JPH1048567A - Optical dispersion compensator and optical pulse generator and optical communication system using the compensator - Google Patents
Optical dispersion compensator and optical pulse generator and optical communication system using the compensatorInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、時分割多重通信シ
ステム、時分割多重通信と波長分割多重通信システムの
ハイブリッド通信システムを柱とした長距離大容量光通
信システム、及び超高速光計測用に必要不可欠な超短光
パルス発生装置(光パルス発生装置)に関する。また、
上記通信システムの光伝送における光波形整形装置とし
ての光分散補償器に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a long-distance and large-capacity optical communication system having a time-division multiplex communication system, a hybrid communication system of a time-division multiplex communication and a wavelength-division multiplex communication system, and an ultra-high-speed optical measurement. It relates to an indispensable ultrashort optical pulse generator (optical pulse generator). Also,
The present invention relates to an optical dispersion compensator as an optical waveform shaping device in optical transmission of the communication system.
【0002】[0002]
【従来の技術】短パルス光源からの光パルス、または、
光ファイバー内を伝搬する光パルスは、材料や構造分散
(分散:光の群速度の波長依存性)の影響を受けるた
め、時間軸上において、パルス幅の拡がりまたは波形の
劣化が生じる。一般に光パルスにおいて、そのパルス波
形により決められる定数Cに対し、その時間幅Δtとス
ペクトル幅Δλ(但し、λは波長)は、Δt・Δλ≧C
なる関係を示す。とりわけ、Δt・Δλ=Cなる関係を
満たす光パルスはTLパルス(Transform Limit Puls
e)と呼ばれる。TLパルスを例に考えれば、光パルス
が媒質を透過する際に、その時間軸上のパルス幅Δtが
Δt+αとなれば、これに対応してΔλ又はCが変化す
るのは明らかである。後者の変化はCが波形に対応する
ことから、波形の変化として現れる。望ましき光パルス
の伝送は媒質透過前後においてΔt、Δλ及びCなる物
理量が保存されることであるから、これら物理量の変化
は光パルスの劣化といえよう。ここで、短パルス光源と
は、パルス光を発生する光源(光パルス発生装置)のう
ち、とりわけ時間軸上の幅Δtとスペクトル幅Δλの小
さいパルス光を発生するものである。2. Description of the Related Art Light pulses from a short pulse light source, or
An optical pulse propagating in an optical fiber is affected by material and structural dispersion (dispersion: wavelength dependence of the group velocity of light), so that the pulse width is expanded or the waveform is deteriorated on the time axis. In general, in an optical pulse, for a constant C determined by the pulse waveform, its time width Δt and spectrum width Δλ (where λ is a wavelength) are Δt · Δλ ≧ C
The following relationship is shown. In particular, an optical pulse satisfying the relationship of Δt · Δλ = C is a TL pulse (Transform Limit Pulse).
called e). Taking a TL pulse as an example, it is clear that if the pulse width Δt on the time axis becomes Δt + α when the optical pulse passes through the medium, Δλ or C changes correspondingly. The latter change appears as a change in the waveform because C corresponds to the waveform. Desirable transmission of an optical pulse is to preserve the physical quantities Δt, Δλ, and C before and after transmission through the medium. Therefore, a change in these physical quantities can be regarded as deterioration of the optical pulse. Here, the short pulse light source is a light source (optical pulse generator) that generates pulsed light, and particularly generates a pulsed light having a small width Δt and a small spectral width Δλ on the time axis.
【0003】さて、この光パルスの劣化は、光パルス伝
送を用いた時分割多重通信システム、あるいは時分割多
重通信と波長分割多重通信システムのハイブリッド通信
システムを柱とした長距離大容量光通信システムにおい
て、通信誤りを生じさせる原因になる。即ち、光源(送
信機)からΔt1、Δλ1なる物理量及びC1に対応した
波形を有する光パルスとして出射された光信号が、伝送
過程でΔt2、Δλ2なる物理量とC2に対応した波形を
有する光パルスへ変化することは、当該光信号が持つ情
報の変質をもたらすのである。光信号が運ぶ情報が、光
パルスのΔt、Δλ又は波形で識別されることを考えれ
ば、この問題の重要さは明らかであろう。The deterioration of the optical pulse is caused by a time-division multiplex communication system using optical pulse transmission or a long-distance large-capacity optical communication system using a time-division multiplex communication and a wavelength-division multiplex communication system as a pillar. In this case, a communication error may occur. That is, the optical signal emitted from the light source (transmitter) as an optical pulse having a physical quantity of Δt 1 and Δλ 1 and a waveform corresponding to C 1 corresponds to the physical quantity of Δt 2 and Δλ 2 and C 2 in the transmission process. Changing to an optical pulse having a waveform causes the information of the optical signal to change in quality. The importance of this problem will be apparent given that the information carried by the optical signal is identified by the Δt, Δλ or waveform of the optical pulse.
【0004】この問題の解決手段は、分散の影響を補償
することであり、それを行う素子を光分散補償器と言
う。代表的なものとして、光ファイバー分散補償器39
(図11(A))、回折格子分散補償器40(図11
(B))、誘電体多層膜分散補償器41(図11(C))、グ
レーテイング光ファイバー分散補償器42(図11
(D))などがある(参考文献:「超高速光エレクトロニ
クス」、末田正、神谷武志共編、第2章、カワジャ他、
IEEEフォトニクステクノロジーレター、第7巻、158
頁(1995)、特開平2−23302号公報)。[0004] The solution to this problem is to compensate for the effects of dispersion, and an element that does so is called an optical dispersion compensator. A typical example is an optical fiber dispersion compensator 39.
(FIG. 11A), the diffraction grating dispersion compensator 40 (FIG.
(B)), a dielectric multilayer dispersion compensator 41 (FIG. 11C), and a grating optical fiber dispersion compensator 42 (FIG. 11).
(D)), etc. (Reference: "Ultrafast Optoelectronics", Tadashi Sueda, Takeshi Kamiya, Chapter 2, Kawaja et al.,
IEEE Photonics Technology Letter, Volume 7, 158
(1995), JP-A-2-23302).
【0005】光ファイバー分散補償器は、通常の伝送用
に用いられる光ファイバーに短光パルスを伝搬させて、
光ファイバーの有する分散を利用して分散補償を行う、
透過型光分散補償器である。回折格子分散補償器は、向
かい合う二枚の回折格子から構成されており、2回の反
射によって生じる遅延時間(または伝搬距離)の波長依
存性を用いて分散補償を行う透過型分散補償器である。
誘電体多層膜分散補償器とグレーテイング光ファイバー
分散補償器は、光の多重反射によって生じる、広いスペ
クトル幅を有する高反射領域における、大きな分散効果
を用いて、分散補償を行う反射型光分散補償器である。An optical fiber dispersion compensator propagates a short optical pulse through an optical fiber used for normal transmission,
Perform dispersion compensation using the dispersion of the optical fiber,
This is a transmission type optical dispersion compensator. The diffraction grating dispersion compensator is a transmission-type dispersion compensator that includes two facing diffraction gratings and performs dispersion compensation using the wavelength dependence of a delay time (or propagation distance) generated by two reflections. .
The dielectric multilayer dispersion compensator and the grating optical fiber dispersion compensator are reflection type optical dispersion compensators that perform dispersion compensation using a large dispersion effect in a high reflection region having a wide spectral width caused by multiple reflection of light. It is.
【0006】光ファイバー分散補償器では、光ファイバ
ーの有する微小な分散効果のために、100m〜数km
の長さの光ファイバーを必要とし、従って、装置が大型
になり、不安定動作、高価格化などの欠点が生じる。回
折格子分散補償器では、大型でかつ2枚の回折格子の位
置合わせ等の設定が困難であるため、不安定動作の原因
となる。一方、誘電体多層膜分散補償器やグレーテイン
グ光ファイバー分散補償器は、超小型でモノリシックで
あるため、動作が安定である。In the optical fiber dispersion compensator, 100 m to several km is required due to the minute dispersion effect of the optical fiber.
Therefore, the length of the optical fiber is required, so that the apparatus becomes large, and disadvantages such as unstable operation and high cost are caused. In the diffraction grating dispersion compensator, it is difficult to set a large-sized diffraction grating such as positioning of two diffraction gratings, which causes unstable operation. On the other hand, the dielectric multilayer film dispersion compensator and the grating optical fiber dispersion compensator are ultra-small and monolithic, so that their operations are stable.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上述の誘電体多層膜分
散補償器とグレーテイング光ファイバー分散補償器で
は、光の多重反射のため、高反射領域において、広いス
ペクトル領域で比較的大きな分散補償効果が得られるの
で、超小型の光分散補償器の実現が可能である。しか
し、これらは反射型であるため、分散補償される光パル
スの伝搬方向の変更が必要になり、短パルスレーザとこ
れらの光分散補償器を結合または集積化して用いる場
合、または、光中継器の中に波形整形器として組み込む
場合、系が複雑になる欠点がある。また、一つの分散補
償器では、補償に必要な分散値が足りない場合、複数個
必要になるが、反射型であるため、その配置は複雑にな
る。In the dielectric multilayer film dispersion compensator and the grating optical fiber dispersion compensator described above, due to multiple reflection of light, a relatively large dispersion compensation effect can be obtained in a wide spectral region in a high reflection region. As a result, a very small optical dispersion compensator can be realized. However, since these are reflection types, it is necessary to change the propagation direction of the optical pulse to be dispersion-compensated, and when a short pulse laser and these optical dispersion compensators are used in combination or integrated, or when an optical repeater is used. However, there is a disadvantage that the system becomes complicated when it is incorporated as a waveform shaper in the system. If one dispersion compensator does not have a sufficient dispersion value for compensation, a plurality of dispersion compensators are required. However, the arrangement is complicated because of the reflection type.
【0008】従来型の周期的誘電体多層膜分散補償器
を、高反射領域の隣接する透過領域で用いると、透過型
光分散補償器として使用できる。しかし、その透過領域
のスペクトル幅:δλTは、100フェムト秒オーダー
の光パルスの分散補償を行うのに十分広くない(図8、
図12(B)参照)。If a conventional periodic dielectric multilayer film dispersion compensator is used in a transmission region adjacent to a high reflection region, it can be used as a transmission type light dispersion compensator. However, the spectral width of the transmission region: δλ T is not wide enough to perform dispersion compensation of an optical pulse on the order of 100 femtoseconds (FIG. 8, FIG.
FIG. 12 (B)).
【0009】以上の従来技術に対し、本願発明が解決し
ようとする課題は、100フェムト秒(femto-second:
10-15秒)から10ピコ秒(pico-second:10
-12秒)の時間幅を有する光パルスに生じる分散の影
響、即ちパルス時間幅拡がりや波形劣化を補償すること
(当該光パルスのパルス時間幅や波形を分散の影響を受
ける前の状態に戻すこと)にある。[0009] In contrast to the above prior art, the problem to be solved by the present invention is 100 femto-second:
10-15 seconds to 10 pico-seconds (pico-second: 10)
Compensating for the influence of dispersion occurring in an optical pulse having a time width of -12 seconds, that is, for compensating for pulse time width expansion and waveform deterioration (returning the pulse time width and waveform of the optical pulse to a state before being affected by the dispersion) That).
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するに
あたり、本発明の指針は、従来型の周期的多層膜構造に
代わって、単一共振器型多層膜構造または結合共振器型
多層膜構造を用いる。その結果、単一共振器型多層膜構
造または結合共振器型多層膜構造の場合、周期的多層膜
構造と比較して、高反射領域に隣接したスペクトル幅の
広い透過領域が存在する。従って、その透過領域に補償
すべき光パルスを透過されると、スペクトル幅の広い、
100フェムト秒から10ピコ秒のパルス幅を有する光
パルス(以下、短光パルス)の分散補償を行うことがで
きる。即ち、特開平2−23302号公報に開示の技術
が多層膜構造にて光パルスを反射させるのに対し、本発
明は多層膜構造に光パルスを透過させることにより分散
補償を行う点が異なり、このため本発明の光分散補償器
は以下のような構成上の特徴を有する。In order to solve the above-mentioned problems, the guideline of the present invention is to replace a conventional periodic multilayer structure with a single resonator multilayer structure or a coupled resonator multilayer film. Use the structure. As a result, in the case of the single resonator type multilayer structure or the coupled resonator type multilayer structure, there is a transmission region having a wider spectral width adjacent to the high reflection region as compared with the periodic multilayer structure. Therefore, when the light pulse to be compensated is transmitted through the transmission region, the spectrum width is wide,
Dispersion compensation of an optical pulse having a pulse width of 100 femtoseconds to 10 picoseconds (hereinafter, short optical pulse) can be performed. That is, while the technique disclosed in JP-A-2-23302 reflects light pulses in a multilayer structure, the present invention differs in that dispersion compensation is performed by transmitting light pulses through the multilayer structure. Therefore, the optical dispersion compensator of the present invention has the following structural features.
【0011】まず本発明の光分散補償器は、第1誘電体
とこれより屈折率の大きな第2誘電体を周期的に積層し
てなる第1誘電体領域と、第3誘電体とこれよりも屈折
率の大きな第4誘電体を周期的に積層してなる第2誘電
体領域と、第2誘電体及び第4誘電体よりも屈折率の小
さな第5誘電体からなる第3誘電体領域からなり、第3
誘電体領域が第1誘電体領域と第2誘電体領域との間に
挟まれるように構成された共振器を有する。この共振器
において、第3誘電体領域は、(1)第2誘電体と第4誘
電体とに接合されるか、又は(2)第1誘電体と第3誘電
体とに接合されるか、のいずれか一の態様で第1及び第
2誘電体領域に接続される。First, the optical dispersion compensator of the present invention comprises a first dielectric region formed by periodically laminating a first dielectric and a second dielectric having a higher refractive index, a third dielectric and a third dielectric. A second dielectric region formed by periodically laminating a fourth dielectric having a large refractive index, and a third dielectric region formed by a fifth dielectric having a smaller refractive index than the second dielectric and the fourth dielectric. Consisting of 3
There is a resonator configured so that the dielectric region is sandwiched between the first dielectric region and the second dielectric region. In this resonator, the third dielectric region is (1) bonded to the second and fourth dielectrics, or (2) is bonded to the first and third dielectrics. , And connected to the first and second dielectric regions.
【0012】このように構成される共振器構造を上述の
単一共振器型と定義する。一方、上述の結合共振器型と
は、単一共振器型を直列に複数結合させたものであり、
例えば上述の第1誘電体領域、第3誘電体領域、第2誘
電体領域、第3誘電体領域、第2誘電体領域、第3誘電
体領域、第2誘電体領域をこの順に積み上げた構造を有
する(ここで、第2、第2誘電体領域としたのは第2誘
電体領域に対し若干の組成変動を許容する意味であ
る)。The resonator structure thus configured is defined as the single resonator type described above. On the other hand, the above-mentioned coupled resonator type is a single resonator type in which a plurality of single resonator types are coupled in series,
For example, a structure in which the above-described first dielectric region, third dielectric region, second dielectric region, third dielectric region, second dielectric region, third dielectric region, and second dielectric region are stacked in this order. (Here, the use of the second and second dielectric regions means that a slight variation in the composition of the second dielectric region is allowed).
【0013】また各誘電体層の厚みを調整することによ
り、共振器に入射する光パルスのスペクトル幅が第1、
第2及び第3誘電体領域から構成される共振器の共振点
を含む高反射領域に隣接する透過領域内に存在させる。
これらの厚みは共振波長λr(但し、この波長は真空に
おける値)に基づき、各誘電体層の層厚は個々の誘電体
における実効波長としての共振波長λr/n(但し、n
は誘電体の屈折率)で、第1乃至第4誘電体の層:(λ
r/n)/4、第5誘電体の層:(λr/n)/2に設定
される。共振波長の定義については、実施例1から3に
おいて後述する。Further, by adjusting the thickness of each dielectric layer, the spectral width of the light pulse incident on the resonator can be made first and second.
It is made to exist in the transmission region adjacent to the high reflection region including the resonance point of the resonator composed of the second and third dielectric regions.
These thicknesses are based on the resonance wavelength λ r (this wavelength is a value in a vacuum), and the thickness of each dielectric layer is the resonance wavelength λ r / n (where n
Is the refractive index of the dielectric), and the first to fourth dielectric layers: (λ
r / n) / 4 and the fifth dielectric layer: (λ r / n) / 2. The definition of the resonance wavelength will be described later in Examples 1 to 3.
【0014】上述の結合型の共振器構造においては、さ
らに第3誘電体領域を構成する第5誘電体の層の厚みは
第5誘電体層に、第2誘電体領域を構成する第3誘電
体、第4誘電体の層の厚みはそれぞれ第3誘電体層、第
4誘電体層に準じて設定する(第3及び第2誘電体領域
についても同様)。これにより、結合型共振器構造に入
射する光パルスのスペクトル幅は、結合型共振器構造の
複数の共振点を含む高反射領域に隣接する透過領域内に
存在する。次に、図8、図9、図10、図12を用い
て、従来型の周期的多層膜構造と単一共振器型多層膜構
造または結合共振器型多層膜構造における光パルスの振
る舞いの違いについて説明する。従来型の周期的多層膜
構造、本発明の単一共振器型多層膜構造と二つの共振器
が結合した結合共振器型多層膜構造の反射スペクトルの
計算例を、それぞれ図8、図9(A)、図10(A)に示す。
共振点(反射率がほぼゼロになる鋭い凹)を含む、反射
率がほぼ1である高反射領域に隣接して、反射率がほぼ
ゼロに近い透過領域が存在する。但し、周期的多層膜構
造の場合、高反射領域に共振点は存在しない。また、共
振点の数は、共振器の数に等しい。例えば、単一共振器
構造の場合は一つ、二つの共振器が結合した結合共振器
の場合は、二つである。以下、この透過領域のスペクト
ル幅をdlTとする。In the above-described coupled resonator structure, the thickness of the fifth dielectric layer forming the third dielectric region is further set to the fifth dielectric layer, and the thickness of the third dielectric layer forming the second dielectric region is changed. The thicknesses of the body and fourth dielectric layers are set according to the third dielectric layer and the fourth dielectric layer, respectively (the same applies to the third and second dielectric regions). Thus, the spectral width of the light pulse incident on the coupled resonator structure exists in the transmission region adjacent to the high reflection region including the plurality of resonance points of the coupled resonator structure. Next, referring to FIG. 8, FIG. 9, FIG. 10, and FIG. 12, the difference in the behavior of the light pulse between the conventional periodic multilayer structure and the single resonator multilayer structure or the coupled resonator multilayer structure will be described. Will be described. FIGS. 8 and 9 show examples of calculation of reflection spectra of a conventional periodic multilayer structure, a single resonator multilayer structure of the present invention, and a coupled resonator multilayer structure in which two resonators are coupled. (A) and FIG. 10 (A).
Adjacent to the high-reflection area where the reflectance is almost 1, including the resonance point (a sharp concave where the reflectance is almost zero), there is a transmission area where the reflectance is almost zero. However, in the case of the periodic multilayer structure, there is no resonance point in the high reflection region. Also, the number of resonance points is equal to the number of resonators. For example, there is one in the case of a single resonator structure, and two in the case of a coupled resonator in which two resonators are coupled. Hereinafter, the spectrum width of this transmission region is referred to as dlT.
【0015】従来型の周期的多層膜構造を有する短光パ
ルス分散補償器は、短光パルスの広いスペクトル幅をカ
バーするため、スペクトル幅の広い高反射領域を用い
る。このため、反射型となる(図12(A))。即ち、図8
のスペクトルを示す周期的多層膜構造を有する光分散補
償器において、これに入射する光パルスの分散の変形は
高反射領域に相当するλ=1.40から1.61μmの広
い波長範囲で補償される。ところが、この従来型の周期
的多層膜構造を有する短光パルス分散補償器を透過型に
して、高反射領域に隣接する透過領域で光パルスの分散
補償を行おうとすると、図12(B)に示すように、光パ
ルスの整正(補償)は十分に行われない。その理由は、
透過領域のδλTが、光パルスのスペクトル幅より小さ
いため(図8のλ=1.39及び1.62μm付近参
照)、光パルスのスペクトル成分の一部分しか分散補償
が行われないからである。この場合のδλTは、100
フェムト秒オーダーの光パルスのスペクトル幅の十分の
一以下でる。A conventional short optical pulse dispersion compensator having a periodic multilayer structure uses a high reflection region having a wide spectral width to cover a wide spectral width of a short optical pulse. For this reason, it becomes a reflection type (FIG. 12A). That is, FIG.
In the optical dispersion compensator having a periodic multilayer structure having the following spectrum, the dispersion of the dispersion of the light pulse incident thereon is compensated in a wide wavelength range from λ = 1.40 to 1.61 μm corresponding to the high reflection region. You. However, when this conventional short optical pulse dispersion compensator having a periodic multilayer structure is made a transmission type and dispersion compensation of an optical pulse is performed in a transmission region adjacent to a high reflection region, FIG. As shown, the correction (compensation) of the light pulse is not sufficiently performed. The reason is,
This is because, because δλ T of the transmission region is smaller than the spectral width of the optical pulse (see near λ = 1.39 and 1.62 μm in FIG. 8), only a part of the spectral component of the optical pulse is subjected to dispersion compensation. Δλ T in this case is 100
It is less than one tenth of the spectral width of a femtosecond order light pulse.
【0016】一方、本発明の単一共振器型多層膜構造ま
たは結合共振器型多層膜構造のδλTは、周期的多層膜
構造のそれと比べて非常に大きく(図8、図9(A)、図
10(A)の比較から明らか)、100フェムト秒オーダ
ーの光パルスのスペクトル幅とほぼ等しいので、100
フェムト秒オーダーの光パルスの分散補償による光パル
ス整正(補償)が、透過において可能である。即ち、本
発明では誘電体多層膜により形成された共振器構造を光
分散補償器に採用することで、当該共振器構造の高反射
領域に隣接する透過領域のスペクトル幅を当該透過領域
の分散効果を高めるように拡げ、これにより100フェ
ムト秒から10ピコ秒の光パルスの分散補償を可能にす
るものである。なお、図12においては、本発明の光分
散補償器47を、従来の光分散補償器45,46と同様
のパターンで示したが、その構造上の違いは後述の実施
例から明らかになろう。On the other hand, the δλ T of the single-cavity multilayer structure or the coupled-cavity multilayer structure of the present invention is much larger than that of the periodic multilayer structure (FIGS. 8 and 9A). 10A), which is almost equal to the spectrum width of the optical pulse on the order of 100 femtoseconds.
Light pulse correction (compensation) by dispersion compensation of femtosecond-order light pulses is possible in transmission. That is, in the present invention, by employing the resonator structure formed by the dielectric multilayer film for the optical dispersion compensator, the spectral width of the transmission region adjacent to the high reflection region of the resonator structure is reduced by the dispersion effect of the transmission region. , Thereby enabling dispersion compensation of light pulses of 100 femtoseconds to 10 picoseconds. In FIG. 12, the optical dispersion compensator 47 of the present invention is shown in the same pattern as the conventional optical dispersion compensators 45 and 46, but the structural difference will be apparent from the embodiment described later. .
【0017】本発明を実施するに当たって、誘電体多層
膜構造からなる単一共振器構造または結合型共振器構造
において、入射光パルスのスペクトルが,該共振器構造
の高反射領域に隣接する透過領域内に存在するように設
定する。この構造では、高反射領域に隣接する透過領域
において、100フェムト秒オーダーの光パルスが有す
る広いスペクトル領域で、分散補償に必要な大きさの分
散効果が得られる(図9、10参照)。従って、超小
型、安定、低価格、かつ他の装置との結合が容易な透過
型光分散補償器の実現が可能である。In practicing the present invention, in a single-cavity structure or a coupled-type resonator structure composed of a dielectric multilayer structure, the spectrum of an incident light pulse has a transmission region adjacent to a high reflection region of the resonator structure. Set to exist in. In this structure, in the transmission region adjacent to the high reflection region, a dispersion effect of a magnitude necessary for dispersion compensation can be obtained in a wide spectral region of an optical pulse on the order of 100 femtoseconds (see FIGS. 9 and 10). Therefore, it is possible to realize a transmission type optical dispersion compensator which is ultra-small, stable, inexpensive, and easy to couple with other devices.
【0018】以上に説明した本発明の光分散補償器は、
多段に結合させて構成して1つの光分散補償器を構成し
てもよい(実施例7参照)。また、短パルスレーザと組
み合わせて光パルス発生装置を構成してもよい(実施例
4及び5参照)。短パルスレーザを発生する光源に面発
光型の半導体レーザ素子を用い、これに積層する態様で
光分散補償器を形成すると光パルス発生装置の小型化が
図れる利点がある。これは、従来の反射型光分散補償器
では得られない利点である。このような光パルス発生装
置を光源に用いて、光通信システムを構成すると光信号
伝送の長距離化、大容量化が促進される。一方、本発明
の光分散補償器を光通信システムの光中継回路における
光パルス波形の整形素子として用いてもよい(実施例6
参照)。The optical dispersion compensator of the present invention described above has
One optical dispersion compensator may be configured by combining multiple stages (see Embodiment 7). Also, an optical pulse generator may be configured in combination with a short pulse laser (see Examples 4 and 5). When a surface-emitting type semiconductor laser device is used as a light source for generating a short-pulse laser and an optical dispersion compensator is formed in a stacked manner on the semiconductor laser device, there is an advantage that the optical pulse generator can be downsized. This is an advantage that cannot be obtained by the conventional reflection type optical dispersion compensator. When an optical communication system is configured by using such an optical pulse generator as a light source, an increase in the distance and capacity of optical signal transmission is promoted. On the other hand, the optical dispersion compensator of the present invention may be used as an optical pulse waveform shaping element in an optical repeater circuit of an optical communication system (Embodiment 6).
reference).
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】本発明に係わる光分散補償器の実
施例につき、添付図面を参照しながら以下詳細に説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the optical dispersion compensator according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【0020】<実施例1>本実施例では、単一共振器型
光分散補償器の構造例と、その動作原理について、図1
と図9を用いて説明する。図1は、本発明に係わる光分
散補償器の一実施例の断面図である。<Embodiment 1> In this embodiment, an example of the structure of a single-cavity type optical dispersion compensator and its operating principle will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a sectional view of one embodiment of the optical dispersion compensator according to the present invention.
【0021】結晶方位(001)面のn型GaAs(ドナー
濃度:ND=2×1018cm-3)基板1上に有機金属気相成長
(MOVPE:Metal Organic Vapor Phase Epitaxy)法によ
り,AlGaAs層(Alモル比:x=0.2, 屈折率:3.2)からな
るスペーサー層2を10mm成長する。次に、GaAs高屈折
率層3(屈折率:3.4)とAlAs低屈折率層4(屈折率:
2.9)を9.5周期積層して周期的誘電体多層膜5を形成
する。即ち、誘電体多層膜5は、光パルスの透過方向に
n層の低屈折率層と(n+1)層の高屈折率層(但しn
は自然数で、この場合n=9)を両端に高屈折率層が位
置するように交互に積層されて形成される。An n-type GaAs (donor concentration: N D = 2 × 10 18 cm −3 ) substrate having a crystal orientation (001) plane is formed on a substrate 1 by MOVPE (Metal Organic Vapor Phase Epitaxy). A spacer layer 2 composed of a layer (Al molar ratio: x = 0.2, refractive index: 3.2) is grown to a thickness of 10 mm. Next, the GaAs high refractive index layer 3 (refractive index: 3.4) and the AlAs low refractive index layer 4 (refractive index:
2.9) are laminated for 9.5 periods to form a periodic dielectric multilayer film 5. That is, the dielectric multilayer film 5 includes n low refractive index layers and (n + 1) high refractive index layers (where n
Is a natural number. In this case, n = 9) is formed by alternately stacking high refractive index layers at both ends.
【0022】高屈折率層3低屈折率層4との各層の厚さ
は、設定された真空中における共振波長:λrに対する
各層内部での実効波長の1/4とする(λrの設定につ
いては後述する)。次にAlAs層からなる半波長低屈折率
層6を積層し、その厚さを設定された真空中における共
振波長:λrに対する半波長低屈折率層内部での実効波
長の1/2とする。The thickness of each layer of the high refractive index layer 3 low refractive index layer 4, the resonance wavelength in a vacuum that has been set: the 1/4 of the effective wavelength inside the respective layers to the λ r (λ r settings Will be described later). Then laminating the half-wave low index layer 6 made of AlAs layer, resonant wavelength in vacuum, which is set the thickness: lambda and 1/2 of the effective wavelength inside the half-wave low index layer with respect to r .
【0023】さらに、GaAs高屈折率層3(屈折率:3.
4)とAlAs低屈折率層4(屈折率:2.9)を9.5周期積
層して周期的誘電体多層膜5を形成し、AlGaAs層(Alモ
ル比:x=0.2, 屈折率:3.2)からなるスペーサー層2を
10mm成長する。次にn型GaAs基板1の一部を化学エッ
チングで取り去り、光学窓8を形成する。最後に、上
部、下部のスペーサー層2に、空気との界面の反射を防
ぐため、Anti-reflectionコート膜(ARコート膜)7を
形成する。ARコート膜を付ける前の空気と接する層の屈
折率をn1とすると、ARコート膜の屈折率は、nAR=
n1 1/2、その厚さは、(λr/4)/nARである。Further, the GaAs high refractive index layer 3 (refractive index: 3.
4) and an AlAs low refractive index layer 4 (refractive index: 2.9) are laminated for 9.5 periods to form a periodic dielectric multilayer film 5, and an AlGaAs layer (Al molar ratio: x = 0.2, refractive index: 3.2) A spacer layer 2 of 10 mm is grown. Next, a part of the n-type GaAs substrate 1 is removed by chemical etching to form an optical window 8. Finally, an anti-reflection coating film (AR coating film) 7 is formed on the upper and lower spacer layers 2 to prevent reflection at the interface with air. When the refractive index of the layer in contact with the air before attaching the AR coating film and n 1, the refractive index of the AR coat film, n AR =
n 1 1/2 and its thickness is (λ r / 4) / n AR .
【0024】以下、共振器長:λrの設定法について述
べる。本実施例の光分散補償器において、入射光パルス
のスペクトル37が、該共振器構造の高反射領域に隣接
する透過領域内に存在するように、λrを設定する(図
9(A)参照)。ダウンチャープを補償する場合は、高反
射領域の長波長側に隣接する透過領域に、入射光パルス
のスペクトルが存在するようにλrを設定する(λr=
1.70μm付近)。アップチャープを補償する場合
は、高反射領域の短波長側に隣接する透過領域に、入射
光パルスのスペクトルが存在するようにλrを設定する
(λr=1.34μm付近)。なお、チャープ(chirp)
とは波長軸や時間軸方向への波形の拡がりを意味する。
本実施例の高反射領域の長波長側に隣接する透過領域に
おける2次位相分散の計算結果を図9(B)に示す。[0024] In the following, the resonator length: describes the λ r of the setting method. The optical dispersion compensator according to this embodiment, the spectrum 37 of the incident light pulses, as present in the transmissive region adjacent to the high-reflection region of the resonator structure, sets the lambda r (FIG. 9 (A) see ). When compensating for down-chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region (λ r =
Around 1.70 μm). When compensating for up-chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the short wavelength side of the high reflection region (λ r = around 1.34 μm). In addition, chirp (chirp)
Means the spread of the waveform in the direction of the wavelength axis or the time axis.
FIG. 9B shows the calculation result of the second-order phase dispersion in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region according to the present embodiment.
【0025】本実施例は、AlGaAs系の材料に限らず、他
の材料系、例えば、SiO2/TiO2等の材料においても適用
可能である。This embodiment can be applied not only to AlGaAs-based materials but also to other material systems, for example, materials such as SiO 2 / TiO 2 .
【0026】<実施例2>本実施例では、結合共振器型
光分散補償器の構造例とその動作原理について図2と図
10、図13を用いて説明する。図2は、本発明に係わ
る光分散補償器の一実施例の断面図である。<Embodiment 2> In this embodiment, an example of the structure of a coupled resonator type optical dispersion compensator and its operating principle will be described with reference to FIGS. 2, 10 and 13. FIG. FIG. 2 is a sectional view of one embodiment of the optical dispersion compensator according to the present invention.
【0027】結晶方位(001)面のn型GaAs(ドナー
濃度:ND=2×1018cm-3)基板1上に有機金属気相成長
(MOVPE:Metal Organic Vapor Phase Epitaxy)法によ
り,AlGaAs層(Alモル比:x=0.2, 屈折率:3.2)からな
るスペーサー層2を10mm成長する。次に、GaAs高屈折
率層3(屈折率:3.4)とAlAs低屈折率層4(屈折率:
2.9)を9.5周期積層して、周期的誘電体多層膜5を形
成する。An n-type GaAs (donor concentration: N D = 2 × 10 18 cm −3 ) substrate having a crystal orientation (001) plane is formed on a substrate 1 by MOVPE (Metal Organic Vapor Phase Epitaxy). A spacer layer 2 composed of a layer (Al molar ratio: x = 0.2, refractive index: 3.2) is grown to a thickness of 10 mm. Next, the GaAs high refractive index layer 3 (refractive index: 3.4) and the AlAs low refractive index layer 4 (refractive index:
2.9) are laminated for 9.5 periods to form a periodic dielectric multilayer film 5.
【0028】高屈折率層3低屈折率層4との各層の厚さ
は、設定された真空中における共振波長:λrに対する
各層内部での実効波長の1/4とする。次に、AlAs層か
らなる半波長低屈折率層6を積層し、その厚さを設定さ
れた真空中における共振波長:λrに対する、この層内
部での実効波長の1/2とする。The thickness of each layer of the high refractive index layer 3 low refractive index layer 4, the resonance wavelength in a vacuum that has been set: the 1/4 of the effective wavelength inside the respective layers to the lambda r. Next, a half-wave low index layer 6 made of AlAs layers are laminated, the resonance wavelength in vacuum, which is set the thickness: for lambda r, and 1/2 of the effective wavelength inside this layer.
【0029】さらに、GaAs高屈折率層3(屈折率:3.
4)とAlAs低屈折率層4(屈折率:2.9)を9.5周期積
層して周期的誘電体多層膜5を形成し、AlAs層からなる
半波長低屈折率層6を積層し、その厚さを設定された真
空中における共振波長:λrに対する、この層内部での
実効波長の1/2とする。次に、GaAs高屈折率層3(屈
折率:3.4)とAlAs低屈折率層4(屈折率:2.9)を9.
5周期積層して周期的誘電体多層膜5を形成する。高屈
折率層3低屈折率層4との各層の厚さは、設定された真
空中における共振波長:λrに対する,各層内部での実
効波長の1/4とする。さらに、AlGaAs層(Alモル比:
x=0.2, 屈折率:3.2)からなるスペーサー層2を10mm
成長し、n型GaAs基板1の一部を化学エッチングで取り
去り、光学窓8を形成する。最後に、上部、下部のスペ
ーサー層2に、空気との界面の反射を防ぐため、ARコー
ト膜7を形成する。ARコート膜を付ける前の空気と接す
る層の屈折率をn1とすると、ARコート膜の屈折率はnAR
=n1 1/2、その厚さは(λr/4)/nARである。Further, the GaAs high refractive index layer 3 (refractive index: 3.
4) and an AlAs low refractive index layer 4 (refractive index: 2.9) are laminated for 9.5 periods to form a periodic dielectric multilayer film 5, and a half-wavelength low refractive index layer 6 composed of an AlAs layer is laminated. The thickness is set to の of the effective wavelength inside this layer with respect to the resonance wavelength: λ r in a vacuum set. Next, the GaAs high refractive index layer 3 (refractive index: 3.4) and the AlAs low refractive index layer 4 (refractive index: 2.9)
The periodic dielectric multilayer film 5 is formed by laminating five periods. The thickness of each layer of the high refractive index layer 3 low refractive index layer 4, the resonance wavelength in a vacuum that has been set: for lambda r, and 1/4 of the effective wavelength inside the layers. Further, an AlGaAs layer (Al molar ratio:
x = 0.2, Refractive index: 3.2) Spacer layer 2 consisting of 10 mm
After growing, a part of the n-type GaAs substrate 1 is removed by chemical etching to form an optical window 8. Finally, an AR coat film 7 is formed on the upper and lower spacer layers 2 to prevent reflection at the interface with air. When the refractive index of the layer in contact with the air before attaching the AR coating film and n 1, the refractive index of the AR coating film n AR
= N 1 1/2 and its thickness is (λ r / 4) / n AR .
【0030】以下、共振器長:λrの設定法について述
べる。本実施例の光分散補償器において、入射光パルス
のスペクトル38が,該共振器構造の高反射領域に隣接
する透過領域内に存在するように、λrを設定する(図
10(A)参照)。ダウンチャープを補償する場合は、高
反射領域の長波長側に隣接する透過領域に、入射光パル
スのスペクトルが存在するようにλrを設定する。アッ
プチャープを補償する場合は、高反射領域の短波長側に
隣接する透過領域に、入射光パルスのスペクトルが存在
するようにλrを設定する。本実施例の高反射領域の長
波長側に隣接する透過領域における2次位相分散の計算
結果を図10(B)に示す。[0030] In the following, the resonator length: describes the λ r of the setting method. In the optical dispersion compensator of the present embodiment, λ r is set so that the spectrum 38 of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the high reflection region of the resonator structure (see FIG. 10A). ). When compensating for down chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region. When compensating for up-chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the short wavelength side of the high reflection region. FIG. 10B shows a calculation result of the second-order phase dispersion in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region according to the present embodiment.
【0031】本実施例は,AlGaAs系の材料に限らず,他
の材料系,例えば、SiO2/TiO2等の材料においても適用
可能である。The present embodiment is not limited to AlGaAs-based materials, but can be applied to other material systems, for example, materials such as SiO 2 / TiO 2 .
【0032】本発明の結合共振器型多層膜光分散補償器
の特性評価を、計算機シミュレーションで行ったので、
その結果を図13に示す。この結果は、入射パルスの中
心波長で規格化された空間座標:z/λ0でプロットさ
れている。計算に用いた構造は、上記の3つの周期的誘
電体多層膜5の周期は、それぞれ6.5、5.5、6であ
る。屈折率は、計算精度の劣化を生じないように、低屈
折率層の屈折率を1、高屈折率層の屈折率を1.2とした。
また、光分散補償器と外部との境界での反射の影響は無
いと仮定した。入射光パルスの時間幅は125フェムト
秒で、中心波長:λ0は1.5μmとした。The characteristics of the coupled resonator type multilayer optical dispersion compensator of the present invention were evaluated by computer simulation.
The result is shown in FIG. The result is plotted in spatial coordinates: z / λ 0 normalized by the center wavelength of the incident pulse. In the structure used for the calculation, the periods of the three periodic dielectric multilayer films 5 are 6.5, 5.5, and 6, respectively. As for the refractive index, the refractive index of the low refractive index layer was set to 1 and the refractive index of the high refractive index layer was set to 1.2 so as not to deteriorate the calculation accuracy.
Also, it was assumed that there was no influence of reflection at the boundary between the optical dispersion compensator and the outside. The time width of the incident light pulse was 125 femtoseconds, and the center wavelength: λ 0 was 1.5 μm.
【0033】図13を参照し、周波数チャープの影響を
受けた(または、3次の光非線形の影響でスペクトル幅
の拡がった)光パルス48の本発明の光分散補償器49
に対する応答を見ることによって、本発明の光分散補償
器の特性評価を行う。入射光パルス48は、ほとんど透
過し、透過パルス50は分散補償によって、約半分の時
間幅になっていることがわかる(挿入図参照、波線は入
光パルス、実線は透過パルスを示す)。これで、本発明
の構造を用いれば、100フェムト秒オーダーの光パル
スの分散補償を、透過において行うことが可能であるこ
とが示された。Referring to FIG. 13, the optical dispersion compensator 49 of the present invention of the optical pulse 48 affected by the frequency chirp (or the spectrum width is expanded by the influence of the third-order optical nonlinearity).
, The characteristics of the optical dispersion compensator of the present invention are evaluated. It can be seen that the incident light pulse 48 is almost transmitted, and the transmitted pulse 50 is about half the time width due to dispersion compensation (see inset, dashed line indicates incoming light pulse, solid line indicates transmitted pulse). Thus, it has been shown that, by using the structure of the present invention, dispersion compensation of an optical pulse on the order of 100 femtoseconds can be performed in transmission.
【0034】<実施例3>本実施例では、光ファイバー
を用いた本発明に係わる光分散補償器の構造例について
説明する。図3は、光ファイバーを用いた本発明に係わ
る共振器型光分散補償器の一実施例である。図3に示
す、ブラッググレーテイング層9を半波長低屈折率6を
挟んで形成する。この構造は、フォトセンシテイブな光
ファイバー10を、干渉した紫外線(UV光)で露光する
ことによって作製できる(作製に関する参考文献:ヒル
他,アプライドフィジックスレター,第62巻,103
5頁(1993))。最後に、空気との界面での反射を
防ぐために、両端にARコート膜7を形成する。ARコート
膜を付ける前の空気と接する層の屈折率をn1とすると、
ARコート膜の屈折率は、nAR=n1 1/2、その厚さは、(λ
r/4)/nARである。<Embodiment 3> In this embodiment, a structural example of an optical dispersion compensator according to the present invention using an optical fiber will be described. FIG. 3 shows an embodiment of a resonator type optical dispersion compensator according to the present invention using an optical fiber. A Bragg grating layer 9 shown in FIG. 3 is formed with a half-wavelength low refractive index 6 interposed therebetween. This structure can be produced by exposing the photo-sensitive optical fiber 10 to interfering ultraviolet light (UV light) (Reference for production: Hill et al., Applied Physics Letter, Vol. 62, 103).
5 (1993)). Finally, AR coating films 7 are formed on both ends to prevent reflection at the interface with air. When the refractive index of the layer in contact with the air before attaching the AR coating film and n 1,
The refractive index of the AR coating film is n AR = n 1 1/2 , and its thickness is (λ
r / 4) / nAR .
【0035】以下、共振器型光分散補償器の共振器長:
λrの設定法について述べる。本実施例の光分散補償器
において、入射光パルスのスペクトルが,該共振器構造
の高反射領域に隣接する透過領域内に存在するように、
λrを設定する。ダウンチャープを補償する場合は、高
反射領域の長波長側に隣接する透過領域に、入射光パル
スのスペクトルが存在するようにλrを設定する。アッ
プチャープを補償する場合は、高反射領域の短波長側に
隣接する透過領域に、入射光パルスのスペクトルが存在
するようにλrを設定する。The resonator length of the resonator type optical dispersion compensator is as follows:
A method for setting λ r will be described. In the optical dispersion compensator of the present embodiment, the spectrum of the incident light pulse is located in the transmission region adjacent to the high reflection region of the resonator structure.
Setting the λ r. When compensating for down chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region. When compensating for up-chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the short wavelength side of the high reflection region.
【0036】本実施例では、単一共振器構造を有する光
分散補償器について述べたが、実施例2で述べた結合型
共振器構造を有する光分散補償器も作製可能である。In this embodiment, the optical dispersion compensator having the single resonator structure has been described. However, the optical dispersion compensator having the coupled resonator structure described in the second embodiment can also be manufactured.
【0037】<実施例4>本実施例では、本発明の光分
散補償器を集積化した半導体短パルス光源について説明
する。図4は、本発明に係わる光分散補償器を集積化し
た半導体短パルス光源の一実施例の断面図である。Embodiment 4 In this embodiment, a semiconductor short pulse light source in which the optical dispersion compensator of the present invention is integrated will be described. FIG. 4 is a sectional view of an embodiment of a semiconductor short pulse light source in which an optical dispersion compensator according to the present invention is integrated.
【0038】初めに、レーザ部作製について説明する。
結晶方位(111)または(110)面のn-InP基板1
1上に有機金属気相成長(MOVPE: Metal Organic Vapor
Phase Epitaxy)法によりn-InGaAsP(禁制帯幅波長1.4
5mm, ドナー濃度:ND=2×1018cm-3)の高屈折率層1
2とn-InP(禁制帯幅波長0.92μm、ND=2×1018cm
-3)の低屈折率層13を30周期積層してn型誘電体多
層膜反射器14を形成する。ただし、各層の厚さは、各
層内部での波長λの1/4とする。次に、アンドープIn
GaAsP(禁制帯幅波長1μm、厚さ0.4μm)スペーサ
ー層2、InGaAs量子井戸層(禁制帯幅波長1.55μ
m、厚さ3.5nm)とInGaAsP(禁制帯幅波長1.15μ
m、厚さ15nm)障壁層からなる10周期の圧縮歪み
多重量子井戸層15、アンドープInGaAsP(禁制帯幅波
長1μm、厚さ0.4μm)スペーサー層2からなる共
振器16を設ける。ただし、多重量子井戸層の障壁層に
はP型変調ドープ(アクセプター濃度:NA=5×1018cm
-3)を行う。続けて、p-InP(厚さλr/4、禁制帯幅波
長0.92μm、NA=2×1018cm-3)の低屈折率層17
とp-InGaAsP(禁制帯幅波長1.45μm, NA=2×10
18cm-3)の高屈折率層18を30周期積層し、p型誘電
体多層膜反射器19を形成する。次に、p型誘電体多層
膜反射器19上に光学窓を有するAu/Zu/Au/Ti/Auのp側
電極20を蒸着によって作製する。さらに、n側電極2
1を、AuGeをn-InP基板に蒸着することによって形成す
る。最後に、例えば、実施例1で述べた単一共振器型光
分散補償器22を別に作製し、光学窓の部分に直接接着
させて、レーザ部に集積化する。First, the fabrication of the laser section will be described.
N-InP substrate 1 with (111) or (110) crystal orientation
MOVPE: Metal Organic Vapor
Phase Epitaxy) method using n-InGaAsP (bandwidth 1.4
High refractive index layer 1 having a thickness of 5 mm and a donor concentration of N D = 2 × 10 18 cm −3 )
2 and n-InP (forbidden bandwidth wavelength 0.92 μm, N D = 2 × 10 18 cm
3 ) The low refractive index layer 13 is laminated for 30 periods to form an n-type dielectric multilayer film reflector 14. However, the thickness of each layer is 1 / of the wavelength λ inside each layer. Next, undoped In
GaAsP (forbidden bandwidth wavelength 1 μm, thickness 0.4 μm) spacer layer 2, InGaAs quantum well layer (forbidden bandwidth wavelength 1.55 μm)
m, thickness 3.5 nm) and InGaAsP (bandwidth 1.15μ)
A 10-period compression-strained multiple quantum well layer 15 composed of a barrier layer (m, thickness 15 nm) and a resonator 16 composed of an undoped InGaAsP (bandwidth 1 μm, 0.4 μm thick) spacer layer 2 are provided. However, the barrier layer of the multiple quantum well layer has a P-type modulation dope (acceptor concentration: N A = 5 × 10 18 cm).
-3 ) is performed. Subsequently, a low refractive index layer 17 of p-InP (thickness λ r / 4, forbidden bandwidth wavelength 0.92 μm, N A = 2 × 10 18 cm −3 ).
And p-InGaAsP (bandwidth 1.45 μm, N A = 2 × 10
A high refractive index layer 18 of 18 cm -3 ) is stacked for 30 periods to form a p-type dielectric multilayer film reflector 19. Next, an Au / Zu / Au / Ti / Au p-side electrode 20 having an optical window is formed on the p-type dielectric multilayer reflector 19 by vapor deposition. Further, the n-side electrode 2
1 is formed by evaporating AuGe on an n-InP substrate. Lastly, for example, the single-cavity type optical dispersion compensator 22 described in the first embodiment is separately manufactured, directly adhered to the optical window, and integrated in the laser unit.
【0039】以下、単一共振器型光分散補償器22の共
振器長:λrの設定法について述べる。本実施例の光分
散補償器において、所謂面発光型のレーザ部からの光パ
ルスのスペクトルが、該共振器構造の高反射領域に隣接
する透過領域内に存在するように、λrを設定する。ダ
ウンチャープを補償する場合は、高反射領域の長波長側
に隣接する透過領域に、入射光パルスのスペクトルが存
在するようにλrを設定する。アップチャープを補償す
る場合は、高反射領域の短波長側に隣接する透過領域
に、入射光パルスのスペクトルが存在するようにλrを
設定する。[0039] Hereinafter, the resonator length of a single cavity optical dispersion compensators 22: describes lambda r setting method. In the optical dispersion compensator of the present embodiment, λ r is set so that the spectrum of the light pulse from the so-called surface-emitting type laser unit exists in the transmission region adjacent to the high reflection region of the resonator structure. . When compensating for down chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the long wavelength side of the high reflection region. When compensating for up-chirp, λ r is set so that the spectrum of the incident light pulse exists in the transmission region adjacent to the short wavelength side of the high reflection region.
【0040】本実施例は、レーザ部において、InGaAsP
系の材料に限らず、他の材料系、例えばAlGaAs系の材料
においても適用可能であり、光分散補償器において、他
の材料系、例えば、SiO2/TiO2等の材料においても適用
可能である。In this embodiment, the laser portion is made of InGaAsP.
The present invention can be applied not only to the system material but also to other material systems, for example, an AlGaAs material. In the optical dispersion compensator, it can be applied to other material systems, for example, a material such as SiO 2 / TiO 2. is there.
【0041】<実施例5>本実施例では,本発明に係わ
る光分散補償器を、外部共振器型モード同期レーザの分
散補償器として用いる例を説明する。図5は,本発明に
係わる光分散補償器を有する外部共振器型モード同期レ
ーザの構成図である。本レーザ装置は、ミラー23、2
4で挟まれた可飽和吸収色素25、ミラー26、27で
挟まれた増幅媒質であるレーザ色素28、ミラー24と
対で共振器を構成するのに必要であるミラー29、光パ
ルスの取り出しに必要である出力ミラー30、本発明に
係わる光分散補償器31、半波長板32、励起用光源の
Arイオンレーザ33から構成される。<Embodiment 5> In this embodiment, an example will be described in which the optical dispersion compensator according to the present invention is used as a dispersion compensator for an external cavity mode-locked laser. FIG. 5 is a configuration diagram of an external cavity mode-locked laser having an optical dispersion compensator according to the present invention. The laser device includes mirrors 23, 2
4, a saturable absorbing dye 25 sandwiched by 4, a laser dye 28 as an amplification medium sandwiched by mirrors 26 and 27, a mirror 29 necessary to form a resonator with the mirror 24, and a light pulse extraction. Necessary output mirror 30, optical dispersion compensator 31, half-wave plate 32, excitation light source
It comprises an Ar ion laser 33.
【0042】<実施例6>本実施例では、本発明に係わ
る光分散補償器を、光ファイバーを用いた光通信システ
ムにおける、光パルス波形整形器として用いる例を、図
6を用いて説明する。光パルス35が光ファイバー34
内を伝搬する際に、光ファイバーの有する分散によっ
て、光パルス35は拡がる。そこで、本発明に係わる光
分散補償器31を用いて、分散の補償を行い、光パルス
波形の整形を行う(図6(A))。また、他の方法として、
光通信に用いる光ファイバー内に、干渉した紫外線(UV
光)で露光することによって本発明に係わる光分散補償
器を作製する(図6(B))。Embodiment 6 In this embodiment, an example in which the optical dispersion compensator according to the present invention is used as an optical pulse waveform shaper in an optical communication system using an optical fiber will be described with reference to FIG. The optical pulse 35 is applied to the optical fiber 34
When propagating inside, the optical pulse 35 spreads due to the dispersion of the optical fiber. Therefore, the dispersion compensation is performed using the optical dispersion compensator 31 according to the present invention, and the optical pulse waveform is shaped (FIG. 6A). Alternatively,
In the optical fiber used for optical communication, the interference ultraviolet rays (UV
Exposure to light (light) produces an optical dispersion compensator according to the present invention (FIG. 6B).
【0043】<実施例7>本実施例では、本発明に係わ
る光分散補償器を、多段に結合させて構成される光分散
補償器36の例を、図7を用いて説明する。分散のスペ
クトル幅を変えずに、分散量を増大させるために、図7
(A)、(B)に示すように、複数の本発明に係わる光分散補
償器31を直列に配列させて、より大きな分散量で補償
を行い、光パルス波形の整形を行う。<Embodiment 7> In this embodiment, an example of an optical dispersion compensator 36 constituted by combining optical dispersion compensators according to the present invention in multiple stages will be described with reference to FIG. To increase the amount of dispersion without changing the spectral width of the dispersion, FIG.
As shown in (A) and (B), a plurality of optical dispersion compensators 31 according to the present invention are arranged in series to compensate for a larger amount of dispersion and to shape an optical pulse waveform.
【0044】[0044]
【発明の効果】本発明によれば、誘電体多層膜構造から
なる単一共振器構造または結合型共振器構造において、
共振器構造の高反射領域に隣接する広いスペクトル幅を
有する透過領域において、大きな分散効果が得られるた
め、スペクトル幅の広い100フェムト秒オーダーの光
パルスの分散補償が可能な、超小型、低価格で安定な透
過型光分散補償器が実現できる。以上の光分散補償器
は,時分割多重通信システム,あるいは時分割多重通信
と波長分割多重通信システムのハイブリッド通信システ
ムを柱とした長距離大容量光通信システム用に,また
は,超高速光計測用に必要不可欠な超短光パルス発生装
置に好適である。According to the present invention, in a single resonator structure or a coupled resonator structure comprising a dielectric multilayer structure,
Since a large dispersion effect is obtained in the transmission region having a wide spectral width adjacent to the high reflection region of the resonator structure, an ultra-compact, low-cost, dispersion-compensating optical pulse on the order of 100 femtoseconds having a wide spectral width can be obtained. Thus, a stable transmission type optical dispersion compensator can be realized. The above optical dispersion compensator is used for long-distance, large-capacity optical communication systems that are based on time-division multiplex communication systems or hybrid communication systems of time-division multiplex communication and wavelength division multiplex communication, or for ultra-high-speed optical measurement. It is suitable for an ultrashort light pulse generator indispensable for the above.
【図1】本発明による第一の実施例を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment according to the present invention.
【図2】本発明による第二の実施例を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment according to the present invention.
【図3】本発明による第三の実施例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a third embodiment according to the present invention.
【図4】本発明による第四の実施例を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a fourth embodiment according to the present invention.
【図5】本発明による第五の実施例を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a fifth embodiment according to the present invention.
【図6】本発明による第六の実施例を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a sixth embodiment according to the present invention.
【図7】本発明による第七の実施例を示す図。FIG. 7 is a diagram showing a seventh embodiment according to the present invention.
【図8】従来型周期的誘電体多層膜構造を有する光分散
補償器の反射スペクトルを示す図。FIG. 8 is a diagram showing a reflection spectrum of a conventional optical dispersion compensator having a periodic dielectric multilayer structure.
【図9】本発明に係わる単一共振器構造を有する光分散
補償器(実施例1)の反射スペクトルと2次位相分散に
関する計算結果を示す図。FIG. 9 is a diagram showing calculation results regarding the reflection spectrum and the second-order phase dispersion of the optical dispersion compensator (the first embodiment) having a single resonator structure according to the present invention.
【図10】本発明に係わる結合共振器構造を有する光分
散補償器(実施例2)の反射スペクトルと2次位相分散
に関する計算結果を示す図。FIG. 10 is a diagram showing calculation results regarding a reflection spectrum and a second-order phase dispersion of an optical dispersion compensator (Example 2) having a coupled resonator structure according to the present invention.
【図11】従来型の光分散補償器の構成図。FIG. 11 is a configuration diagram of a conventional optical dispersion compensator.
【図12】従来型の周期的多層膜構造と単一共振器型多
層膜構造または結合共振器型多層膜構造における光パル
スの振る舞いの違いに関する説明図。FIG. 12 is an explanatory diagram showing a difference in behavior of an optical pulse between a conventional periodic multilayer film structure and a single resonator multilayer film structure or a coupled resonator multilayer film structure.
【図13】二つの共振器が結合した結合共振器型多層膜
光分散補償器に対する光パルスの過渡応答特性の計算結
果を示す図。FIG. 13 is a diagram showing a calculation result of a transient response characteristic of an optical pulse for a coupled resonator type multilayer optical dispersion compensator in which two resonators are coupled.
1…n型GaAs基板、2…スペーサ層、3…高屈折率層、
4…低屈折率層、5…周期的誘電体多層膜、6…半波長
低屈折率層、7…ARコート膜、8…光学窓、9…ブラッ
ググレーテイング層、10…フォトセンシテイブ光ファ
イバー、11…n型InP基板、12…n型高屈折率層、1
3…n型低屈折率層、14…n型誘電体多層膜、15…p
型変調ドープ圧縮歪み量子井戸層、16…共振器、17
…p型低屈折率層、18…p型高屈折率層、19…p型誘
電体多層膜、20…p側電極、21…n側電極、22…単
一共振器型光分散補償器、23…ミラー、24…ミラ
ー、25…可飽和吸収色素、26…ミラー、27…ミラ
ー、28…レーザ色素、29…ミラー、30…出力ミラ
ー、31…光分散補償器、32…半波長板、33…Arイ
オンレーザ、34…光ファイバー、35…光パルス、3
6…多段型光分散補償器、37…入射光スペクトル、3
8…入射光スペクトル、39…光ファイバー分散補償
器、40…回折格子分散補償器、41…誘電体多層膜分
散補償器、42…グレーテイング光ファイバー分散補償
器、43…分散の影響で拡がった入射光パルス、44…
透過光パルス、45…反射光パルス、46…周期的多層
膜光分散補償器、47…単一共振器または結合共振器型
多層膜光分散補償器、48…周波数チャープを受けた入
射光パルス、49…二つの共振器が結合した結合共振器
型多層膜光分散補償器、50…透過光パルス、51…反
射光パルス。1 ... n-type GaAs substrate, 2 ... spacer layer, 3 ... high refractive index layer,
4 Low refractive index layer 5 Periodic dielectric multilayer film 6 Half wavelength low refractive index layer 7 AR coating film 8 Optical window 9 Bragg grating layer 10 Photosensitive optical fiber , 11 ... n-type InP substrate, 12 ... n-type high refractive index layer, 1
3 ... n-type low refractive index layer, 14 ... n-type dielectric multilayer film, 15 ... p
-Type modulation-doped compression-strained quantum well layer, 16 ... resonator, 17
... p-type low refractive index layer, 18 ... p-type high refractive index layer, 19 ... p-type dielectric multilayer film, 20 ... p-side electrode, 21 ... n-side electrode, 22 ... single-cavity optical dispersion compensator, 23 mirror, 24 mirror, 25 saturable absorbing dye, 26 mirror, 27 mirror, 28 laser dye, 29 mirror, 30 output mirror, 31 optical dispersion compensator, 32 half-wave plate, 33: Ar ion laser, 34: Optical fiber, 35: Optical pulse, 3
6 ... multistage type optical dispersion compensator, 37 ... incident light spectrum, 3
8: Incident light spectrum, 39: Optical fiber dispersion compensator, 40: Diffraction grating dispersion compensator, 41: Dielectric multilayer film dispersion compensator, 42: Grating optical fiber dispersion compensator, 43: Incident light spread due to the influence of dispersion Pulse, 44 ...
Transmitted light pulse, 45: reflected light pulse, 46: periodic multilayer optical dispersion compensator, 47: single-cavity or coupled-cavity multilayer optical dispersion compensator, 48: incident optical pulse subjected to frequency chirp, 49: coupled resonator type multilayer optical dispersion compensator in which two resonators are coupled; 50: transmitted light pulse; 51: reflected light pulse.
Claims (8)
を有する光パルスに生じる該光パルスの群速度の波長依
存性(分散)によるパルス時間幅の拡がりや波形劣化を
誘電体多層膜からなる共振器を透過させることにより補
償することを特徴とする光分散補償器。1. An optical pulse having a time width of 100 femtoseconds to 10 picoseconds, which is formed of a dielectric multi-layer film. An optical dispersion compensator characterized in that compensation is performed by transmitting the light through a resonator.
よりも屈折率の大きな第2誘電体を周期的に積層してな
る第1誘電体領域と、第3誘電体と該第3誘電体よりも
屈折率の大きな第4誘電体を周期的に積層してなる第2
誘電体領域と、上記第2誘電体と第4誘電体よりも屈折
率の小さな第5誘電体からなる第3誘電体領域とを、該
第3誘電体領域が該第1誘電体領域と該第2誘電体領域
との間に挟まれ且つ上記第2誘電体と上記第4誘電体が
該第3誘電体領域に接するように構成され、該共振器に
入射する上記光パルスのスペクトル幅が上記第1、第2
及び第3誘電体領域から構成される共振器の共振点を含
む高反射領域に隣接する透過領域内に存在していること
を特徴とする請求項1記載の光分散補償器。2. The resonator according to claim 1, wherein the resonator includes a first dielectric region formed by periodically stacking a first dielectric and a second dielectric having a higher refractive index than the first dielectric, and a third dielectric. A second dielectric material having a fourth dielectric material having a refractive index larger than that of the third dielectric material and being periodically laminated;
A dielectric region, a third dielectric region made of a fifth dielectric having a lower refractive index than the second dielectric and the fourth dielectric, and the third dielectric region is made up of the first dielectric region and the third dielectric region. The second dielectric and the fourth dielectric are sandwiched between the second dielectric regions, and the second dielectric and the fourth dielectric are configured to contact the third dielectric region. The above first and second
2. The optical dispersion compensator according to claim 1, wherein the optical dispersion compensator exists in a transmission region adjacent to a high reflection region including a resonance point of the resonator formed of the third dielectric region.
よりも屈折率の大きな第2誘電体を周 期的に積層して
なる第1誘電体領域と、第3誘電体と該第3誘電体より
も屈折率の大きな第4誘電体を周期的に積層してなる第
2誘電体領域と、上記第2誘電体と第4誘電体よりも屈
折率の大きな第5誘電体からなる第3誘電体領域とを、
該第3誘電体領域が該第1誘電体領域と該第2誘電体領
域との間に挟まれ且つ上記第1誘電体と上記第3誘電体
が該第3誘電体領域に接するように構成され、該共振器
に入射する上記光パルスのスペクトル幅が上記第1、第
2及び第3誘電体領域から構成される共振器の共振点を
含む高反射領域に隣接する透過領域内に存在しているこ
とを特徴とする請求項1記載の光分散補償器。3. The resonator according to claim 1, wherein the resonator includes a first dielectric region formed by periodically laminating a first dielectric and a second dielectric having a higher refractive index than the first dielectric; And a second dielectric region formed by periodically laminating a fourth dielectric having a higher refractive index than the third dielectric, and a fifth dielectric having a higher refractive index than the second dielectric and the fourth dielectric. A third dielectric region comprising a body,
The third dielectric region is sandwiched between the first dielectric region and the second dielectric region, and the first dielectric and the third dielectric are in contact with the third dielectric region. Wherein the spectral width of the light pulse incident on the resonator exists in a transmission region adjacent to a high reflection region including a resonance point of the resonator composed of the first, second, and third dielectric regions. The optical dispersion compensator according to claim 1, wherein
列に複数結合させた結合型共振器構造を有し、該結合型
共振器構造に入射する上記光パルスのスペクトル幅が該
結合型共振器構造の複数の共振点を含む高反射領域に隣
接する透過領域内に存在していることを特徴とする請求
項1記載の光分散補償器。4. A coupled resonator structure in which a plurality of resonators according to claim 2 or 3 are coupled in series, and the spectral width of the light pulse incident on the coupled resonator structure is equal to 2. The optical dispersion compensator according to claim 1, wherein the optical dispersion compensator exists in a transmission region adjacent to a high reflection region including a plurality of resonance points of the coupled resonator structure.
補償器を多段に結合させて構成されることを特徴とする
光分散補償器。5. An optical dispersion compensator comprising a plurality of optical dispersion compensators according to claim 1 coupled in multiple stages.
かに記載の光分散補償器から構成されることを特徴とす
る光パルス発生装置。6. An optical pulse generator comprising a short pulse laser and the optical dispersion compensator according to claim 1.
として用いたことを特徴とする光通信システム。7. An optical communication system using the optical pulse generator according to claim 6 as a light source.
補償器を光パルス波形の整形素子として用いた光中継回
路を有する光通信システム。8. An optical communication system having an optical repeater circuit using the optical dispersion compensator according to claim 1 as an optical pulse waveform shaping element.
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