JPH1050065A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

Info

Publication number
JPH1050065A
JPH1050065A JP8216700A JP21670096A JPH1050065A JP H1050065 A JPH1050065 A JP H1050065A JP 8216700 A JP8216700 A JP 8216700A JP 21670096 A JP21670096 A JP 21670096A JP H1050065 A JPH1050065 A JP H1050065A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word line
power supply
bicmos
logic gate
line drive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8216700A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Tomatsuri
智之 戸祭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP8216700A priority Critical patent/JPH1050065A/en
Publication of JPH1050065A publication Critical patent/JPH1050065A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accelerate a large capacity BiCMOS(bipolar complementary metal oxide semiconductor) static RAM(random access memory), etc., without impeding its low power consumption formation. SOLUTION: A unit word line driving circuit UWD000 provided corresponding to each word line WL000, etc., of a memory array is constituted based on e.g. a three inputs NAND gate NAG1 receiving predecoding signals PX00, PX30 and PX60, etc., at prescribed combination and e.g. an inverter INV1 receiving the output signal of the NAND gate NAG1 and that the output signal becomes a substantial word line selection signal, that is, the word line WL000, and the operation power source of the NAND gate NAG1 is made a source voltage VEE of the same potential as the source voltage VEM to be the operation power source of a static memory cell MC constituting a memory array MARY, and the operation power source of the inverter INV1 is made the source voltage VES that its absolute value is larger than the source voltages VEM and VEE. Thus, a unit word line driving circuit of a two steps structure with its relatively less operation current and capable of operating at high speed is realized.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、例えば、大容量のBiCMOSスタティックRA
M(ランダムアクセスメモリ)ならびにその高速化及び
低消費電力化に利用して特に有効な技術に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, for example, a large capacity BiCMOS static RA.
The present invention relates to an M (random access memory) and a technique particularly effective when used for speeding up and reducing power consumption.

【0002】[0002]

【従来の技術】バイポーラトランジスタと、Pチャンネ
ル及びNチャンネルMOSFET(金属酸化物半導体型
電界効果トランジスタ。この明細書では、MOSFET
をして絶縁ゲート型電界効果トランジスタの総称とす
る)からなるCMOS(相補型MOS)回路とが組み合
わされてなるいわゆるBiCMOS(バイポーラCMO
S)回路がある。また、スタティック型メモリセルが格
子状に配置されてなるメモリアレイと、上記のようなB
iCMOS回路からなるワード線駆動回路等の周辺回路
を備えるいわゆるBiCMOSスタティックRAMがあ
る。
2. Description of the Related Art Bipolar transistors and P-channel and N-channel MOSFETs (metal oxide semiconductor field effect transistors; in this specification, MOSFETs)
And a CMOS (complementary MOS) circuit composed of an insulated gate type field effect transistor).
S) There is a circuit. Further, a memory array in which static memory cells are arranged in a lattice pattern,
There is a so-called BiCMOS static RAM including a peripheral circuit such as a word line drive circuit composed of an iCMOS circuit.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本願発明者等は、この
発明に先立ってBiCMOSスタティックRAMの大容
量化を図ろうとして、次の問題点に気付いた。すなわ
ち、このBiCMOSスタティックRAMは、メモリア
レイの各ワード線に対応して設けられる複数の単位ワー
ド線駆動回路を含むワード線駆動回路を具備し、単位ワ
ード線駆動回路のそれぞれは、前段のXアドレスデコー
ダXDから出力されるプリデコード信号を所定の組み合
わせで受けその出力端子がメモリアレイの対応するワー
ド線に結合される例えば3入力のBiCMOSノア(N
OR)ゲートを含む。ワード線駆動回路の各単位ワード
線駆動回路に供給されるプリデコード信号は、比較的小
さな振幅のいわゆるECL(エミッタカップルドロジッ
ク)レベルの信号とされ、単位ワード線駆動回路のそれ
ぞれは、対応する3ビットのプリデコード信号がともに
ロウレベルとされることで対応するワード線を選択的に
選択状態とするためのデコーダとして機能するととも
に、ワード線の選択レベルをECLレベルからMOSレ
ベルに変換するためのレベル変換回路としても機能す
る。
Prior to the present invention, the present inventors have attempted to increase the capacity of a BiCMOS static RAM and have noticed the following problem. That is, this BiCMOS static RAM includes a word line driving circuit including a plurality of unit word line driving circuits provided corresponding to each word line of the memory array, and each of the unit word line driving circuits is connected to a previous stage X address. Predecode signal output from decoder XD is received in a predetermined combination, and its output terminal is coupled to a corresponding word line of the memory array, for example, a three-input BiCMOS NOR (N
OR) gate. The predecode signal supplied to each unit word line drive circuit of the word line drive circuit is a so-called ECL (emitter coupled logic) level signal having a relatively small amplitude, and each unit word line drive circuit has a corresponding signal. When both the 3-bit predecode signals are set to the low level, it functions as a decoder for selectively setting the corresponding word line to a selected state, and also converts the word line selection level from the ECL level to the MOS level. Also functions as a level conversion circuit.

【0004】ところが、BiCMOSスタティックRA
Mが大容量化されるにしたがって、ワード線に結合され
るメモリセルの数が増え、ワード線自体の配線長も長く
なって、各単位ワード線駆動回路に対する負荷容量が増
大する。この結果、デコーダ及びレベル変換回路が一体
化された上記のような単位ワード線駆動回路では、駆動
能力が不足し、その分ワード線の選択動作が遅くなっ
て、BiCMOSスタティックRAMの高速化が制約を
受ける。また、これに対処するため、単位ワード線駆動
回路の駆動能力をいたずらに大きくしようとすると、そ
の動作電流が増大し、BiCMOSスタティックRAM
の低消費電力化が阻害される。
However, BiCMOS static RA
As the capacity of M increases, the number of memory cells coupled to the word line increases, the wiring length of the word line itself also increases, and the load capacity for each unit word line drive circuit increases. As a result, in the unit word line driving circuit as described above in which the decoder and the level conversion circuit are integrated, the driving capability is insufficient, and the operation of selecting the word line is delayed by that amount, and the speeding up of the BiCMOS static RAM is restricted. Receive. In order to cope with this, if the drive capability of the unit word line drive circuit is unnecessarily increased, the operation current increases, and the BiCMOS static RAM increases.
Lower power consumption is hindered.

【0005】この発明の目的は、その低消費電力化を阻
害することなく、大容量化されたBiCMOSスタティ
ックRAM等の高速化を図ることにある。
An object of the present invention is to increase the speed of a large-capacity BiCMOS static RAM or the like without hindering the reduction in power consumption.

【0006】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、大容量のBiCMOSスタテ
ィックRAM等において、メモリアレイの各ワード線に
対応して設けられる単位ワード線駆動回路を、所定ビッ
トのプリデコード信号を所定の組み合わせでそれぞれ受
ける第1のBiCMOS論理ゲートと、第1のBiCM
OS論理ゲートの出力信号を受けその出力信号が実質的
なワード線選択信号となる第2のBiCMOS論理ゲー
トとを基本に構成するとともに、第1のBiCMOS論
理ゲートの動作電源を、メモリアレイを構成するスタテ
ィック型メモリセルの動作電源たる第1の電源電圧と同
電位の第2の電源電圧とし、第2のBiCMOS論理ゲ
ートの動作電源を、その絶対値が第1及び第2の電源電
圧より大きな第3の電源電圧とする。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, in a large-capacity BiCMOS static RAM or the like, a unit word line drive circuit provided corresponding to each word line of a memory array is connected to a first BiCMOS logic gate receiving a predecode signal of a predetermined bit in a predetermined combination. , The first BiCM
A second BiCMOS logic gate which receives an output signal of the OS logic gate and the output signal of which is a substantial word line selection signal is basically configured, and an operation power supply of the first BiCMOS logic gate is configured as a memory array. A second power supply voltage having the same potential as the first power supply voltage as the operation power supply of the static memory cell to be operated, and the absolute value of the operation power supply of the second BiCMOS logic gate is larger than the first and second power supply voltages The third power supply voltage is used.

【0008】上記手段によれば、その動作電流が比較的
少なくかつ高速に動作しうる2段構造の単位ワード線駆
動回路を実現できるため、その低消費電力化を阻害する
ことなく、BiCMOSスタティックRAM等の高速化
を図ることができる。
According to the above means, a unit word line drive circuit having a two-stage structure capable of operating at a high speed with a relatively small operating current can be realized. , Etc., can be speeded up.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用された
BiCMOSスタティックRAMの一実施例のブロック
図が示されている。同図をもとに、まずこの実施例のB
iCMOSスタティックRAMの構成及び動作の概要に
ついて説明する。なお、図1の各ブロックを構成する回
路素子は、公知のMOSFET集積回路の製造技術によ
り、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上に形成
される。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a BiCMOS static RAM to which the present invention is applied. Referring to FIG.
An outline of the configuration and operation of the iCMOS static RAM will be described. The circuit elements constituting each block in FIG. 1 are formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known MOSFET integrated circuit manufacturing technique.

【0010】図1において、この実施例のBiCMOS
スタティックRAMは、特に制限されないが、4個のメ
モリマットMAT0〜MAT3を備え、これらのメモリ
マットのそれぞれは、メモリアレイMARYと、ワード
線駆動回路WD,XアドレスデコーダXD,Yスイッチ
YS,ライトアンプWA,センスアンプSAならびにY
アドレスデコーダYDとを備える。このうち、Xアドレ
スデコーダXDには、XアドレスバッファXBから例え
ば9ビットの内部Xアドレス信号X0〜X8が供給さ
れ、YアドレスデコーダYDには、Yアドレスバッファ
YBから9ビットの内部Yアドレス信号Y0〜Y8が供
給される。また、ライトアンプWAには、データ入力バ
ッファIBから入力データバスIDB0〜IDB7を介
して、例えば8ビットの書き込みデータが供給され、セ
ンスアンプSAの出力信号は、出力データバスODB0
〜ODB7を介してデータ出力バッファOBに供給され
る。センスアンプSAには、タイミング発生回路TGか
ら内部制御信号RCが供給され、データ出力バッファO
Bには内部制御信号OCが供給される。
Referring to FIG. 1, the BiCMOS of this embodiment
Although not particularly limited, the static RAM includes four memory mats MAT0 to MAT3. Each of these memory mats includes a memory array MARY, a word line drive circuit WD, an X address decoder XD, a Y switch YS, and a write amplifier. WA, sense amplifier SA and Y
And an address decoder YD. The X address decoder XD is supplied with, for example, 9-bit internal X address signals X0 to X8 from the X address buffer XB, and the Y address decoder YD is supplied with the 9-bit internal Y address signal Y0 from the Y address buffer YB. To Y8 are supplied. Further, for example, 8-bit write data is supplied from the data input buffer IB to the write amplifier WA via the input data buses IDB0 to IDB7, and the output signal of the sense amplifier SA is output from the output data bus ODB0.
ODODB7 to the data output buffer OB. The internal control signal RC is supplied from the timing generation circuit TG to the sense amplifier SA, and the data output buffer O
B is supplied with an internal control signal OC.

【0011】メモリアレイMARYは、特に制限されな
いが、図の水平方向に平行して配置される実質例えば5
12本のワード線と、図の垂直方向に平行して配置され
る実質例えば8×512つまり4,096組の相補ビッ
ト線とをそれぞれ含む。これらのワード線及び相補ビッ
ト線の交点には、実質512×4,096つまり2,0
97,152個のスタティック型メモリセルが格子状に
配置される。これにより、メモリマットMAT0〜MA
T3のそれぞれは、いわゆる2メガビットの記憶容量を
持つものとされ、BiCMOSスタティックRAMは、
合計いわゆる8メガビットもの比較的大きな記憶容量を
持つものとされる。
Although the memory array MARY is not particularly limited, the memory array MARY may be substantially parallel to the horizontal direction in FIG.
It includes 12 word lines and 8 × 512 or 4,096 sets of complementary bit lines, for example, arranged in parallel in the vertical direction in the figure. The intersection of these word lines and complementary bit lines is substantially 512 × 4,096 or 2,0
97,152 static memory cells are arranged in a lattice. Thereby, memory mats MAT0-MAT
Each of the T3s has a storage capacity of 2 megabits, and the BiCMOS static RAM has
It has a relatively large storage capacity of so-called 8 megabits in total.

【0012】メモリアレイMARYを構成する512本
のワード線は、ワード線駆動回路WDに結合され、択一
的に選択状態とされる。ワード線駆動回路WDは、後述
するように、メモリアレイMARYの各ワード線に対応
して設けられる512個の単位ワード線駆動回路を備
え、これらの単位ワード線駆動回路には、Xアドレスデ
コーダXDからそれぞれ3ビットのプリデコード信号が
所定の組み合わせで選択的に供給される。ワード線駆動
回路WDの各単位ワード線駆動回路は、対応する3ビッ
トのプリデコード信号がともにハイレベルとされると
き、メモリアレイMARYの対応するワード線を選択的
に所定の選択レベルとする。なお、ワード線駆動回路W
Dの具体的構成については、後で詳細に説明する。
The 512 word lines constituting the memory array MARY are coupled to a word line drive circuit WD and are selectively selected. As will be described later, the word line drive circuit WD includes 512 unit word line drive circuits provided corresponding to each word line of the memory array MARY, and these unit word line drive circuits include an X address decoder XD. , A 3-bit predecode signal is selectively supplied in a predetermined combination. Each unit word line drive circuit of the word line drive circuit WD selectively sets the corresponding word line of the memory array MARY to a predetermined selection level when the corresponding 3-bit predecode signals are both at the high level. Note that the word line drive circuit W
The specific configuration of D will be described later in detail.

【0013】XアドレスデコーダXDは、後述するよう
に、3個のXプリデコーダを備え、これらのXプリデコ
ーダには、内部Xアドレス信号X0〜X8が、順次X0
〜X2,X3〜X5ならびにX6〜X8の組み合わせで
3ビットずつ供給される。XアドレスデコーダXDの各
Xプリデコーダは、3ビットの内部Xアドレス信号X0
〜X2,X3〜X5あるいはX6〜X8をそれぞれデコ
ードして、対応する8ビットのプリデコード信号を択一
的に所定のハイレベルとする。
The X address decoder XD has three X predecoders, as will be described later, and these X predecoders receive internal X address signals X0 to X8 in order.
X2, X3 to X5, and X6 to X8 are supplied in units of 3 bits. Each X predecoder of the X address decoder XD has a 3-bit internal X address signal X0.
To X2, X3 to X5 or X6 to X8, respectively, and the corresponding 8-bit predecode signal is alternatively set to a predetermined high level.

【0014】XアドレスバッファXBは、外部端子AX
0〜AX9を介して供給されるXアドレス信号AX0〜
AX9を取り込み、保持するとともに、これらのXアド
レス信号をもとに内部Xアドレス信号X0〜X9を形成
する。このうち、最上位ビットの内部Xアドレス信号X
9は、マット選択回路MSに供給され、その他の内部X
アドレス信号X0〜X8は、前述のように、メモリマッ
トMAT0〜MAT3のXアドレスデコーダXDに供給
される。
The X address buffer XB is connected to an external terminal AX
X address signals AX0 through AX0
AX9 is taken in and held, and internal X address signals X0 to X9 are formed based on these X address signals. Of these, the internal X address signal X of the most significant bit
9 is supplied to the mat selection circuit MS and the other internal X
The address signals X0 to X8 are supplied to the X address decoders XD of the memory mats MAT0 to MAT3 as described above.

【0015】一方、各メモリマットのメモリアレイMA
RYを構成する4,096組の相補ビット線は、Yスイ
ッチYSに結合され、このYスイッチを介して8組ずつ
選択的にライトアンプWA又はセンスアンプSAに接続
される。
On the other hand, memory array MA of each memory mat
The 4,096 sets of complementary bit lines constituting RY are connected to a Y switch YS, and are selectively connected to the write amplifier WA or the sense amplifier SA by eight sets via the Y switch YS.

【0016】ここで、YスイッチYSは、対応するメモ
リアレイMARYの各相補ビット線に対応して設けられ
る4,096対のスイッチMOSFETを含む。これら
のスイッチMOSFETのゲートは、順次8組ずつ共通
結合され、YアドレスデコーダYDから対応するビット
線選択信号がそれぞれ共通に供給される。YスイッチY
Sの各スイッチMOSFETは、対応するビット線選択
信号が所定のハイレベルとされることで8組ずつ選択的
にオン状態となり、対応するメモリアレイMARYの指
定された8組の相補ビット線とライトアンプWA又はセ
ンスアンプSAとの間を選択的に接続状態とする。
Here, Y switch YS includes 4,096 pairs of switch MOSFETs provided corresponding to each complementary bit line of corresponding memory array MARY. The gates of these switch MOSFETs are sequentially and commonly connected in groups of eight, and a corresponding bit line selection signal is commonly supplied from a Y address decoder YD. Y switch Y
Each of the S switch MOSFETs is selectively turned on eight sets at a time when the corresponding bit line selection signal is set to a predetermined high level, and the corresponding eight sets of complementary bit lines of the corresponding memory array MARY are written to the corresponding switch MOSFETs. The amplifier WA or the sense amplifier SA is selectively connected.

【0017】YアドレスデコーダYDは、Yアドレスバ
ッファYBから供給される内部Yアドレス信号AY0〜
AY8をデコードして、対応するビット線選択信号を択
一的に所定のハイレベルとする。また、Yアドレスバッ
ファYBは、外部端子AY0〜AY9を介して供給され
るYアドレス信号AY0〜AY9を取り込み、保持する
とともに、これらのYアドレス信号をもとに内部Yアド
レス信号Y0〜Y9を形成する。このうち、最上位ビッ
トの内部Yアドレス信号Y9は、マット選択回路MSに
供給され、その他の内部Yアドレス信号Y0〜Y8は、
メモリマットMAT0〜MAT3のYアドレスデコーダ
YDに供給される。
The Y address decoder YD includes internal Y address signals AY0 to AY0 supplied from a Y address buffer YB.
AY8 is decoded, and the corresponding bit line selection signal is alternatively set to a predetermined high level. The Y address buffer YB captures and holds the Y address signals AY0 to AY9 supplied via the external terminals AY0 to AY9, and forms the internal Y address signals Y0 to Y9 based on these Y address signals. I do. Among them, the internal Y address signal Y9 of the most significant bit is supplied to the mat selection circuit MS, and the other internal Y address signals Y0 to Y8 are
It is supplied to the Y address decoder YD of the memory mats MAT0 to MAT3.

【0018】マット選択回路MSは、Xアドレスバッフ
ァXB及びYアドレスバッファYBから供給される最上
位ビットの内部Xアドレス信号X9及び内部Yアドレス
信号Y9をデコードして、対応するマット選択信号MS
L0〜MSL3を択一的に所定のハイレベルとする。マ
ット選択信号MSL0〜MSL3は、メモリマットMA
T0〜MAT3にそれぞれ供給され、これらのメモリマ
ットMAT0〜MAT3を選択的に活性状態とするため
に供される。
The mat select circuit MS decodes the most significant bits of the internal X address signal X9 and the internal Y address signal Y9 supplied from the X address buffer XB and the Y address buffer YB, and outputs the corresponding mat select signal MS.
L0 to MSL3 are alternatively set to a predetermined high level. The mat selection signals MSL0 to MSL3 are
The memory mats MAT0 to MAT3 are supplied to T0 to MAT3, respectively, to selectively activate these memory mats MAT0 to MAT3.

【0019】データ入力バッファIBは、BiCMOS
スタティックRAMが書き込みモードで選択状態とされ
るとき、データ入出力端子IO0〜IO7を介して供給
される8ビットの書き込みデータを取り込み、保持する
とともに、入力データバスIDB0〜IDB7を介して
ライトアンプWAに伝達する。このとき、ライトアンプ
WAは、内部制御信号WCのハイレベルを受けて選択的
に動作状態となり、データ入力バッファIBから入力デ
ータバスIDB0〜IDB7を介して供給される書き込
みデータを所定の相補書き込み信号とした後、Yスイッ
チYSを介してメモリアレイMARYの選択された8個
のメモリセルに書き込む。
The data input buffer IB is a BiCMOS
When the static RAM is selected in the write mode, 8-bit write data supplied through the data input / output terminals IO0 to IO7 is taken in and held, and the write amplifier WA is input via the input data buses IDB0 to IDB7. To communicate. At this time, the write amplifier WA is selectively activated in response to the high level of the internal control signal WC, and changes the write data supplied from the data input buffer IB via the input data buses IDB0 to IDB7 to a predetermined complementary write signal. After that, the data is written to the selected eight memory cells of the memory array MARY via the Y switch YS.

【0020】一方、センスアンプSAは、BiCMOS
スタティックRAMが読み出しモードで選択状態とされ
るとき、内部制御信号RCのハイレベルを受けて選択的
に動作状態とされる。この動作状態において、センスア
ンプSAは、メモリアレイMARYの選択された8個の
メモリセルからYスイッチYSを介して出力される読み
出し信号を増幅した後、読み出しデータバスODB0〜
ODB7を介してデータ出力バッファOBに伝達する。
このとき、データ出力バッファOBは、内部制御信号O
Cのハイレベルを受けて選択的に動作状態となり、セン
スアンプSAから読み出しデータバスODB0〜ODB
7を介して出力される読み出しデータをデータ入出力端
子IO0〜IO7を介して外部装置に出力する。
On the other hand, the sense amplifier SA is a BiCMOS
When the static RAM is set to the selected state in the read mode, the static RAM is selectively operated in response to the high level of the internal control signal RC. In this operation state, the sense amplifier SA amplifies the read signals output from the selected eight memory cells of the memory array MARY via the Y switch YS, and then reads the read data buses ODB0 to ODB0.
The data is transmitted to the data output buffer OB via the ODB 7.
At this time, the data output buffer OB outputs the internal control signal O
In response to the high level of C, the operating state is selectively activated, and the read data buses ODB0 to ODB from the sense amplifier SA are read.
7 is output to an external device via data input / output terminals IO0 to IO7.

【0021】タイミング発生回路TGは、外部装置から
起動制御信号として供給されるチップイネーブル信号C
EB(ここで、それが有効とされるとき選択的にロウレ
ベルとされるいわゆる反転信号等については、その名称
の末尾にBを付して表す。以下同様)及びライトイネー
ブル信号WEBをもとに上記各種の内部制御信号を選択
的に形成し、BiCMOSスタティックRAMの各部に
供給する。
The timing generation circuit TG is provided with a chip enable signal C supplied as a start control signal from an external device.
EB (here, a so-called inverted signal or the like which is selectively set to a low level when it becomes valid is indicated by adding a B to the end of its name. The same applies hereinafter) and a write enable signal WEB. The above-mentioned various internal control signals are selectively formed and supplied to each section of the BiCMOS static RAM.

【0022】図2には、図1のBiCMOSスタティッ
クRAMの一実施例の基板配置図が示されている。同図
をもとに、この実施例のBiCMOSスタティックRA
Mの基板配置の概要について説明する。なお、基板配置
に関する以下の説明では、図2の位置関係をもって半導
体基板SUBの上下左右を表す。
FIG. 2 shows a substrate layout diagram of one embodiment of the BiCMOS static RAM of FIG. Based on the figure, the BiCMOS static RA of this embodiment
An outline of the M substrate arrangement will be described. In the following description of the substrate arrangement, the top, bottom, left, and right of the semiconductor substrate SUB are represented by the positional relationship of FIG.

【0023】図2において、この実施例のBiCMOS
スタティックRAMは、前述のように、4個のメモリマ
ットMAT0〜MAT3を備え、これらのメモリマット
は、半導体基板SUBの大半の面積を占めていわゆる田
の字状に配置される。すなわち、例えば、半導体基板S
UBの左上部には、メモリマットMAT0のメモリアレ
イMARYがそのワード線WLを水平方向に延長すべく
横方向に配置され、その内側つまり半導体基板SUBの
縦の中心線側には、対応するXアドレスデコーダXDが
配置される。半導体基板SUBの縦の中央部には、その
縦の中心線に沿ってXアドレスバッファXBを含む周辺
回路PCが配置され、半導体基板SUBの右上部には、
メモリマットMAT1を構成するメモリアレイMARY
及びXアドレスデコーダXDが周辺回路PCをはさんで
対称配置される。
Referring to FIG. 2, the BiCMOS of this embodiment
As described above, the static RAM includes the four memory mats MAT0 to MAT3, and these memory mats occupy a large area of the semiconductor substrate SUB and are arranged in a so-called cross-shaped. That is, for example, the semiconductor substrate S
At the upper left of UB, a memory array MARY of memory mat MAT0 is arranged in a horizontal direction so as to extend its word line WL in the horizontal direction, and a corresponding X in the inside thereof, that is, on the vertical center line side of semiconductor substrate SUB. An address decoder XD is provided. At the vertical center of the semiconductor substrate SUB, a peripheral circuit PC including an X address buffer XB is arranged along the vertical center line, and at the upper right of the semiconductor substrate SUB,
Memory array MARY forming memory mat MAT1
And the X address decoder XD are arranged symmetrically around the peripheral circuit PC.

【0024】一方、メモリマットMAT0の半導体基板
SUBの横の中心線側には、YスイッチYS,ライトア
ンプWA,センスアンプSAならびにYアドレスデコー
ダYDが配置される。また、半導体基板SUBの横の中
央部には、その横の中心線に沿ってYアドレスバッファ
YBを含む周辺回路PCLが配置され、半導体基板SU
Bの左下部及び右下部には、メモリマットMAT2及び
MAT3を構成するメモリアレイMARY及びXアドレ
スデコーダXD等が周辺回路PCL又はPCRをはさん
でそれぞれ対称的に配置される。
On the other hand, a Y switch YS, a write amplifier WA, a sense amplifier SA, and a Y address decoder YD are arranged on the center line side of the semiconductor substrate SUB of the memory mat MAT0. Further, a peripheral circuit PCL including a Y address buffer YB is arranged at a horizontal center of the semiconductor substrate SUB along a horizontal center line of the semiconductor substrate SUB.
At the lower left and lower right of B, a memory array MARY and an X address decoder XD, etc., constituting the memory mats MAT2 and MAT3 are symmetrically arranged with the peripheral circuit PCL or PCR interposed therebetween.

【0025】この実施例において、ワード線駆動回路W
Dは、各ワード線WLに対応して設けられる512個の
単位ワード線駆動回路UWDを含み、これらの単位ワー
ド線駆動回路は、対応するメモリアレイMARYのワー
ド線延長方向の中央部に配置される。これにより、各メ
モリアレイMARYは、ワード線駆動回路WDをはさん
で二分割配置されるが、ワード線駆動回路WDがその中
央部に配置されることで、比較的大きな負荷容量が結合
されるワード線の伝達遅延時間を縮小し、ワード線の選
択動作を平均的に高速化して、BiCMOSスタティッ
クRAMのアクセスタイムを高速化することができるも
のとなる。
In this embodiment, the word line driving circuit W
D includes 512 unit word line drive circuits UWD provided corresponding to each word line WL, and these unit word line drive circuits are arranged at the center of the corresponding memory array MARY in the word line extension direction. You. As a result, each memory array MARY is divided into two parts with the word line drive circuit WD interposed therebetween, and a relatively large load capacitance is coupled by arranging the word line drive circuit WD at the center thereof. The transmission delay time of the word line can be reduced, the word line selection operation can be speeded up on average, and the access time of the BiCMOS static RAM can be shortened.

【0026】図3には、図1のBiCMOSスタティッ
クRAMに含まれるXアドレスデコーダXD及びワード
線駆動回路WDの一実施例のブロック図が示されてい
る。同図をもとに、この実施例のBiCMOSスタティ
ックRAMに含まれるXアドレスデコーダXD及びワー
ド線駆動回路WDの構成及び動作の概要について説明す
る。なお、図3には、メモリマットMAT0〜MAT3
のいずれか1個に対応するXアドレスデコーダXD及び
ワード線駆動回路WDが例示されるが、これらのメモリ
マットMAT0〜MAT3が、同様なXアドレスデコー
ダXD及びワード線駆動回路WDをそれぞれ含むもので
あることは言うまでもない。
FIG. 3 is a block diagram showing one embodiment of the X address decoder XD and the word line drive circuit WD included in the BiCMOS static RAM of FIG. The outline of the configuration and operation of the X address decoder XD and the word line drive circuit WD included in the BiCMOS static RAM of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 shows the memory mats MAT0 to MAT3.
The memory mats MAT0 to MAT3 include the same X address decoder XD and word line drive circuit WD, respectively. Needless to say.

【0027】図3において、XアドレスデコーダXD
は、3個のXプリデコーダPXD0〜PXD2を備え、
これらのXプリデコーダには、XアドレスバッファXB
から順次3ビットの内部Xアドレス信号X0〜X2,X
3〜X5ならびにX6〜X8がそれぞれ供給される。こ
のうち、XプリデコーダPXD0は、3ビットの内部X
アドレス信号X0〜X2をデコードして、その出力信号
つまりプリデコード信号PX00〜PX07の対応する
ビットを択一的にハイレベルとする。同様に、Xプリデ
コーダPXD1は、3ビットの内部Xアドレス信号X3
〜X5をデコードして、その出力信号つまりプリデコー
ド信号PX30〜PX37の対応するビットを択一的に
ハイレベルとし、XプリデコーダPXD2は、3ビット
の内部Xアドレス信号X6〜X8をデコードして、その
出力信号つまりプリデコード信号PX60〜PX67の
対応するビットを択一的にハイレベルとする。
In FIG. 3, X address decoder XD
Comprises three X predecoders PXD0 to PXD2,
These X predecoders include an X address buffer XB
, A 3-bit internal X address signal X0 to X2, X
3 to X5 and X6 to X8 are supplied, respectively. The X predecoder PXD0 has a 3-bit internal X
The address signals X0 to X2 are decoded, and their output signals, that is, the bits corresponding to the predecode signals PX00 to PX07 are alternatively set to a high level. Similarly, the X predecoder PXD1 has a 3-bit internal X address signal X3
To X5, and their output signals, that is, the corresponding bits of the predecode signals PX30 to PX37 are alternatively set to the high level. The X predecoder PXD2 decodes the 3-bit internal X address signals X6 to X8. The output signal, that is, the corresponding bit of the predecode signals PX60 to PX67 is alternatively set to the high level.

【0028】なお、この実施例において、内部Xアドレ
ス信号X0〜X9は、特に制限されないが、その信号振
幅を例えば0.8V(ボルト)程度とするECLレベル
の信号とされ、XプリデコーダPXD0〜PXD2の出
力信号つまりプリデコード信号PX00〜PX07,P
X30〜PX37ならびにPX60〜PX67も、同様
なECLレベルの信号とされる。
In this embodiment, the internal X address signals X0 to X9 are not particularly limited, but are ECL level signals having signal amplitudes of, for example, about 0.8 V (volts), and X predecoders PXD0 to PXD0. PXD2 output signal, ie, predecode signals PX00 to PX07, P
X30 to PX37 and PX60 to PX67 are also signals of the same ECL level.

【0029】次に、ワード線駆動回路WDは、対応する
メモリアレイMARYの実質512本のワード線WL0
00〜WL511に対応して設けられる512個の単位
ワード線駆動回路UWD000〜UWD511を備え、
これらの単位ワード線駆動回路のそれぞれは、後述する
ように、第1のBiCMOS論理ゲートつまり3入力の
BiCMOSナンド(NAND)ゲートと、第2のBi
CMOS論理ゲートつまりBiCMOSインバータとを
含む。
Next, the word line drive circuit WD operates substantially 512 word lines WL0 of the corresponding memory array MARY.
And 512 unit word line driving circuits UWD000 to UWD511 provided corresponding to 00 to WL511, respectively.
Each of these unit word line driving circuits includes a first BiCMOS logic gate, that is, a three-input BiCMOS NAND (NAND) gate and a second BiCMOS
CMOS logic gates or BiCMOS inverters.

【0030】ワード線駆動回路WDの単位ワード線駆動
回路UWD000〜UWD511を構成するBiCMO
Sナンドゲートの第1ないし第3の入力端子には、Xア
ドレスデコーダXDからプリデコード信号PX00〜P
X07,PX30〜PX37ならびにPX60〜PX6
7がそれぞれ1ビットずつ所定の組み合わせで供給され
る。すなわち、単位ワード線駆動回路UWD000を構
成するBiCMOSナンドゲートの第1ないし第3の入
力端子には、ともに最下位ビットのプリデコード信号P
X00,PX30ならびにPX60がそれぞれ供給さ
れ、単位ワード線駆動回路UWD001を構成するBi
CMOSナンドゲートの第1ないし第3の入力端子に
は、下位から2ビット目のプリデコード信号PX01と
最下位ビットのプリデコード信号PX30及びPX60
とがそれぞれ供給される。
BiCMO constituting unit word line drive circuits UWD000 to UWD511 of word line drive circuit WD
The first to third input terminals of the S NAND gate receive predecode signals PX00 to PX00 from the X address decoder XD.
X07, PX30 to PX37 and PX60 to PX6
7 are supplied in a predetermined combination one bit at a time. That is, the first to third input terminals of the BiCMOS NAND gates constituting the unit word line drive circuit UWD000 are both connected to the predecode signal P of the least significant bit.
X00, PX30 and PX60 are supplied, respectively, to form the unit word line drive circuit UWD001.
The first to third input terminals of the CMOS NAND gate are connected to the predecode signal PX01 of the second lowest bit and the predecode signals PX30 and PX60 of the least significant bit.
Are supplied respectively.

【0031】同様に、単位ワード線駆動回路UWD00
2を構成するBiCMOSナンドゲートの第1ないし第
3の入力端子には、下位から3ビット目のプリデコード
信号PX02と最下位ビットのプリデコード信号PX3
0及びPX60がそれぞれ供給され、末尾の単位ワード
線駆動回路UWD511を構成するBiCMOSナンド
ゲートの第1ないし第3の入力端子には、ともに最上位
ビットのプリデコード信号PX07,PX37ならびに
PX67がそれぞれ供給される。
Similarly, unit word line drive circuit UWD00
2 are connected to the first to third input terminals of the BiCMOS NAND gates, respectively, from the lower third bit predecode signal PX02 and the least significant bit predecode signal PX3.
0 and PX60 are supplied, respectively, and the first to third input terminals of the BiCMOS NAND gate constituting the last unit word line drive circuit UWD511 are supplied with the most significant bit predecode signals PX07, PX37 and PX67, respectively. You.

【0032】これらのことから、実質的なワード線選択
信号となる単位ワード線駆動回路UWD000〜UWD
511の出力信号つまりメモリアレイMARYのワード
線WL000〜WL511は、後述するように、通常、
第3の電源電圧VESつまり−3.3Vに近いCMOS
レベルの非選択レベルとされ、対応するプリデコード信
号PX00,PX30ならびにPX60ないしプリデコ
ード信号PX07,PX37ならびにPX67が一斉に
ハイレベルとされるとき、選択的に回路の接地電位つま
り0VのようなCMOSレベルの選択レベルとされる。
From these, the unit word line drive circuits UWD000 to UWD which become the substantial word line selection signal
The output signal of 511, that is, the word lines WL000 to WL511 of the memory array MARY are normally connected to each other as described later.
Third power supply voltage VES, that is, CMOS close to -3.3 V
When the corresponding predecode signals PX00, PX30 and PX60 to PX07, PX37 and PX67 are simultaneously set to the non-selection level, and the corresponding predecode signals PX07, PX37, PX67 are set to the high level at the same time, the ground potential of the circuit, that is, CMOS such as 0V, is selected. The level is selected.

【0033】前述のように、プリデコード信号PX00
〜PX07,PX30〜PX37ならびにPX60〜P
X67は、ECLレベルの信号とされる。したがって、
ワード線駆動回路WDの単位ワード線駆動回路UWD0
00〜UWD511は、対応する3ビットのプリデコー
ド信号がともにハイレベルとされることでメモリアレイ
MARYの対応するワード線WL000〜WL511を
選択的に選択レベルとするデコーダとしての機能を有す
るとともに、ECLレベルのプリデコード信号を受けて
対応するワード線を選択的にCMOSレベルの選択レベ
ルとするレベル変換回路としての機能を有するものとな
る。
As described above, the predecode signal PX00
PX07, PX30 to PX37 and PX60 to P
X67 is an ECL level signal. Therefore,
Unit word line drive circuit UWD0 of word line drive circuit WD
00 to UWD 511 have a function as a decoder for selectively setting the corresponding word lines WL000 to WL511 of the memory array MARY to the selected level by setting the corresponding predecode signals of 3 bits to the high level, and the ECL. It has a function as a level conversion circuit that receives a level predecode signal and selectively sets a corresponding word line to a CMOS level selection level.

【0034】図4には、図3のワード線駆動回路WDに
含まれる単位ワード線駆動回路UWD000の一実施例
の回路図が示されている。同図をもとに、この実施例の
BiCMOSスタティックRAMのワード線駆動回路W
Dを構成する単位ワード線駆動回路UWD000〜UW
D511の具体的構成及び動作について説明する。な
お、以下の記述では、単位ワード線駆動回路UWD00
0に関する説明をもって単位ワード線駆動回路UWD0
00〜UWD511の説明とする。また、以下の回路図
において、そのチャンネル(バックゲート)部に矢印が
付されるMOSFETはPチャンネル型であって、矢印
の付されないNチャンネルMOSFETと区別して示さ
れる。さらに、以下の回路図に図示されるバイポーラト
ランジスタは、特に制限されないが、すべてNPN型ト
ランジスタ(以下、バイポーラトランジスタのことを単
にトランジスタと略称する)である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing one embodiment of the unit word line drive circuit UWD000 included in the word line drive circuit WD of FIG. Based on the drawing, the word line drive circuit W of the BiCMOS static RAM of this embodiment
Unit word line drive circuits UWD000 to UW constituting D
The specific configuration and operation of D511 will be described. In the following description, the unit word line drive circuit UWD00
0, the unit word line drive circuit UWD0
00 to UWD 511 will be described. Further, in the following circuit diagrams, MOSFETs having an arrow at the channel (back gate) portion are of a P-channel type, and are distinguished from N-channel MOSFETs without an arrow. Further, the bipolar transistors illustrated in the following circuit diagrams are all NPN transistors (hereinafter, bipolar transistors are simply referred to as transistors), although not particularly limited.

【0035】図4において、単位ワード線駆動回路UW
D000は、第1のBiCMOS論理ゲートつまり3入
力のBiCMOSナンドゲートNAG1(以下、ナンド
ゲートNAG1と略称する)と、第2のBiCMOS論
理ゲートつまりBiCMOSインバータINV1(以
下、インバータINV1と略称する)とを備える。この
うち、ナンドゲートNAG1は、そのコレクタが回路の
接地電位に結合されるトランジスタT1を含み、インバ
ータINV1は、同様にそのコレクタが回路の接地電位
に結合される第1のトランジスタT3を含む
In FIG. 4, unit word line drive circuit UW
D000 includes a first BiCMOS logic gate, that is, a three-input BiCMOS NAND gate NAG1 (hereinafter, abbreviated as a NAND gate NAG1), and a second BiCMOS logic gate, that is, a BiCMOS inverter INV1 (hereinafter, abbreviated as an inverter INV1). Of these, NAND gate NAG1 includes a transistor T1 whose collector is coupled to the ground potential of the circuit, and inverter INV1 similarly includes a first transistor T3 whose collector is coupled to the ground potential of the circuit.

【0036】ナンドゲートNAG1を構成するトランジ
スタT1のベースは、並列形態とされる3個のPチャン
ネルMOSFETP1〜P3を介して回路の接地電位に
結合されるとともに、直列形態とされる3個のNチャン
ネルMOSFETN1〜N3を介して第2の電源電圧V
EEに結合される。また、トランジスタT1のエミッタ
は、直列形態とされる3個のNチャンネルMOSFET
N4〜N6を介して電源電圧VEEに結合されるととも
に、ナンドゲートNAG1の出力端子に結合される。M
OSFETP1,N1ならびにN4のゲートには、プリ
デコード信号PX60が共通に供給される。また、MO
SFETP2,N2ならびにN5のゲートには、プリデ
コード信号PX30が供給され、MOSFETP3,N
3ならびにN6のゲートには、プリデコード信号PX0
0が供給される。
The base of the transistor T1 forming the NAND gate NAG1 is coupled to the ground potential of the circuit via three P-channel MOSFETs P1 to P3 in a parallel form, and three N-channels in a series form. Second power supply voltage V through MOSFETs N1 to N3
Combined with EE. The emitter of the transistor T1 is composed of three N-channel MOSFETs in series.
Coupled to power supply voltage VEE via N4 to N6 and to the output terminal of NAND gate NAG1. M
The predecode signal PX60 is commonly supplied to the gates of the OSFETs P1, N1 and N4. Also, MO
The predecode signal PX30 is supplied to the gates of the SFETs P2, N2 and N5.
3 and N6 have a predecode signal PX0
0 is supplied.

【0037】次に、インバータINV1を構成するトラ
ンジスタT3のベースは、前段に設けられるCMOS論
理ゲートつまりPチャンネルMOSFETP4及びNチ
ャンネルMOSFETN7からなるCMOSインバータ
の出力端子に結合される。また、そのエミッタは、Nチ
ャンネルMOSFETN8を介して第3の電源電圧VE
Sに結合されるとともに、インバータINV1の出力端
子に結合される。インバータINV1を構成するMOS
FETP4,N7ならびにN8のゲートには、前段のナ
ンドゲートNAG1の出力信号が共通に供給される。
Next, the base of the transistor T3 constituting the inverter INV1 is connected to the output terminal of a CMOS logic gate provided in the preceding stage, that is, a CMOS inverter composed of a P-channel MOSFET P4 and an N-channel MOSFET N7. The emitter is connected to a third power supply voltage VE via an N-channel MOSFET N8.
S and the output terminal of the inverter INV1. MOS constituting inverter INV1
The output signals of the preceding NAND gate NAG1 are commonly supplied to the gates of the FETs P4, N7 and N8.

【0038】なお、メモリアレイMARYを構成するス
タティック型メモリセルMCは、図4に例示されるよう
に、PチャンネルMOSFETPA及びNチャンネルM
OSFETNAならびにPチャンネルMOSFETPB
及びNチャンネルMOSFETNBからなる一対のCM
OSインバータが交差結合されたラッチ回路と、これら
のラッチ回路の非反転及び反転入出力ノードと対応する
非反転ビット線BL0T又は反転ビット線BL0Bとの
間にそれぞれ設けられるNチャンネル型の一対の選択M
OSFETNC及びNDとをそれぞれ含む。各メモリセ
ルMCの選択MOSFETNC及びNDのゲートは、対
応するワード線WL000〜WL511にそれぞれ共通
結合される。また、メモリセルMCの各ラッチ回路を構
成するCMOSインバータは、第1の電源電圧VEMを
動作電源とする。
As shown in FIG. 4, a static memory cell MC constituting the memory array MARY includes a P-channel MOSFET PA and an N-channel MOSFET PA.
OSFETNA and P-channel MOSFET PB
And a pair of CMs comprising an N-channel MOSFET NB
A pair of N-channel type latch circuits respectively provided between a latch circuit cross-coupled with an OS inverter and a non-inverting and inverting input / output node of the latch circuit and a corresponding non-inverting bit line BL0T or inverted bit line BL0B. M
OSFET NC and ND, respectively. The gates of the selection MOSFETs NC and ND of each memory cell MC are commonly coupled to the corresponding word lines WL000 to WL511, respectively. Further, the CMOS inverter configuring each latch circuit of the memory cell MC uses the first power supply voltage VEM as an operation power supply.

【0039】この実施例において、メモリアレイMAR
Yを構成するメモリセルMCの動作電源となる電源電圧
VEMは、例えば−2.5Vのような負電位とされ、ワ
ード線駆動回路WDの単位ワード線駆動回路UWD00
0を構成するナンドゲートNAG1の動作電源となる電
源電圧VEEも、同電位つまり−2.5Vの負電位とさ
れる。しかし、単位ワード線駆動回路UWD000のイ
ンバータINV1は電源電圧VESを動作電源とし、こ
の電源電圧VESは、電源電圧VEM及びVEEに比べ
て絶対値の大きな−3.3Vの負電位とされる。
In this embodiment, the memory array MAR
A power supply voltage VEM serving as an operation power supply of the memory cell MC configuring Y is set to a negative potential such as -2.5 V, for example, and the unit word line drive circuit UWD00 of the word line drive circuit WD.
The power supply voltage VEE serving as an operation power supply of the NAND gate NAG1 constituting 0 is also set to the same potential, that is, a negative potential of -2.5V. However, the inverter INV1 of the unit word line drive circuit UWD000 uses the power supply voltage VES as an operation power supply, and the power supply voltage VES has a negative potential of −3.3 V whose absolute value is larger than the power supply voltages VEM and VEE.

【0040】プリデコード信号PX00,PX30ある
いはPX60のいずれかがECLレベルのロウレベルと
されるとき、ナンドゲートNAG1では、対応するMO
SFETP1〜P3のいずれかがオン状態となり、対応
するMOSFETN1〜N3ならびにN4〜N6のいず
れかがオフ状態となる。このため、トランジスタT1は
オン状態なり、そのエミッタ電位つまりナンドゲートN
AG1の出力信号は、回路の接地電位よりほぼトランジ
スタT1のベースエミッタ電圧分だけ低いハイレベルと
される。このとき、インバータINV1では、ナンドゲ
ートNAG1の出力信号のハイレベルを受けてMOSF
ETP4がオフ状態となり、MOSFETN7及びN8
がオン状態となる。したがって、トランジスタT3がオ
フ状態となり、その出力信号つまりメモリアレイMAR
Yの対応するワード線WL000は、電源電圧VESの
ような非選択レベルとされる。
When any of the predecode signals PX00, PX30 or PX60 is at the low level of the ECL level, the NAND gate NAG1 outputs the corresponding MO signal.
One of the SFETs P1 to P3 is turned on, and any of the corresponding MOSFETs N1 to N3 and N4 to N6 is turned off. Therefore, the transistor T1 is turned on, and its emitter potential, that is, the NAND gate N
The output signal of AG1 is at a high level which is lower than the ground potential of the circuit by approximately the base-emitter voltage of transistor T1. At this time, the inverter INV1 receives the high level of the output signal of the NAND gate NAG1, and
ETP4 is turned off and MOSFETs N7 and N8
Is turned on. Therefore, transistor T3 is turned off, and its output signal, that is, memory array MAR
The word line WL000 corresponding to Y is set to a non-selection level such as the power supply voltage VES.

【0041】一方、3ビットのプリデコード信号PX0
0,PX30ならびにPX60がともにECLレベルの
ハイレベルとされるとき、ナンドゲートNAG1では、
MOSFETP1〜P3が一斉にオフ状態となり、代わ
ってMOSFETN1〜N3ならびにN4〜N6が一斉
にオン状態となる。このため、トランジスタT1はオフ
状態なり、そのエミッタ電位つまりナンドゲートNAG
1の出力信号は、電源電圧VEEに近いロウレベルとさ
れる。このとき、インバータINV1では、ナンドゲー
トNAG1の出力信号のロウレベルを受けてMOSFE
TN7及びN8がオフ状態となり、代わってMOSFE
TP4がオン状態となり、これにより、トランジスタT
3がオン状態となり、その出力信号つまりメモリアレイ
MARYの対応するワード線WL000は、回路の接地
電位よりほぼトランジスタT3のベースエミッタ電圧分
だけ低い選択レベルとされる。
On the other hand, a 3-bit predecode signal PX0
When 0, PX30 and PX60 are all set to the ECL high level, the NAND gate NAG1
The MOSFETs P1 to P3 are turned off all at once, and the MOSFETs N1 to N3 and N4 to N6 are turned on all at once. Therefore, the transistor T1 is turned off, and its emitter potential, that is, the NAND gate NG
1 is at a low level close to the power supply voltage VEE. At this time, the inverter INV1 receives the low level of the output signal of the NAND gate NAG1, and
TN7 and N8 are turned off, and instead, MOSFE
TP4 is turned on, whereby the transistor T
3 is turned on, and its output signal, that is, the corresponding word line WL000 of the memory array MARY is set to the selected level lower than the ground potential of the circuit by the base-emitter voltage of the transistor T3.

【0042】以上のように、この実施例のBiCMOS
スタティックRAMのワード線駆動回路WDを構成する
単位ワード線駆動回路UWD000〜UWD511は、
プリデコード信号PX00〜PX07,PX30〜PX
37ならびにPX60〜PX67を所定の組み合わせで
1ビットずつ受ける3入力のBiCMOSナンドゲート
NAG1と、対応するナンドゲートNAG1の出力信号
を受けるBiCMOSインバータINV1とからなる2
段構造とされ、ECLレベルのプリデコード信号PX0
0〜PX07,PX30〜PX37ならびにPX60〜
PX67は、これらのナンドゲートNAG1及びインバ
ータINV1を介して2段階でCMOSレベルに変換さ
れるとともに、単位ワード線駆動回路UWD000〜U
WD511としての駆動能力も2段階で大きくされる。
As described above, the BiCMOS of this embodiment
The unit word line drive circuits UWD000 to UWD511 that constitute the word line drive circuit WD of the static RAM are:
Predecode signals PX00-PX07, PX30-PX
37, a 3-input BiCMOS NAND gate NAG1 receiving PX60 to PX67 one bit at a time in a predetermined combination, and a BiCMOS inverter INV1 receiving the output signal of the corresponding NAND gate NAG1.
The ECL level predecode signal PX0 has a stage structure.
0-PX07, PX30-PX37 and PX60-
PX67 is converted into a CMOS level in two stages via NAND gate NAG1 and inverter INV1, and unit word line driving circuits UWD000 to UWD000
The driving capability of the WD 511 is also increased in two stages.

【0043】本願発明者等がこの発明に先立って開発し
たBiCMOSスタティックRAMにおいて、ワード線
駆動回路WDを構成する単位ワード線駆動回路UWD0
00〜UWD511のそれぞれは、図5に例示されるよ
うに、1段の3入力のBiCMOSノア(NOR)ゲー
トNOG1からなる。このため、ワード線駆動回路WD
によるワード線の選択動作は、BiCMOSスタティッ
クRAMが大容量化され、ワード線に結合されるスタテ
ィック型メモリセルつまり選択MOSFETNC及びN
Dの数が増大し、ワード線自体の配線長が長くなるにし
たがって遅くなってきた。この実施例のように、単位ワ
ード線駆動回路UWD000〜UWD511を2段構造
とすることで、その動作電流の増大を抑えつつワード線
選択動作を高速化しうることを、本願発明者等はコンピ
ュータによるシミュレーションで確認した。この結果、
その低消費電力化を阻害することなく、BiCMOSス
タティックRAM等の高速化を図ることができるものと
なった。
In a BiCMOS static RAM developed by the present inventors prior to the present invention, a unit word line drive circuit UWD0 constituting a word line drive circuit WD is provided.
As illustrated in FIG. 5, each of 00 to UWD 511 includes a one-stage three-input BiCMOS NOR (NOR) gate NOG1. Therefore, the word line drive circuit WD
The operation of selecting a word line by the memory device is performed by increasing the capacity of a BiCMOS static RAM and selecting static memory cells coupled to the word line, that is, select MOSFETs NC and N.
As the number of D increases and the wiring length of the word line itself increases, the delay becomes slower. As in this embodiment, the inventors of the present application have shown that the unit word line drive circuits UWD000 to UWD511 have a two-stage structure so that the word line selection operation can be sped up while suppressing an increase in the operation current. Confirmed by simulation. As a result,
The speed of a BiCMOS static RAM or the like can be increased without hindering the reduction in power consumption.

【0044】なお、ワード線駆動回路WDの単位ワード
線駆動回路UWD000〜UWD511を構成するイン
バータINV1が比較的絶対値の大きな電源電圧VES
を動作電源とすることで、その出力信号つまりワード線
WL000〜WL511の振幅が充分に拡大される。ま
た、このインバータINV1を構成するトランジスタT
3の前段のCMOSインバータのNチャンネルMOSF
ETN7のソース側にダイオード形態とされるトランジ
スタT2が設けられることで、CMOSインバータの論
理スレッシホルドレベルが電源電圧VESよりトランジ
スタT2のベースエミッタ電圧分だけ高くなり、ナンド
ゲートNAG1の動作電源とインバータINV1の動作
電源の絶対値が異なることの問題が解消される。
Note that the inverter INV1 forming the unit word line drive circuits UWD000 to UWD511 of the word line drive circuit WD has the power supply voltage VES having a relatively large absolute value.
Is used as an operating power supply, the output signal thereof, that is, the amplitude of the word lines WL000 to WL511 is sufficiently enlarged. Also, a transistor T constituting the inverter INV1
N-channel MOSF of the CMOS inverter of the preceding stage of No. 3
By providing the transistor T2 in the form of a diode on the source side of ETN7, the logic threshold level of the CMOS inverter becomes higher than the power supply voltage VES by the base-emitter voltage of the transistor T2, and the operating power supply of the NAND gate NAG1 and the inverter INV1 The problem that the absolute values of the operating power supplies differ from each other is solved.

【0045】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1)大容量のBiCMOSスタティックRAM等にお
いて、メモリアレイの各ワード線に対応して設けられる
単位ワード線駆動回路を、プリデコード信号を所定の組
み合わせでそれぞれ受ける第1のBiCMOS論理ゲー
トと、第1のBiCMOS論理ゲートの出力信号を受け
その出力信号が実質的なワード線選択信号となる第2の
BiCMOS論理ゲートとを基本に構成するとともに、
第1のBiCMOS論理ゲートの動作電源を、スタティ
ック型メモリセルの動作電源たる第1の電源電圧と同電
位の第2の電源電圧とし、第2のBiCMOS論理ゲー
トの動作電源を、その絶対値が第1及び第2の電源電圧
より大きな第3の電源電圧とすることで、その動作電流
が比較的少なくかつ高速に動作しうる2段構造の単位ワ
ード線駆動回路を実現することができるという効果が得
られる。
The functions and effects obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) In a large-capacity BiCMOS static RAM or the like, a unit word line drive circuit provided corresponding to each word line of a memory array is connected to a first BiCMOS logic gate receiving a predecode signal in a predetermined combination. A second BiCMOS logic gate which receives an output signal of the first BiCMOS logic gate and whose output signal is a substantial word line selection signal,
The operation power supply of the first BiCMOS logic gate is set to a second power supply voltage having the same potential as the first power supply voltage as the operation power supply of the static memory cell, and the operation power supply of the second BiCMOS logic gate has an absolute value. By setting the third power supply voltage higher than the first and second power supply voltages, it is possible to realize a unit word line drive circuit having a two-stage structure that can operate at a high speed with a relatively small operating current. Is obtained.

【0046】(2)上記(1)項において、第2のBi
CMOS論理ゲートのCMOS論理ゲートを構成するN
チャンネルMOSFETのソース側に、ダイオード形態
とされるバイポーラトランジスタを設けることで、CM
OS論理ゲートの論理スレッシホルドレベルをバイポー
ラトランジスタのベースエミッタ電圧分だけ高くし、第
1及び第2のBiCMOS論理ゲートの動作電源の絶対
値が異なることの問題を解消することができるという効
果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項において、単位ワード
線駆動回路を対応するメモリアレイの中央部に配置する
ことで、大規模化されたメモリアレイにおけるワード線
選択信号の伝達遅延時間を縮小できるという効果が得ら
れる。 (4)上記(1)項ないし(3)項により、その低消費
電力化を阻害することなく、BiCMOSスタティック
RAM等の半導体記憶装置の高速化を図ることができる
という効果が得られる。
(2) In the above item (1), the second Bi
N constituting a CMOS logic gate of a CMOS logic gate
By providing a bipolar transistor in the form of a diode on the source side of a channel MOSFET, CM
By increasing the logic threshold level of the OS logic gate by the base-emitter voltage of the bipolar transistor, it is possible to eliminate the problem that the absolute values of the operation power supplies of the first and second BiCMOS logic gates are different. can get. (3) In the above items (1) and (2), the transmission delay time of the word line selection signal in a large-scale memory array is achieved by disposing the unit word line drive circuit at the center of the corresponding memory array. Can be reduced. (4) According to the above items (1) to (3), an effect is obtained that the speed of a semiconductor memory device such as a BiCMOS static RAM can be increased without hindering the reduction in power consumption.

【0047】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、BiCMOSスタティックRAM
は、任意数のメモリマットを備えることができるし、各
メモリマットならびにBiCMOSスタティックRAM
の記憶容量も任意に設定することができる。メモリアレ
イMARYは、任意数の冗長素子を含むことができる。
また、BiCMOSスタティックRAMは、例えば×4
ビット又は×16ビット等、任意のビット線構成を採り
うるし、そのブロック構成やアドレス構成ならびに起動
制御信号の名称及び組み合わせ等は、種々の実施形態を
採りうる。図2において、BiCMOSスタティックR
AMは、ワード線が半導体基板SUBの長辺方向に延長
されるいわゆる縦型配置を採ることができるし、各部の
具体的配置や半導体基板の形状等は、本実施例の制約を
受けない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment, the invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is. For example, in FIG.
Can have any number of memory mats, each memory mat as well as a BiCMOS static RAM.
Can also be set arbitrarily. The memory array MARY can include any number of redundant elements.
Also, a BiCMOS static RAM is, for example, × 4
An arbitrary bit line configuration such as a bit or × 16 bits can be adopted, and various embodiments can be adopted for a block configuration, an address configuration, a name and a combination of activation control signals, and the like. In FIG. 2, BiCMOS static R
The AM can adopt a so-called vertical arrangement in which the word lines extend in the long side direction of the semiconductor substrate SUB, and the specific arrangement of each part, the shape of the semiconductor substrate, and the like are not limited by the present embodiment.

【0048】図3において、XアドレスデコーダXD
は、複数段のプリデコーダを含むことができるし、各X
プリデコーダと内部Xアドレス信号の組み合わせは任意
に設定できる。メモリアレイMARYは、いわゆる分割
ワード線方式を採ることができる。この場合、ワード線
WL000〜WL511は、電源電圧VEEのようなロ
ウレベルをその有効レベルとしてもよい。図4におい
て、単位ワード線駆動回路UWD000〜UWD511
のインバータINV1は、必ずしもダイオード形態のト
ランジスタT2を含むことを必須条件とはしない。さら
に、単位ワード線駆動回路UWD000〜UWD511
の具体的構成は、同一の論理条件が得られる限り種々の
実施形態を採りうるし、電源電圧の極性及び絶対値なら
びにMOSFET及びバイポーラトランジスタの導電型
についても同様である。
In FIG. 3, X address decoder XD
Can include multiple stages of predecoders and each X
The combination of the predecoder and the internal X address signal can be set arbitrarily. The memory array MARY can adopt a so-called divided word line system. In this case, the effective level of the word lines WL000 to WL511 may be a low level such as the power supply voltage VEE. In FIG. 4, unit word line drive circuits UWD000 to UWD511
Is not necessarily required to include the diode-type transistor T2. Further, unit word line drive circuits UWD000 to UWD511
Can take various embodiments as long as the same logical condition is obtained. The same applies to the polarity and absolute value of the power supply voltage and the conductivity types of the MOSFET and the bipolar transistor.

【0049】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるBi
CMOSスタティックRAMに適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、例えば、B
iCMOSダイナミック型RAM等の各種メモリ集積回
路やこのようなメモリ集積回路を内蔵するシングルチッ
プマイクロコンピュータ等の論理集積回路装置にも適用
できる。この発明は、少なくともBiCMOS回路から
なるワード線駆動回路を備える半導体記憶装置ならびに
これを含む装置又はシステムに広く適用できる。
In the above description, the invention made mainly by the present inventor is described in the field of application Bi
The case where the present invention is applied to a CMOS static RAM has been described. However, the present invention is not limited to this.
The present invention can also be applied to various memory integrated circuits such as an iCMOS dynamic RAM and a logic integrated circuit device such as a single chip microcomputer incorporating such a memory integrated circuit. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to a semiconductor storage device including at least a word line drive circuit composed of a BiCMOS circuit, and a device or system including the same.

【0050】[0050]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、大容量のBiCMOSスタ
ティックRAM等において、メモリアレイの各ワード線
に対応して設けられる単位ワード線駆動回路を、所定ビ
ットのプリデコード信号を所定の組み合わせでそれぞれ
受ける第1のBiCMOS論理ゲートと、第1のBiC
MOS論理ゲートの出力信号を受けその出力信号が実質
的なワード線選択信号となる第2のBiCMOS論理ゲ
ートとを基本に構成するとともに、第1のBiCMOS
論理ゲートの動作電源を、メモリアレイを構成するスタ
ティック型メモリセルの動作電源たる第1の電源電圧と
同電位の第2の電源電圧とし、第2のBiCMOS論理
ゲートの動作電源を、その絶対値が第1及び第2の電源
電圧より大きな第3の電源電圧とする。この結果、その
動作電流が比較的少なくかつ高速に動作しうる2段構造
の単位ワード線駆動回路を実現できるため、その低消費
電力化を阻害することなく、BiCMOSスタティック
RAM等の高速化を図ることができる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a large-capacity BiCMOS static RAM or the like, a unit word line drive circuit provided corresponding to each word line of a memory array is connected to a first BiCMOS logic gate receiving a predecode signal of a predetermined bit in a predetermined combination. , The first BiC
A second BiCMOS logic gate which receives an output signal of the MOS logic gate and whose output signal is a substantial word line selection signal; and a first BiCMOS logic gate.
The operation power supply of the logic gate is a second power supply voltage having the same potential as the first power supply voltage, which is the operation power supply of the static memory cells forming the memory array, and the operation power supply of the second BiCMOS logic gate has its absolute value. Is a third power supply voltage higher than the first and second power supply voltages. As a result, a unit word line drive circuit having a two-stage structure that can operate at a high speed with a relatively small operating current can be realized. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明が適用されたBiCMOSスタティッ
クRAMの一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a BiCMOS static RAM to which the present invention is applied.

【図2】図1のBiCMOSスタティックRAMの一実
施例を示す基板配置図である。
FIG. 2 is a substrate layout diagram showing one embodiment of the BiCMOS static RAM of FIG. 1;

【図3】図1のBiCMOSスタティックRAMに含ま
れるXアドレスデコーダ及びワード線駆動回路の一実施
例を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of an X address decoder and a word line driving circuit included in the BiCMOS static RAM of FIG. 1;

【図4】図3のワード線駆動回路に含まれる単位ワード
線駆動回路の一実施例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing one embodiment of a unit word line drive circuit included in the word line drive circuit of FIG. 3;

【図5】この発明に先立って本願発明者等が開発したB
iCMOSスタティックRAMのワード線駆動回路の単
位ワード線駆動回路の一例を示す回路図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a B developed by the present inventors prior to the present invention.
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating an example of a unit word line drive circuit of a word line drive circuit of an iCMOS static RAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MAT0〜MAT3……メモリマット、MARY……メ
モリアレイ、WD…ワード線駆動回路、XD……Xアド
レスデコーダ、XB……Xアドレスバッファ、YS……
Yスイッチ、YD……Yアドレスデコーダ、YB……Y
アドレスバッファ、MS……マット選択回路、WA……
ライトアンプ、SA……センスアンプ、IB……データ
入力バッファ、OB……データ出力バッファ、TG……
タイミング発生回路、CEB……チップイネーブル信号
入力端子、WEB……ライトイネーブル信号入力端子、
AX0〜AX9……Xアドレス信号入力端子、AY0〜
AY9……Yアドレス信号入力端子、IO0〜IO7…
…データ入出力端子、X0〜X9……内部Xアドレス信
号、Y0〜Y9……内部Yアドレス信号。SUB……半
導体基板、WL……ワード線、BL……ビット線、UW
D……単位ワード線駆動回路、PC,PCL,PCR…
…周辺回路。PXD0〜PXD2……Xプリデコーダ、
PX00〜PX07,PX30〜PX37,PX60〜
PX67,PX00B,PX30B,PX60B……プ
リデコード信号、UWD000〜UWD511……単位
ワード線駆動回路、WL000〜WL511……ワード
線。NAG1……BiCMOSナンド(NAND)ゲー
ト、INV1……BiCMOSインバータ、NOG1…
…BiCMOSノア(NOR)ゲート、BL0T……非
反転ビット線、BL0B……反転ビット線、T1〜T
3,Ta……NPN型バイポーラトランジスタ、P1〜
P4,PA〜PB,Pa〜Pc……PチャンネルMOS
FET、N1〜N8,NA〜ND,Na〜Nf……Nチ
ャンネルMOSFET、MC……スタティック型メモリ
セル。
MAT0 to MAT3: memory mat, MARY: memory array, WD: word line drive circuit, XD: X address decoder, XB: X address buffer, YS ...
Y switch, YD ... Y address decoder, YB ... Y
Address buffer, MS ... Mat selection circuit, WA ...
Write amplifier, SA Sense amplifier, IB Data input buffer, OB Data output buffer, TG
Timing generation circuit, CEB: chip enable signal input terminal, WEB: write enable signal input terminal,
AX0 to AX9 ... X address signal input terminals, AY0 to AY0
AY9 ... Y address signal input terminal, IO0-IO7 ...
... data input / output terminals, X0 to X9 ... internal X address signals, Y0 to Y9 ... internal Y address signals. SUB: Semiconductor substrate, WL: Word line, BL: Bit line, UW
D: Unit word line drive circuit, PC, PCL, PCR ...
... peripheral circuits. PXD0 to PXD2 ... X predecoder,
PX00-PX07, PX30-PX37, PX60-
PX67, PX00B, PX30B, PX60B... Predecode signals, UWD000 to UWD511... Unit word line drive circuits, WL000 to WL511. NAG1 BiCMOS NAND gate, INV1 BiCMOS inverter, NOG1
... BiCMOS NOR (NOR) gate, BL0T... Non-inverted bit line, BL0B.
3, Ta ... NPN type bipolar transistor, P1
P4, PA to PB, Pa to Pc ... P-channel MOS
FET, N1 to N8, NA to ND, Na to Nf... N channel MOSFET, MC... Static memory cell.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プリデコード信号を所定の組み合わせで
受ける第1のBiCMOS論理ゲートと、上記第1のB
iCMOS論理ゲートの出力信号を受けその出力信号が
実質的なワード線選択信号となる第2のBiCMOS論
理ゲートとを含むワード線駆動回路を具備することを特
徴とする半導体記憶装置。
A first BiCMOS logic gate receiving a predecode signal in a predetermined combination;
A semiconductor memory device, comprising: a word line drive circuit including a second BiCMOS logic gate receiving an output signal of an iCMOS logic gate and the output signal serving as a substantial word line selection signal.
【請求項2】 請求項1において、 上記半導体記憶装置は、第1の電源電圧を動作電源とす
るスタティック型メモリセルが格子状に配置されるメモ
リアレイを具備するものであって、 上記第1のBiCMOS論理ゲートは、上記第1の電源
電圧と同電位の第2の電源電圧を動作電源とし、上記第
2のBiCMOS論理ゲートは、その絶対値が上記第1
の電源電圧より大きな第3の電源電圧を動作電源とする
ものであることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device includes a memory array in which static memory cells using a first power supply voltage as an operation power supply are arranged in a lattice. The second BiCMOS logic gate has a second power supply voltage having the same potential as the first power supply voltage as an operation power supply, and the second BiCMOS logic gate has an absolute value of the first power supply voltage.
And a third power supply voltage higher than the power supply voltage of the semiconductor memory device is used as an operation power supply.
【請求項3】 請求項2において、 上記第2のBiCMOS論理ゲートは、上記第1のBi
CMOS論理ゲートの出力信号を受けるCMOS論理ゲ
ートと、上記CMOS論理ゲートの出力信号を受ける第
1のバイポーラトランジスタと、上記CMOS論理ゲー
トのNチャンネルMOSFETのソース側に設けられダ
イオード形態とされる第2のバイポーラトランジスタと
を含むものであることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The logic circuit according to claim 2, wherein said second BiCMOS logic gate is said first BiCMOS logic gate.
A CMOS logic gate receiving the output signal of the CMOS logic gate; a first bipolar transistor receiving the output signal of the CMOS logic gate; and a second diode-shaped transistor provided on the source side of the N-channel MOSFET of the CMOS logic gate. And a bipolar transistor.
【請求項4】 請求項1,請求項2又は請求項3におい
て、 上記プリデコード信号を形成するXアドレスデコーダ
は、対応する上記メモリアレイのワード線延長方向の一
端側に配置されるものであって、 上記ワード線駆動回路は、対応する上記メモリアレイの
ワード線延長方向の中央部に配置されるものであること
を特徴とする半導体記憶装置。
4. The memory device according to claim 1, wherein the X address decoder for forming the predecode signal is arranged at one end of the corresponding memory array in a word line extending direction. A semiconductor memory device, wherein the word line drive circuit is arranged at the center of the corresponding memory array in the word line extension direction.
JP8216700A 1996-07-30 1996-07-30 Semiconductor memory Pending JPH1050065A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8216700A JPH1050065A (en) 1996-07-30 1996-07-30 Semiconductor memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8216700A JPH1050065A (en) 1996-07-30 1996-07-30 Semiconductor memory

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1050065A true JPH1050065A (en) 1998-02-20

Family

ID=16692557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8216700A Pending JPH1050065A (en) 1996-07-30 1996-07-30 Semiconductor memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1050065A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2560020B2 (en) Semiconductor memory device
US5274597A (en) Semiconductor memory device capable of driving divided word lines at high speed
US6714476B2 (en) Memory array with dual wordline operation
JP2001006365A (en) Low-order word line driving circuit and semiconductor memory using the same
JPS63200391A (en) Static type semiconductor memory
JPH06119781A (en) Semiconductor memory
JP5204233B2 (en) Word line driver circuit with reduced leakage
JP2654548B2 (en) Semiconductor storage device
US6160275A (en) Semiconductor gate array device
JP4007823B2 (en) Semiconductor memory device
US6998878B2 (en) Semiconductor integrated circuit and semiconductor logic circuit used in the integrated circuit
TWI780867B (en) Memory circuit and method of transferring data therein
WO2009023024A1 (en) Memory device with reduced buffer current during power-down mode
US6185146B1 (en) Semiconductor memory device and method for producing the same
JPH1050065A (en) Semiconductor memory
TWI291698B (en) Static random access memory device
US7251149B2 (en) Semiconductor memory device provided with a write column selection switch and a read column selection switch separately
JPH05101669A (en) Semiconductor memory device
US6586970B1 (en) Address decoder with pseudo and or pseudo nand gate
US5444654A (en) ROM with Bi-CMOS gate arrays
JPH11328952A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2788980B2 (en) Semiconductor integrated circuit device and semiconductor storage device
JPS6235190B2 (en)
JPH07169268A (en) Semiconductor storage
JPH06243687A (en) Semiconductor device