JPH1046336A - Sputtering device - Google Patents
Sputtering deviceInfo
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- JPH1046336A JPH1046336A JP19911996A JP19911996A JPH1046336A JP H1046336 A JPH1046336 A JP H1046336A JP 19911996 A JP19911996 A JP 19911996A JP 19911996 A JP19911996 A JP 19911996A JP H1046336 A JPH1046336 A JP H1046336A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film forming
- revolving shaft
- magnetic coupling
- film
- forming section
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、例えばＩＴＯ膜
やブラックマトリックス膜などのフラットパネルディス
プレイ用基板に非常に有用な成膜装置であり、均一厚み
でパーティクル発生が極めて少ない高品質の成膜製品が
得られる改良型の成膜装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a film forming apparatus which is very useful for a flat panel display substrate such as an ITO film or a black matrix film, and has a uniform thickness and extremely low particle generation. The present invention relates to an improved film forming apparatus capable of obtaining the following.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図４は、従来の成膜装置の要部断面図で
ある。図４において、１００は円筒状に形成された成膜
形成部であり、その上側縁部にガラス基板等の各種成膜
用基板９０がセットされたホルダー９１の引っかけ部９
２が掛けられて、多数枚の基板９０がその成膜形成部１
００の外周面上に配置されている。また、成膜形成部１
００の下側端面は車輪９３に当設するとともに、モータ
に接続する回転力伝達歯車９４が成膜形成部１００の下
方端縁部に形成された凹凸部９５に噛み合わされて、成
膜形成部１００がレール９７に沿って配置された複数の
車輪９３上を回転移動するように構成されている。そし
て、所定の成膜条件下で、成膜形成部１００が例えば数
〜１０r.p.m.で回転して、成膜用基板９０上にＩＴＯ膜
やブラックマトリックス膜などの各種薄膜が形成される
ようになっている。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a sectional view of a main part of a conventional film forming apparatus. In FIG. 4, reference numeral 100 denotes a cylindrical film-forming portion, and a hook portion 9 of a holder 91 on which various film-forming substrates 90 such as a glass substrate are set at an upper edge thereof.
2 and a large number of substrates 90 are formed in the film forming section 1.
00 on the outer peripheral surface. In addition, the film forming unit 1
00 is attached to the wheel 93, and the rotational force transmission gear 94 connected to the motor is engaged with the uneven portion 95 formed on the lower edge of the film forming section 100, and the film forming section 100 is configured to rotate on a plurality of wheels 93 arranged along a rail 97. Then, under a predetermined film forming condition, the film forming unit 100 is rotated at, for example, several to 10 rpm so that various thin films such as an ITO film and a black matrix film are formed on the film forming substrate 90. Has become.
【０００３】図５は、上記図４における成膜形成部１０
０の回転機構を詳説する要部拡大図である。図５におい
て、成膜形成部１００を回転させるモータ９６の出力回
転軸が歯車９４に連結され、歯車９４は成膜部１００の
下方外周側に形成された凹凸部９５に噛み合わされ、成
膜形成部１００の下端面１００ａに金属製の車輪９３が
回転自在に接触配置されている。この車輪９３はレール
９７上に複数個が適宜間隔で設置されて、成膜形成部１
００をレール９７に沿って回転可能に支えるとともに、
成膜形成部１００の底部１００ｂの内周面側にベアリン
グ９８が歯車９４に対向して配置されて、成膜形成部１
００の回転時の横振れを抑えている。FIG. 5 shows a film forming section 10 shown in FIG.
FIG. 4 is an enlarged view of a main part, which details a zero rotation mechanism. In FIG. 5, an output rotation shaft of a motor 96 for rotating the film forming unit 100 is connected to a gear 94, and the gear 94 is meshed with an uneven portion 95 formed on the lower outer peripheral side of the film forming unit 100 to form a film. A metal wheel 93 is rotatably contacted with the lower end surface 100a of the portion 100. A plurality of the wheels 93 are provided on the rail 97 at appropriate intervals, and
00 is supported rotatably along the rail 97,
A bearing 98 is disposed on the inner peripheral surface side of the bottom portion 100b of the film forming unit 100 so as to face the gear 94, and the film forming unit 1
Lateral runout during rotation of 00 is suppressed.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の成
膜装置においては、成膜形成部１００を回転駆動させる
歯車９４と凹凸部９５との噛み合わせ部から、パーティ
クルと呼ばれる微小な破片が発生して、このパーティク
ルが基板９０上に成膜されるＩＴＯ膜やブラックマトリ
ックス膜などの各種薄膜中に混入してしまい、成膜品質
を著しく低下させるという問題がある。また、車輪９３
と成膜形成部の下端面１００ａおよびレール９７上面と
の接触による回転は動的な摩擦を伴うため、発塵等が多
く発生し、上記パーティクルの問題をさらに深刻化させ
ている。また、上記の歯車９４と凹凸部９５との噛み合
わせ部分、車輪９３とレール９７上面や成膜形成部下端
面１００ａとの接触部分等が摩減するに伴って、成膜形
成部１００の回転の真円度が低下してしまい、したがっ
て例えば成膜物質であるターゲット（図示省略）と基板
との間のスパッタ距離が変動し、均一な厚みの薄膜を形
成できないという問題がある。そこで、本発明の課題
は、パーティクル発生等が非常に少なく、したがって高
品質の薄膜が得られるとともに、成膜された薄膜の均一
厚みを確保し得る成膜装置を提供することである。However, in the above-mentioned conventional film forming apparatus, minute debris called particles are generated from the meshing portion between the gear 94 for driving the film forming section 100 and the uneven portion 95. Then, the particles are mixed into various thin films such as an ITO film and a black matrix film formed on the substrate 90, and there is a problem that the film formation quality is remarkably reduced. Also, wheels 93
The rotation caused by the contact between the film forming portion and the lower end surface 100a of the film formation portion and the upper surface of the rail 97 is accompanied by dynamic friction, so that a large amount of dust is generated and the problem of the particles is further increased. In addition, as the meshing portion between the gear 94 and the uneven portion 95 and the contact portion between the wheel 93 and the upper surface of the rail 97 or the lower end surface 100a of the film forming portion are worn down, the rotation of the film forming portion 100 is reduced. The roundness is reduced, so that, for example, a sputtering distance between a substrate (not shown), which is a film forming material, and a substrate varies, and there is a problem that a thin film having a uniform thickness cannot be formed. Therefore, an object of the present invention is to provide a film forming apparatus capable of obtaining a high-quality thin film with very little generation of particles and the like and ensuring a uniform thickness of the formed thin film.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決した本発
明の成膜装置は、基板上に各種材料を成膜する成膜装置
であって、基板が配置される成膜形成部と、成膜形成部
を回転させる回転機構と、成膜形成部を磁気浮上させる
磁気作用部とを備えたことを特徴とする。本発明によ
り、パーティクル発生が大幅に抑制されるので、高品質
の薄膜を工業的に容易に製作でき、その工業的有用性は
甚大である。また、回転力が磁気カップリングを介して
成膜形成部に伝達されるので、従来の噛み合わせ部のよ
うな著しい回転機構の摩減部を省略でき、成膜形成部の
回転の真円度が長期使用にわたって良好に維持されて均
一厚みの高品質薄膜を成膜できる。また、回転機構は摩
減し難いので回転機構の長寿命化を達成できる。According to the present invention, there is provided a film forming apparatus for forming various materials on a substrate, comprising: a film forming section on which the substrate is disposed; A rotating mechanism for rotating the film forming unit and a magnetic operating unit for magnetically levitating the film forming unit are provided. According to the present invention, since the generation of particles is greatly suppressed, a high-quality thin film can be easily manufactured industrially, and its industrial utility is enormous. In addition, since the rotational force is transmitted to the film forming section via the magnetic coupling, a remarkable rotating mechanism such as a conventional meshing section can be omitted, and the roundness of rotation of the film forming section can be reduced. Is maintained satisfactorily over a long period of time to form a high-quality thin film having a uniform thickness. Further, since the rotation mechanism is hard to be worn down, the life of the rotation mechanism can be extended.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】図１に本発明の成膜装置の一態様
を示す。図１において、１は円筒形に形成されてその鉛
直方向の中心軸位置に貫通穴を有する成膜形成部であ
る。そして、その貫通穴に回転軸２が通されて、回転軸
２と成膜形成部１とが固定され、回転軸２と一緒に成膜
形成部１が回転するようになっている。フレーム８は本
発明の磁気浮上式回転型成膜装置５０のスパッタ雰囲気
形成空間３１を構成するフレームであり、耐圧仕様とな
っている。フレーム８の貫通穴１０，１１を密閉してス
パッタ雰囲気形成空間３１を形成するために、隔壁２
５，２６がフレーム８の下側端面および上側端面中央部
に突起状に設けられている。この密閉構成によって、本
発明の成膜形成装置５０は、スパッタ雰囲気形成空間３
１に適宜の排気装置（図示せず）と、必要に応じて各種
のガス供給装置（図示せず）とが連結されて、その空間
３１を高真空度（例えば、１０-6Ｔｏｒｒ程度。）に排
気することができるし、さらに各種ガス雰囲気（例え
ば、Ｎ２，Ａｒ，Ｎｅ，Ｈ２等の１種以上。）にするこ
とが可能であり、所望の成膜条件に適合させてその空間
３１の雰囲気を設定することができる。また、フレーム
８の底部両端部に設置されたベース４，４でその全体を
支持するようになっている。また、フレーム８の鉛直方
向の中心軸位置に開けられた貫通穴１０，１１に、回転
軸２が通されるとともに、回転軸２とフレーム８とがベ
アリング５，６（例えば、セラミックス製のもの。）を
介して配置されている。このベアリング５，６によっ
て、回転軸２の回転時の横振れが抑制される。FIG. 1 shows an embodiment of a film forming apparatus according to the present invention. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a film-forming section which is formed in a cylindrical shape and has a through hole at a central axis position in the vertical direction. The rotating shaft 2 is passed through the through hole, the rotating shaft 2 and the film forming unit 1 are fixed, and the film forming unit 1 rotates together with the rotating shaft 2. The frame 8 is a frame constituting the sputtering atmosphere forming space 31 of the magnetic levitation type rotary film forming apparatus 50 of the present invention, and has a withstand voltage specification. In order to seal the through holes 10 and 11 of the frame 8 to form the sputtering atmosphere forming space 31,
Reference numerals 5 and 26 are provided in the lower end face and the upper end face center of the frame 8 in a projecting manner. With this closed configuration, the film forming apparatus 50 of the present invention can
1 is connected to an appropriate exhaust device (not shown) and various gas supply devices (not shown) as required, and the space 31 is made to have a high vacuum degree (for example, about 10 -6 Torr). It is possible to exhaust the gas into various atmospheres (for example, one or more of N2, Ar, Ne, H2, etc.), and adjust the space 31 in accordance with desired film forming conditions. Atmosphere can be set. Further, the entire frame 8 is supported by bases 4 and 4 installed at both ends of the bottom. The rotating shaft 2 is passed through through holes 10 and 11 formed in the vertical center axis position of the frame 8, and the rotating shaft 2 and the frame 8 are connected to bearings 5 and 6 (for example, those made of ceramics). .) Is arranged through. The bearings 5 and 6 suppress the lateral runout of the rotating shaft 2 during rotation.
【０００７】また、回転軸２の上端部は磁気カップリン
グ３の磁気結合側３ｂの貫通穴に嵌着固定されている。
磁気吸着側３ｂは中空円筒状の強磁性ヨーク３３の外周
面に永久磁石３２が貼着されて構成されている。磁気カ
ップリング３の駆動側３ａは、モータ７の出力回転軸７
ａが強磁性ヨーク３４の中心軸に設けた凹部３５に嵌着
固定され、ヨーク３４の内周面にリング状に永久磁石３
７が配置されている。モータ７は支持部材１３上に載置
されて、その出力回転軸７ａと一緒に磁気カップリング
３の駆動側３ａが回転し、その駆動側３ａの回転に追従
して磁気カップリング３の磁気結合側３ｂすなわち回転
軸２に回転力が付与されて、成膜形成部１を最適速度
（例えば、５r.p.m）で回転させるようになっている。
この回転機構は、磁気カップリング３の駆動側３ａと磁
気結合側３ｂとが隔壁２６を介して隔たっているため、
従来の回転機構のようなパーティクルを発生し難い。The upper end of the rotary shaft 2 is fitted and fixed in a through hole on the magnetic coupling side 3 b of the magnetic coupling 3.
The magnetic attraction side 3b is configured by adhering a permanent magnet 32 to an outer peripheral surface of a ferromagnetic yoke 33 having a hollow cylindrical shape. The drive side 3 a of the magnetic coupling 3 is connected to the output rotation shaft 7 of the motor 7.
a is fitted and fixed in a concave portion 35 provided on the center axis of the ferromagnetic yoke 34, and the permanent magnet 3 is formed in a ring shape on the inner peripheral surface of the yoke 34.
7 are arranged. The motor 7 is mounted on the support member 13, and the drive side 3a of the magnetic coupling 3 rotates together with the output rotation shaft 7a, and the magnetic coupling of the magnetic coupling 3 follows the rotation of the drive side 3a. A rotational force is applied to the side 3b, that is, the rotating shaft 2, and the film forming unit 1 is rotated at an optimum speed (for example, 5 rpm).
In this rotation mechanism, the driving side 3a and the magnetic coupling side 3b of the magnetic coupling 3 are separated via the partition wall 26.
Particles are unlikely to be generated as in a conventional rotating mechanism.
【０００８】図１の磁気カップリング３のＡ−Ａ線断面
図の一態様を図３に示す。図３において、磁気カップリ
ング３の磁気結合側３ｂには中心に回転軸２が嵌着固定
された中空円筒状ヨーク３３の外周面に、アークセグメ
ント状の永久磁石３２ａ〜３２ｆが配置されて半径方向
に合計６磁極が形成されている。また、エアギャップと
隔壁２６とを介して、磁気カップリング３の駆動側３ａ
にはヨーク３４の内周側にアークセグメント状の永久磁
石３７ａ〜３７ｆが配置されて半径方向に合計６磁極が
形成されている。FIG. 3 shows an embodiment of a cross-sectional view taken along the line AA of the magnetic coupling 3 in FIG. In FIG. 3, arc-segmented permanent magnets 32a to 32f are arranged on a magnetic coupling side 3b of the magnetic coupling 3 on the outer peripheral surface of a hollow cylindrical yoke 33 to which the rotating shaft 2 is fitted and fixed at the center. A total of six magnetic poles are formed in the direction. Further, the driving side 3a of the magnetic coupling 3 is connected via the air gap and the partition 26.
The arc segment-shaped permanent magnets 37a to 37f are arranged on the inner peripheral side of the yoke 34, and a total of six magnetic poles are formed in the radial direction.
【０００９】また、上記従来例と同様に、円筒状に形成
された成膜形成部１の上側端縁部にガラス基板等の各種
成膜用基板９０がセットされたホルダー９１の引っかけ
部９２が掛けられて、多数枚の基板９０がその成膜形成
部１の外周面に配置されている。そして、所定の成膜条
件下で、成膜形成部１が例えば数〜１０r.p.m.で回転し
て、成膜用基板９０上にＩＴＯ膜やブラックマトリック
ス膜などの各種薄膜が適宜の均一厚みで形成されるよう
になっている。In the same manner as in the above-mentioned conventional example, a hooking portion 92 of a holder 91 on which various film forming substrates 90 such as a glass substrate are set is formed on the upper edge of the film forming portion 1 formed in a cylindrical shape. The multiplicity of substrates 90 are placed on the outer peripheral surface of the film forming section 1. Then, under a predetermined film forming condition, the film forming unit 1 rotates at, for example, several to 10 rpm, and various thin films such as an ITO film and a black matrix film are formed on the film forming substrate 90 with an appropriate uniform thickness. Is formed.
【００１０】次に、本発明における磁気浮上の構成例を
説明する。図１のフレーム８内には、成膜形成部１を磁
気浮上させる磁気作用部として、回転軸２に固定されて
回転軸２と一緒に回転する内径側の吸引部１８と、フレ
ーム８に突設した保持部材９，９に固設された外径側の
吸引部２２とが設置されている。内径側吸引部１８は、
同一寸法で強磁性の中空円板状ヨーク１６と１７（例え
ば、ＳＳ４００製。）とがリング状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁
石１５（例えば、日立金属（株）製ＨＳ３７ＢＨ等で、
外径４５ｍｍ×内径３５ｍｍ×厚み１０ｍｍのもの。）
の両端面に接着されて、さらにヨーク１６，１７の中心
軸位置に形成された貫通穴に回転軸２が通されてこのヨ
−ク１６，１７と回転軸２とが固定されている。永久磁
石１５は厚み方向に着磁されて磁極Ｎ，Ｓが鉛直方向に
配置されている。外径側の吸引部２２は、同一寸法で中
空円筒状の強磁性ヨーク（例えば、ＳＳ４００製。）２
０，２１がリング状のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石１９（例え
ば、日立金属（株）製ＨＳ３７ＢＨ等で、外径１００ｍ
ｍ×内径６５ｍｍ×厚み１０ｍｍのもの。）の両端面に
接着されて、さらにヨーク２０の上端面が保持部材９，
９に接続されている。永久磁石１９も厚み方向に着磁さ
れているが、その磁極Ｎ，Ｓは、永久磁石１５の鉛直方
向の磁極と逆極性になっている。この構成によって、内
径側の上側ヨーク１６はＳ極になり、外径側の上側ヨー
ク２０はＮ極となる。また、内径側の下側ヨーク１７は
Ｎ極となり、外径側の下側ヨーク２１はＳ極となる。上
側ヨーク１６と２０との間、および下側ヨーク１７と２
１との間隔ｘが３ｍｍに設定されているので、この間隔
ｘを介して強力な磁気吸引力が吸引部２２と１８との間
に作用する。成膜条件下では、成膜形成部１は回転軸２
と一緒に磁気浮上状態で回転する必要があるが、この磁
気浮上力は間隔ｘを介してフレーム８に支持されている
吸引部２２が吸引部１８を強力に吸引することで与えら
れ、成膜形成部１の重量がキャンセルされる。ここで、
上記間隔ｘが０．０５〜１５ｍｍ、好ましくは０．２〜
５ｍｍの範囲に適宜設定されることが望ましい。すなわ
ち、０．０５ｍｍ未満では、成膜形成部１の回転が円滑
になり難く、１５ｍｍを越えると磁気吸引力が不足して
成膜形成部１を確実に磁気浮上させ難くなるからであ
る。Next, an example of a magnetic levitation structure according to the present invention will be described. In the frame 8 shown in FIG. 1, as a magnetic action part for magnetically levitating the film formation unit 1, a suction part 18 on the inner diameter side which is fixed to the rotation shaft 2 and rotates together with the rotation shaft 2, An outer diameter side suction portion 22 fixed to the provided holding members 9 and 9 is provided. The inner diameter side suction unit 18
The same size ferromagnetic hollow disk yokes 16 and 17 (for example, made of SS400) are ring-shaped Nd-Fe-B magnets 15 (for example, HS37BH manufactured by Hitachi Metals, Ltd.).
45mm outer diameter x 35mm inner diameter x 10mm thickness. )
The rotating shafts 2 are passed through through holes formed at the center axis positions of the yokes 16 and 17, and the yokes 16, 17 and the rotating shaft 2 are fixed. The permanent magnet 15 is magnetized in the thickness direction, and the magnetic poles N and S are arranged in the vertical direction. The outer diameter side suction portion 22 is a hollow cylindrical ferromagnetic yoke (for example, made of SS400) 2 having the same dimensions.
Reference numerals 0 and 21 denote ring-shaped Nd-Fe-B magnets 19 (for example, HS37BH manufactured by Hitachi Metals, Ltd.) having an outer diameter of 100 m.
mx 65 mm inner diameter x 10 mm thick. ), And the upper end surface of the yoke 20 is
9 is connected. The permanent magnet 19 is also magnetized in the thickness direction, but its magnetic poles N and S have polarities opposite to the vertical magnetic poles of the permanent magnet 15. With this configuration, the upper yoke 16 on the inner diameter side has an S pole, and the upper yoke 20 on the outer diameter side has an N pole. The lower yoke 17 on the inner diameter side has an N pole, and the lower yoke 21 on the outer diameter side has an S pole. Between the upper yokes 16 and 20, and the lower yokes 17 and 2
Since the distance x with respect to 1 is set to 3 mm, a strong magnetic attraction acts between the suction parts 22 and 18 via this distance x. Under the film forming conditions, the film forming unit 1 includes the rotating shaft 2
The magnetic levitation force is given by the suction part 22 supported by the frame 8 via the space x and strongly sucking the suction part 18. The weight of the forming part 1 is canceled. here,
The distance x is 0.05 to 15 mm, preferably 0.2 to
It is desirable that the distance be appropriately set within a range of 5 mm. That is, if the thickness is less than 0.05 mm, the rotation of the film formation unit 1 is difficult to be smooth, and if it exceeds 15 mm, the magnetic attraction force is insufficient and the film formation unit 1 is hardly magnetically levitated.
【００１１】また、フレーム８の外周側には、成膜形成
部１の回転軌道の同心円位置にスパッタ装置４０と加熱
装置３０とが適宜の成膜条件を満足するように配置され
て、基板９０上に各種材料を成膜することができる。上
記図１の構成によれば、成膜形成部１の回転機構が、吸
引部と回転軸と磁気カップリングとモータとで構成され
るため、従来のようなパーティクル発生が非常に少な
く、したがって基板９０上に成膜される薄膜中にパーテ
ィクルが混入することが抑制される。また、成膜形成部
１の回転機構には著しい摩減部がないので、成膜形成部
１の回転の真円度が使用とともに悪化することが抑制さ
れて、均一厚みの成膜製品を製作することができる。On the outer peripheral side of the frame 8, a sputtering device 40 and a heating device 30 are arranged at concentric positions of the rotation orbit of the film forming section 1 so as to satisfy appropriate film forming conditions. Various materials can be formed thereon. According to the configuration shown in FIG. 1, the rotating mechanism of the film forming unit 1 is composed of the suction unit, the rotating shaft, the magnetic coupling, and the motor. Particles are prevented from entering the thin film formed on the substrate 90. In addition, since the rotating mechanism of the film forming unit 1 does not have a remarkable wear portion, the roundness of rotation of the film forming unit 1 is suppressed from being deteriorated with use, and a film product having a uniform thickness is manufactured. can do.
【００１２】図２は本発明の成膜装置の他の態様を示す
図である。図２において、図１と同一符号部分は図１と
同一の構成部分である。図２では、ベアリング５，６に
代えて、回転軸２の下端部をピボット軸受け３６で受け
ることにより、成膜形成部１の回転時の横振れを抑えて
いる。この場合も、成膜形成部１は磁気浮上状態にある
ので、ピボット軸受け３６の受け面からのパーティクル
発生は非常に少なく抑えられている。FIG. 2 is a view showing another embodiment of the film forming apparatus of the present invention. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same components as those in FIG. In FIG. 2, instead of the bearings 5 and 6, the lower end of the rotating shaft 2 is received by the pivot bearing 36, thereby suppressing the lateral runout of the film forming unit 1 during rotation. Also in this case, since the film formation unit 1 is in the magnetic levitation state, the generation of particles from the receiving surface of the pivot bearing 36 is extremely reduced.
【００１３】[0013]
【発明の効果】上記の通り、本発明によれば、例えばＩ
ＴＯ膜やブラックマトリックス膜などのフラットパネル
ディスプレイ用基板に有用で、均一厚みでパーティクル
発生が非常に少ない成膜製品が得られる回転型の磁気浮
上式成膜装置を提供でき、その工業的価値は甚大であ
る。As described above, according to the present invention, for example, I
It is useful for flat panel display substrates such as TO film and black matrix film, and can provide a rotary magnetic levitation type film forming apparatus that can provide a film forming product with uniform thickness and extremely low particle generation. It is enormous.
【図１】本発明の成膜装置の一態様を示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating one embodiment of a film forming apparatus of the present invention.
【図２】本発明の成膜装置の他の態様を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing another embodiment of the film forming apparatus of the present invention.
【図３】図１のＡ−Ａ線断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG. 1;
【図４】従来の成膜装置を示す図である。FIG. 4 is a view showing a conventional film forming apparatus.
【図５】図４の要部拡大図である。FIG. 5 is an enlarged view of a main part of FIG. 4;
１ 成膜形成部、２ 回転軸、３ 磁気カップリング、
４ ベース、５，６ ベアリング、７ モータ、８ フ
レーム、９，１３ 保持部材、１０，１１ 貫通穴、１
５，１９，３２，３７ 永久磁石、１６，１７，２０，
２１，３３，３４ ヨーク、１８，２２ 磁気作用部、
２５，２６ 隔壁、３０ 加熱装置、３１ 雰囲気形成
空間、３６ ピボット、 ４０ スパッタ装置、５０，
６０ 成膜装置、９０ 基板、９１ ホルダー、 ９２
ひっかけ部、９３ 車輪、９４ 歯車、９５ 凹凸
部、モータ ９６、レール ９７、ベアリング ９８、１００ 成膜
形成部、１００ａ 端面、１００ｂ 底部1 film forming unit, 2 rotating shaft, 3 magnetic coupling,
4 Base, 5, 6 Bearing, 7 Motor, 8 Frame, 9, 13 Holding member, 10, 11 Through hole, 1
5, 19, 32, 37 permanent magnets, 16, 17, 20,
21, 33, 34 yoke, 18, 22 magnetic action part,
25, 26 partition, 30 heating device, 31 atmosphere forming space, 36 pivot, 40 sputtering device, 50,
60 film forming apparatus, 90 substrate, 91 holder, 92
Hook, 93 wheels, 94 gears, 95 irregularities, motor 96, rails 97, bearings 98, 100 film formation unit, 100a end face, 100b bottom
Claims (2)
あって、基板が配置される成膜形成部と、成膜形成部を
回転させる回転機構と、成膜形成部を磁気浮上させる磁
気作用部とを備えたことを特徴とする成膜装置。1. A film forming apparatus for forming various materials on a substrate, comprising: a film forming section on which the substrate is disposed; a rotating mechanism for rotating the film forming section; A film forming apparatus, comprising: a magnetic operating section for causing the film to be formed.
成されることを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。2. The film forming apparatus according to claim 1, wherein the rotation mechanism includes a magnetic coupling.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19911996A JPH1046336A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Sputtering device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19911996A JPH1046336A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Sputtering device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1046336A true JPH1046336A (en) | 1998-02-17 |
Family
ID=16402462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19911996A Pending JPH1046336A (en) | 1996-07-29 | 1996-07-29 | Sputtering device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1046336A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005068449A (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Japan Science & Technology Agency | Laser ablation film-forming apparatus provided with high-speed rotating blade type filter |
| JP2008013849A (en) * | 2006-06-22 | 2008-01-24 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vacuum coating installation with transport roller for planar substrate |
| US9246377B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-01-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for transferring substrate |
| CN106661725A (en) * | 2014-06-12 | 2017-05-10 | 深圳市大富精工有限公司 | Vacuum coating device |
| CN107287574A (en) * | 2017-08-09 | 2017-10-24 | 光驰科技(上海)有限公司 | A kind of universal type basal plate frame and its application process |
-
1996
- 1996-07-29 JP JP19911996A patent/JPH1046336A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005068449A (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Japan Science & Technology Agency | Laser ablation film-forming apparatus provided with high-speed rotating blade type filter |
| JP2008013849A (en) * | 2006-06-22 | 2008-01-24 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vacuum coating installation with transport roller for planar substrate |
| US9246377B2 (en) | 2013-12-30 | 2016-01-26 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for transferring substrate |
| CN106661725A (en) * | 2014-06-12 | 2017-05-10 | 深圳市大富精工有限公司 | Vacuum coating device |
| CN106661725B (en) * | 2014-06-12 | 2019-05-21 | 深圳市大富精工有限公司 | A kind of vacuum coating equipment |
| CN107287574A (en) * | 2017-08-09 | 2017-10-24 | 光驰科技(上海)有限公司 | A kind of universal type basal plate frame and its application process |
| CN107287574B (en) * | 2017-08-09 | 2023-03-28 | 光驰科技(上海)有限公司 | Universal substrate frame and application method thereof |
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