JPH104322A - High frequency amplifier - Google Patents
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- JPH104322A JPH104322A JP15362096A JP15362096A JPH104322A JP H104322 A JPH104322 A JP H104322A JP 15362096 A JP15362096 A JP 15362096A JP 15362096 A JP15362096 A JP 15362096A JP H104322 A JPH104322 A JP H104322A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、無線通信装置に用
いられる高周波増幅器の小形化のための改良に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an improvement for miniaturizing a high-frequency amplifier used in a wireless communication device.
【0002】[0002]
【従来の技術】図2に、電界効果型トランジスタ(以
下、「FET」という)を2個用いた2段の高周波電力
増幅器の回路構成を示す。前段FET21aおよび後段
FET21bは、回路基板の同一面内(例えば、表面
側)に設けられている。高周波信号は入力整合回路22
aを通って前段FET21aへ入力される。前段FET
21aで増幅された高周波信号は段間整合回路22bを
通って後段FET21bに入力される。後段FET21
bでさらに増幅された高周波信号は出力側整合回路22
cを通って出力される。2. Description of the Related Art FIG. 2 shows a circuit configuration of a two-stage high frequency power amplifier using two field effect transistors (hereinafter referred to as "FET"). The front-stage FET 21a and the rear-stage FET 21b are provided in the same plane (for example, the front side) of the circuit board. The high frequency signal is input to the input matching circuit 22
is input to the front-stage FET 21a. Front stage FET
The high-frequency signal amplified by 21a is input to the subsequent-stage FET 21b through the interstage matching circuit 22b. Rear FET 21
b, the high-frequency signal further amplified by the output side matching circuit 22
output through c.
【0003】入力整合回路22a、段間整合回路22
b、および出力整合回路22cは、コイル、コンデンサ
ー、抵抗等の集中定数素子26a,26b,26cと信
号伝送線路25a,25b,25cで構成されている。
また、前段FET21aおよび後段FET21bに対し
てバイアス電圧を供給する供給するバイアス供給回路2
3a,23b、および、ドレイン電圧を供給するドレイ
ン電圧供給回路24a,24bが備えられている。これ
らの回路は、コイル、コンデンサー、抵抗などの集中定
数素子と電圧供給線路とで構成されている。[0003] Input matching circuit 22a, interstage matching circuit 22
b and the output matching circuit 22c are composed of lumped constant elements 26a, 26b, 26c such as coils, capacitors, and resistors, and signal transmission lines 25a, 25b, 25c.
Further, a bias supply circuit 2 for supplying a bias voltage to the first-stage FET 21a and the second-stage FET 21b.
3a and 23b, and drain voltage supply circuits 24a and 24b for supplying a drain voltage are provided. These circuits are composed of lumped constant elements such as coils, capacitors, and resistors, and voltage supply lines.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
高周波増幅器では、複数のFETおよびその周辺回路が
基板の同一面内に集中配置されていたので、基板の面積
が大きくなりやすく、小形化が困難であった。ちなみ
に、増幅対象の基本波長がλのとき、整合回路の線路長
は、通常λ/4を確保する必要がある。また、電力増幅
器の場合、線路幅が細いと伝送線路による電気的損失が
大きくなり、高周波の特性が悪化するので、ある程度の
線路幅を確保する必要もある。As described above, in the conventional high-frequency amplifier, since a plurality of FETs and their peripheral circuits are concentrated on the same plane of the substrate, the area of the substrate tends to increase, and Was difficult. Incidentally, when the fundamental wavelength to be amplified is λ, the line length of the matching circuit usually needs to ensure λ / 4. In the case of a power amplifier, if the line width is small, the electrical loss due to the transmission line increases, and the high-frequency characteristics deteriorate. Therefore, it is necessary to secure a certain line width.
【0005】本発明はこのような従来の問題点を解決し
て、占有面積の削減ひいては小形化に寄与する高周波増
幅器を提供することを目的とする。An object of the present invention is to solve such a conventional problem and to provide a high-frequency amplifier which contributes to reduction of the occupied area and downsizing.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明の高周波増幅器は、多層基板の表面側と裏面側
に少なくとも1個ずつトランジスタが配置され、前記多
層基板の複数の内層が抵抗素子、インダクタンス素子、
またはキャパシタンス素子を構成する薄膜材料の層とし
てパターン形成され、表面側のトランジスタと裏面側の
トランジスタとの間に介装される段間整合回路が前記多
層基板の複数の内層によって構成されていることを特徴
とする。According to the present invention, there is provided a high-frequency amplifier according to the present invention, wherein at least one transistor is disposed on each of a front surface and a rear surface of a multilayer substrate, and a plurality of inner layers of the multilayer substrate are formed of a resistor. Element, inductance element,
Alternatively, an inter-stage matching circuit that is patterned and formed as a layer of a thin film material forming a capacitance element and is interposed between a front-side transistor and a back-side transistor is configured by a plurality of inner layers of the multilayer substrate. It is characterized by.
【0007】さらに、信号入力端子と初段トランジスタ
との間に介装される入力整合回路や、最終段トランジス
タと信号出力端子との間に介装される出力整合回路も前
記多層基板の複数の内層によって構成されていることが
好ましい。Further, an input matching circuit interposed between the signal input terminal and the first-stage transistor and an output matching circuit interposed between the last-stage transistor and the signal output terminal also include a plurality of inner layers of the multilayer substrate. Is preferably constituted.
【0008】また、前記多層基板の表面側と裏面側とを
接続する線路が、前記複数の内層を順番に1回ずつ通過
するように形成されていてもよいし、前記複数の内層を
少なくとも部分的に複数回通過するように形成されてい
てもよい。前記整合回路の構成に不必要な抵抗素子、イ
ンダクタンス素子、またはキャパシタンス素子がある場
合は、それを構成する薄膜材料の層に、表面側と裏面側
とを接続する線路が接触せずに通過するように形成され
ていることも好ましい。In addition, a line connecting the front side and the back side of the multilayer substrate may be formed so as to pass through the plurality of inner layers one by one in order. It may be formed so as to pass a plurality of times. When there is an unnecessary resistance element, inductance element, or capacitance element in the configuration of the matching circuit, the line connecting the front side and the back side passes through the layer of the thin film material constituting the element without contacting the layer. It is also preferable that it is formed as follows.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図1に
基づいて説明する。図1は多層基板を用いて構成した2
段の高周波増幅器を模式的に示している。図1(a)は
基板の表面側の回路ブロック図であり、図1(c)は基
板の裏面側の回路ブロック図である。図1(b)は基板
の厚み方向に誇張して描いた断面模式図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. FIG. 1 shows a structure 2 using a multilayer substrate.
Fig. 2 schematically shows a high-frequency amplifier in a stage. FIG. 1A is a circuit block diagram on the front side of the substrate, and FIG. 1C is a circuit block diagram on the back side of the substrate. FIG. 1B is a schematic cross-sectional view exaggeratedly drawn in the thickness direction of the substrate.
【0010】基板の表面側および裏面側には回路パター
ンを形成するための導体層1,2が設けられ、内層には
インダクタンス素子、キャパシタンス素子、そして抵抗
素子を構成する薄膜材料の層3,4,5が絶縁層6〜9
を介して設けられている。Conductor layers 1 and 2 for forming a circuit pattern are provided on the front side and the back side of the substrate, and layers 3 and 4 of a thin film material constituting an inductance element, a capacitance element and a resistance element are provided in an inner layer. , 5 are insulating layers 6-9
Is provided via
【0011】基板の表面側導体層1には、初段FET1
0、入力整合回路11、バイアス供給回路12、および
ドレイン電圧供給回路13が設けられている。信号入力
端子14から入力された高周波信号は入力整合回路11
を通って初段FET10で増幅され、その出力はバイア
ホール15を通って、内層3にパターン形成されたイン
ダクタンス素子3aの一端側に接続する。インダクタン
ス素子3aの他端側から出た信号はバイアホール16を
通って内層4に形成されたキャパシタンス素子4aの電
極に接続し、さらにバイアホール17を通って内層5に
パターン形成された抵抗素子5aの一端側に接続する。
そして抵抗素子5aの他端側から出た信号はバイアホー
ル18を通って裏面側導体層2に設けられた後段FET
19のゲートに入力される。A first-stage FET 1 is provided on the surface-side conductor layer 1 of the substrate.
0, an input matching circuit 11, a bias supply circuit 12, and a drain voltage supply circuit 13. The high-frequency signal input from the signal input terminal 14 is
The output is amplified by the first-stage FET 10, and the output is connected to one end of the inductance element 3 a patterned on the inner layer 3 through the via hole 15. The signal output from the other end of the inductance element 3a passes through the via hole 16 to be connected to the electrode of the capacitance element 4a formed in the inner layer 4, and further passes through the via hole 17 to be patterned into the resistance element 5a formed on the inner layer 5. To one end.
A signal output from the other end of the resistance element 5a passes through the via hole 18 and is provided on the back-side conductor layer 2 in the rear-stage FET.
Input to 19 gates.
【0012】上記のように、薄膜材料の内層3,4,5
に形成されたインダクタンス素子3a、キャパシタンス
素子4a、抵抗素子5a、そして各素子間および表裏面
を接続するバイアホール15〜18によって初段FET
10と後段FET19との段間整合回路が構成されてい
る。As mentioned above, the inner layers 3, 4, 5 of the thin film material
The first-stage FET is formed by an inductance element 3a, a capacitance element 4a, a resistance element 5a, and via holes 15 to 18 connecting between the elements and the front and back surfaces.
An interstage matching circuit composed of 10 and the subsequent-stage FET 19 is configured.
【0013】基板の裏面側には後段FET19のバイア
ス供給回路20やドレイン電圧供給回路21も設けられ
ている。後段FET19でさらに増幅された信号は上述
の段間整合回路とは逆の順番で、内層に形成された各素
子を経由して基板表面側の導電層1に達し、信号出力端
子25から外部回路へ出力される。On the back side of the substrate, a bias supply circuit 20 and a drain voltage supply circuit 21 for the latter-stage FET 19 are also provided. The signal further amplified by the latter-stage FET 19 reaches the conductive layer 1 on the substrate surface side via each element formed in the inner layer in the reverse order to the above-described inter-stage matching circuit, and is sent from the signal output terminal 25 to the external circuit. Output to
【0014】つまり、薄膜材料の内層4,5に形成され
たキャパシタンス素子4b、抵抗素子5b、そして各素
子間および表裏面を接続するバイアホール22〜24に
よって、後段FET19(最終段)と信号出力端子25
との間の出力整合回路が構成されている。ただし、図1
の例では、出力整合回路がインダクタンス素子を必要と
しないので、内層4(キャパシタンス素子4b)と基板
表面側の導電層1とが直接バイアホール24で接続され
ている。即ち、接続線路(バイアホール24)は、イン
ダクタンス素子を構成する内層3には接触せずに通過し
ている。In other words, the capacitance of the capacitor element 4b and the resistance element 5b formed in the inner layers 4 and 5 of the thin film material, and the via holes 22 to 24 connecting between the elements and the front and rear surfaces, enable the signal to be output from the subsequent FET 19 (final stage). Terminal 25
And an output matching circuit between them. However, FIG.
In the example, the output matching circuit does not require an inductance element, so the inner layer 4 (capacitance element 4b) and the conductive layer 1 on the substrate surface side are directly connected by the via hole 24. That is, the connection line (via hole 24) passes through without contacting the inner layer 3 constituting the inductance element.
【0015】なお、各内層3,4,5にパターン形成さ
れるインダクタンス素子、キャパシタンス素子、および
抵抗素子は、同一材料であっても、線路幅、線路長を変
えることによりインダクタンス値、容量値、または抵抗
値を変えることができる。また、各内層の厚さを変える
ことによっても各値を調整することができる。この場
合、同一層内で層厚の分布を変えることも考えられる。The inductance element, the capacitance element, and the resistance element formed on the inner layers 3, 4, and 5 can be formed of the same material by changing the line width and the line length. Alternatively, the resistance value can be changed. Each value can also be adjusted by changing the thickness of each inner layer. In this case, it is conceivable to change the distribution of the layer thickness within the same layer.
【0016】また、上記の実施形態では、各内層に形成
された各素子を一つずつ通って、つまり各内層を順番に
1回ずつ通過するようにして表側導体層と裏側導体層と
が接続されているが、本発明はかかる構成に限定される
わけではない。つまり、各層に形成される素子の必要個
数は任意であり、いずれか又は全部の内層を複数回通過
するように整合回路を構成してもよい。例えば、内層4
と他の層のGNDパターンとの間に別のキャパシタ素子
を形成して、これを段間整合回路全体に並列接続するこ
ともできる。In the above embodiment, the front conductor layer and the back conductor layer are connected to each other by passing each element formed in each inner layer one by one, that is, passing through each inner layer once in order. However, the present invention is not limited to such a configuration. That is, the required number of elements formed in each layer is arbitrary, and the matching circuit may be configured to pass through any or all of the inner layers a plurality of times. For example, inner layer 4
Another capacitor element can be formed between the capacitor and the GND pattern of another layer, and this can be connected in parallel to the entire interstage matching circuit.
【0017】また、上記実施例では入力整合回路は表側
導体層のみを用いて形成したが、出力整合回路と同様に
入力整合回路も基板内層を用いて構成することも可能で
ある。3段以上の増幅器において、複数の段間整合器を
基板内層で構成できることはいうまでもない。Further, in the above embodiment, the input matching circuit is formed using only the front side conductor layer. However, like the output matching circuit, the input matching circuit can be formed using the inner layer of the substrate. In an amplifier having three or more stages, it is needless to say that a plurality of interstage matching devices can be constituted by an inner layer of the substrate.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上のように、本発明の高周波増幅器に
よれば、多段増幅器の段間整合回路、さらには入力整合
回路や出力整合回路をも多層基板の内層を用いて構成す
ることができるので、基板面積の削減と装置の小型化を
図ることができる。また、伝送線路幅を太くすることが
可能になるので、信号損失の低減、ひいては高周波特性
の向上を期待することができる。さらに、整合回路が信
号伝送線路から受ける影響の緩和にも貢献する。As described above, according to the high-frequency amplifier of the present invention, the interstage matching circuit of the multistage amplifier, and furthermore, the input matching circuit and the output matching circuit can be formed by using the inner layer of the multilayer substrate. Therefore, the substrate area can be reduced and the size of the device can be reduced. Further, since the transmission line width can be increased, reduction in signal loss and improvement in high-frequency characteristics can be expected. Further, it also contributes to alleviating the influence of the signal transmission line on the matching circuit.
【図1】本発明の実施形態に係る2段高周波増幅器の構
成を示す模式図FIG. 1 is a schematic diagram showing a configuration of a two-stage high-frequency amplifier according to an embodiment of the present invention.
【図2】従来の2段高周波増幅器の回路ブロック図FIG. 2 is a circuit block diagram of a conventional two-stage high-frequency amplifier.
1 表面側導体層 2 裏面側導体層 3 インダクタンス素子用薄膜内層 3a インダクタンス素子 4 キャパシタンス素子用薄膜内層 4a キャパシタンス素子 5 抵抗素子用薄膜内層 5a 抵抗素子 6,7,8,9 絶縁層 10 初段FET 11 入力整合回路 12,20 バイアス供給回路 13,21 ドレイン電圧供給回路 14 信号入力端子 15〜18,22〜24 バイアホール 19 後段FET 25 信号出力端子 REFERENCE SIGNS LIST 1 front-side conductor layer 2 back-side conductor layer 3 thin-film inner layer for inductance element 3a inductance element 4 thin-film inner layer for capacitance element 4a capacitance element 5 thin-film inner layer for resistance element 5a resistance element 6,7,8,9 insulating layer 10 first-stage FET 11 Input matching circuit 12, 20 Bias supply circuit 13, 21 Drain voltage supply circuit 14 Signal input terminal 15-18, 22-24 Via hole 19 Subsequent FET 25 Signal output terminal
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 25/11 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01L 25/11
Claims (6)
と周辺回路素子とが基板上に配置されてなる高周波増幅
器であって、 多層基板の表面側と裏面側に少なくとも1個ずつトラン
ジスタが配置され、 前記多層基板の複数の内層が抵抗素子、インダクタンス
素子、またはキャパシタンス素子を構成する薄膜材料の
層としてパターン形成され、 表面側のトランジスタと裏面側のトランジスタとの間に
介装される段間整合回路が前記多層基板の複数の内層に
よって構成されていることを特徴とする高周波増幅器。1. A high-frequency amplifier comprising two or more transistors connected in a multi-stage and a peripheral circuit element arranged on a substrate, wherein at least one transistor is arranged on each of a front side and a back side of a multilayer substrate. A plurality of inner layers of the multilayer substrate are patterned and formed as a layer of a thin film material constituting a resistance element, an inductance element, or a capacitance element, and inter-stage matching interposed between a front-side transistor and a rear-side transistor; A high-frequency amplifier, wherein a circuit is constituted by a plurality of inner layers of the multilayer substrate.
に介装される入力整合回路が前記多層基板の複数の内層
によって構成されていることを特徴とする請求項1記載
の高周波増幅器。2. The high-frequency amplifier according to claim 1, wherein an input matching circuit interposed between the signal input terminal and the first-stage transistor is constituted by a plurality of inner layers of the multilayer substrate.
間に介装される出力整合回路が前記多層基板の複数の内
層によって構成されていることを特徴とする請求項1記
載の高周波増幅器。3. The high-frequency amplifier according to claim 1, wherein an output matching circuit interposed between the last-stage transistor and the signal output terminal is constituted by a plurality of inner layers of the multilayer substrate.
する線路が、前記複数の内層を順番に1回ずつ通過する
ように形成されている請求項1記載の高周波増幅器。4. The high-frequency amplifier according to claim 1, wherein a line connecting the front surface side and the back surface side of the multilayer substrate is formed so as to pass through the plurality of inner layers once in order.
する線路が、前記複数の内層を少なくとも部分的に複数
回通過するように形成されている請求項1記載の高周波
増幅器。5. The high-frequency amplifier according to claim 1, wherein a line connecting the front side and the back side of the multilayer substrate is formed so as to pass through the plurality of inner layers at least partially a plurality of times.
する線路が、前記整合回路の構成に不必要な抵抗素子、
インダクタンス素子、またはキャパシタンス素子を構成
する薄膜材料の層と接触せずに通過するように形成され
ている請求項1記載の高周波増幅器。6. A line connecting a front surface side and a back surface side of the multilayer substrate is a resistance element unnecessary for the configuration of the matching circuit.
2. The high-frequency amplifier according to claim 1, wherein the high-frequency amplifier is formed so as to pass through without contacting a layer of a thin film material constituting an inductance element or a capacitance element.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15362096A JPH104322A (en) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | High frequency amplifier |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15362096A JPH104322A (en) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | High frequency amplifier |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH104322A true JPH104322A (en) | 1998-01-06 |
Family
ID=15566479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15362096A Pending JPH104322A (en) | 1996-06-14 | 1996-06-14 | High frequency amplifier |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH104322A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1996
- 1996-06-14 JP JP15362096A patent/JPH104322A/en active Pending
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