JPH1031301A - 描画用図形データの検証方法 - Google Patents
描画用図形データの検証方法Info
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- JPH1031301A JPH1031301A JP20547496A JP20547496A JPH1031301A JP H1031301 A JPH1031301 A JP H1031301A JP 20547496 A JP20547496 A JP 20547496A JP 20547496 A JP20547496 A JP 20547496A JP H1031301 A JPH1031301 A JP H1031301A
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Abstract
不一致図形に近いものを得ることができる描画図形デー
タと元の図形データとの検証方法を提供する。 【解決手段】 (A)図形論理演算の排他的論理和によ
り両図形データから、不一致の図形データを抽出する不
一致図形データ抽出工程と、(B)抽出された全不一致
図形データから、処理する図形データを選別する図形デ
ータ選別工程と、(C)選別された全図形データに対
し、接する図形データ同志を1つの図形データとするア
ウトライン化処理工程と、(D)アウトライン化処理さ
れた図形データに対し、許容値Dだけ、X方向、Y方向
に縮小した図形データを得る縮小処理をし、得られた縮
小処理後の図形データを許容値Dだけ、X方向、Y方向
に拡大した図形データを得る拡大処理を行い、得られた
図形データのみを新たに不一致図形データとする図形デ
ータの縮小拡大処理工程とからなる。
Description
光、イオンビーム、X線等の電離放射線による露光によ
り、該電離放射線に感光性のあるレジストを選択的に所
望の形状に露光するための露光描画装置の分野における
もので、描画図形データをいかに設計図形データに近い
状態で処理しているか否かをチエックするための検証方
法に関する。特に、LSI、超LSI、超々LSI等の
回路製造に用いられるフオトマスク、レチクル等のマス
クパターンの作成に用いられる露光描画装置における描
画用図形データの検証に関する。
り、LSIを作製する際に用いられるパターニング用の
フオトマスク、レチクル等のマスクパターンも益々微細
化が求められてきた。この為、フオトマスクやレチクル
の作製においては、カメラワークを用いた縮小投影によ
るパターンニングに代わり、電子線や紫外線、レーザ光
等を用いた露光描画装置によるパターンニングが主流に
なってきた。中でも、高精度・高品質にレジストをパタ
ーニングするレジストパターンの作製方法として、電子
線を用いた電子線露光描画装置によるパターニング方法
が一般に知られている。この方法は、真空中で電子線を
電磁界により制御し、XY制御されたステージ上のフオ
トマスク等用の基板上の電子線に感光性のあるレジスト
部へ選択的に露光することにより所定のレジストパター
ン潜像を形成し、これを現像することによりレジストパ
ターンを得るものである。そして、レジストパターンを
耐エッチング性膜として、遮光層をエッチングしてフオ
トマスク等を得る。尚、ここでは、電離放射線とは、赤
外線、可視光、紫外線、遠紫外線、レーザ光、X線、イ
オンビーム等を言い、電離放射線を用いた露光描画装置
とは、これらの電離線を描画用に用いた装置を総称して
言っている。一般には、電子線露光描画装置、レーザ光
露光描画装置、イオンビーム露光装置、X線露光装置等
がある。
を行う際、設計図形データにできるだけ近い描画用デー
タを用いることが重要となるが、描画用データと設計デ
ータとは必ずしも同じ形状にならない。例えば、図8
(a)に示す斜め線のある設計図形データ810から、
図8(b)に示す矩形図形データで近似された描画用図
形データ820を加工して得ることがある。尚、図8
(b)は両図形データとの不一致箇所を図形c81〜c
89により表したものである。また、図9に示すよう
に、設計データの基本単位と描画用データの基本単位が
異なるため、量子化による誤差(丸めとも言う)が生じ
る場合がある。図9(a)は元の設計図形データが0.
001μmをアドレス単位としているのに対し、図9
(b)は描画用図形データが0.05μmをアドレス単
位おり、元の設計図形データの矩形データa91が、
0.05μmのメッシュにのらない場合には、元の設計
図形データから作成される描画用図形データの矩形デー
タb91は、変換の際に量子化され、0.05μmのメ
ッシュにのるように、データを丸められる。したがっ
て、矩形データa91から形状の異なる矩形データb9
1が生成されることとなる。このため、設計図形データ
と描画用データとが異なることに起因して、設計思想に
反した描画が行われる場合も起こり、描画用図形データ
が設計図形データと許容範囲の誤差内で一致しているか
否かの検証作業が必要となってくる。尚、ここで言う設
計データとは、設計されたレンイアウトデータから台形
ベースのデータに変換した図形データを言い、基本的に
両者間では誤差は発生しない。また、描画用用図形デー
タとは、描画用装置へ入力できる各種描画装置用のフオ
ーマットの図形データをXないしY昇順の台形ベースの
図形フオーマットに変換したもので、基本的には両者間
では誤差は発生しない。
基づいて簡単に説明しておく。先ず、元の図形データ
(設計図形データ)とこれから加工された描画用図形デ
ータについて、図形データの排他的論理和(Exclu
sive−OR)を求め、両者の不一致図形データを抽
出する。(S71) 次いで、得られた全不一致図形データについて、X、Y
両方向について縮小処理(アンダーサイズとも言う)を
行い(S72)、縮小値D0(以下許容値とも言う)よ
り幅ないし高さが小さい図形をここで消去する。次い
で、縮小処理後残った全図形データに対して、X、Y両
方向について拡大処理(オーバーサイズとも言う)を行
い(S73)、得られた図形データ(縮小拡大図)を新
たに不一致データとする。このようにして、所定の許容
値より大きい不一致図形データのみを抽出していた。
装置の高密度化とともに、描画用図形データのデータ数
は多くなり、且つ、精度の高いものが求められるように
なってきた。図7に示す、処理する図形データの増加と
ともに、従来の描画図形データの検証方法においては、
S71(ステップ71)の工程にて検出される図形デー
タの数が極端に多くなり、処理が不能となる、ないし処
理に多くの時間を必要とする場合が発生し、問題になっ
てきた。例えば、S71の工程においては、図8(c)
に示すように、元の設定図形データ810(図8
(a))、描画用図形データ820(図8(b))に比
べ、両図形データの排他的論理和により得られる図形デ
ータ数は極端に増える。本発明は、このような状況のも
と、描画図形データの検証に際し、できるだけ図7に示
す縮小処理、拡大処理する処理する図形データの数を少
なくし、且つ、これまでと同様の結果を得ようとするも
のである。
タの検証方法は、台形ベースの図形データを持つ、レイ
アウトデータから得られた設計図形データと該設計図形
データから得られた描画用図形データとの不一致箇所を
抽出するための描画用データの検証方法であって、
(A)図形論理演算の排他的論理和により両図形データ
から、不一致の図形データを抽出する不一致図形データ
抽出工程と、(B)抽出された全不一致図形データか
ら、処理する図形データを選別する図形データ選別工程
と、(C)選別された全図形データに対し、接する図形
データ同志を1つの図形データとするアウトライン化処
理工程と、(D)アウトライン化処理された図形データ
に対し、許容値Dだけ、X方向、Y方向に縮小した図形
データを得る縮小処理をし、得られた縮小処理後の図形
データを許容値Dだけ、X方向、Y方向に拡大した図形
データを得る拡大処理を行い、得られた図形データのみ
を新たに不一致図形データとする図形データの縮小拡大
処理工程とからなることを特徴とするものである。そし
て、上記において、設計図形データと描画用図形データ
とはいずれもY方向に高さをもつ台形ベースの図形デー
タからなる図形データ群であり、図形データ選別工程
が、抽出された全不一致図形データから、X方向の幅が
許容値D以下のものは除去し、許容値Dより大きいもの
は処理対象図形データとして残す第一の選択工程と、第
一の選択工程にて残った各不一致図形データに対して、
Y方向に接する他の図形データがある場合、少なくとも
一方側の他の図形データのX方向の幅およびY方向の幅
が許容値Dより大きい場合には、その不一致図形データ
を含めて接する図形データを全て出力して出力図形デー
タとし、接する他の図形データ全てに対し、図形データ
のX方向の幅、Y方向の幅のいずれか一方が許容値Dよ
り小さい場合には、不一致図形データのY方向の幅が許
容値Dより大きい場合はその不一致図形データを含めて
接する図形データを全て出力して出力図形データとし、
Y方向の幅が許容値Dより小である場合はその不一致図
形データを捨てる第二の選択工程と、第一の選択工程に
て残った各不一致図形データに対して、Y方向に接する
他の図形データがない場合、その不一致図形データのY
方向の幅をチエックして、Y方向の幅が許容値Dより大
きい場合は出力して出力図形データとし、Y方向の幅が
許容値Dより小である場合は図形データを捨てる第三の
選択工程とからなり、各選択工程において、すでに出力
図形データとして処理されている図形データと同じ図形
データについては、重複して出力図形データとしないも
のであることを特徴とするものである。
な構成にすることにより、描画図形データの検証におい
て、縮小処理、拡大処理等の処理を行う際の図形データ
の数を少なくでき、且つ、実際の不一致図形に近いもの
を得ることを可能とするものである。詳しくは、(A)
図形論理演算の排他的論理和により両図形データから、
不一致の図形データを抽出する不一致図形データ抽出工
程と、(B)抽出された全不一致図形データから、処理
する図形データを選別する図形データ選別工程と、
(C)選別された全図形データに対し、接する図形デー
タ同志を1つの図形データとするアウトライン化処理工
程と、(D)アウトライン化処理された図形データに対
し、許容値Dだけ、X方向、Y方向に縮小した図形デー
タを得る縮小処理をし、得られた縮小処理後の図形デー
タを許容値Dだけ、X方向、Y方向に拡大した図形デー
タを得る拡大処理を行い、得られた図形データのみを新
たに不一致図形データとする図形データの縮小拡大処理
工程とからなることによりこれを達成している。更に詳
しくは、抽出された全不一致図形データから、処理する
図形データを選別する図形データ選別工程を設けている
ことにより、処理する図形データの数を、従来の図7に
示す工程に比べ減らし、大容量の描画用図形データの検
証にも耐えるものとしており、選別された全図形データ
に対し、接する図形データ同志を1つの図形データとす
るアウトライン化処理工程を設けていることにより、実
際の不一致図形データに近い、許容値より大きい図形デ
ータの抽出を可能としている。具体的には、設計図形デ
ータと描画用図形データとはいずれもY方向に高さをも
つ台形ベースの図形データからなる図形データ群であ
り、図形データ選別工程が、抽出された全不一致図形デ
ータから、X方向の幅が許容値D以下のものは除去し、
許容値Dより大きいものは処理対象図形データとして残
す第一の選択工程を有することにより、処理するデータ
量を大きく減らすことを可能としている。そして、第一
の選択工程にて残った各不一致図形データに対して、Y
方向に接する他の図形データがある場合、少なくとも一
方側の他の図形データのX方向の幅およびY方向の幅が
許容値Dより大きい場合には、その不一致図形データを
含めて接する図形データを全て出力して出力図形データ
とし、接する他の図形データ全てに対し、図形データの
X方向の幅、Y方向の幅のいずれか一方が許容値Dより
小さい場合には、不一致図形データのY方向の幅が許容
値Dより大きい場合はその不一致図形データを含めて接
する図形データを全て出力して出力図形データとし、Y
方向の幅が許容値Dより小である場合はその不一致図形
データを捨てる第二の選択工程と、第一の選択工程にて
残った各不一致図形データに対して、Y方向に接する他
の図形データがない場合、その不一致図形データのY方
向の幅をチエックして、Y方向の幅が許容値Dより大き
い場合は出力して出力図形データとし、Y方向の幅が許
容値Dより小である場合は図形データを捨てる第三の選
択工程とを有することにより、アウトライン化処理工
程、縮小拡大処理工程を経て、許容値より大きく、且
つ、実際の不一致図形データに近い形状の図形データを
不一致図形データとして得ることを可能としている。
にもとづいて説明する。図1は、本発明の描画用データ
の検証方法のフローの1例を具体的に示した図である。
尚、元の設計図形データおよび設計図形データから得ら
れた描画用図形データは、いずれもY方向に高さをもつ
台形ベースの図形データからなる。先ず、元の設計図形
データとこれから加工された描画用図形データとの排他
的論理和を行い不一致図形を抽出する。(S1) 排他的論理和を行い不一致図形を抽出する処理は、図7
に示す従来の検証方法においても用いられているもの
で、一般に知られている手法であり、ここではこれにつ
いては言及しない。次いで、抽出された全不一致図形デ
ータに対して、各図形データをYの昇順に1個づつ取り
出す。(S2) 取り出された各図形データに対し、X方向の幅(横幅)
が許容値以内である場合は処理対象とせず除去し、許容
値より大きい場合には次の処理へ渡す。(S3) 前記取り出された図形データのX方向の幅が許容値より
大きい場合には、Y方向にその図形に接する他の図形あ
るか否かをチエックしする。(S4) 接する他の図形データがない場合には、その図形のY方
向の幅(高さ)をチエックし、Y方向の幅が許容値より
大きい場合はそのまま出力し出力データとし、許容値よ
り小さい場合は処理の対象から除去する。(S5) また、接する他の図形データがある場合には、全ての接
する他の図形ータに対し、X方向の幅、Y方向の幅のど
ちらかが許容値より大きい図形データがあるか否かをチ
エックし、1つでもある場合には取り出された図形デー
タを含めて接する図形データを全て出力し出力図形デー
タとし(S6)、無い場合には不一致図形データのY方
向の幅をチエックし、Y方向の幅が許容値以下の場合に
は除去し、Y方向の幅が許容値より大の場合にはこの不
一致図形を含め、接する図形データ全部を出力し、出力
図形データとする。(S7) 選別工程においては、同じ図形データの重複した出力を
行わないが、実際の処理としては、出力処理済の場合に
は処理済のフラグ等を立てて、同じ図形データの重複し
た出力の防止を簡単にできる。
他的論理和を行い得られた不一致図形の全てに対して終
了するるまで、ステップ2(S2)〜ステップ7を繰り
返し、全ての不一致図形に対して処理が終了した時点
で、得られた全出力図形データ(DATA1)に対し、
接している図形を全て1図形データとするアウトライン
化処理を行い、アウトライン化データ(DATA2)を
作成する。(S8) 次いで、得られたアウトライン化データ(DATA2)
に対して、図7に示す従来の方法と同様にして、許容値
Dの半分だけX方向、Y方向に縮小する縮小処理を行
い、縮小された縮小処理データ(DATA3)を得た
(S9)後、更にこの縮小処理データ(DATA3)に
対し、許容値Dの半分だけX方向、Y方向に拡大する拡
大処理を行い、拡大された拡大を得て(S10)、これ
を求める許容範囲外の不一致図形データとする。
設計図形データから得られた描画用図形データは、いず
れもY方向に高さをもつ台形ベースの図形データとして
いるが、これは、台形ベースの図形データについて、高
さ方向をY、幅方向をXと定義しているものである。
発明の描画用データの検証方法を説明する。図2(a)
は元の設計図形データを図示したもので、2個の図形デ
ータa1、a2から成っている。図2(b)は図2
(a)に示す元の図形データを所定のソフト等により加
工して得られた描画用図形データで、5個の図形データ
b1、b2、b3、b4、b5から成っている。図2に
示す元の図形データと描画用図形データとの不一致が許
容範囲でない図形を以下抽出する。尚、ここで言う許容
範囲とは、両図形データの一致部からX方向、Y方向に
それぞれ片側許容値dだけの距離にある領域を言う。
と、図2(b)に示す描画図形データに対し図形論理演
算の排他的論理和を行ない、図3に示す、図形データC
1〜C10を抽出して得る。尚、図3は、図2(a)に
示す元の図形データと、図2(b)に示す描画図形デー
タとの不一致箇所を分かり易くするため、図2(a)に
示す元の図形データと図2(b)に示す描画図形データ
の外形も示してある。図3(a)に示す図形データは、
c1〜c10の10個から成り、当初の元の図形データ
と描画用図形データの図形データ数を合わせた6個より
も多くなっていることが分かる。
図形データに対し、処理する図形を選択する選択処理を
以下のように行う。順に、1図形データづつ取り出し、
図1に示すステップ3(図1(S3))以下の処理を施
す。Y座標の昇順に1図形データづつ取り出す。先ず、
図形データc1を取り出し、X方向の幅(横幅)をチエ
ックする(図1(S3))が、横幅は許容値Dよりも大
きいため、Y方向にこの図形データに接する図形データ
があるか否かをチエックする。(図1(S4)) 接する図形データc2があり、且つ、図形データc2の
Y方向の幅(高さ)、X方向の幅(横幅)がともに許容
値Dより大きいため図形データc1を含め、これと接す
る図形データC2も出力して出力データとする。図形デ
ータC2についてはすでに出力データとなっており、新
たに処理しない。次に、図形データc3を取り出す、X
方向の幅をチエックする(図1(S3))が、X方向の
幅は許容値Dよりも小さいため、処理する図形とせず除
去する。次に、図形データc4を取り出す、X方向の幅
をチエックする(図1(S3))が、横幅は許容値Dよ
りも大きいため、Y方向にこの図形データに接する図形
データがあるか否かをチエックする。(図1(S4)) 接する図形データc3があり、且つ、図形データc3の
X方向の幅(横幅)が許容値Dより小さいため図形デー
タc4は処理する図形とせず除去する。図形データc5
〜c9については、いずれもX方向の幅(横幅)が許容
値D以下であるので順次、処理する図形とせず除去す
る。この結果、図4(a)に示すように、図形データc
1、c2の2個のみが処理対象として残ることになる
る。
図形データc2とを1つの図形とするアウトライン化処
理を行ってアウトライン化されたデータc0を得た(図
4(b))後に、このアウトライン化された図形データ
c0に対し、全体をX方向、Y方向にDだけ縮小する縮
小処理を行い(S9)、図5(a)に示す縮小された図
形データcSを得た。更に、この縮小された図形データ
cSを拡大処理して、図5(b)に示す、図形データc
SLを得た。この図形データcSLが、許容値範囲でな
い不一致図形データであり、図5に示す斜線部分を表し
たもので、図3に示す不一致図形c2と不一致図形c1
の一部に相当する。
図形データの全不一致図形データをそのまま図5に示す
従来の検証方法のように、縮小処理、拡大処理にて用い
ておらず、不一致図形データに対し、処理を行う対象と
するか否かの選別工程を設けており、これにより、描画
用図形のデータ大容量化にも耐えるものとしている。ま
た、選別工程により得られた接する図形同志を一つの図
形とするアウトライン化処理の後に、縮小拡大処理を行
うため、許容値より大きい、実際の不一致図形に近いも
のを得ることを可能としている。
図
論理和を説明するための図
示した図
形が発生する理由を説明するための図
形が発生する理由を説明するための図
後の)図形データ cS 縮小処理後の図形デ
ータ cSL 拡大処理後の図形デ
ータ a81、b81〜b83、c81〜c89 図形データ a91、b91 図形データ
Claims (2)
- 【請求項1】 台形ベースの図形データを持つ、レイア
ウトデータから得られた設計図形データと該設計図形デ
ータから得られた描画用図形データとの不一致箇所を抽
出するための描画用データの検証方法であって、(A)
図形論理演算の排他的論理和により両図形データから、
不一致の図形データを抽出する不一致図形データ抽出工
程と、(B)抽出された全不一致図形データから、処理
する図形データを選別する図形データ選別工程と、
(C)選別された全図形データに対し、接する図形デー
タ同志を1つの図形データとするアウトライン化処理工
程と、(D)アウトライン化処理された図形データに対
し、許容値Dだけ、X方向、Y方向に縮小した図形デー
タを得る縮小処理をし、得られた縮小処理後の図形デー
タを許容値Dだけ、X方向、Y方向に拡大した図形デー
タを得る拡大処理を行い、得られた図形データのみを新
たに不一致図形データとする図形データの縮小拡大処理
工程とからなることを特徴とする描画用図形データの検
証方法。 - 【請求項2】 請求項1において、設計図形データと描
画用図形データとはいずれもY方向に高さをもつ台形ベ
ースの図形データからなる図形データ群であり、図形デ
ータ選別工程が、抽出された全不一致図形データから、
X方向の幅が許容値D以下のものは除去し、許容値Dよ
り大きいものは処理対象図形データとして残す第一の選
択工程と、第一の選択工程にて残った各不一致図形デー
タに対して、Y方向に接する他の図形データがある場
合、少なくとも一方側の他の図形データのX方向の幅お
よびY方向の幅が許容値Dより大きい場合には、その不
一致図形データを含めて接する図形データを全て出力し
て出力図形データとし、接する他の図形データ全てに対
し、図形データのX方向の幅、Y方向の幅のいずれか一
方が許容値Dより小さい場合には、不一致図形データの
Y方向の幅が許容値Dより大きい場合はその不一致図形
データを含めて接する図形データを全て出力して出力図
形データとし、Y方向の幅が許容値Dより小である場合
はその不一致図形データを捨てる第二の選択工程と、第
一の選択工程にて残った各不一致図形データに対して、
Y方向に接する他の図形データがない場合、その不一致
図形データのY方向の幅をチエックして、Y方向の幅が
許容値Dより大きい場合は出力して出力図形データと
し、Y方向の幅が許容値Dより小である場合は図形デー
タを捨てる第三の選択工程とからなり、各選択工程にお
いて、すでに出力図形データとして処理されている図形
データと同じ図形データについては、重複して出力図形
データとしないものであることを特徴とする描画用図形
データの検証方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20547496A JP3401611B2 (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 描画用図形データの検証方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20547496A JP3401611B2 (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 描画用図形データの検証方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1031301A true JPH1031301A (ja) | 1998-02-03 |
JP3401611B2 JP3401611B2 (ja) | 2003-04-28 |
Family
ID=16507466
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20547496A Expired - Fee Related JP3401611B2 (ja) | 1996-07-17 | 1996-07-17 | 描画用図形データの検証方法 |
Country Status (1)
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JP (1) | JP3401611B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522958A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | 非マンハッタン形状光学構造を実現するためにマンハッタン・レイアウトを使用する方法 |
JP2016082147A (ja) * | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
-
1996
- 1996-07-17 JP JP20547496A patent/JP3401611B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006522958A (ja) * | 2003-04-10 | 2006-10-05 | シオプティカル インコーポレーテッド | 非マンハッタン形状光学構造を実現するためにマンハッタン・レイアウトを使用する方法 |
JP2016082147A (ja) * | 2014-10-21 | 2016-05-16 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
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---|---|
JP3401611B2 (ja) | 2003-04-28 |
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