JPH10325713A - Method and instrument for inspecting surface defect - Google Patents

Method and instrument for inspecting surface defect

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JPH10325713A
JPH10325713A JP8793298A JP8793298A JPH10325713A JP H10325713 A JPH10325713 A JP H10325713A JP 8793298 A JP8793298 A JP 8793298A JP 8793298 A JP8793298 A JP 8793298A JP H10325713 A JPH10325713 A JP H10325713A
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JP
Japan
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defect
size
disk
pseudo
data
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Application number
JP8793298A
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Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Ishiguro
隆之 石黒
Motoo Hourai
泉雄 蓬莱
Kazuya Tsukada
一也 塚田
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH10325713A publication Critical patent/JPH10325713A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable inhibiting of variations of a data of the results of inspection while achieving a higher size sorting accuracy. SOLUTION: In this apparatus, (n) rows of false defects each comprising three false detects fg or more are arranged at a specified interval of angle in the circumferential direction of a disc 1a for calibration and the individual false defects of each row of false defects are formed in an equal size while adjacent false defects fg are arranged at a specified interval larger than the width of a laser spot Sp and discs for sensitivity calibration are so arranged to gradually increase or decrease along the circumferential direction. Now, an inspection defects of the discs for sensitivity calibration is performed to adjust the detection sensitivity according to the results of inspection. A data for relating the level of a detection signal to the size of the false defect is generated as reference data for judging the size from the results of the inspection under an adjusted condition. Thus, the size of the defect is obtained from the level of the detection signal when the disc to be inspected undergoes an inspection of defects based on the criterion reference data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、欠陥検査方法お
よび検査装置に関し、詳しくは、磁気ディスク欠陥検査
装置において、サイズ分類精度を向上させることがで
き、かつ、検査結果データのばらつきを抑制できるよう
な表面欠陥検査方法および検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection method and an inspection apparatus, and more particularly, to a magnetic disk defect inspection apparatus capable of improving the size classification accuracy and suppressing the variation in inspection result data. Surface inspection method and inspection apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】コンピュータシステムの記録媒体に使用
されるハード磁気ディスクは、その素材基板が鏡面研磨
して仕上げられ、そのポリッシュされたディスク(サブ
ストレートあるいはボリッシュドディスク)、そしてそ
の上にメッキされ、磁気薄膜が塗布された磁気ディスク
あるいは半導体ウエハのような円板(これらをここでは
ディスクという)のそれぞれの段階で、表面に存在する
欠陥とその大きさとがそれぞれに検査される。
2. Description of the Related Art A hard magnetic disk used as a recording medium of a computer system has a material substrate which is finished by mirror polishing, the polished disk (substrate or polished disk), and plating on the disk. Then, at each stage of a magnetic disk or a disk such as a semiconductor wafer coated with a magnetic thin film (these are referred to as disks), defects existing on the surface and their sizes are individually inspected.

【0003】図8は、ディスクの欠陥を検査する磁気デ
ィスク欠陥検査装置の要部の構成である。図8(a)の
欠陥検査装置10は、回転機構2と検出光学系3および
欠陥検出装置4とにより構成される。検査対象となるデ
ィスク1は、回転機構2のスピンドル21に装着されて
モータ(M)22の駆動により回転する。これに対して
検出光学系3は、その投光系31のレーザ光源311よ
り発生したレーザビームLTを集束レンズ312により
集束させ、ディスク1の表面にスポットSpを形成し、
ディスク1の表面をスポットSpにより照射する。この
スポットSpをディスク1のX軸方向に相対的に移動さ
せることによりスポットSpは、ディスク1の半径Rの
方向に移動し、この移動とディスク1の回転とによって
スポットSpがディスク1の表面をスパイラル状に走査
する。この場合、ディスク1の全走査時間をできるだけ
短くするために、スポットSpは、下側の図(b)に示
すように短径φ1と長径φ2を有する楕円形とされる。そ
して、スポットSpの長径φ2が半径方向に対応付けら
れ、半径方向での走査幅が広く採られる。
FIG. 8 shows the configuration of a main part of a magnetic disk defect inspection apparatus for inspecting a disk for defects. The defect inspection device 10 shown in FIG. 8A includes a rotation mechanism 2, a detection optical system 3, and a defect detection device 4. The disk 1 to be inspected is mounted on the spindle 21 of the rotating mechanism 2 and is rotated by driving the motor (M) 22. On the other hand, the detection optical system 3 focuses the laser beam LT generated from the laser light source 311 of the light projecting system 31 by the focusing lens 312, and forms a spot Sp on the surface of the disk 1,
The surface of the disk 1 is irradiated with a spot Sp. The spot Sp moves in the direction of the radius R of the disc 1 by relatively moving the spot Sp in the X-axis direction of the disc 1, and the spot Sp moves the surface of the disc 1 by this movement and the rotation of the disc 1. Scan in a spiral. In this case, in order to make the total scanning time of the disk 1 as short as possible, the spot Sp has an elliptical shape having a short diameter φ1 and a long diameter φ2 as shown in FIG. Then, the major diameter φ2 of the spot Sp is associated with the radial direction, and the scanning width in the radial direction is set wide.

【0004】表面に存在する欠陥Fは、スポットSpの
光を散乱する。その散乱光SRは、受光系32の集光レ
ンズ321により集光されて、光電変換素子、例えば、
アバランシェホトダイオード(APD)あるいは光電子
増倍管(PMT)などよりなる受光器322に受光され
る。受光器322の出力信号は、欠陥検出装置4の信号
処理回路41に入力され、欠陥検出信号とされ、ここで
欠陥Fが検出される。さらに、回路によっては、ここ
で、受光器322からの出力信号(検出信号)の振幅に
応じて欠陥のサイズが検出され、あるいは大小分類され
る。欠陥を検出する信号処理回路41としては、いわゆ
るサンプリングにより欠陥を検出回路であって、受光器
322からの出力信号を増幅するアンプと、増幅された
出力信号のうちノイズを越える欠陥についての出力信号
についてロータリエンコーダ23からのパルスを受けて
サンプリングして出力信号のピーク値を欠陥についての
検出信号のレベル値(以下検出欠陥値という)として保
持するサンプリング回路と、さらにサンプリングされた
検出欠陥値をデジタル値にするためのA/Dコンバー
タ、そしてロータリエンコーダ23からのパルスを受け
てディスク上の位置データを生成する位置データ生成回
路等からなる。
[0004] The defect F existing on the surface scatters the light of the spot Sp. The scattered light SR is condensed by the condensing lens 321 of the light receiving system 32, and a photoelectric conversion element, for example,
The light is received by a light receiver 322 including an avalanche photodiode (APD) or a photomultiplier tube (PMT). The output signal of the light receiver 322 is input to the signal processing circuit 41 of the defect detection device 4 and is used as a defect detection signal, where the defect F is detected. Further, depending on the circuit, the size of the defect is detected or classified according to the amplitude of the output signal (detection signal) from the light receiver 322. The signal processing circuit 41 for detecting a defect is a circuit for detecting a defect by so-called sampling, and includes an amplifier for amplifying an output signal from the light receiver 322 and an output signal for a defect exceeding noise among the amplified output signals. A sampling circuit that receives a pulse from the rotary encoder 23, samples the detected value, and stores the peak value of the output signal as a level value of a detection signal for a defect (hereinafter referred to as a detected defect value); An A / D converter for converting the value into a value, a position data generating circuit for generating position data on the disk in response to a pulse from the rotary encoder 23, and the like.

【0005】欠陥のサイズを検出しあるいは欠陥をサイ
ズ分類して検出する信号処理回路41としては、受光器
322からの出力信号に対してレベルの異なる複数の閾
値を同時に設定してどの大きさの閾値を出力信号が越え
ているかによって欠陥のサイズあるいは、例えば、大、
中、小のように特別に分類されたサイズの検出をする。
この場合、閾値が細かく段階的に設定されれば検出欠陥
値に対応する欠陥のサイズが得られ、比較的粗く設定さ
れればサイズ分類された検出値が得られる。なお、この
ときの検出値はデジタル値の形で出力される。この場合
にも前記の位置データ生成回路により欠陥サイズ(ある
いは分類されたサイズ)を表すデータとともにその欠陥
についての位置データが生成されて出力される。
The signal processing circuit 41 which detects the size of a defect or classifies and detects a defect is used to simultaneously set a plurality of thresholds having different levels with respect to an output signal from the photodetector 322 to determine the magnitude of the defect. Depending on whether the output signal exceeds the threshold, the size of the defect or, for example, large,
Detects sizes specially classified as small and medium.
In this case, the size of the defect corresponding to the detected defect value can be obtained if the threshold value is set finely and stepwise, and the size-classified detected value can be obtained if the threshold value is set relatively coarsely. The detection value at this time is output in the form of a digital value. Also in this case, the position data for the defect is generated and output together with the data indicating the defect size (or the classified size) by the position data generation circuit.

【0006】各欠陥の大きさのデータ(検出欠陥値のデ
ータあるいはサイズデータ)とディスク上の位置のデー
タは、信号処理回路41からディジタル値でデータ処理
装置44に入力される。データ処理装置44は、MPU
42とメモリ43等とからなる。ここでサイズ別に個数
がカウントされ、サイズとそのカウント値等がディスク
1における欠陥の位置とともにプリンタ(PR)45に
出力される。このとき、さらにディスクの形状とともに
ディスク上におけるマップとして欠陥がプリントアウト
されてもよい。これとは別に、ディスプレイ(CRT)
46等の画面上にも同様に欠陥のサイズに応じたイメー
ジをもって欠陥の位置がディスクの形状とともにマップ
表示される。そして、カウント値も分類されたサイズに
応じて別途画面上に表示される。なお、データ処理装置
44が欠陥の検出信号のレベルに対応する検出欠陥値を
信号処理回路41から受ける場合には、内部において検
出欠陥値を欠陥のサイズに分類判定する判定処理が行わ
れ、欠陥のサイズが検出される。
The data of the size of each defect (data of the detected defect value or size data) and the data of the position on the disk are input to the data processing device 44 from the signal processing circuit 41 as digital values. The data processing device 44 is an MPU
42 and a memory 43 and the like. Here, the number is counted for each size, and the size and its count value are output to the printer (PR) 45 together with the position of the defect on the disk 1. At this time, the defect may be printed out as a map on the disk together with the shape of the disk. Separately, a display (CRT)
Similarly, on the screen 46 and the like, the position of the defect is displayed as a map together with the shape of the disk with an image corresponding to the size of the defect. The count value is also separately displayed on the screen according to the classified size. When the data processing device 44 receives a detected defect value corresponding to the level of the defect detection signal from the signal processing circuit 41, a determination process for internally classifying the detected defect value into a defect size is performed. Is detected.

【0007】さて、ディスク1における欠陥Fの形状は
さまざまである。その一例を図9に示す。図9におい
て、欠陥Fhは、皿状欠陥(シャロウピット(shallow p
it)あるいはソーサピット(saucer pit))であって、
比較的に大きい直径Dhを有し、この直径Dhに比べて深
さdhが浅い。欠陥Fpは、井戸状のものであって、直径
Dpは比較的小さいが、深さdpの値は大きく、通常、単
に、ピットとよばれるものである。なお、両欠陥Fh,F
pは、孤立して存在することが多い。これに対して、欠
陥Fsは、線状をなすスクラッチ欠陥と呼ばれるもので
ある。その断面の幅wsと深さdsはまちまちである。な
お、ディスク1の表面には、これら以外の形状の欠陥も
ある。また、このような凹型の欠陥とは別に、微粒子が
付着することなどにより発生する凸型の異物と呼ばれる
欠陥も種々の高さとサイズとで存在している。
[0007] The shape of the defect F on the disk 1 varies. One example is shown in FIG. In FIG. 9, the defect Fh is a dish-shaped defect (shallow pit).
it) or a saucer pit)
It has a relatively large diameter Dh, and the depth dh is smaller than this diameter Dh. The defect Fp has a well shape and a relatively small diameter Dp but a large depth dp, and is usually simply called a pit. Note that both defects Fh, F
p often exists in isolation. On the other hand, the defect Fs is a linear scratch defect. The width ws and the depth ds of the cross section vary. It should be noted that the surface of the disk 1 also has a defect having a shape other than these. Apart from such concave defects, there are also various types of heights and sizes of defects called convex foreign substances generated by the attachment of fine particles.

【0008】そこで、このような各種の形状とサイズの
欠陥を、それぞれに良好に検出するために、上記の欠陥
検査装置10は、投光系31のレーザビームLTの投射
角度θTや、受光系32の受光角度θR、受光器322
(APD)に加圧する電圧V、または信号処理回路41
に内蔵されたアンプのゲイン、ノイズ除去用の閾電圧
E、レーザ光源311のレーザ出力など、検出信号のレ
ベルに関係する事項をコントロールパネル47(制御回
路を含む)を介してそれぞれ最適に設定して、欠陥に対
する検出感度の調整をする。なお、ここでは、欠陥にお
けるサイズは、欠陥を平面的にみたときの大きさ(面
積)ばかりでなく、平面的にみたときの大きさは同じで
あるが深さあるいは高さが異なるもの(容積あるいは体
積が異なるもの)もそれぞれサイズが相違するものとし
て扱う。
Therefore, in order to detect defects of various shapes and sizes in a satisfactory manner, the above-described defect inspection apparatus 10 uses the projection angle θT of the laser beam LT of the light projecting system 31 and the light receiving system. 32 light reception angle θR, light receiver 322
The voltage V applied to (APD) or the signal processing circuit 41
The items related to the level of the detection signal, such as the gain of the amplifier built in, the threshold voltage E for noise removal, and the laser output of the laser light source 311 are optimally set via the control panel 47 (including the control circuit). Then, the detection sensitivity for the defect is adjusted. Here, the size of the defect is not only the size (area) when the defect is viewed in plan view, but also the size (area) when the defect is viewed in plan view but the depth or height is different (volume). Or, those having different volumes) are also treated as having different sizes.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】欠陥検査装置10の欠
陥検出感度は、各種の欠陥Fに対して最適に設定される
が、その調整には熟練を要する。特に、深さが浅い欠陥
から深さの深い欠陥まで検出できるように装置の検出感
度を調整すること、あるいは、逆に小さい粒径の異物か
ら大きな粒径の異物の範囲まで検出できるように感度調
整することはなかなか難しい。さらに、欠陥検出感度の
調整は、一定の基準をもって較正されない限り、サイズ
を適正に分類するようなデータは得られない。その上、
多数の検出された欠陥のサイズあるいは大小分類された
サイズについての検査結果データは、検査装置のそのと
きどきの設定状態に影響されてばらつく。異なる検査装
置との間でも検査結果データにばらつきが発生し易い。
そのため、検査結果データの共用が難しくなる。
The defect detection sensitivity of the defect inspection apparatus 10 is optimally set for various types of defects F, but the adjustment requires skill. In particular, adjust the detection sensitivity of the device so that it can detect from shallow defects to deep defects, or conversely, adjust the sensitivity so that it can detect the range of foreign particles with a small particle size to those with a large particle size. It is difficult to adjust. Further, the adjustment of the defect detection sensitivity does not provide data that properly classifies the size unless it is calibrated with a certain standard. Moreover,
Inspection result data on a large number of detected defects or sizes classified into large and small sizes vary depending on the current setting state of the inspection apparatus. Variations in inspection result data are likely to occur between different inspection devices.
Therefore, it becomes difficult to share inspection result data.

【0010】従来の装置の検出感度の較正は、検出しよ
うとする欠陥とそのサイズとに応じてサイズが既知の皿
状欠陥や、ピット欠陥、スクラッチ欠陥などをサンプル
欠陥としてそれぞれに持つ実際のディスクあるいは特定
の高さの突起を持つ実際のディスクをそれぞれサンプル
ディスクとして用い、それぞれのサンプルディスクにつ
いて欠陥を検出することで行われている。しかし、サン
プルディスクにある欠陥が特定のサイズの特定の形状の
ものであるが故に、これにより検出感度の較正をして
も、検査すべき欠陥のサイズの大小分類の範囲からみて
それが適正なものとなっていない場合が少なくない。そ
のため、検出されたサイズやその大小分類について偏り
が生じる。また、実際には、どの程度まで正確にサイズ
について分類分けの検査ができているかも不明である。
[0010] Calibration of the detection sensitivity of the conventional apparatus is based on the fact that an actual disk having a dish-like defect, a pit defect, a scratch defect, or the like as a sample defect each having a known size in accordance with the defect to be detected and its size. Alternatively, an actual disk having a protrusion of a specific height is used as a sample disk, and a defect is detected for each sample disk. However, since the defect on the sample disk is of a specific shape of a specific size, even if the detection sensitivity is calibrated by this, it is not appropriate for the size of the defect to be inspected in terms of the size of the defect. In many cases, it is not the case. For this reason, the detected size and its size are biased. In practice, it is also unclear to what extent the size classification test can be performed accurately.

【0011】最近では、ディスクの高密度記録化に伴
い、検出しようとする欠陥サイズの範囲が小さくなって
きている。あるいはそれがより厳密なサイズへと移行す
る傾向にある。しかし、そのときどきのサイズの分類等
に適合するような検出感度較正用のサンプルディスクを
入手することもなかなか難しい。この発明の目的は、サ
イズ分類精度を向上させることができ、かつ、検査結果
データのばらつきを抑制できる表面欠陥検査方法を提供
することにある。この発明の他の目的は、サイズ分類精
度を向上させることができ、かつ、検査結果データのば
らつきを抑制できる表面欠陥検査装置を提供することに
ある。
In recent years, the range of defect sizes to be detected has been reduced with the increase in recording density of disks. Or it tends to move to tighter sizes. However, it is also difficult to obtain a sample disk for detection sensitivity calibration suitable for the size classification at that time. An object of the present invention is to provide a surface defect inspection method capable of improving the size classification accuracy and suppressing the variation in inspection result data. Another object of the present invention is to provide a surface defect inspection apparatus that can improve the size classification accuracy and suppress the variation in inspection result data.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るためのこの発明の欠陥検査方法の特徴は、半径方向お
よび円周方向のいずれかの方向に沿って形成された3個
以上の疑似欠陥からなる疑似欠陥列がこの較正用ディス
クの前記円周方向に所定の角度おきにn個(ただしnは
2以上の整数)設けられ、それぞれの前記疑似欠陥列の
前記疑似欠陥が、実質的に等しいサイズの凸部および凹
部のいずれかとして形成され、かつ、隣接する前記疑似
欠陥が前記レーザスポットの幅より大きな所定の間隔を
おいて配列され、かつ前記円周方向に沿って段階的に増
加あるいは減少している感度較正用ディスクを備え、こ
の感度較正用ディスクの欠陥検査をして、これの検査結
果に応じて検出感度を調整し、検出感度を調整した状態
における較正用ディスクの検査結果から前記検出信号の
レベルと前記疑似欠陥のサイズとを関係付けるデータを
サイズ判定の基準データとして生成し、この判定基準デ
ータに基づいて検査対象のディスクを欠陥検査したとき
の前記検出信号のレベルから欠陥のサイズを得るもので
ある。
A feature of the defect inspection method of the present invention for achieving the above object is that three or more pseudo-inspections formed along any one of a radial direction and a circumferential direction are provided. N (where n is an integer of 2 or more) pseudo-defect rows of defects are provided at predetermined angular intervals in the circumferential direction of the calibration disk, and the pseudo-defects in each of the pseudo-defect rows are substantially Is formed as one of a convex portion and a concave portion having a size equal to, and the adjacent pseudo defects are arranged at predetermined intervals larger than the width of the laser spot, and are stepwise along the circumferential direction. A sensitivity calibration disk having an increased or decreased sensitivity is provided, the sensitivity calibration disk is inspected for defects, the detection sensitivity is adjusted according to the inspection result, and the calibration data in a state where the detection sensitivity is adjusted. Data relating the level of the detection signal and the size of the pseudo defect is generated as reference data for size determination based on the disk inspection result, and the detection is performed when the disk to be inspected is inspected for defects based on the determination reference data. The size of the defect is obtained from the signal level.

【0013】また、この発明の欠陥検査装置の特徴は、
前記の感度較正用ディスクと、検出感度を調整する感度
調整手段と、この感度調整手段に適正な検出感度に調整
された状態において前記感度較正用ディスクを欠陥検査
した検査結果から前記検出信号のレベルと前記疑似欠陥
のサイズとを関係付けるデータをサイズ判定の基準デー
タとして生成する基準データ生成手段と、前記基準デー
タに基づいて検査対象のディスクを欠陥検査したときに
得られる前記検出信号のレベルから欠陥のサイズを得る
サイズ検出手段とを備えるものである。
Further, the features of the defect inspection apparatus of the present invention are as follows.
The sensitivity calibration disk, sensitivity adjustment means for adjusting the detection sensitivity, and the level of the detection signal from the inspection result of the defect inspection of the sensitivity calibration disk in a state where the sensitivity adjustment means has adjusted the detection sensitivity to an appropriate level. And reference data generating means for generating data relating the size of the pseudo defect as reference data for size determination, and a level of the detection signal obtained when a disk to be inspected is inspected for defects based on the reference data. Size detecting means for obtaining the size of the defect.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】前記のような感度較正用のディス
クを欠陥検査対象としてオペレータが欠陥検査装置にお
いて欠陥検査をし、検出信号のレベルに応じて検出され
た欠陥のサイズの検出値あるいは検出信号のレベルに応
じて分類されたサイズの分類値において欠陥サイズをデ
ィスプレイ等に検査結果として表示すると、欠陥がその
サイズに応じたイメージをもってディスクの形状ととも
に欠陥がマップ表示される。このとき、少なくとも、異
なるサイズの疑似欠陥は、それに対応する映像が得られ
るので、得られる映像を見ながら適正な検出感度の映像
となるように感度調整ができる。これによりそのときど
きで欠陥のサイズ分類などに適合するような検出感度の
調整が較正用ディスクにより映像を見ながら熟練を要さ
ずにできる。しかも、同じ較正用ディスクを使用する限
り、検査装置の欠陥検出感度の設定状態を再現できるの
で、検査結果データがそのときどきの設定状態に影響さ
れ難く、そのばらつきも低減する。もちろん、異なる検
査装置との間でも検査結果データにばらつきも発生し難
く、検査結果データの共用が可能になる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An operator performs a defect inspection in a defect inspection apparatus using the above-described sensitivity calibration disk as a defect inspection target, and detects a detected value or a detected size of a defect according to a level of a detection signal. When the defect size is displayed as an inspection result on a display or the like in the classification value of the size classified according to the signal level, the defect is displayed as a map along with the shape of the disc with an image corresponding to the size. At this time, at least the image corresponding to the pseudo defect of a different size can be obtained, so that the sensitivity can be adjusted so as to obtain an image with an appropriate detection sensitivity while watching the obtained image. As a result, it is possible to adjust the detection sensitivity to suit the size classification of the defect at that time without any skill while watching the image on the calibration disk. Moreover, as long as the same calibration disk is used, the setting state of the defect detection sensitivity of the inspection apparatus can be reproduced, so that the inspection result data is hardly affected by the current setting state, and the variation is reduced. Of course, the inspection result data hardly varies even between different inspection apparatuses, and the inspection result data can be shared.

【0015】そこで、検出しようとする欠陥のサイズ分
類の仕方に応じて、画面に表示された疑似欠陥のイメー
ジを見ながら、適正な検出感度に調整できる。特に、サ
イズ分類のほぼ中心位置のものに合わせて装置の検出感
度を調整することができる。しかも、このときには、感
度調整に応じてどの程度のサイズまでサイズ分類が可能
かを画面上の疑似欠陥の表示状態により把握することが
できる。この適正に感度調整された状態において疑似欠
陥のサイズに対応した検出欠陥値(検出信号のレベル)
を検査結果から得て、得られた検出欠陥値と疑似欠陥の
サイズとを関係付けるデータをサイズ判定の基準データ
として生成する。この基準データに基づいて欠陥サイズ
の判定をすることでディスクの欠陥検査装置において検
出される欠陥のサイズを示すデータあるいは大小分類の
サイズデータが実質的に正しく較正される。
Therefore, according to the method of classifying the size of the defect to be detected, it is possible to adjust the detection sensitivity to an appropriate value while viewing the image of the pseudo defect displayed on the screen. In particular, the detection sensitivity of the device can be adjusted according to the size at the substantially central position of the size classification. In addition, at this time, it is possible to grasp to what size the size can be classified according to the sensitivity adjustment based on the display state of the pseudo defect on the screen. Detected defect value (detected signal level) corresponding to the size of the pseudo defect in the state where the sensitivity is properly adjusted.
Is obtained from the inspection result, and data that associates the obtained detected defect value with the size of the pseudo defect is generated as reference data for size determination. By determining the defect size based on the reference data, the data indicating the size of the defect detected by the disk defect inspection apparatus or the size data of the large or small classification is substantially correctly calibrated.

【0016】この較正用ディスクを用いた検出感度の較
正を検査装置において検査開始の都度行い、あるいは多
数の別の欠陥検査装置に同様に適用することにより、検
査の都度生ずる検出感度や検査結果データのばらつき、
あるいは検査装置間に生ずる検出感度や検査結果データ
のばらつきが抑制できる。ところで、疑似欠陥列の各疑
似欠陥の凸部あるいは凹部のサイズの段階的な選択範囲
としては、凸部あるいは凹部が正方形あるいは矩形のと
きには、その1辺の長さが0.5μm〜20μmの範囲
でかつその深さあるいは高さが0.01μm〜0.75
μmの範囲が適切である。さらに、疑似欠陥が円形のも
ののときには、その直径が0.5μm〜20μmの範囲
でかつその深さあるいは高さが0.01μm〜0.75
μmの範囲が適切である。
By calibrating the detection sensitivity using the calibration disk every time the inspection apparatus starts the inspection, or by applying the calibration to a number of other defect inspection apparatuses in the same manner, the detection sensitivity and the inspection result data generated each time the inspection is performed. Variation,
Alternatively, variations in detection sensitivity and inspection result data between inspection apparatuses can be suppressed. By the way, as the stepwise selection range of the size of the convex portion or concave portion of each pseudo defect in the pseudo defect row, when the convex portion or concave portion is square or rectangular, the length of one side thereof is in the range of 0.5 μm to 20 μm. And the depth or height is 0.01 μm to 0.75
A range of μm is appropriate. Further, when the pseudo-defect is circular, its diameter is in the range of 0.5 μm to 20 μm and its depth or height is 0.01 μm to 0.75 μm.
A range of μm is appropriate.

【0017】[0017]

【実施例】図1は、この発明を適用した表面欠陥検査方
法を適用した磁気ディスク欠陥検査装置の一実施例のブ
ロック図である。図1の磁気ディスク欠陥検査装置11
は、図8のデータ処理装置44に換えてデータ処理装置
50を有している。データ処理装置50は、図8に示す
データ処理装置44のMPU42とメモリ43とに加
え、さらに入力装置48が設けられている。また、デー
タ処理装置50のメモリ43には、欠陥データ採取プロ
グラム43aと、欠陥マップ表示プログラム43b、判
定基準データ生成プログラム43c、欠陥サイズ検出プ
ログラム43d、そして検出欠陥値/欠陥サイズテーブ
ル43eなどが設けられている。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a magnetic disk defect inspection apparatus to which a surface defect inspection method according to the present invention is applied. Magnetic disk defect inspection apparatus 11 of FIG.
Has a data processing device 50 in place of the data processing device 44 in FIG. The data processing device 50 further includes an input device 48 in addition to the MPU 42 and the memory 43 of the data processing device 44 shown in FIG. The memory 43 of the data processing device 50 includes a defect data collection program 43a, a defect map display program 43b, a criterion data generation program 43c, a defect size detection program 43d, and a detected defect value / defect size table 43e. Have been.

【0018】検出感度の較正時には、データ処理装置5
0は、図4,図6に示す、各種のサイズの疑似欠陥列を
有する感度較正用ディスク1a(1b)を対象として欠
陥検査をして、その検査結果から検出欠陥値/欠陥サイ
ズテーブル43eを作成する。そして、検査対象となる
ディスク1の欠陥検査をするときには、欠陥検査により
得られる検出信号のレベルをこの検出欠陥値/欠陥サイ
ズテーブル43eを参照して欠陥のサイズあるいは分類
サイズを示すデータに変換して欠陥をサイズ分類する。
信号処理回路41は、先に従来技術で説明した欠陥を検
出して、検出欠陥値を発生する回路である。これは、受
光器322からの出力信号を増幅するアンプ41aと、
アンプ41aで増幅された出力信号のうちノイズを越え
る欠陥についての出力信号についてロータリエンコーダ
23からのパルスに応じてピーク値をサンプリングして
検出欠陥値を得るサンプリング回路41bと、さらにサ
ンプリングされた検出値をデジタル値にするためのA/
Dコンバータ(A/D)41c、そしてロータリエンコ
ーダ23からのパルスを受けてディスク上の位置データ
を生成する位置データ生成回路41d等からなる。
When calibrating the detection sensitivity, the data processor 5
0 indicates a defect inspection for the sensitivity calibration disk 1a (1b) having pseudo defect rows of various sizes shown in FIGS. 4 and 6, and a detection defect value / defect size table 43e is obtained from the inspection result. create. When performing a defect inspection of the disk 1 to be inspected, the level of a detection signal obtained by the defect inspection is converted into data indicating a defect size or a classification size with reference to the detected defect value / defect size table 43e. To size the defects.
The signal processing circuit 41 is a circuit that detects a defect described in the prior art and generates a detected defect value. This includes an amplifier 41a that amplifies an output signal from the light receiver 322,
A sampling circuit 41b for sampling a peak value of an output signal of a defect exceeding noise among output signals amplified by the amplifier 41a in accordance with a pulse from the rotary encoder 23 to obtain a detected defect value; A /
It comprises a D converter (A / D) 41c, and a position data generating circuit 41d that receives pulses from the rotary encoder 23 and generates position data on the disk.

【0019】データ処理装置50のMPU42は、欠陥
データ採取プログラム43aを実行して、ディスク1を
レーザスポットSpによりスパイラル走査し、この走査
に応じて信号処理回路41からの検出欠陥値のA/D変
換値と、位置データとを順次受けて、メモリ43の作業
領域あるいはバッファメモリ部に記憶する。ディスク1
の全面走査が終了すると、検出感度較正時にはMPU4
2は、欠陥マップ表示プログラム43bをコールし、実
行する。また、通常のディスクの欠陥検査時には、欠陥
サイズ検出プログラム43dをコールし、実行する。
The MPU 42 of the data processing device 50 executes the defect data collection program 43a to spirally scan the disk 1 with the laser spot Sp, and according to the scanning, A / D of the detected defect value from the signal processing circuit 41. The converted values and the position data are sequentially received and stored in the working area of the memory 43 or the buffer memory unit. Disc 1
Is completed, the MPU4 is used during detection sensitivity calibration.
2 calls and executes the defect map display program 43b. Further, at the time of normal disk defect inspection, the defect size detection program 43d is called and executed.

【0020】欠陥サイズ検出プログラム43dは、これ
がMPU42に実行されたときには、検査対象となるデ
ィスク1の各トラックを順次走査して欠陥検査をする。
この欠陥検査に応じて得られる検出欠陥値を受けてこれ
を、検出欠陥値/欠陥サイズテーブル43eを参照して
欠陥のサイズのデータに変換することで分類し、その結
果を欠陥サイズデータとしてその欠陥の位置データとと
もにメモリ43に順次記憶する。そして、ディスク1の
全面走査が終了すると、さらにMPU42は、欠陥サイ
ズごとに欠陥をカウントしてその数を算出してメモリ4
3に記憶する。次に、欠陥マップ表示プログラム43b
をコールして実行して分類された検査結果をマップ表示
するとともに、プリンタ45等に出力する。また、欠陥
サイズ検出プログラム43dは、検出感度較正の時に
は、欠陥検出値(検出信号のレベル)に応じた欠陥サイ
ズのデータか、欠陥サイズをさらに細分類した分類サイ
ズ値のデータが生成されるようなサイズ変換データを検
出欠陥値/欠陥サイズテーブル43eに読込み、これに
書換えてデータ設定をする。この書換える変換データ
は、あらかじめ実験的、経験的に求められたものを入力
することによる。そこで、検出感度較正の時の欠陥検査
では、このような変換データを持つ検出欠陥値/欠陥サ
イズテーブル43eによって実際の欠陥の状態に近い形
でディスプレイ46に検査結果として表示される。
When this program is executed by the MPU 42, the defect size detection program 43d sequentially scans each track of the disk 1 to be inspected for a defect inspection.
Upon receiving the detected defect value obtained in accordance with the defect inspection, the detected defect value is classified by converting it into data of the size of the defect with reference to the detected defect value / defect size table 43e, and the result is used as defect size data. The data is sequentially stored in the memory 43 together with the defect position data. When the entire surface of the disk 1 has been scanned, the MPU 42 further counts the number of defects for each defect size, calculates the number of defects, and
3 is stored. Next, the defect map display program 43b
Is executed, and the classified inspection results are displayed on a map and output to the printer 45 or the like. In addition, the defect size detection program 43d generates data of a defect size corresponding to a defect detection value (level of a detection signal) or data of a classification size value obtained by further subdividing the defect size at the time of detection sensitivity calibration. The size conversion data is read into the detected defect value / defect size table 43e, and is rewritten to perform data setting. The rewritten conversion data is obtained by inputting data that has been experimentally and empirically obtained in advance. Therefore, in the defect inspection at the time of the detection sensitivity calibration, the detection result is displayed on the display 46 in a form close to the actual defect state by the detected defect value / defect size table 43e having such conversion data.

【0021】欠陥マップ表示プログラム43bは、これ
がMPU42に実行されたときには、採取された欠陥の
位置データと欠陥のサイズデータを読出す。そして欠陥
のサイズデータについては、それが示す大きさに応じた
大きさのパターンデータに変換して表示データを生成
し、このパターンデータを位置データが示す画面上の所
定の座標に表示するようなイメージデータに展開してデ
ィスプレイ46にマップ表示する。判定基準データ生成
プログラム43cは、検出欠陥値/欠陥サイズテーブル
43eの内容を書き換えるプログラムであって、これが
MPU42に実行されたときには、欠陥サイズの入力待
ちをして入力装置48から欠陥サイズが入力されたとき
に、マップ表示されたディスプレイの画面上においてマ
ウス等により指定された画面上の位置から表示座標位置
を検出する。そして、検査結果の中から、この表示座標
位置に表示されている、あるいはこの位置に最も近い位
置に表示されている欠陥のサイズデータを抽出する。さ
らに、抽出されたサイズデータに基づいて検出欠陥値/
欠陥サイズテーブル43eの中において対応するサイズ
データを検索して、検索されたところのサイズデータを
入力されたサイズデータに更新する。さらに、更新され
たことを示すフラグを更新されたサイズデータに対応し
て書込む。このようにして検出欠陥値/欠陥サイズテー
ブル43eのサイズデータを入力されたサイズデータに
更新していく。そして、更新が終了した時点でフラグが
ない過去のデータを消去することで新しい検出欠陥値/
欠陥サイズテーブル43eを生成する。これにより検出
信号のレベルとサイズとの関係が較正された新しい判定
基準データを持つ検出欠陥値/欠陥サイズテーブル43
eが生成される。
When this is executed by the MPU 42, the defect map display program 43b reads out the position data of the collected defect and the size data of the defect. The size data of the defect is converted into pattern data having a size corresponding to the size indicated by the defect data to generate display data, and the pattern data is displayed at predetermined coordinates on the screen indicated by the position data. The data is developed into image data and displayed on a map on the display 46. The criterion data generation program 43c is a program for rewriting the contents of the detected defect value / defect size table 43e. When the program is executed by the MPU 42, the input of the defect size is performed from the input device 48 after waiting for the input of the defect size. Then, the display coordinate position is detected from the position on the screen specified by the mouse or the like on the screen of the display on which the map is displayed. Then, from the inspection result, the size data of the defect displayed at this display coordinate position or the defect displayed at the position closest to this position is extracted. Further, based on the extracted size data, the detected defect value /
The corresponding size data is searched in the defect size table 43e, and the searched size data is updated to the input size data. Further, a flag indicating the update is written corresponding to the updated size data. In this way, the size data of the detected defect value / defect size table 43e is updated to the input size data. Then, by deleting the past data having no flag when the update is completed, the new detected defect value /
A defect size table 43e is generated. Thereby, the detected defect value / defect size table 43 having the new judgment reference data in which the relation between the level and the size of the detection signal is calibrated.
e is generated.

【0022】なお、この場合、検出欠陥値/欠陥サイズ
テーブル43eからサイズデータに対応する検出欠陥値
を抽出して、この検出欠陥値と入力された欠陥サイズと
を対とする変換データを生成し、この対のテーブルを別
途作成することができる。いくつもの検出欠陥値と欠陥
サイズの対を生成し、生成された新しいテーブルの内容
を検出欠陥値/欠陥サイズテーブル43eに書込むこと
で変換データの更新をする。また、検出欠陥値/欠陥サ
イズテーブル43eのこのようなサイズデータの書換え
は、検出感度調整の時に、すなわち、感度較正用ディス
ク1a(1b)について欠陥検査が行われたときに実施
される。
In this case, a detected defect value corresponding to the size data is extracted from the detected defect value / defect size table 43e, and converted data in which the detected defect value and the inputted defect size are paired is generated. , A pair of tables can be created separately. The conversion data is updated by generating a number of pairs of detected defect values and defect sizes, and writing the contents of the generated new table into the detected defect value / defect size table 43e. Such rewriting of the size data in the detected defect value / defect size table 43e is performed at the time of detection sensitivity adjustment, that is, when a defect inspection is performed on the sensitivity calibration disk 1a (1b).

【0023】検出欠陥値/欠陥サイズテーブル43eの
構成は、図3に示すように、信号レベルと欠陥サイズと
を対応付けた対照表であり、更新データを示すフラグ欄
が設けられている。これは、このテーブルには、最初、
信号レベルと欠陥サイズとの標準的なデータが記憶さ
れ、書換え可能である。そのため、例えば、EEPRO
M等の書換え可能なメモリで構成されるか、RAMで構
成され、ハードディスクあるいはフレキシブルディスク
等の外部記憶装置からデータが読込まれることで変換デ
ータの更新が行われる。
As shown in FIG. 3, the structure of the detected defect value / defect size table 43e is a comparison table in which a signal level is associated with a defect size, and a flag column indicating update data is provided. This is the first table in this table
Standard data of signal level and defect size is stored and rewritable. Therefore, for example, EEPRO
The conversion data is updated by reading data from an external storage device such as a hard disk or a flexible disk, which is formed of a rewritable memory such as M or a RAM.

【0024】図4(a)に示す感度較正用ディスク(以
下基準ディスク)1aは、適当に選択された鏡面研磨の
アルミニュウム製のディスクであって、イオンビームス
パッタ装置を使用して、このディスク1aを装置のター
ゲット位置におき、形成すべき疑似欠陥の位置とその形
状とに対応してイオンビームを打ち込んでスパッタする
ことで行われる。このディスクがスパッタされると、ビ
ームが打ち込まれたスパッタ位置には窪みができる。こ
の窪みを特定の配列で多数形成することで凹部疑似欠陥
が形成される。また、凹部の疑似欠陥は、レーザビーム
により表面を溶融させることでも形成することができ
る。この場合には、円形の孔が形成できる。また、凹部
の疑似欠陥は、レジストをマスクとしてエッジングをす
ることでも可能である。
A sensitivity calibration disk (hereinafter referred to as a reference disk) 1a shown in FIG. 4 (a) is an appropriately selected mirror-polished aluminum disk, which is formed by using an ion beam sputtering apparatus. Is placed at a target position of the apparatus, and an ion beam is implanted and sputtered in accordance with the position and the shape of the pseudo defect to be formed. When the disk is sputtered, a depression is formed at the sputter position where the beam is injected. By forming a large number of these depressions in a specific arrangement, pseudo concave defects are formed. Further, the pseudo defect in the concave portion can also be formed by melting the surface with a laser beam. In this case, a circular hole can be formed. In addition, the pseudo defect in the concave portion can be formed by edging using a resist as a mask.

【0025】一方、凸部の疑似欠陥は、イオンビームス
パッタ装置によりターゲットからスパッタされた粒子を
孔開きマスクを介してディスク1aにスパッタさせて付
着する。このとき、マスクに形成した孔の部分に対応し
て凸部の突起がディスク1aに形成される。なお、ター
ゲット金属としては、タングステンを使用すいるとよ
い。また、疑似欠陥としての凸部は、アルミニュウムを
VCD法によりホトレジストを介して選択的にディスク
1aの半径方向あるいは円周方向に沿って配列されるよ
うに気相成長させることでも形成することができる。
On the other hand, pseudo-defects of the projections are formed by sputtering particles sputtered from a target by an ion beam sputtering apparatus onto a disk 1a through a perforated mask. At this time, protrusions of convex portions are formed on the disk 1a corresponding to the holes formed in the mask. Note that tungsten is preferably used as the target metal. Further, the convex portion as a pseudo defect can also be formed by vapor phase growth of aluminum so as to be selectively arranged along the radial direction or circumferential direction of the disk 1a via a photoresist by a VCD method. .

【0026】例えば、図4(a)に示すように、角度3
0°置きに12本の放射線に沿って凹部の疑似欠陥fg
が多数配列される疑似欠陥列をイオンビームスパッタ装
置によって形成できる。形成されたそれぞれの疑似欠陥
列を#1,#2,…#12として示す。各疑似欠陥列#
1〜#12の疑似欠陥fgは、それぞれに同一サイズの
正方形の凹部として形成される。この凹部の疑似欠陥f
gのサイズは、イオンビームの量と使用する粒子の重
さ、時間、そしてスパッタ位置等により制御される。こ
のとき使用するイオンビーム径は、平面的にみた疑似欠
陥のサイズの正方形の一辺に対して1/4から1/10
程度に絞ったものである。このイオンビームを形成する
凹部穴の横方向の一辺に沿って一列に多数打ち込み、こ
れを縦方向にシフトして繰り返す。例えば、疑似欠陥の
一辺の長さwgがwg=1μmの正方形の凹部を形成する
場合には、正方形の横方向の1辺に沿って0.2μmの
径のイオンビームを少なくとも5回横方向に打ち込み、
次に縦方向に、0.2μmイオンビームを0.2μmシ
フトさせて、再び横方向の一辺に沿って5回打ち込む。
これを縦方向に対して4回シフトさせて、縦方向にも5
回、合計で25回の打ち込みを行う。これにより、図
(b)に示すwg=1μmの正方形の凹部の疑似欠陥fg
が形成される。それをディスク1aの半径に沿ってレー
ザスポットSpの半径方向の幅(長径)φ2よりも大きな
間隔をあけて形成する疑似欠陥の数だけ行う。もちろ
ん、レーザスポットSpの走査方向である円周方向での
次に形成される疑似欠陥の位置は、レーザスポットSp
の円周方向の幅(短径)φ1よりも遙かに離れたところ
にある。
For example, as shown in FIG.
Pseudo-defect fg of concave part along 12 rays at 0 ° intervals
Can be formed by an ion beam sputtering apparatus. Each of the formed pseudo defect strings is indicated as # 1, # 2,... # 12. Each pseudo defect row #
The pseudo defects fg 1 to # 12 are respectively formed as square recesses of the same size. Pseudo-defect f
The size of g is controlled by the amount of the ion beam, the weight of the particles used, the time, the sputter position, and the like. The diameter of the ion beam used at this time is 1/4 to 1/10 with respect to one side of a square of the size of the pseudo defect as viewed in plan.
It is squeezed to the extent. Many ions are implanted in a row along one side in the horizontal direction of the concave hole forming the ion beam, and this is repeated while shifting in the vertical direction. For example, in the case of forming a square recess having a side length wg of the pseudo defect of wg = 1 μm, an ion beam having a diameter of 0.2 μm is laterally applied at least five times along one side in the horizontal direction of the square. Press,
Next, the 0.2 μm ion beam is shifted in the vertical direction by 0.2 μm, and is again implanted five times along one side in the horizontal direction.
This is shifted 4 times in the vertical direction, and 5 times in the vertical direction.
Times, a total of 25 shots. As a result, the pseudo-defect fg of the square concave portion of wg = 1 μm shown in FIG.
Is formed. This is performed by the number of pseudo defects formed at intervals larger than the radial width (long diameter) φ2 of the laser spot Sp along the radius of the disk 1a. Of course, the position of the next pseudo defect to be formed in the circumferential direction which is the scanning direction of the laser spot Sp is the laser spot Sp.
Is far away from the circumferential width (shorter diameter) φ1 of.

【0027】図中、#1の内周に設けたMkは、この疑
似欠陥列が#1であることを示すマークであって、基準
となる疑似欠陥列を示す。このマークは、マークとして
の形状を持つ大きな疑似欠陥により形成する。この例で
は、各疑似欠陥列は、時計方向に欠陥サイズの数値が増
加するように造られている。これにより、サイズの異な
る疑似欠陥fgの群FGRを識別することができる。な
お、時計方向に欠陥サイズが増加するということは、反
時計方向からみれば欠陥サイズが減少することであり、
増加、減少は相対的なものである。なお、図では、疑似
欠陥列#1と#2と#12のみ正方形の形で示している
が、これら正方形の1辺の幅Wgと深さdg(図(b)参
照)とは、各疑似欠陥列で相違していて#1から#12
へと、そのサイズが次第に大きくなっている。しかし、
サイズの変化が微小であり、かつ、深さや高さの関係も
伴うために図ではその関係が十分に表現さてていない。
In the figure, Mk provided on the inner periphery of # 1 is a mark indicating that this pseudo defect row is # 1, and indicates a reference pseudo defect row. This mark is formed by a large pseudo defect having a shape as a mark. In this example, each pseudo defect row is formed so that the numerical value of the defect size increases clockwise. Thus, a group FGR of pseudo defects fg having different sizes can be identified. Note that increasing the defect size in the clockwise direction means that the defect size decreases in the counterclockwise direction.
The increase and decrease are relative. In the figure, only the pseudo defect rows # 1, # 2, and # 12 are shown in the form of a square, but the width Wg and the depth dg of one side of these squares (see FIG. # 1 to # 12 differing in the defective column
The size is gradually increasing. But,
Since the change in size is very small and the relationship between the depth and the height is involved, the relationship is not sufficiently represented in the drawing.

【0028】そのため、図4(b)における疑似欠陥f
gの1辺の長さwgと深さdgとの範囲の一例を示すと、
次のようになる。 疑似欠陥fgのサイズ wg:0.5μm,1μm,3μm,5μm,10μm,20μm dg:0.025μm,0.05μm,0.2μm,0.75μm これらの一辺の長さwgと深さdgは、実際の欠陥Fのサ
イズを十分にカバーする範囲にある。そこで、例えば、
検査対象として分類するものが一辺1μmを中心として
サイズ分類をするときには、wg=1μmとwg=0.5
μmとwg=3μmの3つを採用し、これらが次のよう
な疑似欠陥列の関係になるようにする。まず、#1の疑
似欠陥列をwg=0.5μmで、深さdg=0.025μ
mとし、#2の疑似欠陥列をwg=0.5μmで深さdg
=0.05μmとし、#3の疑似欠陥列をwg=0.5μ
mで深さdg=0.2μmとし、#4の疑似欠陥列をwg
=0.5μmで深さdg=0.75μmとしたものを形
成する。次に、#5の疑似欠陥列をwg=1μmで、深
さdg=0.025μmとし、#6の疑似欠陥列をwg=
1μmで深さdg=0.05μmとし、#7の疑似欠陥列
をwg=1μmで深さdg=0.2μmとし、#8の疑似
欠陥列をwg=1μmで深さdg=0.75μmとしたも
のを形成する。そして、#9の疑似欠陥列をwg=3μ
mで、深さdg=0.025μmとし、#10の疑似欠
陥列をwg=3μmで深さdg=0.05μmとし、#1
1の疑似欠陥列をwg=3μmで深さdg=0.2μmと
し、#12の疑似欠陥列をwg=3μmで深さdg=0.
75μmとしたものを形成する。なお、ここでの深さ方
向の各疑似欠陥列の疑似欠陥のサイズの増加は、0.0
25μmを基準として、0.025×2、0.025×
4、0.025×20、0.025×30になってい
る。
Therefore, the pseudo defect f in FIG.
An example of the range between the length wg of one side of g and the depth dg is as follows:
It looks like this: The size wg of the pseudo defect fg: 0.5 μm, 1 μm, 3 μm, 5 μm, 10 μm, 20 μm dg: 0.025 μm, 0.05 μm, 0.2 μm, 0.75 μm The length wg and the depth dg of these sides are determined by the actual defect F. It is in the range to cover the size enough. So, for example,
When the size of the object to be inspected is to be classified around 1 μm on a side, wg = 1 μm and wg = 0.5
.mu.m and wg = 3 .mu.m are adopted so that they have the following relationship of the pseudo defect row. First, the pseudo-defect row of # 1 is defined as wg = 0.5 μm and depth dg = 0.025 μm.
m, and the # 2 pseudo-defect row is defined as wg = 0.5 μm and depth dg.
= 0.05 μm, and the # 3 pseudo-defect row is represented by wg = 0.5 μm
m, the depth dg = 0.2 μm, and the # 4 pseudo defect row is wg
= 0.5 .mu.m and a depth dg = 0.75 .mu.m. Next, the pseudo-defect row of # 5 is set to wg = 1 μm, the depth dg is set to 0.025 μm, and the pseudo-defect row of # 6 is set to wg = 1 μm.
1 μm, depth dg = 0.05 μm, # 7 pseudo defect row is wg = 1 μm, depth dg = 0.2 μm, # 8 pseudo defect row is wg = 1 μm, depth dg = 0.75 μm. To form Then, the pseudo-defect row of # 9 is calculated as wg = 3μ.
m, the depth dg = 0.025 μm, the # 10 pseudo-defect row is wg = 3 μm, the depth dg = 0.05 μm, and # 1
The pseudo-defect row # 1 is wg = 3 μm and the depth dg = 0.2 μm, and the pseudo-defect row # 12 is wg = 3 μm and the depth dg = 0.
One having a thickness of 75 μm is formed. Here, the increase in the size of the pseudo defect in each pseudo defect row in the depth direction is 0.0%.
0.025 × 2, 0.025 ×, based on 25 μm
4, 0.025 × 20 and 0.025 × 30.

【0029】このように形成した疑似欠陥列ごとに順次
サイズが増加する疑似欠陥fgを持つ12本の疑似欠陥
列が図4(a)である。もちろん、検査の際の分類対象
の中心が5μmの場合には、それぞれの深さに対して一
辺の長さは、それぞれ3μm,5μm,10μmからな
る12本の疑似欠陥列を持つ基準ディスク1aを作成す
ることになる。疑似欠陥列の間隔を15゜とすれば、2
4本の疑似欠陥列を1つの基準ディスクに形成すること
ができる。これにより1枚の基準ディスクに前記の2つ
の例を含ませることができる。すなわち、前記のwg=
0.5μm,wg=1μm,wg=3μm,wg=5μ
m,wg=10μm,wg=20μmのすべての組み合わ
せについて疑似欠陥列ごとに疑似欠陥fgのサイズが順
次増加する疑似欠陥列を設ける。
FIG. 4A shows 12 pseudo defect rows having pseudo defects fg whose size sequentially increases for each pseudo defect row formed as described above. Of course, if the center of the classification target at the time of inspection is 5 μm, the length of one side for each depth is 12 μm, which is 3 μm, 5 μm, and 10 μm. Will be created. Assuming that the interval between the pseudo defect rows is 15 °, 2
Four pseudo-defect rows can be formed on one reference disk. Thus, one reference disk can include the above two examples. That is, the above wg =
0.5 μm, wg = 1 μm, wg = 3 μm, wg = 5 μ
For all combinations of m, wg = 10 .mu.m and wg = 20 .mu.m, a pseudo defect row in which the size of the pseudo defect fg sequentially increases is provided for each pseudo defect row.

【0030】各疑似欠陥群FGR内の隣接する2個の疑似
欠陥fgは、図5(a)に示すように、レーザスポット
Spの長径φ2(ディスク半径方向の幅)よりやや大きい
ギャップGaをなして等間隔に配列されている。このよ
うな基準ディスク1aを図1の磁気ディスク欠陥検査装
置11に装着し、あるいは図8の磁気ディスク欠陥検査
装置10のディスク1に換えて装着してこれの欠陥検査
を行い、検出信号のレベルに応じて検出された欠陥サイ
ズの検出値あるいは検出信号のレベルに応じてサイズが
細分類された分類値において欠陥サイズをディスプレイ
46に検査結果として表示すると、ディスプレイ46に
は基準ディスク1aの疑似欠陥列が欠陥マップとして表
示される。その状態は、検出感度調整によって異なって
くる。
As shown in FIG. 5A, two adjacent pseudo defects fg in each pseudo defect group FGR form a gap Ga slightly larger than the major diameter φ2 (width in the disk radial direction) of the laser spot Sp. Are arranged at equal intervals. Such a reference disk 1a is mounted on the magnetic disk defect inspection device 11 of FIG. 1 or is mounted in place of the disk 1 of the magnetic disk defect inspection device 10 of FIG. When the defect size is displayed as an inspection result on the display 46 in the detected value of the defect size detected in accordance with the detection value or the classification value in which the size is subdivided in accordance with the level of the detection signal, the pseudo defect of the reference disk 1a is displayed on the display 46. The columns are displayed as defect maps. The state depends on the detection sensitivity adjustment.

【0031】例えば、各疑似欠陥列の凸部あるいは凹部
のサイズが段階的に相違するので、欠陥に対する検出感
度が高いときには小さいサイズの疑似欠陥は小さいサイ
ズに対応した状態で表示されるが、大きなサイズの疑似
欠陥は、検出信号のレベルが飽和に達することによりあ
る程度以上の欠陥についてはそれぞれのサイズが同じよ
うなものとして表示されてしまう。逆に、検出感度が低
いときには小さいサイズの疑似欠陥は検出されないため
に、大きなサイズの疑似欠陥がそれぞれにそのサイズに
応じて表示される。そこで、コントロールパネル47を
介して検出感度の調整をしながら、基準ディスク1aの
欠陥検査を複数回繰り返すことで、最適な表示になるよ
うに感度調整をすることができる。
For example, since the size of the convex portion or the concave portion of each pseudo defect row changes stepwise, when the detection sensitivity to the defect is high, the pseudo defect having a small size is displayed in a state corresponding to the small size. As for the pseudo defect of the size, the defect of more than a certain degree is displayed as having the same size when the level of the detection signal reaches saturation. Conversely, when the detection sensitivity is low, small-sized pseudo defects are not detected, and large-sized pseudo defects are displayed according to their sizes. Thus, by repeating the defect inspection of the reference disk 1a a plurality of times while adjusting the detection sensitivity via the control panel 47, the sensitivity can be adjusted so as to obtain an optimal display.

【0032】このときの、コントロールパネル47にお
ける装置の検出感度の調整としては、受光器322(A
DP)の加圧電圧Vや信号処理回路41の増幅器のゲイ
ン、閾電圧E、そしてレーザ光源311のレーザ出力な
どで行う。さらに必要に応じて、投光系31のレーザビ
ームLTの投射角度θTや、受光系32の受光角度θRを
調整する。例えば、最初の例の、一辺1μmを中心とし
てサイズ分類をする12本の疑似欠陥列を有する基準デ
ィスク1aを欠陥検査装置11に装着して欠陥検査をし
た場合には、#1〜#12の疑似欠陥列が明確に表示さ
れるような検出感度になるようにコントロールパネル4
7において各部の値を設定して調整することができる。
また、次の例の24本の疑似欠陥列を有する基準ディス
ク1aを装着した場合には、サイズ分類する測定サイズ
に応じて選択された12本の疑似欠陥列が明確に表示さ
れるように装置の検出感度を調整すればよい。さらに、
検査開始の都度、あらかじめ決められたサイズの12本
の欠陥列を表示して、それらが明確な表示になるように
検出感度を調整するようにすれば、検査ごとの検査結果
データのばらつきが低減され、そして装置間の検査結果
データのばらつきを抑えることができる。
At this time, the detection sensitivity of the device on the control panel 47 is adjusted by adjusting the light receiver 322 (A
DP), the applied voltage V, the gain of the amplifier of the signal processing circuit 41, the threshold voltage E, the laser output of the laser light source 311 and the like. Further, the projection angle θT of the laser beam LT of the light projecting system 31 and the light receiving angle θR of the light receiving system 32 are adjusted as necessary. For example, in the first example, when the reference disk 1a having twelve pseudo-defect rows for performing size classification centering on 1 μm on a side is mounted on the defect inspection apparatus 11 and defect inspection is performed, # 1 to # 12 Control panel 4 so that the detection sensitivity is such that the pseudo-defect row is clearly displayed.
In step 7, the value of each part can be set and adjusted.
When the reference disk 1a having the 24 pseudo defect rows in the following example is mounted, the apparatus is designed so that the 12 pseudo defect rows selected according to the measured size to be classified are clearly displayed. May be adjusted. further,
At the start of each inspection, 12 defect columns of a predetermined size are displayed, and the detection sensitivity is adjusted so that they are clearly displayed, so that the variation in inspection result data for each inspection is reduced. Thus, it is possible to suppress the variation of the inspection result data between the apparatuses.

【0033】このように、検出感度を特定のサイズの範
囲にのみ限定的に設定しすれば、較正用ディスクの疑似
欠陥列の検査結果イメージにおいて求めるサイズに対応
する欠陥検出範囲が明確にされ、かつ、他の疑似欠陥列
の表示とは区別できる表示になるようにコントロールパ
ネル47によって検出感度を調整することができる。こ
れにより特定のサイズあるいはサイズ範囲について優先
的に検出することが可能になる。しかも、その調整も画
面上のイメージを見てできるので簡単であり、熟練を要
しない。このような表示画面での検査結果を見ての欠陥
検出感度の較正は、比較的誰にでも可能である。なお、
較正用ディスクに形成した疑似欠陥列のうち、いずれか
1つの疑似欠陥列の欠陥サイズを基準として表示するた
めに較正用ディスクの基準とする疑似欠陥列の位置にデ
ィスプレイ等で表示できるようなマークを設けることが
できる。
As described above, if the detection sensitivity is set to be limited to a specific size range, the defect detection range corresponding to the size required in the inspection result image of the pseudo defect row of the calibration disk is clarified. In addition, the detection sensitivity can be adjusted by the control panel 47 so that the display can be distinguished from the display of other pseudo defect columns. As a result, it is possible to preferentially detect a specific size or size range. In addition, the adjustment is easy because the image on the screen can be seen, and no skill is required. Calibration of the defect detection sensitivity on the basis of the inspection result on such a display screen can be relatively performed by anyone. In addition,
A mark which can be displayed on a display or the like at the position of the pseudo-defect row used as a reference for the calibration disc in order to display the defect size of any one of the pseudo-defect rows formed on the calibration disc as a reference. Can be provided.

【0034】また、ここでは、各疑似欠陥列において、
実質的に等しいサイズの3個以上の凸部あるいは凹部を
各列における構成とし、さらにこれら凸部あるいは凹部
がレーザスポットの半径方向の幅より大きな所定の間隔
を置いてディスクの半径方向に配列することを要件とし
ている。それは、較正用のディスク自体に欠陥が存在し
た場合にも疑似欠陥の配列を認識できるようにするため
である。すなわち、3個以上の欠陥が一定の間隔を置い
て配列されることは、通常の欠陥では発生することは希
である。レーザスポットSpの半径方向の幅より大きな
所定の間隔を置いて配置すれば3個の欠陥を独立に検出
し得る。さらに、万が一、疑似欠陥の凸部あるいは凹部
との間に他の欠陥が入り込んでそれが並んだとしても疑
似欠陥配列として半径方向に並んだ2個以上の欠陥を検
出でき、それが疑似欠陥列であることは分かる。
Here, in each pseudo defect row,
Three or more projections or depressions of substantially the same size are formed in each row, and these projections or depressions are arranged in the disk radial direction at predetermined intervals larger than the radial width of the laser spot. It is a requirement. This is to make it possible to recognize an array of pseudo defects even when a defect exists in the calibration disk itself. That is, the arrangement of three or more defects at regular intervals rarely occurs in a normal defect. By arranging the laser spot Sp at a predetermined interval larger than the radial width of the laser spot Sp, three defects can be detected independently. Furthermore, even if another defect enters between the convex or concave portion of the pseudo defect and is arranged, two or more defects arranged in the radial direction can be detected as a pseudo defect array, and the pseudo defect array can be detected. I know that

【0035】図5(b)は、ディスクを回転させずに、
単にレーザスポットSpを半径方向に走査して、信号処
理回路41における基準ディスク1aの欠陥検出信号を
半径方向において検出した場合の一例である。欠陥検出
信号には3個の疑似欠陥fgに対する3個の波形が近接
して現れており、もしこの付近に実物の欠陥Fが存在し
て検出信号に現れても、両者の振幅の違いや前後の関係
からこれを無視することができる。図4(c)は、
(b)の疑似欠陥fgに換えて円形の突起fg’を疑似欠
陥とする疑似欠陥列列#1〜#12を設ける場合の形状
についての説明図である。これの疑似欠陥fg’のサイ
ズは、直径をwgとし、高さをdg’とすると次のような
範囲で選択される。 疑似欠陥fg’のサイズ wg’:0.5μm,1μm,3μm,5μm,10μm,20μ
m dg’:0.025μm,0.05μm,0.2μm,0.75μm,0.0
1μm
FIG. 5B shows a state in which the disk is not rotated.
This is an example of a case where the laser spot Sp is simply scanned in the radial direction to detect a defect detection signal of the reference disk 1a in the signal processing circuit 41 in the radial direction. In the defect detection signal, three waveforms corresponding to the three pseudo defects fg appear close to each other. Even if a real defect F exists in the vicinity and appears in the detection signal, the difference between the amplitudes of the two and the difference between before and after the defect are detected. This can be ignored from the relationship. FIG. 4 (c)
It is explanatory drawing about the shape at the time of providing the pseudo defect row | line | column # 1-# 12 which makes the circular protrusion fg 'a pseudo defect instead of the pseudo defect fg of (b). The size of the pseudo defect fg 'is selected in the following range, where the diameter is wg and the height is dg'. Size wg 'of pseudo defect fg': 0.5 μm, 1 μm, 3 μm, 5 μm, 10 μm, 20 μ
mdg ': 0.025 µm, 0.05 µm, 0.2 µm, 0.75 µm, 0.0
1 μm

【0036】図6は、円周方向に60゜ごとに円弧状に
同じサイズの正方形の凹部疑似欠陥fgを配列したディ
スク1bを示している。このディスク1bは、同心円状
に各疑似欠陥列が形成され、同じ同心円の各疑似欠陥列
に配置された疑似欠陥は、平面からみたサイズが同じも
のである。そして、時計方向に向かって各疑似欠陥列と
とにその深さが増加し、各疑似欠陥列ごとに疑似欠陥の
サイズが相違している。なお、疑似欠陥fgの間隔は、
図7(a)に示すように、レーザスポットSpの円周方
向の幅φ1よりも大きな間隔Gbで等間隔に配置されてい
る。各疑似欠陥の深さは、前記のdgあるいはdg’の中
から選択されたものである。
FIG. 6 shows a disk 1b in which square concave pseudo defects fg of the same size are arranged in an arc shape every 60 degrees in the circumferential direction. In the disk 1b, each pseudo defect row is formed concentrically, and the pseudo defects arranged in each pseudo defect row of the same concentric circle have the same size when viewed from a plane. Then, the depth of each pseudo defect row increases in the clockwise direction, and the size of the pseudo defect differs for each pseudo defect row. The interval between the pseudo defects fg is
As shown in FIG. 7A, the laser spots Sp are arranged at equal intervals Gb larger than the circumferential width φ1 of the laser spots Sp. The depth of each pseudo defect is selected from the above dg or dg '.

【0037】各疑似欠陥列の疑似欠陥fgは、外周方向
から内周方向に向かって平面からみたサイズは小さくな
っている。このサイズも前記のっwgあるいはwg’の中
から選択されたものである。内周側に小さいサイズを割
当てることにより次側の疑似欠陥列の疑似欠陥の数の減
少を多少低減できる。もちろん、レーザスポットSpの
半径方向での次の疑似欠陥の位置は、レーザスポットS
pの半径方向の幅(長径)φ2よりも十分に離れたところ
のある。図7(b)は、図5(b)に対応するレーザス
ポットSpの走査方向での疑似欠陥fgの検出信号であ
る。なお、図中、ディスク1bにおける半径方向の点線
部分は、各疑似欠陥列を区分けするために設けた線状の
マーク欠陥であり、カッタ等によりけがくことにより形
成する。なお、基準位置マークMkも外周にけがきマー
キングすることが可能である。
The size of the pseudo-defect fg in each pseudo-defect row as viewed from a plane from the outer peripheral direction toward the inner peripheral direction becomes smaller. This size is also selected from the above wg or wg '. By allocating a small size to the inner peripheral side, the number of pseudo defects in the next pseudo defect row can be reduced somewhat. Of course, the position of the next pseudo defect in the radial direction of the laser spot Sp is the laser spot Sp.
It is farther away than the radial width (major axis) φ2 of p. FIG. 7B shows a detection signal of the pseudo defect fg in the scanning direction of the laser spot Sp corresponding to FIG. 5B. In the drawing, the dotted portion in the radial direction of the disk 1b is a linear mark defect provided for dividing each pseudo defect row, and is formed by scribing with a cutter or the like. Note that the reference position mark Mk can also be marked on the outer periphery.

【0038】次に、図2に従って、欠陥検査処理の全体
的な流れについて説明する。まず、オペレータが基準デ
ィスク1aを回転機構2のスピンドル21に装着し(ス
テップ101)、所定の検査開始のキー入力に応じてM
PU42が欠陥データ採取プログラム43aをコールし
てこのプログラムを実行する。これにより欠陥検査を開
始する(ステップ102)。そしてMPU42は、検出
欠陥値のデータと欠陥の位置データの採取を行う(ステ
ップ103)。次にMPU42はディスク1の全面走査
が終了したか否かの判定に入る(ステップ104)。こ
こでNOになると、ステップ103へと戻る。ステップ
104の判定でYESとなり、ディスク1の全面走査が
終了すると、MPU42はサイズ検査か否かの判定をす
る(ステップ105)。ここで、NOとなると、次に、
検出感度較正か否かの判定をする(ステップ106)。
ここで、YESとなると、MPU42は、欠陥検査結果
マップ表示プログラム43bをコールして実行する。こ
れにより検出欠陥値のデータと位置データとが読出さ
れ、基準ディスク1aの状態がディスプレイにマップ表
示がされる(ステップ107)。なお、先に述べたよう
に、このときの検出欠陥値/欠陥サイズテーブル43e
には、基準ディスク1aの欠陥の状態が実際に近い形で
表示されるような変換データが記憶されている。
Next, the overall flow of the defect inspection process will be described with reference to FIG. First, the operator mounts the reference disk 1a on the spindle 21 of the rotating mechanism 2 (step 101), and sets M in response to a key input for starting a predetermined inspection.
The PU 42 calls the defect data collection program 43a and executes this program. Thus, a defect inspection is started (step 102). Then, the MPU 42 collects the data of the detected defect value and the position data of the defect (Step 103). Next, the MPU 42 determines whether or not the entire surface of the disk 1 has been scanned (step 104). If NO here, the process returns to the step 103. When the determination in step 104 is YES and the entire surface scanning of the disk 1 is completed, the MPU 42 determines whether or not the size inspection is to be performed (step 105). Here, if NO, then
It is determined whether or not the detection sensitivity is calibrated (step 106).
Here, if the determination is YES, the MPU 42 calls and executes the defect inspection result map display program 43b. As a result, the data of the detected defect value and the position data are read, and the state of the reference disk 1a is displayed on the display as a map (step 107). As described above, the detected defect value / defect size table 43e at this time is used.
Stores conversion data for displaying a defect state of the reference disk 1a in a form close to the actual state.

【0039】次に、MPU42は、サイズ入力か否かの
判定に入る(ステップ108)。この判定でNOになる
と、検出感度調整待ちのループ入る。感度調整終了キー
が入力されたかの判定を行う(ステップ109)。オペ
レータがコントロールパネル47を操作して検出感度の
調整を行い、感度調整終了キーが入力されると、MPU
42の処理がステップ102へと戻り、再び同様な検査
が繰り返される。これにより、例えば、基準ディスク1
aの#1〜#12の欠陥列が明確に捉えられ、最適な感
度調整がなされたとき、ステップ108のサイズ入力か
否かの判定においてYESとなる。ここで、YESとな
ると、MPU42は、判定基準データ生成プログラム4
3cをコールして実行する。そして、入力装置48から
のサイズデータ入力待ちループに入る(ステップ11
0)。
Next, the MPU 42 determines whether or not the size has been input (step 108). If the determination is NO, the process enters a loop waiting for detection sensitivity adjustment. It is determined whether the sensitivity adjustment end key has been input (step 109). When the operator operates the control panel 47 to adjust the detection sensitivity and presses the sensitivity adjustment end key, the MPU
The process of 42 returns to step 102, and the same inspection is repeated again. Thereby, for example, the reference disk 1
When the defective rows # 1 to # 12 of a are clearly identified and the optimum sensitivity adjustment is performed, the determination in step 108 as to whether or not the size is input is YES. Here, if the determination is YES, the MPU 42
Call 3c and execute. Then, the process enters a loop waiting for input of size data from the input device 48 (step 11).
0).

【0040】ここで、オペレータが入力装置48からサ
イズを入力すると、MPU42は、マウスによる画面上
での位置入力待ちに入る(ステップ111)。ディスプ
レイ46の画面上でそのサイズに対応する基準ディスク
1aの#1〜#12の欠陥列のうちの1つの位置にマウ
スのポインタが合わされて位置が入力されると、MPU
42は、採取したサイズデータ(欠陥検査結果)の中か
ら入力された位置に対応する欠陥検出位置おける欠陥の
サイズを抽出し(ステップ112)、この抽出した欠陥
のサイズと一致する検出欠陥値/欠陥サイズテーブル上
の位置を検索して(ステップ113)、テーブルにおい
て欠陥サイズが一致した位置のサイズデータを入力され
たサイズデータに書換えて、更新し、この位置にフラグ
を立てる(ステップ114)。これにより欠陥検査結果
(採取データ)を参照することで前記のマウスによる位
置指定対応する較正用ディスクの欠陥サイズに書換えて
検出欠陥値対欠陥サイズの新しい組み合わせ対が生成さ
れる。そして、MPU42は、較正終了かの判定に入る
(ステップ115)。ここで、NOとなると、ステップ
110へと戻る。
Here, when the operator inputs a size from the input device 48, the MPU 42 waits for a position input on the screen by a mouse (step 111). When the position of the mouse pointer is set on one of the defect columns # 1 to # 12 of the reference disk 1a corresponding to the size on the screen of the display 46 and the position is input, the MPU
42 extracts the size of the defect at the defect detection position corresponding to the input position from the collected size data (defect inspection result) (step 112), and detects the detected defect value / The position on the defect size table is searched (step 113), the size data at the position where the defect size matches in the table is rewritten with the input size data, updated, and a flag is set at this position (step 114). Thus, by referring to the defect inspection result (collected data), a new combination pair of the detected defect value and the defect size is generated by rewriting the defect size of the calibration disk corresponding to the position designation by the mouse. Then, the MPU 42 starts to determine whether or not the calibration is completed (Step 115). Here, if the determination is NO, the process returns to step 110.

【0041】このステップ110からステップ115ま
での繰り返し処理により疑似欠陥列#1〜#12あるい
はこれらから選択された疑似欠陥列についての欠陥のサ
イズデータが実際の出力信号のレベルに対応して検出欠
陥値/欠陥サイズテーブル43eに順次書込まれ、検出
欠陥値/欠陥サイズテーブル43eが較正された判定基
準のデータになる。ステップ115の判定においてYE
Sとなると、MPU42は、更新データを示すフラグを
参照して古いデータを消去する(ステップ116)。こ
れにより検出感度の較正処理が終了する。なお、先のス
テップ106でNOになったときには、ほかの処理に移
る。
By repeating the processing from step 110 to step 115, the defect size data for the pseudo defect columns # 1 to # 12 or the pseudo defect columns selected from them is detected in correspondence with the actual output signal level. The detected defect value / defect size table 43e is sequentially written into the value / defect size table 43e, and becomes the calibrated determination reference data. YE in the determination of step 115
In S, the MPU 42 deletes the old data by referring to the flag indicating the update data (Step 116). This completes the detection sensitivity calibration process. It should be noted that when the result of the previous step 106 is NO, the processing shifts to another processing.

【0042】次に、オペレータが検査ディスク1を回転
機構2のスピンドル21に装着すると(ステップ101
a)、ステップ102において、MPU42は、欠陥デ
ータ採取プログラム43aをコールして実行し、欠陥検
査を開始する。そして、ステップ105においてYES
になると、MPU42は、欠陥サイズ検出プログラム4
3dをコールされて実行し、更新された検出欠陥値/欠
陥サイズテーブル43eを参照してサイズ分類処理を行
い、サイズに応じて欠陥がカウントされる(ステップ1
17)。その結果、検出信号のレベルに対応する較正さ
れたサイズ分類データがディスク欠陥検査により採取し
た欠陥検出値に対応して得られる。次に、MPU42
は、欠陥検査結果マップ表示プログラム43bをコール
して実行し、サイズデータと位置データを読出し、検査
ディスク1の状態をディスプレイに較正された状態でマ
ップ表示する(ステップ118)。もちろん、このと
き、必要に応じて欠陥ごとのカウント値も表示され、検
査結果がプリンタ45に出力されてもよい。
Next, when the operator mounts the inspection disk 1 on the spindle 21 of the rotating mechanism 2 (step 101).
a) In step 102, the MPU 42 calls and executes the defect data collection program 43a to start the defect inspection. Then, YES in step 105
, The MPU 42 executes the defect size detection program 4
3d is called and executed, a size classification process is performed with reference to the updated detected defect value / defect size table 43e, and defects are counted according to the size (step 1).
17). As a result, calibrated size classification data corresponding to the level of the detection signal is obtained corresponding to the defect detection value collected by the disk defect inspection. Next, MPU42
Calls and executes the defect inspection result map display program 43b, reads out the size data and the position data, and displays the state of the inspection disk 1 on the display in a calibrated map (step 118). Of course, at this time, the count value for each defect may be displayed as necessary, and the inspection result may be output to the printer 45.

【0043】以上説明してきたが、実施例の検出欠陥値
/欠陥サイズテーブル上でのデータの較正は一例であっ
て、この発明は、このようなサイズ変換テーブルによる
較正に限定されない。例えば、信号レベル値をアドレス
値として欠陥サイズを出力とするデータ変換メモリによ
り欠陥サイズデータを出力することもできる。このよう
な場合には、このメモリ上のデータが欠陥サイズデータ
となるので、これを更新する書換えを行えばよい。ま
た、この欠陥サイズの判定基準となるデータは、このよ
うなサイズデータに限定されるものではなく、図1ある
いは図8の信号処理回路41における欠陥検出信号に対
して、検出するサイズに対応する閾値あるいは大小分類
されたサイズに対応する閾値を設定するものであっても
よい。また、実施例におけるレーザスポットSpによる
ディスクの走査はスパイラルに限定されるものではな
く、レーザスポットSpは、ディスクに対して相対的に
移動すればよい。また、欠陥からの散乱光を受ける受光
器は、CCD等の受光素子を用いることもできる。
As described above, data calibration on the detected defect value / defect size table in the embodiment is an example, and the present invention is not limited to calibration using such a size conversion table. For example, defect size data can be output by a data conversion memory that outputs a defect size using a signal level value as an address value. In such a case, since the data on the memory becomes the defect size data, rewriting for updating the data may be performed. The data used as the criterion for determining the defect size is not limited to such size data, but corresponds to the size to be detected with respect to the defect detection signal in the signal processing circuit 41 of FIG. 1 or FIG. A threshold value or a threshold value corresponding to the size classified into large and small may be set. Further, the scanning of the disk by the laser spot Sp in the embodiment is not limited to the spiral, and the laser spot Sp may be moved relatively to the disk. Further, a light receiving element such as a CCD can be used as a light receiving device that receives scattered light from a defect.

【0044】さらに、実施例では、アルミニュウム製の
鏡面研磨されたディスクを基本として説明してきたが、
基準ディスクとしてガラス製のディスクが用いられても
よいことはもちろんである。また、ディスクは金属メッ
キされたものであってもよい。さらに、ディスクは、磁
気ディスクあるいはそのサブストレートに限定されるも
のではなく、検査対象となるワークが円板状のものでワ
ークを回転させてワークの欠陥を検出する装置に対して
適用可能である。適用可能なものの一例として、まず、
ウエハの欠陥検査(異物検査)を挙げることができる。
Further, in the embodiment, the description has been made on the basis of a disc made of aluminum and mirror-polished.
Of course, a glass disk may be used as the reference disk. Also, the disk may be metal-plated. Further, the disk is not limited to a magnetic disk or its substrate, but can be applied to an apparatus for detecting a defect of a work by rotating the work and inspecting the work to be inspected. . As an example of what can be applied,
Wafer defect inspection (foreign matter inspection) can be mentioned.

【0045】[0045]

【発明の効果】以上の説明から理解できるように、この
発明にあっては、感度較正用のディスクを欠陥検査対象
としてオペレータが欠陥検査装置において欠陥検査を
し、検出信号のレベルに応じて検出された欠陥のサイズ
の検出値あるいは検出信号のレベルに応じて分類された
サイズの分類値において欠陥サイズをディスプレイ等に
検査結果として表示すると、欠陥がそのサイズに応じた
イメージをもってディスクの形状とともに欠陥がマップ
表示される。このとき、少なくとも、異なるサイズの疑
似欠陥は、それに対応する映像が得られるので、得られ
る映像を見ながら適正な検出感度の映像となるように感
度調整ができる。これによりそのときどきで欠陥のサイ
ズ分類などに適合するような検出感度の調整が較正用デ
ィスクにより映像を見ながら熟練を要さずにできる。し
かも、同じ較正用ディスクを使用する限り、検査装置の
欠陥検出感度の設定状態を再現できるので、検査結果デ
ータがそのときどきの設定状態に影響され難く、そのば
らつきも低減する。もちろん、異なる検査装置との間で
も検査結果データにばらつきも発生し難く、検査結果デ
ータの共用が可能になる。
As can be understood from the above description, according to the present invention, a sensitivity calibration disk is subjected to defect inspection by a defect inspection apparatus using a disk for sensitivity inspection as an object of defect inspection, and detection is performed in accordance with the level of a detection signal. When the defect size is displayed as an inspection result on a display or the like in the detected value of the size of the detected defect or the classification value of the size classified according to the level of the detection signal, the defect is displayed along with the shape of the disc with an image corresponding to the size. Is displayed on the map. At this time, at least the image corresponding to the pseudo defect of a different size can be obtained, so that the sensitivity can be adjusted so as to obtain an image with an appropriate detection sensitivity while watching the obtained image. As a result, it is possible to adjust the detection sensitivity to suit the size classification of the defect at that time without any skill while watching the image on the calibration disk. Moreover, as long as the same calibration disk is used, the setting state of the defect detection sensitivity of the inspection apparatus can be reproduced, so that the inspection result data is hardly affected by the current setting state, and the variation is reduced. Of course, the inspection result data hardly varies even between different inspection apparatuses, and the inspection result data can be shared.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、この発明を適用した表面欠陥検査方法
を適用した磁気ディスク欠陥検査装置の一実施例のブロ
ック図である。
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of a magnetic disk defect inspection apparatus to which a surface defect inspection method according to the present invention is applied.

【図2】図2は、その欠陥検査処理のフローチャートで
ある。
FIG. 2 is a flowchart of the defect inspection processing.

【図3】図3は、検出欠陥値/欠陥サイズテーブルの説
明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram of a detected defect value / defect size table.

【図4】図4は、この発明で使用する感度較正用ディス
クの具体例であって、(a)は、感度較正用ディスクに
おける疑似欠陥列の配列図、(b)は、疑似欠陥列にお
いて形成される正方形凹部の説明図、(c)は、疑似欠
陥列において形成される円形凸部の説明図である。
FIGS. 4A and 4B are specific examples of a sensitivity calibration disk used in the present invention, in which FIG. 4A is an arrangement diagram of a pseudo defect row in the sensitivity calibration disk, and FIG. FIG. 3C is an explanatory diagram of a formed square concave portion, and FIG. 4C is an explanatory diagram of a circular convex portion formed in a pseudo defect row.

【図5】図5(a)は、疑似欠陥の間隔と走査レーザス
ポットとの関係の説明図、図5(b)は、疑似欠陥の検
出信号の説明図である。
FIG. 5A is an explanatory diagram of a relationship between an interval between pseudo defects and a scanning laser spot, and FIG. 5B is an explanatory diagram of a pseudo defect detection signal.

【図6】図6は、感度較正用ディスクの他の具体例の説
明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram of another specific example of the sensitivity calibration disk.

【図7】図7(a)は、疑似欠陥の間隔と走査レーザス
ポットとの関係の説明図、図7(b)は、疑似欠陥の検
出信号の説明図である。
FIG. 7A is an explanatory diagram of a relationship between an interval between pseudo defects and a scanning laser spot, and FIG. 7B is an explanatory diagram of a pseudo defect detection signal.

【図8】図8は、磁気ディスク欠陥検査装置の要部の概
略構成図であって、(a)は、その全体的構成図、
(b)は、そのレーザスポットの説明図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a main part of a magnetic disk defect inspection apparatus, where (a) is an overall configuration diagram thereof,
(B) is an explanatory view of the laser spot.

【図9】図9は、磁気ディスクの表面に存在する各種の
欠陥の説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram of various defects existing on the surface of the magnetic disk.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…鏡面ディスク、1a…感度較正用ディスク(基準デ
ィスク)、2…回転機構、10…欠陥検査装置、21…
スピンドル、22…モータ、3…検出光学系、31…投
光系、311…レーザ光源、312…集束レンズ、32
…受光系、321…集光レンズ、322…受光器(AD
P等)、4…欠陥検出処理部、41…信号処理回路、4
1a…アンプ、41b…サンプリング回路、41c…A
/Dコンバータ(A/D)41c、41d…位置データ
生成回路、42…MPU、43…メモリ、44…データ
処理装置、45…プリンタ(PR)、46…ディスプレ
イ、43a…欠陥データ採取プログラム、43b…欠陥
マップ表示プログラム、43c…判定基準データ生成プ
ログラム、43d…欠陥サイズ検出プログラム、43e
…検出欠陥値/欠陥サイズテーブル、50…データ処理
装置、LT…レーザビーム、Sp…レーザスポット、φ1
…スポットの短径、φ2…スポットの長径、F…欠陥、
fg,fg’…模擬欠陥、FGR…模擬欠陥の群、wg…正
方形あるいは矩形の模擬欠陥の辺長、dg…模擬欠陥の
深さ、wg’…円形状模擬欠陥の直径、dg’…円形状模
擬欠陥の高さ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Mirror disk, 1a ... Sensitivity calibration disk (reference disk), 2 ... Rotating mechanism, 10 ... Defect inspection device, 21 ...
Spindle, 22 motor, 3 detection optical system, 31 light projecting system, 311 laser light source, 312 focusing lens, 32
.., Light receiving system, 321, condensing lens, 322, light receiving device (AD
P etc.), 4 ... Defect detection processing unit, 41 ... Signal processing circuit, 4
1a ... Amplifier, 41b ... Sampling circuit, 41c ... A
/ D converters (A / D) 41c, 41d: position data generation circuit, 42: MPU, 43: memory, 44: data processing device, 45: printer (PR), 46: display, 43a: defect data collection program, 43b ... Defect map display program, 43c ... Criteria data generation program, 43d ... Defect size detection program, 43e
... Detection defect value / defect size table, 50 ... Data processing device, LT ... Laser beam, Sp ... Laser spot, φ1
… Spot minor axis, φ2… spot major axis, F… defect,
fg, fg ': simulated defect, FGR: group of simulated defects, wg: side length of square or rectangular simulated defects, dg: depth of simulated defects, wg': diameter of simulated defects, dg ': circular shape Simulated defect height.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レーザスポットをディスクに対して相対的
に移動させて前記ディスクの表面を走査し、前記レーザ
スポットの散乱光を受光器により受光し、この受光器の
出力信号を増幅して検出信号を得てこの検出信号のレベ
ルに応じて検出された欠陥のサイズあるいは前記検出信
号のレベルに応じて大小分類されたサイズを前記ディス
ク上の位置とともに出力する表面欠陥検査装置におい
て、 前記欠陥に対する検出感度を較正するためのディスクで
あって、このディスクの半径方向および円周方向のいず
れかの方向に沿って形成された3個以上の疑似欠陥から
なる疑似欠陥列がこの較正用ディスクの前記円周方向に
所定の角度おきにn個(ただしnは2以上の整数)設け
られ、それぞれの前記疑似欠陥列の前記疑似欠陥は、実
質的に等しいサイズの凸部および凹部のいずれかとして
形成され、かつ、隣接する前記疑似欠陥が前記レーザス
ポットの幅より大きな所定の間隔をおいて配列され、か
つ前記円周方向に沿って段階的に増加あるいは減少して
いる感度較正用ディスクを備え、この感度較正用ディス
クの欠陥検査をして、これの検査結果に応じて検出感度
を調整し、検出感度を調整した状態における前記較正用
ディスクの検査結果から前記検出信号のレベルと前記疑
似欠陥のサイズとを関係付けるデータをサイズ判定の基
準データとして生成し、この判定基準データに基づいて
検査対象のディスクを欠陥検査したときの前記検出信号
のレベルから欠陥のサイズを得る表面欠陥検査方法。
1. A laser spot is moved relative to a disk to scan the surface of the disk, a scattered light of the laser spot is received by a light receiver, and an output signal of the light receiver is amplified and detected. A surface defect inspection apparatus that obtains a signal and outputs the size of a defect detected according to the level of the detection signal or the size classified according to the level of the detection signal together with the position on the disk, A disk for calibrating the detection sensitivity, wherein a pseudo-defect row composed of three or more pseudo-defects formed along any one of a radial direction and a circumferential direction of the disk is provided on the disk for calibration. N (where n is an integer of 2 or more) are provided at every predetermined angle in the circumferential direction, and the pseudo defects in each of the pseudo defect rows are substantially equal in size. Formed as any one of a convex portion and a concave portion of the laser, and the adjacent pseudo defects are arranged at predetermined intervals larger than the width of the laser spot, and gradually increase or increase along the circumferential direction. A sensitivity calibration disk having a decreased sensitivity, performing a defect inspection of the sensitivity calibration disk, adjusting the detection sensitivity according to the inspection result, and inspecting the calibration disk in a state where the detection sensitivity is adjusted. Generates data relating the level of the detection signal and the size of the pseudo-defect as reference data for size determination, based on the level of the detection signal when performing a defect inspection on the disk to be inspected based on the determination reference data. A surface defect inspection method for obtaining the size of a defect.
【請求項2】前記検査結果は、前記検出信号のレベルに
対応する欠陥サイズの検出値あるいは前記検出信号のレ
ベルに応じて分類した欠陥サイズの分類値であって、デ
ィスプレイに表示される請求項1記載の表面欠陥検査方
法。
2. The inspection result is a detected value of a defect size corresponding to a level of the detection signal or a classification value of a defect size classified according to the level of the detection signal, and is displayed on a display. 2. The surface defect inspection method according to 1.
【請求項3】判定基準データは、前記検出信号のレベル
に対して検出する欠前記陥のサイズに対応する閾値であ
る請求項1記載の表面欠陥検査方法。
3. The surface defect inspection method according to claim 1, wherein the criterion data is a threshold value corresponding to the size of the defect detected with respect to the level of the detection signal.
【請求項4】前記検査対象のディスクはウエハであり、
前記較正用ディスクは、サンプルウエハに前記疑似欠陥
を形成したものである請求項1記載の表面欠陥検査方
法。
4. The disk to be inspected is a wafer,
2. The surface defect inspection method according to claim 1, wherein the calibration disk is obtained by forming the pseudo defect on a sample wafer.
【請求項5】レーザスポットをディスクに対して相対的
に移動させて前記ディスクの表面を走査し、前記レーザ
スポットの散乱光を受光器により受光し、この受光器の
出力信号を増幅して検出信号を得てこの検出信号のレベ
ルに応じて検出された欠陥のサイズあるいは前記検出信
号のレベルに応じて大小分類されたサイズを前記ディス
ク上の位置とともに出力する表面欠陥検査装置におい
て、 前記欠陥に対する検出感度を較正するためのディスクで
あって、このディスクの半径方向および円周方向のいず
れかの方向に沿って形成された3個以上の疑似欠陥から
なる疑似欠陥列がこの較正用ディスクの前記円周方向に
所定の角度おきにn個(ただしnは2以上の整数)設け
られ、それぞれの前記疑似欠陥列の前記疑似欠陥は、実
質的に等しいサイズの凸部および凹部のいずれかとして
形成され、かつ、隣接する前記疑似欠陥が前記レーザス
ポットの幅より大きな所定の間隔をおいて配列され、か
つ前記円周方向に沿って段階的に増加あるいは減少して
いる感度較正用ディスクと、 前記検出感度を調整する感度調整手段と、 この感度調整手段に適正な検出感度に調整された状態に
おいて前記感度較正用ディスクを欠陥検査した検査結果
から前記検出信号のレベルと前記疑似欠陥のサイズとを
関係付けるデータをサイズ判定の基準データとして生成
する基準データ生成手段と、 前記基準データに基づいて検査対象のディスクを欠陥検
査したときに得られる前記検出信号のレベルから欠陥の
サイズを得るサイズ検出手段とを備える表面欠陥検査装
置。
5. A laser spot is moved relative to a disk to scan the surface of the disk, and scattered light of the laser spot is received by a light receiver, and an output signal of the light receiver is amplified and detected. A surface defect inspection apparatus that obtains a signal and outputs the size of a defect detected according to the level of the detection signal or the size classified according to the level of the detection signal together with the position on the disk, A disk for calibrating the detection sensitivity, wherein a pseudo-defect row composed of three or more pseudo-defects formed along any one of a radial direction and a circumferential direction of the disk is provided on the disk for calibration. N (where n is an integer of 2 or more) are provided at every predetermined angle in the circumferential direction, and the pseudo defects in each of the pseudo defect rows are substantially equal in size. Formed as any one of a convex portion and a concave portion of the laser, and the adjacent pseudo defects are arranged at predetermined intervals larger than the width of the laser spot, and gradually increase or increase along the circumferential direction. A decreasing sensitivity calibration disk; a sensitivity adjusting means for adjusting the detection sensitivity; and detecting the sensitivity calibration disk from a result of a defect inspection of the sensitivity calibration disk in a state where the sensitivity adjusting means is adjusted to an appropriate detection sensitivity. Reference data generating means for generating data relating a signal level and the size of the pseudo defect as reference data for size determination; andthe detection signal obtained when a target disk is inspected for defects based on the reference data. And a size detecting means for obtaining the size of the defect from the level.
【請求項6】ディスプレイと前記欠陥のサイズを入力す
る入力手段とを有し、前記検査結果は、前記検出信号の
レベルに対応する欠陥サイズの検出値あるいは前記検出
信号のレベルに応じて分類した欠陥サイズの分類値であ
って、前記ディスプレイに表示され、前記疑似欠陥は、
前記半径方向に沿って多数設けられ、前記n個の疑似欠
陥列の1つには基準位置を示すマークが設けられ、前記
基準データ生成手段は、前記入力手段により入力された
前記欠陥のサイズを、選択された前記検出信号のレベル
と対応付けて記憶する請求項5記載の表面欠陥検査装
置。
6. A display and an input means for inputting a size of the defect, wherein the inspection result is classified according to a detected value of a defect size corresponding to a level of the detected signal or a level of the detected signal. A classification value of the defect size, which is displayed on the display, wherein the pseudo defect is
A plurality of marks are provided along the radial direction, one of the n pseudo defect rows is provided with a mark indicating a reference position, and the reference data generation means determines the size of the defect input by the input means. 6. The surface defect inspection apparatus according to claim 5, wherein the information is stored in association with a level of the selected detection signal.
【請求項7】判定基準データは、前記検出信号のレベル
に対して検出する欠前記陥のサイズに対応する閾値であ
る請求項5記載の表面欠陥検査装置。
7. The surface defect inspection apparatus according to claim 5, wherein the criterion data is a threshold value corresponding to the size of the defect detected with respect to the level of the detection signal.
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