JPH1071358A - Coating nozzle for film forming apparatus - Google Patents

Coating nozzle for film forming apparatus

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JPH1071358A
JPH1071358A JP21942297A JP21942297A JPH1071358A JP H1071358 A JPH1071358 A JP H1071358A JP 21942297 A JP21942297 A JP 21942297A JP 21942297 A JP21942297 A JP 21942297A JP H1071358 A JPH1071358 A JP H1071358A
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JP
Japan
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space
coating
coating liquid
substrate
nozzle
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Application number
JP21942297A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Kojima
洋一 小嶋
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Original Assignee
Able Corp
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Publication date
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Publication of JPH1071358A publication Critical patent/JPH1071358A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To uniformly coat a substrate with a small amt. of a coating soln. SOLUTION: A coating nozzle 37 consists of first and second nozzle members 43, 44. In such a state that the first and second nozzle member 43, 44 are mutually joined, a first relatively large space A is formed by a first recessed part 45 and the second space B communicating with the lower part of the first space A through grooves 48 is formed by a second recessed part 46 and, further, the third space C continued to the lower part of the second space B to be opened to the outside is formed. The lower end of the third space C is an delivery orifice of a coating soln. 2. The coating soln. sent through supply piping 38 is once stored in the first space 45 and further passed through a large number of the grooves 48, 48... from the first space 45 to be stored in the second space B and furthermore almost uniformly penetrates a third recessed part 47 along the longitudinal direction thereof to be finally delivered from the delivery orifice of the third recessed part 47 almost uniformly along the longitudinal direction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばカラー液晶
テレビに使用される薄い角形ガラス等の基板に、薄膜を
形成するために塗布液を塗布する薄膜形成装置用塗布ノ
ズルの技術分野に属するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention belongs to the technical field of a coating nozzle for a thin film forming apparatus for applying a coating liquid to form a thin film on a substrate such as a thin rectangular glass used for a color liquid crystal television. It is.

【0002】[0002]

【従来の技術】年々大型化しているカラー液晶テレビに
おいては、液晶のドライブ回路や赤、緑、青のカラーフ
ィルターを形成するために薄膜が多く使用されている。
この薄膜を形成する従来の方法の一つとしてスピンコー
ト法があり、このスピンコート法は基板をモータに直結
された回転テーブル上で塗布液を該基板中心部に吐出さ
せるとともに、回転テーブルを回転させることにより遠
心力を発生させ、塗布液を基板上に均一に拡げる方法で
ある。
2. Description of the Related Art In a color liquid crystal television which is increasing in size year by year, a thin film is often used to form a liquid crystal drive circuit and red, green and blue color filters.
One of the conventional methods for forming this thin film is a spin coating method. In this spin coating method, a coating liquid is discharged to the center of the substrate on a rotating table directly connected to a motor, and the rotating table is rotated. In this method, a centrifugal force is generated to spread the coating liquid uniformly on the substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
スピンコート法においては、基板が大型化しているとと
もに、その基板は形状が角形となっているものが多い。
このため、角形基板を回転させたときその基板の周辺付
近に風が発生する。そして、基板外周端部付近において
は、その風および回転時周速が中心部より大きいことに
より、塗布液が中心部より早く乾燥するようになるた
め、形成される薄膜が基板外周端部に近いほど厚くなっ
てしまうという問題がある。
By the way, in such a spin coating method, the size of the substrate is increased and the shape of the substrate is often square.
Therefore, when the rectangular substrate is rotated, wind is generated near the periphery of the substrate. In the vicinity of the outer peripheral edge of the substrate, since the wind and the peripheral speed during rotation are larger than the central portion, the coating liquid dries faster than the central portion. There is a problem that it becomes thicker.

【0004】また、塗布液の表面張力等によって、基板
角部付近に塗布液が集中し、この基板角部に形成される
薄膜が厚くなったり、更に塗布液がこの基板角部付近に
集中すると、表面張力が破壊され、基板裏面に塗布液が
回り込み、ごみの発生原因となるという問題があった。
In addition, when the coating liquid concentrates near the corner of the substrate due to the surface tension of the coating liquid or the like, the thin film formed on the corner of the substrate becomes thicker, or when the coating liquid further concentrates near the corner of the substrate. In addition, there has been a problem that the surface tension is destroyed, and the coating solution wraps around the back surface of the substrate, thereby causing dust.

【0005】更に、従来の方法では、基板の中央に吐出
する塗布液の量を、塗布液が基板の全面にムラなく行き
届くようにするために、基板に薄膜を形成するために必
要な量よりはるかに多くしなければならない。このた
め、かなり多くの量の高価な塗布液が無駄になってしま
い、コストがかなり高くなるという問題がある。
Further, in the conventional method, the amount of the coating liquid discharged to the center of the substrate is made smaller than that required for forming a thin film on the substrate so that the coating liquid reaches the entire surface of the substrate without unevenness. Must be much more. For this reason, there is a problem that a considerably large amount of expensive coating liquid is wasted and the cost is considerably increased.

【0006】これらの問題を解決するために、従来から
研究開発が種々行われているが、これらの問題を十分満
足のいく程度には解決するに至っていない。このよう
に、スピンコート法では、均一な厚さの薄膜を基板上に
広く形成させることはきわめて困難であるばかりでな
く、コストの高いものとなっている。
[0006] In order to solve these problems, various researches and developments have been conventionally carried out, but these problems have not been sufficiently solved. As described above, in the spin coating method, it is not only extremely difficult to form a thin film having a uniform thickness widely on a substrate, but also the cost is high.

【0007】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、基板に塗布液を少ない量
でムラなく塗布することのできる薄膜形成装置用塗布ノ
ズルを提供することである。
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a coating nozzle for a thin film forming apparatus which can apply a coating liquid in a small amount without unevenness on a substrate. It is.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、請求項1の発明は、塗布液が給送される、長手方
向に延びた比較的大きな第1空所と、長手方向に延びた
第2空所と、長手方向に沿って多数形成された、前記第
1空所と前記第2空所とを連通する多数の溝と、前記第
2空所から連続して形成され、長手方向に延び、その下
端が吐出口とされている比較的小さな第3空所とからな
ることを特徴としている。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, a first aspect of the present invention is to provide a relatively large first space extending in a longitudinal direction to which a coating liquid is fed, An extended second space, a number of grooves formed along the longitudinal direction, a number of grooves communicating the first space and the second space, and formed continuously from the second space; It is characterized by comprising a relatively small third cavity extending in the longitudinal direction and having a lower end serving as a discharge port.

【0009】また、請求項2の発明は、前記第2空所
が、断面がほぼ半円形状またはほぼ円形状に形成されて
いることを特徴としている。更に、請求項3の発明は、
互いに重ね合わされる第1および第2ノズル部材の2部
材からなり、前記第1ないし第3空所および前記溝が、
第1および第2ノズル部材の少なくとも一方に形成され
ていることを特徴としている。
The invention according to claim 2 is characterized in that the second space is formed in a substantially semicircular or substantially circular cross section. Further, the invention of claim 3 is:
The first and second cavities and the groove are formed of two members, a first and a second nozzle member, which are overlapped with each other.
It is characterized in that it is formed on at least one of the first and second nozzle members.

【0010】[0010]

【作用】このように構成された本発明の薄膜形成装置用
塗布ノズルにおいては、塗布液を、一旦比較的大きな第
1空所に貯えるとともに、この第1空所から多数の溝を
通して第2空所に再度一旦貯え、更に第2空所から塗布
液を、比較的小さな第3空所を介して吐出するようにし
ているので、塗布液の塗布量を制御し易くなる。これに
より、余分な塗布液の吐出が抑制されるので、塗布液の
使用量が低減する。また、多数の溝を通過してきた塗布
液が第2空所に一旦貯えられることにより、第2空所の
長手方向に沿って均一に分散し、分散した塗布液が第3
空所を通して吐出されるので、これらの多数の溝の影響
をほとんど受けることなく、塗布液が長手方向に沿って
より一層均一に吐出されるようになる。
In the coating nozzle for a thin film forming apparatus according to the present invention, the coating liquid is temporarily stored in a relatively large first space, and the second space is formed from the first space through a large number of grooves. The coating liquid is once stored in the second space, and the coating liquid is discharged from the second space through the relatively small third space, so that the application amount of the coating liquid can be easily controlled. This suppresses the discharge of excess coating liquid, thereby reducing the amount of coating liquid used. In addition, the coating liquid that has passed through the large number of grooves is temporarily stored in the second space, so that the coating liquid is uniformly dispersed along the longitudinal direction of the second space, and the dispersed coating liquid is dispersed in the third space.
Since the liquid is discharged through the voids, the coating liquid is discharged more uniformly along the longitudinal direction without being substantially affected by the large number of grooves.

【0011】更に、比較的大きな第1空所内への塗布液
の給送が停止されたときは、この第1空所内に貯えられ
ている塗布液が多数の溝によって第3空所内に浸入する
のを阻止されるので、第1空所内への塗布液の給送の停
止後で、塗布ノズルによる塗布が行われて第3空所内の
塗布液が吐出された後は、第3空所内には塗布液が残存
しなくなる。したがって、塗布ノズルに残存する塗布液
は、空気の影響を受け難い第1および第2空所と多数の
溝とに残存する塗布液となる。これにより、塗布ノズル
内に残存する塗布液が空気にほとんど影響されなくな
り、次回の塗布においては、空気による劣化の少ない良
好な塗布液が常に吐出されるようになる。
Further, when the supply of the coating liquid into the relatively large first space is stopped, the coating liquid stored in the first space enters the third space by a large number of grooves. After the supply of the application liquid into the first space is stopped, the application is performed by the application nozzle and the application liquid in the third space is discharged. No coating liquid remains. Therefore, the coating liquid remaining in the coating nozzle becomes the coating liquid remaining in the first and second voids and the large number of grooves that are hardly affected by air. As a result, the coating liquid remaining in the coating nozzle is hardly affected by the air, and in the next coating, a good coating liquid with little deterioration due to air is always discharged.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。図1ないし図5は本発明の実施の形
態の一例の塗布ノズルが用いられている薄膜形成装置を
示し、図1は基板塗布装置を示す平面図、図2は基板塗
布装置を一部切り欠いて示す正面図、図3は基板塗布装
置を示す右側面図、図4は基板塗布装置の制御回路図、
図5はこの例のスピンコーティング装置を概略的に示す
図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 5 show a thin film forming apparatus using a coating nozzle according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a plan view showing a substrate coating apparatus, and FIG. 3 is a right side view showing the substrate coating apparatus, FIG. 4 is a control circuit diagram of the substrate coating apparatus,
FIG. 5 is a diagram schematically showing a spin coating apparatus of this example.

【0013】本例の塗布ノズルが用いられている薄膜形
成装置は、図1ないし図4に示すように基板1に塗布液
2を塗布する基板塗布装置3と、図5に示すように基板
1に塗布された塗布液2aを均一厚さの薄膜にするスピ
ンコーティング装置4とを備えている。
A thin film forming apparatus using the coating nozzle of this embodiment is composed of a substrate coating apparatus 3 for coating a substrate 1 with a coating liquid 2 as shown in FIGS. 1 to 4, and a substrate coating apparatus 3 as shown in FIG. And a spin coating device 4 for converting the coating liquid 2a applied to the thin film into a thin film having a uniform thickness.

【0014】基板塗布装置3は、基板1を載置する載置
テーブル31、この載置テーブル31を移動する移動台
32、この移動台32を移動可能に支持するフレーム3
3、この支持するフレーム33の設置されたモータ3
4、このモータ34の回転駆動力によりカップリング3
5を介して回動させられるねじ杆36、フレーム33の
上下動可能に取り付けられた塗布ノズル37、この塗布
ノズル37と塗布液貯溜槽6とを接続して塗布液貯溜槽
6の塗布液2を塗布ノズル37に送給する送給配管3
8、この送給配管38に配設されている遮断位置と連通
位置をとの二位置が設けられている常閉のソレノイドバ
ルブ39、フレーム33に設置されてテーブル31の初
期位置を検知する原点センサ40、フレーム33に設置
されてテーブル31の移動限界を検知する限界センサ4
1、および塗布液貯溜槽6内にエアを圧送する送気ポン
プ42を備えている。
The substrate coating apparatus 3 includes a mounting table 31 on which the substrate 1 is mounted, a moving table 32 for moving the mounting table 31, and a frame 3 for movably supporting the moving table 32.
3. The motor 3 on which the supporting frame 33 is installed
4. The coupling 3 is driven by the rotational driving force of the motor 34.
5, a coating rod 37 rotatably mounted on the frame 33, and a coating liquid 37 in the coating liquid storage tank 6 by connecting the coating nozzle 37 and the coating liquid storage tank 6. Pipe 3 for feeding the coating liquid to the application nozzle 37
8. A normally closed solenoid valve 39 provided with two positions, a shut-off position and a communication position, provided on the feed pipe 38, and an origin which is installed on the frame 33 and detects the initial position of the table 31. Sensor 40, limit sensor 4 installed on frame 33 to detect the movement limit of table 31
1, and an air supply pump 42 for feeding air into the application liquid storage tank 6 by pressure.

【0015】図6(a)および(b)に示すように、塗
布ノズル37は第1および第2ノズル部材43,44の
2部材が互いに重ね合わされかつ接合されて形成されて
いる。図7(a)および(b)に示すように第1ノズル
部材43には、比較的深く、長手方向に所定の長さに形
成された矩形状断面の第1凹部45、第1凹部45の下
方に長手方向に第1凹部45と同じ長さに形成されたほ
ぼ半円形状断面の第2凹部46、および最下端に位置し
第2凹部46に連続して形成され、第2凹部46に深さ
より浅い深さで長手方向に第1凹部45と同じ長さに形
成された矩形状断面の第3凹部47がそれぞれ設けられ
ている。更に、第1ノズル部材43には、第1凹部45
と第2凹部46とを連通する多数の溝48,48,…が形
成されている。
As shown in FIGS. 6A and 6B, the application nozzle 37 is formed by overlapping and joining two members, first and second nozzle members 43 and 44. As shown in FIGS. 7A and 7B, the first nozzle member 43 has a first concave portion 45 having a rectangular cross section formed relatively deep and having a predetermined length in the longitudinal direction. A second concave portion 46 having a substantially semicircular cross-section and formed at the lower end in the same length as the first concave portion 45 and a second concave portion 46 located at the lowermost end, and formed in the second concave portion 46. Third recesses 47 each having a rectangular cross section and formed in the longitudinal direction at a depth smaller than the depth and the same length as the first recess 45 are provided. Further, the first nozzle member 43 includes a first recess 45.
A number of grooves 48, 48,...

【0016】一方、図6に示すように第2ノズル部材4
4には、送給配管38が接続されて塗布液が送給される
塗布液導入孔49,49が2個穿設されている。第1お
よび第2ノズル部材43,44が互いに接合されたと
き、これらの塗布液導入孔49,49は、ともに第1ノ
ズル部材43の第1凹部45に開口するように配置され
ている。
On the other hand, as shown in FIG.
4 is provided with two application liquid introduction holes 49, 49 to which a supply pipe 38 is connected to supply the application liquid. When the first and second nozzle members 43 and 44 are joined to each other, these application liquid introduction holes 49 and 49 are arranged so as to open to the first recess 45 of the first nozzle member 43.

【0017】そして、これらの第1および第2ノズル部
材43,44が互いに接合された状態では、第1凹部4
5により比較的大きな第1空所Aが形成され、第2凹部
46により第1空所Aの下方でこの第1空所Aに溝48
を介して連通する第2空所Bが形成され、更にこの第2
空所Bの下に連続して外部に開口する第3空所Cが形成
されるようになる。第3空所Cの外部との開口の形状は
細長い矩形状とされており、この開口が塗布液2の吐出
口となっている。したがって、送給配管38を通して送
られてくる塗布液は第1空所45に一旦貯えられ、この
第1空所45から更に多数の溝48,48,…を通して第
2空所46に溜まり、更にそこから第3凹部47にその
長手方向に沿ってほぼ一様に浸入し、最後にこの第3凹
部47の吐出口から長手方向に沿ってほぼ一様に吐出さ
れるようにしている。
When the first and second nozzle members 43 and 44 are joined to each other, the first recess 4
5, a relatively large first space A is formed, and a second recess 46 forms a groove 48 in the first space A below the first space A.
A second space B communicating with the second space B is formed.
A third cavity C that opens continuously to the outside below the cavity B is formed. The shape of the opening to the outside of the third space C is an elongated rectangular shape, and this opening serves as a discharge port for the coating liquid 2. Therefore, the coating solution sent through the supply pipe 38 is temporarily stored in the first space 45, and is stored in the second space 46 from the first space 45 through a larger number of grooves 48, 48,. From there, it penetrates almost uniformly along the longitudinal direction into the third concave portion 47, and finally, it is almost uniformly discharged from the discharge port of the third concave portion 47 along the longitudinal direction.

【0018】フーレム33には軸受50,51が固定さ
れており、これらの軸受50,51にねじ杆36の両端
が回動可能に支持されている。また図3に示すように、
フレーム33には、長手方向に一対のガイドレール5
2,53が固設されている。一方、移動台32には、ね
じ杆36に螺合するガイドねじ部材54が固設されてい
るとともに、一対のガイドレール52,53に沿って移
動可能にこれらのガイドレール52,53に係合支持さ
れるガイド部材54,56,57(図2および図3に図
示)が固設されている。
Bearings 50 and 51 are fixed to the Fourem 33, and both ends of the screw rod 36 are rotatably supported by these bearings 50 and 51. Also, as shown in FIG.
The frame 33 includes a pair of guide rails 5 in the longitudinal direction.
2,53 are fixed. On the other hand, a guide screw member 54 screwed to the screw rod 36 is fixed to the movable base 32, and is engaged with the guide rails 52, 53 so as to be movable along the pair of guide rails 52, 53. Guide members 54, 56, 57 (shown in FIGS. 2 and 3) to be supported are fixedly provided.

【0019】更に図4に示すように、本例においては電
子制御装置15には、ねじ杆36を回動するモータ3
4、塗布ノズル37を上下動するための上下動作動手段
58、送気ポンプ42を駆動するモータ59、原点セン
サ40、および限界センサ41がともに接続されてい
る。なお、60は送給配管38に設けられたフィルタで
あり、このフィルタ60は塗布液2の混在している異物
を除去するためのものである。
As shown in FIG. 4, in this embodiment, the electronic control unit 15 includes a motor 3 for rotating a screw rod 36.
4. The vertical movement means 58 for vertically moving the application nozzle 37, the motor 59 for driving the air supply pump 42, the origin sensor 40, and the limit sensor 41 are all connected. Reference numeral 60 denotes a filter provided in the feed pipe 38, and this filter 60 is for removing foreign matters in which the coating liquid 2 is mixed.

【0020】スピンコーティング装置4は、図5に示す
ように基板7を載置する回転テーブル4aとこの回転テ
ーブル4aを回転するモータ4bとを備えている。この
スピンコーティング装置4は、回転テーブル4aとモー
タ4bを少なくとも備えているものであれば、従来のス
ピンコート法に用いられているどのようなスピンコーテ
ィング装置も用いることができる。
As shown in FIG. 5, the spin coating apparatus 4 includes a rotary table 4a on which the substrate 7 is placed and a motor 4b for rotating the rotary table 4a. As the spin coating device 4, any spin coating device used in a conventional spin coating method can be used as long as it has at least a rotary table 4a and a motor 4b.

【0021】次に、このように構成された本例の作用に
ついて説明する。基板1に塗布液2を塗布するにあたっ
ては、まず図1および図2に実線で示すようにテーブル
31を原点センサ40によって制御される原点位置に設
定するとともに、塗布ノズル37を高位置に設定する。
次に、基板1をその塗布面1aが上側となるようにして
テーブル31の所定位置にセットする。次に、図示しな
い操作ボタンを押すことにより、電子制御装置15が送
気ポンプ42のモータ59を回転駆動するとともに、モ
ータ34をゆっくりと回転駆動する。これにより、塗布
液貯溜装置6内の圧力が上昇するとともに、ガイドねじ
部材54が図2において左方へ移動しようとする。した
がって、図8(a)に示すように、テーブル31が左方
へゆっくりと移動する。
Next, the operation of the present embodiment thus configured will be described. In applying the coating liquid 2 to the substrate 1, first, as shown by a solid line in FIGS. 1 and 2, the table 31 is set to the origin position controlled by the origin sensor 40, and the coating nozzle 37 is set to a high position. .
Next, the substrate 1 is set at a predetermined position on the table 31 such that the application surface 1a faces upward. Next, by pressing an operation button (not shown), the electronic control unit 15 rotationally drives the motor 59 of the air supply pump 42 and slowly rotates the motor 34. As a result, the pressure in the coating liquid storage device 6 increases, and the guide screw member 54 tries to move leftward in FIG. Therefore, as shown in FIG. 8A, the table 31 slowly moves to the left.

【0022】基板1の塗布面1aにおける塗布開始位置
1bが塗布ノズル37の直下位置、すなわち塗布ノズル
37の第3空所Cに対向する位置にくるに見合うだけ、
モータ34を回転駆動すると、電子制御装置15はソレ
ノイドバルブ39を切り換え、連通位置に設定するとと
もに上下動作動手段58を駆動する。これにより、塗布
液貯溜装置6内の塗布液2が塗布液貯溜装置6内の圧力
により送給配管38および塗布液導入孔49を通って第
1空所A内に流入し、貯えられる。第1空所A内に貯え
られた塗布液2は、更に多数の溝48,48,…を通って
第2空所B内にその長手方向に浸入し、この第2空所B
内に充填される。更に第2空所B内の塗布液2は第3空
所C内にその長手方向に沿ってほぼ一様に浸入、充填す
るようになる。すなわち、多数の溝48を通って浸入し
てくる塗布液2は、第2空所B内で一旦ほぼ充填されて
から第3空所Cに浸入するようになるので、第3空所C
の長手方向に沿ってほぼ均一に浸入して、第3空所C内
にほぼ均一に充填される。
As long as the coating start position 1b on the coating surface 1a of the substrate 1 is just below the coating nozzle 37, that is, at a position facing the third space C of the coating nozzle 37,
When the motor 34 is driven to rotate, the electronic control unit 15 switches the solenoid valve 39 to set it to the communication position and to drive the up / down operation moving means 58. Thus, the coating liquid 2 in the coating liquid storage device 6 flows into the first space A through the supply pipe 38 and the coating liquid introduction hole 49 due to the pressure in the coating liquid storage device 6, and is stored. The coating liquid 2 stored in the first space A penetrates into the second space B in the longitudinal direction through a larger number of grooves 48, 48,.
Is filled in. Further, the coating liquid 2 in the second space B penetrates and fills the third space C almost uniformly along the longitudinal direction. That is, the coating liquid 2 that has entered through the large number of grooves 48 is almost completely filled in the second space B and then enters the third space C.
And penetrates substantially uniformly along the longitudinal direction of the third space C and is substantially uniformly filled in the third space C.

【0023】また、図8(b)に示すようにテーブル3
1が更に左方へ移動して基板1の塗布面1a上の塗布開
始位置1bが塗布ノズル37の真下にくると、塗布ノズ
ル37が下動し、その先端と塗布面1aとの間がきわめ
て微少な所定の間隙に設定保持される。これにより、塗
布ノズル37から吐出する塗布液2による塗布が、基板
1の塗布面1a上に塗布開始位置1bより図1に示す塗
布液2の塗布領域の幅にわたって開始される。
Further, as shown in FIG.
When the coating nozzle 1 moves further to the left and the coating start position 1b on the coating surface 1a of the substrate 1 comes directly below the coating nozzle 37, the coating nozzle 37 moves downward, and the space between the tip and the coating surface 1a becomes extremely large. It is set and held at a small predetermined gap. Thus, the application by the application liquid 2 discharged from the application nozzle 37 is started on the application surface 1a of the substrate 1 from the application start position 1b over the width of the application area of the application liquid 2 shown in FIG.

【0024】次に、図8(c)に示すように塗布終了位
置1cより所定の距離だけ前のソレノイドバルブオフ位
置1dが塗布ノズル37の第3空所Cに対向する位置に
くると、電子制御装置15はソレノイドバルブ39をオ
フにして遮断位置に切り換える。これにより、塗布ノズ
ル37の第1空所Aには塗布液2はもはや導入されな
い。一方、ソレノイドバルブ39が遮断しても、第3空
所C内には塗布液2が残存しているので、この第3空所
C内に残存する塗布液2がソレノイドバルブオフ位置1
dから塗布終了位置1cにかけて塗布されるようにな
る。このとき、ソレノイドバルブ39が閉じていて新し
い塗布液2は導入されないが、塗布液2の粘性等により
第3空所C内に残存する塗布液2は基板1に引き出され
るようになるので、基板1に確実に塗布されるようにな
る。
Next, as shown in FIG. 8C, when the solenoid valve off position 1d, which is a predetermined distance before the coating end position 1c, comes to a position facing the third space C of the coating nozzle 37, the electronic The control device 15 turns off the solenoid valve 39 to switch to the shut-off position. Thus, the application liquid 2 is no longer introduced into the first space A of the application nozzle 37. On the other hand, even if the solenoid valve 39 is shut off, since the coating liquid 2 remains in the third space C, the coating liquid 2 remaining in the third space C is moved to the solenoid valve off position 1.
The coating is applied from d to the coating end position 1c. At this time, although the solenoid valve 39 is closed and new coating liquid 2 is not introduced, the coating liquid 2 remaining in the third space C is drawn out to the substrate 1 due to the viscosity of the coating liquid 2 or the like. 1 is surely applied.

【0025】こうして、図8(d)に示すように基板1
の塗布面1aへの塗布液2aの塗布が完了する。基板1
のこの状態では、図9に示すように塗布開始位置1bか
ら塗布終了位置1cにわたる、基板1の塗布面1aの所
定範囲の塗布領域に、塗布液2bが塗布されている。そ
の場合、基板1の前後端の所定幅eの領域および左右端
の所定幅fの領域には、塗布液2bが塗布されなく、基
板1の塗布面1aに塗布液2bが塗布される所定範囲の
塗布領域の中心は、基板1の塗布面1aのほぼ中心に位
置している。塗布液2bが塗布される所定範囲の塗布領
域の面積は、基板1の塗布面1aの面積の約50〜60
%以上が望ましいが、これに限定されることはない。
In this way, as shown in FIG.
The application of the application liquid 2a to the application surface 1a is completed. Substrate 1
In this state, as shown in FIG. 9, the coating liquid 2b is applied to a predetermined area of the coating surface 1a of the substrate 1 from the coating start position 1b to the coating end position 1c. In this case, the coating liquid 2b is not applied to the region of the predetermined width e at the front and rear ends of the substrate 1 and the region of the predetermined width f at the left and right ends, and the predetermined range in which the coating liquid 2b is applied to the coating surface 1a of the substrate 1 Is located substantially at the center of the application surface 1 a of the substrate 1. The area of the application area in a predetermined range to which the application liquid 2b is applied is approximately 50 to 60 times the area of the application surface 1a of the substrate 1.
% Is desirable, but is not limited to this.

【0026】このように塗布液2aが基板1の塗布領域
に塗布された時点では、第3空所C内には塗布液2がほ
とんどなくなっている。しかも、前述のように塗布ノズ
ル37には新しい塗布液2が導入されないことから、塗
布液2は第3空所C内に浸入しない。これにより、塗布
液2は第1、第2空所A,Bおよび多数の溝48内にの
み残存するようになり第3空所C内には残存しない。し
たがって、空気が塗布液2に及ぼす影響はきわめて小さ
くなる。
When the coating liquid 2a is applied to the coating area of the substrate 1 as described above, the coating liquid 2 has almost disappeared in the third space C. Moreover, since the new coating liquid 2 is not introduced into the coating nozzle 37 as described above, the coating liquid 2 does not enter the third space C. Thus, the coating liquid 2 remains only in the first and second cavities A and B and the many grooves 48 and does not remain in the third vacancy C. Therefore, the influence of the air on the coating liquid 2 is extremely small.

【0027】次いで、塗布ノズル37が上昇位置に設定
される。移動台32は塗布ノズル37を通った後所定の
位置(図1および図2に二点鎖線で示す)にくると限界
センサ41により検知され、限界センサ41からの検知
信号により電子制御装置15がモータ34を停止する。
次に、こうして塗布液2aが塗布された基板1は移動台
32から取り上げられて、同図(e)に示すようにスピ
ンコーティング装置4の回転テーブル4aに載置された
後、回転テーブル4aとともに回転される。こうして、
図10に示すように塗布液2aが塗布面1aの全面にほ
ぼ均一に塗布された基板1が得られるようになる。
Next, the application nozzle 37 is set to the raised position. When the moving table 32 reaches a predetermined position (indicated by a two-dot chain line in FIGS. 1 and 2) after passing through the coating nozzle 37, the moving table 32 is detected by the limit sensor 41, and the electronic control unit 15 is controlled by the detection signal from the limit sensor 41. The motor 34 is stopped.
Next, the substrate 1 thus coated with the coating liquid 2a is picked up from the moving table 32 and placed on the turntable 4a of the spin coating apparatus 4 as shown in FIG. Rotated. Thus,
As shown in FIG. 10, the substrate 1 in which the coating liquid 2a is applied almost uniformly on the entire surface of the coating surface 1a can be obtained.

【0028】一方、基板2が移動台32から取り上げら
れると、図示しない基板検知センサがこれを検知し、基
板検知センサからの検知信号により電子制御装置15が
モータ34を逆方向に回転駆動する。これにより、移動
台32は原点位置の方へ移動して、移動台32が原点位
置(図1及び図2に実線で示す)にくると原点センサ4
0により検知され、原点センサ40からの検知信号によ
り電子制御装置15がモータ34を停止する。
On the other hand, when the substrate 2 is picked up from the moving table 32, a substrate detection sensor (not shown) detects this, and the electronic control unit 15 drives the motor 34 to rotate in the reverse direction according to a detection signal from the substrate detection sensor. Thereby, the movable table 32 moves toward the origin position, and when the movable table 32 comes to the original position (indicated by a solid line in FIGS. 1 and 2), the origin sensor 4
0, the electronic control unit 15 stops the motor 34 in response to a detection signal from the origin sensor 40.

【0029】次に、新しい基板1をその塗布面1aが上
側となるようにしてテーブル31の所定位置にセットす
る。以後、前述と同様の作動を繰り返す。その場合、基
板1に塗布される塗布液2aは溝48から新たに第2お
よび第3空所B,C内に浸入したものであり、空気の影
響の少ない塗布液となっている。
Next, a new substrate 1 is set at a predetermined position on the table 31 so that the application surface 1a is on the upper side. Thereafter, the same operation as described above is repeated. In this case, the coating liquid 2a applied to the substrate 1 has newly entered the second and third cavities B and C from the groove 48, and is a coating liquid with little influence of air.

【0030】このように構成された本例の薄膜形成方法
では、塗布ノズル37の細長い矩形状の吐出口から塗布
液2を吐出して基板1に塗布しているので、塗布液2の
塗布量が制御し易い。したがって、基板1に吐出される
塗布液2の余分量を抑制することができるので、塗布液
2の使用量を大幅に低減することができる。特に、塗布
液2の吐出を基板1における塗布液2の塗布領域の塗布
終了位置1cより少し手前で停止しているので、塗布液
2の使用量をより一層低減することができるようにな
る。これにより、基板1に形成される薄膜の厚みをより
一層薄くすることができる。
In the thin film forming method of the present embodiment configured as described above, since the coating liquid 2 is discharged from the elongated rectangular discharge port of the coating nozzle 37 and coated on the substrate 1, the coating amount of the coating liquid 2 But easy to control. Therefore, since the excess amount of the coating liquid 2 discharged to the substrate 1 can be suppressed, the usage amount of the coating liquid 2 can be significantly reduced. In particular, since the discharge of the coating liquid 2 is stopped slightly before the coating end position 1c of the coating area of the coating liquid 2 on the substrate 1, the usage amount of the coating liquid 2 can be further reduced. Thereby, the thickness of the thin film formed on the substrate 1 can be further reduced.

【0031】しかも、塗布液2は塗布ノズル37の細長
い矩形状の吐出口の長手方向に沿ってほぼ均一に吐出さ
れるので、基板1の全体にわたって均一な厚みの薄膜を
形成することができる。特に本例においては、多数の溝
48,48,…を通過してきた塗布液2を第2凹部46に
一旦貯えた後、長手方向に沿って均一に第3凹部47へ
浸入させ、更に第3凹部47の吐出口から吐出するよう
にしているので、溝48の影響をほとんど受けることな
く、より一層効果的に均一な厚みの薄膜を形成すること
ができる。
In addition, since the coating liquid 2 is discharged almost uniformly along the longitudinal direction of the elongated rectangular discharge port of the coating nozzle 37, a thin film having a uniform thickness can be formed over the entire substrate 1. In particular, in this example, the coating liquid 2 that has passed through the large number of grooves 48, 48 is temporarily stored in the second concave portion 46, and then uniformly penetrates into the third concave portion 47 along the longitudinal direction. Since the liquid is discharged from the discharge port of the recess 47, a thin film having a uniform thickness can be formed more effectively without being substantially affected by the groove 48.

【0032】更に基板1の塗布される塗布液2が空気に
ほとんど影響されないので、劣化の少ない良好な塗布液
2を基板1に塗布することができる。こうして、本例に
より形成された薄膜は高品質のものとなる。
Furthermore, since the coating liquid 2 applied to the substrate 1 is hardly affected by air, a good coating liquid 2 with little deterioration can be applied to the substrate 1. Thus, the thin film formed according to the present example is of high quality.

【0033】図11は本発明の実施の形態の他の例の塗
布ノズル37を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing a coating nozzle 37 according to another embodiment of the present invention.

【0034】前述の例においては、第1凹部45、第2
凹部46、第3凹部47および溝48がともに第1ノズ
ル部材43のみに設けられているが、この例において
は、図11に示すようにこれらの凹部45,46,47お
よび多数の溝48,48,…が第1ノズル部材43に設け
られているばかりでなく、各凹部45,46,47および
多数の溝48,48,…と同形状の各凹部45′,46′,
47′および多数の溝48′,48′,…が第2ノズル部
材44にも設けられている。その場合、第1および第2
ノズル部材43,44が重ね合わされたとき、各凹部4
5′,46′,47′および多数の溝48′,48′,…は
それぞれ各凹部45,46,47および多数の溝48,4
8,…に対向するようにされている。そして、第1およ
び第2ノズル部材43,44が重ね合わされた状態で
は、第1および第3凹部45,45′;47,47′によ
って形成される空所A,Cは断面がほぼ矩形状となり、
第2凹部46,46′によって形成される空所Bは断面
がほぼ円形状となっている。この例の他の構成は、前述
の例のそれと同じである。
In the above-described example, the first recess 45 and the second
Although the concave portion 46, the third concave portion 47, and the groove 48 are all provided only in the first nozzle member 43, in this example, as shown in FIG. 11, these concave portions 45, 46, 47 and the large number of grooves 48, Are provided on the first nozzle member 43, and the concave portions 45 ', 46', which have the same shape as the concave portions 45, 46, 47 and the multiple grooves 48, 48,.
47 'and a number of grooves 48', 48 ', ... are also provided in the second nozzle member 44. In that case, the first and second
When the nozzle members 43 and 44 are overlapped, each recess 4
5 ', 46', 47 'and a number of grooves 48', 48 ',.
8,... When the first and second nozzle members 43 and 44 are overlapped with each other, the cavities A and C formed by the first and third recesses 45 and 45 '; 47 and 47' have a substantially rectangular cross section. ,
The void B formed by the second concave portions 46 and 46 'has a substantially circular cross section. Other configurations of this example are the same as those of the above-described example.

【0035】また、この例の作用効果も、同様に前述の
例のそれらと同じである。
The operation and effect of this embodiment are also the same as those of the above-described embodiment.

【0036】なお、各凹部45′,46′,47′および
多数の溝48′,48′,…は、第2ノズル部材44のみ
に設けるようにすることもできる。
The recesses 45 ', 46', 47 'and a number of grooves 48', 48 ',... May be provided only in the second nozzle member 44.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の薄膜形成装置用塗布ノズルによれば、塗布液を、一旦
比較的大きな第1空所に貯えるとともに、この第1空所
から多数の溝を通して第2空所に再度一旦貯え、更に第
2空所から塗布液を、比較的小さな第3空所を介して吐
出するようにしているので、塗布液の塗布量を制御し易
くできる。これにより、余分な塗布液の吐出を抑制でき
るので、塗布液の使用量を低減できる。また、多数の溝
を通過してきた塗布液を第2空所に一旦貯えられること
により、第2空所の長手方向に沿って均一に分散させる
ようにすることができるので、これらの多数の溝の影響
をほとんど受けることなく、塗布液を長手方向に沿って
より一層均一にムラなく吐出できるようになる。
As is apparent from the above description, according to the coating nozzle for a thin film forming apparatus of the present invention, a coating liquid is temporarily stored in a relatively large first space, and a large number of liquids are stored from the first space. The coating liquid is once stored again in the second space through the groove, and the application liquid is discharged from the second space through the relatively small third space, so that the application amount of the coating liquid can be easily controlled. . Thereby, the discharge of the excess coating liquid can be suppressed, so that the usage amount of the coating liquid can be reduced. In addition, since the coating liquid that has passed through the large number of grooves is temporarily stored in the second space, it can be uniformly dispersed along the longitudinal direction of the second space. The coating liquid can be evenly and uniformly discharged in the longitudinal direction without being substantially affected by the above.

【0038】更に、塗布ノズルから塗布液が吐出されな
いときは、塗布液が第3空所に存在しないので、塗布液
が空気にほとんど影響されなくなり、空気による劣化の
少ない良好な塗布液を常に吐出できるようになる。
Further, when the coating liquid is not discharged from the coating nozzle, since the coating liquid does not exist in the third space, the coating liquid is hardly affected by air, and a good coating liquid with little deterioration due to air is always discharged. become able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の薄膜形成装置用塗布ノズルの実施の
形態の一例が用いられている基板塗布装置を示す平面図
である。
FIG. 1 is a plan view showing a substrate coating apparatus using an embodiment of a coating nozzle for a thin film forming apparatus according to the present invention.

【図2】 図1に示す基板塗布装置を部分的に切り欠い
て示す正面図である。
FIG. 2 is a front view showing the substrate coating apparatus shown in FIG.

【図3】 図1に示す基板塗布装置を示す右側面図であ
る。
FIG. 3 is a right side view showing the substrate coating apparatus shown in FIG.

【図4】 図1に示す塗布液の供給制御回路を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram illustrating a coating liquid supply control circuit illustrated in FIG. 1;

【図5】 薄膜を形成するスピンコーティング装置を概
略的に示す図である。
FIG. 5 is a view schematically showing a spin coating apparatus for forming a thin film.

【図6】 図1に示す例の塗布ノズルを示し、(a)は
正面図、(b)は(a)におけるVIB-VIB線に沿う断面
図である。
6A and 6B show the application nozzle of the example shown in FIG. 1, wherein FIG. 6A is a front view, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along line VIB-VIB in FIG.

【図7】 図6に示す塗布ノズルの第1ノズル部材を示
し、(a)は正面図、(b)は(a)におけるVIIB-VII
B線に沿う断面図である。
7 shows a first nozzle member of the application nozzle shown in FIG. 6, (a) is a front view, and (b) is VIIB-VII in (a).
It is sectional drawing which follows the B line.

【図8】 この例における塗布ノズルを用いた薄膜形成
装置により基板に薄膜を形成する方法を説明する図であ
る。
FIG. 8 is a diagram illustrating a method of forming a thin film on a substrate by a thin film forming apparatus using a coating nozzle in this example.

【図9】 この例の塗布ノズルにより塗布液が所定の範
囲に塗布された基板を示す図である。
FIG. 9 is a view showing a substrate on which a coating liquid is applied in a predetermined range by a coating nozzle of this example.

【図10】図5に示すスピンコーティング装置により塗
布液が塗布された基板を示す図である。
FIG. 10 is a view showing a substrate on which a coating liquid is applied by the spin coating apparatus shown in FIG. 5;

【図11】本発明の他の例の塗布ノズルを示す断面図で
ある。
FIG. 11 is a sectional view showing a coating nozzle according to another example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…基板、1a…塗布面、1b…塗布面1aの塗布開始
位置、1c…塗布面1aの塗布終了位置、2…塗布液、
2a…基板1に塗布された塗布液、3…基板塗布装置、
4…スピンコーティング装置、4a…回転テーブル、4
b…モータ、15…電子制御装置、31…載置テーブ
ル、32…移動台、33…フレーム、34…モータ、3
6…ねじ杆、37…塗布ノズル、38…送給配管、39
…ソレノイドバルブ、40…原点センサ、41…限界セ
ンサ、42…送気ポンプ、43…第1ノズル部材、44
…第2ノズル部材、45…第1凹部、46…第2凹部、
47…第3凹部、48…溝、49…塗布液導入孔、5
0,51…軸受、52,53…ガイドレール、54…ガイ
ドねじ部材、55,56,57…ガイド部材、58…上下
動作動手段、A…第1空所、B…第2空所、C…第3空
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 1a ... Coating surface, 1b ... Coating start position of coating surface 1a, 1c ... Coating end position of coating surface 1a, 2 ... Coating liquid,
2a: coating liquid applied to substrate 1, 3: substrate coating device,
4 ... spin coating device, 4a ... rotary table, 4
b: motor, 15: electronic control unit, 31: mounting table, 32: moving table, 33: frame, 34: motor, 3
6: screw rod, 37: coating nozzle, 38: feed pipe, 39
... Solenoid valve, 40 ... Origin sensor, 41 ... Limit sensor, 42 ... Air supply pump, 43 ... First nozzle member, 44
... second nozzle member, 45 ... first concave portion, 46 ... second concave portion,
47: third concave portion, 48: groove, 49: coating liquid introduction hole, 5
0,51 ... bearing, 52,53 ... guide rail, 54 ... guide screw member, 55,56,57 ... guide member, 58 ... vertical movement moving means, A ... first space, B ... second space, C … The third space

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 塗布液が給送される、長手方向に延びた
比較的大きな第1空所と、長手方向に延びた第2空所
と、長手方向に沿って多数形成された、前記第1空所と
前記第2空所とを連通する多数の溝と、前記第2空所か
ら連続して形成され、長手方向に延び、その下端が吐出
口とされている比較的小さな第3空所とからなることを
特徴とする薄膜形成装置用塗布ノズル。
1. A relatively large first space extending in the longitudinal direction, a second space extending in the longitudinal direction, into which the coating liquid is fed, and a plurality of the first spaces formed in the longitudinal direction. A plurality of grooves communicating the first space and the second space, and a relatively small third space formed continuously from the second space, extending in the longitudinal direction, and having a lower end serving as a discharge port; And a coating nozzle for a thin film forming apparatus.
【請求項2】 前記第2空所は、断面がほぼ半円形状ま
たはほぼ円形状に形成されていることを特徴とする請求
項1記載の薄膜形成装置用塗布ノズル。
2. The coating nozzle for a thin film forming apparatus according to claim 1, wherein the second space has a substantially semicircular or substantially circular cross section.
【請求項3】 互いに重ね合わされる第1および第2ノ
ズル部材の2部材からなり、前記第1ないし第3空所お
よび前記溝が、第1および第2ノズル部材の少なくとも
一方に形成されていることを特徴とする請求項1または
2記載の薄膜形成装置用塗布ノズル。
3. A first and a second nozzle member, which are overlapped with each other, wherein the first to third voids and the groove are formed in at least one of the first and the second nozzle members. 3. The coating nozzle for a thin film forming apparatus according to claim 1, wherein
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100520271B1 (en) * 2004-10-14 2005-10-11 김흥기 Fluorescence material painting appratus using minute nozzle apparatus
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