JPH10326563A - Manufacture of plasma display panel - Google Patents

Manufacture of plasma display panel

Info

Publication number
JPH10326563A
JPH10326563A JP13711097A JP13711097A JPH10326563A JP H10326563 A JPH10326563 A JP H10326563A JP 13711097 A JP13711097 A JP 13711097A JP 13711097 A JP13711097 A JP 13711097A JP H10326563 A JPH10326563 A JP H10326563A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass powder
melting point
low melting
dielectric layer
low
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13711097A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinji Tadaki
進二 只木
Noriyuki Awaji
則之 淡路
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP13711097A priority Critical patent/JPH10326563A/en
Publication of JPH10326563A publication Critical patent/JPH10326563A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Glass Compositions (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enlarge a process margin, and improve the defoaming property by forming a dielectric layer, which covers an electrode, of the mixture, which includes at least two kinds of glass powders having a different softening point. SOLUTION: In the case where two kinds of low melting point glass powder L and H are mixed with each other so as to raise the temperature, the low melting point glass powder L is firstly melted, and diffusion is generated between the low melting point glass powder themselves, and viscosity of the glass powder H having a high softening point is lowered by the diffusion with the melting of the low melting point glass powder L. In comparison with a case of using single low melting point glass powder, low viscosity profitable to the work can be maintained over a wide temperature range by using the mixture of the plural kinds of low melting point glass powders, thereby a process margin can be enlarged. Since viscosity can be lowered at a low temperature, defoaming property is improved. In the work, the glass powder is desirably formed into the paste and a sheet, which is distributed in a vehicle formed of the resin and the solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルの製造方法に関する。更に詳しくは、本発明
は、間接放電形式のプラズマディスプレイパネルを構成
する誘電体層の製造方法に関する。
The present invention relates to a method for manufacturing a plasma display panel. More specifically, the present invention relates to a method for manufacturing a dielectric layer constituting an indirect discharge type plasma display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル(以下、P
DPと称する)は、表面輝度の高い自己発光型の表示装
置である。このPDPは、表示画面の大型化及び表示速
度の高速化が可能であることから、ブラウン管(以下、
CRTと称する)に代わる表示装置として注目されてい
る。特に、蛍光体によりカラー表示を実現した面放電型
PDPは、ハイビジョンを含むテレビ映像の分野にその
用途が拡大しつつある。
2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter referred to as P
DP) is a self-luminous display device with high surface luminance. This PDP is capable of increasing the size of the display screen and increasing the display speed.
(Referred to as CRT) is attracting attention as a display device. In particular, the surface discharge type PDP, which realizes color display by using a phosphor, is expanding its use in the field of television images including high-definition television.

【0003】間接放電形式のPDPは、誘電体層で覆わ
れ電極を有する一対の基板を所定の放電空間を介して対
向させ、その空間には適当な放電ガスが封入されてなる
構成を有している。ここで、上記のPDPにおいて、誘
電体層は、一般的に低融点ガラス粉末を溶剤と樹脂から
なるビークルに分散させたペーストを使用し、このペー
ストを印刷や転写することにより塗膜とし、この塗膜を
乾燥後、焼成することにより形成されている。
An indirect discharge type PDP has a structure in which a pair of substrates covered with a dielectric layer and having electrodes are opposed to each other via a predetermined discharge space, and an appropriate discharge gas is sealed in the space. ing. Here, in the above-mentioned PDP, the dielectric layer generally uses a paste obtained by dispersing a low-melting glass powder in a vehicle made of a solvent and a resin, and prints or transfers the paste to form a coating film. It is formed by drying and firing the coating film.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】誘電体層の形成に使用
される低融点ガラス粉末は単一種であり、また、焼成温
度は一般に溶融時の低融点ガラスの粘度が約105 ps
以下となるように設定されている。単一種からなる低融
点ガラス粉末の場合、プロセスマージンが狭いため、焼
成時に脱泡性が悪化する等の問題があった。脱泡性が悪
化すると、泡が存在する部分の誘電体層に絶縁破壊が生
じ、それにより表示ができないこととなる。
The low melting point glass powder used for forming the dielectric layer is a single kind, and the firing temperature is generally such that the viscosity of the low melting point glass at the time of melting is about 10 5 ps.
It is set to be as follows. In the case of a single type of low melting point glass powder, there is a problem that the defoaming property is deteriorated during firing because the process margin is narrow. When the defoaming property is deteriorated, dielectric breakdown occurs in a portion of the dielectric layer where bubbles are present, whereby display cannot be performed.

【0005】脱泡性を確保するために低融点ガラス粉末
の軟化点を下げると、後に形成される隔壁や誘電体層の
保護層の形成温度を低下させる必要がある。なお、焼成
温度を脱泡性を確保するために極端に高温に設定する
と、PDPを構成する他の材料に悪影響を与えることと
なる。脱泡性を改善する方法として、特開平2−123
635号公報には、軟化点の異なる複数の低融点ガラス
膜を積層する方法が記載されている。しかしながら、こ
の方法では、誘電体層を複数層積層する必要があるた
め、工程数が増加し、コストがかかるという問題があっ
た。また、個々の誘電体層は単一種の低融点ガラスから
なっており、そのためプロセスマージンが狭くなるとい
う問題を解決することはできなかった。
If the softening point of the low-melting glass powder is lowered in order to ensure the defoaming property, it is necessary to lower the forming temperature of the partition walls formed later and the protective layer of the dielectric layer. If the firing temperature is set to an extremely high temperature in order to secure the defoaming property, other materials constituting the PDP will be adversely affected. As a method for improving the defoaming property, JP-A-2-123
No. 635 describes a method of laminating a plurality of low melting point glass films having different softening points. However, in this method, since a plurality of dielectric layers need to be stacked, there is a problem that the number of steps is increased and the cost is increased. Further, each dielectric layer is made of a single kind of low-melting glass, so that the problem that the process margin is narrowed cannot be solved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、電極を誘電体層により覆った間接放電形式のプラズ
マディスプレイパネルにおいて、誘電体層を、軟化点の
異なる少なくとも2種のガラス粉末を含む混合体を使用
して形成することを特徴とするPDPの製造方法が提供
される。
According to the present invention, in a plasma display panel of an indirect discharge type in which electrodes are covered with a dielectric layer, the dielectric layer contains at least two kinds of glass powders having different softening points. A method for producing a PDP is provided, wherein the method is formed using a mixture.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】本発明に使用できる基板として
は、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板等が
挙げられる。この内、ガラス基板が安価なので好まし
い。基板上には、電極及び誘電体層が形成される。ここ
で、面放電型PDPの場合、一方の基板が前面基板、他
方の基板が背面基板と呼ばれる。前面基板上に形成され
る電極は、特に限定されず公知の材料及び構成を使用す
ることができる。例えば、基板上に複数本のストライプ
状の幅の広い透明導電膜とその導電性を補うための幅の
狭い金属膜の積層体からなる構成が挙げられる。なお、
幅の広い透明電極はサスティン電極、幅の狭い電極はバ
ス電極と、それぞれ一般的に呼ばれる。ここで、サステ
ィン電極は、例えばITO(酸化インジウム+酸化ス
ズ)やネサ(酸化スズ)等の酸化金属から構成され、蒸
着等の成膜法とエッチング法を組み合わせることによ
り、所望の本数、厚さ、幅及び間隔で形成することがで
きる。他方、バス電極は、Ag、Au、Al、Cu、C
r及びそれらの積層体(例えばCr/Cu/Cr)等か
ら構成され、スパッタ法、蒸着法等の成膜法とエッチン
グ法を組み合わせることにより、所望の本数、厚さ、幅
及び間隔で形成することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Examples of substrates that can be used in the present invention include a glass substrate, a quartz substrate, and a silicon substrate. Among them, a glass substrate is preferable because it is inexpensive. An electrode and a dielectric layer are formed on the substrate. Here, in the case of a surface discharge type PDP, one substrate is called a front substrate and the other substrate is called a rear substrate. The electrodes formed on the front substrate are not particularly limited, and known materials and configurations can be used. For example, there is a configuration in which a plurality of stripe-shaped transparent conductive films having a wide width and a metal film having a narrow width for supplementing the conductivity are formed on a substrate. In addition,
A wide transparent electrode is generally called a sustain electrode, and a narrow electrode is generally called a bus electrode. Here, the sustain electrodes are made of a metal oxide such as ITO (indium oxide + tin oxide) or nesa (tin oxide), for example, and a desired number and thickness are obtained by combining a film forming method such as vapor deposition with an etching method. , Width and spacing. On the other hand, the bus electrodes are made of Ag, Au, Al, Cu, C
r and a laminate thereof (for example, Cr / Cu / Cr) or the like, and are formed in a desired number, thickness, width, and interval by combining a film forming method such as a sputtering method and a vapor deposition method with an etching method. be able to.

【0008】一方、背面基板上に形成される電極は、特
に限定されず公知の材料及び構成を使用することができ
る。例えば、複数本のストライプ状の構成からなってい
てもよい。なお、この電極は一般にアドレス電極と呼ば
れる。ここで、アドレス電極は、Ag、Au、Al、C
u、Cr及びそれらの積層体(例えばCr/Cu/C
r)等から構成され、スパッタ法、蒸着法等の成膜法と
エッチング法を組み合わせることにより、所望の本数、
厚さ、幅及び間隔で形成することができる。
[0008] On the other hand, the electrodes formed on the rear substrate are not particularly limited, and known materials and structures can be used. For example, it may be composed of a plurality of stripes. This electrode is generally called an address electrode. Here, the address electrodes are Ag, Au, Al, C
u, Cr and their laminates (eg, Cr / Cu / C
r) and the like, by combining a film forming method such as a sputtering method and a vapor deposition method with an etching method,
It can be formed with thickness, width and spacing.

【0009】次に、上記電極を覆うように誘電体層が形
成される。なお、誘電体層は、PDP駆動時の面放電に
より生じるイオンによる衝撃から上記電極を保護する役
割も果たす。本発明では、この誘電体層を、軟化点の異
なる少なくとも2種のガラス粉末を含む混合体を使用し
て形成することを特徴の1つとしている。ここで本発明
に使用できるガラス粉末としては、例えば、PbO−S
iO2 −B2 3 系、PbO−B2 3 −SiO2 −Z
nO系、PbO−SiO2 −ZnO系、Bi2 3 −S
iO2 −B2 3 系等の粉末が挙げられる。上記粉末
に、R2 O(R=Li、Na、K等)、BaO、Ca
O、MgO、TiO2 、ZrO 2 、Al2 3 、Na
F、P2 5 等の粉末を加えてもよい。ガラス粉末の軟
化点は、ガラス粉末の構成、組成等を適宜変化させるこ
とにより、所望の値に調節することができる。
Next, a dielectric layer is formed so as to cover the electrodes.
Is done. The dielectric layer is used for surface discharge during PDP driving.
Protects the electrodes from the impact of ions
It also fulfills its tasks. In the present invention, this dielectric layer is provided with a different softening point.
A mixture comprising at least two glass powders
Is formed as one of the features. Here the present invention
Examples of glass powder that can be used for PbO-S
iOTwo-BTwoOThreeSystem, PbO-BTwoOThree-SiOTwo-Z
nO-based, PbO-SiOTwo-ZnO-based, BiTwoOThree-S
iOTwo-BTwoOThreePowder such as a system. Above powder
And RTwoO (R = Li, Na, K, etc.), BaO, Ca
O, MgO, TiOTwo, ZrO Two, AlTwoOThree, Na
F, PTwoOFiveMay be added. Soft glass powder
The formation point is determined by appropriately changing the composition, composition, etc.
Thus, the desired value can be adjusted.

【0010】ここで、本発明の原理を図1を参照しつつ
説明する。図1の横軸は温度、縦軸は粘度の対数表示で
ある。図1中、実線は、軟化点の異なる2種類の低融点
ガラス粉末L及びHの温度−粘度曲線を示している。こ
の2種類の低融点ガラス粉末L及びHを混合し、温度を
上げた場合、まず低い軟化点の低融点ガラス粉末Lが溶
融する。この際、低融点ガラス粉末相互間で拡散が起こ
り、溶けはじめの温度より粘度は上昇する。一方、高い
軟化点の低融点ガラス粉末Hは、低融点ガラス粉末Lの
溶融にともなう拡散により、粘度が低下する。図1中の
破線は、この粘度変化を示している。従って、単一種の
低融点ガラス粉末を使用するより、複数種の低融点ガラ
ス粉末を混合した方が、広い温度範囲にわたって作業に
有利な低粘度を維持することができるので、プロセスマ
ージンを広げることが可能となる。更に、単一種の低融
点ガラス粉末を使用するより、低い温度で粘度を低下さ
せることができるので、脱泡性も向上させることができ
る。
Here, the principle of the present invention will be described with reference to FIG. The horizontal axis in FIG. 1 is temperature and the vertical axis is logarithmic representation of viscosity. In FIG. 1, the solid line shows the temperature-viscosity curves of two kinds of low melting point glass powders L and H having different softening points. When the two types of low melting point glass powders L and H are mixed and the temperature is increased, first, the low melting point glass powder L having a low softening point is melted. At this time, diffusion occurs between the low melting point glass powders, and the viscosity increases from the temperature at which melting starts. On the other hand, the viscosity of the low-melting glass powder H having a high softening point decreases due to diffusion accompanying the melting of the low-melting glass powder L. The broken line in FIG. 1 indicates this change in viscosity. Therefore, rather than using a single type of low-melting glass powder, it is possible to maintain a low viscosity that is advantageous for work over a wide temperature range by mixing a plurality of types of low-melting glass powder, thereby expanding the process margin. Becomes possible. Furthermore, since the viscosity can be reduced at a lower temperature than using a single kind of low melting point glass powder, the defoaming property can be improved.

【0011】なお、上記では、2種類の低融点ガラス粉
末を使用した場合について説明したが、本発明はこの場
合に限定されず種々の変形が可能である。また、本発明
では、上記図1から判るように、所望の溶融時の粘度を
得るために、軟化点の高いものと低いものの少なくとも
2種の低融点ガラス粉末を含むことが好ましい。更に、
ガラス粉末を含む混合体は、ガラス粉末を樹脂及び溶剤
からなるビークルに分散したペーストや、ガラス粉末を
含む樹脂シートの形状からなることが好ましい。
In the above, the case where two kinds of low melting point glass powders are used has been described. However, the present invention is not limited to this case, and various modifications are possible. In the present invention, as can be seen from FIG. 1, in order to obtain a desired viscosity at the time of melting, it is preferable to include at least two kinds of low melting point glass powders having a high softening point and a low softening point. Furthermore,
The mixture containing the glass powder is preferably formed of a paste in which the glass powder is dispersed in a vehicle made of a resin and a solvent, or a resin sheet containing the glass powder.

【0012】ペースト及びシートに含まれる樹脂として
は、特に限定されず、公知の樹脂をいずれの場合にも使
用することができる。具体的には、ポリアクリル酸ブチ
ル、ポリアクリル酸2−エチルヘキシル、ポリアクリル
酸等の(メタ)アクリル樹脂、メチルセルロース、エチ
ルセルロース等のセルロース樹脂等が挙げられる。上記
樹脂と低融点ガラス粉末の配合割合は、0.1〜20:
99.9〜80(重量%)が好ましく、0.1〜10:
99.9〜90がより好ましい。ここで、樹脂の配合割
合が、0.1%より少ないと均一に樹脂を混合すること
ができないので好ましくない。一方、樹脂の配合割合
が、20%より多いと形成される誘電体層に割れが生じ
るので好ましくない。
[0012] The resin contained in the paste and sheet is not particularly limited, and known resins can be used in any case. Specific examples include (meth) acrylic resins such as polybutyl acrylate, 2-ethylhexyl polyacrylate, and polyacrylic acid, and cellulose resins such as methyl cellulose and ethyl cellulose. The mixing ratio of the resin and the low-melting glass powder is 0.1 to 20:
99.9 to 80 (% by weight) is preferred, and 0.1 to 10:
99.9-90 is more preferred. Here, if the mixing ratio of the resin is less than 0.1%, it is not preferable because the resin cannot be uniformly mixed. On the other hand, when the compounding ratio of the resin is more than 20%, the formed dielectric layer is unfavorably cracked.

【0013】また、ペーストに含まれる溶剤としては、
上記樹脂を溶解しうる溶剤であればよく、特に限定され
ない。具体的には、沸点が高いものが好ましく、例えば
テルピネオール、ブチルカルビトール等が挙げられる。
次に、誘電体層の形成方法としては、ペーストを使用す
る場合、該ペーストを印刷法や転写法等により塗布した
後、焼成する方法、シートを使用する場合、該シートを
熱圧着等により接着した後、焼成する方法がそれぞれ挙
げられる。焼成温度は、混合体に含まれる材料等により
相違するが、例えば500〜600℃で行われる。
The solvent contained in the paste includes:
Any solvent can be used as long as it can dissolve the resin, and is not particularly limited. Specifically, those having a high boiling point are preferable, and examples thereof include terpineol and butyl carbitol.
Next, as a method of forming the dielectric layer, in the case of using a paste, the paste is applied by a printing method or a transfer method, and then fired. In the case of using a sheet, the sheet is bonded by thermocompression bonding or the like. After that, a method of firing is given. The firing temperature varies depending on the material and the like contained in the mixture, but is, for example, 500 to 600 ° C.

【0014】なお、誘電体層は、10〜50μmの厚さ
を有することが好ましい。また、前面基板の誘電体層上
には、MgO等の保護膜を形成してもよい。次に、背面
基板の誘電体層上には、公知の方法(例えば、サンドブ
ラスト法、転写法等)により隔壁が形成される。この隔
壁は、アドレス電極間に複数本ストライプ状に形成する
ことが好ましい。更に、隔壁の側面と誘電体層上には蛍
光体層が通常設けられる。
It is preferable that the dielectric layer has a thickness of 10 to 50 μm. Further, a protective film such as MgO may be formed on the dielectric layer of the front substrate. Next, a partition is formed on the dielectric layer of the back substrate by a known method (for example, a sand blast method, a transfer method, or the like). It is preferable that a plurality of the partition walls are formed in a stripe shape between the address electrodes. Further, a phosphor layer is usually provided on the side surface of the partition and on the dielectric layer.

【0015】このように形成された前面基板と背面基板
を、それぞれの上に形成された電極が直交するように対
向させ、適切な放電ガスを封入することによりPDPを
形成することができる。より具体的には、本発明のPD
Pの製造方法を利用して、例えば図2に示す如きPDP
を形成することができる。
The PDP can be formed by causing the front substrate and the rear substrate thus formed to face each other so that the electrodes formed thereon are orthogonal to each other, and filling an appropriate discharge gas. More specifically, the PD of the present invention
Utilizing the method of manufacturing P, for example, a PDP as shown in FIG.
Can be formed.

【0016】図2は、一般的な間接放電形式の面放電型
PDPの一画素に対応する概略斜視図であり、蛍光体の
配置形態による分類により、反射型に属し、かつ3電極
構造のPDP1を示している。図2のPDP1は、一対
のガラス基板2と5が対向して配置されている。ガラス
基板2には、一対の表示電極XとYが平行に形成され、
表示電極XとYを覆うようにガラス基板2上に壁電荷に
よって放電を維持する交流(AC)駆動用の誘電体層3
が形成され、更に誘電体層3上に保護膜4が形成されて
いる。一方、ガラス基板5には、平面的に見て表示電極
XとYに直交する位置に複数のストライプ状のアドレス
電極Aが形成され、該アドレス電極Aを覆うようにガラ
ス基板5上に誘電体層6が記載されている。更に、隣接
するアドレス電極A間かつ該アドレス電極Aと平行にな
るように複数のストライプ状の隔壁7が形成されてい
る。隣接する隔壁7の側壁及びアドレス電極A上には蛍
光体層8が形成されている。次に、9は放電空間を示
し、表示電極XとYの延伸方向に単位発光領域(以下、
EUと称する)毎に区画され、かつその間隙寸法が規定
されている。なお、放電空間9には適当な放電ガスが封
入されている。
FIG. 2 is a schematic perspective view corresponding to one pixel of a surface discharge type PDP of a general indirect discharge type. The PDP 1 having a three-electrode structure belongs to a reflection type according to the arrangement of phosphors. Is shown. In the PDP 1 of FIG. 2, a pair of glass substrates 2 and 5 are arranged to face each other. On the glass substrate 2, a pair of display electrodes X and Y are formed in parallel,
An alternating current (AC) driving dielectric layer 3 for maintaining discharge by wall charges on the glass substrate 2 so as to cover the display electrodes X and Y.
Is formed, and a protective film 4 is formed on the dielectric layer 3. On the other hand, a plurality of stripe-shaped address electrodes A are formed on the glass substrate 5 at positions orthogonal to the display electrodes X and Y when viewed in a plane, and a dielectric material is formed on the glass substrate 5 so as to cover the address electrodes A. Layer 6 is described. Further, a plurality of stripe-shaped barrier ribs 7 are formed between adjacent address electrodes A and in parallel with the address electrodes A. A phosphor layer 8 is formed on the side wall of the adjacent partition wall 7 and on the address electrode A. Next, reference numeral 9 denotes a discharge space, and a unit light-emitting region (hereinafter, referred to as a unit light-emitting region in the extending direction of the display electrodes X and Y)
(Referred to as EU) and the gap size is defined. The discharge space 9 is filled with an appropriate discharge gas.

【0017】PDP1は、図2のように1つの画素に対
応する3つのEUのそれぞれにおいて、表示電極Yとア
ドレス電極Aとの交差部に表示又は非表示を選択するた
めの選択放電セルが画定されている。また、表示電極X
とYの間に主放電セルが画定されている。ここで、蛍光
体層8は、面放電により生じるイオンによる衝撃を避け
るために、表示電極XとYと反対側のガラス基板5上の
隔壁7間に設けられている。この蛍光体層8は、主放電
セルの面放電により生じる紫外線によって励起され発光
する。蛍光体層8の表面層(放電空間9と接する側)で
発生した光は、誘電体層3及びガラス基板2を透過して
外部へ射出される。つまり、PDP1では、ガラス基板
2の外面が表示面Dとなる。
In the PDP 1, as shown in FIG. 2, in each of three EUs corresponding to one pixel, a selected discharge cell for selecting display or non-display at the intersection of the display electrode Y and the address electrode A is defined. Have been. Also, the display electrode X
And Y, a main discharge cell is defined. Here, the phosphor layer 8 is provided between the partition walls 7 on the glass substrate 5 on the opposite side of the display electrodes X and Y in order to avoid impact by ions generated by surface discharge. The phosphor layer 8 emits light when excited by ultraviolet rays generated by surface discharge of the main discharge cells. Light generated in the surface layer of the phosphor layer 8 (on the side in contact with the discharge space 9) passes through the dielectric layer 3 and the glass substrate 2 and is emitted to the outside. That is, in the PDP 1, the outer surface of the glass substrate 2 becomes the display surface D.

【0018】表示電極XとYは、蛍光体層8に対して表
示面D側に配置されるので、面放電を広範囲とし、かつ
表示光の遮光を最小限とするために、幅の広い透明導電
膜10とその導電性を補うための幅の狭い金属膜(バス
電極)11とから構成されている。上記のようにPDP
は表示電極XとYを覆い、放電を維持するための誘電体
層3をもつガラス基板2(前面基板)と、放電空間9を
区画するための隔壁7をもつガラス基板5(背面基板)
の2枚のガラス基板を貼り合わせることにより構成され
ている。
Since the display electrodes X and Y are arranged on the display surface D side with respect to the phosphor layer 8, a wide transparent electrode is used to widen the surface discharge and minimize the shielding of the display light. It is composed of a conductive film 10 and a narrow metal film (bus electrode) 11 for supplementing its conductivity. PDP as above
Is a glass substrate 2 (front substrate) that covers the display electrodes X and Y and has a dielectric layer 3 for maintaining a discharge, and a glass substrate 5 (back substrate) that has a partition 7 for partitioning a discharge space 9.
The two glass substrates are bonded together.

【0019】[0019]

【実施例】【Example】

実施例1及び比較例1 平均粒径3μmのPbO−B2 3 −SiO2 −ZnO
系の低融点ガラス粉末No.1(軟化点:475℃)と
No.2(軟化点:585℃)〔それぞれ、LS−31
62S、LS−3232(日本電気硝子社製)〕を、テ
ルピネオール95重量%とエチルセルロース5重量%の
ビークルに8:2(重量比)の割合で混合し、3本ロー
ルにより分散させ、ペーストを調製した。このペースト
を基板上にスクリーン印刷法により30μmの厚さで塗
膜を形成し、130℃で30分間乾燥させた。この塗膜
を10℃/分で昇温して400℃まで上げ、400℃で
10分間脱樹脂を行った。更に、10℃/分で昇温し
て、560℃、570℃、580℃及び590℃のそれ
ぞれの温度で10分間維持することにより焼成した後、
約5℃/分で常温まで降温して誘電体層を形成した。こ
の誘電体層の500nmでの光透過率を表1に示した。
Example 1 and Comparative Example 1 PbO—B 2 O 3 —SiO 2 —ZnO having an average particle size of 3 μm
Low melting glass powder No. 1 (softening point: 475 ° C.) 2 (softening point: 585 ° C) [each of LS-31
62S, LS-3232 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.)] is mixed in a vehicle of 95% by weight of terpineol and 5% by weight of ethylcellulose at a ratio of 8: 2 (weight ratio), and dispersed by three rolls to prepare a paste. did. This paste was coated on a substrate by a screen printing method to form a coating film having a thickness of 30 μm, and dried at 130 ° C. for 30 minutes. This coating film was heated at a rate of 10 ° C./min to 400 ° C., and deresined at 400 ° C. for 10 minutes. After firing at 10 ° C./min and maintaining at 560 ° C., 570 ° C., 580 ° C. and 590 ° C. for 10 minutes,
The temperature was lowered to room temperature at about 5 ° C./min to form a dielectric layer. Table 1 shows the light transmittance of this dielectric layer at 500 nm.

【0020】なお、比較例1として2種類の低融点ガラ
ス粉末の代わりに軟化点が480℃の1種類の低融点ガ
ラス粉末を使用すること以外は、上記と同様にして光透
過率を測定した。結果を表1に示した。
The light transmittance of Comparative Example 1 was measured in the same manner as described above except that one kind of low melting point glass powder having a softening point of 480 ° C. was used instead of two kinds of low melting point glass powder. . The results are shown in Table 1.

【0021】[0021]

【表1】 [Table 1]

【0022】表1から明らかなように、実施例1では焼
成温度が560〜590℃の広範囲にわたって安定した
光透過率を示していることが判る。従って、比較例より
プロセスマージンを広げることができる。
As is evident from Table 1, in Example 1, the sintering temperature shows a stable light transmittance over a wide range of 560 to 590 ° C. Therefore, the process margin can be increased as compared with the comparative example.

【0023】実施例2 実施例1と同じ低融点ガラス粉末を使用し、これにアク
リル樹脂20重量%、可塑剤としてジブチルフタレート
3重量%からなるグリーンシート(膜厚50μm)を作
製した。これを基板上に熱接着し、実施例1と同様の方
法で焼成を行い、光透過率を測定した。得られた結果
は、実施例1と同様であった。
Example 2 The same low melting glass powder as in Example 1 was used, and a green sheet (thickness: 50 μm) comprising 20% by weight of an acrylic resin and 3% by weight of dibutyl phthalate as a plasticizer was prepared. This was thermally bonded on a substrate, baked in the same manner as in Example 1, and the light transmittance was measured. The results obtained were the same as in Example 1.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、単一種の低融点ガラス
粉末を使用するよりも広い温度範囲にわたって作業に有
利な低粘度を維持することができるので、プロセスマー
ジンを広げることが可能となると共に脱泡性も向上させ
ることができる。
According to the present invention, it is possible to maintain a low viscosity which is advantageous for work over a wider temperature range than using a single kind of low melting point glass powder, so that a process margin can be expanded. In addition, the defoaming property can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理の説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of the principle of the present invention.

【図2】本発明のPDPの概略斜視図である。FIG. 2 is a schematic perspective view of a PDP of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 PDP 2、5 ガラス基板 3、6 誘電体層 4 保護膜 7 隔壁 8 蛍光体層 9 放電空間 10 透明導電膜 11 金属膜 A アドレス電極 D 表示面 X、Y 表示電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 PDP 2, 5 Glass substrate 3, 6 Dielectric layer 4 Protective film 7 Partition 8 Phosphor layer 9 Discharge space 10 Transparent conductive film 11 Metal film A Address electrode D Display surface X, Y display electrode

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電極を誘電体層により覆った間接放電形
式のプラズマディスプレイパネルにおいて、誘電体層
を、軟化点の異なる少なくとも2種のガラス粉末を含む
混合体を使用して形成することを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
1. An indirect discharge type plasma display panel in which electrodes are covered with a dielectric layer, wherein the dielectric layer is formed using a mixture containing at least two kinds of glass powders having different softening points. Manufacturing method of a plasma display panel.
JP13711097A 1997-05-27 1997-05-27 Manufacture of plasma display panel Pending JPH10326563A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13711097A JPH10326563A (en) 1997-05-27 1997-05-27 Manufacture of plasma display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13711097A JPH10326563A (en) 1997-05-27 1997-05-27 Manufacture of plasma display panel

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10326563A true JPH10326563A (en) 1998-12-08

Family

ID=15191081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13711097A Pending JPH10326563A (en) 1997-05-27 1997-05-27 Manufacture of plasma display panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10326563A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100693018B1 (en) * 1999-05-20 2007-03-12 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 Gas discharge display panel and method of manufacturing the same
CN108417309A (en) * 2018-05-04 2018-08-17 上海汉欣电线电缆有限公司 Ceramic fire resistant band and preparation method thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100693018B1 (en) * 1999-05-20 2007-03-12 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 Gas discharge display panel and method of manufacturing the same
CN108417309A (en) * 2018-05-04 2018-08-17 上海汉欣电线电缆有限公司 Ceramic fire resistant band and preparation method thereof
CN108417309B (en) * 2018-05-04 2024-05-10 上海汉欣电线电缆有限公司 Ceramic refractory belt and preparation method thereof

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100812866B1 (en) Plasma display panel and method of making the same
KR100769414B1 (en) Electron emission thin film, plasma display panel comprising it and method of manufacturing them
JP2000223032A (en) Plasma display panel and manufacture thereof
JP4849452B2 (en) Plasma display panel partition wall paste composition, green sheet, and plasma display panel using the same
KR100333416B1 (en) Display Device with Electrode Combined Color Filter and Method of Fabricating Thereof
JP3985852B2 (en) Plasma display panel
JP2008251318A (en) Plasma display panel
JP2003331734A (en) Plasma display device
WO2007094202A1 (en) Plasma display panel
JP2002373592A (en) Electrode for plasma display panel and its manufacturing method
WO2007094239A1 (en) Plasma display panel
JPH10326563A (en) Manufacture of plasma display panel
WO2004105074A1 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
KR100524777B1 (en) Manufacturing method for plasma display panel
JP2002083544A (en) Ac-type plasma display panel
JP2000011898A (en) Plasma display panel
JP2002367518A (en) Plasma display panel and its electrode
JPH11204044A (en) Plasma display panel and manufacture thereof
JP2002015664A (en) Manufacturing method of plasma display panel
JP2007287559A (en) Plasma display panel and method of manufacturing the same
JP2002033054A (en) Electron-emissive thin film and plasma display panel using the same, and method of manufacturing the same
JP3152628B2 (en) Method of forming transparent thick film dielectric on conductive film
JP4055505B2 (en) Plasma display panel and manufacturing method thereof
KR20060067022A (en) Green sheet for dielectric of plasma display panel and manufacturing method using the same
JP2004146231A (en) Method of manufacturing plasma display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20040109

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20050524

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20050531

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20050720

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050720

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050729

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20050915

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051206

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20051207

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060328

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20060413

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20060616

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912