JPH1054965A - Magneto-optical multilayered film and magneto-optical body - Google Patents
Magneto-optical multilayered film and magneto-optical bodyInfo
- Publication number
- JPH1054965A JPH1054965A JP21175696A JP21175696A JPH1054965A JP H1054965 A JPH1054965 A JP H1054965A JP 21175696 A JP21175696 A JP 21175696A JP 21175696 A JP21175696 A JP 21175696A JP H1054965 A JPH1054965 A JP H1054965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magneto
- optical
- multilayer film
- film
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気光学効果を利
用したデバイスに用いられる磁気光学多層膜及びこれを
複数連ねた磁気光学体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical multilayer film used for a device utilizing a magneto-optical effect, and a magneto-optical body having a plurality of such films.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、光磁気ディスク、光スイッチン
グ、光アイソレータのように磁気光学効果を利用したデ
バイスが実用化されている。光磁気ディスクでは、より
大きなＣＮＲ（信号とノイズとの比）を得るために、よ
り大きな磁気光学効果を有する磁気光学膜が要求されて
いる。また光アイソレータでは、光波が材料中を伝搬す
ることから、光学的損失が少なく且つより大きな磁気光
学効果を有する磁気光学膜が要求されている。2. Description of the Related Art In recent years, devices utilizing the magneto-optical effect, such as magneto-optical disks, optical switching, and optical isolators, have been put to practical use. In a magneto-optical disk, a magneto-optical film having a larger magneto-optical effect is required to obtain a larger CNR (ratio between signal and noise). In the optical isolator, since a light wave propagates through a material, a magneto-optical film having a small optical loss and a larger magneto-optical effect is required.
【０００３】大きな磁気光学効果を有する磁気光学膜を
形成するためには、以下の２つの方法が考えられる。１
つは、比較的大きな固有の磁気光学効果を有する材料を
厚膜化することであり、この方法により形成されたもの
に、例えばビスマス置換希土類鉄ガーネット（ＢｉＹＩ
Ｇ）の単結晶厚膜がある。この厚膜は液相エピタキシャ
ル成長にて形成され、主に低光学損失が要求される分野
にて用いられる。しかしながら、この厚膜を例えば光ア
イソレータに用いた場合には、ＢｉＹＩＧ単結晶では２
５０μｍの膜厚を必要とする。液相エピタキシャル成長
では非常に多くのパラメータが使用されており、この程
度の膜厚を成長せしめるためには、製造技術の確立が困
難であるという問題がある。また、数百ｎｍにわたる光
波の伝搬は、大きな光吸収損失をまねくという問題があ
った。In order to form a magneto-optical film having a large magneto-optical effect, the following two methods can be considered. 1
One is to increase the thickness of a material having a relatively large inherent magneto-optical effect, and the material formed by this method includes, for example, bismuth-substituted rare earth iron garnet (BiYI
G) There is a single-crystal thick film. This thick film is formed by liquid phase epitaxial growth, and is mainly used in fields where low optical loss is required. However, when this thick film is used for an optical isolator, for example, BiYIG single crystal has a thickness of 2 mm.
A film thickness of 50 μm is required. In liquid phase epitaxial growth, a great number of parameters are used, and there is a problem that it is difficult to establish a manufacturing technique in order to grow such a film thickness. In addition, there is a problem that the propagation of a light wave over several hundred nm leads to a large light absorption loss.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】大きな磁気光学効果を
有する磁気光学膜の形成方法のもう１つは、磁気光学膜
の光学的なエンハンスメント効果を利用することであ
る。本願出願人は、不連続磁性体の光学的エンハンスメ
ント効果について、第19回日本応用磁気学会学術講演概
要集，p.41, (1995)にて報告している。この光学的エン
ハンスメント効果について、不連続磁性体として磁性体
と誘電体とを交互に積層した磁気光学多層膜を例に挙げ
て、以下に説明する。図１３はこのような磁気光学多層
膜の構造を示す斜視図である。図中２は光アイソレータ
に用いられる磁気光学多層膜であり、磁性体層２１と誘
電体層２２とを交互に積層して構成されている。全ての
磁性体層２１，２１…及び誘電体層２２，２２…は夫々
一定の層厚を有しており、積層方向に規則性を有した層
厚で積層されている。磁気光学多層膜２に入射した光は
積層方向に伝搬し、偏光面を４５度回転させて（全回転
角θ）出射するようになっている。Another method of forming a magneto-optical film having a large magneto-optical effect is to utilize the optical enhancement effect of the magneto-optical film. The present applicant has reported the optical enhancement effect of a discontinuous magnetic material in the 19th Annual Meeting of the Japan Society of Applied Magnetics, p.41, (1995). The optical enhancement effect will be described below with reference to a magneto-optical multilayer film in which a magnetic material and a dielectric material are alternately laminated as a discontinuous magnetic material. FIG. 13 is a perspective view showing the structure of such a magneto-optical multilayer film. In the figure, reference numeral 2 denotes a magneto-optical multilayer film used for an optical isolator, which is configured by alternately stacking magnetic layers 21 and dielectric layers 22. Each of the magnetic layers 21, 21,... And the dielectric layers 22, 22,... Has a constant layer thickness, and is stacked with a layer thickness having regularity in the stacking direction. Light incident on the magneto-optical multilayer film 2 propagates in the laminating direction, and is emitted by rotating the polarization plane by 45 degrees (total rotation angle θ).
【０００５】このような磁気光学多層膜２の構造を表す
ためのパラメータとして以下のものを用いる。 Ｎ：磁気光学多層膜の全膜厚（Ｄ）の分割数 ｂＮ：Ｎビットの二進数で、‘１’を磁性体層、‘０’
を誘電体層とする。 ＮＭ：磁性体層の層数 ｄＭ：磁性体層の層厚（１ビット当たり） ｄＧ：誘電体層の層厚（１ビット当たり） ＰＭ：磁気光学多層膜の全体に占める磁性体の充填率 即ち、磁性体層の全膜厚／磁気光学多層膜の全膜厚（Ｎ
Ｍ・ｄＭ／Ｄ） 以上のパラメータを用いて、磁性体層厚ｄＭ，誘電体層
厚ｄＧは、 ｄＭ＝Ｄ×ＰＭ／ＮＭ ｄＧ＝Ｄ×（１−ＰＭ）／（Ｎ−ＮＭ） で表される。図１３に示した磁気光学多層膜２のｂＮは
10101010であり、規則周期構造を有していると言える。
このような規則周期構造の磁気光学多層膜の磁気光学効
果を理論解析した結果を図１４に示す。The following parameters are used as parameters for expressing the structure of such a magneto-optical multilayer film 2. N: the number of divisions of the total film thickness (D) of the magneto-optical multilayer film bN: N-bit binary number, where "1" is a magnetic layer and "0"
Is a dielectric layer. NM: Number of magnetic layers dM: Layer thickness of magnetic layer (per bit) dG: Layer thickness of dielectric layer (per bit) PM: Filling ratio of magnetic material in the entire magneto-optical multilayer film , Total thickness of magnetic layer / total thickness of magneto-optic multilayer film (N
M · dM / D) Using the above parameters, the magnetic layer thickness dM and the dielectric layer thickness dG are expressed as dM = D × PM / NM dG = D × (1−PM) / (N−NM) Is done. BN of the magneto-optical multilayer film 2 shown in FIG.
10101010, which can be said to have a regular periodic structure.
FIG. 14 shows the result of theoretical analysis of the magneto-optical effect of the magneto-optical multilayer film having such a regular periodic structure.
【０００６】図１４は、規則周期構造の磁気光学多層膜
の磁性体充填率に対する磁気光学効果を示すグラフであ
り、横軸は磁性体充填率ＰＭを示し、縦軸は単位磁性体
膜厚当たりの回転角（ファラデー回転角θF ）及び全回
転角θを示している。グラフ中、実線はファラデー回転
角θF （deg.／μｍ）＝（θ／ＮＭ×ｄＭ）を示し、破
線は全回転角θ（deg.）を示している。なお、解析は光
波の基礎方程式としてMaxwell 方程式を用い、磁性体に
はビスマス置換イットリウム鉄ガーネット（Ｂｉ：ＹＩ
Ｇ）を、誘電体には酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）を用い
て、全膜厚Ｄが５μｍ、分割数Ｎが１００、ｂＮは100
ビットで101010…101010である場合を計算した。磁性体
充填率ＰＭは磁性体層厚ｄＭ及び誘電体層厚ｄＧを異な
らせて求めた。また、入射光の波長は1.15μｍとした。FIG. 14 is a graph showing the magneto-optical effect on the magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film having a regular periodic structure. The horizontal axis represents the magnetic substance filling rate PM, and the vertical axis represents the per unit magnetic substance film thickness. (Faraday rotation angle θ F ) and the total rotation angle θ. In the graph, the solid line indicates the Faraday rotation angle θ F (deg./μm)=(θ/NM×dM), and the broken line indicates the total rotation angle θ (deg.). In the analysis, Maxwell's equation was used as a basic equation of light wave, and bismuth-substituted yttrium iron garnet (Bi: YI
G), using silicon oxide (SiO 2 ) for the dielectric, the total film thickness D is 5 μm, the number of divisions N is 100, and bN is 100
The case of 101010 ... 101010 in bits was calculated. The magnetic substance filling rate PM was determined by changing the thickness dM of the magnetic layer and the thickness dG of the dielectric layer. The wavelength of the incident light was 1.15 μm.
【０００７】図１４から、ファラデー回転角θF は磁性
体充填率ＰＭの増加に従って振動しながら少しずつ減少
していることが判る。即ち、磁性体充填率ＰＭの増大に
伴ってファラデー回転角θF は複数のピークを有してお
り、これらのピークのうち、ファラデー回転角θF の最
大値は、磁性体充填率ＰＭ＝0.03の場合でのファラデー
回転角θF ＝0.29（deg.／μｍ）であると言える。Ｂ
ｉ：ＹＩＧの固有のファラデー回転角θF は0.20（deg.
／μｍ）であるので、磁気光学体は規則周期構造を有す
ることにより略1.5 倍の光学的エンハンスメント効果が
得られたことになる。FIG. 14 shows that the Faraday rotation angle θ F gradually decreases while vibrating as the magnetic material filling rate PM increases. That is, the Faraday rotation angle θ F has a plurality of peaks as the magnetic material filling rate PM increases, and the maximum value of the Faraday rotation angle θ F among these peaks is determined by the magnetic material filling rate PM = 0.03. In this case, it can be said that the Faraday rotation angle θ F is 0.29 (deg./μm). B
i: The Faraday rotation angle θ F unique to YIG is 0.20 (deg.
/ Μm), it means that the magneto-optical body has an optical enhancement effect of approximately 1.5 times by having the regular periodic structure.
【０００８】以上の如く、光学的なエンハンスメント効
果を利用することにより、光吸収損失が少なく、大きな
磁気光学効果を有する磁気光学体を形成することができ
る。しかしながら、上述した規則周期構造の磁気光学多
層膜を例えば光アイソレータに用いる場合には、全回転
角が４５度となるために全膜厚を１ｍｍ程度に形成する
必要があり、現実的ではないという問題があった。As described above, by utilizing the optical enhancement effect, it is possible to form a magneto-optical body having a small optical absorption loss and a large magneto-optical effect. However, when the above-described magneto-optical multilayer film having a regular periodic structure is used for, for example, an optical isolator, the total rotation angle is 45 degrees, so that the total film thickness must be formed to about 1 mm, which is not practical. There was a problem.
【０００９】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
のであり、磁性層と誘電体層との層厚が不規則になるよ
うに交互に積層することにより、さらに高い光学的エン
ハンスメント効果を得、光吸収損失が少なく、大きな磁
気光学効果を有する磁気光学多層膜及び磁気光学体を提
供することを目的とする。The present invention has been made in view of such circumstances, and achieves a higher optical enhancement effect by alternately stacking magnetic layers and dielectric layers so that the thicknesses thereof are irregular. It is another object of the present invention to provide a magneto-optical multilayer film and a magneto-optical body having a small optical absorption loss and a large magneto-optical effect.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】第１発明に係る磁気光学
多層膜は、磁性体と誘電体とが交互に積層され、入射光
の偏光面を回転せしめる磁気光学多層膜において、前記
磁性体及び誘電体は、各層の厚さを不規則にして積層し
てあることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a magneto-optical multilayer film in which a magnetic material and a dielectric material are alternately laminated to rotate a plane of polarization of incident light. The dielectric is characterized in that the layers are stacked with irregular thicknesses.
【００１１】本願出願人は、前述した如く、磁性体と誘
電体とを交互に積層することにより、磁性体の充填率に
対して周期的に磁気光学効果がエンハンスされ、磁性体
単層に比較して大きな磁気光学効果を有することを報告
している。第１発明にあっては、これをさらに発展さ
せ、磁性体と誘電体との層厚を不規則にして積層するこ
とにより、このエンハンスメント効果をさらに顕著に
し、厚さが薄い磁気光学多層膜にて大きな磁気光学効果
を得るものである。As described above, the applicant of the present application has proposed that by alternately laminating a magnetic material and a dielectric material, the magneto-optical effect is periodically enhanced with respect to the filling rate of the magnetic material, and the magnetic material and the dielectric material are compared with a single magnetic material layer. Have a large magneto-optical effect. In the first invention, this is further developed, and the enhancement effect is made more remarkable by laminating the magnetic material and the dielectric material with irregular layer thicknesses. To obtain a large magneto-optical effect.
【００１２】第２発明に係る磁気光学多層膜は、第１発
明において、全膜厚に対する磁性体全層の膜厚率は、１
０％以下、１５％乃至３０％、又は３５％乃至５０％で
あることを特徴とする。In the magneto-optical multilayer film according to the second aspect, in the first aspect, the ratio of the thickness of all the magnetic layers to the total thickness is 1%.
0% or less, 15% to 30%, or 35% to 50%.
【００１３】第２発明においては、磁気光学効果が顕著
にエンハンスされるような、全体に対する磁性体の充填
率の範囲を特定することにより、大きな磁気光学効果を
有する磁気光学多層膜を得ることができる。上述した範
囲を除いた範囲、即ち１０％より大きく１５％未満、３
０％より大きく３５％未満、又は５０％より大きい範囲
では、図６に示すように最大ファラデー回転角は極めて
低く、磁気光学効果は小さい。In the second aspect of the present invention, a magneto-optical multilayer film having a large magneto-optical effect can be obtained by specifying the range of the filling ratio of the magnetic substance to the whole so that the magneto-optical effect is significantly enhanced. it can. A range excluding the range described above, that is, more than 10% and less than 15%, 3
In the range from more than 0% to less than 35% or more than 50%, the maximum Faraday rotation angle is extremely low as shown in FIG. 6, and the magneto-optical effect is small.
【００１４】第３発明に係る磁気光学多層膜は、第１発
明において、全膜厚に対する磁性体全層の膜厚率は、入
射した光の反射率が前記膜厚率の増加又は減少に対して
逆ピークを有する値であることを特徴とする。In the magneto-optical multilayer film according to the third invention, in the first invention, the film thickness ratio of the entire magnetic layer with respect to the total film thickness is such that the reflectance of incident light is such that the increase or decrease in the film thickness ratio. And a value having a reverse peak.
【００１５】第３発明にあっては、図２に示すように、
磁気光学多層膜に入射する光の反射率を縦軸に示し、磁
気光学多層膜の磁性体充填率を横軸に示した場合に、反
射率が逆ピークを示す磁性体充填率を特定することによ
り、大きな磁気光学効果を有する磁気光学多層膜を得る
ことができる。In the third invention, as shown in FIG.
When the reflectivity of light incident on the magneto-optical multilayer film is shown on the vertical axis and the magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film is shown on the horizontal axis, the magnetic substance filling rate at which the reflectance shows a reverse peak is specified. Thereby, a magneto-optical multilayer film having a large magneto-optical effect can be obtained.
【００１６】第４発明に係る磁気光学多層膜は、第１発
明において、前記磁性体は希土類鉄系ガーネットである
ことを特徴とする。A magneto-optical multilayer film according to a fourth invention is characterized in that, in the first invention, the magnetic material is a rare earth iron-based garnet.
【００１７】第４発明にあっては、単層で比較的磁気光
学効果が大きな希土類鉄系ガーネットを用いることによ
り、より大きな磁気光学効果を得ることができる。According to the fourth aspect of the present invention, a larger magneto-optical effect can be obtained by using a single-layer rare earth iron-based garnet having a relatively large magneto-optical effect.
【００１８】第５発明に係る磁気光学体は、第１発明に
記載の磁気光学多層膜の複数を積層方向に連ねてあるこ
とを特徴とする。A magneto-optical body according to a fifth aspect is characterized in that a plurality of the magneto-optical multilayer films according to the first aspect are connected in the laminating direction.
【００１９】第５発明にあっては、磁性体及び誘電体の
層厚を不規則にして積層した磁気光学多層膜を、積層方
向に複数連ねることにより、低い磁性体充填率で、さら
に高い光学的エンハンスメント効果を得ることができ
る。この磁気光学体を例えば光アイソレータとして用い
た場合には、大きな磁気光学効果及び少ない光吸収損失
が実現される。According to the fifth aspect of the present invention, a plurality of magneto-optical multi-layer films, each having a magnetic material and a dielectric material having irregular thicknesses, are stacked in a laminating direction, so that the magnetic material and the dielectric material have a higher filling rate and a higher optical density. A dynamic enhancement effect can be obtained. When this magneto-optical body is used, for example, as an optical isolator, a large magneto-optical effect and a small light absorption loss are realized.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明をその実施の形態を
示す図面に基づき具体的に説明する。図１は、本発明の
磁気光学多層膜の構造を示す斜視図である。図中１は光
アイソレータに用いる磁気光学多層膜であり、磁性体層
１１と誘電体層１２とを交互に積層して構成されてい
る。磁性体層１１及び誘電体層１２の各層の厚さは不規
則に積層されている。磁気光学多層膜１に入射した光は
積層方向に伝搬し、偏光面を４５度（全回転角θ）回転
させて出射するようになっている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. FIG. 1 is a perspective view showing the structure of the magneto-optical multilayer film of the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a magneto-optical multilayer film used for an optical isolator, which is configured by alternately stacking magnetic layers 11 and dielectric layers 12. The thickness of each of the magnetic layer 11 and the dielectric layer 12 is irregularly stacked. Light incident on the magneto-optical multilayer film 1 propagates in the laminating direction, and is emitted after rotating the polarization plane by 45 degrees (full rotation angle θ).
【００２１】このような磁気光学多層膜１の構造を表す
ためのパラメータとして、前述したものと同様の以下の
ものを用いる。 Ｎ：磁気光学多層膜の全膜厚（Ｄ）の分割数 ｂＮ：Ｎビットの二進数で、‘１’を磁性体層、‘０’
を誘電体層とする。 ＮＭ：磁性体層の層数 ｄＭ：磁性体層の層厚（１ビット当たり） ｄＧ：誘電体層の層厚（１ビット当たり） ＰＭ：磁気光学多層膜の全体に占める磁性体の充填率 即ち、磁性体層の全膜厚／磁気光学多層膜の全膜厚（Ｎ
Ｍ・ｄＭ／Ｄ） これにより、図１に示した磁気光学多層膜２のｂＮは10
100011であり、各層の厚さに関して不規則周期構造を有
している。このような不規則周期構造を有する磁気光学
多層膜の磁気光学効果を理論解析した結果を図２に示
す。The following parameters similar to those described above are used as parameters for expressing the structure of the magneto-optical multilayer film 1. N: the number of divisions of the total film thickness (D) of the magneto-optical multilayer film bN: N-bit binary number, where "1" is a magnetic layer and "0"
Is a dielectric layer. NM: Number of magnetic layers dM: Layer thickness of magnetic layer (per bit) dG: Layer thickness of dielectric layer (per bit) PM: Filling ratio of magnetic material in the entire magneto-optical multilayer film , Total thickness of magnetic layer / total thickness of magneto-optic multilayer film (N
M · dM / D) Accordingly, the bN of the magneto-optical multilayer film 2 shown in FIG.
100011, and has an irregular periodic structure with respect to the thickness of each layer. FIG. 2 shows the result of theoretical analysis of the magneto-optical effect of the magneto-optical multilayer film having such an irregular periodic structure.
【００２２】図２は、不規則周期構造の磁気光学多層膜
の磁性体充填率に対する反射率及び磁気光学効果を示す
グラフである。図２（ａ）は、横軸に磁性体充填率ＰＭ
を示し、縦軸に反射率を示している。また図２（ｂ）
は、横軸に磁性体充填率ＰＭを示し、縦軸に単位磁性体
膜厚当たりの回転角（ファラデー回転角θF ）及び全回
転角θを示している。グラフ中、実線はファラデー回転
角θF （deg.／μｍ）＝（θ／ＮＭ×ｄＭ）を示し、破
線は全回転角θ（deg.）を示している。なお、解析は前
述した方法と同様に光波の基礎方程式としてMaxwell 方
程式を用い、磁性体にはＢｉ：ＹＩＧを、誘電体には酸
化シリコン（ＳｉＯ2 ）を用い、全膜厚Ｄは５μｍ、分
割数Ｎは２２０であり、ｂＮは220 ビットで、10100011
11001011010111110001100101011100110101110001110111
11010110110111001010100000111110001111001011111100
00001100101010010101011010110111011010110110111001
11110101010110101101101011011110011100110110111111
111000011011のものについて計算した。また入射光の波
長は1.15μｍとした。FIG. 2 is a graph showing the reflectivity and the magneto-optical effect on the magnetic material filling rate of the magneto-optical multilayer film having an irregular periodic structure. FIG. 2A shows the magnetic substance filling rate PM on the horizontal axis.
And the vertical axis shows the reflectance. FIG. 2 (b)
In the graph, the horizontal axis indicates the magnetic substance filling rate PM, and the vertical axis indicates the rotation angle per unit magnetic film thickness (Faraday rotation angle θ F ) and the total rotation angle θ. In the graph, the solid line indicates the Faraday rotation angle θ F (deg./μm)=(θ/NM×dM), and the broken line indicates the total rotation angle θ (deg.). In the analysis, the Maxwell equation was used as the basic equation of the light wave, Bi: YIG was used for the magnetic material, silicon oxide (SiO 2 ) was used for the dielectric material, the total thickness D was 5 μm, The number N is 220 and bN is 220 bits, 10100011
11001011010111110001100101011100110101110001110111
11010110110111001010100000111110001111001011111100
00001100101010010101011010110111011010110110111001
11110101010110101101101011011110011100110110111111
Calculated for 111000011011. The wavelength of the incident light was 1.15 μm.
【００２３】グラフから、磁性体充填率ＰＭの増大に伴
ってファラデー回転角θF は複数のピークを有している
ことが明らかであり、これらのうち最大のピークは、磁
性体充填率ＰＭが0.39の場合にファラデー回転角θF が
0.49（deg.／μｍ）であり、次いで磁性体充填率ＰＭが
0.18の場合にファラデー回転角θF が0.48（deg.／μ
ｍ）を示している。この最大のファラデー回転角θF の
値は、Ｂｉ：ＹＩＧの固有値の略2.5 倍であり、不規則
周期構造を有する磁気光学多層膜の磁気光学効果のエン
ハンスメント効果は、規則周期構造のものよりも大きい
ことが判る。また図２（ａ）から、ファラデー回転角θ
F がピークを有する磁性体充填率ＰＭでは、反射率が逆
ピークを有していることが判り、ファラデー回転角θF
のエンハンスメント効果と、反射率が低下する特性即ち
無反射条件とは何らかの関係があることが推測される。From the graph, it is clear that the Faraday rotation angle θ F has a plurality of peaks with an increase in the magnetic substance filling rate PM. Faraday rotation angle θ F is 0.39
0.49 (deg./μm), then the magnetic substance filling rate PM
In the case of 0.18, the Faraday rotation angle θ F is 0.48 (deg./μ
m). The value of the maximum Faraday rotation angle θ F is approximately 2.5 times the eigenvalue of Bi: YIG, and the enhancement effect of the magneto-optical effect of the magneto-optical multilayer film having the irregular periodic structure is larger than that of the regular periodic structure. It turns out that it is big. Also, from FIG. 2A, the Faraday rotation angle θ
In the magnetic substance filling rate PM where F has a peak, it is understood that the reflectance has a reverse peak, and the Faraday rotation angle θ F
It is presumed that there is some relationship between the enhancement effect described above and the property of lowering the reflectance, that is, the non-reflection condition.
【００２４】次に、他の構造の不規則周期構造の磁気光
学多層膜の磁気光学多層膜について、上記と同様に磁気
光学効果を理論解析する。磁性体にはＢｉ：ＹＩＧを、
誘電体には酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）を用い、全膜厚Ｄ
は５μｍ、分割数Ｎは２２０であり、入射光の波長は1.
15μｍとした。図３〜図５は、３タイプの不規則周期構
造の磁気光学多層膜の磁性体充填率と磁気光学効果との
関係を示すグラフである。図３は無反射条件を満たさな
い磁気光学多層膜について、図５は無反射条件を満たす
磁気光学多層膜について、図４はその中間程度に無反射
条件を満たす磁気光学多層膜について示している。Next, the magneto-optical effect of the magneto-optical multilayer film having another irregular periodic structure is theoretically analyzed in the same manner as described above. Bi: YIG for magnetic material,
Silicon oxide (SiO 2 ) is used for the dielectric, and the total thickness D
Is 5 μm, the division number N is 220, and the wavelength of the incident light is 1.
It was 15 μm. FIGS. 3 to 5 are graphs showing the relationship between the magnetic substance filling ratio of the magneto-optical multilayer film having three types of irregular periodic structures and the magneto-optical effect. 3 shows a magneto-optical multilayer film that does not satisfy the non-reflection condition, FIG. 5 shows a magneto-optical multilayer film that satisfies the non-reflection condition, and FIG.
【００２５】図３〜図５に示すように、無反射条件を満
たす磁気光学多層膜ほど、特定の磁性体充填率ＰＭでの
光学的エンハンスメント効果が顕著に表れていることが
判る。例えば、図５において、磁性体充填率ＰＭが0.41
の場合にファラデー回転角θ F が0.58（deg.／μｍ）に
達しており、この値はＢｉ：ＹＩＧの固有値の略３倍で
ある。As shown in FIGS. 3 to 5, the non-reflection condition is satisfied.
The larger the magneto-optical multilayer film, the more the specific magnetic substance filling rate PM
Significant optical enhancement effect
I understand. For example, in FIG. 5, the magnetic substance filling rate PM is 0.41
Faraday rotation angle θ FTo 0.58 (deg./μm)
This value is approximately three times the eigenvalue of Bi: YIG.
is there.
【００２６】次に、光学的エンハンスメント効果を顕著
に示す磁性体充填率ＰＭを調べる。１０００種類のｂＮ
の不規則周期構造の磁気光学多層膜について、夫々の最
大ファラデー回転角θF 及びその磁性体充填率ＰＭを計
算した。図６はその結果を示すグラフであり、縦軸は最
大ファラデー回転角θF を示し、横軸は磁性体充填率Ｐ
Ｍを示している。グラフから、磁性体充填率ＰＭが１０
％以下、１５％以上３０％以下、又は３５％以上５０％
以下の範囲で大きなファラデー回転角θF を有すること
が判る。Next, the magnetic substance filling rate PM which remarkably shows the optical enhancement effect is examined. 1000 kinds of bN
For each magneto-optical multilayer film having an irregular periodic structure, the maximum Faraday rotation angle θ F and the magnetic substance filling rate PM thereof were calculated. FIG. 6 is a graph showing the results, in which the vertical axis represents the maximum Faraday rotation angle θ F and the horizontal axis represents the magnetic substance filling rate P.
M is shown. From the graph, the magnetic substance filling rate PM is 10
% Or less, 15% or more and 30% or less, or 35% or more and 50%
It can be seen that a large Faraday rotation angle θ F is obtained in the following range.
【００２７】以上の結果から、不規則周期構造の磁気光
学多層膜では、特定の範囲の磁性充填率ＰＭにて高い光
学的エンハンスメント効果を得ることが判った。また、
その不規則周期構造は、無反射条件を満たす構造のもの
ほど高い光学的エンハンスメント効果を得ることができ
る。From the above results, it was found that in the magneto-optical multilayer film having the irregular periodic structure, a high optical enhancement effect was obtained at a specific range of the magnetic filling factor PM. Also,
The irregular periodic structure having a structure satisfying the non-reflection condition can obtain a higher optical enhancement effect.
【００２８】さらに、上述した磁気光学多層膜を一単位
とし、これを積層方向に複数連ねた磁気光学体の磁気光
学効果について調べる。図７は、図１に示す磁気光学多
層膜１を積層方向に２つ連ねた磁気光学体の構造を示す
斜視図である。磁気光学多層膜１の出射側の磁性体層１
１に、もう一つの磁気光学多層膜１の入射側の磁性体層
１１を接触させてある。Further, the magneto-optical effect of a magneto-optical body having the above-described magneto-optical multilayer film as one unit and a plurality of the magneto-optical multilayer films connected in the stacking direction will be examined. FIG. 7 is a perspective view showing the structure of a magneto-optical body in which two magneto-optical multilayer films 1 shown in FIG. Outgoing side magnetic layer 1 of magneto-optical multilayer film 1
1, a magnetic layer 11 on the incident side of another magneto-optical multilayer film 1 is brought into contact.
【００２９】以上の如き磁気光学体について、磁気光学
効果を解析した。図８は、図２にて特性を示した磁気光
学多層膜（膜厚５μｍ，ＰＭ0.18μｍ）を積層方向に複
数連ねた場合の全膜厚と磁気光学効果を示すグラフであ
る。縦軸はファラデー回転角θF 及び全回転角（θ）を
示し、横軸は全膜厚（μｍ）を示している。また、従来
の規則周期構造の磁気光学多層膜を連ねた磁気光学体に
ついても同様に解析した。結果を図９に示す。グラフ
中、実線はファラデー回転角θF （deg.／μｍ）を示
し、破線は全回転角θ（deg.）を示している。The magneto-optical effect of the above-described magneto-optical body was analyzed. FIG. 8 is a graph showing the total film thickness and the magneto-optical effect when a plurality of magneto-optical multilayer films (thickness: 5 μm, PM: 0.18 μm) having the characteristics shown in FIG. The vertical axis indicates a Faraday rotation angle theta F and the total rotation angle (theta), the horizontal axis represents the total film thickness ([mu] m). In addition, the same analysis was performed on a conventional magneto-optical body having a series of magneto-optical multilayer films having a regular periodic structure. FIG. 9 shows the results. In the graph, the solid line indicates the Faraday rotation angle θ F (deg./μm), and the broken line indicates the total rotation angle θ (deg.).
【００３０】グラフから、従来の規則周期構造と比較し
て、本発明の不規則周期構造の磁気光学体の方が、特定
の全膜厚で顕著な光学的エンハンスメント効果を有して
いることが判る。全膜厚が６０μｍ、即ち５μｍの磁気
光学多層膜を１２個連ねた場合では、ファラデー回転角
θF が 1.60 deg.／μｍであり、この値はＢｉ：ＹＩＧ
の固有値（ 0.20 deg.／μｍ）の略８倍である。From the graph, it can be seen that the magneto-optical body having the irregular periodic structure of the present invention has a remarkable optical enhancement effect at a specific total film thickness as compared with the conventional regular periodic structure. I understand. When 12 magneto-optical multilayer films having a total film thickness of 60 μm, that is, 5 μm, are connected, the Faraday rotation angle θ F is 1.60 deg./μm, which is Bi: YIG
Is approximately eight times the eigenvalue of (0.20 deg./μm).
【００３１】また、全膜厚が２２５μｍの場合は、全回
転角が略５３deg.であり、このうち磁性膜の厚さは４０
μｍである。Ｂｉ：ＹＩＧの単層を光アイソレータに用
いた場合には、偏光面の４５度の回転を得るためには２
５０μｍの膜厚が必要であることから、本発明の不規則
周期構造の磁気光学体は、磁性体単層の１／６以下の厚
さで偏光面の４５度の回転を得ることができる。このよ
うに、不規則周期構造の磁気光学多層膜を複数連ねた光
磁気光学体では、大きな磁気光学効果が得られ、光アイ
ソレータとして使用した場合には磁性体層の膜厚が薄い
ので光吸収損失が少ない。When the total thickness is 225 μm, the total rotation angle is approximately 53 deg.
μm. In the case where a single layer of Bi: YIG is used for the optical isolator, a 45 ° rotation of the polarization plane is required to obtain 2 rotations.
Since a film thickness of 50 μm is required, the magneto-optical body having an irregular periodic structure according to the present invention can obtain a 45 ° rotation of the polarization plane with a thickness of 1/6 or less of the magnetic substance single layer. As described above, a magneto-optical device having a plurality of magneto-optical multilayer films having an irregular periodic structure provides a large magneto-optical effect, and when used as an optical isolator, has a small thickness of the magnetic material layer. Low loss.
【００３２】[0032]
実施例１．前述した不規則周期構造の光磁気光学多層膜
を、高周波スパッタリング装置を用いて製造した。基板
にＧＧＧ（Ｇｄ3 Ｇａ5 Ｏ12）を用いた。磁性体として
Ｂｉ：ＹＩＧを、Ｙ２Ｂｉ１Ｆｅ5012のターゲットを用
い、投入電力２ｋＷにて、Ａｒガス圧0.3 Ｐａ，Ｏ2 ガ
ス圧0.1 Ｐａにて成膜した。また、誘電体として酸化シ
リコン（ＳｉＯ2 ）を、Ｓｉのターゲットを用い、投入
電力２ｋＷにて、Ａｒガス圧0.3 Ｐａ，Ｏ2 ガス圧0.2
Ｐａにて成膜した。成膜時には赤外線ランプによって基
板を５００℃に加熱した。Embodiment 1 FIG. The aforementioned magneto-optical multilayer film having an irregular periodic structure was manufactured using a high-frequency sputtering apparatus. GGG (Gd 3 Ga 5 O 12 ) was used for the substrate. Using a target of Y2Bi1Fe5012 as a magnetic material, a film was formed at an input power of 2 kW at an Ar gas pressure of 0.3 Pa and an O 2 gas pressure of 0.1 Pa. In addition, silicon oxide (SiO 2 ) was used as a dielectric, an Ar gas pressure of 0.3 Pa and an O 2 gas pressure of 0.2 were applied at a power of 2 kW using a Si target.
A film was formed at Pa. During film formation, the substrate was heated to 500 ° C. by an infrared lamp.
【００３３】この光磁気光学多層膜を、上述したパラメ
ータを用いて表すと、 全膜厚Ｄ：５０００ｎｍ 磁気光学多層膜の分割数Ｎ：２２０ 磁性体層の層数ＮＭ：１３１ 磁性体の充填率ＰＭ：０．３９ 磁性体層の層厚ｄＭ：１４．９ｎｍ 誘電体層の層厚ｄＧ：３４．３ｎｍ ｂＮ：10100011110010110101111100011001010111001101
01110001110111110101101101110010101000001111100011
11001011111100000011001010100101010110101101110110
10110110111001111101010101101011011010110111100111
00110110111111111000011011 である。When this magneto-optical multilayer film is expressed using the above-mentioned parameters, the total film thickness D: 5000 nm The number of divisions of the magneto-optical multilayer film N: 220 The number of magnetic layers NM: 131 The filling ratio of the magnetic material PM: 0.39 Layer thickness of magnetic layer dM: 14.9 nm Layer thickness of dielectric layer dG: 34.3 nm bN: 10100011110010110101111100011001010111001101
01110001110111110101101101110010101000001111100011
11001011111100000011001010100101010110101101110110110
10110110111001111101010101101011011010110110111100111
00110110111111111000011011.
【００３４】なお、磁性体層及び誘電体層のスパッタレ
ートは、夫々３０nm／min 、２０nm／min であり、夫々
の層厚はスパッタ時間によって制御される。５μｍの多
層膜を成膜するために３時間３０分を要した。The sputtering rates of the magnetic layer and the dielectric layer are 30 nm / min and 20 nm / min, respectively, and the thickness of each layer is controlled by the sputtering time. It took 3 hours and 30 minutes to form a 5 μm multilayer film.
【００３５】以上の如く製造された実施例１の磁気光学
多層膜のファラデー回転角θF を測定すると、 0.46 de
g.／μｍであった。これは前述した理論値とほぼ等し
い。これにより、実施例１の磁気光学多層膜は、高い光
学的エンハンスメント効果が得られることが判った。な
お、入射光の波長は1.15μｍである。The Faraday rotation angle θ F of the magneto-optical multilayer film of Example 1 manufactured as described above was measured to be 0.46 de
g./μm. This is almost equal to the theoretical value described above. As a result, it was found that the magneto-optical multilayer film of Example 1 had a high optical enhancement effect. The wavelength of the incident light is 1.15 μm.
【００３６】実施例２．実施例１で製造した磁気光学多
層膜について、磁性体層の層厚ｄＭ及び誘電体層の層厚
ｄＧを異ならせ、磁性体の充填率ＰＭに対する磁気光学
効果を測定した。磁気光学多層膜のその他の条件及び成
膜方法は、実施例１と同様である。結果を図１０に示
す。図１０（ａ）は縦軸は反射率を示し、横軸は磁性体
充填率ＰＭを示している。また図１０（ｂ）は縦軸はフ
ァラデー回転角θF を示し、横軸は磁性体充填率ＰＭを
示している。Embodiment 2 FIG. With respect to the magneto-optical multilayer film manufactured in Example 1, the layer thickness dM of the magnetic layer and the layer thickness dG of the dielectric layer were made different, and the magneto-optical effect on the filling factor PM of the magnetic body was measured. Other conditions and a method of forming the magneto-optical multilayer film are the same as those in the first embodiment. The results are shown in FIG. In FIG. 10A, the vertical axis represents the reflectance, and the horizontal axis represents the magnetic substance filling rate PM. And FIG. 10 (b) and the vertical axis indicates a Faraday rotation angle theta F, the horizontal axis represents the magnetic filling rate PM.
【００３７】図１０（ａ）から、磁性体充填率ＰＭの増
大に伴ってファラデー回転角θF は複数のピークを有し
ており、これらのうち最大のピークは、磁性体充填率Ｐ
Ｍが0.39の場合にファラデー回転角θF が略0.47（deg.
／μｍ）であり、次いで磁性体充填率ＰＭが0.18の場合
にファラデー回転角θF が略0.45（deg.／μｍ）であ
り、磁性体充填率ＰＭが0.6 の場合にファラデー回転角
θF が略0.3 （deg.／μｍ）を示している。これは前述
した理論解析値と略等しい値であり、実施の形態２の構
造の磁気光学多層膜では、磁性体充填率ＰＭが0.18，0.
39及び0.6 のものが、高い光学的エンハンスメント効果
を有することが判る。また図１０（ｂ）から、ファラデ
ー回転角θF がピークを有する磁性体充填率ＰＭ（0.1
8，0.39及び0.6 ）で反射率が逆ピークを有しており、
このような無反射条件を満たす磁気光学多層膜が高い光
学的エンハンスメント効果を有することが判った。FIG. 10A shows that the Faraday rotation angle θ F has a plurality of peaks as the magnetic material filling rate PM increases, and the largest one of these peaks is the magnetic material filling rate P.
When M is 0.39, the Faraday rotation angle θ F is approximately 0.47 (deg.
/ [Mu] m) and is followed by a Faraday rotation angle theta F in the case of magnetic filling rate PM 0.18 is approximately 0.45 (deg./μm), magnetic filling rate PM is the Faraday rotation angle theta F in the case of 0.6 It indicates about 0.3 (deg./μm). This is a value substantially equal to the theoretical analysis value described above. In the magneto-optical multilayer film having the structure of the second embodiment, the magnetic substance filling rate PM is 0.18, 0.
39 and 0.6 are found to have high optical enhancement effects. Further, from FIG. 10B, the Faraday rotation angle θ F has a peak at which the magnetic substance filling rate PM (0.1
8, 0.39 and 0.6), the reflectance has a reverse peak,
It has been found that a magneto-optical multilayer film satisfying such a non-reflection condition has a high optical enhancement effect.
【００３８】実施例３．磁気光学多層膜のｂＮを異なら
せて実施例２と同様の測定を行ない、最大ファラデー回
転角θF と磁性体充填率との関係を調べた。スパッタ条
件は実施例１と同様である。図１１はその結果を示すグ
ラフであり、縦軸は最大ファラデー回転角θF を示し、
横軸は磁性体充填率ＰＭを示している。グラフから判る
ように、前述した理論解析と同様の磁性体充填率の特定
範囲で、大きな最大ファラデー回転角が存在している。
従って、不規則周期構造の磁気光学多層膜の磁性体充填
率が１０％以下、１５％以上３０％以下、又は３５％以
上５０％以下である場合に、高い光学的エンハンスメン
ト効果を有することが判った。Embodiment 3 FIG. The same measurement as in Example 2 was performed by changing the bN of the magneto-optic multilayer film, and the relationship between the maximum Faraday rotation angle θ F and the magnetic substance filling rate was examined. The sputtering conditions are the same as in the first embodiment. FIG. 11 is a graph showing the results, in which the vertical axis indicates the maximum Faraday rotation angle θ F ,
The horizontal axis indicates the magnetic substance filling rate PM. As can be seen from the graph, a large maximum Faraday rotation angle exists in a specific range of the magnetic substance filling rate similar to the above-described theoretical analysis.
Therefore, when the magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film having the irregular periodic structure is 10% or less, 15% or more and 30% or less, or 35% or more and 50% or less, it is found that the optical enhancement effect is high. Was.
【００３９】実施例４．実施例１で製造した磁気光学多
層膜を基板から剥がし取り、これらを積層方向に複数個
連ねて磁気光学体を製造し、これらの全膜厚に対するフ
ァラデー回転角を測定した。このとき、磁気光学体は接
着剤等を使用することなく物理的に密接に接触させてい
る。この結果を図１２に示す。図１２は縦軸はファラデ
ー回転角を示し、横軸は全膜厚を示しており、５μｍの
磁気光学多層膜を３０個まで連ねた場合を測定してい
る。グラフから、特定の全膜厚で顕著な光学的エンハン
スメント効果を有していることが判る。これにより、磁
気光学多層膜を１１個（全膜厚が略５５μｍ）又は磁気
光学多層膜を２６個（略１３０μｍ）連ねた場合に、高
い光学的エンハンスメント効果が得られ、また磁性層厚
を薄くできることから、光アイソレータとして用いた場
合に、光損失を極めて少なくできることが判った。Embodiment 4 FIG. The magneto-optical multilayer film manufactured in Example 1 was peeled off from the substrate, a plurality of these were connected in the laminating direction to manufacture a magneto-optical body, and the Faraday rotation angle with respect to the total film thickness was measured. At this time, the magneto-optical body is brought into physical close contact without using an adhesive or the like. The result is shown in FIG. In FIG. 12, the vertical axis indicates the Faraday rotation angle, and the horizontal axis indicates the total film thickness. The measurement is performed when up to 30 5 μm magneto-optical multilayer films are connected. From the graph, it can be seen that there is a remarkable optical enhancement effect at a specific total film thickness. Thus, when 11 magneto-optical multilayer films (total thickness is approximately 55 μm) or 26 magneto-optical multilayer films (approximately 130 μm) are connected, a high optical enhancement effect can be obtained, and the thickness of the magnetic layer can be reduced. From this, it was found that when used as an optical isolator, light loss can be extremely reduced.
【００４０】なお、上述した実施の形態では、本発明の
磁気光学多層膜を光アイソレータに適用した場合につい
て説明しているが、これに限るものではなく、例えば基
板上に上述した磁気光学多層膜を形成することにより、
大きな磁気光学効果を有する光磁気記録媒体を得ること
ができる。In the above embodiment, the case where the magneto-optical multilayer film of the present invention is applied to an optical isolator has been described. However, the present invention is not limited to this. By forming
A magneto-optical recording medium having a large magneto-optical effect can be obtained.
【００４１】[0041]
【発明の効果】以上のように、本発明においては、磁気
光学多層膜が磁性体層と誘電体層との層厚を不規則周期
的に積層して構成され、特定範囲の磁性体充填率を有す
ることにより、高い光学的エンハンスメント効果を得る
ことができる。また、不規則周期的に積層された磁気光
学多層膜が、反射率の逆ピークを示す磁性体充填率を有
することにより、さらに高い光学的エンハンスメント効
果を得ることができる。さらに、不規則周期的に積層さ
れた磁気光学多層膜を積層方向に複数連ねることによ
り、磁気光学効果のエンハンスメント効果が高く、光損
失を少なくできる等、本発明は優れた効果を奏する。As described above, in the present invention, the magneto-optical multilayer film is formed by stacking the thicknesses of the magnetic layer and the dielectric layer irregularly and periodically, and the magnetic material filling ratio in a specific range is obtained. , A high optical enhancement effect can be obtained. Further, since the magneto-optical multilayer film stacked irregularly and periodically has a magnetic substance filling rate showing a reverse peak of the reflectance, a higher optical enhancement effect can be obtained. Furthermore, the present invention has excellent effects such as a high degree of enhancement of the magneto-optical effect and a reduction in light loss by connecting a plurality of magneto-optical multilayer films laminated irregularly in the laminating direction.
【図１】本発明の磁気光学多層膜の構造を示す斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図２】本発明の磁気光学多層膜の磁性体充填率に対す
る反射率及び磁気光学効果を示すグラフである。FIG. 2 is a graph showing a reflectance and a magneto-optical effect with respect to a magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図３】本発明の他の磁気光学多層膜の磁性体充填率と
磁気光学効果との関係を示すグラフである。FIG. 3 is a graph showing a relationship between a magnetic substance filling rate and a magneto-optical effect of another magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図４】本発明の他の磁気光学多層膜の磁性体充填率と
磁気光学効果との関係を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a relationship between a magnetic substance filling rate and a magneto-optical effect of another magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図５】本発明の他の磁気光学多層膜の磁性体充填率と
磁気光学効果との関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a relationship between a magnetic substance filling rate and a magneto-optical effect of another magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図６】本発明の磁気光学多層膜の磁性体充填率に対す
る最大ファラデー回転角を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing a maximum Faraday rotation angle with respect to a magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film of the present invention.
【図７】本発明の磁気光学体の構造を示す斜視図であ
る。FIG. 7 is a perspective view showing the structure of the magneto-optical body of the present invention.
【図８】本発明の磁気光学体の磁気光学効果を示すグラ
フである。FIG. 8 is a graph showing a magneto-optical effect of the magneto-optical body of the present invention.
【図９】従来の磁気光学体の磁気光学効果を示すグラフ
である。FIG. 9 is a graph showing a magneto-optical effect of a conventional magneto-optical body.
【図１０】実施例２の磁気光学多層膜の磁性体充填率に
対する反射率及び磁気光学効果を示すグラフである。FIG. 10 is a graph showing a reflectance and a magneto-optical effect with respect to a magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film of Example 2.
【図１１】実施例３の磁気光学多層膜の磁性体充填率に
対する最大ファラデー回転角を示すグラフである。FIG. 11 is a graph showing the maximum Faraday rotation angle with respect to the magnetic substance filling rate of the magneto-optical multilayer film of Example 3.
【図１２】実施例４の磁気光学多層膜の磁気光学効果を
示すグラフである。FIG. 12 is a graph showing a magneto-optical effect of the magneto-optical multilayer film of Example 4.
【図１３】従来の磁気光学多層膜の構造を示す斜視図で
ある。FIG. 13 is a perspective view showing the structure of a conventional magneto-optical multilayer film.
【図１４】従来の磁気光学多層膜の磁気光学効果を示す
グラフである。FIG. 14 is a graph showing a magneto-optical effect of a conventional magneto-optical multilayer film.
１ 磁気光学多層膜 １０ 磁気光学体 １１ 磁性体層 １２ 誘電体層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Magneto-optical multilayer film 10 Magneto-optical body 11 Magnetic layer 12 Dielectric layer
フロントページの続き (72)発明者 玉野井 健 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内Continued on the front page (72) Inventor Ken Tamanoi 4-1-1 Kamikadanaka, Nakahara-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fujitsu Limited
Claims (5)
射光の偏光面を回転せしめる磁気光学多層膜において、
前記磁性体及び誘電体は、各層の厚さを不規則にして積
層してあることを特徴とする磁気光学多層膜。1. A magneto-optical multilayer film in which a magnetic material and a dielectric material are alternately laminated to rotate a plane of polarization of incident light,
The magneto-optical multilayer film is characterized in that the magnetic material and the dielectric material are laminated with the thickness of each layer being irregular.
１０％以下、１５％乃至３０％、又は３５％乃至５０％
である請求項１記載の磁気光学多層膜。2. The ratio of the thickness of all layers of the magnetic material to the total thickness is
10% or less, 15% to 30%, or 35% to 50%
2. The magneto-optical multilayer film according to claim 1, wherein
入射した光の反射率が前記膜厚率の増加又は減少に対し
て逆ピークを有する値である請求項１記載の磁気光学多
層膜。3. The film thickness ratio of all magnetic layers to the total film thickness is:
2. The magneto-optical multilayer film according to claim 1, wherein the reflectance of the incident light is a value having a peak opposite to the increase or decrease of the film thickness ratio.
る請求項１記載の磁気光学多層膜。4. The magneto-optical multilayer film according to claim 1, wherein the magnetic material is a rare earth iron-based garnet.
を積層方向に連ねてあることを特徴とする磁気光学体。5. A magneto-optical body comprising a plurality of the magneto-optical multilayer films according to claim 1 connected in a stacking direction.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21175696A JP3245702B2 (en) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | Magneto-optical multilayer film and magneto-optical body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21175696A JP3245702B2 (en) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | Magneto-optical multilayer film and magneto-optical body |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1054965A true JPH1054965A (en) | 1998-02-24 |
| JP3245702B2 JP3245702B2 (en) | 2002-01-15 |
Family
ID=16611066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21175696A Expired - Fee Related JP3245702B2 (en) | 1996-08-09 | 1996-08-09 | Magneto-optical multilayer film and magneto-optical body |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3245702B2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6262949B1 (en) | 1997-11-14 | 2001-07-17 | Fujitsu Limited | Multilayer resonance device and magneto-optical recording medium with magnetic center layer of a different thickness than that of the components of the reflecting layers |
| US6421303B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-07-16 | Fujitsu Limited | Multilayer resonance device and magneto-optical recording medium with magnetic center layer of a different thickness than that of the components of the reflecting layers, and method of reproducing the same |
| CN114815397A (en) * | 2022-06-20 | 2022-07-29 | 惠科股份有限公司 | Optical film, preparation method thereof and display device |
-
1996
- 1996-08-09 JP JP21175696A patent/JP3245702B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6262949B1 (en) | 1997-11-14 | 2001-07-17 | Fujitsu Limited | Multilayer resonance device and magneto-optical recording medium with magnetic center layer of a different thickness than that of the components of the reflecting layers |
| US6421303B1 (en) | 1997-11-14 | 2002-07-16 | Fujitsu Limited | Multilayer resonance device and magneto-optical recording medium with magnetic center layer of a different thickness than that of the components of the reflecting layers, and method of reproducing the same |
| CN114815397A (en) * | 2022-06-20 | 2022-07-29 | 惠科股份有限公司 | Optical film, preparation method thereof and display device |
| US11774803B1 (en) | 2022-06-20 | 2023-10-03 | HKC Corporation Limited | Optical film and preparation method therefor, and display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3245702B2 (en) | 2002-01-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4983025A (en) | Magneto-optical thin film | |
| EP1102285A2 (en) | Magneto-optical member | |
| JP3245702B2 (en) | Magneto-optical multilayer film and magneto-optical body | |
| JPH03173958A (en) | Magneto-optical disk | |
| US5501913A (en) | Garnet polycrystalline film for magneto-optical recording medium | |
| JPS61196439A (en) | Photomagnetic recording medium and its production | |
| Nakada et al. | Low temperature crystal growth of MnBi films | |
| JPS6310357A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| KR100272595B1 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH0317813A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS6122454A (en) | Photomagnetic recording medium | |
| JP2528184B2 (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6310355A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPH06251441A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS6029996A (en) | Photomagnetic recording carrier | |
| JPS60201545A (en) | Photoelectromagnetic recording medium | |
| JPS62289946A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| Yusu et al. | LAYER MODULATED Co/Pt MULTILAYERS WITH ENHANCED KERR ROTATION ANGLES | |
| JP2825837B2 (en) | Magnetic laminated film and method of manufacturing the same | |
| JPS59201248A (en) | Optomagnetic disk | |
| JPH0449547A (en) | Production of metal laminated film | |
| JPH09178939A (en) | Polarizer and its production | |
| JPH04113533A (en) | Magneto-optical recording medium | |
| JPS60236115A (en) | Vertical magnetic recording medium | |
| JPH07105303B2 (en) | Thin film formation method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20011002 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081102 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091102 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121102 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |