JPH1045906A - Lowly hygroscopic glycidyloxy-containing aromatic polyamide resin - Google Patents

Lowly hygroscopic glycidyloxy-containing aromatic polyamide resin

Info

Publication number
JPH1045906A
JPH1045906A JP20553896A JP20553896A JPH1045906A JP H1045906 A JPH1045906 A JP H1045906A JP 20553896 A JP20553896 A JP 20553896A JP 20553896 A JP20553896 A JP 20553896A JP H1045906 A JPH1045906 A JP H1045906A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
aromatic polyamide
resin
group
containing aromatic
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20553896A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP3574712B2 (en
Inventor
Tadashi Kiyohara
紀 清原
Tomohiro Taruishi
智宏 樽石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tomoegawa Paper Co Ltd filed Critical Tomoegawa Paper Co Ltd
Priority to JP20553896A priority Critical patent/JP3574712B2/en
Publication of JPH1045906A publication Critical patent/JPH1045906A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3574712B2 publication Critical patent/JP3574712B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polyamides (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a glycidyloxy-containing aromatic polyamide resin having excellent heat resistance, mechanical characteristics, adhesiveness, solvent solubility and low hygroscopicity and ready for a crosslinking reaction by forming a resin comprising a plurality of types of specified repeating units and having a specified inherent viscosity. SOLUTION: This resin comprises 5-95mol% repeating units represented by formula I and 95-5mol% repeating units represented by formulas II and III, having a molar fraction of repeating units represented by formula II to the total of repeating units represented by formulas II and III of 50-100% and having an inherent viscosity of 0.1-3.0dl/g. In the formulas, R<1> is tetrafluorophenylene or a divalent decafluorocyclohexane group; and R<2> is a group represented by any one of formulas IV to VI [wherein R is a direct bond, C(CF3 )2 or a group represented by formula VII; and R<3> is H, CH3 or CF3 , provided that it is CF3 when R is a direct bond]. This resin is satisfactory in low permittivity, high transparency, low refractivity, stainproofing properties, water repellency, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、低吸湿性グリシジ
ルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂に関し、さらに詳
しくは、フッ素原子を導入して低吸湿化を計った新規な
グリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a low-hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin, and more particularly, to a novel glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin having a low hygroscopic property by introducing a fluorine atom. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】芳香族ポリアミド樹脂は、ポリイミド樹
脂に次ぐ耐熱性の優れた樹脂であるばかりでなく、その
優れた力学的特性を有する樹脂であり、エンジニアリン
グプラスチックス、特にアラミド繊維として広く使用さ
れている。しかしながら、この芳香族ポリアミド樹脂
は、溶剤溶解性が悪いために加工が制限され、その優れ
た力学的特性を有しているにも拘らず、その応用が制限
されている。しかしながらその加工性も新しいポリアミ
ドの合成法の開発や、溶剤溶解性を促す極性基を持つモ
ノマー類や嵩高い構造のモノマー類の開発により、溶剤
溶解性の優れた芳香族ポリアミド樹脂の製造が可能にな
ってきており、その応用分野が開けつつある。特に、他
樹脂との複合化や変性が可能な反応性芳香族ポリアミド
樹脂は、機能性高分子材料としてばかりでなく、耐熱性
向上剤または接着向上剤等としても注目され、更なる応
用の展開が基体されている。
2. Description of the Related Art Aromatic polyamide resins are not only resins having excellent heat resistance next to polyimide resins, but also resins having excellent mechanical properties, and are widely used as engineering plastics, especially as aramid fibers. ing. However, processing of this aromatic polyamide resin is limited due to poor solvent solubility, and its application is limited despite its excellent mechanical properties. However, due to the development of a new polyamide synthesis method and the development of monomers having polar groups and bulky structures that promote solvent solubility, it is possible to produce aromatic polyamide resins with excellent solvent solubility. And its application fields are opening up. In particular, reactive aromatic polyamide resins that can be complexed and modified with other resins are attracting attention not only as functional polymer materials but also as heat resistance improvers or adhesion improvers, and further development of applications Is a substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たように、耐熱性、力学特性、接着性、溶剤溶解性が優
れ、かつ反応性に富んだ芳香族ポリアミド樹脂において
は、その樹脂中に含まれるアミド結合による吸湿性が高
く、その特性から広い応用分野が期待されている電子部
品用材料として使用できないという問題が発生してい
る。この問題を解決するために、低吸湿性であるフッ素
原子を導入することが提案されているが、十分な吸湿性
を得るためには、多量のフッ素原子を有するモノマー類
を使用して製造することが必要となるので、その結果、
極性が低いフッ素原子により、得られる芳香族ポリアミ
ド樹脂の接着性が悪くなり、本来の目的に使用すること
ができないという問題があった。
However, as described above, aromatic polyamide resins which are excellent in heat resistance, mechanical properties, adhesiveness and solvent solubility and are highly reactive, are contained in the resins. Due to its high hygroscopicity due to the amide bond, there is a problem that it cannot be used as a material for electronic parts, which is expected to have a wide application field due to its characteristics. In order to solve this problem, it has been proposed to introduce a fluorine atom which has low hygroscopicity, but in order to obtain sufficient hygroscopicity, it is manufactured using a monomer having a large amount of fluorine atoms. As a result,
Due to the fluorine atom having a low polarity, the resulting aromatic polyamide resin has a problem that the adhesiveness of the obtained aromatic polyamide resin is deteriorated and the aromatic polyamide resin cannot be used for its intended purpose.

【0004】したがって、本発明は、上記のような実情
に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、芳香
族ポリアミド樹脂の優れた耐熱性、力学特性、接着性お
よび溶剤溶解性を持ちながら、低吸湿性であるという性
質を併せ有する芳香族ポリアミド樹脂を提供することに
ある。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an aromatic polyamide resin with excellent heat resistance, mechanical properties, adhesiveness, and solvent solubility. An object of the present invention is to provide an aromatic polyamide resin having the property of having low hygroscopicity while having the same.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記従来の
問題点について鋭意研究を重ねた結果、芳香族ジカルボ
ン酸と芳香族ジアミンとを重縮合させて芳香族ポリアミ
ド樹脂を製造するに際して、この芳香族ジアミンをフッ
素原子を有する特定の芳香族ジアミン成分とし、芳香族
ジカルボン酸成分として、所定量のフェノール性水酸基
を有するカルボン酸とフッ素原子置換シクロヘキサン型
またはフェニル型ジカルボン酸との混合ジカルボン酸成
分と使用し、フッ素原子およびフェノール性水酸基を含
有する芳香族ポリアミド樹脂を製造した後、フェノール
性水酸基をエピハロヒドリンでグリシジルエーテル化す
ることにより、上記の目的が達成される芳香族ポリアミ
ド樹脂が得られることを見出だし、本発明を完成するに
至った。
Means for Solving the Problems As a result of diligent studies on the above-mentioned conventional problems, the present inventors have found that when polycondensing an aromatic dicarboxylic acid and an aromatic diamine to produce an aromatic polyamide resin, This aromatic diamine is a specific aromatic diamine component having a fluorine atom, and as the aromatic dicarboxylic acid component, a mixed dicarboxylic acid of a predetermined amount of a carboxylic acid having a phenolic hydroxyl group and a fluorine atom-substituted cyclohexane type or phenyl type dicarboxylic acid Using the components, after producing an aromatic polyamide resin containing a fluorine atom and a phenolic hydroxyl group, by subjecting the phenolic hydroxyl group to glycidyl etherification with epihalohydrin, an aromatic polyamide resin achieving the above object is obtained. This led to the completion of the present invention.

【0006】すなわち、本発明の低吸湿性グリシジルオ
キシ基含有芳香族ポリアミド樹脂は、下記式(I)で示
される繰り返し単位を5〜95モル%と下記式(II−
1)および(II−2)で示される繰り返し単位95〜5
モル%とよりなり、かつ、式(II−1)で示される繰り
返し単位のモル分率が式(II−1)および式(II−2)
で示される繰り返し単位の合計に対して50〜100%
であり、固有粘度[η]が0.1〜3.0dl/gであ
ることを特徴とする。
That is, the aromatic polyamide resin having a low hygroscopicity of the glycidyloxy group of the present invention has a repeating unit represented by the following formula (I) in an amount of 5 to 95 mol% and the following formula (II-
Repeating units 95 to 5 represented by 1) and (II-2)
And the molar fraction of the repeating unit represented by the formula (II-1) is represented by the formula (II-1) or the formula (II-2).
50 to 100% of the total of repeating units represented by
Wherein the intrinsic viscosity [η] is 0.1 to 3.0 dl / g.

【0007】[0007]

【化4】 [式中、R1 は、テトラフルオロフェニレン基または二
価のデカフルオロシクロヘキサン基を表し、R2 は下記
式(1)、(2)または(3)で示される二価の基を表
わす。
Embedded image [In the formula, R 1 represents a tetrafluorophenylene group or a divalent decafluorocyclohexane group, and R 2 represents a divalent group represented by the following formula (1), (2) or (3).

【0008】[0008]

【化5】 (但し、Rは直接結合、−C(CF3 2 −またはEmbedded image (Where R is a direct bond, -C (CF 3 ) 2 -or

【化6】 を表し、R3 は水素原子、メチル基またはトリフルオロ
メチル基を表わすが、Rが直接結合の場合には、R3
トリフルオロメチル基を表す。)] ここで、固有粘度[η]は、オストワルド型粘度計で求
めた固有粘度値であり、下記式で定義される。なお、測
定は、30℃の条件で、濃度が0.5g/dlのジメチ
ルアセトアミド溶液中で行った。 [η]=(1/c)×ln(T1 /T0 ) (ここで、T1 :樹脂溶液の落下時間(s)、T0 :溶
媒の落下時間(s)、c:樹脂溶液の濃度(g/d
l))
Embedded image And R 3 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. When R is a direct bond, R 3 represents a trifluoromethyl group. Here, the intrinsic viscosity [η] is an intrinsic viscosity value obtained by an Ostwald viscometer and is defined by the following equation. The measurement was performed in a dimethylacetamide solution having a concentration of 0.5 g / dl at 30 ° C. [Η] = (1 / c) × ln (T 1 / T 0 ) (where T 1 : fall time of resin solution (s), T 0 : fall time of solvent (s), c: resin solution Concentration (g / d
l))

【0009】本発明の上記した繰り返し単位よりなるグ
リシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂は、低吸湿
性であるばかりでなく、溶剤溶解性に優れ、加工性に富
み、また、常温架橋、熱架橋、または光架橋が可能であ
り、接着性のみならず耐熱性にも優れた樹脂である。更
には、他樹脂や化合物との複合化が容易であり、目的に
応じた複合化を容易に実施できるという特徴を有してい
る。
The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin comprising the above-mentioned repeating unit of the present invention has not only low hygroscopicity but also excellent solvent solubility, excellent processability, and room temperature crosslinking, thermal crosslinking, Alternatively, it is a resin that can be photocrosslinked and has excellent heat resistance as well as adhesiveness. Furthermore, it has a feature that it can be easily compounded with another resin or compound, and that compounding can be easily performed according to the purpose.

【0010】本発明の上記繰り返し単位を含有するグリ
シジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂は、種々の公
知の縮合反応を行うことによって容易に製造することが
できる。例えば、ナイロン塩法、酸クロリド法、活性エ
ステル化法、縮合剤を使用する直接法などが適用でき
る。しかしながら、本発明のように、グリシジルオキシ
基を有する芳香族ポリアミド樹脂の製造のためには、直
接法によって、フェノール性水酸基含有ジカルボン酸モ
ノマーの水酸基を保護することなしに芳香族ポリアミド
樹脂を合成することが可能な縮合剤の存在下にフェノー
ル性水酸基含有芳香族ポリアミドを合成し、さらにエピ
ハロヒドリンによってその水酸基をグリシジルエーテル
化する方法を採用するのが好ましい。直接法によってフ
ェノール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂を製造する
方法については、本発明者等の提案した米国特許第5,
342,895号に開示されている。
[0010] The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin containing the repeating unit of the present invention can be easily produced by performing various known condensation reactions. For example, a nylon salt method, an acid chloride method, an active esterification method, a direct method using a condensing agent, and the like can be applied. However, as in the present invention, for the production of an aromatic polyamide resin having a glycidyloxy group, an aromatic polyamide resin is synthesized by a direct method without protecting the hydroxyl group of a phenolic hydroxyl group-containing dicarboxylic acid monomer. It is preferable to adopt a method of synthesizing a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide in the presence of a condensing agent capable of conducting the reaction, and further glycidyl etherifying the hydroxyl group with epihalohydrin. A method for producing a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin by a direct method is described in U.S. Pat.
342,895.

【0011】まず、下記一般式(III )で示されるフェ
ノール性水酸基を有する芳香族ジカルボン酸5〜95モ
ル%および下記一般式(IV)で示されるフッ素置換ベン
ゼンジカルボン酸またはフッ素置換シクロヘキサンジカ
ルボン酸95〜5モル%を含有するジカルボン酸成分
と、少なくとも当量の下記一般式(V)で示されるフッ
素原子含有芳香族ジアミン成分とを、縮合剤の存在下で
直接重縮合させることによって、
First, 5-95 mol% of an aromatic dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group represented by the following general formula (III) and a fluorine-substituted benzenedicarboxylic acid or a fluorine-substituted cyclohexanedicarboxylic acid 95 represented by the following general formula (IV) By directly polycondensing a dicarboxylic acid component containing 5 mol% and at least an equivalent of a fluorine atom-containing aromatic diamine component represented by the following general formula (V) in the presence of a condensing agent:

【化7】 HOOC−R1 −COOH (IV) H2 N−R2 −NH2 (V) (式中、R1 およびR2 は、前記したと同意義を有す
る。) 下記式(I)で示される繰り返し単位および下記式(II
−2)で示される繰り返し単位を含有するフェノール性
水酸基有芳香族ポリアミド樹脂を合成する。
Embedded image HOOC-R 1 -COOH (IV) H 2 N—R 2 —NH 2 (V) (wherein, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.) A repetition represented by the following formula (I) Unit and the following formula (II
A phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin containing a repeating unit represented by -2) is synthesized.

【0012】[0012]

【化8】 (式中、R1 およびR2 は、前記したと同意義を有す
る。) 原料として使用される上記式(III )で示されるフェノ
ール性水酸基を有する芳香族ジカルボン酸としては、5
−ヒドロキシイソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル
酸、ヒドロキシテレフタル酸、2−ヒドロキシフタル
酸、3−ヒドロキシフタル酸等があげられる。本発明に
おいては、これらの複数を併用することも可能である。
Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.) As the aromatic dicarboxylic acid having a phenolic hydroxyl group represented by the above formula (III) used as a raw material, 5
-Hydroxyisophthalic acid, 4-hydroxyisophthalic acid, hydroxyterephthalic acid, 2-hydroxyphthalic acid, 3-hydroxyphthalic acid and the like. In the present invention, a plurality of these can be used in combination.

【0013】また、上記式(IV)で示されるフッ素置換
ベンゼンジカルボン酸またはフッ素置換シクロヘキサン
ジカルボン酸としては、テトラフルオロイソフタル酸、
テトラフルオロテレフタル酸、テトラフルオロフタル
酸、1,2−ジカルボキシデカフルオロシクロヘキサ
ン、1,3−ジカルボキシデカフルオロシクロヘキサ
ン、1,4−ジカルボキシデカフルオロシクロヘキサン
があげられる。本発明においては、これらの複数を併用
することも可能である。
The fluorine-substituted benzenedicarboxylic acid or the cyclohexanedicarboxylic acid represented by the above formula (IV) includes tetrafluoroisophthalic acid,
Examples thereof include tetrafluoroterephthalic acid, tetrafluorophthalic acid, 1,2-dicarboxydecafluorocyclohexane, 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane, and 1,4-dicarboxydecafluorocyclohexane. In the present invention, a plurality of these can be used in combination.

【0014】さらに、式(V)で示されるフッ素原子含
有芳香族ジアミン成分としては、例えば、2,2−ビス
(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミ
ノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフル
オロプロパン、4,4′−ジアミノ−2,2′−ジトリ
フルオロメタンビフェニル、4,4′−ジアミノオクタ
フルオロビフェニル、3,3′−ジアミノオクタフルオ
ロビフェニル、1,3−ジアミノテトラフルオロベンゼ
ン、1,2−ジアミノテトラフルオロベンゼン、1,4
−ジアミノテトラフルオロベンゼン等があげられるが、
これらに限定されるものではない。これらは単独または
複数併用して使用することができる。
Further, as the fluorine atom-containing aromatic diamine component represented by the formula (V), for example, 2,2-bis (3-amino-4-methylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4 -Amino-3-methylphenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 4,4 '-Diamino-2,2'-ditrifluoromethanebiphenyl, 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3'-diaminooctafluorobiphenyl, 1,3-diaminotetrafluorobenzene, 1,2-diaminotetrafluoro Benzene, 1,4
-Diaminotetrafluorobenzene and the like,
It is not limited to these. These can be used alone or in combination of two or more.

【0015】縮合剤としては、フェノール性水酸基を保
護することなく重縮合が行われるためのものとして、た
とえば、高分子化学会編「高分子機能材料シリーズ2
高分子の合成と反応」第183頁(1991年発行)に
記載されているものを使用することができるが、取扱い
易さおよびコスト等の面から、亜リン酸エステルとピリ
ジン誘導体との組み合わせからなる縮合剤が好ましく使
用できる。
Examples of the condensing agent include those for performing polycondensation without protecting the phenolic hydroxyl group.
Synthesis and Reaction of Polymers ”, page 183 (issued in 1991), but from the viewpoint of ease of handling and cost, a combination of a phosphite and a pyridine derivative can be used. Can be preferably used.

【0016】上記の重縮合反応は、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルアセトアミド、ピリジン、1,3−
ジメチル−2−イミダゾリジノン等で代表されるアミド
系溶媒中において、窒素などの不活性雰囲気下、室温〜
160℃の範囲で30分〜数時間撹拌することによって
行うことができる。この反応には、必要に応じて、安定
化剤として塩化リチウムや塩化カルシウム等を添加する
ことができる。
The above polycondensation reaction includes N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylacetamide, pyridine, 1,3-
In an amide solvent represented by dimethyl-2-imidazolidinone or the like, under an inert atmosphere such as nitrogen, at room temperature to
It can be carried out by stirring in a range of 160 ° C. for 30 minutes to several hours. In this reaction, if necessary, lithium chloride, calcium chloride, or the like can be added as a stabilizer.

【0017】次いで、上記のようにして得られたフェノ
ール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂をアルカリの存
在下で反応させてフェノール性水酸基をエピハロヒドリ
ンと反応させて、グリシジルオキシ基に変換し、上記式
(I)および式(II-1)で示される繰り返し単位を含む
本発明の上記グリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド
樹脂を得ることができる。
Next, the phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin obtained as described above is reacted in the presence of an alkali to react the phenolic hydroxyl group with epihalohydrin, thereby converting the phenolic hydroxyl group into a glycidyloxy group. The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention containing the repeating units represented by I) and formula (II-1) can be obtained.

【0018】上記のグリシジルオキシ化に使用されるエ
ピハロヒドリンとしては、例えば、エピクロロヒドリ
ン、エピブロモヒドリン、エピヨードヒドリンおよびこ
れらの組み合わせをあげることができる。
The epihalohydrin used for the above glycidyl oxylation includes, for example, epichlorohydrin, epibromohydrin, epiiodohydrin and a combination thereof.

【0019】グリシジルオキシ化反応に使用するアルカ
リとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム等
のアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化
物、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナ
トリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ヒ
ドラジン、ピリジン等が好ましいものとしてあげられ
る。その使用量は、樹脂に含有されているフェノール性
水酸基に対して当量であるのが好ましい。また、フェノ
ール性水酸基含有芳香族ポリアミド樹脂とエピハロヒド
リンとの反応は、フェノール性水酸基含有芳香族ポリア
ミド樹脂が可溶な溶媒、たとえば、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ジメチルアセトアミド、ピリジン等のアミド
系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶剤、アセ
トン等のケトン系溶剤中で、室温から120℃程度の温
度で、生成水を除去しながら行うことができる。
The alkali used for the glycidyl oxylation reaction includes alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide and the like, alkaline earth metal hydroxides, carbonates and the like. Preferred examples include sodium, sodium silicate, sodium metasilicate, tetramethylammonium hydroxide, hydrazine, pyridine and the like. The amount used is preferably equivalent to the phenolic hydroxyl group contained in the resin. The reaction between the phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin and epihalohydrin is carried out in a solvent in which the phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide resin is soluble, for example, an amide-based solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylacetamide, pyridine and the like. The reaction can be performed in an ether solvent such as tetrahydrofuran or a ketone solvent such as acetone at a temperature from room temperature to about 120 ° C. while removing generated water.

【0020】本発明において、エピハロヒドリンの使用
量は、フェノール性水酸基のグリシジルオキシ化反応の
反応率に大きく関与し、エピハロヒドリンの使用量を制
御することにより、反応率を変えることができる。本願
発明においては、樹脂に含有されるフェノール性水酸基
の少なくとも50モル%はグリシジルオキシ基に変換さ
せることが必要である。しかしながら、本願発明におい
て、エピハロヒドリンの使用量は、樹脂に含有されてい
るフェノール性水酸基に対して2〜10倍モルの範囲が
好ましく、それによりフェノール性水酸基を100%の
反応率でグリシジルオキシ基に変換することができる。
In the present invention, the amount of epihalohydrin used greatly affects the reaction rate of the glycidyloxylation reaction of the phenolic hydroxyl group, and the reaction rate can be changed by controlling the amount of epihalohydrin used. In the present invention, at least 50 mol% of the phenolic hydroxyl groups contained in the resin must be converted to glycidyloxy groups. However, in the present invention, the amount of the epihalohydrin used is preferably in the range of 2 to 10 times the mol of the phenolic hydroxyl group contained in the resin, whereby the phenolic hydroxyl group can be converted to the glycidyloxy group at a conversion of 100%. Can be converted.

【0021】また、本発明のグリシジルオキシ基含有芳
香族ポリアミド樹脂において、グリシジルオキシ基の含
有量は5〜95モル%の範囲が好ましい。グリシジルオ
キシ基の含有量が多ければ多いほど接着強度などの特性
向上をはかることができるが、吸湿性も増してくる。一
方、その含有量が少な過ぎると、吸湿性の改善がはから
れるが、接着特性が悪化する。したがって、上記の範囲
で適宜調節すればよい。 本発明において、上記のジカ
ルボン酸成分とジアミノ成分とは等モル量使用すれば、
平均重合度約2〜100の範囲の重合体を製造すること
ができるが、ジカルボン酸成分とジアミノ成分のいずれ
か一方を過剰に使用することにより、平均重合度を小さ
くすることができる。本発明のグリシジルオキシ基含有
芳香族ポリアミド樹脂においては、固有粘度[η](3
0℃における0.5g/dlのN,N−ジメチルアセト
アミド溶液で測定)が0.1〜3.0dl/gの範囲の
重合度のものであることが必要である。固有粘度が、
0.1dl/gよりも小さいと、十分な機械的特性を有
する膜を形成することが困難になる。また、3.0dl
/gよりも大きいと、重合度が高すぎ、溶剤溶解性が悪
くなるという問題が発生する。
In the glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention, the content of the glycidyloxy group is preferably in the range of 5 to 95 mol%. As the content of the glycidyloxy group increases, the properties such as adhesive strength can be improved, but the hygroscopicity also increases. On the other hand, if the content is too small, the hygroscopicity can be improved, but the adhesive properties deteriorate. Therefore, it may be appropriately adjusted within the above range. In the present invention, if the dicarboxylic acid component and the diamino component are used in equimolar amounts,
Although a polymer having an average degree of polymerization of about 2 to 100 can be produced, the average degree of polymerization can be reduced by using one of the dicarboxylic acid component and the diamino component in excess. In the glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention, the intrinsic viscosity [η] (3
(Measured with a 0.5 g / dl N, N-dimethylacetamide solution at 0 ° C.) must have a degree of polymerization in the range of 0.1 to 3.0 dl / g. The intrinsic viscosity is
If it is less than 0.1 dl / g, it becomes difficult to form a film having sufficient mechanical properties. 3.0 dl
If it is larger than / g, the degree of polymerization is too high, and the solubility of the solvent is deteriorated.

【0022】上記のようにして製造された本発明のグリ
シジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂は、硬化剤と
混合して硬化性樹脂組成物として使用されるが、混合さ
れる硬化剤としては、エポキシ基と反応して架橋結合を
形成するものであれば何如なるものでも使用することが
でき、例えば、アミノ系、ポリアミノアミド系、酸及び
酸無水物系、フェノール系、ユリア系、メラミン系、イ
ソシアネート系、メルカプタン系、塩基性活性水素化合
物、イミダゾール系、ルイス酸及びブレンステッド酸系
塩化合物等の硬化剤、さらに、潜在性硬化剤、光硬化剤
(光硬化開始剤及び光硬化触媒も含む)、等が使用でき
る。これらの具体例として、ビス(4−アミノフェニ
ル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)メタン、ビ
ス(3−アミノ−4−メチル−5−エチルフェニル)メ
タン、アルキル置換ビス(4−アミノフェニル)メタ
ン、1,5−ジアミノナフタレン、p−フェニレンジア
ミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミ
ン、2,6−ジクロロ−1,4−フェニレンジアミン、
1,3−ジ(p−アミノフェニル)プロパン、m−キシ
レンジアミン等の芳香族系アミン硬化剤、エチレンジア
ミン、ジエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミ
ン、ジエチルアミノプロピルアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、イソフォロンジアミン、ビス(4−アミノ−3
−メチルジシクロヘキシル)メタン、ポリメチレンジア
ミン、ポリエーテルジアミン等の脂肪族アミン系化合
物、脂肪酸とポリエチレンポリアミンとの加熱脱水反応
によって得られるポリアミノアミド系化合物、ドデシル
無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン
酸無水物等の脂肪族酸無水物、メチルテトラヒドロ無水
フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒ
ドロ無水フタル酸等の脂環式酸無水物、無水フタル酸、
無水トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
無水物、エチレングリコールビストリメリテート、グリ
セロールトリストリメリテート等の芳香族酸無水物、
2,2−ビス(3−ヒドロキシフェニル)プロパンおよ
びビスフェノールAに代表されるフェノール化合物やレ
ゾール型およびノボラック型のフェノール樹脂、アミノ
樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ジシアンジアミドに
代表される潜在性硬化剤、アジピン酸ジヒドラジンに代
表されるジヒドラジン類、2−メチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミ
ダゾール等のイミダゾール類、三フッ化ホウ素のモノエ
チルアミン、三フッ化ホウ素のピペリジン塩、トリフロ
ロメタンスルホン酸等のルイス酸およびブレンステッド
酸塩類、低分子ジメルカプタンとポリエポキシドとの付
加物、硫化水素とポリエポキシドとの反応物、メルカプ
トプロピオン酸またはメルカプトグリコール酸と多価ア
ルコールとのエステル等のポリメルカプタン類、イソシ
アネート類およびブロックイソシアネート類、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、2−エチ
ルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン等
の光硬化開始剤、ジアリルヨードニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロホスフェート、トリフェニルスルホニウムテトラフル
オロボレート、トリフェニルセレニウムヘキサフルオロ
ホスフェート、ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロ
アンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフル
オロアンチモネート等に代表される光硬化促進剤等、お
よびそれらと上記光硬化開始剤との組合わせ等の光硬化
剤があげられるが、本発明はこれらに限定されるもので
はないし、混合して使用することもできる。
The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention produced as described above is mixed with a curing agent to be used as a curable resin composition. Any compound can be used as long as it reacts with a group to form a cross-link, for example, amino, polyaminoamide, acid and acid anhydride, phenol, urea, melamine, and isocyanate Type, mercaptan type, basic active hydrogen compound, imidazole type, Lewis acid and Bronsted acid type salt compounds, etc., as well as latent curing agent, photocuring agent (including photocuring initiator and photocuring catalyst) , Etc. can be used. Specific examples thereof include bis (4-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) methane, bis (3-amino-4-methyl-5-ethylphenyl) methane, and alkyl-substituted bis (4-aminophenyl) Methane, 1,5-diaminonaphthalene, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, 2,6-dichloro-1,4-phenylenediamine,
Aromatic amine curing agents such as 1,3-di (p-aminophenyl) propane and m-xylenediamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, tetraethylenepentamine, diethylaminopropylamine, hexamethylenediamine, isophoronediamine, bis (4 -Amino-3
-Methyldicyclohexyl) aliphatic amine compounds such as methane, polymethylenediamine, polyetherdiamine, polyaminoamide compounds obtained by heating and dehydrating fatty acids with polyethylene polyamine, dodecyl succinic anhydride, polyadipic anhydride, polyazerine Aliphatic acid anhydrides such as aliphatic anhydrides such as acid anhydrides, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, and methylhexahydrophthalic anhydride; phthalic anhydride;
Aromatic acid anhydrides such as trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis trimellitate, glycerol tristrimellitate,
A phenolic compound represented by 2,2-bis (3-hydroxyphenyl) propane and bisphenol A, a latent curing agent represented by resol-type and novolak-type phenolic resins, an amino resin, a urea resin, a melamine resin, and dicyandiamide; Dihydrazines represented by dihydrazine adipate; 2-methylimidazole;
Imidazoles such as -ethyl-4-methylimidazole and 2-phenylimidazole, monoethylamines of boron trifluoride, piperidine salts of boron trifluoride, Lewis acids and Bronsted acid salts such as trifluoromethanesulfonic acid, low molecular Adducts of dimercaptan with polyepoxide, reactants of hydrogen sulfide with polyepoxide, polymercaptans such as esters of mercaptopropionic acid or mercaptoglycolic acid with polyhydric alcohols, isocyanates and blocked isocyanates, benzoin ethyl ether, benzyl Photocuring initiators such as methyl ketal, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, diallyliodonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium hexafluorophosphate, Photo-curing accelerators represented by triphenylsulfonium tetrafluoroborate, triphenylselenium hexafluorophosphate, diphenylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, and the like, and combinations of these with the photocuring initiator Examples thereof include a photocuring agent such as a combination, but the present invention is not limited to these, and they can be used as a mixture.

【0023】さらに、本発明におけるグリシジルオキシ
基含有芳香族ポリアミド樹脂と硬化剤とを反応させるた
めに必要に応じて使用される硬化促進剤としては、燐
系、例えば、トリフェニルホスフィン、およびまたは3
級アミン系、例えば、トリエチルアミン、トリエタノー
ルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7
−ウンデセン(DBU)、N,N−ジメチルベンジルア
ミン、1,1,3,3−テトラメチルグアニジン、2−
エチル−4−メチルイミダゾール、N−メチルピペラジ
ン等、ホウ素系、例えば、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセニウムテトラフェニルボ
レート等があげられる。
Further, as the curing accelerator optionally used for reacting the glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin with the curing agent in the present invention, phosphorus-based, for example, triphenylphosphine, and / or 3
Secondary amines such as triethylamine, triethanolamine, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7
-Undecene (DBU), N, N-dimethylbenzylamine, 1,1,3,3-tetramethylguanidine, 2-
Ethyl-4-methylimidazole, N-methylpiperazine and the like, and boron-based, for example, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] -7-undecenium tetraphenylborate and the like can be mentioned.

【0024】前記した本発明のグリシジルオキシ基含有
芳香族ポリアミド樹脂と硬化剤とよりなる硬化性樹脂組
成物は、それを反応させることによって硬化体を得るこ
とができる。グリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド
樹脂と硬化剤との配合比は、使用目的に応じて種々選択
することができ、本発明においては何等制限はないが、
一般には、95:5〜30:70の範囲で配合するのが
好ましい。これらの配合の仕方においても、本発明では
何等制限はないが、これらの材料を溶媒に溶解させて混
合して均一な混合体を得た後、脱溶媒を行うことによっ
て実施することができる。この混合に使用する溶媒とし
ては、アルコール系、ケトン系、エーテル系、アミド
系、塩素系、芳香族系等の単体および混合体があげられ
る。また、本発明の硬化性樹脂組成物を硬化させるため
には、何等制限はなく、加熱または光照射等が好ましく
使用できる。
The curable resin composition comprising the glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention and a curing agent can be cured to obtain a cured product. The mixing ratio of the glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin and the curing agent can be variously selected according to the purpose of use, and in the present invention, there is no limitation,
Generally, it is preferable to mix in the range of 95: 5 to 30:70. In the present invention, there is no limitation on the method of blending these materials. However, the method can be carried out by dissolving and mixing these materials in a solvent to obtain a uniform mixture, and then removing the solvent. Examples of the solvent used for this mixing include alcohols, ketones, ethers, amides, chlorines, aromatics, etc., and mixtures thereof. Further, in order to cure the curable resin composition of the present invention, there is no limitation, and heating, light irradiation, or the like can be preferably used.

【0025】さらに、本発明の硬化性樹脂組成物には、
必要に応じて、その他の添加剤を加えることができる。
例えば、天然ワックス類、合成ワックスおよび長鎖脂肪
族酸およびその金属塩類、酸アミド類、エステル類、パ
ラフィン類等の離型剤、シリコーンゴム、ニトリルゴ
ム、ブタジエンゴム、ポリシロキサン等の応力緩和剤、
塩素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロムベン
ゼン、三塩化アンチモン等の難燃剤、シラン系カップリ
ング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系
カップリング剤等のカップリング剤、溶融シリカ、結晶
性シリカ、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ガラスバル
ーン、タルク、アルミナ、ケイ酸カルシウム、炭酸カル
シウム、硫酸バリウム、マグネシア、窒化ケイ素、窒化
ホウ素、フェライト、希土コバルト、金、銀、ニッケ
ル、銅、亜鉛、鉛、鉄粉、酸化鉄、砂鉄等の金属粉、黒
鉛、カーボン等の無機質充填剤または導電性粒子、染料
や顔料等の着色剤、酸化安定剤、光安定剤、カップリン
グ剤、熱可塑性樹脂、応力緩和剤、エポキシ樹脂用の反
応希釈剤、耐湿向上剤、チキソトロピー付与剤、希釈
剤、消泡剤、その他の樹脂等を配合することができる。
Further, the curable resin composition of the present invention comprises
Other additives can be added as needed.
For example, release agents such as natural waxes, synthetic waxes and long-chain aliphatic acids and metal salts thereof, acid amides, esters, paraffins, etc., and stress relaxation agents such as silicone rubber, nitrile rubber, butadiene rubber, polysiloxane, etc. ,
Flame retardants such as chlorinated paraffin, bromotoluene, hexabromobenzene, and antimony trichloride; coupling agents such as silane-based coupling agents, titanate-based coupling agents, and aluminum-based coupling agents; fused silica; crystalline silica; and glass Flakes, glass beads, glass balloons, talc, alumina, calcium silicate, calcium carbonate, barium sulfate, magnesia, silicon nitride, boron nitride, ferrite, rare earth cobalt, gold, silver, nickel, copper, zinc, lead, iron powder Inorganic fillers or conductive particles such as metal powders such as iron oxide and iron sand, graphite and carbon, coloring agents such as dyes and pigments, oxidation stabilizers, light stabilizers, coupling agents, thermoplastic resins, stress relaxation agents , Reaction diluent for epoxy resin, moisture resistance improver, thixotropic agent, diluent, defoamer, other It can be blended butter, and the like.

【0026】本発明のグリシジルオキシ基含有芳香族ポ
リアミド樹脂およびそれを用いた硬化性樹脂組成物は、
容易に硬化体が製造でき、表面保護剤、被膜剤、結着
剤、シール剤、封止剤等に使用することにより、その有
用性が発揮される。さらに、電子機器用として、半導体
素子表面のコート材、樹脂封止剤、半導体素子と支持基
板とのダイボンデング剤、LSI実装基板用材料、含浸
ワニス、プリプレグ用バインダー樹脂、ハウジング材等
の用途に使用することができる。
The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin and the curable resin composition using the same according to the present invention are:
A cured product can be easily produced, and its usefulness is exhibited by using it as a surface protective agent, a coating agent, a binder, a sealant, a sealant, and the like. Furthermore, for electronic devices, it is used for coating materials for semiconductor elements, resin sealing agents, die bonding agents between semiconductor elements and supporting substrates, LSI mounting substrate materials, impregnated varnishes, prepreg binder resins, housing materials, etc. can do.

【0027】[0027]

【実施例】以下に、本発明をさらに詳細に具体的に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 メカニカルスタラー、冷却管、塩化カルシウム管、窒素
導入管を取り付けた1リットルの三口丸底フラスコに、
5−ヒドロキシイソフタル酸1.821g(10ミリモ
ル)、テトラフルオロイソフタル酸2.401g(10
ミリモル)、4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェ
ニル6.563g(20ミリモル)、塩化カルシウム
2.02g、塩化リチウム0.66g、N−メチル−2
−ピロリドン120ml、ピリジン6ml、亜リン酸ト
リフェニル12.41g(40ミリモル)を入れ、窒素
雰囲気下、120℃で4時間撹拌し、芳香族ポリアミド
の合成を行った。この反応溶液を水:メタノール(8:
2)混合液に導入し、ポリマーを析出させた。さらに、
この混合液により、ポリマーの洗浄を2回繰り返し、乾
燥して、フェノール性水酸基含有芳香族ポリアミドを得
た。
The present invention will be described below in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. Example 1 A 1-liter three-necked round-bottomed flask equipped with a mechanical stirrer, a cooling tube, a calcium chloride tube, and a nitrogen inlet tube was prepared.
1.821 g (10 mmol) of 5-hydroxyisophthalic acid and 2.401 g (1010 g) of tetrafluoroisophthalic acid
Mmol), 6.563 g (20 mmol) of 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl, 2.02 g of calcium chloride, 0.66 g of lithium chloride, N-methyl-2
-120 ml of pyrrolidone, 6 ml of pyridine, and 12.41 g (40 mmol) of triphenyl phosphite were added, and the mixture was stirred at 120 ° C for 4 hours under a nitrogen atmosphere to synthesize an aromatic polyamide. This reaction solution was mixed with water: methanol (8:
2) The mixture was introduced into the mixture to precipitate a polymer. further,
Washing of the polymer was repeated twice with this mixed liquid and dried to obtain a phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide.

【0028】得られたフェノール性水酸基含有芳香族ポ
リアミドを、ディーンスターク型水分定量器と還流冷却
管、メカニカルスタラーを取り付けた1リットルの三口
丸底フラスコに導入し、さらにジメチルアセトアミド1
60g、ベンゼン40g、水酸化ナトリウム1gを加え
て、100℃に加熱して生成する水が除去されるまで還
流させた後、反応容器を室温まで冷却し、ピリジン4g
を加え、さらに攪拌しながらエピクロルヒドリン3.5
g(40ミリモル)を加えた後、約12時間撹拌して反
応させた。反応液を4リットルの水浴に投入し、粗生成
物を得た。さらに、これを濾過して分離した後、水とメ
タノールの混合液(重量比1:1)で2回洗浄して、一
般式(II−1)で示される繰り返し単位が約50モル%
のグリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂を収率
92%で得た。この樹脂の固有粘度は0.68dl/g
であった(30℃、濃度:0.5g/dlのジメチルア
セトアミド溶液の粘度測定から求めた値。以下同様)。
The obtained phenolic hydroxyl group-containing aromatic polyamide was introduced into a 1-liter three-necked round-bottomed flask equipped with a Dean-Stark moisture meter, a reflux condenser, and a mechanical stirrer.
60 g, 40 g of benzene and 1 g of sodium hydroxide were added, and the mixture was heated to 100 ° C. and refluxed until water generated was removed. Then, the reaction vessel was cooled to room temperature, and 4 g of pyridine was added.
And then add epichlorohydrin 3.5 while stirring.
After adding g (40 mmol), the mixture was stirred and reacted for about 12 hours. The reaction solution was poured into a 4 liter water bath to obtain a crude product. Further, this was separated by filtration and washed twice with a mixed solution of water and methanol (weight ratio 1: 1) to give about 50 mol% of a repeating unit represented by the general formula (II-1).
Of a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin was obtained at a yield of 92%. The intrinsic viscosity of this resin is 0.68 dl / g
(A value obtained from a viscosity measurement of a dimethylacetamide solution having a concentration of 0.5 g / dl at 30 ° C .; the same applies hereinafter).

【0029】この樹脂の赤外分光スペクトル(PERK
IN ELMER 1600Series FTIR、
以下同様)は、845cm-1にC−Fの吸収が認めら
れ、また、アミド結合のカルボニルに対応する吸収が1
647cm-1に、グリシジルエーテルに対応する吸収が
約3020cm-1に観測され、得られた樹脂が本発明の
目的とする樹脂であることを確認した。
The infrared spectrum (PERK) of this resin
IN ELMER 1600Series FTIR,
The same applies hereinafter), the absorption of C—F was observed at 845 cm −1, and the absorption corresponding to the carbonyl of the amide bond was 1
At 647 cm -1 , absorption corresponding to glycidyl ether was observed at about 3020 cm -1 , confirming that the obtained resin was the object resin of the present invention.

【0030】この樹脂の吸湿率は、0.9%であった。
なお、吸湿率は、次のようにして求めた。すなわち、乾
燥剤を入れたデシケータ中に製造した樹脂を封入して、
質量変化がなくなった状態での質量を測定した後、Na
NO3 の飽和水溶液を封入したデシケータに導入して、
このデシケータ中に質量変化が起こらない状態になるま
で放置した後、質量を測定し、次式から求めた。 吸湿率=(吸湿した質量−乾燥した質量)/(乾燥した
質量)
The moisture absorption of this resin was 0.9%.
The moisture absorption was determined as follows. That is, the produced resin is sealed in a desiccator containing a desiccant,
After measuring the mass with no change in mass, Na
Introducing a saturated aqueous solution of NO 3 into a desiccator in which
After allowing the desiccator to stand until no change in mass occurred, the mass was measured and determined by the following equation. Moisture absorption = (moisture absorbed-dried mass) / (dry mass)

【0031】実施例2 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸10ミリモル、1,3−ジカ
ルボキシデカフルオロシクロヘキサン10ミリモル、お
よび4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル20
ミリモルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一
般式(II−1)で示される繰り返し単位が約50モル%
のグリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率91
%で得た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであ
った。C−F:863および986cm-1、C=0:1
644cm-1、グリシジルエーテル:約3020c
-1。また、この樹脂の固有粘度は0.68dl/gで
あり、吸湿率は0.9であった。
Example 2 As a dicarboxylic acid component and a diamine component as raw materials, 5
-Hydroxyisophthalic acid 10 mmol, 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane 10 mmol, and 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl 20
Except for using mmol, the repeating unit represented by the general formula (II-1) was prepared in the same manner as in Example 1 so that about 50 mol%
Of glycidyloxy group-containing aromatic polyamide in a yield of 91
%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 863 and 986 cm -1 , C = 0: 1
644 cm -1 , glycidyl ether: about 3020 c
m -1 . The intrinsic viscosity of this resin was 0.68 dl / g, and the moisture absorption was 0.9.

【0032】実施例3 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸18ミリモル、1,3−ジカ
ルボキシデカフルオロシクロヘキサン2ミリモル、およ
び4,4′−ジアミノオクタフルオロビフェニル20ミ
リモルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一般
式(II−1)で示される繰り返し単位が約90モル%の
グリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率90%
で得た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであっ
た。C−F:861および985cm-1、C=0:16
45cm-1、グリシジルエーテル:約3020cm-1
また、この樹脂の固有粘度は0.60dl/gであり、
吸湿率は1.2であった。
Example 3 As a dicarboxylic acid component and a diamine component as raw materials, 5
In the same manner as in Example 1, except that 18 mmol of hydroxyisophthalic acid, 2 mmol of 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane, and 20 mmol of 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl were used, the compound represented by the general formula (II- A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by 1) of about 90 mol% was obtained at a yield of 90%.
I got it. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 861 and 985 cm -1 , C = 0: 16
45cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1.
The intrinsic viscosity of this resin is 0.60 dl / g,
The moisture absorption was 1.2.

【0033】実施例4 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸10ミリモル、テトラフルオ
ロイソフタル酸10ミリモル、および4,4′−ジアミ
ノ−2,2′−ジトリフルオロメタンビフェニル20ミ
リモルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一般
式(II−1)で示される繰り返し単位が約50モル%の
グリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率91%
で得た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであっ
た。C−F:770および843cm-1、C=0:16
40cm-1、グリシジルエーテル:約3020cm-1
また、この樹脂の固有粘度は0.54dl/gであり、
吸湿率は1.3であった。
Example 4 As the raw material dicarboxylic acid component and diamine component, 5
In the same manner as in Example 1 except that 10 mmol of -hydroxyisophthalic acid, 10 mmol of tetrafluoroisophthalic acid, and 20 mmol of 4,4'-diamino-2,2'-ditrifluoromethanebiphenyl were used, the general formula ( A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by II-1) of about 50 mol% was obtained at a yield of 91%.
I got it. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 770 and 843 cm -1 , C = 0: 16
40cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1.
The intrinsic viscosity of this resin is 0.54 dl / g,
The moisture absorption was 1.3.

【0034】実施例5 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸1ミリモル、テトラフルオロ
イソフタル酸19ミリモル、および4,4′−ジアミノ
−2,2′−ジトリフルオロメタンビフェニル20ミリ
モルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一般式
(II−1)で示される繰り返し単位が約5モル%のグリ
シジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率93%で得
た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであった。
C−F:765および846cm-1、C=0:1639
cm-1、グリシジルエーテル:約3020cm-1。ま
た、この樹脂の固有粘度は0.56dl/gであり、吸
湿率は0.8であった。
Example 5 As the dicarboxylic acid component and the diamine component of the raw materials, 5
In the same manner as in Example 1, except that 1 mmol of -hydroxyisophthalic acid, 19 mmol of tetrafluoroisophthalic acid, and 20 mmol of 4,4'-diamino-2,2'-ditrifluoromethanebiphenyl were used, the general formula ( A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by II-1) of about 5 mol% was obtained at a yield of 93%. The observed values of the infrared spectrum were as follows.
CF: 765 and 846 cm -1 , C = 0: 1639
cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1. The intrinsic viscosity of this resin was 0.56 dl / g, and the moisture absorption was 0.8.

【0035】実施例6 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸2ミリモル、テトラフルオロ
イソフタル酸18ミリモル、および4,4′−ジアミノ
−2,2′−ジトリフルオロメタンビフェニル20ミリ
モルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一般式
(II−1)で示される繰り返し単位が約10モル%のグ
リシジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率90%で
得た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであっ
た。C−F:772および850cm-1、C=0:16
44cm-1、グリシジルエーテル:約3020cm-1
また、この樹脂の固有粘度は0.50dl/gであり、
吸湿率は1.0であった。
Example 6 As the raw material dicarboxylic acid component and diamine component, 5
In the same manner as in Example 1 except that 2 mmol of -hydroxyisophthalic acid, 18 mmol of tetrafluoroisophthalic acid and 20 mmol of 4,4'-diamino-2,2'-ditrifluoromethanebiphenyl were used, the general formula ( A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by II-1) of about 10 mol% was obtained at a yield of 90%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 772 and 850 cm -1 , C = 0: 16
44cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1.
The intrinsic viscosity of this resin is 0.50 dl / g,
The moisture absorption was 1.0.

【0036】実施例7 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、4
−ヒドロキシイソフタル酸10ミリモル、テトラフルオ
ロイソフタル酸10ミリモル、および2,2−ビス(4
−アミノ−3−メチルフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン20ミリモルを用いた以外は、実施例1と全く同じ方
法で一般式(II−1)で示される繰り返し単位が約50
モル%のグリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収
率91%で得た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通
りであった。C−F:765および840cm-1、C=
0:1640cm-1、グリシジルエーテル:約3020
cm-1。また、この樹脂の固有粘度は0.55dl/g
であり、吸湿率は1.3であった。
Example 7 As the dicarboxylic acid component and the diamine component as raw materials, 4
-Hydroxyisophthalic acid 10 mmol, tetrafluoroisophthalic acid 10 mmol, and 2,2-bis (4
-Amino-3-methylphenyl) hexafluoropropane was used in the same manner as in Example 1 except that the repeating unit represented by the general formula (II-1) was used in an amount of about 50.
A mole% of a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide was obtained in a yield of 91%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 765 and 840 cm -1 , C =
0: 1640 cm -1 , glycidyl ether: about 3020
cm -1 . The intrinsic viscosity of this resin is 0.55 dl / g
And the moisture absorption was 1.3.

【0037】実施例8 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、4
−ヒドロキシイソフタル酸10ミリモル、1,3−ジカ
ルボキシデカフルオロシクロヘキサン10ミリモル、お
よび2,2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)
ヘキサフルオロプロパン20ミリモルを用いた以外は、
実施例1と全く同じ方法で一般式(II−1)で示される
繰り返し単位が約50モル%のグリシジルオキシ基含有
芳香族ポリアミドを収率92%で得た。赤外分光スペク
トルの観測値は次の通りであった。C−F:761およ
び985cm-1、C=0:1645cm-1、グリシジル
エーテル:約3020cm-1。また、この樹脂の固有粘
度は0.54dl/gであり、吸湿率は1.2であっ
た。
Example 8 As the dicarboxylic acid component and the diamine component of the raw materials, 4
-Hydroxyisophthalic acid 10 mmol, 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane 10 mmol, and 2,2-bis (4-amino-3-methylphenyl)
Except for using 20 mmol of hexafluoropropane,
In exactly the same manner as in Example 1, a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by the general formula (II-1) of about 50 mol% was obtained at a yield of 92%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 761 and 985 cm -1 , C = 0: 1645 cm -1 , glycidyl ether: about 3020 cm -1 . The intrinsic viscosity of this resin was 0.54 dl / g, and the moisture absorption was 1.2.

【0038】実施例9 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、4
−ヒドロキシイソフタル酸4ミリモル、1,3−ジカル
ボキシデカフルオロシクロヘキサン16ミリモル、およ
び2,2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)ヘ
キサフルオロプロパン20ミリモルを用いた以外は、実
施例1と全く同じ方法で一般式(II−1)で示される繰
り返し単位が約20モル%のグリシジルオキシ基含有芳
香族ポリアミドを収率89%で得た。赤外分光スペクト
ルの観測値は次の通りであった。C−F:775および
981cm-1、C=0:1639cm-1、グリシジルエ
ーテル:約3020cm-1。また、この樹脂の固有粘度
は0.57dl/gであり、吸湿率は0.9であった。
Example 9 As the raw material dicarboxylic acid component and diamine component, 4
Example 1 with the exception that 4 mmol of hydroxyisophthalic acid, 16 mmol of 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane and 20 mmol of 2,2-bis (4-amino-3-methylphenyl) hexafluoropropane were used. By exactly the same method, a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by the general formula (II-1) of about 20 mol% was obtained at a yield of 89%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. C-F: 775 and 981cm -1, C = 0: 1639cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1. The intrinsic viscosity of this resin was 0.57 dl / g, and the moisture absorption was 0.9.

【0039】実施例10 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、4
−ヒドロキシイソフタル酸8ミリモル、1,3−ジカル
ボキシデカフルオロシクロヘキサン12ミリモル、およ
び2,2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)ヘ
キサフルオロプロパン20ミリモルを用いた以外は、実
施例1と全く同じ方法で一般式(II−1)で示される繰
り返し単位が約40モル%のグリシジルオキシ基含有芳
香族ポリアミドを収率90%で得た。赤外分光スペクト
ルの観測値は次の通りであった。C−F:770c
-1、C=0:1646cm-1、グリシジルエーテル:
約3020cm-1。また、この樹脂の固有粘度は0.5
8dl/gであり、吸湿率は1.0であった。
Example 10 As the raw material dicarboxylic acid component and diamine component, 4
Examples 1 and 2 except that 8 mmol of -hydroxyisophthalic acid, 12 mmol of 1,3-dicarboxydecafluorocyclohexane and 20 mmol of 2,2-bis (4-amino-3-methylphenyl) hexafluoropropane were used. By exactly the same method, a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by the general formula (II-1) of about 40 mol% was obtained at a yield of 90%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 770c
m -1 , C = 0: 1646 cm -1 , glycidyl ether:
About 3020 cm -1 . The intrinsic viscosity of this resin is 0.5
It was 8 dl / g and the moisture absorption was 1.0.

【0040】実施例11 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、3
−ヒドロキシフタル酸8ミリモル、1,4−ジカルボキ
シデカフルオロシクロヘキサン12ミリモル、および
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン20ミリモルを用いた以外
は、実施例1と全く同じ方法で一般式(II−1)で示さ
れる繰り返し単位が約40モル%のグリシジルオキシ基
含有芳香族ポリアミドを収率94%で得た。赤外分光ス
ペクトルの観測値は次の通りであった。C−F:774
および991cm-1、C=0:1646cm-1、グリシ
ジルエーテル:約3020cm-1。また、この樹脂の固
有粘度は0.55dl/gであり、吸湿率は1.3であ
った。
Example 11 As the dicarboxylic acid component and the diamine component of the raw materials, 3
Example 1 except that 8 mmol of -hydroxyphthalic acid, 12 mmol of 1,4-dicarboxydecafluorocyclohexane and 20 mmol of 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane were used. By exactly the same method as described above, a glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by the general formula (II-1) of about 40 mol% was obtained at a yield of 94%. The observed values of the infrared spectrum were as follows. CF: 774
And 991 cm -1 , C = 0: 1646 cm -1 , glycidyl ether: about 3020 cm -1 . The intrinsic viscosity of this resin was 0.55 dl / g, and the moisture absorption was 1.3.

【0041】実施例12 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、3
−ヒドロキシフタル酸10ミリモル、1,4−ジカルボ
キシデカフルオロシクロヘキサン10ミリモル、および
1,3−ジアミノテトラフルオロベンゼン20ミリモル
を用いた以外は、実施例1と全く同じ方法で一般式(II
−1)で示される繰り返し単位が約50モル%のグリシ
ジルオキシ基含有芳香族ポリアミドを収率89%で得
た。赤外分光スペクトルの観測値は次の通りであった。
C−F:845および980cm-1、C=0:1645
cm-1、グリシジルエーテル:約3020cm-1。ま
た、この樹脂の固有粘度は0.55dl/gであり、吸
湿率は0.9であった。
Example 12 As the dicarboxylic acid component and the diamine component of the raw materials, 3
-Hydroxyphthalic acid 10 mmol, 1,4-dicarboxydecafluorocyclohexane 10 mmol, and 1,3-diaminotetrafluorobenzene 20 mmol were used in the same manner as in Example 1 to obtain the compound represented by the general formula (II)
A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide having a repeating unit represented by -1) of about 50 mol% was obtained at a yield of 89%. The observed values of the infrared spectrum were as follows.
CF: 845 and 980 cm -1 , C = 0: 1645
cm -1, glycidyl ether: about 3020cm -1. The intrinsic viscosity of this resin was 0.55 dl / g, and the moisture absorption was 0.9.

【0042】実施例13 原料のジカルボン酸成分およびジアミン成分として、5
−ヒドロキシイソフタル酸10ミリモル、テトラフルオ
ロイソフタル酸10ミリモル、および4,4′−ジアミ
ノオクタフルオロビフェニル20ミリモルを用いた以外
は、実施例1と全く同じ方法でグリシジルオキシ基含有
芳香族ポリアミドを収率90%で得た。グリシジルオキ
シ基の付加率は90%であり、一般式(II−1)で示さ
れる繰り返し単位が約45モル%含有されているもので
あった。この樹脂の固有粘度は0.66dl/gであ
り、吸湿率は0.8であった。
Example 13 As a dicarboxylic acid component and a diamine component as raw materials, 5
A glycidyloxy group-containing aromatic polyamide was produced in exactly the same manner as in Example 1, except that 10 mmol of hydroxyisophthalic acid, 10 mmol of tetrafluoroisophthalic acid, and 20 mmol of 4,4'-diaminooctafluorobiphenyl were used. Obtained at 90%. The glycidyloxy group addition rate was 90%, and the content of the repeating unit represented by the general formula (II-1) was about 45 mol%. The intrinsic viscosity of this resin was 0.66 dl / g, and the moisture absorption was 0.8.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明のグリシジルオキシ基含有芳香族
ポリアミド樹脂は、多量のフッ素原子を含有するので、
優れた低吸湿性を有しており、また、耐熱性、力学特
性、接着性においても優れている。さらにグリシジルオ
キシ基を有しているために容易に架橋反応を行い、ま
た、他化合物と反応させることができる。さらにその架
橋も熱や光で行うことができるという利点がある。ま
た、本発明のグリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド
樹脂は、低吸湿性であるのみならず、低誘電性、高透明
性、低屈折性、防汚性、撥水性などに優れ、電子部品の
コーティング材、配線板材料、封止材、層間絶縁膜、光
学部材等として使用することができる。
The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention contains a large amount of fluorine atoms.
It has excellent low moisture absorption, and is also excellent in heat resistance, mechanical properties, and adhesiveness. Furthermore, since it has a glycidyloxy group, it can be easily crosslinked and reacted with other compounds. Further, there is an advantage that the crosslinking can be performed by heat or light. The glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin of the present invention is not only low in moisture absorption, but also excellent in low dielectric property, high transparency, low refractive index, antifouling property, water repellency, etc., and coating of electronic parts. It can be used as a material, wiring board material, sealing material, interlayer insulating film, optical member, and the like.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記式(I)で示される繰り返し単位を
5〜95モル%と下記式(II−1)および(II−2)で
示される繰り返し単位95〜5モル%とよりなり、か
つ、式(II−1)で示される繰り返し単位のモル分率が
式(II−1)および式(II−2)で示される繰り返し単
位の合計に対して50〜100%であり、固有粘度
[η]が0.1〜3.0dl/gであることを特徴とす
るグリシジルオキシ基含有芳香族ポリアミド樹脂。 【化1】 [式中、R1 は、テトラフルオロフェニレン基または二
価のデカフルオロシクロヘキサン基を表し、R2 は下記
式(1)、(2)または(3)で示される二価の基を表
わす。 【化2】 (但し、Rは直接結合、−C(CF3 2 −または 【化3】 を表し、R3 は水素原子、メチル基またはトリフルオロ
メチル基を表わすが、Rが直接結合の場合には、R3
トリフルオロメチル基を表す。)]
1. A composition comprising 5-95 mol% of a repeating unit represented by the following formula (I) and 95-5 mol% of a repeating unit represented by the following formulas (II-1) and (II-2); , The molar fraction of the repeating unit represented by the formula (II-1) is 50 to 100% based on the total of the repeating units represented by the formulas (II-1) and (II-2), and the intrinsic viscosity [ η] is 0.1 to 3.0 dl / g. Embedded image [In the formula, R 1 represents a tetrafluorophenylene group or a divalent decafluorocyclohexane group, and R 2 represents a divalent group represented by the following formula (1), (2) or (3). Embedded image (Where R is a direct bond, -C (CF 3 ) 2 -or And R 3 represents a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group. When R is a direct bond, R 3 represents a trifluoromethyl group. )]
JP20553896A 1996-08-05 1996-08-05 Low hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin Expired - Fee Related JP3574712B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20553896A JP3574712B2 (en) 1996-08-05 1996-08-05 Low hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20553896A JP3574712B2 (en) 1996-08-05 1996-08-05 Low hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1045906A true JPH1045906A (en) 1998-02-17
JP3574712B2 JP3574712B2 (en) 2004-10-06

Family

ID=16508557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20553896A Expired - Fee Related JP3574712B2 (en) 1996-08-05 1996-08-05 Low hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3574712B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005344005A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Toray Ind Inc Resin composition, relief pattern and optical element

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005344005A (en) * 2004-06-03 2005-12-15 Toray Ind Inc Resin composition, relief pattern and optical element

Also Published As

Publication number Publication date
JP3574712B2 (en) 2004-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5562574B2 (en) Thermally conductive adhesive
JP4735410B2 (en) Method for producing curing agent, and thermosetting resin composition using the same
TW202219116A (en) Isocyanate modified polyimide resin, resin composition and cured product thereof
CN101522747A (en) Modified liquid epoxy resin, epoxy resin composition using the same, and cured product thereof
Chen et al. Phosphinated poly (aryl ether) s with acetic/phenyl methacrylic/vinylbenzyl ether moieties for high-t g and low-dielectric thermosets
TW201002752A (en) Epoxy resin composition and molded object
WO2006068185A1 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured object obtained therefrom
TWI432487B (en) Flammable polyimide silicone resin composition
JP7185383B2 (en) Curable resin composition and its cured product
JP3404005B2 (en) Curing agent for use in epoxy resins
JP2909878B2 (en) Heat resistant resin composition
JP3574712B2 (en) Low hygroscopic glycidyloxy group-containing aromatic polyamide resin
WO1999067233A1 (en) Polyhydric phenols, epoxy resins, epoxy resin composition, and cured products thereof
JPH11116566A (en) Cyclic carbonate resin composition and its cured product
JP2001064339A (en) Phenolic resin, epoxy resin, thermosetting resin composition, and production of resin
JP5734603B2 (en) Phenolic resin, epoxy resin, production method thereof, epoxy resin composition and cured product
CN116670199A (en) Epoxy resin, method for producing same, curable resin composition, and cured product thereof
JP5207501B2 (en) Epoxy resin composition for optical material and cured product thereof
JP2005029720A (en) Aromatic polyamide resin, epoxy resin composition, and its cured product
WO1998010009A1 (en) Process for preparing polyimide-containing polyhydric phenol resin, epoxy resin composition comprising the same, and cured product thereof
JP3384937B2 (en) Epoxidized aromatic polyamide resin and curable resin composition containing the same
JP2021098836A (en) Phenoxy resin and use thereof
JP3995244B2 (en) Epoxy resin, method for producing epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP7230285B1 (en) Epoxy resin, curable resin composition, and cured product thereof
TWI837297B (en) Ester compounds, resin compositions, hardeners, and build-up films

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Effective date: 20040401

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20040629

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20040705

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080709

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 5

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090709

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 6

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100709

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110709

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees