JPH1064289A - Non-volatile memory - Google Patents

Non-volatile memory

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JPH1064289A
JPH1064289A JP22224396A JP22224396A JPH1064289A JP H1064289 A JPH1064289 A JP H1064289A JP 22224396 A JP22224396 A JP 22224396A JP 22224396 A JP22224396 A JP 22224396A JP H1064289 A JPH1064289 A JP H1064289A
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JP
Japan
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voltage
voltage supply
memory cell
supply transistor
nonvolatile memory
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Application number
JP22224396A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Sano
祐一 佐野
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NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a non-volatile memory by preventing the voltage drop of a selected word line due to current flowing into a non-selected word line on writing and by preventing a writing speed from decreasing. SOLUTION: In a column decoder of a non-volatile memory, a first reference voltage signal is applied to a transistor 7 that is connected between an internal generation voltage line PM and a word line 2 and a second reference voltage signal is applied to a transistor 9 being connected between the internal generation voltage line PM and a word line 3. At the time of writing data, when the word line 2 is selected, the first reference voltage signal, becomes a reference voltage and the second reference voltage signal becomes VPM by address signal A0, thus turning on the transistor 7, turning off the transistor 9, and preventing a steady current that flows to the non-selected word line 3 from flowing.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、不揮発性メモリに
関し、特に基準電圧とアドレスによりメモリセルを選択
する行デコーダを有する不揮発性メモリに関する。
The present invention relates to a nonvolatile memory, and more particularly, to a nonvolatile memory having a row decoder for selecting a memory cell according to a reference voltage and an address.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3はメモリセルの構造を示す断面図で
ある。まず、これを用いて書き込みの基本動作を説明す
る。不揮発性メモリのセルはP型半導体基板94に形成
され、ドレインとしてのN型拡散層92とソースとして
のN型拡散層93とを有している。これらN型拡散層9
2,93間のP型半導体基板94上にはトンネル酸化膜
95が形成され、このトンネル酸化膜95上にフローテ
ィングゲート91が形成され、このフローティングゲー
ト91上に酸化膜96が形成され、この酸化膜96上に
コントロールゲート90が形成されている。不揮発性メ
モリ内には多数のメモリセルをマトリクス状に有し、行
デコーダと列デコーダとで選択されるメモリセルに対し
てデータの書き込み、読み出しが行なわれている。この
メモリセルへのデータの書き込みはコントロールゲート
90とドレイン拡散層92とに高電圧を印加し、ソース
拡散層93を接地した状態で、ドレイン拡散層92から
ソース拡散層93にチャネル電流を流す事によりホット
エレクトロンを発生させ、このホットエレクトロンをト
ンネル酸化膜95を介してフローティングゲート91に
注入することにより行っている。このデータの書き込み
により、メモリセルのしきい値は2Vから6V程度に上
がる。不揮発性メモリからのデータの読み出しは選択さ
れたメモリセルのしきい値の変化を用いて行っている。
2. Description of the Related Art FIG. 3 is a sectional view showing a structure of a memory cell. First, the basic operation of writing will be described using this. The cell of the nonvolatile memory is formed on a P-type semiconductor substrate 94 and has an N-type diffusion layer 92 as a drain and an N-type diffusion layer 93 as a source. These N-type diffusion layers 9
A tunnel oxide film 95 is formed on P-type semiconductor substrate 94 between 2 and 93, a floating gate 91 is formed on tunnel oxide film 95, and an oxide film 96 is formed on floating gate 91. A control gate 90 is formed on the film 96. A nonvolatile memory has a large number of memory cells arranged in a matrix, and data is written to and read from memory cells selected by a row decoder and a column decoder. To write data into the memory cell, a high voltage is applied to the control gate 90 and the drain diffusion layer 92, and a channel current flows from the drain diffusion layer 92 to the source diffusion layer 93 with the source diffusion layer 93 grounded. To generate hot electrons, and the hot electrons are injected into the floating gate 91 through the tunnel oxide film 95. This data writing raises the threshold value of the memory cell from 2V to about 6V. Reading of data from the non-volatile memory is performed using a change in the threshold value of the selected memory cell.

【0003】次に回路図を用いて、従来の不揮発性メモ
リのデータ書き込みの動作を説明する。
Next, a data writing operation of a conventional nonvolatile memory will be described with reference to a circuit diagram.

【0004】従来の不揮発性メモリの回路構成の概略
は、図4に示される様に、行と列とで構成されるマトリ
クス状に多数のメモリセル50,51,52,53・・
・を有するメモリセルアレイ63と、このメモリセルア
レイ63中の特定の行(ワード線2,3)を選択する行
デコーダ1と、特定の列(ビット線61,62)を選択
する列デコーダ54と、行デコーダ1等の動作に用いる
電圧VPMと基準電圧とを発生するVPM発生回路84
および基準電圧発生回路4と、行デコーダ1と列デコー
ダ54とで選択されたメモリセルにデータ書き込みを行
う書き込み回路55と、同様に選択されたメモリセルか
らデータの読み出しを行うセンスアンプ56とを有して
構成されている。
[0004] As shown in FIG. 4, a circuit configuration of a conventional nonvolatile memory is schematically represented by a large number of memory cells 50, 51, 52, 53,.
, A row decoder 1 for selecting a specific row (word lines 2 and 3) in the memory cell array 63, and a column decoder 54 for selecting a specific column (bit lines 61 and 62). VPM generation circuit 84 for generating a voltage VPM used for the operation of row decoder 1 and the like and a reference voltage
And a reference voltage generating circuit 4, a write circuit 55 for writing data to a memory cell selected by the row decoder 1 and the column decoder 54, and a sense amplifier 56 for reading data from the selected memory cell. It is configured to have.

【0005】メモリセルアレイ63内ではマトリクス状
に配列されたメモリセル50,51,52,53・・・
の同じ行に属するセルのゲートはワード線2,3に接続
され、同じ列に属するセルのドレインはビット線61,
62に接続されている。ビット線61,62はNチャネ
ルトランジスタ57,58を介して書き込み回路55と
センスアンプ56に接続され、列デコーダ54からの列
セレクト信号59,60をNチャネルトランジスタ5
7,58のゲートに与えることによってビット線61,
62の選択をしている。
In the memory cell array 63, memory cells 50, 51, 52, 53,...
Of the cells belonging to the same row are connected to word lines 2 and 3, and the drains of the cells belonging to the same column are connected to bit lines 61 and
62. The bit lines 61 and 62 are connected to the write circuit 55 and the sense amplifier 56 via N-channel transistors 57 and 58, and apply column select signals 59 and 60 from the column decoder 54 to the N-channel transistor 5
7 and 58, the bit lines 61,
There are 62 selections.

【0006】行デコーダ1は、アドレス信号A0,A1
を入力とする2入力NAND22と、アドレス信号A0
を入力とするインバータ19と、アドレス信号A1およ
びインバータ19の出力信号20を入力とする2入力N
AND21とでアドレス信号をデコードし、ソースがV
DD、ゲートが2入力NAND22の出力信号17、ド
レインが接点25につながるPチャネルトランジスタ1
3と、ソースがGND、ゲートが出力信号17、ドレイ
ンが接点25につながるNチャネルトランジスタ12
と、制御信号6をゲート入力とし、接点25とワード線
2につながるNチャネルトランジスタ11と、ゲートが
各々、基準電圧信号5と、出力信号17に接続され、内
部発生電圧線PMとワード線2に直列につながるPチャ
ネルトランジスタ7,8とでビット線2を駆動し、ソー
スがDD、ゲートが2入力NAND21の出力信号1
8、ドレインが接点26につながるPチャネルトランジ
スタ14と、ソースがGND、ゲートが出力信号18、
ドレインが接点26につながるNチャネルトランジスタ
15と、制御信号6をゲート入力とし、接点26とワー
ド線3につながるNチャネルトランジスタ16と、ゲー
トが各々、基準電圧信号5と、出力信号18に接続さ
れ、内部発生電圧線PMとワード線3に直列につながる
Pチャネルトランジスタ9,10とでビット線3を駆動
するように構成されている。
The row decoder 1 includes address signals A0, A1
And a two-input NAND 22 having an address signal A0
19, and a two-input N which receives an address signal A1 and an output signal 20 of the inverter 19 as inputs.
The address signal is decoded by AND21 and the source is V
DD, P-channel transistor 1 having gate connected to output signal 17 of 2-input NAND 22 and drain connected to contact 25
3, an N-channel transistor 12 whose source is GND, whose gate is the output signal 17, and whose drain is connected to the contact 25.
And the control signal 6 as a gate input, the N-channel transistor 11 connected to the contact 25 and the word line 2, and the gate is connected to the reference voltage signal 5 and the output signal 17, respectively. The bit line 2 is driven by the P-channel transistors 7 and 8 connected in series to the source, the source is DD, and the gate is the output signal 1 of the two-input NAND 21.
8, the P-channel transistor 14 whose drain is connected to the contact 26, the source is GND, the gate is the output signal 18,
An N-channel transistor 15 having a drain connected to a contact 26, a control signal 6 as a gate input, an N-channel transistor 16 connected to the contact 26 and the word line 3, and a gate connected to a reference voltage signal 5 and an output signal 18, respectively. The bit line 3 is configured to be driven by the internally generated voltage line PM and the P-channel transistors 9 and 10 connected in series to the word line 3.

【0007】行デコーダ1内の基準電圧信号線5は基準
電圧発生回路4の出力に接続され、この基準電圧発生回
路4は内部発生電圧線PMと基準電圧信号5につながる
抵抗素子29と、基準電圧信号5と接点28につながる
抵抗素子23と、ソースがGND、ゲートが制御信号2
4、ドレインが接点28につながるNチャネルトランジ
スタ27で構成されている。
The reference voltage signal line 5 in the row decoder 1 is connected to the output of the reference voltage generation circuit 4. The reference voltage generation circuit 4 includes an internally generated voltage line PM, a resistance element 29 connected to the reference voltage signal 5, The resistance element 23 connected to the voltage signal 5 and the contact 28, the source is GND, and the gate is the control signal 2
4. An N-channel transistor 27 whose drain is connected to the contact 28.

【0008】また、行デコーダ1内の内部発生電圧線P
MはVPM発生回路84の出力に接続されており、この
VPM発生回路84は、制御信号80をゲート入力と
し、電圧VPPと内部発生電圧線PMにつながるPチャ
ネルトランジスタ81と、制御信号82をゲート入力と
し、電圧VDDと内部発生電圧線PMにつながるPチャ
ネルトランジスタ83により構成されている。電圧VD
Dは5V程度である。一方、電圧VPPは、メモリセル
への書き込み時にメモリセルのコントロールゲートに印
加される電圧を供給する電源であり、電圧VDDよりも
十分高い10V程度の電圧が供給される。
The internally generated voltage line P in row decoder 1
M is connected to the output of a VPM generation circuit 84. The VPM generation circuit 84 has a control signal 80 as a gate input, and gates a P-channel transistor 81 connected to the voltage VPP and the internally generated voltage line PM, and a control signal 82. It is constituted by a P-channel transistor 83 that is connected to the voltage VDD and the internally generated voltage line PM. Voltage VD
D is about 5V. On the other hand, the voltage VPP is a power supply that supplies a voltage applied to the control gate of the memory cell at the time of writing to the memory cell, and a voltage of about 10 V, which is sufficiently higher than the voltage VDD, is supplied.

【0009】次に、書き込みの動作について説明する。
データの書き込みはメモリセルトランジスタ50へ行う
場合を考える。
Next, the write operation will be described.
It is assumed that data is written to the memory cell transistor 50.

【0010】まず、ビット線の選択について説明する。
列セレクト信号59,60を各々、ロウレベル、ハイレ
ベルとし、Nチャネルトランジスタ57,58を各々オ
フ,オンさせてビット線62を活性化する。書き込み回
路55からメモリセルのドレインに供給すべき書き込み
電圧を出力し、Nチャネルトランジスタ58を介して、
ビット線62にこの書き込み電圧を供給する。
First, selection of a bit line will be described.
The column select signals 59 and 60 are set to low level and high level, respectively, and the N-channel transistors 57 and 58 are turned off and on, respectively, to activate the bit line 62. A write voltage to be supplied to the drain of the memory cell is output from the write circuit 55, and is output via the N-channel transistor 58.
This write voltage is supplied to the bit line 62.

【0011】次にワード線の選択について説明する。メ
モリセルへの書込み時、制御信号80,82を各々ロウ
レベル、VPPとすることにより、Pチャネルトランジ
スタ81,83は各々オン,オフとなるため、内部発生
電圧線PMにはVPPから電圧が供給される。この電圧
値をVPMと表す。
Next, selection of a word line will be described. At the time of writing to the memory cell, the control signals 80 and 82 are set to low level and VPP, respectively, so that the P-channel transistors 81 and 83 are turned on and off, respectively. Therefore, the voltage is supplied from the VPP to the internally generated voltage line PM. You. This voltage value is represented as VPM.

【0012】基準電圧信号5の電位は、内部発生電圧線
PMより供給され、制御信号24をハイレベルとし、N
チャネルトランジスタ27をオンさせることにより、抵
抗素子29,23の抵抗比で決まる電位となる。ここ
で、基準電圧信号5の電位は、Pチャネルトランジスタ
7,9をオンさせるほど低く、かつPチャネルトランジ
スタ7,9のオン電流を極力少なくするよう9V程度の
電位に設定する。
The potential of the reference voltage signal 5 is supplied from an internally generated voltage line PM, and the control signal 24 is set to a high level.
When the channel transistor 27 is turned on, the potential is determined by the resistance ratio of the resistance elements 29 and 23. Here, the potential of the reference voltage signal 5 is set to be lower as the P-channel transistors 7 and 9 are turned on, and set to a potential of about 9 V so as to minimize the on-current of the P-channel transistors 7 and 9.

【0013】メモリセルトランジスタ50に書き込みを
行う場合、アドレス信号A0,A1は、ワード線2を選
択するよう、ハイレベルが入力され、2入力NAND2
2の出力信号17は、ロウレベルとなり、Pチャネルト
ランジスタ13,8はオン、Nチャネルトランジスタ1
2はオフとなる。ここで、制御信号6をハイレベルとす
ることにより、ワード線2は、Pチャネルトランジスタ
7,8を介してVPMまで充電され、Nチャネルトラン
ジスタ11は、接点25,制御信号6がハイレベル,ワ
ード線2がVPMによりオフとなる。
When writing to the memory cell transistor 50, the address signals A0 and A1 are input at a high level so as to select the word line 2, and the two-input NAND2
2 becomes low level, the P-channel transistors 13 and 8 are turned on, and the N-channel transistor 1 is turned on.
2 is off. Here, by setting the control signal 6 to the high level, the word line 2 is charged to VPM via the P-channel transistors 7 and 8, and the N-channel transistor 11 has the contact 25, the control signal 6 having the high level and the word Line 2 is turned off by VPM.

【0014】次に、非選択であるワード線3の電位は、
以下の動作によりロウレベルになる。アドレス信号A0
がハイレベルの場合、インバータ19の出力信号20
は、ロウレベル、2入力NAND21の出力信号18は
ハイレベルとなり、Pチャネルトランジスタ14はオ
フ、Nチャネルトランジスタ15はオンとなる。また、
Pチャネルトランジスタ9は基準電圧信号5によりオ
ン、Pチャネルトランジスタ10は、ゲート入力である
出力信号18がハイレベルであるが、Pチャネルトラン
ジスタ9を介してソースに供給されるVPMよりも十分
に低い電圧であるためオン、Nチャネルトランジスタ1
5,16は各々、出力信号18、制御信号6がハイレベ
ルのためオンとなる。よって、内部発生電圧線PMから
GNDへ定常的に電流が流れるが、この電流値は、Pチ
ャネルトランジスタ9,10およびNチャネルトランジ
スタ15,16のオン抵抗により決まる。この時、Pチ
ャネルトランジスタ9のオン電流は、基準電圧信号5に
より極力少なくなるように設定されているので、Pチャ
ネルトランジスタ9のオン抵抗は、Nチャネルトランジ
スタ15,16のオン抵抗と比較して十分大きく、ワー
ド線3の電位はロウレベルとなる。
Next, the potential of the unselected word line 3 is
It becomes low level by the following operation. Address signal A0
Is high, the output signal 20 of the inverter 19
Is low level, the output signal 18 of the two-input NAND 21 becomes high level, the P-channel transistor 14 is turned off, and the N-channel transistor 15 is turned on. Also,
The P-channel transistor 9 is turned on by the reference voltage signal 5, and the P-channel transistor 10 has the output signal 18, which is the gate input, at a high level, but sufficiently lower than VPM supplied to the source via the P-channel transistor 9. ON because of voltage, N-channel transistor 1
5 and 16 are turned on because the output signal 18 and the control signal 6 are high level. Therefore, a current constantly flows from the internally generated voltage line PM to GND, and the current value is determined by the on-resistance of the P-channel transistors 9 and 10 and the N-channel transistors 15 and 16. At this time, the on-state current of the P-channel transistor 9 is set to be as small as possible by the reference voltage signal 5, so that the on-state resistance of the P-channel transistor 9 is compared with the on-state resistance of the N-channel transistors 15 and 16. It is sufficiently large, and the potential of the word line 3 becomes low level.

【0015】以上のように、メモリセルへの書き込み
時、選択されたワード線には、VPMが印加され、その
他の非選択のワード線はロウレベルとなるが、非選択の
ワード線には定常的な電流が流れる。この電流はVPP
から供給され、非選択の全ワード線に流れるので総電流
値は多くなる。この総電流値が多くなると、VPMはV
PPに比べて低くなってしまう。
As described above, at the time of writing to a memory cell, VPM is applied to the selected word line and the other unselected word lines are at the low level. Current flows. This current is VPP
, And flows through all non-selected word lines, so that the total current value increases. When the total current value increases, VPM becomes V
It will be lower than PP.

【0016】次に、このVPMの電位低下について、図
5を用いて説明する。図5はVPPからPチャネルトラ
ンジスタ81から内部発生電圧線PMを介してPチャネ
ルトランジスタ7,8,9,10を流れる経路を等価的
に示したものである。同図中、抵抗R1は、図4のPチ
ャネルトランジスタ81のオン抵抗、抵抗R2は選択さ
れたワード線2につながるPチャネルトランジスタ7,
8のオン抵抗、抵抗R3は非選択ワード線3につながる
Pチャネルトランジスタ9,10およびNチャネルトラ
ンジスタ15,16のオン抵抗を表す。ここで、非選択
のワード線に定常的に流れる電流をI3とする。書き込
み時に選択されるワード線は全ワード線中で1本である
ので、その1本を除く非選択ワード線の総数をnとし、
VPPから流れる電流をI1とすると、電流I1は電流
I3のn倍となる。また、選択されたワード線に印加さ
れるVPMは、次式で表わせる。
Next, the decrease in the potential of the VPM will be described with reference to FIG. FIG. 5 equivalently shows a path flowing from PPP to P-channel transistors 7, 8, 9, and 10 from P-channel transistor 81 through internally generated voltage line PM. 4, a resistor R1 is an on-resistance of the P-channel transistor 81 of FIG. 4, and a resistor R2 is a P-channel transistor 7 connected to the selected word line 2.
The on resistance 8 and the resistance R3 represent the on resistances of the P-channel transistors 9 and 10 and the N-channel transistors 15 and 16 connected to the unselected word line 3. Here, the current that constantly flows through the unselected word lines is defined as I3. Since the word line selected at the time of writing is one in all the word lines, the total number of non-selected word lines excluding the one is n,
Assuming that the current flowing from the VPP is I1, the current I1 is n times the current I3. The VPM applied to the selected word line can be expressed by the following equation.

【0017】VPM=VPP−R1×I1=VPP−R
1×(I3×n) よって、メモリセル容量を増やすことはワード線を増や
すこととなるので、大容量の不揮発性メモリでは非選択
ワード線の本数nが増えることにより、VPMのVPP
からの電圧降下が大きくなることとなる。
VPM = VPP-R1 × I1 = VPP-R
1 × (I3 × n) Therefore, increasing the memory cell capacity means increasing the number of word lines. Therefore, in a large-capacity nonvolatile memory, the number n of non-selected word lines increases, so that the VPP of the VPM increases.
The voltage drop from.

【0018】なお、非選択ワード線の本数nが増えた場
合に、VPMの低下を抑える方法として、抵抗R1と電
流I3とを小さくすることが考えられるが、抵抗R1を
小さくするためには、Pチャネルトランジスタ81のサ
イズを非選択ワード線の総数nに比例して大きくしなけ
ればならず、チップ面積が増大する電流I3を小さくす
るためには、基準電圧信号5の出力電圧を高くしなけれ
ばならず、選択ワード線2につながるPチャネルトラン
ジスタ7は確実にオンさせなければならないことを考え
ると限界があるといった理由により実現が困難である。
When the number n of the non-selected word lines increases, as a method of suppressing the decrease in the VPM, it is conceivable to reduce the resistance R1 and the current I3. The size of the P-channel transistor 81 must be increased in proportion to the total number n of the unselected word lines. To reduce the current I3 that increases the chip area, the output voltage of the reference voltage signal 5 must be increased. However, it is difficult to realize the P-channel transistor 7 connected to the selected word line 2 because there is a limit when considering that the P-channel transistor 7 must be turned on reliably.

【0019】[0019]

【発明が解決しようとする課題】従来の不揮発性メモリ
は、以上の様に、非選択ワード線に定常的な電流が流れ
るため、書き込み時の消費電流が大きくなるという問題
があった。また、メモリセル容量の増大に伴うワード線
数の増加により、書き込み時に非選択のワード線が増
え、この多数のワード線に定常的に流れる総電流が増加
し、選択されたワード線の電圧が所期の電圧よりも低く
なり、書き込みスピードが低下するという問題があっ
た。
As described above, the conventional non-volatile memory has a problem that the current consumption at the time of writing increases because a steady current flows through the non-selected word lines. In addition, due to the increase in the number of word lines due to the increase in the memory cell capacity, the number of non-selected word lines at the time of writing increases, the total current constantly flowing through the many word lines increases, and the voltage of the selected word lines decreases. There has been a problem that the voltage becomes lower than the expected voltage and the writing speed is reduced.

【0020】本発明の目的は、非選択ワード線に定常的
に流れる電流を低減することにある。また、メモリセル
容量の増大に伴うワード線数の増加により、書き込み時
に全非選択ワード線に流れる電流の増加を防止し、選択
されたワード線電圧の低下を防止、ひいては書き込みス
ピードの低下を防ぐことにある。
An object of the present invention is to reduce a current constantly flowing through an unselected word line. In addition, an increase in the number of word lines accompanying an increase in memory cell capacity prevents an increase in current flowing through all non-selected word lines at the time of writing, prevents a selected word line voltage from lowering, and thereby prevents a writing speed from lowering. It is in.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、メモリ
セルへの書き込み時にメモリセルのコントロールゲート
に電圧を供給する電圧供給トランジスタ回路をメモリセ
ルマトリクスの行数を備えた行デコーダを有する不揮発
性メモリにおいて、電圧供給トランジスタ回路を複数の
ブロックに分割し、各々のブロックの電圧供給トランジ
スタ回路の電圧供給能力をアドレスに応じて制御できる
ようにした不揮発性メモリを得る。
According to the present invention, a voltage supply transistor circuit for supplying a voltage to a control gate of a memory cell at the time of writing to a memory cell is provided by a nonvolatile memory having a row decoder having the number of rows of a memory cell matrix. In a nonvolatile memory, a voltage supply transistor circuit is divided into a plurality of blocks, and a nonvolatile memory is obtained in which the voltage supply capability of the voltage supply transistor circuit in each block can be controlled according to an address.

【0022】電圧供給トランジスタ回路はゲートに制御
電圧を受けるトランジスタを直列に有し、電圧供給能力
をこの制御電圧で制御するようにすることが出来る。ま
た、電圧供給トランジスタ回路の電圧供給能力は、その
電圧供給トランジスタ回路によって、コントロールゲー
トに電圧が供給されるメモリセルがアドレスにより選択
されていない場合には電圧供給能力を低下するように出
来る。
The voltage supply transistor circuit includes a transistor having a gate receiving a control voltage in series, and the voltage supply capability can be controlled by the control voltage. Further, the voltage supply capability of the voltage supply transistor circuit can be reduced by the voltage supply transistor circuit when a memory cell to which a voltage is supplied to the control gate is not selected by an address.

【0023】本発明によれば、アドレスによって選択さ
れたワード線又は選択されたブロックのワード線には、
定常的に電流が流れるが、非選択のワード線又は非選択
のブロックのワード線には電流が流れなくなる。これに
より、非選択ワード線の数に関例なく非選択ワード線を
流れる総電流を小さくし、選択ワード線の電圧降下を防
止できる。
According to the present invention, the word line selected by the address or the word line of the selected block includes:
A current flows constantly, but no current flows through unselected word lines or word lines of unselected blocks. This makes it possible to reduce the total current flowing through the unselected word lines irrespective of the number of unselected word lines, thereby preventing a voltage drop on the selected word lines.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して、より詳細に説明する。
Next, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

【0025】図1は、本発明の第1の実施の形態である
不揮発性メモリの構成を示す回路の概略図である。図1
において、図4の従来例と同等の部分には同一の参照符
号が付されているので、重複した説明は省略する。
FIG. 1 is a schematic diagram of a circuit showing a configuration of a nonvolatile memory according to a first embodiment of the present invention. FIG.
, The same reference numerals are given to the same parts as those in the conventional example in FIG.

【0026】本実施の形態では従来の回路構成のうち基
準電圧発生回路4をアドレスによって制御された複数の
基準電圧を発生するようにした基準電圧発生回路4の構
成としている。すなわち、基準電圧発生回路4は、制御
信号24とアドレス信号A0を入力とする2入力NAN
D108と、この2入力NANDの出力信号109をゲ
ート入力とするインバータ110と、このインバータ1
10の出力111をゲートに受けるNチャネルトランジ
スタ27と、このNチャネルトランジスタ27のドレイ
ンに接点28で接続された抵抗23と、抵抗23と内部
発生電圧線PMとの間に接続された抵抗29とを含み、
抵抗23と29との接続点に接続された基準電圧信号線
5に第1の基準電圧を発生する部分と、制御信号24と
出力信号20をゲート入力とする2入力NAND104
と、この2入力NAND104の出力信号105をゲー
ト入力とするインバータ106と、このインバータ10
6の出力信号107をゲート入力とし、ドレインが接点
112、ソースがGNDにつながるNチャネルトランジ
スタ103と、接点112に接続された抵抗102と、
内部発生電圧線PMと抵抗102との間に接続された抵
抗素子101とを含み、抵抗101と102との接続点
に接続された基準電圧信号線100に第2の基準電圧を
発生する部分とを有している。
In the present embodiment, the reference voltage generating circuit 4 of the conventional circuit configuration is configured to generate a plurality of reference voltages controlled by addresses. That is, the reference voltage generating circuit 4 is a two-input NAN that receives the control signal 24 and the address signal A0 as inputs.
D108, the inverter 110 having the gate input of the output signal 109 of the two-input NAND, and the inverter 1
An N-channel transistor 27 having a gate receiving the output 111 of the N-channel transistor 10, a resistor 23 connected to the drain of the N-channel transistor 27 at a contact 28, and a resistor 29 connected between the resistor 23 and the internally generated voltage line PM. Including
A portion for generating a first reference voltage on a reference voltage signal line 5 connected to a connection point between the resistors 23 and 29, and a two-input NAND 104 having a control signal 24 and an output signal 20 as gate inputs
And an inverter 106 having an output signal 105 of the two-input NAND 104 as a gate input, and an inverter 10
6, an N-channel transistor 103 whose drain is connected to the contact 112 and whose source is connected to GND, the resistor 102 connected to the contact 112,
A portion including a resistance element 101 connected between the internally generated voltage line PM and the resistor 102, and generating a second reference voltage on a reference voltage signal line 100 connected to a connection point between the resistors 101 and 102; have.

【0027】次に、この実施の形態の書き込み動作につ
いて説明する。
Next, the write operation of this embodiment will be described.

【0028】メモリセルトランジスタ50にデータを書
き込む場合、アドレス信号A0と制御信号24はハイレ
ベルであるので、出力信号109はロウレベル,出力信
号111はハイレベルとなり、基準電圧信号線5には基
準電圧である9V程度の電圧が出力され、選択されたワ
ード線2にはVPMが印加される。
When writing data to the memory cell transistor 50, the address signal A0 and the control signal 24 are at high level, the output signal 109 is at low level, the output signal 111 is at high level, and the reference voltage signal line 5 is connected to the reference voltage signal line 5. And a voltage of about 9 V is output, and VPM is applied to the selected word line 2.

【0029】一方、出力信号20はロウレベルであるの
で、出力信号105はハイレベル、出力信号107はロ
ウレベルとなり、基準電圧信号100はVPMとなる。
よって、非選択のワード線3につながるPチャネルトラ
ンジスタ9はオフし、Nチャネルトランジスタ15,1
6はオンであるので、非選択のワード線3はロウレベル
となるが、Pチャネルトランジスタ9がオフしているた
めに、非選択ワード線3に流れる定常的な電流はなくな
る。
On the other hand, since the output signal 20 is at a low level, the output signal 105 is at a high level, the output signal 107 is at a low level, and the reference voltage signal 100 is at VPM.
Therefore, the P-channel transistor 9 connected to the unselected word line 3 is turned off, and the N-channel transistors 15, 1
Since 6 is on, the unselected word line 3 goes low, but there is no steady current flowing through the unselected word line 3 because the P-channel transistor 9 is off.

【0030】図1ではワード線は2本であるが、実際に
は多数存在し、各ワード線に対応してトランジスタ7,
8やトランジスタ9,10の電圧供給トランジスタが存
在する。これら電圧供給トランジスタを複数のワード線
毎にブロック化し、そのブロック毎に基準電圧を基準電
圧発生回路4′から供給するようになされる。もちろ
ん、基準電圧発生回路4′からワード線の数に応じた基
準電圧を発生させ、選択されたメモリセルを有するワー
ド線に接続した電圧供給トランジスタにのみ9Vの基準
電圧を与え他の電圧供給トランジスタにVPMの基準電
圧を与えるようにしても良い。
Although there are two word lines in FIG. 1, there are actually many word lines, and transistors 7 and
8 and transistors 9 and 10 for voltage supply. These voltage supply transistors are divided into blocks for each of a plurality of word lines, and a reference voltage is supplied from the reference voltage generation circuit 4 'for each block. Of course, a reference voltage corresponding to the number of word lines is generated from the reference voltage generation circuit 4 ', and a reference voltage of 9 V is applied only to the voltage supply transistor connected to the word line having the selected memory cell. May be provided with a VPM reference voltage.

【0031】このように、行のワード線単位又はワード
線をブロックに分割して、そのブロック単位で基準電圧
信号線(5,100)を分け、それぞれの基準電圧信号
線(5,100)にVPMまたは基準電圧を出力するよ
うアドレスにより選択することで、非選択ワード線に流
れる定常的な電流は、無くせるか又は選択ワード線を含
む1ブロックのみに限定される。よって、メモリセルの
増加に伴いワード線の本数が増える場合でも非選択のワ
ード線に流れる定常的な電流は増えない。
As described above, a word line unit or a word line of a row is divided into blocks, and the reference voltage signal lines (5, 100) are divided in units of the blocks. By selecting the address to output the VPM or the reference voltage, the steady current flowing through the unselected word line can be eliminated or limited to only one block including the selected word line. Therefore, even when the number of word lines increases as the number of memory cells increases, the steady current flowing through the unselected word lines does not increase.

【0032】例えば、ワード線の本数を2倍にしたい場
合、行デコーダ1のトランジスタ7,8や9,10の電
圧供給トランジスタ回路を2分割のブロックとし、基準
電圧発生回路4′からの基準電圧信号を2つに分けるこ
とで、一方のブロックには基準電圧を、もう一方のブロ
ックにはVPMを基準電圧信号線(5,100)より入
力するよう、アドレスにより選択することで、全非選択
ワード線に流れる総電流は変わらない。よって、選択ワ
ード線の電圧降下が大きくなることを抑えることができ
る。
For example, when it is desired to double the number of word lines, the voltage supply transistor circuits of the transistors 7, 8, 9 and 10 of the row decoder 1 are divided into two blocks, and the reference voltage from the reference voltage generation circuit 4 '. By dividing the signal into two, one block receives the reference voltage and the other block receives the VPM from the reference voltage signal line (5, 100). The total current flowing through the word line does not change. Therefore, it is possible to suppress an increase in the voltage drop of the selected word line.

【0033】また、ワード線の本数が増えなくても、行
デコーダ1のトランジスタ7,8や9,10の電圧供給
トランジスタ回路をあるブロックに分割し、基準電圧を
分ければ、非選択ワード線に流れる定常的な電流が減る
ため、VPMの低下をより一層抑えることができととも
に、低消費電力化が可能になる。
Even if the number of word lines does not increase, the voltage supply transistor circuits of the transistors 7, 8, 9 and 10 of the row decoder 1 are divided into certain blocks, and if the reference voltage is divided, a non-selected word line can be obtained. Since the flowing steady current is reduced, the reduction in VPM can be further suppressed and the power consumption can be reduced.

【0034】ここで、最適な行デコーダのブロック分割
数は、許容できる選択ワード線の電圧降下分と、基準電
圧発生回路の素子数増加分によるチップ面積の増加を考
慮し、決定すればよい。
Here, the optimum number of block divisions of the row decoder may be determined in consideration of an allowable voltage drop of the selected word line and an increase in chip area due to an increase in the number of elements of the reference voltage generation circuit.

【0035】図2は、本発明の第2の実施の形態である
不揮発性メモリの構成を示す回路の概略図である。
FIG. 2 is a schematic diagram of a circuit showing a configuration of a nonvolatile memory according to a second embodiment of the present invention.

【0036】本実施の形態では、基準電圧発生回路
4′′が、内部発生電圧線PMと接点204につながる
抵抗素子29と、接点204と接点28につながる抵抗
素子23と、ドレインが接点28、ゲートが制御信号2
4、ソースがGNDにつながるNチャネルトランジスタ
27と、ゲート入力が制御信号24とアドレス信号A0
である2入力NAND214と、ソースが内部発生電圧
線PM、ゲートが接点205、ドレインが接点206に
つながるPチャネルトランジスタ207と、ドレインが
接点206、ゲートが2入力NAND214の出力信号
212、ソースがGNDにつながるNチャネルトランジ
スタ211と、ソースが内部発生電圧線PM、ゲートが
接点206、ドレインが接点205につながるPチャネ
ルトランジスタ208と、出力信号212をゲート入力
とするインバータ213と、ドレインが接点205、ゲ
ートがインバータ213の出力信号210、ソースがG
NDにつながるNチャネルトランジスタ209と、接点
206をゲート入力とし、接点204と基準電圧信号線
100につながるPチャネルトランジスタ200と、接
点205をゲート入力とし、内部発生電圧線PMと基準
電圧信号線100につながるPチャネルトランジスタ2
01と、接点205をゲート入力とし、接点204と基
準電圧信号線5につながるPチャネルトランジスタ20
2と、接点206をゲート入力とし、内部発生電圧線P
Mと基準電圧信号線5につながるPチャネルトランジス
タ203により構成されている。
In the present embodiment, the reference voltage generating circuit 4 ″ includes the resistor 29 connected to the internally generated voltage line PM and the contact 204, the resistor 23 connected to the contact 204 and the contact 28, and the drain connected to the contact 28. Gate is control signal 2
4. N-channel transistor 27 whose source is connected to GND, and whose gate inputs are control signal 24 and address signal A0
, A P-channel transistor 207 whose source is the internally generated voltage line PM, whose gate is connected to the contact 205 and whose drain is connected to the contact 206, whose drain is the contact 206, whose output is the output signal 212 of the two-input NAND 214, and whose source is GND , An N-channel transistor 211 having a source connected to the internally generated voltage line PM, a gate connected to the contact 206, a drain connected to the contact 205, an inverter 213 having the output signal 212 as a gate input, and a drain connected to the contact 205. The gate is the output signal 210 of the inverter 213 and the source is G
An N-channel transistor 209 connected to ND, a contact 206 is used as a gate input, a P-channel transistor 200 connected to the contact 204 and the reference voltage signal line 100, and a contact 205 is used as a gate input, and an internally generated voltage line PM and a reference voltage signal line 100 are used. P-channel transistor 2 connected to
01 and the P-channel transistor 20 connected to the contact 204 and the reference voltage signal line 5 using the contact 205 as a gate input.
2 and the contact 206 as a gate input, and the internally generated voltage line P
M and a P-channel transistor 203 connected to the reference voltage signal line 5.

【0037】メモリセルトランジスタ50にデータを書
き込む場合、アドレス信号A0はハイレベル、制御信号
24はハイレベルであるので、2入力NAND214の
出力信号212はロウレベル、インバータ213の出力
信号210はハイレベルとなり、Nチャネルトランジス
タ209,211は各々オン,オフとなる。ここで、接
点205は、ロウレベルとなり、Pチャネルトランジス
タ207はオンし、接点206はVPMとなり、Pチャ
ネルトランジスタ208はオフする。また、接点204
は、制御信号24がハイレベルであるので、基準電圧と
なる9V程度の電位となり、接点205および接点20
6がロウレベルおよびVPMであるので、Pチャネルト
ランジスタ200,201は各々オフ,オン、Pチャネ
ルトランジスタ202,203は各々オン,オフとな
る。これにより、基準電圧信号線5には、基準電圧が出
力され、基準電圧信号線100にはVPMが出力され
る。
When writing data to the memory cell transistor 50, the address signal A0 is at the high level and the control signal 24 is at the high level. Therefore, the output signal 212 of the two-input NAND 214 is at the low level, and the output signal 210 of the inverter 213 is at the high level. , N-channel transistors 209 and 211 are turned on and off, respectively. Here, the contact 205 becomes low level, the P-channel transistor 207 turns on, the contact 206 turns to VPM, and the P-channel transistor 208 turns off. Also, the contact 204
Since the control signal 24 is at a high level, the potential becomes about 9 V, which is the reference voltage.
Since 6 is low level and VPM, P channel transistors 200 and 201 are off and on, respectively, and P channel transistors 202 and 203 are on and off respectively. As a result, the reference voltage is output to the reference voltage signal line 5, and VPM is output to the reference voltage signal line 100.

【0038】よって、選択ワード線2につながるPチャ
ネルトランジスタ7はオンし、ワード線2にVPMを供
給する。また、非選択ワード線3につながるPチャネル
トランジスタ9はオフし、ワード線3はロウレベルとな
るが、定常的な電流は流れない。
Therefore, the P-channel transistor 7 connected to the selected word line 2 is turned on, and supplies VPM to the word line 2. Further, the P-channel transistor 9 connected to the unselected word line 3 is turned off, and the word line 3 becomes low level, but no steady current flows.

【0039】以上、好ましい実施の形態について説明し
たが、本発明は、これらの実施の形態に限定されるもの
ではなく、各種の変更が可能である。
Although the preferred embodiments have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications are possible.

【0040】例えば、電源VDDの電圧を5V、電源V
PPの電圧を10V、基準電圧を9Vとしたが、これら
の電圧は、書き込みの特性を満足できる値であれば適宜
選択することが可能であり、また、基準電圧発生回路に
使用した抵抗素子は、トランジスタに置き換えることも
できる。
For example, when the voltage of the power supply VDD is 5 V and the power supply V
The PP voltage is set to 10 V and the reference voltage is set to 9 V. These voltages can be appropriately selected as long as the values can satisfy the writing characteristics. The resistance element used in the reference voltage generation circuit is , Can be replaced with a transistor.

【0041】[0041]

【発明の効果】メモリセルへの書き込み時、メモリセル
のコントロールゲートに電圧を供給する電圧供給トラン
ジスタ回路をメモリセルマトリクスの行数を備えた行デ
コーダを有する不揮発性メモリにおいて、電圧供給トラ
ンジスタ回路を複数のブロックに分割し、各々のブロッ
クの電圧供給トランジスタ回路の電圧供給能力をアドレ
スに応じて選択できるようにする事により、メモリセル
容量の増加に伴い、ワード線数が増加した場合でも、非
選択ワード線に流れる電流の総量の増加を防ぐことがで
き、それに伴い、選択されたワード線の電圧降下を抑え
ることができる。また、これによって書き込み速度がメ
モリセル容量の増加によって遅くなることがない。
According to the present invention, a voltage supply transistor circuit for supplying a voltage to a control gate of a memory cell when writing to a memory cell is provided in a nonvolatile memory having a row decoder having the number of rows of a memory cell matrix. By dividing into a plurality of blocks and allowing the voltage supply capability of the voltage supply transistor circuit of each block to be selected according to the address, even if the number of word lines increases with the increase in the memory cell capacity, An increase in the total amount of current flowing through the selected word line can be prevented, and accordingly, a voltage drop of the selected word line can be suppressed. In addition, the writing speed does not decrease due to the increase in the memory cell capacity.

【0042】また、ワード線の本数が増えなくても、行
デコーダの電圧供給トランジスタ回路をあるブロックに
分割し、ブロック毎に電圧供給トランジスタ回路の電圧
供給能力を制御することで、非選択ワード線に流れる定
常的な電流の総量は減るため、選択されたワード線の電
圧降下をより一層抑えることができるとともに、低消費
電力化が可能になる。
Even if the number of word lines does not increase, the voltage supply transistor circuit of the row decoder is divided into certain blocks, and the voltage supply capability of the voltage supply transistor circuit is controlled for each block, so that the non-selected word line Since the total amount of the steady current flowing through the word line decreases, the voltage drop of the selected word line can be further suppressed, and the power consumption can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の不揮発性メモリの第一の実施の形態を
示す回路図。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a nonvolatile memory according to the present invention.

【図2】本発明の不揮発性メモリの第二の実施の形態を
示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the nonvolatile memory of the present invention.

【図3】メモリセルトランジスタの構造を表す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a memory cell transistor.

【図4】従来の不揮発性メモリ回路構成を示す回路図。FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a conventional nonvolatile memory circuit.

【図5】従来の不揮発性メモリの書き込み時の定常電流
流路を等価的に示す図。
FIG. 5 is a diagram equivalently showing a steady current flow path at the time of writing in a conventional nonvolatile memory.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 行デコーダ 2,3 ワード線 4,4′,4′′ 基準電圧発生回路 5,100 基準電圧信号線 6,24,80,82 制御信号 7,8,9,10,13,14,81,83,200,
201,202,203,207,208 Pチャネ
ルトランジスタ 11,12,15,16,27,57,58,103,
209,211 Nチャネルトランジスタ PM 内部発生電圧線 17,18,20,105,107,109,111,
210,212 出力信号 19,106,110,213 インバータ 21,22,104,108,214 2入力NAN
D 23,29,101,102 抵抗 50,51,52,53 メモリセル 54 列デコーダ 55 書き込み回路 56 センスアンプ 59,60 ビットセレクト信号 61,62 ビット線 63 メモリセルアレイ A0,A1 アドレス信号
1 row decoder 2,3 word line 4,4 ', 4''reference voltage generating circuit 5,100 reference voltage signal line 6,24,80,82 control signal 7,8,9,10,13,14,81, 83,200,
201, 202, 203, 207, 208 P-channel transistors 11, 12, 15, 16, 27, 57, 58, 103,
209, 211 N-channel transistor PM Internally generated voltage line 17, 18, 20, 105, 107, 109, 111,
210, 212 Output signal 19, 106, 110, 213 Inverter 21, 22, 104, 108, 214 2-input NAN
D 23, 29, 101, 102 Resistance 50, 51, 52, 53 Memory cell 54 Column decoder 55 Write circuit 56 Sense amplifier 59, 60 bit select signal 61, 62 bit line 63 Memory cell array A0, A1 Address signal

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行および列状にメモリセルが配置された
メモリセルアレイと、前記メモリセリにデータを書き込
む時に該メモリセルのコントロールゲートに電圧を供給
する電圧供給トランジスタ回路を前記行の数に応じて有
する行デコーダとを備えた不揮発性メモリにおいて、前
記電圧供給トランジスタ回路を複数のブロックに分割
し、各々のブロックの前記電圧供給トランジスタ回路の
電圧供給能力を前記行デコーダに加えられるアドレスに
応じて制御できるようにしたことを特徴とする不揮発性
メモリ。
1. A memory cell array in which memory cells are arranged in rows and columns, and a voltage supply transistor circuit that supplies a voltage to a control gate of the memory cell when writing data to the memory cell, according to the number of the rows. A nonvolatile memory comprising a row decoder having a plurality of blocks, wherein the voltage supply transistor circuit is divided into a plurality of blocks, and a voltage supply capability of the voltage supply transistor circuit in each block is controlled according to an address applied to the row decoder. A nonvolatile memory characterized in that it is made possible.
【請求項2】 前記電圧供給トランジスタ回路は、前記
アドレスによって選択されたメモリセルのコントロール
ゲートに電圧を供給する電圧供給トランジスタ回路のブ
ロックに含まれている時には高レベルの電圧を供給し、
前記アドレスによって選択されたメモリセルのコントロ
ールゲートに電圧を供給する電圧供給トランジスタ回路
のブロックに含まれていない時には低レベルの電圧を供
給するものであることを特徴とする請求項1に記載の不
揮発性メモリ。
2. The voltage supply transistor circuit supplies a high-level voltage when included in a block of a voltage supply transistor circuit that supplies a voltage to a control gate of a memory cell selected by the address.
2. The nonvolatile memory according to claim 1, wherein a low-level voltage is supplied when not included in a block of a voltage supply transistor circuit that supplies a voltage to a control gate of a memory cell selected by the address. Sex memory.
【請求項3】 前記電圧供給トランジスタ回路はゲート
に制御電圧を受けてスイッチング動作するスイッチング
トランジスタを直列に有し、前記アドレスによって選択
されたメモリセルのコントロールゲートに電圧を供給す
る電圧供給トランジスタ回路のブロックに含まれている
時には該スイッチングトランジスタが低抵抗となり、前
記アドレスによって選択されたメモリセルのコントロー
ルゲートに電圧を供給する電圧供給トランジスタ回路の
ブロックに含まれていない時には該スイッチングトラン
ジスタが高抵抗となることを特徴とする請求項1に記載
の不揮発性メモリ。
3. The voltage supply transistor circuit according to claim 1, wherein the voltage supply transistor circuit includes a switching transistor which performs a switching operation by receiving a control voltage at a gate, and supplies a voltage to a control gate of a memory cell selected by the address. When included in a block, the switching transistor has a low resistance, and when not included in a block of a voltage supply transistor circuit that supplies a voltage to a control gate of a memory cell selected by the address, the switching transistor has a high resistance. The nonvolatile memory according to claim 1, wherein:
【請求項4】 前記ブロックの各々にはそれぞれ複数の
前記電圧供給トランジスタ回路を含むことを特徴とする
請求項1,2又は3に記載の不揮発性メモリ。
4. The nonvolatile memory according to claim 1, wherein each of said blocks includes a plurality of said voltage supply transistor circuits.
【請求項5】 前記ブロックの各々にはそれぞれ1つの
前記電圧供給トランジスタ回路を含むことを特徴とする
請求項1,2又は3に記載の不揮発性メモリ。
5. The nonvolatile memory according to claim 1, wherein each of said blocks includes one of said voltage supply transistor circuits.
【請求項6】 不揮発性メモリセルへのデータ書き込み
時にゲートに受ける制御電圧に応じて不揮発性メモリセ
ルのコントロールゲートに電圧を供給する電圧供給トラ
ンジスタを複数有し、該複数の電圧供給トランジスタを
複数のブロックに分け、前記電圧供給トランジスタのブ
ロック毎に前記制御電圧を印加し、該印加する制御電圧
を前記不揮発性メモリセルの選択のために加えられるア
ドレスに応じて選択できることを特徴とする不揮発性メ
モリ。
6. A plurality of voltage supply transistors for supplying a voltage to a control gate of a nonvolatile memory cell according to a control voltage applied to the gate when writing data to the nonvolatile memory cell, wherein the plurality of voltage supply transistors are provided. Wherein the control voltage is applied to each block of the voltage supply transistor, and the applied control voltage can be selected according to an address applied for selecting the nonvolatile memory cell. memory.
【請求項7】 前記制御電圧は、前記アドレスによって
選択された不揮発性メモリセルのコントロールゲートに
電圧を供給する電圧供給トランジスタのブロックに含ま
れるているときには該電圧供給トランジスタをオンせし
める電圧であり、前記アドレスによって選択された不揮
発性メモリセルのコントロールゲートに電圧を供給する
電圧供給トランジスタのブロックに含まれていないとき
には該電圧供給トランジスタをオフせしめる電圧である
ことを特徴とする請求項6に記載の不揮発性メモリ。
7. The control voltage, when being included in a block of a voltage supply transistor that supplies a voltage to a control gate of a nonvolatile memory cell selected by the address, turns on the voltage supply transistor. 7. The voltage according to claim 6, wherein the voltage is a voltage that turns off the voltage supply transistor when the voltage supply transistor is not included in a block of a voltage supply transistor that supplies a voltage to a control gate of the nonvolatile memory cell selected by the address. Non-volatile memory.
【請求項8】 前記電圧供給トランジスタのブロックの
数は2個であることを特徴とする請求項6または請求項
7に記載の不揮発性メモリ。
8. The nonvolatile memory according to claim 6, wherein the number of blocks of the voltage supply transistor is two.
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JP22224396A Pending JPH1064289A (en) 1996-08-23 1996-08-23 Non-volatile memory

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JP (1) JPH1064289A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6424572B2 (en) 2000-03-31 2002-07-23 Nec Corporation Semiconductor memory apparatus that can surely attain discharge operation while reducing discharge period when reading operation is done

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