JPH1073912A - フレキソ印刷版の露光用マスク - Google Patents
フレキソ印刷版の露光用マスクInfo
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- JPH1073912A JPH1073912A JP16345597A JP16345597A JPH1073912A JP H1073912 A JPH1073912 A JP H1073912A JP 16345597 A JP16345597 A JP 16345597A JP 16345597 A JP16345597 A JP 16345597A JP H1073912 A JPH1073912 A JP H1073912A
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- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 完全なフレキソ印刷版を１回の露光で露光で
きるように、調光体をもつ改良マスクを提供すること、
および現在可能な解像度よりも高い解像度でフレキソ印
刷版を製版することである。 【解決手段】 フレキソ印刷版露光用マスク５は、標準
的な２元画像のほかに、透明部および不透明部、および
フレキソ印刷版への光の進行を調節して歪曲効果を補償
するために、これら透明部および不透明部に対して設け
た調光体９を有する。マスクによって補償する歪曲に
は、近接効果による歪曲や、印刷版の非画線部となる分
離された微小部分による歪曲がある。
きるように、調光体をもつ改良マスクを提供すること、
および現在可能な解像度よりも高い解像度でフレキソ印
刷版を製版することである。 【解決手段】 フレキソ印刷版露光用マスク５は、標準
的な２元画像のほかに、透明部および不透明部、および
フレキソ印刷版への光の進行を調節して歪曲効果を補償
するために、これら透明部および不透明部に対して設け
た調光体９を有する。マスクによって補償する歪曲に
は、近接効果による歪曲や、印刷版の非画線部となる分
離された微小部分による歪曲がある。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は印刷、特にフォトポ
リマー型フレキソ印刷版の製版方法に関する。
リマー型フレキソ印刷版の製版方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フォトポリマーを使用して、フレキソ印
刷版を製版する場合、フォトポリマー上にマスクを設け
る。フォトポリマーは固体状でもよく、液体状のフォト
ポリマーでもよい。数分間、フィルムを介して高エネル
ギー紫外（ＵＶ）光でフォトポリマーを露光する。マス
クの透明部では、ＵＶ光がフォトポリマーを透過し、こ
れを硬化（架橋）する。画像部毎に露光を変えると、最
善な結果が得られる。例えば、広い透明部で囲まれたフ
ィルム上のある一つの網点は過剰露光に過敏である。と
いうのは、光量が多すぎると、網点下のポリマーに漏光
するため、この網点が消失するからである。フィルム上
の黒色部が印刷版の非画線部になる。というのは、ポリ
マーが硬化しないため、処理時に、洗い流されたり、あ
るいは除去されるからである。フィルムの大きな黒色部
の中心にあるある一つの透明な網点については、これと
は逆になる。即ち、透明な網点は露光が十分ではない。
この問題はよく知られている問題で、露光過程時にたく
まずして微妙に動き回る不透明物質の小片をマスクとし
て使用して解決するのが一般的である。これは時間のか
かる技術だけでなく、熟練オペレータがメインマスク上
に小さな遮光マスクを設け、露光中の適当な時点でこれ
らマスクを外す必要がある。
刷版を製版する場合、フォトポリマー上にマスクを設け
る。フォトポリマーは固体状でもよく、液体状のフォト
ポリマーでもよい。数分間、フィルムを介して高エネル
ギー紫外（ＵＶ）光でフォトポリマーを露光する。マス
クの透明部では、ＵＶ光がフォトポリマーを透過し、こ
れを硬化（架橋）する。画像部毎に露光を変えると、最
善な結果が得られる。例えば、広い透明部で囲まれたフ
ィルム上のある一つの網点は過剰露光に過敏である。と
いうのは、光量が多すぎると、網点下のポリマーに漏光
するため、この網点が消失するからである。フィルム上
の黒色部が印刷版の非画線部になる。というのは、ポリ
マーが硬化しないため、処理時に、洗い流されたり、あ
るいは除去されるからである。フィルムの大きな黒色部
の中心にあるある一つの透明な網点については、これと
は逆になる。即ち、透明な網点は露光が十分ではない。
この問題はよく知られている問題で、露光過程時にたく
まずして微妙に動き回る不透明物質の小片をマスクとし
て使用して解決するのが一般的である。これは時間のか
かる技術だけでなく、熟練オペレータがメインマスク上
に小さな遮光マスクを設け、露光中の適当な時点でこれ
らマスクを外す必要がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、完全
なフレキソ印刷版を１回の露光で露光できるように、調
光体をもつ改良マスクを提供することである。また、本
発明の別な目的は、現在可能な解像度よりも高い解像度
をもつフレキソ印刷版を製版することである。
なフレキソ印刷版を１回の露光で露光できるように、調
光体をもつ改良マスクを提供することである。また、本
発明の別な目的は、現在可能な解像度よりも高い解像度
をもつフレキソ印刷版を製版することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、フォトポリマ
ーを有するフレキソ印刷版を撮像光線で露光するさいに
使用する、透明部および不透明部、およびこれら透明部
および不透明部に対して調光体を有するマスクを提供す
るものである。
ーを有するフレキソ印刷版を撮像光線で露光するさいに
使用する、透明部および不透明部、およびこれら透明部
および不透明部に対して調光体を有するマスクを提供す
るものである。
【０００５】
【作用】調光体は、フレキソ印刷版のフォトポリマーへ
の光の進行を調節し、歪曲効果を補償する。この歪曲効
果は、分離または近接効果における、印刷版の非画線部
となる微小部分の結果と考えられる。
の光の進行を調節し、歪曲効果を補償する。この歪曲効
果は、分離または近接効果における、印刷版の非画線部
となる微小部分の結果と考えられる。
【０００６】近接関係にある上記微小部分による歪曲
は、歪曲された境界位置としてマスクに調光体を形成す
ることによって補正することができる。
は、歪曲された境界位置としてマスクに調光体を形成す
ることによって補正することができる。
【０００７】分離状態にある上記微小部分による歪曲
は、分離状態にある上記微小部分それぞれの周囲にリン
グとして調光体を形成することによって補正することが
できる。このリングは上記微小部分に隣接する部分の光
学濃度が高く、そして光学濃度はリングの縁部にむかっ
て低くなる。
は、分離状態にある上記微小部分それぞれの周囲にリン
グとして調光体を形成することによって補正することが
できる。このリングは上記微小部分に隣接する部分の光
学濃度が高く、そして光学濃度はリングの縁部にむかっ
て低くなる。
【０００８】フォトポリマーの解像力よりも十分に小さ
いため、撮像光を全体として減衰できるマスク内の変調
作用を使用して、歪曲または上記の分離された微小部分
を補正することができる。
いため、撮像光を全体として減衰できるマスク内の変調
作用を使用して、歪曲または上記の分離された微小部分
を補正することができる。
【０００９】マスクは印刷版と一体的に設けてもよく、
あるいは別体として設けてもよい。また、マスクは熱活
性化することもでき、この場合には赤外レーザーエネル
ギーによって熱を供給することができる。
あるいは別体として設けてもよい。また、マスクは熱活
性化することもでき、この場合には赤外レーザーエネル
ギーによって熱を供給することができる。
【００１０】調光体としては、不透明度が透明部と不透
明部の中間にある部分光減衰体を使用することができ
る。減衰量は、供給される熱の量に比例する。
明部の中間にある部分光減衰体を使用することができ
る。減衰量は、供給される熱の量に比例する。
【００１１】本発明は、また、歪曲補正が必要な部分、
および必要な光減衰または光強化を決定することからな
る、フレキソ印刷版をフォトポリマーでマスクする方法
を提供するものである。マスク上の部分に調光体を形成
して、歪曲補正を行なってから、マスクを介してフレキ
ソ印刷版を撮像光で露光する。
および必要な光減衰または光強化を決定することからな
る、フレキソ印刷版をフォトポリマーでマスクする方法
を提供するものである。マスク上の部分に調光体を形成
して、歪曲補正を行なってから、マスクを介してフレキ
ソ印刷版を撮像光で露光する。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１および図２について説明す
る。フレキソ印刷版はフォトポリマー層１と、（組成が
層１と同じでもよい）弾性層２と、寸法安定性を強化す
る支持層３とからなる。支持層３は、例えば、高分子材
料でもよいが、金属層も使用することができる。平行Ｕ
Ｖ光７を使用して、フィルム、即ちマスク５を介して印
刷版を露光する。場合によっては、非平行光も使用でき
るが、高品質網版法では、平行光を使用する必要があ
る。特性を最適化するためには、画像の異なる部分（例
えば、ハイライトおよびシャドー）毎に露光量を変える
必要がある。今までは、（図１に６で示す）不透明な物
体を使用して、露光量を少なくする必要のある部分を露
光時に遮光することによってこれを行なっていた。不透
明な物体６をどの位置にどの位の時間設けるかには、相
当な技術が必要であった。
る。フレキソ印刷版はフォトポリマー層１と、（組成が
層１と同じでもよい）弾性層２と、寸法安定性を強化す
る支持層３とからなる。支持層３は、例えば、高分子材
料でもよいが、金属層も使用することができる。平行Ｕ
Ｖ光７を使用して、フィルム、即ちマスク５を介して印
刷版を露光する。場合によっては、非平行光も使用でき
るが、高品質網版法では、平行光を使用する必要があ
る。特性を最適化するためには、画像の異なる部分（例
えば、ハイライトおよびシャドー）毎に露光量を変える
必要がある。今までは、（図１に６で示す）不透明な物
体を使用して、露光量を少なくする必要のある部分を露
光時に遮光することによってこれを行なっていた。不透
明な物体６をどの位置にどの位の時間設けるかには、相
当な技術が必要であった。
【００１３】本発明の好適な実施態様では、この場合光
減衰体または部分光吸収体である調光体９をフィルム５
中に形成する。フィルムの形成時に、この調光体の位置
および濃度を計算する。全体的な原理についていえば、
印刷版の非画線部となる、マスク上の分離された微小部
分周囲の透明部が減衰を必要とする。このように、印刷
された頁上の、分離された部分周囲のハイライト部（マ
スク上の透明部下の印刷版の部分に相当するハイライト
部）が必要とする光量は、それ以外のハイライト部が必
要とする光量よりも少なくなる。ごく簡単な基準に照ら
しても、ハイライト部における露光量が３０％〜５０％
低下ことは大きな改善である。調光体９の位置および濃
度をより正確に計算するためには、光重合を正確にモデ
ル化すればよい。このためには、例えば、ＰＲＯＬＩＴ
Ｈ３Ｄ（ＴＭ）として知られている市販のプログラムを
使用することができる。減衰については、予め計算し、
フィルムに組込んであるため、露光を最適化するため
に、労力や判断は必要ない。本発明を使用すると、微小
な非画線部８の“プラギング”がなくなるため、スクリ
ン線数を大きく取ることができる。
減衰体または部分光吸収体である調光体９をフィルム５
中に形成する。フィルムの形成時に、この調光体の位置
および濃度を計算する。全体的な原理についていえば、
印刷版の非画線部となる、マスク上の分離された微小部
分周囲の透明部が減衰を必要とする。このように、印刷
された頁上の、分離された部分周囲のハイライト部（マ
スク上の透明部下の印刷版の部分に相当するハイライト
部）が必要とする光量は、それ以外のハイライト部が必
要とする光量よりも少なくなる。ごく簡単な基準に照ら
しても、ハイライト部における露光量が３０％〜５０％
低下ことは大きな改善である。調光体９の位置および濃
度をより正確に計算するためには、光重合を正確にモデ
ル化すればよい。このためには、例えば、ＰＲＯＬＩＴ
Ｈ３Ｄ（ＴＭ）として知られている市販のプログラムを
使用することができる。減衰については、予め計算し、
フィルムに組込んであるため、露光を最適化するため
に、労力や判断は必要ない。本発明を使用すると、微小
な非画線部８の“プラギング”がなくなるため、スクリ
ン線数を大きく取ることができる。
【００１４】フィルム５として通常のフィルム（ハロゲ
ン化銀）を使用した場合には、網版法によって要求され
るような高いシャープネスを得ることが難しく、同時に
減衰を可変化（グレースケール）することも難しいの
で、本発明を実用化するのはいくぶん難しいかもしれな
い。しかし、感熱フィルムを使用すると、実用化は極め
て簡単である。感熱フィルムとは、光ではなく、熱によ
って活性化されるフィルムのことである。感熱フィルム
うち一部は既に市販されている。特に、極めて高いシャ
ープネスを実現でき、しかも減衰を可変化できるものと
しては、Ｋｏｄａｋ社（Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ、ＮＹ）や
Ｉｍａｔｉｏｎ（以前の３Ｍ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）
の製品がある。Ｋｏｄａｋ社の製品の商品名はＤｉｒｅ
ｃｔ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍで、
Ｉｍａｔｉｏｎ（３Ｍ）社の製品はＤｒｙ Ｓｉｌｖｅ
ｒ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍとして知られている。い
ずれの製品の場合も、露光時の熱エネルギーを変えるこ
とによってフィルムの光学濃度を調節できる。熱エネル
ギーについては、赤外線を放射できるレーザーによって
与えることができる。従って、必要な減衰した均質な可
視光またはＵＶをフレキソ印刷版のフォトポリマー層の
選択された部分に露光できるだけでなく、この印刷版に
再現される画像の各要素周囲への最適露光量について減
衰量を正確に計算できる。例えば、ＩｍａｔｉｏｎのＤ
ｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ ＴｈｅｒｍａｌＦｉｌｍの場合に
は、フィルムの特定部分の光学濃度を、当該部分に与え
られる熱エネルギーに応じて、０〜３の範囲にすること
ができる。光学濃度０は光減衰率０％に相当する。光学
濃度が高くなるにつれ、光減衰率も高くなる。但し、こ
れは光学濃度が、９９．９％の光減衰率に相当する３の
値に達するまでである。（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｉｅｓ社、Ｓｏｕｔｈ Ｈａｄｅｌｙ、Ｍａ
ｓｓ）のＬａｓｅｒｍａｒｋなどの純粋なアブレーショ
ン形感熱フィルムではこのようにならない上に、グレー
スケールが不可能である。
ン化銀）を使用した場合には、網版法によって要求され
るような高いシャープネスを得ることが難しく、同時に
減衰を可変化（グレースケール）することも難しいの
で、本発明を実用化するのはいくぶん難しいかもしれな
い。しかし、感熱フィルムを使用すると、実用化は極め
て簡単である。感熱フィルムとは、光ではなく、熱によ
って活性化されるフィルムのことである。感熱フィルム
うち一部は既に市販されている。特に、極めて高いシャ
ープネスを実現でき、しかも減衰を可変化できるものと
しては、Ｋｏｄａｋ社（Ｒｏｃｈｅｓｔｅｒ、ＮＹ）や
Ｉｍａｔｉｏｎ（以前の３Ｍ、Ｓｔ．Ｐａｕｌ、ＭＮ）
の製品がある。Ｋｏｄａｋ社の製品の商品名はＤｉｒｅ
ｃｔ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍで、
Ｉｍａｔｉｏｎ（３Ｍ）社の製品はＤｒｙ Ｓｉｌｖｅ
ｒ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍとして知られている。い
ずれの製品の場合も、露光時の熱エネルギーを変えるこ
とによってフィルムの光学濃度を調節できる。熱エネル
ギーについては、赤外線を放射できるレーザーによって
与えることができる。従って、必要な減衰した均質な可
視光またはＵＶをフレキソ印刷版のフォトポリマー層の
選択された部分に露光できるだけでなく、この印刷版に
再現される画像の各要素周囲への最適露光量について減
衰量を正確に計算できる。例えば、ＩｍａｔｉｏｎのＤ
ｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ ＴｈｅｒｍａｌＦｉｌｍの場合に
は、フィルムの特定部分の光学濃度を、当該部分に与え
られる熱エネルギーに応じて、０〜３の範囲にすること
ができる。光学濃度０は光減衰率０％に相当する。光学
濃度が高くなるにつれ、光減衰率も高くなる。但し、こ
れは光学濃度が、９９．９％の光減衰率に相当する３の
値に達するまでである。（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｉｅｓ社、Ｓｏｕｔｈ Ｈａｄｅｌｙ、Ｍａ
ｓｓ）のＬａｓｅｒｍａｒｋなどの純粋なアブレーショ
ン形感熱フィルムではこのようにならない上に、グレー
スケールが不可能である。
【００１５】一つの実施態様では、従来と同様にして
（真空を使用して）、フィルム５を印刷版に保持でき
る。別な実施態様では、ＵＳＰ５，２６２，２７５に記
載されているように、フォトポリマー１に直接被覆する
ことによって、フィルム５を印刷版の一体的部分とする
ことができる。しかし、いずれの場合も、操作は同じで
ある。即ち、マスク５の不透明部８によって遮光した状
態で、平行光または非平行光をフォトポリマー１の、マ
スクが透明な部分に露光する。このフォトポリマー１
は、光７で露光すると、架橋、即ち重合する。露光によ
り重合した部分はすべて弾性レベル２まで達する。光減
衰を可変化する調光体９によって、微小なシャドー部へ
の過剰露光がなくなるため、解像度のより高いスクリン
を実現できる。
（真空を使用して）、フィルム５を印刷版に保持でき
る。別な実施態様では、ＵＳＰ５，２６２，２７５に記
載されているように、フォトポリマー１に直接被覆する
ことによって、フィルム５を印刷版の一体的部分とする
ことができる。しかし、いずれの場合も、操作は同じで
ある。即ち、マスク５の不透明部８によって遮光した状
態で、平行光または非平行光をフォトポリマー１の、マ
スクが透明な部分に露光する。このフォトポリマー１
は、光７で露光すると、架橋、即ち重合する。露光によ
り重合した部分はすべて弾性レベル２まで達する。光減
衰を可変化する調光体９によって、微小なシャドー部へ
の過剰露光がなくなるため、解像度のより高いスクリン
を実現できる。
【００１６】別な形の露光補正、即ちマスクに組込むこ
とができ、そしてマスク５の調光体９と組合わせて使用
した場合に特に有効な露光補正は、近接補正として知ら
れている。フォトポリマーの露光工程で発生する収差に
関するこの形の収差補正は、半導体の分野でよく知られ
ている収差補正である。ところが、このような方法が印
刷版に適用されたことはなかった。半導体製造における
近接補正に関する一つの論文が、“Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈ
ｏｇｒａｐｈｙ Ｗｏｒｌｄ”、１９９６年春季号に発
表されている。これらの効果は、ＰＲＯＬＩＴＨとして
知られている一般に利用可能なソフトウエアによってモ
デル化することができる。フレキソ印刷版の近接効果を
計算するのに特に有効なのは、このプログラムの最新の
バージョン、即ちＰＲＯＬＩＴＨ３Ｄである。簡単な近
接補正の実施例を図３ａおよび３ｂに図示する。図３ａ
では、露光工程時の近接効果を補正するために、マスク
５の部分を意図的に歪めてある。線１１が別な線１０に
近接している場合には、線１１の幅を狭くして、隣接す
る線からの漏光による印刷版ポリマーへの露光増大を補
償する。線１１の角部を予め鋭い角部に歪めて、散乱漏
光によって生じる角部の円形化を補償する。図３ｂの場
合、フォトポリマーの線１０、１１が直線のように見
え、一方マスク５は歪んで見える。仮にマスク５が近接
補正されていないならば、印刷版１の線１０、１１は歪
んでみえるはずである。例えば、角部は円く見えるはず
である。
とができ、そしてマスク５の調光体９と組合わせて使用
した場合に特に有効な露光補正は、近接補正として知ら
れている。フォトポリマーの露光工程で発生する収差に
関するこの形の収差補正は、半導体の分野でよく知られ
ている収差補正である。ところが、このような方法が印
刷版に適用されたことはなかった。半導体製造における
近接補正に関する一つの論文が、“Ｍｉｃｒｏｌｉｔｈ
ｏｇｒａｐｈｙ Ｗｏｒｌｄ”、１９９６年春季号に発
表されている。これらの効果は、ＰＲＯＬＩＴＨとして
知られている一般に利用可能なソフトウエアによってモ
デル化することができる。フレキソ印刷版の近接効果を
計算するのに特に有効なのは、このプログラムの最新の
バージョン、即ちＰＲＯＬＩＴＨ３Ｄである。簡単な近
接補正の実施例を図３ａおよび３ｂに図示する。図３ａ
では、露光工程時の近接効果を補正するために、マスク
５の部分を意図的に歪めてある。線１１が別な線１０に
近接している場合には、線１１の幅を狭くして、隣接す
る線からの漏光による印刷版ポリマーへの露光増大を補
償する。線１１の角部を予め鋭い角部に歪めて、散乱漏
光によって生じる角部の円形化を補償する。図３ｂの場
合、フォトポリマーの線１０、１１が直線のように見
え、一方マスク５は歪んで見える。仮にマスク５が近接
補正されていないならば、印刷版１の線１０、１１は歪
んでみえるはずである。例えば、角部は円く見えるはず
である。
【００１７】図４に示す別な実施態様では、フォトポリ
マー工程の解像力以上に極めて微細な面積変調を使用し
て、連続グレースケールが可能でないか、あるいは望ま
しくない場合に、光を減衰する。例えば、マスク上に透
明部１２を囲んで独立した画素網点１４を疑似ランダム
に分散すると、全体的な光減衰が生じ、個々の網点が再
現されない。この方法はそれ程望ましいとはいえない。
というのは、使用する網点が、例えば１０μｍ以下と極
めて微小でなければならず、また撮像装置としては、解
像度が極めて高い装置のみが使用できるに過ぎないから
である。この方法が適用できるのは、グレースケールが
可能でないフィルム５、例えば、Ｌａｓｅｒｍａｒｋや
Ｐｏｌａｒｏｉｄ’ｓ Ｈｅｌｉｏｓ（Ｐｏｌａｒｏｉ
ｄ Ｇｒａｐｈｉｃ Ｉｍａｇｉｎｇ社、Ｗａｌｔｈａ
ｍ、ＭＡＳＳ）などの感熱フィルムを使用する場合であ
る。フレキソ印刷版のマスクの光学濃度を変更するか、
あるいはフィルム上で画素網点などの形を取るランダム
位置において露光時にレーザーエネルギーを調節するこ
とによって、フィルム５に調光体９を形成する。
マー工程の解像力以上に極めて微細な面積変調を使用し
て、連続グレースケールが可能でないか、あるいは望ま
しくない場合に、光を減衰する。例えば、マスク上に透
明部１２を囲んで独立した画素網点１４を疑似ランダム
に分散すると、全体的な光減衰が生じ、個々の網点が再
現されない。この方法はそれ程望ましいとはいえない。
というのは、使用する網点が、例えば１０μｍ以下と極
めて微小でなければならず、また撮像装置としては、解
像度が極めて高い装置のみが使用できるに過ぎないから
である。この方法が適用できるのは、グレースケールが
可能でないフィルム５、例えば、Ｌａｓｅｒｍａｒｋや
Ｐｏｌａｒｏｉｄ’ｓ Ｈｅｌｉｏｓ（Ｐｏｌａｒｏｉ
ｄ Ｇｒａｐｈｉｃ Ｉｍａｇｉｎｇ社、Ｗａｌｔｈａ
ｍ、ＭＡＳＳ）などの感熱フィルムを使用する場合であ
る。フレキソ印刷版のマスクの光学濃度を変更するか、
あるいはフィルム上で画素網点などの形を取るランダム
位置において露光時にレーザーエネルギーを調節するこ
とによって、フィルム５に調光体９を形成する。
【００１８】外側にドラム型レコーダをもつ通常のリソ
グラフィー印刷機を使用して、フォトポリマーフレキソ
印刷版で撮像する場合、その第１の工程はマスク製作工
程である。画像の予想される各種歪曲の補正については
手動か、あるいは各種のリソグラフィーシミュレーショ
ンソフトウエアを使用してモデル化する。各種歪曲を補
正した画像をデジタル情報に変換し、このデジタル情報
を通常の版セッターに使用して、マスクを撮像する走査
レーザーダイオードによる露光について位置決めし、か
つ調節する。フィルムについては、噴霧器やプラズマ蒸
着を使用して、プレプレス機の外部回転撮像シリンダに
よって個別に形成するか、あるいはフォトポリマー層上
に被覆すればよい。レーザー撮像ヘッドは、特定量の熱
エネルギーを特定位置に供給することによってモデル化
画像に従ってマスクを撮像する走査赤外線レーザー列を
有する。マスクの撮像終了後、次の工程に移る。即ち、
シリンダからマスクまたはマスクとフォトポリマーを取
り外し、マスクを介して平行紫外線または非平行紫外線
でフォトポリマーを露光する。この工程が終了したなら
ば、フレキソ印刷版をリソグラフィー印刷機にセットす
る。
グラフィー印刷機を使用して、フォトポリマーフレキソ
印刷版で撮像する場合、その第１の工程はマスク製作工
程である。画像の予想される各種歪曲の補正については
手動か、あるいは各種のリソグラフィーシミュレーショ
ンソフトウエアを使用してモデル化する。各種歪曲を補
正した画像をデジタル情報に変換し、このデジタル情報
を通常の版セッターに使用して、マスクを撮像する走査
レーザーダイオードによる露光について位置決めし、か
つ調節する。フィルムについては、噴霧器やプラズマ蒸
着を使用して、プレプレス機の外部回転撮像シリンダに
よって個別に形成するか、あるいはフォトポリマー層上
に被覆すればよい。レーザー撮像ヘッドは、特定量の熱
エネルギーを特定位置に供給することによってモデル化
画像に従ってマスクを撮像する走査赤外線レーザー列を
有する。マスクの撮像終了後、次の工程に移る。即ち、
シリンダからマスクまたはマスクとフォトポリマーを取
り外し、マスクを介して平行紫外線または非平行紫外線
でフォトポリマーを露光する。この工程が終了したなら
ば、フレキソ印刷版をリソグラフィー印刷機にセットす
る。
【００１９】
実施例１ 視準放物面反射鏡を使用して、５ｋＷのショートアーク
ランプの下で８分間紫外線をＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅ
ｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ社（Ｗｉｌｍｉｎ
ｇｔｏｎ、ＤＥ）製のＣｙｒｅｌ ＰＬＳタイプのフォ
トポリマー型フレキソ印刷版に露光した。使用したＣｙ
ｒｅｌ版は、（正式名ではないがＶｏｌｃａｎｏ Ｆｉ
ｌｍとして知られているタイプの）Ｋｏｄａｋ Ｄｉｒ
ｅｃｔＤｉｇｉｔａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍで被
覆しておいた。また、８３０ｎｍを使用して３２００ｄ
ｐｉにおいて、フィルムをＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２
４４Ｔ（Ｃｒｅｏ Ｐｒｏｄｕｔｓ Ｉｎｃ．、Ｂｕｒ
ｎａｂｙ Ｂ．Ｃ．、カナダ）で予め露光しておいた。
このＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ中でフィルムの透明部のす
べてを５００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。シャドー部の微
細な部分の周囲に、（換言すれば、印刷版の非画線部と
なる、フィルム上の微細な黒色部の周囲に）、幅が約１
ｍｍで、ＵＶ濃度が半径方向に約０．２から０．１にな
るリングを残すことによって、光学濃度の低いリングを
形成した。即ち、リング縁部において４００〜５００ｍ
Ｊ／ｃｍ2でフィルム（このフィルムの場合、露光量が
多量な程、濃度が低くなる）を露光した。テキスト、
線、および１５０ｌｐｉ以下のスクリン線を含む画像を
この方法で形成した。版の現像は、通常の方法で行なっ
た。解像力は、調光体がない場合の解像力を越えた。
ランプの下で８分間紫外線をＤｕＰｏｎｔ ｄｅ Ｎｅ
ｍｏｕｒｓ ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ社（Ｗｉｌｍｉｎ
ｇｔｏｎ、ＤＥ）製のＣｙｒｅｌ ＰＬＳタイプのフォ
トポリマー型フレキソ印刷版に露光した。使用したＣｙ
ｒｅｌ版は、（正式名ではないがＶｏｌｃａｎｏ Ｆｉ
ｌｍとして知られているタイプの）Ｋｏｄａｋ Ｄｉｒ
ｅｃｔＤｉｇｉｔａｌ Ｔｈｅｒｍａｌ Ｆｉｌｍで被
覆しておいた。また、８３０ｎｍを使用して３２００ｄ
ｐｉにおいて、フィルムをＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２
４４Ｔ（Ｃｒｅｏ Ｐｒｏｄｕｔｓ Ｉｎｃ．、Ｂｕｒ
ｎａｂｙ Ｂ．Ｃ．、カナダ）で予め露光しておいた。
このＴｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ中でフィルムの透明部のす
べてを５００ｍＪ／ｃｍ2で露光した。シャドー部の微
細な部分の周囲に、（換言すれば、印刷版の非画線部と
なる、フィルム上の微細な黒色部の周囲に）、幅が約１
ｍｍで、ＵＶ濃度が半径方向に約０．２から０．１にな
るリングを残すことによって、光学濃度の低いリングを
形成した。即ち、リング縁部において４００〜５００ｍ
Ｊ／ｃｍ2でフィルム（このフィルムの場合、露光量が
多量な程、濃度が低くなる）を露光した。テキスト、
線、および１５０ｌｐｉ以下のスクリン線を含む画像を
この方法で形成した。版の現像は、通常の方法で行なっ
た。解像力は、調光体がない場合の解像力を越えた。
【００２０】実施例２ 実施例１の方法および手順に従ったが、線間距離が１ｍ
ｍ以下の場合にはすべて線を１画素分だけ狭くすること
によって、線幅を他の線に対して近接補正した。他の露
光部に対して近接して走っている線の広がりが大幅に減
少した。
ｍ以下の場合にはすべて線を１画素分だけ狭くすること
によって、線幅を他の線に対して近接補正した。他の露
光部に対して近接して走っている線の広がりが大幅に減
少した。
【図１】フォトポリマーフレキソ印刷版露光時の、従来
例横断面図である。
例横断面図である。
【図２】本発明マスクの横断面図である。
【図３】（ａ）は近接補正を説明するマスクの上面図で
ある。（ｂ）は（ａ）に示したマスクによる近接補正後
の版を示す図である。
ある。（ｂ）は（ａ）に示したマスクによる近接補正後
の版を示す図である。
【図４】光減衰を発生するために使用した画素網点を示
すマスクの上面図である。
すマスクの上面図である。
１ フォトポリマー層 ２ 弾性層 ３ 支持層 ５ マスク ６ 不透明物体 ７ 平行紫外光 ８ 非画線部 ９ 調光体 １０ 線 １１ 線 １２ 透明部 １４ 画素網点
Claims (33)
- 【請求項１】 撮像光に応答して露光された部分を形成
するフォトポリマーを有するフレキソ印刷版の画線部を
撮像光で露光するさいに使用する、透明部および不透明
部をもつマスクにおいて、 光の進行を調光して、歪曲効果を補償するために、上記
マスク上に、上記の透明部および不透明部に対して調光
体を設けたことを特徴とする露光用マスク。 - 【請求項２】 上記マスク上の上記調光体が、上記印刷
版の非画線部となる分離された微小部分による歪曲効果
を補償する請求項１記載のマスク。 - 【請求項３】 上記調光体が、上記透明部と不透明部と
の間に位置決めできる歪曲境界位置で、近接効果および
角部による歪曲を補償して、撮像光への露光後歪みのな
い画像を形成できるようにした請求項１記載のマスク。 - 【請求項４】 上記調光体が、撮像光を減衰する変調さ
れた部分であって、上記印刷版上のフォトポリマーの解
像力よりも十分に小さい変調作用をもつ変調された部分
である請求項１記載のマスク。 - 【請求項５】 上記変調された部分が、独立した画素網
点のランダムな分散体である請求項４記載のマスク。 - 【請求項６】 上記印刷版上に上記マスクを一体的に形
成した請求項１記載のマスク。 - 【請求項７】 上記マスクを熱によって活性化した請求
項６記載のマスク。 - 【請求項８】 上記熱を赤外レーザーエネルギーによっ
て供給する請求項７記載のマスク。 - 【請求項９】 上記印刷版とは別体のフィルム上に上記
マスクを一体的に形成した請求項１記載のマスク。 - 【請求項１０】 上記フィルムを熱によって活性化した
請求項９記載のマスク。 - 【請求項１１】 上記熱を赤外レーザーエネルギーによ
って供給する請求項１０記載のマスク。 - 【請求項１２】 上記撮像光が紫外光である請求項１記
載のマスク。 - 【請求項１３】 上記調光体が、上記マスクの選択され
た部分に位置決めされた透明部および不透明部に対して
中間的な不透明度をもつ部分光吸収体であって、歪曲効
果を補償して、撮像光への露光後歪みのない画像を形成
できる部分光吸収体である請求項１記載のマスク。 - 【請求項１４】 上記調光体が、上記印刷版の非画線部
になるある一つの部分の第２部分への近接による歪曲効
果を補償する請求項１３記載のマスク。 - 【請求項１５】 上記調光体が、上記透明部と不透明部
との間に位置決めできる歪曲境界位置で、近接効果およ
び角部による歪曲を補償して、撮像光への露光後歪みの
ない画像を形成できるようにした請求項１４記載のマス
ク。 - 【請求項１６】 上記印刷版上に上記マスクを一体的に
形成した請求項１３記載のマスク。 - 【請求項１７】 上記マスクを熱によって活性化した請
求項１６記載のマスク。 - 【請求項１８】 上記熱を赤外レーザーエネルギーによ
って供給する請求項１７記載のマスク。 - 【請求項１９】 供給された熱に応じて、撮像光の減衰
が可変化する請求項１７記載のマスク。 - 【請求項２０】 上記印刷版とは別体のフィルム上に上
記マスクを一定的に形成した請求項１３記載のマスク。 - 【請求項２１】 上記フィルムを熱によって活性化した
請求項２０記載のマスク。 - 【請求項２２】 上記熱を赤外レーザーエネルギーによ
って供給する請求項２１記載のマスク。 - 【請求項２３】 供給された熱に応じて、撮像光の減衰
が可変化する請求項２１記載のマスク。 - 【請求項２４】 上記マスクが、上記印刷版の非画線部
となる分離された微小部分による歪曲効果を補償する請
求項１３記載のマスク。 - 【請求項２５】 上記調光体が、上記印刷版の非画線部
になる分離部分周囲のリングで、該リングの紫外光濃度
が上記部分に隣接する部分の約０．２から該リングの縁
部の０．１の範囲にある請求項２４記載のマスク。 - 【請求項２６】 上記リングの幅がほぼ１ｍｍである請
求項２５記載のマスク。 - 【請求項２７】 上記フィルムがハロゲン化銀フィルム
である請求項１３記載のマスク。 - 【請求項２８】 歪曲を補償する、フォトポリマーをも
つ感光性フレキソ印刷版用のマスクを製作する方法にお
いて、 （ａ）歪曲や分離を補償するのに必要な、印刷版の非画
線部となる部分を決定し、 （ｂ）上記補正に必要なマスク上に調光体を形成し、そ
して （ｃ）上記マスクをマスク撮像光線で露光することから
なることを特徴とするマスクの製作方法。 - 【請求項２９】 上記調光体が、上記マスクの透明部と
不透明部との間に位置決めされる調節された境界位置を
有し、近接効果および角部による歪曲を補償できるよう
にした請求項２８記載の方法。 - 【請求項３０】 上記調光体が、上記印刷版の非画線部
となる部分の周囲に設けられ、歪曲を補償する可変減衰
体を有する請求項２８記載の方法。 - 【請求項３１】 上記調光体が、上記印刷版の非画線部
となる部分および歪曲補正が必要な部分の周囲の光画素
網点の不規則な分散体を有し、該画素網点の解像度が上
記感光性フレキソ印刷版上のフォトポリマーの解像度よ
りも十分に小さい請求項２８記載の方法。 - 【請求項３２】 上記マスクを上記フレキソ印刷版と一
体的に形成した請求項２８記載の方法。 - 【請求項３３】 上記印刷版とは別体のフィルム上に上
記マスクを形成した請求項２８記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US65878596A | 1996-06-05 | 1996-06-05 | |
| US08/658,785 | 1996-06-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073912A true JPH1073912A (ja) | 1998-03-17 |
| JP2896886B2 JP2896886B2 (ja) | 1999-05-31 |
Family
ID=24642686
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16345597A Expired - Fee Related JP2896886B2 (ja) | 1996-06-05 | 1997-06-05 | フレキソ印刷版の露光用マスク |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5998067A (ja) |
| JP (1) | JP2896886B2 (ja) |
| DE (1) | DE19723618B4 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6815143B2 (en) | 2001-01-22 | 2004-11-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist material and pattern forming method |
| JP2006178111A (ja) * | 2004-12-21 | 2006-07-06 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 円筒状マスク構成体 |
| JP2012511175A (ja) * | 2008-12-08 | 2012-05-17 | イーストマン コダック カンパニー | 凸版印刷プレート |
| CN113365845A (zh) * | 2019-02-13 | 2021-09-07 | 麦克德米德图像方案股份有限公司 | 具有uv过滤的光致聚合物膜 |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383692B1 (en) * | 1999-07-13 | 2002-05-07 | Agfa-Gevaert | Flexographic printing plate precursor comprising a (photo)thermographic recording layer |
| US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
| US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
| US6785001B2 (en) | 2001-08-21 | 2004-08-31 | Silicon Light Machines, Inc. | Method and apparatus for measuring wavelength jitter of light signal |
| US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
| US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
| US6839479B2 (en) | 2002-05-29 | 2005-01-04 | Silicon Light Machines Corporation | Optical switch |
| US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
| US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
| US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
| US7046420B1 (en) | 2003-02-28 | 2006-05-16 | Silicon Light Machines Corporation | MEM micro-structures and methods of making the same |
| US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
| US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
| US20070202442A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for merging a mask and a printing plate |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1585202A (en) * | 1977-02-07 | 1981-02-25 | Letraset International Ltd | Relief printing plates |
| US5213916A (en) * | 1990-10-30 | 1993-05-25 | International Business Machines Corporation | Method of making a gray level mask |
| US5262275A (en) * | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
| US5304441A (en) * | 1992-12-31 | 1994-04-19 | International Business Machines Corporation | Method of optimizing exposure of photoresist by patterning as a function of thermal modeling |
| JPH08314113A (ja) * | 1995-05-17 | 1996-11-29 | Fujitsu Ltd | マスク及びこれを使用して形成されるプリント基板 |
-
1997
- 1997-06-05 DE DE19723618A patent/DE19723618B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-05 JP JP16345597A patent/JP2896886B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-01-06 US US09/003,140 patent/US5998067A/en not_active Expired - Lifetime
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| US6815143B2 (en) | 2001-01-22 | 2004-11-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Resist material and pattern forming method |
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| CN113365845A (zh) * | 2019-02-13 | 2021-09-07 | 麦克德米德图像方案股份有限公司 | 具有uv过滤的光致聚合物膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19723618A1 (de) | 1997-12-11 |
| DE19723618B4 (de) | 2005-09-29 |
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| US5998067A (en) | 1999-12-07 |
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