JPH107879A - Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer - Google Patents

Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer

Info

Publication number
JPH107879A
JPH107879A JP16018196A JP16018196A JPH107879A JP H107879 A JPH107879 A JP H107879A JP 16018196 A JP16018196 A JP 16018196A JP 16018196 A JP16018196 A JP 16018196A JP H107879 A JPH107879 A JP H107879A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
styrene
resin composition
abrasion
block copolymer
copolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP16018196A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Isao Tanaka
功 田中
Kazuhiro Nakamura
一浩 中村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Chemical Co Ltd filed Critical Nippon Steel Chemical Co Ltd
Priority to JP16018196A priority Critical patent/JPH107879A/en
Publication of JPH107879A publication Critical patent/JPH107879A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject inexpensive composition comprising a styrene- butadiene block copolymer and a specific copolymer, capable of being dissolved in general solvents such as toluene, excellent in abrasion resistance and suitable for charge transfer layers for electrophotographic photosensitizers, etc. SOLUTION: This abrasion-resistant resin composition comprises (A) 99-30wt.% of a styrene-butadiene block copolymer comprising (i) a polymer block consisting mainly of a vinyl aromatic hydrocarbon in an amount of 60-90wt.% and (ii) a polymer block consisting mainly of a conjugated diolefin in an amount of 40-10wt.%, and (B) 1-70wt.% of a styrene-methacrylate copolymer having a Taber abrasion loss of <20mg measured by JIS K-7204 and satisfying the inequality: 1.3<(0.0515Y+X)<1.5 (X is a reduced viscosity (dl/g); Y is a methacrylate ester content (%); 5<Y<18; 0.5<X<1.1). The component A is preferably a radially branched block copolymer of the formula: (A-B)n Z [A is the component (i); B is the component (ii); Z is the residue of a multifunctional coupling agent].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は耐摩耗性スチレン系
樹脂組成物に関し、またこれをバインダーとする電子写
真感光体用のコーティング組成物並びに電荷輸送層及び
/または保護層に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an abrasion-resistant styrenic resin composition, and more particularly to a coating composition for an electrophotographic photosensitive member using the same as a binder, and a charge transport layer and / or a protective layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】スチレン系樹脂は良成形性と透明性を兼
ね備え、ゴム変性することで耐衝撃性も付与されること
から弱電分野、機械部品、雑貨等に広く使用されてい
る。しかし、スチレン系樹脂を摩擦や摩耗を伴う摺動部
品等に使用しようとすると、耐摩耗性の特性が低いこと
から樹脂の一部が変形したり削れたりして、樹脂本来の
持つ特性を生かした分野に使用できないという欠点が有
った。
2. Description of the Related Art Styrene resins are widely used in the field of light electric appliances, machine parts, miscellaneous goods, etc. because they have both good moldability and transparency, and impart impact resistance by being modified with rubber. However, when using styrene-based resin for sliding parts with friction or wear, a part of the resin is deformed or scraped due to its low abrasion resistance, making full use of the inherent properties of the resin. There was a drawback that it could not be used in the field.

【0003】そこでポリジメチルシロキサン等の添加剤
配合により耐摩耗性を向上させる試みも行われている
が、この方法によるとスチレン系樹脂との相溶性に問題
があるためか透明性が損なわれ、特に透明性が要求され
る分野には使用できないばかりでなく、成形品表面にポ
リジメチルシロキサンがブリードアウトしたり、成形時
に金型の汚染を引き起こしたり、さらには添加剤の価格
が高いことによる製品のコストアップ等が問題とされて
いた。
Attempts have been made to improve abrasion resistance by adding additives such as polydimethylsiloxane. However, according to this method, transparency is impaired probably because of a problem with compatibility with styrene resins. Not only can it not be used especially in areas where transparency is required, but also because of the bleed-out of polydimethylsiloxane on the molded product surface, causing mold contamination during molding, and the high price of additives The problem was that the cost was increased.

【0004】ところで、透明性樹脂の用途の一つに電子
写真感光体のバインダー樹脂としての用途がある。これ
は、樹脂の溶媒に対する溶解性を利用して適度な粘度に
調整し、これに有機顔料や機能性有機顔料を分散させ基
材に塗布させるものである。このバインダー樹脂を利用
した電子写真感光体を複写プロセス又は印字プロセスに
適用する場合、帯電、感光、現像、転写、除電・クリー
ニング等のプロセスが繰り返し行われるため、感光体表
面の電荷輸送層(保護層)に使用されるバインダー樹脂
としては、特に透明性と耐摩耗性に優れることが要求さ
れる。近年の複写機の高性能高速化に伴い更に耐摩耗性
に優れる樹脂組成物の要求が強くなってきている。
[0004] One of the uses of the transparent resin is as a binder resin for an electrophotographic photosensitive member. In this method, an appropriate viscosity is adjusted by utilizing the solubility of a resin in a solvent, and an organic pigment or a functional organic pigment is dispersed therein and applied to a substrate. When an electrophotographic photoreceptor using this binder resin is applied to a copying process or a printing process, processes such as charging, exposure, development, transfer, static elimination and cleaning are repeatedly performed, so that a charge transport layer (protection) on the photoreceptor surface is protected. The binder resin used for the layer) is required to be particularly excellent in transparency and abrasion resistance. With the recent increase in the performance and speed of copying machines, there has been an increasing demand for resin compositions having even better abrasion resistance.

【0005】一般に、電子写真感光体の電荷輸送層のバ
インダー樹脂としては、ポリカーボネート系の材料を用
いることにより耐摩耗性、印刷性を向上させる技術が提
案されている(特開平6-266143号,特開平6-332234
号)。しかしながら、上記の如き樹脂は耐摩耗性は良好
ながら有毒性の高いジクロロメタン等のハロゲン系の特
殊溶剤に溶解させる必要があることから、トルエン等の
一般芳香族溶媒に溶けるバインダー樹脂が望まれてい
た。
In general, a technique for improving abrasion resistance and printability by using a polycarbonate-based material as a binder resin for a charge transport layer of an electrophotographic photosensitive member has been proposed (JP-A-6-266143, JP-A-6-332234
issue). However, since the resin as described above needs to be dissolved in a halogen-based special solvent such as dichloromethane, which has good abrasion resistance but is highly toxic, a binder resin that is soluble in a general aromatic solvent such as toluene has been desired. .

【0006】また、特開平2-158746号には、導電性基体
上に電荷発生層(感光層)及び電荷輸送層(保護層)を
順次設けた電子写真感光体において、該電荷輸送層(保
護層)にポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、スチ
レン−アクリロニトリル共重合体およびスチレンーブタ
ジエン共重合体から選ばれる少なくとも1種のバインダ
ーと金属酸化物微紛を含有させ、トナーなどの現像剤が
表面に固着しない鮮明な複写画面を与える電子写真感光
体が提案されている。しかし、この場合にも繰り返し行
われる複写プロセスに対する耐摩耗性は十分なものでは
なかった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-158746 discloses an electrophotographic photosensitive member in which a charge generation layer (photosensitive layer) and a charge transport layer (protective layer) are sequentially provided on a conductive substrate. Layer) contains at least one binder selected from a polyarylate resin, a polysulfone resin, a styrene-acrylonitrile copolymer and a styrene-butadiene copolymer, and metal oxide fine powder, and a developer such as a toner adheres to the surface. An electrophotographic photoreceptor that provides a clear copy screen has been proposed. However, also in this case, the abrasion resistance to the repeated copying process was not sufficient.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、トルエン等
の一般芳香族溶媒等に溶け、安価で、かつ摩耗を伴う摺
動部品等に使用可能な耐摩耗性に優れたスチレン系樹脂
組成物および電子写真感光体用のコーティング組成物並
びに電荷輸送層及び/または保護層を提供することを目
的とする。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention relates to a styrene-based resin composition which is soluble in general aromatic solvents such as toluene, is inexpensive, and has excellent wear resistance which can be used for sliding parts with wear. And a coating composition for an electrophotographic photoreceptor and a charge transport layer and / or a protective layer.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記課題を達成するため
に鋭意検討の結果、本発明者等は、スチレン−ブタジエ
ンブロック共重合体と特殊なスチレン−メタクリル酸エ
ステル系共重合体との特定の配合組成物が、耐摩耗性に
優れた材料であるばかりでなく、特にトルエン等の一般
芳香族溶媒等に溶け、安価で、電子写真感光体用の電荷
輸送層や保護層に適していることを見い出し本発明を完
成するに至った。即ち本発明の耐摩耗性樹脂組成物は、
ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロックの含
有量が60〜90wt%、共役ジオレフィンを主体とす
る重合体ブロックの含有が40〜10wt%からなる
スチレン−ブタジエンブロック共重合体(I)99〜3
0wt%と、スチレン−メタクリル酸エステル系共重合
体(II)1〜70wt%とのブレンド樹脂組成物であっ
て、上記スチレン−メタクリル酸エステル系共重合体
(II)が、還元粘度(dl/g)をXとし、メタクリル
酸エステル含有率(wt%)をYとしたときの関係式
1.3<0.0515Y+X<1.5 を満足する(但
し、5<Y<18で且つ0.5<X<1.1である)も
のであり、かつ、JIS K−7204で測定したテー
バー摩耗量が20mg未満であることを特徴とするもの
である。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have found that a specific styrene-butadiene block copolymer and a special styrene-methacrylic acid ester-based copolymer have been identified. The compounded composition is not only a material excellent in abrasion resistance, but also soluble in general aromatic solvents such as toluene, inexpensive, and suitable for a charge transport layer and a protective layer for an electrophotographic photosensitive member. To complete the present invention. That is, the wear-resistant resin composition of the present invention,
The content of the polymer block composed mainly of a vinyl aromatic hydrocarbon 60~90wt%, the content of the polymer block composed mainly of a conjugated diolefin consists 40~10Wt% styrene - butadiene block copolymer (I ) 99-3
A blend resin composition of 0 wt% and 1 to 70 wt% of a styrene-methacrylic ester copolymer (II), wherein the styrene-methacrylic ester copolymer (II) has a reduced viscosity (dl / g) is defined as X and the methacrylate content (wt%) is defined as Y.
1.3 <0.0515Y + X <1.5 is satisfied (provided that 5 <Y <18 and 0.5 <X <1.1), and Taber measured according to JIS K-7204 The wear amount is less than 20 mg.

【0009】更に本発明の電子写真感光体用のコーティ
ング組成物は、上記の耐摩耗性スチレン系樹脂組成物と
溶媒と有機光導電性材料とを含むことを特徴とするもの
であり、更に電荷輸送層及び/または保護層は、上記の
耐摩耗性スチレン系樹脂組成物をバインダーとして有機
光導電性材料を分散含有していることを特徴とするもの
である。
Further, a coating composition for an electrophotographic photoreceptor of the present invention comprises the above-mentioned abrasion-resistant styrenic resin composition, a solvent and an organic photoconductive material. The transport layer and / or the protective layer is characterized in that an organic photoconductive material is dispersed and contained using the above-mentioned abrasion-resistant styrenic resin composition as a binder.

【0010】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
いうスチレン−ブタジエンブロック共重合体としては、
線状ブロック共重合体又は放射枝分かれブロック共重合
体の内から選ばれたすくなくとも一種からなるが、二種
以上の混合物であってもよい。ここで線状ブロック共重
合体としては、一般式(A−B)n、A−(B−A)n
B−(A−B)n(ここでAはビニル芳香族炭化水素を
主とする重合体ブロックであり、Bは共役ジオレフィン
を主体とする重合体ブロックであり、nは1以上の整数
で通常1〜5の整数である)で表されるものである。ま
た、放射枝分かれブロック共重合体としては、一般式
(A−B)nZ(ここでA,Bは上記したものと同じで
あるが、Zは放射状枝分かれブロック共重合体の形成に
使用される多官能性カップリング剤の残基を示し、nは
多官能性カップリング剤の官能基数を示し、少なくとも
3以上の整数である)で表されるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. As the styrene-butadiene block copolymer in the present invention,
At least one selected from linear block copolymers and radially branched block copolymers may be used, but a mixture of two or more types may be used. Here, as the linear block copolymer, general formulas (AB) n , A- (BA) n ,
B- (AB) n (where A is a polymer block mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon, B is a polymer block mainly composed of conjugated diolefin, and n is an integer of 1 or more. (Usually an integer of 1 to 5). Further, as the radially branched block copolymer, a general formula (AB) n Z (where A and B are the same as described above, but Z is used for forming a radially branched block copolymer) And n represents the number of functional groups of the polyfunctional coupling agent, and is an integer of at least 3).

【0011】これらのブロック共重合体において、ビニ
ル芳香族炭化水素を主とする重合体ブロックAとして
は、スチレン、スチレン誘導体としてα−メチルスチレ
ン等の側鎖アルキル置換スチレン,ビニルトルエン等の
核アルキル置換スチレン,クロルスチレン等のハロゲン
化スチレン,ジビニルベンゼン等で形成されたブロック
を上げることができる。また、共役ジエン重合体ブロッ
クBとしては、例えばブタジエン、イソプレン等の共役
ジエン化合物のいずれかで形成された共重合体ブロック
である。また上記A,Bの割合は、Aの重合体が60〜
90Wt%,Bの重合体が40〜10Wt% からなるいわゆ
るゴム成分の少ない樹脂状のスチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体である。
In these block copolymers, the polymer block A mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon includes styrene, styrene derivatives such as side-chain alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene, and core alkyl such as vinyltoluene. Blocks formed of halogenated styrenes such as substituted styrene and chlorostyrene, divinylbenzene and the like can be raised. The conjugated diene polymer block B is, for example, a copolymer block formed of any of conjugated diene compounds such as butadiene and isoprene. The ratio of A and B is such that the polymer of A is 60 to 60%.
It is a so-called resin-like styrene-butadiene block copolymer having a low rubber component, comprising 90 Wt% and a polymer of B of 40 to 10 Wt%.

【0012】本発明に特に好ましいスチレン−ブタジエ
ンブロック共重合体としては、上記した一般式(A−
B)nZで表される放射状枝分かれブロック共重合体で
ある。この樹脂の多官能性カップリング剤の残基Z(単
数または複数)の形成に使用される多官能性処理剤とし
ては、例えばポリエポキシド類、ポリシソシアネート
類、ポリアルデヒド類、ポリケトン類、ポリアミン類、
テトラアリル錫、フッ化第2錫ごとき錫化合物等の3官
能性以上のカップリング剤から誘導される放射状枝分か
れブロック共重合体の中心あるいは中心原子団であり、
nは少なくとも3以上の整数である。これらのスチレン
−ブタジエンブロック共重合体の具体的製法としては、
特公昭43-14979号、特公昭48-4106号、特公昭49-86959
号等にその例が詳細に記載されている。
The styrene-butadiene block copolymer particularly preferred in the present invention includes the above-mentioned general formula (A-
B) is a radial branched block copolymer represented by n Z. Examples of the polyfunctional treating agent used for forming the residue Z (s) of the polyfunctional coupling agent of the resin include, for example, polyepoxides, polycisocyanates, polyaldehydes, polyketones, polyamines ,
A center or a central atomic group of a radially branched block copolymer derived from a coupling agent having three or more functionalities such as a tin compound such as tetraallyl tin or stannic fluoride;
n is an integer of at least 3 or more. Specific methods for producing these styrene-butadiene block copolymers include:
JP-B-43-14979, JP-B-48-4106, JP-B-49-86959
An example is described in detail in the issue.

【0013】本発明における、スチレン−メタクリル酸
エステル系共重合体は、スチレン系単量体とメタクリル
酸エステル系単量体とを共重合させて得られるものであ
る。その構成成分であるスチレン系単量体としては、ス
チレン、スチレン誘導体としてα−メチルスチレン等の
側鎖アルキル置換スチレン,ビニルトルエン等の核アル
キル置換スチレン,クロルスチレン等のハロゲン化スチ
レン,ジビニルベンゼン等を上げることができる。
In the present invention, the styrene-methacrylic ester copolymer is obtained by copolymerizing a styrene monomer and a methacrylic ester monomer. Styrene monomers that are constituents thereof include styrene, styrene derivatives such as side-chain alkyl-substituted styrene such as α-methylstyrene, nuclear alkyl-substituted styrene such as vinyltoluene, halogenated styrene such as chlorostyrene, divinylbenzene, etc. Can be raised.

【0014】また、メタクリル酸エステル系単量体とし
ては、メチルメタクリレート以外にエチルメタクリレー
ト,プロピレンメタクリレート,ブチルメタクリレー
ト,アミルメタクリレート,ヘキシルメタクリレート,
フェニルメタクリレート等のメタクリル酸アルキルエス
テル類を上げることができる。またアクリレート類とし
てメチルアクリレート,エチルアクリレート,アミルア
クリレート,ヘキシルアクリレート,オクチルアクリレ
ート,2−エチルヘキシルアクリレート,シクロヘキシ
ルアクリレート,ドデシルアクリレート,フェニルアク
リレート,ベンジルアクリレート等を上げることができ
る。特に、メタクリル酸エステル含有率が5〜18wt
%のものが好ましい。
[0014] Examples of the methacrylate-based monomers include, in addition to methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propylene methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate,
Alkyl methacrylates such as phenyl methacrylate can be mentioned. Examples of acrylates include methyl acrylate, ethyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, dodecyl acrylate, phenyl acrylate, and benzyl acrylate. In particular, the methacrylate content is 5 to 18 wt.
% Is preferred.

【0015】本発明におけるスチレン−メタクリル酸エ
ステル系共重合体、還元粘度(dl/g)をXとし、
メタクリル酸エステル含有率(Wt%)をYとしたときの
関係式が1.3<0.0515Y+X<1.5を満足す
る(但し、5<Y<18で且つ0.5<X<1.1であ
る)ものであることが特に好ましい。ここで、還元粘度
(ηsp/c)Xが0.5以下では、耐衝撃性と耐摩耗
性が劣る点で好ましくない。又還元粘度(ηsp/c)
Xが1.1以上では表面に曇りガラスのような梨子地模
様が発生しやすくなる点で好ましくない。
In the present invention, the styrene-methacrylic acid ester-based copolymer has a reduced viscosity (dl / g) of X,
When the methacrylate content (Wt%) is Y, the relational expression satisfies 1.3 <0.0515Y + X <1.5 (provided that 5 <Y <18 and 0.5 <X <1. 1). Here, when the reduced viscosity (ηsp / c) X is 0.5 or less, the impact resistance and the abrasion resistance are poor, which is not preferable. Reduced viscosity (ηsp / c)
When X is 1.1 or more, it is not preferable in that a pear-skin pattern such as frosted glass easily occurs on the surface.

【0016】またメタクリル酸エステル含有率(Wt%)
Yが5wt%を下回ると耐衝撃性が損なわれ好ましくな
く、また、メタクリル酸エステル含有率Yが18wt%
を越えると透明性が損なわれ電子写真感光体の電荷輸送
層用のバインダー樹脂として使用することはできないの
で好ましくない。さらに上記関係式の数値が1.3以下
では、落錘衝撃強度が悪化するので好ましくない。又上
記関係式の数値が1.5以上では、梨子地模様が発生し
やすくヘーズが高くなり透明性に劣る点で好ましくな
い。これらの条件を満足するために還元粘度の調整法と
して重合温度、開始剤、連鎖移動剤、溶媒等を変えるこ
とで行うことができる。重合法は塊状重合もしくは溶液
重合等があるが特に限定はしない。
The content of methacrylic acid ester (Wt%)
If Y is less than 5% by weight, the impact resistance is impaired, which is not preferable, and the methacrylate content Y is 18% by weight.
If it exceeds, transparency is impaired, and it cannot be used as a binder resin for a charge transport layer of an electrophotographic photoreceptor. Further, when the value of the above relational expression is 1.3 or less, the falling weight impact strength deteriorates, which is not preferable. On the other hand, when the value of the above relational expression is 1.5 or more, it is not preferable because a satin pattern is easily generated, the haze is increased, and the transparency is inferior. In order to satisfy these conditions, the reduced viscosity can be adjusted by changing the polymerization temperature, initiator, chain transfer agent, solvent, and the like. The polymerization method includes bulk polymerization or solution polymerization, but is not particularly limited.

【0017】本発明においてこれら各成分の配合方法
は、特に限定されず従来公知である溶融混練機を使用で
きる。例えば、二軸ローター付きの連続混練機、押出し
機、カレンダーロール、バンバリーミキサー等が挙げら
れる。得られたブレンドのスチレン系樹脂組成物は、J
ISK−7204で測定したテーバー摩耗量が20mg
未満でなければならない。このテーバー摩耗量が20m
g以上では、摩擦や摩耗を伴う摺動部品に使用した場
合、削れた樹脂が製品中に混入したりすることから好ま
しくない。更に引っ張り強さ(σ:単位kgf/mm
2)と伸び(ε:単位%)の積(σ・ε)が600以上
であることが好ましい。この積(σ・ε)が600未満
であると、機械的強度と耐衝撃性のバランスのとれた材
料とならないだけでなくテーバー摩耗量を20mg以下
に抑えることができなくなる。
In the present invention, the method of compounding these components is not particularly limited, and a conventionally known melt kneader can be used. For example, a continuous kneader equipped with a twin-screw rotor, an extruder, a calender roll, a Banbury mixer and the like can be mentioned. The styrene resin composition of the obtained blend is J
20 mg of Taber abrasion measured by ISK-7204
Must be less than. This Taber wear amount is 20m
If it is more than g, it is not preferable because the shaved resin is mixed into the product when it is used for a sliding part with friction or wear. Furthermore, tensile strength (σ: kgf / mm unit)
The product (σ · ε) of 2) and elongation (ε: unit%) is preferably 600 or more. If this product (σ · ε) is less than 600, the material will not only be a material having a good balance of mechanical strength and impact resistance, but also will not be able to suppress the Taber abrasion amount to 20 mg or less.

【0018】また、本発明の耐摩耗性スチレン系樹脂組
成物には必要に応じて、n-octadecyl 3-(3,5-di-tert-b
uyl-4-hydroxyphenyl)propionate、2,6-di-tert-butyl-
4-methylphenol 等のヒンダードフェノール系、trisnon
ylphenyl phosphite, tris(2,4-di-tert-butylphenyl)p
hosphite 等のリン系、pentaerythrityl tetrakis(3-la
uryl thiopropionate) 等の硫黄系、2-[1-(2-hydroxy-
3,5-di-tert-pentylphenyl)ethyl]-4,6-di-tert-pentyl
phenyl acrylate 等のフェノールアクリレート系等の酸
化防止剤などを添加してもよい。
The abrasion-resistant styrenic resin composition of the present invention may optionally contain n-octadecyl 3- (3,5-di-tert-b
uyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,6-di-tert-butyl-
Hindered phenols such as 4-methylphenol, trisnon
ylphenyl phosphite, tris (2,4-di-tert-butylphenyl) p
Phosphorus such as hosphite, pentaerythrityl tetrakis (3-la
uryl thiopropionate), 2- [1- (2-hydroxy-
3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentyl
A phenol acrylate-based antioxidant such as phenyl acrylate may be added.

【0019】本発明により得られる耐摩耗性スチレン系
樹脂組成物は、公知の成形加工法により、シート、フィ
ルム、各種形状の射出成形品、中空成形品、真空成形品
等に使用でき、広く弱電、雑貨、機械分野の摩耗を伴う
部品に広く使用することができる。特に、耐摩耗性の特
性を生かして電子写真感光体用のコーティング組成物、
更にバインダー樹脂として有機光導電性材料を分散含有
させた電荷輸送層および/または保護層として適してい
る。以下に電子写真感光体の電荷輸送層(保護層)に使
用する場合について説明する。電荷輸送層および/また
は保護層は、導電性基体上に電荷発生層とともに形成さ
れて電子写真感光体を構成する一部となるものである。
The abrasion-resistant styrenic resin composition obtained by the present invention can be used for a sheet, a film, an injection molded product of various shapes, a hollow molded product, a vacuum molded product, etc. by a known molding method. Can be widely used for parts with wear in the miscellaneous goods and mechanical fields. In particular, a coating composition for an electrophotographic photoreceptor utilizing the properties of abrasion resistance,
Further, it is suitable as a charge transport layer and / or a protective layer in which an organic photoconductive material is dispersed and contained as a binder resin. Hereinafter, a case where the charge transport layer (protective layer) of the electrophotographic photosensitive member is used will be described. The charge transport layer and / or the protective layer are formed together with the charge generation layer on the conductive substrate and become a part of the electrophotographic photosensitive member.

【0020】ここで電子写真感光体は、特定の光によっ
て電荷を発生するフタロシアニン系顔料などの光導電性
材料を樹脂バインダーで導電性基体上に形成させた電荷
発生層と更に電荷発生層の上に形成された電荷輸送層と
で構成されており、また更に保護層を設けて構成される
場合もある。電荷輸送層は電荷発生層で生成した電荷を
電子写真感光体最外層へ運ぶ役目をするためにヒドラゾ
ン化合物等の有機光導電性材料を含有したバインダーで
形成されている。カールソンプロセスと呼ばれる複写プ
ロセスは帯電−露光−現像−転写−除電・クリーニング
からなり、これらを1サイクルとした複写プロセスとし
ているために導電性基体(通常金属)は円筒系のドラム
形状をしている。
Here, the electrophotographic photoreceptor has a charge generation layer in which a photoconductive material such as a phthalocyanine pigment which generates a charge by specific light is formed on a conductive substrate with a resin binder, and further on the charge generation layer. And a charge transport layer formed thereon, and may be further provided with a protective layer. The charge transport layer is formed of a binder containing an organic photoconductive material such as a hydrazone compound so as to carry the charge generated in the charge generation layer to the outermost layer of the electrophotographic photosensitive member. The copy process called the Carlson process is composed of charge-exposure-development-transfer-static elimination / cleaning. Since the copy process is performed in one cycle, the conductive substrate (usually metal) has a cylindrical drum shape. .

【0021】複写機の性能はその複写解像力と毎分当た
りの複写枚数に影響され、高性能になるほど1サイクル
当たりの複写プロセスの必要時間を短くする必要が有
る。したがって、ドラム形状をした導電性基体は高速回
転を強いられることになり、耐摩耗性が要求される。電
荷輸送層及び保護層の耐摩耗性向上は樹脂バインダーに
依存するところが大きく、電荷輸送物質である有機光導
電性材料との相溶性の他に製膜性と耐摩耗性が必要とな
る。そこで本発明では、前述した耐摩耗性スチレン系樹
脂組成物を電荷輸送層(保護層)の樹脂バインダーとし
て利用するものである。
The performance of a copying machine is affected by its copy resolution and the number of copies per minute. The higher the performance, the shorter the time required for the copying process per cycle. Accordingly, the drum-shaped conductive substrate is forced to rotate at high speed, and is required to have wear resistance. The improvement in the wear resistance of the charge transport layer and the protective layer largely depends on the resin binder, and thus, in addition to compatibility with the organic photoconductive material as the charge transport substance, film forming properties and wear resistance are required. Therefore, in the present invention, the above-mentioned abrasion-resistant styrene-based resin composition is used as a resin binder for a charge transport layer (protective layer).

【0022】本発明の耐摩耗性材料を電荷輸送層として
電子写真感光体に使用する場合、その導電性基体には、
特に制限がなく、一般に使用されているアルミ等の金属
板、金属ドラム、アルミ箔を積層したプラスチックフィ
ルム等を適宜使用することができる。導電性基体上に形
成される電荷発生層は一般にバインダー樹脂と電荷発生
物質である有機光導電性材料とから形成される。電荷発
生層に用いられるバインダー樹脂としてはポリカーボネ
ート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル系樹
脂、メタクリレート系樹脂、アクリレート系樹脂等が有
るが特に限定されるものではない。
When the abrasion-resistant material of the present invention is used as a charge transport layer in an electrophotographic photoreceptor, the conductive substrate includes
There is no particular limitation, and a commonly used metal plate such as aluminum, a metal drum, a plastic film in which aluminum foil is laminated, or the like can be appropriately used. The charge generation layer formed on the conductive substrate is generally formed from a binder resin and an organic photoconductive material which is a charge generation substance. The binder resin used for the charge generation layer includes, but is not particularly limited to, polycarbonate resins, polystyrene resins, polyester resins, methacrylate resins, acrylate resins, and the like.

【0023】電荷発生物質としては、フタロシアニン系
顔料、ペリレン系顔料、スクアリック塩系顔料、アズレ
ニウム塩系顔料、キノン系縮合多環化合物等が例示され
るが、特に限定はしない。更に電荷発生層の上に設けら
れる本発明の電荷輸送層(保護層)は前述した耐摩耗性
スチレン系樹脂組成物をバインダーとして電荷輸送物質
となる有機光導電性材料及び適宜その他の添加剤(耐候
性助剤,酸化防止剤および可塑剤等)を分散含有させた
ものである。
Examples of the charge generating material include, but are not particularly limited to, phthalocyanine pigments, perylene pigments, squaric salt pigments, azulenium salt pigments, and quinone condensed polycyclic compounds. Further, the charge transporting layer (protective layer) of the present invention provided on the charge generating layer comprises an organic photoconductive material serving as a charge transporting substance using the above-mentioned abrasion-resistant styrenic resin composition as a binder and other additives ( Weathering aid, antioxidant, plasticizer, etc.).

【0024】ここで耐摩耗性スチレン系樹脂組成物に分
散含有させる電荷輸送物質となる有機光導電性材料とし
ては、公知のポリ−n−ビニルカルバゾール系化合物、
ピラゾリン系化合物、α−フェニルスチルベン系化合
物、ヒドラゾン系化合物、ジアリールメタン系化合物、
トリフェニルアミン系化合物、ジアミノカルバゾール系
化合物、フルオレイン系化合物、アントラセン系化合
物、オキサジアゾール系化合物、ジビニルベンゼン系化
合物などが例示され特に限定するものではない。また、
電荷輸送物質には必要に応じて耐候性助剤,酸化防止剤
および可塑剤等を配合することもできる。
The organic photoconductive material serving as a charge transporting substance dispersed and contained in the abrasion-resistant styrenic resin composition may be a known poly-n-vinylcarbazole compound,
Pyrazoline compounds, α-phenylstilbene compounds, hydrazone compounds, diarylmethane compounds,
Examples include, but are not particularly limited to, triphenylamine-based compounds, diaminocarbazole-based compounds, fluorein-based compounds, anthracene-based compounds, oxadiazole-based compounds, and divinylbenzene-based compounds. Also,
The charge transporting material may contain a weathering aid, an antioxidant, a plasticizer, and the like, if necessary.

【0025】本発明において、電荷輸送層や保護層に使
用するコーテイング組成物のバインダーは、前述したご
とくビニル芳香族炭化水素を主体とする重合体ブロック
の含有量が60〜90wt%、共役ジオレフィンを主体
とする重合体ブロックの含有率が40〜10wt%から
なるスチレン−ブタジエンブロック共重合体99〜30
wt%と、スチレン−メタクリル酸エステル系共重合体
1〜70wt%とのブレンド樹脂組成物からなるスチレ
ン系樹脂であって、上記スチレン−メタクリル酸エステ
ル系共重合体(II)が、還元粘度(dl/g)をXと
し、メタクリル酸エステル含有率(wt%)をYとした
ときの関係式 1.3<0.0515Y+X<1.5
(但し、5<Y<18 、0.5<X<1.1である)
を満足するものであり、かつ、JIS K−7204で
測定したテーバー摩耗量が20mg未満である耐摩耗性
スチレン系樹脂組成物をさす。これを用いて電荷輸送層
(保護層)を形成する場合、一般的には、有機光導電性
材料を分散させる。
In the present invention, the binder of the coating composition used for the charge transport layer and the protective layer has a content of a polymer block mainly composed of a vinyl aromatic hydrocarbon of 60 to 90 wt% and a conjugated diolefin as described above. Styrene-butadiene block copolymers having a content of polymer blocks mainly composed of 40 to 10 wt% 99 to 30
A styrene resin comprising a blend resin composition of 1 wt% and 1 to 70 wt% of a styrene-methacrylic ester copolymer, wherein the styrene-methacrylic ester copolymer (II) has a reduced viscosity ( dl / g) as X and methacrylic acid ester content (wt%) as Y 1.3 <0.0515Y + X <1.5
(However, 5 <Y <18 and 0.5 <X <1.1)
And a wear-resistant styrenic resin composition having a Taber abrasion of less than 20 mg as measured by JIS K-7204. When a charge transport layer (protective layer) is formed using this, the organic photoconductive material is generally dispersed.

【0026】本発明で導電性基体に電荷輸送層や保護層
を形成するには、前述した耐摩耗性スチレン系樹脂組成
物と有機光導電性材料をその比率が1:1程度の割合に
なるように適宜の溶媒に均一に溶解してコーティング組
成物としてから、電荷発生層の上に浸漬塗工法、スプレ
ー塗工法、ロールコーターによる塗工法、アプリケータ
ーによる塗工法等の塗工法により塗布し乾燥させて溶媒
を除去することで形成することができる。なお溶媒とし
ては耐摩耗性スチレン系樹脂組成物と有機光導電性材料
とを溶解させることができる有機溶剤であればよく、ト
ルエン、シクロヘキサン、ベンゼン、ジクロロベンゼン
等の芳香族類、アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類などとの混合物等が上げられる。
In order to form a charge transport layer or a protective layer on a conductive substrate in the present invention, the above-mentioned abrasion-resistant styrenic resin composition and organic photoconductive material have a ratio of about 1: 1. After uniformly dissolving in a suitable solvent to form a coating composition, apply and dry on the charge generation layer by a coating method such as a dip coating method, a spray coating method, a coating method using a roll coater, or a coating method using an applicator. To remove the solvent. The solvent may be any organic solvent capable of dissolving the abrasion-resistant styrene resin composition and the organic photoconductive material, such as aromatics such as toluene, cyclohexane, benzene, and dichlorobenzene, acetone, and methyl ethyl ketone. And the like with ketones.

【0027】本発明において電荷輸送層の膜厚は0.0
1〜20ミクロン好ましくは0.1〜10ミクロンであ
る。この厚さが0.01ミクロン以下であると層の厚み
を均一にすることが困難となる。また20ミクロンを越
えると電子写真特性が低下するので好ましくない。また
保護層の膜厚は、0.5〜10ミクロンさらには1〜5
ミクロンの範囲にあることが好ましい。
In the present invention, the thickness of the charge transport layer is 0.0
It is between 1 and 20 microns, preferably between 0.1 and 10 microns. If the thickness is less than 0.01 micron, it is difficult to make the thickness of the layer uniform. On the other hand, if it exceeds 20 microns, the electrophotographic characteristics are undesirably deteriorated. Further, the thickness of the protective layer is 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 5 μm.
Preferably it is in the micron range.

【0028】[0028]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を実施
例とともに説明する。先ず本発明の実施例に使用した樹
脂の製造法や特性評価法等を説明する。 (1)スチレン−メタクリル酸エステル共重合体(M
S)の製造方法 原料単量体として、メタクリル酸メチル(MMA)とス
チレン(St)の混合比率を変えた各種のものを用い、
また溶媒にEB、開始剤として、t-ブチルパーオキシイ
ソプロピルモノカーボネートを原料に対して200ppm
添加した混合原料を完全混合型満液式反応器に連続的に
供給し、反応器内を所定の温度、一定圧に保ちながら塊
状重合法により重合を継続し、転化率80%程度に安定
させた重合物を抜き出し減圧ベント口を有する二軸押し
出し機にて残存単量体と溶媒等を除去するラジカル重合
プロセスにより、表1に示した如きMMA含有率の異な
る各種のスチレン−メタクリル酸エステル共重合体(MS-
1〜MS-13)を得た。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The embodiments of the present invention will be described below together with examples. First, a method for producing a resin used in Examples of the present invention, a method for evaluating characteristics, and the like will be described. (1) Styrene-methacrylate copolymer (M
Production method of S) As a raw material monomer, various ones in which the mixing ratio of methyl methacrylate (MMA) and styrene (St) is changed are used.
Further, EB was used as a solvent, and t-butyl peroxyisopropyl monocarbonate was used as an initiator in an amount of 200 ppm based on the raw material.
The added mixed raw material is continuously supplied to a complete mixing type full-bed reactor, and polymerization is continued by a bulk polymerization method while maintaining the inside of the reactor at a predetermined temperature and a constant pressure to stabilize the conversion to about 80%. The styrene-methacrylic acid ester having different MMA contents as shown in Table 1 was obtained by a radical polymerization process in which the remaining polymer and the solvent were removed by a twin-screw extruder having a reduced-pressure vent port. Polymer (MS-
1 to MS-13).

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】(2)スチレンーブタジエンブロック共重
合体 下記二種類の市販品を使用した。 (a)スチレン含有量が約75wt%の放射状枝分かれ
ブロック共重合体(フィリップス社製 商品名;K−レ
ジンKR03)。 (b)スチレン含有量が約75wt%の線状ブロック共
重合体(日本合成ゴム工業社製 商品名;TR200
4)。
(2) Styrene butadiene block copolymer The following two types of commercial products were used. (A) A radially branched block copolymer having a styrene content of about 75 wt% (trade name: K-Resin KR03, manufactured by Philips). (B) Linear block copolymer having a styrene content of about 75 wt% (trade name: TR200, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Industry Co., Ltd.)
4).

【0031】(3)配合樹脂組成物のブレンド製造法 表1に示した各MS樹脂とスチレンーブタジエンブロッ
ク共重合体の各配合割合を種々に変えてブレンドし、4
0mm径の二軸押し出し機で混練して各種の配合樹脂組
成物のペレットを得た。
(3) Blend production method of blended resin composition Each blend ratio of each MS resin and styrene-butadiene block copolymer shown in Table 1 was varied and mixed.
The mixture was kneaded with a biaxial extruder having a diameter of 0 mm to obtain pellets of various compounded resin compositions.

【0032】(4)配合樹脂等の特性評価試験方法等 (a)MS樹脂のMMA含有量 得られたMS樹脂のMMA含有量は、熱分解ガスクロマ
トグラフィ分析(ピーク面積比法)により求めた。パイ
ロライザーはキュリーポイントパイロライザーJHP2
型(日本分析工業−製)、ガスクロマトグラフ分析器は
FIDディテクターを装備したGC6AM(島津製作所
−製)を用いた。 (b)MS樹脂のメルトフローレイト(MFR:g/1
0分) 得られたMS樹脂のMFRをJIS K−7207に準
じ200℃,5kgの条件で求めた。
(4) Test Method for Characteristic Evaluation of Compounded Resins, etc. (a) MMA Content of MS Resin The MMA content of the obtained MS resin was determined by pyrolysis gas chromatography analysis (peak area ratio method). Pyrolyzer is Curie Point Pyrolyzer JHP2
The mold (manufactured by Nippon Kayaku Kogyo) and a gas chromatograph analyzer used were GC6AM (manufactured by Shimadzu Corporation) equipped with an FID detector. (B) Melt flow rate of MS resin (MFR: g / 1
0 min) The MFR of the obtained MS resin was determined under the conditions of 200 ° C. and 5 kg according to JIS K-7207.

【0033】(c)MS樹脂の還元粘度測定 MS樹脂ぺレットをトルエンに溶かし、メタノールで再
沈殿処理し80℃の真空乾燥器で24時間減圧乾燥し前
処理を施す。前処理物をトルエン50mlに0.2g溶
かしウベローデ粘度計を用いて30℃における相対粘度
を測定し比粘度に換算した後に、試料濃度の補正を行な
い下記計算式から還元粘度を算出した。 相対粘度(ηrel)=ts/to 比粘度(ηsp)=ηrel−1 還元粘度(ηsp/c)=ηsp÷c ts;ブランク溶媒の流下時間(秒) to;試料溶液の流下時間(秒) c;試料溶液の調整濃度(g/dl)
(C) Measurement of reduced viscosity of MS resin MS resin pellets are dissolved in toluene, reprecipitated with methanol, dried under reduced pressure in a vacuum dryer at 80 ° C. for 24 hours, and pretreated. After dissolving 0.2 g of the pretreated product in 50 ml of toluene, the relative viscosity at 30 ° C. was measured using an Ubbelohde viscometer and converted into a specific viscosity, and then the sample concentration was corrected. The reduced viscosity was calculated from the following formula. Relative viscosity (ηrel) = ts / to Specific viscosity (ηsp) = ηrel-1 Reduced viscosity (ηsp / c) = ηsp ÷ c ts: Flowing time of blank solvent (second) to: Flowing time of sample solution (second) c ; Adjusted concentration of sample solution (g / dl)

【0034】(d)ブレンド樹脂組成物の引張り強度と
破断伸び試験 引っ張り強度と破断伸びはJIS K6301に準じ、
3号ダンベル試験片を作成し試験速度500mm/分で
引っ張り試験を行った。 (e)ブレンド樹脂組成物のヘーズ算出 ヘーズ(%)はJIS K6714に準じ厚み0.6m
mで測定を行った。 (f)ブレンド樹脂組成物の落錘衝撃試験 落錘衝撃強度(kg・cm)はJIS K7124に準
じ試験を行った。
(D) Tensile strength and elongation at break of the blended resin composition The tensile strength and elongation at break were measured according to JIS K6301.
A No. 3 dumbbell specimen was prepared and subjected to a tensile test at a test speed of 500 mm / min. (E) Haze calculation of blend resin composition Haze (%) is 0.6 m in thickness according to JIS K6714.
m was measured. (F) Drop Weight Impact Test of Blend Resin Composition Drop weight impact strength (kg · cm) was tested according to JIS K7124.

【0035】(g)ブレンド樹脂組成物のテーバー摩耗
試験 得られたブレンド樹脂組成物と顔料とを各5g混合し、
ジクロロベンゼン溶媒60mlに溶解した塗布液とし、
これをガラス基盤にコーターを用いて塗布した。真空乾
燥器にて溶媒を除去後30ミクロン程度のキャスト板を
得た。JISK−7204(摩耗輪によるプラスチック
摩耗試験方法)に準じ、摩耗輪CS−10を用いてテー
バー摩耗試験を行った。ターンテーブルの回転数は60
rpm,荷重は1000 gfとした。試験は3回行ない、試
験値の平均値を算出し摩耗量(mg)として示した。
(G) Taber abrasion test of the blended resin composition 5 g of the obtained blended resin composition and 5 g of the pigment were mixed.
A coating solution dissolved in 60 ml of dichlorobenzene solvent,
This was applied to a glass substrate using a coater. After removing the solvent with a vacuum dryer, a cast plate of about 30 μm was obtained. A Taber abrasion test was performed using a worn wheel CS-10 according to JIS K-7204 (a method of testing abrasion of a plastic with a worn wheel). The turntable rotation speed is 60
The rpm and the load were 1000 gf. The test was performed three times, and the average of the test values was calculated and shown as the amount of wear (mg).

【0036】実施例1〜5及び比較例1〜8 表−1で示した各種MS樹脂(MS1〜MS13 とK−レジン
KR03のブレンド比を各々40:60で配合し(total
100)、40mm径の押出し機で練り込みブレンド樹脂
組成物とした後、上記した各種の物性評価の試験を行っ
た結果を表2と表3にまとめて示す。表2と表3から、
本発明で規定する要件を満たす配合種のブレンド樹脂組
成物(実施例1〜5)の物性等は、本発明で規定する要
件を満たしていない配合種のブレンド樹脂組成物(比較
例1〜8)に比べて優れたものであることが分かる。
Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 8 Various MS resins shown in Table 1 (MS1-MS13 and K-resin KR03 were blended at a blend ratio of 40:60 each (total
100), after kneading with a 40 mm diameter extruder to obtain a blended resin composition, the results of the various physical property evaluation tests described above are summarized in Tables 2 and 3. From Table 2 and Table 3,
The physical properties and the like of the blended resin compositions (Examples 1 to 5) satisfying the requirements stipulated in the present invention are the same as the blended resin compositions (Comparative Examples 1 to 8) that do not satisfy the requirements stipulated in the present invention. It turns out that it is excellent compared with ()).

【0037】実施例6〜7 MS樹脂とK−レジンKR03及びTR2004のブレ
ンド比を各々34:60:6で配合し(total 100)、4
0mm径の押出し機で練り込みブレンド樹脂組成物とし
た後、上記した各種の物性評価の試験を行った結果を表
2と表3にまとめて示す。いずれも優れた物性を示して
いることがわかる。
Examples 6 and 7 The blend ratio of MS resin to K-resin KR03 and TR2004 was 34: 60: 6, respectively (total 100).
After kneading into a blended resin composition with an extruder having a diameter of 0 mm, the results of the various physical property evaluation tests described above are summarized in Tables 2 and 3. It can be seen that all of them show excellent physical properties.

【0038】実施例8〜13 MS樹脂としてMS−2を用いK−レジンKR03との
ブレンド比を各々変更して配合し(total 100)、40m
m径の押出し機で練り込みブレンド樹脂組成物とした
後、上記した物性の内、落錘衝撃強度とヘーズの試験結
果を表2に示す。いずれも優れた物性を示していること
がわかる。
Examples 8 to 13 MS-2 was used as the MS resin, and the blending ratio with K-Resin KR03 was changed (total 100).
After kneading with a m-diameter extruder to obtain a blended resin composition, Table 2 shows the test results of the falling weight impact strength and the haze among the physical properties described above. It can be seen that all of them show excellent physical properties.

【0039】比較例9 MS樹脂を汎用ポリスチレン(GP−1)に変えてK−
レジンKR03とのブレンド比を40/60で配合し(t
otal 100)、40mm径の押出し機で練り込みブレンド
樹脂組成物とした後、上記した各種の物性評価の試験を
行った結果を表2と表3にまとめて示す。落錘衝撃強度
と引っ張り強度、テーバー摩耗特性等に劣ることが分か
る。
Comparative Example 9 The MS resin was changed to a general-purpose polystyrene (GP-1) and K-
The blend ratio with resin KR03 is 40/60 (t
otal 100), kneaded with a 40 mm diameter extruder to form a blended resin composition, and the results of the various physical property evaluation tests described above are summarized in Tables 2 and 3. It can be seen that the falling weight impact strength, tensile strength, Taber abrasion characteristics and the like are inferior.

【0040】[0040]

【表2】 [Table 2]

【0041】[0041]

【表3】 [Table 3]

【0042】実施例14 ポリアミド樹脂CM8000(東レ製)3.5gおよび
メラミンML2000(日立化成工業製)3.5gをメ
タノールと塩化メチレンの50/50の混合溶媒93g
で溶解し、アプリケーターで厚さ1mmのアルミニュウ
ム板からなる導電性基板に塗布後、120°Cで20分
間乾燥させ膜厚0.4μmの下引き層を形成した。次
に、電荷発生物質のビスアゾ顔料(下記化学式1)を1
0g、ポリビニルホルマール樹脂10gをボールミルを
用いて30時間混練し、これにテトラヒドロフラン(T
HF)100gを加え、この分散液をアプリケーターで
下引き層の上から塗布後、120°Cで30分間乾燥さ
せ、膜厚0.4μmの電荷発生層を形成した。
Example 14 3.5 g of a polyamide resin CM8000 (manufactured by Toray Industries, Ltd.) and 3.5 g of melamine ML2000 (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) were mixed in a methanol / methylene chloride 50/50 mixed solvent 93 g.
And applied to a conductive substrate made of an aluminum plate having a thickness of 1 mm with an applicator, and dried at 120 ° C. for 20 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 0.4 μm. Next, a bisazo pigment (the following chemical formula 1) as a charge generating substance was added to 1
0 g and 10 g of polyvinyl formal resin are kneaded using a ball mill for 30 hours, and then tetrahydrofuran (T
HF) was added, and the dispersion was applied from above the undercoat layer with an applicator and dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.4 μm.

【0043】次に、有機光導電材料であるヒドラゾン系
顔料(下記化学式2)を10gと実施例6で得られたMS
-1/KR03/TR2004が34/60/6の樹脂組成物10gをジクロ
ロベンゼン溶媒80gに溶解し、アプリケーターで電荷
発生層の上に塗布し、100℃で1時間乾燥させ膜厚1
0μmの電荷発生層と電荷輸送層(保護層)を有する電
子写真感光体を形成した。この電子写真感光体の電荷輸
送層(保護層)の上から碁盤目テープ法(JIS K−
5400)に準じ電子写真感光体の密着性について評価
した。切り傷の間隔は2mmとし、ますめの数は25個
とした。5回の試験の結果、評価点数は8〜10点であ
り、切り口の交点にわずかなはがれが確認されるものの
正方形の一目一目にはがれがなく、欠損部の面積は全正
方形面積の5%以内もしくは切り傷1升ごとが細かく滑
らかであり、切り傷の交点と正方形の一目一目にはがれ
がない状態であった。
Next, 10 g of a hydrazone-based pigment (the following chemical formula 2), which is an organic photoconductive material, was added to MS obtained in Example 6.
Dissolve 10 g of the resin composition of -1 / KR03 / TR2004 in 34/60/6 in 80 g of dichlorobenzene solvent, apply the solution on the charge generation layer with an applicator, and dry at 100 ° C. for 1 hour to obtain a film thickness of 1
An electrophotographic photoreceptor having a 0 μm charge generation layer and a charge transport layer (protective layer) was formed. A cross-cut tape method (JIS K-) was applied on the charge transport layer (protective layer) of the electrophotographic photoreceptor.
5400), the adhesion of the electrophotographic photosensitive member was evaluated. The interval between the cuts was 2 mm, and the number of cuts was 25. As a result of the test five times, the evaluation score was 8 to 10 points, and although a slight peeling was confirmed at the intersection of the cuts, there was no peeling at a glance of the square, and the area of the defective part was within 5% of the total square area. Alternatively, each cut was fine and smooth, and there was no separation between the intersection of the cut and each square.

【0044】[0044]

【化1】 Embedded image

【0045】[0045]

【化2】 Embedded image

【0046】比較例10 電荷輸送層(保護層)用の樹脂として比較例9で得られ
たGP-1/KR03を使用した以外は実施例14と同様におこ
なった。碁盤目テープ法による密着性の評価点数は5回
の試験の結果4点であり、切り傷によるはがれの幅が広
く欠損部の面積は全正方形面積の15〜35%程度であ
った。
Comparative Example 10 The same procedure as in Example 14 was carried out except that the GP-1 / KR03 obtained in Comparative Example 9 was used as the resin for the charge transport layer (protective layer). The evaluation score of the adhesion by the crosscut tape method was 4 points as a result of the test five times, and the width of the peeling due to the cut was wide, and the area of the defective portion was about 15 to 35% of the entire square area.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明によるスチレン系樹脂組成物は、
テーバー摩耗量で評価した際の耐摩耗性に優れ且つ製膜
した電子写真感光体の基材との密着性にも優れることか
ら、電気、機械分野等の摩耗を伴う摺動部品等に広く使
用することができる。特にトルエン等の一般芳香族溶媒
に溶け、かつ耐摩耗性の特性を活かして電子写真感光体
の電荷輸送層(保護層)に使用する場合、安価で有るこ
とから経済的にも優れている。
The styrenic resin composition according to the present invention comprises:
Excellent in wear resistance when evaluated by the Taber abrasion amount and excellent adhesion to the substrate of the electrophotographic photoreceptor formed, so it is widely used for sliding parts with wear in the electrical and mechanical fields. can do. In particular, when it is used in a charge transport layer (protective layer) of an electrophotographic photoreceptor by being dissolved in a general aromatic solvent such as toluene and making use of its abrasion resistance, it is economically excellent because it is inexpensive.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビニル芳香族炭化水素を主体とする重合
体ブロックの含有量が60〜90wt%、共役ジオレフ
ィンを主体とする重合体ブロックの含有が40〜10
wt%からなるスチレン−ブタジエンブロック共重合体
(I)99〜30wt%と、スチレン−メタクリル酸エ
ステル系共重合体(II)1〜70wt%とのブレンド樹
脂組成物であって、上記スチレン−メタクリル酸エステ
ル系共重合体(II)が、還元粘度(dl/g)をXと
し、メタクリル酸エステル含有率(wt%)をYとした
ときの関係式 1.3<0.0515Y+X<1.5
(但し、5<Y<18 、0.5<X<1.1である)
を満足するものであり、かつ、JIS K−7204で
測定したテーバー摩耗量が20mg未満であることを特
徴とする耐摩耗性樹脂組成物。
1. A 60~90Wt% content of the polymer block mainly composed of vinyl aromatic hydrocarbon content of the polymer block composed mainly of a conjugated diolefin is 40 to 10
A blend resin composition comprising 99 to 30 wt% of a styrene-butadiene block copolymer (I) of 1 to 70 wt% and 1 to 70 wt% of a styrene-methacrylic acid ester-based copolymer (II). When the acid ester-based copolymer (II) has a reduced viscosity (dl / g) of X and a methacrylate content (wt%) of Y, 1.3 <0.0515Y + X <1.5
(However, 5 <Y <18 and 0.5 <X <1.1)
And a Taber abrasion amount of less than 20 mg measured according to JIS K-7204.
【請求項2】 スチレン−ブタジエンブロック共重合体
(I)は、一般式(A−B)nZ(但しAはビニル芳香族
炭化水素重合体ブロックであってその含有率が60〜9
0wt%、Bは共役ジエン重合体ブロックであってその
含有率が40〜10wt%、Zは放射状枝分かれブロッ
ク共重合体の形成に使用される多官能性カップリング剤
の残基を示し、nは多官能性カップリング剤の官能基数
を示し、少なくとも3以上の整数である)で示される放
射状枝分かれブロック共重合体である請求項1記載のス
チレン系樹脂組成物。
2. The styrene-butadiene block copolymer (I) has a general formula (AB) n Z (where A is a vinyl aromatic hydrocarbon polymer block and has a content of 60 to 9).
0 wt%, B is a conjugated diene polymer block having a content of 40 to 10 wt%, Z represents a residue of a polyfunctional coupling agent used for forming a radially branched block copolymer, and n represents a residue. The styrenic resin composition according to claim 1, which is a radially branched block copolymer represented by the following formula (indicating the number of functional groups of the polyfunctional coupling agent and being an integer of at least 3).
【請求項3】 引張り強さ(σ:単位kgf/mm2
と伸び(ε:単位%)の積(σ・ε)が600以上であ
る請求項1又は請求項2記載のスチレン系樹脂組成物。
3. Tensile strength (σ: kgf / mm 2 )
The styrenic resin composition according to claim 1 or 2, wherein the product (σ · ε) of the elongation and the elongation (ε: unit%) is 600 or more.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の耐摩耗
性スチレン系樹脂組成物と溶媒と有機光導電性材料とを
含むことを特徴とする電子写真感光体用のコーティング
組成物。
4. A coating composition for an electrophotographic photosensitive member, comprising the abrasion-resistant styrenic resin composition according to claim 1, a solvent, and an organic photoconductive material.
【請求項5】 請求項1〜3のいずれかに記載の耐摩耗
性スチレン系樹脂組成物をバインダーとして有機光導電
性材料が分散含有していることを特徴とする電子写真感
光体用の電荷輸送層及び/または保護層。
5. An electric charge for an electrophotographic photosensitive member, wherein an organic photoconductive material is dispersed and contained using the abrasion-resistant styrenic resin composition according to claim 1 as a binder. Transport layer and / or protective layer.
JP16018196A 1996-06-20 1996-06-20 Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer Withdrawn JPH107879A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16018196A JPH107879A (en) 1996-06-20 1996-06-20 Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16018196A JPH107879A (en) 1996-06-20 1996-06-20 Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH107879A true JPH107879A (en) 1998-01-13

Family

ID=15709589

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16018196A Withdrawn JPH107879A (en) 1996-06-20 1996-06-20 Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH107879A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4823349A (en) * 1987-03-31 1989-04-18 Rofin-Sinar, Inc. Resonator module and blower module assembly
JP2007224255A (en) * 2006-02-27 2007-09-06 Denki Kagaku Kogyo Kk Optical molded item
KR20170022961A (en) * 2016-10-21 2017-03-02 군산대학교산학협력단 Antimicrobial peptide analogues Ov1-1, Ov1-2 derived from Octopus variabilis and antimicrobial composition containing the same
KR20170022962A (en) * 2016-10-21 2017-03-02 군산대학교산학협력단 Antimicrobial peptide analogue Ov2-2 derived from Octopus variabilis and antimicrobial composition containing the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4823349A (en) * 1987-03-31 1989-04-18 Rofin-Sinar, Inc. Resonator module and blower module assembly
JP2007224255A (en) * 2006-02-27 2007-09-06 Denki Kagaku Kogyo Kk Optical molded item
KR20170022961A (en) * 2016-10-21 2017-03-02 군산대학교산학협력단 Antimicrobial peptide analogues Ov1-1, Ov1-2 derived from Octopus variabilis and antimicrobial composition containing the same
KR20170022962A (en) * 2016-10-21 2017-03-02 군산대학교산학협력단 Antimicrobial peptide analogue Ov2-2 derived from Octopus variabilis and antimicrobial composition containing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5330410B2 (en) Low gloss thermoplastic resin composition having soft surface texture and molded product thereof
CN101287793B (en) Improved low gloss mass polymerized rubber-modified monovinylidene aromatic copolymer composition
CN104693334A (en) Styrene-based copolymer and thermoplastic resin composition including the same
US5071725A (en) Fluorinated copolymer coated carriers for developing electrostatic images
JPH01280762A (en) Xerographic element
KR20010062827A (en) Molded part
CN103172960A (en) Thermoplastic resin composition with flowability, transparency, and impact strength
JPH107879A (en) Abrasion-resistant resin composition and coating composition for electrophotographic photosensitizer and charge transfer layer
CN100584885C (en) Poly carbonate resin composition and moulded product with said composition
JPH0517939B2 (en)
JPH09235442A (en) Abrasion-resistant material and charge transport layer of electrophotographic photoreceptor
JPH0794591B2 (en) Thermoplastic resin composition
JP2507925B2 (en) Thermoplastic resin composition
JPH0912637A (en) Wear-resistant acrylonitrile/styrene resin and charge transport layer of electrophotographic photoreceptor, formed by using the same as binder
KR20180071835A (en) Thermoplastic resin composition and molded product using the same
EP2784132B1 (en) Resin mixture
JPH1081737A (en) Resin composition, its production, coated membrane by using the same and electronic photosensitive material
JP2003511507A (en) Carbonate polymer blends with improved flow characteristics
JP2000186179A (en) Styrene-based resin composition and film
CA2333746C (en) Resin composition for electrostatic coating
JPS5847415B2 (en) Netsukaso Seigou Seijyuushiso Seibutsu
KR100781741B1 (en) Photoconductors with polysiloxane and polyvinylbutyral blends
JPH07311472A (en) Transfer sheet
BR102017004441B1 (en) COMPOSITION OF THERMOPLASTIC RESIN, AND, ARTICLES MOLDED WITH RESIN AND COATED
WO1996033447A1 (en) Transfer sheet

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20030902