JPH10333306A - Photographic processing device - Google Patents

Photographic processing device

Info

Publication number
JPH10333306A
JPH10333306A JP15112898A JP15112898A JPH10333306A JP H10333306 A JPH10333306 A JP H10333306A JP 15112898 A JP15112898 A JP 15112898A JP 15112898 A JP15112898 A JP 15112898A JP H10333306 A JPH10333306 A JP H10333306A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
photosensitive material
solution
processing solution
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15112898A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
David L Patton
デイビッド・エル・パットン
John H Rosenburgh
ジョン・エイチ・ローゼンバーグ
Peter J Twist
ピーター・ジェイ・ツイスト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPH10333306A publication Critical patent/JPH10333306A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D13/00Processing apparatus or accessories therefor, not covered by groups G11B3/00 - G11B11/00
    • G03D13/006Temperature control of the developer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase processing efficiency without adversely influencing processing solution by heating or cooling the back side of film against the front side thereof. SOLUTION: The efficient flow of the processing solution is supplied into a processing channel 16 from a nozzle 46. When photosensitive material 20 passes through the channel 16, the material is locally heated. The device is provided with a heater 80, which has a 1st heat insulating block 82 made of material having low heat conductivity and includes a long roller 92 arranged in a circular cavity 94 formed in the heater 80. Only the small part of the roller 92 can be brought into contact with the back side 96 of the material 20. The roller 92 has an outside shell section 98 made of conductive material and heated by a proper electric wire connected to the section 98. After the material 20 is put in the processing solution without raising the temperature of the entire processing solution, its temperature is selectively raised or lowered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、写真の分野に関
し、より詳しくは感光性材料を処理する方法および装置
に関する。
FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to the field of photography, and more particularly, to a method and apparatus for processing photosensitive material.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】感光
性材料の処理は、感光性材料を種々の異なる処理溶液に
さらす一連の工程を含む。典型的には、写真処理装置に
おいて、感光性材料は現像溶液、漂白溶液、定着溶液お
よび洗浄溶液にさらされる。次に、感光性材料は、乾燥
操作に付され、その後、装置を出る。感光性材料が処理
溶液にさらされる各工程の間、処理溶液の温度を所定の
パラメーター範囲内に維持すること、新しい溶液を感光
性材料の表面に供給して、処理溶液と感光性材料との間
で適当な化学反応が起こることができるようにすること
が重要である。従来技術の処理装置では、処理溶液を所
定温度まで加熱し、温度コントローラーを用いることに
より処理溶液をその所定温度に許容される範囲内で保持
するヒーターを使用することによって処理溶液の温度を
維持する。従来技術の処理装置では、感光性材料の乳剤
面に隣接して処理溶液の撹拌を使用して、新しい溶液が
その表面に供給されるようにすることも知られている。
これは、ローラー、ワイパーブレードまたは処理溶液の
感光性材料への衝突(impinging)を用いることにより
行うことができる。感光性材料の処理に必要な時間を減
らすために、処理パラメーターを変えることができる。
そのようなパラメーターには、処理溶液自体の濃度およ
び補給量、感光性材料の溶液を適用する場合の撹拌の程
度および溶液の温度が含まれる。
BACKGROUND OF THE INVENTION Processing of photosensitive materials involves a series of steps of exposing the photosensitive material to a variety of different processing solutions. Typically, in photographic processing equipment, the photosensitive material is exposed to a developing solution, a bleaching solution, a fixing solution, and a washing solution. Next, the photosensitive material is subjected to a drying operation before exiting the device. Maintaining the temperature of the processing solution within a predetermined parameter range during each step in which the photosensitive material is exposed to the processing solution, supplying a new solution to the surface of the photosensitive material, and allowing the processing solution to contact the photosensitive material. It is important that appropriate chemical reactions can take place between them. In prior art processing equipment, the temperature of the processing solution is maintained by using a heater that heats the processing solution to a predetermined temperature and uses a temperature controller to maintain the processing solution within an allowable range for the predetermined temperature. . It is also known in prior art processing equipment to use agitation of the processing solution adjacent to the emulsion surface of the photosensitive material so that a fresh solution is supplied to the surface.
This can be done by using rollers, wiper blades or the impinging of the processing solution on the photosensitive material. Processing parameters can be varied to reduce the time required to process the photosensitive material.
Such parameters include the concentration and replenishment of the processing solution itself, the degree of agitation when applying the solution of photosensitive material, and the temperature of the solution.

【0003】大部分の写真処理措置は、幾つかの異なる
製造業者からの感光性材料を大きな信頼性をもって再現
性のある結果を伴ってうまく処理できる必要があるの
で、処理溶液の成分の変更は困難である。処理溶液のメ
ークアップの変更は、その中に含まれる異なって製造さ
れた製品に大きな影響を与える可能性がある。
Since most photographic processing measures need to be able to process light-sensitive materials from several different manufacturers successfully with great reliability and reproducible results, altering the components of the processing solution is not an option. Have difficulty. Changing the makeup of the processing solution can have a significant effect on the differently manufactured products contained therein.

【0004】例えば米国特許第5,270,762号、
第5,355,190号および第5,398,094号
に開示されているように、大きな衝突撹拌(impingemen
t agitation)を使用することにより、各処理溶液が必
要とする時間を減らすことができるが、その程度は小さ
い。それは、必要な化学反応が、感光性材料のゼラチン
乳剤を通過する溶液の拡散速度により制限されるからで
ある。使用される撹拌方法が感光性材料の表面に新しい
溶液を供給するレベルがある程度に達すると、撹拌時に
おけるこの領域における更なる向上は、可能であるにし
ても、困難となる。
For example, US Pat. No. 5,270,762,
As disclosed in US Pat. Nos. 5,355,190 and 5,398,094, large impingement
The use of agitation can reduce the time required by each processing solution, but to a lesser extent. This is because the required chemical reactions are limited by the rate of diffusion of the solution through the gelatin emulsion of the photosensitive material. As the agitation method used reaches a certain level of supplying fresh solution to the surface of the photosensitive material, further improvement in this area during agitation becomes difficult, if possible.

【0005】写真処理時間を短縮する有効な方法は、感
光性材料が通過する処理溶液の温度を上げることであ
る。しかしながら、温度を上昇させると、化学反応が促
進された速度で生じる。溶液の温度を上げることによる
問題点は、処理溶液が酸化することがあり、また、一般
的には遥かに速い速度で分解するということである。更
に、温度が高くなるほど、処理溶液の蒸発速度が大きく
なる。また、使用する温度が高いほど、オペレーターが
やけどすることを防止するように、あるいは高温になる
と発生しやすい化学物質の蒸気にさらされるのを防止す
るように、一層注意する必要がある。更に、処理装置を
使用している場合と、使用していない場合との間で、装
置が経験する温度差が大きくなるので、処理装置の疲労
および割れが増える。上述の要因は、全て装置を運転す
るコストを増やすことになる。
An effective way to reduce photographic processing time is to increase the temperature of the processing solution through which the photosensitive material passes. However, as the temperature is increased, the chemical reaction occurs at an accelerated rate. A problem with increasing the temperature of the solution is that the processing solution can oxidize and generally decompose at a much faster rate. Further, the higher the temperature, the higher the evaporation rate of the processing solution. Also, the higher the temperature used, the more care must be taken to prevent the operator from being burned or from being exposed to the vapors of chemicals that are likely to occur at higher temperatures. Further, the temperature difference experienced by the apparatus between when the processing apparatus is used and when it is not used increases the fatigue and cracking of the processing apparatus. All of the above factors increase the cost of operating the device.

【0006】より速い処理時間をもたらすために、従来
技術において、感光性材料が処理装置に入る前に、予熱
することが提案されている。この方法により溶液の使用
および効率が少し増え、処理時間が向上することが見い
だされているが、予熱された感光性材料により加えられ
る熱が、先に説明したような処理溶液の温度の上昇に関
連する問題をもたらすという反面がある。感光性材料の
予熱に関するもう1つの問題点は、感光性材料の全ての
乳剤層が同じ温度になるということである。処理溶液は
種々の乳剤層において拡散するので、化学反応の増加
は、表面層についてはベースに最も近い層と同様であ
る。
In order to provide faster processing times, it is proposed in the prior art to preheat the photosensitive material before it enters the processing unit. This method has been found to slightly increase the use and efficiency of the solution and improve the processing time, but the heat applied by the preheated photosensitive material will increase the temperature of the processing solution as described above. On the other hand, there is a related problem. Another problem with preheating the photosensitive material is that all emulsion layers of the photosensitive material are at the same temperature. As the processing solution diffuses in the various emulsion layers, the increase in chemical reaction is similar for the surface layer as for the layer closest to the base.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、処理溶
液の全体としての温度を上げないで、感光性材料が処理
溶液に入った後、その温度を選択的に上げるまたは下げ
ることによって、処理装置が経験する上述の問題点を克
服することである。これは、新しい処理溶液が感光性材
料の表面との接触部を広げる領域においてフィルムの非
常に小さい領域に加熱または冷却を直接適用することに
より達成される。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to selectively raise or lower the temperature of a photosensitive material after it enters the processing solution without increasing the overall temperature of the processing solution. An object of the present invention is to overcome the above-mentioned problems experienced by the processing apparatus. This is achieved by applying heating or cooling directly to a very small area of the film in the area where the new processing solution spreads contact with the surface of the photosensitive material.

【0008】ベースを介する感光性材料の局所的な加熱
または冷却により、乳剤層にわたって温度勾配を形成す
る。生じる温度勾配は乳剤層に存在する。その結果、温
度が異なるので、初めに処理溶液にさらされる種々の乳
剤層では種々の反応が生じる。本発明の装置によりもた
らされる温度勾配によって、感光性材料の設計者に、種
々の光を感じる乳剤を配置できるより大きい自由度が与
えられる。今日では、処理溶液に対してより遅く反応す
る乳剤は、感光性材料の表面により近い箇所に配置さ
れ、より速く反応する層はベースにより近く配置され
る。この配置は、形成されている層および相互作用にお
ける光の捕捉ならびに画像の鮮明さのために最適な乳剤
層の配置に常に対応しているとは限らない。全体として
の結果は、通常、より長い処理時間、より高い濃度の溶
液の必要性、あるいは処理溶液の不十分な使用をもたら
すことに妥協することになってしまう。
[0008] Local heating or cooling of the photosensitive material through the base creates a temperature gradient across the emulsion layer. The resulting temperature gradient exists in the emulsion layer. As a result, different reactions occur in the different emulsion layers initially exposed to the processing solution due to the different temperatures. The temperature gradient provided by the apparatus of the present invention gives the designer of the photosensitive material greater freedom to place the various light sensitive emulsions. Nowadays, emulsions that react more slowly to processing solutions are located closer to the surface of the photosensitive material and layers that react more quickly are located closer to the base. This arrangement does not always correspond to the optimal arrangement of the emulsion layers for light capture and image clarity in the layers and interactions being formed. The overall result will usually be to compromise on longer processing times, the need for higher concentration solutions, or inefficient use of processing solutions.

【0009】本発明によれば、感光性材料を処理(例え
ば現像)する写真処理装置および方法が提供される。こ
の装置は、感光性材料を処理するための処理溶液を含む
処理タンク;処理溶液の中で感光性材料を移動させるた
めの移送機構;および感光性材料にわたって温度分布を
与えるための加熱および/または冷却機構を有して成
る。
According to the present invention, there is provided a photographic processing apparatus and method for processing (eg, developing) a photosensitive material. The apparatus includes a processing tank containing a processing solution for processing the photosensitive material; a transfer mechanism for moving the photosensitive material within the processing solution; and heating and / or for providing a temperature distribution across the photosensitive material. It has a cooling mechanism.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の目的、利点および特徴
は、同様の要素には同じ番号を付した図面と関連させる
と明らかになるであろう。図1に、本発明に基づいて構
成された装置10を模式的に示す。装置10は、少なく
とも1つの処理セクション11を含む。図示した態様で
は、処理セクション11は、処理タンク12およびその
中に配置するラック14を有して成る。図示した好まし
い態様では、処理セクション11は、小さい体積の薄型
のタンク構造である。従って、ラック14およびタンク
12は、処理溶液18を含む狭い処理チャンネル16を
形成し、感光性材料20はそこを通過して処理される様
に構成されている。処理チャンネル16は、処理溶液を
再循環システム24に送り、そして、処理チャンネル1
6に戻すことができるように対の出口22を含む。特
に、再循環システム24は、処理チャンネル16の出口
22を再循環ポンプ30に流体的に(即ち、流体が流れ
ることができるように)接続する導管28を含み、ポン
プ30は再循環システム24を通って処理溶液18を再
循環させる。導管32は、再循環ポンプ30からマニホ
ールド34を通って処理溶液18を導くように供給され
ている。マニホールド34は、リザーバー36、38、
40内に含まれる補充溶液を導入するように設けられ、
補充溶液は、ポンプ(図示せず)によりマニホールド3
4に導入される。マニホールド34は導管44によりフ
ィルター42に流体的に接続されている。フィルター4
2は導管48により入口ノズル46に接続されている。
入口ノズル46は、感光性材料20の乳剤側の上の表面
50に処理溶液18を供給するような構造になってい
る。複数のローラー対52、54、56、58、60が
設けられ、処理チャンネル16を通って感光性材料20
が移送されてガイドされるようになっている。処理装置
を通って感光性材料20を移送するためにいずれの適当
な手段を使用してもよいこと、また、感光性材料は、連
続ウェブまたはシート形態であってもよいことが理解さ
れよう。図示しないコンピューターが設けられ、装置1
0の操作をコントロールするが、これは、常套的に実施
されるように行われるので、より詳細な説明は省略す
る。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The objects, advantages and features of the present invention will become apparent with reference to the drawings, in which like elements are numbered the same. FIG. 1 schematically shows an apparatus 10 configured according to the present invention. Apparatus 10 includes at least one processing section 11. In the embodiment shown, the processing section 11 comprises a processing tank 12 and a rack 14 disposed therein. In the preferred embodiment shown, the processing section 11 is a small volume, thin tank structure. Thus, the rack 14 and the tank 12 form a narrow processing channel 16 containing a processing solution 18 and the photosensitive material 20 is configured to be processed therethrough. The processing channel 16 sends the processing solution to the recirculation system 24 and the processing channel 1
6 includes a pair of outlets 22 so that they can be returned. In particular, the recirculation system 24 includes a conduit 28 that fluidly connects (i.e., allows fluid to flow) the outlet 22 of the processing channel 16 to a recirculation pump 30, which pump 30 connects the recirculation system 24. The processing solution 18 is recirculated through it. A conduit 32 is provided to direct the processing solution 18 from a recirculation pump 30 through a manifold 34. The manifold 34 includes reservoirs 36, 38,
40 is provided to introduce the replenishment solution contained in 40
The replenishment solution is supplied to the manifold 3 by a pump (not shown).
4 is introduced. Manifold 34 is fluidly connected to filter 42 by conduit 44. Filter 4
2 is connected to the inlet nozzle 46 by a conduit 48.
The inlet nozzle 46 is configured to supply the processing solution 18 to the upper surface 50 of the photosensitive material 20 on the emulsion side. A plurality of roller pairs 52, 54, 56, 58, 60 are provided and pass through the processing channel 16 to the photosensitive material 20.
Are transported and guided. It will be appreciated that any suitable means may be used to transport the photosensitive material 20 through the processing device, and that the photosensitive material may be in the form of a continuous web or sheet. A computer (not shown) is provided and the device 1
The operation of 0 is controlled, but this is performed in a conventional manner, so that a more detailed description is omitted.

【0011】図1において、感光性材料20を処理する
単一の処理溶液を含む一つの処理セクションを図示して
いるに過ぎない。いずれの所望の数の処理セクション1
1を設けてもよく、各処理セクションはいずれの所望の
処理溶液を含んでもよいことが理解されよう。処理セク
ションは、従来技術において一般的に行われるように、
感光性材料を順に処理していく。
In FIG. 1, only one processing section containing a single processing solution for processing photosensitive material 20 is illustrated. Any desired number of processing sections 1
It will be appreciated that one may be provided and each processing section may include any desired processing solution. The processing section, as commonly done in the prior art,
Process the photosensitive material in order.

【0012】図2には、本発明に基づいて構成された処
理タンク12の一部分を拡大して示す。特に、厚さ(ま
たは幅)tを有するノズル開口部62を有するノズル4
6を示している。このノズル46は、タンク12の壁6
4内に設けられた断熱ジャケット63内に配置されるの
が望ましい。このジャケット63は、熱伝導性の小さい
材料、例えばポリスチレン、ポリプロピレンおよびポリ
エチレンで構成され、それを介して処理溶液18に熱が
伝わるのを最小限にする。別法では、あるいはそれに加
えて、ノズル46の周囲に空間部(エアー・ギャップ)
を設けてもよい。開口部62は長尺のスロットの形態で
あり、それに隣接して通過する感光性材料20の少なく
とも幅に沿って延在している。先に説明したように、開
口部62が感光性材料20の表面50に非常に近接して
配置されるように、狭い処理チャンネル16が設けられ
ている。本発明の目的のために、狭い処理チャンネル1
6は、感光性材料の厚さの100倍またはそれ以下の厚
さ(または幅)Tを有する。好ましくは、印画紙を使用
する場合は、処理チャンネル16は、感光性材料の厚さ
の50倍またはそれ以下の厚さTを有し、最も好ましく
は印画紙の厚さの約10倍またはそれ以下の厚さTを有
する。写真フィルムの処理装置では、最も好ましくは厚
さTはフィルムの厚さの約18倍またはそれ以下であ
る。
FIG. 2 is an enlarged view of a part of the processing tank 12 constructed according to the present invention. In particular, a nozzle 4 having a nozzle opening 62 having a thickness (or width) t
6 is shown. The nozzle 46 is connected to the wall 6 of the tank 12.
It is desirable to be arranged in a heat insulating jacket 63 provided in 4. The jacket 63 is made of a material with low thermal conductivity, such as polystyrene, polypropylene and polyethylene, to minimize the transfer of heat to the processing solution 18 therethrough. Alternatively, or in addition, a space (air gap) around nozzle 46
May be provided. The opening 62 is in the form of an elongated slot and extends at least along the width of the photosensitive material 20 passing therethrough. As previously described, a narrow processing channel 16 is provided such that the opening 62 is located very close to the surface 50 of the photosensitive material 20. For the purposes of the present invention, a narrow processing channel 1
6 has a thickness (or width) T of 100 times or less than the thickness of the photosensitive material. Preferably, when photographic paper is used, the processing channel 16 has a thickness T that is 50 times or less the thickness of the photosensitive material, and most preferably about 10 times or more the thickness of the photographic paper. It has the following thickness T: In photographic film processing equipment, most preferably the thickness T is about 18 times or less the thickness of the film.

【0013】約0.008インチの厚さを有する印画紙
を処理する本発明に基づいて構成される処理装置の例で
は、約0.080インチの厚さTを有する処理チャンネ
ル16を有し、約0.0055インチの厚さを有するフ
ィルムを処理する写真フィルムの処理装置の例では、約
0.1インチの厚さTを有する処理チャンネル16を有
する。しかしながら、チャンネル16の厚さは適当なよ
うに変えてよいことが理解されよう。
An example of a processing apparatus constructed in accordance with the present invention for processing photographic paper having a thickness of about 0.008 inches has a processing channel 16 having a thickness T of about 0.080 inches, An example of a photographic film processing apparatus for processing a film having a thickness of about 0.0055 inches has a processing channel 16 having a thickness T of about 0.1 inches. However, it will be appreciated that the thickness of the channel 16 may be varied as appropriate.

【0014】処理チャンネル16内にノズル46から処
理溶液の効率的な流れを供給するために、ノズルの開口
部62は、以下の関係に基づいて処理チャンネルに処理
溶液を送るのが望ましい: 1<F/A<40 式中、Fはノズルを通過する処理溶液の流量(ガロン/
分)であり、Aは、ノズルの断面積(平方インチ)であ
る。
To provide an efficient flow of processing solution from the nozzle 46 into the processing channel 16, the nozzle opening 62 desirably directs the processing solution to the processing channel based on the following relationship: 1 < F / A <40 where F is the flow rate (gallon /
) And A is the cross-sectional area (square inch) of the nozzle.

【0015】先に示した関係に基づいてノズルを設ける
ことにより、感光性材料に対して処理溶液が適当に排出
されることが確保され、それによって、感光性材料の表
面に新しい処理溶液を導入する衝突力が与えられる。
Providing a nozzle based on the relationship set forth above ensures that the processing solution is properly drained to the photosensitive material, thereby introducing a new processing solution to the surface of the photosensitive material. Collision force is given.

【0016】先に説明したように、本発明では、感光性
材料20が処理チャンネル16を通る時に、材料を局所
的に加熱するように構成する。図示した特定の態様で
は、ヒーター80が設けられ、これは、熱伝導率の小さ
い材料でできた第1断熱ブロック82を有して成り、そ
の中に形成された実質的に円形のキャビティ94内に配
置された長いローラー92を含む。断熱材料は、いずれ
の所望の小さい熱伝導性の材料であってもよく、例えば
ポリスチレン、ポリプロピレンおよびポリエチレンであ
ってよい。別法では、または加えて、ヒーター80の周
囲にエアー・ギャップを設けてもよい。図から判るよう
に、キャビティ94は、外部構造ローラー92に近接し
て適合し、それらの間に僅かに小さい距離Dが残るよう
になっている。好ましくは、その距離Dはそこでローラ
ー92が容易に回転できるのに充分なものである。図示
するように、ローラー92の小さい部分のみが感光性材
料20の裏側96と接触できるようになっている。ロー
ラー92は、感光性材料20の裏側96に対してローラ
ー92から熱が流れるようにする伝導性の種類のもので
ある。ローラー92は、いずれの所望の方法で加熱して
もよいことが理解されよう。図示した特定の態様では、
ローラー92は、適当な伝導性材料でできた外側シェル
セクション98を有し、それに接続された適当な電気ワ
イヤー(図示せず)により加熱される。このシェル構造
は、ローラー92の熱的な遮蔽を最小限にし、それによ
って、感光性材料20とローラー92との間で適当な量
の熱伝導が生じるように、温度を容易に調節することが
できる。図から判るように、ヒーター80が入口ノズル
46の真正面に配置されている。これは、写真処理溶液
18によって感光性材料20が押されて熱伝導ローラー
92に密接して連続的に接触するように実施する。更
に、これは、撹拌の程度が高く、新しい処理溶液が感光
性材料20の乳剤表面に適用されるまさにそのような領
域に熱を供給する。
As described above, the present invention is configured to heat the photosensitive material 20 locally as it passes through the processing channel 16. In the particular embodiment shown, a heater 80 is provided, comprising a first insulating block 82 made of a material having a low thermal conductivity and having a substantially circular cavity 94 formed therein. And a long roller 92 disposed at The insulating material may be any desired small thermally conductive material, for example, polystyrene, polypropylene and polyethylene. Alternatively, or in addition, an air gap may be provided around heater 80. As can be seen, the cavity 94 fits closely to the external structural rollers 92 such that a slightly smaller distance D remains between them. Preferably, the distance D is sufficient so that the roller 92 can easily rotate there. As shown, only a small portion of the roller 92 can contact the back side 96 of the photosensitive material 20. Roller 92 is of a conductive type that allows heat to flow from roller 92 to back side 96 of photosensitive material 20. It will be appreciated that roller 92 may be heated in any desired manner. In the particular embodiment illustrated,
Roller 92 has an outer shell section 98 made of a suitable conductive material and is heated by a suitable electric wire (not shown) connected thereto. This shell structure minimizes the thermal shielding of the rollers 92, so that the temperature can be easily adjusted so that a suitable amount of heat transfer occurs between the photosensitive material 20 and the rollers 92. it can. As can be seen, the heater 80 is located directly in front of the inlet nozzle 46. This is done so that the photographic processing solution 18 pushes the photosensitive material 20 into close and continuous contact with the heat transfer roller 92. In addition, this provides a high degree of agitation and heat to just such areas where fresh processing solution is applied to the emulsion surface of photosensitive material 20.

【0017】図3には、感光性材料20の模式図を示
す。詳細には、感光性材料20は、上部表面95を有す
る支持ベース100を有して成り、上部表面95上に
は、乳剤層102が設けられる。図から判るように、乳
剤層102は、複数の独立した層103、104、10
5、106、107、108、109、110、11
1、112、113および114を有して成る。これら
の層は、感光性材料に対して色をもたらし、処理をコン
トロールし、また、紫外線および物理的磨耗に対して保
護を提供する。これらの層の作用および説明は、当業者
には周知である。これらおよび同様の種類の感光性材料
の構造の詳細な説明は、Research Disclosureの論文(S
eptember 1996, No. 389, Item 38957, タイトル:"Pho
tographic Silver Halide Emulsions, Preparations, A
ddenda, Systems and Processing", 刊行:Kenneth Mas
on Publications, Limited, Dudley Annex, 12a North
Street,Emsworth, Hampshire P01O 7DQ, England)にて
説明されており、この引用によりこの論文の内容は、本
明細書の一部を構成する。
FIG. 3 is a schematic view of the photosensitive material 20. In particular, the photosensitive material 20 comprises a support base 100 having an upper surface 95, on which an emulsion layer 102 is provided. As can be seen, the emulsion layer 102 comprises a plurality of separate layers 103, 104, 10
5, 106, 107, 108, 109, 110, 11
1, 112, 113 and 114. These layers provide color to the photosensitive material, control processing, and provide protection against ultraviolet light and physical abrasion. The operation and description of these layers is well known to those skilled in the art. A detailed description of the structure of these and similar types of photosensitive materials can be found in the Research Disclosure paper (S
eptember 1996, No. 389, Item 38957, Title: "Pho
tographic Silver Halide Emulsions, Preparations, A
ddenda, Systems and Processing ", Published by Kenneth Mas
on Publications, Limited, Dudley Annex, 12a North
Street, Emsworth, Hampshire P01O 7DQ, England), the contents of which are hereby incorporated by reference.

【0018】図4(a)では、感光性材料の幅Wにわた
って感光性材料が実質的に均一な温度を経験する、従来
技術に基づいて構成された処理装置の場合について、線
120により示すように、乳剤層102の表面からの距
離に関して、乳剤層の化学反応性をグラフにて示してい
る。図から判るように、化学反応性は、ノズル46に最
も近い感光性材料の表面において最も大きく、支持ベー
ス100に隣接する乳剤層102の層103において最
も小さい。化学反応性の変動範囲はR1により示してい
る。
In FIG. 4 (a), as indicated by line 120, for a processor constructed in accordance with the prior art where the photosensitive material experiences a substantially uniform temperature over the width W of the photosensitive material. 2 is a graph showing the chemical reactivity of the emulsion layer with respect to the distance from the surface of the emulsion layer 102. As can be seen, the chemical reactivity is greatest at the surface of the photosensitive material closest to the nozzle 46 and least at the layer 103 of the emulsion layer 102 adjacent to the support base 100. The range of variation in chemical reactivity is indicated by R1.

【0019】図4(b)では、本発明に基づいて構成さ
れた装置の場合について、図4(a)と同じ様にグラフ
で示している。感光性材料20の支持層100の裏側を
加熱するように加熱ローラーを使用する。乳剤層102
の化学反応性を線122により示す。乳剤層の温度は、
線115により示すように、ヒーター80に近いほど高
くなる。ベース100に最も近い乳剤層の領域は、最も
高い温度を経験するが、衝突する処理溶液による化学反
応性は最も小さい。化学反応性の変動R2は、図4
(a)の装置のR1の変動範囲より実質的に小さい。従
って、本発明は最も小さい反応性を有する乳剤層が最も
高い温度を経験するという補償(または相殺)効果を提
供し、それによって、全ての乳剤層の全体としての化学
反応性がより均一になる。
FIG. 4 (b) is a graph similar to FIG. 4 (a) for an apparatus constructed according to the present invention. A heating roller is used to heat the back side of the support layer 100 of the photosensitive material 20. Emulsion layer 102
Is shown by line 122. The temperature of the emulsion layer is
As shown by line 115, the closer to heater 80, the higher. The region of the emulsion layer closest to the base 100 experiences the highest temperatures, but has the least chemical reactivity with the impinging processing solution. The change in chemical reactivity R2 is shown in FIG.
It is substantially smaller than the fluctuation range of R1 of the device of (a). Thus, the present invention provides a compensating (or offsetting) effect that the emulsion layer with the least reactivity experiences the highest temperature, thereby making the overall chemical reactivity of all emulsion layers more uniform. .

【0020】上述のことは、感光性材料関係の製造者に
感光性材料の乳剤層を設計して構成する場合により大き
い自由度を与えることになる。頂部表面に隣接して反応
性のより遅い層を設け、ベースにより近い部分により速
い反応性の乳剤層を必要とする代わりに、処理効率、品
質または特定の美感的な影響を与えることに関して改善
するために所望の乳剤層を設計する場合に、より大きい
自由度をより簡単に達成することができる。
The foregoing provides the photosensitive material manufacturer with greater flexibility in designing and constructing the emulsion layers of the photosensitive material. Providing a slower-reactive layer adjacent to the top surface to improve processing efficiency, quality or having a particular aesthetic impact, instead of requiring a faster-reactive emulsion layer closer to the base When designing a desired emulsion layer, greater degrees of freedom can be more easily achieved.

【0021】図5では、図2と同様の変形例の装置の部
分図を示すが、本発明に基づいて構成した変形例のヒー
ター130を示す。この図では、先の説明と同様のパー
ツおよび機能を示す場合には同じ引用番号を使用してい
る。詳細には、ラック14にヒーター130が埋設さ
れ、ヒーターの表面134は、実質的に平坦であり、ラ
ック14の表面136と実質的に面一の状態になってい
る。ヒーター130は、取り付けボディセクション13
8を有して成り、これは、ラック14に取り付けられて
おり、断熱材料により作られている。外側表面であっ
て、ボディセクション138内に、外側係合表面142
を有する熱伝導要素140が配置され、これは、ラック
14の表面136と同一表面上にある。表面142は、
図示するように、感光性材料の裏面144と係合(また
は接触)するように設計されている。加熱要素140
は、ノズル46に実質的に対向して配置され、ノズル4
6は感光性材料20を加熱要素140に押しつけ、それ
によって、加熱要素140から感光性材料20への熱伝
導を促進するようになっている。この態様では、感光性
材料20の裏面144は、表面142に対して滑動す
る。従って、表面142は、感光性材料の表面への不必
要な磨耗的スクラッチ(引っ掻き傷の発生)を避けるた
めに、可能な限り滑らかに適当に形成されている。
FIG. 5 shows a partial view of a modified device similar to that of FIG. 2, but shows a modified heater 130 constructed in accordance with the present invention. In this figure, the same reference numbers are used to indicate parts and functions similar to those described above. Specifically, the heater 130 is embedded in the rack 14, and the surface 134 of the heater is substantially flat and substantially flush with the surface 136 of the rack 14. The heater 130 is mounted on the mounting body section 13
8, which are attached to the rack 14 and are made of insulating material. An outer engaging surface 142 within the body section 138;
Is disposed, which is flush with the surface 136 of the rack 14. Surface 142
As shown, it is designed to engage (or contact) the back surface 144 of the photosensitive material. Heating element 140
Are arranged substantially opposite the nozzle 46 and the nozzle 4
6 presses the photosensitive material 20 against the heating element 140, thereby promoting heat transfer from the heating element 140 to the photosensitive material 20. In this embodiment, the back surface 144 of the photosensitive material 20 slides relative to the front surface 142. Accordingly, the surface 142 is suitably formed as smoothly as possible to avoid unnecessary wear and tear on the surface of the photosensitive material.

【0022】図6には、本発明に基づいて構成した修正
した形態の装置10を示すが、先の説明と同様のパーツ
および機能を示す場合には同じ引用番号を使用してい
る。この態様では、ポンプ30に達する前に、処理溶液
を再循環システム24において冷却するために、1対の
冷却コイル160が再循環システム24に設けられてい
る。これは、小さい容積の薄型タンクのタイプの処理装
置の場合に特に重要であり、そのような装置では、処理
チャンネルおよび再循環システムの双方において最小限
の体積となっている。これは、処理溶液の全体の温度が
望ましくないレベルまで上昇する可能性を防止する。図
示した態様では、クロス導管52が2つの導管28を接
続している。バルブ170が導管152に設けられ、そ
のバルブの箇所に、冷却コイル160の後の地点で導管
28のセクション155と流体接続を提供するもう1つ
の導管180が設けられている。バルブ171および1
72は、導管28において冷却コイル160の後に設け
られている。バルブ170を閉じてバルブ171および
172を開くと、処理溶液は冷却コイル160により冷
却される。バルブ170を開いてバルブ171および1
72を閉じると、処理溶液の冷却は実施されない。バル
ブ170、171および172をコントロールすること
により、処理溶液の冷却のオン/オフを処理装置の適当
な操作のために必要に応じて実施できる。適当なコント
ローラーおよびセンサーを装置に設けて、処理溶液の冷
却が必要である時を検知し、バルブ170、171およ
び172をオン/オフするが、これは、このような目的
のために常套に使用されているコンピューターおよび温
度センサーを使用することができる。そのようなデバイ
スの採用および操作は、当業者には周知である。
FIG. 6 shows a modified form of the apparatus 10 constructed in accordance with the present invention, wherein like reference numerals are used to indicate parts and functions similar to those described above. In this embodiment, a pair of cooling coils 160 are provided in the recirculation system 24 to cool the processing solution in the recirculation system 24 before reaching the pump 30. This is particularly important in the case of processing equipment of the small volume, thin tank type, where such equipment has minimal volume in both the processing channel and the recirculation system. This prevents the overall temperature of the processing solution from rising to an undesirable level. In the embodiment shown, a cross conduit 52 connects the two conduits 28. A valve 170 is provided in conduit 152, at which point another conduit 180 is provided that provides a fluid connection with section 155 of conduit 28 at a point after cooling coil 160. Valves 171 and 1
72 is provided after the cooling coil 160 in the conduit 28. When the valve 170 is closed and the valves 171 and 172 are opened, the processing solution is cooled by the cooling coil 160. Open valve 170 to open valves 171 and 1
When 72 is closed, no cooling of the processing solution is performed. By controlling the valves 170, 171 and 172, the cooling of the processing solution can be turned on / off as needed for proper operation of the processing equipment. Appropriate controllers and sensors are provided in the device to detect when processing solution cooling is required and to turn valves 170, 171 and 172 on and off, which are routinely used for such purposes. Computers and temperature sensors can be used. The adoption and operation of such devices is well known to those skilled in the art.

【0023】好ましい態様では、処理タンクは低容積の
薄型タンクである。本発明は、他のタイプの構造にも適
用できることが理解されよう。図7には、本発明に基づ
いて構成された変形例の装置210を図示しているが、
先の説明と同様のパーツおよび機能を示す場合には同じ
引用番号を使用している。この態様では、タンク12
は、処理溶液を含み、処理溶液18の中を感光性材料を
移送してガイドするために、タンク12内に一般的なラ
ック212が設けられている。ヒーター80およびノズ
ル46が、感光性材料20のパス(経路)に近接してタ
ンク12内に設けられ、ノズル46が感光性材料20に
対して溶液を当てるために近接するようになっており、
ヒーター80は、ノズル46の正面に配置され、この領
域において感光性材料20を加熱する。
In a preferred embodiment, the processing tank is a low volume, thin tank. It will be appreciated that the invention is applicable to other types of structures. FIG. 7 illustrates a modified device 210 constructed according to the present invention,
The same reference numbers are used to indicate parts and functions similar to those described above. In this embodiment, the tank 12
Contains a processing solution, a general rack 212 is provided in the tank 12 for transferring and guiding the photosensitive material through the processing solution 18. A heater 80 and a nozzle 46 are provided in the tank 12 proximate a path of the photosensitive material 20 such that the nozzle 46 is proximate to apply a solution to the photosensitive material 20;
The heater 80 is arranged in front of the nozzle 46 and heats the photosensitive material 20 in this area.

【0024】図8には、本発明に基づいて構成された更
にもう1つの変形例の装置を図示しているが、先の説明
と同様のパーツおよび機能を示す場合には同じ引用番号
を使用している。この態様では、タンク12を処理溶液
が出ると、冷却コイル160が処理溶液を冷却するため
に設けられている点を除いて図7の態様と同様である。
FIG. 8 illustrates yet another alternative device constructed in accordance with the present invention, wherein like reference numerals are used to indicate like parts and functions as described above. doing. This embodiment is the same as the embodiment of FIG. 7 except that a cooling coil 160 is provided for cooling the processing solution when the processing solution exits the tank 12.

【0025】図1および図2に示した特定の態様では、
ヒーター80が感光性材料の片側に設けられている。要
すれば、ヒーターローラー80を感光性材料の両側に設
けてよい。例えば、乳剤層が感光性材料の両側に設けら
れている場合がそうである。上述の態様では、乳剤層の
現像特性が、感光性材料の表側または裏側に熱を供給す
ることによってコントロールされることを示した。別法
では、フィルムを冷却して感光性フィルムにわたって異
なる温度勾配を生じさせて、フィルムに更に別の現像特
性を与えることができる。
In the particular embodiment shown in FIGS. 1 and 2,
A heater 80 is provided on one side of the photosensitive material. If necessary, heater rollers 80 may be provided on both sides of the photosensitive material. For example, this is the case when emulsion layers are provided on both sides of the photosensitive material. In the above embodiment, it was shown that the development characteristics of the emulsion layer were controlled by supplying heat to the front side or back side of the photosensitive material. Alternatively, the film can be cooled to create different temperature gradients across the photosensitive film to impart further development characteristics to the film.

【0026】フィルムの表側面と裏側面との間で温度差
を調節することにより、色のコントラストのバランスを
補正できる。フィルムの表側と裏側との間の温度差は、
異なる色のアンバランスを有するフィルムの補正にも使
用できる。本発明の有効性を例証するために、図9およ
び図10に示すシステムを使用して実験を実施した。詳
細には、このシステム220は、支持裏側面228を背
にして感光性材料のストリップ226を保持する保持セ
クション224を有する現像ブロック222を含み、裏
側面228を適当なように加熱または冷却できる。処理
溶液は、供給チューブ232により感光性材料のストリ
ップの表側面230に供給される。チューブ232は、
感光性材料226の幅に沿って処理溶液を供給する。ブ
ロック222は、感光性材料226の表面に沿って処理
溶液が流下して保持セクション234により捕捉される
ように、ある角度をつけて配置される。ポンプ236
は、保持セクション234から溶液を取り出して、供給
チューブ232に戻す。サーモスタット238が、循環
させる処理溶液の温度をモニターするように設けられて
いる。ブロックセクション222には、それを冷却また
は加熱溶液が通過するための通路が設けられ、それによ
って、表面228の温度がコトンロールされる。以下の
表1に示すような発色処理溶液を調製し、図9および図
10に示すシステムにおいてコダック・ゴールド(Koda
k Gold)100フィルムを現像するために使用した。処
理溶液をポンプによりフィルム表面に1リットル/分で
供給し、重力によりフィルムの表側を流下させた。好ま
しくは、約70°の角度で表面228が配置されるよう
にデバイスをセットしたが、他の角度を採用することも
可能であった。
By adjusting the temperature difference between the front and back sides of the film, the color contrast balance can be corrected. The temperature difference between the front and back sides of the film is
It can also be used to correct films with different color imbalances. Experiments were performed using the system shown in FIGS. 9 and 10 to illustrate the effectiveness of the present invention. In particular, the system 220 includes a development block 222 having a holding section 224 that holds a strip of photosensitive material 226 against a supporting backside 228 so that the backside 228 can be heated or cooled as appropriate. The processing solution is supplied by a supply tube 232 to the front side 230 of the strip of photosensitive material. Tube 232 is
A processing solution is supplied along the width of the photosensitive material 226. Block 222 is positioned at an angle such that the processing solution flows down along the surface of photosensitive material 226 and is captured by holding section 234. Pump 236
Removes the solution from the holding section 234 and returns it to the supply tube 232. A thermostat 238 is provided to monitor the temperature of the circulating processing solution. The block section 222 is provided with passages through which the cooling or heating solution passes, thereby controlling the temperature of the surface 228. A color developing solution as shown in Table 1 below was prepared, and the system shown in FIGS. 9 and 10 was used in Kodak Gold.
k Gold) 100 film was used to develop. The processing solution was supplied to the film surface at a rate of 1 liter / minute by a pump, and was caused to flow down the front side of the film by gravity. Preferably, the device was set so that the surface 228 was positioned at an angle of about 70 °, but other angles could be employed.

【0027】[0027]

【表1】 現像液の組成 炭酸カリウム(無水) 37.5g/l 亜硫酸ナトリウム(無水) 4.25g/l ヨウ化カリウム 1.2mg/l 臭化ナトリウム 1.3g/l 硫酸ヒドロキシルアミン 2.0g/l アンチ−カルシウム剤 6.5ml/l カラー現像剤 4.5g/l pH 10.00 以下の表2に示す処理サイクルを用いた。TABLE 1 Composition of developer Potassium carbonate (anhydrous) 37.5 g / l Sodium sulfite (anhydrous) 4.25 g / l Potassium iodide 1.2 mg / l Sodium bromide 1.3 g / l Hydroxylamine sulfate 2.0 g / L anti-calcium agent 6.5 ml / l color developer 4.5 g / l pH 10.00 The processing cycles shown in Table 2 below were used.

【0028】[0028]

【表2】処理サイクル 現像 195秒 漂白 180秒 定着 180秒 洗浄 180秒 尚、漂白は、コダックC−41フレキシカラー(flexic
olor)・ブリーチIIIであり、定着は、コダックC−4
1定着液である。
[Table 2] Processing cycle Developing 195 seconds Bleaching 180 seconds Fixing 180 seconds Washing 180 seconds Bleaching is performed using Kodak C-41 Flexic Color.
olor) Bleach III, with Kodak C-4
1 fixing solution.

【0029】フィルムの裏および表を通常のC−41現
像液温度37.8℃に加熱してコントロール実験を行っ
た。その結果を、図11において実線にて示す。フィル
ムの裏側を55℃に加熱して、現像液をフィルムの表側
で流下させて30.5℃とする第2の実験を実施した。
このデータを図11にて破線で示す。赤色のスピードお
よびコントラストは所望の効果と相当うまく一致してい
るが、青色(上部)および緑色(中間)層は、赤色(下
部)と比較して活性が低いか、あるいは、赤色層は青お
よび緑と比較して活性が高いことが判る。
A control experiment was performed by heating the back and front of the film to a normal C-41 developer temperature of 37.8 ° C. The result is shown by a solid line in FIG. A second experiment was performed in which the back side of the film was heated to 55 ° C. and the developer was allowed to flow down to 30.5 ° C. on the front side of the film.
This data is shown by the broken line in FIG. Although the speed and contrast of red are fairly consistent with the desired effect, the blue (top) and green (middle) layers are less active compared to red (bottom), or the red layer is blue and It turns out that activity is high compared with green.

【0030】次に、フィルムの裏側を23℃に維持し
て、現像液をフィルムの表側に流下して42℃に加熱し
た。これらの結果を図12において破線にて示し、裏側
および表側が37.8℃の場合のコントロール実験を実
線にて示す。この場合も、赤色のスピードおよびコント
ラストはコントロールと相当一致しているが、青色およ
び緑色はコントロールよりかなり大きいことが判る。こ
れは、この実験においては望ましい効果であり、フィル
ムの裏側を冷却して表側を加熱することにより、底部の
層に対して上方の層については大きくできることを示
す。
Next, while maintaining the back side of the film at 23 ° C., the developing solution was flowed down to the front side of the film and heated to 42 ° C. These results are shown by the broken lines in FIG. 12, and the control experiments when the back and front sides are at 37.8 ° C. are shown by the solid lines. Again, it can be seen that the speed and contrast of the red are fairly consistent with the control, while blue and green are much larger than the control. This is a desirable effect in this experiment and shows that by cooling the backside of the film and heating the front side, the layers above the bottom layer can be made larger.

【0031】フィルムの裏側を表側に対して加熱または
冷却することにより、複数層のフィルムにおける上方層
および下方層の相対的な活性を増やすまたは減らすこと
ができることを示した。本発明は、処理溶液に悪影響を
与えることなく、処理の効率を増やす処理装置を提供す
る。好ましい態様を特に参照して本発明を説明したが、
本発明の概念および範囲内において変更および修正が可
能であることが理解されよう。
It has been shown that heating or cooling the back side of the film to the front side can increase or decrease the relative activity of the upper and lower layers in a multi-layer film. The present invention provides a processing apparatus that increases processing efficiency without adversely affecting a processing solution. Although the invention has been described with particular reference to preferred embodiments,
It will be understood that variations and modifications are possible within the concept and scope of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 図1は、本発明に基づいて構成された装置の
模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram of an apparatus configured according to the present invention.

【図2】 図2は、図1の一部分の拡大断面図であり、
本発明の1つの要旨に基づいてヒーターにより加熱さ
れ、感光性材料が通過する時に処理溶液を衝突させる状
態を示す。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a part of FIG. 1,
FIG. 3 shows a state in which a processing solution is collided with a photosensitive material as it is heated by a heater according to one aspect of the present invention.

【図3】 図2の感光性材料の模式図である。FIG. 3 is a schematic view of the photosensitive material of FIG. 2;

【図4】 図4は、図1装置により処理される感光性材
料を非常に大きく拡大した図であり、乳剤層の温度勾配
および化学反応性が幅方向に沿った関数であることを示
す。
FIG. 4 is a very large enlargement of the photosensitive material processed by the apparatus of FIG. 1, showing that the temperature gradient and chemical reactivity of the emulsion layer are functions along the width.

【図5】 図2と同様の図であり、通過する感光性材料
の局所加熱のための修正した形態のヒーターを示す。
FIG. 5 is a view similar to FIG. 2, but showing a modified form of the heater for local heating of the photosensitive material passing therethrough;

【図6】 本発明に基づいて構成される修正した形態の
処理セクションの模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram of a modified form of a processing section configured in accordance with the present invention.

【図7】 本発明に基づいて構成されるもう1つの修正
された形態のラックおよびタンクを示す。
FIG. 7 illustrates another modified form of a rack and tank constructed in accordance with the present invention.

【図8】 本発明に基づいて構成された装置の更にもう
1つの修正された形態の、図5と同様の模式図である。
FIG. 8 is a schematic view similar to FIG. 5, of yet another modified form of an apparatus constructed in accordance with the present invention.

【図9】 フィルムの表側と裏側との間で温度差を与え
るフィルム現像装置の模式図である。
FIG. 9 is a schematic diagram of a film developing device that gives a temperature difference between the front side and the back side of the film.

【図10】 図9の線A−Aに沿った現像セクションの
断面図である。
FIG. 10 is a sectional view of the developing section taken along line AA of FIG. 9;

【図11】 感光性材料の裏側に熱を加えた場合の種々
の色の乳剤層に与える本発明の影響を、通常の処理の場
合と比較して示すグラフである。
FIG. 11 is a graph showing the effect of the present invention on the emulsion layers of various colors when heat is applied to the back side of the photosensitive material, as compared with the case of ordinary processing.

【図12】 感光性材料の裏側を冷却した場合の種々の
色の乳剤層に与える本発明の影響を、通常の処理の場合
と比較して示すグラフである。
FIG. 12 is a graph showing the effect of the present invention on the emulsion layers of various colors when the back side of the photosensitive material is cooled, as compared with the case of ordinary processing.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,210…装置、11…処理セクション、12…処
理タンク、14,212…ラック、16…処理チャンネ
ル、18…処理溶液、20…感光性材料、22…出口、
24…再循環システム、28,32,44,48,180…
導管、30…再循環ポンプ、34…マニホールド、3
6,38,40…リザーバー、42…フィルター、46…
ノズル、50,134,136,142…表面、52,5
4,56,58,60…ローラー対、62…ノズル開口
部、64…壁、63…断熱ジャケット、80…ヒータ
ー、82…第1断熱ブロック、92…ローラー、94…
キャビティ、95…上部表面、100…支持ベース、1
02…乳剤層、103,104,105,106,107,
108,109,110,111,112,113,114…
層、130…ヒーター、138…取り付けボディセクシ
ョン、140…熱伝導要素、142…外側係合表面、1
44…裏面、160…冷却コイル、152…クロス導
管、170,171,172…バルブ、222…現像ブロ
ック、224…保持セクション、228…支持裏側面、
226…感光性材料、230…表側面、232…供給チ
ューブ、234…保持セクション、236…ポンプ、2
38…サーモスタット。
10,210 device, 11 processing section, 12 processing tank, 14,212 rack, 16 processing channel, 18 processing solution, 20 photosensitive material, 22 outlet,
24 ... recirculation system, 28,32,44,48,180 ...
Conduit, 30 recirculation pump, 34 manifold, 3
6, 38, 40 ... reservoir, 42 ... filter, 46 ...
Nozzle, 50, 134, 136, 142 ... surface, 52, 5
4, 56, 58, 60: roller pair, 62: nozzle opening, 64: wall, 63: heat insulating jacket, 80: heater, 82: first heat insulating block, 92: roller, 94 ...
Cavity, 95 ... Top surface, 100 ... Support base, 1
02 ... Emulsion layer, 103,104,105,106,107,
108,109,110,111,112,113,114 ...
Layers, 130 ... heater, 138 ... mounting body section, 140 ... heat conducting element, 142 ... outer engagement surface, 1
44 ... back surface, 160 ... cooling coil, 152 ... cross conduit, 170, 171, 172 ... valve, 222 ... development block, 224 ... holding section, 228 ... support back side surface,
226 photosensitive material 230 230 front side 232 supply tube 234 holding section 236 pump 2
38 ... Thermostat.

フロントページの続き (72)発明者 ピーター・ジェイ・ツイスト イギリス、エイチピー16・9エヌイー、バ ッキンガムシャー、リー・コモン・ミセン デン、ベリンガー・ロード、ウッドサイドContinued on the front page (72) Inventor Peter Jay Twist UK, 16.9N, Buckinghamshire, Lee Common Missenden, Bellinger Road, Woodside

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感光性材料を現像するための写真処理装
置であって、 感光性材料を処理する処理溶液を含む処理タンク、 処理溶液の中で感光性材料を移動させる移送機構、およ
び感光性材料にわたって温度勾配を形成するための加熱
および/または冷却機構を有して成る装置。
1. A photographic processing apparatus for developing a photosensitive material, comprising: a processing tank containing a processing solution for processing the photosensitive material; a transfer mechanism for moving the photosensitive material in the processing solution; An apparatus comprising a heating and / or cooling mechanism for creating a temperature gradient across a material.
【請求項2】 処理溶液を含む処理タンクに、複数の異
なる感光性層を有する乳剤層を有して成る感光性材料を
通すことにより感光性材料を処理する方法であって、 処理溶液の中を通って感光性材料を移動させること、お
よび乳剤層を横切って温度勾配を形成するように、局所
的な加熱または冷却に感光性材料を付すことを含んで成
る方法。
2. A method for processing a photosensitive material by passing a photosensitive material having an emulsion layer having a plurality of different photosensitive layers through a processing tank containing a processing solution, the method comprising: Moving the photosensitive material through the emulsion layer and subjecting the photosensitive material to local heating or cooling to form a temperature gradient across the emulsion layer.
JP15112898A 1997-05-30 1998-06-01 Photographic processing device Pending JPH10333306A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US86579397A 1997-05-30 1997-05-30
US08/865793 1997-05-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10333306A true JPH10333306A (en) 1998-12-18

Family

ID=25346239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15112898A Pending JPH10333306A (en) 1997-05-30 1998-06-01 Photographic processing device

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0881537B1 (en)
JP (1) JPH10333306A (en)
CN (1) CN1230701A (en)
DE (1) DE69821827D1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109164673A (en) * 2018-10-25 2019-01-08 叶柳城 A kind of developing machine

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3850635A (en) * 1972-08-03 1974-11-26 Cutler Hammer Inc Method and apparatus for developing heat processable photographic film
GB9216334D0 (en) * 1992-07-31 1992-09-16 Kodak Ltd Film transport means for use in a film dryer
JP3128186B2 (en) * 1994-12-19 2001-01-29 キヤノン株式会社 Electrophotographic equipment

Also Published As

Publication number Publication date
DE69821827D1 (en) 2004-04-01
CN1230701A (en) 1999-10-06
EP0881537A1 (en) 1998-12-02
EP0881537B1 (en) 2004-02-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5845169A (en) Photographic processor
JPH10333306A (en) Photographic processing device
EP0864944A1 (en) Thermal processing system
KR19980081474A (en) Photo processor and photosensitive material processing method
JPH08248607A (en) Digital color print developing processing apparatus and photosensitive material developing processing machine as well as print developing processing method of color photosensitive material
TW200301407A (en) Developing device and method thereof
JPS6361248A (en) Automatic developing device
JPS60138550A (en) Resist developing device
Ives et al. Simplification of motion picture processing methods
EP0698818B1 (en) Photographic processing method
JPS61202075A (en) Drier
JP2002006465A (en) Automatic developing machine for photosensitive material
JP2807829B2 (en) Photosensitive material processing equipment
JP2880820B2 (en) Sensitive material processing equipment
JP2002333698A (en) Drying equipment for photosensitive material
JPH0339961A (en) Device for processing photosensitive material
JP2002072437A (en) Drying equipment for photosensitive material
JP2000122254A (en) Photographic processing device
JPS61202076A (en) Drier
JPH11231493A (en) Film processor
JPH02271354A (en) Integral type printer processor
JPH10303100A (en) Substrate treatment device
JPS6161533U (en)
JPH09281683A (en) Automatic developing machine for photographic sensitive material
JP2000227650A (en) Processing liquid heating device and automatic developing device for photographic sensitive material