JPH1073824A - 液晶配向膜の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 - Google Patents
液晶配向膜の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、視角依存性が少なく良質な表示が
得られる配向膜の簡便な形成方法およびそれを用いた液
晶表示素子を提供することを目的とする。 【解決手段】 ネマチック液晶表示素子用の配向膜であ
って、配向処理後に該配向膜の一部に紫外線または電子
線を照射することにより、照射された領域の配向膜の配
向方向が配向処理後の配向方向から約９０°回転してい
ることを特徴とする配向膜。
得られる配向膜の簡便な形成方法およびそれを用いた液
晶表示素子を提供することを目的とする。 【解決手段】 ネマチック液晶表示素子用の配向膜であ
って、配向処理後に該配向膜の一部に紫外線または電子
線を照射することにより、照射された領域の配向膜の配
向方向が配向処理後の配向方向から約９０°回転してい
ることを特徴とする配向膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向膜の製造
方法及びそれを用いた液晶表示素子に関する。特に、広
視野角を達成する液晶表示素子に関する。
方法及びそれを用いた液晶表示素子に関する。特に、広
視野角を達成する液晶表示素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、外部から加えられた電
界によってその光学的特性が変化する液晶材料を含む電
気光学素子である。近年、特にＴＮ（ツイストネマティ
ック）型液晶表示素子は、薄型軽量で消費電力が小さい
ことからテレビ、パーソナルコンピューター等に幅広く
利用されてきている。
界によってその光学的特性が変化する液晶材料を含む電
気光学素子である。近年、特にＴＮ（ツイストネマティ
ック）型液晶表示素子は、薄型軽量で消費電力が小さい
ことからテレビ、パーソナルコンピューター等に幅広く
利用されてきている。
【０００３】ＴＮ型液晶表示素子において、液晶の配向
を得るためには、ガラス等の基板上に液晶配向膜を形成
し、その表面を布等で擦るラビング法と呼ばれる処理が
行われる。すなわち、液晶配向膜は、ガラス等の固体基
板上にポリイミド、ポリアミド等の耐熱性高分子の薄膜
を、スピンコート法、印刷法、ディッピング法等で作成
し、乾燥または硬化後、ラビングすることにより得られ
る。この一対の基板をラビングの向きが９０°異なるよ
うに配置し、液晶を封入することによってＴＮ型液晶表
示素子が得られる。しかし、このＴＮ型液晶表示素子に
は液晶が一方向に屈折率異方性をもっていることから、
中間調において見る角度を傾けると色調が変化するとい
う視角依存性の問題点がある。
を得るためには、ガラス等の基板上に液晶配向膜を形成
し、その表面を布等で擦るラビング法と呼ばれる処理が
行われる。すなわち、液晶配向膜は、ガラス等の固体基
板上にポリイミド、ポリアミド等の耐熱性高分子の薄膜
を、スピンコート法、印刷法、ディッピング法等で作成
し、乾燥または硬化後、ラビングすることにより得られ
る。この一対の基板をラビングの向きが９０°異なるよ
うに配置し、液晶を封入することによってＴＮ型液晶表
示素子が得られる。しかし、このＴＮ型液晶表示素子に
は液晶が一方向に屈折率異方性をもっていることから、
中間調において見る角度を傾けると色調が変化するとい
う視角依存性の問題点がある。
【０００４】最近、この視角依存性の欠点を解決する手
段として、一画素内に液晶分子の立ち上がる方向が１８
０°異なる２つの領域を設けた液晶表示素子（Ｋ．Ｈ．
Ｙａｎｇ，ＩＤＲＣ ｐ．６８，１９９１）や一画素内
にプレティルト角の異なる２つの領域を設けた液晶表示
素子（Ｙ．Ｋｏｉｋｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ｐ．７
９８，１９９２）が提案されている。しかし、これらの
方法では、微細な各画素内に配向方向が異なる２領域を
形成するためフォトリソグラフィー技術等が必要となり
工程数が増加し且つプロセスが複雑となるため低価格で
歩留まり良く液晶表示素子を製造することが非常に困難
である。また、ラビングを行わずにポリビニルシンナメ
ートに偏向紫外線を照射し、その偏向方向に配向させる
方法が試みられている。（電気情報通信学会技術報告Ｖ
ｏｌ．９５，Ｎｏ．１５５，ｐ．４３，１９９５）。し
かしながら、この方法で視角方向の異なる４つの領域を
形成する為には、偏向させた紫外光を斜め方向から何回
も照射しなければならず、作業が複雑になり実用的では
ない。さらに、ポリビニルシンナメートを用いる場合に
は、ラビングした後に無偏向の紫外線を照射すると無配
向になると考えられていた。
段として、一画素内に液晶分子の立ち上がる方向が１８
０°異なる２つの領域を設けた液晶表示素子（Ｋ．Ｈ．
Ｙａｎｇ，ＩＤＲＣ ｐ．６８，１９９１）や一画素内
にプレティルト角の異なる２つの領域を設けた液晶表示
素子（Ｙ．Ｋｏｉｋｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ｐ．７
９８，１９９２）が提案されている。しかし、これらの
方法では、微細な各画素内に配向方向が異なる２領域を
形成するためフォトリソグラフィー技術等が必要となり
工程数が増加し且つプロセスが複雑となるため低価格で
歩留まり良く液晶表示素子を製造することが非常に困難
である。また、ラビングを行わずにポリビニルシンナメ
ートに偏向紫外線を照射し、その偏向方向に配向させる
方法が試みられている。（電気情報通信学会技術報告Ｖ
ｏｌ．９５，Ｎｏ．１５５，ｐ．４３，１９９５）。し
かしながら、この方法で視角方向の異なる４つの領域を
形成する為には、偏向させた紫外光を斜め方向から何回
も照射しなければならず、作業が複雑になり実用的では
ない。さらに、ポリビニルシンナメートを用いる場合に
は、ラビングした後に無偏向の紫外線を照射すると無配
向になると考えられていた。
【０００５】したがって、これらの問題を解決し視角依
存性の少ない液晶表示素子を得るために、簡便な方法に
より視角依存性を改善する方法が望まれていた。
存性の少ない液晶表示素子を得るために、簡便な方法に
より視角依存性を改善する方法が望まれていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
目的は、上記の問題点を解決し、簡便且つ視角依存性が
少なく良質な表示が得られる配向膜の形成方法およびそ
れを用いた液晶表示素子を提供することにある。
目的は、上記の問題点を解決し、簡便且つ視角依存性が
少なく良質な表示が得られる配向膜の形成方法およびそ
れを用いた液晶表示素子を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、特定の高
分子を配向膜材料として用いて配向膜を形成し、配向処
理後に配向膜に紫外線または電子線を照射することによ
り、配向膜の配向方向を変化させうることを見いだし、
本発明を完成した。
分子を配向膜材料として用いて配向膜を形成し、配向処
理後に配向膜に紫外線または電子線を照射することによ
り、配向膜の配向方向を変化させうることを見いだし、
本発明を完成した。
【０００８】すなわち本発明は、ネマチック液晶表示素
子用の配向膜であって、配向処理後に該配向膜の一部ま
たは全体に紫外線または電子線を照射することにより、
照射された領域の配向膜の配向方向が配向処理後の配向
方向から約９０°回転していることを特徴とする配向膜
を提供する。本発明の配向膜の一部に紫外線または電子
線を照射することにより、該配向膜中に、配向処理後の
配向方向を有する領域と、配向処理後の配向方向から約
９０°回転した配向方向を有する領域を設けることがで
きる。
子用の配向膜であって、配向処理後に該配向膜の一部ま
たは全体に紫外線または電子線を照射することにより、
照射された領域の配向膜の配向方向が配向処理後の配向
方向から約９０°回転していることを特徴とする配向膜
を提供する。本発明の配向膜の一部に紫外線または電子
線を照射することにより、該配向膜中に、配向処理後の
配向方向を有する領域と、配向処理後の配向方向から約
９０°回転した配向方向を有する領域を設けることがで
きる。
【０００９】好ましくは、本発明の配向膜は、配向処理
後紫外線あるいは電子線の照射によって、配向処理方向
に液晶を配向させようとする高分子化合物（高分子
（Ａ））および配向処理方向より約９０°回転した方向
に液晶を配向させようとする性質を有する高分子化合物
（高分子（Ｂ））を含む。
後紫外線あるいは電子線の照射によって、配向処理方向
に液晶を配向させようとする高分子化合物（高分子
（Ａ））および配向処理方向より約９０°回転した方向
に液晶を配向させようとする性質を有する高分子化合物
（高分子（Ｂ））を含む。
【００１０】本発明の配向膜において用いられる高分子
（Ｂ）は、好ましくは、嵩高基、具体的には炭素数４以
上の環状構造を有する高分子化合物であり、より好まし
くはさらに分極性基を有する。本発明において分極性基
とは、電子吸引基および電子供与基をいう。好ましい分
極性基は、以下に示される基である： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である）。
（Ｂ）は、好ましくは、嵩高基、具体的には炭素数４以
上の環状構造を有する高分子化合物であり、より好まし
くはさらに分極性基を有する。本発明において分極性基
とは、電子吸引基および電子供与基をいう。好ましい分
極性基は、以下に示される基である： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である）。
【００１１】さらに好ましくは、高分子（Ｂ）は、一般
式（I）：
式（I）：
【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、水素、ハロゲン原子、
またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１−
１０のアルキル基であり；Ｘはスペーサー単位を表し、
該スペーサー単位は、炭素数１−１０の鎖状炭化水素
基、炭素数４−１５の環状炭化水素基、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＨ2−、−ＯＣＯ−または直接結合であり；Ｙは、
以下に示される基から選択される少なくとも１つの基： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である）を含んでいてもよい炭素数４−１５の環
状炭化水素基であり、該Ｙは炭素数１−１０のアルキル
基またはフェニル基で置換されていてもよい）で示され
る繰り返し単位を含む。好ましくは、Ｙは、下記の基：
またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１−
１０のアルキル基であり；Ｘはスペーサー単位を表し、
該スペーサー単位は、炭素数１−１０の鎖状炭化水素
基、炭素数４−１５の環状炭化水素基、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＨ2−、−ＯＣＯ−または直接結合であり；Ｙは、
以下に示される基から選択される少なくとも１つの基： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である）を含んでいてもよい炭素数４−１５の環
状炭化水素基であり、該Ｙは炭素数１−１０のアルキル
基またはフェニル基で置換されていてもよい）で示され
る繰り返し単位を含む。好ましくは、Ｙは、下記の基：
【化４】 （式中、ＺはＮ、ＳまたはＯ原子であり、環上の１−３
個の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−基で置換されていてもよい）か
ら選択される環状炭化水素基である。
個の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−基で置換されていてもよい）か
ら選択される環状炭化水素基である。
【００１２】本発明において、Ｘとして特に好ましい基
は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ2−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ
2−、−Ｃ2Ｈ5−および分極性のない環状炭化水素、例
えば、フェニレン、ナフチレン、シクロヘキシレン、シ
クロペンチレン等である。
は、−ＣＯＯ−、−ＯＣＨ2−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ
2−、−Ｃ2Ｈ5−および分極性のない環状炭化水素、例
えば、フェニレン、ナフチレン、シクロヘキシレン、シ
クロペンチレン等である。
【００１３】本発明において、Ｙとして特に好ましい基
は、β−カルボリン、シンノリン、キナゾリン、プリ
ン、イソキノリン、キノリン、キノキサリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、イソインドール、インドール、ピリ
ダジン、オキソラン、２−フラルデヒド、インデン−１
−オン、フルオレン−９−オン、２−ピリドン、２−キ
ノロン、９−カルボニルフルオレン、チオフェン、アク
リジン、フェニルピリジン、フルオロフェニルピリジ
ン、フルオロベンゼン、フルオロメチルベンゼン、ｏ−
トリフルオロメチルアニリン、ペンタフルオロベンゼ
ン、ｏ−メトキシベンズアルデヒド、シアノベンゼン、
メチルカルバモイルベンゼン、カルバモイルイミダゾー
ル、安息香酸、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、ニト
ロナフタレン、アミノベンゼン、アミノナフタレン、ス
ルホベンゼン、アミノピリジン、カルボキシピリジン、
ヒドロキシベンゼン、ヒドロキシピリジン、フルオロメ
チルピリジン、フォルミルベンゼン、アミノエチルベン
ゼン、ヒドロキシメチルベンゼン、トリフルオロエチル
ベンゼン、シアノエチルベンゼン、フォルミルエチルベ
ンゼン、メトキシアミノベンゼン、４−アミノ−テトラ
フルオロピリジン、ジフルオロメチルベンゼン、ジフル
オロベンゼン、メトキシベンゼン、アミノシクロヘキサ
ン、アミノシクロペンタン、シクロヘキサンカルボン
酸、ヒドロキシシクロヘキサン、フルオロメチルシクロ
へキサン、シアノシクロヘキサンおよびフォルミルシク
ロヘキサンである。
は、β−カルボリン、シンノリン、キナゾリン、プリ
ン、イソキノリン、キノリン、キノキサリン、フタラジ
ン、ナフチリジン、イソインドール、インドール、ピリ
ダジン、オキソラン、２−フラルデヒド、インデン−１
−オン、フルオレン−９−オン、２−ピリドン、２−キ
ノロン、９−カルボニルフルオレン、チオフェン、アク
リジン、フェニルピリジン、フルオロフェニルピリジ
ン、フルオロベンゼン、フルオロメチルベンゼン、ｏ−
トリフルオロメチルアニリン、ペンタフルオロベンゼ
ン、ｏ−メトキシベンズアルデヒド、シアノベンゼン、
メチルカルバモイルベンゼン、カルバモイルイミダゾー
ル、安息香酸、クロロベンゼン、ニトロベンゼン、ニト
ロナフタレン、アミノベンゼン、アミノナフタレン、ス
ルホベンゼン、アミノピリジン、カルボキシピリジン、
ヒドロキシベンゼン、ヒドロキシピリジン、フルオロメ
チルピリジン、フォルミルベンゼン、アミノエチルベン
ゼン、ヒドロキシメチルベンゼン、トリフルオロエチル
ベンゼン、シアノエチルベンゼン、フォルミルエチルベ
ンゼン、メトキシアミノベンゼン、４−アミノ−テトラ
フルオロピリジン、ジフルオロメチルベンゼン、ジフル
オロベンゼン、メトキシベンゼン、アミノシクロヘキサ
ン、アミノシクロペンタン、シクロヘキサンカルボン
酸、ヒドロキシシクロヘキサン、フルオロメチルシクロ
へキサン、シアノシクロヘキサンおよびフォルミルシク
ロヘキサンである。
【００１４】また、本発明において、分極性基として特
に好ましい基は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−ＮＨ
−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−ＮＨ2、＝Ｎ−、−Ｆお
よび−ＮＯ2（式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−
１０のアルキル基である）である。
に好ましい基は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−ＮＨ
−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−ＮＨ2、＝Ｎ−、−Ｆお
よび−ＮＯ2（式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−
１０のアルキル基である）である。
【００１５】本発明の配向膜において用いられる高分子
（Ａ）は、好ましくは、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリウレタンであり、よ
り好ましくはフッ素またはシロキサン基を有する。さら
に好ましい高分子（Ａ）は、ポリアラミドシロキサン化
合物である。
（Ａ）は、好ましくは、ポリイミド、ポリアミド、ポリ
エーテル、ポリエステルまたはポリウレタンであり、よ
り好ましくはフッ素またはシロキサン基を有する。さら
に好ましい高分子（Ａ）は、ポリアラミドシロキサン化
合物である。
【００１６】さらに、本発明は、ネマチック液晶表示素
子用の配向膜を製造する方法であって、配向処理後に該
配向膜の一部または全体に紫外線または電子線を照射す
ることにより、配向膜の配向方向を配向処理後の配向方
向から約９０°回転させることを特徴とする方法を提供
する。
子用の配向膜を製造する方法であって、配向処理後に該
配向膜の一部または全体に紫外線または電子線を照射す
ることにより、配向膜の配向方向を配向処理後の配向方
向から約９０°回転させることを特徴とする方法を提供
する。
【００１７】さらに、本発明は、透明電極上に配向膜が
形成された一対の基板を配向膜側を内側に配置し、これ
らの上下基板によってネマチック液晶が挟持された液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板上に上述の本
発明の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表
示素子を提供する。
形成された一対の基板を配向膜側を内側に配置し、これ
らの上下基板によってネマチック液晶が挟持された液晶
表示素子において、少なくとも一方の基板上に上述の本
発明の配向膜が形成されていることを特徴とする液晶表
示素子を提供する。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明にしたがえば、配向膜の表
面に部分的に紫外線あるいは電子線を照射することによ
って、照射された部分の配向膜の配向方向を、配向処理
された方向より約９０°、具体的には８５〜９５°回転
させることができる。ここで、配向膜の配向方向とは、
配向膜の表面において液晶を配向させようとする方向を
いう。従って、例えば、図１の様に、各々上下の基板で
照射部分と未照射部分とを組み合わせることによって、
一つの画素中に、基板間に挟持される液晶の配向方向が
約９０°異なる、すなわち視角方向が約９０°異なる２
つの領域ができ、視角を広げることができる。
面に部分的に紫外線あるいは電子線を照射することによ
って、照射された部分の配向膜の配向方向を、配向処理
された方向より約９０°、具体的には８５〜９５°回転
させることができる。ここで、配向膜の配向方向とは、
配向膜の表面において液晶を配向させようとする方向を
いう。従って、例えば、図１の様に、各々上下の基板で
照射部分と未照射部分とを組み合わせることによって、
一つの画素中に、基板間に挟持される液晶の配向方向が
約９０°異なる、すなわち視角方向が約９０°異なる２
つの領域ができ、視角を広げることができる。
【００１９】本発明において、紫外線あるいは電子線を
照射することによって照射された部分の配向膜の配向方
向が配向処理された方向より約９０°回転するような配
向膜材料としては、例えば、ポリビニルシンナメートの
ように分子鎖中に不飽和結合を有する感光性高分子を用
いることができる。これらの高分子は、配向処理後紫外
線を照射することによって二量化反応あるいは異性化反
応が起こり、その配向方向が約９０°回転する。
照射することによって照射された部分の配向膜の配向方
向が配向処理された方向より約９０°回転するような配
向膜材料としては、例えば、ポリビニルシンナメートの
ように分子鎖中に不飽和結合を有する感光性高分子を用
いることができる。これらの高分子は、配向処理後紫外
線を照射することによって二量化反応あるいは異性化反
応が起こり、その配向方向が約９０°回転する。
【００２０】あるいは、本発明の配向膜は、配向処理後
紫外線あるいは電子線の照射によって、配向処理方向に
液晶を配向させようとする高分子化合物（高分子
（Ａ））および配向処理方向より約９０°回転した方向
に液晶を配向させようとする性質を有する高分子化合物
（高分子（Ｂ））を混合することによって得ることがで
きる。
紫外線あるいは電子線の照射によって、配向処理方向に
液晶を配向させようとする高分子化合物（高分子
（Ａ））および配向処理方向より約９０°回転した方向
に液晶を配向させようとする性質を有する高分子化合物
（高分子（Ｂ））を混合することによって得ることがで
きる。
【００２１】高分子（Ａ）と（Ｂ）を適当な混合比で混
ぜ合わせることによって、配向膜の配向方向が、配向処
理後は配向処理方向でありかつ紫外線あるいは電子線を
照射後は配向処理方向から約９０°回転した方向である
ような配向膜を形成することができる。すなわち、高分
子（Ａ）と（Ｂ）の組み合わせおよびその混合比を適切
に選択することにより、配向処理後は高分子（Ａ）によ
る配向が支配的となり、紫外線あるいは電子線の照射後
は高分子（Ｂ）による配向が支配的となるような配向膜
を製造することができる。本発明の配向膜を用いると、
配向処理後は、高分子（Ｂ）の配向規制力が高分子
（Ａ）の配向規制力よりも弱い為、液晶は配向処理方向
に配向する。一方、紫外線あるいは電子線の照射によっ
て、高分子（Ａ）の配向規制力は弱まり、高分子（Ｂ）
の配向規制力が強まる為、配向膜の配向方向は配向処理
方向から約９０°回転した方向になる。
ぜ合わせることによって、配向膜の配向方向が、配向処
理後は配向処理方向でありかつ紫外線あるいは電子線を
照射後は配向処理方向から約９０°回転した方向である
ような配向膜を形成することができる。すなわち、高分
子（Ａ）と（Ｂ）の組み合わせおよびその混合比を適切
に選択することにより、配向処理後は高分子（Ａ）によ
る配向が支配的となり、紫外線あるいは電子線の照射後
は高分子（Ｂ）による配向が支配的となるような配向膜
を製造することができる。本発明の配向膜を用いると、
配向処理後は、高分子（Ｂ）の配向規制力が高分子
（Ａ）の配向規制力よりも弱い為、液晶は配向処理方向
に配向する。一方、紫外線あるいは電子線の照射によっ
て、高分子（Ａ）の配向規制力は弱まり、高分子（Ｂ）
の配向規制力が強まる為、配向膜の配向方向は配向処理
方向から約９０°回転した方向になる。
【００２２】高分子（Ａ）としては、配向処理方向と同
じ方向に配向する材料であって、かつ紫外線などを照射
することにより配向規制力が低下する材料が適してい
る。したがって、高分子（Ａ）としては、特に限定され
るものではないが、ポリイミド、ポリアミド、ポリエー
テル、ポリエステル、ポリウレタン等の主鎖型の高分子
が好ましい。より好ましくはポリイミドまたはポリアミ
ドであり、特に、フッ素、シロキサン基を含有するポリ
イミドまたはポリアミドが好ましい。
じ方向に配向する材料であって、かつ紫外線などを照射
することにより配向規制力が低下する材料が適してい
る。したがって、高分子（Ａ）としては、特に限定され
るものではないが、ポリイミド、ポリアミド、ポリエー
テル、ポリエステル、ポリウレタン等の主鎖型の高分子
が好ましい。より好ましくはポリイミドまたはポリアミ
ドであり、特に、フッ素、シロキサン基を含有するポリ
イミドまたはポリアミドが好ましい。
【００２３】また、高分子（Ｂ）としては、例えば、ポ
リスチレン、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルノルボルネン、ポリビ
ニルブチルスチレン、ポリシクロヘキシルアクリレー
ト、ポリシクロヘキシルメタクリレート等の様に、側鎖
に嵩高い基を有するポリビニル、ポリメタクリレートお
よびポリアクリレート等を挙げることができる。好まし
いものとしては、ポリアセナフチレン、ポリビニルジフ
ェニル、ポリビニルナフタレン、ポリビニルフォルマ
ル、ポリビニルピリジン−Ｎ−オキサイド、ポリフェニ
ルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニ
ルトルエン等が挙げられる。また、さらに、ポリビニル
シンナメートも用いることができる。これらの高分子
（Ｂ）は、紫外線等の照射後も均一な配向が得られる。
また、材料によっては、配向処理による配向が弱くほと
んど無配向に近いが、紫外線等の照射によって均一な配
向を得ることができる。紫外線等の照射によってなぜ均
一な液晶配向が得られるのかは、現在のところ不明であ
るが、紫外線等のエネルギー線を照射することによっ
て、高分子の分子鎖が配向処理方向に再配列するのでは
ないかと考えられる。あるいは、化学構造によっては、
重合や架橋が起きる場合もありうる。また、これらの側
鎖型高分子の側鎖末端をビニル基あるいはアクリレート
基等で置換し、紫外線照射とともに架橋させ配向を固定
化させてもよい。
リスチレン、ポリシクロヘキシルメタクリレート、ポリ
ビニルアントラセン、ポリビニルノルボルネン、ポリビ
ニルブチルスチレン、ポリシクロヘキシルアクリレー
ト、ポリシクロヘキシルメタクリレート等の様に、側鎖
に嵩高い基を有するポリビニル、ポリメタクリレートお
よびポリアクリレート等を挙げることができる。好まし
いものとしては、ポリアセナフチレン、ポリビニルジフ
ェニル、ポリビニルナフタレン、ポリビニルフォルマ
ル、ポリビニルピリジン−Ｎ−オキサイド、ポリフェニ
ルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニ
ルトルエン等が挙げられる。また、さらに、ポリビニル
シンナメートも用いることができる。これらの高分子
（Ｂ）は、紫外線等の照射後も均一な配向が得られる。
また、材料によっては、配向処理による配向が弱くほと
んど無配向に近いが、紫外線等の照射によって均一な配
向を得ることができる。紫外線等の照射によってなぜ均
一な液晶配向が得られるのかは、現在のところ不明であ
るが、紫外線等のエネルギー線を照射することによっ
て、高分子の分子鎖が配向処理方向に再配列するのでは
ないかと考えられる。あるいは、化学構造によっては、
重合や架橋が起きる場合もありうる。また、これらの側
鎖型高分子の側鎖末端をビニル基あるいはアクリレート
基等で置換し、紫外線照射とともに架橋させ配向を固定
化させてもよい。
【００２４】より好ましくは、高分子（Ｂ）は、嵩高い
基を有する側鎖にさらに分極性を有する基を有する。分
極性を有する場合、配向性が向上する。このような高分
子（Ｂ）としては、例えば、ポリビニルベンジルヘキサ
フルオロイソプロピルエーテル、ポリビニルピリジン、
ポリビニルピリジン−Ｎ−オキサイド、ポリビニルカル
バゾール、ポリビニルメチルケトン、ポリビニルピリジ
ン−ジビニルベンゼン、ポリビニル（１−メトキシ）−
ｐ−カルボキシフェニルカルバルデヒド、ポリビニルク
ロロアセテート、ポリビニルアセテート、ポリビニルベ
ンジルクロライド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニ
ルフタルイミド、ポリビニル安息香酸、ポリビニルアミ
ノベンゼン、ポリビニルフェノール、ポリビニルシクロ
ヘキシルアミン、ポリビニルナフチルアミン、ポリビニ
ルベンジルアミン、ポリビニルジメチルシクロヘキシル
アミン、ポリビニルフェニルキノリナミン、ポリビニル
キノリンカルボキサミド、ポリビニル−β−カルボリ
ン、ポリビニルシンノリン、ポリビニルキナゾリン、ポ
リビニルプリン、ポリビニルイソキノリン、ポリビニル
キノリン、ポリビニルキノキサリン、ポリビニルフタラ
ジン、ポリビニルナフチリジン、ポリビニルイソインド
ール、ポリビニルインドール、ポリビニルピリダジン、
ポリビニルオキソラン、ポリビニル−２−フラルデヒ
ド、ポリビニルインデン−１−オン、ポリビニルフルオ
レン−９−オン、ポリビニル−２−ピリドン、ポリビニ
ル−２−キノロン、ポリビニル−９−カルボニルフルオ
レン、ポリビニルチオフェン、ポリビニルアクリジン、
ポリビニルフェニルピリジン、ポリビニルフルオロフェ
ニルピリジン、ポリビニルフルオロベンゼン、ポリビニ
ルフルオロメチルベンゼン、ポリビニル−ｏ−トリフル
オロメチルアニリン、ポリビニルペンタフルオロベンゼ
ン、ポリビニル−ｏ−メトキシベンズアルデヒド、ポリ
ビニルシアノベンゼン、ポリビニルメチルカルバモイル
ベンゼン、ポリビニルカルバモイルイミダゾール、ポリ
ビニルクロロベンゼン、ポリビニルニトロベンゼン、ポ
リビニルニトロナフタレン、ポリビニルアミノナフタレ
ン、ポリビニルスルホベンゼン、ポリビニルアミノピリ
ジン、ポリビニルカルボキシピリジン、ポリビニルヒド
ロキシベンゼン、ポリビニルヒドロキシピリジン、ポリ
ビニルフルオロメチルピリジン、ポリビニルフォルミル
ベンゼン、ポリビニルアミノエチルベンゼン、ポリビニ
ルヒドロキシメチルベンゼン、ポリビニルトリフルオロ
エチルベンゼン、ポリビニルシアノエチルベンゼン、ポ
リビニルフォルミルエチルベンゼン、ポリビニルメトキ
シアミノベンゼン、ポリビニル−４−アミノ−テトラフ
ルオロピリジン、ポリビニルジフルオロメチルベンゼ
ン、ポリビニルジフルオロベンゼン、ポリビニルメトキ
シベンゼン、ポリビニルアミノシクロヘキサン、ポリビ
ニルアミノシクロペンタン、ポリビニルシクロヘキサン
カルボン酸、ポリビニルヒドロキシシクロヘキサン、ポ
リビニルフルオロメチルシクロへキサン、ポリビニルシ
アノシクロヘキサン、ポリビニルフォルミルシクロヘキ
サン等が挙げられる。
基を有する側鎖にさらに分極性を有する基を有する。分
極性を有する場合、配向性が向上する。このような高分
子（Ｂ）としては、例えば、ポリビニルベンジルヘキサ
フルオロイソプロピルエーテル、ポリビニルピリジン、
ポリビニルピリジン−Ｎ−オキサイド、ポリビニルカル
バゾール、ポリビニルメチルケトン、ポリビニルピリジ
ン−ジビニルベンゼン、ポリビニル（１−メトキシ）−
ｐ−カルボキシフェニルカルバルデヒド、ポリビニルク
ロロアセテート、ポリビニルアセテート、ポリビニルベ
ンジルクロライド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニ
ルフタルイミド、ポリビニル安息香酸、ポリビニルアミ
ノベンゼン、ポリビニルフェノール、ポリビニルシクロ
ヘキシルアミン、ポリビニルナフチルアミン、ポリビニ
ルベンジルアミン、ポリビニルジメチルシクロヘキシル
アミン、ポリビニルフェニルキノリナミン、ポリビニル
キノリンカルボキサミド、ポリビニル−β−カルボリ
ン、ポリビニルシンノリン、ポリビニルキナゾリン、ポ
リビニルプリン、ポリビニルイソキノリン、ポリビニル
キノリン、ポリビニルキノキサリン、ポリビニルフタラ
ジン、ポリビニルナフチリジン、ポリビニルイソインド
ール、ポリビニルインドール、ポリビニルピリダジン、
ポリビニルオキソラン、ポリビニル−２−フラルデヒ
ド、ポリビニルインデン−１−オン、ポリビニルフルオ
レン−９−オン、ポリビニル−２−ピリドン、ポリビニ
ル−２−キノロン、ポリビニル−９−カルボニルフルオ
レン、ポリビニルチオフェン、ポリビニルアクリジン、
ポリビニルフェニルピリジン、ポリビニルフルオロフェ
ニルピリジン、ポリビニルフルオロベンゼン、ポリビニ
ルフルオロメチルベンゼン、ポリビニル−ｏ−トリフル
オロメチルアニリン、ポリビニルペンタフルオロベンゼ
ン、ポリビニル−ｏ−メトキシベンズアルデヒド、ポリ
ビニルシアノベンゼン、ポリビニルメチルカルバモイル
ベンゼン、ポリビニルカルバモイルイミダゾール、ポリ
ビニルクロロベンゼン、ポリビニルニトロベンゼン、ポ
リビニルニトロナフタレン、ポリビニルアミノナフタレ
ン、ポリビニルスルホベンゼン、ポリビニルアミノピリ
ジン、ポリビニルカルボキシピリジン、ポリビニルヒド
ロキシベンゼン、ポリビニルヒドロキシピリジン、ポリ
ビニルフルオロメチルピリジン、ポリビニルフォルミル
ベンゼン、ポリビニルアミノエチルベンゼン、ポリビニ
ルヒドロキシメチルベンゼン、ポリビニルトリフルオロ
エチルベンゼン、ポリビニルシアノエチルベンゼン、ポ
リビニルフォルミルエチルベンゼン、ポリビニルメトキ
シアミノベンゼン、ポリビニル−４−アミノ−テトラフ
ルオロピリジン、ポリビニルジフルオロメチルベンゼ
ン、ポリビニルジフルオロベンゼン、ポリビニルメトキ
シベンゼン、ポリビニルアミノシクロヘキサン、ポリビ
ニルアミノシクロペンタン、ポリビニルシクロヘキサン
カルボン酸、ポリビニルヒドロキシシクロヘキサン、ポ
リビニルフルオロメチルシクロへキサン、ポリビニルシ
アノシクロヘキサン、ポリビニルフォルミルシクロヘキ
サン等が挙げられる。
【００２５】ポリビニル化合物中のビニル基をアクリル
またはメタクリル基にかえたポリアクリレートやポリメ
タクリレートも（Ｂ）の具体例として挙げられる。
またはメタクリル基にかえたポリアクリレートやポリメ
タクリレートも（Ｂ）の具体例として挙げられる。
【００２６】本発明において、好ましくは高分子（Ｂ）
は、嵩高基および／または分極性基を有するモノマー単
位を少なくとも部分的に含んでいればよく、ホモポリマ
ーであってもよいし、別のモノマー単位とのコポリマー
であってもよい。
は、嵩高基および／または分極性基を有するモノマー単
位を少なくとも部分的に含んでいればよく、ホモポリマ
ーであってもよいし、別のモノマー単位とのコポリマー
であってもよい。
【００２７】高分子（Ｂ）は、紫外線を照射せずに通常
の配向膜として用いることもできる。
の配向膜として用いることもできる。
【００２８】高分子（Ｂ）の分子量は、１，０００−９
００，０００が好ましい。より好ましくは１０，０００
−５００，０００の分子量である。高分子（Ｂ）のＴｇ
は、良好な液晶配向性のために、１００℃以上が好まし
い。より好ましくは１２０℃以上である。
００，０００が好ましい。より好ましくは１０，０００
−５００，０００の分子量である。高分子（Ｂ）のＴｇ
は、良好な液晶配向性のために、１００℃以上が好まし
い。より好ましくは１２０℃以上である。
【００２９】高分子（Ａ）と高分子（Ｂ）の適切な混合
比および紫外線等の照射量は、これらの高分子の配向規
制力の差によって決まる。高分子（Ａ）と高分子（Ｂ）
の混合比は、１：５０から５０：１の範囲が好ましい。
高分子（Ａ）の量が多すぎると、紫外線等を照射しても
高分子（Ａ）の配向規制力の方が常に支配的になり、配
向方向が約９０°回転しない。高分子（Ａ）および高分
子（Ｂ）は、それぞれ２種類以上用いてもよい。また、
紫外線等の照射量としては、０．０１ｍＪから５０Ｊが
好ましい。さらに好ましくは、０．１ｍＪから１０Ｊで
ある。紫外線等の照射量が多すぎると、高分子の酸化が
起こり配向が乱される。紫外線等の波長は、好ましくは
１５０から４５０ｎｍであり、より好ましくは２００−
４００ｎｍである。
比および紫外線等の照射量は、これらの高分子の配向規
制力の差によって決まる。高分子（Ａ）と高分子（Ｂ）
の混合比は、１：５０から５０：１の範囲が好ましい。
高分子（Ａ）の量が多すぎると、紫外線等を照射しても
高分子（Ａ）の配向規制力の方が常に支配的になり、配
向方向が約９０°回転しない。高分子（Ａ）および高分
子（Ｂ）は、それぞれ２種類以上用いてもよい。また、
紫外線等の照射量としては、０．０１ｍＪから５０Ｊが
好ましい。さらに好ましくは、０．１ｍＪから１０Ｊで
ある。紫外線等の照射量が多すぎると、高分子の酸化が
起こり配向が乱される。紫外線等の波長は、好ましくは
１５０から４５０ｎｍであり、より好ましくは２００−
４００ｎｍである。
【００３０】本発明の配向膜を上下基板で配向処理方向
が互いに９０°となるように組み合わせてセルを作成す
ると、紫外線等による照射をしない場合には通常のＴＮ
配向が得られ、照射を施した場合には通常の配向から約
９０°回転した視角を持つＴＮ配向が得られる。したが
って、部分的に紫外線を照射することにより、１画素内
に通常のＴＮと同じ視角を有する領域とそれから約９０
°回転した視角を持つ領域とが形成され、このことによ
り液晶表示素子の視角依存性を低減することができる。
が互いに９０°となるように組み合わせてセルを作成す
ると、紫外線等による照射をしない場合には通常のＴＮ
配向が得られ、照射を施した場合には通常の配向から約
９０°回転した視角を持つＴＮ配向が得られる。したが
って、部分的に紫外線を照射することにより、１画素内
に通常のＴＮと同じ視角を有する領域とそれから約９０
°回転した視角を持つ領域とが形成され、このことによ
り液晶表示素子の視角依存性を低減することができる。
【００３１】さらに、本発明の配向膜を用いることによ
って、視野角を３方向に広げることができる。例えば、
液晶セルの上下基板の一方の配向膜だけに紫外線等を照
射した場合、一方の基板の配向膜の配向方向のみが約９
０°回転する。この時、上下基板の配向規制力あるいは
プレティルト角の差が十分にあれば、液晶の配向は配向
規制力の強い方あるいはプレティルト角の高い方の基板
によってのみ規制される。従って、上下基板に部分的に
紫外線等を照射することによって、視角方向の異なる３
種類の領域を形成し、視角を３方向に広げることができ
る。例えば、図２のように、上基板のみ紫外線等を照射
した領域、上下基板とも照射した領域、下基板のみ照射
した領域の３つの領域を形成すれば、それぞれ隣り合う
領域において視角方向が方位で約９０°回転した３つの
領域ができ、視角が広がる。図２の場合は、未照射部分
の方が照射部分より配向規制力が強い場合あるいはプレ
ティルト角が高い場合を示すが、照射部分の方が配向規
制力が強い場合あるいはプレティルト角が高い場合も同
様に視野角を広げることができる。
って、視野角を３方向に広げることができる。例えば、
液晶セルの上下基板の一方の配向膜だけに紫外線等を照
射した場合、一方の基板の配向膜の配向方向のみが約９
０°回転する。この時、上下基板の配向規制力あるいは
プレティルト角の差が十分にあれば、液晶の配向は配向
規制力の強い方あるいはプレティルト角の高い方の基板
によってのみ規制される。従って、上下基板に部分的に
紫外線等を照射することによって、視角方向の異なる３
種類の領域を形成し、視角を３方向に広げることができ
る。例えば、図２のように、上基板のみ紫外線等を照射
した領域、上下基板とも照射した領域、下基板のみ照射
した領域の３つの領域を形成すれば、それぞれ隣り合う
領域において視角方向が方位で約９０°回転した３つの
領域ができ、視角が広がる。図２の場合は、未照射部分
の方が照射部分より配向規制力が強い場合あるいはプレ
ティルト角が高い場合を示すが、照射部分の方が配向規
制力が強い場合あるいはプレティルト角が高い場合も同
様に視野角を広げることができる。
【００３２】さらに、本発明の配向膜を用いることによ
って、視野角を４方向に広げることができる。上下基板
とも紫外線等を照射する領域において（図２中央の領
域）、上下基板に照射する量を変えることによって、上
下基板の配向規制力あるいはプレティルト角に差を発生
せしめることができる。この時、液晶の配向は、上下基
板のうち配向規制力が強い基板あるいはプレティルト角
が大きい方の基板によって規制される。したがって、上
下基板に対する紫外線の照射量を変えることによって、
上基板の方が下基板よりも配向規制力が強いあるいはプ
レティルト角が高い領域と、その逆の下基板の方が上基
板よりも配向規制力が強いあるいはプレティルト角が高
い領域を形成できる。この２つの異なる領域では、電圧
印加時において液晶の立ち上がり方向が互いに逆にな
り、方位で１８０°視角の異なる領域ができる。したが
って、一画素内において、この２つの領域と（図２の）
上基板のみ紫外線等を照射した領域と下基板のみ照射し
た領域の４つの領域を形成すれば、視角は４方向に広が
り、方位による視角依存性をなくすことができる。
って、視野角を４方向に広げることができる。上下基板
とも紫外線等を照射する領域において（図２中央の領
域）、上下基板に照射する量を変えることによって、上
下基板の配向規制力あるいはプレティルト角に差を発生
せしめることができる。この時、液晶の配向は、上下基
板のうち配向規制力が強い基板あるいはプレティルト角
が大きい方の基板によって規制される。したがって、上
下基板に対する紫外線の照射量を変えることによって、
上基板の方が下基板よりも配向規制力が強いあるいはプ
レティルト角が高い領域と、その逆の下基板の方が上基
板よりも配向規制力が強いあるいはプレティルト角が高
い領域を形成できる。この２つの異なる領域では、電圧
印加時において液晶の立ち上がり方向が互いに逆にな
り、方位で１８０°視角の異なる領域ができる。したが
って、一画素内において、この２つの領域と（図２の）
上基板のみ紫外線等を照射した領域と下基板のみ照射し
た領域の４つの領域を形成すれば、視角は４方向に広が
り、方位による視角依存性をなくすことができる。
【００３３】本発明の配向膜は、例えば、当業者に周知
の方法によってスピンコートないし印刷法により透明電
極付きガラス基板またはプラスティック基板上にその高
分子薄膜を形成させ、配向処理後、紫外線あるいは電子
線を照射することによって製造することができる。本発
明においては、無偏向の紫外線も用いることができ、製
造が簡便である。配向処理方法は、特に限定されないが
ラビング法が好ましい。紫外線あるいは電子線を照射す
る際にマスクを用いることにより、一画素中に視角方向
の異なる領域を形成することができる。これらの領域
は、用いるマスクのパターンによって任意にそのサイズ
および形を変えることができる。マスクのサイズは、デ
ィスプレイのサイズによって決められ、ディスプレイサ
イズと同一であってもよいし、小さいものをステッパー
を用いて使用してもよい。マスクのパターンサイズは、
一画素のサイズに応じて数十ミクロンから５００ミクロ
ン程度にすることが好ましい。
の方法によってスピンコートないし印刷法により透明電
極付きガラス基板またはプラスティック基板上にその高
分子薄膜を形成させ、配向処理後、紫外線あるいは電子
線を照射することによって製造することができる。本発
明においては、無偏向の紫外線も用いることができ、製
造が簡便である。配向処理方法は、特に限定されないが
ラビング法が好ましい。紫外線あるいは電子線を照射す
る際にマスクを用いることにより、一画素中に視角方向
の異なる領域を形成することができる。これらの領域
は、用いるマスクのパターンによって任意にそのサイズ
および形を変えることができる。マスクのサイズは、デ
ィスプレイのサイズによって決められ、ディスプレイサ
イズと同一であってもよいし、小さいものをステッパー
を用いて使用してもよい。マスクのパターンサイズは、
一画素のサイズに応じて数十ミクロンから５００ミクロ
ン程度にすることが好ましい。
【００３４】また、上下基板の配向規制力の差は、高分
子（Ａ）と高分子（Ｂ）の混合比や紫外線等の照射量に
よって調整される。上下基板の配向規制力に十分に差が
ないと、液晶はどちらの基板からも規制を受けパラレル
あるいはアンチパラレル配向になってしまう。この場合
には、液晶中のカイラル剤の量を調節し液晶のカイラル
ピッチを変えることにより、ある程度パラレルあるいは
アンチパラレル配向になるのを防ぐことができる。
子（Ａ）と高分子（Ｂ）の混合比や紫外線等の照射量に
よって調整される。上下基板の配向規制力に十分に差が
ないと、液晶はどちらの基板からも規制を受けパラレル
あるいはアンチパラレル配向になってしまう。この場合
には、液晶中のカイラル剤の量を調節し液晶のカイラル
ピッチを変えることにより、ある程度パラレルあるいは
アンチパラレル配向になるのを防ぐことができる。
【００３５】本発明の配向膜は、プレティルト角が少な
くとも０．１°以上であるものが好ましい。また、１°
以上であることがさらに好ましい。また、紫外線等の照
射によって、プレティルト角が変化するものが好まし
い。なぜなら、上下基板の一方の配向膜だけに紫外線等
を照射する場合、上下の基板間でプレティルト角に差が
あった方が、電圧印可時に液晶が立ち上がる際、逆立ち
上がりによるディスクリネーションの発生を抑えること
ができるからである。この時、上下基板間でのプレティ
ルト角の差が、０．１°以上であることが好ましい。さ
らに好ましくは、プレティルト角の差が、１°以上であ
ることが好ましい。
くとも０．１°以上であるものが好ましい。また、１°
以上であることがさらに好ましい。また、紫外線等の照
射によって、プレティルト角が変化するものが好まし
い。なぜなら、上下基板の一方の配向膜だけに紫外線等
を照射する場合、上下の基板間でプレティルト角に差が
あった方が、電圧印可時に液晶が立ち上がる際、逆立ち
上がりによるディスクリネーションの発生を抑えること
ができるからである。この時、上下基板間でのプレティ
ルト角の差が、０．１°以上であることが好ましい。さ
らに好ましくは、プレティルト角の差が、１°以上であ
ることが好ましい。
【００３６】
【実施例】以下に、実施例により本発明をより詳細に説
明する。これらの実施例は、本発明を何ら限定するもの
ではない。
明する。これらの実施例は、本発明を何ら限定するもの
ではない。
【００３７】（実施例１）ポリアラミドポリシロキサン
コポリマーとポリビニルカルバゾールを、１：１の混合
割合でＮ―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度にな
るように溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基
板上に、スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を
形成した。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイ
ロン布により一方向にラビングを行い配向処理をした。
次に、１００μｍ×１００μｍサイズの格子模様のマス
クを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で５分間紫外
線を照射した。これにより、１００μｍ×１００μｍサ
イズの紫外線を照射した領域と未照射領域の隣り合った
２つの領域を形成した。さらに、この上下の基板を、上
下で紫外線照射部同士と未照射部同士がそれぞれ重なり
合うようにして、ラビング方向の角度が互いに９０°に
なるようにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。
これに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チ
ッソ石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液
晶セルの視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未
照射部で視角方向が方位で約９０°回転しており、視角
が広がっていることがわかった。
コポリマーとポリビニルカルバゾールを、１：１の混合
割合でＮ―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度にな
るように溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基
板上に、スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を
形成した。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイ
ロン布により一方向にラビングを行い配向処理をした。
次に、１００μｍ×１００μｍサイズの格子模様のマス
クを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で５分間紫外
線を照射した。これにより、１００μｍ×１００μｍサ
イズの紫外線を照射した領域と未照射領域の隣り合った
２つの領域を形成した。さらに、この上下の基板を、上
下で紫外線照射部同士と未照射部同士がそれぞれ重なり
合うようにして、ラビング方向の角度が互いに９０°に
なるようにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。
これに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チ
ッソ石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液
晶セルの視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未
照射部で視角方向が方位で約９０°回転しており、視角
が広がっていることがわかった。
【００３８】(実施例２)下記一般式のポリイミド
【化５】 およびポリビニルカルバゾールを１：３の混合割合でＮ
―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度になるように
溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、
スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で
塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成し
た。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイロン布
により一方向にラビングを行い配向処理をした。次に、
１００μｍ×１００μｍサイズの格子模様のマスクを用
いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で上基板に５分間紫
外線を照射した。また、下基板は３分間照射した。これ
により、各々の基板に、１００μｍ×１００μｍサイズ
の紫外線照を射した領域と未照射領域の隣り合った２つ
の領域を形成した。さらに、この上下の基板を上下で紫
外線照射部同士と未照射部同士がそれぞれ重なり合うよ
うにして、ラビング方向の角度が互いに９０°になるよ
うにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これ
に、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ
石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セ
ルの視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未照射
部で視角方向が方位で約９０°回転しており視角が広が
っていることがわかった。
―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度になるように
溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、
スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で
塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成し
た。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイロン布
により一方向にラビングを行い配向処理をした。次に、
１００μｍ×１００μｍサイズの格子模様のマスクを用
いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で上基板に５分間紫
外線を照射した。また、下基板は３分間照射した。これ
により、各々の基板に、１００μｍ×１００μｍサイズ
の紫外線照を射した領域と未照射領域の隣り合った２つ
の領域を形成した。さらに、この上下の基板を上下で紫
外線照射部同士と未照射部同士がそれぞれ重なり合うよ
うにして、ラビング方向の角度が互いに９０°になるよ
うにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これ
に、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ
石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セ
ルの視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未照射
部で視角方向が方位で約９０°回転しており視角が広が
っていることがわかった。
【００３９】(実施例３)下記一般式のポリアラミドポリ
シロキサンブロックコポリマー：
シロキサンブロックコポリマー：
【化６】 ［ｍ＝３８，ｘ＝８５］およびポリビニル４―ピリジン
を１：４の混合割合でＮ―メチルピロリドンに２．５重
量％の濃度になるように溶解した。この溶液を、透明電
極付きガラス基板上に、スピナーにより２０００ｒ．
ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾
燥し高分子薄膜を形成した。膜厚は、約５０ｎｍであっ
た。その後、ナイロン布により一方向にラビングを行い
配向処理をした。次に、１００μｍ×３００μｍサイズ
の穴のあいたマスクを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ラン
プ下で紫外線を部分的に照射した。上基板は、１００μ
ｍ×３００μｍサイズの未照射部分、１分間照射部分、
１０秒間照射部分の３種類の領域が隣り合う様に紫外線
を照射した。一方、下基板は、同様に１０秒間照射部
分、５分間照射部分、未照射部分の３種類の領域が隣り
合う様に紫外線を照射した。さらに、この上下の基板を
上下で、未照射部分と１０秒間照射部分同士、１分間照
射部分と５分間照射部分同士がそれぞれ重なり合うよう
にして、ラビング方向の角度が互いに９０°になるよう
にセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、
カイラルピッチを右ねじ方向で２２μｍに調整したネマ
チック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学
社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角
特性を評価したところ、上下基板の紫外線照射量の異な
る３つの領域の視角方向は、隣り合う領域において互い
に方位で約９０°回転しており、３方向に視角が広がっ
ていることがわかった。
を１：４の混合割合でＮ―メチルピロリドンに２．５重
量％の濃度になるように溶解した。この溶液を、透明電
極付きガラス基板上に、スピナーにより２０００ｒ．
ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾
燥し高分子薄膜を形成した。膜厚は、約５０ｎｍであっ
た。その後、ナイロン布により一方向にラビングを行い
配向処理をした。次に、１００μｍ×３００μｍサイズ
の穴のあいたマスクを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ラン
プ下で紫外線を部分的に照射した。上基板は、１００μ
ｍ×３００μｍサイズの未照射部分、１分間照射部分、
１０秒間照射部分の３種類の領域が隣り合う様に紫外線
を照射した。一方、下基板は、同様に１０秒間照射部
分、５分間照射部分、未照射部分の３種類の領域が隣り
合う様に紫外線を照射した。さらに、この上下の基板を
上下で、未照射部分と１０秒間照射部分同士、１分間照
射部分と５分間照射部分同士がそれぞれ重なり合うよう
にして、ラビング方向の角度が互いに９０°になるよう
にセルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、
カイラルピッチを右ねじ方向で２２μｍに調整したネマ
チック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学
社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角
特性を評価したところ、上下基板の紫外線照射量の異な
る３つの領域の視角方向は、隣り合う領域において互い
に方位で約９０°回転しており、３方向に視角が広がっ
ていることがわかった。
【００４０】（実施例４）下記一般式で示されるポリマ
ー：
ー：
【化７】 およびポリ（スチレン−ビニル（１−メトキシ）−ｐ−
フェニルカルバルデヒド）コポリマーを１：７の混合割
合で、Ｎ―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度にな
るように溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基
板上に、スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を
形成した。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイ
ロン布により一方向にラビングを行い配向処理をした。
次に、１００μｍ×３００μｍサイズの穴のあいたマス
クを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を部
分的に照射した。上基板は、１００μｍ×３００μｍサ
イズの未照射部分、未照射部分、５分間照射部分の３種
類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射した。一方、
下基板は、同様に５分間照射部分、未照射部分、未照射
部分の３種類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射し
た。さらに、この上下の基板を上下で、未照射部分同士
と５分間照射部分同士がそれぞれ重なり合うようにし
て、ラビング方向の角度が互いに９０°になるようにセ
ルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、カイ
ラルピッチを左ねじ方向で２２μｍに調整したネマチッ
ク液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学社
製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角特
性を評価したところ、上下基板の紫外線照射量の異なる
３つの領域の視角方向は、隣り合う領域において互いに
方位で約９０°回転しており、３方向に視角が広がって
いることがわかった。
フェニルカルバルデヒド）コポリマーを１：７の混合割
合で、Ｎ―メチルピロリドンに２．５重量％の濃度にな
るように溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基
板上に、スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を
形成した。膜厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイ
ロン布により一方向にラビングを行い配向処理をした。
次に、１００μｍ×３００μｍサイズの穴のあいたマス
クを用いて、１０５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を部
分的に照射した。上基板は、１００μｍ×３００μｍサ
イズの未照射部分、未照射部分、５分間照射部分の３種
類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射した。一方、
下基板は、同様に５分間照射部分、未照射部分、未照射
部分の３種類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射し
た。さらに、この上下の基板を上下で、未照射部分同士
と５分間照射部分同士がそれぞれ重なり合うようにし
て、ラビング方向の角度が互いに９０°になるようにセ
ルギャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、カイ
ラルピッチを左ねじ方向で２２μｍに調整したネマチッ
ク液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学社
製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角特
性を評価したところ、上下基板の紫外線照射量の異なる
３つの領域の視角方向は、隣り合う領域において互いに
方位で約９０°回転しており、３方向に視角が広がって
いることがわかった。
【００４１】（実施例５）実施例３で用いたポリアラミ
ドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルナフ
タレンを１：５の混合割合でＮ―メチルピロリドンに
２．５重量％の濃度になるように溶解した。さらに、実
施例３と同様にして液晶セルを作製し、ネマチック液晶
（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注
入し、熱処理を行った。その視角特性を評価したとこ
ろ、上下基板の紫外線照射量の異なる３つの領域の視角
方向は、隣り合う領域において互いに方位で約９０°回
転しており、３方向に視角が広がっていることがわかっ
た。
ドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルナフ
タレンを１：５の混合割合でＮ―メチルピロリドンに
２．５重量％の濃度になるように溶解した。さらに、実
施例３と同様にして液晶セルを作製し、ネマチック液晶
（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注
入し、熱処理を行った。その視角特性を評価したとこ
ろ、上下基板の紫外線照射量の異なる３つの領域の視角
方向は、隣り合う領域において互いに方位で約９０°回
転しており、３方向に視角が広がっていることがわかっ
た。
【００４２】（実施例６）実施例１で用いたポリアラミ
ドポリシロキサンコポリマーとポリビニルピリジン−Ｎ
−オキサイドを１：１０の混合割合でＮ―メチルピロリ
ドンに２．５重量％の濃度になるように溶解した。この
溶液を、透明電極付きガラス基板上に、スピナーにより
２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布し、１８０
℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成した。膜厚は、約５
０ｎｍであった。その後、ナイロン布により一方向にラ
ビングを行い配向処理をした。次に、１００μｍ×１０
０μｍサイズの穴のあいたマスクを用いて、１０５Ｗの
高圧水銀ランプ下で紫外線を部分的に照射した。上基板
は、１００μｍ×１００μｍサイズの未照射部分、３分
間照射部分、３分間照射部分、５分間照射部分の４種類
の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射した。一方、下
基板は、同様に３分間照射部分、５分間照射部分、未照
射部分、３分間照射部分の４種類の領域が順に隣り合う
様に紫外線を照射した。さらに、この上下の基板を上下
で、未照射部分と３分間照射部分同士、５分間照射部分
と３分間照射部分同士が互いに重なり合うようにして、
ラビング方向の角度が互いに９０°になるようにセルギ
ャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、カイラル
ピッチを右ねじ方向で２２μｍに調整したネマチック液
晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学社製）を
注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角特性を評
価したところ、上下基板の紫外線照射量の異なる４つの
領域の視角方向は、隣り合う領域において互いに方位で
約９０°回転しており４方向に視角が広がっていること
がわかった。
ドポリシロキサンコポリマーとポリビニルピリジン−Ｎ
−オキサイドを１：１０の混合割合でＮ―メチルピロリ
ドンに２．５重量％の濃度になるように溶解した。この
溶液を、透明電極付きガラス基板上に、スピナーにより
２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布し、１８０
℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成した。膜厚は、約５
０ｎｍであった。その後、ナイロン布により一方向にラ
ビングを行い配向処理をした。次に、１００μｍ×１０
０μｍサイズの穴のあいたマスクを用いて、１０５Ｗの
高圧水銀ランプ下で紫外線を部分的に照射した。上基板
は、１００μｍ×１００μｍサイズの未照射部分、３分
間照射部分、３分間照射部分、５分間照射部分の４種類
の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射した。一方、下
基板は、同様に３分間照射部分、５分間照射部分、未照
射部分、３分間照射部分の４種類の領域が順に隣り合う
様に紫外線を照射した。さらに、この上下の基板を上下
で、未照射部分と３分間照射部分同士、５分間照射部分
と３分間照射部分同士が互いに重なり合うようにして、
ラビング方向の角度が互いに９０°になるようにセルギ
ャップ５μｍの液晶セルを作製した。これに、カイラル
ピッチを右ねじ方向で２２μｍに調整したネマチック液
晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チッソ石油化学社製）を
注入し、熱処理を行った。この液晶セルの視角特性を評
価したところ、上下基板の紫外線照射量の異なる４つの
領域の視角方向は、隣り合う領域において互いに方位で
約９０°回転しており４方向に視角が広がっていること
がわかった。
【００４３】（実施例７）実施例４で用いたポリアミド
とポリビニル４−ピリジンを１：５の混合割合でＮ―メ
チルピロリドンに２．５重量％の濃度になるように溶解
した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、スピ
ナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布
し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成した。膜
厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイロン布により
一方向にラビングを行い配向処理をした。次に、１００
μｍ×５０μｍサイズの穴のあいたマスクを用いて、１
０５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を部分的に照射し
た。上基板は、１００μｍ×５０μｍサイズの未照射部
分、１分間照射部分、１０秒間照射部分、３分間照射部
分の４種類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射し
た。一方、下基板は、同様に１０秒間照射部分、３分間
照射部分、未照射部分、１分間照射部分の４種類の領域
が順に隣り合う様に紫外線を照射した。さらに、この上
下の基板を上下で、未照射部分と１０秒間照射部分同
士、１分間照射部分と３分間照射部分同士がそれぞれ重
なり合うようにして、ラビング方向の角度が互いに９０
°になるようにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製し
た。これに、カイラルピッチを右ねじ方向で２２μｍに
調整したネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チ
ッソ石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液
晶セルの視角特性を評価したところ、上下基板の紫外線
照射量の異なる４つの領域の視角方向は、隣り合う領域
において互いに方位で約９０°回転しており、４方向に
視角が広がっていることがわかった。
とポリビニル４−ピリジンを１：５の混合割合でＮ―メ
チルピロリドンに２．５重量％の濃度になるように溶解
した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、スピ
ナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で塗布
し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成した。膜
厚は、約５０ｎｍであった。その後、ナイロン布により
一方向にラビングを行い配向処理をした。次に、１００
μｍ×５０μｍサイズの穴のあいたマスクを用いて、１
０５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を部分的に照射し
た。上基板は、１００μｍ×５０μｍサイズの未照射部
分、１分間照射部分、１０秒間照射部分、３分間照射部
分の４種類の領域が順に隣り合う様に紫外線を照射し
た。一方、下基板は、同様に１０秒間照射部分、３分間
照射部分、未照射部分、１分間照射部分の４種類の領域
が順に隣り合う様に紫外線を照射した。さらに、この上
下の基板を上下で、未照射部分と１０秒間照射部分同
士、１分間照射部分と３分間照射部分同士がそれぞれ重
なり合うようにして、ラビング方向の角度が互いに９０
°になるようにセルギャップ５μｍの液晶セルを作製し
た。これに、カイラルピッチを右ねじ方向で２２μｍに
調整したネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＸＸ、チ
ッソ石油化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液
晶セルの視角特性を評価したところ、上下基板の紫外線
照射量の異なる４つの領域の視角方向は、隣り合う領域
において互いに方位で約９０°回転しており、４方向に
視角が広がっていることがわかった。
【００４４】（実施例８）ポリビニルシンナメートをＮ
−メチルピロリドンに３．０重量％の濃度になるように
溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、
スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で
塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成し
た。さらに、実施例２と同様にして液晶セルを作製し、
ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ石油
化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの
視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未照射部で
視角方向が方位で約９０°回転しており、視角が広がっ
ていることがわかった。
−メチルピロリドンに３．０重量％の濃度になるように
溶解した。この溶液を、透明電極付きガラス基板上に、
スピナーにより２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で
塗布し、１８０℃で１時間乾燥し高分子薄膜を形成し
た。さらに、実施例２と同様にして液晶セルを作製し、
ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４３ＬＣ、チッソ石油
化学社製）を注入し、熱処理を行った。この液晶セルの
視角特性を評価したところ、紫外線照射部と未照射部で
視角方向が方位で約９０°回転しており、視角が広がっ
ていることがわかった。
【００４５】（実施例９）ポリアラミドシリコーンとポ
リ４−アリロキシロイルオキシスチレンを、１：１０の
比率でＮ―メチルピロリドンに３重量％の濃度になるよ
うに溶解し、これをＩＴＯ電極を設けた基板上にスピン
コート法にて塗布した。スピンコートは２０００ｒ．
ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。この基板を、１８０
℃で１時間乾燥し、ラビング処理を行った。１０５Ｗの
高圧水銀ランプ下で紫外線を３分間照射した。上下の基
板を、ラビング方向の角度が互いに９０°になるように
対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立て
た。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７
ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処
理を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通
常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方
向である領域の２領域が存在し、視角が広がっているこ
とがわかった。
リ４−アリロキシロイルオキシスチレンを、１：１０の
比率でＮ―メチルピロリドンに３重量％の濃度になるよ
うに溶解し、これをＩＴＯ電極を設けた基板上にスピン
コート法にて塗布した。スピンコートは２０００ｒ．
ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。この基板を、１８０
℃で１時間乾燥し、ラビング処理を行った。１０５Ｗの
高圧水銀ランプ下で紫外線を３分間照射した。上下の基
板を、ラビング方向の角度が互いに９０°になるように
対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立て
た。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７
ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処
理を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通
常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方
向である領域の２領域が存在し、視角が広がっているこ
とがわかった。
【００４６】（実施例１０）ポリアラミドシリコーンと
ポリビニルカルバゾールを、１：１０の比率でＮ―メチ
ルピロリドンに３重量％の濃度になるように溶解し、こ
れをＩＴＯ電極を設けた基板上にスピンコート法にて塗
布した。スピンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で行った。この基板を、１８０℃で１時間乾燥
し、ラビング処理を行った。１０５Ｗの高圧水銀ランプ
下で紫外線を３分間照射した。上下の基板を、ラビング
方向の角度が互いに９０°になるように対向させて、セ
ルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。このセル
に、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７ＬＣ、チッソ
石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理を行った。
このセルを観察したところ、視角方向が通常のＴＮセル
と同方向である領域と、９０°回転した方向である領域
の２領域が存在し、視角が広がっていることがわかっ
た。
ポリビニルカルバゾールを、１：１０の比率でＮ―メチ
ルピロリドンに３重量％の濃度になるように溶解し、こ
れをＩＴＯ電極を設けた基板上にスピンコート法にて塗
布した。スピンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒
の条件で行った。この基板を、１８０℃で１時間乾燥
し、ラビング処理を行った。１０５Ｗの高圧水銀ランプ
下で紫外線を３分間照射した。上下の基板を、ラビング
方向の角度が互いに９０°になるように対向させて、セ
ルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。このセル
に、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７ＬＣ、チッソ
石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理を行った。
このセルを観察したところ、視角方向が通常のＴＮセル
と同方向である領域と、９０°回転した方向である領域
の２領域が存在し、視角が広がっていることがわかっ
た。
【００４７】（実施例１１）ポリスチレンとポリアラミ
ドシリコーンを１：２０の比率でＮ―メチルピロリドン
に３重量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電
極を設けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピ
ンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行っ
た。この基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビン
グ処理を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧
水銀ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部
分と照射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角
度が互いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照
射部分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように
対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立て
た。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７
ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処
理を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通
常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方
向である領域の２領域が存在し、視角が広がっているこ
とがわかった。
ドシリコーンを１：２０の比率でＮ―メチルピロリドン
に３重量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電
極を設けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピ
ンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行っ
た。この基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビン
グ処理を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧
水銀ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部
分と照射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角
度が互いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照
射部分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように
対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立て
た。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７
ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処
理を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通
常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方
向である領域の２領域が存在し、視角が広がっているこ
とがわかった。
【００４８】（実施例１２）実施例１で用いたポリアラ
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルナ
フタレンを１：５の比率でＮ―メチルピロリドンに３重
量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電極を設
けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピンコー
トは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。こ
の基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビング処理
を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧水銀ラ
ンプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部分と照
射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角度が互
いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照射部分
同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように対向さ
せて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。こ
のセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７ＬＣ、
チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理を行
った。このセルを観察したところ、視角方向が通常のＴ
Ｎセルと同方向である領域と、９０°回転した方向であ
る領域の２領域が存在し、視角が広がっていることがわ
かった。
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルナ
フタレンを１：５の比率でＮ―メチルピロリドンに３重
量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電極を設
けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピンコー
トは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。こ
の基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビング処理
を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧水銀ラ
ンプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部分と照
射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角度が互
いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照射部分
同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように対向さ
せて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。こ
のセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７ＬＣ、
チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理を行
った。このセルを観察したところ、視角方向が通常のＴ
Ｎセルと同方向である領域と、９０°回転した方向であ
る領域の２領域が存在し、視角が広がっていることがわ
かった。
【００４９】（実施例１３）実施例１で用いたポリアラ
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリシクロヘ
キシルメタクリレートを１：１０の比率でＮ―メチルピ
ロリドンに３重量％の濃度になるように溶解し、これを
ＩＴＯ電極を設けた基板上にスピンコート法にて塗布し
た。スピンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条
件で行った。この基板を、１８０℃で１時間乾燥した
後、ラビング処理を行った。この膜にマスクをし、１０
５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外
線未照射部分と照射部分を得た。上下の基板を、ラビン
グ方向の角度が互いに９０°になるように、かつ上下で
紫外線未照射部分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり
合うように対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セル
を組み立てた。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯ
Ｎ５０４７ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１
０℃で熱処理を行った。このセルを観察したところ、視
角方向が通常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°
回転した方向である領域の２領域が存在し、視角が広が
っていることがわかった。
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリシクロヘ
キシルメタクリレートを１：１０の比率でＮ―メチルピ
ロリドンに３重量％の濃度になるように溶解し、これを
ＩＴＯ電極を設けた基板上にスピンコート法にて塗布し
た。スピンコートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条
件で行った。この基板を、１８０℃で１時間乾燥した
後、ラビング処理を行った。この膜にマスクをし、１０
５Ｗの高圧水銀ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外
線未照射部分と照射部分を得た。上下の基板を、ラビン
グ方向の角度が互いに９０°になるように、かつ上下で
紫外線未照射部分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり
合うように対向させて、セルギャップ５μｍの液晶セル
を組み立てた。このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯ
Ｎ５０４７ＬＣ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１
０℃で熱処理を行った。このセルを観察したところ、視
角方向が通常のＴＮセルと同方向である領域と、９０°
回転した方向である領域の２領域が存在し、視角が広が
っていることがわかった。
【００５０】（実施例１４）実施例１で用いたポリアラ
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルフ
ォルマルを１：１０の比率でＮ―メチルピロリドンに３
重量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電極を
設けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピンコ
ートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。
この基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビング処
理を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧水銀
ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部分と
照射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角度が
互いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照射部
分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように対向
させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。
このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７Ｌ
Ｃ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理
を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通常
のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方向
である領域の２領域が存在し、視角が広がっていること
がわかった。
ミドポリシロキサンブロックコポリマーとポリビニルフ
ォルマルを１：１０の比率でＮ―メチルピロリドンに３
重量％の濃度になるように溶解し、これをＩＴＯ電極を
設けた基板上にスピンコート法にて塗布した。スピンコ
ートは２０００ｒ．ｐ．ｍ．、２０秒の条件で行った。
この基板を、１８０℃で１時間乾燥した後、ラビング処
理を行った。この膜にマスクをし、１０５Ｗの高圧水銀
ランプ下で紫外線を３分間照射し、紫外線未照射部分と
照射部分を得た。上下の基板を、ラビング方向の角度が
互いに９０°になるように、かつ上下で紫外線未照射部
分同士と照射部分同士がそれぞれ重なり合うように対向
させて、セルギャップ５μｍの液晶セルを組み立てた。
このセルに、ネマチック液晶（ＬＩＸＯＮ５０４７Ｌ
Ｃ、チッソ石油化学社製）を注入し、１１０℃で熱処理
を行った。このセルを観察したところ、視角方向が通常
のＴＮセルと同方向である領域と、９０°回転した方向
である領域の２領域が存在し、視角が広がっていること
がわかった。
【００５１】（比較例）実施例１から７で用いた配向膜
を、紫外線を照射せずに同様にして液晶セルを作製し
た。作製した液晶セルの視角特性を評価したところ、視
角の異なる領域は形成されず視角は広がらなかった。
を、紫外線を照射せずに同様にして液晶セルを作製し
た。作製した液晶セルの視角特性を評価したところ、視
角の異なる領域は形成されず視角は広がらなかった。
【図１】 図１は、本発明の配向膜を用いる液晶表示素
子における液晶分子の配向を示す。
子における液晶分子の配向を示す。
【図２】 図２は、本発明の配向膜を用いる液晶表示素
子における液晶分子の配向を示す。図２においては、未
照射部の配向規制力が照射部の配向規制力より大きいた
め、液晶の配向は未照射部により規制される。
子における液晶分子の配向を示す。図２においては、未
照射部の配向規制力が照射部の配向規制力より大きいた
め、液晶の配向は未照射部により規制される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 77/00 ＬＱＳ Ｃ０８Ｌ 77/00 ＬＱＳ 79/08 ＬＲＣ 79/08 ＬＲＣ 101/00 ＬＳＹ 101/00 ＬＳＹ
Claims (13)
- 【請求項１】 ネマチック液晶表示素子用の配向膜であ
って、配向処理後に該配向膜の一部に紫外線または電子
線を照射することにより、照射された領域の配向膜の配
向方向が配向処理後の配向方向から約９０°回転してい
ることを特徴とする配向膜。 - 【請求項２】 該配向膜が、配向処理後紫外線あるいは
電子線の照射によって、配向処理された方向より約９０
°回転した方向に液晶を配向させようとする性質を有す
る高分子材料を含む少なくとも１種類以上の高分子材料
からなる、請求項１に記載の配向膜。 - 【請求項３】 該配向膜が、配向処理後紫外線あるいは
電子線の照射によって、配向処理方向に液晶を配向させ
ようとする高分子化合物（高分子（Ａ））および配向処
理方向より約９０°回転した方向に液晶を配向させよう
とする性質を有する高分子化合物（高分子（Ｂ））を含
む、請求項１に記載の配向膜。 - 【請求項４】 高分子（Ｂ）が、炭素数４以上の環状構
造を有する高分子化合物である、請求項３記載の配向
膜。 - 【請求項５】 高分子（Ｂ）が、さらに分極性基を有す
る高分子化合物である請求項４記載の配向膜。 - 【請求項６】 分極性基が、以下に示される基から選択
される少なくとも１つの基： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である） である、請求項５記載の配向膜。 - 【請求項７】 高分子（Ｂ）が、一般式（I）： 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、水素、ハロゲン原子、
またはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１−
１０のアルキル基であり；Ｘはスペーサー単位を表し、
該スペーサー単位は、炭素数１−１０の鎖状炭化水素
基、炭素数４−１５の環状炭化水素基、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＨ2−、−ＯＣＯ−または直接結合であり；Ｙは、
以下に示される基から選択される少なくとも１つの基： −Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ≡Ｎ、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＳＯ
−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＮＲ4−、−ＮＲ5Ｒ6、−
ＮＨ2、＝Ｎ−、−ＮＯ2、−Ｎ＝Ｏ、−ＯＨ、−Ｃｌ、
−Ｆ、−ＣＨＯ、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−Ｓ− （式中、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、炭素数１−１０のアル
キル基である）を含んでいてもよい炭素数４−１５の環
状炭化水素基であり、該Ｙは炭素数１−１０のアルキル
基またはフェニル基で置換されていてもよい）で示され
る繰り返し単位を含む、請求項４記載の配向膜。 - 【請求項８】 Ｙが、置換基を有していてもよい下記の
基： 【化２】 （式中、ＺはＮ、ＳまたはＯ原子であり、環上の１−３
個の＝ＣＨ−基は＝Ｎ−基で置換されていてもよい）か
ら選択される環状炭化水素基である、請求項７記載の配
向膜。 - 【請求項９】 高分子（Ａ）が、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリエーテル、ポリエステルまたはポリウレタンで
ある、請求項３−８のいずれかに記載の配向膜。 - 【請求項１０】 高分子（Ａ）が、フッ素またはシロキ
サン基を有する、請求項９記載の配向膜。 - 【請求項１１】 高分子（Ａ）が、ポリアラミドシロキ
サン化合物である、請求項９または１０に記載の配向
膜。 - 【請求項１２】 ネマチック液晶表示素子用の配向膜を
製造する方法であって、配向処理後に該配向膜の一部ま
たは全体に紫外線または電子線を照射することにより、
配向膜の配向方向を配向処理後の配向方向から約９０°
回転させることを特徴とする方法。 - 【請求項１３】 透明電極上に配向膜が形成された一対
の基板を配向膜側を内側に配置し、これらの上下基板に
よってネマチック液晶が挟持された液晶表示素子におい
て、少なくとも一方の基板上に請求項１−１１のいずれ
かに記載の配向膜が形成されていることを特徴とする液
晶表示素子。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24216496A JPH1073824A (ja) | 1996-06-28 | 1996-09-12 | 液晶配向膜の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
| PCT/EP1997/003302 WO1998000750A1 (en) | 1996-06-28 | 1997-06-24 | Process for producing liquid crystal alignment layer and liquid crystal display device with the use of the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-168931 | 1996-06-28 | ||
| JP16893196 | 1996-06-28 | ||
| JP24216496A JPH1073824A (ja) | 1996-06-28 | 1996-09-12 | 液晶配向膜の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073824A true JPH1073824A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=26492442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24216496A Pending JPH1073824A (ja) | 1996-06-28 | 1996-09-12 | 液晶配向膜の製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1073824A (ja) |
| WO (1) | WO1998000750A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006350347A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110540645B (zh) * | 2019-09-12 | 2021-03-16 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 聚合物分散液晶的预聚体、聚合物分散液晶组合物及显示面板 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4420585A1 (de) * | 1994-06-13 | 1995-12-14 | Merck Patent Gmbh | Elektrooptisches System |
| EP0708149A1 (en) * | 1994-10-21 | 1996-04-24 | Hoechst Aktiengesellschaft | Alignment layer material for liquid crystal display devices |
-
1996
- 1996-09-12 JP JP24216496A patent/JPH1073824A/ja active Pending
-
1997
- 1997-06-24 WO PCT/EP1997/003302 patent/WO1998000750A1/en active Application Filing
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006350347A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Lg Phillips Lcd Co Ltd | 液晶表示素子及びその製造方法 |
| JP4564470B2 (ja) * | 2005-06-14 | 2010-10-20 | エルジー ディスプレイ カンパニー リミテッド | 液晶表示素子及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1998000750A1 (en) | 1998-01-08 |
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