹脂硬化性組成物。
3. A hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c),
Radical polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d) and optionally (a) to (d)
Other radical polymerizable unsaturated monomers other than (d)
(E) the organosilicon copolymer (i), the dimethylpolysiloxane-based compound (iv), and the metal chelate compound (i)
A silicone resin curable composition having excellent stain resistance, characterized by containing i).
【請求項4】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解
性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)、
ジメチルシロキサン結合を主鎖とするラジカル重合性不
飽和モノマ−(ニ)及び必要に応じて上記(イ)〜
(ニ)以外のその他のラジカル重合性不飽和モノマ−
(ホ)の有機珪素共重合体(i)、一般式(1)Si
(OR1 4 (式中、R1 は同一もしくは異なってC
1〜4 の炭化水素基を示す)で表される有機珪素化合物
(A)及び/又はその低縮合物0〜90重量%及び一般
式(2)R2 Si(OR1 3 (式中、R1 は上記と同
じ意味を示し、R2 はC1 〜 12の炭化水素基を示す)
で表される有機珪素化合物(B)及び/又はその低縮合
物10〜100重量%の混合物を縮合して得られる有機
珪素縮合物(v)、及び金属キレ−ト化合物(ii)を
含有することを特徴とする耐汚染性に優れたシリコン系
樹脂硬化性組成物。
4. A hydroxyl-containing radically polymerizable unsaturated monomer.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c),
Radical polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d) and optionally (a) to (d)
Other radical polymerizable unsaturated monomers other than (d)
(E) the organosilicon copolymer (i), the general formula (1) Si
(OR 1 ) 4 (wherein R 1 is the same or different and is C
Organosilicon compound (A) and / or in its low condensate 0-90 wt% and the general formula (2) R 2 Si (OR 1) 3 ( Formula represented by showing the 1-4 hydrocarbon group), R 1 represents the same meaning as above, R 2 is a hydrocarbon group of C 1 ~ 12)
And / or a metal chelate compound (ii) containing an organosilicon condensate (v) obtained by condensing a mixture of 10 to 100% by weight of an organosilicon compound (B) and / or a low-condensate thereof represented by A silicone resin curable composition having excellent contamination resistance.
【請求項5】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、珪素に直接結合する水酸基及び/又は加水分解
性基を含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)及
び必要に応じて上記(イ)〜(ニ)以外のその他のラジ
カル重合性不飽和モノマ−(ホ)の有機珪素共重合体
(iii)、ジメチルポリシロキサン系化合物(i
v)、一般式(1)Si(OR1 4 (式中、R1 は同
一もしくは異なってC1〜4 の炭化水素基を示す)で表
される有機珪素化合物(A)及び/又はその低縮合物0
〜90重量%及び一般式(2)R2 Si(OR1
3 (式中、R1 は上記と同じ意味を示し、R2 はC
1 〜 12の炭化水素基を示す)で表される有機珪素化合
物(B)及び/又はその低縮合物10〜100重量%の
混合物を縮合して得られる有機珪素縮合物(v)、及び
金属キレ−ト化合物(ii)を含有することを特徴とす
る耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化性組成物。
5. A hydroxyl group-containing radically polymerizable unsaturated monomer.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radical polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded to silicon (c) and, if necessary, other radical polymerizable monomers other than the above (a) to (d) Organosilicon copolymer of unsaturated monomer (e) (iii), dimethylpolysiloxane-based compound (i
v), an organosilicon compound (A) represented by the general formula (1) Si (OR 1 ) 4 (wherein R 1 is the same or different and represents a C 1-4 hydrocarbon group) and / or Low condensate 0
To 90% by weight and the general formula (2) R 2 Si (OR 1 )
3 (wherein, R 1 represents the same meaning as above, R 2 is C
An organic silicon condensate (v) obtained by condensing an organic silicon compound (B) represented by 1 to 12 hydrocarbon groups) and / or a mixture of 10 to 100% by weight of a low condensate thereof; A silicone resin curable composition having excellent stain resistance, which comprises a chelate compound (ii).
【請求項6】水酸基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(イ)、エポキシ基含有ラジカル重合性不飽和モノマ−
(ロ)、直接結合する水酸基及び/又は加水分解性基を
含有するラジカル重合性不飽和モノマ−(ハ)、ジメチ
ルシロキサン結合を主鎖とするラジカル重合性不飽和モ
ノマ−(ニ)及び必要に応じて上記(イ)〜(ニ)以外
のその他のラジカル重合性不飽和モノマ−(ホ)の有機
珪素共重合体(i)、ジメチルポリシロキサン系化合物
(iv)、一般式(1)Si(OR1 4 (式中、R1
は同一もしくは異なってC1〜4 の炭化水素基を示す)
で表される有機珪素化合物(A)及び/又はその低縮合
物0〜90重量%及び一般式(2)R2 Si(OR1
3 (式中、R1 は上記と同じ意味を示し、R2 はC
1 〜 12の炭化水素基を示す)で表される有機珪素化合
物(B)及び/又はその低縮合物10〜100重量%の
混合物を縮合して得られる有機珪素縮合物(v)、及び
金属キレ−ト化合物(ii)を含有することを特徴とす
る耐汚染性に優れたシリコン系樹脂硬化性組成物。
6. A radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group.
(A) an epoxy group-containing radical polymerizable unsaturated monomer
(B) a radically polymerizable unsaturated monomer containing a hydroxyl group and / or a hydrolyzable group directly bonded (c), a radically polymerizable unsaturated monomer having a dimethylsiloxane bond as a main chain (d), and Accordingly, other than the above (a) to (d), an organosilicon copolymer (i) of a radically polymerizable unsaturated monomer (e), a dimethylpolysiloxane-based compound (iv), and a general formula (1) Si ( OR 1 ) 4 (wherein, R 1
Represents the same or different C 1-4 hydrocarbon groups)
0 to 90% by weight of an organosilicon compound (A) and / or a low condensate thereof represented by the formula (2): R 2 Si (OR 1 )
3 (wherein, R 1 represents the same meaning as above, R 2 is C
An organic silicon condensate (v) obtained by condensing an organic silicon compound (B) represented by 1 to 12 hydrocarbon groups) and / or a mixture of 10 to 100% by weight of a low condensate thereof; A silicone resin curable composition having excellent stain resistance, which comprises a chelate compound (ii).
【請求項7】ベ−スフィルム層[1]表面に、請求項1
乃至6に記載のシリコン系樹脂硬化性組成物の硬化被膜
[2]を形成させてなることを特徴とする耐汚染性に優
れたシリコン系樹脂被覆フィルム。
7. The method according to claim 1, wherein the surface of the base film layer [1] is provided.
7. A silicone-based resin-coated film excellent in stain resistance, which is obtained by forming a cured film [2] of the silicone-based resin-curable composition according to any one of Items 1 to 6.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11256105A (en) * 1998-03-16 1999-09-21 Toyo Ink Mfg Co Ltd Coating agent for aluminum sheet and aluminum sheet processed product
JP2008200623A (en) * 2007-02-21 2008-09-04 East Japan Railway Co Surface treatment method
JP2016172026A (en) * 2016-05-18 2016-09-29 コクヨ株式会社 Furniture member, resin member for chair, and leg base for chair

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